KR20220086613A - 조성물, 커패시터용 중합체 및 커패시터 - Google Patents

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Abstract

종래의 전해 커패시터에 금속박 산화막 부식으로 인한 전압 저항 강하 및 누설 전류 증가의 문제를 극복하기 위해, 본 발명은 중합 단량체, 인산 에스테르류 화합물 및 말단 캡핑제를 포함하는 조성물을 제공한다. 상기 중합 단량체는 3,4-에틸렌디옥시티오펜류 중합 단량체를 포함하며, 상기 말단 캡핑제는 구조식 1로 표시되는 화합물을 포함한다.
Figure pct00011

구조식 1
여기에서 R4는 H 또는 탄소 원자수가 1 내지 6인 탄화수소기이다. 동시에 본 발명은 상기 조성물을 중합하여 획득한 커패시터용 중합체 및 상기 커패시터용 중합체를 포함하는 커패시터를 더 개시한다. 본 발명에서 제공하는 조성물 중합에 의해 획득된 중합체는 금속박 상의 산화막에 대해 복구 및 보호의 역할을 하므로, 커패시터 금속박 상의 산화막이 파손되는 것을 현저하게 감소시킨다.

Description

조성물, 커패시터용 중합체 및 커패시터
본 발명은 고체 상태 커패시터 재료 기술 분야에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 조성물, 커패시터용 중합체 및 커패시터에 관한 것이다.
고체 상태 전해 커패시터는 전도율이 높고 열안정성이 우수한 전도성 고분자를 전해질로 사용하여, 일반적인 액체 상태 커패시터에 비해 높은 신뢰성, 긴 사용 수명, 고주파의 낮은 임피던스, 초대형 리플 전류 내성 등의 특징을 가지고 있다. 또한 액체 상태 전해 커패시터 전해액이 액체가 누출되기 쉬운 단점을 극복하였다. 국내 전자 정보 산업이 급성장하면서 최근 몇 년간의 발전 추세에서 고체 상태 전해 커패시터가 점차 액체 상태 저전압 전해 커패시터를 대체하며 21세기 전자 정보 산업의 주류 제품 중 하나가 되고 있음을 알 수 있다.
사람들이 고체 상태 전해 커패시터 성능에 대한 요건이 증가함에 따라, 고전도성 고분자 커패시터에 내전압이 더욱 향상되고 누설 전류가 낮아져 커패시터 성능 및 사용 수명을 향상시키는 것은 연구원들의 공통 목표가 되었다. 알루미늄 전해 커패시터의 내전압은 산화알루미늄 산화막층의 두께에 비례하므로, 산화알루미늄 산화막층이 얇아지면 알루미늄박의 내전압이 낮아짐을 의미한다. 알루미늄박 산화막층 두께가 어느 정도까지 얇아지면, 양극박 내전압은 성능 요건을 충족하지 못하게 되며, 커패시터 사용 과정에서 양음극 도통, 소위 절연파괴(electrical breakdown) 현상이 발생한다. 부식이 상술한 가혹한 조건에 도달하지 않으면 누설 전류가 커질 수 있다. 누설 전류 크기 제어는 주요 고체 상태 알루미늄 전해 커패시터 제조업체가 제어해야 할 핵심이 되었다. 동시에, 최근 몇 년 동안 커패시터를 축소하려는 시장 수요 및 알루미늄 고체 상태 전해 커패시터 비용 절감에 대한 수요로 인해, 커패시터 제조업체에서 사용하는 양극박 내전압이 더욱 낮아지는 추세이다. 따라서 양극박의 부식을 완화시키고 커패시터 누설 전류 등 측면의 성능을 낮추기 위한 요건이 더욱 높아졌다.
현재, 고체 상태 알루미늄 전해 커패시터에는 3,4-에틸렌디옥시티오펜을 단량체로 사용하여 제조된 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜(PEDOT) 중합체 재료가 일반적으로 사용된다. 상술한 중합체 재료는 우수한 도전성과 우수한 환경 안정성으로 인해 고체 상태 전해 커패시터 음극으로 널리 사용된다. 그러나 중합 반응에 사용되는 강산성 물질은 생성된 중합체 재료에 잔류할 수 있다. 커패시터 사용 시, 알루미늄박 산화막층을 부식시켜 이를 얇아지게 만들어 커패시터 내전압 강하 및 누설 전류 증가 문제를 야기할 수 있다. 따라서 단순히 3,4-에틸렌디옥시티오펜 단량체를 사용하여 제조된 고체 상태 알루미늄 전해 커패시터는 그 내전압 및 누설 전류 성능이 사람들의 증가하는 요건을 충족시킬 수 없다.
