KR20230026250A - 디자인 객체 시뮬레이션에서 분해도를 생성하는 방법 및 장치 - Google Patents

디자인 객체 시뮬레이션에서 분해도를 생성하는 방법 및 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20230026250A
KR20230026250A KR1020220079018A KR20220079018A KR20230026250A KR 20230026250 A KR20230026250 A KR 20230026250A KR 1020220079018 A KR1020220079018 A KR 1020220079018A KR 20220079018 A KR20220079018 A KR 20220079018A KR 20230026250 A KR20230026250 A KR 20230026250A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
vector
design
exploded view
distance
piece
Prior art date
Application number
KR1020220079018A
Other languages
English (en)
Inventor
김태형
마재환
이호현
함형기
Original Assignee
(주)클로버추얼패션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)클로버추얼패션 filed Critical (주)클로버추얼패션
Priority to US17/820,246 priority Critical patent/US20230057822A1/en
Priority to EP22858733.3A priority patent/EP4374327A1/en
Priority to PCT/KR2022/012251 priority patent/WO2023022496A1/en
Priority to CN202280004901.0A priority patent/CN115989526A/zh
Publication of KR20230026250A publication Critical patent/KR20230026250A/ko

Links

Images

Classifications

    • D—TEXTILES; PAPER
    • D05—SEWING; EMBROIDERING; TUFTING
    • D05B—SEWING
    • D05B19/00—Programme-controlled sewing machines
    • D05B19/02—Sewing machines having electronic memory or microprocessor control unit
    • D05B19/04—Sewing machines having electronic memory or microprocessor control unit characterised by memory aspects
    • D05B19/10—Arrangements for selecting combinations of stitch or pattern data from memory ; Handling data in order to control stitch format, e.g. size, direction, mirror image
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D05—SEWING; EMBROIDERING; TUFTING
    • D05B—SEWING
    • D05B19/00—Programme-controlled sewing machines
    • D05B19/02—Sewing machines having electronic memory or microprocessor control unit
    • D05B19/04—Sewing machines having electronic memory or microprocessor control unit characterised by memory aspects
    • D05B19/08—Arrangements for inputting stitch or pattern data to memory ; Editing stitch or pattern data
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/048—Interaction techniques based on graphical user interfaces [GUI]
    • G06F3/0481—Interaction techniques based on graphical user interfaces [GUI] based on specific properties of the displayed interaction object or a metaphor-based environment, e.g. interaction with desktop elements like windows or icons, or assisted by a cursor's changing behaviour or appearance
    • G06F3/04815—Interaction with a metaphor-based environment or interaction object displayed as three-dimensional, e.g. changing the user viewpoint with respect to the environment or object
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/048—Interaction techniques based on graphical user interfaces [GUI]
    • G06F3/0484—Interaction techniques based on graphical user interfaces [GUI] for the control of specific functions or operations, e.g. selecting or manipulating an object, an image or a displayed text element, setting a parameter value or selecting a range
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T15/00—3D [Three Dimensional] image rendering
    • G06T15/10—Geometric effects
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T19/00—Manipulating 3D models or images for computer graphics
    • G06T19/20—Editing of 3D images, e.g. changing shapes or colours, aligning objects or positioning parts
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00—Image analysis
    • G06T7/50—Depth or shape recovery
    • G06T7/55—Depth or shape recovery from multiple images
    • G06T7/593—Depth or shape recovery from multiple images from stereo images
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2210/00—Indexing scheme for image generation or computer graphics
    • G06T2210/12—Bounding box
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2219/00—Indexing scheme for manipulating 3D models or images for computer graphics
    • G06T2219/20—Indexing scheme for editing of 3D models
    • G06T2219/2008—Assembling, disassembling
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2219/00—Indexing scheme for manipulating 3D models or images for computer graphics
    • G06T2219/20—Indexing scheme for editing of 3D models
    • G06T2219/2024—Style variation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Computer Graphics (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Software Systems (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Sewing Machines And Sewing (AREA)
  • Processing Or Creating Images (AREA)

Abstract

일 실시예에 따르면, 디자인 객체 시뮬레이션에서 분해도를 생성하는 방법은 디자인 객체에 대응하는 제1 바운딩 영역을 생성하는 단계; 디자인 객체에 포함된 복수의 피스들 각각에 대응하는 제2 바운딩 영역들을 생성하는 단계; 제1 바운딩 영역의 중심을 나타내는 제1 벡터와 제2 바운딩 영역들의 각각의 중심들을 나타내는 제2 벡터들 사이 거리들을 획득하는 단계; 및 획득된 거리들에 기초하여 제1 벡터와 제2 벡터들 사이의 거리들을 증가시킴으로써, 복수의 피스들 위치를 조정하는 단계를 포함할 수 있다.

