KR20210136131A - 감열 기록 매체 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기재; 감열 기록층; 및 기재와 감열 기록층 사이에 배치되고 비열팽창성 중공 충전재를 함유하는 언더층을 포함하는 감열 기록 매체로서, 감열 기록 매체가 탄화수소를 포함하고, 3개 내지 16개의 탄소 원자를 갖는 탄화수소의 양이 감열 기록 매체의 면적에 대해 0.2 mg/m2 이상인 감열 기록 매체를 제공한다.

Description

감열 기록 매체
본 개시내용은 감열 기록 매체(thermosensitive recording medium)에 관한 것이다.
감열 기록 매체는 많은 분야, 예를 들어 신선 식품류, 도시락, 및 델리카트슨을 위한 POS 분야; 예를 들어 서적 및 문서의 복사 분야; 팩시밀리와 같은 통신 분야; 티켓팅 기계, 영수증, 및 서명된 영수증과 같은 티켓팅 분야; 및 항공 산업에서의 수화물 태그와 같은 많은 분야에서 널리 사용되어 왔다.
감열 기록 매체는 전형적으로 종이 시트, 합성지 시트, 또는 합성 수지 필름과 같은 지지체 상에 감열 발색액을 도포하고, 이어서 건조함으로써 제조되어 왔다. 감열 발색액은 가열 시 발색 반응을 유발할 수 있는 발색 성분을 포함한다. 그렇게 수득된 감열 기록 매체가 스타일러스 또는 서멀 헤드로 가열되는 경우, 컬러 이미지는 감열 기록 매체 상에 기록된다. 종래의 감열 기록 매체는 낮은 열반응성을 보유하고, 결과적으로 신속한 기록의 경우 만족스럽지 않은 컬러 밀도 또는 정확도(preciseness)를 초래한다. 따라서, 광범위한 연구가 수행되었다. 예를 들어, 2 마이크로미터 내지 10 마이크로미터의 평균 입경 및 90% 이상의 중공률(rate of hollowness)을 갖는 중공 마이크로입자 또는 2.0 마이크로미터 내지 20 마이크로미터의 평균 입경 및 80% 이상의 중공률을 갖는 중공 마이크로입자가 언더층으로 사용되는 것이 제안되었다. 그 결과, 매우 높은 발색 감도를 보유하는 감열 기록 매체가 수득되었다(예를 들어, PTL1 및 2 참조).
인용문헌 목록
특허 문헌
PTL1: 일본 특개평 제04-241987호
PTL2: 일본 특개평 제05-000573호
PTL3: 일본 특공평 제01-050600호
기술적 과제
본 개시내용은 캘린더링에 기인하는 감도의 감소가 방지됨으로써 감도 및 정확도가 뛰어난 감열 기록 매체를 제공하는 것을 목적으로 한다.
과제 해결 수단
본 개시내용의 한 양태에 따르면, 본 개시내용의 감열 기록 매체는 기재, 감열 기록층, 및 언더층을 포함한다. 언더층은 기재와 감열 기록층 사이에 배치된다. 언더층은 비열팽창성 중공 충전재(non-thermally expandable hollow filler)를 함유한다. 감열 기록 매체는 탄화수소를 포함한다. 3개 내지 16개의 탄소 원자를 보유하는 탄화수소의 양은 감열 기록 매체의 면적에 대해 0.2 mg/m2 이상이다.
발명의 유리한 효과
본 개시내용은 캘린더링에 기인하는 감도의 감소가 방지됨으로써 감도 및 정확도가 뛰어난 감열 기록 매체를 제공할 수 있다.
도 1a는 본 개시내용의 감열 기록 매체의 일례를 나타내는 개략도이다.
도 1b는 본 개시내용의 감열 기록 매체의 다른 일례를 나타내는 개략도이다.
도 2a는 실시예 5의 감열 기록 매체의 단면을 나타내는 주사 현미경 사진의 일례를 나타낸다.
도 2b는 실시예 5의 감열 기록 매체의 단면을 나타내는 주사 현미경 사진의 다른 예를 나타낸다.
도 3a는 비교예 1의 감열 기록 매체의 단면을 나타내는 주사 현미경 사진의 일례를 나타낸다.
도 3b는 비교예 1의 감열 기록 매체의 단면을 나타내는 주사 현미경 사진의 다른 예를 나타낸다.
실시양태의 설명
(감열 기록 매체)
본 개시내용의 감열 기록 매체는 기재, 감열 기록층, 및 언더층을 포함한다. 언더층은 기재와 감열 기록층 사이에 배치된다. 언더층은 비열팽창성 중공 충전재를 포함한다. 감열 기록 매체는 탄화수소를 포함한다. 3개 내지 16개의 탄소 원자를 보유하는 탄화수소의 양은 감열 기록 매체의 면적에 대해 0.2 mg/m2 이상이다. 감열 기록 매체는 필요에 따라 보호층, 점착제 층 및 기타 층을 추가로 포함한다.
본 발명자들은 캘린더링에 기인한 감도의 감소가 방지됨으로써 감도와 정확도가 뛰어난 감열 기록 매체에 대한 연구를 수행하였다. 그 결과, 본 발명자들은 다음과 같은 사실을 확인하였다.
관련 기술분야에서는, 감열 기록 매체가 형성되고, 이어서 그의 표면을 평활하게 하기 위해 캘린더링(압착 롤에 의한 압착)이 수행된다. 그 결과, 감열 기록 매체 내에 배치된 언더층 내의 중공 입자가 압착되어, 만족스러운 보온 및 단열 특성이 확보되지 않고, 감도가 저하된다. 이는 문제가 된다.
또한, 관련 기술분야에서 감열 기록 매체는, 중공 입자가 캘린더링에 의해 압착되어 충전 특성이 열화되기 때문에, 반드시 만족스러운 정확도가 얻어 지지 않는다는 문제점도 갖고 있다.
더구나, 또한 관련 기술분야에서 캡슐 벽으로서 작용하는 열가소성 물질 및 입자 내에서 열팽창제로서 작용하는 휘발성 저비등점 탄화수소를 포함하는 중공 입자를 포함하는 열팽창성 감열 기록지도 제안되었다. 이러한 구성에서, 감열 기록지가 탄화수소를 포함함에도 불구하고, 중공 입자는 단지 가열 후에만 생성된다. 따라서, 감열 기록지는 발색 감도 및 정확도의 관점에서 만족스럽지 않다.
-탄화수소-
탄화수소는 감열 기록 매체 내의 어디에도 포함될 수 있고, 탄화수소가 포함되는 층은 의도된 목적에 따라 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 탄화수소는 언더층 내의 중공 충전재 내에 포함될 수 있다.
감열 기록 매체 내에 3개 내지 16개의 탄소 원자를 갖는 탄화수소를 측정하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 헤드스페이스 가스 크로마토그래피법은 하기 조건 하에서 사용될 수 있다.
감열 기록 매체가 점착제를 포함하는 경우, 점착제는, 예를 들어 용매를 사용하여 제거되거나, 또는 두께 방향과 직교하는 방향으로 감열 기록 매체를 분할하여 이의 두께를 얇게 함으로써 점착제가 배치된 쪽을 제거하여 제거된다는 점을 유의해야 한다. 그 후, 점착제가 제거된 감열 기록 매체는 하기 기재된 조건 하에서 측정을 수행하게 된다.
점착제는 감열 기록 매체가 점착제 층 및 접착제 층 중 적어도 하나를 포함하는 경우 점착제 층 및 접착제 층 중 적어도 하나의 재료를 의미한다.
-감열 기록 매체 내의 탄화수소를 측정하기 위한 조건-
감열 기록 매체 내에 포함된 탄화수소의 중량은 하기와 같은 헤드스페이스 가스 크로마토그래피법에 의해 측정될 수 있다.
먼저, 중공 충전재를 포함하는 감열 기록 매체의 2.5 cm2는 20 mL 헤드스페이스 바이알 내에서 평량된다. 이 바이알은 플루오로수지 피복된 실리콘 검 격막 및 알루미늄 캡을 이용하여 밀봉하여 봉인된다. 이렇게 봉인된 헤드스페이스 바이알은 170℃에서 20분 동안 가열되고, 이어서 헬륨으로 0.5분 동안 가압된다. 그 후, 3 mL의 가스 상(헤드스페이스)이 취해지고, 가스 크로마토그래프 내로 도입되어 감열 기록 매체 내의 탄화수소의 중량 비율을 측정하게 된다.
헤드스페이스 가스 크로마토그래피 분석이 수행되는 조건은 다음과 같다:
GC 컬럼: DB-624, Agilent Technologies에서 시판된 것, 길이: 30 m, 내경: 0.25 mm, 필름 두께: 1.40 마이크로미터)
검출기: FID, 온도: 200℃
승온 프로그램: 40℃(6분) → 20℃/분 → 200℃(3분 동안 유지)
주입구 온도: 200℃
가스 도입량: 3 mL
헬륨 유량: 1 mL/분
분리비(split ratio): 10 : 1
정량: 검량곡선법(공지된 양의 샘플이 DMF 중에 용해된 용액 5 마이크로리터는 20 mL 헤드스페이스 바이알 내로 취해진다. 헤드스페이스 바이알은 플루오로수지 피복된 실리콘 검 격막 및 알루미늄 캡을 이용하여 밀봉하여 봉인된다. 이렇게 봉인된 헤드스페이스 바이알은 170℃에서 20분 동안 가열되고, 이어서 헬륨으로 0.5분 동안 가압된다. 그 후, 3 mL의 가스상(헤드스페이스)이 취해지고, 가스 크로마토그래프 내로 도입된다.).
탄화수소는 가열 시 증발되는 한 특별히 한정되지 않는다. 이의 예는 3개 내지 16개의 탄소 원자를 갖는 탄화수소, 예를 들어 프로판, (이소)부탄, (이소)펜탄, (이소)헥산, (이소)헵탄, (이소)옥탄, (이소)노난, (이소)데칸, (이소)운데칸, (이소)도데칸, (이소)트리데칸, 및 (이소)헥사데칸을 포함한다.
중공부 내에 탄화수소를 포함하는 비열팽창성 중공 충전재가 바람직한데, 그 이유는 충전재가 감열 기록 매체의 언더층을 위해 사용되는 경우, 탄화수소의 증기압은 캘린더링 시 중공 충전재가 파쇄(crushing)되지 않도록 방지할 수 있고, 결과적으로 감도 감소를 억제하기 때문이다.
탄화수소의 비등점은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 비등점은 바람직하게는 60℃ 이하, 더 바람직하게는 -15℃ 이상 40℃ 이하이다.
비등점이 60℃ 이하인 탄화수소가 바람직한데, 그 이유는 중공 충전재의 중공부 내에 포함된 탄화수소의 증기압이 높아지고, 이에 따라 상기 충전재가 감열 기록 매체의 언더층을 위해 사용되는 경우, 중공 충전재는 캘린더링 시 파쇄되는 것을 방지할 수 있고, 결과적으로 감도 감소를 억제하기 때문이다.
