KR20220117152A

KR20220117152A - 기판 처리 장치

Info

Publication number: KR20220117152A
Application number: KR1020220017400A
Authority: KR
Inventors: 준 사와시마; 다카히로 야마구치
Original assignee: 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
Priority date: 2021-02-16
Filing date: 2022-02-10
Publication date: 2022-08-23
Also published as: TWI830127B; JP2022124622A; TW202247333A; US20220258196A1; CN114975170A

Abstract

(과제) 처리 유닛의 구조를 공통화할 수 있는 기판 처리 장치를 제공한다.
(해결 수단) 기판 처리 장치(1)에서는, 제1 처리 유닛(12A)은 반송 스페이스(12A)의 우방에 배치된다. 제1 처리 유닛(21A1)은 제1 유지부(25A)를 구비한다. 제2 처리 유닛(21B1)은 반송 스페이스(12A)의 좌방에 배치된다. 제2 처리 유닛(21B1)은 제2 유지부(25B)를 구비한다. 제1 유지부(25A)는 평면에서 봤을 때 제1 처리 유닛(21A1)의 중심(24A)보다 후방에 위치하는 중심(26A)을 갖는다. 제2 유지부(25B)는 평면에서 봤을 때 제2 처리 유닛(21B1)의 중심(24B)보다 전방에 위치하는 중심(26B)을 갖는다. 제2 처리 유닛(21B1)의 전단(22B)은, 제1 처리 유닛(21A1)의 전단(22A)보다 후방에 배치되며, 또한, 제1 처리 유닛(21A1)의 후단(23A)보다 전방에 배치된다. 제1 액 저류부(31)는, 반송 스페이스(12A)의 좌방에 배치되며, 제2 처리 유닛(21B1)의 전방에 인접된다.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}

본 발명은, 기판에 처리를 행하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 기판은, 예를 들면, 반도체 웨이퍼, 액정 디스플레이용 기판, 유기 EL(Electroluminescence)용 기판, FPD(Flat Panel Display)용 기판, 광 디스플레이용 기판, 자기 디스크용 기판, 광 디스크용 기판, 광 자기 디스크용 기판, 포토마스크용 기판, 태양 전지용 기판이다.

일본국 특허공개 2010-225935호 공보는, 기판 처리 장치를 개시한다. 기판 처리 장치는, 인덱서부와 처리 블록을 구비한다. 처리 블록은, 인덱서부의 후방에 배치된다.

처리 블록은, 반송 스페이스와 센터 로봇을 구비한다. 반송 스페이스는, 전후 방향으로 연장된다. 센터 로봇은, 반송 스페이스의 중앙부에 설치된다. 센터 로봇은, 연직축 둘레로 회전 가능하다. 단, 센터 로봇은, 전후 방향으로 평행 이동 불가능하다.

기판 처리 장치는, 셔틀 유닛을 구비한다. 셔틀 유닛은, 반송 스페이스에 설치된다. 셔틀 유닛은, 센터 로봇의 전방에 배치된다. 셔틀 유닛은, 인덱서부와 센터 로봇 사이에서 반송되는 기판을 재치(載置)한다. 셔틀 유닛은, 전후 방향으로 이동 가능하다. 셔틀 유닛이 후방으로 이동했을 때, 센터 로봇은 셔틀 유닛에 액세스할 수 있다.

처리 블록은, 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛과 제3 처리 유닛과 제4 처리 유닛을 갖는다. 제1 처리 유닛과 제3 처리 유닛은, 반송 스페이스의 제1 측방에 배치된다. 제3 처리 유닛은, 제1 처리 유닛의 후방에 배치된다. 마찬가지로, 제2 처리 유닛과 제4 처리 유닛은, 반송 스페이스의 제2 측방에 배치된다. 제4 처리 유닛은, 제2 처리 유닛의 후방에 배치된다.

제2 처리 유닛은, 제1 처리 유닛의 구조와는 좌우 대칭인 구조를 갖는다. 제4 처리 유닛은, 제3 처리 유닛의 구조와는 좌우 대칭인 구조를 갖는다. 이 때문에, 센터 로봇은, 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛과 제3 처리 유닛과 제4 처리 유닛에 액세스할 수 있다. 센터 로봇이 전후 방향으로 평행 이동 불가능해도, 센터 로봇은, 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛과 제3 처리 유닛과 제4 처리 유닛에 액세스할 수 있다.

기판 처리 장치는, 액 저류부를 구비한다. 액 저류부는, 제1~제4 처리 유닛에 분배되는 처리액을 저류한다. 액 저류부는, 반송 스페이스의 후방에 배치된다. 액 저류부는, 제1~제4 처리 유닛의 후방에 배치된다.

그러나, 일본국 특허공개 2010-225935호 공보에 나타나는 기판 처리 장치는, 다음과 같은 문제를 갖는다. 상술한 바와 같이, 제2 처리 유닛은, 제1 처리 유닛의 구조와는 좌우 대칭인 구조를 갖는다. 이 때문에, 제2 처리 유닛의 구조는, 제1 처리 유닛의 구조와 유사하지만, 제1 처리 유닛의 구조와 같지 않다. 따라서, 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛 사이에서, 기판에 행하는 처리의 품질이 불균일해지기 쉽다. 또한, 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛을 제조하기 위해, 많은 종류의 부품을 사용한다.

마찬가지로, 제4 처리 유닛은, 제3 처리 유닛의 구조와는 좌우 대칭인 구조를 갖는다. 이 때문에, 제4 처리 유닛의 구조는, 제3 처리 유닛의 구조와 유사하지만, 제3 처리 유닛의 구조와 같지 않다. 따라서, 제3 처리 유닛과 제4 처리 유닛 사이에서, 기판에 행하는 처리의 품질이 불균일해지기 쉽다. 또한, 제3 처리 유닛과 제4 처리 유닛을 제조하기 위해, 많은 종류의 부품을 사용한다.

본 발명은, 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 처리 유닛의 구조를 공통화할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명자는, 상기의 과제를 해결하기 위해 예의 연구했다. 그래서, 본 발명자는, 우선, 도 10에 나타내는 기판 처리 장치(201)를 검토했다. 기판 처리 장치(201)는, 인덱서부(202)와 처리 블록(203)을 구비한다. 처리 블록(203)은 인덱서부(202)의 후방에 배치된다. 처리 블록(203)은, 반송 스페이스(204)와 기판 재치부(205)와 반송 기구(206)와 처리 유닛(207A, 207B, 207C, 207D)과 액 저류부(209)를 구비한다. 처리 유닛(207A~207D)은, 공통의 구조를 갖는다. 처리 유닛(207A, 207C)은 각각, 반송 스페이스(204)의 우방에 배치된다. 처리 유닛(207B, 207D)은 각각, 반송 스페이스(204)의 좌방에 배치된다. 액 저류부(209)는, 반송 스페이스(204)의 후방에 배치된다. 액 저류부(209)는, 처리 유닛(207A, 207B, 207C, 207D)의 후방에 배치된다.

처리 유닛(207A~207D)은 각각, 유지부(208A~208D)를 구비한다. 반송 기구(206)는, 전후 방향(X)으로 평행 이동 가능하다. 반송 기구(206)는, 각 유지부(208A~208D)에 액세스한다.

그러나, 도 10에 나타내는 기판 처리 장치(201)가 새로운 문제를 일으키는 것을, 본 발명자는 알아냈다. 구체적으로는, 새로운 문제는, 전후 방향(X)에 있어서의 반송 기구(206)의 이동 거리가 긴 것이다. 유지부(208B)는, 유지부(208A~208D) 중에서 가장 전방에 위치한다. 유지부(208C)는, 유지부(208A~208D) 중에서 가장 후방에 위치한다. 도 10은, 거리(M)를 나타낸다. 거리(M)는, 유지부(208B)와 유지부(208C)의 전후 방향(X)에 있어서의 거리이다. 거리(M)는, 반송 기구(206)가 유지부(208A~208D)에 기판을 반송할 때의 전후 방향(X)에 있어서의 반송 기구(206)의 이동 거리에 상당한다. 거리(M)는, 비교적 길다.

또한, 반송 기구(206)가 유지부(208B)에 액세스할 때, 반송 기구(206)는 기판 재치부(205)와 간섭할 우려가 있다.

본 발명은, 이들 검토 및 지견에 의거하여, 더욱 예의 검토함으로써 얻어진 것이며, 다음과 같은 구성을 취한다. 즉, 본 발명은, 기판 처리 장치로서, 인덱서부와, 상기 인덱서부의 후방에 배치되며, 상기 인덱서부에 접속되는 처리 블록을 구비하고, 상기 처리 블록은, 전후 방향으로 연장되는 반송 스페이스와, 상기 반송 스페이스에 설치되며, 상기 전후 방향으로 평행 이동 가능하게 구성되어, 기판을 반송하는 반송 기구와, 상기 반송 스페이스의 제1 측방에 배치되어, 기판을 처리하는 제1 처리 유닛과, 상기 반송 스페이스의 제2 측방에 배치되어, 기판을 처리하는 제2 처리 유닛과, 상기 제1 처리 유닛 및 상기 제2 처리 유닛에 분배되는 처리액을 저류하는 제1 액 저류부를 구비하고, 상기 제1 처리 유닛은, 기판을 유지하는 제1 유지부와, 상기 제1 유지부에 유지되는 기판에 처리액을 공급하는 제1 액 공급부를 구비하며, 상기 제2 처리 유닛은, 기판을 유지하는 제2 유지부와, 상기 제2 유지부에 유지되는 기판에 처리액을 공급하는 제2 액 공급부를 구비하고, 상기 반송 기구는, 상기 제1 유지부와 상기 제2 유지부에 기판을 반송하고, 상기 제1 유지부는, 평면에서 봤을 때, 상기 제1 처리 유닛의 중심보다 후방에 위치하는 중심을 갖고, 상기 제2 유지부는, 평면에서 봤을 때, 상기 제2 처리 유닛의 중심보다 전방에 위치하는 중심을 갖고, 상기 제2 처리 유닛의 전단은, 상기 제1 처리 유닛의 전단보다 후방에 배치되며, 또한, 상기 제1 처리 유닛의 후단보다 전방에 배치되고, 상기 제1 액 저류부는, 상기 반송 스페이스의 상기 제2 측방에 배치되며, 상기 제2 처리 유닛의 전방에 인접되는 기판 처리 장치이다.

제1 처리 유닛은, 반송 스페이스의 제1 측방에 배치된다. 제1 처리 유닛은, 제1 유지부를 구비한다. 제1 유지부의 중심은, 평면에서 봤을 때, 제1 처리 유닛의 중심보다 후방에 위치한다. 제2 처리 유닛은, 반송 스페이스의 제2 측방에 배치된다. 제2 처리 유닛은, 제2 유지부를 구비한다. 제2 유지부의 중심은, 평면에서 봤을 때, 제2 처리 유닛의 중심보다 전방에 위치한다. 이 때문에, 제1 처리 유닛의 구조와 제2 처리 유닛의 구조를 용이하게 공통화할 수 있다. 같은 구조를 갖는 2개의 처리 유닛을, 제1 처리 유닛 및 제2 처리 유닛으로서 채용할 수 있다. 따라서, 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛 사이에 있어서, 기판에 행하는 처리의 품질이 불균일해지는 것을 용이하게 억제할 수 있다.

반송 기구는, 제1 유지부와 제2 유지부에 기판을 반송한다. 반송 기구는, 전후 방향으로 평행 이동 가능하게 구성된다. 이 때문에, 반송 기구는, 제1 유지부와 제2 유지부에 기판을 적합하게 반송할 수 있다.

제2 처리 유닛의 전단은, 제1 처리 유닛의 전단보다 후방에 배치된다. 즉, 제2 처리 유닛은, 제1 처리 유닛에 대해, 후방으로 시프트된다. 제2 처리 유닛의 전단은, 제1 처리 유닛의 후단보다 전방에 배치된다. 이 때문에, 제2 유지부는 극단적으로 후방에 배치되지 않는다. 따라서, 전후 방향에 있어서의 반송 기구의 이동 거리는 적합하게 저감된다. 따라서, 반송 기구는, 제1 유지부 및 제2 유지부에 효율적으로 기판을 반송할 수 있다. 그 결과, 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛은 각각, 기판을 효율적으로 처리할 수 있다.

제1 액 저류부는, 반송 스페이스의 제2 측방에 배치된다. 제1 액 저류부는, 제2 처리 유닛의 전방에 인접된다. 이와 같이, 제2 처리 유닛의 전방의 스페이스는, 유효하게 이용된다. 이 때문에, 전후 방향에 있어서의 기판 처리 장치의 길이가 증대하는 것을 억제할 수 있다.

이상과 같이, 본 발명에 따른 기판 처리 장치에 의하면, 제1 처리 유닛의 구조와 제2 처리 유닛의 구조를 용이하게 공통화할 수 있다. 그 결과, 제1 처리 유닛에 있어서의 처리 품질과 제2 처리 유닛에 있어서의 처리 품질을 용이하게 균일화할 수 있다. 또한, 반송 기구는, 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛에 효율적으로 기판을 반송할 수 있다. 그 결과, 기판 처리 장치의 스루풋을 적합하게 향상시킬 수 있다. 또한, 기판 처리 장치의 풋프린트가 증대하는 것을 억제할 수 있다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제2 유지부의 상기 중심은, 상기 제1 유지부의 상기 중심보다 전방에 배치되는 것이 바람직하다. 제2 처리 유닛은, 제1 처리 유닛에 대해, 후방으로 과도하게 시프트하지 않는다. 따라서, 전후 방향에 있어서의 기판 처리 장치의 길이가 증대하는 것을 억제할 수 있다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 전후 방향에 있어서, 상기 제1 액 저류부의 전단은, 상기 제1 처리 유닛의 상기 전단과 동등한 위치에 배치되는 것이 바람직하다. 이 때문에, 전후 방향에 있어서의 기판 처리 장치의 길이가 증대하는 것을 억제할 수 있다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제1 처리 유닛은, 상기 인덱서부의 후방에 인접되고, 상기 제1 액 저류부는, 상기 인덱서부의 후방에 인접되는 것이 바람직하다. 전후 방향에 있어서의 처리 블록의 길이가 증대하는 것을 억제할 수 있다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제2 처리 유닛은, 상기 제1 처리 유닛이 연직축 둘레로 180도 회전된 것과 같은 구조를 갖는 것이 바람직하다. 제1 처리 유닛과 제2 처리 유닛 사이에서, 기판 처리의 품질은 용이하게 균일화된다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 인덱서부와 상기 반송 기구 사이에서 반송되는 기판을 재치하는 기판 재치부를 구비하고, 상기 기판 재치부의 적어도 일부는, 상기 반송 스페이스에 설치되는 것이 바람직하다. 기판 처리 장치는 기판 재치부를 구비한다. 이 때문에, 반송 기구는, 인덱서부로부터 기판을 용이하게 받을 수 있다. 반송 기구는, 인덱서부에 기판을 용이하게 건네줄 수 있다. 기판 재치부의 적어도 일부는, 반송 스페이스에 설치된다. 이 때문에, 반송 기구의 가동역은, 기판 재치부의 후방으로 한정된다. 이 경우에도, 반송 기구는, 제2 유지부에 기판을 용이하게 반송할 수 있다. 제2 처리 유닛이, 제1 처리 유닛에 대해, 후방으로 시프트되기 때문이다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 기판 재치부는, 상기 제1 처리 유닛과 상기 제1 액 저류부 사이에 배치되는 것이 바람직하다. 바꾸어 말하면, 제1 처리 유닛과 기판 재치부와 제1 액 저류부는, 폭방향으로 이 순서로 늘어서는 것이 바람직하다. 여기서, 폭방향은, 전후 방향과 직교하는 수평한 방향이다. 반송 기구가 제2 유지부에 기판을 반송하는 것을, 기판 재치부는 방해하지 않는다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 반송 스페이스의 상기 제1 측방에 배치되며, 상기 제1 처리 유닛의 후방에 인접되어, 기판을 처리하는 제3 처리 유닛과, 상기 반송 스페이스의 상기 제2 측방에 배치되며, 상기 제2 처리 유닛의 후방에 인접되어, 기판을 처리하는 제4 처리 유닛을 구비하고, 상기 제3 처리 유닛은, 기판을 유지하는 제3 유지부와, 상기 제3 유지부에 유지되는 기판에 처리액을 공급하는 제3 액 공급부를 구비하며, 상기 제4 처리 유닛은, 기판을 유지하는 제4 유지부와, 상기 제4 유지부에 유지되는 기판에 처리액을 공급하는 제4 액 공급부를 구비하고, 상기 반송 기구는, 상기 제3 유지부와 상기 제4 유지부에 기판을 반송하고, 상기 제1 액 저류부는, 상기 제3 처리 유닛과 상기 제4 처리 유닛에 분배되는 처리액을 저류하고, 상기 제3 유지부는, 평면에서 봤을 때, 상기 제3 처리 유닛의 중심보다 후방에 위치하는 중심을 갖고, 상기 제4 유지부는, 평면에서 봤을 때, 상기 제4 처리 유닛의 중심보다 전방에 위치하는 중심을 갖고, 상기 제4 처리 유닛의 전단은, 상기 제3 처리 유닛의 전단보다 후방에 배치되며, 또한, 상기 제3 처리 유닛의 후단보다 전방에 배치되는 것이 바람직하다.

