JP2022124622A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】処理ユニットの構造を共通化できる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置１では、第１処理ユニット１２Ａは搬送スペース１２Ａの右方に配置される。第１処理ユニット２１Ａ１は第１保持部２５Ａを備える。第２処理ユニット２１Ｂ１は搬送スペース１２Ａの左方に配置される。第２処理ユニット２１Ｂ１は第２保持部２５Ｂを備える。第１保持部２５Ａは平面視で第１処理ユニット２１Ａ１の中心２４Ａよりも後方に位置する中心２６Ａを有する。第２保持部２５Ｂは平面視で第２処理ユニット２１Ｂ１の中心２４Ｂよりも前方に位置する中心２６Ｂを有する。第２処理ユニット２１Ｂ１の前端２２Ｂは、第１処理ユニット２１Ａ１の前端２２Ａよりも後方に配置され、かつ、第１処理ユニット２１Ａ１の後端２３Ａよりも前方に配置される。第１液貯留部３１は、搬送スペース１２Ａの左方に配置され、第２処理ユニット２１Ｂ１の前方に隣接される。【選択図】図１

Description

この発明は、基板に処理を行う基板処理装置に関する。基板は、例えば、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、有機ＥＬ(Electroluminescence)用基板、ＦＰＤ(Flat Panel Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板である。

特許文献１は、基板処理装置を開示する。基板処理装置は、インデクサ部と処理ブロックを備える。処理ブロックは、インデクサ部の後方に配置される。

処理ブロックは、搬送スペースとセンターロボットを備える。搬送スペースは、前後方向に延びる。センターロボットは、搬送スペースの中央部に設けられる。センターロボットは、鉛直軸回りに回転可能である。但し、センターロボットは、前後方向に平行移動不能である。

基板処理装置１は、シャトルユニットを備える。シャトルユニットは、搬送スペースに設けられる。シャトルユニットは、センターロボットの前方に配置される。シャトルユニットは、インデクサ部とセンターロボットの間で搬送される基板を載置する。シャトルユニットは、前後方向に移動可能である。シャトルユニットが後方に移動したとき、センターロボットはシャトルユニットにアクセスできる。

処理ブロックは、第１処理ユニットと第２処理ユニットと第３処理ユニットと第４処理ユニットを有する。第１処理ユニットと第３処理ユニットは、搬送スペースの第１側方に配置される。第３処理ユニットは、第１処理ユニットの後方に配置される。同様に、第２処理ユニットと第４処理ユニットは、搬送スペースの第２側方に配置される。第４処理ユニットは、第２処理ユニットの後方に配置される。

第２処理ユニットは、第１処理ユニットの構造とは左右対称な構造を有する。第４処理ユニットは、第３処理ユニットの構造とは左右対称な構造を有する。このため、センターロボットは、第１処理ユニットと第２処理ユニットと第３処理ユニットと第４処理ユニットにアクセスできる。

基板処理装置１は、液貯留部を備える。液貯留部は、第１－第４処理ユニットに分配される処理液を貯留する。液供給部は、搬送スペースの後方に配置される。液供給部は、第１－第４処理ユニットの後方に配置される。

特開２０１０－２２５９３５号公報

しかしながら、特許文献１に示される基板処理装置は、次のような問題を有する。上述の通り、第２処理ユニットは、第１処理ユニットの構造とは左右対称な構造を有する。このため、第２処理ユニットの構造は、第１処理ユニットの構造と類似するが、第１処理ユニットの構造と等しくない。よって、第１処理ユニットと第２処理ユニットの間で、基板に行う処理の品質がばらつきやすい。さらに、第１処理ユニットと第２処理ユニットを製造するために、多くの種類の部品を使用する。

同様に、第４処理ユニットは、第３処理ユニットの構造とは左右対称な構造を有する。このため、第４処理ユニットの構造は、第３処理ユニットの構造と類似するが、第３処理ユニットの構造と等しくない。よって、第３処理ユニットと第４処理ユニットの間で、基板に行う処理の品質がばらつきやすい。さらに、第３処理ユニットと第４処理ユニットを製造するために、多くの種類の部品を使用する。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、処理ユニットの構造を共通化できる基板処理装置を提供することを目的とする。

本発明者は、上記の課題を解決するために鋭意研究した。そこで、本発明者は、まず、図１０に示す基板処理装置２０１を検討した。基板処理装置２０１は、インデクサ部２０２と処理ブロック２０３を備える。処理ブロック２０３はインデクサ部２０２の後方に配置される。処理ブロック２０３は、搬送スペース２０４と基板載置部２０５と搬送機構２０６と処理ユニット２０７Ａ、２０７Ｂ、２０７Ｃ、２０７Ｄと液貯留部２０９を備える。処理ユニット２０７Ａ－２０７Ｄは、共通の構造を有する。処理ユニット２０７Ａ、２０７Ｃはそれぞれ、搬送スペース２０４の右方に配置される。処理ユニット２０７Ｂ、２０７Ｄはそれぞれ、搬送スペース２０４の左方に配置される。液供給部２０９は、搬送スペース２０４の後方に配置される。液供給部２０９は、処理ユニット２０７Ａ、２０７Ｂ、２０７Ｃ、２０７Ｄの後方に配置される。

処理ユニット２０７Ａ－２０７Ｄはそれぞれ、保持部２０８Ａ－２０８Ｄを備える。搬送機構２０６は、前後方向Ｘに平行移動可能である。搬送機構２０６は、各保持部２０８Ａ－２０８Ｄにアクセスする。

しかしながら、図１０に示す基板処理装置２０１が新たな問題を生じることを、本発明者は知見した。具体的には、新たな問題は、前後方向Ｘにおける搬送機構２０６の移動距離が長いことである。保持部２０８Ｂは、保持部２０８Ａ－２０８Ｄの中で最も前方に位置する。保持部２０８Ｃは、保持部２０８Ａ－２０８Ｄの中で最も後方に位置する。図１０は、距離Ｍを示す。距離Ｍは、保持部２０８Ｂと保持部２０８Ｃの前後方向Ｘにおける距離である。距離Ｍは、搬送機構２０６が第１－第４保持部２０８Ａ－２０８Ｄに基板を搬送するときの前後方向Ｘにおける搬送機構２０６の移動距離に相当する。距離Ｍは、比較的に長い。

さらに、搬送機構２０６が保持部２０８Ｂにアクセスするとき、搬送機構２０６は基板載置部２０５と干渉するおそれがある。

本発明は、これらの検討および知見に基づいて、さらに鋭意検討することによって得られたものであり、次のような構成をとる。すなわち、本発明は、基板処理装置であって、インデクサ部と、前記インデクサ部の後方に配置され、前記インデクサ部に接続される処理ブロックと、を備え、前記処理ブロックは、前後方向に延びる搬送スペースと、前記搬送スペースに設置され、前記前後方向に平行移動可能に構成され、基板を搬送する搬送機構と、前記搬送スペースの第１側方に配置され、基板を処理する第１処理ユニットと、前記搬送スペースの第２側方に配置され、基板を処理する第２処理ユニットと、前記第１処理ユニットおよび前記第２処理ユニットに分配される処理液を貯留する第１液貯留部と、を備え、前記第１処理ユニットは、基板を保持する第１保持部と、前記第１保持部に保持される基板に処理液を供給する第１液供給部と、を備え、前記第２処理ユニットは、基板を保持する第２保持部と、前記第２保持部に保持される基板に処理液を供給する第２液供給部と、を備え、前記搬送機構は、前記第１保持部と前記第２保持部に基板を搬送し、前記第１保持部は、平面視において、前記第１処理ユニットの中心よりも後方に位置する中心を有し、前記第２保持部は、平面視において、前記第２処理ユニットの中心よりも前方に位置する中心を有し、前記第２処理ユニットの前端は、前記第１処理ユニットの前端よりも後方に配置され、かつ、前記第１処理ユニットの後端よりも前方に配置され、前記第１液貯留部は、前記搬送スペースの前記第２側方に配置され、前記第２処理ユニットの前方に隣接される基板処理装置である。

第１処理ユニットは、搬送スペースの第１側方に配置される。第１処理ユニットは、第１保持部を備える。第１保持部の中心は、平面視において、第１処理ユニットの中心よりも後方に位置する。第２処理ユニットは、搬送スペースの第２側方に配置される。第２処理ユニットは、第２保持部を備える。第２保持部の中心は、平面視において、第２処理ユニットの中心よりも前方に位置する。このため、同じ構造を有する２つの処理ユニットを、第１処理ユニットおよび第２処理ユニットとして、採用できる。よって、第１処理ユニットと第２処理ユニットの間において、基板に行う処理の品質がばらつくことを容易に抑制できる。

搬送機構は、第１保持部と第２保持部に基板を搬送する。搬送機構は、前後方向に平行移動可能に構成される。このため、搬送機構は、第１保持部と第２保持部に基板を好適に搬送できる。

第２処理ユニットの前端は、第１処理ユニットの前端よりも後方に配置される。第２処理ユニットの前端は、第１処理ユニットの後端よりも前方に配置される。このように、第２処理ユニットは、第１処理ユニットに対して、後方にシフトされる。このため、第２保持部は極端に前方に配置されない。よって、前後方向における搬送機構の移動距離は好適に低減される。したがって、搬送機構は、第１保持部および第２保持部に効率良く基板を搬送できる。その結果、第１処理ユニットと第２処理ユニットはそれぞれ、基板を効率良く処理できる。

第１液貯留部は、搬送スペースの第２側方に配置される。第１液貯留部は、第２処理ユニットの前方に隣接される。このように、第２処理ユニットの前方のスペースは、有効に利用される。このため、基板処理装置の前後方向の長さが増大することを抑制できる。

以上の通り、本発明に係る基板処理装置によれば、第１処理ユニットの構造と第２処理ユニットの構造を容易に共通化できる。その結果、第１処理ユニットにおける処理品質と第２処理ユニットにおける処理品質を容易に均一化できる。さらに、搬送機構は、第１処理ユニットと第２処理ユニットに効率良く基板を搬送できる。その結果、基板処理装置のスループットを好適に向上できる。さらに、基板処理装置のフットプリントが増大することを抑制できる。

上述した基板処理装置において、前記第２保持部の前記中心は、前記第１保持部の前記中心よりも前方に配置されることが好ましい。第２処理ユニットは、第１処理ユニットに対して、後方に過度にシフトしない。よって、基板処理装置の前後方向の長さが増大することを抑制できる。

上述した基板処理装置において、前記前後方向において、前記第１液貯留部の前端は、前記第１処理ユニットの前記前端と同等の位置に配置されることが好ましい。このため、基板処理装置の前後方向の長さが増大することを抑制できる。

上述した基板処理装置において、前記第１処理ユニットは、前記インデクサ部の後方に隣接され、前記第１液貯留部は、前記インデクサ部の後方に隣接されることが好ましい。処理ブロックの前後方向の長さが増大することを抑制できる。

上述した基板処理装置において、前記第２処理ユニットは、前記第１処理ユニットが鉛直軸回りに１８０度、回転されたものと等しい構造を有することが好ましい。第１処理ユニットと第２処理ユニットの間で、基板処理の品質は容易に均一化される。

上述した基板処理装置において、前記インデクサ部と前記搬送機構との間で搬送される基板を載置する基板載置部と、を備え、前記基板載置部の少なくとも一部は、前記搬送スペースに設置されることが好ましい。基板処理装置は基板載置部を備える。このため、搬送機構は、インデクサ部から基板を容易に受けることができる。搬送機構は、インデクサ部に基板を容易に渡すことができる。基板載置部の少なくとも一部は、搬送スペースに設置される。このため、搬送機構の可動域は、基板載置部の後方に限られる。この場合であっても、搬送機構は、第２保持部に基板を容易に搬送できる。第２処理ユニットは、第１処理ユニットに対して、後方にシフトされるからである。

上述した基板処理装置において、前記基板載置部は、前記第１処理ユニットと前記第１液貯留部の間に配置されることが好ましい。言い換えれば、第１処理ユニットと基板載置部と第１液貯留部は、幅方向にこの順番で並ぶことが好ましい。ここで、幅方向は、前後方向と直交する水平な方向である。搬送機構が第２保持部に基板を搬送することを、基板載置部は妨げない。

上述した基板処理装置において、前記搬送スペースの前記第１側方に配置され、前記第１処理ユニットの後方に隣接され、基板を処理する第３処理ユニットと、前記搬送スペースの前記第２側方に配置され、前記第２処理ユニットの後方に隣接され、基板を処理する第４処理ユニットと、を備え、前記第３処理ユニットは、基板を保持する第３保持部と、前記第３保持部に保持される基板に処理液を供給する第３液供給部と、を備え、前記第４処理ユニットは、基板を保持する第４保持部と、前記第４保持部に保持される基板に処理液を供給する第４液供給部と、を備え、前記搬送機構は、前記第３保持部と前記第４保持部に基板を搬送し、前記第１液貯留部は、前記第３処理ユニットと前記第４処理ユニットに分配される処理液を貯留し、前記第３保持部は、平面視において、前記第３処理ユニットの中心よりも後方に位置する中心を有し、前記第４保持部は、平面視において、前記第４処理ユニットの中心よりも前方に位置する中心を有し、前記第４処理ユニットの前端は、前記第３処理ユニットの前端よりも後方に配置され、かつ、前記第３処理ユニットの後端よりも前方に配置されることが好ましい。

第３処理ユニットは、搬送スペースの第１側方に配置される。第３処理ユニットは、第３保持部を備える。第３保持部の中心は、平面視において、第３処理ユニットの中心よりも後方に位置する。第４処理ユニットは、搬送スペースの第２側方に配置される。第４処理ユニットは、第４保持部を備える。第４保持部の中心は、平面視において、第４処理ユニットの中心よりも前方に位置する。このため、同じ構造を有する４つの処理ユニットを、第１処理ユニット、第２処理ユニット、第３処理ユニットおよび第４処理ユニットとして、採用できる。よって、第１－第４処理ユニットの間において、基板に行う処理の品質がばらつくことを容易に抑制できる。

