JP2003060002A - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置

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JP2003060002A
JP2003060002A JP2001248185A JP2001248185A JP2003060002A JP 2003060002 A JP2003060002 A JP 2003060002A JP 2001248185 A JP2001248185 A JP 2001248185A JP 2001248185 A JP2001248185 A JP 2001248185A JP 2003060002 A JP2003060002 A JP 2003060002A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理部や搬送機構での基板の処理や搬送にお
いて空きによる無駄時間を低減させて基板を効率良く処
理することができる基板処理装置を提供することを目的
とする。 【解決手段】 未処理あるいは処理済の複数枚の基板W
を収納したキャリアCの側部を把持して2個分のキャリ
アCを搬送する把持部4bが設けられており、キャリア
搬送機構4は、この把持部4bを備えることでキャリア
Cを2個同時に搬送するように構成している。その結
果、各処理部13〜15や搬送機構での基板Wの処理や
搬送において空きによる無駄時間を低減させて基板Wを
効率良く処理することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板、液晶
表示器のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、光
ディスク用の基板(以下、単に基板と称する)を複数の
処理部で基板処理をそれぞれ行う基板処理装置に係り、
特に、未処理の基板を投入する投入部、基板処理を行う
処理部、および処理済の基板を払い出す払出部間で基板
を搬送する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、このような基板処理装置として、
例えば薬液処理を施すものがある。これを図19に示
し、以下に説明する。この基板処理装置は、未処理の複
数枚(例えば25枚)の基板Wを収納したキャリアCを
投入する投入部101と、処理済の複数枚の基板Wを収
納したキャリアC(カセットとも呼ばれる)を払い出す
払出部102と、複数枚の基板Wに対して乾燥処理を施
す乾燥処理部103を備えるとともに、複数枚の基板W
に対して薬液処理を施す薬液処理部104、および複数
枚の基板Wに対して洗浄処理を施す洗浄処理部105を
それぞれ複数個(図19では2つ)分備えている。
【0003】投入部101には、キャリアCを載置する
投入用の載置台106が、払出部102には、キャリア
Cを載置する払出用の載置台107が、それぞれ複数個
(図19では2つ)分配備されている。
【0004】投入部101と払出部102とに沿う位置
には、これらの間を移動可能に構成した第1のキャリア
搬送機構108が配置されている。この第1のキャリア
搬送機構108は、未処理または処理済の基板Wを収納
したキャリアCを搬送する。
【0005】また、第1のキャリア搬送機構108から
見て投入部101/払出部102側とは反対側には、第
2のキャリア搬送機構109が配置されている。この第
2のキャリア搬送機構109は、投入時には未処理の基
板Wを収納したキャリアCを搬送し、キャリアCから基
板Wを取り出し、払出時には処理済の基板Wをキャリア
Cに収納し、基板Wを収納したキャリアCを搬送する。
【0006】また、基板搬送機構110が、基板処理装
置の長手方向にある搬送路111を移動可能に構成され
ている。この基板搬送機構110は、未処理または処理
済の基板Wを搬送する。
【0007】搬送路111の長手方向に沿って、上述の
乾燥処理部103、薬液処理部104、および洗浄処理
部105が、図19に示すように配備されている。ま
た、各薬液処理部104と各洗浄処理部105との間に
は、これらの間を移動可能に構成した処理間搬送機構1
12が配置されている。
【0008】上述した基板処理装置において、以下の手
順で基板Wの薬液処理が行われる。すなわち、投入時に
は、未処理の複数枚の基板Wを収納したキャリアCを、
投入部101の載置台106に載置する。第1のキャリ
ア搬送機構108は、載置台106に載置されたキャリ
アCを搬送して、第2のキャリア搬送機構109に渡
す。第2のキャリア搬送機構109は、そのキャリアC
から未処理の基板Wを取り出し、その基板Wを基板搬送
機構110に渡す。
【0009】処理中には、基板搬送機構110は、乾燥
処理部103、薬液処理部104、および洗浄処理部1
05の間で基板Wを受け渡し、基板Wの薬液/洗浄/乾
燥処理を施す。また、処理間搬送機構112は、薬液処
理部104、および洗浄処理部105の間で基板Wを受
け渡し、基板Wの薬液/洗浄処理を施す。
【0010】払出時には、基板搬送機構110は、処理
済の基板Wを第2のキャリア搬送機構109に渡す。第
2のキャリア搬送機構109は、その基板Wをキャリア
Cに収納し、そのキャリアCを第1のキャリア搬送機構
108に渡す。第1のキャリア搬送機構108は、キャ
リアCを搬送して、払出部102の載置台107に載置
する。載置されたキャリアCは、載置台107から払い
出される。上述した手順で基板Wの薬液処理が一連にわ
たって行われる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来の基板処理装置では、複数枚の基
板を収納したキャリアを搬送することができるが、複数
個のキャリアに相当する枚数分の基板を搬送することが
できない問題がある。
【0012】つまり、従来の基板処理装置では、1つの
キャリアを搬送していたので、1つのキャリアに収納さ
れる枚数分の基板しか搬送することができない。その結
果、例えば処理部で基板の処理の空き、あるいは搬送機
構(第1/第2のキャリア搬送機構や基板搬送機構)で
キャリアや基板の搬送の空きが生じた場合、基板の処理
や搬送において無駄な時間が生じて、処理効率が悪くな
る。その一方で、第2のキャリア搬送機構や基板搬送機
構では、搬送された、あるいは搬送されるキャリアの数
によって搬送または処理される基板の枚数が決定される
ので、第2のキャリア搬送機構や基板搬送機構側から、
搬送された、あるいは搬送されるキャリアの数を増減さ
せることはできない。
【0013】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、処理部や搬送機構での基板の処理や搬
送において空きによる無駄時間を低減させて基板を効率
良く処理することができる基板処理装置を提供すること
を目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載の発明は、複数個の処理部と未処理
の複数枚の基板を収納したキャリアを投入する投入部と
