KR20210097105A - Solder bonding method using flux sheet and flux sheet - Google Patents

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KR20210097105A KR1020217011948A KR20217011948A KR20210097105A KR 20210097105 A KR20210097105 A KR 20210097105A KR 1020217011948 A KR1020217011948 A KR 1020217011948A KR 20217011948 A KR20217011948 A KR 20217011948A KR 20210097105 A KR20210097105 A KR 20210097105A
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KR1020217011948A
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게이고 이마무라
가즈히로 미야우치
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나가세케무텍쿠스가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 과제는, 기판과의 접착성이 강하여, 리플로 중에 땜납 볼의 어긋남이 발생하지 않는 플럭스 시트를 제공하는 것이다. 상기 과제를 해결하기 위해서, 수지 (A) 를 포함하는 플럭스 시트로서, 상기 수지 (A) 가, 유리 전이점이 40 ℃ 이하이고, 150 ℃ 의 용융 점도가 500 ㎩·s (전단 속도 10 ㎜/분으로 측정) 이하인 수지 (a1) 을 함유하는 것을 특징으로 하는 플럭스 시트를 제공한다. 이로써, 기판과 땜납을 접합할 때, 기판과의 접착성이 강하여, 리플로 중에 땜납 볼의 어긋남이 발생하지 않는다는 효과를 얻을 수 있다.An object of the present invention is to provide a flux sheet that has strong adhesion to a substrate and does not cause misalignment of solder balls during reflow. In order to solve the above problems, as a flux sheet containing the resin (A), the resin (A) has a glass transition point of 40°C or less and a melt viscosity of 150°C of 500 Pa·s (shear rate of 10 mm/min). to provide a flux sheet characterized by containing the following resin (a1). Thereby, when bonding a board|substrate with a solder, the adhesiveness with a board|substrate is strong, and it can acquire the effect that the misalignment of a solder ball does not generate|occur|produce during reflow.

Description

플럭스 시트 및 플럭스 시트를 사용한 땜납 접합 방법Solder bonding method using flux sheet and flux sheet

본 발명은 전자 부품, 배선판, 기판, 반도체 칩, 웨이퍼, 패널 등의 땜납 접합 등에 사용되는 플럭스 시트, 및 당해 플럭스 시트를 사용한 땜납 접합 방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 기판과의 접착성이 우수한 플럭스 시트에 관한 것이다.The present invention relates to a flux sheet used for solder bonding of electronic components, wiring boards, substrates, semiconductor chips, wafers, panels, and the like, and a solder bonding method using the flux sheet. More specifically, it relates to a flux sheet excellent in adhesion to a substrate.

전자 부품을 기판 등에 실장하는 수법으로서, 예를 들어, 기판의 표면에 납땜을 실시하는 표면 실장 수법과, 기판의 구멍에 전극 리드 단자를 삽입하여 납땜을 실시하는 스루홀 실장 수법 등이 알려져 있다. 표면 실장 수법으로는, 예를 들어, 기판의 전극 상에 미리 땜납 범프를 형성하고, 이 땜납을 통해서 전자 부품과 기판을 전기적으로 접합하는 등의 수법이 있다. 땜납 범프를 형성하는 방법으로는, 땜납 볼 등을 기판 등의 회로 전극 상에 탑재하는 방법 등이 알려져 있다.As a method for mounting an electronic component on a substrate or the like, for example, a surface mounting method in which soldering is performed on the surface of a substrate, a through-hole mounting method in which an electrode lead terminal is inserted into a hole in the substrate and soldering is known. As a surface mounting method, there exists a method, such as forming a solder bump in advance on the electrode of a board|substrate, and electrically bonding an electronic component and a board|substrate through this solder, for example. As a method of forming a solder bump, the method of mounting a solder ball etc. on circuit electrodes, such as a board|substrate, etc. are known.

한편, 땜납 볼 등에 사용되는 땜납의 표면은 산화되기 쉽고, 정상적인 땜납 접합을 형성시키기 위해서는, 땜납 표면을 덮고 있는 금속 산화물을 제거할 필요가 있다. 금속 산화물을 제거하는 방법으로는, 예를 들어, 액상이나 페이스트상의 플럭스 (융제) 를 미리 땜납에 도포하는 방법이 알려져 있다.On the other hand, the surface of the solder used for solder balls and the like is easily oxidized, and in order to form a normal solder joint, it is necessary to remove the metal oxide covering the solder surface. As a method of removing a metal oxide, the method of apply|coating a liquid or paste-form flux (flux) to solder in advance is known, for example.

액상이나 페이스트상의 플럭스는, 도포량의 조정이 어렵고, 작업성이 떨어짐과 함께, 플럭스의 도포량이 적은 범프에서는, 산화물 제거 작용이 약하기 때문에, 땜납 접합의 불량을 일으키는 것이 문제였다. 그래서, 예를 들어, 특허문헌 1 에서는, 상기 문제를 해결하기 위해서, 폴리비닐알코올에서 유래하는 구조를 갖는 수지 (A1), 혹은 폴리비닐피롤리돈에서 유래하는 구조를 갖는 수지 (A2) 와 플럭스제 (B) 를 포함하는, 플럭스 필름을 사용한 플립 칩 접합 방법이 개시되어 있다.For liquid or paste fluxes, it is difficult to adjust the application amount, and workability is poor, and since the oxide removal action is weak on bumps with a small amount of flux applied, it is a problem that solder joint failure occurs. Then, in patent document 1, for example, in order to solve the said problem, resin (A1) which has a structure derived from polyvinyl alcohol, or resin (A2) which has a structure derived from polyvinylpyrrolidone, and a flux A flip-chip bonding method using a flux film including the agent (B) is disclosed.

일본 공개특허공보 2014-168791호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-168791

그러나, 상기 선행 기술 문헌에 개시된 플럭스 필름은 기판과의 접착성이 약하기 때문에, 작업시, 또는 땜납 리플로 중에 필름과 기판이 어긋나고, 그 결과 땜납 볼과 기판 상의 전극의 어긋남이 발생하고 있으며, 그 때문에, 폴리이미드 테이프 등으로 별도로 고정시킨다는 작업이 필요하게 된다는 문제가 발생하고 있다.However, since the flux film disclosed in the prior art document has weak adhesion to the substrate, the film and the substrate are misaligned during operation or during solder reflow, and as a result, the solder ball and the electrode on the substrate are misaligned. For this reason, the problem that the operation|work of fixing separately with a polyimide tape etc. is needed is generate|occur|produced.

그래서, 본 발명의 과제는, 기판과의 접착성이 강하여, 리플로 중에 땜납 볼의 어긋남이 발생하지 않는 플럭스 시트를 제공하는 것이다.Therefore, an object of the present invention is to provide a flux sheet that has strong adhesion to a substrate and does not cause misalignment of solder balls during reflow.

발명자는 상기 과제에 대해 예의 검토한 결과, 유리 전이점이 40 ℃ 이하이고, 150 ℃ 의 용융 점도가 500 ㎩·s (전단 속도 10 ㎜/분으로 측정) 이하인 수지 (a1) 을 함유함으로써, 기판과의 접착이 양호하여, 리플로 중에 땜납 볼의 어긋남이 발생하지 않는 플럭스 시트가 얻어지는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하였다.As a result of earnest examination of the above subject, the inventor has a glass transition point of 40 ° C. or less and a melt viscosity of 150 ° C. of 500 Pa·s (measured at a shear rate of 10 mm/min) or less. By containing the resin (a1), the substrate and The present invention was completed by discovering that a flux sheet having good adhesion and no misalignment of the solder balls during reflow was obtained.

즉, 본 발명은 이하의 플럭스 시트 및 땜납 접합 방법이다.That is, the present invention is the following flux sheet and solder bonding method.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 플럭스 시트는, 수지 (A) 를 포함하는 것을 특징으로 하는 플럭스 시트로서, 상기 수지 (A) 가, 유리 전이점이 40 ℃ 이하이고, 150 ℃ 의 용융 점도가 500 ㎩·s (전단 속도 10 ㎜/분으로 측정) 이하인 수지 (a1) 을 함유하는 것을 특징으로 한다.A flux sheet of the present invention for solving the above problems is a flux sheet comprising a resin (A), wherein the resin (A) has a glass transition point of 40°C or less and a melt viscosity of 500°C at 150°C. It is characterized by containing the resin (a1) of Pa·s (measured at a shear rate of 10 mm/min) or less.