第４処理ユニットの前端は、第３処理ユニットの前端よりも後方に配置される。第４処理ユニットの前端は、第３処理ユニットの後端よりも前方に配置される。このように、第４処理ユニットは、第３処理ユニットに対して、後方にシフトされる。このため、第３保持部は極端に後方に配置されない。よって、前後方向における搬送機構の移動距離は好適に低減される。したがって、搬送機構は、第１－第４保持部に効率良く基板を搬送できる。その結果、第１－第４処理ユニットはそれぞれ、基板を効率良く処理できる。

上述した基板処理装置において、前記第３処理ユニットは、前記第１処理ユニットと等しい構造を有し、前記第４処理ユニットは、前記第１処理ユニットが鉛直軸回りに１８０度、回転されたものと等しい構造を有することが好ましい。第１－第４処理ユニットの間で、基板処理の品質は容易に均一化される。

上述した基板処理装置において、前記搬送スペースの前記第１側方に配置され、前記第１処理ユニット、前記第２処理ユニット、前記第３処理ユニットおよび前記第４処理ユニットに分配される処理液を貯留する第２液貯留部と、を備え、前記第２液貯留部は、前記搬送スペースの前記第１側方に配置され、前記第３処理ユニットの後方に隣接されることが好ましい。第２液貯留部は、搬送スペースの第１側方に配置される。第２液貯留部は、第３処理ユニットの後方に隣接される。このように、第３処理ユニットの後方のスペースは、有効に利用される。このため、基板処理装置の前後方向の長さが増大することを抑制できる。

上述した基板処理装置において、前記前後方向において、前記第２液貯留部の後端は、前記第４処理ユニットの後端と同等の位置に配置されることが好ましい。基板処理装置の前後方向の長さが増大することを抑制できる。

上述した基板処理装置において、前記第２液貯留部に貯留される処理液は、前記第１液貯留部に貯留される処理液とは異なる種類であることが好ましい。第１－第４処理ユニットはそれぞれ、２種類の処理液を基板に供給できる。

上述した基板処理装置において、前記搬送スペース、前記第１処理ユニット、前記第２処理ユニット、前記第３処理ユニット、前記第４処理ユニット、前記第１液貯留部および前記第２液貯留部の上方に形成される上部スペースと、前記上部スペースに設けられ、前記第１液貯留部から、前記第１処理ユニット、前記第２処理ユニット、前記第３処理ユニットおよび前記第４処理ユニットに処理液を分配する第１分配部と、前記上部スペースに設けられ、前記第２液貯留部から、前記第１処理ユニット、前記第２処理ユニット、前記第３処理ユニットおよび前記第４処理ユニットに処理液を分配する第２分配部と、を備えることが好ましい。第１分配部および第２分配部は上部スペースに設けられる。このため、基板処理装置のフットプリントが増大することを好適に抑制できる。

上述した基板処理装置において、前記第２分配部は、平面視において、前記第１分配部が１８０度、回転されたものと等しいことが好ましい。第１分配部の流路長と第２分配部の流路長は容易に均一化される。

上述した基板処理装置において、前記第１処理ユニットの上方に配置される第１接続ボックスと、前記第２処理ユニットの上方に配置される第２接続ボックスと、前記第３処理ユニットの上方に配置される第３接続ボックスと、前記第４処理ユニットの上方に配置される第４接続ボックスと、を備え、前記第１分配部は、前記第１液貯留部から、前記第１接続ボックス、前記第２接続ボックス、前記第３接続ボックスおよび前記第４接続ボックスまで延び、前記第２分配部は、前記第２液貯留部から、前記第１接続ボックス、前記第２接続ボックス、前記第３接続ボックスおよび前記第４接続ボックスまで延びることが好ましい。第１分配部と第２分配部はともに、第１接続ボックスまで延びる。同様に、第１分配部と第２分配部はともに、第２－第４接続ボックスまで延びる。よって、第１分配部の流路長と第２分配部の流路長は容易に均一化される。

上述した基板処理装置において、前記前後方向において、前記第１接続ボックスは、前記第１保持部よりも前方に配置され、前記前後方向において、前記第２接続ボックスは、前記第２保持部よりも後方に配置され、前記前後方向において、前記第３接続ボックスは、前記第３保持部よりも前方に配置され、前記前後方向において、前記第４接続ボックスは、前記第４保持部よりも後方に配置されることが好ましい。第１液貯留部から第１接続ボックスまでの流路長と第１液貯留部から第２接続ボックスまでの流路長との間の差を、好適に低減できる。同様に、第１液貯留部から第３接続ボックスまでの流路長と第１液貯留部から第４接続ボックスまでの流路長との間の差を、好適に低減できる。第２液貯留部から第１接続ボックスまでの流路長と第２液貯留部から第２接続ボックスまでの流路長との間の差を、好適に低減できる。第２液貯留部から第３接続ボックスまでの流路長と第２液貯留部から第４接続ボックスまでの流路長との間の差を、好適に低減できる。

上述した基板処理装置において、前記第１接続ボックスに収容され、前記第１分配部と前記第１液供給部を接続する第１継ぎ手と、前記第２接続ボックスに収容され、前記第１分配部と前記第２液供給部を接続する第２継ぎ手と、前記第３接続ボックスに収容され、前記第１分配部と前記第３液供給部を接続する第３継ぎ手と、前記第４接続ボックスに収容され、前記第１分配部と前記第４液供給部を接続する第４継ぎ手と、を備えることが好ましい。第１－第４接続ボックス内において、第１分配部と第１－第４液供給部を、好適に着脱できる。

上述した基板処理装置において、前記上部スペースに設置され、略平坦な踏み板を備えることが好ましい。基板処理装置のユーザーは、踏み板に載ることができる。よって、ユーザーは、例えば、踏み板上でメンテナンス作業を行うことができる。

上述した基板処理装置において、前記踏み板は、前記第１接続ボックス、前記第２接続ボックス、前記第３接続ボックスおよび前記第４液供給部の近傍に配置されることが好ましい。ユーザーは、第１－第４接続ボックスに容易にアクセスできる。ユーザーは、第１－第２分配部と第１－第４液供給部を、好適に着脱できる。

上述した基板処理装置において、前記踏み板は、前記第２接続ボックスおよび前記第３接続ボックスの間を通り、前記第１接続ボックスから前記第４液供給部まで延びることが好ましい。ユーザーは、第１－第４接続ボックスの間を、容易に移動できる。

上述した基板処理装置において、前記踏み板は、前記第１分配部の少なくとも一部の上方に配置されることが好ましい。踏み板は第１分配部を好適に保護する。

本発明の基板処理装置によれば、第１処理ユニットの構造と第２処理ユニットの構造を容易に共通化できる。

実施形態の基板処理装置の内部を示す平面図である。 幅方向における基板処理装置の中央部の構成を示す左側面図である。 処理ブロックの正面図である。 基板処理装置の右部の構成を示す右側面図である。 基板処理装置の左部の構成を示す左側面図である。 基板処理装置の平面図である。 基板処理装置の平面図である。 処理ユニットの側面図である。 変形実施形態に係る基板処理装置の右側面図である。 比較例に係る基板処理装置の平面図である。

以下、図面を参照して本発明の基板処理装置を説明する。

１．基板処理装置の概要
図１は、実施形態の基板処理装置の内部を示す平面図である。基板処理装置１は、基板（例えば、半導体ウエハ）Ｗに処理を行う。

基板Ｗは、例えば、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、有機ＥＬ(Electroluminescence)用基板、ＦＰＤ(Flat Panel Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板である。基板Ｗは、薄い平板形状を有する。基板Ｗは、平面視で略円形状を有する。

基板処理装置１は、インデクサ部３と処理ブロック１１を備える。処理ブロック１１はインデクサ部３に接続される。インデクサ部３は、処理ブロック１１に基板Ｗを供給する。処理ブロック１１は、基板Ｗに処理を行う。インデクサ部３は、処理ブロック１１から基板Ｗを回収する。

本明細書では、便宜上、インデクサ部３と処理ブロック１１が並ぶ方向を、「前後方向Ｘ」と呼ぶ。前後方向Ｘは水平である。前後方向Ｘのうち、処理ブロック１１からインデクサ部３に向かう方向を「前方」と呼ぶ。前方と反対の方向を「後方」と呼ぶ。

処理ブロック１１は、インデクサ部３の後方に配置される。

本明細書では、前後方向Ｘと直交する水平方向を、「幅方向Ｙ」と呼ぶ。幅方向Ｙの一方向を適宜に「右方」と呼ぶ。右方とは反対の方向を「左方」と呼ぶ。水平方向に対して垂直な方向を「鉛直方向Ｚ」と呼ぶ。各図では、参考として、前、後、右、左、上、下を適宜に示す。

右方は、本発明における第１側方の例である。左方は、本発明における第２側方の例である。

インデクサ部３は、複数（例えば、４つ）のキャリア載置部４を備える。キャリア載置部４は幅方向Ｙに並ぶ。各キャリア載置部４はそれぞれ、１つのキャリアＣを載置する。キャリアＣは、複数枚の基板Ｗを収容する。キャリアＣは、例えば、ＦＯＵＰ（front opening unified pod）である。

インデクサ部３は、搬送スペース５を備える。搬送スペース５は、キャリア載置部４の後方に配置される。

インデクサ部３は、搬送機構６を備える。搬送機構６は、搬送スペース５に設置される。搬送機構６は、キャリア載置部４の後方に配置される。搬送機構６は、基板Ｗを搬送する。搬送機構６は、キャリア載置部４に載置されるキャリアＣにアクセス可能である。

搬送機構６の構造について説明する。搬送機構６はハンド７とハンド駆動部８を備える。ハンド７は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で支持する。ハンド駆動部８は、ハンド７に連結される。ハンド駆動部８は、ハンド７を移動する。

ハンド駆動部８の構造を例示する。ハンド駆動部８は、第１駆動部８ａと第２駆動部８ｂを備える。第１駆動部８ａ自体、水平方向に移動不能である。第１駆動部８ａは、第２駆動部８ｂを支持する。第１駆動部８ａは、鉛直方向Ｚに第２駆動部８ｂを移動させる。第１駆動部８ａは、さらに、鉛直方向Ｚと平行な回転軸線回りに第２駆動部８ｂを回転させる。第２駆動部８ｂは、ハンド７を支持する。第２駆動部８ｂは、第１駆動部８ａに対してハンド７を水平方向に進退移動する。第２駆動部８ｂは、例えば、多関節アームで構成される。

上述のハンド駆動部８によれば、ハンド７は、鉛直方向Ｚに移動可能である。ハンド７は、水平方向に移動可能である。ハンド７は、水平面内で回転可能である。

処理ブロック１１は、搬送スペース１２Ａを備える。搬送スペース１２Ａは、前後方向Ｘに延びる。搬送スペース１２Ａの前部は、インデクサ部３の搬送スペース５とつながっている。搬送スペース１２Ａは、幅方向Ｙにおける処理ブロック１１の中央部に配置される。

処理ブロック１１は、搬送機構１３Ａを備える。搬送機構１３Ａは、搬送スペース１２Ａに設置される。搬送機構１３Ａは、前後方向Ｘに平行移動可能である。搬送機構１３Ａは、基板Ｗを搬送する。

搬送機構１３Ａは、ハンド１４とハンド駆動部１５を備える。ハンド１４は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で支持する。ハンド駆動部１５は、ハンド１４に連結される。ハンド駆動部１５は、ハンド１４を移動する。ハンド駆動部１５は、ハンド１４を前後方向Ｘ、幅方向Ｙおよび垂直方向Ｚに移動する。

ハンド駆動部１５の構造を例示する。ハンド駆動部１５は、例えば、２つの支柱１５ａと、垂直移動部１５ｂと水平移動部１５ｃと回転部１５ｄと進退移動部１５ｅを備える。支柱１５ａは、固定的に設置される。支柱１５ａは、搬送スペース１２Ａの側部に配置される。２つの支柱１５ａは前後方向Ｘに並ぶ。各支柱１５ａは、鉛直方向Ｚに延びる。各支柱１５ａは、垂直移動部１５ｂを支持する。垂直移動部１５ｂは、２つの支柱１５ａの間にわたって前後方向Ｘに延びる。垂直移動部１５ｂは、支柱１５ａに対して鉛直方向Ｚに平行移動する。垂直移動部１５ｂは、水平移動部１５ｃを支持する。水平移動部１５ｃは、垂直移動部１５ｂに対して前後方向Ｘに平行移動する。水平移動部１５ｃは、回転部１５ｄを支持する。回転部１５ｄは、水平移動部１５ｃに対して回転する。回転部１５ｄは、鉛直方向Ｚと平行な回転軸線回りに回転する。回転部１５ｄは、進退移動部１５ｅを支持する。進退移動部１５ｅは、ハンド１４を支持する。進退移動部１５ｅは、回転部１５ｄに対してハンド１４を進退移動する。進退移動部１５ｅは、回転部１５ｄの向きによって決まる水平な一方向にハンド１４を往復移動させる。

上述のハンド駆動部１５によれば、ハンド１４は、鉛直方向Ｚに平行移動可能である。ハンド１４は、前後方向Ｘに平行移動可能である。ハンド１４は、水平面内で回転可能である。ハンド１４は、回転部１５ｄに対して進退移動可能である。

基板処理装置１は、基板載置部１６Ａを備える。基板載置部１６Ａは、インデクサ部３と搬送機構１３Ａとの間で搬送される基板Ｗを載置する。具体的には、基板載置部１６Ａは、搬送機構６と搬送機構１３Ａとの間で搬送される基板Ｗを載置する。搬送機構６は、基板載置部１６Ａにアクセス可能である。搬送機構１３Ａも、基板載置部１６Ａにアクセス可能である。

