KR20220002012A - 인라인 타입의 초박형 기판 세정 장치 - Google Patents

인라인 타입의 초박형 기판 세정 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20220002012A
KR20220002012A KR1020200080655A KR20200080655A KR20220002012A KR 20220002012 A KR20220002012 A KR 20220002012A KR 1020200080655 A KR1020200080655 A KR 1020200080655A KR 20200080655 A KR20200080655 A KR 20200080655A KR 20220002012 A KR20220002012 A KR 20220002012A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
transfer belt
cleaning
cleaning apparatus
transfer
Prior art date
Application number
KR1020200080655A
Other languages
English (en)
Inventor
최우철
이주성
박종수
윤철남
Original Assignee
주식회사 케이씨텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 케이씨텍 filed Critical 주식회사 케이씨텍
Priority to KR1020200080655A priority Critical patent/KR20220002012A/ko
Publication of KR20220002012A publication Critical patent/KR20220002012A/ko

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • B08B3/022Cleaning travelling work
    • B08B1/002
    • B08B1/04
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00Cleaning by methods involving the use of tools
    • B08B1/10Cleaning by methods involving the use of tools characterised by the type of cleaning tool
    • B08B1/12Brushes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00Cleaning by methods involving the use of tools
    • B08B1/30Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
    • B08B1/32Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B11/00Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto
    • B08B11/04Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto specially adapted for plate glass, e.g. prior to manufacture of windshields
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B5/00Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
    • B08B5/02Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
    • B08B5/023Cleaning travelling work
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1316Methods for cleaning the liquid crystal cells, or components thereof, during manufacture: Materials therefor
    • H01L51/0097
    • H01L51/56
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10Substrates, e.g. flexible substrates
    • H10K77/111Flexible substrates
    • H01L2251/5338
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301Details of OLEDs
    • H10K2102/311Flexible OLED
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것으로, 기판의 상면(前面)이 상방을 향하도록 상면에 거치한 상태로 이송하는 제1이송벨트와, 제1이송벨트로부터 상기 기판을 넘겨받아 상기 기판의 저면(後面)이 하방을 향하도록 저면에 부착한 상태로 이송하는 제2이송벨트를 포함하여 구성되어, 각 이송벨트에서 이송하는 과정에서 기판의 상면과 저면을 각각 세정하는 기판 세정 장치를 제공한다.

Description

인라인 타입의 초박형 기판 세정 장치 {IN-LINE SUBSTRATE CLEANING APPARATUS}
본 발명은 인라인 타입의 기판 세정 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로 접을 수 있는 수㎛ 내지 수십㎛ 두께의 얇은 초박형 유리 기판(Ultra Thin Glass, UTG)의 표면에 잔류하는 이물질을 제거하는 세정 공정을 보다 짧은 시간에 보다 깨끗하게 행할 수 있는 기판 세정 장치에 관한 것이다.
최근 휴대용 기기에 사용되는 유리 기판은 점점 그 두께가 얇아지고 있으며, 얇은 두께의 기판을 오류없이 휴대용 기기에 사용하기 위한 세정 방법의 필요성이 크게 대두되고 있다.
종래에는 도1 및 도2에 도시된 구성에 의하여 세정액으로 기판(G)의 하나의 표면에 대해서 세정 공정이 행해졌다. 즉, 도1에 도시된 바와 같이, 기판 로더(10)에 기판을 공급하고, 공급된 기판을 기판 세정 유닛(20)으로 공급하면, 도2에 도시된 기판 세정 유닛(20)에서 기판(G)을 거치대(22)에 거치시킨다.
그리고, 세정액 공급부(28)로부터 세정액 분사노즐(25)에 세정액(25a)을 공급하여 기판(G)의 표면에 도포하여 기판(G)의 표면을 세정한다. 그리고 나서, 세정이 완료된 기판(G)은 기판 언로더(30)에 의해 배출되어 그 다음 공정으로 이송된다.
그러나, 상기와 같은 기존의 기판 처리 시스템(9)은 기판(G)의 하나의 표면만 세정함에 따라 기판(G)의 저면이 오염된 경우에 휴대용 기기에 적용되는 경우에 불량을 야기하는 문제가 있었다.
한편, 기존의 기판 세정 장치(20)을 이용하여 기판(G)의 양면을 세정하는 방안이 제안되었지만, 두께가 100㎛ 이하로 형성되어 플렉시블 디스플레이 장치에 사용되는 유리 소재의 기판(G)인 경우에, 기판(G)을 파지하여 180도 뒤집는 공정이 매우 까다로운 문제가 야기된다.
따라서, 100㎛ 이하의 유리 재질의 기판에 대하여 기판의 파손없이 180도 뒤집는 방안이 필요하고, 동시에 세정 시간을 단축하면서 양면 세정을 행할 수 있는 방안의 필요성이 절실히 요구된다. 더욱이, 기판 세정 공정 중에 사용된 세정액에 의해 기판이 거치대에 밀착된 상태이므로, 기판을 들어올려 180도로 뒤집는 공정이 매우 까다로워 파손이 빈번하게 발생되는 한계를 감수할 수 밖에 없었다.
이와 동시에, 기판(G)의 전체 표면이 활성 영역으로 사용되는 경우에는, 비사용 영역(dead zone)이 없으므로, 기판(G)의 일부를 집는(grip) 형태로 파지하는 것은 활성 영역이 손상될 가능성이 크므로 바람직하지 않다. 따라서, 기판의 전체 표면이 활성 영역인 경우에 기판의 손상없이 이송하면서 세정하는 방안이 필요하다.
본 발명은, 상술한 종래의 과제를 해결하기 위하여, 플렉시블 디스플레이 장치에 허용되는 두께가 100㎛ 이하인 유리 소재의 기판을 짧은 시간 내에 효율적으로 양면 세정을 행하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은, 기판의 전체 표면이 활성 영역인 경우에도 기판의 가장자리를 파지하지 아니하여 기판의 가장자리 손상없이 세정하는 것을 목적으로 한다.
무엇보다도, 본 발명은 기판의 상면과 저면의 세정을 위하여 180도 뒤집는 공정을 상하 높이 차이를 두고 배치된 이송 벨트에 의해 대체함으로써, 기판의 상면 세정으로부터 기판의 저면 세정을 위한 자세 변경에 소요되는 시간과 기판의 파손 위험을 줄이는 것을 목적으로 한다.
이를 통해, 본 발명은 기판의 양면 세정 공정에 소요되는 시간을 크게 줄여 공정 효율을 높이는 것을 목적으로 한다.
