CN114975170A - 衬底处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的在于提供一种能将处理单元的构造共通化的衬底处理装置。在衬底处理装置(1)中，第1处理单元(12A)配置在搬送空间(12A)的右方。第1处理单元(21A1)具备第1保持部(25A)。第2处理单元(21B1)配置在搬送空间(12A)的左方。第2处理单元(21B1)具备第2保持部(25B)。第1保持部(25A)具有俯视下位于比第1处理单元(21A1)的中心(24A)更后方的中心(26A)。第2保持部(25B)具有俯视下位于比第2处理单元(21B1)的中心(24B)更前方的中心(26B)。第2处理单元(21B1)的前端(22B)配置在比第1处理单元(21A1)的前端(22A)更后方，且配置在比第1处理单元(21A1)的后端(23A)更前方。第1液体存储部(31)配置在搬送空间(12A)的左方，与第2处理单元(21B1)的前方相邻。

Description

衬底处理装置
技术领域
本发明关于一种对衬底进行处理的衬底处理装置。衬底例如为半导体晶圆、液晶显示器用衬底、有机EL(Electroluminescence：电致发光)用衬底、FPD(Flat PanelDisplay：平板显示器)用衬底、光显示器用衬底、磁盘用衬底、光盘用衬底、磁光盘用衬底、光罩用衬底、太阳能电池用衬底。
背景技术
日本专利特开2010-225935号公报揭示一种衬底处理装置。衬底处理装置具备传载部与处理块。处理块配置在传载部的后方。
处理块具备搬送空间与中心机器人。搬送空间于前后方向延伸。中心机器人设置于搬送空间的中央部。中心机器人能绕铅直轴旋转。但，中心机器人不能于前后方向平行移动。
衬底处理装置具备穿梭单元。穿梭单元设置于搬送空间。穿梭单元配置在中心机器人的前方。穿梭单元载置在传载部与中心机器人之间搬送的衬底。穿梭单元能于前后方向移动。在穿梭单元朝后方移动时，中心机器人能存取穿梭单元。
处理块具有第1处理单元、第2处理单元、第3处理单元及第4处理单元。第1处理单元与第3处理单元配置在搬送空间的第1侧方。第3处理单元配置在第1处理单元的后方。同样地，第2处理单元与第4处理单元配置在搬送空间的第2侧方。第4处理单元配置在第2处理单元的后方。
第2处理单元具有与第1处理单元的构造左右对称的构造。第4处理单元具有与第3处理单元的构造左右对称的构造。因此，中心机器人能存取第1处理单元、第2处理单元、第3处理单元与第4处理单元。即便中心机器人不能于前后方向平行移动，中心机器人也能存取第1处理单元、第2处理单元、第3处理单元及第4处理单元。
衬底处理装置具备液体贮存部。液体贮存部贮存被分配到第1-第4处理单元的处理液。液体贮存部配置在搬送空间的后方。液体贮存部配置在第1-第4处理单元的后方。
发明内容
[发明所要解决的问题]
然而，日本专利特开2010-225935号公报所示的衬底处理装置有以上所述的问题。如上所述，第2处理单元具有与第1处理单元的构造左右对称的构造。因此，第2处理单元的构造与第1处理单元的构造类似，但与第1处理单元的构造不相等。因此，在第1处理单元与第2处理单元之间，对衬底进行的处理的品质易产生不均。此外，为了制造第1处理单元与第2处理单元，而使用较多种类的零件。
同样地，第4处理单元具有与第3处理单元的构造左右对称的构造。因此，第4处理单元的构造与第3处理单元的构造类似，但与第3处理单元的构造不相等。因此，在第3处理单元与第4处理单元之间，对衬底进行的处理的品质易产生不均。此外，为了制造第3处理单元与第4处理单元，而使用较多种类的零件。
[解决问题的技术手段]
本发明是鉴于此种事情而完成的，目的在于提供一种能将处理单元的构造共通化的衬底处理装置。
本发明人为了解决所述问题而进行了深入研究。因此，本发明人首先研究了图10所示的衬底处理装置201。衬底处理装置201具备传载部202与处理块203。处理块203配置在传载部202的后方。处理块203具备搬送空间204、衬底载置部205、搬送机构206、处理单元207A、207B、207C、207D、及液体贮存部209。处理单元207A-207D具有共通的构造。处理单元207A、207C分别配置在搬送空间204的右方。处理单元207B、207D分别配置在搬送空间204的左方。液体贮存部209配置在搬送空间204的后方。液体贮存部209配置在处理单元207A、207B、207C、207D的后方。
处理单元207A-207D各自具备保持部208A-208D。搬送机构206能于前后方向X平行移动。搬送机构206存取各保持部208A-208D。
然而，本发明人发现图10所示的衬底处理装置201产生了新的问题。具体而言，新的问题为前后方向X上的搬送机构206的移动距离较长。保持部208B在保持部208A-208D中位于最前方。保持部208C在保持部208A-208D中位于最后方。图10表示距离M。距离M为保持部208B与保持部208C的前后方向X上的距离。距离M相当于搬送机构206将衬底搬送到保持部208A-208D时的前后方向X上的搬送机构206的移动距离。距离M相对较长。
此外，于搬送机构206存取保持部208B时，担心搬送机构206会与衬底载置部205干涉。
本发明基于所述研究及发现，再通过深入研究而得，且采用如下构成。也就是说，本发明为衬底处理装置，且具备传载部、及配置在所述传载部的后方，并连接于所述传载部的处理块；所述处理块具备：搬送空间，于前后方向延伸；搬送机构，设置于所述搬送空间，构成为能于所述前后方向平行移动，并搬送衬底；第1处理单元，配置在所述搬送空间的第1侧方，处理衬底；第2处理单元，配置在所述搬送空间的第2侧方，处理衬底；及第1液体贮存部，贮存待分配到所述第1处理单元及所述第2处理单元的处理液；所述第1处理单元具备保持衬底的第1保持部、及对保持于所述第1保持部的衬底供给处理液的第1液体供给部，所述第2处理单元具备保持衬底的第2保持部、及对保持于所述第2保持部的衬底供给处理液的第2液体供给部，所述搬送机构将衬底搬送到所述第1保持部与所述第2保持部，所述第1保持部具有在俯视下位于比所述第1处理单元的中心后方的中心，所述第2保持部具有在俯视下位于比所述第2处理单元的中心更前方的中心，所述第2处理单元的前端配置在比所述第1处理单元的前端更后方，且配置在比所述第1处理单元的后端更前方，所述第1液体贮存部配置在所述搬送空间的所述第2侧方，与所述第2处理单元的前方相邻。
第1处理单元配置在搬送空间的第1侧方。第1处理单元具备第1保持部。第1保持部的中心在俯视下位于比第1处理单元的中心更后方。第2处理单元配置在搬送空间的第2侧方。第2处理单元具备第2保持部。第2保持部的中心在俯视下位于比第2处理单元的中心更前方。因此，能容易地将第1处理单元的构造与第2处理单元的构造共通化。可采用具有相同构造的2个处理单元，作为第1处理单元及第2处理单元。因此，于第1处理单元与第2处理单元之间，能容易地抑制对衬底进行的处理品质不均。
搬送机构将衬底搬送到第1保持部与第2保持部。搬送机构构成为能于前后方向平行移动。因此，搬送机构能适宜地将衬底搬送到第1保持部与第2保持部。
第2处理单元的前端配置在比第1处理单元的前端更后方。也就是说，第2处理单元相对于第1处理单元向后方移位。第2处理单元的前端配置在比第1处理单元的后端更前方。因此，第2保持部未配置在非常后方。因此，适宜地减小前后方向上的搬送机构的移动距离。因此，搬送机构能效率良好地将衬底搬送到第1保持部及第2保持部。结果，第1处理单元与第2处理单元各自能效率良好地处理衬底。
第1液体贮存部配置在搬送空间的第2侧方。第1液体贮存部与第2处理单元的前方相邻。如此，有效地利用第2处理单元的前方空间。因此，能抑制前后方向上的衬底处理装置的长度增大。
如上所述，根据本发明的衬底处理装置，能容易地将第1处理单元的构造与第2处理单元的构造共通化。结果，能容易地使第1处理单元中的处理品质与第2处理单元中的处理品质均一化。此外，搬送机构能效率良好地将衬底搬送到第1处理单元与第2处理单元。结果，能适宜地提高衬底处理装置的产量。此外，能抑制衬底处理装置的占地面积增大。
于所述衬底处理装置中，优选为所述第2保持部的所述中心配置在比所述第1保持部的所述中心更前方。第2处理单元不相对于第1处理单元向后方过度移位。因此，能抑制前后方向上的衬底处理装置的长度增大。
于所述衬底处理装置中，优选为于所述前后方向上，所述第1液体贮存部的前端配置在与所述第1处理单元的所述前端同等的位置。因此，能抑制前后方向上的衬底处理装置的长度增大。
于所述衬底处理装置中，优选为所述第1处理单元与所述传载部的后方相邻，所述第1液体贮存部与所述传载部的后方相邻。能抑制前后方向上的处理块的长度增大。
于所述的衬底处理装置中，优选为所述第2处理单元具有与绕铅直轴旋转180度的所述第1处理单元相等的构造。于第1处理单元与第2处理单元之间，容易将衬底处理的品质均一化。
于所述衬底处理装置中，优选为具备载置于所述传载部与所述搬送机构之间搬送的衬底的衬底载置部，所述衬底载置部的至少一部分设置于所述搬送空间。衬底处理装置具备衬底载置部。因此，搬送机构能容易地从传载部接收衬底。搬送机构能容易地将衬底移交给传载部。衬底载置部的至少一部分设置于搬送空间。因此，搬送机构的可动区域限于衬底载置部的后方。即便于所述情况下，搬送机构也能容易地将衬底搬送到第2保持部。这是因为第2处理单元相对于第1处理单元向后方移位。
于所述衬底处理装置中，优选为所述衬底载置部配置在所述第1处理单元与所述第1液体贮存部之间。换句话说，第1处理单元、衬底载置部及第1液体贮存部优选为依序排列于宽度方向。此处，宽度方向为与前后方向正交的水平的方向。衬底载置部不会妨碍搬送机构将衬底搬送到第2保持部。
于所述衬底处理装置中，优选为具备第3处理单元，配置在所述搬送空间的所述第1侧方，与所述第1处理单元的后方相邻，并处理衬底；及第4处理单元，配置在所述搬送空间的所述第2侧方，与所述第2处理单元的后方相邻，并处理衬底；所述第3处理单元具备保持衬底的第3保持部、及对保持于所述第3保持部的衬底供给处理液的第3液体供给部，所述第4处理单元具备保持衬底的第4保持部、及对保持于所述第4保持部的衬底供给处理液的第4液体供给部，所述搬送机构将衬底搬送到所述第3保持部与所述第4保持部，所述第1液体贮存部贮存待分配到所述第3处理单元与所述第4处理单元的处理液，所述第3保持部具有在俯视下位于比所述第3处理单元的中心更后方的中心，所述第4保持部具有在俯视下位于比所述第4处理单元的中心更前方的中心，所述第4处理单元的前端配置在比所述第3处理单元的前端更后方，且配置在比所述第3处理单元的后端更前方。