종래의 전해 커패시터에 금속박 산화막 부식으로 인해 내전압 강하 및 누설 전류 증가의 문제를 해결하기 위해, 본 발명은 조성물, 커패시터용 중합체 및 커패시터를 제공한다.
본 발명은 상기 기술적 문제를 해결하기 위해 하기 기술적 해결책을 채택한다.
일 양상에 있어서, 본 발명은 중합 단량체, 인산 에스테르류 화합물 및 말단 캡핑제를 포함하는 조성물을 제공한다.
상기 중합 단량체는 3,4-에틸렌디옥시티오펜류 중합 단량체이다.
상기 말단 캡핑제는 구조식 1로 표시되는 화합물을 포함한다.
Figure pct00001
구조식 1
여기에서 R4는 H 또는 탄소 원자수가 1 내지 6인 탄화수소기이다.
선택적으로, 상기 조성물은,
중합 단량체 96 내지 99.9998부, 말단 캡핑제 0.0001 내지 1부, 인산 에스테르류 화합물 0.0001 내지 3부의 중량 성분을 포함한다.
선택적으로, 상기 말단 캡핑제는 메틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트(methyl 3,4-ethylenedioxythiophene-2-carboxylate), 에틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트(ethyl 3,4-ethylenedioxythiophene-2-carboxylate), 프로필 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트(propyl 3,4-ethylenedioxythiophene-2-carboxylate), 이소프로필 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트(ispropyl 3,4-ethylenedioxythiophene-2-carboxylate), 부틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트(butyl 3,4-ethylenedioxythiophene-2-carboxylate) 중 하나 이상을 포함한다.
선택적으로, 상기 인산 에스테르류 화합물은 구조식 2로 표시되는 화합물을 포함한다.
Figure pct00002
구조식 2
여기에서 R1, R2 및 R3은 H 또는 수소 원자가 치환 또는 비치환된 탄소 원자수가 1 내지 6인 탄화수소기, 에테르기, 카르보닐기 또는 방향족기로부터 선택되고, R1, R2 및 R3은 동시에 H가 아니다.
선택적으로, R1, R2 및 R3 중 2개는 서로 연결되어 고리를 형성한다.
선택적으로, 상기 인산 에스테르류 화합물은 트리메틸 포스페이트(trimethyl phosphate), 디메틸 포스페이트(ditrimethyl phosphate), 메틸 에틸 포스페이트(methyl ethyl phosphate), 트리에틸 포스페이트(triethyl phosphate), 디에틸 포스페이트(diethyl phosphate), 디메틸 에틸 포스페이트(dimethyl ethyl phosphate), 메틸 디에틸 포스페이트(methyl diethyl phosphate), 트리프로필 포스페이트(tripropyl phosphate), 트리프로파길 포스페이트(tripropargyl phosphate), 디프로필 포스페이트(dipropyl phosphate), 트리부틸 포스페이트(tripropyl phosphate), 디부틸 포스페이트(dibutyl phosphate), 모노부틸 포스페이트(monobutyl phosphate) 및 트리펜틸 포스페이트(tripentyl phosphate) 중 하나 이상을 포함한다.
선택적으로, 상기 중합 단량체는 구조식 3으로 표시되는 화합물을 포함한다.
Figure pct00003
구조식 3
다른 일 양상에 있어서, 본 발명은 커패시터용 중합체를 제공하며, 이는 상술한 조성물을 중합하여 획득한다.
다른 일 양상에 있어서, 본 발명은 커패시터 소자 및 커패시터 소자에 부착된 양극 재료를 포함하는 알루미늄 전해 커패시터를 제공한다. 상기 음극 재료는 상술한 바와 같은 커패시터용 중합체를 포함한다.
선택적으로, 상기 커패시터는 고체 상태 알루미늄 전해 커패시터 또는 고체 상태 탄탈륨 전해 커패시터이다.