処理済の複数枚の基板を収納したキャリアを払い出す払
出部とを備え、各々の前記処理部で基板処理をそれぞれ
行う基板処理装置であって、未処理または処理済の複数
枚の基板を収納した状態で前記キャリアを複数個同時に
搬送する第1のキャリア搬送機構と、投入時には未処理
の複数枚の基板を収納した状態で前記キャリアを搬送
し、前記キャリアから前記基板を取り出し、払出時には
処理済の基板を前記キャリアに収納し、複数枚の前記基
板を収納した状態で前記キャリアを搬送する第2のキャ
リア搬送機構と、未処理または処理済の基板を搬送する
基板搬送機構とを備え、前記第1のキャリア搬送機構
は、投入時には未処理の複数枚の基板を収納したキャリ
アを前記投入部から前記第2のキャリア搬送機構に受け
渡し、払出時には処理済の複数枚の基板を収納したキャ
リアを前記第2のキャリア搬送機構から前記払出部に受
け渡し、前記第2のキャリア搬送機構は、投入時には前
記第1のキャリア搬送機構から受け取ったキャリアから
未処理の基板を取り出し、その基板を前記基板搬送機構
に受け渡し、払出時には前記基板搬送機構から受け取っ
た処理済の基板をキャリアに収納し、そのキャリアを前
記第1のキャリア搬送機構に受け渡し、前記基板搬送機
構は、投入時には未処理の基板を前記第2のキャリア搬
送機構から最初に基板処理を行う処理部に受け渡し、基
板を処理部間同士で受け渡し、払出時には最後に基板処
理を行った処理部から処理済の基板を前記第2のキャリ
ア搬送機構に受け渡すことを特徴とするものである。
【0015】〔作用・効果〕請求項1に記載の発明によ
れば、投入時には、未処理の複数枚の基板を収納したキ
ャリアを投入部に投入する。投入部に投入されたキャリ
アを第1のキャリア搬送機構が搬送して、第2のキャリ
ア搬送機構に渡す。第2のキャリア搬送機構は、そのキ
ャリアから未処理の基板を取り出し、その基板を基板搬
送機構に渡す。基板搬送機構は、その基板を最初に基板
処理を行う処理部に渡す。また、基板搬送機構は、基板
を処理部間同士で受け渡し、各々の処理部で基板処理を
それぞれ行う。払出時には、基板搬送機構は、最後に基
板処理を行った処理部から処理済の基板を第2のキャリ
ア搬送機構に受け渡す。第2のキャリア搬送機構は、そ
の基板をキャリアに収納し、そのキャリアを第1のキャ
リア搬送機構に渡す。第1のキャリア搬送機構は、キャ
リアを搬送して、払出部に渡し、キャリアは払出部から
払い出される。
【0016】また、第1のキャリア搬送機構は、未処理
または処理済の複数枚の基板を収納したキャリアを複数
個同時に搬送するので、投入時には第1のキャリア搬送
機構は複数個のキャリアを投入部から第2のキャリア搬
送機構に受け渡し、払出時には第1のキャリア搬送機構
は複数個のキャリアを第2のキャリア搬送機構から払出
部に受け渡す。このように、第1のキャリア搬送機構側
から、搬送される、あるいは搬送されたキャリアの数を
コントロールする。その結果、処理部で基板の処理の空
き、あるいは搬送機構でキャリアや基板の搬送の空きが
生じる場合には、その空きを埋めるように第1のキャリ
ア搬送機構が複数個のキャリアを予め搬送することで、
処理部や搬送機構での基板の処理や搬送において空きに
よる無駄時間を低減させて基板を効率良く処理すること
ができる。
【0017】また、装置を設置する床面積(フットプリ
ント)を軽減する点において、キャリアを載置する載置
台を、投入部または払出部または第1のキャリア搬送機
構または第2のキャリア搬送機構または基板搬送機構の
いずれか近くに備え、上下方向に積層する積層構造とす
るのが好ましい(請求項2に記載の発明)。
【0018】特に、第1のキャリア搬送機構の近くに積
層構造の載置台を備えた場合には、以下のように第1の
キャリア搬送機構を構成するのが好ましい。すなわち、
第1のキャリア搬送機構を上下移動可能に構成し、投入
時には未処理の複数枚の基板を収納したキャリアを上下
方向に移動させつつ、投入部から積層構造の各載置台に
各々のキャリアをそれぞれ受け渡し、さらにキャリアを
上下方向に移動させつつ、積層構造の各載置台から各々
のキャリアを第2のキャリア搬送機構にそれぞれ受け渡
す。払出時には処理済の複数枚の基板を収納したキャリ
アを上下方向に移動させつつ、第2のキャリア搬送機構
から積層構造の載置台に受け渡し、さらにキャリアを上
下方向に移動させつつ、積層構造の各載置台から各々の
キャリアを払出部に受け渡す(請求項3に記載の発
明)。
【0019】このように、第1のキャリア搬送機構を構
成することで、フットプリントを軽減するのみならず、
積層構造の載置台が、投入部/払出部と第1のキャリア
搬送機構と第2のキャリア搬送機構との間のキャリアや
基板の受け渡しの際での仮置きとしての機能を果たす。
従って、投入部/払出部または第2のキャリア搬送機構
のいずれかでキャリアや基板の搬送の空きが発生せずに
待ち時間が発生する場合には、載置台に仮置きすること
で待ち時間を発生させることなく、無駄なく(フルに)
キャリアや基板の搬送を行わせることができる。さらに
載置台を積層構造としているので、フットプリントが増
大することなく、キャリアを載置台により多く載置する
ことができる。
【0020】また、第1のキャリア搬送機構を上下移動
可能に構成する以外に、第2のキャリア搬送機構を積層
構造、あるいは上下移動可能に構成してもよいし、第1
/第2のキャリア搬送機構をともに積層構造、あるいは
ともに上下移動可能に構成してもよい。さらには、上述
したように積層構造の載置台を、投入部または払出部ま
たは第1のキャリア搬送機構または第2のキャリア搬送
機構または基板搬送機構のいずれか近くに備えてもよい
ので、例えば第1/第2のキャリア搬送機構以外の投入
部または払出部を積層構造にしてもよいし、基板搬送機
構を上下移動可能に構成してもよい。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図1は、実施例に係る基板処理装置
の処理部を除く投入部や払出部などの概略構成を示す斜
視図であり、図2は、基板処理装置を平面視したときの
ブロック図であり、図3は、基板処理装置の投入部/払
出部の正面図であり、図4は、基板処理装置の第1のキ
ャリア搬送機構、第2のキャリア搬送機構、および基板
搬送機構の正面図であり、図5は、第2のキャリア搬送
機構と基板搬送機構との基板の受け渡しの様子を示した
正面図であり、図6は基板搬送機構の概略構成図であ
る。
【0022】本実施例に係る基板処理装置は、図1,2
に示すように、未処理の複数枚(例えば25枚)の基板
Wを収納したキャリアCを投入する投入部1と、処理済
の基板Wを収納したキャリアCを払い出す払出部2とを
備えている。投入部1には、キャリアCを載置する投入
用の載置台1a,1bが、払出部2には、キャリアCを
載置する払出用の載置台2a,2bが、図2に示すよう
にそれぞれ配備されている。また、投入部1にキャリア
Cを投入する投入口1Aと、払出部2からキャリアCを
払い出す払出口2Aとが、図1に示すように実施例装置
の側壁部に設けられており、開閉可能に構成されてい
る。
【0023】投入部1と払出部2との間には、キャリア
