KR20220018798A - 전사장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 메인 프레임;메인 프레임 상면에는 작업공간이 구비된 베이스 패널; 베이스 패널 상면에 배치되고, 측면이 개구된 형상인 서브 프레임;서브 프레임 상면을 형성하는 커버 패널;베이스 패널에는 적어도 하나 이상 구비되며, 작업이 이루어지는 워킹 스테이션;서브 프레임의 중심축에 배치되고, 상하 수직 이동하면서 고온의 스팀압을 형성하는 챔버부;를 포함하고,각 워킹 스테이션은 교번으로 챔버부를 향해 이동 될 수 있다.

Description

전사장치{Transfering Device}

전사장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 스마트폰, 모바일기기 등과 같은 전자제품의 외관이 되는 케이스에 모양이나 문자 또는 그림 등을 형성할 수 있는 전사장치에 관한 것이다.

통상 모바일기기나 핸드폰 등과 같은 제품의 외관을 장식하고 핸드폰이나 모바일기기의 내부의 전자제품을 보호하기 위해서는 보호케이스가 구성된다. 이러한 보호케이스는 사출, 다이캐스팅 등 다양한 방법으로 성형될 수 있는데 그 자체의 전체적인 형상과 그림, 문자 등을 디자인하는 장치가 개발되고 있다.

종래기술을 살펴보면, 특허 등록 제10-0873003호의 "입체 형상 전자제품 케이스의 전사방식 문양표현 방법 및 장치"에 관한 것으로, 대상물인 케이스의 내부 저면 형상과 동일한 형태로 된 돌출부를 가지는 하부형을 준비하는 공정과; 압박부를 가하도록 하는 탄성소재를 고정하는 공정과, 하부형의 상면에 케이스를 안착시킨 다음 전사용지를 케이스의 상면에 안착시켜 상부형이 하강하여 밀착될 때까지 전사용지를 고정시켜 주는 공정과 상부형을 하강시켜 탄성소재가 전사용지를 압박함과 동시에 상부형이 고정되는 열판의 히터로 인하여 열을 가하여 주는 공정으로 이루어 지는 것을 특징으로 한다.

또 다른 종래 기술을 보면, 특허 등록 제10-0890370호의 "3차원 곡면의 열승화 전사 인쇄 장치 및 그 방법"에 관한 것으로, 3차원 곡면을 갖는 피전사물에 문양을 전사할 경우, 고무의 탄성을 이용하여 균일한 열과 압력이 전사지에 가해질 수 있고, 전사지를 공기 흡입하여 피전사물에 밀착시킴으로써 3차원 곡면을 갖는 피전사물과 전사지의 정렬 오류를 방지할 수 있는 3차원 곡면의 열승화 전사 인쇄 장치 및 그 방법이 제공된다.

3차원 곡면의 열승화 전사인쇄 장치는, 3차원 곡면을 갖는 피전사물에 문양을 전사 인쇄하는 열승화 전사 인쇄 장치에 있어서, 3차원 곡면을 갖는 피전사물 및 전사지가 정렬 배치되는 하부 형틀; 피전사물의 내측 형태에 대응하도록 가공되어 하부 형틀 내에 배치되는 하부 고무 성형물; 하부 형틀 상에 배치된 전사지를 공기 흡입하여 전사지를 피전사물에 밀착시키는 공기 흡입부; 피전사물에 밀착된 전사지 상에 가열 가압을 제공하는 히터로서, 하부 형틀에 대응하도록 가공된 상부 형틀; 및 피전사물의 외측 형태에 대응하도록 가공되어 상부 형틀 내에 배치되며, 상부 형틀로부터 제공된 열을 전사지 상에 제공하는 상부 고무 성형물을 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 곡면의 열승화 전사인쇄장치 및 그 방법에 관한 것이다.

