KR20220103162A - 웨이퍼 세척 및 건조 장치 - Google Patents

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링한 쉔
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항저우 시존 일렉트로닉 테크놀로지 인크
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Abstract

본 발명은 웨이퍼 세척 및 건조 장치에 관한 것으로, 웨이퍼에 대해 세척을 진행하는 박스 본체, 상기 박스 본체의 상단에 웨이퍼의 출입을 위한 개구부 설치; 승강이 가능한 지지 메커니즘은 박스 내부에 설치되어 웨이퍼 수용에 사용되며; 스프레이 파이프는 개구부에 설치되어 세척된 웨이퍼의 표면에 건조 가스를 스프레이하는데 사용된다. 해당 웨이퍼 세척 및 건조 장치는 박스 본체의 개구부에 스프레이 파이프를 설치하고, 스프레이 파이프를 사용하여 세척된 웨이퍼에 건조 가스를 스프레이하여 웨이퍼 표면을 건조한다. 해당 방법은 마랑고니 효과, 즉 표면 장력 구배 차이를 이용하여, 웨이퍼 표면에 부착된 수분을 제거하는 방식임을 이해할 수 있으며, 원심력을 이용하여 웨이퍼 표면 세정액을 건조시키는 종래 기술에 비해 웨이퍼가 세척 및 건조 장치는 물 얼룩의 잔류물을 효과적으로 줄이고, 전체 웨이퍼의 입자 수량이 해당 표준 초과를 피면할 수 있다.

Description

웨이퍼 세척 및 건조 장치
본 발명은 반도체 공예 장비 기술분야에 관한 것으로, 구체적으로 설명하면, 웨이퍼 세척 및 건조 장치에 관한 것이다.
반도체 집적 회로 칩의 제조 공정에서 웨이퍼에 화학적 기계적 평탄화 가공, 즉 웨이퍼의 표면을 다량의 폴리싱 액체와 다른 화학 시약으로 폴리싱 처리를 진행하는 것이 필요하며, 해당 화학기계 평탄화 가공 공예는 습식 공예에 속하여, 공예 마무리 단계에 웨이퍼에 대하여 세척 및 건조를 진행하여 웨이퍼 표면에 부착된 입자를 제거한다.
종래 기술은 일반적으로 회전 건조 방법을 채택하여 웨이퍼 표면에 대해 건조를 진행하여, 웨이퍼를 고속으로 회전시킬 때 발생하는 원심력을 이용하여 웨이퍼 표면의 세정액을 제거한다. 단, 웨이퍼 자체의 재질의 차이와 표면 무늬 도안의 영향으로 물 얼룩 잔류를 초래하여, 전체 웨이퍼 입자 수량이 기준을 초과하게 된다.
때문에, 웨이퍼 표면의 물 얼룩을 효과적으로 제거할 수 있는 웨이퍼 세척 및 건조 장치를 제공은 현재 당본 분약 기술자들이 급 해결해야 할 문제이다.
상기 서술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 웨이퍼 표면의 물 얼룩을 효과적으로 제거하고, 전체 웨이퍼 입자 수량이 기준을 초과하는 것을 피면하기 위해 웨이퍼 세척 및 건조 장치를 제공한다.
상기 목적을 실현하기 위해, 본 발명은 아래와 같은 기술 방안을 제공함:
웨이퍼 세척에 사용되는 박스 본체, 상기 박스 본체의 상단에 웨이퍼의 출입을 위한 개구부 설치;
승강이 가능한 지지 메커니즘은 박스 본체 내부에 설치되어 웨이퍼 수용에 사용되며;
스프레이 파이프는 개구부에 설치되어 세척된 웨이퍼의 표면에 건조 가스를 스프레이하는데 사용을 포함한 웨이퍼 세척 및 건조 장치.
상기 스프레이 파이프의 수량은 2개이며, 2개의 스프레이 파이프는 엇갈려 설치되어, 웨이퍼의 전면과 후면에 각각 건조 가스를 분사한다.
박스 본체에는 직선 구동 메커니즘이 설치되어 있고, 상기 직선 구동 메커니즘의 출력단에는 제1 마그넷이 설치되어 있고, 상기 지지 메커니즘에는 제2 마그넷이 설치되어 있고, 상기 제1 마그넷과 상기 제2 마그넷에는 다른 극이 서로 당겨, 상기 직선 구동 메커니즘이 왕복 운동을 할 때, 상기 제2 마그넷이 상기 지지 메커니즘을 구동하여 동기화 승강한다.