이 특징에 의하면, 기판과의 접착성 및 땜납 볼의 유지력이 강하고, 시트의 평탄성이 양호하기 때문에, 시트 연화 후에 땜납 볼이 바로 아래에 가라앉을 수 있어, 땜납 볼의 어긋남이 발생하지 않는다는 효과를 발휘할 수 있다. 또한, 본 발명의 플럭스 시트는, 저온에서도 라미네이트할 수 있고, 또 라미네이트하지 않아도 기판과의 접착성이 양호하다는 효과를 발생시킨다.According to this feature, since the adhesion to the substrate and the holding force of the solder balls are strong, and the flatness of the sheet is good, the solder balls can sink immediately after the sheet is softened, and the effect that the solder balls do not misalign is obtained. can perform Further, the flux sheet of the present invention can be laminated even at a low temperature, and even without lamination, an effect of good adhesion to the substrate is produced.

또, 본 발명의 플럭스 시트의 일 실시양태로는, 상기 수지 (A) 가, 유리 전이점이 40 ℃ 이하이고, 150 ℃ 의 용융 점도가 500 ㎩·s (전단 속도 10 ㎜/분으로 측정) 이하인 수지 (a1) 을 35 ∼ 99 질량%, 유리 전이점이 상기 수지 (a1) 보다 큰 수지 (a2) 를 1 ∼ 65 질량% 함유하는 것을 특징으로 한다.Further, in one embodiment of the flux sheet of the present invention, the resin (A) has a glass transition point of 40° C. or less and a melt viscosity of 150° C. of 500 Pa·s (measured at a shear rate of 10 mm/min) or less. 35-99 mass % of resin (a1) and 1-65 mass % of resin (a2) whose glass transition point is larger than the said resin (a1) are contained, It is characterized by the above-mentioned.

이 특징에 의하면, 기판과의 접착성이 양호하여, 리플로 중에 땜납 볼의 어긋남이 발생하지 않는다는 효과를 발휘할 수 있음과 함께, 플럭스 시트의 접착성이나 택성을 제어할 수 있다는 효과에 의해 우수한 리워크성을 발휘할 수 있다.According to this feature, the adhesiveness to the substrate is good, the effect that the solder balls do not shift during reflow can be exhibited, and the adhesiveness and tackiness of the flux sheet can be controlled. Workability can be exhibited.

또, 본 발명의 플럭스 시트의 일 실시양태로는, 상기 플럭스 시트가, 플럭스제 (B) 를 함유하는 것을 특징으로 한다.Further, one embodiment of the flux sheet of the present invention is characterized in that the flux sheet contains a flux agent (B).

이 특징에 의하면, 땜납 볼의 젖음성을 향상시킬 수 있고, 땜납 리플로시에, 땜납 볼과 전극의 위치 어긋남을 보정할 수 있다는 효과 (셀프 얼라인먼트 효과) 를 발휘할 수 있다. According to this feature, the wettability of the solder balls can be improved, and the effect (self-alignment effect) can be exhibited in that the positional misalignment between the solder balls and the electrodes can be corrected during solder reflow.

또, 본 발명의 플럭스 시트의 일 실시양태로는, 상기 플럭스 시트는, 실질적으로 (B) 이외의 저분자 화합물을 함유하지 않는 것을 특징으로 한다. Further, one embodiment of the flux sheet of the present invention is characterized in that the flux sheet contains substantially no low molecular weight compounds other than (B).

이 특징에 의하면, 땜납 리플로시에 있어서의 저분자 화합물의 기화 등에 의한 기판 오염이나, 땜납의 구름에 의한 어긋남을 억제할 수 있다는 효과를 발휘할 수 있다.According to this feature, it is possible to exhibit the effect that substrate contamination due to vaporization of low molecular weight compounds or the like during solder reflow and displacement due to solder clouding can be suppressed.

또, 본 발명의 플럭스 시트의 일 실시양태로는, 상기 수지 (a1) 이 수용성인 것을 특징으로 한다.Further, in one embodiment of the flux sheet of the present invention, the resin (a1) is water-soluble.

이 특징에 의하면, 플럭스 시트의 제조시나 실장시나 땜납 리플로 후, 플럭스 시트를 세정할 때, 수계의 용매를 사용할 수 있다. 이로써 휘발성이 높은 유기 용매를 사용하지 않고 플럭스 시트를 세정하는 것이 가능해지기 때문에, 유기 용매의 휘발에 의한 환경 부하를 저감시킬 수 있다는 효과를 발휘할 수 있다.According to this feature, an aqueous solvent can be used when the flux sheet is manufactured, mounted, or washed after solder reflow. Thereby, since it becomes possible to wash|clean a flux sheet without using a highly volatile organic solvent, the effect that the environmental load by volatilization of an organic solvent can be reduced can be exhibited.

또, 본 발명의 플럭스 시트의 일 실시양태로는, 상기 수지 (a1) 이 폴리비닐알코올의 일부의 하이드록시기 (-OH) 를, 알킬렌옥사이드 사슬이 1 개 또는 복수 연결된 부분 구조 -(CH(R1)CH(R2)O)n-R3 (n 은 알킬렌옥사이드 사슬의 반복수 (평균값) 를 나타내고, 1.0 이상이다. R1, R2 및 R3 은, 서로 독립적으로 수소 원자 또는 유기기를 나타낸다. R1, R2 및 R3 이 복수 있는 경우, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.) 으로 치환한 변성 폴리비닐알코올, 폴리아미드 및 폴리에스테르에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 것을 특징으로 한다.Further, in one embodiment of the flux sheet of the present invention, the resin (a1) has a partial structure in which one or more alkylene oxide chains are linked to one or more hydroxyl groups (-OH) of polyvinyl alcohol - (CH (R 1 )CH(R 2 )O) n -R 3 (n represents the repeating number (average value) of the alkylene oxide chain, and is 1.0 or more. R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom or an organic group. When there are a plurality of R 1 , R 2 and R 3 , each of which may be the same or different.) containing at least one selected from modified polyvinyl alcohol, polyamide and polyester substituted with characterized.

이 특징에 의하면, 기판과의 접착성이 양호하여, 리플로 중에 땜납 볼의 어긋남이 발생하지 않는다는 효과를 보다 발휘할 수 있다.According to this feature, the adhesiveness to the substrate is good, and the effect that the solder balls do not shift during reflow can be more exhibited.

또, 본 발명의 플럭스 시트의 일 실시양태로는, (a2) 로서 폴리비닐알코올을 함유하는 것을 특징으로 한다.Further, one embodiment of the flux sheet of the present invention is characterized in that it contains polyvinyl alcohol as (a2).

이 특징에 의하면, 접착성이나 택성을 제어하여 작업시의 취급성을 양호하게 하여, 리워크성이 우수하고, 또 외관의 수용성을 향상시킬 수 있다.According to this feature, it is possible to control adhesiveness and tackiness to improve handleability at the time of work, to improve reworkability, and to improve the water solubility of appearance.

또, 본 발명의 플럭스 시트의 일 실시양태로는, 상기 플럭스 시트에 있어서, 상기 수지 (A) 의 함유량이 50 질량% 이상인 것을 특징으로 한다.Further, in one embodiment of the flux sheet of the present invention, the content of the resin (A) in the flux sheet is 50 mass% or more.

이 특징에 의하면, 땜납 볼 유지력과, 양호한 취급성을 양립시킬 수 있다.According to this feature, it is possible to achieve both solder ball holding force and good handleability.

또, 본 발명의 플럭스 시트의 일 실시양태로는, 상기 플럭스 시트의 면적이 30000 ㎟ 이상인 것을 특징으로 한다.Further, an embodiment of the flux sheet of the present invention is characterized in that the flux sheet has an area of 30000 mm 2 or more.