Description

디자인 객체 시뮬레이션에서 분해도를 생성하는 방법 및 장치{METHOD AND DEVICES FOR GENERATING EXPLODED VIEW IN DESIGN OBJECT SIMULATION}
아래 실시예들은 디자인 객체 시뮬레이션에서 분해도를 생성하는 방법 및 장치들에 관한 것이다.
디자인 객체 시뮬레이션에서 분해도를 통해 사용자들은 디자인 객체의 각 부분을 섬세하게 수정하고 디자인할 수 있다. 구체적으로 디자인 객체 시뮬레이션에서 분해도는 디자인 객체에 포함된 복수의 패턴들을 분해시켜서 서로 떨어 뜨려 놓은 도면일 수 있다. 이를 통해, 사용자들은 디자인 객체의 패턴에 포함된 각각의 패턴에 대하여 재봉선, 소재, 치수 변환 등 섬세한 작업을 할 수 있다. 그러므로 사용자가 디자인 객체 디자인을 원활하게 할 수 있는 분해도를 생성하는 기술에 대해 관심도가 높아지고 있다.
일 실시예에 따르면, 디자인 객체 시뮬레이션에서 분해도(exploded view)를 생성하는 방법은 디자인 객체에 대응하는 제1 바운딩 영역을 생성하는 단계; 디자인 객체에 포함된 복수의 피스들 각각에 대응하는 제2 바운딩 영역들을 생성하는 단계; 제1 바운딩 영역의 중심을 나타내는 제1 벡터와 제2 바운딩 영역들의 각각의 중심들을 나타내는 제2 벡터들 사이 거리들을 획득하는 단계; 및 획득된 거리들에 기초하여 제1 벡터와 제2 벡터들 사이의 거리들을 증가시킴으로써, 복수의 피스들의 위치를 조정하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 거리를 조정하는 단계는 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리에 일정 비율을 곱한 값에 기초하여 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 증가시키는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 거리를 조정하는 단계는 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 단위 거리로 변환한 후, 단위 거리에 기초하여 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 증가시키는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 거리를 조정하는 단계는 사용자 선택 입력에 기초하여 결정된 피스에 대응하는 제2 바운딩 영역의 제2 벡터와 제1 벡터 사이 거리를 조정하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 방법은 피스에 포함된 복수의 디자인 엘리먼트들을 각각에 대응하는 제3 바운딩 영역들 각각의 중심인 제3 벡터와 상기 피스의 제2 벡터 사이 거리를 조정하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 제1 벡터와 제2 벡터 사이 거리는 제2 벡터와 제3 벡터 사이 거리보다 크도록 설정될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 방법은 사용자 선택 입력에 기초하여 위치가 조정된 복수의 피스들을 원래의 위치로 복원시키는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 방법은 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 피스 및 디자인 엘리먼트 중 적어도 하나를 선택하는 단계; 및 선택된 피스 및 디자인 엘리먼트 중 적어도 하나에 대응하는 디자인 데이터를 수정하는 단계를 더 포함할 수 있다. 일 실시예에 따른 디자인 데이터는 패턴, 소재, 부자재 및 치수 중 적어도 하나에 관한 데이터를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 방법은 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 수정 오브젝트를 통해 입력된 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 소재, 패턴 및 부자재 중 적어도 하나를 사용하는 적어도 하나의 피스 또는 디자인 엘리먼트의 표시가 변경하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 방법은 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 피스 또는 디자인 엘리먼트의 표시를 변경하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 방법은 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 피스 또는 디자인 엘리먼트의 투명도를 낮추는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 상기 방법은 디자인 데이터를 수정하기 위한 수정 오브젝트 및 분해도를 화면에 출력하는 단계; 및 수정 오브젝트를 통해 입력된 디자인 데이터 수정 정보에 기초하여 분해도를 변형시키는 단계를 더 포함할 수 있다.
다른 일 실시예에 따른 분해도를 생성하기 위한 전자 장치는 디자인 객체에 대응하는 제1 바운딩 영역을 생성하고, 디자인 객체에 포함된 복수의 피스들 각각에 대응하는 제2 바운딩 영역들을 생성하고, 제1 바운딩 영역의 중심을 나타내는 제1 벡터와 제2 바운딩 영역들의 각각의 중심들을 나타내는 제2 벡터들 사이 거리들을 획득하고, 그리고 획득된 거리들에 기초하여 제1 벡터와 제2 벡터들 사이의 거리들을 증가시킴으로써, 복수의 피스들 위치를 조정하는 프로세서를 포함할 수 있다.
도 1은 일 실시예에 따른 바운딩 영역을 통해 복수의 피스들 위치를 조정하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도2는 일 실시예에 따른 복수의 피스들의 위치를 조정하는 구체적인 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 일 실시예에 따른 복수의 피스들 위치를 조정한 후, 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치를 조정하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 일 실시예에 따른 복수의 피스들의 위치를 조정하는 방법에 따른 피스 간 사이 거리를 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 일 실시예에 따른 디자인 객체의 분해 전 후를 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 일 실시예에 따른 분해도에서 디자인 데이터를 수정하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 일 실시예에 따른 선택된 디자인 엘리먼트 또는 피스의 표시가 변경되는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 일 실시예에 따른 분해도 생성 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 다양한 실시예에 따른 전자 장치를 설명하기 위한 블록도이다.
본 명세서에서 개시되어 있는 특정한 구조적 또는 기능적 설명들은 단지 기술적 개념에 따른 실시예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 실시예들은 다양한 다른 형태로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시예들에 한정되지 않는다.
제1 또는 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 이런 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 이해되어야 한다. 예를 들어 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소는 제1 구성요소로도 명명될 수 있다.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하는 표현들, 예를 들어 "~간에"와 "바로~간에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함으로 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다.
도 1은 일 실시예에 따른 바운딩 영역을 통해 복수의 피스들 위치를 조정하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
디자인 객체는 사람이 착용한 경우에 3차원으로 보이지만, 실제로는 2차원의 패턴(pattern)에 따라 재단된 천(fabric) 피스의 조합에 해당할 수 있다. 따라서, 디자인 객체 시뮬레이션에서 디자인 객체는 복수의 패턴들로 표현될 수 있다. 그리고 패턴들은 복수의 다각형들을 포함하는 다각형 메쉬(polygon mesh)로 모델링될 수 있다.
일 실시예에 따른 디자인 객체는 디자인된 물품을 가상화 한 이미지일 수 있다. 디자인된 물품은 특정 물품에 한정되지 않고 디자인 가능한 모든 물품을 포괄적으로 지칭할 수 있다. 예를 들어, 의상을 디자인하는 사용자(디자이너)가 디지털화 된 의상을 디자인할 수 있다. 온라인에서 의상을 디자인함에 따라 완성된 가상화 된 샘플 의상이 디자인 객체일 수 있다. 또한, 예를 들어, 디자인 객체는 의상, 커튼, 신발, 가방, 장갑 등을 디자인하여 가상화 한 이미지일 수 있다. 또한, 예를 들어, 디자인 객체는 가구, 장난감 등을 디자인하여 가상화 한 이미지일 수 있다. 예를 들어, 도 1에 도시된 티셔츠와 바지는 의류를 디자인함에 따라 완성된 가상화 된 샘플 의상인 디자인 객체(100)일 수 있다. 전술한 디자인 객체에 관한 구체적인 기재는 예시일 뿐이며 본 개시는 이에 제한되지 않는다.
이하에서는 분해도를 생성하는 구체적인 방법에 대하여 서술된다.
도 1에서는 디자인 객체(100), 분해도(101), 제1 바운딩 영역(130), 제1 바운딩 스피어(150), 제1 벡터(140), 제2 바운딩 영역(170), 제2 벡터(180), 위치 조정된 제2 바운딩 영역(171) 및 위치 조정된 제2 벡터(181)가 도시되어 있다.
일 실시예에 따른 디자인 객체(100)는 가상 디자인 객체일 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 디자인 객체(100)에 대응하는 제1 바운딩 영역(130)를 생성할 수 있다. 일 실시예에 따른 디자인 객체(100)는 의상을 포함할 수 있다. 따라서, 프로세서(910)는 의상에 대응하는 제1 바운딩 영역(130)를 생성할 수 있다. 예를 들어, 의상은 티셔츠를 포함할 수 있다. 도 1에 도시된 바와 같이 프로세서(910)는 의상에 대응하는 제1 바운딩 영역(130)를 생성할 수 있다. 다른 일 실시예에 따른 디자인 객체(100)는 가방, 장갑, 신발 등을 포함할 수도 있다.
일 실시예에 따른 바운딩 영역은 객체의 모든 점을 포함하는 최소 크기를 가지는 영역을 의미할 수 있다. 예를 들어, 제1 바운딩 영역(130)는 의상에 포함된 모든 점을 포함하는 최소 크기를 가지는 영역일 수 있다. 일 실시예에 따른 바운딩 영역은 바운딩 박스 및/또는 바운딩 스피어의 형태를 가질 수도 있다.
다른 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 디자인 객체(100)에 대응하는 제1 바운딩 스피어(Sphere)(150)를 생성할 수 있다. 일 실시예에 따른 바운딩 스피어는 객체의 모든 점을 포함하는 크기를 가지를 스피어를 의미할 수 있다. 다른 일 실시예에 따른 바운딩 스피어는 바운딩 박스에 기초하여 생성된 스피어일 수 있다. 예를 들어, 프로세서(910)는 바운딩 박스의 8개 꼭지점에 기초하여 바운딩 스피어를 생성할 수 있다. 프로세서(910)는 바운딩 박스의 8개 꼭지점이 스피어의 면에 접하도록 바운딩 스피어를 생성할 수 있다. 따라서, 제1 바운딩 스피어(150)는 제1 바운딩 영역(130)에 기초하여 생성될 수 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)는 디자인 객체에 포함된 복수의 피스(pieces)들 각각에 대응하는 제2 바운딩 영역(170)들을 생성할 수 있다. 일 실시예에 따른 피스는 디자인 객체의 적어도 일부를 의미할 수 있다. 예를 들어, 디자인 객체가 원피스인 경우, 피스는 원피스를 복수의 영역들로 분할하여 생성될 수 있다. 다른 예를 들어, 디자인 객체가 원피스 및 가방인 경우, 프로세서(910)는 디자인 객체를 원피스 및 가방으로 분할할 수 있다. 그리고 피스는 원피스의 복수의 영역들 및/또는 가방의 복수의 영역들일 수 있다. 또 다른 예를 들어, 디자인 객체가 티셔츠인 경우, 피스는 몸통, 팔 소매, 카라일 수 있다. 다른 예를 들어, 디자인 객체가 바지인 경우, 다리 부분, 바지 끝단, 바지 주머니, 바리 허리 부분일 수 있다. 일 실시예에 따른 제2 바운딩 영역(170)는 피스에 대응하는 바운딩 영역을 의미할 수 있다.