基板載置部１６Ａは、固定的に設置される。

基板載置部１６Ａは、搬送機構６の後方に配置される。基板載置部１６Ａは、搬送機構１３Ａの前方に配置される。搬送機構１３Ａの可動域は、基板載置部１６Ａの後方に限られる。

基板載置部１６Ａの少なくとも一部は、搬送スペース１２Ａに設置される。例えば、基板載置部１６Ａの全部は、搬送スペース１２Ａに設置される。

処理ブロック１１は、第１処理ユニット２１Ａ１と第２処理ユニット２１Ｂ１と第３処理ユニット２１Ｃ１と第４処理ユニット２１Ｄ１を備える。第１処理ユニット２１Ａ１と第３処理ユニット２１Ｃ１はそれぞれ、搬送スペース１２Ａの右方に配置される。第３処理ユニット２１Ｃ１は、第１処理ユニット２１Ａ１の後方に隣接する。第２処理ユニット２１Ｂ１と第４処理ユニット２１Ｄ１はそれぞれ、搬送スペース１２Ａの左方に配置される。第４処理ユニット２１Ｄ１は、第２処理ユニット２１Ｂ１の後方に隣接する。第１－第４処理ユニット２１Ａ１－２１Ｄ１はそれぞれ、基板Ｗに処理を行う。

第２処理ユニット２１Ｂ１は、第１処理ユニット２１Ａ１に対して後方にシフトされる。具体的には、第１処理ユニット２１Ａ１は、前端２２Ａと後端２３Ａを有する。第２処理ユニット２１Ｂ１は、前端２２Ｂと後端２３Ｂを有する。前後方向Ｘにおいて、前端２２Ｂは、前端２２Ａよりも後方に配置される。前後方向Ｘにおいて、前端２２Ｂは、後端２３Ａよりも前方に配置される。前後方向Ｘにおいて、後端２３Ｂは、後端２３Ａよりも後方に配置される。

第４処理ユニット２１Ｄ１は、第３処理ユニット２１Ｃ１に対して後方にシフトされる。具体的には、第３処理ユニット２１Ｃ１は、前端２２Ｃと後端２３Ｃを有する。第４処理ユニット２１Ｄ１は、前端２２Ｄと後端２３Ｄを有する。前後方向Ｘにおいて、前端２２Ｄは、前端２２Ｃよりも後方に配置される。前後方向Ｘにおいて、前端２２Ｄは、後端２３Ｃよりも前方に配置される。前後方向Ｘにおいて、後端２３Ｄは、後端２３Ｃよりも後方に配置される。

第１処理ユニット２１Ａ１は、インデクサ部３の後方に隣接される。

前後方向Ｘにおいて、基板載置部１６Ａの少なくとも一部は、第１処理ユニット２１Ａ１の前端２２Ａよりも後方に配置される。例えば、前後方向Ｘにおいて、基板載置部１６Ａの全部は、第１処理ユニット２１Ａ１の前端２２Ａよりも後方に配置される。

前後方向Ｘにおいて、第２処理ユニット２１Ｂ１の少なくとも一部は、基板載置部１６Ａよりも後方に配置される。例えば、前後方向Ｘにおいて、第２処理ユニット２１Ｂ１の全部は、基板載置部１６Ａよりも後方に配置される。

第１処理ユニット２１Ａ１は、第１保持部２５Ａと第１液供給部２７Ａを備える。第１保持部２５Ａは、基板Ｗを保持する。第１液供給部２７Ａは、第１保持部２５Ａに保持される基板Ｗに処理液を供給する。

同様に、第２処理ユニット２１Ｂ１は、第２保持部２５Ｂと第２液供給部２７Ｂを備える。第２保持部２５Ｂは、基板Ｗを保持する。第２液供給部２７Ｂは、第２保持部２５Ｂに保持される基板Ｗに処理液を供給する。

第３処理ユニット２１Ｃ１は、第３保持部２５Ｃと第３液供給部２７Ｃを備える。第３保持部２５Ｃは、基板Ｗを保持する。第３液供給部２７Ｃは、第３保持部２５Ｃに保持される基板Ｗに処理液を供給する。

第４処理ユニット２１Ｄ１は、第４保持部２５Ｄと第４液供給部２７Ｄを備える。第４保持部２５Ｄは、基板Ｗを保持する。第４液供給部２７Ｄは、第４保持部２５Ｄに保持される基板Ｗに処理液を供給する。

なお、第１液供給部２７Ａは、第２－第４保持部２５Ｂ－２５Ｄに保持される基板Ｗに、処理液を供給しない。第１液供給部２７Ａは、第１保持部２５Ａに保持される基板Ｗのみに、処理液を供給する。２－第４液供給部２７Ｂ－２７Ｄも、第１液供給部２７Ａと同様である。

搬送機構１３Ａは、第１－第４保持部２５Ａ－２５Ｄに基板Ｗを搬送する。

第１処理ユニット２１Ａ１は、第１搬送口２８Ａを備える。図１は、便宜上、第１搬送口２８Ａを破線で示す。第１搬送口２８Ａは、搬送スペース１２Ａに面する。基板Ｗは、第１搬送口２８Ａを通過可能である。搬送機構１３Ａが第１保持部２５Ａに基板Ｗを搬送するとき、搬送機構１３Ａは第１搬送口２８Ａに基板Ｗを進入させる。同様に、第２、第３、第４処理ユニット２１Ｂ１、２１Ｃ１、２１Ｄ１はそれぞれ、第２、第３、第４搬送口２８Ｂ、２８Ｃ、２８Ｄを備える。

第１保持部２５Ａは、第１処理ユニット２１Ａ１の後端２３Ａに近い。具体的には、第１処理ユニット２１Ａ１は、平面視において、中心２４Ａを有する。第１保持部２５Ａは、平面視において、中心２６Ａを有する。中心２６Ａは、平面視において、中心２４Ａよりも後方に位置する。

第２保持部２５Ｂは、第２処理ユニット２１Ｂ１の前端２２Ｂに近い。具体的には、第２処理ユニット２１Ｂ１は、平面視において、中心２４Ｂを有する。第２保持部２５Ｂは、平面視において、中心２６Ｂを有する。中心２６Ｂは、平面視において、中心２４Ｂよりも前方に位置する。

第３保持部２５Ｃは、第３処理ユニット２１Ｃ１の後端２３Ｃに近い。具体的には、第３処理ユニット２１Ｃ１は、平面視において、中心２４Ｃを有する。第３保持部２５Ｃは、平面視において、中心２６Ｃを有する。中心２６Ｃは、平面視において、中心２４Ｃよりも後方に位置する。

第４保持部２５Ｄは、第４処理ユニット２１Ｄ１の前端２２Ｄに近い。具体的には、第４処理ユニット２１Ｄ１は、平面視において、中心２４Ｄを有する。第４保持部２５Ｄは、平面視において、中心２６Ｄを有する。中心２６Ｄは、平面視において、中心２４Ｄよりも前方に位置する。

ここで、第２保持部２５Ｂの中心２６Ｂは、前後方向Ｘにおいて、第１保持部２５Ａの中心２６Ａよりも前方に配置される。第４保持部２５Ｄの中心２６Ｄは、前後方向Ｘにおいて、第３保持部２５Ｃの中心２６Ｃよりも前方に配置される。

前後方向Ｘにおいて第２保持部２５Ｂは、基板載置部１６Ａよりも後方に配置される。具体的には、前後方向Ｘにおいて第２保持部２５Ｂの全部は、基板載置部１６Ａよりも後方に配置される。前後方向Ｘにおいて第１保持部２５Ａも、基板載置部１６Ａよりも後方に配置される。

図１は、距離Ｌを示す。距離Ｌは、中心２４Ｂと中心２６Ｃとの間の前後方向Ｘにおける距離である。距離Ｌは、搬送機構１３Ａが第１－第４保持部２５Ａ－２５Ｄに基板Ｗを搬送するときの前後方向Ｘにおける搬送機構１３Ａの移動距離に相当する。

第２処理ユニット２１Ｂ１は、第１処理ユニット２１Ａ１が鉛直軸回りに１８０度、回転されたものと等しい構造を有する。したがって、第２処理ユニット２１Ｂ１の構造は、第１処理ユニット２１Ａ１の構造と共通である。具体的には、第２保持部２５Ｂと第２液供給部２７Ｂと第２搬送口２８Ｂの相対的な位置は、第１保持部２５Ａと第１液供給部２７Ａと第１搬送口２８Ａの相対的な位置と同じである。

第３処理ユニット２１Ｃ１は、第１処理ユニット２１Ａ１と等しい構造を有する。すなわち、第３処理ユニット２１Ｃ１の構造は、第１処理ユニット２１Ａ１の構造と共通である。具体的には、第３保持部２５Ｃと第３液供給部２７Ｃと第３搬送口２８Ｃの相対的な位置は、第１保持部２５Ａと第１液供給部２７Ａと第１搬送口２８Ａの相対的な位置と同じである。

第４処理ユニット２１Ｄ１は、第１処理ユニット２１Ａ１が鉛直軸回りに１８０度、回転されたものと等しい構造を有する。したがって、第４処理ユニット２１Ｄ１の構造は、第１処理ユニット２１Ａ１の構造と共通である。具体的には、第４保持部２５Ｄと第４液供給部２７Ｄと第４搬送口２８Ｄの相対的な位置は、第１保持部２５Ａと第１液供給部２７Ａと第１搬送口２８Ａの相対的な位置と同じである。

処理ブロック１１は、第１液貯留部３１を備える。第１液貯留部３１は、搬送スペース１２Ａの左方に配置される。第１液貯留部３１は、第２処理ユニット２１Ｂ１の前方に隣接される。第１液貯留部３１は、第１―第４処理ユニット２１Ａ１－２１Ｄ１に分配される処理液を貯留する。

第１液貯留部３１は、前端３１ｆを有する。前後方向Ｙにおいて、前端３１は、第１処理ユニット２１Ａ１の前端２２Ａと同等の位置に配置される。

第１液貯留部３１は、インデクサ部３の後方に隣接される。

基板載置部１６Ａは、第１処理ユニット２１Ａ１と第１液貯留部３１の間に配置される。第１処理ユニット２１Ａ１と基板載置部１６Ａと第１液貯留部３１は、幅方向Ｙに、この順番で並ぶ。

処理ブロック１１は、第２液貯留部３２を備える。第２液貯留部３２は、搬送スペース１２Ａの右方に配置される。第２液貯留部３２は、第３処理ユニット２１Ｃ１の後方に隣接される。第２液貯留部３２は、第１―第４処理ユニット２１Ａ１－２１Ｄ１に分配される処理液を貯留する。

第２液貯留部３２は、後端３２ｒを有する。前後方向Ｙにおいて、後端３２ｒは、第４処理ユニット２１Ｄ１の後端２３Ｄと同等の位置に配置される。

第２液貯留部３２に貯留される処理液は、第１液貯留部３１に貯留される処理液とは異なる種類の処理液を貯留する。

具体的には、第１液貯留部３１に貯留される処理液は、第１処理液である。第１処理液は、例えば、酸性液に分類される。第１処理液は、例えば、フッ酸（フッ化水素酸）、塩酸過酸化水素水、硫酸、硫酸過酸化水素水、フッ硝酸（フッ酸と硝酸との混合液）、および、塩酸の少なくとも１つを含む。

第２液貯留部３２に貯留される処理液は、第２処理液である。第２処理液は、例えば、有機液に分類される。有機液は、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、メタノール、エタノール、ハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）、および、アセトンの少なくとも１つを含む。

２．処理ブロック１１の構造
図２は、幅方向における基板処理装置の中央部の構成を示す左側面図である。図３は、処理ブロックの正面図である。処理ブロック１１は、搬送スペース１２Ａに加えて、搬送スペース１２Ｂを備える。搬送スペース１２Ｂは、搬送スペース１２Ａの下方に配置される。搬送スペース１２Ｂも、インデクサ部３の搬送スペース５とつながっている。搬送スペース１２Ｂは、平面視において、搬送スペース１２Ａと同じ位置に配置される。

処理ブロック１１は、１つの隔壁１７を備える。隔壁１７は、搬送スペース１２Ａの下方、かつ、搬送スペース１２Ｂの上方に配置される。隔壁１７は、水平な板形状を有する。隔壁１７は、搬送スペース１２Ａを搬送スペース１２Ｂから隔てる。

処理ブロック１１は、搬送機構１３Ａに加えて、搬送機構１３Ｂを備える。搬送機構１３Ｂは、搬送スペース１２Ｂに設置される。搬送機構１３Ｂは、搬送機構１３Ａの下方に設置される。搬送機構１３Ｂは、前後方向Ｘに平行移動可能である。搬送機構１３Ｂは、基板Ｗを搬送する。搬送機構１３Ｂは、搬送機構１３Ａの構造と同じ構造を有する。具体的には、搬送機構１３Ｂも、ハンド１４とハンド駆動部１５を備える。

処理ブロック１１は、基板載置部１６Ａに加えて、基板載置部１６Ｂを備える。基板載置部１６Ｂは、インデクサ部３と搬送機構１３Ｂとの間で搬送される基板Ｗを載置する。搬送機構６と搬送機構１３Ｂはそれぞれ、基板載置部１６Ｂにアクセス可能である。基板載置部１６Ｂは、基板載置部１６Ａの下方に配置される。基板載置部１６Ｂは、平面視において、基板載置部１６Ａと同じ位置に配置される。

図３、図４を参照する。図４は、基板処理装置１の右部の構成を示す右側面図である。処理ブロック１１は、第１処理ユニット２１Ａ１に加えて、５つの第１処理ユニット２１Ａ２－２１Ａ６を備える。第１処理ユニット２１Ａ２－２１Ａ６はそれぞれ、第１処理ユニット２１Ａ１と等しい構造を有する。