搬送路3が図1,2に示すような方向で配備されてい
る。キャリアCを搬送するキャリア搬送機構4が、この
キャリア搬送路3に沿って図1,2中の矢印RAの方向
に移動可能に構成されるとともに、キャリア搬送機構4
内のスライド部4aに沿ってキャリアCが図1中の矢印
RBの方向に移動可能にスライドするようにキャリア搬
送機構4は構成されている。また、キャリア搬送機構4
には、キャリアCの側部を把持してキャリアCを搬送す
る把持部4bが設けられている。本実施例では、把持部
4bは2個分のキャリアを水平に並べて把持して、キャ
リア搬送機構4がキャリアCを2個同時に搬送するよう
に構成されている。つまり、キャリア搬送機構4は、搬
送方向(図1,2中の矢印RAの方向)に水平面内で直交
する方向に2個のキャリアCを並べて同時に搬送する。
このキャリア搬送機構4は、本発明における第1のキャ
リア搬送機構に相当する。
【0024】キャリア搬送機構4の搬送方向(図1,2
中の矢印RAの方向)に水平面内で直交する方向には、
図2に示すように投入用搬送路5と払出用搬送路6とが
並べて配備されるとともに、投入部1/払出部2側から
払出用搬送路6,投入用搬送路5が順に配備されてい
る。未処理の基板Wを収納したキャリアCを搬送した後
にそのキャリアCから基板Wを取り出す投入用搬送機構
7が、この投入用搬送路5に沿って図2中の矢印RCの
方向に移動可能に構成されるとともに、処理済の基板W
をキャリアCに収納した後にそのキャリアCを搬送する
払出用搬送機構8が、この払出用搬送路6に沿って図2
中の矢印RDの方向に移動可能に構成されている。
【0025】この投入用搬送機構7,払出用搬送機構8
は、投入用/払出用搬送路5,6の搬送方向RC,RD
に対して、つまりキャリア搬送機構4での搬送方向(図
1,2中の矢印RAの方向)に水平面内で直交する方向
に対してキャリア搬送機構4から受け渡されたキャリア
Cの数に相当する距離だけ移動可能に構成されている。
このことから、キャリア搬送機構4と投入用/払出用搬
送機構7,8との間でのキャリアCの受け渡しは、それ
ぞれが搬送姿勢を変更せずに行われる。本実施例では、
キャリア搬送機構4は2個のキャリアCを同時に搬送す
るので、キャリア搬送機構4から受け渡されるキャリア
Cの数は2個である。従って、投入用/払出用搬送機構
7,8は、搬送方向RC,RDにキャリアC2個分だけ
移動可能に構成されている。この投入用/払出用搬送機
構7,8は、本発明における第2のキャリア搬送機構に
相当し、第2のキャリア搬送機構を、投入時に用いられ
る投入用搬送機構7と、払出時に用いられる払出用搬送
機構8とに分けている。投入用/払出用搬送機構7,8
の具体的構成については、後述する。
【0026】また、投入部1での投入用の載置台1a,
1b、および払出部2での払出用の載置台2a,2bと
は別に、キャリアCを仮置きする仮置き用の載置台9
が、図1に示すようにキャリア搬送機構4の近くに配備
されるとともに、載置台9は、上下方向に積層されてい
る積層構造として構成されている。本実施例では、この
載置台9は、キャリア搬送路3に沿うように配備されて
いる。
【0027】キャリア搬送機構4の搬送方向(図1,2
中の矢印RAの方向)と平行に、基板搬送路10が、図
1,2に示すように、後述する処理部12から投入用/
払出用搬送路5,6まで延在されている。この基板搬送
路10は、投入用/払出用搬送路5,6と直交する。基
板Wを搬送する基板搬送機構11が、この基板搬送路1
0に沿って図1,2中の矢印REの方向に移動可能に構
成されている。基板搬送機構11の具体的構成について
も、後述する。
【0028】基板搬送路10の搬送方向(図1,2中の
矢印REの方向)に沿うようにして、処理部12が配備
されている。処理部12は、図2に示すように基板Wに
対して乾燥処理を施す乾燥処理部13,基板Wに対して
薬液処理を施す薬液処理部14、および基板Wに対して
洗浄処理を施す洗浄処理部15を備えている。本実施例
では、薬液処理部14と洗浄処理部15とを、それぞれ
2つずつ備えている。
【0029】乾燥処理部13は、例えば減圧して乾燥す
る減圧乾燥方式、あるいは高速回転させて乾燥するスピ
ンドライ方式で構成されている。
【0030】薬液処理部14は、薬液の入った薬液槽や
薬液を供給する供給管や薬液を排出する排出管など(い
ずれも図示省略)から構成されている。基板Wを薬液槽
内の薬液に浸漬することで薬液処理が行われる。薬液処
理としては、例えばエッチングなどがある。エッチング
処理の場合には、薬液としてフッ化水素(フッ酸)が挙
げられる。
【0031】洗浄処理部15は、例えば超純水などの洗
浄液の入った洗浄槽や洗浄液を供給する供給管や洗浄液
を排出する排出管など(いずれも図示省略)から構成さ
れている。基板Wを洗浄槽内に浸漬することで洗浄処理
が行われる。
【0032】基板搬送機構11とは別に、各薬液処理部
14と洗浄処理部15との間には、これらの間を移動可
能に構成した処理間搬送機構16が配備されている。
【0033】続いて、投入部1および払出部2の具体的
構成について、図3を参照して説明する。投入部1と払
出部2との間には、図3(a)に示すように、これらの
間を(矢印RFの方向に)移動可能に構成したスライド
板17が配備されている。このスライド板17は、例え
ば回転ベルト(図示省略)などに接続されている。スラ
イド板17は、投入部1と払出部2とをむすぶ経路上の
真下にあって、スライド板17には、軸心周りに(矢印
RGの方向に)回転するとともに上下方向(矢印RHの
方向)に伸縮(昇降)自在の回転軸17aを有する保持
板17bを備えている。このようにスライド板17を構
成することで、以下の作用・効果を奏する。
【0034】すなわち、キャリアCが載置台1a,1
b,2a,2bに載置されている場合には、回転軸17
aを上に伸ばして保持板17bを上に押し上げる。押し
上げられた保持板17bは、図3(b)に示すように、
載置されているキャリアCの底部に接触し、保持板17
bの押上に連動してキャリアCが保持板17bによって
保持された状態で押し上げられる。押し上げられたキャ
リアCは載置台1a,1b,2a,2bから浮いて離れ
た状態で、投入部1と払出部2との間の所望の場所に移
動することができる。例えば、投入用の載置台1aから
キャリアCを移動する場合には、隣の投入用の載置台1
b、または払出用の載置台2a,2b、または投入部1
と払出部2との間にあってキャリア搬送路3の真上に移
動させることができる。
【0035】載置台1a,1b,2a,2bからキャリ
ア搬送路3の真上に移動する場合には、キャリアCの向
きを回転させるために回転軸17aを回転させる。回転
軸17aの回転に連動して保持板17bおよび保持板1
7bに保持されたキャリアCが、キャリアCに収納され
た基板Wごと回転されて、基板Wの向きが変更される。
キャリア搬送路3の真上から載置台1a,1b,2a,
2bに移動する場合も、逆の手順で行う。
【0036】載置台1a,1b,2a,2bに載置する
場合には、回転軸17aを下に縮めて保持板17bを下
げる。下げられた保持板17bに連動してキャリアCも
下がる。そして、キャリアCの底部に載置台1a,1