일 실시예에 따른 디자인 엘리먼트(design element)는 디자인 객체를 구성하는 요소로서, 피스의 적어도 일부를 의미할 수 있다. 디자인 엘리먼트는 패턴 및 부자재 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)는 제1 바운딩 영역(130)의 중심인 제1 벡터와 적어도 하나의 제2 바운딩 영역(170)의 중심인 제2 벡터 사이 거리를 획득할 수 있다. 도 1에서 분해도(101)는 복수의 피스들의 위치가 모두 조정된 상태를 표현한 도면일 수 있다. 다른 일 실시예에 따른 분해도(101)는 피스에 포함된 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 모두 조정된 상태를 표현한 도면일 수도 있다. 따라서, 프로세서(910)는 디자인 객체(100)에서 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 산출할 수 있다. 일 실시예에 따른 제1 바운딩 영역(130)의 중심 좌표는 제1 벡터로 표현될 수 있다. 일 실시예에 따른 제2 바운딩 영역(170)의 중심 좌표는 제2 벡터로 표현될 수 있다. 도 1에서는 설명의 편의를 위하여 하나의 피스에 대응하는 제2 바운딩 영역만 도시되어 있을 뿐, 제2 바운딩 영역은 복수의 피스들 각각에 대응하여 존재할 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 제1 벡터와 제2 벡터 사이 거리를 계산함으로써, 제1 벡터와 제2 벡터 사이 거리를 획득할 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 도1의 디자인 객체(100)에서 제1 벡터(140)와 제2 벡터(180) 사이 거리를 산출할 수 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)는 획득된 거리(예, 제1 벡터(140)와 제2 벡터(180) 사이 거리)에 기초하여 제1 벡터와 제2 벡터들 사이의 거리들을 증가시킴으로써, 복수의 피스들 위치를 조정할 수 있다. 예를 들어, 프로세서(910)는 제1 벡터(140)와 제2 벡터(180) 사이 거리를 산출할 수 있다. 그리고 프로세서(910)는 산출된 제1 벡터(140)와 제2 벡터(180) 사이 거리에 기초하여 제1 벡터(140)와 제2 벡터(180) 사이의 거리를 조정할 수 있다. 일 실시예에 따른 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 증가시키는 구체적인 방법은 이하에서 도 2를 참조하여 구체적으로 설명된다.
일 실시예에 따른 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 증가시키는 제1 방법(200)은 다음과 같을 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리에 일정 비율을 곱한 값에 기초하여 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 증가시킬 수 있다. 도 2에서는 제1 벡터(210), 제2 벡터1(230) 및/또는 제2 벡터2(260)가 도시되어 있다. 또한,
Figure pat00001
(220)은 제1 벡터(210)와 제2 벡터1(230) 사이 변위차(또는 거리)를 의미할 수 있다.
Figure pat00002
(250)는 제1 벡터(210)와 제2 벡터2(260) 사이 변위차(또는 거리)를 의미할 수 있다. 도 2에서 일정 비율은 c로 표현될 수 있다. 예를 들어, c는 1보다 큰 상수일 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 제2 벡터1(230)을 제1 벡터(210)로부터
Figure pat00003
(221)만큼 떨어진 곳에 위치하도록 제2 벡터1(230)의 위치를 조정할 수 있다. 따라서 제2 벡터1(230)은 제2 벡터1의 조정된 위치1(240)로 위치가 조정될 수 있다. 또 다른 예를 들어, 프로세서(910)는 제2 벡터2(260)를 제1 벡터(210)로부터
Figure pat00004
(251)만큼 떨어진 곳에 위치하도록 제2 벡터2(260)의 위치를 조정할 수 있다. 일 실시예에 따른 제2 벡터의 위치가 조정됨에 따라, 제2 벡터에 대응하는 제2 바운딩 영역이 조정될 수 있다. 나아가 제2 바운딩 영역에 대응하는 피스의 위치도 조정될 수 있다. 이를 통해, 프로세서(910)는 디자인 객체(100)의 중심점에 기초하여 각각의 피스가 멀어지도록 피스들의 위치를 조정할 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 제1 방법(200)을 통해 피스들의 위치를 조정하는 경우, 제1 벡터로부터 제2 벡터가 멀리 떨어져 있을수록, 프로세서(910)는 제2 벡터의 위치를 제1 벡터로부터 떨어진 거리에 비례하여 더 많이 멀어지도록 조정할 수 있다.
다른 일 실시예에 따른 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 증가시키는 제2 방법(201)은 다음과 같을 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 제1 벡터와 적어도 하나의 제2 벡터 사이의 거리를 단위 거리로 변환한 후, 단위 거리에 기초하여 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 증가시킬 수 있다. 도 2에서는 제1 벡터(210), 제2 벡터1(230) 및/또는 제2 벡터2(250)가 도시되어 있다. 또한,
Figure pat00005
(220)은 제1 벡터(210)와 제2 벡터1(230) 사이 변위차(또는 거리)를 의미할 수 있다.
Figure pat00006
(250)는 제1 벡터(210)와 제2 벡터2(250) 사이 변위차(또는 거리)를 의미할 수 있다. 도 2에서 일정 비율은 c로 표현될 수 있다. 예를 들어, c는 1보다 큰 상수일 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는
Figure pat00007
(220)를 단위 거리인 unit(
Figure pat00008
)으로 변환할 수 있다. 일 실시예에 따른 단위 거리는 거리값을 특정 단위로 변환한 거리일 수 있다. 예를 들어, 단위 거리 = log(거리)로 표현될 수 있다. 전술한 단위 거리는 예시일 뿐 본 개시는 이에 제한되지 않는다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는
Figure pat00009
(250)를 단위 거리인 unit(
Figure pat00010
)으로 변환할 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 제1 벡터와 제2 벡터 사이 거리(예,
Figure pat00011
(220) 또는
Figure pat00012
(250))에서 단위 거리를 더한 만큼 제1 벡터로부터 떨어진 곳에 제2 벡터를 위치시킬 수 있다. 다른 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 제1 벡터와 제2 벡터 사이 거리(예,
Figure pat00013
(220) 또는
Figure pat00014
(250))에서 (일정 비율)*(단위 거리)를 더한 만큼 제1 벡터로부터 떨어진 곳에 제2 벡터를 위치시킬 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 일정 비율(예를 들어, c)을 각 단위 거리에 곱할 수 있다. 예를 들어, 프로세서(910)는 제2 벡터1(230)의 위치를 제1 벡터(210)로부터
Figure pat00015
+ c* unit(
Figure pat00016
)(222)만큼 떨어진 위치로 조정할 수 있다. 그리고 조정된 위치는 제2 벡터1의 조정된 위치2(241)로 결정할 수 있다. 다른 예를 들어, 프로세서(910)는 제2 벡터2(260)의 위치를 제1 벡터(210)로부터
Figure pat00017
+ c* unit(
Figure pat00018
)(252)만큼 떨어진 위치로 조정할 수 있다. 그리고 조정된 위치는 제2 벡터2의 조정된 위치2(281)로 결정할 수 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)가 제2 방법(201)을 사용하여 제1 벡터와 제2 벡터 사이 거리를 조정하는 경우, 제1 방법(200)을 사용하는 경우보다 조정되는 거리 변화량이 작을 수 있다. 예를 들어, 프로세서(910)가 제1 방법(200)을 사용하는 경우, 제1 벡터로부터 멀리 떨어진 피스 또는 디자인 엘리먼트는 제2 방법(201)을 사용하는 경우보다 제1 벡터로부터 더 멀리 떨어지도록 거리가 조정될 수 있다. 따라서, 프로세서(910)가 제1 방법(200)을 사용하는 경우, 분해도(101)에서 피스 및/또는 디자인 엘리먼트가 큰 폭으로 흩어질 수 있게 된다. 그 이유는 조정되는 거리가 제1 벡터와 제2 벡터 사이 거리에 비례하여 증가하기 때문이다. 프로세서(910)가 제2 방법(201)을 사용하는 경우, 피스 및/또는 디자인 엘리먼트가 제1 방법(200)을 사용하는 경우보다 상대적으로 작은 폭으로 흩어질 수 있다. 그 이유는 제1 벡터와 제2 벡터 사이 거리에서 단위 거리를 더한 값만큼 피스 및/또는 디자인 엘리먼트의 위치를 조정하기 때문이다.
도 4를 참조하여 설명하면, 제1 방법을 사용하여 거리를 조정한 화면(400)에서는 피스1(450)과 피스2(420) 사이 거리(411) 및 피스2(420)와 피스3(430) 사이 거리(410)가 도시되어 있다. 그리고 제2 방법을 사용하여 거리를 조정한 화면(401)에서는 피스1'(451)과 피스2'(421) 사이 거리(461) 및 피스2'(421)와 피스3'(431) 사이 거리(460)가 도시되어 있다. 피스1(450)과 피스2(420) 사이 거리(411)는 피스1'(451)과 피스2'(421) 사이 거리(461)보다 클 수 있다. 또한 피스2(420)와 피스3(430) 사이 거리(410)는 피스2'(421)와 피스3'(431) 사이 거리(460)보다 클 수 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)는 복수의 피스들 위치를 조정하여 분해도(101)를 생성할 수 있다. 도 1을 참조하면, 제1 벡터(140)를 기준으로, 복수의 피스들이 서로 거리를 두고 분해되어 있을 수 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)는 사용자 선택 입력에 기초하여 결정된 피스에 대응하는 제2 바운딩 영역의 제2 벡터와 제1 벡터 사이 거리를 조정할 수 있다. 그리고 프로세서(910)는 사용자 선택 입력에 기초하여 결정된 피스 이외의 피스들 각각에 대응하는 제2 벡터와 제1 벡터 사이 거리는 유지할 수 있다. 이를 통해, 프로세서(910)는 사용자가 원하는 피스에 대해서만 다른 피스들과 거리를 멀어지게 표시함으로써, 사용자가 해당 피스에 대해 디자인을 수정하고 확인하기 용이하도록 할 수 있다.
일 실시예 따른 사용자는 디자인 객체 시뮬레이션을 통해 분해도에서 재봉선을 수정하거나 추가하는 작업을 수행할 필요가 존재할 수 있다. 이 경우, 디자인 객체에 포함된 복수의 패턴들이 모두 분해되어 흩어져 있으면 그래픽 인터페이스가 산만해 보일 수 있으며, 사용자의 작업 집중도를 저해할 수 있다. 따라서, 프로세서(910)는 사용자가 선택한 부분(예, 선택한 피스 또는 선택한 디자인 엘리먼트)에 대해서만 분해하여 거리를 조정할 수 있고, 나머지 부분은 거리를 그대로 유지할 수 있다. 구체적으로 사용자가 피스를 선택한 경우, 프로세서(910)는 해당 피스의 제2 벡터와 제1 벡터 사이 거리를 조정할 수 있다. 그리고 프로세서(910)는 다른 피스의 제2 벡터와 제1 벡터 사이 거리는 유지할 수 있다. 나아가 프로세서(910)는 해당 피스에 포함된 복수의 디자인 엘리먼트들에 대응하는 제3 바운딩 영역의 제 3 벡터들과 제2 벡터들 사이 거리도 조정할 수 있다. 다른 예를 들어, 사용자가 디자인 엘리먼트를 선택한 경우, 프로세서(910)는 해당 디자인 엘리먼트의 제3 벡터와 제2 벡터 사이 거리를 조정할 수 있다. 그리고 나머지 디자인 엘리먼트의 제3 벡터와 제2 벡터 사이 거리는 유지할 수 있다.
다른 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 복수의 피스들 위치를 조정한 후, 피스들에 포함된 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치를 조정하여 분해도(101)를 생성할 수 있다. 이하에서는 도 3을 참조하여 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치를 조정하는 방법에 대하여 구체적으로 설명된다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)는 제1 벡터와 제2 벡터들 사이의 거리들을 증가시킴으로써, 복수의 피스들 위치를 조정할 수 있다. 그리고 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 피스에 포함된 복수의 디자인 엘리먼트들을 각각에 대응하는 제3 바운딩 영역들 각각의 중심인 제3 벡터와 피스의 제2 벡터 사이 거리를 조정할 수 있다. 일 실시예에 따른 디자인 엘리먼트는 피스의 적어도 일부일 수 있다. 예를 들어, 피스가 티셔츠의 몸통 부분인 경우, 피스는 전면 패턴 및 후면 패턴을 포함할 수 있다.