第3处理单元配置在搬送空间的第1侧方。第3处理单元具备第3保持部。第3保持部的中心在俯视下位于比第3处理单元的中心更后方。第4处理单元配置在搬送空间的第2侧方。第4处理单元具备第4保持部。第4保持部的中心在俯视下位于比第4处理单元的中心更前方。因此，能容易地将第1处理单元的构造与第3处理单元的构造共通化。能容易地将第1处理单元的构造与第4处理单元的构造共通化。能采用具有相同构造的4个处理单元，作为第1处理单元、第2处理单元、第3处理单元及第4处理单元。因此，于第1-第4处理单元之间，能容易地抑制对衬底进行的处理品质不均。
第4处理单元的前端配置在比第3处理单元的前端更后方。也就是说，第4处理单元相对于第3处理单元向后方移位。第4处理单元的前端配置在比第3处理单元的后端更前方。因此，第3保持部未配置在非常后方。因此，适宜地减小前后方向上的搬送机构的移动距离。因此，搬送机构能效率良好地向第1-第4保持部搬送衬底。结果，第1-第4处理单元各自能效率良好地处理衬底。
于所述衬底处理装置中，优选为所述第3处理单元具有与所述第1处理单元相等的构造，所述第4处理单元具有与绕铅直轴旋转180度的所述第1处理单元相等的构造。于第1-第4处理单元之间，容易将衬底处理的品质均一化。
于所述衬底处理装置中，优选为具备贮存待分配到所述第1处理单元、所述第2处理单元、所述第3处理单元及所述第4处理单元的处理液的第2液体贮存部；所述第2液体贮存部优选为配置在所述搬送空间的所述第1侧方，与所述第3处理单元的后方相邻。第2液体贮存部配置在搬送空间的第1侧方。第2液体贮存部与第3处理单元的后方相邻。如此，有效地利用第3处理单元的后方空间。因此，能抑制前后方向上的衬底处理装置的长度增大。
于所述衬底处理装置中，优选为于所述前后方向上，所述第2液体贮存部的后端配置在与所述第4处理单元的后端同等的位置。能抑制前后方向上的衬底处理装置的长度增大。
于所述衬底处理装置中，优选为贮存在所述第2液体贮存部的处理液为与贮存在所述第1液体贮存部的处理液不同的种类。第1-第4处理单元分别能将2种处理液供给到衬底。
于所述衬底处理装置中，优选为具备：上部空间，形成于所述搬送空间、所述第1处理单元、所述第2处理单元、所述第3处理单元、所述第4处理单元、所述第1液体贮存部及所述第2液体贮存部的上方；第1分配部，设置于所述上部空间，从所述第1液体贮存部，将处理液分配到所述第1处理单元、所述第2处理单元、所述第3处理单元及所述第4处理单元；及第2分配部，设置于所述上部空间，从所述第2液体贮存部，将处理液分配到所述第1处理单元、所述第2处理单元、所述第3处理单元及所述第4处理单元。第1分配部及第2分配部设置于上部空间。因此，能适宜地抑制衬底处理装置的占地面积增大。
于所述衬底处理装置中，优选为所述第2分配部在俯视下，与旋转180度的所述第1分配部相等。容易将第1分配部的流路长度与第2分配部的流路长度均一化。
于所述衬底处理装置中，优选为具备：第1连接箱，配置在所述第1处理单元的上方；第2连接箱，配置在所述第2处理单元的上方；第3连接箱，配置在所述第3处理单元的上方；及第4连接箱，配置在所述第4处理单元的上方；所述第1分配部从所述第1液体贮存部，延伸到所述第1连接箱、所述第2连接箱、所述第3连接箱及所述第4连接箱，所述第2分配部从所述第2液体贮存部，延伸到所述第1连接箱、所述第2连接箱、所述第3连接箱及所述第4连接箱。第1分配部与第2分配部都延伸到第1连接箱。同样地，第1分配部与第2分配部都延伸到第2-第4连接箱。因此，容易地将第1分配部的流路长度与第2分配部的流路长度均一化。
于所述衬底处理装置中，优选为于所述前后方向上，所述第1连接箱配置在比所述第1保持部更前方，于所述前后方向上，所述第2连接箱配置在比所述第2保持部更后方，于所述前后方向上，所述第3连接箱配置在比所述第3保持部更前方，于所述前后方向上，所述第4连接箱配置在比所述第4保持部更后方。能适宜地减小第1液体贮存部到第1连接箱的流路长度与第1液体贮存部到第2连接箱的流路长度之间的差。同样地，能适宜地减小第1液体贮存部到第3连接箱的流路长度与第1液体贮存部到第4连接箱的流路长度之间的差。能适宜地减小第2液体贮存部到第1连接箱的流路长度与第2液体贮存部到第2连接箱的流路长度之间的差。能适宜地减小第2液体贮存部到第3连接箱的流路长度与第2液体贮存部到第4连接箱的流路长度之间的差。
于所述衬底处理装置中，优选为具备：第1接头，收纳于所述第1连接箱，连接所述第1分配部与所述第1液体供给部；第2接头，收纳于所述第2连接箱，连接所述第1分配部与所述第2液体供给部；第3接头，收纳于所述第3连接箱，连接所述第1分配部与所述第3液体供给部；及第4接头，收纳于所述第4连接箱，连接所述第1分配部与所述第4液体供给部。与第1-第4连接箱内，能适宜地装卸第1分配部与第1-第4液体供给部。
于所述衬底处理装置中，优选为具备设置于所述上部空间，且大致平坦的踏板。衬底处理装置的用户能踩在踏板上。因此，用户例如能在踏板上进行保养作业。
于所述衬底处理装置中，优选为所述踏板配置在所述第1连接箱、所述第2连接箱、所述第3连接箱及所述第4连接箱的附近。用户能容易地存取第1-第4连接箱。用户能适宜地装卸第1-第2分配部与第1-第4液体供给部。
于所述衬底处理装置中，优选为所述踏板通过所述第2连接箱及所述第3连接箱之间，从所述第1连接箱延伸到所述第4连接箱。用户能容易地在第1-第4连接箱之间移动。
于所述衬底处理装置中，优选为所述踏板配置在所述第1分配部的至少一部分的上方。踏板适宜地保护第1分配部。
附图说明
虽为了说明发明而图示出当前认为适宜的若干个方式，但应理解，发明并非限定于图示的构成及对策。
图1为表示实施方式的衬底处理装置的内部的俯视图。
图2为表示宽度方向上的衬底处理装置的中央部的构成的左侧视图。
图3为处理块的前视图。
图4为表示衬底处理装置的右部的构成的右侧视图。
图5为表示衬底处理装置的左部的构成的左侧视图。
图6为衬底处理装置的俯视图。
图7为衬底处理装置的俯视图。
图8为处理单元的侧视图。
图9为变化实施方式的衬底处理装置的右侧视图。
图10为比较例的衬底处理装置的俯视图。
具体实施方式
以下，参考附图说明本发明的衬底处理装置。
1.衬底处理装置的概要
图1为表示实施方式的衬底处理装置1的内部的俯视图。衬底处理装置1对衬底(例如，半导体晶圆)W进行处理。
衬底W例如为半导体晶圆、液晶显示器用衬底、有机EL(Electroluminescence)用衬底、FPD(Flat Panel Display)用衬底、光显示器用衬底、磁盘用衬底、光盘用衬底、磁光盘用衬底、光罩用衬底、太阳能电池用衬底。衬底W具有较薄的平板形状。衬底W在俯视下具有大致圆形状。
衬底处理装置1具备传载部3与处理块11。处理块11连接于传载部3。传载部3对处理块11供给衬底W。处理块11对衬底W进行处理。传载部3从处理块11回收衬底W。
本说明书中，为方便起见，将传载部3与处理块11所排列的方向称为“前后方向X”。前后方向X为水平。将前后方向X中从处理块11朝向传载部3的方向称为“前方”。将与前方相反的方向称为“后方”。
处理块11配置在传载部3的后方。
本说明书中，将与前后方向X正交的水平方向称为“宽度方向Y”。将宽度方向Y的一方向适当称为“右方”。将与右方相反的方向称为“左方”。将相对于水平方向垂直的方向称为“铅直方向Z”。各图中，作为参考，适当显示前、后、右、左、上、下。
右方为本发明中的第1侧方的例。左方为本发明中的第2侧方的例。
传载部3具备多个(例如，4个)载体载置部4。载体载置部4于宽度方向Y上排列。各载体载置部4分别载置1个载体C。载体C收纳多片衬底W。载体C例如为FOUP(front openingunified pod：前开式晶圆传送盒)。
传载部3具备搬送空间5。搬送空间5配置在载体载置部4的后方。
传载部3具备搬送机构6。搬送机构6设置于搬送空间5。搬送机构6配置在载体载置部4的后方。搬送机构6搬送衬底W。搬送机构6能存取载置于载体载置部4的载体C。
对搬送机构6的构造进行说明。搬送机构6具备手7及手驱动部8。手7以水平姿势支撑1片衬底W。手驱动部8连结于手7。手驱动部8使手7移动。
例示手驱动部8的构造。手驱动部8具备第1驱动部8a与第2驱动部8b。第1驱动部8a本身不能于水平方向移动。第1驱动部8a支撑第2驱动部8b。第1驱动部8a使第2驱动部8b于铅直方向Z移动。第1驱动部8a还使第2驱动部8b绕与铅直方向Z平行的旋转轴线旋转。第2驱动部8b支撑手7。第2驱动部8b使手7相对于第1驱动部8a于水平方向进退移动。第2驱动部8b例如由多关节臂构成。
根据所述手驱动部8，手7能于铅直方向Z移动。手7能于水平方向移动。手7能在水平面内旋转。
处理块11具备搬送空间12A。搬送空间12A于前后方向X延伸。搬送空间12A的前部与传载部3的搬送空间5相连。搬送空间12A配置在宽度方向Y上的处理块11的中央部。
处理块11具备搬送机构13A。搬送机构13A设置于搬送空间12A。搬送机构13A能于前后方向X平行移动。换句话说，搬送机构13A构成为于前后方向X进行平移运动。搬送机构13A搬送衬底W。
搬送机构13A具备手14与手驱动部15。手14以水平姿势支撑1片衬底W。手驱动部15连结于手14。手驱动部15使手14移动。手驱动部15使手14于前后方向X、宽度方向Y及铅直方向Z移动。
例示手驱动部15的构造。手驱动部15例如具备2个支柱15a、垂直移动部15b、水平移动部15c、旋转部15d、及进退移动部15e。支柱15a固定地设置。支柱15a配置在搬送空间12A的侧部。2个支柱15a于前后方向X排列。各支柱15a于铅直方向Z延伸。各支柱15a支撑垂直移动部15b。垂直移动部15b跨及2个支柱15a之间于前后方向X延伸。垂直移动部15b相对于支柱15a于铅直方向Z水平移动。垂直移动部15b支撑水平移动部15c。水平移动部15c相对于垂直移动部15b于前后方向X平行移动。水平移动部15c支撑旋转部15d。旋转部15d相对于水平移动部15c旋转。旋转部15d绕与铅直方向Z平行的旋转轴线旋转。旋转部15d支撑进退移动部15e。进退移动部15e支撑手14。进退移动部15e使手14相对于旋转部15d进退移动。进退移动部15e使手14于根据旋转部15d的朝向而定的水平的一个方向往复移动。
根据所述手驱动部15，手14能于铅直方向Z平行移动。手14能于前后方向X平行移动。手14能在水平面内旋转。手14能相对于旋转部15d进退移动。