상기 박스 본체에는 지지 메커니즘의 승강을 안내하는 가이드 기둥 또는 가이드 홈이 고정 및 설치되어 있다.
상기 지지 메커니즘에는 다음과 같은 내용이 포함됨:
웨이퍼 개구부 밖으로 연장될 때, 웨이퍼 상단의 걸림조를 클램핑 한다.
박스 본체의 상단에는 회전 가능한 가이드 레일이 설치되어 있고, 상기 걸림조는 슬라이딩 가능하게 가이드 레일이 설치되어 있다.
상기 웨이퍼가 완전히 건조된 후, 상기 웨이퍼의 하부를 클램핑하기 위한 브래킷을 더 포함하여, 상기 브래킷은 신축이 가능한다.
상기 박스 본체의 상부에는 회전 메커니즘이 설치되어 있고, 상기 가이드 레일은 상기 회전 메커니즘에 출력단이 연결되고, 상기 브래킷의 고정부는 상기 가이드 레일과 고정 및 연결되어 있다.
본 발명이 제공한 웨이퍼 세척 및 건조 장치는 박스 본체의 개구부에 스프레이 파이프를 설치하고, 스프레이 파이프를 사용하여 세척된 웨이퍼에 건조 가스를 스프레이하여, 웨이퍼 표면을 건조한다. 해당 방법은 마랑고니 효과, 즉 표면 장력 구배 차이를 이용하여, 웨이퍼 표면에 부착된 수분을 제거하는 방식임을 이해할 수 있으며, 원심력을 이용하여 웨이퍼 표면 세정액을 건조시키는 종래 기술에 비해 웨이퍼가 세척 및 건조 장치는 물 얼룩의 잔류물을 효과적으로 줄이고, 전체 웨이퍼의 입자 수량이 기준 초과를 피면할 수 있다.
본 발명의 바람직한 방안에서, 회전 메커니즘을 통해 가이드 레일과 브래킷에 대해 회전을 진행하여, 걸림조와 브래킷 사이에 클램핑된 웨이퍼를 이에 따라 회전시켜, 박스 본체 개구부를 피하여, 다음 웨이퍼가 박스 본체 내에 들어오도록 하여, 세척할 웨이퍼가 신속히 박스 본체에 들어가 세척하도록 하여, 박스 본체의 이용율을 향상한다.
본 발명의 실시예 또는 종래 기술의 기술적 방안을 보다 명확하게 설명하기 위해, 아래 실시예 또는 종래 기술의 설명에서 사용되는 첨부 도면을 간략히 소개하여, 아래에서 설명하는 첨부도면은 본 발명의 실시예로서, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 기술자는 창의적 노동이 없는 전제하에서, 제공된 첨부 도면에 따라 다른 도면을 획득할 수 있다.
도 1은 웨이퍼 세정 동안 본 발명의 특정 실시예에 의해 제공되는 웨이퍼 세척 및 건조 장치의 정면도이다(박스 본체 전면 측벽은 도시되지 않음);
도 2는 도 1에 도시된 웨이퍼 상승 과정에서 웨이퍼 세척 및 건조 장치의 측면도이다;
도 3은 도 1에 도시된 웨이퍼가 최고 위치까지 상승했을 때의 웨이퍼 세척 및 건조 장치의 측면도이다.
도 4는 도 3에 도시된 웨이퍼 세척 및 건조 장치에서 가이드 레일 회전 후의 측면도이다.
도 5는 본 발명의 구체적인 실시예에서 제공한 웨이퍼 세척 및 건조 장치의 제1 슬라이드 블록의 구조 안내도이다.
아래 본 발명의 실시예에서 첨부된 도면과 결합하여, 본 발명의 실시예에 따른 기술적 해결방안을 명확하고 완전하게 설명하여, 설명된 실시예는 본 발명의 전부가 아니라 일부 실시예이다. 본 발명의 실시예에 기초하여, 본 분야의 통상 기술자들은 창의적인 노동이 없는 전제하에서 획득한 다른 모든 실시예는 본 발명의 보호 범위에 속한다.
본 발명의 핵심은 웨이퍼 표면의 물 얼룩을 효과적으로 제거하고, 웨이퍼 전체의 입자 수량이 기준을 초과하는 것을 방지할 수 있는 웨이퍼 세척 및 건조 장치를 제공하는 것이다.