상술한 본 발명의 목적들을 달성하기 위하여, 본 발명은, 기판의 상면이 상방을 향하도록 상면에 거치한 상태로 이송하는 제1이송벨트와, 제1이송벨트로부터 상기 기판을 넘겨받아 상기 기판의 저면이 하방을 향하도록 저면에 부착한 상태로 이송하는 제2이송벨트를 포함하여 구성되어, 각 이송벨트에서 이송하는 과정에서 기판의 상면과 저면을 각각 세정하는 기판 세정 장치를 제공한다.
본 명세서 및 특허청구범위에 기재된 '상면'은 기판의 일표면을 지칭하고, '저면'은 기판의 다른 표면을 지칭한다.
본 명세서 및 특허청구범위에 기재된 '전방부' 및 이와 유사한 용어는 기판이 이송 벨트에서 이송하는 방향의 반대측을 향하는 부분을 지칭하고, 본 명세서 및 특허청구범위에 기재된 '후방부' 및 이와 유사한 용어는 기판이 이송 벨트에서 이송하는 방향을 향하는 부분을 지칭한다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 본 발명은 플렉시블 또는 폴더블 디스플레이 장치에 사용되는 두께가 100㎛ 이하인 유리 소재의 기판을 짧은 시간 내에 효율적으로 파손없이 양면 세정을 행하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명은, 기판의 가장자리나 기판의 폴딩 영역을 파지하지 아니한 상태로 기판을 이송하면서 세정함에 따라, 기판의 가장자리와 폴딩 영역의 손상없이 세정하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
무엇보다도, 본 발명은, 기판의 상면에 대한 세정 공정이 행해지는 제1이송벨트와 기판의 저면에 대한 세정 공정이 행해지는 제2이송벨트가 상하 방향으로 배열되는 중첩 영역이 구비되고, 제1이송벨트의 상면에 거치된 기판을 제2이송벨트의 저면으로 이동시키는 것에 의해, 기판을 180도 회전시키지 아니하고 기판을 그대로 상방 이동시켜, 기판의 상면 세정 상태로부터 기판의 저면 세정 상태로 파손없이 짧은 시간 내에 옮기는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
이를 통해, 기판을 이송 벨트에 연속적으로 공급하여 세정 공정이 행해지고, 공정 시간의 지연을 유발하는 기판의 반전 공정을 없애는 것에 의해, 얇은 초박판 유리 기판의 세정 공정을 보다 짧은 시간 동안에 파손없이 행하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
도1은 종래의 기판 처리 시스템의 구성을 도시한 블록도,
도2는 도1의 기판 세정 장치의 구성을 도시한 도면,
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 시스템의 구성을 도시한 블럭도,
도4는 도3의 인라인 세정장치의 구성을 도시한 도면,
도5a는 도4의 제1이송벨트 및 공압 인가 구성을 도시한 평면도,
도5b는 본 발명의 다른 실시 형태에 따른 제1이송벨트 및 공압 인가 구성을 도시한 평면도,
도6은 도4의 제1이송벨트의 종단면도,
도7은 도4의 'A'부분의 확대도,
도8은 도4의 제2이송벨트의 종단면도,
도9는 도4에 장착된 세정액 배출부의 구성을 도시한 도면이다.
이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 참고로, 본 설명에서 동일한 번호는 실질적으로 동일한 요소를 지칭하며, 이러한 규칙 하에서 다른 도면에 기재된 내용을 인용하여 설명할 수 있고, 당업자에게 자명하다고 판단되거나 반복되는 내용은 생략될 수 있다.
도면에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 기판 처리 시스템(1000)은, 카세트(CST)로부터 유리 기판(G)을 공급하는 로더 유닛(10)과, 로더유닛(10)에서 공급한 기판(G)을 인라인 형태로 이송하면서 세정하는 인라인 세정장치(1)와, 인라인 세정장치(1)에서 세정액으로 세정된 기판(G)의 세정상태를 검사하는 검사유닛(2)과, 검사유닛(2)에서 검사된 기판을 그 다음 공정으로 반송하는 언로딩유닛(30)을 포함하여 구성된다.
여기서, 기판(G)은 다양한 형태의 기판이 적용될 수 있으며, 특히 휴대용 기기의 폴더블 디스플레이장치에 사용되는 100㎛ 이하 두께의 유리 기판(UTG)이 적용될 수 있다.
상기 로더유닛(10)은, 도4에 도시된 바와 같이, 카세트(CST)에 보관중인 기판(G)을 인라인 세정 장치(1)로 공급(51)한다.
로더 유닛(10)은 다양한 형태로 구성될 수 있으며, 도4에 도시된 바와 같이, 전방과 후방이 개방된 카세트(CST)에 처리 공정이 행해질 예정인 다수의 기판(G)이 수용된 상태에서, 카세트(CST)의 높이를 조절(15d)하면서, 하나씩의 기판(G)을 푸셔(10)로 밀어내는 것(11)에 의해 인라인 세정 장치(1)의 상면 세정 유닛(100)으로 공급할 수 있다.
도면에 도시되지 않았지만, 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면, 로더 유닛(10)은 로봇 아암으로 형성되어, 아암에 의해 카세트(CST)로부터 인라인 세정 장치(1)으로 공급하도록 구성될 수도 있다.
로더 유닛(10)은 상면 세정 유닛(100)의 제1이송벨트(113)에 기판(G)을 연속적으로 공급한다. 즉, 하나의 기판(G)에 대한 상면 세정 공정이 종료되기 이전이더라도, 또 다른 기판(G)을 후속적으로 제1이송벨트(113)에 공급함으로써, 연속적으로 공급되는 기판(G)에 대한 세정 공정이 행해지도록 한다.
상기 인라인 세정장치(1)는, 도4에 도시된 바와 같이, 로더 유닛(10)에 의해 공급된 기판(G)의 상면(上面, S1)을 세정하는 상면 세정 유닛(100)과, 상면 세정부(100)로부터 기판(G)을 넘겨받아 기판(G)의 저면(底面, S2)을 세정하는 저면 세정 유닛(200)과, 상면 세정 유닛(100)으로부터 저면 세정 유닛(200)으로 기판(G)을 이동시키는 기판 전송부와, 저면 세정부(200)로부터 언로딩 유닛(30)으로 기판(G)의 이동을 보조하는 푸셔(400)를 포함하여 구성된다.
상기 상면 세정 유닛(100)은, 기판의 상면(S1)이 외부에 드러난 이송하는 제1이송부(110)와, 제1이송부(110)에 의해 이송되는 기판(G)의 상면(S1)을 세정하는 상면 세정부(120)와, 상면 세정부(120)에 의해 세정된 기판(G)을 건조시키는 제1건조기(130)와, 제1이송부(110)의 제1이송벨트(113)의 제1통공(113a)에 인가되는 압력을 조절하는 압력 제어기(140)와, 기판(G)의 상면(S1)의 세정공정 중에 분사된 세정액의 일부가 제1이송밸트(113)로 스며든 액체를 배출시키는 세정액 배출부(150)를 포함하여 구성된다.