衬底处理装置1具备衬底载置部16A。衬底载置部16A载置于传载部3与搬送机构13A之间搬送的衬底W。具体而言，衬底载置部16A载置于搬送机构6与搬送机构13A之间搬送的衬底W。搬送机构6能存取衬底载置部16A。搬送机构13A也能存取衬底载置部16A。
衬底载置部16A固定地设置。
衬底载置部16A配置在搬送机构6的后方。衬底载置部16A配置在搬送机构13A的前方。搬送机构13A的可动区域限于衬底载置部16A的后方。
衬底载置部16A的至少一部分设置于搬送空间12A。例如，整个衬底载置部16A设置于搬送空间12A。
处理块11具备第1处理单元21A1、第2处理单元21B1、第3处理单元21C1、及第4处理单元21D1。第1处理单元21A1与第3处理单元21C1分别配置在搬送空间12A的右方。第3处理单元21C1与第1处理单元21A1的后方相邻。具体而言，第3处理单元21C1配置在第1处理单元21A1的后方。第3处理单元21C1与第1处理单元21A1相邻。第3处理单元21C1例如与第1处理单元21A1的后部相接。第2处理单元21B1与第4处理单元21D1分别配置在搬送空间12A的左方。第4处理单元21D1与第2处理单元21B1的后方相邻。第1-第4处理单元21A1-21D1分别对衬底W进行处理。
第2处理单元21B1相对于第1处理单元21A1偏向后方。具体而言，第1处理单元21A1具有前端22A与后端23A。第2处理单元21B1具有前端22B与后端23B。于前后方向X上，前端22B配置在比前端22A更后方。于前后方向X上，前端22B配置在比后端23A更前方。于前后方向X上，后端23B配置在比后端23A更后方。
第4处理单元21D1相对于第3处理单元21C1偏向后方。具体而言，第3处理单元21C1具有前端22C与后端23C。第4处理单元21D1具有前端22D与后端23D。于前后方向X上，前端22D配置在比前端22C更后方。于前后方向X上，前端22D配置在比后端23C更前方。于前后方向X上，后端23D配置在比后端23C更后方。
第1处理单元21A1与传载部3的后方相邻。
于前后方向X上，衬底载置部16A的至少一部分配置在比第1处理单元21A1的前端22A更后方。例如，于前后方向X上，整个衬底载置部16A配置在比第1处理单元21A1的前端22A更后方。
于前后方向X上，第2处理单元21B1的至少一部分配置在比衬底载置部16A更后方。例如，于前后方向X上，整个第2处理单元21B1配置在比衬底载置部16A更后方。
第1处理单元21A1具备第1保持部25A与第1液体供给部27A。第1保持部25A保持衬底W。第1液体供给部27A对保持于第1保持部25A的衬底W供给处理液。
同样地，第2处理单元21B1具备第2保持部25B与第2液体供给部27B。第2保持部25B保持衬底W。第2液体供给部27B对保持于第2保持部25B的衬底W供给处理液。
第3处理单元21C1具备第3保持部25C与第3液体供给部27C。第3保持部25C保持衬底W。第3液体供给部27C对保持于第3保持部25C的衬底W供给处理液。
第4处理单元21D1具备第4保持部25D与第4液体供给部27D。第4保持部25D保持衬底W。第4液体供给部27D对保持于第4保持部25D的衬底W供给处理液。
另外，第1液体供给部27A不对保持于第2-第4保持部25B-25D的衬底W供给处理液。第1液体供给部27A仅对保持于第1保持部25A的衬底W供给处理液。第2-第4液体供给部27B-27D也与第1液体供给部27A同样。
搬送机构13A将衬底W搬送到第1-第4保持部25A-25D。
第1处理单元21A1具备第1搬送口28A。图1为方便起见，以虚线表示第1搬送口28A。第1搬送口28A面向搬送空间12A。衬底W能通过第1搬送口28A。于搬送机构13A将衬底W搬送到第1保持部25A时，搬送机构13A使衬底W进入第1搬送口28A。同样地，第2、第3、第4处理单元21B1、21C1、21D1各自具备第2、第3、第4搬送口28B、28C、28D。
第1保持部25A接近第1处理单元21A1的后端23A。具体而言，第1处理单元21A1在俯视下，具有中心24A。中心24A位于与前端22A及后端23A等距处。第1保持部25A在俯视下，具有中心26A。中心26A在俯视下，位于比中心24A更后方。
第2保持部25B接近第2处理单元21B1的前端22B。具体而言，第2处理单元21B1在俯视下，具有中心24B。中心24B位于与前端22B及后端23B等距处。第2保持部25B在俯视下，具有中心26B。中心26B在俯视下，位于比中心24B更前方。
第3保持部25C接近第3处理单元21C1的后端23C。具体而言，第3处理单元21C1在俯视下，具有中心24C。中心24C位于与前端22C及后端23C等距处。第3保持部25C在俯视下，具有中心26C。中心26C在俯视下，位于比中心24C更后方。
第4保持部25D接近第4处理单元21D1的前端22D。具体而言，第4处理单元21D1在俯视下，具有中心24D。中心24D位于与前端22D及后端23D等距处。第4保持部25D在俯视下，具有中心26D。中心26D在俯视下，位于比中心24D更前方。
此处，第2保持部25B于前后方向X上，配置在比第1保持部25A更前方。第2保持部25B的中心26B于前后方向X上，配置在比第1保持部25A的中心26A更前方。第4保持部25D于前后方向X上，配置在比第3保持部25C更前方。第4保持部25D的中心26D于前后方向X上，配置在比第3保持部25C的中心26C更前方。于前后方向X上，第2保持部25B在第1-第4保持部25A-25D中位于最前方。于前后方向X上，第3保持部25C在第1-第4保持部25A-25D中位于最后方。
于前后方向X上，第2保持部25B配置在比衬底载置部16A更后方。具体而言，于前后方向X上，整个第2保持部25B配置在比衬底载置部16A更后方。于前后方向X上，第1保持部25A也配置在比衬底载置部16A更后方。
图1表示距离L。距离L为中心26B与中心26C之间在前后方向X上的距离。距离L相当于搬送机构13A将衬底W搬送到第1-第4保持部25A-25D时的前后方向X上的搬送机构13A的移动距离。
第2处理单元21B1具有与绕铅直轴旋转180度的第1处理单元21A1相同的构造。因此，第2处理单元21B1的构造与第1处理单元21A1的构造共通。具体而言，第2保持部25B、第2液体供给部27B及第2搬送口28B的相对位置与第1保持部25A、第1液体供给部27A及第1搬送口28A的相对位置相同。
第3处理单元21C1具有与第1处理单元21A1相同的构造。也就是说，第3处理单元21C1的构造与第1处理单元21A1的构造共通。具体而言，第3保持部25C、第3液体供给部27C及第3搬送口28C的相对位置与第1保持部25A、第1液体供给部27A及第1搬送口28A的相对位置相同。
第4处理单元21D1具有与绕铅直轴旋转180度的第1处理单元21A1相同的构造。因此，第4处理单元21D1的构造与第1处理单元21A1的构造共通。具体而言，第4保持部25D、第4液体供给部27D及第4搬送口28D的相对位置与第1保持部25A、第1液体供给部27A及第1搬送口28A的相对位置相同。
处理块11具备第1液体贮存部31。第1液体贮存部31配置在搬送空间12A的左方。第1液体贮存部31与第2处理单元21B1的前方相邻。第1液体贮存部31贮存被分配到第1-第4处理单元21A1-21D1的处理液。
第1液体贮存部31具有前端31f。于前后方向Y上，前端31f配置在与第1处理单元21A1的前端22A同等的位置。
第1液体贮存部31与传载部3的后方相邻。
衬底载置部16A配置在第1处理单元21A1与第1液体贮存部31之间。第1处理单元21A1、衬底载置部16A及第1液体贮存部31于宽度方向Y上依序排列。
处理块11具备第2液体贮存部32。第2液体贮存部32配置在搬送空间12A的右方。第2液体贮存部32与第3处理单元21C1的后方相邻。第2液体贮存部32贮存被分配到第1-第4处理单元21A1-21D1的处理液。
第2液体贮存部32具有后端32r。于前后方向Y上，后端32r配置在与第4处理单元21D1的后端23D同等的位置。
贮存在第2液体贮存部32的处理液的种类与贮存在第1液体贮存部31的处理液不同。第2液体贮存部32贮存与贮存在第1液体贮存部31的处理液不同种类的处理液。贮存在第2液体贮存部32的处理液的组成与贮存在第1液体贮存部31的处理液不同。第2液体贮存部32贮存与贮存在第1液体贮存部31的处理液不同组成的处理液。
具体而言，贮存在第1液体贮存部31的处理液为第1处理液。第1处理液例如被分类到酸性液体。第1处理液例如包含氢氟酸(氟化氢酸)、盐酸双氧水、硫酸、硫酸双氧水、氟硝酸(氟酸与硝酸的混合液)、及盐酸中的至少1个。
贮存在第2液体贮存部32的处理液为第2处理液。第2处理液例如被分类到有机液体。有机液体包含异丙醇(IPA：Isopropyl Alcohol)、甲醇、乙醇、氢氟醚(HFE：Hydrofluoroether)、及丙酮中的至少1个。
2.处理块11的构造
图2为表示宽度方向上的衬底处理装置的中央部的构成的左侧视图。图3为处理块的前视图。处理块11除搬送空间12A外，还具备搬送空间12B。搬送空间12B配置在搬送空间12A的下方。搬送空间12B也与传载部3的搬送空间5相连。搬送空间12B在俯视下，配置在与搬送空间12A相同的位置。
处理块11具备1个隔板17。隔板17配置在搬送空间12A的下方、且搬送空间12B的上方。隔板17具有水平的板形状。隔板17将搬送空间12A与搬送空间12B隔开。
处理块11除搬送机构13A外，还具备搬送机构13B。搬送机构13B设置于搬送空间12B。搬送机构13B设置于搬送机构13A的下方。搬送机构13B能于前后方向X平行移动。搬送机构13B搬送衬底W。搬送机构13B具有与搬送机构13A的构造相同的构造。具体而言，搬送机构13B也具备手14与手驱动部15。
处理块11除衬底载置部16A外，还具备衬底载置部16B。衬底载置部16B载置于传载部3与搬送机构13B之间搬送的衬底W。搬送机构6与搬送机构13B分别能存取衬底载置部16B。衬底载置部16B配置在衬底载置部16A的下方。衬底载置部16B在俯视下，配置在与衬底载置部16A相同的位置。
参考图3、图4。图4为表示衬底处理装置1的右部的构成的右侧视图。处理块11除第1处理单元21A1外，还具备5个第1处理单元21A2-21A6。第1处理单元21A2-21A6各自具有与第1处理单元21A1相同的构造。