탄화수소의 양은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 그 양은 감열 기록 매체의 면적에 대해 바람직하게는 0.2 mg/m2 이상, 더 바람직하게는 0.5 mg/m2 이상 200 mg/m2 이하, 더 바람직하게는 1.0 mg/m2 이상 190 mg/m2 이하, 특히 바람직하게는 2.0 mg/m2 이상 180 mg/m2 이하이다. 탄화수소의 양이 0.2 mg/m2 이상인 경우, 중공 충전재는 캘린더링 시 파쇄되는 것을 방지할 수 있고, 결과적으로 감도 감소를 억제한다.
감열 기록 매체의 면적은 기재에 대해 평행한 표면의 면적을 의미한다는 것을 유의해야 한다.
<언더층>
언더층은 비열팽창성 중공 충전재를 포함하고, 필요에 따라 결착 수지, 가교제, 및 기타 성분을 추가로 포함한다.
비열팽창성 중공 충전재는 이하 중공 충전재 또는 중공 입자로서 언급될 수 있고, 언더층은 이하 언더코트층, 보온층, 또는 중간층으로서 언급될 수 있다는 점을 유의해야 한다.
-비열팽창성 중공 충전재-
비열팽창성 중공 충전재는 열가소성 수지를 포함하는 외부 쉘 및 외부 쉘 내의 중공부를 포함하고, 중공부 내에 공기 또는 다른 가스를 추가로 포함한다. 비열팽창성 중공 충전재는 발포를 유발하기 위해 열팽창성 미소구체를 가열함으로써 수득된 팽창된 중공 충전재, 즉 동일한 방식으로 가열하는 경우에도 추가로 팽창되지 않는 중공 충전재이다. 다른 가스는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 탄화수소를 포함한다.
탄화수소의 양은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 그 양은 중공 충전재의 질량에 대해 바람직하게는 0.2 질량% 이상, 더 바람직하게는 0.5 질량% 이상 20.0 질량% 이하, 더 바람직하게는 1.0 질량% 이상 15.0 질량% 이하이다. 탄화수소의 양이 0.2 질량% 이상인 경우, 중공 충전재는 캘린더링 시 파쇄되는 것을 방지할 수 있고, 결과적으로 감도 감소를 억제한다.
중공 충전재는, 이의 형상 및 크기에 관해 특별히 한정되지 않지만, 하기 기재되어 있는 바와 같이 부피 평균 입경(Dv) 및 중공률(%)을 갖는 것이 바람직하다.
중공 충전재의 부피 평균 입경(입자 외경)은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 부피 평균 입경은 바람직하게는 1 마이크로미터 이상 10 마이크로미터 이하, 바람직하게는 1 마이크로미터 이상 6 마이크로미터 이하이다. 중공 충전재의 부피 평균 입경이 1 마이크로미터 이상 10 마이크로미터 이하인 경우, 언더층은 표면 평활도가 개선될 수 있고, 따라서 인쇄 정확도가 향상된다.
중공 충전재의 부피 평균 입경은 예를 들어 레이저 회절/산란 입자 크기 분포 측정 장치(NIKKISO CO., LTD.에서 시판되는 MICROTRAC ASVR)를 이용하여 측정될 수 있다.
중공 충전재의 평균 중공률은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 평균 중공률은 바람직하게는 71% 이상 95% 이하, 더 바람직하게는 80% 이상 95% 이하, 및 특히 바람직하게는 85% 이상 95% 이하이다.
평균 중공률이 71% 이상 95% 이하인 경우, 단열 특성이 충분히 확보될 수 있고, 열 에너지는 지지체를 통해 감열 기록 매체의 감도를 개선시킬 수 있다.
본 출원에서 사용된 바와 같이, 중공률은 중공 충전재의 외경과 내경(중공부의 직경) 사이의 비를 의미하고, 하기 식으로서 표현된다는 점을 유의해야 한다. 평균 중공률은 그렇게 계산된 중공률을 중공 충전재의 수로 나누어 얻은 값이다.
중공률(%) = (중공 입자의 내경 / 중공 입자의 외경) × 100
중공 충전재는 상기한 바와 같은 열가소성 수지를 포함하는 외부 쉘을 포함한다는 점을 유의해야 한다. 열가소성 수지는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 스티렌 수지, 스티렌-아크릴 코폴리머 수지, 폴리비닐 클로라이드 수지, 폴리비닐리덴 클로라이드 수지, 아크릴로니트릴 수지, 및 메타크릴산 호모폴리머를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
중공 충전재를 위해 사용된 모노머 성분은 특별히 한정되지 않는다. 이의 예는 니트릴계 모노머, 예를 들어 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 및 푸마로니트릴; 카르복실기 함유 모노머, 예를 들어 아크릴산, 메타크릴산, 에타크릴산, 크로톤산, 신남산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산, 시트라콘산, 및 클로로말레산; 할로겐화 비닐계 모노머, 예를 들어 비닐 클로라이드; 할로겐화 비닐리덴계 모노머, 예를 들어 비닐리덴 클로라이드; 비닐에스테르계 모노머, 예를 들어 비닐 아세테이트, 비닐 프로피오네이트, 및 비닐 락테이트; (메트)아크릴산 에스테르계 모노머, 예를 들어 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 사이클로헥실(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 및 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트; (메트)아크릴아마이드계 모노머, 예를 들어 아크릴아마이드, 치환된 아크릴아마이드, 메타크릴아마이드, 및 치환된 메타크릴아마이드; 말레이미드계 모노머, 예를 들어 N-페닐 말레이미드 및 N-사이클로헥실말레이미드; 스티렌계 모노머, 예를 들어 스티렌 및 알파-메틸스티렌; 에틸렌계 불포화 모노올레핀계 모노머, 예를 들어 에틸렌, 프로필렌, 및 이소부틸렌; 비닐 에테르계 모노머, 예를 들어 비닐 메틸 에테르, 비닐 에틸 에테르, 및 비닐 이소부틸 에테르; 비닐 케톤계 모노머, 예를 들어 비닐 메틸 케톤; N-비닐계 모노머, 예를 들어 N-비닐카르바졸 및 N-비닐피롤리돈; 및 비닐나프탈렌 염을 포함한다. 이들 라디칼 중합 가능한 모노머는 모노머 성분으로서 단독일 수도 있고 조합일 수도 있다. (메트)아크릴은 아크릴 또는 메타크릴을 의미한다는 점을 유의해야 한다.
모노머 성분은 바람직하게는 니트릴계 모노머를 필수 성분으로서 포함하는데, 그 이유는 중공 입자의 외부 쉘을 형성하는 쉘 폴리머가 가스 베리어 특성이 뛰어나기 때문이고, 따라서 중공 입자가 감열 기록 매체의 언더층을 위해 사용되는 경우, 중공 충전재는 캘린더링 시 파쇄되는 것을 방지할 수 있고, 결과적으로 감도의 감소를 억제한다. 니트릴계 모노머는 바람직하게는 아크릴로니트릴 또는 메타크릴로니트릴인데, 그 이유는 그것이 이용 가능성, 높은 가스 베리어 특성, 및 높은 내용매성을 갖기 때문이다.
니트릴계 모노머가 아크릴로니트릴(AN) 및 메타크릴로니트릴(MAN)을 포함하는 경우, 아크릴로니트릴과 메타크릴로니트릴 간의 질량비(AN/MAN)는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 10/90 내지 90/10, 더 바람직하게는 20/80 내지 80/20, 더 바람직하게는 30/70 내지 70/30이다. AN과 MAN 사이의 질량비가 10/90 미만인 경우, 중공 입자의 외부 쉘을 형성하는 쉘 폴리머는 가스 베리어 특성이 열화될 수 있고, 그에 따라 중공 입자가 감열 기록 매체의 언더층을 위해 사용되는 경우, 중공 충전재는 캘린더링 시 파쇄되는 것을 방지할 수 있고, 결과적으로 감도 감소를 억제한다. 한편, AN과 MAN 사이의 질량비가 10/90 이상인 경우, 중공률은 만족스럽지 않을 수 있고, 그에 따라 중공 입자가 감열 기록 매체의 언더층을 위해 사용되는 경우, 감도는 불량한 단열 특성으로 인해 감소될 수 있다.
중공 충전재는 열가소성 수지의 총량에 대해 바람직하게는 80 질량% 이상, 더 바람직하게는 85 질량% 이상, 특히 바람직하게는 90 질량% 이상, 가장 바람직하게는 95 질량% 이상의 양으로 니트릴계 모노머를 포함한다. 중공 충전재가 열가소성 수지의 총량에 대해 80 질량% 이상의 니트릴계 모노머를 포함하는 경우, 중공 입자의 외부 쉘을 형성하는 쉘 폴리머는 가스 베리어 특성이 뛰어나고, 이에 따라 중공 입자가 감열 기록 매체의 언더층을 위해 사용되는 경우, 중공 충전재는 캘린더링 시 파쇄되는 것을 방지할 수 있다. 중공 충전재의 파쇄 방지 및 감열 기록 매체의 정확도의 관점으로부터, 니트릴계 모노머는 바람직하게는 85 질량% 이상 95 질량% 이하의 양으로 포함된다는 점을 유의해야 한다.
상기 열거된 예 이외에, 또한 페놀-포름알데히드 수지, 우레아-포름알데히드 수지, 멜라민-포름알데히드 수지, 푸란 수지, 및 불포화 폴리에스테르 수지 및 첨가 중합을 통해 생성된 가교된 MMA 수지가 열가소성 수지로서 사용될 수 있다.
중공 충전재의 외부 쉘의 성분은 예를 들어 가스 크로마토그래피 질량 분광분석법에 의해 분석될 수 있다.
중공 충전재의 제조 방법은 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 다양한 방법일 수 있다. 일반적으로, 코어 재료로서 탄화수소를 캡슐화하고 열가소성 수지로 구성되는 외부 쉘을 포함하는 발포되지 않은 캡슐형의 열팽창성 수지 입자가 제조되고 가열되어 발포되도록 하는 가열발포법이 사용된다. 가열발포법의 예는 건식 열팽창법 및 습식 열팽창법을 포함한다. 열팽창성 수지 입자를 가열 팽창시키는 온도는 60℃ 이상 350℃ 이하이다.
-결착 수지-
결착 수지는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 수용성 폴리머 또는 수성 폴리머 에멀젼이 바람직하다.
