KR102257182B1 - 의상의 풀니스를 위해 패턴 조각을 가공하는 방법 및 장치 - Google Patents

의상의 풀니스를 위해 패턴 조각을 가공하는 방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

일 실시예에 따른 패턴 조각을 가공하는 방법 및 장치는 하나 이상의 패턴 조각을 포함하는 의상의 2차원 패턴 중 가공할 패턴 조각의 외형선에서 복수의 점들을 선택하는 입력을 수신하고, 패턴 조각 내 선택된 복수의 점들에 의하여 지정되는 영역을 분할하는 복수의 라인들을 포함하는 템플릿을 생성하고, 패턴 조각에 대한 사용자의 풀니스 설정을 기초로 템플릿을 가공하고, 가공된 템플릿을 기초로 패턴 조각을 가공하며, 가공된 패턴 조각을 출력한다.

Description

의상의 풀니스를 위해 패턴 조각을 가공하는 방법 및 장치{METHODE AND APPARATUS OF PROCESSING PATTERN PIECES FOR FULLNESS OF CLOTHES}
실시예들은 의상의 풀니스를 위해 패턴 조각을 가공하는 방법 및 장치에 관한 것이다.
의상(clothes)은 사람이 착용한 경우에 3차원으로 보이지만, 실제로는 2차원의 패턴(pattern)에 따라 재단된 천(fabric) 조각의 조합에 해당하므로 2차원에 가깝다. 의상의 재료가 되는 천은 유연(flexible)하기 때문에 착용한 사람의 신체 모양이나 움직임에 따라 그 모습이 시시각각 달라질 수 있다. 예를 들어, 중력, 바람, 또는 신체와의 충돌에 의해서 착용한 의상이 흘러내리거나, 주름이 지고 접힐 수 있다. 이때, 의상이 흘러내리거나 주름지는 양상은 천의 물성에 따라 달라질 수 있으며, 천과 같이 유연한 재료로 제작되는 의상을 3차원으로 실제에 가깝게 시뮬레이션하는 것은 용이하지 않다.
일 실시예에 따르면, 스커트의 하단, 소매 등과 같이 의상의 적어도 일부에 대응하는 패턴 조각에 사용자의 설정에 따른 풀니스를 적용할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 사용자의 설정에 따라 패턴 조각의 적어도 일 측의 라인 전체 또는 중간에 풀니스를 표현하거나, 또는 풀니스를 위한 라인의 추가 및 감소를 반영하여 가공한 패턴 조각을 출력할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 사용자의 설정에 따라 좌측, 우측 및 양측 등 다양한 방향으로 풀니스를 적용 및/또는 표현할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 패턴 조각에서 사용자에 의해 선택된 적어도 일부의 외형선을 기초로 생성된 템플릿에 기초하여 패턴 조각을 가공함으로써 보다 정확하게 사용자의 의도를 반영하여 풀니스를 표현하는 패턴 조각을 제공할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 패턴 조각의 가공에 앞서, 가공된 템플릿에 대응하는 패턴 조각의 형태를 미리 표시함으로써 사용자로 하여금 최종적으로 가공되는 패턴 조각의 형태를 확인하도록 할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 최종적인 패턴 조각의 가공 이전에 화면에 미리보기 형태로 패턴 조각의 외형(예를 들어, 선, 점, 형태 등)을 형상화하여 표시함으로써 사용자가 의도한 풀니스에 부합하도록 패턴 조각을 수정하도록 할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 패턴 조각을 가공하는 방법은 하나 이상의 패턴 조각을 포함하는 의상의 2차원 패턴 중 가공할 패턴 조각의 외형선 중 적어도 일부를 선택하는 입력을 수신하는 단계; 상기 패턴 조각 내 상기 입력에 의하여 지정되는 영역을 분할하는 복수의 라인들을 포함하는 템플릿(template)을 생성하는 단계; 상기 패턴 조각에 대한 상기 사용자의 풀니스 설정을 기초로, 상기 템플릿을 가공하는 단계; 상기 가공된 템플릿을 기초로, 상기 패턴 조각을 가공 하는 단계; 및 상기 가공된 패턴 조각을 출력하는 단계를 포함한다.
상기 템플릿을 가공하는 단계는 상기 풀니스 설정을 기초로, 상기 복수의 라인들의 스케일(scale) 값을 결정하는 단계; 상기 풀니스 설정 및 상기 스케일을 기초로, 상기 복수의 라인들의 회전(rotation) 값을 결정하는 단계; 및 상기 스케일 값 및 상기 회전 값을 기초로, 상기 복수의 라인들을 가공하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 스케일 값을 결정하는 단계는 상기 풀니스 설정에 포함된 상기 영역의 제1 측면을 가공하는 제1 설정과 상기 영역의 제2 측면을 가공하는 제2 설정 중 작은 값으로 상기 스케일 값을 결정하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 회전 값을 결정하는 단계는 상기 제1 설정 및 상기 제2 설정 중 큰 값과 상기 스케일의 차이로 상기 회전 값을 결정하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 복수의 라인들을 가공하는 방법은 상기 스케일 값에 기초하여 상기 복수의 라인들의 간격을 조절하는 단계; 및 상기 제1 설정 및 상기 제2 설정 중 작은 값에 해당하는 측면의 끝점들을 피봇점으로 하여, 상기 회전 값에 따라 상기 복수의 라인들을 회전시키는 단계를 포함할 수 있다.
상기 템플릿을 생성하는 단계는 상기 입력에 기초하여 임시 가이드를 생성하는 단계; 상기 임시 가이드를 분할하는 단계; 및 상기 임시 가이드를 분할하는 분할선들을 상기 패턴 조각의 외형에 맞게 조정함으로써, 상기 템플릿에 포함되는 상기 복수의 라인들을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 입력을 수신하는 단계는 상기 패턴 조각의 제1 측면(side) 에 대응하는 제1 라인의 적어도 두 개의 제1 점들에 대한 사용자의 선택을 입력받는 단계; 및 상기 패턴 조각의 제2 측면에 대응하는 제2 라인의 적어도 두 개의 제2 점들에 대한 사용자의 선택을 입력받는 단계를 포함할 수 있다.
상기 제1 측면 및 상기 제2 측면은 상기 패턴 조각에서 서로 마주보는 측면들일 수 있다.
상기 제1 라인은 상기 제1 측면의 적어도 일부에 해당하고, 상기 제2 라인은 상기 제2 측면의 적어도 일부에 해당할 수 있다.
상기 임시 가이드를 분할하는 단계는 상기 임시 가이드의 조각들의 너비가 미리 설정된 길이보다 작지 않을 때까지 상기 임시 가이드를 반복적으로 이분(dimidiate) 하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 패턴 조각을 가공하는 단계는 상기 가공된 템플릿에 포함된 라인들의 끝점들을 기초로, 상기 가공된 패턴 조각의 외형선을 결정하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 풀니스 설정은 상기 패턴 조각의 제1 라인의 길이; 상기 제1 라인의 길이에 대한 제1 이동 거리; 상기 패턴 조각의 제2 라인의 길이; 상기 제2 라인의 길이에 대한 제2 이동 거리; 및 상기 패턴 조각에서 상기 풀니스를 적용하는 방향 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 제1라인의 길이는 상기 제1 이동 거리와 서로 연동되고, 상기 제2 라인의 길이는 상기 제2 이동 거리와 서로 연동될 수 있다.