그러나 상기 등록특허는 물리적인 압력 즉 전사지에 직접적으로 눌러 압력을 가하는 방식이다. 이러한 방식은 전사물이 평면으로 이루어진 부분에는 비교적 전사지가 용이하게 전사되나 굴곡진 부분에는 전사지가 들뜨거나 뒤틀림이 발생하여 용이하게 전사되기 어렵다.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 본 발명은 고온의 스팀압으로 전사지를 일정하게 누름으로써 3차원의 굴곡진 부분에도 용이하게 전사되는 것을 제공한다.

본 발명은 메인 프레임;메인 프레임 상면에는 작업공간이 구비된 베이스 패널; 베이스 패널 상면에 배치되고, 측면이 개구된 형상인 서브 프레임;서브 프레임 상면을 형성하는 커버 패널;베이스 패널에는 적어도 하나 이상 구비되며, 작업이 이루어지는 워킹 스테이션;서브 프레임의 중심축에 배치되고, 상하 수직 이동하면서 고온의 스팀압을 형성하는 챔버부;를 포함하고,각 워킹 스테이션은 교번으로 챔버부를 향해 이동 될 수 있다.

본 발명은 고온의 스팀압으로 전사지를 일정하게 누름으로써 3차원의 굴곡진 전사물에도 용이하게 전사되는 효과가 있다.

또한, 본 발명은 전사물의 테두리 부분에도 전사지가 일정하게 전사되어 별도의 후공정 등이 필요없어 시간과 비용을 절감하는 효과가 있다.

또한, 본 발명은 복수개의 워킹 스테이션이 구비되어 생산 효율을 증대시키는 효과가 있다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 전사장치의 사시도.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 전사장치의 부분단면도.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 내지 "구비하다" 등의 용어는 본 명세서에 기재된 특징, 숫자,단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

본 명세서에서 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 나타낸다.

일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미가 있는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않아야 한다.

이하, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 전사장치의 사시도이고,도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 전사장치의 부분단면도이다.

도 1 및 도2에 도시된 바와 같이, 전사장치는 메인 프레임, 베이스 패널, 서브 프레임, 커버 패널, 워킹 스테이션, 챔버부를 포함할 수 있다.

메인 프레임은 장치의 주요 골격이며 전체적인 하중을 받치고 있다. 메인 프레임의 상면에는 사용자가 작업할 수 있는 공간인 베이스 패널이 구비될 수 있다.

베이스 패널의 상면에는 측면이 개구된 형상인 서브 프레임이 배치될 수 있다. 서브 프레임은 4개의 브릿지로 구성되어 베이스 패널의 모서리 인근에 세워진 형태일 수 있다.

서브 프레임의 상면을 형성하는 커버패널이 포함될 수 있다. 한편, 베이스 패널에는 적어도 하나 이상 구비되며, 사용자의 작업이 이루어지는 워킹 스테이션이 구비될 수 있다. 이때, 워킹 스테이션은 교번으로 챔버부를 향해 이동될 수 있으며, 교번 이동은 각 워킹 스테이션마다 X축(수평) 또는 Z축(수직)으로 선택적 이동이 될 수 있다.

예를 들어, 워킹 스테이션(A)는 사용자에 의해 전사를 위한 전(Front) 공정이 준비되고, 워킹 스테이션(B)는 후(Back) 공정을 위한 것으로 챔버부를 통해 전사가 이루어지게 된다. 이후, 공정이 마무리되면 다시 워킹 스테이션(B)는 사용자를 향해 이동되어 전 공정을 준비하게 되고, 워킹 스테이션(A)는 후 공정을 위해 챔버부를 향해 이동하게 된다. 이와 같은 순환 작업 공정은 생산 시간을 줄여 비용절감은 물론 생산율을 증대시키는 효과가 있다.

다음으로, 워킹 스테이션에는 전사물을 에어로 흡착할 수 있도록 홀이 형성된 지그 플레이트가 안착될 수 있다. 지그 플레이트는 단일로 구성되거나 복수개로 구분되어 형성될 수 있다. 즉, 지그의 개수에 대응하여 설계가 이루어 질 수 있다.