第1处理单元21A1-21A6于铅直方向Z上排列成1列。将第1处理单元21A1-21A6积层。将第1处理单元21A1-21A3配置在与搬送空间12A相同高度的位置。搬送机构13A将衬底W搬送到第1处理单元21A1-21A3。第1处理单元21A4-21A6配置在第1处理单元21A1-21A3的下方。第1处理单元21A4-21A6配置在与搬送空间12B相同高度的位置。搬送机构13B将衬底W搬送到第1处理单元21A4-21A6。
参考图4。处理块11除第3处理单元21C1外，还具备5个第3处理单元21C2-21C6。第3处理单元21C2-21C6各自具有与第1处理单元21A1相同的构造。
第3处理单元21C1-21C6于铅直方向Z上排列成1列。将第3处理单元21C1-21C6层叠。第3处理单元21C4-21C6配置在第3处理单元21C1-21C3的下方。
图5为表示衬底处理装置1的左部的构成的左侧视图。处理块11除第2处理单元21B1外，还具备5个第2处理单元21B2-21B6。第2处理单元21B2-21B6各自具有与第1处理单元21A1共通的构造。
第2处理单元21B1-21B6于铅直方向Z上排列成1列。将第2处理单元21B1-21B6层叠。第2处理单元21B4-21B6配置在第2处理单元21B1-21B3的下方。
同样地，处理块11除第4处理单元21D1外，还具备5个第4处理单元21D2-21D6。第4处理单元21D2-21D6各自具有与第1处理单元21A1共通的构造。
第4处理单元21D1-21D6于铅直方向Z上排列成1列。将第4处理单元21D1-21D6层叠。第4处理单元21D4-21D6配置在第4处理单元21D1-21D3的下方。
搬送机构13A将衬底W搬送到第2处理单元21B1-21B3、第3处理单元21C1-21C3、及第4处理单元21D1-21D3。搬送机构13B将衬底W搬送到第2处理单元21B4-21B6、第3处理单元21C4-21C6、及第4处理单元21D4-21D6。
于不区分第1处理单元21A1-21A6的情况下，将其称为第1处理单元21A。于不区分第2处理单元21B1-21B6的情况下，将其称为第2处理单元21B。于不区分第3处理单元21C1-21C6的情况下，将其称为第3处理单元21C。于不区分第4处理单元21D1-21D6的情况下，将其称为第4处理单元21D。于不区分搬送空间12A、12B的情况下，将其称为搬送空间12。
第1液体贮存部31具备第1槽33与第1泵34。第1槽33为贮存处理液的容器。第1槽33贮存处理液(具体而言为第1处理液)。第1泵34与第1槽33连通。例如，第1泵34连接于第1槽33。第1泵34压送处理液。
第1液体贮存部31具备柜体35。柜体35于柜体35的内部划分收纳空间35a。第1槽33与第1泵34设置于收纳空间35a。柜体35将收纳空间35a与搬送空间12隔开。柜体35将收纳空间35a与第2处理单元21B隔开。
参考图4。第2液体贮存部32具备第2槽36与第2泵37。第2槽36为贮存处理液的容器。第2槽36贮存处理液(具体而言为第2处理液)。第2泵37与第2槽36连通。例如，第2泵37连接于第2槽36。第2泵37压送处理液。
第2液体贮存部32具备柜体38。柜体38于柜体38的内部划分收纳空间38a。第2槽36与第2泵37设置于收纳空间38a。柜体38将收纳空间38a与搬送空间12隔开。柜体38将收纳空间38a与第3处理单元21C隔开。
参考图2-5。衬底处理装置1具备上部空间39。上部空间39形成于搬送空间12、第1处理单元21A、第2处理单元21B、第3处理单元21C、第4处理单元21D、第1液体贮存部31及第2液体贮存部32的上方。
衬底处理装置1具备隔板40。隔板40具有水平的板形状。隔板40配置在搬送空间12、第1-第4处理单元21A-21D、第1液体贮存部31及第2液体贮存部32的上方。隔板40配置在上部空间39的下方。隔板40将上部空间39与搬送空间12隔开。同样地，隔板40将上部空间39与第1-第4处理单元21A-21D隔开。隔板40将上部空间39与第1-第2液体贮存部31-32隔开。
参考图4-6。图6为衬底处理装置1的俯视图。图6表示上部空间39。衬底处理装置1具备第1分配部41。第1分配部41设置于上部空间39。第1分配部41从第1液体贮存部31，将处理液分配到第1处理单元21A、第2处理单元21B、第3处理单元21C及第4处理单元21D。
第1分配部41于大致水平方向延伸。第1分配部41从第1液体贮存部31向后方延伸。
具体而言，第1分配部41与第1泵34连通。例如，第1分配部41连接于第1泵34。第1分配部41与第1液体供给部27A、第2液体供给部27B、第3液体供给部27C及第4液体供给部27D连通。例如，第1分配部41连接于第1液体供给部27A、第2液体供给部27B、第3液体供给部27C及第4液体供给部27D。
衬底处理装置1具备第2分配部42。第2分配部42设置于上部空间39。第2分配部42从第2液体贮存部32，将处理液分配到第1处理单元21A、第2处理单元21B、第3处理单元21C及第4处理单元21D。
第2分配部42于大致水平方向延伸。第2分配部42从第2液体贮存部32向前方延伸。
具体而言，第2分配部42与第2泵37连通。例如，第2分配部42连接于第2泵37。第2分配部42与第1液体供给部27A、第2液体供给部27B、第3液体供给部27C及第4液体供给部27D连通。例如，第2分配部42连接于第1液体供给部27A、第2液体供给部27B、第3液体供给部27C及第4液体供给部27D。
参考图6。第2分配部42在俯视下，与旋转180度的第1分配部41相等。换句话说，第2分配部42具有与绕铅直轴旋转180度的第1分配部41相等的构造。
具体而言，第1分配部41具备第1配管43A、第2配管43B、第3配管43C、及第4配管43D。第1配管43A使第1液体贮存部31与第1处理单元21A(第1液体供给部27A)连通。第1配管43A连接第1液体贮存部31与第1处理单元21A(第1液体供给部27A)。第2配管43B使第1液体贮存部31与第2处理单元21B(第2液体供给部27B)连通。第2配管43B连接第1液体贮存部31与第2处理单元21B(第2液体供给部27B)。第3配管43C使第1液体贮存部31与第3处理单元21C(第3液体供给部27C)连通。第3配管43C连接第1液体贮存部31与第3处理单元21C(第3液体供给部27C)。第4配管43D使第1液体贮存部31与第4处理单元21D(第4液体供给部27D)连通。第4配管43D连接第1液体贮存部31与第4处理单元21D(第4液体供给部27D)。
第2分配部42具备第5配管44A、第6配管44B、第7配管44C、及第8配管44D。第5配管44A使第2液体贮存部32与第1处理单元21A(第1液体供给部27A)连通。第5配管44A连接第2液体贮存部32与第1处理单元21A(第1液体供给部27A)。第6配管44B使第2液体贮存部32与第2处理单元21B(第2液体供给部27B)连通。第6配管44B连接第2液体贮存部32与第2处理单元21B(第2液体供给部27B)。第7配管44C使第2液体贮存部32与第3处理单元21C(第3液体供给部27C)连通。第7配管44C连接第2液体贮存部32与第3处理单元21C(第3液体供给部27C)。第8配管44D使第2液体贮存部32与第4处理单元21D(第4液体供给部27D)连通。第8配管44D连接第2液体贮存部32与第4处理单元21D(第4液体供给部27D)。
此处，第8配管44D在俯视下，与旋转180度的第1配管43A相等。换句话说，第8配管44D具有与绕铅直轴旋转180度的第1配管43A相等的形状。第7配管44C在俯视下，与旋转180度的第2配管43B相等。第6配管44B在俯视下，与旋转180度的第3配管43C相等。第5配管44A在俯视下，与旋转180度的第4配管43D相等。
宽度方向Y上的第1配管43A的长度比宽度方向Y上的第2配管43B的长度大。但是，前后方向X上的第1配管43A的长度比前后方向X上的第2配管43B的长度小。因此，第1配管43A的长度与第2配管43B的长度之间的差相对较小。
宽度方向Y上的第3配管43C的长度比宽度方向Y上的第4配管43D的长度大。但是，前后方向X上的第3配管43C的长度比前后方向X上的第4配管43D的长度小。因此，第3配管43C的长度与第4配管43D的长度之间的差相对较小。
宽度方向Y上的第5配管44A的长度比宽度方向Y上的第6配管44B的长度小。但是，前后方向X上的第5配管44A的长度比前后方向X上的第6配管44B的长度大。因此，第5配管44A的长度与第6配管44B的长度之间的差相对较小。
宽度方向Y上的第7配管44C的长度比宽度方向Y上的第8配管44D的长度小。但是，前后方向X上的第7配管44C的长度比前后方向X上的第8配管44D的长度大。因此，第7配管44C的长度与第8配管44D的长度之间的差相对较小。
衬底处理装置1具备第1连接箱46A、第2连接箱46B、第3连接箱46C、及第4连接箱46D。第1连接箱46A、第3连接箱46C及第2液体贮存部32依序排列于前后方向X。第1液体贮存部31、第2连接箱46B及第4连接箱46D依序排列于前后方向X。第1连接箱46A与第1液体贮存部31排列于宽度方向Y。第2连接箱46B与第3连接箱46C排列于宽度方向Y。第4连接箱46D与第2液体贮存部32排列于宽度方向Y。
第1分配部41从第1液体贮存部31，向第1连接箱46A、第2连接箱46B、第3连接箱46C及第4连接箱46D延伸。具体而言，第1配管43A从第1液体贮存部31向第1连接箱46A延伸。第2配管43B从第1液体贮存部31向第2连接箱46B延伸。第3配管43C从第1液体贮存部31向第3连接箱46C延伸。第4配管43D从第1液体贮存部31向第4连接箱46D延伸。
第2分配部42从第2液体贮存部32，向第1连接箱46A、第2连接箱46B、第3连接箱46C及第4连接箱46D延伸。具体而言，第5配管44A从第2液体贮存部32，向第1连接箱46A延伸。第6配管44B从第2液体贮存部32向第2连接箱46B延伸。第7配管44C从第2液体贮存部32向第3连接箱46C延伸。第8配管44D从第2液体贮存部32向第4连接箱46D延伸。
参考图4。第1连接箱46A与第3连接箱46C分别配置在上部空间39。第1连接箱46A与第3连接箱46C配置在大致相同高度的位置。
第1连接箱46A配置在第1处理单元21A的上方。于前后方向X上，第1连接箱46A配置在比第1保持部25A更前方。
第3连接箱46C配置在第3处理单元21C的上方。于前后方向X上，第3连接箱46C配置在比第3保持部25C更前方。