도 1 ~ 도 5를 참조하여, 도 1은 웨이퍼 세정 동안 본 발명의 특정 실시예에 의해 제공되는 웨이퍼 세척 및 건조 장치의 정면도이다(박스 본체 전면 측벽은 도시되지 않음); 도 2는 도 1에 도시된 웨이퍼 상승 과정에서 웨이퍼 세척 및 건조 장치의 측면도이다; 도 3은 도 1에 도시된 웨이퍼가 최고 위치까지 상승했을 때의 웨이퍼 세척 및 건조 장치의 측면도이며; 도 4는 도 3에 도시된 웨이퍼 세척 및 건조 장치에서 가이드 레일 회전 후의 측면도이며; 도 5는 본 발명의 구체적인 실시예에서 제공한 웨이퍼 세척 및 건조 장치의 제1 슬라이드 블록의 구조 안내도이다.
본 발명이 제공한 웨이퍼 세척 및 건조 장치는 주로 박스 본체(1), 지지 메커니즘(2), 스프레이 파이프(3) 등을 포함된다.
구체적으로, 박스 본체(1)는 웨이퍼(8)를 세정하기 위한 세정액을 수용에 사용된다.
박스 본체(1)의 상단에는 개구부가 설치되고, 이 개구부는 웨이퍼(8)가 박스 본체(1)에 들어가 세정된 웨이퍼(8)가 박스 본체(1)의 밖으로 연장하는데 사용된다.
지지 메커니즘(2)은 박스 본체(1)에 설치되어, 웨이퍼(8)를 수용에 사용되며, 웨이퍼(8)를 지지한다.
동시에, 지지 메커니즘(2)은 승강이 가능하며, 지지 메커니즘(2)을 상승할 때, 지지 메커니즘(2)에 웨이퍼(8)를 올려놓는 것이 편리함과 동시에, 지지 메커니즘(2)의 상승에 의해, 세척된 웨이퍼(8)를 박스 본체(1) 밖을 밀어낼 수 있으며; 또한, 지지 메커니즘(2)이 하강할 때, 웨이퍼(8)는 박스 본체(1) 내의 세척액에 완전히 침지될 수 있어, 웨이퍼(8)의 표면을 충분히 세정할 수 있다.
본 발명은 웨이퍼(8)에 대한 안정적인 지지가 보장될 수 있는 한 지지 메커니즘(2)에 의한 웨이퍼(8)의 특정 지지 구조를 제한하지 않는다는 점에 유의해야 한다.
또한, 본 발명은 지지 메커니즘(2)이 상하 이동하도록 구동될 수 있는 한, 지지 메커니즘(2)의 승강 방법에 대한 특정 방식을 제한하지 않는다.
예를 들어, 박스 본체(1)는 외부에 모터를 설치되고, 모터의 출력단은 스크류 로드로 연결하여, 스크류 로드는 박스 본체(1)의 밑부분으로부터 박스 본체(1) 내로 연장되고, 스크류 로드(1) 윗 나사산으로 이형 커넥팅 로드를 연결하여, 바람직하게는 이형 커넥팅 로드는 U자 모양의 로드여야 하며, 지지 메커니즘(2)은 이형 커넥팅 로드의 다른 쪽 끝단 연결된다. 박스 본체(1) 내에는 지지 메커니즘(2)의 승강을 제한하기 위한 리밋 메커니즘이 설치되어 있다는 점에 유의해야 한다. 모터가 스크류 로드를 회전할 때 이형 커넥팅 로드는 스크류 로드를 따라 상하로 이동하여, 지지 메커니즘(2)이 상하 왕복 운동시키며, 지지 메커니즘(2)의 승강을 실현한다. 스프레이 파이프(3)는 박스 본체(1)의 개구부에 설치되고, 세척된 웨이퍼(8)의 표면에 건조 가스를 스프레이하는 데 사용되며, 예를 들어 웨이퍼(8) 표면에 IPA(이소프로필 알코올 ) 및 N2 혼합된 스팀 등을 스프레이하여 웨이퍼(8) 건조 목적을 달성한다.