이와 유사하게, 상기 저면 세정부(200)는, 기판의 저면(S2)이 외부에 드러난 이송하는 제2이송부(210)와, 제2이송부(210)에 의해 이송되는 기판(G)의 저면(S2)을 세정하는 저면 세정부(220)와, 저면 세정부(220)에 의해 세정된 기판(G)을 건조시키는 제2건조기(230)와, 제2이송부(210)의 제2이송벨트(213)의 제1통공(213a)에 인가되는 압력을 조절하는 압력 제어기(240)와, 기판(G)의 저면(S1)의 세정공정 중에 분사된 세정액의 일부가 제2이송밸트(213)로 스며든 액체를 배출시키는 세정액 배출부(250)를 포함하여 구성된다.
여기서, 제1이송부(110)는 무한 궤도로 회전하는 제1이송벨트(113)를 포함하고, 제1이송벨트(113)의 상면에 기판(G)을 거치한 상태로 기판(G)을 이송(71)시킨다. 이를 위하여, 제1이송벨트(113)는 일측 내부에 배치된 구동 롤러(111)가 구동모터에 의해 회전 구동되면서 제1이송벨트(113)를 정해진 방향으로 이동(71)시킨다. 이 때, 제1이송벨트(113)의 타측 내부에는 배치되어 제1이송벨트(113)의 이동(71)을 보조하는 아이들러 롤러(112)가 배치된다. 경우에 따라서는, 아이들러 롤러(112)는 구동 롤러(111)와 동기화되어 회전 구동되는 구동 롤러로 형성될 수 있다.
마찬가지로, 제2이송부(210)는 무한 궤도로 회전하는 제2이송벨트(213)를 포함하고, 제2이송벨트(213)의 저면에 기판(G)을 거치한 상태로 기판(G)을 이송(72)시킨다. 이를 위하여, 제2이송벨트(230)는 일측 내부에 배치된 구동 롤러(211)가 구동모터에 의해 회전 구동되면서 제2이송벨트(213)를 정해진 방향으로 이동(72)시킨다. 이 때, 제2이송벨트(213)의 타측 내부에는 배치되어 제2이송벨트(213)의 이동(72)을 보조하는 아이들러 롤러(212)가 배치된다.
여기서, 도6에 도시된 바와 같이, 제1이송벨트(113)의 상면은, 기판 로더(10)로부터 세정 공정이 행해질 기판(G)을 수신하는 수신 영역(AA)과, 세정액을 이용한 기판(G)의 상면 세정 공정이 행해지는 세정 영역(BB)과, 세정된 기판(G)에 대한 건조 공정이 행해지는 건조 영역(CC)과, 건조된 기판(G)을 제2이송벨트(213)로 전송하는 전송 영역(DD)으로 나뉘어질 수 있다.
그리고, 도8에 도시된 바와 같이, 제2이송벨트(213)의 저면은, 제1이송벨트(113)로부터 상면 세정 공정이 완료된 기판(G)을 수신하는 수신 영역(AA')과, 세정액을 이용한 기판(G)의 저면 세정 공정이 행해지는 세정 영역(BB')과, 세정된 기판(G)에 대한 건조 공정이 행해지는 건조 영역(CC')과, 건조된 기판(G)을 그 다음 공정으로 전송하는 배출 영역(DD')으로 나뉘어질 수 있다.
여기서, '상면(上面)'은 무한궤도로 회전하는 제1이송벨트(113) 중에 구동 롤러(111)와 아이들러 롤러(112)의 상측에 위치한 편평한 부분을 지칭하며, '저면(底面)'은 무한궤도로 회전하는 제2이송벨트(213) 중에 구동 롤러(211)와 아이들러 롤러(212)의 하측에 위치한 편평한 부분을 지칭한다.
이 때, 도4 및 도7에 도시된 바와 같이, 제1이송벨트(113)의 후방부와 제2이송벨트(213)의 전방부는 일부가 상하 방향으로 중복되는 중복 영역(99)이 구비된다. 여기서, 중복 영역(99)은 제1이송벨트(113)의 전송 영역(DD)을 포함하고, 제2이송벨트(213)의 수신영역(AA')을 포함한다. 이에 따라, 기판(G)이 제1이송벨트(113)의 전송 영역(DD)에 도달하면, 곧 제1이송벨트(113)와 제2이송벨트(213)의 중첩영역(99)에 도달한 것이고, 이 위치에서 기판(G)이 기판 전송부에 의해 상향 이동하여 제2이송벨트(213)로 이동한다. 이와 같이, 제1이송벨트(113)와 제2이송벨트(213)의 중첩 영역(99)이 구비되어, 기판(G)을 180도 뒤집는 공정 없이 곧바로 상측으로 이동시키면 곧바로 기판(G)의 저면이 외부에 노출되어 기판의 저면 세정 공정을 행할 수 있게 된다.
한편, 도면에 예시된 실시예에서는, 제1이송벨트(113)는 기판(G)을 상면에 위치시킨 상태로 이송하고, 중첩 영역(99)에서 기판(G)을 상측으로 이동시켜 제1이송벨트(113)로부터 제2이송벨트(213)로 이동시킨 후에, 제2이송벨트(213)에 의해 기판(G)을 저면에 위치시킨 상태로 이송하는 구성을 예시하였지만, 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면, 제1이송벨트는 기판을 저면에 위치시킨 상태로 이송하면서 기판의 저면을 먼저 세정하고, 중첩 영역에서 기판을 하측으로 이동시켜 제1이송벨트로부터 제2이송벨트로 이동시킨 후에, 제2이송벨트의 상면에 기판이 위치한 상태에서 이송하는 구성을 포함한다. 즉, 본 발명은, 도4에 도시된 바와 같이 제1이송벨트는 중첩 영역(99)에서 제2이송벨트에 비하여 하측에 배치될 수도 있고, 제1이송벨트는 중첩 영역(99)에서 제2이송벨트에 비하여 상측에 배치될 수도 있다.
한편, 도5a에 도시된 바와 같이, 제1이송벨트(113)는 하나의 열로 형성될 수 있다. 이 경우에, 기판(G)의 폭(W)은 제1이송벨트(113)의 폭(w1)과 동일하거나 더 크게 형성되는 것이 바람직하다. 이 경우에, 기판(G)의 양단부는 제1이송벨트(113)의 폭방향 바깥으로 'xp'로 표시된 길이만큼 돌출된 노출부가 마련된다.