参考图5。第2连接箱46B与第4连接箱46D分别配置在上部空间39。第2连接箱46B与第4连接箱46D配置在大致相同高度的位置。
第2连接箱46B配置在第2处理单元21B的上方。于前后方向X上，第2连接箱46B配置在比第2保持部25B更后方。
第4连接箱46D配置在第4处理单元21D的上方。于前后方向X上，第4连接箱46D配置在比第4保持部25D更后方。
参考图3。第1连接箱46A与第2连接箱46B配置在大致相同高度的位置。因此，第1-第4连接箱46A-46D配置在大致相同高度的位置。
参考图4。第1分配部41及第2分配部42分别与第1液体供给部27A连通。第1分配部41及第2分配部42于第1连接箱46A内，分别连接于第1液体供给部27A。第1分配部41及第2分配部42分别与第3液体供给部27C连通。第1分配部41及第2分配部42于第3连接箱46C内，分别连接于第3液体供给部27C。
衬底处理装置1具备第1接头47A与第5接头48A。第1接头47A收纳于第1连接箱46A。第1接头47A连接第1分配部41(具体而言为第1配管43A)与第1液体供给部27A。第5接头48A收纳于第1连接箱46A。第5接头48A连接第2分配部42(具体而言为第5配管44A)与第1液体供给部27A。
衬底处理装置1具备第3接头47C与第7接头48C。第3接头47C收纳于第3连接箱46C。第3接头47C连接第1分配部41(具体而言为第3配管43C)与第3液体供给部27C。第7接头48C收纳于第3连接箱46C。第7接头48C连接第2分配部42(具体而言为第7配管44C)与第3液体供给部27C。
参考图5。第1分配部41及第2分配部42分别与第2液体供给部27B连通。第1分配部41及第2分配部42于第2连接箱46B内，分别连接于第2液体供给部27B。第1分配部41及第2分配部42分别与第4液体供给部27D连通。第1分配部41及第2分配部42于第4连接箱46D内，分别连接于第4液体供给部27D。
衬底处理装置1具备第2接头47B与第6接头48B。第2接头47B收纳于第2连接箱46B。第2接头47B连接第1分配部41(具体而言为第2配管43B)与第2液体供给部27B。第6接头48B收纳于第2连接箱46B。第6接头48B连接第2分配部42(具体而言为第6配管44B)与第2液体供给部27B。
衬底处理装置1具备第4接头47D与第8接头48D。第4接头47D收纳于第4连接箱46D。第4接头47D连接第1分配部41(具体而言为第4配管43D)与第4液体供给部27D。第8接头48D收纳于第4连接箱46D。第8接头48D连接第2分配部42(具体而言为第8配管44D)与第4液体供给部27D。
参考图3、6。衬底处理装置1还具备排气管53A、53B、54A、54B、55A、55B。排气管53A、53B、54A、54B、55A、55B分别配置在上部空间39。排气管53A、54A、55A分别将第1处理单元21A及第3处理单元21C的气体排出。排气管53B、54B、55B分别将第2处理单元21B及第4处理单元21D的气体排出。
排气管53A、54A、55A配置在比第1分配部41及第2分配部42更靠右方。排气管53A、54A、55A配置在比第1-第4连接箱46A-46D更靠右方。排气管53B、54B、55B配置在比第1分配部41及第2分配部42更靠左方。排气管53B、54B、55B配置在比第1-第4连接箱46A-46D更靠左方。
排气管53A、54A、55A配置在大致相同高度的位置。排气管53B、54B、55B配置在大致相同高度的位置。排气管53B、54B、55B配置在与排气管53A、54A、55A大致相同高度的位置。排气管53A、53B、54A、54B、55A、55B配置在与第1-第4连接箱46A-46D大致相同高度的位置。
参考图2-5。衬底处理装置1具备踏板57。踏板57设置于上部空间39。踏板57具有大致平坦的形状。另外，图6省略踏板57的图示。
踏板57容许用户踩在踏板57上。踏板57牢固地支撑于处理块11。踏板57例如牢固地支撑于处理块11的框架59。踏板57具有充足的刚性。踏板57具有充足的强度。踏板57比隔板40不易弯曲。
图7为衬底处理装置1的俯视图。踏板57配置在第1分配部41的至少一部分的上方。踏板57保护第1分配部41免受损伤。踏板57配置在第2分配部42的至少一部分的上方。踏板57保护第2分配部42免受损伤。
踏板57配置在排气管53A、54A、55A的至少一部分的上方。踏板57保护排气管53A、54A、55A免受损伤。踏板57配置在排气管53B、54B、55B的至少一部分的上方。踏板57保护排气管53B、54B、55B免受损伤。
踏板57配置在第1连接箱46A、第2连接箱46B、第3连接箱46C及第4连接箱46D的附近。
踏板57通过第2连接箱46B与第3连接箱46C之间，从第1连接箱46A延伸到第4连接箱46D。踏板57于前后方向X延伸。
3.处理单元21的构造
以下，于不区分第1-第4处理单元21A-21D的情况下，将其称为处理单元21。于不区分第1-第4保持部25A-25D的情况下，将其称为保持部25。于不区分第1-第4液体供给部27A-27D情况下，将其称为液体供给部27。于不区分第1-第4连接箱46A-46D情况下，将其称为连接箱46。于不区分第1-第4接头47A-47D的情况下，将其称为接头47。于不区分第5-第8接头48A-48D的情况下，将其称为接头48。于不区分排气管53A、53B的情况下，将其称为排气管53。于不区分排气管54A、54B的情况下，将其称为排气管54。于不区分排气管55A、55B的情况下，将其称为排气管55。
图8为处理单元21的侧视图。如上所述，处理单元21具备保持部25与液体供给部27。
此外，处理单元21具备处理外壳61。处理外壳61与搬送空间12相邻。处理外壳61例如具有箱形状。处理外壳61于处理外壳61的内部划分处理空间62。处理外壳61收纳保持部25。保持部25设置于处理外壳61的内部。
保持部25以水平姿势保持1片衬底W。
处理单元21具备旋转驱动部63。旋转驱动部63设置于处理外壳61的内部。旋转驱动部63连结于保持部25。旋转驱动部63使保持部25旋转。例如，第1保持部25A构成为绕中心26A旋转。例如，第2保持部25B构成为绕中心26B旋转。例如，第3保持部25C构成为绕中心26C旋转。例如，第4保持部25D构成为绕中心26D旋转。保持于保持部25的衬底W与保持部25一体旋转。
液体供给部27具备喷出调整部70与喷出部77。喷出调整部70与第1分配部41及第2分配部42连通。例如，喷出调整部70连接于第1分配部41及第2分配部42。喷出调整部70配置在处理外壳61的外部。喷出部77配置在处理外壳61的内部。喷出部77与喷出调整部70连通。例如，喷出部77连接于喷出调整部70。喷出部77对保持于保持部25的衬底W喷出处理液。喷出调整部70对喷出部77供给处理液，且停止对喷出部77供给处理液。
具体而言，喷出调整部70具备第1喷出调整部71与第2喷出调整部72。第1喷出调整部71与第1分配部41连通。例如，第1喷出调整部71连接于第1分配部41。第2喷出调整部72与第2分配部42连通。例如，第2喷出调整部72连接于第2分配部42。
第1喷出调整部71具备配管73与阀74。配管73延伸到连接箱46。配管73经由接头47，与第1分配部41连通。例如，配管73经由接头47，连接于第1分配部41。阀74设置于配管73。同样地，第2喷出调整部72具备配管75与阀76。配管75延伸到连接箱46。配管75经由接头48，与第2分配部42连通。例如，配管75经由接头48，连接于第2分配部42。阀76设置于配管75。
喷出部77具备第1喷嘴78与第2喷嘴79。第1喷嘴78与第1喷出调整部71(具体而言为配管73)连通。例如，第1喷嘴78连接于第1喷出调整部71(具体而言为配管73)。第2喷嘴79与第2喷出调整部72(具体而言为配管75)连通。例如，第2喷嘴79连接于第2喷出调整部72(具体而言为配管75)。第1喷嘴78喷出处理液(具体而言为第1处理液)。第2喷嘴79喷出处理液(具体而言为第2处理液)。
另外，液体供给部27不具备贮存处理液的槽。液体供给部27不具备压送处理液的泵。
处理单元21具备杯子80。杯子80设置于处理外壳61的内部。杯子80具有大致筒形状。杯子80配置在保持部25的周围。杯子80接收从保持于保持部25的衬底W飞散出的处理液。
处理单元21具备气体排出部81。气体排出部81将处理外壳61的内部的气体排出。气体排出部81的至少一部分配置在处理外壳61的外部。
气体排出部81具备切换机构82与多个(例如，3个)排气管83、84、85。切换机构82连接于处理外壳61。排气管83-85分别连接于切换机构82。排气管83连接于排气管53。排气管84连接于排气管54。排气管85连接于排气管55。切换机构82使处理外壳61与排气管83-85中的1个连通。切换机构82于排气管83-85之间切换处理外壳61的排气路。具体而言，切换机构82切换为第1状态、第2状态、及第3状态。于第1状态下，切换机构82使处理外壳61与排气管83连通，且将处理外壳61与排气管84、85切断。于第1状态下，排气管83专门从处理外壳61排出气体。也就是说，于第1状态下，排气管84不从处理外壳61排出气体，排气管85也不从处理外壳61排出气体。于第2状态下，切换机构82使处理外壳61与排气管84连通，且将处理外壳61与排气管83、85切断。于第2状态下，排气管84专门从处理外壳61排出气体。于第3状态下，切换机构82使处理外壳61与排气管85连通，且将处理外壳61与排气管83、84切断。于第3状态下，排气管85专门从处理外壳61排出气体。
4.衬底处理装置1的动作例
简单地说明衬底处理装置1的动作例。以下，于不区分搬送空间12A、12B的情况下，将其称为搬送空间12。于不区分搬送机构13A、13B的情况下，将其称为搬送机构13。于不区分衬底载置部16A、16B的情况下，将其称为衬底载置部16。于不区分第1-第4搬送口28A-28D的情况下，将其称为搬送口28。
传载部3对处理块11供给衬底W。具体而言，搬送机构6从载体C向衬底载置部16搬送衬底W。例如，搬送机构6交替将衬底W移交给衬底载置部16A、16B。
搬送机构13经由衬底载置部16，从传载部3接收衬底W。且，搬送机构13从衬底载置部16将衬底W搬送到1个处理单元21。具体而言，搬送机构13于前后方向X平行移动。且，搬送机构13在与保持部25对向的位置停止。搬送机构13通过搬送口28，将衬底W移交给保持部25。