본 발명에서 제공하는 조성물은 인산 에스테르류 화합물, 중합 단량체 및 말단 캡핑제를 중합 원료로 사용한다. 인산 에스테르류 화합물은 일정한 윤활성을 가지므로 금속박과 직접 접촉시키기 용이하며 어느 정도 금속박 서방제로 사용되어 부식을 방지하고 금속박 상의 산화막에 대해 복구 및 보호의 역할을 수행하여 커패시터 금속박 상의 산화막이 파손되는 것을 현저하게 감소시킬 수 있다. 또한 구조식 1로 표시되는 화합물을 말단 캡핑제로 사용하면 중합 단량체의 중합 반응에서 중합도를 낮추고 단량체 중합 속도를 완화시켜 시스템의 산도를 낮춰 부식이 발생하는 것을 더욱 방지할 수 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제, 기술적 해결책 및 유익한 효과를 보다 명확하게 설명하기 위하여, 이하에서는 실시예를 참조하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 본원에 설명된 구체적인 실시예는 본 발명을 설명하기 위해 사용된 것일 뿐, 본 발명을 제한하지 않음을 이해해야 한다.
본 발명의 일 실시예는 중합 단량체, 인산 에스테르류 화합물 및 말단 캡핑제를 포함하는 조성물을 제공한다.
상기 중합 단량체는 3,4-에틸렌디옥시티오펜류 중합 단량체이다.
상기 말단 캡핑제는 구조식 1로 표시되는 화합물을 포함한다.
Figure pct00004
구조식 1
여기에서 R4는 H 또는 탄소 원자수가 1 내지 6인 탄화수소기이다.
인산 에스테르류 화합물은 일정한 윤활성을 가지므로 금속박과 직접 접촉시키기 용이하며 어느 정도 금속박 서방제로 사용되어 부식을 방지하고 금속박 상의 산화막에 대해 복구 및 보호의 역할을 수행하여 커패시터 금속박 상의 산화막이 파손되는 것을 현저하게 감소시킬 수 있다. 또한 구조식 1로 표시되는 화합물을 말단 캡핑제로 사용하면 중합 단량체의 중합 반응에서 중합도를 낮추고 단량체 중합 속도를 완화시켜 시스템의 산도를 낮춰 부식이 발생하는 것을 더욱 방지할 수 있다.
일부 실시예에 있어서, 상기 조성물은,
중합 단량체 96 내지 99.9998부, 말단 캡핑제 0.0001 내지 1부, 인산 에스테르류 화합물 0.0001 내지 3부의 중량 성분을 포함한다.
보다 바람직한 실시예에 있어서, 상기 조성물은,
중합 단량체 98 내지 99.9899부, 말단 캡핑제 0.0001 내지 0.5부, 인산 에스테르류 화합물 0.01 내지 1.5부의 중량 성분을 포함한다.
상기 인산 에스테르류 화합물의 첨가량이 너무 적으면 알루미늄박 산화막에 대한 보호 효과가 현저하지 않다. 반면 상기 인산 에스테르류 화합물의 첨가량이 너무 많으면 중합 후 중합체의 도전성이 열화되고 중합체와 금속박의 부착 효과가 떨어진다.
상기 말단 캡핑제의 첨가량이 너무 적으면 중합 반응의 중합도 저하는 현저하지 않다. 반면 상기 말단 캡핑제의 첨가량이 너무 많으면 중합 후 중합체의 중합도가 너무 낮아 중합체의 구조적 강도에 영향을 미치므로 커패시터의 안전 성능 향상에 도움이 되지 않는다.
일부 실시예에 있어서, 상기 말단 캡핑제는 메틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트, 에틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트, 프로필 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트, 이소프로필 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트, 부틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트 중 하나 이상을 포함한다.
일부 실시예에 있어서, 상기 인산 에스테르류 화합물은 구조식 2로 표시되는 화합물을 포함한다.
Figure pct00005
구조식 2
여기에서 R1, R2 및 R3은 H 또는 수소 원자가 치환 또는 비치환된 탄소 원자수가 1 내지 6인 탄화수소기, 에테르기, 카르보닐기 또는 방향족기로부터 선택되고, 치환기는 할로겐, 히드록실 또는 카르복실이며, R1, R2 및 R3은 동시에 H가 아니다.
일부 실시예에 있어서, R1, R2 및 R3 중 2개는 서로 연결되어 고리를 형성한다.
