KR20220031711A - 광학 적층체 - Google Patents

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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

[과제] 광학식 지문 인증 시스템이 편입되고, 파장 430∼490 ㎚의 범위 내에 발광 피크를 갖는 화상 표시 소자의 시인측에 접합한 경우라도, 광학식 지문 인증 시스템이 충분히 기능할 수 있는 광학 적층체를 제공하는 것.
[해결 수단] 광학식 지문 인증 시스템이 편입되고, 파장 430∼490 ㎚에 발광 피크를 갖는 화상 표시 소자의 시인측에 접합하여 이용되는 광학 적층체로서, 편광자와 투명 보호 필름이 적층되어 이루어지고, 파장 430∼490 ㎚에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(430-490)가 38.5% 이하이며, 파장 500∼580 ㎚에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(500-580)가 48% 이하이고, 파장 590∼680 ㎚에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(590∼680)가 48% 이하이며, 평균 광선 투과율 Ta(430-490)가 15.2% 이상인 광학 적층체.

Description

광학 적층체
본 발명은 광학 적층체에 관한 것이며, 나아가서는, 광학 적층체와, 광학식 지문 인증 시스템이 편입된 화상 표시 소자를 구비하는 화상 표시 장치에도 관한 것이다.
종래, 지문 인증 장치로서, 광원과 이미지 센서를 갖는 광학식 지문 인증 장치가 제안되어 있다(특허문헌 1). 또한, 광학식 지문 인증 시스템이 내장된 평면 표시 장치도 제안되어 있다(특허문헌 2).
특허문헌 1: 국제 공개 제2017/098758호 특허문헌 2: 일본 특허 공개 제2018-97871호 공보
본 발명의 목적은, 광학식 지문 인증 시스템이 편입된 화상 표시 소자로서, 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하의 범위 내에 발광 피크를 갖는 화상 표시 소자의 시인측에 접합한 경우라도, 광학식 지문 인증 시스템이 그 기능을 충분히 발휘할 수 있는 광학 적층체, 및 화상 표시 장치를 제공하는 것이다.
본 발명은 이하의 광학 적층체 및 화상 표시 장치를 제공한다.
[1] 광학식 지문 인증 시스템이 편입된 화상 표시 소자로서, 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 발광 피크를 갖는 화상 표시 소자의 시인측에 접합하여 이용되는 광학 적층체로서,
편광자와 투명 보호 필름이 적층되어 이루어지고,
파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(430-490)가 38.5% 이하이며,
파장 500 ㎚ 이상 580 ㎚ 이하에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(500-580)가 48% 이하이고,
파장 590 ㎚ 이상 680 ㎚ 이하에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(590∼680)가 48% 이하이며,
상기 평균 광선 투과율 Ta(430-490)가 15.2% 이상인, 광학 적층체.
[2] 확산 점착제층을 더 구비하는, [1]에 기재된 광학 적층체.
[3] 상기 투명 보호 필름의 최외면이 외부로 노출되어 있고, 상기 최외면의 표면 경도가 5 H 이상인, [1] 또는 [2]에 기재된 광학 적층체.
[4] 상기 투명 보호 필름의 최외면이 외부로 노출되어 있고, 상기 최외면에 방오(防汚) 처리가 실시되어 있는, [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.
[5] [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체와, 전면판을 구비하는 전면판 부착 광학 적층체.
[6] [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체와, 터치 패널을 구비하는 터치 패널 부착 광학 적층체.
[7] 광학식 지문 인증 시스템이 편입되고, 및 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 발광 피크를 갖는 화상 표시 소자와,
상기 화상 표시 소자의 시인측에 접합된 [1]∼[4] 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체, [5]에 기재된 전면판 부착 광학 적층체 또는 [6]에 기재된 터치 패널 부착 광학 적층체
를 구비하는 화상 표시 장치.
본 발명에 의하면, 광학식 지문 인증 시스템이 편입되고, 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하의 범위 내에 발광 피크를 갖는 화상 표시 소자의 시인측에 접합한 경우라도, 광학식 지문 인증 시스템이 그 기능을 충분히 발휘할 수 있는 광학 적층체, 및 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 양태에 따른 적층체를 도시한 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 양태에 따른 적층체를 도시한 개략 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 양태에 따른 화상 표시 장치를 도시한 개략 단면도이다.
이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시형태를 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것이 아니다. 이하의 모든 도면에 있어서는, 각 구성 요소를 이해하기 쉽게 하기 위해서 축척을 적절히 조정하여 도시하고 있고, 도면에 도시된 각 구성 요소의 축척과 실제의 구성 요소의 축척은 반드시 일치하지 않는다.
<광학 적층체>
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 의한 광학 적층체의 개략 단면도이다. 도 1에 도시된 광학 적층체(100)는, 투명 보호 필름(10)과, 편광자(20)를 구비한다.
광학 적층체(100)는, 광학식 지문 인증 시스템이 편입되고, 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 발광 피크를 갖는 화상 표시 소자의 시인측에 접합하여 이용된다.
화상 표시 소자로서는 특별히 한정되지 않고, 예컨대 유기 일렉트로루미네선스(유기 EL) 표시 소자, 무기 일렉트로루미네선스(무기 EL) 표시 소자, 액정 표시 소자 등을 들 수 있다.
화상 표시 소자에 편입되는 광학식 지문 인증 시스템은, 종래 공지된 것을 사용할 수 있고, 예컨대 이미지 센서를 구비하는 광학식 지문 인증 시스템을 이용할 수 있다.
이러한 광학식 지문 인증 시스템에서는, 광원으로부터 인간의 손가락에 조사된 광이 지문의 요철에 의해 반사되고, 그 반사된 광을 이미지 센서가 감지함으로써 지문 인증이 행해진다. 광원은, 화상 표시 소자 자체여도 좋고, 광학식 지문 인증 시스템 및/또는 화상 표시 소자가 구비하는 것이어도 좋다. 광학식 지문 인증 시스템 및 화상 표시 소자가 구비하는 광원으로서는, 예컨대 냉음극관, LED, 유기 EL 광원, 무기 EL 광원 등을 들 수 있다. 광원은, 이미지 센서가 판독하는 광의 파장의 관점에서는 바람직하게는 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 발광 피크를 갖는 광원이고, 보다 바람직하게는 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 발광 피크를 갖는 유기 EL 화상 표시 소자 및 유기 EL 광원이다.
광학식 지문 인증 시스템이 편입된 화상 표시 소자는, 화상 표시 영역에서 지문의 이미지를 감지하는 것이어도 좋다. 예컨대 사용자가 화상 표시 장치의 화면에 접촉하면, 화상 표시 장치에 구비된 광원이 사용자의 손가락에 광을 조사하고, 조사된 광이 지문의 요철에 의해 반사되며, 화상 표시 소자의 표시 패널 아래에 매립된 이미지 센서가 반사된 광을 포착하여, 사용자의 지문이 인식될 수 있다. 이러한 화상 표시 소자는 터치 패널을 갖는 것이 바람직하다.
광학식 지문 인증 시스템이 편입된 화상 표시 소자는, 발광 피크가 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 존재한다. 광학식 지문 인증 시스템이 편입된 화상 표시 소자는, 바람직하게는 발광 피크가 파장 460 ㎚ 부근, 구체적으로는 455 ㎚∼465 ㎚에 존재하고, 보다 바람직하게는 발광 피크가 파장 460 ㎚에 존재한다. 화상 표시 소자는, 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 존재하는 발광 피크가 파장 380 ㎚ 이상 780 ㎚ 이하에 있어서의 최대 발광 피크여도 좋다. 광학식 지문 인증 시스템에 구비되는 이미지 센서는 예컨대, 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하의 광을 검출하는 이미지 센서여도 좋다.
화상 표시 소자는, 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하의 범위에 발광 피크를 갖고, 다른 파장 범위에 발광 피크를 갖고 있어도 좋다.