수용성 폴리머는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 폴리비닐 알코올, 개질된 폴리비닐 알코올, 예를 들어 카르복실기 함유 폴리비닐 알코올, 전분 또는 전분 유도체, 셀룰로오스 유도체, 예를 들어 메톡시 셀룰로오스, 하이드록시에틸 셀룰로오스, 카르복시메틸 셀룰로오스, 메틸 셀룰로오스, 및 에틸 셀룰로오스; 폴리우레탄, 나트륨 폴리아크릴레이트, 폴리비닐 피롤리돈, 아크릴아마이드/아크릴산 에스테르 코폴리머, 아크릴아마이드/아크릴산 에스테르/메타크릴산 삼원 코폴리머, 스티렌/말레산 무수물 코폴리머 알칼리 염, 이소부틸렌/말레산 무수물 코폴리머 알칼리 염, 폴리아크릴아마이드, 나트륨 알기네이트, 젤라틴, 및 카제인을 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
수성 폴리머 에멀젼은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 아크릴 수지, 개질된 아크릴 수지, 예를 들어 카르복실기 함유 아크릴 수지, 예를 들어 스티렌/부타디엔 코폴리머 또는 스티렌/부타디엔/아크릴 코폴리머의 라텍스; 및 예를 들어 비닐 아세테이트 수지, 비닐 아세테이트/아크릴 코폴리머, 스티렌/아크릴산 에스테르 코폴리머, 아크릴산 에스테르 수지, 또는 폴리우레탄 수지의 에멀젼을 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
언더층 내에 포함된 바인더 수지의 양은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 그 양은 중공 충전재의 100 질량부에 대해 바람직하게는 30 질량부 이상 300 질량부 이하, 더 바람직하게는 40 질량부 이상 200 질량부 이하이다.
그 양이 30 질량부 이상 300 질량부 이하인 경우, 지지체 및 언더층은 서로 충분히 결합하여, 양호한 발색성을 나타낸다.
-가교제-
가교제는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 옥사졸린기 함유 화합물, 글리옥살 유도체, 메틸올 유도체, 에피클로로하이드린 유도체, 에폭시 화합물, 아지리딘 화합물, 하이드라진, 하이드라자이드 유도체, 및 카르보디이미드 유도체를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
-기타 성분-
기타 성분은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 계면활성제, 활제, 및 충전 재료를 포함한다.
언더층을 형성하기 위한 방법은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 언더층은 다음과 같이 형성될 수 있다. 결착 수지, 중공 충전재, 물, 및 바람직하게는 가교제, 및 경우에 따라 기타 성분은 분산기에 의해 분산되어 언더층용 코팅액을 제조하게 된다. 그 후, 언더층용 코팅액은 지지체 상에 도포되고 건조된다.
언더층용 코팅액을 도포하기 위한 방법은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 블레이드 코팅법, 그라비어 코팅법, 그라비어 오프셋 코팅법, 바 코팅법, 롤 코팅법, 나이프 코팅법, 에어 나이프 코팅법, 콤마 코팅법, U-콤마 코팅법, AKKU 코팅법, 평활 코팅법, 마이크로그라비어 코팅법, 리버스 롤 코팅법, 4롤 또는 5롤 코팅법, 딥 코팅법, 커튼 코팅법, 슬라이드 코팅법, 및 다이 코팅법을 포함한다.
건조 후 언더층의 부착량은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 그 양은 바람직하게는 1 g/m2 이상 5 g/m2 이하, 더 바람직하게는 1 g/m2 이상 3 g/m2 이하이다.
<기재>
기재는 형상, 구조, 크기, 색조, 및 이의 재료에 관해 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 형상은 평평한 플레이트 형상 또는 시트 유사 형상일 수 있다. 구조는 단층 구조 또는 적층 구조일 수 있다. 크기는 예를 들어 감열 기록 매체의 크기에 따라 적절히 선택될 수 있다. 이하 기재는 지지체로서 언급될 수 있다.
지지체의 재료는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 재료는 무기 재료 또는 유기 재료일 수 있다.
무기 재료의 예는 유리, 수정, 실리콘, 실리콘 옥사이드, 알루미늄 옥사이드, SiO2, 및 금속을 포함한다.
유기 재료의 예는 종이, 예를 들어 상질지, 아트지, 코팅지, 및 합성지; 셀룰로오스 유도체, 예를 들어 셀룰로오스 트리아세테이트; 폴리에스테르 수지, 예를 들어 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 및 폴리부틸렌 테레프탈레이트; 및 플라스틱 필름, 예를 들어 폴리카르보네이트, 폴리스티렌, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리에틸렌, 및 폴리프로필렌을 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
지지체는 바람직하게는 예를 들어 접착성의 개선을 목적으로 하는 코로나 방전 처리, 산화 반응 처리(예를 들어, 크롬산), 에칭 처리, 용이한 접착성을 부여하기 위한 처리, 및 대전 처리에 의해 표면 개질된다.
지지체의 평균 두께는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 평균 두께는 바람직하게는 20 마이크로미터 이상 2,000 마이크로미터 이하, 더 바람직하게는 50 마이크로미터 이상 500 마이크로미터 이하이다.
<감열 기록층>
감열 기록층은 류코 염료, 발색제 및 바인더 수지를 포함하고, 추가로 필요에 따라 기타 성분을 포함한다.
-류코 염료-
류코 염료는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 류코 화합물, 예를 들어 트리페닐메탄계 염료, 플루오란계 염료, 페노티아진계 염료, 아우라민계 염료, 스피로피란계 염료 및 인돌리노프탈라이드계 염료를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
류코 화합물의 예는 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-프탈라이드, 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-디메틸아미노프탈라이드(크리스탈 바이올렛 락톤으로도 공지됨), 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-디에틸아미노프탈라이드, 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-클로로프탈라이드, 3,3-비스(p-디부틸아미노페닐)프탈라이드, 3-사이클로헥실아미노-6-클로로플루오란, 3-디메틸아미노-5,7-디메틸플루오란, 3-디에틸아미노-7-클로로플루오란, 3-디에틸아미노-7-메틸플루오란, 3-디에틸아미노-7,8-벤즈플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-클로로플루오란, 3-(N-p-톨릴-N-에틸아미노)-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 2-{N-(3'-트리플루오로메틸페닐)아미노}-6-디에틸아미노플루오란, 2-{3,6-비스(디에틸아미노)-9-(o-클로로아닐리노)크산틸 락탐 벤조에이트}, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(m-트리클로로메틸아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-클로로아닐리노)플루오란, 3-피롤리디노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디-n-부틸아미노-7-o-클로로아닐리노)플루오란, 3-N-메틸-N,n-아밀아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-메틸-N-사이클로헥실아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-(N,N-디에틸아미노)-5-메틸-7-(N,N-디벤질아미노)플루오란, 벤조일 류코 메틸렌 블루, 6'-클로로-8'-메톡시-벤조인돌리노-스피로피란, 6'-브로모-3'-메톡시-벤조인돌리노-스피로피란, 3-(2'-하이드록시-4'-디메틸아미노페닐)-3-(2'-메톡시-5'-클로로페닐)프탈라이드, 3-(2'-하이드록시-4'-디메틸아미노페닐)-3-(2'-메톡시-5'-니트로페닐)프탈라이드, 3-(2'-하이드록시-4'-디에틸아미노페닐)-3-(2'-메톡시-5'-메틸페닐)프탈라이드, 3-(2'-메톡시-4'-디메틸아미노페닐)-3-(2'-하이드록시-4'-클로로-5'-메틸페닐)프탈라이드, 3-(N-에틸-N-테트라하이드로푸르푸릴)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-에틸-N-(2-에톡시프로필)아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-메틸-N-이소부틸-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-모르폴리노-7-(N-프로필-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-피롤리디노-7-트리플루오로메틸아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-5-클로로-7-(N-벤질-트리플루오로메틸아닐리노)플루오란, 3-피롤리디노-7-(디-p-클로로페닐)메틸아미노플루오란, 3-디에틸아미노-5-클로로-7-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-(N-에틸-p-톨루이디노)-7-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-메톡시카르보닐페닐아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-5-메틸-7-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-피페리디노플루오란, 2-클로로-3-(N-메틸톨루이디노)-7-(p-n-부틸아닐리노)플루오란, 3-디-n-부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3,6-비스(디메틸아미노)플루오렌스피로(9,3')-6'-디메틸아미노프탈라이드, 3-(N-벤질-N-사이클로헥실아미노)-5,6-벤조-7-α-나프틸아미노-4'-브로모플루오란, 3-디에틸아미노-6-클로로-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-메시티디노-4',5'-벤조플루오란, 3-N-메틸-N-이소프로필-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-에틸-N-이소아밀-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-(2',4'-디메틸아닐리노)플루오란, 3-디에틸아미노-5-클로로-(α-페닐에틸아미노)플루오란, 3-디에틸아미노-7-피페리디노플루오란, 3-(N-벤질-N-사이클로헥실아미노)-5,6-벤조-7-α-나프틸아미노-4'-브로모플루오란, 3-N-에틸-N-테트라하이드로푸르푸릴아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-p-디메틸아미노페닐)-3-{1,1-비스(p-디메틸아미노페닐)에틸렌-2-일}프탈라이드, 3-(p-디메틸아미노페닐)-3-{1,1-비스(p-디메틸아미노페닐)에틸렌-2-일}-6-디메틸아미노프탈라이드, 3-(p-디메틸아미노페닐)-3-(1-p-디메틸아미노페닐-1-페닐에틸렌-2-일)프탈라이드, 3-(p-디메틸아미노페닐)-3-(1-p-디메틸아미노페닐-1-p-클로로페닐에틸렌-2-일)-6-디메틸아미노프탈라이드, 3-(4'-디메틸아미노-2'-메톡시)-3-(1''-p-디메틸아미노페닐-1''-p-클로로페닐-1'',3''-부타디엔-4''-일)벤조프탈라이드, 3-(4'-디메틸아미노-2'-벤질옥시)-3-(1''-p-디메틸아미노페닐-1''-페닐-1'',3''-부타디엔-4''-일)벤조프탈라이드, 3-디메틸아미노-6-디메틸아미노-플루오렌-9-스피로-3'-(6'-디메틸아미노)프탈라이드, 3,3-비스(2-(p-디메틸아미노페닐)-2-p-메톡시페닐)에테닐)-4,5,6,7-테트라클로로프탈라이드, 3-비스{1,1-비스(4-피롤리디노페닐)에틸렌-2-일}-5,6-디클로로-4,7-디브로모프탈라이드, 비스(p-디메틸아미노스티릴)-1-나프탈렌설포닐메탄 및 비스(p-디메틸아미노스티릴)-1-p-톨릴설포닐메탄을 포함한다.
류코 염료의 50% 누적 체적 입경(D50)은 바람직하게는 0.1 ㎛ 이상 0.5 ㎛ 이하, 더 바람직하게는 0.1 ㎛ 이상 0.4 ㎛ 이하이다.
류코 염료의 50% 누적 체적 입경(D50)의 측정 방법은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 레이저 회절/산란식 입경 분포 측정 장치(장치 명칭: LA-920, Horiba, Ltd.에서 시판됨)를 포함한다.
류코 염료의 양은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다. 그 양은 감열 기록층의 총량 100 질량부에 대해 바람직하게는 5 질량부 이상 40 질량부 이하, 더 바람직하게는 10 질량부 이상 30 질량부 이하이다.