제3 처리 유닛은, 반송 스페이스의 제1 측방에 배치된다. 제3 처리 유닛은, 제3 유지부를 구비한다. 제3 유지부의 중심은, 평면에서 봤을 때, 제3 처리 유닛의 중심보다 후방에 위치한다. 제4 처리 유닛은, 반송 스페이스의 제2 측방에 배치된다. 제4 처리 유닛은, 제4 유지부를 구비한다. 제4 유지부의 중심은, 평면에서 봤을 때, 제4 처리 유닛의 중심보다 전방에 위치한다. 이 때문에, 제1 처리 유닛의 구조와 제3 처리 유닛의 구조를 용이하게 공통화할 수 있다. 제1 처리 유닛의 구조와 제4 처리 유닛의 구조를 용이하게 공통화할 수 있다. 같은 구조를 갖는 4개의 처리 유닛을, 제1 처리 유닛, 제2 처리 유닛, 제3 처리 유닛 및 제4 처리 유닛으로서 채용할 수 있다. 따라서, 제1~제4 처리 유닛 사이에 있어서, 기판에 행하는 처리의 품질이 불균일해지는 것을 용이하게 억제할 수 있다.

제4 처리 유닛의 전단은, 제3 처리 유닛의 전단보다 후방에 배치된다. 즉, 제4 처리 유닛은, 제3 처리 유닛에 대해, 후방으로 시프트된다. 제4 처리 유닛의 전단은, 제3 처리 유닛의 후단보다 전방에 배치된다. 이 때문에, 제3 유지부는 극단적으로 후방에 배치되지 않는다. 따라서, 전후 방향에 있어서의 반송 기구의 이동 거리는 적합하게 저감된다. 따라서, 반송 기구는, 제1~제4 유지부에 효율적으로 기판을 반송할 수 있다. 그 결과, 제1~제4 처리 유닛은 각각, 기판을 효율적으로 처리할 수 있다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제3 처리 유닛은, 상기 제1 처리 유닛과 같은 구조를 갖고, 상기 제4 처리 유닛은, 상기 제1 처리 유닛이 연직축 둘레로 180도 회전된 것과 같은 구조를 갖는 것이 바람직하다. 제1~제4 처리 유닛 사이에서, 기판 처리의 품질은 용이하게 균일화된다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제1 처리 유닛, 상기 제2 처리 유닛, 상기 제3 처리 유닛 및 상기 제4 처리 유닛에 분배되는 처리액을 저류하는 제2 액 저류부를 구비하고, 상기 제2 액 저류부는, 상기 반송 스페이스의 상기 제1 측방에 배치되며, 상기 제3 처리 유닛의 후방에 인접되는 것이 바람직하다. 제2 액 저류부는, 반송 스페이스의 제1 측방에 배치된다. 제2 액 저류부는, 제3 처리 유닛의 후방에 인접된다. 이와 같이, 제3 처리 유닛의 후방의 스페이스는, 유효하게 이용된다. 이 때문에, 전후 방향에 있어서의 기판 처리 장치의 길이가 증대하는 것을 억제할 수 있다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 전후 방향에 있어서, 상기 제2 액 저류부의 후단은, 상기 제4 처리 유닛의 후단과 동등한 위치에 배치되는 것이 바람직하다. 전후 방향에 있어서의 기판 처리 장치의 길이가 증대하는 것을 억제할 수 있다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제2 액 저류부에 저류되는 처리액은, 상기 제1 액 저류부에 저류되는 처리액과는 상이한 종류인 것이 바람직하다. 제1~제4 처리 유닛은 각각, 2종류의 처리액을 기판에 공급할 수 있다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 반송 스페이스, 상기 제1 처리 유닛, 상기 제2 처리 유닛, 상기 제3 처리 유닛, 상기 제4 처리 유닛, 상기 제1 액 저류부 및 상기 제2 액 저류부의 상방에 형성되는 상부 스페이스와, 상기 상부 스페이스에 설치되며, 상기 제1 액 저류부로부터, 상기 제1 처리 유닛, 상기 제2 처리 유닛, 상기 제3 처리 유닛 및 상기 제4 처리 유닛에 처리액을 분배하는 제1 분배부와, 상기 상부 스페이스에 설치되며, 상기 제2 액 저류부로부터, 상기 제1 처리 유닛, 상기 제2 처리 유닛, 상기 제3 처리 유닛 및 상기 제4 처리 유닛에 처리액을 분배하는 제2 분배부를 구비하는 것이 바람직하다. 제1 분배부 및 제2 분배부는 상부 스페이스에 설치된다. 이 때문에, 기판 처리 장치의 풋프린트가 증대하는 것을 적합하게 억제할 수 있다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제2 분배부는, 평면에서 봤을 때, 상기 제1 분배부가 180도 회전된 것과 같은 것이 바람직하다. 제1 분배부의 유로 길이와 제2 분배부의 유로 길이는 용이하게 균일화된다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제1 처리 유닛의 상방에 배치되는 제1 접속 박스와, 상기 제2 처리 유닛의 상방에 배치되는 제2 접속 박스와, 상기 제3 처리 유닛의 상방에 배치되는 제3 접속 박스와, 상기 제4 처리 유닛의 상방에 배치되는 제4 접속 박스를 구비하고, 상기 제1 분배부는, 상기 제1 액 저류부로부터, 상기 제1 접속 박스, 상기 제2 접속 박스, 상기 제3 접속 박스 및 상기 제4 접속 박스까지 연장되고, 상기 제2 분배부는, 상기 제2 액 저류부로부터, 상기 제1 접속 박스, 상기 제2 접속 박스, 상기 제3 접속 박스 및 상기 제4 접속 박스까지 연장되는 것이 바람직하다. 제1 분배부와 제2 분배부는 모두, 제1 접속 박스까지 연장된다. 마찬가지로, 제1 분배부와 제2 분배부는 모두, 제2~제4 접속 박스까지 연장된다. 따라서, 제1 분배부의 유로 길이와 제2 분배부의 유로 길이는 용이하게 균일화된다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 전후 방향에 있어서, 상기 제1 접속 박스는, 상기 제1 유지부보다 전방에 배치되고, 상기 전후 방향에 있어서, 상기 제2 접속 박스는, 상기 제2 유지부보다 후방에 배치되며, 상기 전후 방향에 있어서, 상기 제3 접속 박스는, 상기 제3 유지부보다 전방에 배치되고, 상기 전후 방향에 있어서, 상기 제4 접속 박스는, 상기 제4 유지부보다 후방에 배치되는 것이 바람직하다. 제1 액 저류부로부터 제1 접속 박스까지의 유로 길이와 제1 액 저류부로부터 제2 접속 박스까지의 유로 길이 사이의 차를, 적합하게 저감할 수 있다. 마찬가지로, 제1 액 저류부로부터 제3 접속 박스까지의 유로 길이와 제1 액 저류부로부터 제4 접속 박스까지의 유로 길이 사이의 차를, 적합하게 저감할 수 있다. 제2 액 저류부로부터 제1 접속 박스까지의 유로 길이와 제2 액 저류부로부터 제2 접속 박스까지의 유로 길이 사이의 차를, 적합하게 저감할 수 있다. 제2 액 저류부로부터 제3 접속 박스까지의 유로 길이와 제2 액 저류부로부터 제4 접속 박스까지의 유로 길이 사이의 차를, 적합하게 저감할 수 있다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제1 접속 박스에 수용되며, 상기 제1 분배부와 상기 제1 액 공급부를 접속하는 제1 이음과, 상기 제2 접속 박스에 수용되며, 상기 제1 분배부와 상기 제2 액 공급부를 접속하는 제2 이음과, 상기 제3 접속 박스에 수용되며, 상기 제1 분배부와 상기 제3 액 공급부를 접속하는 제3 이음과, 상기 제4 접속 박스에 수용되며, 상기 제1 분배부와 상기 제4 액 공급부를 접속하는 제4 이음을 구비하는 것이 바람직하다. 제1~제4 접속 박스 내에 있어서, 제1 분배부와 제1~제4 액 공급부를, 적합하게 착탈할 수 있다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 상부 스페이스에 설치되며, 대략 평탄한 발판을 구비하는 것이 바람직하다. 기판 처리 장치의 유저는, 발판에 오를 수 있다. 따라서, 유저는, 예를 들면, 발판 상에서 메인터넌스 작업을 행할 수 있다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 발판은, 상기 제1 접속 박스, 상기 제2 접속 박스, 상기 제3 접속 박스 및 상기 제4 접속 박스의 근방에 배치되는 것이 바람직하다. 유저는, 제1~제4 접속 박스에 용이하게 액세스할 수 있다. 유저는, 제1~제2 분배부와 제1~제4 액 공급부를, 적합하게 착탈할 수 있다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 발판은, 상기 제2 접속 박스 및 상기 제3 접속 박스의 사이를 지나, 상기 제1 접속 박스로부터 상기 제4 접속 박스까지 연장되는 것이 바람직하다. 유저는, 제1~제4 접속 박스의 사이를, 용이하게 이동할 수 있다.

상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 발판은, 상기 제1 분배부의 적어도 일부의 상방에 배치되는 것이 바람직하다. 발판은 제1 분배부를 적합하게 보호한다.

발명을 설명하기 위해 현재의 적합하다고 생각되는 몇 가지 형태가 도시되어 있는데, 발명이 도시된 바와 같은 구성 및 방책으로 한정되는 것은 아님을 이해하길 바란다.
도 1은, 실시 형태의 기판 처리 장치의 내부를 나타내는 평면도이다.
도 2는, 폭방향에 있어서의 기판 처리 장치의 중앙부의 구성을 나타내는 좌측면도이다.
도 3은, 처리 블록의 정면도이다.
도 4는, 기판 처리 장치의 우측부의 구성을 나타내는 우측면도이다.
도 5는, 기판 처리 장치의 좌측부의 구성을 나타내는 좌측면도이다.
도 6은, 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 7은, 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 8은, 처리 유닛의 측면도이다.
도 9는, 변형 실시 형태에 따른 기판 처리 장치의 우측면도이다.
도 10은, 비교예에 따른 기판 처리 장치의 평면도이다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 기판 처리 장치를 설명한다.

1. 기판 처리 장치의 개요

도 1은, 실시 형태의 기판 처리 장치(1)의 내부를 나타내는 평면도이다. 기판 처리 장치(1)는, 기판(예를 들면, 반도체 웨이퍼)(W)에 처리를 행한다.

기판(W)은, 예를 들면, 반도체 웨이퍼, 액정 디스플레이용 기판, 유기 EL(Electroluminescence)용 기판, FPD(Flat Panel Display)용 기판, 광 디스플레이용 기판, 자기 디스크용 기판, 광 디스크용 기판, 광 자기 디스크용 기판, 포토마스크용 기판, 태양 전지용 기판이다. 기판(W)은, 얇은 평판 형상을 갖는다. 기판(W)은, 평면에서 봤을 때 대략 원 형상을 갖는다.

기판 처리 장치(1)는, 인덱서부(3)와 처리 블록(11)을 구비한다. 처리 블록(11)은 인덱서부(3)에 접속된다. 인덱서부(3)는, 처리 블록(11)에 기판(W)을 공급한다. 처리 블록(11)은, 기판(W)에 처리를 행한다. 인덱서부(3)는, 처리 블록(11)으로부터 기판(W)을 회수한다.

본 명세서에서는, 편의상, 인덱서부(3)와 처리 블록(11)이 늘어서는 방향을, 「전후 방향(X)」이라고 부른다. 전후 방향(X)은 수평이다. 전후 방향(X) 중, 처리 블록(11)으로부터 인덱서부(3)를 향하는 방향을 「전방」이라고 부른다. 전방과 반대의 방향을 「후방」이라고 부른다.

처리 블록(11)은, 인덱서부(3)의 후방에 배치된다.

본 명세서에서는, 전후 방향(X)과 직교하는 수평 방향을, 「폭방향(Y)」이라고 부른다. 폭방향(Y)의 일 방향을 적절히 「우방」이라고 부른다. 우방과는 반대의 방향을 「좌방」이라고 부른다. 수평 방향에 대해 수직인 방향을 「연직 방향(Z)」이라고 부른다. 각 도면에서는, 참고로서, 전, 후, 우, 좌, 상, 하를 적절히 나타낸다.

우방은, 본 발명에 있어서의 제1 측방의 예이다. 좌방은, 본 발명에 있어서의 제2 측방의 예이다.

인덱서부(3)는, 복수(예를 들면, 4개)의 캐리어 재치부(4)를 구비한다. 캐리어 재치부(4)는 폭방향(Y)으로 늘어선다. 각 캐리어 재치부(4)는 각각, 1개의 캐리어(C)를 재치한다. 캐리어(C)는, 복수매의 기판(W)을 수용한다. 캐리어(C)는, 예를 들면, FOUP(front opening unified pod)이다.

인덱서부(3)는, 반송 스페이스(5)를 구비한다. 반송 스페이스(5)는, 캐리어 재치부(4)의 후방에 배치된다.

인덱서부(3)는, 반송 기구(6)를 구비한다. 반송 기구(6)는, 반송 스페이스(5)에 설치된다. 반송 기구(6)는, 캐리어 재치부(4)의 후방에 배치된다. 반송 기구(6)는, 기판(W)을 반송한다. 반송 기구(6)는, 캐리어 재치부(4)에 재치되는 캐리어(C)에 액세스 가능하다.

반송 기구(6)의 구조에 대해서 설명한다. 반송 기구(6)는 핸드(7)와 핸드 구동부(8)를 구비한다. 핸드(7)는, 1매의 기판(W)을 수평 자세로 지지한다. 핸드 구동부(8)는,핸드(7)에 연결된다. 핸드 구동부(8)는, 핸드(7)를 이동시킨다.

핸드 구동부(8)의 구조를 예시한다. 핸드 구동부(8)는, 제1 구동부(8a)와 제2 구동부(8b)를 구비한다. 제1 구동부(8a) 자체는, 수평 방향으로 이동 불가능하다. 제1 구동부(8a)는, 제2 구동부(8b)를 지지한다. 제1 구동부(8a)는, 연직 방향(Z)으로 제2 구동부(8b)를 이동시킨다. 제1 구동부(8a)는, 또한, 연직 방향(Z)과 평행한 회전 축선 둘레로 제2 구동부(8b)를 회전시킨다. 제2 구동부(8b)는, 핸드(7)를 지지한다. 제2 구동부(8b)는, 제1 구동부(8a)에 대해 핸드(7)를 수평 방향으로 진퇴 이동시킨다. 제2 구동부(8b)는, 예를 들면, 다관절 아암으로 구성된다.

상술한 핸드 구동부(8)에 의하면, 핸드(7)는, 연직 방향(Z)으로 이동 가능하다. 핸드(7)는, 수평 방향으로 이동 가능하다. 핸드(7)는, 수평면 내에서 회전 가능하다.

처리 블록(11)은, 반송 스페이스(12A)를 구비한다. 반송 스페이스(12A)는, 전후 방향(X)으로 연장된다. 반송 스페이스(12A)의 전부(前部)는, 인덱서부(3)의 반송 스페이스(5)와 이어져 있다. 반송 스페이스(12A)는, 폭방향(Y)에 있어서의 처리 블록(11)의 중앙부에 배치된다.

처리 블록(11)은, 반송 기구(13A)를 구비한다. 반송 기구(13A)는, 반송 스페이스(12A)에 설치된다. 반송 기구(13A)는, 전후 방향(X)으로 평행 이동 가능하다. 바꾸어 말하면, 반송 기구(13A)는, 전후 방향(X)으로 병진(竝進) 운동을 하도록 구성된다. 반송 기구(13A)는, 기판(W)을 반송한다.

반송 기구(13A)는, 핸드(14)와 핸드 구동부(15)를 구비한다. 핸드(14)는, 1매의 기판(W)을 수평 자세로 지지한다. 핸드 구동부(15)는, 핸드(14)에 연결된다. 핸드 구동부(15)는, 핸드(14)를 이동시킨다. 핸드 구동부(15)는, 핸드(14)를 전후 방향(X), 폭방향(Y) 및 연직 방향(Z)으로 이동시킨다.

핸드 구동부(15)의 구조를 예시한다. 핸드 구동부(15)는, 예를 들면, 2개의 지주(15a)와, 수직 이동부(15b)와 수평 이동부(15c)와 회전부(15d)와 진퇴 이동부(15e)를 구비한다. 지주(15a)는, 고정적으로 설치된다. 지주(15a)는, 반송 스페이스(12A)의 측부에 배치된다. 2개의 지주(15a)는 전후 방향(X)으로 늘어선다. 각 지주(15a)는, 연직 방향(Z)으로 연장된다. 각 지주(15a)는, 수직 이동부(15b)를 지지한다. 수직 이동부(15b)는, 2개의 지주(15a) 사이에 걸쳐 전후 방향(X)으로 연장된다. 수직 이동부(15b)는, 지주(15a)에 대해 연직 방향(Z)으로 평행 이동한다. 수직 이동부(15b)는, 수평 이동부(15c)를 지지한다. 수평 이동부(15c)는, 수직 이동부(15b)에 대해 전후 방향(X)으로 평행 이동한다. 수평 이동부(15c)는, 회전부(15d)를 지지한다. 회전부(15d)는, 수평 이동부(15c)에 대해 회전한다. 회전부(15d)는, 연직 방향(Z)과 평행한 회전 축선 둘레로 회전한다. 회전부(15d)는, 진퇴 이동부(15e)를 지지한다. 진퇴 이동부(15e)는, 핸드(14)를 지지한다. 진퇴 이동부(15e)는, 회전부(15d)에 대해 핸드(14)를 진퇴 이동시킨다. 진퇴 이동부(15e)는, 회전부(15d)의 방향에 따라 정해지는 수평한 일 방향으로 핸드(14)를 왕복 이동시킨다.

