KR20220035264A

KR20220035264A - 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸

Info

Publication number: KR20220035264A
Application number: KR1020227007036A
Authority: KR
Inventors: 추안얀 리; 펭 리; 지앙비아오 왕; 신샹 장; 쇼우웬 솅; 홍메이 시아오
Original assignee: 에스.와이. 테크놀로지, 엔지니어링 앤드 컨스트럭션 컴퍼니 리미티드; 차이나 일렉트로닉스 엔지니어링 디자인 인스티튜트 컴퍼니 리미티드
Priority date: 2019-08-09
Filing date: 2020-07-24
Publication date: 2022-03-21
Also published as: WO2021027528A1; EP4012139A4; EP4012139A1; CN110439332A

Abstract

본 발명은 청정 작업장의 기술 분야에 관한 것이다. 개시된 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸은 압력 조절 장치 어셈블리를 포함하고, 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 조절하여 정상 생산 중에 상부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압이 오염원이 있는 인접 상부 기술 중간층과 오염원이 없는 인접 상부 기술 중간층 내의 기압보다 높도록 하고； 및/또는， 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 조절하여 정상 생산 중에 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압이 오염원이 있는 인접 하부 기술 중간층과 오염원이 없는 인접 하부 기술 중간층 내의 기압보다 높도록 하고, 또는， 정상 생산 중에 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압이 오염원이 있는 인접 하부 기술 중간층과 오염원이 없는 인접 하부 기술 중간층 내의 기압보다 낮도록 한다. 본 발명에 개시된 클린룸은 오염원이 있는 생산 구역에서 생성된 오염 물질이 오염원이 없는 생산 구역으로 유입되는 상황을 감소 또는 방지할 수 있어, 오염원이 없는 생산 지역에서 제품의 수율을 향상시킬 수 있다.

Description

기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸

관련출원의 교차인용

본 출원은, 2019년 08월 9일에 중국 특허청에 출원된 출원 번호 제201910736090.3호, "기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸"를 발명 명칭으로 하는 중국 특허 출원의 우선권을 주장하며, 상기 중국 특허 출원의 전체 내용은 참조로서 출원에 통합되어 본 출원의 일 부분으로 한다.

본 발명은 청정 작업장의 기술 분야에 속한 것으로서, 보다 상세하게는 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸에 관한 것이다.

반도체 IC 및 TFT-LCD(Thin Film-Transistor Liquid-Crystal Display) 공정에 대한 높은 표준 요구 사항이 지속적으로 증가함에 따라 제품의 적격률을 보장하기 위해 클린룸의 공기질에 대한 요구 점점 높아지고 있다. 클린룸 공기 중 분자 오염 물질(AMC)은 각 생산 절차의 공정에 특정한 역효과를 일으키고 제품의 수율에 영향을 미친다.

예를 들어, TFT-LCD 생산 작업장에서 어레이 노출 구역(Array Photo), 컬러 필름 노출 구역(CF Photo) 코팅, 베이킹 생산 공정, 폴리이미드(PI) PI코팅, 베이킹 PI중질 생산 공정 등과 같은 유기 용제 세척 과정에서 발생된 유기성 폐가스는 집중 처리를 위한 폐가스 파이프라인을 통해 지붕 제올라이트 러너 유닛과 재생 연소로로 운송된다. 그러나 일부 휘발성 유기 화합물(VOC)은 위에서 언급한 VOC 발생 생산 공정의 클린룸에 여전히 남아 있어 인체 및 제조 환경, 특히 일부 생산 공정(예: ODF(One Drop Filling, ) 구역)은 VOC에 민감하며, VOC가 발생하는 생산공정 구역에 잔류하는 VOC의 농도가 높고 VOC가 기류를 통해 ODF 구역으로 확산되는 경우, 제품이 심각한 영향을 받는다.

Array Photo 구역, CF Photo 구역 및 PI 구역(이하 VOC 발생 구역)을 포함하는 VOC 오염원 구역에서 VOC의 농도를 줄이기 위해 현재 효과적인 조치로서 VOC 오염원은 VOC의 대규모 확산을 차단하기 위해 독립적인 환기 구역(실)으로 별도로 설정된다. 제올라이트 러너 유닛을 한 클린룸의 하부 기술 중간층에 배치하여 공기중의 VOC를 연속적으로 흡착 재생하는 제거공법을 채택하고, 농축 및 탈착된 VOC를 루프 메인 유기폐가스 처리 시스템으로 배출한다. 현재 제올라이트 러너 유닛의 VOC 처리 효율은 95%에 도달할 수 있지만 이러한 공정 구역의 클린룸에는 여전히 일부 VOC가 남아 있다.

그러나, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, VOC 민감 구역의 청정도 요구가 VOC 발생 구역의 청정도보다 낮으면 청정도가 높은 방은 청정도가 낮은 방에 비해 5Pa 이상의 양압차를 유지해야 한다. 이와 같이, 기류는 VOC 발생 구역에서 VOC 민감 구역으로 편향되어 VOC가 인접한 VOC 민감 구역으로 확산되고 생산 환경 및 제품 수율에 영향을 미친다.