-발색제-
가열 시 류코 염료와 반응하여 발색시키는 다양한 전자 수용성 물질이 발색제로서 적용될 수 있다.
발색제는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 페놀성 물질, 유기 산성 물질, 무기 산성 물질 및 이들 물질의 에스테르 또는 염을 포함한다.
이의 예는 갈산, 살리실산, 3-이소프로필살리실산, 3-사이클로헥실살리실산, 3,5-디-tert-부틸살리실산, 3,5-디-α-메틸벤질살리실산, 4,4'-이소프로필리덴디페놀, 1,1'-이소프로필리덴 비스(2-클로로페놀), 4,4'-이소프로필리덴 비스(2,6-디브로모페놀), 4,4'-이소프로필리덴 비스(2,6-디클로로페놀), 4,4'-이소프로필리덴 비스(2-메틸페놀), 4,4'-이소프로필리덴 비스(2,6-디메틸페놀), 4,4-이소프로필리덴 비스(2-tert-부틸페놀), 4,4'-sec-부틸리덴 디페놀, 4,4'-사이클로헥실리덴 비스페놀, 4,4'-사이클로헥실리덴 비스(2-메틸페놀), 4-tert-부틸페놀, 4-페닐페놀, 4-하이드록시 디페녹시드, α-나프톨, β-나프톨, 3,5-크실레놀, 티몰, 메틸-4-하이드록시벤조에이트, 4-하이드록시아세토페논, 노볼락형 페놀 수지, 2,2'-티오비스(4,6-디클로로페놀), 카테콜, 레조르신, 하이드로퀴논, 피로갈롤, 플로로글라이신, 플로로글라이신 카르복실산, 4-tert-옥틸카테콜, 2,2'-메틸렌비스(4-클로로페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-tert-부틸페놀), 2,2'-디하이드록시디페닐, 2,4'-디하이드록시디페닐 설폰, 4,4'-[옥시비스(에틸렌옥시-P-페닐렌설포닐)]디페놀, 에틸 p-하이드록시벤조에이트, 프로필 p-하이드록시벤조에이트, 부틸 p-하이드록시벤조에이트, 벤질 p-하이드록시벤조에이트, p-하이드록시벤조산-p-클로로벤질, p-하이드록시벤조산-o-클로로벤질, p-하이드록시벤조산-p-메틸벤질, p-하이드록시벤조산-n-옥틸, 벤조산, 살리실산아연, 1-하이드록시-2-나프토산, 2-하이드록시-6-나프토산, 2-하이드록시-6-나프토산아연, 4-하이드록시디페닐 설폰, 4-하이드록시-4'-클로로디페닐설폰, 비스(4-하이드록시페닐)설피드, 2-하이드록시-p-톨루엔산, 3,5-디-tert-부틸 살리실산아연, 3,5-디-tert-부틸살리실산주석, 타르타르산, 옥살산, 말레산, 시트르산, 숙신산, 스테아르산, 4-하이드록시프탈산, 붕산, 티오우레아 유도체, 4-하이드록시티오페놀 유도체, 비스(4-하이드록시페닐)아세트산, 에틸 비스(4-하이드록시페닐)아세테이트, n-프로필 비스(4-하이드록시페닐)아세테이트, m-부틸 비스(4-하이드록시페닐)아세테이트, 페닐 비스(4-하이드록시페닐)아세테이트, 벤질 비스(4-하이드록시페닐)아세테이트, 페네틸 비스(4-하이드록시페닐)아세테이트, 비스(3-메틸-4-하이드록시페닐)아세트산, 메틸 비스(3-메틸-4-하이드록시페닐)아세테이트, n-프로필 비스(3-메틸-4-하이드록시페닐)아세테이트, 1,7-비스(4-하이드록시페닐티오)3,5-디옥사헵탄, 1,5-비스(4-하이드록시페닐티오)3-옥사헵탄, 디메틸 4-하이드록시프탈레이트, 4-하이드록시-4'-메톡시디페닐설폰, 4-하이드록시-4'-에톡시디페닐설폰, 4-하이드록시-4'-이소프로폭시디페닐설폰, 4-하이드록시-4'-프로폭시디페닐설폰, 4,4'-비스(3-(페녹시카르보닐아미노)메틸페닐우레이도)디페닐설폰, 4-하이드록시-4'-부톡시디페닐설폰, 4-하이드록시-4'-이소부톡시디페닐설폰, 4-하이드록시-4-부톡시디페닐설폰, 4-하이드록시-4'-tert-부톡시디페닐설폰, 4-하이드록시-4'-벤질옥시디페닐설폰, 4-하이드록시-4'-페녹시디페닐설폰, 4-하이드록시-4'-(m-메틸벤질옥시)디페닐설폰, 4-하이드록시-4'-(p-메틸벤질옥시)디페닐설폰, 4-하이드록시-4'-(O-메틸벤질옥시)디페닐설폰, 4-하이드록시-4'-(p-클로로벤질옥시)디페닐설폰, N-(2-(3-페닐우레이도)페닐)벤젠설폰아마이드, N-p-톨루엔설포닐-N'-3-(p-톨루엔설포닐옥시)페닐우레아, N-p-톨루엔설포닐-N'-p-부톡시카르보닐페닐우레아, N-p-톨릴설포닐-N'-페닐우레아, 4,4'-비스(p-톨루엔설포닐아미노카르보닐아미노)디페닐메탄 및 4,4'-비스[(4-메틸-3-페녹시카르보닐아미노페닐)유레이도]디페닐설폰을 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
발색제의 50% 누적 체적 입경(D50)은 바람직하게는 0.1 ㎛ 이상 0.5 ㎛ 이하, 더 바람직하게는 0.1 ㎛ 이상 0.4 ㎛ 이하이다.
발색제의 50% 누적 체적 입경(D50)의 측정 방법은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 상기 방법의 예는 레이저 회절/산란식 입경 분포 측정 장치(장치 명칭: LA-920, Horiba, Ltd.에서 시판됨)를 포함한다.
발색제의 함유량은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 류코 염료 1 질량부에 대해 바람직하게는 0.05 질량부 이상 10 질량부 이하, 더 바람직하게는 1 질량부 이상 5 질량부 이하이다.
-바인더 수지-
바인더 수지는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 폴리비닐 알코올 수지; 전분 또는 전분의 유도체; 셀룰로오스 유도체, 예를 들어 하이드록시메틸 셀룰로오스, 하이드록시에틸 셀룰로오스, 카르복시메틸 셀룰로오스, 메틸 셀룰로오스 및 에틸 셀룰로오스; 수용성 고분자, 예를 들어 나트륨 폴리아크릴레이트, 폴리비닐 피롤리돈, 아크릴아마이드-아크릴산 에스테르 코폴리머, 아크릴아마이드-아크릴산 에스테르-메타크릴산 삼원 코폴리머, 스티렌-말레산 무수물 코폴리머 알칼리 염, 이소부틸렌-말레산 무수물 코폴리머 알칼리 염, 폴리아크릴아마이드, 나트륨 알기네이트, 젤라틴 및 카제인; 예를 들어, 폴리아세트산비닐, 폴리우레탄, 폴리아크릴산, 폴리아크릴산 에스테르, 비닐 클로아이드-아세트산비닐 코폴리머, 폴리부틸 메타크릴레이트 및 에틸렌-아세트산비닐 코폴리머의 에멀젼; 및 예를 들어, 스티렌-부타디엔 코폴리머 및 스티렌-부타디엔-아크릴 코폴리머의 라텍스, 및 스티렌/부타디엔 코폴리머 라텍스를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다. 이들 바인더 수지 중에서, 투명성 및 기재와의 결착의 관점에서 폴리비닐 알코올 수지가 바람직하다.
-기타 성분-
기타 성분은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 감도 향상제로서의 다양한 열가융성 물질, 보조 첨가제, 계면활성제, 활제, 충전재, 자외선 흡수제 및 착색 안료를 포함한다.
--열가융성(thermofusible) 물질--
열가융성 물질의 예는 지방산, 예를 들어 스테아르산 및 베헨산; 지방산 아마이드, 예를 들어 스테아르산 아마이드 및 팔미트산 아마이드; 지방산 금속 염, 예를 들어 아연 스테아레이트, 알루미늄 스테아레이트, 칼슘 스테아레이트, 아연 팔미테이트 및 아연 베헤네이트; 및 p-벤질 비페닐, 터페닐, 트리페닐메탄, 벤질 p-벤질옥시벤조에이트, β-벤질옥시나프탈렌, 페닐 β-나프토에이트, 페닐 1-하이드록시-2-나프토에이트, 메틸 1-하이드록시-2-나프토에이트, 디페닐 카르보네이트, 글리콜 카르보네이트, 테레프탈산디벤질, 테레프탈산디메틸, 1,4-디메톡시나프탈렌, 1,4-디에톡시나프탈렌, 1,4-디벤질옥시나프탈렌, 1,2-디페녹시에탄, 1,2-비스(3-메틸페녹시)에탄, 1,2-비스(4-메틸페녹시)에탄, 1,4-디페녹시-2-부텐, 1,2-비스(4-메톡시페닐티오)에탄, 디벤조일메탄, 1,4-디페닐티오부탄, 1,4-디페닐티오-2-부텐, 1,3-비스(2-비닐옥시에톡시)벤젠, 1,4-비스(2-비닐옥시에톡시)벤젠, p-(2-비닐옥시에톡시)비페닐, p-아릴옥시비페닐, p-프로파르길옥시비페닐, 디벤조일옥시메탄, 디벤조일옥시프로판, 디벤질 디설피드, 1,1-디페닐 에탄올, 1,1-디페닐프로판올, p-벤질옥시 벤질알코올, 1,3-페녹시-2-프로판올, N-옥타데실카르바모일-p-메톡시카르보닐 벤젠, N-옥타데실카르바모일 벤젠, 1,2-비스(4-메톡시페녹시)프로판, 1,5-비스(4-메톡시페녹시)-3-옥사펜탄, 디벤질 옥살레이트, 비스(4-메틸벤질) 옥살레이트 및 비스(4-클로로벤질) 옥살레이트를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
--보조 첨가제--
보조 첨가제는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 힌더드 페놀 화합물 및 힌더드 아민 화합물을 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
보조 첨가제의 예는 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-tert-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴 비스(6-tert-부틸-2-메틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-tert-부틸페닐)부탄, 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-사이클로헥실페닐)부탄, 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-2-메틸페놀), 테트라브로모 비스페놀 A, 테트라브로모 비스페놀 S, 4,4-티오비스(2-메틸페놀), 4,4'-티오비스(2-클로로페놀), 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄 테트라카르복실레이트 및 테트라키스(1,2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄 테트라카르복실레이트를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
--계면활성제--
계면활성제는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 계면활성제의 예는 음이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제 및 불소계 계면활성제를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
음이온성 계면활성제의 예는 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르 아세테이트, 도데실벤젠 설포네이트, 라우레이트 및 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르 설페이트 염을 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
비이온성 계면활성제의 예는 아세틸렌 글리콜계 계면활성제, 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르, 폴리옥시에틸렌 알킬 페닐 에테르, 폴리옥시에틸렌 알킬 에스테르, 및 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 에스테르를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
아세틸렌 글리콜계 계면활성제의 예는 2,4,7,9-테트라메틸-5-데신-4,7-디올, 3,6-디메틸-4-옥틴-3,6-디올, 3,5-디메틸-1-헥신-3-디올 및 2,5,8,11-테트라메틸-6-도데신-5,8-디올을 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
--활제--
활제는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 고급 지방산 또는 고급 지방산의 금속 염, 고급 지방산 아마이드, 고급 지방산 에스테르, 동물성 왁스, 식물성 왁스, 광물성 왁스 및 석유계 왁스를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
--충전재--
충전재의 예는 무기 분말, 예를 들어 칼슘 카르보네이트, 실리카, 아연 옥사이드, 티타늄 옥사이드, 지르코늄 옥사이드, 알루미늄 하이드록사이드, 아연 하이드록사이드, 바륨 설페이트, 클레이, 카올린, 탈크, 표면 처리된 칼슘 및 표면 처리된 실리카; 및 유기 분말, 예를 들어 우레아-포르말린 수지, 스티렌-메타크릴산 코폴리머, 폴리스티렌 수지 및 비닐리덴 클로라이드 수지를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
충전재의 함유량은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있고, 바인더 수지 1 질량부에 대해 바람직하게는 0.5 질량부 이상 5.0 질량부 이하, 더 바람직하게는 1.0 질량부 이상 4.0 질량부 이하이다.