将处理液(第1处理液)从第1液体贮存部31，通过第1分配部41，分配到处理单元21(液体供给部27)。将处理液(第2处理液)从第2液体贮存部32，通过第2分配部42，分配到处理单元21(液体供给部27)。
处理单元21处理衬底W。具体而言，保持部25保持衬底W。旋转驱动部63使保持于保持部25的衬底W旋转。液体供给部27对保持于保持部25的衬底W供给处理液。杯子80接收从衬底W飞散出的处理液。气体排出部81将处理空间62的气体排出。
例如，第1喷出调整部71对第1喷嘴78供给第1处理液。第1喷嘴78将第1处理液喷出到衬底W。切换机构82将处理外壳61的排气路切换为排气管83。气体从处理外壳61流入排气管83，并从排气管83流入排气管53。之后，第1喷出调整部71停止对第1喷嘴78供给第1处理液。第1喷嘴78停止喷出第1处理液。
接着，第2喷出调整部72对第2喷嘴79供给第2处理液。第2喷嘴79将第2处理液喷出到衬底W。切换机构82将处理外壳61的排气路切换为排气管84。气体从处理外壳61流入排气管84，并从排气管84流入排气管54。之后，第2喷出调整部72停止对第2喷嘴79供给第2处理液。第2喷嘴79停止喷出第2处理液。
在处理单元21处理完衬底W后，处理块11使经处理的衬底W返回到传载部3。具体而言，搬送机构13从处理单元21(保持部25)将衬底W搬送到衬底载置部16。
传载部3从处理块11回收衬底W。具体而言，搬送机构6从衬底载置部16将衬底W搬送到载体C。
5.实施方式的效果
衬底处理装置1具备传载部3与处理块11。处理块11配置在传载部3的后方。处理块11连接于传载部3。处理块11具备搬送空间12A、搬送机构13A、第1处理单元21A1、及第2处理单元21B1。搬送空间12A于前后方向X延伸。搬送机构13A设置于搬送空间12A。搬送机构13A搬送衬底W。第1处理单元21A1处理衬底W。第2处理单元21B1处理衬底W。第1处理单元21A1具备第1保持部25A与第1液体供给部27A。第1保持部25A保持衬底W。第1液体供给部27A对保持于第1保持部25A的衬底W供给处理液。第2处理单元21B1具备第2保持部25B与第2液体供给部27B。第2保持部25B保持衬底W。第2液体供给部27B对保持于第2保持部25B的衬底W供给处理液。
此处，第1处理单元21A1配置在搬送空间12A的右方。第1保持部25A的中心26A在俯视下，位于比第1处理单元21A1的中心24A更后方。第2处理单元21B1配置在搬送空间12A的左方。第2保持部25B的中心26B在俯视下，位于比第2处理单元21B1的中心24B更前方。因此，能容易地将第1处理单元21A1的构造与第2处理单元21B1的构造共通化。可采用具有相同构造的2个处理单元作为第1处理单元21A1及第2处理单元21B1。因此，于第1处理单元21A1与第2处理单元21B1之间，能容易地抑制对衬底W进行的处理品质不均。也就是说，对衬底W进行的处理品质易于第1处理单元21A1与第2处理单元21B1之间均一化。此外，能容易地将第1处理单元21A1的零件及第2处理单元21B1的零件共通化。
搬送机构13A将衬底W搬送到第1保持部25A与第2保持部25B。搬送机构13A构成为能于前后方向X平行移动。因此，搬送机构13A能适宜地将衬底W搬送到第1保持部25A与第2保持部25B。
第2处理单元21B1的前端22B配置在比第1处理单元21A1的前端22A更后方。也就是说，第2处理单元21B1相对于第1处理单元21A1向后方移位。第2处理单元21B1的前端22B配置在比第1处理单元21A1的后端23A更前方。因此，第2保持部25B未配置在非常后方。前后方向X上的第1保持部25A与第2保持部25B之间的距离不会过长。因此，适宜地减小前后方向X上的搬送机构13A的移动距离。具体而言，距离L相对较短。
参考图1、10。图10为比较例的衬底处理装置201的俯视图。图10表示距离M。距离M为保持部208B与保持部208C的前后方向X上的距离。衬底处理装置1中的距离L比衬底处理装置201中的距离M短。前后方向X上的第1保持部25A与第2保持部25B之间的距离比前后方向X上的保持部208A与保持部208B之间的距离短。因此，搬送机构13A能效率良好地将衬底W搬送到第1保持部25A及第2保持部25B。结果，第1处理单元21A1与第2处理单元21B1各自能效率良好地处理衬底W。能适宜地提高衬底处理装置1的产量。
处理块11具备第1液体贮存部31。第1液体贮存部31贮存待分配到第1处理单元21A1及第2处理单元21B1的处理液。第1液体贮存部31配置在搬送空间12A的左方。第1液体贮存部31与第2处理单元21B1的前方相邻。如此，有效地利用第2处理单元21B1的前方空间。因此，能抑制前后方向X上的衬底处理装置1的长度增大。衬底处理装置1的占据面积不过度增大。
如上所述，根据实施方式的衬底处理装置1，能容易地将第1处理单元21A1的构造与第2处理单元21B1的构造共通化。结果，能容易地使第1处理单元21A1中的处理品质与第2处理单元21B1中的处理品质均一化。此外，搬送机构13A能效率良好地将衬底W搬送到第1处理单元21A1与第2处理单元21B1。结果，能适宜地提高衬底处理装置1的产量。此外，能抑制衬底处理装置1的占据面积增大。
第2保持部25B的中心26B配置在比第1保持部25A的中心26A更前方。因此，第2处理单元21B1未相对于第1处理单元21A1向后方过度移位。因此，能抑制前后方向X上的衬底处理装置1的长度增大。
第1液体贮存部31具有前端31f。于前后方向X上，前端31f配置在与第1处理单元21A1的前端22A同等的位置。因此，能抑制前后方向X上的衬底处理装置1的长度增大。
第1处理单元21A1与传载部3的后方相邻。第1液体贮存部31与传载部3的后方相邻。因此，能抑制前后方向X上的处理块11的长度增大。
第2处理单元21B1具有与绕铅直轴旋转180度的第1处理单元21A1相等的构造。因此，能容易地将第1处理单元21A1中的处理品质与第2处理单元21B1中的处理品质均一化。
衬底处理装置1具备衬底载置部16A。衬底载置部16A载置于传载部3与搬送机构13A之间搬送的衬底W。因此，搬送机构13A能容易地从传载部3接收衬底W。搬送机构13A能容易地将衬底W移交给传载部3。
衬底载置部16A的至少一部分设置于搬送空间12A。因此，搬送机构13A的可动区域限于衬底载置部16A的后方。即便于所述情况下，搬送机构13A也能容易地将衬底W搬送到第2保持部26B。具体而言，于搬送机构13A向第2保持部26B搬送衬底W时，不用担心搬送机构13A与衬底载置部16A干涉。这是因为第2处理单元21B1相对于第1处理单元21A1向后方移位。
衬底载置部16A配置在第1处理单元21A1与第1液体贮存部31之间。换句话说，第1处理单元21A1、衬底载置部16A及第1液体贮存部31依序排列于宽度方向Y。因此，衬底载置部16A不会妨碍搬送机构13A将衬底W搬送到第2保持部26B。
衬底处理装置1具备第3处理单元21C1与第4处理单元21D1。第3处理单元21C1与第1处理单元21A1的后方相邻。第3处理单元21C1处理衬底W。第4处理单元21D1与第2处理单元21B1的后方相邻。第4处理单元21D1处理衬底W。第3处理单元21C1具备第3保持部25C与第3液体供给部27C。第3保持部25C保持衬底W。第3液体供给部27C对保持于第3保持部25C的衬底W供给处理液。第4处理单元21D1具备第4保持部25D与第4液体供给部27D。第4保持部25D保持衬底W。第4液体供给部27D对保持于第4保持部25D的衬底W供给处理液。搬送机构13A将衬底W搬送到第3保持部25C与第4保持部25D。第1液体贮存部31贮存待分配到第3处理单元21C1与第4处理单元21D1的处理液。此处，第3处理单元21C1配置在搬送空间12A的右方。第3处理单元21C1在俯视下具有中心24C。第3保持部25C在俯视下具有中心26C。中心26C在俯视下位于比中心24C更后方。第4处理单元21D1配置在搬送空间12A的左方。第4处理单元21D1在俯视下具有中心24D。第4保持部25D在俯视下具有中心26D。中心26D在俯视下位于比中心24D更前方。因此，能容易地将第1处理单元21A1的构造与第3处理单元21C1的构造共通化。能容易地将第1处理单元21A1的构造与第4处理单元21D1的构造共通化。可采用具有相同构造的4个处理单元，作为第1-第4处理单元21A1-21D1。因此，于第1-第4处理单元21A1-21D1之间，能容易地抑制对衬底W进行的处理品质不均。此外，于第1-第4处理单元21A1-21D1之间，能容易地将零件共通化。
第4处理单元21D1的前端22D配置在比第3处理单元21C1的前端22C更后方。也就是说，第4处理单元21D1相对于第3处理单元21C1向后方移位。第4处理单元21D1的前端22D配置在比第3处理单元21C1的后端23C更前方。因此，第4保持部25D无法配置在非常后方。前后方向X上的第3保持部25C与第4保持部25D之间的距离不会过长。此外，第3处理单元21C1与第1处理单元21A1的后方相邻。第4处理单元21D1与第2处理单元21B1的后方相邻。因此，适宜地减小前后方向X上的搬送机构13A的移动距离。具体而言，适宜地减小距离L。因此，搬送机构13A能效率良好地将衬底W搬送到第1-第4保持部25A-25D。结果，第1-第4处理单元21A1-21D1各自能效率良好地处理衬底W。
第3处理单元21C1具有与第1处理单元21A1相等的构造。第4处理单元21D1具有与绕铅直轴旋转180度的第1处理单元21A1相等的构造。因此，于第1-第4处理单元21A1-21D1之间，容易地将对衬底W进行的处理品质均一化。
衬底处理装置1具备第2液体贮存部32。第2液体贮存部32贮存待分配到第1处理单元21A1、第2处理单元21B1、第3处理单元21C1及第4处理单元21D1的处理液。第2液体贮存部32配置在搬送空间12A的右方。第2液体贮存部32与第3处理单元21C1的后方相邻。如此，有效地利用第3处理单元21C1的后方的空间。因此，能抑制前后方向X上的衬底处理装置1的长度增大。
于前后方向X上，第2液体贮存部32的后端32r配置在与第4处理单元21D1的后端23D同等的位置。因此，能抑制前后方向X上的衬底处理装置1的长度增大。
贮存在第2液体贮存部32的处理液为与贮存在第1液体贮存部31的处理液不同的种类。因此，第1-第4处理单元21A1-21D1能各自将2种处理液供给到衬底W。