본 발명은 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸을 제공하여 오염원이 있는 생산 구역에서 생성된 오염 물질이 오염원이 없는 생산 구역으로 유입되는 상황을 감소 또는 방지할 수 있고 오염원이 없는 생산 구역의 제품 수율을 향상시킨다.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸을 제공한다. 상기 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸은 상부 기술 중간층, 하부 기술 중간층 및 상부 기술 중간층과 하부 기술 중간층 사이에 위치한 청정 생산 구역을 포함하고; 상기 청정 생산 구역의 양측은 상기 상부 기술 중간층과 하부 기술 중간층을 연결하기 위한 기술 레인을 형성하도록 구성되고, 압력 조절 장치 어셈블리가 더 포함되고, 상기 상부 기술 중간층, 하부 기술 중간층 및 청정 생산 구역에는 모두 내부적으로 칸막이 벽이 구비되며, 상기 청정 생산 구역 내의 칸막이 벽은 상기 청정 생산 구역을 오염원 생산 구역과 오염원이 없는 생산 구역으로 분할하도록 구성되며, 상기 상부 기술 중간층 내의 칸막이 벽은 상기 상부 기술 중간층을 오염원 상부 기술 중간층과 오염원이 없는 상부 기술 중간층으로 분할하도록 구성되며, 상기 하부 기술 중간층 내의 칸막이 벽은 상기 하부 기술 중간층을 오염원 하부 기술 중간층과 오염원이 없는 하부 기술 중간층으로 분할하도록 구성되며,

상기 상부 기술 중간층의 칸막이 벽은 이중층으로 되어 상부 기술 중간층에 이중 외피 레인을 형성하고, 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 조절하여 클린룸의 정상적인 생산 중에 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압이 오염원이 있는 인접한 상부 기술 중간층과 오염원이 없는 인접한 상부 기술 중간층 내의 기압보다 높도록 하고；

및/또는,

상기 하부 기술 중간층에 구비된 칸막이 벽은 이중층으로 되어 하부 기술 중간층의 이중 외피 레인을 형성하고, 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 조절하여 클린룸의 정상적인 생산 중에 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압이 오염원이 있는 인접한 하부 기술 중간층과 오염원이 없는 인접한 하부 기술 중간층 내의 기압보다 높도록 하고, 또는 클린룸의 정상적인 생산 중에 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압이 오염원이 있는 인접한 하부 기술 중간층과 오염원이 없는 인접한 하부 기술 중간층 내의 기압보다 낮도록 한다.

본 발명에 따른 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸에서, 상부 기술 중간층에 상부 기술 중간층 이중 외피 레인이 구비되며, 및/또는， 하부 기술 중간층에 하부 기술 중간층 이중 외피 레인이 구비되며, 상부 기술 중간층에 상부 기술 중간층 이중 외피 레인이 구비되는 경우, 압력 조절 장치 어셈블리은 상부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 조절하여 상부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압이 오염원 상부 기술 중간층와 오염원이 없는 상부 기술 중간층 내의 기압보다 높도록 한다. 따라서, 상부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기체는 오염원 상부 기술 중간층과 오염원이 없는 상부 기술 중간층으로 확산 또는 확산되는 경향이 있어 오염원이 있는 상부 기술 중간층 내의 오염원이 있는 기체는 상부 기술 중간층 이중 외피 레인을 통해 오염원이 없는 상부 기술 중간층에 들어갈 수 없으므로 오염원이 있는 기체가 오염원이 없는 상부 기술 중간층에서 오염원이 없는 생산 구역으로 유입하는 것을 방지한다.

하부 기술 중간층에 하부 기술 중간층 이중 외피 레인이 구비되는 경우, 압력 조절 장치 어셈블리는 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 조절하여 클린룸이정상적으로 생산하는 경우 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압이 오염원이 있는 인접 하부 기술 중간층과 오염원이 없는 인접 하부 기술 중간층 내의 기압보다 높도록 한다. 따라서 대기압의 작용하에 오염원이 있는 하부 기술 중간층과 오염원이 없는 하부 기술 중간층 내의 기체는 하부 기술 중간층 이중 외피 레인에 유입할 수 없으며 오염원이 하부 기술 중간층 이중 외피 레인에서 오염원이 없는 하부 기술 중간층에 유입할 수 없으며오염원이 있는 기체가 오염원이 없는 하부 기술 중간층에서 기술 레인을 통해 오염원이 없는 상부 기술 중간층에 유입하여 오염원이 없는 생산 구역으로 유입하는 것을 방지하고, 또는 클린룸의 정상적인 생산 중에 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압이 오염원이 있는 인접한 하부 기술 중간층과 오염원이 없는 인접한 하부 기술 중간층 내의 기압보다 낮도록 한다. 이와 같이 오염원이 있는 하부 기술 중간층과 오염원이 없는 하부 기술 중간층 내의 기체는 하부 기술 중간층 이중 외피 레인으로 이동하거나 하부 기술 중간층 이중 외피 레인으로 이동하는 경향이 있다. 오염원이 있는 기술 중간층 내의 오염원이 있는 기체가 오염원이 없는 기술 중간층으로 들어갈 수 없도록 한다.