본 발명의 다른 실시 형태에 따르면, 도5b에 도시된 바와 같이, 제1이송벨트(113)는 2개의 열로 형성될 수 있다. 이 경우에, 기판(G)은 각 열의 제1이송벨트(113)의 사이에 'xx'로 표시된 폭만큼 제1이송벨트(113)에 의해 지지되지 않는 노출부가 마련된다.
상기 기판 전송부는 제1이송벨트(113)에 의해 지지되지 않는 기판의 노출부를 제2이송벨트(213)를 향하여 밀어내는 푸시 부재(300)를 포함할 수 있다. 즉, 기판(G)이 상면 세정 공정을 마치고 제1이송벨트(113)의 중첩 영역(99)에 도달하면, 도4에 도시된 바와 같이, 푸시 부재(300)의 푸시 막대(310)가 기판(G)을 제2이송벨트(213)를 향하여 밀어내는 것에 의해, 제1이송벨트(113)의 상면에서 기판의 상면(S1)이 외부에 드러난 상태로부터 제2이송벨트(213)의 저면에서 기판(G)의 저면(S2)이 외부에 드러난 상태가 되도록 기판(G)을 이동시킨다. 다만, 본 발명은 기판 전송부가 푸시 부재(300)에 국한되지 않으며 후술하는 바와 같이 다양한 형태로 구성될 수 있다.
상기 상면 세정부(120)는, 제1이송벨트(113)의 상면에 위치시킨 상태로 회전(121r)하는 브러쉬(121)로 기판(G)의 상면(S1)을 접촉 세정하는 세정 브러쉬(121)와, 세정액 공급부(CL1)로부터 세정액을 공급받아 기판(G)의 상면에 대기압보다 높은 고압으로 세정액(88)을 분사하는 제1세정액 분사기(122)를 포함한다. 여기서, 브러쉬(121)에 의한 세정 공정 중에도 세정액이 공급되어, 기판(G)의 상면(S1)에 고착된 이물질의 제거 효율을 높인다.
본 발명의 다른 실시 형태에 따르면, 상면 세정부(120)는 세정 브러쉬(121)와 제1세정액 분사기(122) 중 어느 하나만으로 구성될 수도 있다.
이와 같이, 기판(G)의 상면(S1)은 세정 영역(BB)에서 접촉 세정 공정과 비접촉 세정 공정을 거치면서, 기판(G)의 상면에 고착된 이물질 및 묻어있는 이물질을 모두 제거할 수 있다.
상면 세정부(120)에 의한 기판(G)의 상면 세정 공정은, 제1이송벨트(113)가 세정 브러쉬(121)나 제1세정액 분사기(122)의 설치 위치에서 정지된 상태에서 행해질 수도 있지만, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 따르면, 제1이송벨트(113)가 세정 브러쉬(121)나 제1세정액 분사기(122)의 설치 위치에서도 정지하지 않고 이송하면서 세정 공정이 행해진다. 이를 통해, 로더 유닛(10)에 의해 기판(G)이 연속적으로 공급되더라도 차질없이 기판(G)의 세정액에 의한 세정 공정이 행해질 수 있다.
무엇보다도, 본 발명은, 제1이송벨트(131)의 중첩위치(99)에서 180도 회전없이 제2이송벨트(213)로 이동하는 것에 의해 기판의 저면 세정 공정의 준비가 되므로, 기판의 상면 세정과 저면 세정을 위한 전환 시간이 매우 짧게 되어, 공정 시간이 지연되지 않고 연속적인 기판 세정 공정을 가능하게 하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
상기 제1건조기(130)는, 상면 세정부(120)에 의해 기판(G)의 상면 세정 공정이 완료된 기판(G)에 대하여 기판(G)이 중첩 영역(99)에 도달하기 이전의 건조 영역(CC)에서, 건조기체 공급부(DA1)로부터 건조기체를 공급받아, 고온의 건조 기체(89)를 기판(G)의 표면에 분사하여 기판(G)의 상면을 건조시킨다.
바람직하게는, 제1건조기(130)로부터 분사되는 건조 기체(89)는 기판(G)의 이송 방향(71)의 반대 방향을 향하는 경사를 갖고 기판(G)을 향하여 에어 나이프 형태로 건조 기체(89)를 분사한다. 이를 통해, 기판(G)의 상면(S1)에 잔류하는 세정액이 제1건조기(130)로부터 분사되는 건조 기체에 의해 순간적으로 모두 건조시키는 대신에, 기판(G)의 상면(S1)에 잔류하는 세정액(88)이 전방부를 향하여 밀려나면서 기판(G)의 상면(S1)에 잔류하는 세정액을 제거할 수 있다.
이 때, 제1건조기(130)는 건조기체(89)를 1열로 분사할 수도 있지만, 2열 이상의 에어 나이프를 형성하여 보다 확실하게 기판(G)의 상면(S1)으로부터 잔류하는 세정액 등의 액체 성분을 밀어내어 제거할 수 있다.
상기 기판 전송부는, 기판(G)이 중첩 영역(99)에 도달하면, 기판(G)을 제1이송벨트(113)의 상면으로부터 제2이송벨트(213)의 저면으로 이동시킨다. 전술한 바와 같이, 푸시 부재(300)를 이용하여 제1이송벨트(113)로부터 제2이송벨트(213)로 기판(G)의 이동을 구현하거나 보조할 수 있다. 본 발명의 다른 이와 병행하거나 별개로, 기판 전송부는, 제1이송벨트(113)와 제2이송벨트(213)에 흡입압(pz)이나 정압(pp)을 인가하는 구성을 포함할 수 있다.
구체적으로는, 도6에 도시된 바와 같이, 제1이송벨트(113)의 표면에는 다수의 제1통공(113a)이 형성되고, 제1이송벨트(113)에는 제1에어챔버(C1)를 포함하는 다수의 에어챔버(C1, C2, C3,..., Cx, Cy; C)가 격벽(113x)으로 다수 구획된다. 그리고, 각각의 에어 챔버(C)에는 압력 제어기(140)로부터 흡입압(pz)이나 정압(pp)이 인가되어, 제1통공(113a)에 흡입압(pz)이나 정압(pp)이 인가되도록 한다.
마찬가지로, 도8에 도시된 바와 같이, 제2이송벨트(213)의 표면에는 다수의 제2통공(213a)이 형성되고, 제2이송벨트(213)에는 다수의 에어챔버(X1, X2, X3,..., Xx, Xy; X)가 격벽(213x)으로 다수 구획된다. 그리고, 각각의 에어 챔버(X)에는 압력 제어기(540)로부터 흡입압(pz)이나 정압(pp)이 인가되어, 제2통공(213a)에 흡입압(pz)이나 정압(pp)이 인가되도록 한다.