상술한 핸드 구동부(15)에 의하면, 핸드(14)는, 연직 방향(Z)으로 평행 이동 가능하다. 핸드(14)는, 전후 방향(X)으로 평행 이동 가능하다. 핸드(14)는, 수평면 내에서 회전 가능하다. 핸드(14)는, 회전부(15d)에 대해 진퇴 이동 가능하다.

기판 처리 장치(1)는, 기판 재치부(16A)를 구비한다. 기판 재치부(16A)는, 인덱서부(3)와 반송 기구(13A) 사이에서 반송되는 기판(W)을 재치한다. 구체적으로는, 기판 재치부(16A)는, 반송 기구(6)와 반송 기구(13A) 사이에서 반송되는 기판(W)을 재치한다. 반송 기구(6)는, 기판 재치부(16A)에 액세스 가능하다. 반송 기구(13A)도, 기판 재치부(16A)에 액세스 가능하다.

기판 재치부(16A)는, 고정적으로 설치된다.

기판 재치부(16A)는, 반송 기구(6)의 후방에 배치된다. 기판 재치부(16A)는, 반송 기구(13A)의 전방에 배치된다. 반송 기구(13A)의 가동역은, 기판 재치부(16A)의 후방으로 한정된다.

기판 재치부(16A)의 적어도 일부는, 반송 스페이스(12A)에 설치된다. 예를 들면, 기판 재치부(16A) 전부(全部)는, 반송 스페이스(12A)에 설치된다.

처리 블록(11)은, 제1 처리 유닛(21A1)과 제2 처리 유닛(21B1)과 제3 처리 유닛(21C1)과 제4 처리 유닛(21D1)을 구비한다. 제1 처리 유닛(21A1)과 제3 처리 유닛(21C1)은 각각, 반송 스페이스(12A)의 우방에 배치된다. 제3 처리 유닛(21C1)은, 제1 처리 유닛(21A1)의 후방에 인접한다. 구체적으로는, 제3 처리 유닛(21C1)은, 제1 처리 유닛(21A1)의 후방에 배치된다. 제3 처리 유닛(21C1)은, 제1 처리 유닛(21A1)에 인접한다. 제3 처리 유닛(21C1)은, 예를 들면, 제1 처리 유닛(21A1)의 후부(後部)와 접한다. 제2 처리 유닛(21B1)과 제4 처리 유닛(21D1)은 각각, 반송 스페이스(12A)의 좌방에 배치된다. 제4 처리 유닛(21D1)은, 제2 처리 유닛(21B1)의 후방에 인접한다. 제1~제4 처리 유닛(21A1~21D1)은 각각, 기판(W)에 처리를 행한다.

제2 처리 유닛(21B1)은, 제1 처리 유닛(21A1)에 대해 후방으로 시프트된다. 구체적으로는, 제1 처리 유닛(21A1)은, 전단(22A)과 후단(23A)을 갖는다. 제2 처리 유닛(21B1)은, 전단(22B)과 후단(23B)을 갖는다. 전후 방향(X)에 있어서, 전단(22B)은, 전단(22A)보다 후방에 배치된다. 전후 방향(X)에 있어서, 전단(22B)은, 후단(23A)보다 전방에 배치된다. 전후 방향(X)에 있어서, 후단(23B)은, 후단(23A)보다 후방에 배치된다.

제4 처리 유닛(21D1)은, 제3 처리 유닛(21C1)에 대해 후방으로 시프트된다. 구체적으로는, 제3 처리 유닛(21C1)은, 전단(22C)과 후단(23C)을 갖는다. 제4 처리 유닛(21D1)은, 전단(22D)과 후단(23D)을 갖는다. 전후 방향(X)에 있어서, 전단(22D)은, 전단(22C)보다 후방에 배치된다. 전후 방향(X)에 있어서, 전단(22D)은, 후단(23C)보다 전방에 배치된다. 전후 방향(X)에 있어서, 후단(23D)은, 후단(23C)보다 후방에 배치된다.

제1 처리 유닛(21A1)은, 인덱서부(3)의 후방에 인접된다.

전후 방향(X)에 있어서, 기판 재치부(16A)의 적어도 일부는, 제1 처리 유닛(21A1)의 전단(22A)보다 후방에 배치된다. 예를 들면, 전후 방향(X)에 있어서, 기판 재치부(16A) 전부는, 제1 처리 유닛(21A1)의 전단(22A)보다 후방에 배치된다.

전후 방향(X)에 있어서, 제2 처리 유닛(21B1)의 적어도 일부는, 기판 재치부(16A)보다 후방에 배치된다. 예를 들면, 전후 방향(X)에 있어서, 제2 처리 유닛(21B1) 전부는, 기판 재치부(16A)보다 후방에 배치된다.

제1 처리 유닛(21A1)은, 제1 유지부(25A)와 제1 액 공급부(27A)를 구비한다. 제1 유지부(25A)는, 기판(W)을 유지한다. 제1 액 공급부(27A)는, 제1 유지부(25A)에 유지되는 기판(W)에 처리액을 공급한다.

마찬가지로, 제2 처리 유닛(21B1)은, 제2 유지부(25B)와 제2 액 공급부(27B)를 구비한다. 제2 유지부(25B)는, 기판(W)을 유지한다. 제2 액 공급부(27B)는, 제2 유지부(25B)에 유지되는 기판(W)에 처리액을 공급한다.

제3 처리 유닛(21C1)은, 제3 유지부(25C)와 제3 액 공급부(27C)를 구비한다. 제3 유지부(25C)는, 기판(W)을 유지한다. 제3 액 공급부(27C)는, 제3 유지부(25C)에 유지되는 기판(W)에 처리액을 공급한다.

제4 처리 유닛(21D1)은, 제4 유지부(25D)와 제4 액 공급부(27D)를 구비한다. 제4 유지부(25D)는, 기판(W)을 유지한다. 제4 액 공급부(27D)는, 제4 유지부(25D)에 유지되는 기판(W)에 처리액을 공급한다.

또한, 제1 액 공급부(27A)는, 제2~제4 유지부(25B~25D)에 유지되는 기판(W)에, 처리액을 공급하지 않는다. 제1 액 공급부(27A)는, 제1 유지부(25A)에 유지되는 기판(W)에만, 처리액을 공급한다. 제2~제4 액 공급부(27B~27D)도, 제1 액 공급부(27A)와 마찬가지이다.

반송 기구(13A)는, 제1~제4 유지부(25A~25D)에 기판(W)을 반송한다.

제1 처리 유닛(21A1)은, 제1 반송구(28A)를 구비한다. 도 1은, 편의상, 제1 반송구(28A)를 파선으로 나타낸다. 제1 반송구(28A)는, 반송 스페이스(12A)에 면한다. 기판(W)은, 제1 반송구(28A)를 통과 가능하다. 반송 기구(13A)가 제1 유지부(25A)에 기판(W)을 반송할 때, 반송 기구(13A)는 제1 반송구(28A)에 기판(W)을 진입시킨다. 마찬가지로, 제2, 제3, 제4 처리 유닛(21B1, 21C1, 21D1)은 각각, 제2, 제3, 제4 반송구(28B, 28C, 28D)를 구비한다.

제1 유지부(25A)는, 제1 처리 유닛(21A1)의 후단(23A)에 가깝다. 구체적으로는, 제1 처리 유닛(21A1)은, 평면에서 봤을 때, 중심(24A)을 갖는다. 중심(24A)은, 전단(22A)과 후단(23A)으로부터 등거리에 있다. 제1 유지부(25A)는, 평면에서 봤을 때, 중심(26A)을 갖는다. 중심(26A)은, 평면에서 봤을 때, 중심(24A)보다 후방에 위치한다.

제2 유지부(25B)는, 제2 처리 유닛(21B1)의 전단(22B)에 가깝다. 구체적으로는, 제2 처리 유닛(21B1)은, 평면에서 봤을 때, 중심(24B)을 갖는다. 중심(24B)은, 전단(22B)과 후단(23B)으로부터 등거리에 있다. 제2 유지부(25B)는, 평면에서 봤을 때, 중심(26B)을 갖는다. 중심(26B)은, 평면에서 봤을 때, 중심(24B)보다 전방에 위치한다.

제3 유지부(25C)는, 제3 처리 유닛(21C1)의 후단(23C)에 가깝다. 구체적으로는, 제3 처리 유닛(21C1)은, 평면에서 봤을 때, 중심(24C)을 갖는다. 중심(24C)은, 전단(22C)과 후단(23C)으로부터 등거리에 있다. 제3 유지부(25C)는, 평면에서 봤을 때, 중심(26C)을 갖는다. 중심(26C)은, 평면에서 봤을 때, 중심(24C)보다 후방에 위치한다.

제4 유지부(25D)는, 제4 처리 유닛(21D1)의 전단(22D)에 가깝다. 구체적으로는, 제4 처리 유닛(21D1)은, 평면에서 봤을 때, 중심(24D)을 갖는다. 중심(24D)은, 전단(22D)과 후단(23D)으로부터 등거리에 있다. 제4 유지부(25D)는, 평면에서 봤을 때, 중심(26D)을 갖는다. 중심(26D)은, 평면에서 봤을 때, 중심(24D)보다 전방에 위치한다.

여기서, 제2 유지부(25B)는, 전후 방향(X)에 있어서, 제1 유지부(25A)보다 전방에 배치된다. 제2 유지부(25B)의 중심(26B)은, 전후 방향(X)에 있어서, 제1 유지부(25A)의 중심(26A)보다 전방에 배치된다. 제4 유지부(25D)는, 전후 방향(X)에 있어서, 제3 유지부(25C)보다 전방에 배치된다. 제4 유지부(25D)의 중심(26D)은, 전후 방향(X)에 있어서, 제3 유지부(25C)의 중심(26C)보다 전방에 배치된다. 전후 방향(X)에 있어서, 제2 유지부(25B)는, 제1~제4 유지부(25A~25D) 중에서 가장 전방에 위치한다. 전후 방향(X)에 있어서, 제3 유지부(25C)는, 제1~제4 유지부(25A~25D) 중에서 가장 후방에 위치한다.

전후 방향(X)에 있어서 제2 유지부(25B)는, 기판 재치부(16A)보다 후방에 배치된다. 구체적으로는, 전후 방향(X)에 있어서 제2 유지부(25B) 전부는, 기판 재치부(16A)보다 후방에 배치된다. 전후 방향(X)에 있어서 제1 유지부(25A)도, 기판 재치부(16A)보다 후방에 배치된다.

도 1은, 거리(L)를 나타낸다. 거리(L)는, 중심(26B)과 중심(26C) 사이의 전후 방향(X)에 있어서의 거리이다. 거리(L)는, 반송 기구(13A)가 제1~제4 유지부(25A~25D)에 기판(W)을 반송할 때의 전후 방향(X)에 있어서의 반송 기구(13A)의 이동 거리에 상당한다.

제2 처리 유닛(21B1)은, 제1 처리 유닛(21A1)이 연직축 둘레로 180도 회전된 것과 같은 구조를 갖는다. 따라서, 제2 처리 유닛(21B1)의 구조는, 제1 처리 유닛(21A1)의 구조와 공통이다. 구체적으로는, 제2 유지부(25B)와 제2 액 공급부(27B)와 제2 반송구(28B)의 상대적인 위치는, 제1 유지부(25A)와 제1 액 공급부(27A)와 제1 반송구(28A)의 상대적인 위치와 같다.

제3 처리 유닛(21C1)은, 제1 처리 유닛(21A1)과 같은 구조를 갖는다. 즉, 제3 처리 유닛(21C1)의 구조는, 제1 처리 유닛(21A1)의 구조와 공통이다. 구체적으로는, 제3 유지부(25C)와 제3 액 공급부(27C)와 제3 반송구(28C)의 상대적인 위치는, 제1 유지부(25A)와 제1 액 공급부(27A)와 제1 반송구(28A)의 상대적인 위치와 같다.

제4 처리 유닛(21D1)은, 제1 처리 유닛(21A1)이 연직축 둘레로 180도 회전된 것과 같은 구조를 갖는다. 따라서, 제4 처리 유닛(21D1)의 구조는, 제1 처리 유닛(21A1)의 구조와 공통이다. 구체적으로는, 제4 유지부(25D)와 제4 액 공급부(27D)와 제4 반송구(28D)의 상대적인 위치는, 제1 유지부(25A)와 제1 액 공급부(27A)와 제1 반송구(28A)의 상대적인 위치와 같다.

처리 블록(11)은, 제1 액 저류부(31)를 구비한다. 제1 액 저류부(31)는, 반송 스페이스(12A)의 좌방에 배치된다. 제1 액 저류부(31)는, 제2 처리 유닛(21B1)의 전방에 인접된다. 제1 액 저류부(31)는, 제1~제4 처리 유닛(21A1~21D1)에 분배되는 처리액을 저류한다.

제1 액 저류부(31)는, 전단(31f)을 갖는다. 전후 방향(Y)에 있어서, 전단(31f)은, 제1 처리 유닛(21A1)의 전단(22A)과 동등한 위치에 배치된다.

제1 액 저류부(31)는, 인덱서부(3)의 후방에 인접된다.

기판 재치부(16A)는, 제1 처리 유닛(21A1)과 제1 액 저류부(31) 사이에 배치된다. 제1 처리 유닛(21A1)과 기판 재치부(16A)와 제1 액 저류부(31)는, 폭방향(Y)으로, 이 순서로 늘어선다.

처리 블록(11)은, 제2 액 저류부(32)를 구비한다. 제2 액 저류부(32)는, 반송 스페이스(12A)의 우방에 배치된다. 제2 액 저류부(32)는, 제3 처리 유닛(21C1)의 후방에 인접된다. 제2 액 저류부(32)는, 제1~제4 처리 유닛(21A1~21D1)에 분배되는 처리액을 저류한다.

제2 액 저류부(32)는, 후단(32r)을 갖는다. 전후 방향(Y)에 있어서, 후단(32r)은, 제4 처리 유닛(21D1)의 후단(23D)과 동등한 위치에 배치된다.

제2 액 저류부(32)에 저류되는 처리액은, 제1 액 저류부(31)에 저류되는 처리액과는 상이한 종류이다. 제2 액 저류부(32)는, 제1 액 저류부(31)에 저류되는 처리액과는 상이한 종류의 처리액을 저류한다. 제2 액 저류부(32)에 저류되는 처리액은, 제1 액 저류부(31)에 저류되는 처리액과는 조성이 상이하다. 제2 액 저류부(32)는, 제1 액 저류부(31)에 저류되는 처리액과는 상이한 조성의 처리액을 저류한다.

구체적으로는, 제1 액 저류부(31)에 저류되는 처리액은, 제1 처리액이다. 제1 처리액은, 예를 들면, 산성액으로 분류된다. 제1 처리액은, 예를 들면, 불산(불화수소산), 염산과산화수소수, 황산, 황산과산화수소수, 불질산(불산과 질산의 혼합액), 및, 염산 중 적어도 1개를 포함한다.

제2 액 저류부(32)에 저류되는 처리액은, 제2 처리액이다. 제2 처리액은, 예를 들면, 유기액으로 분류된다. 유기액은, 이소프로필알코올(IPA), 메탄올, 에탄올, 하이드로플루오로에테르(HFE), 및, 아세톤 중 적어도 1개를 포함한다.

2. 처리 블록(11)의 구조

도 2는, 폭방향에 있어서의 기판 처리 장치의 중앙부의 구성을 나타내는 좌측면도이다. 도 3은, 처리 블록의 정면도이다. 처리 블록(11)은, 반송 스페이스(12A)에 더하여, 반송 스페이스(12B)를 구비한다. 반송 스페이스(12B)는, 반송 스페이스(12A)의 하방에 배치된다. 반송 스페이스(12B)도, 인덱서부(3)의 반송 스페이스(5)와 이어져 있다. 반송 스페이스(12B)는, 평면에서 봤을 때, 반송 스페이스(12A)와 같은 위치에 배치된다.

처리 블록(11)은, 1개의 격벽(17)을 구비한다. 격벽(17)은, 반송 스페이스(12A)의 하방, 또한, 반송 스페이스(12B)의 상방에 배치된다. 격벽(17)은, 수평한 판 형상을 갖는다. 격벽(17)은, 반송 스페이스(12A)를 반송 스페이스(12B)로부터 떼어 놓는다.

처리 블록(11)은, 반송 기구(13A)에 더하여, 반송 기구(13B)를 구비한다. 반송 기구(13B)는, 반송 스페이스(12B)에 설치된다. 반송 기구(13B)는, 반송 기구(13A)의 하방에 설치된다. 반송 기구(13B)는, 전후 방향(X)으로 평행 이동 가능하다. 반송 기구(13B)는, 기판(W)을 반송한다. 반송 기구(13B)는, 반송 기구(13A)의 구조와 같은 구조를 갖는다. 구체적으로는, 반송 기구(13B)도, 핸드(14)와 핸드 구동부(15)를 구비한다.

처리 블록(11)은, 기판 재치부(16A)에 더하여, 기판 재치부(16B)를 구비한다. 기판 재치부(16B)는, 인덱서부(3)와 반송 기구(13B) 사이에서 반송되는 기판(W)을 재치한다. 반송 기구(6)와 반송 기구(13B)는 각각, 기판 재치부(16B)에 액세스 가능하다. 기판 재치부(16B)는, 기판 재치부(16A)의 하방에 배치된다. 기판 재치부(16B)는, 평면에서 봤을 때, 기판 재치부(16A)와 같은 위치에 배치된다.