衬底处理装置1具备上部空间39、第1分配部41及第2分配部42。上部空间39形成于搬送空间12A1、第1处理单元21A1、第2处理单元21B1、第3处理单元21C1、第4处理单元21D1、第1液体贮存部31及第2液体贮存部32的上方。第1分配部41从第1液体贮存部31，将处理液分配到第1处理单元21A1、第2处理单元21B1、第3处理单元21C1及第4处理单元21D1。第2分配部42从第2液体贮存部32将处理液分配到第1处理单元21A1、第2处理单元21B1、第3处理单元21C1及第4处理单元21D1。此处，第1分配部41设置于上部空间39。第2分配部42设置于上部空间39。因此，能适宜地抑制衬底处理装置1的占地面积增大。
第2分配部42在俯视下与旋转180度的第1分配部41相等。因此，容易地将第1分配部41的流路长度与第2分配部42的流路长度均一化。
衬底处理装置1具备第1连接箱46A、第2连接箱46B、第3连接箱46C、及第4连接箱46D。第1连接箱46A配置在第1处理单元21A1的上方。第2连接箱46B配置在第2处理单元21B1的上方。第3连接箱46C配置在第3处理单元21C1的上方。第4连接箱46D配置在第4处理单元21D1的上方。第1分配部41从第1液体贮存部31，延伸到第1连接箱46A、第2连接箱46B、第3连接箱46C及第4连接箱46D。第2分配部42从第2液体贮存部32，延伸到第1连接箱46A、第2连接箱46B、第3连接箱46C及第4连接箱46D。如此，第1分配部41与第2分配部42都延伸到第1连接箱46A。同样地，第1分配部41与第2分配部42都延伸到第2-第4连接箱46B-46D。因此，容易地将第1分配部41的流路长度与第2分配部42的流路长度均一化。
于前后方向X上，第1连接箱46A配置在比第1保持部25A更前方。于前后方向X上，第2连接箱46B配置在比第2保持部25B更后方。于前后方向X上，第3连接箱46C配置在比第3保持部25C更前方。于前后方向X上，第4连接箱46D配置在比第4保持部25D更后方。因此，能适宜地减小第1液体贮存部31到第1连接箱46A的流路长度与第1液体贮存部31到第2连接箱46B的流路长度之间的差。具体而言，能适宜地减小第1配管43A的长度与第2配管43B的长度之间的差。同样地，能适宜地减小第1液体贮存部31到第3连接箱46C的流路长度与第1液体贮存部31到第4连接箱46D的流路长度之间的差。具体而言，能适宜地减小第3配管43C的长度与第4配管43D的长度之间的差。能适宜地减小第2液体贮存部32到第1连接箱46A的流路长度与第2液体贮存部32到第2连接箱46B的流路长度之间的差。具体而言，能适宜地减小第5配管44A的长度与第6配管44B的长度之间的差。能适宜地减小第2液体贮存部32到第3连接箱46C的流路长度与第2液体贮存部32到第4连接箱46D的流路长度之间的差。具体而言，能适宜地减小第7配管44C的长度与第8配管44D的长度之间的差。
衬底处理装置1具备第1接头47A、第2接头47B、第3接头47C及第4接头47D。第1接头47A收纳于第1连接箱46A。第1接头47A连接第1分配部41与第1液体供给部27A。第2接头47B收纳于第2连接箱46B。第2接头47B连接第1分配部41与第2液体供给部27B。第3接头47C收纳于第3连接箱46C。第3接头47C连接第1分配部41与第3液体供给部27C。第4接头47D收纳于第4连接箱46D。第4接头47D连接第1分配部41与第4液体供给部27D。因此，于第1-第4连接箱46A-46D内，能适宜地装卸第1分配部41与第1-第4液体供给部27A-27D。例如，于第1连接箱46A内，能适宜地装卸第1分配部41与第1液体供给部27A。
衬底处理装置1具备第5接头48A、第6接头48B、第7接头48C及第8接头48D。第5接头48A收纳于第1连接箱46A。第5接头48A连接第2分配部42与第1液体供给部27A。第6接头48B收纳于第2连接箱46B。第6接头48B连接第2分配部42与第2液体供给部27B。第7接头48C收纳于第3连接箱46C。第7接头48C连接第2分配部42与第3液体供给部27C。第8接头48D收纳于第4连接箱46D。第8接头48D连接第2分配部42与第4液体供给部27D。因此，于第1-第4连接箱46A-46D内，能适宜地装卸第2分配部42与第1-第4液体供给部27A-27D。
衬底处理装置1具备踏板57。踏板57设置于上部空间39。踏板57大致平坦。因此，衬底处理装置1的用户能踩在踏板57上。因此，用户例如能在踏板57上进行保养作业。
踏板57配置在第1连接箱46A的附近。因此，用户能容易地存取第1连接箱46A。因此，用户能在踏板57上，进行装卸第1分配部41与第1液体供给部27A的作业。用户能在踏板57上，进行装卸第2分配部42与第1液体供给部27A的作业。同样地，踏板57配置在第2连接箱46B、第3连接箱46C及第4连接箱46D的附近。因此，用户能在踏板57上，进行装卸第1-第2分配部41-42与第2-第4液体供给部27B-27D的作业。
踏板57通过第2连接箱46B及第3连接箱46C之间，从第1连接箱46A延伸到第4连接箱46D。因此，用户能容易地在第1-第4连接箱46A-46D之间移动。
踏板57配置在第1分配部41的至少一部分的上方。因此，踏板57适宜地保护第1分配部41。
踏板57配置在第2分配部42的至少一部分的上方。因此，踏板57适宜地保护第2分配部42。
本发明不限于实施方式，可如下所述般进行变化实施。
于实施方式中，右方为本发明的第1侧方的示例，左方为本发明的第2侧方的示例。但，不限于此。也可为左方是本发明的第1侧方的示例，右方是本发明的第2侧方的示例。具体而言，第1处理单元21A1可配置在搬送空间12A的左方，第2处理单元21B1及第1液体贮存部31可配置在搬送空间12A的右方。
于实施方式中，衬底处理装置1除第1液体贮存部31及第2液体贮存部32外，还可具备其它贮存部。图9为变化实施方式的衬底处理装置1的右侧视图。另外，通过对与实施方法相同的构成标注相同符号而省略详细的说明。图9为方便起见，省略第1分配部41及第2分配部42的图示。
变化实施方式的衬底处理装置1具备第3液体贮存部91。第3液体贮存部91配置在传载部3。第3液体贮存部91贮存带分配到第1-第4处理单元21A-21D的处理液。
贮存在第3液体贮存部91的处理液为与贮存在第1液体贮存部31的处理液不同的种类。贮存在第3液体贮存部91的处理液为与贮存在第2液体贮存部32的处理液不同的种类。贮存在第3液体贮存部91的处理液的组成与贮存在第1液体贮存部31的处理液不同。贮存在第3液体贮存部91的处理液的组成与贮存在第2液体贮存部32的处理液不同。
贮存在第3液体贮存部91的处理液为第3处理液。第3处理液例如被分类到碱液(碱系药液)。第3处理液例如包含氨双氧水(SC1)、氨水、氟化铵溶液、及四甲基氢氧化铵(TMAH：Tetramethylammonium hydroxide)中至少1个。
第3液体贮存部91具备槽92、泵93、及柜体94。槽92贮存处理液(具体而言为第3处理液)。泵93与槽92连通。例如，泵93连接于槽92。柜体94收纳槽92与泵93。
衬底处理装置1具备第3分配部95。第3分配部95从第3液体贮存部91将处理液分配到第1-第4处理单元21A-21D。
具体而言，第3分配部95与泵93连通。例如，第3分配部95连接于泵93。第3分配部95从传载部3的底部，延伸到处理块11的底部。第3分配部95例如设置于地下凹坑(未图示)。地下凹坑形成于供设置传载部3及处理块11的地板面FL的下方。第3分配部95经由接头96，连接于第1-第4液体供给部27A-27D。
变化实施方式的衬底处理装置1具备第4液体贮存部101。第4液体贮存部101设置于传载部3及处理块11的外部。例如，第4液体贮存部101设置于地下凹坑。第4液体贮存部101贮存待分配到第1-第4处理单元21A-21D的处理液。
贮存在第4液体贮存部101的处理液为与贮存在第1液体贮存部31的处理液不同的种类。贮存在第4液体贮存部101的处理液为与贮存在第2液体贮存部32的处理液不同的种类。贮存在第4液体贮存部101的处理液为与贮存在第3液体贮存部91的处理液不同的种类。贮存在第4液体贮存部101的处理液的组成与贮存在第1液体贮存部31的处理液不同。贮存在第4液体贮存部101的处理液的组成与贮存在第2液体贮存部32的处理液不同。贮存在第4液体贮存部101的处理液的组成与贮存在第3液体贮存部91的处理液不同。
贮存在第4液体贮存部101的处理液为第4处理液。第4处理液例如被分类为洗净液。第4处理液例如为纯水。
第4液体贮存部101具备槽102、泵103、及柜体104。槽102贮存处理液(具体而言为第4处理液)。泵103与槽102连通。例如，泵103连接于槽102。柜体104收纳槽102与泵103。
衬底处理装置1具备第4分配部105。第4分配部105从第4液体贮存部101，向第1-第4处理单元21A-21D分配处理液。
具体而言，第4分配部105与泵103连通。例如，第4分配部105连接于泵103。第4分配部105从第4液体贮存部101，延伸到处理块11的底部。第4分配部105例如设置于地下凹坑。第4分配部105经由接头106，连接于第1-第4液体供给部27A-27D。
衬底处理装置1具备返回部107。返回部107使处理液从第1-第4处理单元21A-21D，返回到第4液体贮存部101。
具体而言，返回部107与第1-第4液体供给部27A-27D连通。例如，返回部107连接于第1-第4液体供给部27A-27D。返回部107于第1-第4连接箱46A-46D中，连接于第1-第4液体供给部27A-27D。返回部107经由接头108，连接于第1-第4液体供给部27A-27D。返回部107设置于上部空间39。返回部107从第1-第4连接箱46A-46D向后方延伸。
处理块11具备接口部111。接口部111位于处理块11的后部。接口部111配置在搬送空间12、处理单元21、第1液体贮存部31及第2液体贮存部32的后方。接口部111于铅直方向Z延伸。接口部111从上部空间39延伸到处理块11的底部。
返回部107从上部空间39进入接口部111。返回部107在接口部111的内部向下方延伸。返回部107通过接口部111的底部，在接口部111的外部(例如，地下凹坑)露出。且，返回部107进入第4贮存部101。返回部107与槽102连通。例如，返回部107连接于槽102。
另外，处理块11还可具备配电部(未图示)。配电部例如配置在处理块11的后部。配电部例如配置在接口部111的附近。配电部管理衬底处理装置1的电源。配电部例如包含1个以上的开闭器。开闭器对衬底处理装置1具有的电子设备投入/切断电力。