세척된 웨이퍼(8)가 개구부에 노출되며, 웨이퍼(8)의 표면에 대해 건조 가스로 분무되기 시작하고, 웨이퍼(8)가 점진적으로 상승하는 과정에 개구부에 노출된 웨이퍼(8) 부분이 웨이퍼(8)의 개구부가 완전히 노출될 때까지 스프레이 건조하고, 나중에 웨이퍼(8)를 완전히 건조시킨다.
이를 통해 알 수 있듯이, 본 발명에서 제공하는 웨이퍼 세척 및 건조 장치는 박스 본체(1) 개구부에 설치한 스프레이 파이프(3)를 통해, 스프레이 파이프(3)를 이용하여 세척 후의 웨이퍼(8)에 건조 가스를 스프레이하여, 웨이퍼(8)표면을 건조시킨다. 해당 방법은 마랑고니 효과를 이용하여, 즉 표면 장력 구배 차이를 이용하여 웨이퍼(8) 표면에 부착된 수분을 제거하는 방식임을 알 수 있으며, 원심력을 이용하여 웨이퍼(8) 표면의 세정액을 건조시키는 종래 기술에 비해 해당 웨이퍼 세척 및 건조 장치는 물 얼룩의 잔류물을 효과적으로 감소시키고, 전체 웨이퍼(8)의 입자 수량이 기준을 초과하는 것을 방지할 수 있다.
웨이퍼(8)의 전면과 후면이 모두 더 나은 건조 효과를 갖기 위해, 상기 실시예를 기반으로 스프레이 파이프(3)의 수량 2개이고, 2개의 스프레이 파이프(3)는 엇갈려 설치되어, 웨이퍼(8)의 전, 후면에 건조 가스를 스프레이 한다.
2개의 스프레이 파이프(3)의 엇갈린 설치는 웨이퍼(8)의 전면 및 후면에 수직 방향으로 엇갈려 설치되어, 하나의 스프레이 파이프(3)는 웨이퍼(8)의 한면(전면 또는 후면)에 대응하는 것으로 이해될 수 있어, 웨이퍼(8) 전, 후면에 모두 더 나은 건조 효과를 갖게된다.
지지 메커니즘(2)이 승강 가능한 실현 방법을 고려하여, 바람직한 해결책의 일종으로서, 상기 실시예에 기초하여, 박스 본체(1) 외부에 직선 구동 메커니즘을 설치하고, 직선 구동 메커니즘의 출력 단부에는 제1 마그넷, 지지 메커니즘(2)은 제2 마그넷을 고정하고, 제1 마그넷과 제2 마그넷은 반대 극으로 서로 끌어당겨 직선 구동 메커니즘 왕복 운동을 출력할 때, 제2 마그넷이 지지 메커니즘(2)을 구동하여, 동기화로 승강한다.
즉, 본 실시예는 제1 마그넷과 제2 마그넷 사이의 자기 흡력효과를 이용하여, 제1 마그넷이 왕복할 때 제2 마그넷이 구동되어 동기화 이동하고, 이어서 제2 마그넷이 지지 메커니즘(2)을 구동하여 승강한다.
해당 해결책에서 박스 본체(1)의 재료는 바람직하게는 자기 전도성이 우수한 재료임을 이해할 수 있다.
바람직하게는, 직선 구동 메커니즘의 출력 단부는 박스 본체(1)의 측벽에 평행으로 설치되어 있다.
본 실시예는 직선 구동 기구의 구체적인 구조를 제한하지 않으며, 예를 들어 직선 구동 기구는 에어 실린더 등일 수 있다.
지지 메커니즘(2)의 승강 경로를 확보하기 위해, 상기 실시예의 기초위에, 지지 메커니즘(2)의 승강을 안내하는 가이드 장치가 박스 본체(1) 내에 고정되어 있음, 예를 들어 가이드 기둥 또는 가이드 홈 등.
즉, 지지 메커니즘(2)이 승강할 때 가이드 기둥 또는 가이드홈을 제한한 방향에 따라 이동하여, 지지 메커니즘(2) 승강 안정성을 확보한다.
지지 메커니즘(2)이 승강할 때, 웨이퍼(8)에 대한 안정적인 지지 역할을 고려함과 동시에 지지 메커니즘(2)과 웨이퍼(8)의 접촉면적을 최대한 작게 하기 위해, 상기 서술한 실시예의 기초위에, 지지 메커니즘(2)은 제1 슬라이드 블록(21)과 제2슬라이드 블록(22)을 포함하여, 상기 슬라이드 블록(21)은 웨이퍼(8) 측면과 서로 충돌에 사용하는 심블(211)이 설치되어 있고, 제2 슬라이드 블록에는 웨이퍼(8)를 클램핑하는 슬롯이 설치되어 있다.