이 특징에 의하면, 땜납 볼과 전극의 위치 어긋남이 보다 크게 발생하는 대면적의 웨이퍼나 기판에 대해, 위치 어긋남을 보다 억제할 수 있다는 효과를 발휘할 수 있다.According to this feature, it is possible to exhibit the effect that the position shift can be further suppressed with respect to a large-area wafer or substrate in which the position shift between the solder ball and the electrode is larger.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 땜납 접합 방법은, 상기 플럭스 시트를 사용한 땜납 접합 방법으로서, 하기 (1) ∼ (4) 의 스텝을 갖는 것을 특징으로 한다.The solder bonding method of this invention for solving the said subject is a solder bonding method using the said flux sheet, It has the following steps (1) - (4), It is characterized by the above-mentioned.

(1) 전극을 갖는 기판의 전극을 갖는 면에 상기 플럭스 시트를 배치하는 스텝(1) disposing the flux sheet on the electrode-bearing surface of the electrode-bearing substrate

(2) 상기 플럭스 시트 상에, 땜납 볼을 배치하는 스텝(2) a step of disposing a solder ball on the flux sheet

(3) 상기 플럭스 시트가 용융 혹은 연화되는 온도로 가열하는 스텝(3) heating to a temperature at which the flux sheet is melted or softened

(4) (3) 과 동시 혹은 그 후, 땜납의 융점 이상의 온도로 가열하는 스텝(4) a step of heating to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder simultaneously with or after (3)

이 특징에 의하면, 기판과의 접착성이 강하여, 리플로 중에 땜납 볼의 어긋남이 발생하지 않는 플럭스 시트를 사용하므로, 땜납 접합의 불량 등이 발생하지 않는다는 효과를 발휘할 수 있다.According to this feature, since a flux sheet which has strong adhesion to the substrate and does not cause misalignment of the solder balls during reflow is used, it is possible to exhibit the effect that defects in solder bonding or the like do not occur.

본 발명에 의하면, 기판과의 접착성이 강하여, 리플로 중에 땜납 볼의 어긋남이 발생하지 않는 플럭스 시트를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the adhesiveness with a board|substrate is strong and it can provide the flux sheet|seat which does not generate|occur|produce the misalignment of a solder ball during reflow.

도 1 은, 본 발명의 땜납 접합 방법을 설명하기 위한 개략도이고, 전극을 구비하는 기판의 개략 평면도이다.
도 2 는, 본 발명의 땜납 접합 방법을 설명하기 위한 개략도이고, 전극을 구비하는 기판의 개략 단면도이다.
도 3 은, 본 발명의 땜납 접합 방법을 설명하기 위한 개략도이고, 공정 (1) 에 있어서의, 전극을 구비하는 기판의 전극면측에, 본 발명의 플럭스 시트를 배치하는 방법의 일례를 나타낸 개략 단면도이다.
도 4 는, 본 발명의 땜납 접합 방법을 설명하기 위한 개략도이고, 공정 (2) 에 있어서의, 땜납 볼을 본 발명의 플럭스 시트를 개재해서, 기판의 전극 상에 위치하도록 배치하는 방법의 일례를 나타낸 개략 단면도이다.
도 5 는, 본 발명의 땜납 접합 방법을 설명하기 위한 개략도이고, 공정 (3) 에 있어서의, 땜납 볼을, 기판의 전극과 접합시킨, 땜납 접합 기판의 일례를 나타낸 개략 단면도이다.
도 6 은, 본 발명의 땜납 접합 방법을 설명하기 위한 개략도이고, 공정 (4) 종료 후에, 플럭스 시트를 제거한, 땜납 접합 기판의 일례를 나타낸 개략 단면도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic for demonstrating the solder bonding method of this invention, and is a schematic plan view of the board|substrate provided with an electrode.
It is a schematic for demonstrating the solder bonding method of this invention, and is a schematic sectional drawing of the board|substrate provided with an electrode.
Fig. 3 is a schematic diagram for explaining the solder bonding method of the present invention, and is a schematic cross-sectional view showing an example of a method for arranging the flux sheet of the present invention on the electrode face side of the substrate provided with the electrode in the step (1). am.
Fig. 4 is a schematic diagram for explaining the solder bonding method of the present invention. An example of a method of arranging solder balls in the step (2) so as to be positioned on the electrodes of the substrate through the flux sheet of the present invention. It is a schematic cross-sectional view shown.
5 is a schematic diagram for explaining the solder bonding method of the present invention, and is a schematic cross-sectional view showing an example of a solder bonded substrate in which a solder ball is bonded to an electrode of the substrate in step (3).
6 is a schematic diagram for explaining the solder bonding method of the present invention, and is a schematic cross-sectional view showing an example of a solder bonded substrate from which the flux sheet is removed after the step (4) is finished.

이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은, 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment of this invention is described in detail. However, this invention is not limited to the following embodiment.

[플럭스 시트][Flux Sheet]

본 발명의 플럭스 시트는, 수지 (A) 를 포함하는 플럭스 시트로서, 상기 수지 (A) 가, 유리 전이점이 40 ℃ 이하이고, 150 ℃ 의 용융 점도가 500 ㎩·s (전단 속도 10 ㎜/분으로 측정) 이하인 수지 (a1) 을 함유하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 있어서, 「플럭스 시트」 란, 땜납 접합의 형성을 위해서 사용되는 시트로서, 땜납 표면의 산화 피막을 제거하기 위해서 사용하는 것이다. 구체적으로는, 수지 (A) 로서 플럭스 작용을 갖는 수지를 함유하는, 혹은 플럭스 시트가 플럭스제 (B) 를 함유하는, 중 적어도 일방을 만족시킴으로써, 플럭스 효과를 갖는 시트 (플럭스 시트) 로 할 수 있다.The flux sheet of the present invention is a flux sheet comprising a resin (A), wherein the resin (A) has a glass transition point of 40°C or less and a melt viscosity of 150°C of 500 Pa·s (shear rate of 10 mm/min). It is characterized by containing the following resin (a1). In the present invention, the "flux sheet" is a sheet used for forming a solder joint, and is used to remove the oxide film on the solder surface. Specifically, a sheet having a flux effect can be obtained by satisfying at least one of the resin (A) containing a resin having a flux action or the flux sheet containing the flux agent (B). there is.

<수지 (A)><Resin (A)>

본 발명의 수지 (A) 는, 유리 전이점이 40 ℃ 이하이고, 150 ℃ 의 용융 점도가 500 ㎩·s 이하인 수지 (a1) 을 함유하는 것을 특징으로 한다.Resin (A) of this invention contains resin (a1) whose glass transition point is 40 degrees C or less and 150 degreeC melt viscosity is 500 Pa*s or less, It is characterized by the above-mentioned.

유리 전이점은, 물질의 유리 전이가 일어나는 온도 (마이크로 브라운 운동이 일어나는 온도) 이고, 일반적으로 유리 전이점 미만의 온도 영역에서는, 단단하여 유리상의 성질을 나타내고, 유리 전이점보다 높은 온도 영역에서는, 부드러워 고무상이나 액체상의 성질을 나타낸다.The glass transition point is the temperature at which the glass transition of a material occurs (the temperature at which micro-Brownian motion occurs), and in a temperature region below the glass transition point, it is hard and exhibits glassy properties, and in a temperature region higher than the glass transition point, It is soft and shows the properties of rubber or liquid.

상기 수지 (a1) 의 유리 전이점과 접착성의 관계에 대해 설명하면, 아모르퍼스 구조를 갖는 고분자 시트에서는, 유리 전이 온도보다 저온에서 단단한 유리 상태, 고온에서 부드러운 고무 상태가 된다. 그 때문에, 유리 전이 온도가 낮은 (실온 부근, 나아가서는 실온 이하) 수지를 포함하는 시트는, 취급하는 온도 영역에서 부드러워, 기판에 시트를 배치할 때, 기판과 계면에서의 밀착성이 향상되기 때문에, 시트의 접착력이 강해진다고 할 수 있다. 또 유리 전이 온도가 낮은 수지를 포함하는 시트는, 기판의 휨 발생이나 열분해 등의 악영향을 미칠 가능성이 낮은, 비교적 저온 (60 ∼ 80 ℃ 정도) 의 영역에서도, 보이드를 물지 않고 라미네이트할 수 있다고 말할 수 있다. 그 결과, 유리 전이점을 40 ℃ 이하로 함으로써 점착 부여제 등을 첨가하는 일 없이 기판·땜납 볼과 접착성이 양호한 플럭스 시트가 얻어진다.When the relationship between the glass transition point and adhesiveness of the resin (a1) is described, in the polymer sheet having an amorphous structure, a glass state that is hard at a lower temperature than the glass transition temperature and a soft rubber state at a high temperature are obtained. Therefore, the sheet containing the resin having a low glass transition temperature (near room temperature, furthermore, below room temperature) is soft in the temperature range handled, and when the sheet is placed on the substrate, the adhesion at the interface with the substrate is improved, It can be said that the adhesive force of the sheet becomes stronger. In addition, it can be said that a sheet containing a resin having a low glass transition temperature can be laminated without biting voids even in a relatively low temperature (about 60 to 80 ° C.) region where the possibility of adverse effects such as warpage or thermal decomposition of the substrate is low. can As a result, by setting the glass transition point to 40°C or less, a flux sheet having good adhesion to the substrate and solder balls can be obtained without adding a tackifier or the like.