상기 패턴 조각을 가공하는 방법은 상기 패턴 조각의 가공을 확정하기 전, 상기 가공되는 패턴 조각의 형태를 미리 표시하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 패턴 조각은 복수의 다각형들을 포함하는 다각형 메쉬(polygon mesh)로 모델링될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 패턴 조각을 가공하는 장치는 하나 이상의 패턴 조각을 포함하는 의상의 2차원 패턴 중 가공할 패턴 조각의 외형선 중 적어도 일부를 선택하는 입력을 수신하는 사용자 인터페이스; 상기 패턴 조각 내 상기 입력에 의하여 지정되는 영역을 분할하는 복수의 라인들을 포함하는 템플릿을 생성하고, 상기 패턴 조각에 대한 사용자의 풀니스 설정을 기초로 상기 템플릿을 가공하며, 상기 가공된 템플릿을 기초로, 상기 패턴 조각을 가공하는 프로세서; 및 상기 가공된 패턴 조각을 출력하는 출력 장치를 포함한다.
일 측에 따르면, 일 실시예에 따르면, 스커트의 하단, 소매 등과 같이 의상의 적어도 일부에 대응하는 패턴 조각에 사용자의 설정에 따른 풀니스를 적용할 수 있다.
일 측에 따르면, 사용자의 설정에 따라 패턴 조각의 적어도 일 측의 라인 전체 또는 중간에 풀니스를 표현하거나, 또는 풀니스를 위한 라인의 추가 및 감소를 반영하여 가공한 패턴 조각을 출력할 수 있다.
일 측에 따르면, 사용자의 설정에 따라 좌측, 우측 및 양측 등 다양한 방향으로 풀니스를 적용 및/또는 표현할 수 있다.
일 측에 따르면, 패턴 조각에서 사용자에 의해 선택된 적어도 일부의 외형선을 기초로 생성된 템플릿에 기초하여 패턴 조각을 가공함으로써 보다 정확하게 사용자의 의도를 반영하여 풀니스를 표현하는 패턴 조각을 제공할 수 있다.
일 측에 따르면, 패턴 조각의 가공에 앞서, 가공된 템플릿에 대응하는 패턴 조각의 형태를 미리 표시함으로써 사용자로 하여금 최종적으로 가공되는 패턴 조각의 형태를 확인하도록 할 수 있다.
일 측에 따르면, 최종적인 패턴 조각의 가공 이전에 화면에 미리보기 형태로 패턴 조각의 외형(예를 들어, 선, 점, 형태 등)을 형상화하여 표시함으로써 사용자가 의도한 풀니스에 부합하도록 패턴 조각을 수정하도록 할 수 있다.
도 1은 일 실시예에 따라 패턴 조각을 가공하는 방법을 나타낸 흐름도.
도 2는 일 실시예에 따른 풀니스를 위해 가공되는 패턴 조각의 일 예시를 도시한 도면.
도 3a는 일 실시예에 따라 풀니스를 위한 템플릿을 생성하는 방법을 설명하기 위한 도면.
도 3b는 일 실시예에 따라 풀니스를 위한 템플릿을 가공하는 방법을 설명하기 위한 도면.
도 4는 일 실시예에 따른 풀니스를 위한 사용자 설정을 입력하는 사용자 인터페이스 화면의 일 예시를 도시한 도면.
도 5는 일 실시예에 따른 사용자의 설정에 따라 패턴 조각에서 풀니스를 진행하는 방향이 달리 표현된 결과를 도시한 도면.
도 6은 일 실시예에 따라 템플릿을 가공하는 방법을 설명하기 위한 도면.
도 7은 다른 실시예에 따라 패턴 조각을 가공하는 방법을 설명하기 위한 도면.
도 8은 일 실시예에 따라 패턴 조각을 가공하는 장치의 블록도.
이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 실시예들을 상세하게 설명한다. 그러나, 실시예들에는 다양한 변경이 가해질 수 있어서 특허출원의 권리 범위가 이러한 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 실시예들에 대한 모든 변경, 균등물 내지 대체물이 권리 범위에 포함되는 것으로 이해되어야 한다.
실시예에서 사용한 용어는 단지 설명을 목적으로 사용된 것으로, 한정하려는 의도로 해석되어서는 안된다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 실시예가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
또한, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성 요소는 동일한 참조부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 실시예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 실시예의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
도 1은 일 실시예에 따라 패턴 조각을 가공하는 방법을 나타낸 흐름도이다. 도 1을 참조하면, 일 실시예에 따른 패턴을 가공하는 장치(이하, '가공 장치')는 하나 이상의 패턴 조각을 포함하는 의상의 2차원 패턴 중 가공할 패턴 조각의 외형선 중 적어도 일부를 선택하는 입력을 수신한다(110). 가공 장치는 예를 들어, 사용자 인터페이스(도 8의 810 참조)에 의해 패턴 조각의 외형선 상에서 사용자의 선택을 입력받을 수 있다. 외형선 중 적어도 일부를 선택하는 입력은, 예를 들어 외형선 상의 복수의 점들을 선택하는 입력이거나, 외형선들 중 어느 하나를 선택하는 입력이거나, 이들의 조합일 수 있다. 이하, 설명의 편의를 위하여 외형선 상의 복수의 점들을 선택하는 입력인 경우를 가정하고 설명하나, 실시예들은 다른 방식의 입력에도 동일하게 적용될 수 있다.
단계(110)에서 외형선 중 적어도 일부의 선택 입력(예를 들어, 복수의 점들이 선택)된 패턴 조각은 풀니스를 적용할 패턴 조각에 해당할 수 있다. 일 실시예에서 '풀니스(fullness)'는 예를 들어, 소매 부분의 적어도 일부를 부풀리거나, 스커트의 하단 또는 드레스의 치마 등을 풍부하게 하는 등과 같이 의상의 일부 또는 전체를 풍부하게 표현하도록 원단 혹은 2차원 패턴을 가공하는 기법에 해당할 수 있다. 풀니스를 위해 가공되는 패턴 조각의 일 예시는 아래의 도 2를 참조할 수 있다.
본 명세서에서, 2차원 패턴은 3차원 가상 의상(virtual clothes)의 시뮬레이션을 위하여 모델링되는 가상의 2차원 패턴일 수 있다. 2 차원 패턴은 예를 들어, 소매, 등판, 앞판 등과 같은 복수의 패턴 조각들을 포함할 수 있다. 복수의 패턴 조각들 각각은 예를 들어, 3차원 아바타의 체형으로 착장 시뮬레이션되기 위한 다각형 메쉬로 모델링될 수 있다. 이때, 다각형 메쉬는 복수의 다각형들을 포함할 수 있다. 실시예들에 따른 메쉬는 다양하게 모델링 될 수 있다. 일례로, 메쉬에 포함되는 다각형의 꼭지점들은 질량을 가지고 있는 점(point mass)이며, 다각형의 변들은 그 질량을 연결하는 탄성을 가지고 있는 스프링들로 표현될 수 있다. 이에 따라, 일 실시예에서 따른 2차원 패턴은 예를 들어, 질량-스프링 모델(Mass-Spring Model)에 의해 모델링될 수 있다. 여기서, 스프링들은 사용되는 천(fabric)의 물성에 따라 예를 들어, 신축(stretch), 비틀림(shear), 및 굽힘(bending)에 대한 각 저항값(resist)을 가질 수 있다. 또는, 메쉬는 스트레인(strain) 모델로 모델링될 수 있다. 메쉬에 포함되는 다각형은 삼각형으로 모델링되거나, 혹은 사각형 이상의 다각형으로 모델링될 수도 있다. 경우에 따라, 3차원 볼륨(volume)을 모델링해야 하는 경우, 메쉬는 3차원 다면체로 모델링될 수 있다.
가공 장치는 패턴 조각에서 외형선 중 적어도 일부의 선택 입력(예를 들어, 선택된 복수의 점들)을 기초로, 풀니스(fullness)를 위한 템플릿(template)을 생성한다(120). 여기서, '템플릿'은 패턴 조각에 풀니스를 적용하기 위한 사용자의 설정 사항을 반영하는 가상의 매개체에 해당할 수 있다. 가공 장치는 예를 들어, 패턴 조각 내 복수의 점들에 의하여 지정되는 영역을 분할하는 복수의 라인들을 포함하는 템플릿을 생성한다.