종래부터, 화상 표시 소자의 전면측(시인측)에는 통상, 직선 편광판이 접합된다. 일반적으로, 화상 표시 소자가 액정 표시 소자인 경우, 화상 표시 소자의 시인측에 편광자 또는 직선 편광판이 배치된다. 또한, 화상 표시 소자가 유기 EL 화상 표시 소자인 경우, 화상 표시 소자의 시인측에 원편광판이 배치된다. 이들의 경우, 직선 편광판 및 원편광판의 시인측에는, 외부로부터 보호하기 위해서, 점착제층을 통해 투명 보호 필름이 적층되는 경우가 있다. 그러나, 이러한 광학 적층체가 시인측에 접합되는 경우, 광학식 지문 인증 시스템이 기능하지 않게 되는 경우가 있었다. 이것에 대해 본 발명자가 연구를 행한 결과, 직선 편광판 또는 원편광판과 투명 보호 필름을 접합시킨 광학 적층체는, 가시광의 대략 전역(약 430 ㎚∼680 ㎚의 파장의 범위)에 걸쳐 광선 투과율이 비교적 낮은 경향이 있는 것을 알 수 있었다. 광원으로부터 조사된 광은 투명 보호 필름에 흡수되고, 그 후, 지문의 요철에서 반사된 광도 또한 투명 보호 필름에 흡수되며, 결과, 광학식 지문 인증 시스템에 구비되는 이미지 센서에 광이 충분히 도달하지 않아, 지문 인증 기능을 발휘할 수 없는 것이 밝혀졌다. 연구 결과, 광학 적층체의 화상 표시 소자의 발광 피크가 존재하는 파장 영역에 있어서의 평균 광선 투과율이 특정값 이상임으로써, 편광자와 투명 보호 필름을 구비하는 광학 적층체를 광학식 지문 인증 시스템이 편입된 화상 표시 소자의 시인측에 접합하여 이용한 경우에도, 지문 인증 기능이 발휘되는 것이 발견되었다.
광학 적층체(100)는, 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(430-490)[이하, 생략하여 평균 광선 투과율 Ta(430-490)라고도 한다]가 15.2% 이상이다. 평균 광선 투과율 Ta(430-490)가 15.2% 이상임으로써, 광학 적층체(100)를, 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 발광 피크를 갖는, 광학식 지문 인증 시스템이 편입된 화상 표시 소자에 접합한 경우에도, 지문으로부터의 반사광이 광학식 지문 인증 시스템에 의해 충분히 검지되어, 지문 인증 기능이 충분히 발휘되게 된다. 평균 광선 투과율 Ta(430-490)는, 지문으로부터의 반사광이 광학식 지문 인증 시스템에 의해 충분히 검지되기 쉬워지는 관점에서 바람직하게는 16% 이상, 보다 바람직하게는 16.5% 이상, 더욱 바람직하게는 17.0% 이상, 특히 바람직하게는 17.5% 이상이다. 본 명세서에 있어서, 광선 투과율은 분광 투과율을 말하고, 특정 파장 영역에서의 평균 광선 투과율은, 그 특정 파장 영역에 있어서의 분광 투과율의 평균값이다. 광선 투과율은, 후술하는 실시예의 난에 있어서 설명하는 방법에 따라 측정된다.
전술한 바와 같이, 광학 적층체(100)는, 가시광의 대략 전역(약 430 ㎚∼680 ㎚의 파장의 범위)에 걸쳐 광선 투과율이 비교적 낮은 경향이 있다. 광학 적층체(100)는, 평균 광선 투과율 Ta(430-490)가 38.5% 이하이다. 광학 적층체(100)는, 평균 광선 투과율 Ta(430-490)가 예컨대 38% 이하여도 좋고, 37.5% 이하여도 좋으며, 35% 이하여도 좋고, 30% 이하여도 좋다.
광학 적층체(100)는, 파장 500 ㎚ 이상 580 ㎚ 이하에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(500-580)[이하, 생략하여 평균 광선 투과율 Ta(500-580)라고도 한다]가 48% 이하이고, 바람직하게는 45% 이하이며, 더욱 바람직하게는 43% 이하이다. 광학 적층체(100)는, 평균 광선 투과율 Ta(500-580)가 예컨대 40% 이하여도 좋고, 38% 이하여도 좋다. 평균 광선 투과율 Ta(500-580)는 통상 30% 이상이다.
광학 적층체(100)는, 파장 590 ㎚ 이상 680 ㎚ 이하에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(590-680)[이하, 생략하여 평균 광선 투과율 Ta(590-680)라고도 한다]가 48% 이하이고, 바람직하게는 45% 이하이며, 더욱 바람직하게는 43% 이하이다. 광학 적층체(100)는, 평균 광선 투과율 Ta(590-680)가 예컨대 40% 이하여도 좋고, 38% 이하여도 좋다. 평균 광선 투과율 Ta(590-680)는 통상 30% 이상이다.
평균 광선 투과율 Ta(430-490), Ta(500-580) 및 Ta(590-680)를 각각 상기 범위로 하기 위해서는, 투명 보호 필름이나 후술하는 직선 편광판 중의 열가소성 수지 필름의 투과율을 조절하는 방법, 편광자 중의 색소 농도를 조절하는 방법 등을 들 수 있다. 열가소성 수지 필름의 투과율을 조절하는 방법으로서는, 예컨대 열가소성 수지 필름에 색소나 충전제 등을 첨가하는 방법 등을 들 수 있다.
광학 적층체(100)는, 지문으로부터의 반사광이 광학식 지문 인증 시스템에 의해 충분히 검지되기 쉬워지는 관점에서, 화상 표시 소자가 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 갖는 발광 피크 부근의 광선 투과율 Tp(이하, 생략하여 「광선 투과율 Tp」라고도 한다)가 예컨대 15.8% 이상이어도 좋다. 광학 적층체(100)는, 광선 투과율 Tp가 바람직하게는 16% 이상, 보다 바람직하게는 17% 이상이다. 한편, 광학 적층체(100)는, 광선 투과율 Tp가 예컨대 40% 이하여도 좋다. 광선 투과율 Tp는, 바람직하게는 화상 표시 소자가 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 갖는 발광 피크의 광선 투과율을 말한다.
광학 적층체(100)는, 파장 460 ㎚의 광선 투과율이 바람직하게는 15.8% 이상이고, 보다 바람직하게는 16% 이상, 더욱 바람직하게는 17% 이상이다. 한편, 광학 적층체(100)는, 파장 460 ㎚의 광선 투과율이 예컨대 40% 이하여도 좋다.
광학 적층체(100)는, 광선 투과율 Tp가, 파장 380 ㎚ 이상 780 ㎚ 이하에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(380-780)[이하, 생략하여 평균 광선 투과율 Ta(380-780)라고도 한다]보다 낮아도 좋고, 평균 광선 투과율 Ta(380-780)보다 0%를 초과하여 낮아도 좋으며, 5% 이상 낮아도 좋다.
광학 적층체(100)는, 투명 보호 필름(10)의 최외면이 외부로 노출되어 있는 것이 바람직하다. 투명 보호 필름(10)의 최외면이 외부로 노출되어 있는 경우, 광학 적층체(100)의 투명 보호 필름(10)측의 표면 경도는, 예컨대 5 H 이상일 수 있다. 광학 적층체(100)가 이러한 표면 경도를 가짐으로써, 지문 인증에 따라 반복해서 손가락을 문지르는 것에 따르는 표면의 손상을 막아 손상에 의한 광산란을 방지하여, 장기간에 걸쳐 지문 인증을 확실히 기능시킬 수 있다. 또한, 지문 인증 시에 손가락을 접촉시키는 최표면의 표면 경도가 높음으로써, 지문 인증의 감도가 향상되기 쉬운 경향이 있다. 광학 적층체(100)의 투명 보호 필름(10)측의 표면 경도는 바람직하게는 6 H 이상, 보다 바람직하게는 7 H 이상이다.
투명 보호 필름(10)의 최외면이 외부로 노출되어 있는 경우, 투명 보호 필름(10)의 최외면에 방오 처리가 실시되어 있는 것이 바람직하다. 투명 보호 필름(10)의 노출된 최외면에 방오 처리가 실시되어 있음으로써, 반복해서 손가락을 문지르는 것에 따르는 오염을 막아, 오염에 의한 광산란을 방지하여, 장기간에 걸쳐 지문 인증을 확실히 기능시킬 수 있다.
광학 적층체(100)의 평면에서 본 형상은, 예컨대 사각형 형상이어도 좋고, 바람직하게는 장변과 단변을 갖는 사각형 형상이며, 보다 바람직하게는 직사각형이다. 광학 적층체(100)의 평면에서 본 형상이 직사각형인 경우, 장변의 길이는, 예컨대 10 ㎜ 이상 1400 ㎜ 이하여도 좋고, 바람직하게는 50 ㎜ 이상 600 ㎜ 이하이다. 단변의 길이는, 예컨대 5 ㎜ 이상 800 ㎜ 이하이고, 바람직하게는 30 ㎜ 이상 500 ㎜ 이하이며, 보다 바람직하게는 50 ㎜ 이상 300 ㎜ 이하이다. 광학 적층체(100)를 구성하는 각 층은, 모서리부가 R 가공되거나, 단부가 절결 가공되거나, 구멍 뚫기 가공되거나 하고 있어도 좋다.
광학 적층체(100)의 두께는, 광학 적층체에 요구되는 기능 및 적층체의 용도 등에 따라 상이하기 때문에 특별히 한정되지 않으나, 예컨대 20 ㎛ 이상 500 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 30 ㎛ 이상 300 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 40 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하이다.