본 발명에 있어서, 수지 (a1) 의 유리 전이점은 40 ℃ 이하이고, 상한값으로는, 바람직하게는 30 ℃ 이하이고, 보다 바람직하게는 20 ℃ 이하이고, 더욱 바람직하게는 10 ℃ 이하이고, 특히 바람직하게는 0 ℃ 이하이고, 가장 바람직하게는 -20 ℃ 이하이다. 수지 (a1) 의 유리 전이점을 40 ℃ 이하로 함으로써, 수지 (a1) 을 함유하는 수지 (A) 가 부드러워져, 기판과 플럭스 시트의 접착성이 향상된다. 또, 땜납 볼이 자중 (自重) 으로 가라앉을 수 있어, 땜납 볼의 위치 어긋남을 억제할 수 있다.In the present invention, the glass transition point of the resin (a1) is 40°C or less, and the upper limit is preferably 30°C or less, more preferably 20°C or less, still more preferably 10°C or less, especially Preferably it is 0 degreeC or less, Most preferably, it is -20 degrees C or less. By setting the glass transition point of the resin (a1) to 40°C or less, the resin (A) containing the resin (a1) becomes soft, and the adhesion between the substrate and the flux sheet is improved. Moreover, the solder ball can sink under its own weight, and the positional shift of the solder ball can be suppressed.

본 발명에 있어서, 유리 전이점은, 시차 주사 열량 측정 장치 (X-DSC7000 세이코 인스트루 주식회사 제조) 를 사용하여 측정할 수 있다.In this invention, a glass transition point can be measured using a differential scanning calorimetry apparatus (X-DSC7000 Seiko Instruments Co., Ltd. product).

또한, 본 발명에 있어서, 수지 (a1) 은 150 ℃ 의 용융 점도가 500 ㎩·s 이하인 것을 특징으로 한다. 상한값으로는, 바람직하게는, 400 ㎩·s 이하이고, 보다 바람직하게는 350 ㎩·s 이하이고, 더욱 바람직하게는 200 ㎩·s 이하이다. 수지 (a1) 의 150 ℃ 의 용융 점도를 500 ㎩·s 이하로 함으로써, 땜납 리플로시에, 땜납 볼이 자중으로 가라앉아, 기판의 전극 상에 접할 (시트를 관통하는 것) 수 있고, 땜납의 융점 이상으로 승온되면, 볼과 전극은 젖어서 땜납 접합을 형성할 수 있어, 땜납 볼의 위치 어긋남을 억제할 수 있다.Moreover, in this invention, the melt viscosity of 150 degreeC of resin (a1) is 500 Pa*s or less, It is characterized by the above-mentioned. As an upper limit, Preferably it is 400 Pa.s or less, More preferably, it is 350 Pa.s or less, More preferably, it is 200 Pa.s or less. By setting the melt viscosity at 150°C of the resin (a1) to 500 Pa·s or less, during solder reflow, the solder ball sinks by its own weight and can be in contact with the electrode of the substrate (that penetrates the sheet), and the solder When the temperature is raised above the melting point of

본 발명에 있어서, 150 ℃ 의 용융 점도는 전단 속도 10 ㎜/min 의 조건으로, 캐필러리 레오미터 (캐피로그래프 ID 주식회사 토요 정기 제작소 제조) 에 의해 측정할 수 있다.In this invention, a 150 degreeC melt viscosity can be measured with the conditions of a shear rate of 10 mm/min with a capillary rheometer (made by Capyrograph ID Toyo Seiki Seisakusho).

유리 전이점이 40 ℃ 이하이고, 150 ℃ 의 용융 점도가 500 ㎩·s 이하인 수지 (a1) 로는 특별히 한정되지 않지만, 열가소성 수지인 것이 바람직하고, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리부틸렌, 폴리염화비닐, 에틸렌-고리형 올레핀 공중합체, 폴리스티렌계 수지, 폴리(메트)아크릴산계 수지, 폴리비닐알코올, 변성 폴리비닐알코올 등의 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아세트산비닐, 폴리(메트)아크릴아미드계 수지, 폴리부타디엔, 폴리이소프렌, 스티렌말레산 수지, 카르복실기 말단 부타디엔니트릴 공중합체 (CTBN) 등의 부가계 수지, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리우레탄, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에테르케톤, 폴리에테르술폰 등의 축합계 수지, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등의 폴리에테르계 수지, 폴리에틸렌이민 등의 폴리알킬렌이민계 수지, 폴리시클로올레핀 등의 개환 중합계 수지를 들 수 있다. 이들은 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상 혼합하여 사용할 수도 있다. 이들 중에서도, 변성 폴리비닐알코올, 폴리아미드 및 폴리에스테르에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.Although it does not specifically limit as resin (a1) whose glass transition point is 40 degrees C or less and 150 degreeC melt viscosity is 500 Pa.s or less, It is preferable that it is a thermoplastic resin, For example, polyethylene, polypropylene, polybutylene, poly Polyvinyl alcohol-based resins such as vinyl chloride, ethylene-cyclic olefin copolymer, polystyrene-based resin, poly(meth)acrylic acid-based resin, polyvinyl alcohol, and modified polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, poly(meth)acrylamide-based resin Resin, polybutadiene, polyisoprene, styrene maleic acid resin, carboxyl-terminated butadienenitrile copolymer (CTBN), etc. addition-based resin, polyester, polyamide, polyimide, polyurethane, polycarbonate resin, polyether ketone, poly Condensed resins such as ethersulfone, polyether resins such as polyethylene glycol and polypropylene glycol, polyalkyleneimine resins such as polyethyleneimine, and ring-opening polymerization resins such as polycycloolefin. These may be used individually by 1 type, and may be used in mixture of 2 or more types. Among these, it is preferable to contain 1 or more types chosen from modified polyvinyl alcohol, polyamide, and polyester.

또 폴리비닐알코올은, 수용성의 관점에서, 비누화도가 75 ∼ 90 ㏖% 인 것이 바람직하고, 85 ∼ 90 ㏖% 인 것이 보다 바람직하다. 폴리비닐알코올의 비누화도를 상기 범위 내로 함으로써, 결정화되어 물에 잘 녹지 않게 되는 것이나 친수성기가 적어져 물에 잘 녹지 않게 되는 것을 억제할 수 있다. 한편, 친수성기 변성한 폴리비닐알코올의 경우에는, 보다 낮은 비누화도에서도 물에 녹는다. 후술하는 변성 폴리비닐알코올의 경우에는, 하이드록시기 이외의 친수성기를 그래프트화 혹은 주사슬 중에 블록화 등을 함으로써 용해성을 개선할 수 있으므로, 비누화도는 30 ∼ 60 ㏖% 인 것이 바람직하고, 40 ∼ 50 ㏖% 인 것이 더욱 바람직하다. 친수성기 변성에 사용하는 친수성기로는, 예를 들어, 에틸렌글리콜 등의 알킬렌옥사이드 화합물 등이 바람직하다.Moreover, it is preferable from a water solubility viewpoint that polyvinyl alcohol is 75-90 mol%, and, as for polyvinyl alcohol, it is more preferable that it is 85-90 mol%. By setting the degree of saponification of polyvinyl alcohol within the above range, it is possible to suppress crystallization and difficulty soluble in water, or decrease in hydrophilic group and insoluble in water. On the other hand, in the case of polyvinyl alcohol modified with a hydrophilic group, it is soluble in water even at a lower degree of saponification. In the case of modified polyvinyl alcohol described later, solubility can be improved by grafting a hydrophilic group other than a hydroxyl group or blocking in the main chain, so the degree of saponification is preferably 30 to 60 mol%, and 40 to 50 It is more preferable that it is mol%. As a hydrophilic group used for hydrophilic group modification, alkylene oxide compounds, such as ethylene glycol, etc. are preferable, for example.