b,2a,2bが接触し、保持板17bがキャリアCか
ら離れてキャリアCが載置台1a,1b,2a,2bに
載置される。
【0037】続いて、投入用/払出用搬送機構7,8お
よび基板搬送機構11の具体的構成について、図4〜6
を参照して説明する。投入用/払出用搬送機構7,8
は、同じ構成からなり、投入用と払出用とに分けている
だけなので、投入用搬送機構7のみについて説明する。
投入用搬送機構7は、図4に示すように投入用搬送路5
の矢印RCの方向に移動可能されたスライド板18と、
キャリアCから基板Wを取り出す、あるいは基板Wをキ
ャリアCに収納する取出・収納部19とを備えている。
スライド板18は、投入用搬送路5の上に配備されてお
り、取出・収納部19は、後述する基板搬送機構11の
保持アーム20の真下に配備されている。このスライド
板18は、投入部1と払出部2との間を移動するスライ
ド板17と同様に、例えば回転ベルト(図示省略)など
に接続されている。
【0038】取出・収納部19は、昇降自在に構成され
た軸19aと、それに保持された押上部材19bとを備
えている。キャリアC内の隣り合う基板Wの間隔をdと
したときに、押上部材19bは、間隔d/2(以下、間
隔d/2を『ハーフピッチ』と呼ぶ)ごとに、1枚の基
板Wを挟んで垂直方向に保持する挟持部19cを備えて
いる。従って、キャリアC内に収納されている基板Wの
枚数が、例えば25枚のときには、押上部材19bは、
ハーフピッチd/2ごとに50個の挟持部19cを備え
ているというように、キャリアC内に収納されている基
板Wの枚数の2倍分だけ挟持部19cが押上部材19b
に配備されることになる。
【0039】挟持部19cをハーフピッチごとに設けた
理由は、投入/払出時に同時に処理されるキャリアCの
数だけ基板の間隔を変更することにある。すなわち、本
実施例では、キャリア搬送機構4は2個のキャリアCを
同時に搬送するとともに、キャリア搬送機構4と投入用
/払出用搬送機構7,8との間でのキャリアCの受け渡
しは2個同時に行われ、投入用/払出用搬送機構7,8
のスライド板18は2個のキャリアCを同時に搬送す
る。従って、投入/払出時に同時に処理されるキャリア
Cの数は2個であって、2個のキャリアに収納された基
板Wの全枚数が挟持部19cによって保持される。
【0040】基板搬送機構11は、上述したように基板
搬送路10に沿って図1,2中の矢印REの方向に移動
可能に構成されている。この基板搬送機構11は、図6
(a)の平面図,(b)の側面図,および(c)の正面
図に示すように、ハーフピッチd/2ごとに並べられた
基板Wを把持する2本のアーム20を備えている。取出
・収納部19の挟持部19cと同様に、各アーム20
は、図6(a)に示すように基板Wの周縁を挟んで垂直
方向に保持する挟持部20aを間隔dごとにそれぞれ備
えている。一方のアーム20に設けられた挟持部20a
と、他方のアーム20に設けられた挟持部20aとは、
ハーフピッチd/2ごとに交互に並んでいる。このアー
ム20は、図6中の矢印RIの方向に、すなわち軸心周
りに回転可能に構成されている。アーム20の軸心周り
の回転に連動して挟持部20aも軸心周りに回転され
る。
【0041】投入用/払出用搬送機構7,8と基板搬送
機構11との基板の受け渡しは以下のようにして行われ
る。すなわち、キャリア搬送機構4によって同時に搬送
された2個のキャリアCは、キャリア搬送機構4の把持
部4bに把持された状態で投入用搬送機構7のスライド
板18に載置される。もちろん、載置される前にスライ
ド板18はキャリア搬送機構4のスライド部4aに接触
する場所にまで予め移動されている。把持部4bはキャ
リアCの把持を解除した後に、スライド板18は、キャ
リア搬送機構4から取出・収納部19まで、投入用搬送
路5の矢印RCの方向に移動する。
【0042】スライド板18に載置された2個のキャリ
アCのうちの1個のキャリアCが、図5(a)に示すよ
うに取出・収納部19の押上部材19bの真上にまで移
動すると、取出・収納部19の軸19aを上方向に伸ば
して押上部材19bを押し上げる。押上部材19bが押
し上げられ、挟持部19cはキャリアCに収納された基
板Wの底部に接触すると、図5(b)に示すように基板
Wを挟んで垂直に保持した状態で基板Wを押し上げる。
そのときキャリアCはスライド板18に載置されたまま
収納された基板Wのみが押し上げられる。また、キャリ
アC内の隣り合う基板Wの間隔はdであるので、挟持部
19cは間隔dごとに基板を保持している。従って、基
板Wを保持する挟持部19cと、基板Wを保持しない挟
持部19cとがハーフピッチd/2ごとに交互に並ぶこ
とになる。
【0043】挟持部19cが基板Wを基板搬送機構11
のアーム20まで押し上げる前に、押し上げられた基板
Wの周縁とアーム20の挟持部20aとが接触するよう
に、アーム20を軸心周り(図6中の矢印RIの方向)
に予め回転させる。そして、基板の周縁を挟持部20a
によって保持することでアーム20が基板Wを保持した
後、取出・収納部19の軸19aを下方向に縮めて押上
部材19bを降下させる。このとき、基板Wはアーム2
0によって保持されているので、挟持部19cは基板W
から離れることになる。
【0044】押上部材19bをスライド板18よりも下
に降下させた後、スライド板18は、基板Wが収納され
ている方のキャリアCを、図5(c)に示すように取出
・収納部19の押上部材19bの真上に位置するように
投入用搬送路5の矢印RCの方向に移動する。このと
き、先に移動されたキャリアCよりもハーフピッチd/
2だけズラした位置にまでキャリアCを移動する。これ
は、アーム20に既に把持された基板Wとの衝突を避け
るためである。
【0045】同様の手順で、押上部材19bを押し上げ
て、キャリアCに収納された基板Wを押し上げる。この
とき、先のキャリアCに収納された基板Wを保持しなか
った挟持部19cが基板Wを保持し、先のキャリアCに
収納された基板を保持した挟持部19cが基板を保持し
ないことになる。押し上げられた基板Wの周縁とアーム
20の挟持部20aとが接触するように、アーム20を
軸心周り(図6中の矢印RIの方向)に予め回転させた
後、挟持部19cが基板Wを基板搬送機構11のアーム
20まで押し上げると、図5(d)に示すようにアーム
20が基板Wを保持する。上述したようにハーフピッチ
d/2だけズラしているので、先に保持された基板Wの
間に後に保持される基板Wが割り込む形となる。そし
て、一方のアーム20の挟持部20aは先の基板Wを保
持するとともに、他方のアーム20の挟持部20aは後
の基板Wを保持する。
【0046】このようにして、投入用搬送機構7から基
板搬送機構11への基板Wの受け渡しは上述の手順のよ
うに、基板Wを収納した2個分のキャリアCをスライド
板18が同時に搬送し、2個のキャリアに収納された基
板Wの全枚数を取出・収納部19が取り出して、アーム
20に保持させることで行われる。
【0047】基板搬送機構11から払出用搬送機構8へ
の基板Wの受け渡しは、投入用搬送機構7から基板搬送
機構11への基板Wの受け渡しとは逆の手順で行われ