따라서, 선행기술과 비교하여, 본 발명의 클린룸에서 상부 기술 중간층에 상부 기술 중간층 이중 외피 레인이 형상되며， 압력 조절 장치 어셈블리를 통해 상부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 종절하고; 및/또는 하부 기술 중간층에 하부 기술 중간층 이중 외피 레인이 형상되며， 압력 조절 장치 어셈블리를 통해 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압함으로써 오염원이 있는 상부 기술 중간층 및/또는오염원이 있는 하부 기술 중간층 내의 오염원이 있는 기체가 오염원이 없는 상부 기술 중간층 및/또는오염원이 없는 하부 기술 중간층에 들어갈 수 없으므로, 오염원이 없는 생산 구역에서 제품의 수율을 향상시킨다.

바람직하게는, 상기 청정 생산 구역에 구비된 칸막이 벽은 이중층으로 되어 청정 생산 구역의 이중 외피 레인을 형성하고, 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상기 생산 구역의 이중 외피 레인의 기압을 조절하여 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인의 기압이 상기 오염원이 있는 생산 구역과 오염원이 없는 생산 구역의 기압보다 높도록한다.

바람직하게는, 상기 하부 기술 중간층에 구비된 칸막이 벽이 이중층으로 되어 하부 기술 중간층 이중 외피 레인을 형성하는 경우, 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인은 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인과 연통하고 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인으로부터 격리되며, 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인과 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 동시에 조절하도록 구성된 제1 압력 조절 장치 및 상부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 조절하도록 구성된 제2 압력 조절 장치를 포함한다.

바람직하게는, 상기 제1 압력 조절 장치는 외부 공기 유닛과 협력하여 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인과 청정 생산 구역의 이중 외피 레인에 깨끗한 공기를 공급하도록 구성된 제1 공기 공급 장치를 포함하고；

상기 제2 압력 조절 장치는 외부 공기 유닛과 협력하여 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인에 깨끗한 공기를 공급하도록 구성된 제2 공기 공급 장치를 포함한다.

바람직하게는, 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인 또는 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인에 제1 차압센서가 구비되며, 상기 제1 공기 공급 장치의 공기배출관에 상기 제1 차압센서에서 검출된 차값에 따라 개도를 조절하는 제1 조절 밸브가 구비되고,

상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인에 제2 차압센서가 구비되며, 상기 제2 공기 공급 장치의 공기배출관에 상기 제2 차압센서에서 검출된 차값에 따라 개도를 조절하는 제2 조절 밸브가 구비된다.

바람직하게는, 상기 하부 기술 중간층에 구비된 칸막이 벽이 이중층으로 되어 하부 기술 중간층 이중 외피 레인을 형성하는 경우, 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인은 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인과 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인으로부터 격리되며, 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 조절하기 위한 제1 압력 조절 장치, 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인의 기압을 조절하기 위한 제2 압력 조절 장치 및 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 조절하기 위한 제3 압력 조절 장치를 포함한다.

바람직하게는, 상기 제1 압력 조절 장치는 외부 공기 유닛과 협력하여 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인에 깨끗한 공기를 공급하도록 구성된 제1 공기 공급 장치를 포함하고；

상기 제2 압력 조절 장치는 외부 공기 유닛과 협력하여 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인에 깨끗한 공기를 공급하도록 구성된 제2 공기 공급 장치를 포함하고；

상기 제3 압력 조절 장치는 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인에서 기체를 배출하도록 구성된 제1 공기 배출 장치를 포함한다.

바람직하게는, 오염원 수집 벨로우즈와 오염원 수집 벨로우즈와 연통하는 제올라이트 러너 유닛이 더 포함되며；

상기 오염원 수집 벨로우즈는 상기 오염원이 있는 생산 구역에서 생성된 오염원을 수집하고, 수집된 오염원을 상기 제올라이트 러너 유닛으로 유입시키도록 구성된다.

바람직하게는, 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인、상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인과 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인의 폭은 600mm 이상이다.

도 1은 종래 기술에 따른 클린룸의 내부 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 종래 기술의 클린룸에서 오염원이 있는 구역의 기압이 오염원이 없는 구역의 기압보다 높을 때 기류 편향의 개략적인 구조도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 청정 생산 구역의 하부 기술 중간층 이중 외피 레인과 연통할 때의 기류 편향의 개략적인 구조도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 클린룸 청정 생산 구역의 이중 외피 레인이 하부 기술 중간층 이중 외피 레인및 상부 기술 이중 외피 레인과 분할된 경우 기류 편향의 개략적인 구조도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 클린룸에 청정 생산 구역의 이중 외피 레인이 없는 경우의 제1 기류 편향의 개략적인 구조도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 클린룸에 청정 생산 구역의 이중 외피 레인이 없는 경우의 제2 기류 편향의 개략적인 구조도이다.