이들 수지에 있어서, 하이드록시기 또는 카르복실기, 아미노기를 포함하는 수지는, 수지 자체가 플럭스 작용을 갖기 때문에 플럭스제를 배합하지 않아도, 플럭스 시트로서 사용할 수 있다. 구체적으로는, 폴리(메트)아크릴산계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아미드, 폴리에스테르, 카르복실기 말단 부타디엔니트릴 공중합체 (CTBN), 폴리우레탄 등의 수지가, 용융 상태에서 플럭스 활성을 나타낼 수 있다.In these resins, a resin containing a hydroxyl group, a carboxyl group, or an amino group can be used as a flux sheet without adding a fluxing agent because the resin itself has a fluxing action. Specifically, resins such as poly(meth)acrylic acid-based resins, polyvinyl alcohol-based resins, polyamides, polyesters, carboxyl-terminated butadienenitrile copolymer (CTBN), polyurethane, etc. can exhibit flux activity in a molten state. .

본 발명에 있어서, 수지 (a1) 의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 1 × 103 ∼ 2.0 × 105 이다. 하한값으로는, 바람직하게는 3.0 × 103 이상이고, 보다 바람직하게는 8.0 × 103 이상이다. 상한값으로는, 바람직하게는 1.5 × 105 이하이고, 보다 바람직하고 1.0 × 105 이하이다. 더욱 바람직하게는 5.0 × 104 이하이다. 수지 (a1) 의 중량 평균 분자량을 상기 범위 내로 함으로써, 시트의 성형성이 양호해져, 땜납 접합 후의 시트의 용해 제거나 볼의 시트 관통성이 양호해진다.In the present invention, the weight average molecular weight of the resin (a1) is preferably 1×10 3 to 2.0×10 5 . As a lower limit, Preferably it is 3.0 x 10 3 or more, More preferably, it is 8.0 x 10 3 or more. As an upper limit, Preferably it is 1.5 x 10 5 or less, More preferably, it is 1.0 x 10 5 or less. More preferably, it is 5.0 x 10 4 or less. When the weight average molecular weight of the resin (a1) falls within the above range, the moldability of the sheet becomes good, and the dissolution removal of the sheet after soldering and the sheet penetrability of the ball become good.

수지 (a1) 의 분자량 분포 (Mw/Mn) 는, 바람직하게는 1 ∼ 30 이다. 하한값으로는, 바람직하게는 1.5 이상이고, 보다 바람직하게는 1.8 이상이다. 상한값으로는, 바람직하게는 15 이하이고, 보다 바람직하게는 8 이하이다. 수지 (a1) 의 상기 분자량은, 테트라하이드로푸란 (THF) 을 용리액에 사용한 겔 퍼미에이션 크로마토그래피법 (GPC 법) 에 의해 측정하고, 수지 (a1) 의 분자량은 폴리스티렌 환산값이다.The molecular weight distribution (Mw/Mn) of the resin (a1) is preferably 1 to 30. As a lower limit, Preferably it is 1.5 or more, More preferably, it is 1.8 or more. As an upper limit, Preferably it is 15 or less, More preferably, it is 8 or less. The molecular weight of the resin (a1) is measured by a gel permeation chromatography method (GPC method) using tetrahydrofuran (THF) as an eluent, and the molecular weight of the resin (a1) is a polystyrene conversion value.

본 발명의 수지 (a1) 은, 바람직하게는 수용성이다. 수용성이란, 25 ℃, 1 기압의 조건하에 있어서, 물 100 질량부에 대하여, 수지 (a1) 이 5 질량부 이상 용해되는 것을 의미한다. 하한값으로는, 바람직하게는, 10 질량부 이상 용해되고, 보다 바람직하게는 20 질량부 이상이고, 더욱 바람직하게는 30 질량부 이상이다.The resin (a1) of the present invention is preferably water-soluble. Water solubility means that 5 mass parts or more of resin (a1) is melt|dissolved with respect to 100 mass parts of water under the conditions of 25 degreeC and 1 atm. As a lower limit, Preferably it melt|dissolves 10 mass parts or more, More preferably, it is 20 mass parts or more, More preferably, it is 30 mass parts or more.

수지 (a1) 이 수용성이므로, 플럭스 시트를 제조할 때, 수계의 용매를 사용하여 제조할 수 있다. 또, 플럭스 시트를 세정할 때, 수계의 용매를 사용할 수 있고, 유기 용매의 휘발에 의한 환경 부하를 저감시킬 수 있다는 효과를 발휘할 수 있다.Since the resin (a1) is water-soluble, it can be prepared using an aqueous solvent when manufacturing the flux sheet. Moreover, when washing|cleaning a flux sheet, an aqueous solvent can be used and the effect that the environmental load by volatilization of an organic solvent can be reduced can be exhibited.

상기 수지 (a1) 로는, 예를 들어, 폴리비닐알코올의 일부의 하이드록시기 (-OH) 를, 알킬렌옥사이드 사슬이 1 개 또는 복수 연결된 부분 구조 -(CH(R1)CH(R2)O)n-R3) 으로 치환한 변성 폴리비닐알코올을 들 수 있다.The resin (a1) is, for example, a partial structure in which one or more alkylene oxide chains are linked to a hydroxyl group (-OH) of a part of polyvinyl alcohol -(CH(R 1 )CH(R 2 ) O) modified polyvinyl alcohol substituted with n -R 3 ) is mentioned.

n 은 알킬렌옥사이드 사슬의 반복수 (평균값) 를 나타내고, 바람직하게는 1.0 이상이다. n 의 하한값으로는, 바람직하게는 1.0 이상이고, 보다 바람직하게는 2.0 이상이고, 더욱 바람직하게는 5.0 이상이고, 특히 바람직하게는 6.0 이상이다. 상한값으로는, 바람직하게는 300.0 이하이고, 보다 바람직하게는 200.0 이하이고, 더욱 바람직하게는 65.0 이하이다. n represents the repeating number (average value) of an alkylene oxide chain, Preferably it is 1.0 or more. As a lower limit of n, Preferably it is 1.0 or more, More preferably, it is 2.0 or more, More preferably, it is 5.0 or more, Especially preferably, it is 6.0 or more. As an upper limit, Preferably it is 300.0 or less, More preferably, it is 200.0 or less, More preferably, it is 65.0 or less.

n 을 상기 범위 내로 함으로써, 접착성이 우수한 플럭스 시트를 얻을 수 있다.When n falls within the above range, a flux sheet excellent in adhesiveness can be obtained.

R1, R2 로는, 각각 수소 원자 또는 유기기가 바람직하고, 유기기로는 탄소 원자수 1 ∼ 10 의 알킬기가 바람직하다. 탄소 원자수 1 ∼ 10 의 알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기 등을 들 수 있다.A hydrogen atom or an organic group is preferable as R<1> , R<2> , respectively, and a C1-C10 alkyl group is preferable as an organic group. As a C1-C10 alkyl group, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group etc. are mentioned, for example.

R3 으로는 수소 원자 또는 유기기가 바람직하고, 유기기로는 탄소 원자수 1 ∼ 10 의 알킬기, 탄소 원자수 1 ∼ 10 아실기, 탄소 원자수 1 ∼ 10 의 알킬에스테르기, 탄소 원자수 1 ∼ 10 의 알킬아미드기, 술폰산염기가 바람직하다.R 3 is preferably a hydrogen atom or an organic group, and the organic group is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylester group having 1 to 10 carbon atoms, or an alkylester group having 1 to 10 carbon atoms. of alkylamide group and sulfonate group are preferable.

탄소 원자수 1 ∼ 10 의 알킬기로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기 등을 들 수 있다.As a C1-C10 alkyl group, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group etc. are mentioned, for example.