일 실시예에 따르면, 가공 장치는 입력(예를 들어, 복수의 점들)에 기초하여 임시 가이드를 생성할 수 있다. 임시 가이드는 예를 들어, 패턴 조각에서 사용자에 의해 선택된 복수의 점들에 의해 정형화된 다각형(예를 들어, 사각형)에 해당할 수 있다. 가공 장치는 임시 가이드를 분할할 수 있다. 이 경우, 임시 가이드를 분할하는 조각들 사이의 간격은 균일할 수 있다. 임시 가이드의 조각들은 임시 가이드를 반복적으로 이분함으로써 생성될 수 있다. 가공 장치는 예를 들어, 임시 가이드의 조각들 각각의 너비가 미리 설정된 길이(예를 들어, 1mm)보다 작지 않도록 임시 가이드를 반복적으로 이분할 수 있다. 가공 장치는 임시 가이드를 분할하는 분할선들을 패턴 조각의 외형에 맞게 조정함으로써 템플릿에 포함되는 복수의 라인들을 생성할 수 있다. 가공 장치가 템플릿을 생성하는 방법은 아래의 도 3a를 참조하여 구체적으로 설명한다.
가공 장치는 패턴 조각에 대한 사용자의 풀니스 설정을 기초로, 템플릿을 가공한다(130). 가공 장치는 패턴 조각에 대한 사용자의 풀니스 설정을 입력받고, 사용자의 풀니스 설정을 템플릿에 적용함으로써 템플릿을 가공할 수 있다.
일 실시예에서 패턴 조각에 대한 사용자의 풀니스 설정은 예를 들어, 패턴 조각의 제1 라인의 길이, 제1 라인의 길이에 대한 제1 이동 거리, 패턴 조각의 제2 라인의 길이, 및 제2 라인의 길이에 대한 제2 이동 거리, 및 패턴 조각에서의 풀니스를 적용하는 방향 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 이때, 제1라인의 길이는 제1 이동 거리와 서로 연동되고, 제2 라인의 길이는 제2 이동 거리와 서로 연동될 수 있다. 여기서, '제1 라인의 길이가 제1 이동 거리와 서로 연동된다'는 의미는 예를 들어, 제1 라인의 길이가 20cm이고, 제1 이동 거리가 +5cm인 경우에, 제1라인의 길이에 제1 이동 거리가 반영되어 제1 라인의 최종 길이가 25cm가 된다는 의미로 이해될 수 있다. 이는 제2 라인의 길이와 제2 이동 거리 간에도 마찬가지로 적용될 수 있다.
여기서, '패턴 조각에서 풀니스를 적용하는 방향'은 패턴 조각을 가공하는 방향에 해당할 수 있다. 일 실시예에서는 패턴 조각의 일측을 고정하고 다른 일측에 대해서만 풀니스를 반영할 수 있다. 혹은, 패턴 조각의 적어도 일 측면, 다시 말해 패턴 조각의 일 측면 또는 패턴 조각의 양 측면에 풀니스를 반영할 수 있다. '패턴 조각에서 풀니스를 적용하는 방향'은 패턴 조각의 일 측면에 풀니스를 적용하는지 아니면 패턴 조각의 양측면에 풀니스를 적용하는지를 나타내는 '패턴 조각에서 풀니스를 표현할 측면'을 의미할 수 있다. '패턴 조각에서의 풀니스의 표현 방향'은 예를 들어, A라인 스커트와 같이 위에서 아래로 내려갈수록 다시 말해, 상하 방향으로 풀니스의 표현이 요구되는 경우 또는 좌우 방향으로 풀니스의 표현이 요구되는 경우를 구분하기 위한 것일 수 있다.
일 실시예에서 패턴 조각에 대한 사용자의 풀니스 설정은 예를 들어, 아래의 도 4에 도시된 사용자 인터페이스 화면(400)를 통해 입력될 수 있다.
가공 장치는 템플릿을 가공하기 위하여, 풀니스 설정을 기초로 복수의 라인들의 스케일 값을 결정할 수 있다. 복수의 라인들의 스케일 값은 복수의 라인들의 간격을 조절하는 파라미터이다. 가공 장치는 풀니스 설정 및 스케일 값을 기초로, 복수의 라인들의 회전 값을 결정할 수 있다. 복수의 라인들의 회전 값은 복수의 라인들의 일 측면의 끝점들을 고정한 채 반대 측면의 끝점들을 회전시키는 파라미터이다. 가공 장치는 스케일 값 및 회전 값을 기초로, 복수의 라인들을 가공함으로써, 템플릿을 가공할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 가공 장치는 풀니스 설정에 포함된 제 1측면을 가공하기 위한 제1 설정(예를 들어, 제1 이동 거리)과 제2 측면을 가공하기 위한 제2 설정(예를 들어, 제2 이동 거리) 중 작은 값으로 스케일 값을 결정할 수 있다. 가공 장치는 제1 설정과 제2 설정 중 큰 값과 스케일 값의 차이로, 회전 값을 결정할 수 있다.
가공 장치는 스케일 값에 기초하여 복수의 라인들의 간격을 조절하고, 회전 값에 기초하여 복수의 라인들을 회전시킬 수 있다. 가공 장치가 사용자의 풀니스 설정을 기초로, 템플릿을 가공하는 방법은 아래의 도 3b를 참조하여 구체적으로 설명한다.
가공 장치는 단계(130)에서 가공된 템플릿을 기초로, 패턴 조각을 가공한다(140). 일 실시예에 따르면, 가공 장치는 가공된 템플릿에 포함된 라인들의 끝점들을 기초로, 가공된 패턴 조각의 외형선을 결정함으로써 보다 정확하게 사용자의 의도를 반영하여 풀니스를 표현하는 패턴 조각을 제공할 수 있다.
일 실시예에 따른 가공 장치는 단계(140)의 패턴 조각의 가공을 확정하기에 앞서, 단계(140)에서 가공되는 패턴 조각의 형태를 화면에 미리 표시할 수 있다. 일 실시예에서, 최종적인 패턴 조각의 가공 이전에 화면에 미리보기 형태로 패턴 조각의 외형(예를 들어, 점, 선, 및 형태 등)을 형상화하여 표시하는 기능을 '고스트(ghost)'라 부를 수 있다. 사용자는 고스트 기능을 통해 최종적으로 가공되는 패턴 조각의 외형을 확인하고, 자신이 의도한 풀니스에 부합하도록 패턴 조각을 수정할 수 있다. 이때, 미리보기 형태의 패턴 조각의 외형에는 텍스쳐(texture)를 반영하지 않아, 고스트 기능을 위한 연산 복잡도를 낮출 수 있다.
가공 장치는 단계(140)에서 가공된 패턴 조각을 출력한다(150). 가공 장치는 가공된 패턴 조각을 화면 상에 디스플레이할 수도 있고, 또는 가공 장치의 외부의 종이 또는 옷감 상에 가공된 패턴 조각을 프린트하여 출력할 수도 있다.
도 2는 일 실시예에 따른 풀니스를 위해 가공되는 패턴 조각의 일 예시를 도시한 도면이다. 도 2를 참조하면, 2차원 패턴 중 의상의 소매 부분에 해당하는 패턴 조각(210) 및 풀니스 기능을 통해 가공된 패턴 조각들(220, 230, 250)이 도시된다.
일 실시예에서, 패턴 조각의 외형선에서 사용자 입력(예를 들어, 사용자에 의해 선택된 점들에 위치)에 따라 패턴 조각 내 템플릿이 커버하는 영역이 달라질 수 있다.