第１処理ユニット２１Ａ１－２１Ａ６は、鉛直方向Ｚに１列に並ぶ。第１処理ユニット２１Ａ１－２１Ａ６は、積層される。第１処理ユニット２１Ａ１－２１Ａ３は、搬送スペース１２Ａと同じ高さ位置に配置される。搬送機構１３Ａは、第１処理ユニット２１Ａ１－２１Ａ３に基板Ｗを搬送する。第１処理ユニット２１Ａ４－２１Ａ６は、第１処理ユニット２１Ａ１－２１Ａ３の下方に配置される。第１処理ユニット２１Ａ４－２１Ａ６は、搬送スペース１２Ｂと同じ高さ位置に配置される。搬送機構１３Ｂは、第１処理ユニット２１Ａ４－２１Ａ６に基板Ｗを搬送する。

図４を参照する。処理ブロック１１は、第３処理ユニット２１Ｃ１に加えて、５つの第３処理ユニット２１Ｃ２－２１Ｃ６を備える。第３処理ユニット２１Ｃ２－２１Ｃ６はそれぞれ、第１処理ユニット２１Ａ１と等しい構造を有する。

第３処理ユニット２１Ｃ１－２１Ｃ６は、鉛直方向Ｚに１列に並ぶ。第３処理ユニット２１Ｃ１－２１Ｃ６は、積層される。第３処理ユニット２１Ｃ４－２１Ｃ６は、第３処理ユニット２１Ｃ１－２１Ｃ３の下方に配置される。

図５は、基板処理装置１の左部の構成を示す左側面図である。処理ブロック１１は、第２処理ユニット２１Ｂ１に加えて、５つの第２処理ユニット２１Ｂ２－２１Ｂ６を備える。第２処理ユニット２１Ｂ２－２１Ｂ６はそれぞれ、第１処理ユニット２１Ａ１と共通の構造を有する。

第２処理ユニット２１Ｂ１－２１Ｂ６は、鉛直方向Ｚに１列に並ぶ。第２処理ユニット２１Ｂ１－２１Ｂ６は、積層される。第２処理ユニット２１Ｂ４－２１Ｂ６は、第２処理ユニット２１Ｂ１－２１Ｂ３の下方に配置される。

同様に、処理ブロック１１は、第４処理ユニット２１Ｄ１に加えて、５つの第４処理ユニット２１Ｄ２－２１Ｄ６を備える。第４処理ユニット２１Ｄ２－２１Ｄ６はそれぞれ、第１処理ユニット２１Ａ１と共通の構造を有する。

第４処理ユニット２１Ｄ１－２１Ｄ６は、鉛直方向Ｚに１列に並ぶ。第４処理ユニット２１Ｄ１－２１Ｄ６は、積層される。第４処理ユニット２１Ｄ４－２１Ｄ６は、第４処理ユニット２１Ｄ１－２１Ｄ３の下方に配置される。

搬送機構１３Ａは、第２処理ユニット２１Ｂ１－２１Ｂ３と第３処理ユニット２１Ｃ１－２１Ｃ３と第４処理ユニット２１Ｄ１－２１Ｄ３に基板Ｗを搬送する。搬送機構１３Ｂは、第２処理ユニット２１Ｂ４－２１Ｂ６と第３処理ユニット２１Ｃ４－２１Ｃ６と第４処理ユニット２１Ｄ４－２１Ｄ６に基板Ｗを搬送する。

第１処理ユニット２１Ａ１－２１Ａ６を区別しない場合には、第１処理ユニット２１Ａと呼ぶ。第２処理ユニット２１Ｂ１－２１Ｂ６を区別しない場合には、第２処理ユニット２１Ｂと呼ぶ。第３処理ユニット２１Ｃ１－２１Ｃ６を区別しない場合には、第３処理ユニット２１Ｃと呼ぶ。第４処理ユニット２１Ｄ１－２１Ｄ６を区別しない場合には、第４処理ユニット２１Ｄと呼ぶ。

第１液貯留部３１は、第１タンク３３と第１ポンプ３４を備える。第１タンク３３は、処理液を貯留する容器である。第１タンク３３は、処理液（具体的には、第１処理液）を貯留する。第１ポンプ３４は、第１タンク３３に連通接続されている。第１ポンプ３４は、処理液を圧送する。

第１液貯留部３１は、キャビネット３５を備える。キャビネット３５は、キャビネット３５の内部に収納スペース３５ａを区画する。第１タンク３３と第１ポンプ３４は、収納スペース３５ａに設置される。キャビネット３５は、収納スペース３５ａを搬送スペース１２から隔てる。キャビネット３５は、収納スペース３５ａを第２処理ユニット２１Ｂから隔てる。

図４を参照する。第２液貯留部３２は、第２タンク３６と第２ポンプ３７を備える。第２タンク３６は、処理液を貯留する容器である。第２タンク３６は、処理液（具体的には、第２処理液）を貯留する。第２ポンプ３７は、第２タンク３６に連通接続されている。第２ポンプ３７は、処理液を圧送する。

第２液貯留部３２は、キャビネット３８を備える。キャビネット３８は、キャビネット３８の内部に収納スペース３８ａを区画する。第２タンク３６と第２ポンプ３７は、収納スペース３８ａに設置される。キャビネット３８は、収納スペース３８ａを搬送スペース１２から隔てる。キャビネット３８は、収納スペース３８ａを第３処理ユニット２１Ｃから隔てる。

図２－５を参照する。基板処理装置１は、上部スペース３９を備える。上部スペース３９は、搬送スペース１２、第１処理ユニット２１Ａ、第２処理ユニット２１Ｂ、第３処理ユニット２１Ｃ、第４処理ユニット２１Ｄ、第１液貯留部３１および第２液貯留部３２の上方に形成される。

基板処理装置１は、隔壁４０を備える。隔壁４０は、水平な板形状を有する。隔壁４０は、搬送スペース１２、第１－第４処理ユニット２１Ａ－２１Ｄ、第１液貯留部３１および第２液貯留部３２の上方に配置される。隔壁４０は、上部スペース３９の下方に配置される。隔壁４０は、上部スペース３９を搬送スペース１２から隔てる。同様に、隔壁４０は、上部スペース３９を第１－第４処理ユニット２１Ａ－２１Ｄから隔てる。隔壁４０は、上部スペース３９を第１－第２液貯留部３１－３２から隔てる。

図４－６を参照する。図６は、基板処理装置１の平面図である。図６は、上部スペース３９を示す。基板処理装置１は、第１分配部４１を備える。第１分配部４１は、上部スペース３９に設けられる。第１分配部４１は、第１液貯留部３１から、第１処理ユニット２１Ａ、第２処理ユニット２１Ｂ、第３処理ユニット２１Ｃおよび第４処理ユニット２１Ｄに処理液を分配する。

第１分配部４１は、略水平方向に延びる。第１分配部４１は、第１液貯留部３１から後方に延びる。

具体的には、第１分配部４１は、第１ポンプ３４に連通接続される。第１分配部４１は、第１液供給部２７Ａ、第２液供給部２７Ｂ、第３液供給部２７Ｃおよび第４液供給部２７Ｄに連通接続される。

基板処理装置１は、第２分配部４２を備える。第２分配部４２は、上部スペース３９に設けられる。第２分配部４２は、第２液貯留部３２から、第１処理ユニット２１Ａ、第２処理ユニット２１Ｂ、第３処理ユニット２１Ｃおよび第４処理ユニット２１Ｄに処理液を分配する。

第２分配部４２は、略水平方向に延びる。第２分配部４２は、第２液貯留部３２から前方に延びる。

具体的には、第２分配部４２は、第２ポンプ３７に連通接続される。第２分配部４２は、第１液供給部２７Ａ、第２液供給部２７Ｂ、第３液供給部２７Ｃおよび第４液供給部２７Ｄに連通接続される。

図６を参照する。第２分配部４２は、平面視において、第１分配部４１が１８０度、回転されたものと等しい。言い換えれば、第２分配部４２は、第１分配部４１が鉛直軸回りに１８０度、回転されたものと等しい構造を有する。

具体的には、第１分配部４１は、第１配管４３Ａと第２配管４３Ｂと第３配管４３Ｃと第４配管４３Ｄを備える。第１配管４３Ａは、第１液貯留部３１と第１処理ユニット２１Ａを連通接続する。第２配管４３Ｂは、第１液貯留部３１と第２処理ユニット２１Ｂを連通接続する。第３配管４３Ｃは、第１液貯留部３１と第３処理ユニット２１Ｃを連通接続する。第４配管４３Ｄは、第１液貯留部３１と第４処理ユニット２１Ｄを連通接続する。

第２分配部４２は、第５配管４４Ａと第６配管４４Ｂと第７配管４４Ｃと第８配管４４Ｄを備える。第５配管４４Ａは、第２液貯留部３２と第１処理ユニット２１Ａを連通接続する。第６配管４４Ｂは、第２液貯留部３２と第２処理ユニット２１Ｂを連通接続する。第７配管４４Ｃは、第２液貯留部３２と第３処理ユニット２１Ｃを連通接続する。第８配管４４Ｄは、第２液貯留部３２と第４処理ユニット２１Ｄを連通接続する。

ここで、第８配管４４Ｄは、平面視において、第１配管４３Ａが１８０度、回転されたものと等しい。第７配管４４Ｃは、平面視において、第２配管４３Ｂが１８０度、回転されたものと等しい。第６配管４４Ｂは、平面視において、第３配管４３Ｃが１８０度、回転されたものと等しい。第５配管４４Ａは、平面視において、第４配管４３Ｄが１８０度、回転されたものと等しい。

第１配管４３Ａの幅方向Ｙにおける長さは、第２配管４３Ｂの幅方向Ｙにおける長さよりも大きい。しかし、第１配管４３Ａの前後方向Ｘにおける長さは、第２配管４３Ｂの前後方向Ｘにおける長さよりも小さい。このため、第１配管４３Ａの長さと第２配管４３Ｂの長さとの間の差は、比較的に小さい。

第３配管４３Ｃの幅方向Ｙにおける長さは第４配管４３Ｄの幅方向Ｙにおける長さよりも大きいが、第３配管４３Ｃの前後方向Ｘにおける長さは、第４配管４３Ｄの前後方向Ｘにおける長さよりも小さい。このため、第３配管４３Ｃの長さと第４配管４３Ｄの長さとの間の差は、比較的に小さい。

第５配管４４Ａの幅方向Ｙにおける長さは、第６配管４４Ｂの幅方向Ｙにおける長さよりも小さい。しかし、第５配管４４Ａの前後方向Ｘにおける長さは、第６配管４４Ｂの前後方向Ｘにおける長さよりも大きい。このため、第５配管４４Ａの長さと第６配管４４Ｂの長さとの間の差は、比較的に小さい。

第７配管４４Ｃの幅方向Ｙにおける長さは、第８配管４４Ｄの幅方向Ｙにおける長さよりも小さい。しかし、第７配管４４Ｃの前後方向Ｘにおける長さは、第８配管４４Ｄの前後方向Ｘにおける長さよりも大きい。このため、第７配管４４Ｃの長さと第８配管４４Ｄの長さとの間の差は、比較的に小さい。

基板処理装置１は、第１接続ボックス４６Ａと第２接続ボックス４６Ｂと第３接続ボックス４６Ｃと第４接続ボックス４６Ｄを備える。第１接続ボックス４６Ａと第３接続ボックス４６Ｃと第２液貯留部３２は、この順番で前後方向Ｘに並ぶ。第１液貯留部３１と第２接続ボックス４６Ｂと第４接続ボックス４６Ｄは、この順番で前後方向Ｘに並ぶ。第１接続ボックス４６Ａと第１液貯留部３１は、幅方向Ｙに並ぶ。第２接続ボックス４６Ｂと第３接続ボックス４６Ｃは、幅方向Ｙに並ぶ。第４接続ボックス４６Ｄと第２液貯留部３２は、幅方向Ｙに並ぶ。

第１分配部４１は、第１液貯留部３１から第１接続ボックス４６Ａ、第２接続ボックス４６Ｂ、第３接続ボックス４６Ｃおよび第４接続ボックス４６Ｄに延びる。具体的には、第１配管４３Ａは、第１液貯留部３１から第１接続ボックス４６Ａに延びる。２配管４３Ｂは、第１液貯留部３１から第２接続ボックス４６Ｂに延びる。第３配管４３Ｃは、第１液貯留部３１から第３接続ボックス４６Ｃに延びる。第４配管４３Ｄは、第１液貯留部３１から第４接続ボックス４６Ｄに延びる。

第２分配部４２は、第２液貯留部３２から第１接続ボックス４６Ａ、第２接続ボックス４６Ｂ、第３接続ボックス４６Ｃおよび第４接続ボックス４６Ｄに延びる。具体的には、第５配管４４Ａは、第２液貯留部３２から第１接続ボックス４６Ａに延びる。第６配管４４Ｂは、第２液貯留部３２から第２接続ボックス４６Ｂに延びる。第７配管４４Ｃは、第２液貯留部３２から第３接続ボックス４６Ｃに延びる。第８配管４４Ｄは、第２液貯留部３２から第４接続ボックス４６Ｄに延びる。

図４を参照する。第１接続ボックス４６Ａと第３接続ボックス４６Ｃはそれぞれ、上部スペース３９に配置される。第１接続ボックス４６Ａと第３接続ボックス４６Ｃは、略同じ高さ位置に配置される。