탄소 원자수 1 ∼ 10 아실기로는, 메틸카르보닐기, 에틸카르보닐기, n-프로필카르보닐기, i-프로필카르보닐기, 부틸카르보닐기, 펜틸카르보닐기, 헥실기 카르보닐 등을 들 수 있다.Examples of the acyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methylcarbonyl group, an ethylcarbonyl group, an n-propylcarbonyl group, an i-propylcarbonyl group, a butylcarbonyl group, a pentylcarbonyl group, and a hexyl carbonyl group.

탄소 원자수 1 ∼ 10 의 알킬에스테르기로는, 메틸옥시카르보닐메틸렌기, 메틸카르보닐옥시메틸렌기, 에틸옥시카르보닐에틸렌기, 에틸카르보닐옥시에틸렌기 등을 들 수 있다.Examples of the alkylester group having 1 to 10 carbon atoms include a methyloxycarbonylmethylene group, a methylcarbonyloxymethylene group, an ethyloxycarbonylethylene group, and an ethylcarbonyloxyethylene group.

탄소 원자수 1 ∼ 10 의 알킬아미드기로는, N,N'-디메틸아미드알킬렌기, N,N'-디에틸아미드알킬렌기 등을 들 수 있다.Examples of the alkylamide group having 1 to 10 carbon atoms include a N,N′-dimethylamidealkylene group and a N,N′-diethylamidealkylene group.

상기 변성 폴리비닐알코올로서, 구체적으로는, 상품명 「고세넥스 (등록상표) LW-100 (닛폰 합성 화학 공업사 제조 ; 유리 전이점 -0.5 ℃, 150 ℃ 의 용융 점도 : 63 ㎩·s (전단 속도 10 ㎜/분), 비누화도 43.1 ㏖%」) 을 들 수 있다.As said modified polyvinyl alcohol, specifically, the brand name "Gosenex (trademark) LW-100 (made by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.; melt viscosity of glass transition point -0.5 degreeC, 150 degreeC: 63 Pa.s (shear rate 10) mm/min) and a saponification degree of 43.1 mol%").

상기 폴리에스테르로서, 구체적으로는, 상품명 「페스레진 A-680 (타카마츠 유지 주식회사 제조 ; 유리 전이점 30 ℃, 150 ℃ 의 용융 점도 : 29 ㎩·s (전단 속도 10 ㎜/분)), 상기 폴리아미드로서, 구체적으로는, 상품명 「AQ 나일론 T-70 (도레이 주식회사 제조 ; 유리 전이점 -46 ℃, 150 ℃ 의 용융 점도 : 17 ㎩·s (전단 속도 10 ㎜/분)) 을 들 수 있다.As said polyester, specifically, a brand name "Fesresin A-680 (manufactured by Takamatsu Oil Corporation; glass transition point 30°C, melt viscosity at 150°C: 29 Pa·s (shear rate 10 mm/min))), said Specific examples of the polyamide include a brand name "AQ nylon T-70 (manufactured by Toray Corporation; glass transition point -46°C, melt viscosity at 150°C: 17 Pa·s (shear rate 10 mm/min))). .

본 발명의 수지 (A) 는, 상기 수지 (a1) 을 35 질량% 이상 함유하는 것이 바람직하다. 또, 본 발명의 수지 (A) 는, 상기 수지 (a1) 에 더하여, 그 밖의 수지를 함유하는 것도 가능하다. 그 밖의 수지로는, 유리 전이점이 상기 수지 (a1) 보다 높은 수지 (a2) 를 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that resin (A) of this invention contains the said resin (a1) 35 mass % or more. Moreover, in addition to the said resin (a1), resin (A) of this invention can also contain other resin. As other resin, it is preferable to contain resin (a2) whose glass transition point is higher than the said resin (a1).

수지 (a2) 로는, 유리 전이점이 상기 수지 (a1) 보다 높은 수지이면, 한정되지 않지만, 예를 들어, 상기 수지 (a1) 에 있어서 예시한 열가소성 수지를 사용할 수 있다. 또한, 상기 열가소성 수지에 더하여, 열경화성 수지 등도 함유할 수 있지만, 세정성의 관점에서는 열경화성 수지는 45 질량% 이하인 것이 바람직하다. 열경화성 수지의 함유량을 60 질량% 이하로 함으로써, 열경화성 수지가 조성물 중에 있어서 도상 (島相) 을 형성할 수 있고, 양호한 세정성을 얻을 수 있기 때문에 바람직하다.The resin (a2) is not limited as long as it is a resin having a higher glass transition point than that of the resin (a1), and for example, a thermoplastic resin exemplified in the resin (a1) can be used. Moreover, in addition to the said thermoplastic resin, although a thermosetting resin etc. can be contained, it is preferable from a viewpoint of a washability that a thermosetting resin is 45 mass % or less. When content of a thermosetting resin shall be 60 mass % or less, since a thermosetting resin can form an island phase in a composition and favorable washability can be acquired, it is preferable.

수지 (a2) 의 유리 전이점으로는, 40 ℃ 보다 높은 것이 바람직하다. 또, 하한값으로는, 보다 바람직하게는 50 ℃ 이상이고, 더욱 바람직하게는 60 ℃ 이상이다.As a glass transition point of resin (a2), it is preferable that it is higher than 40 degreeC. Moreover, as a lower limit, More preferably, it is 50 degreeC or more, More preferably, it is 60 degreeC or more.

유리 전이점이 상기 수지 (a1) 보다 높은 수지 (a2) 로는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리부틸렌, 폴리염화비닐, 에틸렌-고리형 올레핀 공중합체, 폴리스티렌계 수지, 폴리(메트)아크릴산계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아세트산비닐, 폴리(메트)아크릴아미드계 수지, 폴리부타디엔, 폴리이소프렌스티렌말레산 수지 등의 부가계 수지, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리우레탄, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에테르케톤, 폴리에테르술폰 등의 축합계 수지, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등의 폴리에테르계 수지, 폴리에틸렌이민 등의 폴리알킬렌이민계 수지, 폴리시클로올레핀 등의 개환 중합계 수지를 들 수 있다. 이들은 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상 혼합하여 사용할 수도 있다.Examples of the resin (a2) having a glass transition point higher than the resin (a1) include polyethylene, polypropylene, polybutylene, polyvinyl chloride, ethylene-cyclic olefin copolymer, polystyrene-based resin, poly(meth)acryl Acid-based resins, polyvinyl alcohol-based resins, polyvinyl acetate, poly(meth)acrylamide-based resins, polybutadiene, polyisoprene styrene maleic acid resins, and other addition-based resins, polyester, polyamide, polyimide, polyurethane, poly Condensed resins such as carbonate-based resins, polyetherketones and polyethersulfones, polyether-based resins such as polyethylene glycol and polypropylene glycol, polyalkyleneimine-based resins such as polyethyleneimine, and ring-opening polymerization resins such as polycycloolefins can be heard These may be used individually by 1 type, and may be used in mixture of 2 or more types.

본 발명의 수지 (A) 는, 수지 (a2) 를 함유하는 경우에는, 바람직하게는 수지 (a1) 을 35 ∼ 99 질량%, 수지 (a2) 를 1 ∼ 65 질량% 함유한다.When resin (A) of this invention contains resin (a2), Preferably it contains 35-99 mass % of resin (a1), and 1-65 mass % of resin (a2).

수지 (a1) 의 함유량은, 하한값으로는, 바람직하게는 60 질량% 이상이고, 보다 바람직하게는 65 질량% 이상이고, 더욱 바람직하게는, 70 질량% 이상이다. 상한값으로는, 95 질량% 이하이고, 보다 바람직하게는, 90 질량% 이하이다.As a lower limit, content of resin (a1) becomes like this. Preferably it is 60 mass % or more, More preferably, it is 65 mass % or more, More preferably, it is 70 mass % or more. As an upper limit, it is 95 mass % or less, More preferably, it is 90 mass % or less.

수지 (a2) 의 함유량은, 하한값으로는, 바람직하게는 5 질량% 이상이고, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상이다. 상한값으로는, 40 질량% 이하이고, 보다 바람직하게는, 35 질량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이하이다.As a lower limit, content of resin (a2) becomes like this. Preferably it is 5 mass % or more, More preferably, it is 10 mass % or more. As an upper limit, it is 40 mass % or less, More preferably, it is 35 mass % or less, More preferably, it is 30 mass % or less.