제1이송벨트(113)와 제2이송벨트(213)의 통공(113a, 213a)의 구성이 서로 유사하므로, 이하에서는 편의상 제1이송벨트(113)의 통공(113a)에 정압(pp)이나 흡입압(pz)이 인가되는 구성을 중심으로 상술한다.
제1이송벨트(113)의 일측에는 에어 챔버(C1, C2,..., Cx; C)와 연통되는 공압 전달체(145)가 밀착 배치된다. 공압 전달체(145)는 격벽(145a)에 의해 다수의 공간(145c)으로 구획되고, 공압 전달체(145)의 구획된 공간(145c)은 제1이송벨트(113)의 에어 챔버(C1, C2,...,Cx; C)의 개구(미도시)와 연통되고, 압력 제어기(140)으로부터 공압 전달체(145)의 구획된 공간(145c)에 독립적으로 정압 또는 부압(흡입압)을 인가됨으로써, 제1이송벨트(113)의 에어 챔버(C1, C2,..., Cx; C)는 독립적으로 압력이 조절된다.
여기서, 압력 제어기(140)로부터 연장된 제1공압라인(141)에는 흡입압 형태의 공압이 제1이송벨트(113)의 수신영역(AA), 세정 영역(BB) 및 건조 영역(CC)에 대응하는 공압 전달체(145)의 구획된 공간(145c)에 인가되고, 압력 제어기(140)로부터 연장된 제2공압라인(142)에는 정압 형태의 공압이 제1이송벨트(113)의 전송영역(DD)에 대응하는 공압 전달체(145)의 구획된 공간(145c)에 인가된다.
이와 동시에, 도면에 도시되지 않았지만, 순환 회전하는 제1이송벨트(113)와 위치 고정된 공압 전달체(145)의 사이에는 공압의 누설을 방지하는 고무 재질의 밀봉막이 공압 전달체(145)에 고정되어, 공압 전달체(145)에 대하여 이동하는 제1이송벨트(113)에도 불구하고 구획된 공간(145c)으로부터 에어 챔버(C1, C2,.., ; C)로 공압이 전달되는 과정에서 공압의 누설을 최소화한다.
즉, 로터리 유니언과 유사하게, 공압 전달체(145)의 구획된 공간(145c)은 위치 고정된 상태로 배치되어 정해진 공압을 공급받아 압력 상태를 유지하고, 공압 전달체(145)에 대하여 상대 이동하는 제1이송벨트(113)의 에어 챔버(C1, C2,...; C)는 슬라이딩 이동하면서 스쳐지나가는 각각의 구획된 공간(145c)으로부터 공압을 전달받아, 정압(pp) 또는 흡입압(pz) 상태로 인가된다. 따라서, 제1이송벨트(113)의 에어 챔버(C1, C2,...,Cx, Cy; C)는 순환 이동하면서 각각의 구획된 공간(145c)에 맞춰지는 위치에서 정해진 압력으로 독립적으로 제어된다.
이와 같은 구성은 제2이송벨트(213)의 에어챔버(X1, X2,...,Xx; X)에도 동일하게 적용되어, 로터리 유니언과 유사하게, 제2이송벨트(213)가 순환 이동하면서 에어챔버(X1, X2,...,Xx; X)는 순환 위치에 따라 정해진 압력으로 독립적으로 제어된다.
한편, 본 발명은 상기 구성에 국한되지 않으며, 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면, 로터리 유니언과 유사한 원리로, 순환 회전하는 제1이송벨트(113)와 제2이송벨트(213)의 통공(113a, 213a)에 흡입압(pz)이나 정압(pp) 중 어느 하나 이상을 인가하기 위한 공지된 구성이 적용될 수 있다. 또는, 이송 벨트(113, 213)의 위치에 따라 별도의 압력 인가 수단이 통공(113a, 213a)을 통해 흡입압(pz)이나 정압(pp)을 인가하도록 구성될 수 있다.
이를 통해, 제1이송벨트(113)의 각각의 에어챔버(C1, C2,.., Cx, Cy; C)와 제2이송벨트(213)의 각각의 에어챔버(X1, X2,...,Xx; X)는 순환 위치에 따라 미리 정해진 정압(pp) 또는 흡입압(pz)이 인가되며, 이에 따라 각 에어챔버(C, X)의 제1통공(113a) 및 제2통공(213a)에는 정해진 정압(pp) 또는 흡입압(pz)이 인가된다.
한편, 본 발명은 상기 구성에 국한되지 않으며, 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면, 통공(113a, 213a)이 구비되지 않고, 세정액의 장력에 의해 기판(G)이 이송 벨트(113, 213)의 표면에 부착되는 방식으로도 구성될 수 있다.
제1이송벨트(113)의 에어챔버(C)에 인가되는 압력을 살펴보면, 기판 로더(10)로부터 기판(G)이 공급되면, 공급된 기판(G)이 제1이송벨트(113)에 안착되어 이탈되지 않도록 해야 하므로, 제1이송벨트(113)의 수신 영역(AA)에서의 제1통공(113a)에는 흡입압(pz)이 인가된다. 이를 위하여, 도5a에 도시된 바와 같이, 제1이송벨트(113)의 수신영역(AA)에 인접한 공압 전달체(145)의 공간에는 흡입압(pz)이 인가된다. 이를 통해, 기판(G)이 제1이송벨트(113)의 수신영역(AA)에 공급되면, 제1통공(113a)에 작용하는 흡입압(pz)에 의해 기판의 가장자리를 파지하지 않더라도 손상없이 확실하게 제1이송벨트(113)의 상면에 흡착되어 위치 고정된다.
그리고, 기판(G)이 제1이송벨트(113)의 상면을 타고 이동(71)하면서, 상면 세정부(120)에 의한 세정 공정과 제1건조기(130)에 의한 건조 공정이 행해지는 동안에도 기판(G)은 제1이송벨트(113)의 상면에 위치 고정되는 것이 바람직하다. 이를 위하여, 도5a에 도시된 바와 같이, 제1이송벨트(113)의 세정영역(BB) 및 건조 영역(CC)에 대응하는 공압 전달체(145)의 구획된 공간(145c)에도 흡입압(pz)이 인가된다. 이를 통해, 기판(G)이 상면 세정부(120)와 제1건조기(130)에 의해 세정 공정과 건조 공정이 행해지는 동안에, 기판은 제1이송벨트(113)의 제1통공(113a)에 작용하는 흡입압(pz)으로 인하여 제1이송벨트(113)의 상면에 흡입 고정(Y1)된다.