일 실시예에 따른 도 3에서는 피스1(310) 및 피스2(320)가 도시되어 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 전술한 방법에 기초하여 피스1(310) 및 피스2(320) 사이 거리를 증가시킬 수 있다.
일 실시예에 따른 피스2(320)는 패턴1(330), 패턴2(340) 및 패턴3(350)을 포함할 수 있다. 또한 피스1(310)에 대응하는 제2 벡터는 점1(311)이고, 피스2(320)에 대응하는 제2 벡터는 점2(321)일 수 있다.
일 실시예에 따른 도 3에서는 각 패턴의 중심점이 도시되어 있을 수 있다. 예를 들어, 패턴1(330)의 중심점은 점3(331)일 수 있다. 점 3(331)은 패턴1(330)에 대응하는 제3 바운딩 영역의 중심인 제3 벡터일 수 있다. 패턴2(340)의 중심점은 점4(341)일 수 있다. 점4(341)는 패턴2(340)에 대응하는 제3 바운딩 영역의 중심인 제3 벡터일 수 있다. 그리고 패턴3(350)의 중심점은 점5(351)일 수 있다. 점 5(351)는 패턴3(350)에 대응하는 제3 바운딩 영역의 중심인 제3 벡터일 수 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)는 패턴1(330)의 제3 벡터인 점3(331)과 피스2(320)의 제2 벡터인 점2(321) 사이의 거리를 증가시킬 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 패턴2(340)의 제3 벡터인 점4(341)와 피스2(320)의 제2 벡터인 점2(321) 사이의 거리를 증가시킬 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 패턴3(350)의 제3 벡터인 점5(351)와 피스2(320)의 제2 벡터인 점2(321) 사이의 거리를 증가시킬 수 있다. 이를 통해, 피스2(320)에 포함된 패턴1(330), 패턴2(340) 및 패턴3(350)은 서로 거리가 멀어진 상태로 위치가 조정될 수 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)가 디자인 객체(100)를 피스 단위로 분해(예, 제1 벡터와 제2 벡터 사이 거리 조정)한 후에, 디자인 엘리먼트 단위로 분해(예, 제2 벡터와 제3 벡터 사이 거리 조정)함으로써, 사용자는 규칙성 있고 정돈된 디자인 객체의 분해도를 볼 수 있다.
일 실시예에 따른 제1 벡터와 제2 벡터 사이 거리는 제2 벡터와 제3 벡터 사이 거리보다 크도록 설정될 수 있다. 예를 들어, 제1 벡터와 제2 벡터(예, 도 3에서의 점(321)) 사이 거리는 제2 벡터(예, 도 3에서의 점(321)) 제 3벡터(예, 도 3에서의 점(331), 점(341) 또는 점(351)) 사이 거리보다 크도록 설정될 수 있다. 이를 통해 프로세서(910)는 디자인 객체의 적어도 일부의 피스들만 거리가 조정된 경우(사용자가 선택한 피스만 디자인 객체에서 분해한 경우)에, 거리가 조정된 피스와 거리가 조정되지 않은 피스 사이의 중첩 문제가 발생하지 않을 수도 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)는 사용자 선택 입력에 기초하여 위치가 조정된 복수의 피스들을 원래의 위치로 복원시킬 수 있다. 일 실시예에 따른 사용자 선택 입력은 "분해도 on" 및/또는 "분해도 off"를 포함할 수 있다. 도 5를 참조하여 설명하면 분해도 off 상태 화면(500) 및 분해도 on 상태 화면(501)이 도시되어 있다. 분해도 on 상태 화면(501)에서는 제1 바운딩 영역에 기초하여 제2 바운딩 영역의 위치가 조정된 화면을 포함할 수 있다. 일 실시예에 따른 분해도 off 상태 화면(500)에서는 프로세서(910)가 제2 바운딩 영역이 조정되기 전의 위치로 복원시킨 상태의 화면을 포함할 수 있다. 다른 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 사용자 선택 입력에 기초하여 위치가 조정된 복수의 디자인 엘리먼트들을 원래의 위치로 복원시킬 수도 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)는 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 피스 및 디자인 엘리먼트 중 적어도 하나를 선택할 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 선택된 피스 및 디자인 엘리먼트 중 적어도 하나에 대응하는 디자인 데이터를 수정할 수 있다. 분해도에서 디자인 데이터 수정은 도 6을 참조하여 이하에서 구체적으로 설명된다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 사용자 선택 입력에 기초하여 디자인 엘리먼트(예, 팔 소매 패턴(630))을 선택할 수 있다. 이 경우, 사용자는 팔 소매 패턴(630)에 대응하는 디자인 데이터를 수정할 수 있다. 예를 들어, 사용자는 팔 소매 패턴(630)의 패턴(670)을 변경할 수 있다. 다른 예를 들어, 사용자는 팔 소매 패턴(630)의 소재(671)을 변경할 수 있다. 또 다른 예를 들어, 사용자는 팔 소매 패턴(630)의 부자재(672)를 변경할 수도 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 디자인 데이터 수정 정보를 수신하여, 디자인 엘리먼트(예, 팔 소매 패턴(630))에 대응하는 디자인 데이터를 수정할 수 있다.
일 실시예에 따른 디자인 객체와 연관된 하나 이상의 디자인 데이터는 디자인 객체와 대응되는 물품을 생성하기 위하여 필요한 데이터일 수 있다. 디자인 데이터는 가상화 된 샘플 물품을 실제 공정에서 생산하기 위하여 필요한 데이터일 수 있다. 디자인 데이터는 물품을 생성하기 위해 필요한 물품의 패턴(670), 소재(671), 부자재(672) 또는 각각에 대한 치수 중 적어도 하나에 관한 데이터일 수 있다. 패턴(670)은 물품을 구성하는 적어도 일 부분에 대한 재단을 의미할 수 있다. 예를 들어, 패턴(670)은 티셔츠를 구성하는 앞, 뒤, 소매, 부분 각각에 대한 평면 재단을 의미할 수 있다. 소재(671)는 물품을 구성하는 원료를 의미할 수 있다. 예를 들어, 소재(671)는 의류의 경우 코튼(cotton), 울(wool), 벨벳(velvet) 등을 의미할 수 있다. 부자재(672)는 물품을 구성하기 위하여 보조적으로 사용되는 자재일 수 있다. 예를 들어, 의류를 구성하기 위해 주요하게 사용되는 자재는 천일 수 있고, 그리고 보조적으로 사용되는 부자재는 단추, 로고, 지퍼 등일 수 있다. 치수는 물품을 구성하기 위해 사용되는 자재 또는 부자재를 설명하기 위한 값일 수 있다. 예를 들어, 치수는 패턴을 설명하기 위한 패턴 각 모서리의 길이, 단추의 지름 등일 수 있다. 예를 들어, 디자인 데이터는 티셔츠를 구성하는 4개의 패턴, 티셔츠의 각 부분을 구성하는 소재, 티셔츠에 달리는 단추 및 로고, 그리고 그 각각에 대한 크기 또는 길이에 대한 데이터일 수 있다. 전술한 디자인 데이터에 관한 구체적인 기재는 예시일 뿐이며 본 개시는 이에 제한되지 않는다.
일 실시예에 따른 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 소재, 패턴 및 부자재 중 적어도 하나를 사용하는 피스 또는 디자인 엘리먼트의 표시를 변경할 수 있다. 일 실시예에 따른 사용자 선택 입력은 수정 오브젝트를 통해 입력된 정보일 수 있다. 프로세서(910)는 수정 오브젝트를 통해 선택된 소재, 패턴 및 부자재 중 적어도 하나를 사용하는 피스 또는 디자인 엘리먼트의 표시를 분해도에서 변경할 수 있다. 이를 통해, 사용자는 소재, 패턴 및 부자재 중 적어도 하나를 사용하는 피스 또는 디자인 엘리먼트를 분해도에서 쉽게 식별할 수 있다. 예를 들어, 도 7에서 소재 오브젝트(680)가 선택된 경우, 프로세서(910)는 해당 소재를 사용한 피스 또는 디자인 엘리먼트의 표시를 변경시킬 수 있다. 예를 들어, 도 7에 도시된 바와 같이 디자인 엘리먼트(예, 팔 소매 패턴(730))가 소재 오브젝트(680)에 대응하는 소재를 사용한 경우, 디자인 엘리먼트(예, 팔 소매 패턴(730))의 표시는 변경될 수 있다. 예를 들어, 팔 소매 패턴(730)의 색상은 다른 디자인 엘리먼트들과 다르게 표시되거나, 투명도가 다른 디자인 엘리먼트들보다 상대적으로 낮게 설정될 수도 있다. 마찬가지로 패턴 또는 부자재에 대해서도 프로세서(910)는 상기와 같은 동작을 수행할 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 사용자의 커서가 분해도에 표시된 피스 또는 디자인 엘리먼트를 지나치는 경우(예, 호버링하는 경우), 해당 피스 또는 디자인 엘리먼트의 표시를 변경할 수 있다. 예를 들어, 커서가 팔 소매 패턴(730)을 지나는 경우, 프로세서(910)는 팔 소매 패턴(730)의 표시를 변경할 수 있다.
일 실시예에 따른 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 피스 또는 디자인 엘리먼트의 표시를 변경할 수 있다. 예를 들어, 도 6에서 사용자가 선택한 디자인 엘리먼트는 팔 소매 패턴 오브젝트(610)일 수 있다. 분해도에서는 팔 소매 패턴 오브젝트(610)에 대응하는 팔 소매 패턴(630)의 표시가 변경될 수 있다. 다른 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 피스 또는 디자인 엘리먼트의 투명도를 낮출 수 있다. 예를 들어, 도 6에서 사용자가 선택한 디자인 엘리먼트는 팔 소매 패턴 오브젝트(610)일 수 있다. 분해도에서는 팔 소매 패턴 오브젝트(610)에 대응하는 팔 소매 패턴(630)의 투명도가 다른 디자인 엘리먼트들보다 낮게 설정될 수 있다. 이를 통해, 도 6에 도시된 바와 같이 팔 소매 패턴(630)이 선명하게 표현되고, 그 외 패턴들(650)은 희미하게 표현될 수 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)는 분해도 off 상태에서 어노테이션(annotation)을 입력할 수 있다. 일 실시예에 따른 어노테이션은 디자인 객체에 중첩되어 표시되는 오브젝트일 수 있다. 예를 들어, 어노테이션은 텍스트, 도형 등과 같이 다양한 형태일 수 있으며, 사용자들이 디자인 객체에 코멘트를 남기기 위하여 사용되는 기능일 수 있다. 다른 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 분해도 on 상태에서 어노테이션을 입력할 수도 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)는 렌더링 선택 입력을 수신하는 경우, 분해도 on 상태에서 분해도 off 상태로 전환한 후, 렌더링 결과를 화면에 출력할 수 있다.
본 개시에 따른 방법을 통해, 디자인 객체를 구성하는 디자인 엘리먼트 단위로 더 면밀하고 용이하게 편집 대상을 사용자가 관찰할 수 있다. 그리고 본 개시의 상대적 거리에 의해 분해도를 생성하는 방법을 사용할 경우, 디자인 엘리먼트의 수가 많은 디자인 객체에서 더 효율적으로 중요한 부분 또는 작업하고자 하는 부분을 사용자가 확인할 수 있는 효과를 기대할 수 있다.
도2는 일 실시예에 따른 복수의 피스들의 위치를 조정하는 구체적인 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 2에서는 제1 방법(200), 제1 벡터(210), 제2 벡터1(230), 제2 벡터2(260),
Figure pat00019
(220),
Figure pat00020
(250),
Figure pat00021
(221),
Figure pat00022
(251), 제2 벡터1의 조정된 위치1(240), 제2 벡터2의 조정된 위치1(280), c* unit(
Figure pat00023
)(222), c* unit(
Figure pat00024
)(252), 제2 벡터1의 조정된 위치2(241) 및 제2 벡터2의 조정된 위치2(281)가 도시되어 있다.
일 실시예에 따른 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 증가시키는 제1 방법(200)은 다음과 같을 수 있다. 일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리에 일정 비율을 곱한 값에 기초하여 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 증가시킬 수 있다. 도 2에서는 제1 벡터(210), 제2 벡터1(230) 및/또는 제2 벡터2(260)가 도시되어 있다. 또한,
Figure pat00025
(220)은 제1 벡터(210)와 제2 벡터1(230) 사이 변위차(또는 거리)를 의미할 수 있다.
Figure pat00026
(250)는 제1 벡터(210)와 제2 벡터2(260) 사이 변위차(또는 거리)를 의미할 수 있다. 도 2에서 일정 비율은 c로 표현될 수 있다. 예를 들어, c는 1보다 큰 상수일 수 있다. 일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 제2 벡터1(230)을 제1 벡터(210)로부터