본 발명의 실시예의 기술적 솔루션은 본 발명의 실시예의 첨부된 도면을 참조하여 명확하고 완전하게 설명될 것이다. 분명한 것은, 설명된 실시예는 본 개시의 실시예의 전부가 아니라 일부일 뿐이다. 본 개시의 실시예에 기초하여, 임의의 독창적인 노력을 수반하지 않고 당업자에 의해 달성될 수 있는 다른 모든 실시예는 본 개시의 보호 범위 내에 있다.

도 5 및 도6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예는 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸을 제공한다. 상부 기술 중간층, 하부 기술 중간층 및 상부 기술 중간층과 하부 기술 중간층 사이에 위치한 청정 생산 구역을 포함하고; 상기 청정 생산 구역의 양측은 상기 상부 기술 중간층과 하부 기술 중간층을 연결하기 위한 기술 레인을 형성하도록 구성되고, 압력 조절 장치 어셈블리가 더 포함되고, 상기 상부 기술 중간층, 하부 기술 중간층 및 청정 생산 구역에는 모두 내부적으로 칸막이 벽이 구비되며, 상기 청정 생산 구역 내의 칸막이 벽은 상기 청정 생산 구역은 오염원이 있는 생산 구역(3) 과 오염원이 없는 생산 구역(4)으로 분할하도록 구성된다. 상기 상부 기술 중간층 내의 칸막이 벽은 상기 상부 기술 중간층을 오염원이 있는 상부 기술 중간층(1)과 오염원이 없는 상부 기술 중간층(2)으로 분할하도록 구성된다. 상기 하부 기술 중간층 내의 칸막이 벽은 상기 하부 기술 중간층을 오염원이 있는 하부 기술 중간층(5)과 오염원이 없는 하부 기술 중간층(6)으로 분할하도록 구성된다.

상기 상부 기술 중간층에 구비된 칸막이 벽은 이중층으로 되어 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9) 을 형성한다. 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)의 기압을 조절하 클린룸이정상적으로 생산하는 경우 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)의 기압이 오염원이 있는 인접 상부 기술 중간층(1)과 오염원이 없는 인접 상부 기술 중간층(2)의 기압보다 높도록 한다.

및/또는；

상기 하부 기술 중간층에 구비된 칸막이 벽은 이중층으로 되어 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)을 형성하고, 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 기압을 조절하여 클린룸이정상적으로 생산하는 경우 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 기압이 오염원이 있는 인접 하부 기술 중간층(5)과 오염원이 없는 인접 하부 기술 중간층(6)의 기압보다 높도록 한다. 또는 클린룸이정상적으로 생산하는 경우 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 기압이 오염원이 있는 인접 하부 기술 중간층(5)과 오염원이 없는 인접 하부 기술 중간층(6)의 기압보다 낮도록 한다.

본 발명 실시예에 따른 클린룸에서, 상부 기술 중간층에 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)이 구지되며, 및/또는，하부 기술 중간층에 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)이 구비된다. 상부 기술 중간층에 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)이 구비되는 경우 압력 조절 장치 어셈블리는 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)의 기압을 조절하여 클린룸이정상적으로 생산하는 경우 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)의 기압이 오염원이 있는 인접 상부 기술 중간층(1)과 오염원이 없는 인접 상부 기술 중간층(2)의 기압보다 높도록 한다. 따라서 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)의 기체는 오염원이 있는 상부 기술 중간층(1)과 오염원이 없는 상부 기술 중간층(2)으로 확산하는 경향이 있으며 오염원이 있는 상부 기술 중간층(1)의 오염원이 있는 기체가 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)을 통해 오염원이 없는 상부 기술 중간층(2)으로 유입할 수 없으므로 오염원이 오염원이 없는 상부 기술 중간층(2)으로부터 오염원이 없는 생산 구역(4)에 유입하는 것을 방지한다.

하부 기술 중간층에 구비된 칸막이 벽이 이중층으로 되어 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)을 형성한다. 압력 조절 장치 어셈블리는 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 기압을 조절하여 클린룸이정상적으로 생산하는 경우 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 기압이 오염원이 있는 인접 하부 기술 중간층(5)과 오염원이 없는 인접 하부 기술 중간층(6)의 기압보다 높도록 한다. 따라서 대기압의 작용하에 오염원이 있는 하부 기술 중간층(5)과 오염원이 없는 하부 기술 중간층(6)의 기체가 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)에 유입할 수 없으며 오염원이 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)을 통해 오염원이 없는 하부 기술 중간층(6)으로 유입할 수 없게 되어 오염원이 오염원이 없는 하부 기술 중간층(6)으로부터 기술 레인을 통해 오염원이 없는 상부 기술 중간층(2)에 유입하여 오염원이 없는 생산 구역(4)으로 유입하는 것을 방지한다. 또는 클린룸이정상적으로 생산하는 경우 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 기압이 오염원이 있는 인접 하부 기술 중간층(5)과 오염원이 없는 인접 하부 기술 중간층(6)의 기압보다 낮도록 한다. 이와 같이, 오염원이 있는 하부 기술 중간층(5)와 오염원이 없는 하부 기술 중간층(6)의 기체가 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11) 로 이동하거나 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11) 로 이동하는 경향이 있다. 오염원이 있는 기술 중간층 내의 오염원이 있는 기체는 오염원이 없는 기술 중간층에 들어갈 수 없도록 한다.