(투명 보호 필름)
투명 보호 필름(10)은, 편광자(20) 또는 후술하는 직선 편광판의 손상 방지의 기능을 갖고, 광을 투과 가능한 수지 필름일 수 있다. 광학 적층체(100)에 있어서, 투명 보호 필름(10)은, 최외면이 외부로 노출되도록 적층되는 것이 바람직하다. 광학 적층체(100)가 화상 표시 장치에 이용되는 경우, 투명 보호 필름(10)은 통상, 화상 표시 장치의 시인측에 노출되도록 이용된다.
투명 보호 필름(10)으로서는, 예컨대 광을 투과 가능한 수지 필름일 수 있다. 광을 투과 가능이란, 파장 380 ㎚ 이상 780 ㎚ 이하의 평균 광선 투과율이 20% 이상이 되는 특성을 말한다. 투명 보호 필름(10)은, 파장 380 ㎚ 이상 780 ㎚ 이하의 평균 광선 투과율이 바람직하게는 30% 이상, 보다 바람직하게는 40% 이상이다. 수지 필름으로서는, 전술한 편광자의 설명에 있어서 예시한 열가소성 수지 필름이 적용된다. 그 중에서도, 편광자의 보호 기능의 관점에서 바람직하게는 폴리에스테르계 수지 필름이다.
투명 보호 필름(10)은, 특정 파장의 가시광선(예컨대 420 ㎚ 이하)을 흡수하는 기능을 갖고 있어도 좋다. 투명 보호 필름(10)은, 광학 적층체의 최외면이 되는 표면에 방오 처리가 실시되어 있어도 좋다.
투명 보호 필름(10)의 두께는, 통상 300 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 200 ㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 100 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 80 ㎛ 이하이며, 더더욱 바람직하게는 60 ㎛ 이하이고, 또한, 통상 5 ㎛ 이상이며, 바람직하게는 20 ㎛ 이상이다.
(편광자)
편광자(20)로서는, 흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름 혹은 연신층, 또는 흡수 이방성을 갖는 색소를 도포하여 경화시킨 필름을 들 수 있다. 흡수 이방성을 갖는 색소로서는, 예컨대 이색성 색소를 들 수 있다. 이색성 색소로서, 구체적으로는, 요오드나 이색성의 유기 염료가 이용된다. 이색성 유기 염료에는, C.I.DIRECT RED 39 등의 디스아조 화합물을 포함하는 이색성 직접 염료, 트리스아조, 테트라키스아조 등의 화합물을 포함하는 이색성 직접 염료가 포함된다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 도포하여 경화시킨 필름으로서는, 액정성을 갖는 이색성 색소를 포함하는 조성물 또는 이색성 색소와 중합성 액정을 포함하는 조성물을 도포하여 경화시켜 얻어지는 층 등의 중합성 액정 화합물의 경화물을 포함하는 필름 등을 들 수 있다.
편광자(20)는, 단독으로, 또는 후술하는 열가소성 수지 필름, 기재(基材), 배향막 및/또는 보호층과 조합하여 직선 편광판으로서 이용해도 좋다. 직선 편광판의 두께는, 예컨대 2 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 10 ㎛ 이상 60 ㎛ 이하이다.
또한, 편광자(20) 또는 직선 편광판의 흡수축과 위상차층의 지상축(遲相軸)이 소정의 각도가 되도록 편광자(20) 또는 직선 편광판과 후술하는 위상차층을 조합하여 원편광판으로서 이용할 수도 있다. 위상차층이 λ/4판을 포함하는 경우, 편광자(20) 또는 직선 편광판의 흡수축과 λ/4판의 지상축이 이루는 각도는, 45°±10°일 수 있다. 편광자(20) 또는 직선 편광판과, 위상차층은 후술하는 접합층에 의해 접합되어 있어도 좋다. 원편광판의 두께는, 예컨대 10 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하여도 좋고, 바람직하게는 15 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 20 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하이다.
(1) 흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름 또는 연신층인 편광자
먼저, 흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름(이하, 생략하여 「연신 필름」이라고 하는 경우도 있다)인 편광자에 대해 설명한다. 흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름은, 통상, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 일축 연신하는 공정, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 이색성 색소로 염색함으로써, 그 이색성 색소를 흡착시키는 공정, 및 이색성 색소가 흡착된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정, 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세(水洗)하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다. 이러한 편광자를 그대로 직선 편광판으로서 이용해도 좋고, 그 한쪽 면 또는 양면에 후술하는 열가소성 수지 필름을 접합한 것을 직선 편광판으로서 이용해도 좋다. 편광자의 두께는, 바람직하게는 2 ㎛ 이상 40 ㎛ 이하이다.
폴리비닐알코올계 수지는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 얻어진다. 폴리아세트산비닐계 수지로서는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외에, 아세트산비닐과 그것에 공중합 가능한 다른 단량체의 공중합체가 이용된다. 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체로서는, 예컨대, 불포화 카르복실산류, 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 술폰산류, 암모늄기를 갖는 (메트)아크릴아미드류 등을 들 수 있다.
폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는, 통상 85∼100 몰%이고, 바람직하게는 98 몰% 이상이다. 폴리비닐알코올계 수지는 변성되어 있어도 좋고, 예컨대, 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말이나 폴리비닐아세탈도 사용할 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지의 중합도는, 통상 1000 이상 10000 이하이고, 바람직하게는 1500 이상 5000 이하이다.
다음으로, 흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신층(이하, 생략하여 「연신층」이라고 하는 경우도 있다)인 편광자에 대해 설명한다. 흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신층은, 통상, 상기 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 도포액을 기재 필름 상에 도포하는 공정, 얻어진 적층 필름을 일축 연신하는 공정, 일축 연신된 적층 필름의 폴리비닐알코올계 수지층을 이색성 색소로 염색함으로써, 그 이색성 색소를 흡착시켜 편광자로 하는 공정, 이색성 색소가 흡착된 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정, 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다.
필요에 따라, 기재 필름을 편광자로부터 박리 제거해도 좋다. 기재 필름의 재료 및 두께는, 후술하는 열가소성 수지 필름의 재료 및 두께와 동일해도 좋다.
전술한 연신 필름 또는 연신층인 편광자는, 그 한쪽 면 또는 양면에 열가소성 수지 필름이 접합되어 있는 형태로 적층체에 편입되어도 좋다. 열가소성 수지 필름은, 예컨대 쇄상 폴리올레핀계 수지(폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지, 폴리메틸펜텐계 수지 등), 환상 폴리올레핀계 수지(노르보르넨계 수지 등) 등의 폴리올레핀계 수지; 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 에틸렌-아세트산비닐계 수지; 폴리스티렌계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리에테르이미드계 수지; 폴리메틸(메트)아크릴레이트 수지 등의 (메트)아크릴계 수지; 폴리이미드계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 폴리술폰계 수지; 폴리염화비닐계 수지; 폴리염화비닐리덴계 수지; 폴리비닐알코올계 수지; 폴리비닐아세탈계 수지; 폴리에테르케톤계 수지; 폴리에테르에테르케톤계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 폴리아미드이미드계 수지 등을 들 수 있다. 열가소성 수지는, 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수 있다.
그 중에서도, 강도나 투광성의 관점에서 바람직하게는 트리아세틸셀룰로오스계 수지 필름, 환상 폴리올레핀계 수지 필름 및 (메트)아크릴계 수지 필름이다.
열가소성 수지 필름은, 편광자용의 보호 필름, 위상차 필름 또는 특정 파장의 가시광선(예컨대 420 ㎚ 이하)을 흡수하는 기능을 가진 필름으로서 기능할 수 있다.
열가소성 수지 필름의 편광자와는 반대측의 표면에는, 하드 코트층, 반사 방지층, 대전 방지층과 같은 표면 처리층(코팅층)을 형성할 수도 있다.
열가소성 수지 필름에 하드 코트층을 형성함으로써, 경도 및 스크래치성을 향상시킨 수지 필름으로 할 수 있다. 하드 코트층은, 활성 에너지선 경화형 수지를 포함하는 하드 코트층 형성용 조성물의 경화물로 형성할 수 있다. 자외선 경화형 수지로서는, 예컨대 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 에폭시계 수지 등을 들 수 있다. 하드 코트층은, 강도를 향상시키기 위해서, 첨가제를 포함하고 있어도 좋다. 첨가제는 한정되는 일은 없고, 무기계 미립자, 유기계 미립자, 또는 이들의 혼합물을 들 수 있다.
열가소성 수지 필름의 두께는, 박형화의 관점에서, 통상 300 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 200 ㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 100 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 80 ㎛ 이하이며, 더더욱 바람직하게는 60 ㎛ 이하이고, 또한, 통상 5 ㎛ 이상이며, 바람직하게는 20 ㎛ 이상이다.
열가소성 수지 필름은 위상차를 갖고 있어도, 갖고 있지 않아도 좋다. 열가소성 수지 필름은, 예컨대, 접착제층을 이용하여 편광자에 접합할 수 있다.