Figure pat00027
(211)만큼 떨어진 곳에 위치하도록 제2 벡터1(230)의 위치를 조정할 수 있다. 따라서 제2 벡터1(230)은 제2 벡터1의 조정된 위치1(240)로 위치가 조정될 수 있다. 또 다른 예를 들어, 전자 장치(900)는 제2 벡터2(260)를 제1 벡터(210)로부터
Figure pat00028
(251)만큼 떨어진 곳에 위치하도록 제2 벡터2(260)의 위치를 조정할 수 있다. 조정된 경우, 제2 벡터2(260)의 위치는 제2 벡터2의 조정된 위치1(280)로 조정될 수 있다. 일 실시예에 따른 제2 벡터의 위치가 조정됨에 따라, 제2 벡터에 대응하는 제2 바운딩 영역이 조정될 수 있다. 나아가 제2 바운딩 영역에 대응하는 피스의 위치도 조정될 수 있다. 이를 통해, 전자 장치(900)는 디자인 객체(100)의 중심점에 기초하여 각각의 피스가 멀어지도록 피스들의 위치를 조정할 수 있다. 일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 제1 방법(200)을 통해 피스들의 위치를 조정하는 경우, 제1 벡터로부터 제2 벡터가 멀리 떨어져 있을수록, 전자 장치(900)는 제2 벡터의 위치를 제1 벡터로부터 떨어진 거리에 비례하여 더 많이 멀어지도록 조정할 수 있다.
다른 일 실시예에 따른 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 증가시키는 제2 방법(201)은 다음과 같을 수 있다. 일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 제1 벡터와 적어도 하나의 제2 벡터 사이의 거리를 단위 거리로 변환한 후, 단위 거리에 기초하여 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 증가시킬 수 있다. 도 2에서는 제1 벡터(210), 제2 벡터1(230) 및/또는 제2 벡터2(250)가 도시되어 있다. 또한,
Figure pat00029
(220)은 제1 벡터(210)와 제2 벡터1(230) 사이 변위차(또는 거리)를 의미할 수 있다.
Figure pat00030
(250)는 제1 벡터(210)와 제2 벡터2(250) 사이 변위차(또는 거리)를 의미할 수 있다. 도 2에서 일정 비율은 c로 표현될 수 있다. 예를 들어, c는 1보다 큰 상수일 수 있다. 일 실시예에 따른 전자 장치(900)는
Figure pat00031
(220)를 단위 거리인 unit(
Figure pat00032
)으로 변환할 수 있다. 일 실시예에 따른 단위 거리는 거리값을 특정 단위로 변환한 거리일 수 있다. 예를 들어, 단위 거리 = log(거리)로 표현될 수 있다. 전술한 단위 거리는 예시일 뿐 본 개시는 이에 제한되지 않는다. 일 실시예에 따른 전자 장치(900)는
Figure pat00033
(250)를 단위 거리인 unit(
Figure pat00034
)으로 변환할 수 있다. 일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 제1 벡터와 제2 벡터 사이 거리(예,
Figure pat00035
(220) 또는
Figure pat00036
(250))에서 단위 거리를 더한 만큼 제1 벡터로부터 떨어진 곳에 제2 벡터를 위치시킬 수 있다. 다른 일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 제1 벡터와 제2 벡터 사이 거리(예,
Figure pat00037
(220) 또는
Figure pat00038
(250))에서 (일정 비율)*(단위 거리)를 더한 만큼 제1 벡터로부터 떨어진 곳에 제2 벡터를 위치시킬 수 있다. 일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 일정 비율(예를 들어, c)을 각 단위 거리에 곱할 수 있다. 예를 들어, 프로세서(910)는 제2 벡터1(230)의 위치를 제1 벡터(210)로부터
Figure pat00039
+ c* unit(
Figure pat00040
)(212)만큼 떨어진 위치로 조정할 수 있다. 그리고 조정된 위치는 제2 벡터1의 조정된 위치2(241)로 결정될 수 있다. 다른 예를 들어, 전자 장치(900)는 제2 벡터2(260)의 위치를 제1 벡터(210)로부터
Figure pat00041
+ c* unit(
Figure pat00042
)(242)만큼 떨어진 위치로 조정할 수 있다. 그리고 조정된 위치는 제2 벡터2의 조정된 위치2(281)로 결정할 수 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)가 제2 방법(201)을 사용하여 제1 벡터와 제2 벡터 사이 거리를 조정하는 경우, 제1 방법(200)을 사용하는 경우보다 조정되는 거리 변화량이 작을 수 있다. 예를 들어, 전자 장치(900)가 제1 방법(200)을 사용하는 경우, 제1 벡터로부터 멀리 떨어진 피스 또는 디자인 엘리먼트는 제2 방법(201)을 사용하는 경우보다 제1 벡터로부터 더 멀리 떨어지도록 거리가 조정될 수 있다. 따라서, 프로세서(910)가 제1 방법(200)을 사용하는 경우, 분해도(101)에서 피스 및/또는 디자인 엘리먼트가 큰 폭으로 흩어질 수 있게 된다. 그 이유는 조정되는 거리가 제1 벡터와 제2 벡터 사이 거리에 비례하여 증가하기 때문이다. 전자 장치(900)가 제2 방법(201)을 사용하는 경우, 피스 및/또는 디자인 엘리먼트가 제1 방법(200)을 사용하는 경우보다 상대적으로 작은 폭으로 흩어질 수 있다. 그 이유는 제1 벡터와 제2 벡터 사이 거리에서 단위 거리를 더한 값만큼 피스 및/또는 디자인 엘리먼트의 위치가 조정되기 때문이다.
도 3은 일 실시예에 따른 복수의 피스들 위치를 조정한 후, 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치를 조정하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 3에서는 피스1(310), 피스2(320), 패턴1(330), 패턴2(340), 패턴3(350), 점1(311), 점2(321), 점3(331), 점4(341) 및 점 5(351)가 도시되어 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 복수의 피스들 위치를 조정한 후, 피스들에 포함된 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치를 조정하여 분해도(101)를 생성할 수 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)는 제1 벡터와 제2 벡터들 사이의 거리들을 증가시킴으로써, 복수의 피스들 위치를 조정할 수 있다. 그리고 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 피스에 포함된 복수의 디자인 엘리먼트들을 각각에 대응하는 제3 바운딩 영역들 각각의 중심인 제3 벡터와 피스의 제2 벡터 사이 거리를 조정할 수 있다. 일 실시예에 따른 디자인 엘리먼트는 피스의 적어도 일부일 수 있다. 예를 들어, 피스가 티셔츠의 몸통 부분인 경우, 피스는 전면 패턴 및 후면 패턴을 포함할 수 있다.
일 실시예에 따른 도 3에서는 피스1(310) 및 피스2(320)가 도시되어 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 전술한 방법에 기초하여 피스1(310) 및 피스2(320) 사이 거리를 증가시킬 수 있다.
일 실시예에 따른 피스2(320)는 패턴1(330), 패턴2(340) 및 패턴3(350)을 포함할 수 있다. 또한 피스1(310)에 대응하는 제2 벡터는 점1(311)이고, 피스2(320)에 대응하는 제2 벡터는 점2(321)일 수 있다.
일 실시예에 따른 도 3에서는 각 패턴의 중심점이 도시되어 있을 수 있다. 예를 들어, 패턴1(330)의 중심점은 점3(331)일 수 있다. 점 3(331)은 패턴1(330)에 대응하는 제3 바운딩 영역의 중심인 제3 벡터일 수 있다. 패턴2(340)의 중심점은 점4(341)일 수 있다. 점4(341)는 패턴2(340)에 대응하는 제3 바운딩 영역의 중심인 제3 벡터일 수 있다. 그리고 패턴3(350)의 중심점은 점5(351)일 수 있다. 점 5(351)는 패턴3(350)에 대응하는 제3 바운딩 영역의 중심인 제3 벡터일 수 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)는 패턴1(330)의 제3 벡터인 점3(331)과 피스2(320)의 제2 벡터인 점2(321) 사이의 거리를 증가시킬 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 패턴2(340)의 제3 벡터인 점4(341)와 피스2(320)의 제2 벡터인 점2(321) 사이의 거리를 증가시킬 수 있다. 일 실시예에 따른 프로세서(910)는 패턴3(350)의 제3 벡터인 점5(351)와 피스2(320)의 제2 벡터인 점2(321) 사이의 거리를 증가시킬 수 있다. 이를 통해, 피스2(320)에 포함된 패턴1(330), 패턴2(340) 및 패턴3(350)은 서로 거리가 멀어진 상태로 위치가 조정될 수 있다.
도 4는 일 실시예에 따른 복수의 피스들의 위치를 조정하는 방법에 따른 피스 간 사이 거리를 설명하기 위한 도면이다.
도 4에서는 제1 방법을 사용하여 거리를 조정한 화면(400), 피스1(450), 피스2(420), 피스3(430), 피스1(450)과 피스2(420) 사이 거리(411), 피스2(420)와 피스3(430) 사이 거리(410), 제2 방법을 사용하여 거리를 조정한 화면(401), 피스1'(451), 피스2'(421), 피스3'(431), 피스1'(451)과 피스2'(421) 사이 거리(461) 및 피스2'(421)와 피스3'(431) 사이 거리(460)가 도시되어 있다.
도 4를 참조하여 설명하면, 제1 방법을 사용하여 거리를 조정한 화면(400)에서는 피스1(450)과 피스2(420) 사이 거리(411) 및 피스2(420)와 피스3(430) 사이 거리(410)가 도시되어 있다. 그리고 제2 방법을 사용하여 거리를 조정한 화면(401)에서는 피스1'(451)과 피스2'(421) 사이 거리(461) 및 피스2'(421)와 피스3'(431) 사이 거리(460)가 도시되어 있다. 피스1(450)과 피스2(420) 사이 거리(411)는 피스1'(451)과 피스2'(421) 사이 거리(461)보다 클 수 있다. 또한 피스2(420)와 피스3(430) 사이 거리(410)는 피스2'(421)와 피스3'(431) 사이 거리(460)보다 클 수 있다.
도 5는 일 실시예에 따른 디자인 객체의 분해 전 후를 설명하기 위한 도면이다.
도 5에서는 분해도 off 상태 화면(500) 및 분해도 on 상태 화면(501)이 도시되어 있다.
일 실시예에 따른 프로세서(910)는 사용자 선택 입력에 기초하여 위치가 조정된 복수의 피스들을 원래의 위치로 복원시킬 수 있다. 일 실시예에 따른 사용자 선택 입력은 "분해도 on" 및/또는 "분해도 off"를 포함할 수 있다. 도 5를 참조하여 설명하면 분해도 off 상태 화면(500) 및 분해도 on 상태 화면(501)이 도시되어 있다. 분해도 on 상태 화면(501)에서는 제1 바운딩 영역에 기초하여 복수의 제2 바운딩 영역들(예, 피스들)의 위치가 조정된 화면을 포함할 수 있다. 일 실시예에 따른 분해도 off 상태 화면(500)에서는 프로세서(910)가 제2 바운딩 영역(예, 피스)가 조정되기 전의 위치로 복원시킨 상태의 화면을 포함할 수 있다. 다른 일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 사용자 선택 입력에 기초하여 위치가 조정된 복수의 피스들 및/또는 복수의 디자인 엘리먼트들을 원래의 위치로 복원시킬 수도 있다.
도 6은 일 실시예에 따른 분해도에서 디자인 데이터를 수정하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 6에서는 수정 오브젝트(605), 팔 소매 패턴 오브젝트(610), 팔 소매 패턴(630), 팔 소매 패턴을 제외한 그 외 패턴들(650), 패턴(670), 소재(671), 부자재(672), 소재 오브젝트(680) 및 분해도(690)가 도시되어 있다.
일 실시예에 따른 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 피스 또는 디자인 엘리먼트의 표시를 변경할 수 있다. 예를 들어, 도 6에서 사용자가 선택한 디자인 엘리먼트는 팔 소매 패턴 오브젝트(610)일 수 있다. 분해도에서는 팔 소매 패턴 오브젝트(610)에 대응하는 팔 소매 패턴(630)의 표시가 변경될 수 있다. 다른 일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 피스 또는 디자인 엘리먼트의 투명도를 낮출 수 있다. 예를 들어, 도 6에서 사용자가 선택한 디자인 엘리먼트는 팔 소매 패턴 오브젝트(610)일 수 있다. 분해도에서는 팔 소매 패턴 오브젝트(610)에 대응하는 팔 소매 패턴(630)의 투명도가 다른 디자인 엘리먼트들보다 낮게 설정될 수 있다. 이를 통해, 도 6에 도시된 바와 같이 팔 소매 패턴(630)이 선명하게 표현되고, 그 외 패턴들(650)은 희미하게 표현될 수 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 피스 및 디자인 엘리먼트 중 적어도 하나를 선택할 수 있다. 일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 선택된 피스 및 디자인 엘리먼트 중 적어도 하나에 대응하는 디자인 데이터를 수정할 수 있다. 디자인 데이터는 물품을 생성하기 위해 필요한 물품의 패턴(670), 소재(671), 부자재(672) 또는 각각에 대한 치수 중 적어도 하나에 관한 데이터일 수 있다. 디자인 데이터에 대한 구체적인 설명은 도 1에서 전술한 바가 있으므로, 본 도면에서 해당 설명은 생략하도록 한다.