따라서, 선행기술과 비교하여, 본 실시예에 따른 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸에서는 상부 기술 중간층에 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)이 형성되고 압력 조절 장치 어셈블리를 통해 상부 기술 중간층 이중 외피 레인 의 기압을 조절하고; 및/또는 하부 기술 중간층에 하부 기술 중간층 이중 외피 레인이 형성되고 압력 조절 장치 어셈블리를 통해 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 기압을 조절함으로써 오염원이 있는 상부 기술 중간층(1)및/또는오염원이 있는 하부 기술 중간층(5)의 오염원이 있는 기체가 오염원이 없는 상부 기술 중간층(2) 및/또는 오염원이 없는 하부 기술 중간층(6) 에 들어갈 수 없도록 보장할 수 있으며 오염원이 없는 생산 구역(4)의 제품의 수율을 향상시킨다.

특정 구현에서, 상부 기술 중간층에 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)에 형성되고, 하부 기술 중간층에 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)에 형성되고, 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)의 기압이 오염원이 있는 상부 기술 중간층(1)과 오염원이 없는 상부 기술 중간층(2)의 기압보다 높고, 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 기압이 오염원이 있는 하부 기술 중간층(5)과 오염원이 없는 하부 기술 중간층(6)의 기압보다 높은 경우 각 구역 사이의 압력 차이 값은 오염원이 있는 생산 구역(3)은 +30Pa， 오염원이 있는 하부 기술 중간층(5)은 +25Pa， 오염원이 있는 상부 기술 중간층(1)은 -5Pa， 오염원이 없는 생산 구역(4)은 +25Pa， 오염원이 없는 하부 기술 중간층(6)은 +15Pa， 오염원이 없는 상부 기술 중간층(2)은 -10Pa， 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)은 +5Pa이다.

상부 기술 중간층에 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9) 에 형성되고 하부 기술 중간층에 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11) 에 형성되고 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)의 기압이 오염원이 있는 상부 기술 중간층(1)과 오염원이 없는 상부 기술 중간층(2)의 기압보다 높고 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 기압이 오염원이 있는 하부 기술 중간층(5)과 오염원이 없는 하부 기술 중간층(6)의 기압보다 낮은 경우 각 구역 사이의 압력 차이 값은 오염원이 있는 생산 구역(3)은 +30Pa， 오염원이 있는 하부 기술 중간층(5)은 +25Pa, 오염원이 있는 상부 기술 중간층(1)은 -5Pa， 오염원이 없는 생산 구역(4)은 +25Pa， 오염원이 없는 하부 기술 중간층(6)은 +15Pa， 오염원이 없는 상부 기술 중간층(2)은 -10Pa， 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)은 +5Pa， 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)은 0Pa이다.

선택적으로, 상기 청정 생산 구역에 구비된 칸막이 벽이 이중층으로 되어 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10) 을 형성하는 경우, 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상기 생산 구역의 이중 외피 레인의 기압을 조절하여 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)의 기압이 상기 오염원이 있는 생산 구역(3)과 오염원이 없는 생산 구역(4)의 기압보다 높도록 한다.

본 실시예에서, 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)은 오염원이 있는 생산 구역(3)과 오염원이 없는 생산 구역(4)을 격리하여 완충부를 형성하도록 한다. 또한 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)의 기압은 압력 조절 장치 어셈블리의 조절에 의해 오염원이 있는 인접 생산 구역(3)과 오염원이 없는 인접 생산 구역(4)의 기압보다 크며 기압의 작용 하에 오염원이 있는 생산 구역(3)의 오염원이 있는 기체가 오염원이 없는 생산 구역(4)에 들어갈 수 없도록 한다.

선택적으로, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 하부 기술 중간층에 구비된 칸막이 벽이 이중층으로 되어 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11) 형성할 때 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)은 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)과 연통되여 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)으로부터 격리되며, 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)과 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 기압을 동시 조절하기 위한 제1 압력 조절 장치 및 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)의 기압을 조절하기 위한 제2 압력 조절 장치를 포함한다.

본 실시예에서, 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)은 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)과 연통되어 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)은 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)으로부터 격리되며, 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)과 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)은 제1 압력 조절 장치를 통해 내부 기압을 조절하여 제1 압력 조절 장치의 활용률이 향상되는 반면, 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)은 독립적인 제2 압력 조절 장치를 통해 내부 기압을 조절하여 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)의 기압이 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)의 기압과 상이하도록 한다.