る。すなわち、基板搬送機構11のアーム20が基板W
を保持した状態で、押上部材19bを押し上げて、挟持
部19cが基板Wを保持する。片方のアーム20を軸心
周り(図6中の矢印RIの方向)に回転させてアーム2
0の挟持部20aによる基板Wの保持を解除する。これ
によって1個のキャリアC内に収納されるべき基板Wの
みが、挟持部19cのみで保持されることになり、残り
の基板Wは、挟持部19cおよび挟持部20aの両方に
保持されることになる。この状態で、押上部材19bを
降下させると、前者の基板Wのみがアーム20より離れ
て、押上部材19bの降下に連動してその基板Wも降下
する。降下された基板WはキャリアC内に収納される。
同様の手順で、残りのキャリアCについても基板Wの収
納を行う。
【0048】次に、基板Wが投入された後に、処理部1
2における各乾燥/薬液/洗浄処理部13〜15にて基
板がそれぞれ処理されて、基板Wが払い出されるまでの
基板Wの一連の処理について、図7のフローチャート、
および図8〜図18の各処理における基板処理装置の様
子を平面視したときのブロック図を参照して説明する。
【0049】なお、説明の便宜上、2個のキャリアCお
よびそれらのキャリアCに収納された、あるいは収納さ
れる基板Wのみに注目して、その他のキャリアCおよび
そのキャリアCに収納された、あるいは収納される基板
Wについては図示を省略する。また、各搬送機構(キャ
リア搬送機構4、投入用/払出用搬送機構7,8、およ
び基板搬送機構11など)についても、特に断りがない
限り、図8〜18に図示された位置に各搬送機構が配置
されるのに限定されず、他の基板Wの処理状況によって
各搬送機構の位置は適宜に変更される。
【0050】(ステップS1)キャリアを投入する 未処理の複数枚の基板Wを収納したキャリアCを、図8
(a)に示すように、投入部1に投入する。投入の際に
は、投入口1Aから投入部1の載置台1aに載置され
る。載置台1aに載置されたキャリアCは、スライド板
17(図1,3参照)によって、図8(b)に示すよう
に、投入部1と払出部2とをむすぶ経路上にあってキャ
リア搬送路3の近くにまで搬送される。この搬送の際に
は、キャリアCの向きは、スライド板17の回転軸17
a(図3参照)によって図3中の矢印RGの方向に右回
りに90°分回転される。
【0051】この搬送されたキャリアCとは別に、未処
理の複数枚の基板Wを収納したキャリアCを、図8
(b)に示すように、投入口1Aを介して、投入部1の
載置台1aに載置する。同様に、載置台1aに載置され
たキャリアCは、図9(a)に示すように、スライド板
17によってキャリア搬送路3の近くにまで搬送され
る。搬送の際には、キャリアCの向きは、右回りに90
°分回転される。
【0052】本実施例では、スライド板17が個々のキ
ャリアCを搬送したが、先に投入されたキャリアCを載
置台1aに一旦載置した後に載置台1bに載置し、後に
投入されて載置台1aに載置されたキャリアCと、先に
投入されて載置台1bに載置されたキャリアCととも
に、スライド板17が搬送してもよい。
【0053】(ステップS2)投入部から投入用搬送機
構にキャリアを受け渡す 図9(a)に示すように、2個のキャリアCがキャリア
搬送路3の近くにまで搬送されると、図9(b)に示す
位置まで、キャリア搬送機構4がキャリア搬送路3上を
移動する。つまり、キャリア搬送機構4の各把持部4b
(図1,2,4参照)が2個のキャリアCの各側部にそ
れぞれ沿う位置にまでキャリア搬送機構4は移動する。
キャリア搬送機構4の移動の際には、把持部4bがキャ
リアCに衝突しないように、把持部4bを、キャリアC
よりも下もしくは上の位置で配備する。そして、2個の
キャリアCの各側部にそれぞれ沿う位置にまで把持部4
bが移動されると、スライド部4a(図1参照)に沿っ
て把持部4bがキャリアCの側部にまで上下方向(図
1,4中の矢印RBの方向)にスライドされて、キャリ
アCの各側部が各把持部4bによってそれぞれ把持され
る。
【0054】把持部4bによってキャリアCを把持しつ
つキャリア搬送機構4は2個のキャリアCを同時に搬送
して、図10(a)に示すように、投入用搬送路5にま
で搬送する。投入用搬送路5に搬送されると、2個分の
キャリアCは投入用搬送路5上の投入用搬送機構7に渡
される。詳述すると、投入用搬送機構7のスライド板1
8(図4,5参照)をキャリア搬送機構4のスライド部
4aに接触する場所にまで予め移動し、キャリア搬送機
構4の把持部4bに把持された状態で2個のキャリアC
をスライド板18に載置する。
【0055】なお、基板Wの処理状況によって投入用搬
送路5のスライド板18に別のキャリアCが載置されて
いるときには、キャリアCを仮置きするために仮置き用
の載置台9(図1,4参照)に載置してもよい。具体的
に説明すると、図9(b)に示すように、把持部4bが
キャリアCを把持すると、把持部4bを上下方向(図
1,4中の矢印RBの方向)にスライドさせることで、
キャリア搬送機構4は、キャリアCを上下方向に移動さ
せつつ、載置台9にキャリアCを渡す。投入用搬送路5
のスライド板18にキャリアCの空きが生じたら、把持
部4bを上下方向(図1,4中の矢印RBの方向)にス
ライドさせることで、基板搬送機構4は、キャリアCを
上下方向に移動させつつ、載置台9からスライド板18
に渡す。
【0056】(ステップS3)キャリアから基板を取り
出す 2個のキャリアCをスライド板18に載置することで、
投入用搬送機構7にキャリアCを渡すと、把持部4bは
キャリアCの把持を解除する。そして、図10(b)に
示すように、キャリア搬送機構4をキャリア搬送路3上
の別の位置に退避させるのと同時に、2個のキャリアC
のうちの1個のキャリアCが取出・収納部19の押上部
材19b(図4,5参照)の真上にまで位置するよう
に、投入用搬送機構7(のスライド板18)はキャリア
Cを移動する。
【0057】なお、本実施例では、キャリア搬送機構4
を図10(b)に示すような位置にまで退避させたが、
キャリア搬送機構4を図10(a)に示す位置のまま移
動させずに、把持部4bのみを上下方向(図1,4中の
矢印RBの方向)にスライドさせてキャリアCの把持を
解除してもよい。
【0058】図10(b)に示すような位置にまで投入
用搬送機構7(のスライド板18)がキャリアCを搬送
すると、基板搬送機構11は基板搬送路10上に、図1
1(a)に示すような位置にまで移動する。つまり、基
板搬送機構11のアーム20が有する各挟持部20a
(図6参照)が2個のキャリアCの各側部にそれぞれ沿
う位置にまで基板搬送機構11は移動する。上述したよ
うに、取出・収納部19の挟持部19cを押し上げて、
その挟持部19cが基板Wを挟んで垂直に保持した状態
で基板Wを押し上げることで、キャリアC内から収納さ
れた基板Wを取り出す。そして、取り出された基板Wを
アーム20の挟持部20aが保持する。
【0059】図11(a)に示すように基板搬送機構1
1が基板Wを保持した後に、スライド板18に載置され
ているもう1つのキャリアCについても、同様の手順で
キャリアCから基板Wを取り出して基板搬送機構11に
渡す。すなわち、投入用搬送機構7(のスライド板1