가공 장치는 사용자 인터페이스를 통해 패턴 조각(210)에서 복수의 점들(예를 들어, 4개의 점들)에 대한 사용자의 선택을 입력받을 수 있다. 예를 들어, 사용자가 화면에 표시된 패턴 조각(210)에 대해 풀니스를 적용하기 위한 메뉴를 선택했다고 하자. 이때, 풀니스를 적용하기 위한 메뉴는 예를 들어, 드롭다운(drop down) 형태의 메뉴일 수 있다.
풀니스를 적용하기 위한 메뉴에서 사용자가 라인 선택(selected line) 버튼을 선택함에 따라 화면에는 예를 들어, "Click on a start and end points to select the fullness line"와 같이 패턴 조각(210)의 제1 측면에 대응하는 제1 라인에 대한 사용자의 선택을 안내하는 문구가 표시될 수 있다. 사용자는 안내 문구에 따라 예를 들어, 패턴 조각(210) 상단의 곡선 부분에 해당하는 제1 라인 상에서 적어도 두 개의 제1 점들을 선택할 수 있다. 적어도 두 개의 제1 점들은 예를 들어, 제1 라인의 시작점(start point) 및 제1 라인의 끝점(end point)일 수도 있고, 제1 라인의 가운에 일 부분의 시작점과 끝점일 수도 있다.
여기서, 제1 라인은 풀니스를 위해 사용자에 의해 첫번째로 선택된 라인이라는 점에서 '풀니스 라인(fullness line)'이라고도 부를 수 있다. 이하, 제1 라인과 풀니스 라인은 동일한 의미로 이해될 수 있다. 제1 라인은 제1 측면의 적어도 일부 라인에 해당할 수 있다. 제1 라인은 예를 들어, 제1 측면의 전체 라인에 해당할 수도 있고, 또는, 제1 측면의 가운데 또는 좌, 우측의 일부 라인에 해당할 수 있다.
제1 라인에 대한 사용자의 선택이 완료되면, 화면에는 예를 들어, "Click on a start and end points to select the slash line"과 같이 패턴 조각(210)의 제2 측면에 대응하는 제2 라인에 대한 사용자의 선택을 안내하는 문구가 표시될 수 있다. 사용자는 안내 문구에 따라 예를 들어, 패턴 조각(210) 하단의 편평한 부분에 해당하는 제2 라인 상에서 적어도 두 개의 제2 점들(예를 들어, 시작점과 끝점)을 선택할 수 있다. 여기서, 제2 라인은 풀니스를 위해 사용자에 의해 두번째로 선택되는 라인에 해당할 수 있다. 예를 들어, 제2 라인이 제1 라인에 비해 패턴 조각(210)에서 아래쪽에 해당하고, 스커트의 하단부 등과 같이 패턴 조각의 아래쪽이 풍부하게 표현되는 것이 일반적이라는 점에서 제2 라인은 '슬래시 라인(slash line)'이라고도 부를 수도 있다. 이하, 제2 라인과 슬래시 라인은 동일한 의미로 이해될 수 있다. 슬래시(slash)는 의복의 일부분을 속옷이 보이게 길게 터 놓은 것으로서 르네상스 복식의 특징적인 장식 기법에 해당할 수 있다.
일 실시예에서는 설명의 편의를 위하여 제1 라인이 패턴 조각의 위쪽에 해당하고, 제2 라인이 패턴 조각의 아래쪽에 해당하는 경우를 예로 들어 설명하지만, 이와 달리 제1 라인이 패턴 조각의 아래쪽에 해당하고, 제2 라인이 패턴 조각의 위쪽에 해당할 수도 있다.
일 실시예에서 제1 측면 및 제2 측면은 예를 들어, 상, 하 측면 또는 좌, 우 측면 등과 같이 패턴 조각(210)에서 서로 마주보는 측면들일 수 있다.
이와 같이 사용자에 의해 선택된 제1 라인 및/또는 제2 라인은 아래의 도 4에 도시된 사용자 인터페이스 화면을 통해 그 정확한 길이가 표시될 수 있고, 사용자는 표시된 길이를 보고 제1 라인 및/또는 제2 라인의 길이를 축소 또는 확대할 수 있다.
가공 장치는 패턴 조각(210)에서 사용자에 의해 선택된 4개의 점들을 기초로 풀니스를 위한 템플릿을 생성할 수 있다. 가공 장치는 아래의 도 4에 도시된 사용자 인터페이스 화면을 통한 사용자의 풀니스 설정을 템플릿에 적용함으로써 가공된 템플릿을 생성할 수 있다.
예를 들어, 소매 부분의 패턴 조각(210)에서 소매 위쪽과 아래쪽을 같이 부풀리고자 하는 경우, 가공 장치는 가공된 템플릿에 의해 소매 위쪽과 아래쪽 모두에 풀니스가 표현되도록 패턴 조각(210)을 패턴 조각(220)과 같이 가공할 수 있다. 아래에서 설명하겠지만, 여기서 가공된 템플릿에는 스케일(scale)이 적용된 것일 수 있다.
또는, 소매 부분의 패턴 조각(210)에서 소매 아래쪽을 부풀리고자 하는 경우, 가공 장치는 가공된 템플릿에 의해 소매 아래쪽에 풀니스가 표현되도록 패턴 조각(210)을 패턴 조각(230)과 같이 가공할 수 있다. 이외 달리, 패턴 조각(210)에서 소매 위쪽을 부풀리고자 하는 경우, 가공 장치는 가공된 템플릿에 의해 소매 위쪽에 풀니스가 표현되도록 패턴 조각(210)을 패턴 조각(250)과 같이 가공할 수 있다. 아래에서 설명하겠지만, 여기서 가공된 템플릿에는 회전(rotation)이 적용된 것이거나, 스케일과 회전이 함께 적용된 것일 수 있다.
가공 장치가 템플릿을 생성하는 방법은 아래의 도 3a를 참조하여 구체적으로 설명한다. 또한, 템플릿을 가공하는 방법은 아래의 도 3b를 참조하여 구체적으로 설명한다.
도 3a는 일 실시예에 따라 풀니스를 위한 템플릿을 생성하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 3a를 참조하면, 일 실시예에 따른 패턴 조각(310) 및 패턴 조각(310)에서 선택된 복수의 점들(312, 313, 316,317)을 기초로 생성된 임시 가이드(330)가 도시된다.
가공 장치는 도 2를 통해 전술한 과정을 통해 패턴 조각(310)의 제1 라인(311) 상의 적어도 두 개의 제1점들(312, 313), 및 제2 라인(315) 상의 적어도 두 개의 제2 점들(316, 317)에 대한 사용자의 선택을 입력받을 수 있다. 일 실시예에서는 설명의 편의를 위해 패턴 조각(310)의 각 라인으로부터 4개의 점들이 선택된 경우를 예로 들어 설명하지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 가공 장치는 예를 들어, 4개 이외에도 6개 또는 8개의 점들을 입력받을 수도 있다.
가공 장치는 제1 점들(312, 313) 및 제2 점들(316, 317)을 기초로, 임시 가이드(330)를 생성할 수 있다. 보다 구체적으로, 가공 장치는 제1 점들(312, 313) 및 제2 점들(316, 317)에 의해 정형화되는 사각형의 임시 가이드(330)를 생성할 수 있다. 가공 장치는 예를 들어, 임시 가이드의 조각들(331)의 너비가 미리 설정된 길이(1mm 또는 5mm 등)보다 작지 않을 때까지 이분함으로써 분할선들(333)을 생성할 수 있다.
가공 장치는 임시 가이드(330)를 분할하는 분할선들(333)의 일 측 끝점을 패턴 조각의 제1 라인에 맞추고, 분할선들(333)의 타 측 끝점을 패턴 조각의 제2 라인에 맞춤으로써, 도 3a의 하단에 도시된 것과 같이, 템플릿에 포함되는 복수의 라인들을 생성할 수 있다.
도 3b는 일 실시예에 따라 풀니스를 위한 템플릿을 가공하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 3b를 참조하면, 가공 장치는 사용자의 풀니스 설정을 기초로, 스케일 값과 회전 값을 결정할 수 있다.