수정 오브젝트(605)는 디자인 데이터를 수정하기 위한 오브젝트를 의미할 수 있다. 수정 오브젝트(605)는 패턴(670), 소재(671) 및 부자재(672)를 수정할 수 있는 오브젝트를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 수정 오브젝트(605) 및 분해도(690)를 화면에 출력할 수 있다. 전자 장치(900)는 수정 오브젝트를 통해 입력된 디자인 데이터 수정 정보를 분해도(690)에 반영할 수 있다. 구체적으로 전자 장치(900)는 디자인 데이터 수정 정보에 기초하여 분해도(690)를 변형시킬 수 있다. 예를 들어, 부자재인 단추를 다른 디자인의 단추로 변경하는 경우, 전자 장치(900)는 변경된 단추를 분해도(690)를 통해 출력할 수 있다. 이를 통해, 사용자는 화면을 통해, 디자인 데이터의 수정 사항이 반영된 분해도(690)를 실시간으로 볼 수 있다.
도 7은 일 실시예에 따른 선택된 디자인 엘리먼트 또는 피스의 표시가 변경되는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 7에서는 팔 소매 패턴 오브젝트(710), 팔 소매 패턴(730), 패턴(670), 소재(671), 부자재(672) 및 소재 오브젝트(680)가 도시되어 있다.
일 실시예에 따른 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 소재, 패턴 및 부자재 중 적어도 하나를 사용하는 피스 또는 디자인 엘리먼트의 표시를 변경될 수 있다. 일 실시예에 따른 사용자 선택 입력은 디자인 엘리먼트일 수 있다. 예를 들어, 도 7에서 소재 오브젝트(680)가 선택된 경우, 전자 장치(900)는 해당 소재를 사용한 피스 또는 디자인 엘리먼트의 표시를 변경시킬 수 있다. 예를 들어, 도 7에 도시된 바와 같이 팔 소매 패턴(730)이 소재 오브젝트(680)에 대응하는 소재를 사용한 경우, 팔 소매 패턴(730)의 표시는 변경될 수 있다. 예를 들어, 팔 소매 패턴(730)의 색상은 다른 디자인 엘리먼트들과 다르게 표시되거나, 투명도가 다른 디자인 엘리먼트들보다 상대적으로 낮게 설정될 수도 있다. 다른 일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 사용자의 커서가 분해도에 표시된 피스 또는 디자인 엘리먼트를 지나치는 경우(예, 호버링하는 경우), 해당 피스 또는 디자인 엘리먼트의 표시를 변경할 수 있다. 예를 들어, 커서가 팔 소매 패턴(730)을 지나는 경우, 전자 장치(900)는 팔 소매 패턴(730)의 표시를 변경할 수 있다.
도 8은 일 실시예에 따른 분해도 생성 방법을 설명하기 위한 도면이다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)(예, 도 9의 전자 장치(900))는 디자인 객체에 대응하는 제1 바운딩 영역을 생성(810)할 수 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 디자인 객체에 포함된 복수의 피스들 각각에 대응하는 제2 바운딩 영역들을 생성(820)할 수 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 제1 바운딩 영역의 중심을 나타내는 제1 벡터와 제2 바운딩 영역들의 각각의 중심들을 나타내는 제2 벡터들 사이 거리들을 획득(830)할 수 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 획득된 거리들에 기초하여 제1 벡터와 제2 벡터들 사이의 거리들을 증가시킴으로써, 복수의 피스들 위치를 조정(840)할 수 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리에 일정 비율을 곱한 값에 기초하여 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 증가시킬 수 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 단위 거리로 변환한 후, 단위 거리에 기초하여 제1 벡터와 제2 벡터들 사이 거리들을 증가시킬 수 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 사용자 선택 입력에 기초하여 결정된 피스에 대응하는 제2 바운딩 영역의 제2 벡터와 제1 벡터 사이 거리를 조정할 수 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 피스에 포함된 복수의 디자인 엘리먼트들을 각각에 대응하는 제3 바운딩 영역들 각각의 중심인 제3 벡터와 피스의 제2 벡터 사이 거리를 조정할 수 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 사용자 선택 입력에 기초하여 상기 위치가 조정된 상기 복수의 피스들을 원래의 위치로 복원할 수 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 피스 및 디자인 엘리먼트 중 적어도 하나를 선택할 수 있다. 일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 선택된 피스 및 디자인 엘리먼트 중 적어도 하나에 대응하는 디자인 데이터를 수정할 수 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 소재, 패턴 및 부자재 중 적어도 하나를 사용하는 적어도 하나의 피스 또는 디자인 엘리먼트의 표시가 변경될 수 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 피스 또는 디자인 엘리먼트의 표시를 변경할 수 있다.
일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 피스 또는 디자인 엘리먼트의 투명도를 낮출 수 있다.
도 9는 다양한 실시예에 따른 전자 장치를 설명하기 위한 블록도이다.
도 9은 일 실시예에 따른 전자 장치를 설명하기 위한 블록도이다. 일 실시예에 따른 전자 장치는 서버일 수 있다. 다른 일 실시예에 따른 전자 장치는 단말(예, 모바일 단말, 랩탑, 데스크탑 등)일 수도 있다. 도 9을 참조하면, 일 실시예에 따른 전자 장치(900)는 메모리(920), 프로세서(910), 및 통신 인터페이스(930)를 포함한다. 메모리(920), 프로세서(910), 및 통신 인터페이스(930)는 통신 버스(940)를 통해 서로 연결될 수 있다.
메모리(920)는 상술한 프로세서(910)의 처리 과정에서 생성되는 다양한 정보들을 저장할 수 있다. 이 밖에도, 메모리(920)는 각종 데이터와 프로그램 등을 저장할 수 있다. 메모리(920)는 휘발성 메모리 또는 비휘발성 메모리를 포함할 수 있다. 메모리(920)는 하드 디스크 등과 같은 대용량 저장 매체를 구비하여 각종 데이터를 저장할 수 있다.
프로세서(910)는 목적하는 동작들(desired operations)을 실행시키기 위한 물리적인 구조를 갖는 회로를 가지는 하드웨어로 구현된 장치일 수 있다. 예를 들어, 목적하는 동작들은 프로그램에 포함된 코드(code) 또는 인스트럭션들(instructions)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 하드웨어로 구현된 분류 장치는 마이크로프로세서(microprocessor), 중앙 처리 장치(Central Processing Unit; CPU), 그래픽 처리 장치(Graphic Processing Unit; GPU), 프로세서 코어(processor core), 멀티-코어 프로세서(multi-core processor), 멀티프로세서(multiprocessor), ASIC(Application-Specific Integrated Circuit), FPGA(Field Programmable Gate Array), NPU(Neural Processing Unit) 등을 포함할 수 있다.
프로세서(910)는 프로그램을 실행하고, 전자 장치를 제어할 수 있다. 프로세서(910)에 의하여 실행되는 프로그램 코드는 메모리(920)에 저장될 수 있다.
이상에서 설명된 실시예들은 하드웨어 구성요소, 소프트웨어 구성요소, 및/또는 하드웨어 구성요소 및 소프트웨어 구성요소의 조합으로 구현될 수 있다. 예를 들어, 실시예들에서 설명된 장치, 방법 및 구성요소는, 예를 들어, 프로세서, 콘트롤러, ALU(arithmetic logic unit), 디지털 신호 프로세서(digital signal processor), 마이크로컴퓨터, FPGA(field programmable gate array), PLU(programmable logic unit), 마이크로프로세서, 또는 명령(instruction)을 실행하고 응답할 수 있는 다른 어떠한 장치와 같이, 범용 컴퓨터 또는 특수 목적 컴퓨터를 이용하여 구현될 수 있다. 처리 장치는 운영 체제(OS) 및 상기 운영 체제 상에서 수행되는 소프트웨어 애플리케이션을 수행할 수 있다. 또한, 처리 장치는 소프트웨어의 실행에 응답하여, 데이터를 접근, 저장, 조작, 처리 및 생성할 수도 있다. 이해의 편의를 위하여, 처리 장치는 하나가 사용되는 것으로 설명된 경우도 있지만, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는, 처리 장치가 복수 개의 처리 요소(processing element) 및/또는 복수 유형의 처리 요소를 포함할 수 있음을 알 수 있다. 예를 들어, 처리 장치는 복수 개의 프로세서 또는 하나의 프로세서 및 하나의 컨트롤러를 포함할 수 있다. 또한, 병렬 프로세서(parallel processor)와 같은, 다른 처리 구성(processing configuration)도 가능하다.
소프트웨어는 컴퓨터 프로그램(computer program), 코드(code), 명령(instruction), 또는 이들 중 하나 이상의 조합을 포함할 수 있으며, 원하는 대로 동작하도록 처리 장치를 구성하거나 독립적으로 또는 결합적으로(collectively) 처리 장치를 명령할 수 있다. 소프트웨어 및/또는 데이터는, 처리 장치에 의하여 해석되거나 처리 장치에 명령 또는 데이터를 제공하기 위하여, 어떤 유형의 기계, 구성요소(component), 물리적 장치, 가상 장치(virtual equipment), 컴퓨터 저장 매체 또는 장치, 또는 전송되는 신호 파(signal wave)에 영구적으로, 또는 일시적으로 구체화(embody)될 수 있다. 소프트웨어는 네트워크로 연결된 컴퓨터 시스템 상에 분산되어서, 분산된 방법으로 저장되거나 실행될 수도 있다. 소프트웨어 및 데이터는 컴퓨터 판독 가능 기록 매체에 저장될 수 있다.
실시예에 따른 방법은 다양한 컴퓨터 수단을 통하여 수행될 수 있는 프로그램 명령 형태로 구현되어 컴퓨터 판독 가능 매체에 기록될 수 있다. 컴퓨터 판독 가능 매체는 프로그램 명령, 데이터 파일, 데이터 구조 등을 단독으로 또는 조합하여 포함할 수 있으며 매체에 기록되는 프로그램 명령은 실시예를 위하여 특별히 설계되고 구성된 것들이거나 컴퓨터 소프트웨어 당업자에게 공지되어 사용 가능한 것일 수도 있다. 컴퓨터 판독 가능 기록 매체의 예에는 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체(magnetic media), CD-ROM, DVD와 같은 광기록 매체(optical media), 플롭티컬 디스크(floptical disk)와 같은 자기-광 매체(magneto-optical media), 및 롬(ROM), 램(RAM), 플래시 메모리 등과 같은 프로그램 명령을 저장하고 수행하도록 특별히 구성된 하드웨어 장치가 포함된다. 프로그램 명령의 예에는 컴파일러에 의해 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용해서 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드를 포함한다.
위에서 설명한 하드웨어 장치는 실시예의 동작을 수행하기 위해 하나 또는 복수의 소프트웨어 모듈로서 작동하도록 구성될 수 있으며, 그 역도 마찬가지이다.
이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이를 기초로 다양한 기술적 수정 및 변형을 적용할 수 있다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.
그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.