(2) 흡수 이방성을 갖는 색소를 도포하여 경화시킨 필름인 편광자
흡수 이방성을 갖는 색소를 도포하여 경화시킨 필름인 편광자에 대해 설명한다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 도포하여 경화시킨 필름은, 액정성을 갖는 이색성 색소를 포함하는 조성물 또는 이색성 색소와 액정 화합물을 포함하는 조성물을 기재에 도포하여 경화시켜 얻어지는 필름 등을 들 수 있다. 상기 필름은, 기재를 박리하여 또는 기재와 함께 직선 편광판으로서 이용해도 좋고, 또는 그 한쪽 면 또는 양면에 열가소성 수지 필름을 갖는 구성으로 직선 편광판으로서 이용해도 좋다.
기재는 열가소성 수지 필름이어도 좋다. 기재의 예 및 두께는, 전술한 열가소성 수지 필름의 설명에 있어서 예시한 것이 적용된다. 기재는, 하드 코트층, 반사 방지층, 또는 대전 방지층을 적어도 한쪽의 표면에 갖는 열가소성 수지 필름이어도 좋다. 기재는, 편광자가 형성되지 않는 측의 표면에만, 하드 코트층, 반사 방지층, 대전 방지층 등이 형성되어 있어도 좋다. 기재는, 하드 코트층, 반사 방지층, 대전 방지층 등이, 편광자가 형성되어 있는 측의 표면에만 형성되어 있어도 좋다.
열가소성 수지 필름의 예로서는, 상기 연신 필름 또는 연신층을 편광자로서 구비하는 직선 편광판의 설명에 있어서 예시한 것이 적용된다. 열가소성 수지 필름은, 예컨대, 접착제층을 이용하여 편광자에 접합할 수 있다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 도포하여 경화시킨 필름은 얇은 것이 바람직하지만, 지나치게 얇으면 강도가 저하되어, 가공성이 뒤떨어지는 경향이 있다. 상기 필름의 두께는, 통상 20 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 5 ㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상 3 ㎛ 이하이다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 도포하여 경화시킨 필름으로서는, 구체적으로는, 일본 특허 공개 제2013-37353호 공보나 일본 특허 공개 제2013-33249호 공보 등에 기재된 것을 들 수 있다.
(배향막)
배향막은, 상기 기재와 액정성을 갖는 이색성 색소를 포함하는 조성물, 또는 이색성 색소와 액정 화합물을 포함하는 조성물의 경화물의 층 사이에 배치될 수 있다. 배향막은, 그 위에 형성되는 액정층을 원하는 방향으로 액정 배향시키는, 배향 규제력을 갖는다. 배향막으로서는, 배향성 폴리머로 형성된 배향성 폴리머층, 광배향 폴리머로 형성된 광배향성 폴리머층, 층 표면에 요철 패턴이나 복수의 그루브(홈)를 갖는 그루브 배향막을 들 수 있다. 배향막의 두께는, 예컨대 10 ㎚ 이상 500 ㎚ 이하여도 좋고, 10 ㎚ 이상 200 ㎚ 이하인 것이 바람직하다.
배향성 폴리머층은, 배향성 폴리머를 용제에 용해한 조성물을 기재에 도포하여 용제를 제거하고, 필요에 따라 러빙 처리를 하여 형성할 수 있다. 이 경우, 배향 규제력은, 배향성 폴리머로 형성된 배향성 폴리머층에서는, 배향성 폴리머의 표면 상태나 러빙 조건에 의해 임의로 조정하는 것이 가능하다.
광배향성 폴리머층은, 광반응성 기를 갖는 폴리머 또는 모노머와 용제를 포함하는 조성물을 기재층에 도포하고, 편광을 조사함으로써 형성할 수 있다. 이 경우, 배향 규제력은, 광배향성 폴리머층에서는, 광배향성 폴리머에 대한 편광 조사 조건 등에 의해 임의로 조정하는 것이 가능하다.
그루브 배향막은, 예컨대 감광성 폴리이미드막 표면에 패턴 형상의 슬릿을 갖는 노광용 마스크를 통해 노광, 현상 등을 행하여 요철 패턴을 형성하는 방법, 표면에 홈을 갖는 판형의 원반(原盤)에, 활성 에너지선 경화성 수지의 미경화의 층을 형성하고, 이 층을 기재에 전사하여 경화하는 방법, 기재에 활성 에너지선 경화성 수지의 미경화의 층을 형성하고, 이 층에, 요철을 갖는 롤형의 원반을 압박하는 등에 의해 요철을 형성하여 경화시키는 방법 등에 의해 형성할 수 있다.
(보호층)
보호층은, 편광자(20)의 표면을 보호하기 위해서 이용할 수 있다. 보호층으로서는, 상기한 열가소성 수지 필름의 재료로서 예시한 수지 필름으로 형성되어도 좋고, 코팅형의 보호층이어도 좋다. 코팅형의 보호층은, 예컨대 에폭시 수지 등의 양이온 경화성 조성물이나 (메트)아크릴레이트 등의 라디칼 경화성 조성물을 도포하고, 경화시켜 이루어지는 것이어도 좋고, 폴리비닐알코올계 수지 등의 수용액을 도포하고, 건조시켜 이루어지는 것이어도 좋으며, 필요에 따라 가소제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광 증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 대전 방지제, 산화 방지제, 활제(滑劑) 등을 포함하고 있어도 좋다.
보호층의 두께는, 예컨대 200 ㎛ 이하여도 좋고, 바람직하게는 0.1 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하이다.
(위상차층)
위상차층은, 1층 또는 2층 이상의 위상차층을 포함할 수 있다. 위상차층으로서는, λ/4층이나 λ/2층과 같은 포지티브 A층, 및 포지티브 C층일 수 있다. 위상차층은, 전술한 열가소성 수지 필름의 재료로서 예시한 수지 필름으로 형성되어도 좋고, 중합성 액정 화합물이 경화된 층으로 형성되어도 좋다. 위상차층은, 또한 배향막이나 기재를 포함하고 있어도 좋다. 위상차층의 두께는, 예컨대 1 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하여도 좋다.
(접합층)
접합층은, 광학 적층체(100)의 각 층을 접합하기 위해서 이용된다. 접합층은, 투명 보호 필름(10)과 편광자(20) 또는 직선 편광판을 접합시키기 위해서 배치된다. 접합층은, 점착제층 또는 접착제층이고, 점착제 조성물이나 접착제 조성물을 이용하여 형성할 수 있다. 접합층은, 단층 구조여도 다층 구조여도 좋으나, 바람직하게는 단층 구조이다.
점착제 조성물은, (메트)아크릴계, 고무계, 우레탄계, 에스테르계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계와 같은 수지를 주성분으로 하는 점착제 조성물이어도 좋다. 그 중에서도, 투명성, 내후성, 내열성 등이 우수한 (메트)아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 하는 점착제 조성물이 적합하다. 점착제 조성물은, 활성 에너지선 경화형, 열경화형이어도 좋다.
점착제 조성물에 이용되는 (메트)아크릴계 수지(베이스 폴리머)로서는, 예컨대 (메트)아크릴산부틸, (메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산헥실, (메트)아크릴산옥틸, (메트)아크릴산라우릴, (메트)아크릴산이소옥틸, (메트)아크릴산이소데실, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산이소보르닐과 같은 (메트)아크릴산에스테르의 1종 또는 2종 이상을 모노머로 하는 중합체 또는 공중합체가 적합하게 이용된다.
베이스 폴리머에는, 극성 모노머를 공중합시키는 것이 바람직하다. 극성 모노머로서는, 예컨대, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산 2-히드록시프로필, (메트)아크릴산히드록시에틸, (메트)아크릴아미드, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트와 같은, 카르복실기, 수산기, 아미드기, 아미노기, 에폭시기 등을 갖는 모노머를 들 수 있다.
점착제 조성물은, 상기 베이스 폴리머만을 포함하는 것이어도 좋으나, 통상은 가교제를 더 함유한다. 가교제로서는, 2가 이상의 금속 이온으로서, 카르복실기와의 사이에서 카르복실산 금속염을 형성하는 것; 폴리아민 화합물로서, 카르복실기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 것; 폴리에폭시 화합물이나 폴리올로서, 카르복실기와의 사이에서 에스테르 결합을 형성하는 것; 폴리이소시아네이트 화합물로서, 카르복실기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 것이 예시된다. 그 중에서도, 폴리이소시아네이트 화합물이 바람직하다.
활성 에너지선 경화형 점착제 조성물이란, 자외선이나 전자선과 같은 활성 에너지선의 조사를 받아 경화하는 성질을 갖고 있고, 활성 에너지선 조사 전에 있어서도 점착성을 가져 필름 등의 피착체에 밀착시킬 수 있으며, 활성 에너지선의 조사에 의해 경화되어 밀착력 등의 조정을 할 수 있는 성질을 갖는 점착제 조성물이다.