일 예로, 도 3b의 상단을 참조하면, 사용자의 풀니스 설정 중 제1 라인의 제1 이동 거리가 +100으로 설정되고, 제2 라인의 제2 이동 거리가 +200으로 설정될 수 있다. 이 경우, 가공 장치는 제1 이동 거리와 제2 이동 거리 중 작은 값(혹은 제1 이동 거리와 제2 이동 거리에 공통적으로 적용되는 이동 거리)인 +100을 스케일 값으로 결정할 수 있다. 가공 장치는 전체적으로 +100 만큼 스케일이 적용되도록, 템플릿에 포함된 복수의 라인들의 간격을 균일하게 넓힐 수 있다.
가공 장치는 제1 이동 거리와 제2 이동 거리 중 큰 값인 +200과 스케일 값인 +100 사이의 차이인 +100을 회전 값으로 결정할 수 있다. 이 경우, 회전 값은 제2 라인에 적용되어야 하므로, 제1 라인에 대응하는 끝점들이 피벗점이 되어 복수의 라인들이 회전될 수 있다. 가공 장치는 스케일이 적용된 복수의 라인들의 제1 라인에 대응하는 끝점들을 피벗점으로 고정한 채, 복수의 라인들의 제2 라인에 대응하는 끝점들을 회전시킬 수 있다.
전술한 스케일과 회전을 통하여, 제1 라인에는 +100의 풀니스가 적용되고, 제2 라인에는 +200의 풀니스가 적용될 수 있다.
다른 예로, 도 3b의 하단을 참조하면, 사용자의 풀니스 설정 중 제1 라인의 제1 이동 거리가 -100으로 설정되고, 제2 라인의 제2 이동 거리가 +100으로 설정될 수 있다. 이 경우, 가공 장치는 제1 이동 거리와 제2 이동 거리 중 작은 값(혹은 제1 이동 거리와 제2 이동 거리에 공통적으로 적용되는 이동 거리)인 -100을 스케일 값으로 결정할 수 있다. 가공 장치는 전체적으로 -100 만큼 스케일이 적용되도록, 템플릿에 포함된 복수의 라인들의 간격을 균일하게 좁힐 수 있다.
가공 장치는 제1 이동 거리와 제2 이동 거리 중 큰 값인 +100과 스케일 값인 -100 사이의 차이인 +200을 회전 값으로 결정할 수 있다. 이 경우, 회전 값은 제2 라인에 적용되어야 하므로, 제1 라인에 대응하는 끝점들이 피벗점이 되어 복수의 라인들이 회전될 수 있다. 가공 장치는 스케일이 적용된 복수의 라인들의 제1 라인에 대응하는 끝점들을 피벗점으로 고정한 채, 복수의 라인들의 제2 라인에 대응하는 끝점들을 회전시킬 수 있다.
전술한 스케일과 회전을 통하여, 제1 라인에는 -100의 풀니스가 적용되고, 제2 라인에는 +100의 풀니스가 적용될 수 있다.
도면에 도시하지 않았으나, 풀니스 설정에 따라 제1 라인이 늘어나고, 제2 라인이 줄어들 수도 있다. 혹은, 제1 라인과 제2 라인이 함께 늘어나건, 함께 줄어들 수도 있다.
또한, 사용자에 의하여 입력되는 복수의 점들은 제1 라인의 일부 혹은 제2 라인의 일부를 지정할 수 있으므로, 패턴 조각 내 해당하는 영역에 대하여만 전술한 풀니스 기능이 적용될 수 있다. 이 경우, 패턴 조각 내 해당 영역 이외의 타 영역에는 풀니스 기능이 적용되지 않으며, 해당 영역이 가공됨에 따라 타 영역의 형상은 가공되지 않은 채 적절하게 이동 및 회전될 수 있다.
가공 장치는 가공된 템플릿을 기초로, 패턴 조각을 가공할 수 있다. 예를 들어, 가공 장치는 가공된 템플릿에 포함된 복수의 라인들의 끝점들을 기초로, 가공된 패턴 조각의 외형선을 결정할 수 있다. 이 경우, 패턴 조각은 도 2의 220, 230, 250 등과 같이 가공될 수 있다.
도 4는 일 실시예에 따른 풀니스를 위한 사용자 설정을 입력하는 사용자 인터페이스 화면의 일 예시를 도시한 도면이다. 도 4를 참조하면, 일 실시예에 따른 사용자 인터페이스 화면(400)이 도시된다.
사용자 인터페이스 화면(400)은 예를 들어, 패턴 조각의 생성 방향, 다시 말해 패턴 조각에서 풀니스를 진행하는 방향(Direction)을 설정하는 옵션(Option) 항목(410) 및 패턴 조각에서 풀니스를 표현할 측면 및 패턴 조각의 길이 등을 설정하는 길이(Length) 항목(420) 등을 포함할 수 있다.
예를 들어, 사용자가 패턴 조각의 라인 상에서 시작점과 끝점의 선택을 완료한 경우, 화면에는 사용자 인터페이스 화면(400)이 나타날 수 있다. 사용자는 사용자 인터페이스 화면(400)의 옵션 항목(410)에 포함된 Direction의 콤보 박스(415)를 통해 패턴 조각의 생성 방향을 나타내는 Direction을 설정할 수 있다. 사용자가 Direction의 콤보 박스(415)를 클릭하면, 화면에는 예를 들어, Start, End, 및 Both와 같이 패턴 조각의 생성 방향을 나타내는 드롭 다운 메뉴가 나타날 수 있다. 예를 들어, 콤보 박스(415)에서 선택된 방향이 Half Symmetric 패턴일 경우, 도형 생성 방향은 중심축과 반대되는 방향으로 기본 설정되며, Direction 메뉴가 비활성화될 수 있다.
사용자가 Direction의 콤보 박스(415)에서 Start 또는 End를 선택한 경우와 Both를 선택한 경우, 선택된 각 방향에 따라 패턴 조각이 생성된 결과는 예를 들어, 아래의 도 5와 같이 달라질 수 있다.
사용자는 도 4의 사용자 인터페이스 화면(400)의 길이(Length) 항목(420)을 통해 예를 들어, 패턴 조각에서 풀니스를 표현할 측면, 다시 말해 풀니스의 타입(Type)과 풀니스의 타입에 따른 각 라인의 길이(Line Length), 및 각 라인에 대한 이동 거리(Distance Moved) 등을 설정할 수 있다.
사용자는 풀니스의 타입(Type)을 예를 들어, 430과 같이 One Side로 설정할 수도 있고, 440과 같이 Both Side로 설정할 수도 있다.
사용자가 패턴 조각에서 제1 라인에만 풀니스를 표현하고자 하는 경우, 사용자는 풀니스의 타입(Type)을 One Side(430)로 설정할 수 있다.
예를 들어, 풀니스의 타입(Type)이 One Side(430)로 설정된 경우, 가공 장치는 사용자가 선택한 풀니스 라인의 선분의 길이(431)를 측정하여 표시할 수 있다. 이때, 선분의 길이는 예를 들어, 최소 0.5 mm 부터 최대 10,000 mm까지 설정 가능하며, 길이의 단위는 사용자의 설정에 의해 변경될 수 있다. 또한, 가공 장치는 풀니스 라인에 대한 이동 거리(Distance Moved)(433)의 설정을 입력받을 수 있다. 풀니스 라인에 대한 이동 거리(433)는 사용자의 의도에 따라 풀니스 라인의 선분의 길이(431)에서 이동해야 하는 거리 혹은 수정되어야 하는 거리에 상응하는 양수(+) 또는 음수(-)의 값이 설정될 수 있다. 풀니스 라인에 대한 이동 거리(433)의 기본(default) 값은 0.0으로 설정될 수 있다.