--자외선 흡수제--
자외선 흡수제는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 살리실산계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제 및 벤조트리아졸계 자외선 흡수제를 포함한다.
자외선 흡수제의 예는 페닐 살리실레이트, p-tert-부틸페닐 살리실레이트, p-옥틸페닐 살리실레이트, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-도데실옥시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시-5-설포벤조페논, 비스(2-메톡시-4-하이드록시-5-벤조일페닐)메탄, 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)클로로벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-tert-아밀페닐)벤조트리아졸, 2-{2'-하이드록시-3'-(3'',4'',5'',6''-테트라하이드로프탈이미드메틸)-5'-메틸페닐}벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스{4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀}, 2-(2'-하이드록시-5'-메타크릴옥시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(3,5-디-t-아밀-2-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-t-옥틸페닐)벤조트리아졸 및 2-(5-메틸-2-하이드록시페닐)벤조트리아졸을 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
--착색 안료--
착색 안료는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 크롬 옐로우, 철 옥사이드 안료, 몰리브데이트 오렌지, 카드뮴 레드, 아연 설파이드 화합물, 한자(Hansa) 옐로우, 한자 오렌지, 로즈 레드, 피라졸론 레드, 리놀 레드, 구리 프탈로시아닌 블루, 코팔 폴리브로모프탈로시아닌 블루, 인단트렌 블루, 이소디벤자트렌 바이올렛 및 안탄트렌 오렌지를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
감열 기록층의 형성 방법은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 감열 기록층은 다음과 같이 형성될 수 있다. 류코 염료 및 발색제는 바인더 수지와 함께, 분산기, 예를 들어 볼 밀, 애트리터 및 샌드 밀을 사용하여 분쇄 및 분산되고, 후속적으로 경우에 따라 기타 성분과 혼합함으로써 감열 기록층용 코팅액을 제조하게 된다. 그 후, 감열 기록층용 코팅액은 투명 기재 상에 도포되고 건조된다.
감열 기록층용 코팅액을 도포하기 위한 방법은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 블레이드 코팅법, 그라비어 코팅법, 그라비어 오프셋 코팅법, 바 코팅법, 롤 코팅법, 나이프 코팅법, 에어 나이프 코팅법, 콤마 코팅법, U 콤마 코팅법, AKKU 코팅법, 평활 코팅법, 마이크로그라비어 코팅법, 리버스 롤 코팅법, 4롤 또는 5롤 코팅법, 딥 코팅법, 커튼 코팅법, 슬라이드 코팅법 및 다이 코팅법을 포함한다.
감열 기록층용 코팅액에 포함된 입자의 50% 누적 체적 입경(D50)은 바람직하게는 0.10 마이크로미터 이상 3 마이크로미터 이하, 더 바람직하게는 0.10 마이크로미터 이상 0.50 마이크로미터 이하, 특히 바람직하게는 0.10 마이크로미터 이상 0.40 마이크로미터 이하이다.
감열 기록층의 건조 후의 부착량은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택할 수 있다. 상기 부착량은 바람직하게는, 예를 들어, 1.0 g/m2 이상 20.0 g/m2 이하, 더 바람직하게는 2.0 g/m2 이상 10.0 g/m2 이하, 특히 바람직하게는 2.0 g/m2 이상 4.0 g/m2 이하이다.
본 개시내용의 감열 기록 매체는 지지체의 한 표면 상에 언더층(보온층) 및 감열 기록층을 포함할 수 있고, 필요에 따라 보호층 및 기타 층을 추가로 포함한다.
<보호층>
보호층은 바람직하게는 바인더 및 안료를 포함하고, 더 바람직하게는 활제 및 가교제를 추가로 포함하고, 필요에 따라 기타 성분을 추가로 포함한다.
<<바인더>>
바인더는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 수용성 수지, 수용성 수지 에멀젼, 소수성 수지, 자외선 경화성 수지, 및 e-빔 경화성 수지를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다. 이들 중에서, 저온 및 저습 조건 하에서 헤드 매칭성의 관점에서 수용성 수지가 바람직하다.
수용성 수지의 예는 폴리비닐 알코올; 개질된 폴리비닐 알코올; 셀룰로오스 유도체, 예를 들어 메틸 셀룰로오스, 메톡시 셀룰로오스, 및 하이드록실 셀룰로오스; 카제인; 폴리비닐피롤리돈; 스티렌/말레산 무수물 코폴리머; 디이소부틸렌/말레산 무수물 코폴리머; 폴리아크릴아마이드; 개질된 폴리아크릴아마이드; 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물 코폴리머; 카르복실 개질된 폴리에틸렌; 폴리비닐 알코올/아크릴아마이드 블록 코폴리머; 멜라민 포름알데히드 수지; 및 우레아-포름알데히드 수지를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다. 이들 중에서, 가소제 내성의 관점에서 폴리비닐 알코올이 바람직하다.
수용성 수지 에멀젼 및 소수성 수지의 예는 폴리비닐 아세테이트, 폴리우레탄, 스티렌/부타디엔 코폴리머, 스티렌/부타디엔/아크릴 코폴리머, 폴리아크릴산, 폴리아크릴산 에스테르, 비닐 클로라이드/비닐 아세테이트 코폴리머, 폴리부틸 메타크릴레이트, 폴리비닐 부티랄, 폴리비닐 아세탈, 에틸셀룰로오스, 및 에틸렌/비닐 아세테이트 코폴리머를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
바인더의 평균 중합도는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 평균 중합도는 바람직하게는 1,700 이상이다. 바인더의 평균 중합도가 1,700 이상인 경우, 저온 및 저습 조건 하에서의 헤드 매칭성 및 가소제 내성은 개선될 수 있다.
바인더의 평균 중합도는 예를 들어 JIS K 6726에 다른 테스트 방법에 의해 측정될 수 있다는 점을 유의해야 한다.
<<안료>>
안료는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 무기 분말, 예를 들어 알루미늄 하이드록사이드, 칼슘 카르보네이트, 카올린, 실리카, 아연 옥사이드, 티타늄 옥사이드, 아연 하이드록사이드, 바륨 설페이트, 클레이, 탈크, 표면 처리된 칼슘, 및 실리카; 유기 분말, 예를 들어 실리콘 수지 입자, 우레아-포름알데히드 수지, 스티렌/메타크릴산 코폴리머, 폴리스티렌 수지, 및 폴리메틸 메타크릴레이트 수지를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
안료의 양은 바인더 100 중량부에 대해 바람직하게는 110 질량부 이상, 더 바람직하게는 110 질량부 이상 200 질량부 이하이다. 안료의 양이 바인더 100 질량부에 대해 110 질량부 이상인 경우, 잉크 수용층 내의 무기 입자는 감열 기록 매체가 롤 형태로 저장되는 경우에도 보호층의 표면에 전이되는 것을 방지할 수 있다.
<<활제>>
활제는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 폴리에틸렌 옥사이드 왁스, 몬탄 왁스, 아연 스테아레이트, 및 실리콘 왁스를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
활제는 필요에 따라 다른 공지된 활제와 병용될 수 있다. 다른 활제의 예는 식물성 왁스, 예를 들어 칸델릴라 왁스, 카나우바 왁스, 라이스 왁스, 재패니즈 왁스, 및 호호바 오일; 동물성 왁스, 예를 들어 비스왁스, 라놀린, 및 스퍼마세티 왁스; 미네랄 왁스, 예를 들어 세레신 및 이의 유도체; 석유 왁스, 예를 들어 파라핀, 바셀린, 마이크로크리스탈린, 및 페트롤라튬; 합성 탄화수소계 왁스, 예를 들어 피셔-트롭쉬 왁스; 수소화된 왁스, 예를 들어 수소화된 캐스터유 및 수소화된 캐스터유 유도체; 지방산, 예를 들어 스테아르산, 올레산, 에루스산, 라우르산, 세박산, 베헨산, 및 팔미트산; 아마이드, 예를 들어 아디프산 및 이소프탈산; 비스아마이드, 에테르, 케톤, 금속 염 및 이의 유도체; 및 알킬 개질된 실리콘 수지 또는 아마이드 개질된 실리콘 수지를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
<<가교제>>
가교제는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 수용성 수지를 위한 내수성제의 예는 폴리아마이드 에피클로로하이드린 수지 및 아디프산 디하이드라자이드를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
보호층을 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 널리 알려진 방법일 수 있다. 예를 들어, 안료 및 가교제는 별도로 분쇄되고 각각 바인더 및 기타 성분과 함께 분산기, 예를 들어 볼 밀, 애트리터, 및 샌드 밀에 의해 분산되는데, 분산은 분산된 입경이 0.1 마이크로미터 이상 3 마이크로미터 이하가 될 때까지 수행되고, 이어서 경우에 따라 활제와 함께 일정한 제형으로 함께 혼합되어 보호층용 코팅액을 제조하게 된다. 그 후, 보호층용 코팅액은 감열 기록 매체에 도포됨으로써 보호층을 형성하게 된다.