즉, 본 실시예에서, 웨이퍼(8)는 제1 슬라이드 블록(21)과 제2 슬라이드 블록(22)의 공동 역할에 의해 지지된다.
제2 슬라이드 블록(22)은 주로 웨이퍼(8)를 고정하는 데 사용되며, 슬롯이 웨이퍼(8)를 클램핑 후, 웨이퍼(8)가 박스 본체(1)에 들어간 후 초기 상태가 변경되지 않음을 확보하여, 웨이퍼(8)가 앞뒤로 기울어지는 등을 피면할 수 있다.
제1 슬라이드 블록(21)은 심블(211)을 사용하여 웨이퍼(8)와 충돌함으로써 지지 메커니즘(2)과 웨이퍼(8) 사이의 접촉 면적을 줄일 수 있고, 이에 따라 세척된 웨이퍼(8)가 웨이퍼(8)의 개구 밖으로 연장되면, 지지 메커니즘(2)이 웨이퍼(8)의 표면을 막는 것을 방지하여, 웨이퍼(8)의 표면이 완전히 건조될 수 있다.
본 실시예는 제1슬라이드 블록(21) 및 제2슬라이드 블록(22)의 구체적인 수량을 제한하지 않는다는 점에 유의해야 하며, 바람직하게는, 제1슬라이드 블록(21)의 수량은 1개이고, 제2슬라이드 블록(22)의 수량은 2개이며, 2개의 제2 슬라이드 블록(22)은 각각 제1슬라이드 블록(21)의 양측에 위치한다.
웨이퍼(8)의 각 부분에 건조 가스로 스프레이될 수 있도록 하기 위해, 상기 실시예에 기초하여, 웨이퍼(8)가 개구부로 연장될 때 웨이퍼(8)의 상단의 걸림조(4) 클램핑도 포함된다.
스프레이 파이프(3)가 개구부에 설치되기 때문에, 웨이퍼(8)가 개구부 밖으로 연장되는 순간에 개구부에 노출된 웨이퍼(8) 부분이 즉시 스프레이 및 건조될 수 있음을 이해할 수 있으며, 즉, 웨이퍼(8)는 개구부 밖으로 연장된 후, 걸림조(4)가 클램핑되는 부분은 웨이퍼(8)가 스프레이 및 건조된 후의 부위이다.
바람직하게는, 도 1에 도시된 바와 같이, 걸림조(4)의 수량은 2개이고, 웨이퍼(8) 상단의 양측에 고정하여 웨이퍼(8)가 앞뒤로 경사짐을 방지한다.
해당 해결책에서, 웨이퍼(8)가 특정 높이로 상승할 때, 걸림조(4)가 웨이퍼(8)를 클램핑하여, 이때 제2 슬라이드 블록(22)이 하강하여, 제2 슬라이드 블록(22)을 웨이퍼(8)로부터 이탈시킬 수 있다는 점에 유의해야 한다. 제2 슬라이드 블록(22)과 웨이퍼(8) 사이의 접촉 부위에 건조 가스 스프레이 불가 사각지대 형성을 피면해야 한다.
제 2 슬라이드 블록(22)이 웨이퍼(8)로부터 분리된 후, 웨이퍼(8)는 제 1 슬라이드 블록(21)의 지지 역할 및 제1슬라이드 블록(21)의 상승 과정에서 웨이퍼(8)가 완전히 건조될 때 까지 계속하여 상승한다.
웨이퍼(8)가 박스 본체(1)에 들어갈 때 걸림조(4)가 웨이퍼(8)의 삽입을 방해하는 것을 피면하기 위해, 상기 실시예를 기초로, 박스 본체(1)의 상부에 회전 가능한 가이드 레일(5) 및 걸림조(4)는 슬라이드 가능하게 가이드 레일(5)에 설치된다.
즉, 웨이퍼(8)를 박스 본체(1)에 넣을 때 가이드 레일(5)을 회전시켜 걸림조(4)를 박스 본체(1)의 개구부가 열림을 피면하는 위치로 회전시켜, 웨이퍼(8)를 양보하여, 웨이퍼(8)가 박스 본체(1)에 순리롭게 들어갈 수 있도록 하고; 세척된 웨이퍼(8)가 개구부로부터 연장되면 가이드 레일(5)을 통해, 가이드 레일(5)이 박스 본체(1)의 상부에 수직이 되도록 하여, 걸림조(4)가 개구부 상부에 위치하도록 한다.