또는 사용자가 패턴 조각에서 제1 라인 및 제2 라인 둘 다에 풀니스를 표현하고자 하는 경우, 사용자는 풀니스의 타입(Type)을 Both Side(440)로 설정할 수 있다.
예를 들어, 풀니스의 타입(Type)이 Both Side(440)로 설정된 경우, 가공 장치는 사용자가 선택한 풀니스 라인의 선분의 길이(441) 이외에도 사용자가 선택한 슬래시 라인의 선분의 길이(445) 또한 측정하여 표시할 수 있다. 이때, 각 라인의 선분의 길이(441, 445)는 예를 들어, 최소 0.5 mm 부터 최대 10,000 mm까지 설정 가능하며, 길이의 단위는 사용자의 설정에 의해 변경될 수 있다. 또한, 가공 장치는 풀니스 라인에 대한 이동 거리(443) 및 슬래시 라인에 대한 이동 거리(447)의 설정을 입력받을 수 있다. 각 이동 거리(Distance Moved)(443, 447)는 사용자의 의도에 따라 각 라인의 선분의 길이(441, 445)에서 이동해야 하는 거리 혹은 수정되어야 하는 거리에 상응하는 양수(+) 또는 음수(-)의 값이 설정될 수 있다. 각 라인에 대한 이동 거리(443, 447)의 기본 값은 0.0으로 설정될 수 있다.
각 라인의 선분의 길이(441, 445)에 대한 각 이동 거리(443, 447)가 입력되면, 가공 장치는 각 라인의 선분의 길이(441, 445) 및 각 이동 거리(443, 447)에 의해 옵션(Option) 항목(410)에서 설정된 방향에 따라 풀니스되고, 풀니스 결과를 화면에 표시할 수 있다.
이때, 각 라인의 선분의 길이(441, 445)와 각 라인의 선분의 길이(441, 445)에 대한 이동 거리(443, 447)는 서로 연동될 수 있다. 여기서, 각 라인의 선분의 길이(441, 445)와 이동 거리(443, 447)가 서로 연동된다는 의미는 예를 들어, 풀니스 라인의 선분의 길이(441)가 20cm이고, 이동 거리(443)가 +5cm로 설정된 경우, 풀니스 라인의 선분의 길이(441)('20 cm')에 이동 거리(443)('+5 cm')가 반영되어 풀니스 라인의 최종 길이가 25cm가 된다는 의미로 이해될 수 있다.
일 실시예에서 가공 장치는 패턴 조각에 대한 사용자의 설정을 기초로, 풀니스 라인과 슬래시 라인 간의 길이 비율이 유지되도록 템플릿의 값을 변경할 수 있다. 이때, 사용자의 설정에 의해 변경된 외곽선의 기존 형태는 화면에서 기초선으로 남아 있을 수 있다.
도 5는 일 실시예에 따른 사용자의 설정에 따라 패턴 조각에서 풀니스를 진행하는 방향이 달리 표현된 결과를 도시한 도면이다. 도 5를 조하면, 패턴 조각에서 풀니스를 진행하는 방향(Direction)을 설정하는 옵션(Option) 항목(410)에서의 사용자의 설정에 따라 생성된 패턴 조각(510, 530)이 도시된다.
예를 들어, 사용자가 Direction의 콤보 박스(410)에서 Start & End를 선택한 경우에는 생성된 패턴 조각은 510과 같고, Both를 선택한 경우에 생성된 패턴 조각은 530과 같을 수 있다.
패턴 조각(510)이 시작점 또는 종료점에서 시작하여 생성되는 것과 달리, 패턴 조각(530)은 중심축으로부터 양쪽 방향으로 생성될 수 있다. 이때, 패턴 조각(510)과 패턴 조각(530)의 각 선분의 길이, 이동된 거리, 및 방향은 동일할 수 있다.
도 6은 일 실시예에 따라 템플릿을 가공하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 6을 참조하면, 일 실시예에 따른 패턴 조각(610, 630) 및 패턴 조각에 대한 사용자의 설정을 기초로 가공되는 임시 가이드(620, 640)이 도시된다.
도 6에서 밑줄없이 표시된 숫자는 사용자가 선택한 각 라인의 선분의 길이에 해당하고, 밑줄과 함께 표시된 숫자는 사용자에 의해 설정된 각 라인의 선분의 길이에 대한 이동 거리(Distance Moved)에 해당할 수 있다.
가공 장치는 도 3a 및 도 3b를 통해 전술한 것과 같이 템플릿에 포함된 라인들에 사용자의 풀니스 설정을 적용함으로써 템플릿을 가공할 수 있다.
가공 장치는 사용자의 풀니스 설정이 적용된 템플릿의 라인들을 기초로, 패턴 조각에 풀니스를 위한 다각형을 추가 배치함으로써 패턴 조각을 가공할 수 있다. 여기서, 다각형은 예를 들어, 삼각형일 수도 있고, 또는 사다리꼴의 사각형일 수도 있으며, 반드시 이에 한정되지는 않는다.
가공 장치는 예를 들어, 사용자의 설정에 따라 패턴 조각의 제1 라인의 길이와 패턴 조각의 제1 라인에 대응되는 임시 가이드의 제3 라인의 길이 간의 비율이 유지되도록 템플릿의 조각들 간의 너비를 조정함으로써 템플릿을 가공할 수 있다.
예를 들어, 사용자가 패턴 조각(610)에서 사용자가 선택한 제1 라인(615)의 길이가 20cm이고, 이후 사용자가 제1 라인(615)에 대해 설정한 이동 거리가 10cm라고 하자. 또한, 패턴 조각(610)의 제1 라인(615)에 대응하여 대응하는 임시 가이드(620)의 제3 라인(625)의 길이가 10cm 라고 하자.
이 경우, 가공 장치는 패턴 조각(610)에서 제1 라인(615)의 길이('20cm')와 임시 가이드(620)의 길이('10cm)의 비율(2:1 비율)을 고려하여 임시 가이드(620)의 제3 라인(625)의 길이가 5cm 만큼 확장되도록 템플릿의 복수의 라인들을 가공할 수 있다.
또는 예를 들어, 사용자가 패턴 조각(630)에서 사용자가 선택한 제1 라인(635)의 길이가 40cm이고, 이후 사용자가 제1 라인(635)에 대해 설정한 이동 거리가 10cm라고 하자. 또한, 패턴 조각(620)의 제1 라인에 대응하는 임시 가이드(640)의 제3 라인(645)의 길이가 10cm 라고 하자.
이 경우, 가공 장치는 패턴 조각(630)에서 제1 라인(635)의 길이('40cm')와 임시 가이드(640)의 길이('10cm)의 비율(4:1 비율)을 고려하여 임시 가이드(640)의 제3 라인(645)의 길이가 2.5cm 만큼 확장되도록 템플릿의 복수의 라인들을 가공할 수 있다.
또는 가공 장치는 예를 들어, 사용자의 설정에 따라 패턴 조각에서의 제1 라인과 제2 라인 간의 길이 비율이 유지되도록 템플릿을 가공할 수 있다.
도 7은 다른 실시예에 따라 패턴 조각을 가공하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 7을 참조하면, 일 실시예에 따른 패턴 조각(710)에 대한 사용자 설정을 통해 가공된 패턴 조각(730)이 도시된다.
사용자는 사용자 인터페이스를 통해 패턴 조각(710)에서 슬래시 라인을 직접 그리거나, 패턴 조각(710)의 내부선 또는 기초선을 클릭하여 패턴 조각(730)과 같이 가공할 수 있다.