보호층용 코팅액의 도포량은 건조 중량을 기준으로 바람직하게는 0.1 g/m2 이상 20 g/m2 이하, 더 바람직하게는 0.5 g/m2 이상 10 g/m2 이하이다. 보호층용 코팅액의 도포량이 0.1 g/m2 이상 20 g/m2 이하인 경우, 저온 및 저습 조건 하에서 헤드 매칭성 및 가소제 내성은 개선될 수 있다.
<기타 층>
기타 층은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 이면코트층 및 박리층(releasing layer)을 포함한다. 박리층(mold-releasing layer)은 이하 이형층으로서 언급될 수도 있다는 점을 유의해야 한다.
<<이면코트층>>
이면코트층은 경우에 따라 감염 기록층이 배치되지 않은 측의 지지체의 표면 상에 배치될 수 있다.
이면코트층은 충전재 및 결착 수지를 포함하고, 필요에 따라 기타 성분, 예를 들어 활제 및 착색 안료를 추가로 포함한다.
충전재는 무기 충전재 또는 유기 충전재일 수 있다.
무기 충전재의 예는 카르보네이트, 실리케이트, 금속 옥사이드, 및 황산 화합물을 포함한다.
유기 충전재의 예는 실리콘 수지, 셀룰로오스, 에폭시 수지, 나일론 수지, 페놀 수지, 폴리우레탄 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리카르보네이트 수지, 스티렌 수지, 아크릴 수지, 폴리에틸렌 수지, 포름알데히드 수지, 및 폴리메틸 메타크릴레이트 수지를 포함한다.
결착 수지는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 결착 수지는 감열 기록층 내의 결착 수지와 동일할 수 있다.
이면코트층의 평균 두께는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 평균 두께는 바람직하게는 0.1 마이크로미터 이상 20 마이크로미터 이하, 더 바람직하게는 0.3 마이크로미터 이상 10 마이크로미터 이하이다.
<<박리층>>
박리층은 라이너리스 감열 기록 매체의 경우 감열 기록층이 배치된 표면의 최외각층 상에 위치될 수 있다. 박리층에 사용된 박리제의 예는 자외선 경화성 실리콘 수지, 열경화성 실리콘 수지, 및 불소계 박리제를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다. 그들 중에서, 높은 경화 속도 및 시간 경과에 따른 높은 박리 안정성의 관점에서 자외선 경화성 실리콘 수지가 바람직하다.
자외선 경화성 실리콘 수지의 예는 양이온 중합을 통해 경화되는 실리콘 수지 및 라디칼 중합을 통해 경화되는 실리콘 수지를 포함한다. 라디칼 중합을 통해 경화되는 실리콘 수지는 경화 중에 심각한 부피 수축을 겪을 수 있고, 이는 잠재적으로 지지체의 컬링(curling)을 유발할 수 있다.
건조 이후 박리층의 부착량은 바람직하게는 0.2 g/m2 이상 2.0 g/m2 이하이다. 건조 이후 박리층의 부착량이 0.2 g/m2 이상 2.0 g/m2 이하인 경우, 적합한 박리력이 얻어지고, 프린터에서의 반송 중에 용지 걸림이 감소될 수 있다.
<<점착제 층>>
점착제 층은 점착제를 포함하고, 필요에 따라 기타 성분을 추가로 포함한다.
점착제 층의 재료는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 상기 재료의 예는 우레아 수지, 멜라민 수지, 페놀 수지, 에폭시 수지, 비닐 아세테이트 수지, 비닐 아세테이트-아크릴 코폴리머, 에틸렌-비닐 아세테이트 코폴리머, 아크릴 수지, 폴리비닐 에테르 수지, 비닐 클로라이드-비닐 아세테이트 코폴리머, 폴리스티렌 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리아미드 수지, 염소화 폴리올레핀 수지, 폴리비닐 부티랄 수지, 아크릴산 에스테르 코폴리머, 메타크릴산 에스테르 코폴리머, 천연 고무, 시아노아크릴레이트 수지, 및 실리콘 수지를 포함한다. 상기 열거된 예는 단독으로 사용될 수 있거나, 또는 병용될 수 있다.
-기타 성분-
기타 성분은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 점착제 층에 적용 가능한 것들과 동일한 성분이 사용될 수 있다.
본 개시내용의 감열 기록 매체의 실시양태는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 감열 기록 매체는 라벨로서 사용될 수 있거나, 또는 보호층 또는 지지체 상에 정보, 예를 들어 문자, 마크, 그림, 및 2차원 코드, 예를 들어 바코드 또는 QR 코드(등록 상표)가 기록된 층을 포함할 수 있다.
본 개시내용의 감열 기록 매체의 실시양태는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 점착제 층이 하나의 박리지로 적층된 감열 기록 매체는 스티커 타입 감열 기록 매체 또는 감열 기록 라벨로서 사용될 수 있다.
박리지는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 예를 들어 중성지, 산성지, 또는 플라스틱이 서로 적층된 것들을 포함한다. 또한, 전형적인 일러스트, 예를 들어 착색된 로고 또는 정형문(fixed phrase)은 기재의 감열 기록층이 형성된 측의 반대 측에 인쇄 방법, 예를 들어 잉크젯 인쇄 또는 오프셋 인쇄에 의해 인쇄될 수 있다.
본 개시내용의 감열 기록 매체의 형상은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 감열 기록 매체의 형상은 라벨 유사 형상, 시트 유상 형상, 또는 롤 유사 형상일 수 있다. 또한, 감열 기록 매체는 기재 상에 박리층을 포함하고 롤 유사 형상으로 권취된 라이너리스 타입 감열 기록 매체일 수 있다.
본 개시내용의 감열 기록 매체는 재부착(re-sticking) 방지를 목적으로 천공된 라인을 보유할 수 있다. 이 천공된 라인은 천공된 라인의 부위에서 종이 강도를 감소시켜, 라벨이 피착제로부터 박리되는 경우, 라벨(점착제를 보유하는 감열 기록 매체) 자체가 더 용이하게 파괴될 수 있도록 한다.
천공된 라인의 형상은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 천공된 라인은 각각 1.5 mm 이하의 길이를 갖는 미절단부들 및 각각 미절단부의 길이와 동일하거나 또는 2배 초과의 길이를 갖는 절단부들을 포함할 필요가 있다. 더 바람직하게는, 절단부 각각의 길이는 바람직하게는 미절단부의 길이의 3배 내지 10배이다.
라이너리스 타입 감열 기록 매체의 구조는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 감열 기록 매체의 구조는 라벨 유사 구조, 시트 유사 구조, 또는 롤 유사 구조일 수 있다. 그들 중에서, 편의성의 관점에서 롤 유사 구조가 바람직하다.
본 개시내용의 감열 기록 매체는 감열 기록층 측의 표면 상의 오켄 평활도(Oken smoothness)가 1,000 s 이상, 더 바람직하게는 1,000 s 이상 20,000 s 이하인 것이 바람직하다.
상기 "감열 기록층 측의 표면"은 감열 기록층이 형성된 측에서 기재의 최외각 표면층의 표면을 의미한다.
감열 기록층 측의 표면 상의 오켄 평활도가 1,000 s 이상인 경우, 인쇄 정확도가 개선될 수 있다.
오켄 평활도는 JIS P 8155에 따라 측정될 수 있다.
도 1a는 본 개시내용의 감열 기록 매체의 예를 나타내는 다이어그램이다. 도 1a에 나타낸 바와 같이, 본 개시내용의 감열 기록 매체(1)는 기재(11), 기재 상의 언더층(12), 및 언더층 상의 감열 기록층(13)을 포함한다. 도 1a는 보호층(14)이 감열 기록층(13) 상에 형성된 실시양태를 나타낸다. 도 1b에 나타낸 바와 같이, 점착제 층(16)은 감열 기록층(13) 반대 측의 기재(11)의 표면 상에 배치될 수 있다.
(감열 기록 매체의 제조 방법)
본 개시내용의 감열 기록 매체의 제조 방법은 기재 상에 중공 충전재 및 탄화수소를 포함하는 언더층을 형성하는 단계; 및 언더층 상에 감열 기록층을 형성하는 단계; 및 필요에 따라 기타 단계를 추가로 포함한다.
<언더층 형성 단계>
언더층 형성 단계는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 언더층은 본 개시내용의 감열 기록 매체 내에 언더층을 형성하기 위한 상기 기재된 방법과 동일한 방법을 이용하여 제조될 수 있다. 본 개시내용의 감열 기록 매체 내의 중공 충전재 및 탄화수소와 동일한 중공 충전재 및 탄화수소가 감열 기록 매체를 제조하기 위한 방법에서 사용될 수 있다는 점을 유의해야 한다. 따라서, 중공 충전재 및 탄화수소와 관련된 설명은 생략된다.
<감열 기록층 형성 단계>
감열 기록층의 형성 단계는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 감열 기록층을 형성하기 위한 상기 기재된 방법의 단계와 동일한 단계가 사용될 수 있다.
감열 기록층이 형성된 기재의 표면은, 상부에 감열 기록층용 코팅액을 도포하기 이전에, 바람직하게는 표면 개질 처리, 예를 들어 코로나 방전 처리, 산화 반응 처리(예를 들어, 크롬산), 에칭 처리, 용이한 접착성을 부여하기 위한 처리, 및 대전방지 처리가 수행될 수 있다는 점을 유의해야 한다. 이는 기재와 감열 기록층 사이의 접착성을 개선시킬 수 있다. 표면 개질 처리 이외에, 상기 층이 박리되지 않도록 하기 위한 목적을 위해, 예를 들어 스티렌-부타디엔 폴리머를 포함하는 층(용이 접착층)이 기재 상에 형성될 수 있고, 이어서 감열 기록층이 스티렌 부타디엔 폴리머를 포함하는 층 상에 형성될 수 있다.
<기타 단계>
기타 단계는 점착제 층 형성 단계 및 보호층 형성 단계를 포함할 수 있다. 스티커타입 감열 기록 매체를 제조하는 경우, 박리지는 바람직하게는 점착제 층 상에 적층된다. 박리지를 적층하기 위한 방법은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다.
라이너리스 타입 감열 기록 매체를 제조하는 경우, 기재의 감열 기록층이 형성된 측의 반대 측에 이형층용 코팅액이 도포된다. 이형층용 코팅액을 도포하기 위한 방법은 감열 기록층용 코팅액을 도포하기 위한 상기 기재된 방법과 동일한 방법일 수 있다.
<점착제 층 형성 단계>
점착제 층의 형성 단계는 통상적으로 사용된 형성 방법일 수 있다. 예를 들어, 점착제 층은 코팅 방법, 예를 들어 바 코팅법, 롤 코팅법, 콤마 코팅법, 및 그라비어 코팅법을 이용하여 지지체 상에 점착제를 도포하고, 이어서 점착제를 건조함으로써 형성될 수 있다.
<캘린더링 단계>
캘린더링을 통해 표면을 평활하게 하는 단계는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 슈퍼 캘린더링, 글로스 캘린더링, 및 머신 캘린더링을 포함한다. 캘린더링이 수행되는 압력은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 상기 압력은 바람직하게는 10 kg/cm2 이상 50 kg/cm2 이하이다.