발명의 수지 (A) 는, 수지 (a1) 에 더하여, 수지 (a2) 를 첨가함으로써, 기판 등에 대한 점착력을 제어할 수 있다. 또 배치된 땜납 볼의 위치를 간단하게 보정할 수 있어, 리워크성이 향상된다. 또한, 시트 자체의 유연성이나 취급성이 우수하다. 또, 수지 (a2) 의 함유량을 상기 범위 내로 함으로써, 수계의 용매로 세정하는 것이 가능해진다.In addition to resin (a1), resin (A) of invention can control the adhesive force to a board|substrate etc. by adding resin (a2). In addition, the position of the arranged solder balls can be easily corrected, and the reworkability is improved. Moreover, it is excellent in the flexibility and handling property of the sheet|seat itself. Moreover, by making content of resin (a2) into the said range, it becomes possible to wash|clean with an aqueous solvent.

수지 (a1) 과 수지 (a2) 의 상용성이 나쁠 때에는, 상용화제·개질제·분산제를 사용하여 상용성을 향상시킬 수 있다. 상용화제·개질제·분산제로는, 수지 (a1) 및 수지 (a2) 와 친화성이 높은 세그먼트가, 각각 1 지점 또는 복수 지점에서 화학 결합한 블록 (공)중합체나 그래프트 (공)중합체 등을 사용하면 된다.When the compatibility of the resin (a1) and the resin (a2) is poor, compatibility can be improved by using a compatibilizer, a modifier, and a dispersing agent. As compatibilizers, modifiers, and dispersants, a block (co) polymer or graft (co) polymer in which a segment with high affinity to the resin (a1) and resin (a2) is chemically bonded at one point or multiple points, respectively. do.

상기 변성 폴리비닐알코올은, 분자 중에 폴리비닐알코올 사슬 및 (폴리)알킬렌옥사이드 사슬을 가지므로, 각각 폴리비닐알코올 및 폴리알킬렌옥사이드 등과의, 상용화제·개질제·분산제로서의 기능을 발현한다. 또, 상기 변성 폴리비닐알코올과 폴리비닐알코올의 혼합에는, 상용화제·개질제·분산제로서, 바람직하게는 폴리알킬렌옥사이드, 카르복실메틸셀룰로오스, 카르복실메틸셀룰로오스의 나트륨염, 카르복실메틸셀룰로오스의 칼륨염 등을 사용할 수 있다.Since the modified polyvinyl alcohol has a polyvinyl alcohol chain and a (poly)alkylene oxide chain in the molecule, it exhibits functions as a compatibilizer, modifier, and dispersant with polyvinyl alcohol and polyalkylene oxide, respectively. In addition, in the mixing of the modified polyvinyl alcohol and polyvinyl alcohol, as a compatibilizer/modifier/dispersant, preferably polyalkylene oxide, carboxymethyl cellulose, sodium salt of carboxymethyl cellulose, potassium of carboxymethyl cellulose salts and the like can be used.

상용화제·개질제·분산제의 배합량은 특별히 제한은 없지만, 상용화의 효과나 저분자량 성분의 저감화를 고려하여, 수지 (a1) 과 수지 (a2) 의 합계 100 질량부에 대하여, 하한값으로는, 바람직하게는 0.1 질량부 이상이고, 보다 바람직하게는 0.2 질량부 이상이고, 더욱 바람직하게는 0.5 질량부 이상이다. 상한값으로는, 바람직하게는 15 질량부 이하이고, 보다 바람직하게는 10 질량부 이하이고, 더욱 바람직하게는 5 질량부 이하이다.The blending amount of the compatibilizer, modifier, and dispersant is not particularly limited, but in consideration of the effect of compatibilization and reduction of low molecular weight components, the lower limit is preferably based on 100 parts by mass of the total of the resin (a1) and the resin (a2). is 0.1 parts by mass or more, more preferably 0.2 parts by mass or more, and still more preferably 0.5 parts by mass or more. As an upper limit, Preferably it is 15 mass parts or less, More preferably, it is 10 mass parts or less, More preferably, it is 5 mass parts or less.

<플럭스제 (B)><Flux agent (B)>

본 발명의 플럭스 시트는, 수지 (A) 에 더하여, 예를 들어, 플럭스제 (B) 를 함유시켜도 된다. 플럭스제를 함유시킴으로써, 보다 강한 플럭스 작용을 발현 혹은 향상시키고, 땜납 접합의 형성성을 양호하게 함과 함께, 전기 전도성을 향상시킬 수 있다. 또, 땜납의 젖음성을 향상시킬 수 있고, 땜납 리플로시에, 땜납 볼과 전극의 위치 어긋남을 보정할 수 있다는 효과 (셀프 얼라인먼트 효과) 를 보다 발휘할 수 있다.The flux sheet of the present invention may contain, for example, a flux agent (B) in addition to the resin (A). By containing a flux agent, a stronger flux action can be expressed or improved, the formability of a solder joint can be improved, and electrical conductivity can be improved. Moreover, the wettability of the solder can be improved, and the effect (self-alignment effect) of being able to correct the position shift of a solder ball and an electrode at the time of solder reflow can be exhibited.

플럭스제 (B) 는, 땜납 표면에 있는 고융점의 금속 산화물을 없앨 수 있는 성분이면 특별히 한정되지 않고, 산성 물질, 염기성 물질 또는 알코올 등이 바람직하게 사용된다. 또 상온에서 활성을 갖는 것, 가열에 의해 활성되는 것, 모두 사용할 수 있다.The flux agent (B) is not particularly limited as long as it is a component capable of removing the high-melting-point metal oxide present on the solder surface, and an acidic substance, a basic substance, or an alcohol is preferably used. In addition, those that are active at room temperature and those that are activated by heating can be used.

플럭스제 (B) 로서, 구체적으로는, 예를 들어, 아디프산, 말론산, 숙신산, 말레산, 펜탄산, 살리실산, 벤조산, m-디하이드록시벤조산, 세바크산 등의 카르복실산류, 도데실아민 등의 아민류, 아민의 할로겐화수소산염, 로진 수지 등을 들 수 있다. 또 플럭스제는 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다. 본 발명의 플럭스 시트 중에 포함되는 플럭스제 (B) 로는, 땜납 입자의 산화 피막의 제거성, 시트의 유동성, 땜납 접합 후의 수지의 용해 제거성, 땜납과의 젖음성 향상의 관점에서, 아디프산, 살리실산, 도데실아민, 벤조산, m-디하이드록시벤조산, 세바크산이 바람직하고, 아디프산, 살리실산, 도데실아민이 보다 바람직하다.Specific examples of the flux agent (B) include carboxylic acids such as adipic acid, malonic acid, succinic acid, maleic acid, pentanoic acid, salicylic acid, benzoic acid, m-dihydroxybenzoic acid, and sebacic acid; Amines, such as dodecylamine, the hydrohalic acid salt of an amine, rosin resin, etc. are mentioned. Moreover, a flux agent may be used independently and may use 2 or more types together. As the flux agent (B) contained in the flux sheet of the present invention, adipic acid; Salicylic acid, dodecylamine, benzoic acid, m-dihydroxybenzoic acid and sebacic acid are preferable, and adipic acid, salicylic acid, and dodecylamine are more preferable.

플럭스제 (B) 의 함유량은, 땜납 볼의 수, 크기 (표면적), 표면의 산화 피막의 두께, 및 플럭스 시트의 두께 등에 따라 적절히 설정할 수 있지만, 수지 (A) 100 질량부에 대하여, 10 질량부 이하인 것이 바람직하다. 또, 상한값으로는, 보다 바람직하게는 8 질량부 이하이고, 더욱 바람직하게는 7 질량부 이하이고, 특히 바람직하게는 6 질량부 이하이다. 한편, 하한값으로는, 바람직하게는 1 질량부 이상이고, 보다 바람직하게는 3 질량부 이상이다.The content of the flux agent (B) can be appropriately set depending on the number of solder balls, the size (surface area), the thickness of the oxide film on the surface, the thickness of the flux sheet, etc., but 10 parts by mass per 100 parts by mass of the resin (A) It is preferable that it is less than part. Moreover, as an upper limit, More preferably, it is 8 mass parts or less, More preferably, it is 7 mass parts or less, Especially preferably, it is 6 mass parts or less. On the other hand, as a lower limit, Preferably it is 1 mass part or more, More preferably, it is 3 mass parts or more.