걸림조(4)는 가이드 레일(5)에 슬라이딩 가능하게 설치되어 있어, 제1 슬라이드 블록(21)이 웨이퍼(8)와 함께 상승할 때, 걸림조(4)는 웨이퍼(8.5)의 상승과 함께 가이드 레일(5)을 따라 상승하는 것으로 이해될 수 있다.
세척된 웨이퍼(8)의 이송을 용이하게 하기 위해, 지지 메커니즘(2)이 세정된 다음 웨이퍼(8)를 수용할 수 있도록, 상기 언급된 실시예에 기초하여, 웨이퍼(8)가 완전 건조 후 웨이퍼(8) 하부의 브래킷(6) 클램핑하여, 브래킷(6) 신축 가능이 포함된다.
즉, 웨이퍼(8)가 완전히 건조되면 브래킷(6)이 웨이퍼(8)의 하부를 클램핑하도록 연장되어, 걸림조(4)와 브래킷(6)의 결합 작용에 의해 웨이퍼(8)가 고정되어, 지지 메커니즘(2)은 세척된 다음 웨이퍼(8)를 수용하기 위해 웨이퍼(8)로부터 하강 및 분리될 수 있다.
브래킷(6)이 수축될 때, 웨이퍼(8)의 이동에 대한 간섭이 피면할 수 있음을 이해할 수 있다.
본 실시예에서, 브래킷(6)의 신축이 실현될 수 있는 한, 브래킷(6)의 구체적인 신축 구조는 제한되지 않는다는 점에 유의해야 한다.
세척 및 건조된 웨이퍼(8)가 다음 웨이퍼(8)를 박스 본체(1)에 넣는 것을 방해하는 것을 방지하기 위해, 상기 실시예에 기초하여 박스 본체(1)의 상부에 회전 메커니즘(7)이 설치되고, 가이드 레일(5)과 회전 메커니즘(7)의 출력단이 서로 연결되어, 브래킷(6)의 고정부위는 가이드 레일(5)과 고정 및 연결된다.
즉, 본 실시예에서, 가이드 레일(5)은 회전 메커니즘(7)에 의해 회전하도록 구동되며, 바람직하게는 회전 메커니즘(7)은 수평면과 수직면 사이에서 회전하도록 가이드 레일(5)을 구동할 수 있다.
브래킷(6)의 고정 부분이 가이드 레일(5)과 고정 연결되어, 회전 메커니즘(7)이 가이드 레일(5)을 회전하도록 구동하면 가이드 레일(5)은 걸림조(4)와 브래킷(6)이 동시에 회전하도록 구동할 수 있으며, 걸림조(4)와 브래킷(6) 사이의 웨이퍼(8)는 이에 따라 회전될 수 있으며, 박스 본체(1) 개구부를 피면하여, 다음 웨이퍼(8)가 박스 본체 내에 들어오도록 하여, 세척할 웨이퍼가 신속히 박스 본체에 들어가 세척하도록 하여, 박스 본체의 이용율을 향상한다.
또한, 본 실시예는 회전 메커니즘(7)의 구체적인 구조에 대해 제한하지 않으며, 예를 들어 회전 메커니즘(7)은 서보 모터 등일 수 있으며, 서보 모터의 출력축을 통해 일정한 각도로 회전시켜, 가이드 레일(5)의 회전을 실시한다. 회전 메커니즘(7)은 회전 샤프트와 협력하는 실린더일 수 있고, 실린더를 통해 가이드 레일(5)을 회전축 주위를 회전하도록 하여, 가이드 레일(5)의 회전을 실현한다.
바람직하게 회전 메커니즘(7)의 고정 부분은 박스 본체(1)의 외벽에 고정 및 설치된다.
또한 본 명세서에서 제1과 제2 등과 같은 관계 용어는 하나의 실체 또는 다른 개체 또는 작업과 구별하는 데만 사용되며, 이러한 실체 또는 조작 사시에 임의 실제 관계 또는 순서가 존재함을 요구하는 것이 아니다.