Claims (14)

  1. 디자인 객체 시뮬레이션에서 분해도(exploded view)를 생성하는 방법에 있어서,
    상기 디자인 객체에 대응하는 제1 바운딩 영역을 생성하는 단계;
    상기 디자인 객체에 포함된 복수의 피스들(pieces) 각각에 대응하는 제2 바운딩 영역을 생성하는 단계;
    상기 제1 바운딩 영역의 중심을 나타내는 제1 벡터와 상기 제2 바운딩 영역들의 중심들을 나타내는 제2 벡터들 사이 거리들을 획득하는 단계; 및
    상기 획득된 거리들에 기초하여 상기 제1 벡터와 상기 제2 벡터들 사이의 거리들을 증가시킴으로써, 상기 복수의 피스들의 위치를 조정하는 단계
    를 포함하는,
    분해도 생성 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 거리를 조정하는 단계는
    상기 제1 벡터와 상기 제2 벡터들 사이 거리에 일정 비율을 곱한 값에 기초하여 상기 제1 벡터와 상기 제2 벡터들 사이 거리들을 증가시키는 단계
    를 포함하는,
    분해도 생성 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 거리를 조정하는 단계는
    상기 제1 벡터와 상기 제2 벡터들 사이 거리들을 단위 거리로 변환한 후, 상기 단위 거리에 기초하여 상기 제1 벡터와 상기 제2 벡터들 사이 거리들을 증가시키는 단계
    를 포함하는,
    분해도 생성 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 거리를 조정하는 단계는
    사용자 선택 입력에 기초하여 결정된 피스에 대응하는 제2 바운딩 영역의 제2 벡터와 상기 제1 벡터 사이 거리를 조정하는 단계
    를 포함하는,
    분해도 생성 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 피스에 포함된 복수의 디자인 엘리먼트들을 각각에 대응하는 제3 바운딩 영역들 각각의 중심인 제3 벡터와 상기 피스의 제2 벡터 사이 거리를 조정하는 단계
    를 더 포함하는,
    분해도 생성 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제1 벡터와 상기 제2 벡터 사이 거리는
    상기 제2 벡터와 상기 제3 벡터 사이 거리보다 크도록 설정되는,
    분해도 생성 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    사용자 선택 입력에 기초하여 상기 위치가 조정된 상기 복수의 피스들을 원래의 위치로 복원시키는 단계;
    를 더 포함하는,
    분해도 생성 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 피스들의 위치가 조정되거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 피스 및 디자인 엘리먼트 중 적어도 하나를 선택하는 단계; 및
    상기 선택된 피스 및 디자인 엘리먼트 중 적어도 하나에 대응하는 디자인 데이터를 수정하는 단계;
    를 더 포함하고,
    상기 디자인 데이터는
    패턴, 소재, 부자재 및 치수 중 적어도 하나에 관한 데이터를 포함하는,
    분해도 생성 방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 피스들의 위치가 조정되거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 수정 오브젝트를 통해 입력된 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 소재, 패턴 및 부자재 중 적어도 하나를 사용하는 피스 또는 디자인 엘리먼트의 표시를 변경하는 단계
    를 더 포함하는,
    분해도 생성 방법.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 피스 또는 디자인 엘리먼트의 표시를 변경하는 단계
    를 더 포함하는,
    분해도 생성 방법.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 피스들의 위치가 조정거나 복수의 디자인 엘리먼트들의 위치가 조정된 분해도에서, 사용자 선택 입력에 기초하여 선택된 피스 또는 디자인 엘리먼트의 투명도를 낮추는 단계
    를 더 포함하는,
    분해도 생성 방법.
  12. 제1항에 있어서,
    디자인 데이터를 수정하기 위한 수정 오브젝트 및 상기 분해도를 화면에 출력하는 단계; 및
    상기 수정 오브젝트를 통해 입력된 디자인 데이터 수정 정보에 기초하여 상기 분해도를 변형시키는 단계
    를 더 포함하는,
    분해도 생성 방법.
  13. 하드웨어와 결합되어 제1항 내지 제12항 중 어느 하나의 항의 방법을 실행시키기 위하여 컴퓨터 판독 가능한 기록매체에 저장된 컴퓨터 프로그램.
  14. 분해도를 생성하기 위한 전자 장치에 있어서,
    상기 디자인 객체에 대응하는 제1 바운딩 영역을 생성하고,
    상기 디자인 객체에 포함된 복수의 피스(pieces)들 각각에 대응하는 제2 바운딩 영역들을 생성하고,
    상기 제1 바운딩 영역의 중심을 나타내는 제1 벡터와 상기 제2 바운딩 영역들의 중심들을 나타내는 제2 벡터들 사이 거리들을 획득하고, 그리고
    상기 획득된 거리들에 기초하여 상기 제1 벡터와 상기 제2 벡터들 사이의 거리들을 증가시킴으로써, 상기 복수의 피스들 위치를 조정하는 프로세서를 포함하는,
    전자 장치.