于实施方式中，第1液体贮存部31贮存第1处理液。但是，不限于此。第1液体贮存部31也可贮存第2处理液、第3处理液及第4处理液中的任一个。同样地，于实施方式中，第2液体贮存部32贮存第2处理液。但是，不限于此。第2液体贮存部32也可贮存第1处理液、第3处理液及第4处理液中的任一个。
于实施方式中，衬底载置部16A的一部分也可配置在传载部3。
于实施方式中，踏板57也可配置在整个第1分配部41的上方。踏板57也可配置在整个第2分配部42的上方。踏板57也可配置在所有排气管53-55的上方。
于实施方式中，踏板57不配置在第1-第4连接箱46A-46D的上方。但是，不限于此。踏板57也可配置在第1-第4连接箱46A-46D的至少一部分的上方。例如，踏板57也可配置在所有第1-第4连接箱46A-46D的上方。踏板57可具有将第1连接箱46A的上方开闭的面板(未图示)。于面板打开时，用户能容易地存取第1连接箱46A。于面板关闭时，面板保护第1连接箱46A。同样地，踏板57可具有将第2-第4连接箱46B-46D的上方开闭的面板(未图示)。
于实施方式中，处理块11具有的搬送空间12的数量为2个。但是，不限于此。处理块11具有的搬送空间12的数量也可为1个，还可多于2个。
于实施方式中，处理块11具有的搬送机构13的数量为2个。但是，不限于此。处理块11具有的搬送机构13的数量也可为1个，还可多于2个。
于实施方式中，衬底处理装置1具备第3处理单元21C1与第4处理单元21D1。但是，不限于此。例如，也可省略第3处理单元21C1与第4处理单元21D1。
于实施方式中，在搬送空间12A的右方，排列于前后方向X的处理单元21的数量为2个。但是，不限于此。在搬送空间12A的右方，排列于前后方向X的处理单元21的数量也可为1个，还可多于2个。同样地，在搬送空间12A的左方，排列于前后方向X的处理单元21的数量也可为1个，还可多于2个。
于实施方式中，第1处理单元21A的数量为6个。但是，不限于此。第1处理单元21A的数量也可为1个以上且不满6个，还可多于6个。
于实施方式中，排列于铅直方向Z的处理单元21的数量为6个。但是，不限于此。排列于铅直方向Z的处理单元21的数量也可为1个以上且不满6个，还可多于6个。
关于实施方式及各变化实施方式，还可将各构成置换成其它变化实施方式的构成或与其组合等而予以适当变更。
本发明只要不脱离其思想或本质，便可以其它具体形式实施，因此，作为表示发明的范围，应参考所附加的权利要求，而非以上说明。
[符号的说明]
1:衬底处理装置
3:传载部
12A:搬送空间
13A:搬送机构
16A:衬底载置部
21A1:第1处理单元
22A:第1处理单元的前端
23A:第1处理单元的后端
24A:俯视下的第1处理单元的中心
21B1:第2处理单元
22B:第2处理单元的前端
23B:第2处理单元的后端
24B:俯视下的第2处理单元的中心
21C1:第3处理单元
22C:第3处理单元的前端
23C:第3处理单元的后端
24C:俯视下的第3处理单元的中心
21D1:第4处理单元
22D:第4处理单元的前端
23D:第4处理单元的后端
24D:俯视下的第4处理单元的中心
25A:第1保持部
26A:俯视下的第1保持部的中心
25B:第2保持部
26B:俯视下的第2保持部的中心
25C:第3保持部
26C:俯视下的第3保持部的中心
25D:第4保持部
26D:俯视下的第4保持部的中心
27A:第1液体供给部
27B:第2液体供给部
27C:第3液体供给部
27D:第4液体供给部
31:第1液体贮存部
32:第2液体贮存部
39:上部空间
41:第1分配部
42:第2分配部
46A:第1连接箱
46B:第2连接箱
46C:第3连接箱
46D:第4连接箱
47A:第1接头
47B:第2接头
47C:第3接头
47D:第4接头
57:踏板
W:衬底
X:前后方向
Y:宽度方向
Z:铅直方向。

Claims (20)

1.一种衬底处理装置，具备：
传载部；及
处理块，配置在所述传载部的后方，连接于所述传载部；且
所述处理块具备：
搬送空间，于前后方向延伸；
搬送机构，设置于所述搬送空间，构成为能于所述前后方向平行移动，并搬送衬底；
第1处理单元，配置在所述搬送空间的第1侧方，处理衬底；
第2处理单元，配置在所述搬送空间的第2侧方，处理衬底；及
第1液体贮存部，贮存待分配到所述第1处理单元及所述第2处理单元的处理液；且
所述第1处理单元具备：
第1保持部，保持衬底；及
第1液体供给部，对保持于所述第1保持部的衬底供给处理液；且
所述第2处理单元具备：
第2保持部，保持衬底；及
第2液体供给部，对保持于所述第2保持部的衬底供给处理液；且
所述搬送机构将衬底搬送到所述第1保持部与所述第2保持部；
所述第1保持部具有俯视下位于比所述第1处理单元的中心更后方的中心；
所述第2保持部具有俯视下位于比所述第2处理单元的中心更前方的中心；
所述第2处理单元的前端配置在比所述第1处理单元的前端更后方，且配置在比所述第1处理单元的后端更前方；
所述第1液体贮存部配置在所述搬送空间的所述第2侧方，且与所述第2处理单元的前方相邻。
2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中
所述第2保持部的所述中心配置在比所述第1保持部的所述中心更前方。
3.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中
于所述前后方向上，所述第1液体贮存部的前端配置在与所述第1处理单元的所述前端同等的位置。
4.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中
所述第1处理单元与所述传载部的后方相邻，
所述第1液体贮存部与所述传载部的后方相邻。
5.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中
所述第2处理单元具有与绕铅直轴旋转180度的所述第1处理单元相等的构造。
6.根据权利要求1所述的衬底处理装置，具备：
衬底载置部，载置于所述传载部与所述搬送机构之间搬送的衬底；且
所述衬底载置部的至少一部分设置于所述搬送空间。
7.根据权利要求6所述的衬底处理装置，其中
所述衬底载置部配置在所述第1处理单元与所述第1液体贮存部之间。
8.根据权利要求1所述的衬底处理装置，具备：
第3处理单元，配置在所述搬送空间的所述第1侧方，与所述第1处理单元的后方相邻，并处理衬底；及
第4处理单元，配置在所述搬送空间的所述第2侧方，与所述第2处理单元的后方相邻，并处理衬底；且
所述第3处理单元具备：
第3保持部，保持衬底；及
第3液体供给部，对保持于所述第3保持部的衬底供给处理液；且
所述第4处理单元具备：
第4保持部，保持衬底；及
第4液体供给部，对保持于所述第4保持部的衬底供给处理液；且
所述搬送机构将衬底搬送到所述第3保持部与所述第4保持部；
所述第1液体贮存部贮存待分配到所述第3处理单元与所述第4处理单元的处理液；
所述第3保持部具有俯视下位于比所述第3处理单元的中心更后方的中心；
所述第4保持部具有俯视下位于比所述第4处理单元的中心更前方的中心；
所述第4处理单元的前端配置在比所述第3处理单元的前端更后方，且配置在比所述第3处理单元的后端更前方。
9.根据权利要求8所述的衬底处理装置，其中
所述第3处理单元具有与所述第1处理单元相等的构造，
所述第4处理单元具有与绕铅直轴旋转180度的所述第1处理单元相等的构造。
10.根据权利要求8所述的衬底处理装置，具备：
第2液体贮存单元，贮存待分配到所述第1处理单元、所述第2处理单元、所述第3处理单元及所述第4处理单元的处理液；且
所述第2液体贮存部配置在所述搬送空间的所述第1侧方，且与所述第3处理单元的后方相邻。
11.根据权利要求10所述的衬底处理装置，其中
于所述前后方向上，所述第2液体贮存部的后端配置在与所述第4处理单元的后端同等的位置。
12.根据权利要求10所述的衬底处理装置，其中
贮存在所述第2液体贮存部的处理液为与贮存在所述第1液体贮存部的处理液不同的种类。
13.根据权利要求10所述的衬底处理装置，具备：
上部空间，形成于所述搬送空间、所述第1处理单元、所述第2处理单元、所述第3处理单元、所述第4处理单元、所述第1液体贮存部及所述第2液体贮存部的上方；
第1分配部，设置于所述上部空间，从所述第1液体贮存部，将处理液分配到所述第1处理单元、所述第2处理单元、所述第3处理单元及所述第4处理单元；及
第2分配部，设置于所述上部空间，从所述第2液体贮存部，将处理液分配到所述第1处理单元、所述第2处理单元、所述第3处理单元及所述第4处理单元。
14.根据权利要求13所述的衬底处理装置，其中
所述第2分配部俯视下与旋转180度的所述第1分配部相等。
15.根据权利要求13所述的衬底处理装置，具备：
第1连接箱，配置在所述第1处理单元的上方；
第2连接箱，配置在所述第2处理单元的上方；
第3连接箱，配置在所述第3处理单元的上方；及
第4连接箱，配置在所述第4处理单元的上方；且
所述第1分配部从所述第1液体贮存部，延伸到所述第1连接箱、所述第2连接箱、所述第3连接箱及所述第4连接箱；
所述第2分配部从所述第2液体贮存部，延伸到所述第1连接箱、所述第2连接箱、所述第3连接箱及所述第4连接箱。
16.根据权利要求15所述的衬底处理装置，其中
于所述前后方向上，所述第1连接箱配置在比所述第1保持部更前方，
于所述前后方向上，所述第2连接箱配置在比所述第2保持部更后方，
于所述前后方向上，所述第3连接箱配置在比所述第3保持部更前方，于所述前后方向上，所述第4连接箱配置在比所述第4保持部更后方。
17.根据权利要求15所述的衬底处理装置，具备：
第1接头，收纳于所述第1连接箱，连接所述第1分配部与所述第1液体供给部；
第2接头，收纳于所述第2连接箱，连接所述第1分配部与所述第2液体供给部；
第3接头，收纳于所述第3连接箱，连接所述第1分配部与所述第3液体供给部；及
第4接头，收纳于所述第4连接箱，连接所述第1分配部与所述第4液体供给部。
18.根据权利要求15所述的衬底处理装置，具备：
大致平坦的踏板，设置于所述上部空间。
19.根据权利要求18所述的衬底处理装置，其中
所述踏板配置在所述第1连接箱、所述第2连接箱、所述第3连接箱及所述第4连接箱的附近。
20.根据权利要求18所述的衬底处理装置，其中
所述踏板配置在所述第1分配部的至少一部分的上方。
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