특정 구현에서, 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)이 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)과 연통되는 경우 각 구역 사이의 압력 차이 값은 오염원이 있는 생산 구역(3)은 +30Pa， 오염원이 있는 하부 기술 중간층(5)은 +25Pa， 오염원이 있는 상부 기술 중간층(1)은 -5Pa， 오염원이 없는 생산 구역(4)은 +25Pa， 오염원이 없는 하부 기술 중간층(6)은 +15Pa，오염원이 없는 상부 기술 중간층(2)은 -10Pa， 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)은 +5Pa， 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)과 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)은 +35Pa이다.

선택적으로, 상기 제1 압력 조절 장치는 외부 공기 유닛과 협력하여 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)과 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)에 깨끗한 공기를 공급하도록 구성된 제1 공기 공급 장치를 포함하고,

상기 제2 압력 조절 장치는 외부 공기 유닛과 협력하여 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9) 에 깨끗한 신선한 공기를 공급하기 위한 제2 공기 공급 장치를 포함한다.

본 실시예에서, 제1 공기 공급 장치는 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)과 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)에 공기를 공급함으로써 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 기압이 인접되는 두 구역의 기압보다 높은 것을 보장하고, 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10) 의 기압이 인접되는 두 구역의 기압보다 높은 것을 보장하고, 기압 차이 5 Pa 이상이다. 제2 공기 공급 장치는 상부 기술 중간층 내의 기압을 인접한 두 구역의 기압보다 높게 할 수 있으며 압력 차이는 5 Pa 이상이다.

선택적으로, 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11) 또는 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)에 제1 차압센서가 구비되며 상기 제1 공기 공급 장치의 공기배출관에 상기 제1 차압센서에서 검출된 차값에 따라 개도를 조절하는 제1 조절 밸브가 구비된다.

상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)에 제2 차압센서가 구비되며 상기 제2 공기 공급 장치의 공기배출관에 상기 제2 차압센서에서 검출된 차값에 따라 개도를 조절하는 제2 조절 밸브가 구비된다. 본 실시예에서, 제1 차압센서는 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)과 생산 구역의 이중 외피 레인(10) 외부 사이의 기압 차이 값을 감지할 수 있을 뿐만 아니라 제2 차압센서는 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9) 과 외부 사이의 기압 차이 값을 감지할 수 있으며 컨트롤러가 제1 조절 밸브와 제2 조절 밸브를 개별적으로 제어할 수 있도록 한 다음 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)과 생산 구역의 이중 외피 레인(10)의 공기 흡입량 및 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)의 공기 흡입량을 제어하여 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)와 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 생산 구역의 이중 외피 레인(10)의 기압이 사전 설정 범위 내에 있도록 확보한다.

선택적으로, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 하부 기술 중간층에 구비된 칸막이 벽이 이중층으로 되어 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11) 을 형성하면 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)은 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)과 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)으로부터 격리되며, 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)의 기압을 조절하기 위한 제1 압력 조절 장치, 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)의 기압을 조절하기 위한 제2 압력 조절 장치 및 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 기압을 조절하기 위한 제3 압력 조절 장치를 포함한다.

본 실시예에서, 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)은 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)과 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)과 연통하지 않으므로, 칸막이 벽은 클린룸 내 장치 배치에 따라 결리를 위해 각 중간층의 다른 위치에 배치할 수 있으며 오래된 클린룸의 개조가 용이해진다. 한편 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9), 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10) 및 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11) 내에 제1 압력 조절 장치, 제2 압력 조절 장치 및 제3 압력 조절 장치가 분포되어 있다. 이러한 방식으로 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9), 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10) 및 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11) 이 개별적으로 제어될 수 있으므로, 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9), 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10) 및 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 기압이 미리 결정된 값에 도달할 가능성이 더 높다.

특정 구현에서, 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)이 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)과 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)으로부터 격리되는 경우 각 구역 사이의 압력 차이 값은 오염원이 있는 생산 구역(3)은 +30Pa， 오염원이 있는 하부 기술 중간층(5)은 +25Pa， 오염원이 있는 상부 기술 중간층(1)은 -5Pa， 오염원이 없는 생산 구역(4)은 +25Pa， 오염원이 없는 하부 기술 중간층(6)은 +15Pa， 오염원이 없는 상부 기술 중간층(2)은 -10Pa， 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)은 +5Pa， 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)은 +35Pa， 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)은 +0Pa이다.

선택적으로, 상기 제1 압력 조절 장치는 외부 공기 유닛과 협력하여 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9) 에 깨끗한 신선한 공기를 공급하기 위한 제1 공기 공급 장치를 포함한다.

상기 제2 압력 조절 장치는 외부 공기 유닛과 협력하여 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10) 에 깨끗한 신선한 공기를 공급하기 위한 제2 공기 공급 장치를 포함한다.

상기 제3 압력 조절 장치는 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11) 에서 기체를 배출하도록 구성된 제1 공기 배출 장치를 포함한다.