보다 바람직한 실시예에 있어서, 상기 인산 에스테르류 화합물은 트리메틸 포스페이트, 디메틸 포스페이트, 메틸 에틸 포스페이트, 트리에틸 포스페이트, 디에틸 포스페이트, 디메틸 에틸 포스페이트, 메틸 디에틸 포스페이트, 트리프로필 포스페이트, 트리프로파길 포스페이트, 디프로필 포스페이트, 트리부틸 포스페이트, 디부틸 포스페이트, 모노부틸 포스페이트 및 트리펜틸 포스페이트 중 하나 이상을 포함한다.
본 발명의 설명에서 3,4-에틸렌디옥시티오펜류 중합 단량체는 티오펜 고리에서 2 및 5 위치에서 중합 반응을 일으킬 수 있는 3,4-에틸렌디옥시티오펜 및 그 유도체를 의미함에 유의한다.
일부 실시예에 있어서, 상기 중합 단량체는 구조식 3으로 표시되는 화합물을 포함한다.
Figure pct00006
구조식 3
본 발명의 다른 일 실시예는 커패시터용 중합체를 제공하며, 이는 상술한 조성물의 중합에 의해 획득된다.
종래의 커패시터용 중합체와 비교하여, 상기 조성물을 중합하여 획득한 커패시터용 중합체는 낮아진 금속박 부식성을 가지며, 커패시터의 누설 전류를 효과적으로 감소시킬 수 있으며, 고체 커패시터의 성능 안정성을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예는 커패시터 소자 및 커패시터 소자에 부착된 양극 재료를 포함하는 알루미늄 전해 커패시터를 제공한다. 상기 음극 재료는 상술한 바와 같은 커패시터용 중합체를 포함한다.
일부 실시예에 있어서, 상기 커패시터는 고체 상태 알루미늄 전해 커패시터 또는 고체 상태 탄탈륨 전해 커패시터이다.
이하에서는 실시예를 참고하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
실시예 1
본 실시예는 본 발명에서 개시하는 조성물, 커패시터용 중합체 및 커패시터의 제조 방법을 설명하기 위한 것이며, 여기에는 하기 조작 단계가 포함된다.
트리부틸 포스페이트 0.07중량%, 메틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트 0.01중량%, 3,4-에틸렌디옥시티오펜 99.92중량%의 세 가지 물질을 균일하게 혼합하여 중합 단량체, 인산 에스테르류 화합물 및 말단 캡핑제를 함유하는 조성물을 제조한다.
상기 조성물을 중합 원료로 사용하여 자유기 중합 방식을 통해 중합체 수분산체를 제조한다. 구체적인 실시 공정은 다음과 같다. 즉, 물 1753g과 폴리스티렌 술폰산나트륨 90.32g을 취하여, 분산기에서 고속으로 균일하게 혼합하고, 질소 분위기 보호 하에서 반응기 내 온도를 22℃로 제어하며, 황산철 수용액(1.3% 농도) 17.54g 및 상술한 중합 원료 7.25g을 첨가하여 24시간 동안 계속해서 반응시켜, 중합체 분산체 PEDOT/PSS 중간체를 수득한다. 상기 중합체 분산체 PEDOT:PSS 중간체를 음이온 및 양이온 교환 수지와 혼합하여 불순물 이온을 제거한다. 불순물 이온이 제거된 중합체 분산체 PEDOT:PSS 중간체 500g에 폴리에틸렌글리콜 1000 53.2g을 첨가하고 8시간 동안 혼합 교반한 후 호모지나이저로 균질화하여 중합체 분산액을 수득한다.
건조된 커패시터 소자를 상온에서 진공도가 -0.09MPa인 조건에서 중합체 분산액을 20min 동안 함침시켜 소자를 꺼내고 그 표면의 중합체 분산액을 닦은 후 125℃에서 1시간 소성하여 함침시킨 후, 베이킹 공정을 3번 순환한다. 함침 완료 후, 커패시터 소자는 입구를 밀봉하여 고체 상태 전해 커패시터로 조립한다.
실시예 2
본 실시예는 본 발명에서 개시하는 조성물, 커패시터용 중합체 및 커패시터의 제조 방법을 설명하기 위한 것이며, 여기에는 실시예 1 중 대부분의 조작 단계가 포함된다. 차이점은 하기와 같다.
메틸 디에틸 포스페이트 0.2중량%, 에틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트 0.1중량%, 3,4-에틸렌디옥시티오펜 99.7중량%의 세 가지 물질을 균일하게 혼합하여 중합 단량체, 인산 에스테르류 화합물 및 말단 캡핑제를 함유하는 조성물을 제조한다.