본 설명서에서는 각 실시예를 점진 방식으로 설명하여, 각 실시예가 다른 실시예와 다른 점에 주목하고 있으며, 다양한 실시예 사이의 동일하거나 유사한 부분은 서로 참조할 수 있다.
상기 내용은 본 발명에 의해 제공되는 웨이퍼 세척 및 건조 장치에 대하여 상세히 설명하였다. 본 발명은 구체적인 예를 사용하여 본 발명의 원리 및 실시 방식에 대하여 설명을 진행하여, 상기 실시예의 설명은 본 발명의 방법 및 핵심 아이디어를 이해하는데 도움이 된다. 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 기술자는 본 발명의 원리를 이탈하지 않는 전제하에 본 발명에 대해 약간의 개선 및 수정을 진행할 수 있으며, 이런 부분의 개선 및 수정은 본 발명 특허청구 보호범위에 속한다.
도 1 내지 도 5의 첨부도면 표기는 아래와 같음:
1: 박스 본체, 2: 지지 메커니즘, 21: 제1 슬라이드 블록, 211: 심블, 22: 제2 슬라이드 블록, 3: 스프레이 파이프, 4: 걸림조, 5: 가이드 레일, 6: 브래킷, 7: 회전 메커니즘, 8: 웨이퍼

Claims (9)

  1. 웨이퍼(8)를 세척하는 박스 본체(1)- 상기 박스 본체(1)의 상단에는 웨이퍼(8)가 상기 박스 본체에 입,출하기 위한 개구부가 설치되어 있음-;
    상기 박스 본체(1) 내부에 설치되고 상기 웨이퍼(8) 수용에 사용되는 지지 메커니즘(2)- 상기 지지 메커니즘(2)은 승강이 가능함-;
    상기 개구부에 설치되어 있고 세척된 웨이퍼(8)의 표면에 건조 가스를 스프레이하는데 사용되는 스프레이 파이프(3);
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세척 및 건조 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 스프레이 파이프(3)의 수량은 2개이며, 2개의 스프레이 파이프(3)는 엇갈려 설치되어, 웨이퍼(8)의 전면과 후면에 각각 건조 가스를 분사하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세척 및 건조 장치.
  3. 제1항에 있어서, 박스 본체(1)에는 직선 구동 메커니즘이 설치되어 있고, 상기 직선 구동 메커니즘의 출력단에는 제1 마그넷이 설치되어 있고, 상기 지지 메커니즘(2)에는 제2 마그넷이 설치되어 있고, 상기 제1 마그넷과 상기 제2 마그넷에는 다른 극이 서로 당겨, 상기 직선 구동 메커니즘이 왕복 운동을 할 때, 상기 제2 마그넷이 지지 메커니즘(2)을 구동하여 동기화 승강하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세척 및 건조 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 박스 본체(1)에는 지지 메커니즘(2)의 승강을 안내하는 가이드 기둥 또는 가이드 홈이 고정 및 설치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세척 및 건조 장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지지 메커니즘(2)은
    제1 슬라이드 블록(21)에는 웨이퍼(8)의 측면과 충돌에 사용되는 심블(211)이 설치되어 있는 제1 슬라이드 블록(21);
    제2슬라이드 블록(22)에는 웨이퍼(8)를 클램핑하는 슬롯이 설치되어 있는 제2슬라이드 블록(22);
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세척 및 건조 장치.
  6. 제5항에 있어서, 웨이퍼(8)가 개구 밖으로 연장될 때, 웨이퍼(8) 상단의 걸림조(4) 클램핑을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세척 및 건조 장치.
  7. 제6항에 있어서, 박스 본체(1)의 상단에는 회전 가능한 가이드 레일(5)이 설치되어 있고, 상기 걸림조(4)는 슬라이딩 가능하게 가이드 레일(5)에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세척 및 건조 장치.
  8. 제7항에 있어서，상기 웨이퍼(8)가 완전히 건조된 후, 상기 웨이퍼(8)의 하부를 클램핑하기 위한 브래킷(6)을 더 포함하고, 상기 브래킷(6)은 신축이 가능한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세척 및 건조 장치.
  9. 제8항에 있어서，상기 박스 본체(1)의 상부에는 회전 메커니즘(7)이 설치되어 있고, 상기 가이드 레일(5)은 상기 회전 메커니즘(7)의 출력단과 연결되고, 상기 브래킷(6)의 고정부는 상기 가이드 레일(5)과 고정 및 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정 및 건조 장치.
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