그리고, 기판이 제2이송벨트(213)로 이송되는 중첩영역(99)인 제1이송벨트(113)의 전송 영역(DD)에서는, 흡입압이 기판(G)에 작용하면 제2이송벨트(113)로 기판(G)을 이동시키는 것이 방해되므로, 제1이송벨트(113)의 제1통공(113a)에는 흡입압이 인가되지 않는 상태가 된다. 이와 동시에, 중첩 영역(99)인 제2이송벨트(213)의 수신영역(AA')에서는, 제2이송벨트(213)의 제2통공(213a)에는 흡입압이 인가되는 상태로 제어된다.
이를 통해, 중첩 영역(99)에 도달한 기판(G)은, 제2이송벨트(213)의 수신영역(AA')에서의 제2통공(213a)에 작용하는 흡입압(pz)에 의해 상측으로 들어올려지는 힘(Y2)에 의해, 제1이송벨트(113)의 상면으로부터 제2이송벨트(213)의 저면으로 이동하게 된다. 즉, 제1이송벨트(113)의 제1통공(113a)에 흡입압이 인가되지 않는 것과 제2이송벨트(213)의 제2통공(213a)에 흡입압(pz)이 인가되는 것은 기판 전송부를 구성한다.
이 때, 기판(G)이 안착되는 제1이송벨트(113)의 외표면는 수지, 얇은 금속판으로 형성될 수 있으며, 예를 들어 PVC로 형성될 수 있다. 이를 통해, 기판(G)이 제1이송벨트(113)의 표면에 밀착된 상태를 유지하면서, 중첩 영역(99)에서 기판(G)을 제1이송벨트(113)의 상면으로부터 분리시키는 공정이 용이하게 행해질 수 있다.
따라서, 기판(G)은 제1이송벨트(113)의 상면에 거치된 상태에서는 상면(S1)이 외부로 드러나 상면 세정이 가능한 상태이었지만, 기판의 180도 회전시키는 동작이 없더라도, 제2이송벨트(213)의 저면으로 이동한 상태에서는 저면(S2)이 외부로 드러나 저면 세정이 가능한 상태가 된다.
바람직하게는, 기판(G)이 중첩 영역(99)에서 제1이송벨트(113)의 상면으로부터 제2이송벨트(213)로 이동하는 과정에서, 제1이송벨트(113)의 제1통공(113a)에 정압(pp)이 인가되어, 기판(G)이 제1이송벨트(113)의 상면으로부터 제2이송벨트(213)의 저면으로 들어올려지는 것을 보조할 수 있다. 즉, 제1이송벨트(113)의 제1통공(113a)에 정압(pp)이 인가되지 것과 제2이송벨트(213)의 제2통공(213a)에 흡입압(pz)이 인가되는 것은 기판 전송부를 구성한다.
전술한 바와 같이, 기판(G)이 중첩 영역(99)에서 제1이송벨트(113)의 상면으로부터 제2이송벨트(213)로 이동하는 과정에서, 푸시 부재(300)의 푸시 막대(310)가 기판(G)을 제2이송벨트(213)를 향하여 밀어내는 동작이 함께 병행될 수도 있다.
상기와 같이, 기판(G)이 중첩 영역(99)에서 들어올려져 제1이송벨트(113)의 상면으로부터 제2이송벨트(213)의 수신 영역(AA')에서의 저면으로 이동하면, 저면 세정 유닛(200)에서의 기판 저면 세정 공정이 행해진다.
전술한 상면 세정 유닛(100)에서와 마찬가지로, 제2이송벨트(213)는 수신영역(AA')과, 세정 영역(BB')과, 건조 영역(CC')에서는 제2통공(213a)을 통해 흡입압을 기판(G)에 인가하여 제2이송벨트(213)의 저면으로부터 기판(G)이 추락하는 것을 방지하고, 배출 영역(DD')에서는 제2통공(213a)을 통해 흡입압(pz)이 인가되지 않으며 바람직하게는 정압(pp)을 기판(G)에 인가한다.
이 때, 기판(G)이 안착되는 제2이송벨트(113)의 외표면는 수지, 얇은 금속판으로 형성될 수 있으며, 예를 들어 PVC로 형성될 수 있다. 이를 통해, 기판(G)이 제2이송벨트(213)의 표면에 밀착된 상태를 유지하면서, 배출 영역(DD')에서 기판(G)을 제2이송벨트(213)의 저면으로부터 분리시키는 공정이 용이하게 행해질 수 있다.
제2이송벨트(213)의 순환 이동(72)에 의해 기판(G)이 저면 세정부(220)로 이동되면, 제2이송벨트(213)의 저면에 위치시킨 상태로 회전하는 브러쉬(221)로 기판(G)의 저면(S2)을 접촉 세정하는 세정 브러쉬(221)와, 세정액 공급부(CL2)로부터 세정액을 공급받아 기판(G)의 저면(S2)에 대기압보다 높은 고압으로 세정액(88)을 분사하는 제2세정액 분사기(222)를 포함한다. 여기서, 브러쉬(221)에 의한 세정 공정 중에도 세정액이 공급되어, 기판(G)의 저면(S2)에 고착된 이물질의 제거 효율을 높인다.
본 발명의 다른 실시 형태에 따르면, 저면 세정부(220)는 세정 브러쉬(221)와 제2세정액 분사기(222) 중 어느 하나만으로 구성될 수도 있다.
이와 같이, 기판(G)의 저면(S2)은 세정 영역(BB')에서 접촉 세정 공정과 비접촉 세정 공정을 거치면서, 기판(G)의 상면에 고착된 이물질 및 묻어있는 이물질을 모두 제거할 수 있다.
저면 세정부(220)에 의한 기판(G)의 저면 세정 공정은, 제2이송벨트(213)가 세정 브러쉬(221)나 제2세정액 분사기(222)의 설치 위치에서 정지된 상태에서 행해질 수도 있지만, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 따르면, 제2이송벨트(213)가 세정 브러쉬(221)나 제2세정액 분사기(222)의 설치 위치에서도 정지하지 않고 이송하면서 세정 공정이 행해진다. 이를 통해, 기판(G)이 연속적으로 공급되더라도 차질없이 기판(G)의 세정액에 의한 세정 공정이 행해질 수 있다.
저면 세정부(220)에 의해 기판(G)의 저면 세정 공정이 완료된 기판(G)이 추가로 후방부를 향해 이동하면, 제2건조기(230)는 기판(G)이 배출 영역(DD')에 도달하기 이전의 건조 영역(CC')에서, 건조기체 공급부(DA2)로부터 건조기체를 공급받아, 건조 기체(89)를 기판(G)의 표면에 분사하여 기판(G)의 저면을 건조시킨다.