실시예 3
본 실시예는 본 발명에서 개시하는 조성물, 커패시터용 중합체 및 커패시터의 제조 방법을 설명하기 위한 것이며, 여기에는 실시예 1 중 대부분의 조작 단계가 포함된다. 차이점은 하기와 같다.
디메틸 에틸 포스페이트 1.0중량%, 프로필 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트 0.3중량%, 3,4-에틸렌디옥시티오펜 98.7중량%의 세 가지 물질을 균일하게 혼합하여 중합 단량체, 인산 에스테르류 화합물 및 말단 캡핑제를 함유하는 조성물을 제조한다.
실시예 4
본 실시예는 본 발명에서 개시하는 조성물, 커패시터용 중합체 및 커패시터의 제조 방법을 설명하기 위한 것이며, 여기에는 실시예 1 중 대부분의 조작 단계가 포함된다. 차이점은 하기와 같다.
트리프로필 포스페이트 0.62중량%, 부틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트 0.0002중량%, 3,4-에틸렌디옥시티오펜 99.3798중량%의 세 가지 물질을 균일하게 혼합하여 중합 단량체, 인산 에스테르류 화합물 및 말단 캡핑제를 함유하는 조성물을 제조한다.
실시예 5
본 실시예는 본 발명에서 개시하는 조성물, 커패시터용 중합체 및 커패시터의 제조 방법을 설명하기 위한 것이며, 여기에는 실시예 1 중 대부분의 조작 단계가 포함된다. 차이점은 하기와 같다.
트리프로파길 포스페이트 0.006중량%, 메틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트 0.006중량%, 3,4-에틸렌디옥시티오펜 99.988중량%의 세 가지 물질을 균일하게 혼합하여 중합 단량체, 인산 에스테르류 화합물 및 말단 캡핑제를 함유하는 조성물을 제조한다.
실시예 6
본 실시예는 본 발명에서 개시하는 조성물, 커패시터용 중합체 및 커패시터의 제조 방법을 설명하기 위한 것이며, 여기에는 실시예 1 중 대부분의 조작 단계가 포함된다. 차이점은 하기와 같다.
트리에틸 포스페이트 0.05중량%, 이소프로필 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트 0.024중량%, 3,4-에틸렌디옥시티오펜 99.926중량%의 세 가지 물질을 균일하게 혼합하여 중합 단량체, 인산 에스테르류 화합물 및 말단 캡핑제를 함유하는 조성물을 제조한다.
실시예 7
본 실시예는 본 발명에서 개시하는 조성물, 커패시터용 중합체 및 커패시터의 제조 방법을 설명하기 위한 것이며, 여기에는 실시예 1 중 대부분의 조작 단계가 포함된다. 차이점은 하기와 같다.
모노부틸 포스페이트 0.37중량%, 메틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트 0.052중량%, 3,4-에틸렌디옥시티오펜 99.578중량%의 세 가지 물질을 균일하게 혼합하여 중합 단량체, 인산 에스테르류 화합물 및 말단 캡핑제를 함유하는 조성물을 제조한다.
실시예 8
본 실시예는 본 발명에서 개시하는 조성물, 커패시터용 중합체 및 커패시터의 제조 방법을 설명하기 위한 것이며, 여기에는 하기 조작 단계가 포함된다.
트리부틸 포스페이트 0.06중량%, 메틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트 0.04중량%, 3,4-에틸렌디옥시티오펜 99.9중량%의 세 가지 물질을 균일하게 혼합하여 중합 단량체, 인산 에스테르류 화합물 및 말단 캡핑제를 함유하는 조성물을 제조한다.
에탄올을 용매로 사용하여 상기 조성물을 25% 단량체 용액으로 제조하고, 커패시터 소자를 사용하여 상기 단량체 용액을 2min 동안 함침시키며, 커패시터 소자를 꺼내 60℃ 오븐 내에서 30min 동안 건조한 후 상온으로 냉각한다.
상술한 단계를 처리한 커패시터 소자는 상온, 진공도가 -0.085MPa인 조건에서 60% 농도의 p-톨루엔술폰산 에탄올 산화제 용액을 함침시키며, 함침 시간은 5min이다.