사용자가 패턴 조각(710)에서 슬래시 라인을 클릭하는 경우, 패턴 조각(710)은 내부선을 기준으로 양쪽으로 스프레드(spread)될 수 있다. 이때, 사용자가 커서를 이동하는 도중 마우스를 우클릭하는 경우, 화면에는 스프레드 창이 나타나고, 사용자는 스프레드 창을 통해 슬래시 라인의 이동 거리(distance)와 회전 각도(angle)를 입력할 수 있다. 가공 장치는 패턴 조각(710)에 750 및 760과 같이 사용자에 의해 입력된 이동 거리와 회전 각도를 적용하여 패턴 조각(730)과 같이 가공할 수 있다.
도 8은 일 실시예에 따라 패턴 조각을 가공하는 장치의 블록도이다. 도 8을 참조하면, 일 실시예에 따른 가공 장치(800)는 사용자 인터페이스(810), 프로세서(830) 및 출력 장치(870)를 포함한다. 가공 장치(800)는 메모리(850)를 더 포함할 수 있다. 사용자 인터페이스(810), 프로세서(830), 출력 장치(870), 및 메모리(850)는 통신 버스(805)를 통해 서로 통신할 수 있다.
사용자 인터페이스(810)는 복수의 패턴 조각들을 포함하는 의상의 2차원 패턴 중 가공할 패턴 조각에 대한 사용자의 선택을 입력받는다. 사용자 인터페이스(810)는 패턴 조각에 대한 사용자의 풀니스 설정을 입력받는다. 사용자 인터페이스(810)는 예를 들어, 스타일러스 펜, 마우스, 키보드, 터치 인터페이스를 통한 터치 입력뿐만 아니라, 가상 키보드를 통한 입력 등을 포함할 수 있다.
사용자 인터페이스(810)는 예를 들어, 패턴 조각의 제1 측면에 대응하는 제1 라인에 대한 사용자의 선택, 제1 라인의 적어도 두 개의 제1 점들에 대한 사용자의 선택, 패턴 조각의 제2 측면에 대응하는 제2 라인에 대한 사용자의 선택, 및 제2 라인의 적어도 두 개의 제2 점들에 대한 사용자의 선택을 입력받을 수 있다.
프로세서(830)는 사용자 인터페이스(810)를 통해 입력된 제1 점들 및 제2 점들을 기초로 템플릿을 생성할 수 있다. 이를 위하여, 프로세서(830)는 사용자 인터페이스(810)를 통해 입력된 제1 점들 및 제2 점들에 의해 정형화되는 사각형의 임시 가이드를 생성할 수 있다. 프로세서(830)는 임시 가이드의 조각들의 너비가 미리 설정된 길이보다 작지 않을 때까지 임시 가이드를 반복적으로 이분함으로써 분할선들을 생성하고, 분할선들을 패턴 조각의 외형선에 맞춤으로써 템플릿에 포함되는 복수의 라인들을 생성할 수 있다.
프로세서(830)는 사용자 인터페이스(810)를 통해 입력된 사용자의 풀니스 설정을 기초로 템플릿을 가공한다. 프로세서(830)는 가공된 템플릿을 기초로, 패턴 조각을 가공한다.
프로세서(830)는 사용자의 설정이 적용된 템플릿의 라인들을 기초로, 가공되는 패턴 조각의 외형선을 결정할 수 있다.
메모리(850)는 예를 들어, 사용자 인터페이스(810)를 통해 선택된 패턴 조각, 패턴 조각에 대한 사용자의 설정을 저장할 수 있다. 메모리(850)는 프로세서(830)에서 생성된 템플릿을 저장할 수 있다. 또한, 메모리(850)는 프로세서(830)에서 가공된 패턴 조각을 포함하는 2차원 패턴을 저장할 수 있다.
출력 장치(870)는 프로세서(830)에 의해 가공된 패턴 조각을 출력한다. 출력 장치(870)는 가공된 패턴 조각을 화면 상에 출력할 수도 있고, 또는 가공 장치(800) 외부로 출력할 수도 있다. 출력 장치(870)는 예를 들어, 디스플레이, 또는 가공 장치(800)의 외부와 통신하는 통신 인터페이스일 수도 있다. 또한, 출력 장치(870)는 2차원의 타겟 패턴을 종이 또는 옷감 등에 출력하는 패턴 생성 장치일 수 있다.
이 밖에도, 프로세서(830)는 도 1 내지 도 7을 통해 전술한 적어도 하나의 방법 또는 적어도 하나의 방법에 대응되는 알고리즘을 수행할 수 있다. 프로세서(830)는 프로그램을 실행하고, 가공 장치(800)를 제어할 수 있다. 프로세서(830)에 의하여 실행되는 프로그램 코드는 메모리(850)에 저장될 수 있다. 프로세서(830)는 예를 들어, CPU(Central Processing Unit), GPU(Graphics Processing Unit), 또는 NPU(Neural network Processing Unit)으로 구성될 수 있다.
실시예에 따른 방법은 다양한 컴퓨터 수단을 통하여 수행될 수 있는 프로그램 명령 형태로 구현되어 컴퓨터 판독 가능 매체에 기록될 수 있다. 상기 컴퓨터 판독 가능 매체는 프로그램 명령, 데이터 파일, 데이터 구조 등을 단독으로 또는 조합하여 포함할 수 있다. 상기 매체에 기록되는 프로그램 명령은 실시예를 위하여 특별히 설계되고 구성된 것들이거나 컴퓨터 소프트웨어 당업자에게 공지되어 사용 가능한 것일 수도 있다. 컴퓨터 판독 가능 기록 매체의 예에는 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체(magnetic media), CD-ROM, DVD와 같은 광기록 매체(optical media), 플롭티컬 디스크(floptical disk)와 같은 자기-광 매체(magneto-optical media), 및 롬(ROM), 램(RAM), 플래시 메모리 등과 같은 프로그램 명령을 저장하고 수행하도록 특별히 구성된 하드웨어 시스템이가 포함된다. 프로그램 명령의 예에는 컴파일러에 의해 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용해서 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드를 포함한다. 상기된 하드웨어 장치는 실시예의 동작을 수행하기 위해 하나 이상의 소프트웨어 모듈로서 작동하도록 구성될 수 있으며, 그 역도 마찬가지이다.
소프트웨어는 컴퓨터 프로그램(computer program), 코드(code), 명령(instruction), 또는 이들 중 하나 이상의 조합을 포함할 수 있으며, 원하는 대로 동작하도록 처리 장치를 구성하거나 독립적으로 또는 결합적으로(collectively) 처리 장치를 명령할 수 있다. 소프트웨어 및/또는 데이터는, 처리 시스템에 의하여 해석되거나 처리 시스템에 명령 또는 데이터를 제공하기 위하여, 어떤 유형의 기계, 구성요소(component), 물리적 시스템, 가상 시스템(virtual equipment), 컴퓨터 저장 매체 또는 시스템에 영구적으로, 또는 일시적으로 구체화(embody)될 수 있다. 소프트웨어는 네트워크로 연결된 컴퓨터 시스템 상에 분산되어서, 분산된 방법으로 저장되거나 실행될 수도 있다. 소프트웨어 및 데이터는 하나 이상의 컴퓨터 판독 가능 기록 매체에 저장될 수 있다.
이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기를 기초로 다양한 기술적 수정 및 변형을 적용할 수 있다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 시스템, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.
그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 청구범위의 범위에 속한다.