第１接続ボックス４６Ａは、第１処理ユニット２１Ａの上方に配置される。前後方向Ｘにおいて、第１接続ボックス４６Ａは、第１保持部２５Ａよりも前方に配置される。

第３接続ボックス４６Ｃは、第３処理ユニット２１Ｃの上方に配置される。前後方向Ｘにおいて、第３接続ボックス４６Ｃは、第３保持部２５Ｃよりも前方に配置される。

図５を参照する。第２接続ボックス４６Ｂと第４接続ボックス４６Ｄはそれぞれ、上部スペース３９に配置される。第２接続ボックス４６Ｂと第４接続ボックス４６Ｄは、略同じ高さ位置に配置される。

第２接続ボックス４６Ｂは、第２処理ユニット２１Ｂの上方に配置される。前後方向Ｘにおいて、第２接続ボックス４６Ｂは、第２保持部２５Ｂよりも前方に配置される。

第４接続ボックス４６Ｄは、第４処理ユニット２１Ｄの上方に配置される。前後方向Ｘにおいて、第４接続ボックス４６Ｄは、第４保持部２５Ｄよりも前方に配置される。

図３を参照する。第１接続ボックス４６Ａと第２接続ボックス４６Ｂは、略同じ高さ位置に配置される。したがって、第１－第４接続ボックス４６Ａ－４６Ｄは、略同じ高さ位置に配置される。

図４を参照する。第１分配部４１および第２分配部４２はそれぞれ、第１接続ボックス４６Ａ内において、第１液供給部２７Ａに連通接続される。第１分配部４１および第２分配部４２はそれぞれ、第３接続ボックス４６Ｃ内において、第３液供給部２７Ｃに連通接続される。

基板処理装置１は、第１継ぎ手４７Ａと第５継ぎ手４８Ａを備える。第１継ぎ手４７Ａは、第１接続ボックス４６Ａに収容される。第１継ぎ手４７Ａは、第１分配部４１（具体的には第１配管４３Ａ）と第１液供給部２７Ａを接続する。第５継ぎ手４８Ａは、第１接続ボックス４６Ａに収容される。第５継ぎ手４８Ａは、第２分配部４２（具体的には第５配管４４Ａ）と第１液供給部２７Ａを接続する。

基板処理装置１は、第３継ぎ手４７Ｃと第７継ぎ手４８Ｃを備える。第３継ぎ手４７Ｃは、第３接続ボックス４６Ｃに収容される。第３継ぎ手４７Ｃは、第１分配部４１（具体的には第３配管４３Ｃ）と第３液供給部２７Ｃを接続する。第７継ぎ手４８Ｃは、第３接続ボックス４６Ｃに収容される。第７継ぎ手４８Ｃは、第２分配部４２（具体的には第７配管４４Ｃ）と第３液供給部２７Ｃを接続する。

図５を参照する。第１分配部４１および第２分配部４２はそれぞれ、第２接続ボックス４６Ｂ内において、第２液供給部２７Ｂに連通接続される。第１分配部４１および第２分配部４２はそれぞれ、第４接続ボックス４６Ｄ内において、第４液供給部２７Ｂに連通接続される。

基板処理装置１は、第２継ぎ手４７Ｂと第６継ぎ手４８Ｂを備える。第２継ぎ手４７Ｂは、第２接続ボックス４６Ｂに収容される。第２継ぎ手４７Ｂは、第１分配部４１（具体的には第２配管４３Ｂ）と第２液供給部２７Ｂを接続する。第６継ぎ手４８Ｂは、第２接続ボックス４６Ｂに収容される。第６継ぎ手４８Ｂは、第２分配部４２（具体的には第６配管４４Ｂ）と第２液供給部２７Ｂを接続する。

基板処理装置１は、第４継ぎ手４７Ｄと第８継ぎ手４８Ｄを備える。第４継ぎ手４７Ｄは、第４接続ボックス４６Ｄに収容される。第４継ぎ手４７Ｄは、第１分配部４１（具体的には第４配管４３Ｄ）と第４液供給部２７Ｄを接続する。第８継ぎ手４８Ｄは、第４接続ボックス４６Ｄに収容される。第８継ぎ手４８Ｄは、第２分配部４２（具体的には第８配管４４Ｄ）と第４液供給部２７Ｄを接続する。

図３、６を参照する。基板処理装置１は、さらに、排気管５３Ａ、５３Ｂ、５４Ａ、５４Ｂ、５５Ａ、５５Ｂを備える。排気管５３Ａ、５３Ｂ、５４Ａ、５４Ｂ、５５Ａ、５５Ｂはそれぞれ、上部スペース３９に配置される。排気管５３Ａ、５４Ａ、５５Ａはそれぞれ、第１処理ユニット２１Ａおよび第３処理ユニット２１Ｃのガスを排出する。排気管５３Ｂ、５４Ｂ、５５Ｂはそれぞれ、第２処理ユニット２１Ｂおよび第４処理ユニット２１Ｄのガスを排出する。

排気管５３Ａ、５４Ａ、５５Ａは、第１分配部４１および第２分配管４２よりも右方に配置される。排気管５３Ａ、５４Ａ、５５Ａは、第１－第４接続ボックス４６Ａ－６４Ｄよりも右方に配置される。排気管５３Ｂ、５４Ｂ、５５Ｂは、第１分配部４１および第２分配管４２よりも左方に配置される。排気管５３Ｂ、５４Ｂ、５５Ｂは、第１－第４接続ボックス４６Ａ－６４Ｄよりも左方に配置される。

排気管５３Ａ、５４Ａ、５５Ａは、略同じ高さ位置に配置される。排気管５３Ｂ、５４Ｂ、５５Ｂは、略同じ高さ位置に配置される。排気管５３Ｂ、５４Ｂ、５５Ｂは、排気管５３Ａ、５４Ａ、５５Ａと略同じ高さ位置に配置される。排気管５３Ａ、５３Ｂ、５４Ａ、５４Ｂ、５５Ａ、５５Ｂは、第１－第４接続ボックス４６Ａ－４６Ｄと略同じ高さ位置に配置される。

図２－５を参照する。基板処理装置１は、踏み板５７を備える。踏み板５７は、上部スペース３９に設置される。踏み板５７は、略平坦な形状を有する。なお、図６は、踏み板５７の図示を省略する。

ユーザーが踏み板５７に載ることを、踏み板５７は許容する。踏み板５７は、処理ブロック１１に堅牢に支持される。踏み板５７は、例えば、処理ブロック１１のフレーム５９に堅牢に支持される。踏み板５７は、十分な剛性を有する。踏み板５７は、十分な強度を有する。踏み板５７は、隔壁４０よりも撓みがたい。

図７は、基板処理装置１の平面図である。踏み板５７は、第１分配部４１の少なくとも一部の上方に配置される。踏み板５７は、第１分配部４１を損傷から保護する。踏み板５７は、第２分配部４２の少なくとも一部の上方に配置される。踏み板５７は、第２分配部４２を損傷から保護する。

踏み板５７は、排気管５３Ａ、５４Ａ、５５Ａの少なくとも一部の上方に配置される。踏み板５７は、排気管５３Ａ、５４Ａ、５５Ａを損傷から保護する。踏み板５７は、排気管５３Ｂ、５４Ｂ、５５Ｂの少なくとも一部の上方に配置される。踏み板５７は、排気管５３Ｂ、５４Ｂ、５５Ｂを損傷から保護する。

踏み板５７は、第１接続ボックス４６Ａ、第２接続ボックス４６Ｂ、第３接続ボックス４６Ｃおよび第４接続ボックス４６Ｄの近傍に配置される。

踏み板５７は、第２接続ボックス４６Ｂと第３接続ボックス４６Ｃの間を通り、第１接続ボックス４６Ａから第４接続ボックス４６Ｄまで延びる。踏み板５７は、前後方向Ｘに延びる。

３．処理ユニット２１の構造
以下では、第１－第４処理ユニット２１Ａ－２１Ｄを区別しない場合には、処理ユニット２１と呼ぶ。第１－第４保持部２５Ａ－２５Ｄを区別しない場合には、保持部２５と呼ぶ。第１－第４液供給部２７Ａ―２７Ｄを区別しない場合には、液供給３３と呼ぶ。第１－第４接続ボックス４６Ａ－６０Ｄを区別しない場合には、接続ボックス４６と呼ぶ。第１－第４継ぎ手４７Ａ－４７Ｄを区別しない場合は、継ぎ手４７と呼ぶ。第５－第８継ぎ手４８Ａ－４８Ｄを区別しない場合は、継ぎ手４８と呼ぶ。排気管５３Ａ、５３Ｂを区別しない場合は、排気管５３と呼ぶ。排気管５４Ａ、５４Ｂを区別しない場合は、排気管５４と呼ぶ。排気管５５Ａ、５５Ｂを区別しない場合は、排気管５５と呼ぶ。

図８は、処理ユニット２１の側面図である。上述の通り、処理ユニット２１は、保持部２５と液供給部２７を備える。

さらに、処理ユニット２１は、処理筐体６１を備える。処理筐体６１は、搬送スペース１２に隣接する。処理筐体６１は、例えば、箱形状を有する。処理筐体６１は、処理筐体６１の内部に処理スペース６２を区画する。処理筐体６１は、保持部２５を収容する。保持部２５は、処理筐体６１の内部に設けられる。

保持部２５は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で保持する。

処理ユニット２１は、回転駆動部６３を備える。回転駆動部６３は、処理筐体６１の内部に設置される。回転駆動部６３は、保持部２５に連結される。回転駆動部６３は、保持部２５を回転させる。保持部２５に保持される基板Ｗは、保持部２５と一体に回転する。

液供給部２７は、吐出調整部７０と吐出部７７を備える。吐出調整部７０は、第１分配部４１および第２分配部４２に連通接続される。吐出調整部７０は、処理筐体６１の外部に配置される。吐出部７７は、処理筐体６１の内部に配置される。吐出部７７は、吐出調整部７０に連通接続される。吐出部７７は、保持部２５に保持される基板Ｗに処理液を吐出する。吐出調整部７０は、吐出部７７に処理液を供給し、かつ、吐出部７７に対する処理液の供給を停止する。

具体的には、吐出調整部７０は、第１吐出調整部７１と第２吐出調整部７２を備える。第１吐出調整部７１は、第１分配部４１に連通接続される。第２吐出調整部７２は、第２分配部４２に連通接続される。

第１吐出調整部７１は、配管７３と弁７４を備える。配管７３は接続ボックス４６まで延びる。配管７３は、継ぎ手４７を介して、第１分配部４１に連通接続される。弁７４は、配管７３に設けられる。同様に、第２吐出調整部７２は、配管７５と弁７６を備える。配管７５は接続ボックス４６まで延びる。配管７５は、継ぎ手４８を介して、第２分配部４２に連通接続される。弁７６は、配管７５に設けられる。

吐出部７７は、第１ノズル７８と第２ノズル７９を備える。第１ノズル７８は、第１吐出調整部７１（具体的には、配管７３）に連通接続される。第２ノズル７９は、第２吐出調整部７２（具体的には、配管７５）に連通接続される。第１ノズル７８は、処理液（具体的には第１処理液）と吐出する。第２ノズル７９は、処理液（具体的には第２処理液）と吐出する。

なお、液供給部２７は、処理液を貯留するタンクを備えない。液供給部２７は、処理液を圧送するポンプを備えない。

処理ユニット２１は、カップ８０を備える。カップ８０は、処理筐体６１の内部に設けられる。カップ８０は、略筒形状を有する。カップ８０は、保持部２５の周囲に配置される。カップ８０は、保持部２５に保持される基板Ｗから飛散した処理液を受け止める。

処理ユニット２１は、ガス排出部８１を備える。ガス排出部８１は、処理筐体６１の内部のガスを排出する。ガス排出部８１の少なくとも一部は、処理筐体６１の外部に配置される。

ガス排出部８１は、切り換え機構８２と複数（例えば、３つ）の排気管８３、８４、８５を備える。切り換え機構８２は、処理筐体６１に接続される。排気管８３－８５はそれぞれ、切り換え機構８２に接続される。排気管８３は、排気管５３に接続される。排気管８４は、排気管５４に接続される。排気管８５は、排気管５５に接続される。切り換え機構８２は、処理筐体６１を、排気管８３－８５の１つに、連通させる。切り換え機構８２は、処理筐体６１の排気路を、排気管８３－８５の間で切り換える。具体的には、切り換え機構８２は、第１状態と第２状態と第３状態に切り換える。第１状態では、切り換え機構８２は処理筐体６１を排気管８３に連通させ、かつ、処理筐体６１を排気管８４、８５から遮断する。第１状態では、専ら排気管８３が、処理筐体６１からガスを排出する。すなわち、第１状態では、排気管８４は処理筐体６１からガスを排出せず、排気管８５も処理筐体６１からガスを排出しない。第２状態では、切り換え機構８２は処理筐体６１を排気管８４に連通させ、かつ、処理筐体６１を排気管８３、８５から遮断する。第２状態では、専ら排気管８４が、処理筐体６１からガスを排出する。第３状態では、切り換え機構８２は処理筐体６１を排気管８５に連通させ、かつ、処理筐体６１を排気管８３、８４から遮断する。第３状態では、専ら排気管８５が、処理筐体６１からガスを排出する。

４．基板処理装置１の動作例
基板処理装置１の動作例を簡単に説明する。以下では、搬送スペース１２Ａ、１２Ｂを区別しない場合には、搬送スペース１２と呼ぶ。搬送機構１３Ａ、１３Ｂを区別しない場合には、搬送機構１３と呼ぶ。基板載置部１６Ａ、１６Ｂを区別しない場合には、基板載置部１６と呼ぶ。第１－第４搬送口２８Ａ―２８Ｄを区別しない場合には、搬送口２８と呼ぶ。

インデクサ部３は、処理ブロック１１に基板Ｗを供給する。具体的には、搬送機構６は、キャリアＣから基板載置部１６に基板Ｗを搬送する。例えば、搬送機構６は、基板載置部１６Ａ、１６Ｂに交互に、基板Ｗを渡す。