활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 자외선 경화형인 것이 바람직하다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 베이스 폴리머, 가교제에 더하여, 활성 에너지선 중합성 화합물을 더 함유한다. 또한 필요에 따라, 광중합 개시제나 광증감제 등을 함유시켜도 좋다.
활성 에너지선 중합성 화합물로서는, 예컨대, 분자 내에 적어도 1개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머; 작용기 함유 화합물을 2종 이상 반응시켜 얻어지고, 분자 내에 적어도 2개의 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 올리고머 등의 (메트)아크릴로일옥시기 함유 화합물 등의 (메트)아크릴계 화합물을 들 수 있다.
점착제 조성물은, 광산란 성능을 갖는 미립자, 유리 섬유, 베이스 폴리머 이외의 수지, 점착성 부여제, 충전제(금속 분말이나 그 외의 무기 분말 등), 산화 방지제, 자외선 흡수제, 대전 방지제, 염료, 안료, 착색제, 소포제, 부식 방지제, 광중합 개시제 등의 첨가제를 포함할 수 있다.
점착제층은, 광산란 성능을 갖는 미립자를 더 포함하는 점착제 조성물을 이용하여 형성함으로써, 광산란 성능을 갖는 미립자가 분산된 확산 점착제층일 수 있다. 점착제층이 확산 점착제층인 경우, 화상 표시 장치에 있어서 표시 불균일이 저감되기 쉬운 경향이 있다. 광학 적층체(100)가 확산 점착제층을 구비하는 경우, 광산란에 기인하여 광학식 지문 인증 시스템이 충분히 기능하지 않게 될 우려가 있는 바, 평균 광선 투과율 Ta(430-490)가 특정값 이상인 광학 적층체(100)에 의하면, 광학식 지문 인증 시스템을 확실히 기능시킬 수 있다. 확산 점착제층은, 광학 적층체의 어느 층 사이에 배치되어 있어도 좋다.
광산란 성능을 갖는 미립자로서는, 유기 입자, 무기 입자의 어느 것도 사용할 수 있다. 유기 입자로서는, 예컨대 폴리스티렌계 수지, 폴리에틸렌이나 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계 수지, 아크릴계 수지 등의 고분자 화합물을 포함하는 입자를 들 수 있고, 가교된 고분자여도 좋다. 또한, 에틸렌, 프로필렌, 스티렌, 메타크릴산메틸, 벤조구아나민, 포름알데히드, 멜라민, 부타디엔 등에서 선택되는 2종 이상의 모노머가 공중합되어 이루어지는 공중합체를 사용할 수도 있다. 무기 입자로서는, 예컨대 실리카, 실리콘, 산화티탄 등의 입자를 들 수 있고, 또한 유리 비드여도 좋다. 이들 미립자는, 무색 또는 백색인 것이 바람직하다. 미립자의 형상도 특별히 한정되지 않으나, 바람직한 것으로서, 구(球)형, 방추형 또는 정육면체에 가까운 형상의 것을 들 수 있다. 입경은, 지나치게 작으면 광산란능이 발현되지 않고, 또한, 지나치게 크면 광학 적층체를 화상 표시 장치에 적용했을 때에 표시 품위를 저하시키기 때문에, 0.5 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하인 것이 적합하고, 1 ㎛ 이상, 또한 10 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 미립자의 첨가량은, 원하는 광산란능의 대소에 따라 적절히 설정할 수 있다. 통상은, 피분산체인 점착제 조성물 100 질량부에 대해, 0.01 질량부 이상 100 질량부 이하이고, 적합하게는 1 질량부 이상 50 질량부 이하의 비율로 배합된다.
점착제층은, 상기 점착제 조성물의 예컨대 유기 용제 희석액을 기재 상에 도포하여, 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물을 이용한 경우, 형성된 점착제층에, 활성 에너지선을 조사함으로써 원하는 경화도를 갖는 경화물로 할 수 있다.
접착제 조성물로서는, 공지된 접착제 조성물이어도 좋고, 그 예로서는 폴리비닐알코올계 수지 수용액, 수계 이액형 우레탄계 에멀젼 접착제 등의 수계 접착제 조성물; 자외선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써 경화하는 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물 등을 들 수 있다.
접합층의 두께는, 예컨대 0.5 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 0.7 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하이다.
광학 적층체(100)는, 투명 보호 필름(10)과 편광판(20)이 접합층을 통해 접합되어 있어도 좋다. 광학 적층체(100)는, 투명 보호층과는 반대측에 터치 패널 등과의 접합을 위해서 접합층을 가질 수 있다.
도 2는 다른 일 양태에 따른 광학 적층체(200)의 개략 단면도를 도시한다. 광학 적층체(200)는, 투명 보호 필름(10)과 편광판(30)이 확산 점착제층(40)을 통해 적층되어 있다. 편광판(30)은, 열가소성 수지 필름(31), 편광자(32) 및 위상차층(33)으로 구성된다.
적층체(200)는, 편광판(30)의 위상차층(33)측에 접합층(50)을 통해 터치 패널(60)이 접합되어 있다.
광학 적층체(200)는, 투명 보호 필름(10)과 편광판(30) 사이에 확산 점착제층(40)이 배치되어 있으나, 확산 점착제층 대신에 접착제층이나 확산제를 포함하지 않는 점착제층이 배치되어 있어도 좋다. 또한, 광학 적층체(200)는, 접합층(50)을 통해 터치 패널(60)이 접합되어 있다. 접합층(50)은, 접착제층이나 확산제를 포함하지 않는 점착제층이어도 좋고, 확산 점착제층이어도 좋다.
[광학 적층체의 제조 방법]
광학 적층체는, 접합층을 통해 적층체를 구성하는 층끼리를 접합하는 공정을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다. 접합층을 통해 층끼리를 접합하는 경우에는, 밀착성을 높이기 위해서, 접합면의 한쪽 또는 양쪽에 대해, 예컨대 코로나 처리 등의 표면 활성화 처리를 실시하는 것이 바람직하다.
편광자가 전술한 흡수 이방성을 갖는 색소를 도포하여 경화시킨 필름인 편광자인 경우, 편광자는, 기재 상에 배향막을 통해 형성하는 것이 가능하다. 편광자는, 이색성 색소 및 중합성 액정 화합물을 포함하는 편광자 형성용 조성물을 도포하여, 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 편광자 형성용 조성물은, 전술한 이색성 색소 및 중합성 액정 화합물에 더하여, 바람직하게는 중합 개시제, 레벨링제, 용제를 더 포함하고, 광증감제, 중합 금지제, 레벨링제 등을 더 포함할 수 있다.
위상차층이 배치되는 경우, 위상차층은, 기재 및 존재하는 경우에는 배향막 상에, 중합성 액정 화합물을 포함하는 위상차층 형성용 조성물을 도포하고, 중합성 액정 화합물을 중합함으로써 제조할 수 있다. 위상차층 형성용 조성물은, 용제, 중합 개시제를 더 포함하고, 광증감제, 중합 금지제, 레벨링제 등을 더 포함할 수 있다. 기재 및 배향막은 위상차층에 편입되어도 좋고, 혹은, 위상차층으로부터 박리되어 적층체의 구성 요소로는 되지 않아도 좋다.
편광자 형성용 조성물 및 위상차층 형성용 조성물의 도포, 건조 및 중합성 액정 화합물의 중합은, 종래 공지된 도포 방법, 건조 방법 및 중합 방법에 의해 행할 수 있다.
점착제층은 점착 시트로서 준비할 수 있다. 점착 시트는, 예컨대 톨루엔이나 아세트산에틸 등의 유기 용제에 점착제 조성물을 용해 또는 분산시켜 점착제액을 조제하고, 이것을 이형 처리가 실시된 박리 필름 상에 점착제를 포함하는 층을 시트형으로 형성해 두며, 그 점착제층 상에 또 다른 박리 필름을 접합하는 방식 등에 의해 제작할 수 있다.
한쪽의 박리 필름을 박리한 점착 시트를 한쪽의 층에 접합하고, 계속해서 다른쪽의 박리 필름을 박리하여, 다른쪽의 층을 접합하는 방법에 의해 각 층을 접합할 수 있다.
(화상 표시 장치)
화상 표시 장치는, 광학식 지문 인증 시스템이 편입된 화상 표시 소자와, 화상 표시 소자의 시인측에 접합된 광학 적층체를 구비한다. 광학 적층체는, 화상 표시 장치의 최외면에 투명 보호 필름이 배치되도록 화상 표시 소자의 시인측에 접합될 수 있다.
광학 적층체의 투명 보호 필름은 화상 표시 장치의 최외면을 구성함으로써, 지문 인증의 감도가 향상되어, 장기간에 걸쳐 지문 인증을 확실히 기능시킬 수 있다.