여기서, 제1 공기 공급 장치와 제2 공기 공급 장치는 각각 하나의 외부 공기 유닛과 별도로 연결될 수 있으며, 두 외부 공기 유닛 각각은 제1 공기 공급 장치와 제2 공기 공급 장치에 신선한 공기를 제공하는데 이용된다. 또는, 제1 공기 공급 장치와 제2 공기 공급 장치는 하나의 외부 공기 유닛과 연결될 수 있고, 외부 공기 유닛은 적어도 2개의 분기 파이프와 연결되고, 제1 공기 공급 장치와 제2 공기 공급 장치 각각은 분기 파이프에 연결되며 분기 파이프를 통해 제1 공기 공급 장치와 제2 공기 공급 장치에 신선한 공기를 공급한다.

본 실시예에서, 제1 공기 공급 장치와 제2 공기 공급 장치는 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)과 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10) 에 깨끗한 신선한 공기를 제공하고, 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9)의 기압이 오염원이 있는 상부 기술 중간층(1)과 오염원이 없는 상부 기술 중간층(2)의 기압이 5Pa보다 낮지 않도록 하며 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)의 기압이 오염원이 있는 생산 구역(3)과 오염원이 없는 생산 구역(4)의 기압보다 높으며 5Pa이상이다. 제3 압력 조절 장치는 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 기압을 0Pa로 조절하여 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11)의 기압이 오염원이 있는 하부 기술 중간층(5)과 오염원이 없는 하부 기술 중간층(6)의 기압보다 낮도록 한다. 오염원이 있는 생산 구역(3)에서 생성된 오염원이 있는 기체가 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)을 통해 오염원이 없는 생산 구역(4) 로 유입되지 않으며 오염원이 있는 하부 기술 중간층(5) 및/또는 오염원이 있는 상부 기술 중간층(1)을 통해 오염원이 없는 하부 기술 중간층(6) 및/또는 오염원이 없는 상부 기술 중간층(2) 에도 유입되지 않도록 한다.

선택적으로, 오염원 수집 벨로우즈(7) 및 오염원 수집 벨로우즈(7) 와 연통하는 제올라이트 러너 유닛(8)을 더 포함한다.

상기 오염원 수집 벨로우즈(7) 는 상기 오염원이 있는 생산 구역(3) 에서 생성된 오염원을 수집하고 수집된 오염원이 상기 제올라이트 러너 유닛(8)으로 유입도록 구성된다.

본 실시예에서, 오염원 수집 벨로우즈(7)은 오염원이 있는 생산 구역(3) 에서 생성된 오염원이 있는 기체을 수집하고 수집된 기체를 제올라이트 러너 유닛(8)으로 유입시켜 제올라이트 러너 유닛(8)을 통해 오염원이 있는 기체를 처리하여 오염원이 있는 하부 기술 중간층(5) 내의 오염원 기체양이 감소하고 오염원이 있는 기체가 오염원이 없는 생산 구역(4) 에 들어갈 확률이 감소한다.

선택적으로, 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인(9), 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인(11) 및 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)의 폭은 600mm 이상이다.

본 실시예에서, 신선한 공기가 상부 기술 중간층의 이중 외피 레인(9), 하부 기술 중간층의 이중 외피 레인(11) 및 청정 생산 구역의 이중 외피 레인(10)을 통해 들어가기 때문에, 신선한 공기 확산 속도는 일반적으로 3-4 m/s이고, 각 이중 외피 레인에서 신선한 공기를 확산시키는 효과가 비교적 양호하고 각 이중 외피 레인의 각 부분의 기압은 비교적 균일하게 하기 위해 더욱 바람직하게는 각 이중 외피 레인의 폭은 600mm이다.

상기 설명은 단지 본 발명의 예시적인 실시예를 포함하며, 본 발명을 제한하도록 의도되지 않는다. 본 발명의 사상과 원칙 내에서 수정, 동등한 교체, 개선 등은 본 발명의 보호 범위에 포함되어야 한다.