8)が、図11(b)に示すような位置にまでキャリア
Cを搬送すると、挟持部19cが基板Wを挟んで垂直に
保持した状態で基板Wを押し上げて、キャリアC内から
収納された基板Wを取り出す。そして、取り出された基
板Wをアーム20の挟持部20aが保持する。
【0060】このように、キャリアCから取り出された
基板Wをアーム20の挟持部20aが挟んで垂直に保持
することで、基板Wが基板搬送機構11に渡される。ま
た、2個分のキャリア内に収納された基板Wの全枚数を
挟持部20aが保持するために、キャリアC内の隣り合
う基板Wの間隔dが、挟持部20aに保持される段階で
ハーフピッチd/2に変更される。
【0061】(ステップS4)各処理部にて基板処理を
行う 基板搬送機構11は、アーム20の挟持部20aが保持
する基板Wを最初に基板処理を行う処理部12(図1参
照)に渡す。本実施例では、処理部12中の薬液処理部
14にて薬液処理を行った後に、処理部12中の洗浄処
理部15にて洗浄処理を行い、処理部12中の乾燥処理
部13にて乾燥処理を行う。
【0062】基板搬送機構11は、基板搬送路10上に
沿って、図12(a)に示すように、基板Wを薬液処理
部14まで搬送する。搬送後、基板搬送機構11は、図
示を省略する薬液処理用のキャリアに基板Wを渡し、そ
のキャリアは基板Wを受け取った後に基板Wを薬液中に
浸漬する。基板搬送機構11は、基板Wを薬液処理部1
4まで搬送した後に、他の基板Wを搬送するために、図
12(b)に示すように、基板搬送路10上を移動す
る。
【0063】なお、本実施例では、薬液に浸漬中は、基
板搬送機構11は他の基板Wの搬送を行っているが、基
板搬送機構11が基板Wを保持した状態で薬液に基板W
を浸漬してもよいし、基板搬送機構11が処理間搬送機
構16に基板Wを渡した後に処理間搬送機構16が基板
Wを保持した状態で薬液に基板Wを浸漬してもよい。ま
た、後述する洗浄液に浸漬する場合においても、図示を
省略する上述のキャリアが基板Wを洗浄液に浸漬しても
よいし、基板搬送機構11あるいは処理間搬送機構16
が基板Wを保持した状態で洗浄液に基板Wを浸漬しても
よい。
【0064】薬液処理部14で基板Wを薬液に浸漬し
て、基板Wの薬液処理を終了すると、処理間搬送機構1
6は、図13(a)に示すように薬液処理部14から洗
浄処理部15へと基板Wを搬送させて、基板Wを洗浄液
中に浸漬する。
【0065】洗浄処理部15で基板Wを洗浄液に浸漬し
て、基板Wの洗浄処理を終了すると、基板搬送機構11
は、図13(b)に示すように洗浄処理部15まで移動
して、基板Wを搬送する。そして、基板搬送機構11
は、図14(a)に示すように基板Wを乾燥処理部13
まで搬送した後、基板Wを保持した状態で基板の乾燥処
理を行う。本実施例では、基板搬送機構11が基板Wを
保持した状態で基板の乾燥処理を行ったが、図示を省略
するキャリアを乾燥処理部13に設置して、そのキャリ
アが保持した状態で基板Wの乾燥処理を行って、基板搬
送機構11の方は、乾燥処理の間、他の基板Wを搬送し
てもよい。
【0066】乾燥処理13で基板Wの乾燥処理を終了す
ると、図14(b)に示すように基板搬送機構11は基
板Wを払出用搬送路6にまで搬送するとともに、2個の
キャリアCのうちの1個のキャリアCが取出・収納部1
9の押上部材19b(図4,5参照)の真上にまで位置
するように、払出用搬送機構8のスライド板18(図
4,5参照)を払出搬送路6上に沿って移動する。
【0067】本実施例では、基板搬送機構11が基板W
を払出用搬送路6にまで搬送するのと同時に、払出用搬
送機構8(のスライド板18)を移動させたが、基板搬
送機構11が基板Wを搬送するよりも前の段階で、2個
のキャリアCのうちの1個のキャリアCが取出・収納部
19の押上部材19bの真上にまで位置するように、払
出用搬送機構8を予め搬送してもよい。
【0068】(ステップS5)キャリアに基板を収納す
る 図14(b)に示すような位置にまで基板搬送機構11
が基板Wを搬送すると、上述したように、基板搬送機構
11のアーム20が基板Wを保持した状態で、挟持部1
9cを押し上げて、挟持部19cが基板Wを保持する。
1個のキャリアC内に収納される基板Wのみについてア
ーム20は基板Wの保持を解除して、挟持部19cを降
下させて、キャリアC内に基板Wを収納する。
【0069】図14(b)に示すように基板Wを収納し
て払出用搬送機構8に渡した後に、払出用搬送機構8の
スライド板18に載置されているもう1つのキャリアC
についても、同様の手順で基板Wを収納して払出用搬送
機構8に渡す。すなわち、払出用搬送機構8(のスライ
ド板18)が、図15(a)に示すような位置にまでキ
ャリアCを搬送すると、挟持部19cを押し上げて基板
を保持した後にアーム20は基板Wの保持を解除して、
挟持部19cを降下させて、キャリアC内に基板Wを収
納する。この段階で、ハーフピッチd/2からキャリア
C内の隣り合う基板Wの間隔dに変更される。
【0070】(ステップS6)払出用搬送機構から払出
部にキャリアを受け渡す 2個分のキャリアCにそれぞれの基板Wが収納された後
に、図15(b)に示すように基板搬送機構11は他の
基板Wを搬送するために基板搬送路10上を移動し、払
出用搬送機構8(のスライド板18)は、図16(a)
に示すような位置にまでキャリアCを搬送する。また、
キャリア搬送機構4の各把持部4bが2個のキャリアC
の各側部にそれぞれ沿う位置にまでキャリア搬送機構4
は移動する。投入時と同様に、2個のキャリアCの各側
部にそれぞれ沿う位置にまで把持部4bが移動される
と、スライド部4aに沿って把持部4bがキャリアCの
側部にまで上下方向にスライドされて、キャリアCの各
側部が各把持部4bによってそれぞれ把持される。
【0071】把持部4bによってキャリアCを把持する
ことで、キャリア搬送機構4は2個のキャリアCを同時
に搬送して、図16(b)に示すように、投入部1と払
出部2とをむすぶ経路上にまで搬送される。
【0072】なお、基板Wの処理状況によって投入部1
と払出部2とをむすぶ経路上や、投入部1、払出部2に
別のキャリアCが載置されているときには、キャリアC
を仮置きするために仮置き用の載置台9に載置してもよ
い。ステップS2でも述べたように、把持部4bがキャ
リアCを把持すると、把持部4bを上下方向にスライド
させることで、キャリア搬送機構4は、キャリアCを上
下方向に移動させつつ、載置台9にキャリアCを渡す。
払出部2などにキャリアCの空きが生じたら、把持部4
bを上下方向にスライドさせることで、基板搬送機構4
は、キャリアCを上下方向に移動させつつ、載置台9か
ら投入部1と払出部2とをむすぶ経路上に渡す。
【0073】(ステップS7)キャリアを払い出す キャリア搬送機構4が投入部1と払出部2とをむすぶ経
路上にまでキャリアCを搬送した後、把持部4bはキャ
リアCの把持を解除する。そして、図17(a)に示す
ように、キャリア搬送機構4をキャリア搬送路3上の別
の位置に退避させる。なお、本実施例では、キャリア搬
送機構4を図17(a)に示すような位置にまで退避さ
せたが、キャリアCを払出部2に払い出す際に、キャリ