화상 표시 장치로서는 특별히 한정되지 않고, 예컨대, 유기 일렉트로루미네선스(유기 EL) 표시 장치, 무기 일렉트로루미네선스(무기 EL) 표시 장치, 액정 표시 장치, 터치 패널 표시 장치, 전계 발광 표시 장치 등을 들 수 있다.
화상 표시 장치는, 플렉시블 화상 표시 장치여도 좋다. 플렉시블 화상 표시 장치는, 절곡 가능한 화상 표시 장치이다. 플렉시블 화상 표시 장치는, 광학식 지문 인증 시스템이 편입되고, 절곡 가능한 화상 표시 소자와, 본 발명의 광학 적층체를 구비한다. 절곡 가능한 화상 표시 소자는, 예컨대 유기 EL 표시 패널이다. 유기 EL 표시 패널에 대해 시인측에 본 발명의 광학 적층체가 배치되어, 절곡 가능하게 구성되어 있다.
플렉시블 화상 표시 장치는, 또한 전면판이나 터치 센서를 함유하고 있어도 좋다.
시인측으로부터 전면판, 본 발명의 광학 적층체, 및 터치 센서가 이 순서로 적층되어 있거나, 또는 전면판, 터치 센서 및 본 발명의 광학 적층체가, 이 순서로 적층되어 있는 것이 바람직하다. 터치 센서보다 시인측에 편광자가 존재하면, 터치 센서의 패턴이 시인되기 어려워지고, 결과로서 표시 화상의 시인성이 좋아지기 때문에, 터치 센서보다 시인측에 본 발명의 광학 적층체를 구비하는 구성, 즉 전면판, 본 발명의 광학 적층체 및 터치 센서를 이 순서로 구비하는 것이 더욱 바람직하다. 각각의 부재는 접착제, 점착제 등을 이용하여 적층할 수 있다. 또한, 전면판, 광학 적층체, 터치 센서 중 어느 하나의 층의 적어도 일면에 형성된 차광 패턴을 구비할 수 있다.
시인측으로부터 전면판, 본 발명의 광학 적층체 및 절곡 가능한 화상 표시 소자를 구비하는 플렉시블 화상 표시 장치에 있어서, 전면판 및 본 발명의 광학 적층체는, 광학 적층체와, 전면판을 구비하는 전면판 부착 광학 적층체를 구성한다. 이 전면판 부착 광학 적층체에 있어서, 전면판은 통상, 광학 적층체의 시인측에 배치된다. 광학 적층체와는, 예컨대 점착제 또는 접착제에 의해 적층된다.
시인측으로부터 터치 센서, 본 발명의 광학 적층체 및 절곡 가능한 화상 표시 소자를 구비하는 플렉시블 화상 표시 장치에 있어서, 터치 센서 및 본 발명의 광학 적층체는, 광학 적층체와 터치 패널을 구비하는 터치 패널 부착 광학 적층체를 구성한다. 이 터치 패널 부착 광학 적층체에 있어서, 터치 패널은 원편광판보다 배면측(시인측과는 반대측)에 배치되어도 좋고, 광학 적층체의 시인측에 배치되어도 좋다. 터치 센서와 광학 적층체는, 예컨대 점착제 또는 접착제에 의해 적층된다.
본 발명의 광학 적층체는, 그 시인측에 전면판을 적층하여 전면판 부착 광학 적층체로서 이용할 수도 있다. 전면판 부착 광학 적층체는, 본 발명의 광학 적층체와, 그 시인측에 배치된 전면판을 구비한다.
[전면판]
전면판으로서는, 유리, 수지 필름의 적어도 일면에 하드 코트층을 포함하여 이루어지는 것 등을 들 수 있다. 유리로서는, 예컨대, 고투과 유리나, 강화 유리를 이용할 수 있다. 특히 얇은 투명 면재를 사용하는 경우에는, 화학 강화를 실시한 유리가 바람직하다. 유리의 두께는, 예컨대 100 ㎛∼5 ㎜로 할 수 있다.
수지 필름의 적어도 일면에 하드 코트층을 포함하여 이루어지는 전면판은, 기존의 유리와 같이 경직이 아니라, 플렉시블한 특성을 가질 수 있다. 하드 코트층의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예컨대, 5∼100 ㎛여도 좋다.
수지 필름으로서는, 예컨대 노르보르넨, 다환 노르보르넨계 단량체와 같은 시클로올레핀을 포함하는 단량체의 단위를 갖는 시클로올레핀계 유도체, 셀룰로오스(디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스, 아세틸셀룰로오스부틸레이트, 이소부틸에스테르셀룰로오스, 프로피오닐셀룰로오스, 부티릴셀룰로오스, 아세틸프로피오닐셀룰로오스)에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 폴리시클로올레핀, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리아미드, 폴리에테르이미드, 폴리아크릴, 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올, 폴리비닐아세탈, 폴리에테르케톤, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르술폰, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리우레탄, 에폭시 등의 고분자로 형성된 필름이어도 좋다. 이들 고분자는 각각 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
수지 필름은, 미연신 필름이어도 좋고, 연신 필름, 예컨대 1축 연신 필름, 2축 연신 필름이어도 좋다. 수지 필름으로서는, 투명성 및 내열성이 우수한 점에서, 폴리아미드이미드 필름, 폴리이미드 필름, 1축 연신 폴리에스테르 필름, 2축 연신 폴리에스테르 필름이 바람직하고, 투명성 및 내열성이 우수하고, 필름의 대형화에 대응할 수 있는 점에서, 시클로올레핀계 유도체 필름, 폴리메틸메타크릴레이트 필름이 바람직하며, 투명성과 광학적으로 이방성이 없는 수지 필름이 비교적 입수하기 쉬운 점에서, 트리아세틸셀룰로오스 및 이소부틸에스테르셀룰로오스 필름이, 각각 바람직하다. 수지 필름의 두께는, 통상 5∼200 ㎛이고, 바람직하게는 20∼100 ㎛이다.
[차광 패턴]
차광 패턴은 베젤이라고도 불리는 부재이고, 전면판에 있어서의 표시 소자측에 형성할 수 있다. 차광 패턴을 구비함으로써, 표시 장치를 구성하는 각 배선을 숨겨 사용자에게 시인되지 않도록 할 수 있다. 차광 패턴의 색 및 재질은 특별히 제한되는 일은 없고, 흑색, 백색, 금색 등의 다양한 색을 갖는 수지 물질로 형성할 수 있다. 일 실시형태에 있어서, 차광 패턴의 두께는 2 ㎛∼50 ㎛여도 좋고, 바람직하게는 4 ㎛∼30 ㎛여도 좋으며, 보다 바람직하게는 6 ㎛∼15 ㎛의 범위여도 좋다. 또한, 차광 패턴과 표시부 사이의 단차에 의한 기포 혼입 및 경계부의 시인을 억제하기 위해서, 차광 패턴에 형상을 부여할 수 있다.
[터치 센서]
터치 센서는, 화상 표시 장치의 화면에 접촉(터치)하는 손가락 등을 검지(센싱)하는 장치(센서)이고, 화면 상의 손가락의 위치를 검지하여 화상 표시 장치에 입력하는 입력 수단으로서 이용된다. 터치 센서로서는, 저항막 방식, 표면 탄성파 방식, 적외선 방식, 전자 유도 방식, 정전 용량 방식 등 여러 가지 양식이 제안되어 있고, 어느 방식이어도 상관없다. 그 중에서도 정전 용량 방식이 바람직하다. 정전 용량 방식 터치 센서는 활성 영역 및 상기 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역으로 구분된다. 활성 영역은 표시 패널에서 화면이 표시되는 영역(표시부)에 대응하는 영역이며, 사용자의 터치가 감지되는 영역이고, 비활성 영역은 표시 장치에서 화면이 표시되지 않는 영역(비표시부)에 대응하는 영역이다. 터치 센서는, 플렉시블한 특성을 갖는 기판과, 상기 기판의 활성 영역에 형성된 감지 패턴과, 상기 기판의 비활성 영역으로 구성되고, 상기 감지 패턴과 패드부를 통해 외부의 구동 회로와 접속하기 위한 각 센싱 라인을 포함할 수 있다. 플렉시블한 특성을 갖는 기판으로서는, 상기 윈도우의 투명 기판과 동일한 재료를 사용할 수 있다. 터치 센서의 기판은, 인성(靭性)이 2,000 ㎫% 이상인 것이 터치 센서에 발생할 수 있는 크랙을 억제하는 관점에서 바람직하다. 보다 바람직하게는 인성이 2,000 ㎫%∼30,000 ㎫%이다. 여기서, 인성은, 고분자 재료의 인장 시험을 통해 얻어지는 응력(㎫)-변형(%) 곡선(Stress-Strain Curve)에 있어서, 파괴점까지의 곡선의 하부 면적으로서 정의된다.