도 3, 도 4를 참조한다. 도 4는, 기판 처리 장치(1)의 우측부의 구성을 나타내는 우측면도이다. 처리 블록(11)은, 제1 처리 유닛(21A1)에 더하여, 5개의 제1 처리 유닛(21A2~21A6)을 구비한다. 제1 처리 유닛(21A2~21A6)은 각각, 제1 처리 유닛(21A1)과 같은 구조를 갖는다.

제1 처리 유닛(21A1~21A6)은, 연직 방향(Z)으로 1열로 늘어선다. 제1 처리 유닛(21A1~21A6)은, 적층된다. 제1 처리 유닛(21A1~21A3)은, 반송 스페이스(12A)와 같은 높이 위치에 배치된다. 반송 기구(13A)는, 제1 처리 유닛(21A1~21A3)에 기판(W)을 반송한다. 제1 처리 유닛(21A4~21A6)은, 제1 처리 유닛(21A1~21A3)의 하방에 배치된다. 제1 처리 유닛(21A4~21A6)은, 반송 스페이스(12B)와 같은 높이 위치에 배치된다. 반송 기구(13B)는, 제1 처리 유닛(21A4~21A6)에 기판(W)을 반송한다.

도 4를 참조한다. 처리 블록(11)은, 제3 처리 유닛(21C1)에 더하여, 5개의 제3 처리 유닛(21C2~21C6)을 구비한다. 제3 처리 유닛(21C2~21C6)은 각각, 제1 처리 유닛(21A1)과 같은 구조를 갖는다.

제3 처리 유닛(21C1~21C6)은, 연직 방향(Z)으로 1열로 늘어선다. 제3 처리 유닛(21C1~21C6)은, 적층된다. 제3 처리 유닛(21C4~21C6)은, 제3 처리 유닛(21C1~21C3)의 하방에 배치된다.

도 5는, 기판 처리 장치(1)의 좌측부의 구성을 나타내는 좌측면도이다. 처리 블록(11)은, 제2 처리 유닛(21B1)에 더하여, 5개의 제2 처리 유닛(21B2~21B6)을 구비한다. 제2 처리 유닛(21B2~21B6)은 각각, 제1 처리 유닛(21A1)과 공통의 구조를 갖는다.

제2 처리 유닛(21B1~21B6)은, 연직 방향(Z)으로 1열로 늘어선다. 제2 처리 유닛(21B1~21B6)은, 적층된다. 제2 처리 유닛(21B4~21B6)은, 제2 처리 유닛(21B1~21B3)의 하방에 배치된다.

마찬가지로, 처리 블록(11)은, 제4 처리 유닛(21D1)에 더하여, 5개의 제4 처리 유닛(21D2~21D6)을 구비한다. 제4 처리 유닛(21D2~21D6)은 각각, 제1 처리 유닛(21A1)과 공통의 구조를 갖는다.

제4 처리 유닛(21D1~21D6)은, 연직 방향(Z)으로 1열로 늘어선다. 제4 처리 유닛(21D1~21D6)은, 적층된다. 제4 처리 유닛(21D4~21D6)은, 제4 처리 유닛(21D1~21D3)의 하방에 배치된다.

반송 기구(13A)는, 제2 처리 유닛(21B1~21B3)과 제3 처리 유닛(21C1~21C3)과 제4 처리 유닛(21D1~21D3)에 기판(W)을 반송한다. 반송 기구(13B)는, 제2 처리 유닛(21B4~21B6)과 제3 처리 유닛(21C4~21C6)과 제4 처리 유닛(21D4~21D6)에 기판(W)을 반송한다.

제1 처리 유닛(21A1~21A6)을 구별하지 않는 경우에는, 제1 처리 유닛(21A)이라고 부른다. 제2 처리 유닛(21B1~21B6)을 구별하지 않는 경우에는, 제2 처리 유닛(21B)이라고 부른다. 제3 처리 유닛(21C1~21C6)을 구별하지 않는 경우에는, 제3 처리 유닛(21C)이라고 부른다. 제4 처리 유닛(21D1~21D6)을 구별하지 않는 경우에는, 제4 처리 유닛(21D)이라고 부른다. 반송 스페이스(12A, 12B)를 구별하지 않는 경우에는, 반송 스페이스(12)라고 부른다.

제1 액 저류부(31)는, 제1 탱크(33)와 제1 펌프(34)를 구비한다. 제1 탱크(33)는, 처리액을 저류하는 용기이다. 제1 탱크(33)는, 처리액(구체적으로는, 제1 처리액)을 저류한다. 제1 펌프(34)는, 제1 탱크(33)에 연통한다. 예를 들면, 제1 펌프(34)는, 제1 탱크(33)에 접속되어 있다. 제1 펌프(34)는, 처리액을 압송한다.

제1 액 저류부(31)는, 캐비넷(35)을 구비한다. 캐비넷(35)은, 캐비넷(35)의 내부에 수납 스페이스(35a)를 구획한다. 제1 탱크(33)와 제1 펌프(34)는, 수납 스페이스(35a)에 설치된다. 캐비넷(35)은, 수납 스페이스(35a)를 반송 스페이스(12)로부터 떼어 놓는다. 캐비넷(35)은, 수납 스페이스(35a)를 제2 처리 유닛(21B)으로부터 떼어 놓는다.

도 4를 참조한다. 제2 액 저류부(32)는, 제2 탱크(36)와 제2 펌프(37)를 구비한다. 제2 탱크(36)는, 처리액을 저류하는 용기이다. 제2 탱크(36)는, 처리액(구체적으로는, 제2 처리액)을 저류한다. 제2 펌프(37)는, 제2 탱크(36)에 연통한다. 예를 들면, 제2 펌프(37)는, 제2 탱크(36)에 접속되어 있다. 제2 펌프(37)는, 처리액을 압송한다.

제2 액 저류부(32)는, 캐비넷(38)을 구비한다. 캐비넷(38)은, 캐비넷(38)의 내부에 수납 스페이스(38a)를 구획한다. 제2 탱크(36)와 제2 펌프(37)는, 수납 스페이스(38a)에 설치된다. 캐비넷(38)은, 수납 스페이스(38a)를 반송 스페이스(12)로부터 떼어 놓는다. 캐비넷(38)은, 수납 스페이스(38a)를 제3 처리 유닛(21C)으로부터 떼어 놓는다.

도 2~5를 참조한다. 기판 처리 장치(1)는, 상부 스페이스(39)를 구비한다. 상부 스페이스(39)는, 반송 스페이스(12), 제1 처리 유닛(21A), 제2 처리 유닛(21B), 제3 처리 유닛(21C), 제4 처리 유닛(21D), 제1 액 저류부(31) 및 제2 액 저류부(32)의 상방에 형성된다.

기판 처리 장치(1)는, 격벽(40)을 구비한다. 격벽(40)은, 수평한 판 형상을 갖는다. 격벽(40)은, 반송 스페이스(12), 제1~제4 처리 유닛(21A~21D), 제1 액 저류부(31) 및 제2 액 저류부(32)의 상방에 배치된다. 격벽(40)은, 상부 스페이스(39)의 하방에 배치된다. 격벽(40)은, 상부 스페이스(39)를 반송 스페이스(12)로부터 떼어 놓는다. 마찬가지로, 격벽(40)은, 상부 스페이스(39)를 제1~제4 처리 유닛(21A~21D)으로부터 떼어 놓는다. 격벽(40)은, 상부 스페이스(39)를 제1~제2 액 저류부(31~32)로부터 떼어 놓는다.

도 4~6을 참조한다. 도 6은, 기판 처리 장치(1)의 평면도이다. 도 6은, 상부 스페이스(39)를 나타낸다. 기판 처리 장치(1)는, 제1 분배부(41)를 구비한다. 제1 분배부(41)는, 상부 스페이스(39)에 설치된다. 제1 분배부(41)는, 제1 액 저류부(31)로부터, 제1 처리 유닛(21A), 제2 처리 유닛(21B), 제3 처리 유닛(21C) 및 제4 처리 유닛(21D)에 처리액을 분배한다.

제1 분배부(41)는, 대략 수평 방향으로 연장된다. 제1 분배부(41)는, 제1 액 저류부(31)로부터 후방으로 연장된다.

구체적으로는, 제1 분배부(41)는, 제1 펌프(34)에 연통한다. 예를 들면, 제1 분배부(41)는, 제1 펌프(34)에 접속된다. 제1 분배부(41)는, 제1 액 공급부(27A), 제2 액 공급부(27B), 제3 액 공급부(27C) 및 제4 액 공급부(27D)에 연통한다. 예를 들면, 제1 분배부(41)는, 제1 액 공급부(27A), 제2 액 공급부(27B), 제3 액 공급부(27C) 및 제4 액 공급부(27D)에 접속된다.

기판 처리 장치(1)는, 제2 분배부(42)를 구비한다. 제2 분배부(42)는, 상부 스페이스(39)에 설치된다. 제2 분배부(42)는, 제2 액 저류부(32)로부터, 제1 처리 유닛(21A), 제2 처리 유닛(21B), 제3 처리 유닛(21C) 및 제4 처리 유닛(21D)에 처리액을 분배한다.

제2 분배부(42)는, 대략 수평 방향으로 연장된다. 제2 분배부(42)는, 제2 액 저류부(32)로부터 전방으로 연장된다.

구체적으로는, 제2 분배부(42)는, 제2 펌프(37)에 연통한다. 예를 들면, 제2 분배부(42)는, 제2 펌프(37)에 접속된다. 제2 분배부(42)는, 제1 액 공급부(27A), 제2 액 공급부(27B), 제3 액 공급부(27C) 및 제4 액 공급부(27D)에 연통한다. 예를 들면, 제2 분배부(42)는, 제1 액 공급부(27A), 제2 액 공급부(27B), 제3 액 공급부(27C) 및 제4 액 공급부(27D)에 접속된다.

도 6을 참조한다. 제2 분배부(42)는, 평면에서 봤을 때, 제1 분배부(41)가 180도 회전된 것과 같다. 바꾸어 말하면, 제2 분배부(42)는, 제1 분배부(41)가 연직축 둘레로 180도 회전된 것과 같은 구조를 갖는다.

구체적으로는, 제1 분배부(41)는, 제1 배관(43A)과 제2 배관(43B)과 제3 배관(43C)과 제4 배관(43D)을 구비한다. 제1 배관(43A)은, 제1 액 저류부(31)와 제1 처리 유닛(21A)(제1 액 공급부(27A))를 연통시킨다. 제1 배관(43A)은, 제1 액 저류부(31)와 제1 처리 유닛(21A)(제1 액 공급부(27A))를 접속한다. 제2 배관(43B)은, 제1 액 저류부(31)와 제2 처리 유닛(21B)(제2 액 공급부(27B))를 연통시킨다. 제2 배관(43B)은, 제1 액 저류부(31)와 제2 처리 유닛(21B)(제2 액 공급부(27B))를 접속한다. 제3 배관(43C)은, 제1 액 저류부(31)와 제3 처리 유닛(21C)(제3 액 공급부(27C))를 연통시킨다. 제3 배관(43C)은, 제1 액 저류부(31)와 제3 처리 유닛(21C)(제3 액 공급부(27C))를 접속한다. 제4 배관(43D)은, 제1 액 저류부(31)와 제4 처리 유닛(21D)(제4 액 공급부(27D))를 연통시킨다. 제4 배관(43D)은, 제1 액 저류부(31)와 제4 처리 유닛(21D)(제4 액 공급부(27D))를 접속한다.

제2 분배부(42)는, 제5 배관(44A)과 제6 배관(44B)과 제7 배관(44C)과 제8 배관(44D)을 구비한다. 제5 배관(44A)은, 제2 액 저류부(32)와 제1 처리 유닛(21A)(제1 액 공급부(27A))를 연통시킨다. 제5 배관(44A)은, 제2 액 저류부(32)와 제1 처리 유닛(21A)(제1 액 공급부(27A))를 접속한다. 제6 배관(44B)은, 제2 액 저류부(32)와 제2 처리 유닛(21B)(제2 액 공급부(27B))를 연통시킨다. 제6 배관(44B)은, 제2 액 저류부(32)와 제2 처리 유닛(21B)(제2 액 공급부(27B))를 접속한다. 제7 배관(44C)은, 제2 액 저류부(32)와 제3 처리 유닛(21C)(제3 액 공급부(27C))를 연통시킨다. 제7 배관(44C)은, 제2 액 저류부(32)와 제3 처리 유닛(21C)(제3 액 공급부(27C))를 접속한다. 제8 배관(44D)은, 제2 액 저류부(32)와 제4 처리 유닛(21D)(제4 액 공급부(27D))를 연통시킨다. 제8 배관(44D)은, 제2 액 저류부(32)와 제4 처리 유닛(21D)(제4 액 공급부(27D))를 접속한다.

여기서, 제8 배관(44D)은, 평면에서 봤을 때, 제1 배관(43A)이 180도 회전된 것과 같다. 바꾸어 말하면, 제8 배관(44D)은, 제1 배관(43A)이 연직축 둘레로 180도 회전된 것과 같은 형상을 갖는다. 제7 배관(44C)은, 평면에서 봤을 때, 제2 배관(43B)이 180도 회전된 것과 같다. 제6 배관(44B)은, 평면에서 봤을 때, 제3 배관(43C)이 180도 회전된 것과 같다. 제5 배관(44A)은, 평면에서 봤을 때, 제4 배관(43D)이 180도 회전된 것과 같다.

폭방향(Y)에 있어서의 제1 배관(43A)의 길이는, 폭방향(Y)에 있어서의 제2 배관(43B)의 길이보다 크다. 그러나, 전후 방향(X)에 있어서의 제1 배관(43A)의 길이는, 전후 방향(X)에 있어서의 제2 배관(43B)의 길이보다 작다. 이 때문에, 제1 배관(43A)의 길이와 제2 배관(43B)의 길이 사이의 차는, 비교적 작다.

폭방향(Y)에 있어서의 제3 배관(43C)의 길이는, 폭방향(Y)에 있어서의 제4 배관(43D)의 길이보다 크다. 그러나, 전후 방향(X)에 있어서의 제3 배관(43C)의 길이는, 전후 방향(X)에 있어서의 제4 배관(43D)의 길이보다 작다. 이 때문에, 제3 배관(43C)의 길이와 제4 배관(43D)의 길이 사이의 차는, 비교적 작다.

폭방향(Y)에 있어서의 제5 배관(44A)의 길이는, 폭방향(Y)에 있어서의 제6 배관(44B)의 길이보다 작다. 그러나, 전후 방향(X)에 있어서의 제5 배관(44A)의 길이는, 전후 방향(X)에 있어서의 제6 배관(44B)의 길이보다 크다. 이 때문에, 제5 배관(44A)의 길이와 제6 배관(44B)의 길이 사이의 차는, 비교적 작다.

폭방향(Y)에 있어서의 제7 배관(44C)의 길이는, 폭방향(Y)에 있어서의 제8 배관(44D)의 길이보다 작다. 그러나, 전후 방향(X)에 있어서의 제7 배관(44C)의 길이는, 전후 방향(X)에 있어서의 제8 배관(44D)의 길이보다 크다. 이 때문에, 제7 배관(44C)의 길이와 제8 배관(44D)의 길이 사이의 차는, 비교적 작다.

기판 처리 장치(1)는, 제1 접속 박스(46A)와 제2 접속 박스(46B)와 제3 접속 박스(46C)와 제4 접속 박스(46D)를 구비한다. 제1 접속 박스(46A)와 제3 접속 박스(46C)와 제2 액 저류부(32)는, 이 순서로 전후 방향(X)으로 늘어선다. 제1 액 저류부(31)와 제2 접속 박스(46B)와 제4 접속 박스(46D)는, 이 순서로 전후 방향(X)으로 늘어선다. 제1 접속 박스(46A)와 제1 액 저류부(31)는, 폭방향(Y)으로 늘어선다. 제2 접속 박스(46B)와 제3 접속 박스(46C)는, 폭방향(Y)으로 늘어선다. 제4 접속 박스(46D)와 제2 액 저류부(32)는, 폭방향(Y)으로 늘어선다.

제1 분배부(41)는, 제1 액 저류부(31)로부터 제1 접속 박스(46A), 제2 접속 박스(46B), 제3 접속 박스(46C) 및 제4 접속 박스(46D)로 연장된다. 구체적으로는, 제1 배관(43A)은, 제1 액 저류부(31)로부터 제1 접속 박스(46A)로 연장된다. 제2 배관(43B)은, 제1 액 저류부(31)로부터 제2 접속 박스(46B)로 연장된다. 제3 배관(43C)은, 제1 액 저류부(31)로부터 제3 접속 박스(46C)로 연장된다. 제4 배관(43D)은, 제1 액 저류부(31)로부터 제4 접속 박스(46D)로 연장된다.

제2 분배부(42)는, 제2 액 저류부(32)로부터 제1 접속 박스(46A), 제2 접속 박스(46B), 제3 접속 박스(46C) 및 제4 접속 박스(46D)로 연장된다. 구체적으로는, 제5 배관(44A)은, 제2 액 저류부(32)로부터 제1 접속 박스(46A)로 연장된다. 제6 배관(44B)은, 제2 액 저류부(32)로부터 제2 접속 박스(46B)로 연장된다. 제7 배관(44C)은, 제2 액 저류부(32)로부터 제3 접속 박스(46C)로 연장된다. 제8 배관(44D)은, 제2 액 저류부(32)로부터 제4 접속 박스(46D)로 연장된다.