Claims

기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸으로서,
상부 기술 중간층, 하부 기술 중간층 및 상부 기술 중간층과 하부 기술 중간층 사이에 위치한 청정 생산 구역을 포함하고; 상기 청정 생산 구역의 양측은 상기 상부 기술 중간층과 하부 기술 중간층을 연결하기 위한 기술 레인을 형성하도록 구성되고,
압력 조절 장치 어셈블리가 더 포함되고, 상기 상부 기술 중간층, 하부 기술 중간층 및 청정 생산 구역에는 모두 내부적으로 칸막이 벽이 구비되며, 상기 청정 생산 구역 내의 칸막이 벽은 상기 청정 생산 구역을 오염원 생산 구역과 오염원이 없는 생산 구역으로 분할하도록 구성되며, 상기 상부 기술 중간층 내의 칸막이 벽은 상기 상부 기술 중간층을 오염원 상부 기술 중간층과 오염원이 없는 상부 기술 중간층으로 분할하도록 구성되며, 상기 하부 기술 중간층 내의 칸막이 벽은 상기 하부 기술 중간층을 오염원 하부 기술 중간층과 오염원이 없는 하부 기술 중간층으로 분할하도록 구성되며,
상기 상부 기술 중간층의 칸막이 벽은 이중층으로 되어 상부 기술 중간층에 이중 외피 레인을 형성하고, 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 조절하여 클린룸의 정상적인 생산 중에 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압이 오염원이 있는 인접한 상부 기술 중간층과 오염원이 없는 인접한 상부 기술 중간층 내의 기압보다 높도록 하고；
및/또는；
상기 하부 기술 중간층에 구비된 칸막이 벽은 이중층으로 되어 하부 기술 중간층의 이중 외피 레인을 형성하고, 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 조절하여 클린룸의 정상적인 생산 중에 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압이 오염원이 있는 인접한 하부 기술 중간층과 오염원이 없는 인접한 하부 기술 중간층 내의 기압보다 높도록 하고또는 클린룸의 정상적인 생산 중에 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압이 오염원이 있는 인접한 하부 기술 중간층과 오염원이 없는 인접한 하부 기술 중간층 내의 기압보다 낮도록 하는 것을
특징으로 하는 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸.
제1항에 있어서,
상기 청정 생산 구역에 구비된 칸막이 벽은 이중층으로 되어 청정 생산 구역의 이중 외피 레인을 형성하고, 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상기 생산 구역의 이중 외피 레인의 기압을 조절하여 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인의 기압이 상기 오염원이 있는 생산 구역과 오염원이 없는 생산 구역의 기압보다 높도록 하는 것을
특징으로 하는 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸.
제2항에 있어서,
상기 하부 기술 중간층에 구비된 칸막이 벽이 이중층으로 되어 하부 기술 중간층 이중 외피 레인을 형성하는 경우, 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인은 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인과 연통하고 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인으로부터 격리되며, 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인과 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 동시에 조절하도록 구성된 제1 압력 조절 장치 및 상부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 조절하도록 구성된 제2 압력 조절 장치를 포함하는 것을
특징으로 하는 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸.
제3항에 있어서,
상기 제1 압력 조절 장치는 외부 공기 유닛과 협력하여 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인과 청정 생산 구역의 이중 외피 레인에 깨끗한 공기를 공급하도록 구성된 제1 공기 공급 장치를 포함하고；
상기 제2 압력 조절 장치는 외부 공기 유닛과 협력하여 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인에 깨끗한 공기를 공급하도록 구성된 제2 공기 공급 장치를 포함하는 것을
특징으로 하는 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸.
제4항에 있어서,
상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인 또는 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인에 제1 차압센서가 구비되며, 상기 제1 공기 공급 장치의 공기배출관에 상기 제1 차압센서에서 검출된 차값에 따라 개도를 조절하는 제1 조절 밸브가 구비되고；
상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인에 제2 차압센서가 구비되며, 상기 제2 공기 공급 장치의 공기배출관에 상기 제2 차압센서에서 검출된 차값에 따라 개도를 조절하는 제2 조절 밸브가 구비되는 것을
특징으로 하는 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸.
제2항에 있어서,
상기 하부 기술 중간층에 구비된 칸막이 벽이 이중층으로 되어 하부 기술 중간층 이중 외피 레인을 형성하는 경우, 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인은 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인과 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인으로부터 격리되며, 상기 압력 조절 장치 어셈블리는 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 조절하기 위한 제1 압력 조절 장치, 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인의 기압을 조절하기 위한 제2 압력 조절 장치 및 하부 기술 중간층 이중 외피 레인의 기압을 조절하기 위한 제3 압력 조절 장치를 포함하는 것을
특징으로 하는 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸.
제6항에 있어서,
상기 제1 압력 조절 장치는 외부 공기 유닛과 협력하여 상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인에 깨끗한 공기를 공급하도록 구성된 제1 공기 공급 장치를 포함하고；
상기 제2 압력 조절 장치는 외부 공기 유닛과 협력하여 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인에 깨끗한 공기를 공급하도록 구성된 제2 공기 공급 장치를 포함하고；
상기 제3 압력 조절 장치는 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인에서 기체를 배출하도록 구성된 제1 공기 배출 장치를 포함하는 것을
특징으로 하는 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸.
제2항에 있어서,
오염원 수집 벨로우즈와 오염원 수집 벨로우즈와 연통하는 제올라이트 러너 유닛이 더 포함되며；
상기 오염원 수집 벨로우즈는 상기 오염원이 있는 생산 구역에서 생성된 오염원을 수집하고, 수집된 오염원을 상기 제올라이트 러너 유닛으로 유입시키도록 구성되는 것을
특징으로 하는 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸.
제2항에 있어서,
상기 상부 기술 중간층 이중 외피 레인, 상기 하부 기술 중간층 이중 외피 레인과 상기 청정 생산 구역의 이중 외피 레인의 폭은 600mm 이상인 것을
특징으로 하는 기체 분자 오염 물질 확산을 억제하기 위한 클린룸.