도 3은 일 양태에 따른 화상 표시 장치(300)의 개략 단면도를 도시한다. 화상 표시 장치(300)는, 터치 패널(60)의 접합층(50)측과는 반대측에 광학식 지문 인증 시스템(도시하지 않음)이 편입된 화상 표시 소자(70)가 배치되어 있다. 화상 표시 소자(70)는, 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 발광 피크를 갖는 화상 표시 소자일 수 있다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 예 중의 「%」 및 「부」는, 특별한 기재가 없는 한, 질량% 및 질량부이다.
[광선 투과율의 측정]
직선 편광판, 투명 보호 필름 및 광학 적층체에 대해, 흡광 광도계(UV2450, (주)시마즈 세이사쿠쇼 제조)를 사용하여, 파장 영역 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하, 500 ㎚ 이상 580 ㎚ 이하, 및 590 ㎚ 이상 680 ㎚ 이하에서의 광선 투과율을 측정하고, 각 파장 영역에서의 평균 광선 투과율 Ta를 구하였다.
또한, 직선 편광판 및 광학 적층체의 광선 투과율의 측정 시에는, 측정을 2회 행하고, 얻어진 광선 투과율의 평균값을 측정값으로 하였다. 직선 편광판 및 광학 적층체의 2회의 측정은, 직선 편광판 및 광학 적층체를 구성하는 직선 편광판의 흡수축의 방향이 면내에서 90도 상이한 것으로 하여, 흡수축 방향의 영향을 상쇄하고 있다. 또한, 광학 적층체에 대해서는, 평균 광선 투과율 Ta(500-580) 및 평균 광선 투과율 Ta(590-680)도 측정하였다.
[표면 경도의 측정]
JIS K5600-5-4:1999에 규정되는 연필 경도 시험에 따라, 광학 적층체를 투명 보호 필름측이 위가 되도록 유리판 위에 두고 측정하였다.
[지문 인증 시험]
광학 적층체가, 지문 인증 시스템을 구비한 화상 표시 소자에 점착제층을 통해 적층된 상태에서, 10회의 지문 인증을 행하여 그 성공수로 인증성에 대한 평가를 행하였다. 10회의 지문 인증 중 지문 인증의 성공수가 8회 이상이었던 경우를 ○로 하고, 지문 인증의 성공수가 7회 이하였던 경우를 ×로 하였다.
[편광자 1의 제작]
평균 중합도 약 2400, 비누화도 99.9 몰% 이상이며 두께 20 ㎛의 폴리비닐알코올 필름을, 30℃의 순수(純水)에 침지한 후, 요오드 및 요오드칼륨의 수용액에 30℃에서 침지하여 요오드 염색을 행하였다(이하, 요오드 염색 공정이라고도 한다.). 요오드 염색 공정을 거친 폴리비닐알코올 필름을, 요오드화칼륨:붕산:물의 질량비가 12:5:100인 수용액에 56.5℃에서 침지하여 붕산 처리를 행하였다(이하, 붕산 처리 공정이라고도 한다). 붕산 처리 공정을 거친 폴리비닐알코올 필름을 8℃의 순수로 세정한 후, 65℃에서 건조시켜, 폴리비닐알코올에 요오드가 흡착 배향되어 있는 편광자(연신 후의 두께 8 ㎛)를 얻었다. 이때, 요오드 염색 공정과 붕산 처리 공정에 있어서 연신을 행하였다. 이러한 연신에 있어서의 토탈 연신 배율은 5.3배였다.
[편광자 3의 제작]
요오드 염색 공정에 있어서의 수용액의 요오드 농도 및 침지 시간을 변경하고, 건조 온도를 80℃로 변경한 것 이외에는, 편광자 1의 제작과 동일하게 하여 편광자 3을 제작하였다.
[편광판 1의 제작]
상기한 바와 같이 얻어진 편광자 1에, 시클로올레핀계 수지 필름(두께 23 ㎛)과 비누화 처리된 셀룰로오스계 수지 필름(두께 20 ㎛)을, 수계 접착제를 통해 닙롤로 각각 접합시켰다. 얻어진 접합물을, 60℃에서 2분간 건조시켜, 양면에 보호 필름을 갖는 편광판 1을 얻었다. 또한, 상기 수계 접착제는 물 100부에, 카르복시기 변성 폴리비닐알코올(가부시키가이샤 쿠라레 제조 쿠라레포발 KL318) 3부와, 수용성 폴리아미드에폭시 수지(다오카 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조 스미레즈 레진 650 고형분 농도 30%의 수용액) 1.5부를 첨가하여 조제하였다. 편광판 1의 평균 광선 투과율 Ta(430-490)는, 39.9%였다.
[편광판 2의 준비]
지문 인증 시스템을 구비한 터치 패널 부착 유기 EL 화상 표시 소자를 편입시킨 시판의 유기 EL 화상 표시 장치를 준비하였다. 이 유기 EL 화상 표시 소자는, 터치 패널 부착 유기 EL 화상 표시 소자와, 그 전면측에 편광판을 구비한 것이었다. 이 편광판을 그대로 편광판 2로 하였다. 편광판 2의 평균 광선 투과율 Ta(430-490)는, 39.0%였다.
[편광판 3의 제작]
편광자 1을 이용한 것을 대신하여, 편광자 3을 이용한 것 이외에는, 편광판 1의 제작과 동일하게 하여 편광판 3을 제작하였다. 편광판 3의 평균 광선 투과율 Ta(430-490)는, 31.9%였다.
[투명 보호 필름 1]
430 ㎚∼490 ㎚에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(430-490)가 66.8%인 폴리에스테르 수지계 필름(두께 150 ㎛)을 준비하였다.
[투명 보호 필름 2]
430 ㎚∼490 ㎚에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(430-490)가 62.0%인 폴리에스테르 수지계 필름(두께 150 ㎛)을 준비하였다.
[투명 보호 필름 3]
430 ㎚∼490 ㎚에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(430-490)가 48.4%인 폴리에스테르 수지계 필름(두께 30 ㎛)을 준비하였다.
[투명 보호 필름 4]
430 ㎚∼490 ㎚에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(430-490)가 46.5%인 폴리에스테르 수지계 필름(두께 180 ㎛)을 준비하였다.
[투명 보호 필름 5]
430 ㎚∼490 ㎚에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(430-490)가 40.8%인 폴리에스테르 수지계 필름(두께 60 ㎛)을 준비하였다.
[점착제]
교반기, 온도계, 환류 냉각기, 적하 장치 및 질소 도입관을 구비한 반응 용기에, 아크릴산 n-부틸 97.0 질량부, 아크릴산 1.0 질량부, 아크릴산 2-히드록시에틸 0.5 질량부, 아세트산에틸 200 질량부, 및 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.08 질량부를 투입하고, 상기 반응 용기 내의 공기를 질소 가스로 치환하였다. 질소 분위기하에서 교반하면서, 반응 용액을 60℃로 승온하고, 6시간 반응시킨 후, 실온까지 냉각하였다. 얻어진 용액의 일부의 중량 평균 분자량을 측정한 결과, 180만의 (메트)아크릴산에스테르 중합체의 생성을 확인하였다.
상기 공정에서 얻어진 (메트)아크릴산에스테르 중합체 100 질량부(고형분 환산값; 이하 동일함)와, 이소시아네이트계 가교제로서, 트리메틸올프로판 변성 톨릴렌디이소시아네이트(도소 가부시키가이샤 제조, 상품명 「콜로네이트 L」) 0.30 질량부와, 실란 커플링제로서, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(신에츠 가가쿠 고교 가부시키가이샤 제조, 상품명 「KBM403」) 0.30 질량부를 혼합하고, 충분히 교반하며, 아세트산에틸로 희석함으로써, 점착제 조성물의 도공 용액을 얻었다.
세퍼레이터(린텍 가부시키가이샤 제조: SP-PLR382190, 두께 38 ㎛)의 이형 처리면(박리층면)에, 어플리케이터에 의해, 건조 후의 두께가 15 ㎛가 되도록 상기 도공 용액을 도공한 후, 100℃에서 1분간 건조시키고, 점착제층의 세퍼레이터가 접합된 면과는 반대면에, 다른 1장의 세퍼레이터(린텍사 제조: SP-PLR381031)를 접합하여, 양면 세퍼레이터 부착 점착제층을 얻었다.
[화상 표시 소자]
지문 인증 시스템을 구비한 터치 패널 부착 유기 EL 화상 표시 소자를 준비하였다. 이 화상 표시 소자는 시판의 유기 EL 화상 표시 장치에 편입된 것이고, 화면의 표시 사이즈는 14.6 ㎝×7.3 ㎝이며, 파장 460 ㎚에 발광 피크를 갖고, 이 발광 피크는 파장 380 ㎚ 이상 780 ㎚ 이하에 있어서 최대였다.