도 4를 참조한다. 제1 접속 박스(46A)와 제3 접속 박스(46C)는 각각, 상부 스페이스(39)에 배치된다. 제1 접속 박스(46A)와 제3 접속 박스(46C)는, 대략 같은 높이 위치에 배치된다.

제1 접속 박스(46A)는, 제1 처리 유닛(21A)의 상방에 배치된다. 전후 방향(X)에 있어서, 제1 접속 박스(46A)는, 제1 유지부(25A)보다 전방에 배치된다.

제3 접속 박스(46C)는, 제3 처리 유닛(21C)의 상방에 배치된다. 전후 방향(X)에 있어서, 제3 접속 박스(46C)는, 제3 유지부(25C)보다 전방에 배치된다.

도 5를 참조한다. 제2 접속 박스(46B)와 제4 접속 박스(46D)는 각각, 상부 스페이스(39)에 배치된다. 제2 접속 박스(46B)와 제4 접속 박스(46D)는, 대략 같은 높이 위치에 배치된다.

제2 접속 박스(46B)는, 제2 처리 유닛(21B)의 상방에 배치된다. 전후 방향(X)에 있어서, 제2 접속 박스(46B)는, 제2 유지부(25B)보다 후방에 배치된다.

제4 접속 박스(46D)는, 제4 처리 유닛(21D)의 상방에 배치된다. 전후 방향(X)에 있어서, 제4 접속 박스(46D)는, 제4 유지부(25D)보다 후방에 배치된다.

도 3을 참조한다. 제1 접속 박스(46A)와 제2 접속 박스(46B)는, 대략 같은 높이 위치에 배치된다. 따라서, 제1~제4 접속 박스(46A~46D)는, 대략 같은 높이 위치에 배치된다.

도 4를 참조한다. 제1 분배부(41) 및 제2 분배부(42)는 각각, 제1 액 공급부(27A)에 연통한다. 제1 분배부(41) 및 제2 분배부(42)는 각각, 제1 접속 박스(46A) 내에 있어서, 제1 액 공급부(27A)에 접속된다. 제1 분배부(41) 및 제2 분배부(42)는 각각, 제3 액 공급부(27C)에 연통한다. 제1 분배부(41) 및 제2 분배부(42)는 각각, 제3 접속 박스(46C) 내에 있어서, 제3 액 공급부(27C)에 접속된다.

기판 처리 장치(1)는, 제1 이음(47A)과 제5 이음(48A)을 구비한다. 제1 이음(47A)은, 제1 접속 박스(46A)에 수용된다. 제1 이음(47A)은, 제1 분배부(41)(구체적으로는 제1 배관(43A))과 제1 액 공급부(27A)를 접속한다. 제5 이음(48A)은, 제1 접속 박스(46A)에 수용된다. 제5 이음(48A)은, 제2 분배부(42)(구체적으로는 제5 배관(44A))과 제1 액 공급부(27A)를 접속한다.

기판 처리 장치(1)는, 제3 이음(47C)과 제7 이음(48C)을 구비한다. 제3 이음(47C)은, 제3 접속 박스(46C)에 수용된다. 제3 이음(47C)은, 제1 분배부(41)(구체적으로는 제3 배관(43C))과 제3 액 공급부(27C)를 접속한다. 제7 이음(48C)은, 제3 접속 박스(46C)에 수용된다. 제7 이음(48C)은, 제2 분배부(42)(구체적으로는 제7 배관(44C))과 제3 액 공급부(27C)를 접속한다.

도 5를 참조한다. 제1 분배부(41) 및 제2 분배부(42)는 각각, 제2 액 공급부(27B)에 연통한다. 제1 분배부(41) 및 제2 분배부(42)는 각각, 제2 접속 박스(46B) 내에 있어서, 제2 액 공급부(27B)에 접속된다. 제1 분배부(41) 및 제2 분배부(42)는 각각, 제4 액 공급부(27D)에 연통한다. 제1 분배부(41) 및 제2 분배부(42)는 각각, 제4 접속 박스(46D) 내에 있어서, 제4 액 공급부(27D)에 접속된다.

기판 처리 장치(1)는, 제2 이음(47B)과 제6 이음(48B)을 구비한다. 제2 이음(47B)은, 제2 접속 박스(46B)에 수용된다. 제2 이음(47B)은, 제1 분배부(41)(구체적으로는 제2 배관(43B))과 제2 액 공급부(27B)를 접속한다. 제6 이음(48B)은, 제2 접속 박스(46B)에 수용된다. 제6 이음(48B)은, 제2 분배부(42)(구체적으로는 제6 배관(44B))과 제2 액 공급부(27B)를 접속한다.

기판 처리 장치(1)는, 제4 이음(47D)과 제8 이음(48D)을 구비한다. 제4 이음(47D)은, 제4 접속 박스(46D)에 수용된다. 제4 이음(47D)은, 제1 분배부(41)(구체적으로는 제4 배관(43D))과 제4 액 공급부(27D)를 접속한다. 제8 이음(48D)은, 제4 접속 박스(46D)에 수용된다. 제8 이음(48D)은, 제2 분배부(42)(구체적으로는 제8 배관(44D))과 제4 액 공급부(27D)를 접속한다.

도 3, 6을 참조한다. 기판 처리 장치(1)는, 또한, 배기관(53A, 53B, 54A, 54B, 55A, 55B)을 구비한다. 배기관(53A, 53B, 54A, 54B, 55A, 55B)은 각각, 상부 스페이스(39)에 배치된다. 배기관(53A, 54A, 55A)은 각각, 제1 처리 유닛(21A) 및 제3 처리 유닛(21C)의 가스를 배출한다. 배기관(53B, 54B, 55B)은 각각, 제2 처리 유닛(21B) 및 제4 처리 유닛(21D)의 가스를 배출한다.

배기관(53A, 54A, 55A)은, 제1 분배부(41) 및 제2 분배부(42)보다 우방에 배치된다. 배기관(53A, 54A, 55A)은, 제1~제4 접속 박스(46A~46D)보다 우방에 배치된다. 배기관(53B, 54B, 55B)은, 제1 분배부(41) 및 제2 분배부(42)보다 좌방에 배치된다. 배기관(53B, 54B, 55B)은, 제1~제4 접속 박스(46A~46D)보다 좌방에 배치된다.

배기관(53A, 54A, 55A)은, 대략 같은 높이 위치에 배치된다. 배기관(53B, 54B, 55B)은, 대략 같은 높이 위치에 배치된다. 배기관(53B, 54B, 55B)은, 배기관(53A, 54A, 55A)과 대략 같은 높이 위치에 배치된다. 배기관(53A, 53B, 54A, 54B, 55A, 55B)은, 제1~제4 접속 박스(46A~46D)와 대략 같은 높이 위치에 배치된다.

도 2~5를 참조한다. 기판 처리 장치(1)는, 발판(57)을 구비한다. 발판(57)은, 상부 스페이스(39)에 설치된다. 발판(57)은, 대략 평탄한 형상을 갖는다. 또한, 도 6은, 발판(57)의 도시를 생략한다.

유저가 발판(57)에 오르는 것을, 발판(57)은 허용한다. 발판(57)은, 처리 블록(11)에 견뢰하게 지지된다. 발판(57)은, 예를 들면, 처리 블록(11)의 프레임(59)에 견뢰하게 지지된다. 발판(57)은, 충분한 강성을 갖는다. 발판(57)은, 충분한 강도를 갖는다. 발판(57)은, 격벽(40)보다 휘기 어렵다.

도 7은, 기판 처리 장치(1)의 평면도이다. 발판(57)은, 제1 분배부(41)의 적어도 일부의 상방에 배치된다. 발판(57)은, 제1 분배부(41)를 손상으로부터 보호한다. 발판(57)은, 제2 분배부(42)의 적어도 일부의 상방에 배치된다. 발판(57)은, 제2 분배부(42)를 손상으로부터 보호한다.

발판(57)은, 배기관(53A, 54A, 55A)의 적어도 일부의 상방에 배치된다. 발판(57)은, 배기관(53A, 54A, 55A)을 손상으로부터 보호한다. 발판(57)은, 배기관(53B, 54B, 55B)의 적어도 일부의 상방에 배치된다. 발판(57)은, 배기관(53B, 54B, 55B)을 손상으로부터 보호한다.

발판(57)은, 제1 접속 박스(46A), 제2 접속 박스(46B), 제3 접속 박스(46C) 및 제4 접속 박스(46D)의 근방에 배치된다.

발판(57)은, 제2 접속 박스(46B)와 제3 접속 박스(46C)의 사이를 지나, 제1 접속 박스(46A)로부터 제4 접속 박스(46D)까지 연장된다. 발판(57)은, 전후 방향(X)으로 연장된다.

3. 처리 유닛(21)의 구조

이하에서는, 제1~제4 처리 유닛(21A~21D)을 구별하지 않는 경우에는, 처리 유닛(21)이라고 부른다. 제1~제4 유지부(25A~25D)를 구별하지 않는 경우에는, 유지부(25)라고 부른다. 제1~제4 액 공급부(27A~27D)를 구별하지 않는 경우에는, 액 공급부(27)라고 부른다. 제1~제4 접속 박스(46A~46D)를 구별하지 않는 경우에는, 접속 박스(46)라고 부른다. 제1~제4 이음(47A~47D)을 구별하지 않는 경우는, 이음(47)이라고 부른다. 제5~제8 이음(48A~48D)을 구별하지 않는 경우는, 이음(48)이라고 부른다. 배기관(53A, 53B)을 구별하지 않는 경우는, 배기관(53)이라고 부른다. 배기관(54A, 54B)을 구별하지 않는 경우는, 배기관(54)이라고 부른다. 배기관(55A, 55B)을 구별하지 않는 경우는, 배기관(55)이라고 부른다.

도 8은, 처리 유닛(21)의 측면도이다. 상술한 바와 같이, 처리 유닛(21)은, 유지부(25)와 액 공급부(27)를 구비한다.

또한, 처리 유닛(21)은, 처리 하우징(61)을 구비한다. 처리 하우징(61)은, 반송 스페이스(12)에 인접한다. 처리 하우징(61)은, 예를 들면, 상자 형상을 갖는다. 처리 하우징(61)은, 처리 하우징(61)의 내부에 처리 스페이스(62)를 구획한다. 처리 하우징(61)은, 유지부(25)를 수용한다. 유지부(25)는, 처리 하우징(61)의 내부에 설치된다.

유지부(25)는, 1매의 기판(W)을 수평 자세로 유지한다.

처리 유닛(21)은, 회전 구동부(63)를 구비한다. 회전 구동부(63)는, 처리 하우징(61)의 내부에 설치된다. 회전 구동부(63)는, 유지부(25)에 연결된다. 회전 구동부(63)는, 유지부(25)를 회전시킨다. 예를 들면, 제1 유지부(25A)는 중심(26A) 둘레로 회전하도록 구성된다. 예를 들면, 제2 유지부(25B)는 중심(26B) 둘레로 회전하도록 구성된다. 예를 들면, 제3 유지부(25C)는 중심(26C) 둘레로 회전하도록 구성된다. 예를 들면, 제4 유지부(25D)는 중심(26D) 둘레로 회전하도록 구성된다. 유지부(25)에 유지되는 기판(W)은, 유지부(25)와 일체로 회전한다.

액 공급부(27)는, 토출 조정부(70)와 토출부(77)를 구비한다. 토출 조정부(70)는, 제1 분배부(41) 및 제2 분배부(42)에 연통한다. 예를 들면, 토출 조정부(70)는, 제1 분배부(41) 및 제2 분배부(42)에 접속된다. 토출 조정부(70)는, 처리 하우징(61)의 외부에 배치된다. 토출부(77)는, 처리 하우징(61)의 내부에 배치된다. 토출부(77)는, 토출 조정부(70)에 연통한다. 예를 들면, 토출부(77)는, 토출 조정부(70)에 접속된다. 토출부(77)는, 유지부(25)에 유지되는 기판(W)에 처리액을 토출한다. 토출 조정부(70)는, 토출부(77)에 처리액을 공급하며, 또한, 토출부(77)에 대한 처리액의 공급을 정지한다.

구체적으로는, 토출 조정부(70)는, 제1 토출 조정부(71)와 제2 토출 조정부(72)를 구비한다. 제1 토출 조정부(71)는, 제1 분배부(41)에 연통한다. 예를 들면, 제1 토출 조정부(71)는, 제1 분배부(41)에 접속된다. 제2 토출 조정부(72)는, 제2 분배부(42)에 연통한다. 예를 들면, 제2 토출 조정부(72)는, 제2 분배부(42)에 접속된다.

제1 토출 조정부(71)는, 배관(73)과 밸브(74)를 구비한다. 배관(73)은 접속 박스(46)까지 연장된다. 배관(73)은, 이음(47)을 통해, 제1 분배부(41)에 연통한다. 예를 들면, 배관(73)은, 이음(47)을 통해, 제1 분배부(41)에 접속된다. 밸브(74)는, 배관(73)에 설치된다. 마찬가지로, 제2 토출 조정부(72)는, 배관(75)과 밸브(76)를 구비한다. 배관(75)은 접속 박스(46)까지 연장된다. 배관(75)은, 이음(48)을 통해, 제2 분배부(42)에 연통한다. 예를 들면, 배관(75)은, 이음(48)을 통해, 제2 분배부(42)에 접속된다. 밸브(76)는, 배관(75)에 설치된다.

토출부(77)는, 제1 노즐(78)과 제2 노즐(79)을 구비한다. 제1 노즐(78)은, 제1 토출 조정부(71)(구체적으로는, 배관(73))에 연통한다. 예를 들면, 제1 노즐(78)은, 제1 토출 조정부(71)(구체적으로는, 배관(73))에 접속된다. 제2 노즐(79)은, 제2 토출 조정부(72)(구체적으로는, 배관(75))에 연통한다. 예를 들면, 제2 노즐(79)은, 제2 토출 조정부(72)(구체적으로는, 배관(75))에 접속된다. 제1 노즐(78)은, 처리액(구체적으로는 제1 처리액)을 토출한다. 제2 노즐(79)은, 처리액(구체적으로는 제2 처리액)을 토출한다.

또한, 액 공급부(27)는, 처리액을 저류하는 탱크를 구비하지 않는다. 액 공급부(27)는, 처리액을 압송하는 펌프를 구비하지 않는다.

처리 유닛(21)은, 컵(80)을 구비한다. 컵(80)은, 처리 하우징(61)의 내부에 설치된다. 컵(80)은, 대략 통 형상을 갖는다. 컵(80)은, 유지부(25)의 주위에 배치된다. 컵(80)은, 유지부(25)에 유지되는 기판(W)로부터 비산한 처리액을 받는다.

처리 유닛(21)은, 가스 배출부(81)를 구비한다. 가스 배출부(81)는, 처리 하우징(61)의 내부의 가스를 배출한다. 가스 배출부(81)의 적어도 일부는, 처리 하우징(61)의 외부에 배치된다.

가스 배출부(81)는, 전환 기구(82)와 복수(예를 들면, 3개)의 배기관(83, 84, 85)을 구비한다. 전환 기구(82)는, 처리 하우징(61)에 접속된다. 배기관(83~85)은 각각, 전환 기구(82)에 접속된다. 배기관(83)은, 배기관(53)에 접속된다. 배기관(84)은, 배기관(54)에 접속된다. 배기관(85)은, 배기관(55)에 접속된다. 전환 기구(82)는, 처리 하우징(61)을, 배기관(83~85) 중 하나에, 연통시킨다. 전환 기구(82)는, 처리 하우징(61)의 배기로를, 배기관(83~85) 사이에서 전환한다. 구체적으로는, 전환 기구(82)는, 제1 상태와 제2 상태와 제3 상태로 전환한다. 제1 상태에서는, 전환 기구(82)는 처리 하우징(61)을 배기관(83)에 연통시키며, 또한, 처리 하우징(61)을 배기관(84, 85)으로부터 차단한다. 제1 상태에서는, 오로지 배기관(83)이, 처리 하우징(61)으로부터 가스를 배출한다. 즉, 제1 상태에서는, 배기관(84)은 처리 하우징(61)으로부터 가스를 배출하지 않고, 배기관(85)도 처리 하우징(61)으로부터 가스를 배출하지 않는다. 제2 상태에서는, 전환 기구(82)는 처리 하우징(61)을 배기관(84)에 연통시키며, 또한, 처리 하우징(61)을 배기관(83, 85)으로부터 차단한다. 제2 상태에서는, 오로지 배기관(84)이, 처리 하우징(61)으로부터 가스를 배출한다. 제3 상태에서는, 전환 기구(82)는 처리 하우징(61)을 배기관(85)에 연통시키며, 또한, 처리 하우징(61)을 배기관(83, 84)으로부터 차단한다. 제3 상태에서는, 오로지 배기관(85)이, 처리 하우징(61)으로부터 가스를 배출한다.

4. 기판 처리 장치(1)의 동작예

기판 처리 장치(1)의 동작예를 간단하게 설명한다. 이하에서는, 반송 스페이스(12A, 12B)를 구별하지 않는 경우에는, 반송 스페이스(12)라고 부른다. 반송 기구(13A, 13B)를 구별하지 않는 경우에는, 반송 기구(13)라고 부른다. 기판 재치부(16A, 16B)를 구별하지 않는 경우에는, 기판 재치부(16)라고 부른다. 제1~제4 반송구(28A~28D)를 구별하지 않는 경우에는, 반송구(28)라고 부른다.