800: 가공 장치
805: 통신 버스
810: 사용자 인터페이스
830: 프로세서
850: 메모리
870: 출력 장치

Claims (20)

  1. 하나 이상의 패턴 조각을 포함하는 의상의 2차원 패턴 중 가공할 패턴 조각의 외형선 중 적어도 일부를 선택하는 입력을 수신하는 단계;
    상기 패턴 조각 내 상기 입력에 의하여 지정되는 영역을 분할하는 복수의 라인들을 포함하는 템플릿(template)을 생성하는 단계;
    상기 패턴 조각에 대한 사용자의 풀니스(fullness) 설정을 기초로, 상기 템플릿을 가공하는 단계;
    상기 가공된 템플릿을 기초로, 상기 패턴 조각을 가공하는 단계; 및
    상기 가공된 패턴 조각을 출력하는 단계
    를 포함하고,
    상기 템플릿을 가공하는 단계는
    상기 풀니스 설정을 기초로, 상기 복수의 라인들의 스케일(scale) 값을 결정하는 단계;
    상기 풀니스 설정 및 상기 스케일 값을 기초로, 상기 복수의 라인들의 회전(rotation) 값을 결정하는 단계; 및
    상기 스케일 값 및 상기 회전 값을 기초로, 상기 복수의 라인들을 가공하는 단계
    를 포함하는,
    패턴 조각을 가공하는 방법.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 스케일 값을 결정하는 단계는
    상기 풀니스 설정에 포함된 상기 영역의 제1 측면을 가공하는 제1 설정과 상기 영역의 제2 측면을 가공하는 제2 설정 중 작은 값으로 상기 스케일 값을 결정하는 단계
    를 포함하고,
    상기 회전 값을 결정하는 단계는
    상기 제1 설정 및 상기 제2 설정 중 큰 값과 상기 스케일의 차이로 상기 회전 값을 결정하는 단계
    를 포함하는,
    패턴 조각을 가공하는 방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 복수의 라인들을 가공하는 방법은
    상기 스케일 값에 기초하여 상기 복수의 라인들의 간격을 조절하는 단계; 및
    상기 제1 설정 및 상기 제2 설정 중 작은 값에 해당하는 측면의 끝점들을 피봇점으로 하여, 상기 회전 값에 따라 상기 복수의 라인들을 회전시키는 단계
    를 포함하는,
    패턴 조각을 가공하는 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 템플릿을 생성하는 단계는
    상기 입력에 기초하여 임시 가이드를 생성하는 단계;
    상기 임시 가이드를 분할하는 단계; 및
    상기 임시 가이드를 분할하는 분할선들을 상기 패턴 조각의 외형에 맞게 조정함으로써, 상기 템플릿에 포함되는 상기 복수의 라인들을 생성하는 단계
    를 포함하는,
    패턴 조각을 가공하는 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 입력을 수신하는 단계는
    상기 패턴 조각의 제1 측면(side)에 대응하는 제1 라인의 적어도 두 개의 제1 점들에 대한 사용자의 선택을 입력받는 단계; 및
    상기 패턴 조각의 제2 측면에 대응하는 제2 라인의 적어도 두 개의 제2 점들에 대한 사용자의 선택을 입력받는 단계
    를 포함하는,
    패턴 조각을 가공하는 방법.
  7. 제3항에 있어서,
    상기 제1 측면 및 상기 제2 측면은
    상기 패턴 조각에서 서로 마주보는 측면들인,
    패턴 조각을 가공하는 방법.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 임시 가이드를 분할하는 단계는
    상기 임시 가이드의 조각들의 너비가 미리 설정된 길이보다 작지 않을 때까지 상기 임시 가이드를 반복적으로 이분(dimidiate)하는 단계
    를 포함하는,
    패턴 조각을 가공하는 방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 패턴 조각을 가공하는 단계는
    상기 가공된 템플릿에 포함된 라인들의 끝점들을 기초로, 상기 가공된 패턴 조각의 외형선을 결정하는 단계
    를 포함하는,
    패턴 조각을 가공하는 방법.
  10. 하나 이상의 패턴 조각을 포함하는 의상의 2차원 패턴 중 가공할 패턴 조각의 외형선 중 적어도 일부를 선택하는 입력을 수신하는 단계;
    상기 패턴 조각 내 상기 입력에 의하여 지정되는 영역을 분할하는 복수의 라인들을 포함하는 템플릿(template)을 생성하는 단계;
    상기 패턴 조각에 대한 사용자의 풀니스(fullness) 설정을 기초로, 상기 템플릿을 가공하는 단계;
    상기 가공된 템플릿을 기초로, 상기 패턴 조각을 가공하는 단계; 및
    상기 가공된 패턴 조각을 출력하는 단계
    를 포함하고,
    상기 풀니스 설정은
    상기 패턴 조각의 제1 라인의 길이;
    상기 제1 라인의 길이에 대한 제1 이동 거리;
    상기 패턴 조각의 제2 라인의 길이;
    상기 제2 라인의 길이에 대한 제2 이동 거리; 및
    상기 패턴 조각에서 풀니스를 적용하는 방향
    중 적어도 하나를 포함하는,
    패턴 조각을 가공하는 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 제1 라인의 길이는 상기 제1 이동 거리와 서로 연동되고,
    상기 제2 라인의 길이는 상기 제2 이동 거리와 서로 연동되는,
    패턴 조각을 가공하는 방법.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 패턴 조각의 가공을 확정하기 전, 가공되는 패턴 조각의 형태를 미리 표시하는 단계
    를 더 포함하는,
    패턴 조각을 가공하는 방법.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 패턴 조각은
    복수의 다각형들을 포함하는 다각형 메쉬(polygon mesh)로 모델링되는,
    패턴 조각을 가공하는 방법.
  14. 하드웨어와 결합되어 제1항, 제3항 내지 제13항 중 어느 하나의 항의 방법을 실행시키기 위하여 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체에 저장된 컴퓨터 프로그램.
  15. 하나 이상의 패턴 조각을 포함하는 의상의 2차원 패턴 중 가공할 패턴 조각의 외형선 중 적어도 일부를 선택하는 입력을 수신하는 사용자 인터페이스;
    상기 패턴 조각 내 상기 입력에 의하여 지정되는 영역을 분할하는 복수의 라인들을 포함하는 템플릿을 생성하고, 상기 패턴 조각에 대한 사용자의 풀니스 설정을 기초로 상기 템플릿을 가공하며, 상기 가공된 템플릿을 기초로, 상기 패턴 조각을 가공하는 프로세서; 및
    상기 가공된 패턴 조각을 출력하는 출력 장치
    를 포함하고,
    상기 프로세서는
    상기 템플릿을 가공하기 위하여,
    상기 풀니스 설정을 기초로, 상기 복수의 라인들의 스케일(scale) 값을 결정하고, 상기 풀니스 설정 및 상기 스케일을 기초로, 상기 복수의 라인들의 회전(rotation) 값을 결정하며, 상기 스케일 값 및 상기 회전 값을 기초로, 상기 복수의 라인들을 가공하는,
    패턴 조각을 가공하는 장치.
  16. 삭제
  17. 제15항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 풀니스 설정에 포함된 상기 영역의 제1 측면을 가공하는 제1 설정과 상기 영역의 제2 측면을 가공하는 제2 설정 중 작은 값으로 상기 스케일 값을 결정하고, 상기 제1 설정 및 상기 제2 설정 중 큰 값과 상기 스케일의 차이로 상기 회전 값을 결정하는,
    패턴 조각을 가공하는 장치.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 스케일 값에 기초하여 상기 복수의 라인들의 간격을 조절하고, 상기 제1 설정 및 상기 제2 설정 중 작은 값에 해당하는 측면의 끝점들을 피봇점으로 하여, 상기 회전 값에 따라 상기 복수의 라인들을 회전시키는,
    패턴 조각을 가공하는 장치.
  19. 제15항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 템플릿을 생성하기 위하여,
    상기 입력에 기초하여 임시 가이드를 생성하고, 상기 임시 가이드를 분할하며, 상기 임시 가이드를 분할하는 분할선들을 상기 패턴 조각의 외형에 맞게 조정함으로써, 상기 템플릿에 포함되는 상기 복수의 라인들을 생성하는,
    패턴 조각을 가공하는 장치.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 프로세서는
    상기 임시 가이드의 조각들의 너비가 미리 설정된 길이보다 작지 않을 때까지 상기 임시 가이드를 반복적으로 이분하는,
    패턴 조각을 가공하는 장치.
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