アCとキャリア搬送機構とは衝突しないので、キャリア
搬送機構4を図16(a)に示す位置のまま移動させな
くてもよい。
【0074】一方、投入部1と払出部2とをむすぶ経路
上にまで搬送されたキャリアCは、図17(b)に示す
ようにスライド板17によって払出部2まで搬送され
る。先ず、払出口2A側にあるキャリアCを、スライド
板17が載置台2aにまで搬送して載置する。この搬送
の際には、ステップS1での投入時でも述べたように、
キャリアCの向きは、スライド板17の回転軸17aに
よって左回りに90°分回転される。載置台2aに載置
されたキャリアCは、払出部2Aを介して、払出部2か
ら払い出される。
【0075】同様に、もう1つのキャリアCについて
も、図18に示すようにスライド板17が載置台2aに
まで搬送して載置する。搬送の際にはキャリアCの向き
は、左回りに90°分回転されて、払出部2Aを介し
て、払出部2から払い出される。
【0076】投入時でも述べたように、本実施例では、
スライド板17が個々のキャリアCを搬送したが、スラ
イド板17が2個分のキャリアCを同時に搬送し、載置
台2b,2aに個々のキャリアCを載置し、載置台2a
に載置されたキャリアCを払い出した後に、載置台2b
に載置されたキャリアCを載置台2aに一旦載置してか
ら払い出してもよい。
【0077】以上のステップS1〜S7によって、基板
Wの一連の処理が行われる。また、上述の構成を有する
本実施例に係る基板処理装置は、以下の効果を奏する。
すなわち、キャリア搬送機構4は、キャリアCを2個同
時に搬送するように構成されている。従って、例えば処
理部12(乾燥/薬液/洗浄処理部13〜15)で基板
Wの処理の空き、あるいは搬送機構(投入用/払出用搬
送機構7,8や基板搬送機構11など)でキャリアCや
基板の搬送の空きが生じるような場合でも、キャリア搬
送機構11側から、搬送される、あるいは搬送されたキ
ャリアCの数をコントロールする(実施例では2個同時
に搬送する)。その結果、処理部12や搬送機構での基
板Wの処理や搬送において空きによる無駄時間を低減さ
せて基板Wを効率良く処理することができる。
【0078】また、本実施例では、上述の構成により、
以下の効果をも奏する。すなわち、上下方向に積層され
ている積層構造として構成された載置台9が、キャリア
搬送機構4の近くに配備されているので、フットプリン
トを軽減するのみならず、積層構造の載置台9が、(投
入部1と払出部2とをむすぶ経路上を含む)投入部1/
払出部2とキャリア搬送機構4と投入用/払出用搬送機
構7,8との間のキャリアCや基板Wの受け渡しの際で
の仮置きとしての機能を果たす。従って、投入部1/払
出部2または投入用/払出用搬送機構7,8のいずれか
でキャリアや基板の搬送の空きが発生せずに待ち時間が
生じる場合には、載置台9に仮置きすることで、空きが
発生するまで、投入部1/払出部2、キャリア搬送機構
4、投入用/払出用搬送機構7,8が基板Wを保持ある
いは載置する状態、すなわち待ち時間が発生することは
ない。従って、待ち時間を発生させることなく、無駄な
く(フルに)キャリアCや基板Wの搬送を行わせること
ができる。さらに載置台9を積層構造としているので、
フットプリントが増大することなく、キャリアCを載置
台9により多く載置することができる。
【0079】本発明は、上記実施形態に限られることは
なく、下記のように変形実施することができる。
【0080】(1)上述した本実施例では、基板処理と
して、基板を(洗浄処理、乾燥処理を含む)薬液処理を
施すものを例に採って説明したが、上述した基板処理に
限定されない。例えば、上述した浸漬タイプのエッチン
グ以外のエッチング処理(例えばドライエッチングやプ
ラズマエッチングなど)や、上述した浸漬タイプ以外で
あって基板を回転させて洗浄する洗浄処理(例えばソニ
ック洗浄や化学洗浄など)、化学機械研磨(CMP)処
理や、フォトリソグラフィー処理や、スパッタリング処
理や、化学気相成長(CVD)処理や、アッシング処理
などのように、半導体基板、液晶表示器のガラス基板、
フォトマスク用のガラス基板、光ディスク用の基板を通
常の手法でもって行う基板処理であれば、本発明に適用
することができる。
【0081】(2)上述した本実施例では、キャリア搬
送機構4は、2個分のキャリアCを水平に並べて同時に
搬送したが、上下方向に積層してキャリアCを同時に搬
送してもよい。また、キャリア搬送機構4が搬送するキ
ャリアCの個数についても、2個に限定されず、3個以
上であってもよい。
【0082】(3)上述した本実施例では、積層構造の
載置台9をキャリア搬送機構4の近くに備えたが、投入
部1/払出部2またはキャリア搬送機構4または投入用
/払出用搬送機構7,8または基板搬送機構11のいず
れか近くに載置台9を備えてもよい。また、キャリア搬
送機構4を上下移動可能に構成する以外に、投入用/払
出用搬送機構7,8を積層構造、あるいは上下移動可能
に構成してもよいし、キャリア搬送機構4、投入用/払
出用搬送機構7,8をともに積層構造、あるいはともに
上下移動可能に構成してもよい。また、載置台9を必ず
しも備える必要はない。
【0083】(4)上述した本実施例では、本発明にお
ける第2のキャリア搬送機構を、投入時に用いられる投
入用搬送機構7と、払出時に用いられる払出用搬送機構
8とに分けたが、投入時と払出時とを1つの搬送機構で
兼用させてもよい。
【0084】(5)上述した本実施例では、投入用/払
出用搬送機構7,8は、2個のキャリアCを同時に搬送
して、基板Wの間隔dをハーフピッチd/2に変更し
て、2個分のキャリアCに収納された基板Wをまとめ
て、基板搬送機構11が搬送したが、投入用/払出用搬
送機構7,8が3個以上のキャリアCを同時に搬送し
て、基板Wの間隔dを搬送されたキャリアCの数だけ縮
小して、搬送された数のキャリアCに収納された基板W
をまとめて、基板搬送機構11が搬送してもよい。ま
た、投入用/払出用搬送機構7,8が1つのキャリアC
のみを搬送して、基板Wの間隔をせずに、1つ分のキャ
リアに収納された基板Wを基板搬送機構11が搬送して
もよい。
【0085】(6)上述した本実施例では、キャリア搬
送機構4および投入用/払出用搬送機構7,8は、搬送
姿勢を変更せずにキャリアCを受け渡したが、例えば軸
心周りに回転させて搬送姿勢を変更してキャリアCを受
け渡してもよい。
【0086】(7)上述した本実施例では、各搬送機構
は図1〜6に示すような構成であったが、キャリアや基
板を搬送する機構、キャリアから基板を取り出す、ある
いは収納する機構であれば、上述の構成を有する搬送機
構に限定されない。
【0087】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、第1のキャリア搬送機構は、未処理または処
理済の複数枚の基板を収納したキャリアを複数個同時に
搬送するというように、第1のキャリア搬送機構側か
ら、搬送される、あるいは搬送されたキャリアの数をコ
ントロールする。その結果、処理部や搬送機構での基板
の処理や搬送において空きによる無駄時間を低減させて