바람직하게는, 제2건조기(230)로부터 분사되는 건조 기체(89)는 기판(G)의 이송 방향(72)의 반대 방향을 향하는 경사를 갖고 기판(G)을 향하여 에어 나이프 형태로 건조 기체(89)를 분사한다. 이를 통해, 기판(G)의 저면(S2)에 잔류하는 세정액(88)이 전방부를 향하여 밀려나면서 기판(G)의 저면(S2)에 잔류하는 세정액을 제거할 수 있다.
제2건조기(230)는 건조기체(89)를 2열로 분사할 수도 있지만, 도4에 도시된 바와 같이, 2열 이상의 에어 나이프를 형성하여 보다 확실하게 기판(G)의 저면(S2)으로부터 잔류하는 세정액 등의 액체 성분을 밀어내어 제거할 수 있다.
한편, 기판(G)의 세정 공정 중에 공급되는 세정액(88)은 제1통공(113a)과 제2통공(213a)을 통해 에어 챔버(C, X)로 유입될 수 있다. 에어 챔버(C, X)로 유입된 세정액(88)은 세정액 배출부(150, 250)에 의해 외부로 배출된다.
구체적으로는, 에어 챔버(C, X)로 유입된 세정액은, 부압이 작용하는 공압 전달체(145)의 구획된 공간(145c)으로 개구를 통해 유입된다. 그리고, 각각의 구획된 공간(145c)은 배출 배관(151, 251)이 하방으로 연장된다. 이에 따라, 도9에 도시된 바와 같이, 에어 챔버(C, X)와 연통되게 형성되어 에어 챔버(C, X)로 유입된 액체는 구획된 공간(145c)을 통해 배출 배관(151, 251)으로 유입(66)된다.
배출 배관(151, 251)을 통해 유입되는 기체와 액체를 임시적으로 수집하는 수집통(155)에는, 바닥면에 액체를 배출하는 액체 배출관(159)이 마련되고, 이보다 상측인 천장면에 기체를 배출하는 기체 배출관(158)이 마련된다. 이 때, 기체 배출관(158)에는 부압을 인가하는 흡입 펌프(V)가 구비될 수 있다.
이를 통해, 이송 벨트(113, 213)의 통공(113a, 213a)을 통해 수집통(155)으로 유입된 기체와 액체(주로 세정액)는, 수집통(155)에서 무거운 액체는 액체 배출관(159)을 통해 외부로 배출(69)되고, 가벼운 기체는 기체 배출관(158)을 통해 외부로 배출된다. 따라서, 인라인 세정 장치(100)에 연속적으로 기판이 공급되어 세정 공정이 연속적으로 행해지는 과정에서, 통공(113a, 213a)을 통해 유입되는 세정액을 즉시 실시간으로 외부로 배출함에 따라, 연속적인 처리 공정이 효율적으로 행해질 수 있게 된다.
제2건조기(230)에 의해 저면(S2)에 잔류하는 세정액이 제거된 기판(G)은 제2이송벨트(213)의 저면에 밀착된 상태로 배출 영역(DD')에 도달한다. 이 때, 언로딩 유닛(30)은 배출 영역(DD')의 하측에 포크(Pk)를 위치시키고, 배출 영역(DD')의 제2통공(213a)에는 정압(pp)이 인가되어, 제2이송벨트(213)의 저면으로부터 언로딩 유닛(30)의 포크(Pk)로 이동하는 것에 의해, 기판(G)이 인라인 세정 장치(1)로부터 배출된다.
이 때, 제2이송벨트(213)의 배출 영역(DD')에 배치된 푸셔(400)로 기판(G)의 노출부를 하방으로 밀어, 제2이송벨트(213)의 저면으로부터 기판(G)이 분리되는 것을 보조할 수 있다. 그리고, 기판(G)을 탑재하는 포크(Pk)의 표면에는 흡입공(58)이 마련되어, 언로딩 유닛(30)의 언로딩 공정 중에 기판이 포크(Pk)로부터 이탈하는 것을 방지할 수도 있다.
한편, 인라인 세정장치(1)에서 세정이 완료된 기판은 검사 유닛(2)에서 세정상태를 검사받는다. 검사 결과, 세정이 불량한 경우에는 다시 세정 공정이 행해지도록 반송(999)될 수 있다. 그리고, 세정이 양호한 경우에는, 그 다음 공정으로 이송된다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
1: 인라인 세정장치 10: 기판 로더
30: 언로딩 유닛 100: 상면 세정 유닛
110: 제1이송부 113: 제1이송벨트
113a: 제1통공 120: 상면 세정부
130: 제1건조기 140: 압력 제어기
145: 공압 전달체 145c: 구획된 공간
150: 세정액 배출부 151: 배출 배관
155: 수집통 200: 저면 세정 유닛
120: 제2이송부 213: 제2이송벨트
213a: 제2통공 220: 저면 세정부
230: 제2건조기 240: 압력 제어기
250: 세정액 배출부 251: 배출배관
300: 푸시 부재 400: 푸셔
G: 기판

Claims (24)

  1. 기판을 연속적으로 이송하면서 세정하는 기판 세정 장치로서,
    기판의 상면(前面)이 외부에 드러나도록 기판을 이송하는 제1이송벨트와;
    기판의 저면(後面)이 외부에 드러나도록 기판을 이송하는 제2이송벨트와;
    상기 제1이송벨트에 의해 이송되는 상기 기판의 상면을 세정하는 상면 세정부와;
    상기 제2이송벨트에 의해 이송되는 상기 기판의 저면을 세정하는 저면 세정부를;
    포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제1이송벨트는 상기 기판을 상면에 위치시킨 상태로 이송하고, 상기 제2이송벨트는 상기 기판을 저면에 위치시킨 상태로 이송하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 제1이송벨트는 상기 기판을 저면에 위치시킨 상태로 이송하고, 상기 제2이송벨트는 상기 기판을 상면에 위치시킨 상태로 이송하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 기판은 100㎛ 이하의 두께를 갖는 유리 기판인 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  5. 제 1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1이송벨트와 상기 제2이송벨트는 상하 방향으로 중복되는 중복 영역이 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 기판을 상기 제1이송벨트로부터 상기 제2이송벨트로 옮겨주는 기판 전송부를;
    더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  7. 제 5항에 있어서,
    상기 기판은 상기 제1이송벨트와 제2이송벨트 중 어느 하나 이상의 폭과 동일하거나 더 큰 폭으로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  8. 제 5항에 있어서,
    상기 제1이송벨트와 상기 제2이송벨트 중 어느 하나 이상은 2열 이상으로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  9. 제 5항에 있어서,
    상기 기판은 상기 제1이송벨트의 상면 바깥에 드러난 노출부가 있는 상태로 배치되고,
    상기 기판 전송부는 상기 기판의 노출부를 상기 제2이송벨트를 향하여 밀어내는 푸시 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  10. 제 9항에 있어서,
    상기 노출부는 상기 기판의 양단부인 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  11. 제 9항에 있어서,
    상기 제1이송벨트는 2열 이상으로 배치되고,
    상기 노출부는 상기 제1이송벨트의 각 열의 사이 영역인 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  12. 제 5항에 있어서,
    상기 기판 전송부는 상기 제2이송벨트에 흡입압이 인가되는 다수의 제2통공을 포함하고;
    상기 기판에 상기 중복 영역에 위치한 상태에서 상기 중복 영역의 상기 제2이송벨트의 상기 제2통공에는 흡입압이 인가되어 상기 기판이 상기 제1이송벨트로부터 상기 제2이송벨트로 이동하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  13. 제 5항에 있어서,