(기록 방법)
본 개시내용의 감열 기록 매체를 이용하는 기록 방법은 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 서멀 헤드 또는 레이저가 사용될 수 있다.
서멀 헤드는 형상, 구조, 및 크기에 관해 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다.
레이저는 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 이의 예는 9.3 마이크로미터 이상 10.6 마이크로미터 이하의 파장을 갖는 반도체 레이저 및 CO2 레이저를 포함한다.
(적용 분야)
본 개시내용의 감열 기록 매체는 높은 발색 감도, 높은 이미지 밀도, 및 뛰어난 핸드 크림 내성을 보유한다. 따라서, 상기 감열 기록 매체는 많은 분야, 예를 들어 신선 식품류, 도시락, 및 델리카트슨를 위한 POS 분야; 예를 들어 서적 및 문서의 복사 분야; 통신 분야, 예를 들어 팩스밀리 분야; 티켓팅 분야, 예를 들어 티켓팅 기계, 영수증, 및 서명된 영수증; 및 항공 산업에서의 수화물 태그; 및 필 케이스(pill case) 및 필 바틀(pill bottle) 분야에서 사용될 수 있다.
(물품)
본 개시의 물품은 본 개시의 감열 기록 매체를 포함한다.
감열 기록 매체로서, 본 개시의 감열 기록 매체를 적절히 사용할 수 있다.
물품이 본 개시의 감열 기록 매체를 포함하는 상태라는 것은, 본 개시의 감열 기록 매체를 물품에 예를 들어 첩부 또는 부착하는 상태를 지칭한다.
본 개시의 물품은, 그 물품이 본 개시의 감열 기록 매체를 포함하는 한, 특별히 한정되지 않으며, 의도하는 목적에 따라서 적절히 선택될 수 있다. 물품의 예는 패킹재, 포장 재료 및 포장지를 포함한다. 특히 언급될 물품의 예는 특히 높은 내용제성을 가질 필요가 있는 물품을 포함한다.
실시예
이제, 본 개시내용은 실시예에 의해 기술될 것이다. 본 개시내용은 어떤 방식으로든 이들 실시예로 제한되어서는 안된다.
(제조예 1)
-중공 충전재의 제조-
--중공 충전재 A의 제조--
500 g의 이온교환수에 100 g의 콜로이드성 실리카(유효 농도: 20 질량%) 및 3.0 g의 아디프산-디에탄올아민 축합물이 첨가되었다. 이어서, 생성된 혼합물은 pH 3.0 내지 4.0으로 조정됨으로써 수성 분산 매체가 제조된다.
별도로, 모노머 성분(48 g의 아세토니트릴, 112 g의 메타크릴로니트릴, 및 40 g의 메틸 아크릴레이트), 가교제(2.0 g의 에틸렌글리콜 디메타크릴레이트), 발포제(60 g의 이소부텐), 및 중합 개시제(2.0 g의 아조비스이소부티로니트릴)는 함께 혼합되어 유상 혼합물질을 제조하였다.
수성 분산 매질 및 유상 혼합물은 함께 혼합되었다. 생성된 혼합된 액체는 호머믹서에 의해 12,000 rpm으로 5분 동안 혼합됨으로써 현탁액을 제조하였다. 현탁액은 질소 퍼징되고 이어서 0.2 MPa의 초기 반응 압력으로 조정된 1.5 리터 가압 반응기에 이전되었다. 현탁액은 80 rpm에서 교반하면서 15시간 동안 60℃의 중합 온도에서 중합되도록 하였다. 생성된 열팽창성 수지 입자는 100℃ 내지 140℃의 범위 내로 조절된 발포 온도에서 가열되어 원하는 중공률을 달성하였고, 이어서 원심 탈수기에 의해 탈수되었다. 이러한 과정은 일본 특개소 62-201231에 기재된 습식 열 팽창법에 따랐다. 따라서, 기존의 충전재(비열팽창성 중공 충전재) A보다 덜 팽창되는 중공 충전재 A가 제조되었다. 중공 충전재 A는 33 질량%의 고체 농도를 보유하였다는 점을 유의해야 한다.
(제조예 2 내지 9)
-중공 충전재 B 내지 I의 제조-
중공 충전재 B 내지 I는 제조예 1과 동일한 방식으로 제조되었으나, 제조예 1의 수성 분산 매질 및 유상 혼합물 및 이들의 양은 표 1 및 2에 기재된 것들로 변경되었다. 각각의 중공 충전재는 33 질량%의 고체 농도를 보유하도록 조정되었다는 점을 유의해야 한다. 표 1 및 2의 수치는 질량부로 기재한다는 점을 유의해야 한다.
Figure pct00001
Figure pct00002
표 1 및 2에서, 모노머 성분, 개시제, 및 가교제는 다음과 같이 약어로 표기된다:
AN: 아크릴로니트릴
MAN: 메타크릴로니트릴
MA: 메틸 아크릴레이트
MMA: 메틸 메타크릴레이트
IBX: 이소보르닐 메타크릴레이트
EDMA: 에틸렌글리콜 디메타크릴레이트
AIBN: 아조비스이소부티로니트릴
OPP: 디-2-에틸헥실퍼옥시디카르보네이트
(제조예 10)
-열팽창성 수지 입자의 제조-
캡슐형의 열팽창성 수지 입자는 제조예 1과 동일한 방식으로 수득되었으나, 생성된 캡슐형의 열팽창성 수지 입자는 가열되거나 탈수되지 않았다.
(실시예 1)
-언더층 1을 형성하기 위한 액체의 제조-
상기 제조된 중공 충전재 A(고체 농도: 33 질량%): 20 질량부
스티렌/부타디엔 코폴리머 라텍스(고체 농도: 47.5 질량%): 20 질량부
10 질량% 수성 폴리비닐 알코올 용액(PVA117, Kuraray Co., Ltd.에서 시판됨): 20 질량부
이온교환수: 40 질량부
이들은 혼합 및 교반되어 언더층 1을 형성하기 위한 액체를 제조하였다.
-감열 기록층을 형성하기 위한 액체의 제조-
<염료 분산액>
류코 염료(3-디부틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란): 20 질량부
10 질량% 수성 이타콘산 개질된 폴리비닐 알코올 용액(25-88KL, Kuraray Co., Ltd.에서 시판됨): 40 질량부
계면활성제(NEWCOL 290, NIPPON NYUKAZAI CO., LTD.에서 시판됨, 고체 농도: 100 질량%): 0.2 질량부
이온교환수: 40 질량부
이들은 혼합되고 샌드 그라인더에 의해 분산되어 0.5 마이크로미터의 50% 누적 부피 입경(D50)을 보유하도록 하였다. 따라서, 염료 분산액이 제조되었다.
<발색제 분산액>
4-하이드록시-4'-이소프로폭시디페닐설폰: 20 질량부
10 질량% 수성 이타콘산 개질된 폴리비닐 알코올 용액(25-88KL, Kuraray Co., Ltd.에서 시판됨): 20 질량부
비정질 실리카(MIZUKASIL P527, MIZUSAWA INDUSTRIAL CHEMICALS, LTD.에서 시판된): 15 질량부
계면활성제(PD-001, Nissin Chemical Industry Co., Ltd.에서 시판됨, 고체 농도: 100 질량%): 0.2 질량부
이온교환수: 60 질량부
이들은 함께 혼합되고 샌드 그라인더에 의해 분산되어 1.0 마이크로미터의 50% 누적 부피 입경(D50)을 보유하도록 하였다. 따라서, 염료 분산액이 제조되었다.
이어서, 20 질량부의 염료 분산액, 40 질량부의 발색제 분산액, 5 질량부의 스티렌-부타디엔 코폴리머 라텍스(고체 농도: 47.5 질량%), 10 질량부의 10 질량% 수성 이타콘산 개질된 폴리비닐 알코올 용액, 및 40 질량부의 이온교환수는 혼합 및 교반되어 감열 기록층을 형성하기 위한 액체를 제조하였다.
<충전 물질 분산액>
알루미늄 하이드록사이드: 30 질량부
10 질량% 수성 이타콘산 개질된 폴리비닐 알코올 용액(25-88KL, Kuraray Co., Ltd.에서 시판됨): 30 질량부
이온교환수: 40 질량부
이들은 함께 혼합되고 샌드 그라인더에 의해 분산되어 0.5 마이크로미터의 50% 누적 부피 입경(D50)을 보유하도록 하였다. 따라서, 충전 물질 분산액이 제조되었다.
-보호층을 형성하기 위한 액체의 제조-
상기 충전 물질 분산액: 30 질량부
10 질량% 수성 이타콘산 개질된 폴리비닐 알코올 용액(25-88KL, Kuraray Co., Ltd.에서 시판됨): 50 질량부
가교제(아디프산 디하이드라자이드, 고체 농도: 10 질량%): 20 질량부
몬탄 에스테르 왁스 분산액(고체 농도: 30 질량%): 5 질량부
이온교환수: 15 질량부
이들은 혼합 및 교반되어 보호층을 형성하기 위한 액체를 제조하였다.
이어서, 기재로서 62 g/m2의 평량을 갖는 종이 피스의 표면은 언더층(1)을 형성하기 위한 용액으로 코팅되어 1.5 g/m2의 건조 부착량을 보유하도록 하였다. 이어서, 감열 기록층을 형성하기 위한 용액이 그 상부에 도포되어 3.0 g/m2의 건조 부착량을 보유하도록 하고, 건조되었다. 게다가, 보호층을 형성하기 위한 액체가 그 상부에 도포되어 2.0 g/m2의 건조 부착량을 보유하도록 하였고, 건조되었다. 그 후, 생성물은 슈퍼 캘린더링으로 표면 처리를 수행하여 보호층이 2,000 s의 오켄 평활도를 보유하도록 하였다. 이렇게, 감열 기록 매체 1이 수득되었다.
(실시예 2)
감열 기록 매체 2는 실시예 1과 동일한 방식으로 수득되었으나, 언더층을 위해 사용된 중공 충전재 A는 중공 충전재 B로 변경되었다.
(실시예 3)
감열 기록 매체 3는 실시예 1과 동일한 방식으로 수득되었으나, 언더층을 위해 사용된 중공 충전재 A는 중공 충전재 C로 변경되었다.
(실시예 4)
감열 기록 매체 4는 실시예 1과 동일한 방식으로 수득되었으나, 언더층을 위해 사용된 중공 충전재 A는 중공 충전재 D로 변경되었다.
(실시예 5)
감열 기록 매체 5는 실시예 1과 동일한 방식으로 수득되었으나, 언더층을 위해 사용된 중공 충전재 A는 중공 충전재 E로 변경되었다.
(실시예 6)
감열 기록 매체 6는 실시예 5와 동일한 방식으로 수득되었으나, 캘린더링 조건은 평활도가 1,000 s이도록 조정되었다.