搬送機構１３は、基板載置部１６を介して、インデクサ部３から基板Ｗを受ける。そして、搬送機構１３は、基板載置部１６から１つの処理ユニット２１に基板Ｗを搬送する。
具体的には、搬送機構１３は、前後方向Ｘに平行移動する。そして、搬送機構１３は、保持部２５に対向する位置で止まる。搬送機構１３は、搬送口２８を通じて、基板Ｗを保持部２５に渡す。

処理液（第１処理液）は、液貯留部３１から、第１分配部４１を通じて、処理ユニット２１（液供給部２７）に分配される。処理液（第２処理液）は、液貯留部３２から、第２分配部４２を通じて、処理ユニット２１（液供給部２７）に分配される。

処理ユニット２１は、基板Ｗを処理する。具体的には、保持部２５は基板Ｗを保持する。回転駆動部６３は、保持部２５に保持される基板Ｗを回転する。液供給部２７は、保持部２５に保持される基板Ｗに処理液を供給する。カップ８０は、基板Ｗから飛散された処理液を受ける。ガス排出部８１は、処理スペース６２のガスを排出する。

例えば、第１吐出調整部７１は、第１ノズル７８に第１処理液を供給する。第１ノズル７８は、第１処理液を基板Ｗに吐出する。切り換え機構８２は、処理筐体６１の排出路を、排気管８３に切り換える。ガスは、処理筐体６１から排気管８３に流れ、排気管８３から排気管５３に流れる。その後、第１吐出調整部７１は、第１ノズル７８に対する第１処理液の供給を停止する。第１ノズル７８は、第１処理液の吐出を停止する。

続いて、第２吐出調整部７２は、第２ノズル７９に第２処理液を供給する。第２ノズル７９は、第２処理液を基板Ｗに吐出する。切り換え機構８２は、処理筐体６１の排出路を、排気管８４に切り換える。ガスは、処理筐体６１から排気管８４に流れ、排気管８４から排気管５４に流れる。その後、第２吐出調整部７２は、第２ノズル７９に対する第２処理液の供給を停止する。第２ノズル７９は、第２処理液の吐出を停止する。

処理ユニット２１が基板Ｗを処理した後、処理ブロック１１は、処理された基板Ｗをインデクサ部３に戻す。具体的には、搬送機構１３は、処理ユニット２１（保持部２５）から基板載置部１６に基板Ｗを搬送する。

インデクサ部３は、処理ブロック１１から基板Ｗを回収する。具体的には、搬送機構６は、基板載置部１６からキャリアＣに基板Ｗを搬送する。

５．実施形態の効果
基板処理装置１は、インデクサ部３と処理ブロック１１を備える。処理ブロック１１は、インデクサ部３の後方に配置される。処理ブロック１１は、インデクサ部３に接続される。処理ブロック１１は、搬送スペース１２Ａと搬送機構１６Ａと第１処理ユニット２１Ａ１と第２処理ユニット２１Ｂ１を備える。搬送スペース１２Ａは、前後方向Ｘに延びる。搬送機構１６Ａは、搬送スペース１２Ａに設置される。搬送機構１６Ａは、基板Ｗを搬送する。第１処理ユニット２１Ａ１は、基板Ｗを処理する。第２処理ユニット２１Ｂ１は、基板Ｗを処理する。第１処理ユニット２１Ａ１は、第１保持部２５Ａと第１液供給部２７Ａを備える。第１保持部２５Ａは、基板Ｗを保持する。第１液供給部２７Ａは、第１保持部２５Ａに保持される基板Ｗに処理液を供給する。第２処理ユニット２１Ｂ１は、第２保持部２５Ｂと第２液供給部２７Ｂを備える。第２保持部２５Ｂは、基板Ｗを保持する。第２液供給部２７Ｂは、第２保持部２５Ｂに保持される基板Ｗに処理液を供給する。

ここで、第１処理ユニット２１Ａ１は、搬送スペース１２Ａの右方に配置される。第１保持部２５Ａの中心２６Ａは、平面視において、第１処理ユニット２１Ａ１の中心２４Ａよりも後方に位置する。第２処理ユニット２１Ｂ１は、搬送スペース１２Ａの左方に配置される。第２保持部２５Ｂの中心２６Ｂは、平面視において、第２処理ユニット２１Ｂ１の中心２４Ｂよりも前方に位置する。このため、同じ構造を有する２つの処理ユニットを、第１処理ユニット２１Ａ１および第２処理ユニット２１Ｂ１として、採用できる。よって、第１処理ユニット２１Ａ１と第２処理ユニット２１Ａ２の間において、基板Ｗに行う処理の品質がばらつくことを容易に抑制できる。さらに、第１処理ユニット２１Ａ１の部品および第２処理ユニット２１Ｂ１の部品が、容易に共通化される。

搬送機構１６Ａは、第１保持部２５Ａと第２保持部２５Ｂに基板Ｗを搬送する。搬送機構１６Ａは、前後方向Ｘに平行移動可能に構成される。このため、搬送機構１６Ａは、第１保持部２５Ａと第２保持部２５Ｂに基板Ｗを好適に搬送できる。

第２処理ユニット２１Ｂ１の前端２２Ｂは、第１処理ユニット２１Ａ１の前端２２Ａよりも後方に配置される。第２処理ユニット２１Ｂ１の前端２２Ｂは、第１処理ユニット２１Ａ１の後端２３Ａよりも前方に配置される。このように、第２処理ユニット２１Ｂ１は、第１処理ユニット２１Ａ１に対して、後方にシフトされる。このため、第２保持部２５Ｂは極端に前方に配置されない。よって、前後方向Ｘにおける搬送機構１３Ａの移動距離は好適に低減される。具体的には、距離Ｌは比較的に短い。

図１０は、比較例に係る基板処理装置２０１の平面図である。基板処理装置１における距離Ｌは、基板処理装置２０１における距離Ｍよりも短い。したがって、搬送機構１３Ａは、第１保持部２５Ａおよび第２保持部２５Ｂに効率良く基板Ｗを搬送できる。その結果、第１処理ユニット２１Ａ１と第２処理ユニット２１Ｂ１はそれぞれ、基板２を効率良く処理できる。

処理ブロック１１は、第１液貯留部３１を備える。第２液貯留部３１は、第１処理ユニット２１Ａ１および第２処理ユニット２１Ｂ１に分配される処理液を貯留する。第１液貯留部３１は、搬送スペース１２Ａの左方に配置される。第１液貯留部３１は、第２処理ユニット２１Ｂ１の前方に隣接される。このように、第２処理ユニット２１Ｂ１の前方のスペースは、有効に利用される。このため、基板処理装置１の前後方向Ｘの長さが増大することを抑制できる。

以上の通り、実施形態に係る基板処理装置１によれば、第１処理ユニット２１Ａ１の構造と第２処理ユニット２１Ｂ１の構造を容易に共通化できる。その結果、第１処理ユニット２１Ａ１における処理品質と第２処理ユニット２１Ｂ１における処理品質を容易に均一化できる。さらに、搬送機構１３Ａは、第１処理ユニット２１Ａ１と第２処理ユニット２１Ｂ１に効率良く基板Ｗを搬送できる。その結果、基板処理装置１のスループットを好適に向上できる。さらに、基板処理装置１のフットプリントが増大することを抑制できる。

第２保持部２５Ｂの前記中心２６Ｂは、第１保持部２５Ａの中心２６Ａよりも前方に配置される。このため、第２処理ユニット２１Ｂ１は、第１処理ユニット２１Ａ１に対して、後方に過度にシフトしない。よって、基板処理装置１の前後方向Ｘの長さが増大することを抑制できる。

液貯留部３１は、前端３１ｆを有する。前後方向Ｘにおいて、前端３１ｆは、第１処理ユニット２１Ａ１の前端２２Ａと同等の位置に配置される。このため、基板処理装置１の前後方向Ｘの長さが増大することを抑制できる。

第１処理ユニット２１Ａ１は、インデクサ部３の後方に隣接される。第１液貯留部３１は、インデクサ部３の後方に隣接される。このため、処理ブロック１１の前後方向Ｘの長さが増大することを抑制できる。

第２処理ユニット２１Ｂ１は、第１処理ユニット２１Ａ１が鉛直軸回りに１８０度、回転されたものと等しい構造を有する。このため、第１処理ユニット２１Ａ１における処理品質と第２処理ユニット２１Ｂ１における処理品質が容易に均一化される。

基板処理装置１は、基板載置部１６Ａを備える。基板載置部１６Ａは、インデクサ部３と搬送機構１３Ａとの間で搬送される基板Ｗを載置する。このため、搬送機構１３Ａは、インデクサ部３から基板Ｗを容易に受けることができる。搬送機構１３Ａは、インデクサ部３に基板Ｗを容易に渡すことができる。

基板載置部１６Ａの少なくとも一部は、搬送スペース１２Ａに設置される。このため、搬送機構１３Ａの可動域は、基板載置部１６Ａの後方に限られる。この場合であっても、搬送機構１３Ａは、第２保持部２６Ｂに基板Ｗを容易に搬送できる。具体的には、搬送機構１３Ａが第２保持部２６Ｂに基板Ｗを搬送するとき、搬送機構１３Ａは基板載置部１６Ａと干渉するおそれがない。第２処理ユニット２１Ｂ１は、第１処理ユニット２１Ａ１に対して、後方にシフトされるからである。

基板載置部１６Ａは、第１処理ユニット２１Ａ１と第１液貯留部３１の間に配置される。言い換えれば、第１処理ユニット２１Ａ１と基板載置部１６Ａと第１液貯留部３１は、幅方向Ｙにこの順番で並ぶ。このため、搬送機構１３Ａが第２保持部２６Ｂに基板Ｗを搬送することを、基板載置部１６Ａは妨げない。

基板処理装置１は、第３処理ユニット２１Ｃ１と第４処理ユニット２１Ｄ１を備える。第３処理ユニット２１Ｃ１は、第１処理ユニット２１Ａ１の後方に隣接される。第３処理ユニット２１Ｃ１は、基板Ｗを処理する。第４処理ユニット２１Ｄ１は、第２処理ユニット２１Ｂ１の後方に隣接される。第４処理ユニット２１Ｄ１は、基板Ｗを処理する。第３処理ユニット２１Ｃ１は、第３保持部２５Ｃと第３液供給部２７Ｃを備える。第３保持部２５Ｃは、基板Ｗを保持する。第３液供給部２７Ｃは、第３保持部２５Ｃに保持される基板Ｗに処理液を供給する。第４処理ユニットは、第４保持部２５Ｄと第４液供給部２７Ｄを備える。第４保持部２５Ｄは、基板Ｗを保持する。第４液供給部２７Ｄは、第４保持部２５Ｄに保持される基板Ｗに処理液を供給する。搬送機構１３Ａは、第３保持部２５Ｃと第４保持部２５Ｄに基板Ｗを搬送する。第１液貯留部３１は、第３処理ユニット２１Ｃ１と第４処理ユニット２１Ｄ１に分配される処理液を貯留する。ここで、第３処理ユニット２１Ｃ１は、搬送スペース１２Ａの右方に配置さる。第３処理ユニット２１Ｃ１は、平面視において、中心２４Ｃを有する。第３保持部２５Ｃは、平面視において、中心２６Ｃを有する。中心２６Ｃは、平面視において、中心２４Ｃよりも後方に位置する。第４処理ユニット２１Ｄ１は、搬送スペース１２Ａの左方に配置される。第４処理ユニット２１Ｄ１は、平面視において、中心２４Ｄを有する。第４保持部２５Ｄは、平面視において、中心２６Ｄを有する。中心２６Ｄは、平面視において、中心２４Ｄよりも前方に位置する。このため、同じ構造を有する４つの処理ユニットを、第１－第４処理ユニット２１Ａ１－２１Ｄ１として、採用できる。よって、第１－第４処理ユニット２１Ａ１－２１Ｄ１の間において、基板Ｗに行う処理の品質がばらつくことを容易に抑制できる。さらに、第１－第４処理ユニット２１Ａ１－２１Ｄ１の間で、部品が容易に共通化される。

第４処理ユニット２１Ｄ１の前端２２Ｄは、第３処理ユニット２１Ｃ１の前端２２Ｃよりも後方に配置される。第４処理ユニット２１Ｄ１の前端２２Ｄは、第３処理ユニット２１Ｃ１の後端２３Ｃよりも前方に配置される。このように、第４処理ユニット２１Ｄ１は、第３処理ユニット２１Ｃ１に対して、後方にシフトされる。このため、第３保持部２５Ｃは極端に後方に配置されない。よって、前後方向Ｘにおける搬送機構１３Ａの移動距離は好適に低減される。したがって、搬送機構１３Ａは、第１－第４保持部２５Ａ－２５Ｄに効率良く基板Ｗを搬送できる。その結果、第１－第４処理ユニット２１Ａ１－２１Ｄ１はそれぞれ、基板Ｗを効率良く処理できる。

第３処理ユニット２１Ｃ１は、第１処理ユニット２１Ａ１と等しい構造を有する。第４処理ユニット２１Ｄ１は、第１処理ユニット２１Ａ１が鉛直軸回りに１８０度、回転されたものと等しい構造を有する。このため、第１－第４処理ユニット２１Ａ１－２１Ｄ１の間において、基板Ｗに行われる処理の品質が容易に均一化される。

基板処理装置１は、第２液貯留部３２を備える。第２液貯留部３２は、第１処理ユニット２１Ａ１、第２処理ユニット２１Ｂ１、第３処理ユニット２１Ｃ１および第４処理ユニット２１Ｄ１に分配される処理液を貯留する。第２液貯留部３２は、搬送スペース１２Ａの右方に配置される。第２液貯留部３２は、第３処理ユニット２１Ｃ１の後方に隣接される。このように、第３処理ユニット２１Ｃ１の後方のスペースは、有効に利用される。このため、基板処理装置１の前後方向Ｘの長さが増大することを抑制できる。