함침이 완료되면 커패시터 소자를 꺼내어 항온항습 상자에 넣고 중합 반응을 수행한다. 온도 40℃, 습도 40% 조건에서 1h 동안 반응시킨다. 온도는 60℃, 습도는 25%로 조절하여 2h 동안 반응시킨다. 온도는 70℃, 습도는 20%로 조절하여 1h 동안 반응시킨다. 온도는 150℃, 습도는 0%로 조절하여 1h 동안 반응시킨다. 온도는 110℃, 습도는 0%로 조절하여 3h 동안 반응시킨다. 중합 반응을 완료하고, 커패시터를 고체 상태 전해 커패시터로 패키징한다.
비교예 1
본 비교예는 본 발명에서 개시하는 커패시터용 중합체 및 커패시터의 제조 방법을 비교하여 설명하기 위한 것이며, 여기에는 실시예 1 중 대부분의 조작 단계가 포함된다. 차이점은 하기와 같다.
순수한 단량체 3,4-에틸렌디옥시티오펜을 채택해 실시예 1의 중합 원료를 대체한다.
비교예 2
본 실시예는 본 발명에서 개시하는 커패시터용 중합체 및 커패시터의 제조 방법을 비교하여 설명하기 위한 것이며, 여기에는 하기 조작 단계가 포함된다.
에탄올을 용매로 사용하여 3,4-에틸렌디옥시티오펜을 25% 단량체 용액으로 제조하고, 커패시터 소자를 사용하여 단량체 용액을 2min 동안 함침시키며, 커패시터 소자를 꺼내 60℃ 오븐 내에서 30min 동안 건조한 후 상온으로 냉각한다.
상술한 단계를 처리한 커패시터 소자는 상온, 진공도가 -0.085MPa인 조건에서 60% 농도의 p-톨루엔술폰산 에탄올 산화제 용액을 함침시키며, 함침 시간은 5min이다.
함침이 완료되면 커패시터 소자를 꺼내어 항온항습 상자에 넣고 중합 반응을 수행한다. 온도 40℃, 습도 40% 조건에서 1h 동안 반응시킨다. 온도는 60℃, 습도는 25%로 조절하여 2h 동안 반응시킨다. 온도는 70℃, 습도는 20%로 조절하여 1h 동안 반응시킨다. 온도는 150℃, 습도는 0%로 조절하여 1h 동안 반응시킨다. 온도는 110℃, 습도는 0%로 조절하여 3h 동안 반응시킨다. 중합 반응을 완료하고, 커패시터를 고체 상태 전해 커패시터로 패키징한다.
비교예 3
본 비교예는 본 발명에서 개시하는 커패시터용 중합체 및 커패시터의 제조 방법을 비교하여 설명하기 위한 것이며, 여기에는 실시예 1 중 대부분의 조작 단계가 포함된다. 차이점은 하기와 같다.
트리부틸 포스페이트 0.07중량% 및 3,4-에틸렌디옥시티오펜 99.93 중량%으로 상기 두 물질을 균일하게 혼합하여 중합 단량체 및 인산 에스테르류 화합물을 함유하는 조성물을 제조한다.
비교예 4
본 비교예는 본 발명에서 개시하는 커패시터용 중합체 및 커패시터의 제조 방법을 비교하여 설명하기 위한 것이며, 여기에는 실시예 1 중 대부분의 조작 단계가 포함된다. 차이점은 하기와 같다.
메틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트 0.01중량% 및 3,4-에틸렌디옥시티오펜 99.99중량%를 사용하여 상기 두 물질을 혼합하여 중합 단량체와 말단 캡핑제를 함유하는 중합체를 제조한다.
성능 테스트
상기 실시예 1 내지 7 및 비교예 1 내지 4에서 제조된 고체 상태 전해 커패시터에 대해 다음과 같은 성능 테스트를 수행하였다.
자동 전자 부품 분석기 및 누설 전류 시험기를 이용하여 고체 상태 전해 커패시터의 정전용량, 손실값, 등가 직렬 저항 및 누설 전류를 시험한다. 여기에서 용량 및 손실값은 120Hz 주파수에서 시험하고, 등가 직렬 저항은 100KHz의 주파수에서 시험하며, 누설 전류는 정격전압으로 1min 동안 충전한 후 누설 전류 시험기로 시험한다. 시험 방법은 일반적인 자동 전자 부품 분석기와 누설 전류 시험기의 시험 방법으로, 여기에서 반복하여 설명하지 않는다.