한편, 지그 플레이트에는 사용자에 의해 탈부탁할 수 있으며, 전사물을 고정하는 탄성소재의 지그와 지그의 테두리 부분을 둘러싸는 금속소재의 금속커버를 포함할 수 있다. 예를 들어, 지그 플레이트 부분에 작업자가 지그와 전사물을 순차적으로 올려두고 전사필름을 덮는 과정을 거친다. 이후, 금속커버를 올려둔 상태가 되면 전사 공정을 위한 준비 과정이 될 수 있다.

이러한 지그는 고열에 견딜 수 있는 실리콘 소재일 수 있으며, 금속커버는 부식에 강한 SUS 소재일 수 있다.

그리고, 서브 프레임의 중심축에 배치되고, 상하 수직 이동하면서 고온의 스팀압을 형성하는 챔버부가 포함될 수 있다. 자세히는 챔버부가 워킹 스테이션의 상면과 밀착하여 스팀압을 형성할 수 있다.

이때, 챔버부의 선단에는 워킹 스테이션의 테두리 부분과 맞닿아 스팀압을 유지하도록 실링부가 구비될 수 있다. 실링부는 탄성의 실리콘 또는 러버 등이 될 수 있다.

한편, 챔버부에는 스팀압을 조절할 수 있는 컨트롤부가 더 포함될 수 있다. 이때, 컨트롤부는 챔버부 내부 압을 센서로 감지하여 유입되는 스팀을 개폐하는 스위치이거나 챔버부의 일측에 구비되어 직접적인 압을 형성하는 실린더가 될 수 있다.

아울러 본 발명은 단지 앞서 기술된 일 실시예에 의해서만 한정된 것은 아니며, 장치의 세부 구성이나 개수 및 배치 구조를 변경할 때에도 동일한 효과를 창출할 수 있으므로 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상의 범주 내에서 다양한 구성의 부가 및 삭제, 변형이 가능한 것임을 명시하는 바이다.

Claims (7)

1. 메인 프레임;
   상기 메인 프레임 상면에는 작업공간이 구비된 베이스 패널;
   상기 베이스 패널 상면에 배치되고, 측면이 개구된 형상인 서브 프레임;
   상기 서브 프레임 상면을 형성하는 커버 패널;
   상기 베이스 패널에는 적어도 하나 이상 구비되며, 작업이 이루어지는 워킹 스테이션;
   상기 서브 프레임의 중심축에 배치되고, 상하 수직 이동하면서 고온의 스팀압을 형성하는 챔버부;를 포함하고,
   상기 각 워킹 스테이션은 교번으로 챔버부를 향해 이동 되는 것인 전사장치.
2. 제1항에 있어서,
   상기 워킹 스테이션에는 전사물을 에어로 흡착할 수 있도록 홀이 형성된 지그 플레이트가 안착된 것인 전사장치.
3. 제2항에 있어서,
   상기 지그 플레이트에는 탈부탁할 수 있으며, 전사물을 고정하는 탄성소재의 지그;
   상기 지그의 테두리부분을 둘러싸는 금속소재의 금속커버;를 포함하는 것인 전사장치.
4. 제1항에 있어서,
   상기 챔버부의 선단에는 워킹 스테이션의 테두리 부분과 맞닿아 스팀압을 형성하도록 실링부가 형성된 것인 전사장치.
5. 제1항에 있어서,
   상기 워킹스테이션에는 챔버부와 맞닿는 부분에 스팀압을 형성하도록 실링부가 형성된 것인 전사장치.
6. 제1항에 있어서,
   상기 챔버부에는 스팀압을 조절하는 컨트롤부가 더 포함된 것인 전사장치.
7. 제1항에 있어서,
   상기 교번 이동은 각 워킹 스테이션 마다 X축(수평) 또는 Z축(수직)으로 선택적 이동되는 것인 전사장치.

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