인덱서부(3)는, 처리 블록(11)에 기판(W)을 공급한다. 구체적으로는, 반송 기구(6)는, 캐리어(C)로부터 기판 재치부(16)에 기판(W)을 반송한다. 예를 들면, 반송 기구(6)는, 기판 재치부(16A, 16B)에 번갈아, 기판(W)을 건네준다.

반송 기구(13)는, 기판 재치부(16)를 통해, 인덱서부(3)로부터 기판(W)을 받는다. 그리고, 반송 기구(13)는, 기판 재치부(16)로부터 1개의 처리 유닛(21)으로 기판(W)을 반송한다. 구체적으로는, 반송 기구(13)는, 전후 방향(X)으로 평행 이동한다. 그리고, 반송 기구(13)는, 유지부(25)에 대향하는 위치에서 멈춘다. 반송 기구(13)는, 반송구(28)를 통해, 기판(W)을 유지부(25)에 건네준다.

처리액(제1 처리액)은, 제1 액 저류부(31)로부터, 제1 분배부(41)를 통해, 처리 유닛(21)(액 공급부(27))에 분배된다. 처리액(제2 처리액)은, 제2 액 저류부(32)로부터, 제2 분배부(42)를 통해, 처리 유닛(21)(액 공급부(27))에 분배된다.

처리 유닛(21)은, 기판(W)을 처리한다. 구체적으로는, 유지부(25)는 기판(W)을 유지한다. 회전 구동부(63)는, 유지부(25)에 유지되는 기판(W)을 회전시킨다. 액 공급부(27)는, 유지부(25)에 유지되는 기판(W)에 처리액을 공급한다. 컵(80)은, 기판(W)으로부터 비산된 처리액을 받는다. 가스 배출부(81)는, 처리 스페이스(62)의 가스를 배출한다.

예를 들면, 제1 토출 조정부(71)는, 제1 노즐(78)에 제1 처리액을 공급한다. 제1 노즐(78)은, 제1 처리액을 기판(W)에 토출한다. 전환 기구(82)는, 처리 하우징(61)의 배기로를, 배기관(83)으로 전환한다. 가스는, 처리 하우징(61)으로부터 배기관(83)으로 흐르고, 배기관(83)으로부터 배기관(53)으로 흐른다. 그 후, 제1 토출 조정부(71)는, 제1 노즐(78)에 대한 제1 처리액의 공급을 정지한다. 제1 노즐(78)은, 제1 처리액의 토출을 정지한다.

계속해서, 제2 토출 조정부(72)는, 제2 노즐(79)에 제2 처리액을 공급한다. 제2 노즐(79)은, 제2 처리액을 기판(W)에 토출한다. 전환 기구(82)는, 처리 하우징(61)의 배기로를, 배기관(84)으로 전환한다. 가스는, 처리 하우징(61)으로부터 배기관(84)으로 흐르고, 배기관(84)으로부터 배기관(54)으로 흐른다. 그 후, 제2 토출 조정부(72)는, 제2 노즐(79)에 대한 제2 처리액의 공급을 정지한다. 제2 노즐(79)은, 제2 처리액의 토출을 정지한다.

처리 유닛(21)이 기판(W)을 처리한 후, 처리 블록(11)은, 처리된 기판(W)을 인덱서부(3)로 되돌린다. 구체적으로는, 반송 기구(13)는, 처리 유닛(21)(유지부(25))로부터 기판 재치부(16)에 기판(W)을 반송한다.

인덱서부(3)는, 처리 블록(11)으로부터 기판(W)을 회수한다. 구체적으로는, 반송 기구(6)는, 기판 재치부(16)로부터 캐리어(C)에 기판(W)을 반송한다.

5. 실시 형태의 효과

기판 처리 장치(1)는, 인덱서부(3)와 처리 블록(11)을 구비한다. 처리 블록(11)은, 인덱서부(3)의 후방에 배치된다. 처리 블록(11)은, 인덱서부(3)에 접속된다. 처리 블록(11)은, 반송 스페이스(12A)와 반송 기구(13A)와 제1 처리 유닛(21A1)과 제2 처리 유닛(21B1)을 구비한다. 반송 스페이스(12A)는, 전후 방향(X)으로 연장된다. 반송 기구(13A)는, 반송 스페이스(12A)에 설치된다. 반송 기구(13A)는, 기판(W)을 반송한다. 제1 처리 유닛(21A1)은, 기판(W)을 처리한다. 제2 처리 유닛(21B1)은, 기판(W)을 처리한다. 제1 처리 유닛(21A1)은, 제1 유지부(25A)와 제1 액 공급부(27A)를 구비한다. 제1 유지부(25A)는, 기판(W)을 유지한다. 제1 액 공급부(27A)는, 제1 유지부(25A)에 유지되는 기판(W)에 처리액을 공급한다. 제2 처리 유닛(21B1)은, 제2 유지부(25B)와 제2 액 공급부(27B)를 구비한다. 제2 유지부(25B)는, 기판(W)을 유지한다. 제2 액 공급부(27B)는, 제2 유지부(25B)에 유지되는 기판(W)에 처리액을 공급한다.

여기서, 제1 처리 유닛(21A1)은, 반송 스페이스(12A)의 우방에 배치된다. 제1 유지부(25A)의 중심(26A)은, 평면에서 봤을 때, 제1 처리 유닛(21A1)의 중심(24A)보다 후방에 위치한다. 제2 처리 유닛(21B1)은, 반송 스페이스(12A)의 좌방에 배치된다. 제2 유지부(25B)의 중심(26B)은, 평면에서 봤을 때, 제2 처리 유닛(21B1)의 중심(24B)보다 전방에 위치한다. 이 때문에, 제1 처리 유닛(21A1)의 구조와 제2 처리 유닛(21B1)의 구조를 용이하게 공통화할 수 있다. 같은 구조를 갖는 2개의 처리 유닛을, 제1 처리 유닛(21A1) 및 제2 처리 유닛(21B1)으로서 채용할 수 있다. 따라서, 제1 처리 유닛(21A1)과 제2 처리 유닛(21B1) 사이에 있어서, 기판(W)에 행하는 처리의 품질이 불균일해지는 것을 용이하게 억제할 수 있다. 즉, 기판(W)에 행하는 처리의 품질은, 제1 처리 유닛(21A1)과 제2 처리 유닛(21B1) 사이에서, 용이하게 균일화된다. 또한, 제1 처리 유닛(21A1)의 부품 및 제2 처리 유닛(21B1)의 부품이, 용이하게 공통화된다.

반송 기구(13A)는, 제1 유지부(25A)와 제2 유지부(25B)에 기판(W)을 반송한다. 반송 기구(13A)는, 전후 방향(X)으로 평행 이동 가능하게 구성된다. 이 때문에, 반송 기구(13A)는, 제1 유지부(25A)와 제2 유지부(25B)에 기판(W)을 적합하게 반송할 수 있다.

제2 처리 유닛(21B1)의 전단(22B)은, 제1 처리 유닛(21A1)의 전단(22A)보다 후방에 배치된다. 즉, 제2 처리 유닛(21B1)은, 제1 처리 유닛(21A1)에 대해, 후방으로 시프트된다. 제2 처리 유닛(21B1)의 전단(22B)은, 제1 처리 유닛(21A1)의 후단(23A)보다 전방에 배치된다. 이 때문에, 제2 유지부(25B)는 극단적으로 후방에 배치되지 않는다. 전후 방향(X)에 있어서의 제1 유지부(25A)와 제2 유지부(25B) 사이의 거리는 과도하게 길지 않다. 따라서, 전후 방향(X)에 있어서의 반송 기구(13A)의 이동 거리는 적합하게 저감된다. 구체적으로는, 거리(L)는 비교적 짧다.

도 1, 10을 참조한다. 도 10은, 비교예에 따른 기판 처리 장치(201)의 평면도이다. 도 10은, 거리(M)를 나타낸다. 거리(M)는, 유지부(208B)와 유지부(208C)의 전후 방향(X)에 있어서의 거리이다. 기판 처리 장치(1)에 있어서의 거리(L)는, 기판 처리 장치(201)에 있어서의 거리(M)보다 짧다. 전후 방향(X)에 있어서의 제1 유지부(25A)와 제2 유지부(25B) 사이의 거리는, 전후 방향(X)에 있어서의 유지부(208A)와 유지부(208B) 사이의 거리보다 짧다. 따라서, 반송 기구(13A)는, 제1 유지부(25A) 및 제2 유지부(25B)에 효율적으로 기판(W)을 반송할 수 있다. 그 결과, 제1 처리 유닛(21A1)과 제2 처리 유닛(21B1)은 각각, 기판(W)을 효율적으로 처리할 수 있다. 기판 처리 장치(1)의 스루풋은 적합하게 향상된다.

처리 블록(11)은, 제1 액 저류부(31)를 구비한다. 제1 액 저류부(31)는, 제1 처리 유닛(21A1) 및 제2 처리 유닛(21B1)에 분배되는 처리액을 저류한다. 제1 액 저류부(31)는, 반송 스페이스(12A)의 좌방에 배치된다. 제1 액 저류부(31)는, 제2 처리 유닛(21B1)의 전방에 인접된다. 이와 같이, 제2 처리 유닛(21B1)의 전방의 스페이스는, 유효하게 이용된다. 이 때문에, 전후 방향(X)에 있어서의 기판 처리 장치(1)의 길이가 증대하는 것을 억제할 수 있다. 기판 처리 장치(1)의 풋프린트는 과도하게 증대하지 않는다.

이상과 같이, 실시 형태에 따른 기판 처리 장치(1)에 의하면, 제1 처리 유닛(21A1)의 구조와 제2 처리 유닛(21B1)의 구조를 용이하게 공통화할 수 있다. 그 결과, 제1 처리 유닛(21A1)에 있어서의 처리 품질과 제2 처리 유닛(21B1)에 있어서의 처리 품질을 용이하게 균일화할 수 있다. 또한, 반송 기구(13A)는, 제1 처리 유닛(21A1)과 제2 처리 유닛(21B1)에 효율적으로 기판(W)을 반송할 수 있다. 그 결과, 기판 처리 장치(1)의 스루풋을 적합하게 향상시킬 수 있다. 또한, 기판 처리 장치(1)의 풋프린트가 증대하는 것을 억제할 수 있다.

제2 유지부(25B)의 중심(26B)은, 제1 유지부(25A)의 중심(26A)보다 전방에 배치된다. 이 때문에, 제2 처리 유닛(21B1)은, 제1 처리 유닛(21A1)에 대해, 후방으로 과도하게 시프트하지 않는다. 따라서, 전후 방향(X)에 있어서의 기판 처리 장치(1)의 길이가 증대하는 것을 억제할 수 있다.

제1 액 저류부(31)는, 전단(31f)을 갖는다. 전후 방향(X)에 있어서, 전단(31f)은, 제1 처리 유닛(21A1)의 전단(22A)과 동등한 위치에 배치된다. 이 때문에, 전후 방향(X)에 있어서의 기판 처리 장치(1)의 길이가 증대하는 것을 억제할 수 있다.

제1 처리 유닛(21A1)은, 인덱서부(3)의 후방에 인접된다. 제1 액 저류부(31)는, 인덱서부(3)의 후방에 인접된다. 이 때문에, 전후 방향(X)에 있어서의 처리 블록(11)의 길이가 증대하는 것을 억제할 수 있다.

제2 처리 유닛(21B1)은, 제1 처리 유닛(21A1)이 연직축 둘레로 180도 회전된 것과 같은 구조를 갖는다. 이 때문에, 제1 처리 유닛(21A1)에 있어서의 처리 품질과 제2 처리 유닛(21B1)에 있어서의 처리 품질이 용이하게 균일화된다.

기판 처리 장치(1)는, 기판 재치부(16A)를 구비한다. 기판 재치부(16A)는, 인덱서부(3)와 반송 기구(13A) 사이에서 반송되는 기판(W)을 재치한다. 이 때문에, 반송 기구(13A)는, 인덱서부(3)로부터 기판(W)을 용이하게 받을 수 있다. 반송 기구(13A)는, 인덱서부(3)에 기판(W)을 용이하게 건네줄 수 있다.

기판 재치부(16A)의 적어도 일부는, 반송 스페이스(12A)에 설치된다. 이 때문에, 반송 기구(13A)의 가동역은, 기판 재치부(16A)의 후방으로 한정된다. 이 경우에도, 반송 기구(13A)는, 제2 유지부(26B)에 기판(W)을 용이하게 반송할 수 있다. 구체적으로는, 반송 기구(13A)가 제2 유지부(26B)에 기판(W)을 반송할 때, 반송 기구(13A)는 기판 재치부(16A)와 간섭할 우려가 없다. 제2 처리 유닛(21B1)이, 제1 처리 유닛(21A1)에 대해, 후방으로 시프트되기 때문이다.

기판 재치부(16A)는, 제1 처리 유닛(21A1)과 제1 액 저류부(31) 사이에 배치된다. 바꾸어 말하면, 제1 처리 유닛(21A1)과 기판 재치부(16A)와 제1 액 저류부(31)는, 폭방향(Y)으로 이 순서로 늘어선다. 이 때문에, 반송 기구(13A)가 제2 유지부(26B)에 기판(W)을 반송하는 것을, 기판 재치부(16A)는 방해하지 않는다.

기판 처리 장치(1)는, 제3 처리 유닛(21C1)과 제4 처리 유닛(21D1)을 구비한다. 제3 처리 유닛(21C1)은, 제1 처리 유닛(21A1)의 후방에 인접된다. 제3 처리 유닛(21C1)은, 기판(W)을 처리한다. 제4 처리 유닛(21D1)은, 제2 처리 유닛(21B1)의 후방에 인접된다. 제4 처리 유닛(21D1)은, 기판(W)을 처리한다. 제3 처리 유닛(21C1)은, 제3 유지부(25C)와 제3 액 공급부(27C)를 구비한다. 제3 유지부(25C)는, 기판(W)을 유지한다. 제3 액 공급부(27C)는, 제3 유지부(25C)에 유지되는 기판(W)에 처리액을 공급한다. 제4 처리 유닛(21D1)은, 제4 유지부(25D)와 제4 액 공급부(27D)를 구비한다. 제4 유지부(25D)는, 기판(W)을 유지한다. 제4 액 공급부(27D)는, 제4 유지부(25D)에 유지되는 기판(W)에 처리액을 공급한다. 반송 기구(13A)는, 제3 유지부(25C)와 제4 유지부(25D)에 기판(W)을 반송한다. 제1 액 저류부(31)는, 제3 처리 유닛(21C1)과 제4 처리 유닛(21D1)에 분배되는 처리액을 저류한다. 여기서, 제3 처리 유닛(21C1)은, 반송 스페이스(12A)의 우방에 배치된다. 제3 처리 유닛(21C1)은, 평면에서 봤을 때, 중심(24C)을 갖는다. 제3 유지부(25C)는, 평면에서 봤을 때, 중심(26C)을 갖는다. 중심(26C)은, 평면에서 봤을 때, 중심(24C)보다 후방에 위치한다. 제4 처리 유닛(21D1)은, 반송 스페이스(12A)의 좌방에 배치된다. 제4 처리 유닛(21D1)은, 평면에서 봤을 때, 중심(24D)을 갖는다. 제4 유지부(25D)는, 평면에서 봤을 때, 중심(26D)을 갖는다. 중심(26D)은, 평면에서 봤을 때, 중심(24D)보다 전방에 위치한다. 이 때문에, 제1 처리 유닛(21A1)의 구조와 제3 처리 유닛(21C1)의 구조를 용이하게 공통화할 수 있다. 제1 처리 유닛(21A1)의 구조와 제4 처리 유닛(21D1)의 구조를 용이하게 공통화할 수 있다. 같은 구조를 갖는 4개의 처리 유닛을, 제1~제4 처리 유닛(21A1~21D1)으로서 채용할 수 있다. 따라서, 제1~제4 처리 유닛(21A1~21D1) 사이에 있어서, 기판(W)에 행하는 처리의 품질이 불균일해지는 것을 용이하게 억제할 수 있다. 또한, 제1~제4 처리 유닛(21A1~21D1) 사이에서, 부품이 용이하게 공통화된다.

제4 처리 유닛(21D1)의 전단(22D)은, 제3 처리 유닛(21C1)의 전단(22C)보다 후방에 배치된다. 즉, 제4 처리 유닛(21D1)은, 제3 처리 유닛(21C1)에 대해, 후방으로 시프트된다. 제4 처리 유닛(21D1)의 전단(22D)은, 제3 처리 유닛(21C1)의 후단(23C)보다 전방에 배치된다. 이 때문에, 제4 유지부(25D)는 극단적으로 후방에 배치되지 않는다. 전후 방향(X)에 있어서의 제3 유지부(25C)와 제4 유지부(25D) 사이의 거리는 과도하게 길지 않다. 또한, 제3 처리 유닛(21C1)은, 제1 처리 유닛(21A1)의 후방에 인접된다. 제4 처리 유닛(21D1)은, 제2 처리 유닛(21B1)의 후방에 인접된다. 따라서, 전후 방향(X)에 있어서의 반송 기구(13A)의 이동 거리는 적합하게 저감된다. 구체적으로는, 거리(L)는 적합하게 저감된다. 따라서, 반송 기구(13A)는, 제1~제4 유지부(25A~25D)에 효율적으로 기판(W)을 반송할 수 있다. 그 결과, 제1~제4 처리 유닛(21A1~21D1)은 각각, 기판(W)을 효율적으로 처리할 수 있다.