KR1020220079018A 2021-08-17 2022-06-28 디자인 객체 시뮬레이션에서 분해도를 생성하는 방법 및 장치 KR20230026250A (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US17/820,246 US20230057822A1 (en) 2021-08-17 2022-08-16 Generating enhanced exploded view for design object
EP22858733.3A EP4374327A1 (en) 2021-08-17 2022-08-17 Generating enhanced exploded view for design object
PCT/KR2022/012251 WO2023022496A1 (en) 2021-08-17 2022-08-17 Generating enhanced exploded view for design object
CN202280004901.0A CN115989526A (zh) 2021-08-17 2022-08-17 生成设计对象的增强分解图

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20210107825 2021-08-17
KR1020210107825 2021-08-17
KR20210165660 2021-11-26
KR1020210165660 2021-11-26

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230026250A true KR20230026250A (ko) 2023-02-24

Family

ID=85330173

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220079018A KR20230026250A (ko) 2021-08-17 2022-06-28 디자인 객체 시뮬레이션에서 분해도를 생성하는 방법 및 장치
KR1020220102699A KR20230026291A (ko) 2021-08-17 2022-08-17 재봉 시뮬레이션 방법 및 장치

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220102699A KR20230026291A (ko) 2021-08-17 2022-08-17 재봉 시뮬레이션 방법 및 장치

Country Status (2)

Country Link
KR (2) KR20230026250A (ko)
CN (1) CN115989346A (ko)

Also Published As

Publication number Publication date
KR20230026291A (ko) 2023-02-24
CN115989346A (zh) 2023-04-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11073915B2 (en) Modification of three-dimensional garments using gestures
Brouet et al. Design preserving garment transfer
CN107958488B (zh) 服装裁片的交互式编辑与缝合方法及装置
US11280036B2 (en) Method and apparatus for 3D clothing draping simulation
EP2817749A1 (en) System and method for simulating realistic clothing
Li et al. Modeling 3D garments by examples
KR101763361B1 (ko) 3d 의상 착장 시뮬레이션 방법 및 장치
KR102332069B1 (ko) 부자재 요소를 포함하는 의상의 그레이딩 방법 및 장치
KR101702069B1 (ko) 3d 의상 착장 시뮬레이션 방법 및 장치
KR102633553B1 (ko) 의상 시뮬레이션 방법 및 장치
KR20230026250A (ko) 디자인 객체 시뮬레이션에서 분해도를 생성하는 방법 및 장치
Huang et al. Automatic alignment for virtual fitting using 3D garment stretching and human body relocation
KR20210021933A (ko) 3차원 가상 의상에 대응하는 2차원 패턴의 치수를 측정하는 방법 및 장치
CN113297639A (zh) 数据处理方法、系统及电子设备
US20230057822A1 (en) Generating enhanced exploded view for design object
Fang et al. Trimmed NURBS surface applications in computerized 3D fashion design for garment industry
Keckeisen et al. Tailor tools for interactive design of clothing in virtual environments
KR20210021930A (ko) 의상의 패턴 조각들의 결합을 위한 가이드를 제공하는 방법 및 장치
US20240185550A1 (en) Generation of exploded view of garment with selected displaying of guide lines connecting sewing lines
Scataglini et al. Using 3D statistical shape models for designing smart clothing
US20210052028A1 (en) Garment pattern optimization system and method
Chiricota et al. Geometrical modelling of garments
US20230102069A1 (en) Simulating and editing of garment of hierarchical structure
KR20230112570A (ko) 패턴 생성 시뮬레이션 방법 및 장치
US20230306699A1 (en) Virtual garment wrapping for draping simulation