(실시예 7)
감열 기록 매체 7은 실시예 1과 동일한 방식으로 수득되었으나, 언더층을 위해 사용된 중공 충전재 A는 중공 충전재 F로 변경되었다.
(비교예 1)
감열 기록 매체 8는 실시예 1과 동일한 방식으로 수득되었으나, 언더층을 위해 사용된 중공 충전재 A는 충전재 G로 변경되었다.
(비교예 2)
감열 기록 매체 9는 실시예 1과 동일한 방식으로 수득되었으나, 언더층을 위해 사용된 중공 충전재 A는 충전재 H로 변경되었다.
(비교예 3)
감열 기록 매체 10은 실시예 1과 동일한 방식으로 수득되었으나, 언더층을 위해 사용된 중공 충전재 A는 충전재 I로 변경되었다.
(비교예 4)
감열 기록 매체 11은 실시예 1과 동일한 방식으로 수득되었으나, 언더층을 위해 사용된 중공 충전재 A는 제조예 10에서 제조된 열팽창성 수지 입자로 변경되었다.
(비교예 5)
감열 기록 매체 12는 실시예 1과 동일한 방식으로 수득되었으나, 언더층을 위해 사용된 중공 충전재 A는 각각 50%의 중공률 및 1.0 마이크로미터의 평균 입경(HP-1055, The Dow Chemical Company에서 시판됨, 고체 농도: 26.5 질량%)을 보유하는 중공 충전재 25 질량부로 변경되었다.
이어서, 실시예 및 비교예의 감열 기록 매체는 다음과 같이 "감열 기록 매체 내의 탄화수소의 양" 및 "오켄 평활도"를 측정하기 위해 사용되었다. 더구나, "감도" 및 "정확도"는 다음과 같이 평가되었다. 결과는 하기 표 4에 나타낸다.
(감열 기록 매체 내의 탄화수소의 양)
감열 기록 매체 내에 포함된 탄화수소의 양은 다음과 같이 헤드스페이스 가스 크로마토그래피법에 의해 측정되었다.
먼저, 2.5 cm2의 감열 기록 매체는 20 mL 헤드스페이스 바이알 내로 평량되었다. 이 바이알은 플루오로수지 피복된 실리콘 검 격막 및 알루미늄 캡을 이용하여 밀봉하여 봉인된다. 이렇게 봉인된 헤드스페이스 바이알은 170℃에서 20분 동안 가열되고, 이어서 헬륨으로 0.5분 동안 가압된다. 그 후, 3 mL의 가스상(헤드스페이스)이 취해지고, 가스 크로마토그래프 내로 도입되어 감열 기록 매체 내의 탄화수소의 중량 비율을 측정하였다.
헤드스페이스 가스 크로마토그래피 분석이 수행되는 조건은 다음과 같다:
GC 컬럼: DB-624, Agilent Technologies에서 시판됨, 길이: 30 m, 내경: 0.25 mm, 필름 두께: 1.40 마이크로미터)
검출기: FID, 온도: 200℃
가열 프로그램: 40℃(6분) → 20℃/분 → 200℃(3분 동안 유지)
주입구 온도: 200℃
가스 도입량: 3 mL
헬륨 유속: 1 mL/분
분리비: 10 : 1
정량: 검량곡선법(공지된 양의 샘플이 DMF 중에 용해된 용액 5 마이크로리터는 20 mL의 헤드스페이스 바이알 내로 취해진다. 이 바이알은 플루오로수지 피복된 실리콘 검 격막 및 알루미늄 캡을 이용하여 밀봉하여 봉인된다. 이렇게 봉인된 헤드스페이스 바이알은 170℃에서 20분 동안 가열되고, 이어서 헬륨으로 0.5분 동안 가압된다. 그 후, 3 mL의 가스상(헤드스페이스)이 취해지고, 가스 크로마토그래프 내로 도입된다.).
상기 양의 계산된 값은 4000을 곱하여 감열 기록 매체 1 m2당 탄화수소의 양을 결정하였다.
(오켄 평활도)
오켄 평활도는 JIS P 8155에 따라 측정되었다.
(감도)
기록은 하기 조건 하에서 0.2 ms 내지 1.2 ms의 펄스 폭의 기록 시뮬레이터(Ohkura Electric Co., Ltd.에서 시판됨)를 이용하여 감열 기록 매체 상에서 수행되었다: 0.45 w/도트의 헤드 파워, 20 ms/라인의 1-라인 기록 시간, 및 주사 선 밀도 8 x 3.85 dot/mm. 인쇄 밀도는 Macbeth 반사 밀도계(RD-914, Gretag Macbeth Ltd.에서 시판됨)로 측정되었다. 1.0의 이미지 밀도를 수득하기 위해 필요한 펄스 폭이 계산되었다. 펄스 폭에 기초하여, 비교예 1에 비한 감도 배율은 하기 기재된 수학식에 따라 계산되었다. 감도 배율은 하기 기준에 따라 평가되었다.
감도 배율 = (비교예 1의 펄스 폭) / (측정된 샘플의 펄스 폭)
평가 기준
A: 감도 배율은 1.11 이상이었다.
B: 감도 배율은 1.01 이상 1.1. 이하이었다.
C: 감도 배율은 1.00 이하였다.
(정확도)
임의의 문자 및 이미지는 각각의 감열 기록 물질(인쇄된 부분이 없는 감열 기록 물질) 상에 인쇄 속도가 8 ips이고 인쇄 밀도가 0.80인 열 라벨 프린터(I-4308, DATAMAX에서 시판됨)을 이용하여 인쇄되었다. 이렇게 인쇄된 이미지는 시각적으로 관찰되었고, 하기 기준에 따라 평가되었다.
평가 기준
A: 문자 또는 이미지는 보이드를 보유하지 않았다.
B: 문자 또는 이미지는 일부 보이드를 보유하였지만, 인식할 수 있었다.
C: 문자 또는 이미지는 보이드를 보유하고 있었고, 인식할 수 없었다.
(종합 평가)
각 실시예에서의 최저 평가 결과는 종합 평가의 결과로서 나타냈다.
Figure pct00003
Figure pct00004
실시예 1에서 감열 기록 매체의 "캘린더링 이전" 및 "캘린더링 이후"의 단면을 나타내는 주사 현미경 이미지는 각각 도 2a 및 2b에 제시되어 있다는 점을 유의해야 한다. 비교예 1에서 감열 기록 매체의 "캘린더링 이전" 및 "캘린더링 이후"의 단면을 나타내는 주사 현미경 이미지는 각각 도 3a 및 3b에 나타낸다. 도 2a 및 2b에 나타낸 바와 같이, 실시예 1의 감열 기록 매체는 캘린더링 이전 및 이후 형상의 변화가 거의 없는 것으로 관찰되었다(즉, 중공 충전재는 캘린더링에 기인하여 파쇄되지 않았다). 대조적으로, 도 3a 및 3b에 나타낸 바와 같이, 탄화수소를 포함하지 않는 중공 충전재가 언더층을 위해 사용된 비교예 1의 감열 기록 매체는 캘린더링 이전 및 이후 중공 충전재의 형성에서 변화가 있었다(즉, 중공 충전재는 캘린더링에 기인하여 파쇄되었다).
예를 들어, 본 개시내용의 실시양태는 다음과 같다.
<1> 기재;
감열 기록층; 및
기재와 감열 기록층 사이에 배치되고 비열팽창성 중공 충전재를 함유하는 언더층
을 포함하는 감열 기록 매체로서,
감열 기록 매체가 탄화수소를 함유하고,
3개 내지 16개의 탄소 원자를 갖는 탄화수소의 양이 감열 기록 매체의 면적에 대해 0.2 mg/m2 이상인 감열 기록 매체.
<2> <1>에 있어서, 중공 충전재가 탄화수소를 함유하고, 탄화수소의 양이 중공 충전재의 질량에 대해 0.2 질량% 이상인 감열 기록 매체.
<3> <1> 또는 <2>에 있어서, 중공 충전재가 모노머 단위로서 니트릴계 모노머를 80 질량% 이상 함유하는 폴리머로 형성되는 외부 쉘을 포함하는 것인 감열 기록 매체.
<4> <1> 내지 <3> 중 어느 하나에 있어서, 중공 충전재가 6.0 마이크로미터 이하의 부피 평균 입경을 갖는 것인 감열 기록 매체.
<5> <1> 내지 <4> 중 어느 하나에 있어서, 중공 충전재가 71% 이상의 평균 중공률을 갖는 것인 감열 기록 매체.
<6> <1> 내지 <5> 중 어느 하나에 있어서, 감열 기록 매체가 60℃ 이하의 비등점을 갖는 탄화수소를 함유하는 것인 감열 기록 매체.
<7> <1> 내지 <6> 중 어느 하나에 있어서, 감열 기록층 측의 표면 상의 오켄 평활도가 1,000 s 이상인 감열 기록 매체.
<8> 감열 기록 매체의 제조 방법으로서,
기재 상에, 중공 충전재 및 탄화수소를 포함하는 언더층을 형성하는 단계; 및
언더층 상에 감열 기록층을 형성하는 단계
를 포함하는 제조 방법.
<1> 내지 <7> 중 어느 하나에 따른 감열 기록 매체 및 <8>에 다른 감열 기록 매체의 제조 방법은 상기한 기존의 과제를 해결할 수 있고, 상기한 목적을 달성할 수 있다.
부호 목록
1: 감열 기록 매체
11: 기재
12: 언더층
13: 감열 기록층
14: 보호층
16: 점착제 층

Claims (7)

  1. 기재;
    감열 기록층; 및
    기재와 감열 기록층 사이에 배치되고 비열팽창성 중공 충전재를 함유하는 언더층
    을 포함하는 감열 기록 매체로서,
    감열 기록 매체가 탄화수소를 함유하고,
    3개 내지 16개의 탄소 원자를 갖는 탄화수소의 양이 감열 기록 매체의 면적에 대해 0.2 mg/m2 이상인 감열 기록 매체.
  2. 제1항에 있어서, 중공 충전재가 탄화수소를 함유하고, 탄화수소의 양이 중공 충전재의 질량에 대해 0.2 질량% 이상인 감열 기록 매체.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 중공 충전재가 모노머 단위로서 니트릴계 모노머를 80 질량% 이상 함유하는 폴리머로 형성되는 외부 쉘을 포함하는 것인 감열 기록 매체.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 중공 충전재가 6.0 마이크로미터 이하의 부피 평균 입경을 갖는 것인 감열 기록 매체.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 중공 충전재가 71% 이상의 평균 중공률을 갖는 것인 감열 기록 매체.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 감열 기록 매체가 60℃ 이하의 비등점을 갖는 탄화수소를 함유하는 것인 감열 기록 매체.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 감열 기록층 측의 표면 상의 오켄 평활도(Oken smoothness)가 1,000 s 이상인 감열 기록 매체.
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