[실시예 1]
상기 시판의 유기 EL 화상 표시 장치의 최전면에 편입된 편광판 2(평균 광선 투과율 Ta(430-490)는 39.0%)의 시인측의 표면에, 양면 세퍼레이터 부착 점착제층의 한쪽 면으로부터 세퍼레이터를 박리하여 노출시킨 점착제층의 면을 접합하였다. 계속해서 다른 한쪽의 면으로부터 세퍼레이터를 박리하여 노출시킨 점착제층의 면에 투명 보호 필름 1을 접합하여, 실시예 1의 광학 적층체를 구성하였다. 이 광학 적층체는, 상기 유기 EL 화상 표시 장치의 최전면에 편입된 상태이다. 구성된 광학 적층체의 광선 투과율 및 표면 경도를 측정하였다.
결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 이 광학 적층체를 구성한 상태에서, 유기 EL 화상 표시 장치의 지문 인증 시험을 행하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 2]
투명 보호 필름 1을 투명 보호 필름 2로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 2의 광학 적층체를 구성하였다. 구성된 광학 적층체의 광선 투과율 및 표면 경도를 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 이 광학 적층체를 구성한 상태에서, 이 유기 EL 화상 표시 장치의 지문 인증 시험을 행하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 3]
투명 보호 필름 1을 투명 보호 필름 3으로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 3의 광학 적층체를 구성하였다. 구성된 광학 적층체의 광선 투과율 및 표면 경도를 측정하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 이 광학 적층체를 구성한 상태에서, 이 유기 EL 화상 표시 장치의 지문 인증 시험을 행하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 4]
투명 보호 필름 1을 투명 보호 필름 4로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 4의 광학 적층체를 구성하였다. 구성된 광학 적층체의 광선 투과율 및 표면 경도를 측정하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 이 광학 적층체를 구성한 상태에서, 이 유기 EL 화상 표시 장치의 지문 인증 시험을 행하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.
[비교예 1]
투명 보호 필름 1을 투명 보호 필름 5로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 1의 광학 적층체를 구성하였다. 구성된 광학 적층체의 광선 투과율 및 표면 경도를 측정하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. 또한, 이 광학 적층체를 구성한 상태에서, 이 유기 EL 화상 표시 장치의 지문 인증 시험을 행하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.
Figure pct00001
[실시예 5]
편광판 1(평균 광선 투과율 Ta(430-490)는 39.9%)의 시클로올레핀계 수지 필름측에, 투명 보호 필름 1을 접합시켜, 실시예 5의 광학 적층체를 얻었다. 얻어진 광학 적층체의 광선 투과율 및 표면 경도를 측정하였다. 결과를 표 2에 나타낸다. 이 광학 적층체에 대해 지문 인증 시험을 행하면 표 2에 나타내는 결과가 된다.
[실시예 6]
투명 보호 필름 1을 투명 보호 필름 2로 바꾼 것 이외에는, 실시예 5와 동일하게 하여 실시예 6의 광학 적층체를 얻었다. 얻어진 광학 적층체의 광선 투과율 및 표면 경도를 측정하였다. 결과를 표 2에 나타낸다. 이 광학 적층체에 대해 지문 인증 시험을 행하면 표 2에 나타내는 결과가 된다.
[실시예 7]
투명 보호 필름 1을 투명 보호 필름 3으로 바꾼 것 이외에는, 실시예 5와 동일하게 하여 실시예 7의 광학 적층체를 얻었다. 얻어진 광학 적층체의 광선 투과율 및 표면 경도를 측정하였다. 결과를 표 2에 나타낸다. 이 광학 적층체에 대해 지문 인증 시험을 행하면 표 2에 나타내는 결과가 된다.
[실시예 8]
투명 보호 필름 1을 투명 보호 필름 5로 바꾼 것 이외에는, 실시예 5와 동일하게 하여 실시예 8의 광학 적층체를 얻었다. 얻어진 광학 적층체의 광선 투과율 및 표면 경도를 측정하였다. 결과를 표 2에 나타낸다. 이 광학 적층체에 대해 지문 인증 시험을 행하면 표 2에 나타내는 결과가 된다.
Figure pct00002
[실시예 9]
편광판 1을 편광판 3(평균 광선 투과율 Ta(430-490)는 31.9%)으로 바꾼 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 9의 광학 적층체를 얻었다. 얻어진 광학 적층체의 광선 투과율 및 표면 경도를 측정하였다. 결과를 표 3에 나타낸다. 이 광학 적층체에 대해 지문 인증 시험을 행하면 표 3에 나타내는 결과가 된다.
[실시예 10]
투명 보호 필름 1을 투명 보호 필름 2로 바꾼 것 이외에는, 실시예 9와 동일하게 하여 실시예 10의 광학 적층체를 얻었다. 얻어진 광학 적층체의 광선 투과율 및 표면 경도를 측정하였다. 결과를 표 3에 나타낸다. 이 광학 적층체에 대해 지문 인증 시험을 행하면 표 3에 나타내는 결과가 된다.
[비교예 2]
투명 보호 필름 1을 투명 보호 필름 3으로 바꾼 것 이외에는, 실시예 9와 동일하게 하여 비교예 2의 광학 적층체를 얻었다. 얻어진 광학 적층체의 광선 투과율 및 표면 경도를 측정하였다. 결과를 표 3에 나타낸다. 이 광학 적층체에 대해 지문 인증 시험을 행하면 표 3에 나타내는 결과가 된다.
[비교예 3]
투명 보호 필름 1을 투명 보호 필름 5로 바꾼 것 이외에는, 실시예 9와 동일하게 하여 비교예 3의 광학 적층체를 얻었다. 얻어진 광학 적층체의 광선 투과율 및 표면 경도를 측정하였다. 결과를 표 3에 나타낸다. 이 광학 적층체에 대해 지문 인증 시험을 행하면 표 3에 나타내는 결과가 된다.
Figure pct00003
[확산 점착제]
전술한 점착제에 유기 입자(폴리스티렌계 수지를 포함하는 입자, 평균 입경 5 ㎛)를 점착제 100 질량부에 대해 10 질량부 첨가, 혼합함으로써, 확산 점착제를 조제하였다.
[실시예 11]
점착제층을 대신하여 확산 점착제층을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 11의 광학 적층체를 얻었다. 얻어진 광학 적층체의 표면 경도는 5 H 이상이었다. 이 광학 적층체의 지문 인증 시험을 행하면, 지문을 인증할 수 있다.
[비교예 4]
투명 보호 필름 1을 투명 보호 필름 5로 바꾼 것 이외에는, 실시예 11과 동일하게 하여 비교예 4의 광학 적층체를 얻었다. 얻어진 광학 적층체의 표면 경도는 5 H 이상이었다. 이 광학 적층체의 지문 인증 시험을 행해도, 지문을 인증할 수 없다.
10: 투명 보호 필름, 20: 편광자, 30: 원편광판, 31: 열가소성 수지 필름, 32: 편광자, 33: 위상차층, 40: 확산 점착제층, 50: 접합층, 60: 터치 패널, 70: 화상 표시 소자, 100, 200: 광학 적층체, 300: 화상 표시 장치

Claims (7)

  1. 광학식 지문 인증 시스템이 편입된 화상 표시 소자로서, 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 발광 피크를 갖는 화상 표시 소자의 시인측에 접합하여 이용되는 광학 적층체로서,
    편광자와 투명 보호 필름이 적층되어 이루어지고,
    파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(430-490)가 38.5% 이하이며,
    파장 500 ㎚ 이상 580 ㎚ 이하에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(500-580)가 48% 이하이고,
    파장 590 ㎚ 이상 680 ㎚ 이하에 있어서의 평균 광선 투과율 Ta(590∼680)가 48% 이하이며,
    상기 평균 광선 투과율 Ta(430-490)가 15.2% 이상인 광학 적층체.
  2. 제1항에 있어서, 확산 점착제층을 더 구비하는 광학 적층체.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 투명 보호 필름의 최외면이 외부로 노출되어 있고, 상기 최외면의 표면 경도가 5 H 이상인 광학 적층체.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투명 보호 필름의 최외면이 외부로 노출되어 있고, 상기 최외면에 방오 처리가 실시되어 있는 광학 적층체.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체와, 전면판을 구비하는 전면판 부착 광학 적층체.
  6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체와, 터치 패널을 구비하는 터치 패널 부착 광학 적층체.
  7. 광학식 지문 인증 시스템이 편입되고, 파장 430 ㎚ 이상 490 ㎚ 이하에 발광 피크를 갖는 화상 표시 소자와,
    상기 화상 표시 소자의 시인측에 접합된 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체, 제5항에 기재된 전면판 부착 광학 적층체, 또는 제6항에 기재된 터치 패널 부착 광학 적층체
    를 구비하는 화상 표시 장치.
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