제3 처리 유닛(21C1)은, 제1 처리 유닛(21A1)과 같은 구조를 갖는다. 제4 처리 유닛(21D1)은, 제1 처리 유닛(21A1)이 연직축 둘레로 180도 회전된 것과 같은 구조를 갖는다. 이 때문에, 제1~제4 처리 유닛(21A1~21D1) 사이에 있어서, 기판(W)에 행해지는 처리의 품질은 용이하게 균일화된다.

기판 처리 장치(1)는, 제2 액 저류부(32)를 구비한다. 제2 액 저류부(32)는, 제1 처리 유닛(21A1), 제2 처리 유닛(21B1), 제3 처리 유닛(21C1) 및 제4 처리 유닛(21D1)에 분배되는 처리액을 저류한다. 제2 액 저류부(32)는, 반송 스페이스(12A)의 우방에 배치된다. 제2 액 저류부(32)는, 제3 처리 유닛(21C1)의 후방에 인접된다. 이와 같이, 제3 처리 유닛(21C1)의 후방의 스페이스는, 유효하게 이용된다. 이 때문에, 전후 방향(X)에 있어서의 기판 처리 장치(1)의 길이가 증대하는 것을 억제할 수 있다.

전후 방향(X)에 있어서, 제2 액 저류부(32)의 후단(32r)은, 제4 처리 유닛(21D1)의 후단(23D)과 동등한 위치에 배치된다. 이 때문에, 전후 방향(X)에 있어서의 기판 처리 장치(1)의 길이가 증대하는 것을 억제할 수 있다.

제2 액 저류부(32)에 저류되는 처리액은, 제1 액 저류부(31)에 저류되는 처리액과는 상이한 종류이다. 이 때문에, 제1~제4 처리 유닛(21A1~21D1)은 각각, 2종류의 처리액을 기판(W)에 공급할 수 있다.

기판 처리 장치(1)는, 상부 스페이스(39)와 제1 분배부(41)와 제2 분배부(42)를 구비한다. 상부 스페이스(39)는, 반송 스페이스(12A1), 제1 처리 유닛(21A1), 제2 처리 유닛(21B1), 제3 처리 유닛(21C1), 제4 처리 유닛(21D1), 제1 액 저류부(31) 및 제2 액 저류부(32)의 상방에 형성된다. 제1 분배부(41)는, 제1 액 저류부(31)로부터, 제1 처리 유닛(21A1), 제2 처리 유닛(21B1), 제3 처리 유닛(21C1) 및 제4 처리 유닛(21D1)에 처리액을 분배한다. 제2 분배부(42)는, 제2 액 저류부(32)로부터, 제1 처리 유닛(21A1), 제2 처리 유닛(21B1), 제3 처리 유닛(21C1) 및 제4 처리 유닛(21D1)에 처리액을 분배한다. 여기서, 제1 분배부(41)는, 상부 스페이스(39)에 설치된다. 제2 분배부(42)는, 상부 스페이스(39)에 설치된다. 이 때문에, 기판 처리 장치(1)의 풋프린트가 증대하는 것을 적합하게 억제할 수 있다.

제2 분배부(42)는, 평면에서 봤을 때, 제1 분배부(41)가 180도 회전된 것과 같다. 이 때문에, 제1 분배부(41)의 유로 길이와 제2 분배부(42)의 유로 길이는, 용이하게 균일화된다.

기판 처리 장치(1)는, 제1 접속 박스(46A)와 제2 접속 박스(46B)와 제3 접속 박스(46C)와 제4 접속 박스(46D)를 구비한다. 제1 접속 박스(46A)는, 제1 처리 유닛(21A1)의 상방에 배치된다. 제2 접속 박스(46B)는, 제2 처리 유닛(21B1)의 상방에 배치된다. 제3 접속 박스(46C)는, 제3 처리 유닛(21C1)의 상방에 배치된다. 제4 접속 박스(46D)는, 제4 처리 유닛(21D1)의 상방에 배치된다. 제1 분배부(41)는, 제1 액 저류부(31)로부터, 제1 접속 박스(46A), 제2 접속 박스(46B), 제3 접속 박스(46C) 및 제4 접속 박스(46D)까지 연장된다. 제2 분배부(42)는, 제2 액 저류부(32)로부터, 제1 접속 박스(46A), 제2 접속 박스(46B), 제3 접속 박스(46C) 및 제4 접속 박스(46D)까지 연장된다. 이와 같이, 제1 분배부(41)와 제2 분배부(42)는 모두, 제1 접속 박스(46A)까지 연장된다. 마찬가지로, 제1 분배부(41)와 제2 분배부(42)는 모두, 제2~제4 접속 박스(46B~46D)까지 연장된다. 따라서, 제1 분배부(41)의 유로 길이와 제2 분배부(42)의 유로 길이는 용이하게 균일화된다.

전후 방향(X)에 있어서, 제1 접속 박스(46A)는, 제1 유지부(25A)보다 전방에 배치된다. 전후 방향(X)에 있어서, 제2 접속 박스(46B)는, 제2 유지부(25B)보다 후방에 배치된다. 전후 방향(X)에 있어서, 제3 접속 박스(46C)는, 제3 유지부(25C)보다 전방에 배치된다. 전후 방향(X)에 있어서, 제4 접속 박스(46D)는, 제4 유지부(25D)보다 후방에 배치된다. 이 때문에, 제1 액 저류부(31)로부터 제1 접속 박스(46A)까지의 유로 길이와 제1 액 저류부(31)로부터 제2 접속 박스(46B)까지의 유로 길이 사이의 차를, 적합하게 저감할 수 있다. 구체적으로는, 제1 배관(43A)의 길이와 제2 배관(43B)의 길이 사이의 차를, 적합하게 저감할 수 있다. 마찬가지로, 제1 액 저류부(31)로부터 제3 접속 박스(46C)까지의 유로 길이와 제1 액 저류부(31)로부터 제4 접속 박스(46D)까지의 유로 길이 사이의 차를, 적합하게 저감할 수 있다. 구체적으로는, 제3 배관(43C)의 길이와 제4 배관(43D)의 길이 사이의 차를, 적합하게 저감할 수 있다. 제2 액 저류부(32)로부터 제1 접속 박스(46A)까지의 유로 길이와 제2 액 저류부(32)로부터 제2 접속 박스(46B)까지의 유로 길이 사이의 차를, 적합하게 저감할 수 있다. 구체적으로는, 제5 배관(44A)의 길이와 제6 배관(44B)의 길이 사이의 차를, 적합하게 저감할 수 있다. 제2 액 저류부(32)로부터 제3 접속 박스(46C)까지의 유로 길이와 제2 액 저류부(32)로부터 제4 접속 박스(46D)까지의 유로 길이 사이의 차를, 적합하게 저감할 수 있다. 구체적으로는, 제7 배관(44C)의 길이와 제8 배관(44D)의 길이 사이의 차를 적합하게 저감할 수 있다.

기판 처리 장치(1)는, 제1 이음(47A)과 제2 이음(47B)과 제3 이음(47C)과 제4 이음(47D)을 구비한다. 제1 이음(47A)은, 제1 접속 박스(46A)에 수용된다. 제1 이음(47A)은, 제1 분배부(41)와 제1 액 공급부(27A)를 접속한다. 제2 이음(47B)은, 제2 접속 박스(46B)에 수용된다. 제2 이음(47B)은, 제1 분배부(41)와 제2 액 공급부(27B)를 접속한다. 제3 이음(47C)은, 제3 접속 박스(46C)에 수용된다. 제3 이음(47C)은, 제1 분배부(41)와 제3 액 공급부(27C)를 접속한다. 제4 이음(47D)은, 제4 접속 박스(46D)에 수용된다. 제4 이음(47D)은, 제1 분배부(41)와 제4 액 공급부(27D)를 접속한다. 이 때문에, 제1~제4 접속 박스(46A~46D) 내에 있어서, 제1 분배부(41)와 제1~제4 액 공급부(27A~27D)를, 적합하게 착탈할 수 있다. 예를 들면, 제1 접속 박스(46A) 내에 있어서, 제1 분배부(41)와 제1 액 공급부(27A)를, 적합하게 착탈할 수 있다.

기판 처리 장치(1)는, 제5 이음(48A)과 제6 이음(48B)과 제7 이음(48C)과 제8 이음(48D)을 구비한다. 제5 이음(48A)은, 제1 접속 박스(46A)에 수용된다. 제5 이음(48A)은, 제2 분배부(42)와 제1 액 공급부(27A)를 접속한다. 제6 이음(48B)은, 제2 접속 박스(46B)에 수용된다. 제6 이음(48B)은, 제2 분배부(42)와 제2 액 공급부(27B)를 접속한다. 제7 이음(48C)은, 제3 접속 박스(46C)에 수용된다. 제7 이음(48C)은, 제2 분배부(42)와 제3 액 공급부(27C)를 접속한다. 제8 이음(48D)은, 제4 접속 박스(46D)에 수용된다. 제8 이음(48D)은, 제2 분배부(42)와 제4 액 공급부(27D)를 접속한다. 이 때문에, 제1~제4 접속 박스(46A~46D) 내에 있어서, 제2 분배부(42)와 제1~제4 액 공급부(27A~27D)를, 적합하게 착탈할 수 있다.

기판 처리 장치(1)는, 발판(57)을 구비한다. 발판(57)은, 상부 스페이스(39)에 설치된다. 발판(57)은, 대략 평탄하다. 이 때문에, 기판 처리 장치(1)의 유저는, 발판(57)에 오를 수 있다. 따라서, 유저는, 예를 들면, 발판(57) 상에서 메인터넌스 작업을 행할 수 있다.

발판(57)은, 제1 접속 박스(46A)의 근방에 배치된다. 이 때문에, 유저는, 제1 접속 박스(46A)에 용이하게 액세스할 수 있다. 따라서, 유저는, 제1 분배부(41)와 제1 액 공급부(27A)를 착탈하는 작업을, 발판(57) 상에서 행할 수 있다. 유저는, 제2 분배부(42)와 제1 액 공급부(27A)를 착탈하는 작업을, 발판(57) 상에서 행할 수 있다. 마찬가지로, 발판(57)은, 제2 접속 박스(46B), 제3 접속 박스(46C) 및 제4 접속 박스(46D)의 근방에 배치된다. 따라서, 유저는, 제1~제2 분배부(41~42)와 제2~제4 액 공급부(27B~27D)를 착탈하는 작업을, 발판(57) 상에서, 행할 수 있다.

발판(57)은, 제2 접속 박스(46B) 및 제3 접속 박스(46C)의 사이를 지나, 제1 접속 박스(46A)로부터 제4 접속 박스(46D)까지 연장된다. 이 때문에, 유저는, 제1~제4 접속 박스(46A~46D)의 사이를, 용이하게 이동할 수 있다.

발판(57)은, 제1 분배부(41)의 적어도 일부의 상방에 배치된다. 이 때문에, 발판(57)은, 제1 분배부(41)를 적합하게 보호한다.

발판(57)은, 제2 분배부(42)의 적어도 일부의 상방에 배치된다. 이 때문에, 발판(57)은, 제2 분배부(42)를 적합하게 보호한다.

본 발명은, 실시 형태에 한정되지 않고, 하기와 같이 변형 실시할 수 있다.

실시 형태에서는, 우방이 본 발명의 제1 측방의 예이며, 좌방이 본 발명의 제2 측방의 예였다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 좌방이 본 발명의 제1 측방의 예이며, 우방이 본 발명의 제2 측방의 예여도 된다. 구체적으로는, 제1 처리 유닛(21A1)이 반송 스페이스(12A)의 좌방에 배치되고, 제2 처리 유닛(21B1) 및 제1 액 저류부(31)가 반송 스페이스(12A)의 우방에 배치되어도 된다.

실시 형태에 있어서, 기판 처리 장치(1)는, 또한, 제1 액 저류부(31) 및 제2 액 저류부(32)에 더하여, 별도의 저류부를 구비해도 된다. 도 9는, 변형 실시 형태에 따른 기판 처리 장치(1)의 우측면도이다. 또한, 실시 형태와 같은 구성에 대해서는 같은 부호를 붙임으로써 상세한 설명을 생략한다. 도 9는, 편의상, 제1 분배부(41) 및 제2 분배부(42)의 도시를 생략한다.

변형 실시 형태에 따른 기판 처리 장치(1)는, 제3 액 저류부(91)를 구비한다. 제3 액 저류부(91)는, 인덱서부(3)에 배치된다. 제3 액 저류부(91)는, 제1~제4 처리 유닛(21A~21D)에 분배되는 처리액을 저류한다.

제3 액 저류부(91)에 저류되는 처리액은, 제1 액 저류부(31)에 저류되는 처리액과는 상이한 종류이다. 제3 액 저류부(91)에 저류되는 처리액은, 제2 액 저류부(32)에 저류되는 처리액과는 상이한 종류이다. 제3 액 저류부(91)에 저류되는 처리액은, 제1 액 저류부(31)에 저류되는 처리액과는 조성이 상이하다. 제3 액 저류부(91)에 저류되는 처리액은, 제2 액 저류부(32)에 저류되는 처리액과는 조성이 상이하다.

제3 액 저류부(91)에 저류되는 처리액은, 제3 처리액이다. 제3 처리액은, 예를 들면, 알칼리액(알칼리계 약액)으로 분류된다. 제3 처리액은, 예를 들면, 암모니아과산화수소수(SC1), 암모니아수, 불화암모늄 용액, 및, 수산화테트라메틸암모늄(TMAH) 중 적어도 1개를 포함한다.

제3 액 저류부(91)는, 탱크(92)와 펌프(93)와 캐비넷(94)을 구비한다. 탱크(92)는, 처리액(구체적으로는, 제3 처리액)을 저류한다. 펌프(93)는, 탱크(92)에 연통한다. 예를 들면, 펌프(93)는, 탱크(92)에 접속되어 있다. 캐비넷(94)은, 탱크(92)와 펌프(93)를 수용한다.

기판 처리 장치(1)는, 제3 분배부(95)를 구비한다. 제3 분배부(95)는, 제3 액 저류부(91)로부터, 제1~제4 처리 유닛(21A~21D)에 처리액을 분배한다.

구체적으로는, 제3 분배부(95)는 펌프(93)에 연통한다. 예를 들면, 제3 분배부(95)는 펌프(93)에 접속된다. 제3 분배부(95)는, 인덱서부(3)의 저부로부터, 처리 블록(11)의 저부까지 연장된다. 제3 분배부(95)는, 예를 들면, 지하 피트(도시하지 않음)에 설치된다. 지하 피트는, 인덱서부(3) 및 처리 블록(11)이 설치되는 바닥면(FL)의 하방에 형성된다. 제3 분배부(95)는, 이음(96)을 통해, 제1~제4 액 공급부(27A~27D)에 접속된다.

변형 실시 형태에 따른 기판 처리 장치(1)는, 제4 액 저류부(101)를 구비한다. 제4 액 저류부(101)는, 인덱서부(3) 및 처리 블록(11)의 외부에 설치된다. 예를 들면, 제4 액 저류부(101)는, 지하 피트에 설치된다. 제4 액 저류부(101)는, 제1~제4 처리 유닛(21A~21D)에 분배되는 처리액을 저류한다.

제4 액 저류부(101)에 저류되는 처리액은, 제1 액 저류부(31)에 저류되는 처리액과는 상이한 종류이다. 제4 액 저류부(101)에 저류되는 처리액은, 제2 액 저류부(32)에 저류되는 처리액과는 상이한 종류이다. 제4 액 저류부(101)에 저류되는 처리액은, 제3 액 저류부(91)에 저류되는 처리액과는 상이한 종류이다. 제4 액 저류부(101)에 저류되는 처리액은, 제1 액 저류부(31)에 저류되는 처리액과는 조성이 상이하다. 제4 액 저류부(101)에 저류되는 처리액은, 제2 액 저류부(32)에 저류되는 처리액과는 조성이 상이하다. 제4 액 저류부(101)에 저류되는 처리액은, 제3 액 저류부(91)에 저류되는 처리액과는 조성이 상이하다.

제4 액 저류부(101)에 저류되는 처리액은, 제4 처리액이다. 제4 처리액은, 예를 들면, 세정액으로 분류된다. 제4 처리액은, 예를 들면, 순수이다.

제4 액 저류부(101)는, 탱크(102)와 펌프(103)와 캐비넷(104)을 구비한다. 탱크(102)는, 처리액(구체적으로는, 제4 처리액)을 저류한다. 펌프(103)는, 탱크(102)에 연통한다. 예를 들면, 펌프(103)는, 탱크(102)에 접속되어 있다. 캐비넷(104)은, 탱크(102)와 펌프(103)를 수용한다.

기판 처리 장치(1)는, 제4 분배부(105)를 구비한다. 제4 분배부(105)는, 제4 액 저류부(101)로부터, 제1~제4 처리 유닛(21A~21D)에 처리액을 분배한다.

구체적으로는, 제4 분배부(105)는 펌프(103)에 연통한다. 예를 들면, 제4 분배부(105)는 펌프(103)에 접속된다. 제4 분배부(105)는, 제4 액 저류부(101)로부터, 처리 블록(11)의 저부까지 연장된다. 제4 분배부(105)는, 예를 들면, 지하 피트에 설치된다. 제4 분배부(105)는, 이음(106)을 통해, 제1~제4 액 공급부(27A~27D)에 접속된다.