基板を効率良く処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施例に係る基板処理装置の処理部を除く投
入部や払出部などの概略構成を示す斜視図である。
【図2】本実施例に係る基板処理装置を平面視したとき
のブロック図である。
【図3】(a),(b)は、本実施例に係る基板処理装
置の投入部/払出部の正面図である。
【図4】本実施例に係る基板処理装置のキャリア搬送機
構、投入用/払出用搬送機構、および基板搬送機構の正
面図である。
【図5】(a)〜(d)は、本実施例に係る投入用/払
出用搬送機構と基板搬送機構との基板の受け渡しの様子
を示した正面図である。
【図6】本実施例に係る基板搬送機構の概略構成図であ
って、(a)はその平面図、(b)は側面図、(c)は
正面図である。
【図7】本実施例に係る基板処理装置での基板Wの一連
の処理を示すフローチャートである。
【図8】(a),(b)は、各処理における基板処理装
置の様子を平面視したときのブロック図である。
【図9】(a),(b)は、各処理における基板処理装
置の様子を平面視したときのブロック図である。
【図10】(a),(b)は、各処理における基板処理
装置の様子を平面視したときのブロック図である。
【図11】(a),(b)は、各処理における基板処理
装置の様子を平面視したときのブロック図である。
【図12】(a),(b)は、各処理における基板処理
装置の様子を平面視したときのブロック図である。
【図13】(a),(b)は、各処理における基板処理
装置の様子を平面視したときのブロック図である。
【図14】(a),(b)は、各処理における基板処理
装置の様子を平面視したときのブロック図である。
【図15】(a),(b)は、各処理における基板処理
装置の様子を平面視したときのブロック図である。
【図16】(a),(b)は、各処理における基板処理
装置の様子を平面視したときのブロック図である。
【図17】(a),(b)は、各処理における基板処理
装置の様子を平面視したときのブロック図である。
【図18】各処理における基板処理装置の様子を平面視
したときのブロック図である。
【図19】従来の基板処理装置の構成を示すブロック図
である。
【符号の説明】
W … 基板 C … キャリア 1 … 投入部 2 … 払出部 4 … キャリア搬送機構 7 … 投入用搬送機構 8 … 払出用搬送機構 11 … 基板搬送機構 12 … 処理部 13 … 乾燥処理部 14 … 薬液処理部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大橋 泰彦 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内 Fターム(参考) 3B201 AA02 AA03 AB23 BB02 BB92 BB93 BB96 CC12 CC15 5F031 CA02 CA05 DA01 FA01 FA02 FA03 FA07 FA09 FA14 FA21 FA24 GA12 GA18 MA02 MA03 MA09 MA23 PA02 PA30 5F043 DD23 DD30 EE35 EE36 GG10

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数個の処理部と未処理の複数枚の基板
    を収納したキャリアを投入する投入部と処理済の複数枚
    の基板を収納したキャリアを払い出す払出部とを備え、
    各々の前記処理部で基板処理をそれぞれ行う基板処理装
    置であって、 未処理または処理済の複数枚の基板を収納した状態で前
    記キャリアを複数個同時に搬送する第1のキャリア搬送
    機構と、 投入時には未処理の複数枚の基板を収納した状態で前記
    キャリアを搬送し、前記キャリアから前記基板を取り出
    し、払出時には処理済の基板を前記キャリアに収納し、
    複数枚の前記基板を収納した状態で前記キャリアを搬送
    する第2のキャリア搬送機構と、 未処理または処理済の基板を搬送する基板搬送機構とを
    備え、 前記第1のキャリア搬送機構は、投入時には未処理の複
    数枚の基板を収納したキャリアを前記投入部から前記第
    2のキャリア搬送機構に受け渡し、払出時には処理済の
    複数枚の基板を収納したキャリアを前記第2のキャリア
    搬送機構から前記払出部に受け渡し、 前記第2のキャリア搬送機構は、投入時には前記第1の
    キャリア搬送機構から受け取ったキャリアから未処理の
    基板を取り出し、その基板を前記基板搬送機構に受け渡
    し、払出時には前記基板搬送機構から受け取った処理済
    の基板をキャリアに収納し、そのキャリアを前記第1の
    キャリア搬送機構に受け渡し、 前記基板搬送機構は、投入時には未処理の基板を前記第
    2のキャリア搬送機構から最初に基板処理を行う処理部
    に受け渡し、基板を処理部間同士で受け渡し、払出時に
    は最後に基板処理を行った処理部から処理済の基板を前
    記第2のキャリア搬送機構に受け渡すことを特徴とする
    基板処理装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の基板処理装置におい
    て、 前記キャリアを載置する載置台を、前記投入部または払
    出部または第1のキャリア搬送機構または第2のキャリ
    ア搬送機構または基板搬送機構のいずれか近くに備え、 前記載置台は上下方向に積層されている積層構造である
    ことを特徴とする基板処理装置。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の基板処理装置におい
    て、 前記積層構造の載置台を前記第1のキャリア搬送機構の
    近くに備え、 前記第1のキャリア搬送機構を上下移動可能に構成し、 前記第1のキャリア搬送機構は、投入時には未処理の複
    数枚の基板を収納したキャリアを上下方向に移動させつ
    つ、前記投入部から積層構造の各載置台に各々のキャリ
    アをそれぞれ受け渡し、さらに前記キャリアを上下方向
    に移動させつつ、積層構造の各載置台から各々のキャリ
    アを前記第2のキャリア搬送機構にそれぞれ受け渡し、
    払出時には処理済の複数枚の基板を収納したキャリアを
    上下方向に移動させつつ、前記第2のキャリア搬送機構
    から積層構造の各載置台に各々のキャリアをそれぞれ受
    け渡し、さらに前記キャリアを上下方向に移動させつ
    つ、積層構造の各載置台から各々のキャリアを前記払出
    部にそれぞれ受け渡すことを特徴とする基板処理装置。
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US8206076B2 (en) 2007-06-29 2012-06-26 Tokyo Electron Limited Substrate processing system

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