테스트 결과는 표 1과 같다.
표 1 고체 상태 알루미늄 전해 커패시터 각 항목 성능 테스트 결과(16V680μF 코어)
Figure pct00007
표 1의 시험 결과로부터 알 수 있듯이, 본 발명에서 제공하는 커패시터용 중합체로 제조된 고체 상태 전해 커패시터는 비교적 낮은 누설 전류값을 가지며, 최대가 7.3μA에 불과하다. 반면, 비교예 1 내지 4의 단량체로 제조된 고체 상태 전해 커패시터는 그 누설 전류값이 현저하게 크며 최소가 모두 12.5μA이다. 이는 인산 에스테르류 물질과 말단 캡핑제의 첨가가 고체 전해질의 알루미늄박에 대한 부식을 효과적으로 완화하며, 커패시터의 누설 전류를 낮추고 커패시터의 내전압 성능을 향상시켜 고체 상태 전해 커패시터의 성능 안정성을 보장하고 고체 상태 전해 커패시터의 사용 수명을 크게 향상시킬 수 있음을 설명한다.
비교예 1, 비교예 3 및 비교예 4의 시험 결과에서 알 수 있듯이, 인산 에스테르류 화합물과 말단 캡핑제는 모두 고체 전해질의 알루미늄박에 대한 부식을 완화하는 역할을 하며, 커패시터의 누설 전류를 낮춘다.
상기 내용은 본 발명의 비교적 바람직한 실시예일 뿐이므로 본 발명을 제한하지 않는다. 또한 본 발명의 사상과 원칙 내에서 이루어진 모든 수정, 동등한 대체, 개선 등은 본 발명의 보호 범위에 포함되어야 한다.

Claims (10)

  1. 조성물에 있어서,
    중합 단량체, 인산 에스테르류 화합물 및 말단 캡핑제를 포함하고,
    상기 중합 단량체는 3,4-에틸렌디옥시티오펜류 중합 단량체이고,
    상기 말단 캡핑제는 구조식 1로 표시되는 화합물을 포함하고,
    Figure pct00008

    구조식 1
    여기에서 R4는 H 또는 탄소 원자수가 1 내지 6인 탄화수소기인 것을 특징으로 하는 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 조성물은,
    중합 단량체 96 내지 99.9998부, 말단 캡핑제 0.0001 내지 1부, 인산 에스테르류 화합물 0.0001 내지 3부의 중량 성분을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 말단 캡핑제는 메틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트, 에틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트, 프로필 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트, 이소프로필 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트, 부틸 3,4-에틸렌디옥시티오펜-2-카르복실레이트 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 인산 에스테르류 화합물은 구조식 2로 표시되는 화합물을 포함하고,
    Figure pct00009

    구조식 2
    여기에서 R1, R2 및 R3은 H 또는 수소 원자가 치환 또는 비치환된 탄소 원자수가 1 내지 6인 탄화수소기, 에테르기, 카르보닐기 또는 방향족기로부터 선택되고, R1, R2 및 R3은 동시에 H가 아닌 것을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제4항에 있어서,
    R1, R2 및 R3 중 2개는 서로 연결되어 고리를 형성하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 인산 에스테르류 화합물은 트리메틸 포스페이트, 디메틸 포스페이트, 메틸 에틸 포스페이트, 트리에틸 포스페이트, 디에틸 포스페이트, 디메틸 에틸 포스페이트, 메틸 디에틸 포스페이트, 트리프로필 포스페이트, 트리프로파길 포스페이트, 디프로필 포스페이트, 트리부틸 포스페이트, 디부틸 포스페이트, 모노부틸 포스페이트 및 트리펜틸 포스페이트 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 중합 단량체는 구조식 3으로 표시되는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
    Figure pct00010

    구조식 3
  8. 커패시터용 중합체에 있어서,
    제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 조성물 중합을 통해 획득하는 것을 특징으로 하는 커패시터용 중합체.
  9. 커패시터에 있어서,
    커패시터 소자와 상기 커패시터 소자 상에 부착된 음극 재료를 포함하고, 상기 음극 재료는 제8항에 따른 커패시터용 중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 커패시터는 고체 상태 알루미늄 전해 커패시터 또는 고체 상태 탄탈륨 전해 커패시터인 것을 특징으로 하는 커패시터.
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