    상기 제1이송벨트는 흡입압이 인가되는 다수의 제1통공이 형성되어, 상기 제1이송벨트의 상면에 상기 기판이 안착된 상태에서 흡입압이 인가되고,
    상기 제2이송벨트는 흡입압이 인가되는 다수의 제2통공이 형성되어, 상기 제2이송벨트의 저면에 상기 기판이 안착된 상태에서 흡입압이 인가되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  14. 제 13항에 있어서,
    상기 기판 전송부는, 상기 기판에 상기 중복 영역에 위치한 상태에서, 상기 중복 영역에서 흡입압이 인가되는 제2통공과, 상기 중복 영역에서 흡입압이 인가되지 않는 제1통공을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  15. 제 14항에 있어서,
    상기 기판에 상기 중복 영역에 위치한 상태에서, 상기 중복 영역에 위치한 상기 제1통공에 정압이 인가되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  16. 제 5항에 있어서,
    상기 제1이송벨트와 상기 제2이송벨트는 무한궤도로 회전하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  17. 제 5항에 있어서,
    상기 제1이송벨트와 상기 제2이송벨트 중 어느 하나 이상은 PVC로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  18. 제 5항에 있어서,
    상기 상면 세정부와 상기 저면 세정부 중 어느 하나 이상은 회전하면서 상기 기판과 접촉하여 세정하는 브러쉬를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  19. 제 5항에 있어서,
    상기 상면 세정부와 상기 저면 세정부 중 어느 하나 이상은 대기압보다 높은 고압으로 세정액을 분사하는 세정액 분사기를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  20. 제 5항에 있어서,
    상기 상면 세정부에 의해 세정된 상기 기판이 상기 중첩 영역에 도달하기 이전에 상기 기판의 표면을 향하여 건조 기체를 분사하는 제1건조기를;
    더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  21. 제 20항에 있어서,
    상기 제1건조기는 상기 기판의 이송 방향의 반대 방향을 향하는 경사를 갖고 상기 기판을 향하여 에어나이프 형태로 건조 기체를 분사하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  22. 제 5항에 있어서,
    상기 제1이송벨트에는 다수의 제1통공이 형성되고, 상기 제1이송벨트의 내부에는 제1에어챔버를 포함하는 에어 챔버가 다수 분할 형성되어 독립적으로 압력이 조절되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  23. 제 22항에 있어서,
    상기 제1에어챔버는 상기 기판을 안착하는 위치에서는 부압으로 조절되고, 상기 중첩 위치에서는 정압으로 조절되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  24. 제 22항에 있어서,
    상기 제1에어챔버와 연통되게 형성되어 상기 제1에어챔버로 유입된 액체를 배출시키는 배출 배관과;
    상기 배출 배관을 통해 유입된 기체와 액체가 함께 유입되는 수집통과;
    상기 수집통과 연통된 액체 배출관과;
    상기 수집통과 연통되되 상기 액체 배출관보다 높은 위치에서 연통된 기체 배출관과;
    상기 기체 배출관에 부압을 인가하는 흡입 펌프를;
    더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
KR1020200080655A 2020-06-30 2020-06-30 인라인 타입의 초박형 기판 세정 장치 KR20220002012A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200080655A KR20220002012A (ko) 2020-06-30 2020-06-30 인라인 타입의 초박형 기판 세정 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200080655A KR20220002012A (ko) 2020-06-30 2020-06-30 인라인 타입의 초박형 기판 세정 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20220002012A true KR20220002012A (ko) 2022-01-06

Family

ID=79348139

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200080655A KR20220002012A (ko) 2020-06-30 2020-06-30 인라인 타입의 초박형 기판 세정 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20220002012A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114888022A (zh) * 2022-04-27 2022-08-12 安徽煜祺光学科技有限公司 一种玻璃背板喷淋清洗机

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114888022A (zh) * 2022-04-27 2022-08-12 安徽煜祺光学科技有限公司 一种玻璃背板喷淋清洗机
CN114888022B (zh) * 2022-04-27 2024-03-15 安徽煜祺光学科技有限公司 一种玻璃背板喷淋清洗机

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100671251B1 (ko) 기판 처리 장치
TWI344173B (ko)
KR100292935B1 (ko) 기판 처리 장치
JPH0536658A (ja) 基板洗浄・乾燥装置
TWI531411B (zh) 塗佈裝置及噴嘴的維護方法
JP2008124366A (ja) 減圧乾燥装置
TWI449098B (zh) 基板處理裝置
JP2006232468A (ja) 処理システム
JP6442648B1 (ja) 真空処理装置
KR102529592B1 (ko) 반도체 웨이퍼를 세정하기 위한 장치 및 방법
KR101069600B1 (ko) 부상식 기판 코터 장치 및 그 코팅 방법
KR20220002012A (ko) 인라인 타입의 초박형 기판 세정 장치
KR100330806B1 (ko) 반도체 웨이퍼의 세척장치 및 방법
KR102166933B1 (ko) 필름 세정 장치
TWI640659B (zh) 基板處理系統及基板處理方法
KR20220002808A (ko) 기판 처리 시스템
KR20210158250A (ko) 인라인 타입의 초박형 유리 기판의 세정 장치
JP2000049206A (ja) 基板処理装置
KR102278080B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP2009016654A (ja) 塗布装置
KR20210158248A (ko) 초박형 유리 기판의 기판 세정 장치 및 이에 사용되는 기판 캐리어
JPH11216433A (ja) 基板処理装置
US20230178387A1 (en) Apparatus and method of treating substrate
JP2004182378A (ja) 大型基板の搬送方法及び固定方法
JPH09253558A (ja) 塗布装置および塗布方法