前後方向Ｘにおいて、第２液貯留部３２の後端３２ｒは、第４処理ユニット２１Ｄ１の後端２３Ｄと同等の位置に配置される。このため、基板処理装置１の前後方向Ｘの長さが増大することを抑制できる。

第２液貯留部３２に貯留される処理液は、第１液貯留部３１に貯留される処理液とは異なる種類である。このため、第１－第４処理ユニット２１Ａ１－２１Ｄ１はそれぞれ、２種類の処理液を基板Ｗに供給できる。

基板処理装置１は、上部スペース３９と第１分配部４１と第２分配部４２を備える。上部スペース３９は、搬送スペース１２Ａ１、第１処理ユニット２１Ａ１、第２処理ユニット２１Ｂ１、第３処理ユニット２１Ｃ１、第４処理ユニット２１Ｄ１、第１液貯留部３１および第２液貯留部３２の上方に形成される。第１分配部４１は、第１液貯留部３１から、第１処理ユニット２１Ａ１、第２処理ユニット２１Ｂ１、第３処理ユニット２１Ｃ１および第４処理ユニット２１Ｄ１に処理液を分配する。第２分配部４２は、第２液貯留部３２から、第１処理ユニット２１Ａ１、第２処理ユニット２１Ｂ１、第３処理ユニット２１Ｃ１および第４処理ユニット２１Ｄ１に処理液を分配する。ここで、第１分配部４１は、上部スペース３９に設けられる。第２分配部４２は、上部スペース３９に設けられる。このため、基板処理装置１のフットプリントが増大することを好適に抑制できる。

第２分配部４２は、平面視において、第１分配部４１が１８０度、回転されたものと等しい。このため、第１分配部４１の流路長と第２分配部４２の流路長は、容易に均一化される。

基板処理装置１は、第１接続ボックス４６Ａと第２接続ボックス４６Ｂと第３接続ボックス４６Ｃと第４接続ボックス４６Ｄを備える。第１接続ボックス４６Ａは、第１処理ユニット２１Ａ１の上方に配置される。第２接続ボックス４６Ｂは、第２処理ユニット２１Ｂ１の上方に配置される。第３接続ボックス４６Ｃは、第３処理ユニット２１Ｃ１の上方に配置される。第４接続ボックス４６Ｄは、第４処理ユニット２１Ｄ１の上方に配置される。第１分配部４１は、第１液貯留部３１から、第１接続ボックス４６Ａ、第２接続ボックス４６Ｂ、第３接続ボックス４６Ｃおよび第４接続ボックス４６Ｄまで延びる。第２分配部４２は、第２液貯留部３２から、第１接続ボックス４６Ａ、第２接続ボックス４６Ｂ、第３接続ボックス４６Ｃおよび第４接続ボックス４６Ｄまで延びる。このように、第１分配部４１と第２分配部４２はともに、第１接続ボックス４６Ａまで延びる。同様に、第１分配部４１と第２分配部４２はともに、第２－第４接続ボックス４６Ｂ－４６Ｄまで延びる。よって、第１分配部４１の流路長と第２分配部４２の流路長は容易に均一化される。

前後方向Ｘにおいて、第１接続ボックス４６Ａは、第１保持部２５Ａよりも前方に配置される。前後方向Ｘにおいて、第２接続ボックス４６Ｂは、第２保持部２５Ｂよりも後方に配置される。前後方向Ｘにおいて、第３接続ボックス４６Ｃは、第３保持部２５Ｃよりも前方に配置される。前後方向Ｘにおいて、第４接続ボックス４６Ｄは、第４保持部２５Ｄよりも後方に配置される。このため、第１液貯留部３１から第１接続ボックス４６Ａまでの流路長と第１液貯留部３１から第２接続ボックス４６Ｂまでの流路長との間の差を、好適に低減できる。具体的には、第１配管４３Ａの長さと第２配管４３Ｂの長さとの間の差を、好適に低減できる。同様に、第１液貯留部３１から第３接続ボックス４６Ｃまでの流路長と第１液貯留部３１から第４接続ボックス４６Ｄまでの流路長との間の差を、好適に低減できる。具体的には、第３配管４３Ｃの長さと第４配管４３Ｄの長さとの間の差を、好適に低減できる。第２液貯留部３２から第１接続ボックス４６Ａまでの流路長と第２液貯留部３２から第２接続ボックス４６Ｂまでの流路長との間の差を、好適に低減できる。具体的には、第５配管４４Ａの長さと第６配管４４Ｂの長さとの間の差を、好適に低減できる。第２液貯留部３２から第３接続ボックス４６Ｃまでの流路長と第２液貯留部３２から第４接続ボックス４６Ｄまでの流路長との間の差を、好適に低減できる。具体的には、第７配管４４Ｃの長さと第８配管４４Ｄの長さとの間の差を好適に低減できる。

基板処理装置１は、第１継ぎ手４７Ａと第２継ぎ手４７Ｂと第３継ぎ手４７Ｃと第４継ぎ手４７Ｄを備える。第１継ぎ手４７Ａは、第１接続ボックス４６Ａに収容される。第１継ぎ手４７Ａは、第１分配部４１と第１液供給部２７Ａを接続する。第２継ぎ手４７Ｂは、第２接続ボックス４６Ｂに収容される。第２継ぎ手４７Ｂは、第１分配部４１と第２液供給部２７Ｂを接続する。第３継ぎ手４７Ｃは、第３接続ボックス４６Ｃに収容される。第３継ぎ手４７Ｃは、第１分配部４１と第３液供給部２７Ｃを接続する。第４継ぎ手４７Ｄは、第４接続ボックス４６Ｄに収容される。第４継ぎ手４７Ｄは、第１分配部４１と第４液供給部２７Ｄを接続する。このため、第１－第４接続ボックス４６Ａ－４６Ｄ内において、第１分配部４１と第１－第４液供給部２７Ａ－２７Ｄを、好適に着脱できる。

基板処理装置１は、第５継ぎ手４８Ａと第６継ぎ手４８Ｂと第７継ぎ手４８Ｃと第８継ぎ手４８Ｄを備える。第５継ぎ手４８Ａは、第１接続ボックス４６Ａに収容される。第５継ぎ手４８Ａは、第２分配部４２と第１液供給部２７Ａを接続する。第６継ぎ手４８Ｂは、第２接続ボックス４６Ｂに収容される。第６継ぎ手４８Ｂは、第２分配部４２と第２液供給部２７Ｂを接続する。第７継ぎ手４８Ｃは、第３接続ボックス４６Ｃに収容される。第７継ぎ手４８Ｃは、第２分配部４２と第３液供給部２７Ｃを接続する。第８継ぎ手４８Ｄは、第４接続ボックス４６Ｄに収容される。第８継ぎ手４８Ｄは、第２分配部４２と第４液供給部２７Ｄを接続する。このため、第１－第４接続ボックス４６Ａ－４６Ｄ内において、第２分配部４２と第１－第４液供給部２７Ａ－２７Ｄを、好適に着脱できる。

基板処理装置１は、踏み板５７を備える。踏み板５７は、上部スペース３９に設置される。踏み板５７は、略平坦である。このため、基板処理装置１のユーザーは、踏み板５７に載ることができる。よって、ユーザーは、例えば、踏み板５７上でメンテナンス作業を行うことができる。

踏み板５７は、第１接続ボックス４６Ａの近傍に配置される。このため、ユーザーは、第１接続ボックス４６Ａに容易にアクセスできる。よって、ユーザーは、第１分配部４１と第１液供給部２７Ａを着脱する作業を、踏み板５７上で行うことができる。ユーザーは、第２分配部４２と第１液供給部２７Ａを着脱する作業を、踏み板５７上で行うことができる。同様に、踏み板５７は、第２接続ボックス４６Ｂ、第３接続ボックス４６Ｃおよび第４接続ボックス４６Ｄの近傍に配置される。よって、ユーザーは、第１－第２分配部４１－４２と第２－第４液供給部２７Ｂ－２７Ｄを着脱する作業を、踏み板５７上で、行うことができる。

踏み板５７は、第２接続ボックス４６Ｂおよび第３接続ボックス４６Ｃの間を通り、第１接続ボックス４６Ａから第４接続ボックス４６Ｄまで延びる。このため、ユーザーは、第１－第４接続ボックス４６Ａ－４６Ｄの間を、容易に移動できる。

踏み板５７は、第１分配部４１の少なくとも一部の上方に配置される。このため、踏み板５７は、第１分配部４１を好適に保護する。

踏み板５７は、第２分配部４２の少なくとも一部の上方に配置される。このため、踏み板５７は、第２分配部４２を好適に保護する。

本発明は、実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。

実施形態では、右方が本発明の第１側方の例であり、左方が本発明の第２側方の例であった。但し、これに限られない。左方が本発明の第１側方の例であり、右方が本発明の第２側方の例であってもよい。具体的には、第１処理ユニット２１Ａ１が搬送スペース１２Ａの左方に配置され、第２処理ユニット２１Ｂ１および第１液貯留部３１が搬送スペース１２Ａの右方に配置されてもよい。

実施形態において、基板処理装置１は、さらに、第１液貯留部および第２液貯留部に加えて、別の貯留部を備えてもよい。図９は、変形実施形態に係る基板処理装置１の右側面図である。なお、実施例と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。図９は、便宜上、第１分配部４１および第２分配部４２の図示を省略する。

変形実施形態に係る基板処理装置１は、第３液貯留部９１を備える。第３液貯留部９１は、インデクサ部３に配置される。第３液貯留部９１は、第１－第４処理ユニット２１Ａ－２１Ｄに分配される処理液を貯留する。

第３液貯留部９１に貯留される処理液は、第３処理液である。第３処理液は、例えば、例えば、アルカリ液（アルカリ系の薬液）に分類される。第３処理液は、例えば、アンモニア過酸化水素水（ＳＣ１）、アンモニア水、フッ化アンモニウム溶液、および、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）の少なくとも１つを含む。

第３液貯留部９１は、タンク９２とポンプ９３とキャビネット９４を備える。タンク９２は、処理液（具体的には、第３処理液）を貯留する。ポンプ９３は、タンク９２に連通接続されている。キャビネット９４は、タンク９２とポンプ９３を収容する。

基板処理装置１は、第３分配部９５を備える。第３分配部９５は、第３液貯留部９１から、第１－第４処理ユニット２１Ａ－２１Ｄに処理液を分配する。

具体的には、第３分配部９５はポンプ９３に連通接続される。第３分配部９５は、インデクサ部３の底部から、処理ブロック１１の底部まで延びる。第３分配部９５は、例えば、地下ピットに設けられる。地下ピットは、インデクサ部３および処理ブロック１１が設置される床面ＦＬの下方に形成される。第３分配部９５は、継ぎ手９６を介して、第１－第４液供給部２７Ａ－２７Ｄに接続される。

変形実施形態に係る基板処理装置１は、第４液貯留部１０１を備える。第４液貯留部１０１は、インデクサ部３および処理ブロック１１の外部に設置される。例えば、第４液貯留部１０１は、地下ピットに設けられる。第４液貯留部１０１は、第１－第４処理ユニット２１Ａ－２１Ｄに分配される処理液を貯留する。

第４液貯留部１０１に貯留される処理液は、第４処理液である。第４処理液は、例えば、例えば、洗浄液に分類される。第４処理液は、例えば、純水である。

第４液貯留部１０１は、タンク１０２とポンプ１０３とキャビネット１０４を備える。タンク１０２は、処理液（具体的には、第４処理液）を貯留する。ポンプ１０３は、タンク１０２に連通接続されている。キャビネット１０４は、タンク１０２とポンプ１０３を収容する。

基板処理装置１は、第４分配部１０５を備える。第４分配部１０５は、第４液貯留部１０１から、第１－第４処理ユニット２１Ａ－２１Ｄに処理液を分配する。

具体的には、第４分配部１０５はポンプ１０３に連通接続される。第４分配部１０５は、第４貯留部１０１から、処理ブロック１１の底部まで延びる。第４分配部１０５は、例えば、地下ピットに設けられる。第４分配部１０５は、継ぎ手１０６を介して、第１－第４液供給部２７Ａ－２７Ｄに接続される。

基板処理装置１は、戻り部１０７を備える。戻り部１０７は、第１－第４処理ユニット２１Ａ－２１Ｄから、第４液貯留部１０１に処理液を戻す。

具体的には、戻り部１０７は、第１－第４液供給部２７Ａ－２７Ｄに連通接続される。戻り部１０７は、第１－第４接続ボックス４６Ａ－４６Ｄにおいて、第１－第４液供給部２７Ａ－２７Ｄに連通接続される。戻り部１０７は、継ぎ手１０８を介して、第１－第４液供給部２７Ａ－２７Ｄに接続される。戻り部１０７は、上部スペース３９に設置される。戻り部１０７は、第１－第４接続ボックス４６Ａ－４６Ｄから後方に延びる。

処理ブロック１１は、インターフェース部１１１を備える。インターフェース部１１１は、処理ブロック１１の後部に位置する。インターフェース部１１１は、搬送スペース１２、処理ユニット２１、第１液貯留部３１および第２液貯留部３２の後方に配置される。インターフェース部１１１は、鉛直方向Ｚに延びる。インターフェース部１１１は、上部スペース３９から処理ブロック１１の底部まで延びる。

戻り部１０７は、上部スペース３９からインターフェース部１１１に入る。戻り部１０７は、インターフェース部１１１の内部を下方に延びる。戻り部１０７は、インターフェース部１１１の底部を通じて、インターフェース部１１１の外部（地下ピット）に出る。そして、戻り部１０７は、第４貯留部１０１に入る。戻り部１０７は、タンク１０２に連通接続される。