기판 처리 장치(1)는, 복귀부(107)를 구비한다. 복귀부(107)는, 제1~제4 처리 유닛(21A~21D)으로부터, 제4 액 저류부(101)에 처리액을 되돌린다.

구체적으로는, 복귀부(107)는, 제1~제4 액 공급부(27A~27D)에 연통한다. 예를 들면, 복귀부(107)는, 제1~제4 액 공급부(27A~27D)에 접속된다. 복귀부(107)는, 제1~제4 접속 박스(46A~46D)에 있어서, 제1~제4 액 공급부(27A~27D)에 접속된다. 복귀부(107)는, 이음(108)을 통해, 제1~제4 액 공급부(27A~27D)에 접속된다. 복귀부(107)는, 상부 스페이스(39)에 설치된다. 복귀부(107)는, 제1~제4 접속 박스(46A~46D)로부터 후방으로 연장된다.

처리 블록(11)은, 인터페이스부(111)를 구비한다. 인터페이스부(111)는, 처리 블록(11)의 후부에 위치한다. 인터페이스부(111)는, 반송 스페이스(12), 처리 유닛(21), 제1 액 저류부(31) 및 제2 액 저류부(32)의 후방에 배치된다. 인터페이스부(111)는, 연직 방향(Z)으로 연장된다. 인터페이스부(111)는, 상부 스페이스(39)로부터 처리 블록(11)의 저부까지 연장된다.

복귀부(107)는, 상부 스페이스(39)로부터 인터페이스부(111)로 들어간다. 복귀부(107)는, 인터페이스부(111)의 내부를 하방으로 연장된다. 복귀부(107)는, 인터페이스부(111)의 저부를 통해, 인터페이스부(111)의 외부(예를 들면, 지하 피트)로 나온다. 그리고, 복귀부(107)는, 제4 저류부(101)로 들어간다. 복귀부(107)는, 탱크(102)에 연통한다. 예를 들면, 복귀부(107)는, 탱크(102)에 접속된다.

또한, 처리 블록(11)은, 또한, 배전부(도시하지 않음)를 구비해도 된다. 배전부는, 예를 들면, 처리 블록(11)의 후부에 배치된다. 배전부는, 예를 들면, 인터페이스부(111)의 근처에 배치된다. 배전부는, 기판 처리 장치(1)의 전원을 관리한다. 배전부는, 예를 들면, 1개 이상의 개폐기를 포함한다. 개폐기는, 기판 처리 장치(1)가 갖는 전기 기기에 전력을 투입·차단한다.

실시 형태에서는, 제1 액 저류부(31)는 제1 처리액을 저류했다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 제1 액 저류부(31)는 제2 처리액, 제3 처리액 및 제4 처리액 중 어느 쪽을 저류해도 된다. 마찬가지로, 실시 형태에서는, 제2 액 저류부(32)는 제2 처리액을 저류했다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 제2 액 저류부(32)는 제1 처리액, 제3 처리액 및 제4 처리액 중 어느 쪽을 저류해도 된다.

실시 형태에 있어서, 기판 재치부(16A)의 일부는, 인덱서부(3)에 배치되어도 된다.

실시 형태에 있어서, 발판(57)은, 제1 분배부(41) 전부의 상방에 배치되어도 된다. 발판(57)은, 제2 분배부(42) 전부의 상방에 배치되어도 된다. 발판(57)은, 배기관(53~55) 전부의 상방에 배치되어도 된다.

실시 형태에서는, 발판(57)은, 제1~제4 접속 박스(46A~46D)의 상방에 배치되지 않는다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 발판(57)은, 제1~제4 접속 박스(46A~46D)의 적어도 일부의 상방에 배치되어도 된다. 예를 들면, 발판(57)은, 제1~제4 접속 박스(46A~46D) 전부의 상방에 배치되어도 된다. 발판(57)은, 제1 접속 박스(46A)의 상방을 개폐하는 패널(도시하지 않음)을 가져도 된다. 패널이 열릴 때, 유저는, 제1 접속 박스(46A)에 용이하게 액세스할 수 있다. 패널이 닫힐 때, 패널은 제1 접속 박스(46A)를 보호한다. 마찬가지로, 발판(57)은, 제2~제4 접속 박스(46B~46D)의 상방을 개폐하는 패널(도시하지 않음)을 가져도 된다.

실시 형태에서는, 처리 블록(11)이 갖는 반송 스페이스(12)의 수는, 2개였다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 처리 블록(11)이 갖는 반송 스페이스(12)의 수는, 1개여도 되고, 또, 2개보다 많아도 된다.

실시 형태에서는, 처리 블록(11)이 갖는 반송 기구(13)의 수는, 2개였다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 처리 블록(11)이 갖는 반송 기구(13)의 수는, 1개여도 되고, 또, 2개보다 많아도 된다.

실시 형태에서는, 기판 처리 장치(1)는, 제3 처리 유닛(21C1)과 제4 처리 유닛(21D1)을 구비했다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 예를 들면, 제3 처리 유닛(21C1)과 제4 처리 유닛(21D1)을 생략해도 된다.

실시 형태에서는, 반송 스페이스(12A)의 우방에 있어서 전후 방향(X)으로 늘어선 처리 유닛(21)의 수는, 2개였다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 반송 스페이스(12A)의 우방에 있어서 전후 방향(X)으로 늘어선 처리 유닛(21)의 수는, 1개여도 되고, 또, 2개보다 많아도 된다. 마찬가지로, 반송 스페이스(12A)의 좌방에 있어서 전후 방향(X)으로 늘어선 처리 유닛(21)의 수는, 1개여도 되고, 또, 2개보다 많아도 된다.

실시 형태에서는, 제1 처리 유닛(21A)의 수는, 6개였다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 제1 처리 유닛(21A)의 수는, 1개 이상 6개 미만, 또는, 6개보다 많아도 된다.

실시 형태에서는, 연직 방향(Z)으로 늘어선 처리 유닛(21)의 수는, 6개였다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 연직 방향(Z)으로 늘어선 처리 유닛(21)의 수는, 1개 이상 6개 미만, 또는, 6개보다 많아도 된다.

실시 형태 및 각 변형 실시 형태에 대해서는, 또한 각 구성을 다른 변형 실시 형태의 구성으로 치환 또는 조합하는 등 적절히 변경해도 좋다.

본 발명은, 그 사상 또는 본질로부터 일탈하지 않고 다른 구체적인 형태로 실시할 수 있으며, 따라서, 발명의 범위를 나타내는 것으로서, 이상의 설명이 아니라, 부가된 클레임을 참조해야 한다.

1: 기판 처리 장치 3: 인덱서부
12A: 반송 스페이스 13A: 반송 기구
16A: 기판 재치부 21A1: 제1 처리 유닛
22A: 제1 처리 유닛의 전단 23A: 제1 처리 유닛의 후단
24A: 평면에서 봤을 때의 제1 처리 유닛의 중심
21B1: 제2 처리 유닛 22B: 제2 처리 유닛의 전단
23B: 제2 처리 유닛의 후단
24B: 평면에서 봤을 때의 제2 처리 유닛의 중심
21C1: 제3 처리 유닛 22C: 제3 처리 유닛의 전단
23C: 제3 처리 유닛의 후단
24C: 평면에서 봤을 때의 제3 처리 유닛의 중심
21D1: 제4 처리 유닛 22D: 제4 처리 유닛의 전단
23D: 제4 처리 유닛의 후단
24D: 평면에서 봤을 때의 제4 처리 유닛의 중심
25A: 제1 유지부
26A: 평면에서 봤을 때의 제1 유지부의 중심
25B: 제2 유지부
26B: 평면에서 봤을 때의 제2 유지부의 중심
25C: 제3 유지부
26C: 평면에서 봤을 때의 제3 유지부의 중심
25D: 제4 유지부
26D: 평면에서 봤을 때의 제4 유지부의 중심
27A: 제1 액 공급부 27B: 제2 액 공급부
27C: 제3 액 공급부 27D: 제4 액 공급부
31: 제1 액 저류부 32: 제2 액 저류부
39: 상부 스페이스 41: 제1 분배부
42: 제2 분배부 46A: 제1 접속 박스
46B: 제2 접속 박스 46C: 제3 접속 박스
46D: 제4 접속 박스 47A: 제1 이음
47B: 제2 이음 47C: 제3 이음
47D: 제4 이음 57: 발판
W: 기판 X: 전후 방향
Y: 폭방향 Z: 연직 방향

Claims

기판 처리 장치로서,
인덱서부와,
상기 인덱서부의 후방에 배치되며, 상기 인덱서부에 접속되는 처리 블록
을 구비하고,
상기 처리 블록은,
전후 방향으로 연장되는 반송 스페이스와,
상기 반송 스페이스에 설치되며, 상기 전후 방향으로 평행 이동 가능하게 구성되어, 기판을 반송하는 반송 기구와,
상기 반송 스페이스의 제1 측방에 배치되어, 기판을 처리하는 제1 처리 유닛과,
상기 반송 스페이스의 제2 측방에 배치되어, 기판을 처리하는 제2 처리 유닛과,
상기 제1 처리 유닛 및 상기 제2 처리 유닛에 분배되는 처리액을 저류하는 제1 액 저류부
를 구비하고,
상기 제1 처리 유닛은,
기판을 유지하는 제1 유지부와,
상기 제1 유지부에 유지되는 기판에 처리액을 공급하는 제1 액 공급부
를 구비하며,
상기 제2 처리 유닛은,
기판을 유지하는 제2 유지부와,
상기 제2 유지부에 유지되는 기판에 처리액을 공급하는 제2 액 공급부
를 구비하고,
상기 반송 기구는, 상기 제1 유지부와 상기 제2 유지부에 기판을 반송하고,
상기 제1 유지부는, 평면에서 봤을 때, 상기 제1 처리 유닛의 중심보다 후방에 위치하는 중심을 갖고,
상기 제2 유지부는, 평면에서 봤을 때, 상기 제2 처리 유닛의 중심보다 전방에 위치하는 중심을 갖고,
상기 제2 처리 유닛의 전단은, 상기 제1 처리 유닛의 전단보다 후방에 배치되며, 또한, 상기 제1 처리 유닛의 후단보다 전방에 배치되고,
상기 제1 액 저류부는, 상기 반송 스페이스의 상기 제2 측방에 배치되며, 상기 제2 처리 유닛의 전방에 인접되는,
기판 처리 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 제2 유지부의 상기 중심은, 상기 제1 유지부의 상기 중심보다 전방에 배치되는, 기판 처리 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 전후 방향에 있어서, 상기 제1 액 저류부의 전단은, 상기 제1 처리 유닛의 상기 전단과 동등한 위치에 배치되는, 기판 처리 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 처리 유닛은, 상기 인덱서부의 후방에 인접되고,
상기 제1 액 저류부는, 상기 인덱서부의 후방에 인접되는, 기판 처리 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 제2 처리 유닛은, 상기 제1 처리 유닛이 연직축 둘레로 180도 회전된 것과 같은 구조를 갖는, 기판 처리 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 인덱서부와 상기 반송 기구 사이에서 반송되는 기판을 재치(載置)하는 기판 재치부를 구비하고,
상기 기판 재치부의 적어도 일부는, 상기 반송 스페이스에 설치되는, 기판 처리 장치.
청구항 6에 있어서,
상기 기판 재치부는, 상기 제1 처리 유닛과 상기 제1 액 저류부 사이에 배치되는, 기판 처리 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 반송 스페이스의 상기 제1 측방에 배치되며, 상기 제1 처리 유닛의 후방에 인접되어, 기판을 처리하는 제3 처리 유닛과,
상기 반송 스페이스의 상기 제2 측방에 배치되며, 상기 제2 처리 유닛의 후방에 인접되어, 기판을 처리하는 제4 처리 유닛
을 구비하고,
상기 제3 처리 유닛은,
기판을 유지하는 제3 유지부와,
상기 제3 유지부에 유지되는 기판에 처리액을 공급하는 제3 액 공급부
를 구비하며,
상기 제4 처리 유닛은,
기판을 유지하는 제4 유지부와,
상기 제4 유지부에 유지되는 기판에 처리액을 공급하는 제4 액 공급부
를 구비하고,
상기 반송 기구는, 상기 제3 유지부와 상기 제4 유지부에 기판을 반송하고,
상기 제1 액 저류부는, 상기 제3 처리 유닛과 상기 제4 처리 유닛에 분배되는 처리액을 저류하고,
상기 제3 유지부는, 평면에서 봤을 때, 상기 제3 처리 유닛의 중심보다 후방에 위치하는 중심을 갖고,
상기 제4 유지부는, 평면에서 봤을 때, 상기 제4 처리 유닛의 중심보다 전방에 위치하는 중심을 갖고,
상기 제4 처리 유닛의 전단은, 상기 제3 처리 유닛의 전단보다 후방에 배치되며, 또한, 상기 제3 처리 유닛의 후단보다 전방에 배치되는, 기판 처리 장치.
청구항 8에 있어서,
상기 제3 처리 유닛은, 상기 제1 처리 유닛과 같은 구조를 갖고,
상기 제4 처리 유닛은, 상기 제1 처리 유닛이 연직축 둘레로 180도 회전된 것과 같은 구조를 갖는, 기판 처리 장치.
청구항 8에 있어서,
상기 제1 처리 유닛, 상기 제2 처리 유닛, 상기 제3 처리 유닛 및 상기 제4 처리 유닛에 분배되는 처리액을 저류하는 제2 액 저류부를 구비하고,
상기 제2 액 저류부는, 상기 반송 스페이스의 상기 제1 측방에 배치되며, 상기 제3 처리 유닛의 후방에 인접되는, 기판 처리 장치.
청구항 10에 있어서,
상기 전후 방향에 있어서, 상기 제2 액 저류부의 후단은, 상기 제4 처리 유닛의 후단과 동등한 위치에 배치되는, 기판 처리 장치.
청구항 10에 있어서,
상기 제2 액 저류부에 저류되는 처리액은, 상기 제1 액 저류부에 저류되는 처리액과는 상이한 종류인, 기판 처리 장치.
청구항 10에 있어서,
상기 반송 스페이스, 상기 제1 처리 유닛, 상기 제2 처리 유닛, 상기 제3 처리 유닛, 상기 제4 처리 유닛, 상기 제1 액 저류부 및 상기 제2 액 저류부의 상방에 형성되는 상부 스페이스와,
상기 상부 스페이스에 설치되며, 상기 제1 액 저류부로부터, 상기 제1 처리 유닛, 상기 제2 처리 유닛, 상기 제3 처리 유닛 및 상기 제4 처리 유닛에 처리액을 분배하는 제1 분배부와,
상기 상부 스페이스에 설치되며, 상기 제2 액 저류부로부터, 상기 제1 처리 유닛, 상기 제2 처리 유닛, 상기 제3 처리 유닛 및 상기 제4 처리 유닛에 처리액을 분배하는 제2 분배부
를 구비하는, 기판 처리 장치.
청구항 13에 있어서,
상기 제2 분배부는, 평면에서 봤을 때, 상기 제1 분배부가 180도 회전된 것과 같은, 기판 처리 장치.
청구항 13에 있어서,
상기 제1 처리 유닛의 상방에 배치되는 제1 접속 박스와,
상기 제2 처리 유닛의 상방에 배치되는 제2 접속 박스와,
상기 제3 처리 유닛의 상방에 배치되는 제3 접속 박스와,
상기 제4 처리 유닛의 상방에 배치되는 제4 접속 박스
를 구비하고,
상기 제1 분배부는, 상기 제1 액 저류부로부터, 상기 제1 접속 박스, 상기 제2 접속 박스, 상기 제3 접속 박스 및 상기 제4 접속 박스까지 연장되고,
상기 제2 분배부는, 상기 제2 액 저류부로부터, 상기 제1 접속 박스, 상기 제2 접속 박스, 상기 제3 접속 박스 및 상기 제4 접속 박스까지 연장되는, 기판 처리 장치.
청구항 15에 있어서,
상기 전후 방향에 있어서, 상기 제1 접속 박스는, 상기 제1 유지부보다 전방에 배치되고,
상기 전후 방향에 있어서, 상기 제2 접속 박스는, 상기 제2 유지부보다 후방에 배치되며,
상기 전후 방향에 있어서, 상기 제3 접속 박스는, 상기 제3 유지부보다 전방에 배치되고,
상기 전후 방향에 있어서, 상기 제4 접속 박스는, 상기 제4 유지부보다 후방에 배치되는, 기판 처리 장치.
청구항 15에 있어서,
상기 제1 접속 박스에 수용되며, 상기 제1 분배부와 상기 제1 액 공급부를 접속하는 제1 이음과,
상기 제2 접속 박스에 수용되며, 상기 제1 분배부와 상기 제2 액 공급부를 접속하는 제2 이음과,
상기 제3 접속 박스에 수용되며, 상기 제1 분배부와 상기 제3 액 공급부를 접속하는 제3 이음과,
상기 제4 접속 박스에 수용되며, 상기 제1 분배부와 상기 제4 액 공급부를 접속하는 제4 이음
을 구비하는, 기판 처리 장치.
청구항 15에 있어서,
상기 상부 스페이스에 설치되며, 대략 평탄한 발판을 구비하는, 기판 처리 장치.
청구항 18에 있어서,
상기 발판은, 상기 제1 접속 박스, 상기 제2 접속 박스, 상기 제3 접속 박스 및 상기 제4 접속 박스의 근방에 배치되는, 기판 처리 장치.
청구항 18에 있어서,
상기 발판은, 상기 제1 분배부의 적어도 일부의 상방에 배치되는, 기판 처리 장치.