なお、処理ブロック１１は、さらに、配電部（不図示）を備えてもよい。配電部は、例えば、処理ブロック１１の後部に配置される。配電部は、例えば、インターフェース部１１１の近くに配置される。配電部は、基板処理装置１の電源を管理する。配電部は、例えば、１つ以上の開閉器を含む。開閉器は、基板処理装置１が有する電気機器に電力を投入・遮断する。

実施形態では、第１液貯留部３１は第１処理液を貯留した。但し、これに限られない。第１液貯留部３１は第２処理液、第３処理液および第４処理液のいずれかを貯留してもよい。同様に、実施形態では、第２液貯留部３２は第２処理液を貯留した。但し、これに限られない。第２液貯留部３２は第１処理液、第３処理液および第４処理液のいずれかを貯留してもよい。

実施形態において、基板載置部１６Ａの一部は、インデクサ部３に配置されてもよい。

実施形態において、踏み板５７は、第１分配部４１の全部の上方に配置されてもよい。踏み板５７は、第２分配部４２の全部の上方に配置されてもよい。踏み板５７は、排気管５３－５５の全部の上方に配置されてもよい。

実施形態では、踏み板５７は、第１－第４接続ボックス４６Ａ－４６Ｄの上方に配置されない。但し、これに限られない。踏み板５７は、第１－第４接続ボックス４６Ａ－４６Ｄの少なくとも一部の上方に配置されてもよい。踏み板５７は、第１－第４接続ボックス４６Ａ－４６Ｄの全部の上方に配置されてもよい。踏み板５７は、第１接続ボックス４６Ａの上方を開閉するパネルを有してもよい。パネルが開くとき、ユーザーは、第１接続ボックス４６Ａに容易にアクセスできる。パネルが閉じるとき、パネルは第１接続ボックス４６Ａを保護する。同様に、踏み板５７は、第２―第４接続ボックス４６Ｂ－４６Ｄの上方を開閉するパネルを有してもよい。

実施形態では、処理ブロック１１が有する搬送スペース１２の数は、２つであった。但し、これに限られない。処理ブロック１１が有する搬送スペース１２の数は、１つでもよく、また、２つよりも多くてもよい。

実施形態では、処理ブロック１１が有する搬送機構１３の数は、２つであった。但し、これに限られない。処理ブロック１１が有する搬送機構１３の数は、１つでもよく、また、２つよりも多くてもよい。

実施形態では、基板処理装置１は、第３処理ユニット２１Ｃ１と第４処理ユニット２１Ｄ１を備えた。但し、これに限られない。例えば、第３処理ユニット２１Ｃ１と第４処理ユニット２１Ｄ１を省略してもよい。

実施形態では、搬送スペース１２Ａの右方において前後方向Ｘに並ぶ処理ユニット２１の数は、２つであった。但し、これに限られない。搬送スペース１２Ａの右方において前後方向Ｘに並ぶ処理ユニット２１の数は、１つでもよく、また、２つよりも多くてもよい。同様に、搬送スペース１２Ａの左方において前後方向Ｘに並ぶ処理ユニット２１の数は、１つでもよく、また、２つよりも多くてもよい。

実施形態では、第１処理ユニット２１Ａの数は、６つであった。但し、これに限られない。第１処理ユニット２１Ａの数は、１つ以上６つ未満、または、６つよりも多くてもよい。

実施形態では、鉛直方向Ｚに並ぶ処理ユニット２１の数は、６つであった。但し、これに限られない。鉛直方向Ｚに並ぶ処理ユニット２１の数は、１つ以上６つ未満、または、６つよりも多くてもよい。

実施形態および各変形実施形態については、さらに各構成を他の変形実施形態の構成に置換または組み合わせるなどして適宜に変更してもよい。

１ … 基板処理装置
３ … インデクサ部
１２Ａ … 搬送スペース１２Ａ
１３Ａ … 搬送機構
１６Ａ … 基板載置部
２１Ａ１… 第１処理ユニット
２２Ａ … 第１処理ユニットの前端
２３Ａ … 第１処理ユニットの後端
２４Ａ … 平面視における第１処理ユニットの中心
２１Ｂ１… 第２処理ユニット
２２Ｂ … 第２処理ユニットの前端
２３Ｂ … 第２処理ユニットの後端
２４Ｂ … 平面視における第２処理ユニットの中心
２１Ｃ１… 第３処理ユニット
２２Ｃ … 第３処理ユニットの前端
２３Ｃ … 第３処理ユニットの後端
２４Ｃ … 平面視における第３処理ユニットの中心
２１Ｄ１… 第４処理ユニット
２２Ｄ … 第４処理ユニットの前端
２３Ｄ … 第４処理ユニットの後端
２４Ｄ … 平面視における第４処理ユニットの中心
２５Ａ … 第１保持部
２６Ａ … 平面視における第１保持部の中心
２５Ｂ … 第２保持部
２６Ｂ … 平面視における第２保持部の中心
２５Ｃ … 第３保持部
２６Ｃ … 平面視における第３保持部の中心
２５Ｄ … 第４保持部
２６Ｄ … 平面視における第４保持部の中心
２７Ａ … 第１液供給部
２７Ｂ … 第２液供給部
２７Ｃ … 第３液供給部
２７Ｄ … 第４液供給部
３１ … 第１液貯留部
３２ … 第２液貯留部
３９ … 上部スペース
４１ … 第１分配部
４２ … 第２分配部
４６Ａ … 第１接続ボックス
４６Ｂ … 第２接続ボックス
４６Ｃ … 第３接続ボックス
４６Ｄ … 第４接続ボックス
４７Ａ … 第１継ぎ手
４７Ｂ … 第２継ぎ手
４７Ｃ … 第３継ぎ手
４７Ｄ … 第４継ぎ手
５７ … 踏み板
Ｗ … 基板
Ｘ … 前後方向
Ｙ … 幅方向
Ｚ … 鉛直方向

Claims (20)

1. 基板処理装置であって、
   インデクサ部と、
   前記インデクサ部の後方に配置され、前記インデクサ部に接続される処理ブロックと、
   を備え、
   前記処理ブロックは、
   前後方向に延びる搬送スペースと、
   前記搬送スペースに設置され、前記前後方向に平行移動可能に構成され、基板を搬送する搬送機構と、
   前記搬送スペースの第１側方に配置され、基板を処理する第１処理ユニットと、
   前記搬送スペースの第２側方に配置され、基板を処理する第２処理ユニットと、
   前記第１処理ユニットおよび前記第２処理ユニットに分配される処理液を貯留する第１液貯留部と、
   を備え、
   前記第１処理ユニットは、
   基板を保持する第１保持部と、
   前記第１保持部に保持される基板に処理液を供給する第１液供給部と、
   を備え、
   前記第２処理ユニットは、
   基板を保持する第２保持部と、
   前記第２保持部に保持される基板に処理液を供給する第２液供給部と、
   を備え、
   前記搬送機構は、前記第１保持部と前記第２保持部に基板を搬送し、
   前記第１保持部は、平面視において、前記第１処理ユニットの中心よりも後方に位置する中心を有し、
   前記第２保持部は、平面視において、前記第２処理ユニットの中心よりも前方に位置する中心を有し、
   前記第２処理ユニットの前端は、前記第１処理ユニットの前端よりも後方に配置され、かつ、前記第１処理ユニットの後端よりも前方に配置され、
   前記第１液貯留部は、前記搬送スペースの前記第２側方に配置され、前記第２処理ユニットの前方に隣接される
   基板処理装置。
2. 請求項１に記載の基板処理装置において、
   前記第２保持部の前記中心は、前記第１保持部の前記中心よりも前方に配置される
   基板処理装置。
3. 請求項１または２に記載の基板処理装置において、
   前記前後方向において、前記第１液貯留部の前端は、前記第１処理ユニットの前記前端と同等の位置に配置される
   基板処理装置。
4. 請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記第１処理ユニットは、前記インデクサ部の後方に隣接され、
   前記第１液貯留部は、前記インデクサ部の後方に隣接される
   基板処理装置。
5. 請求項１から４のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記第２処理ユニットは、前記第１処理ユニットが鉛直軸回りに１８０度、回転されたものと等しい構造を有する
   基板処理装置。
6. 請求項１から５のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記インデクサ部と前記搬送機構との間で搬送される基板を載置する基板載置部と、
   を備え、
   前記基板載置部の少なくとも一部は、前記搬送スペースに設置される
   基板処理装置。
7. 請求項６に記載の基板処理装置において、
   前記基板載置部は、前記第１処理ユニットと前記第１液貯留部の間に配置される
   基板処理装置。
8. 請求項１から７のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記搬送スペースの前記第１側方に配置され、前記第１処理ユニットの後方に隣接され、基板を処理する第３処理ユニットと、
   前記搬送スペースの前記第２側方に配置され、前記第２処理ユニットの後方に隣接され、基板を処理する第４処理ユニットと、
   を備え、
   前記第３処理ユニットは、
   基板を保持する第３保持部と、
   前記第３保持部に保持される基板に処理液を供給する第３液供給部と、
   を備え、
   前記第４処理ユニットは、
   基板を保持する第４保持部と、
   前記第４保持部に保持される基板に処理液を供給する第４液供給部と、
   を備え、
   前記搬送機構は、前記第３保持部と前記第４保持部に基板を搬送し、
   前記第１液貯留部は、前記第３処理ユニットと前記第４処理ユニットに分配される処理液を貯留し、
   前記第３保持部は、平面視において、前記第３処理ユニットの中心よりも後方に位置する中心を有し、
   前記第４保持部は、平面視において、前記第４処理ユニットの中心よりも前方に位置する中心を有し、
   前記第４処理ユニットの前端は、前記第３処理ユニットの前端よりも後方に配置され、かつ、前記第３処理ユニットの後端よりも前方に配置される
   基板処理装置。
9. 請求項８に記載の基板処理装置において、
   前記第３処理ユニットは、前記第１処理ユニットと等しい構造を有し、
   前記第４処理ユニットは、前記第１処理ユニットが鉛直軸回りに１８０度、回転されたものと等しい構造を有する
   基板処理装置。
10. 請求項８または９に記載の基板処理装置において、
    前記搬送スペースの前記第１側方に配置され、前記第１処理ユニット、前記第２処理ユニット、前記第３処理ユニットおよび前記第４処理ユニットに分配される処理液を貯留する第２液貯留部と、
    を備え、
    前記第２液貯留部は、前記搬送スペースの前記第１側方に配置され、前記第３処理ユニットの後方に隣接される
    基板処理装置。
11. 請求項１０に記載の基板処理装置において、
    前記前後方向において、前記第２液貯留部の後端は、前記第４処理ユニットの後端と同等の位置に配置される
    基板処理装置。
12. 請求項１０または１１に記載の基板処理装置において、
    前記第２液貯留部に貯留される処理液は、前記第１液貯留部に貯留される処理液とは異なる種類である
    基板処理装置。
13. 請求項１０から１２のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記搬送スペース、前記第１処理ユニット、前記第２処理ユニット、前記第３処理ユニット、前記第４処理ユニット、前記第１液貯留部および前記第２液貯留部の上方に形成される上部スペースと、
    前記上部スペースに設けられ、前記第１液貯留部から、前記第１処理ユニット、前記第２処理ユニット、前記第３処理ユニットおよび前記第４処理ユニットに処理液を分配する第１分配部と、
    前記上部スペースに設けられ、前記第２液貯留部から、前記第１処理ユニット、前記第２処理ユニット、前記第３処理ユニットおよび前記第４処理ユニットに処理液を分配する第２分配部と、
    を備える
    基板処理装置。
14. 請求項１３に記載の基板処理装置において、
    前記第２分配部は、平面視において、前記第１分配部が１８０度、回転されたものと等しい
    基板処理装置。
15. 請求項１３または１４に記載の基板処理装置において、
    前記第１処理ユニットの上方に配置される第１接続ボックスと、
    前記第２処理ユニットの上方に配置される第２接続ボックスと、
    前記第３処理ユニットの上方に配置される第３接続ボックスと、
    前記第４処理ユニットの上方に配置される第４接続ボックスと、
    を備え、
    前記第１分配部は、前記第１液貯留部から、前記第１接続ボックス、前記第２接続ボックス、前記第３接続ボックスおよび前記第４接続ボックスまで延び、
    前記第２分配部は、前記第２液貯留部から、前記第１接続ボックス、前記第２接続ボックス、前記第３接続ボックスおよび前記第４接続ボックスまで延びる
    基板処理装置。
16. 請求項１５に記載の基板処理装置において、
    前記前後方向において、前記第１接続ボックスは、前記第１保持部よりも前方に配置され、
    前記前後方向において、前記第２接続ボックスは、前記第２保持部よりも後方に配置され、
    前記前後方向において、前記第３接続ボックスは、前記第３保持部よりも前方に配置され、
    前記前後方向において、前記第４接続ボックスは、前記第４保持部よりも後方に配置される
    基板処理装置。
17. 請求項１５または１６に記載の基板処理装置において、
    前記第１接続ボックスに収容され、前記第１分配部と前記第１液供給部を接続する第１継ぎ手と、
    前記第２接続ボックスに収容され、前記第１分配部と前記第２液供給部を接続する第２継ぎ手と、
    前記第３接続ボックスに収容され、前記第１分配部と前記第３液供給部を接続する第３継ぎ手と、
    前記第４接続ボックスに収容され、前記第１分配部と前記第４液供給部を接続する第４継ぎ手と、
    を備える
    基板処理装置。
18. 請求項１５から１７のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記上部スペースに設置され、略平坦な踏み板を備える
    基板処理装置。
19. 請求項１８に記載の基板処理装置において、
    前記踏み板は、前記第１接続ボックス、前記第２接続ボックス、前記第３接続ボックスおよび前記第４液供給部の近傍に配置される
    基板処理装置。
20. 請求項１８または１９に記載の基板処理装置において、
    前記踏み板は、前記第１分配部の少なくとも一部の上方に配置される
    基板処理装置。
    

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