플럭스제 (B) 의 함유량을 상기 범위 내로 함으로써, 플럭스제와 기판의 접착성을 억제하지 않고, 땜납 표면의 산화 피막을 충분히 제거할 수 있다. 또한 기판 중에 플럭스제가 잔류하는 것을 억제함으로써 고온 고습에서의 절연 저항의 저하 억제나, 금속의 부식이나 마이그레이션을 방지할 수 있다.When the content of the flux agent (B) is within the above range, the oxide film on the solder surface can be sufficiently removed without suppressing the adhesiveness between the flux agent and the substrate. Moreover, by suppressing that a flux agent remains in a board|substrate, the fall suppression of insulation resistance in high temperature, high humidity, and corrosion and migration of a metal can be prevented.

<그 밖의 첨가제><Other additives>

본 발명의 플럭스 시트는, 상기 수지 (A) 및 플럭스제 (B) 에 더하여, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 예를 들어, 일반적인 플럭스에 포함되는 첨가제를 함유해도 된다. 첨가제로는, 틱소트로피성 부여제나 플럭스 활성 보조제, 소포제 등을 들 수 있다.The flux sheet of the present invention may contain, in addition to the resin (A) and the flux agent (B), an additive contained in a general flux, for example, within a range that does not impair the effects of the present invention. Examples of the additive include a thixotropic imparting agent, a flux activation aid, an antifoaming agent, and the like.

틱소트로피성 부여제로는, m-자일릴렌비스스테아르산아미드 등의 지방산 아미드, 캐스터 왁스 (경화 피마자유) 등의 폴리올레핀계 왁스, N-부틸-N'-스테아릴우레아 등의 치환 우레아 왁스, 폴리에틸렌글리콜, 메틸셀룰로오스, 에틸셀룰로오스, 하이드록시에틸셀룰로오스 등의 고분자 화합물, 실리카 입자, 카올린 입자 등의 무기 입자 등을 들 수 있다.Examples of the thixotropic imparting agent include fatty acid amides such as m-xylylenebisstearic acid amide, polyolefin waxes such as castor wax (hydrogenated castor oil), substituted urea waxes such as N-butyl-N'-stearylurea, polyethylene and high molecular compounds such as glycol, methyl cellulose, ethyl cellulose and hydroxyethyl cellulose, and inorganic particles such as silica particles and kaolin particles.

틱소트로피성 부여제는 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.A thixotropy imparting agent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

본 발명의 플럭스에 있어서 틱소트로피성 부여제를 사용하는 경우, 그 함유량은, 중합체 (A) 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 ∼ 20 질량부이다. 하한값으로는, 바람직하게는 0.2 질량부 이상이고, 보다 바람직하게는 0.5 질량부 이상이다. 상한값으로는, 바람직하게는 15 질량부 이하이고, 보다 바람직하게는 10 질량부 이하이다. 틱소트로피성 부여제의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 땜납 볼이나 기판과의 접착력을 조정할 수 있다.When a thixotropy imparting agent is used in the flux of the present invention, the content thereof is preferably 0.1 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the polymer (A). As a lower limit, Preferably it is 0.2 mass part or more, More preferably, it is 0.5 mass part or more. As an upper limit, Preferably it is 15 mass parts or less, More preferably, it is 10 mass parts or less. When the content of the thixotropy imparting agent is within the above range, the adhesive force with the solder ball or the substrate can be adjusted.

플럭스 활성 보조제로는, 예를 들어, 디에틸아민브롬화수소산염, 시클로헥실아민브롬화수소산염 등의 아민의 할로겐화수소산염, 스테아르산 등의 유기산류, 트리부틸아민 등의 유기 아민류, 트랜스-2,3-디브로모-2-부텐-1,4-디올 등의 유기 할로겐화물 등의 활성제 등을 들 수 있다.Examples of the flux activity auxiliary agent include amine hydrohalides such as diethylamine hydrobromide and cyclohexylamine hydrobromide, organic acids such as stearic acid, organic amines such as tributylamine, trans-2, Activators, such as organic halides, such as 3-dibromo-2-butene-1, 4- diol, etc. are mentioned.

소포제로는, 예를 들어, 라우릴알코올, 세틸알코올, 스테아릴알코올, 에이코사놀, 도코사놀 등의 알코올, 폴리에틸렌 왁스, 파라핀 왁스, 백유 (白油) 등의 탄화수소계 화합물, 카르복실산 (예를 들어, 팔미트산, 올레산, 스테아르산 등) 과 알코올 (예를 들어, 메탄올, 에탄올, 옥탄올 등) 의 축합에 의해 얻어지는 지방산 에스테르류, 우지, 대두유, 아마인유 등의 천연물 유지, 폴리디메틸실록산, 폴리메틸페닐실록산 등의 실록산류 등을 들 수 있다. 또, 카티온계 계면 활성제, 아니온계 계면 활성제, 논이온계 계면 활성제 등의 친유성이 높은 계면 활성제도 사용할 수 있다.Examples of the defoaming agent include alcohols such as lauryl alcohol, cetyl alcohol, stearyl alcohol, eicosanol and docosanol, polyethylene wax, paraffin wax, and hydrocarbon compounds such as white oil, carboxylic acid (eg For example, palmitic acid, oleic acid, stearic acid, etc.) and alcohol (e.g., methanol, ethanol, octanol, etc.) fatty acid esters obtained by condensation, natural fats and oils such as tallow, soybean oil, linseed oil, polydimethyl Siloxanes, such as siloxane and polymethylphenyl siloxane, etc. are mentioned. Moreover, surfactant with high lipophilicity, such as a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a nonionic surfactant, can also be used.

또한, 본 발명의 플럭스 시트는, 실질적으로 (B) 이외의 저분자 화합물을 함유하지 않는 것이 바람직하다. (B) 이외의 저분자 화합물로는, 예를 들어 분자량이 1000 이하인 것이고, 대표적인 것으로는 글리세린, 프탈산에스테르, 아디프산에스테르, 트리멜리트산에스테르 등의 가소제를 들 수 있다.Further, it is preferable that the flux sheet of the present invention contains substantially no low molecular weight compounds other than (B). As a low molecular weight compound other than (B), molecular weight is 1000 or less, for example, Plasticizers, such as glycerol, phthalic acid ester, adipic acid ester, trimellitic acid ester, are mentioned as a typical example.

실질적으로 (B) 이외의 저분자 화합물을 함유하지 않음으로써, 땜납 리플로시에 있어서의 저분자 화합물의 기화 등에 의한 기판 오염이나, 돌발적인 기화에 의한 땜납의 구름에 의한 어긋남을 억제할 수 있다는 효과를 발휘할 수 있다.By substantially not containing low molecular weight compounds other than (B), substrate contamination caused by vaporization of low molecular weight compounds during solder reflow, and shifting due to solder rolling caused by sudden vaporization can be suppressed. can perform

실질적으로 함유하지 않는다란, 플럭스 시트의 구성 성분으로서, 의도적으로 (B) 이외의 저분자 화합물을 첨가하지 않는 것을 의미한다. 플럭스 시트에 있어서, 시트 작성 공정상 필요해지는 용매나 (A) 수지의 원료 모노머 유래의 저분자 화합물 등이 잔존하는 경우가 있지만, 그 경우, 예를 들어, 함유량으로서 10 질량% 미만이고, 상한값으로는, 바람직하게는 5 질량% 미만이고, 보다 바람직하게는 3 질량% 미만이고, 더욱 바람직하게는 2 질량% 미만이고, 특히 바람직하게는 1 질량% 미만이다.Substantially free means not intentionally adding a low molecular weight compound other than (B) as a component of the flux sheet. In the flux sheet, there are cases where a solvent necessary in the sheet preparation step, a low molecular weight compound derived from the raw material monomer of the resin (A), etc. remain, but in that case, the content is, for example, less than 10 mass%, and the upper limit is , Preferably it is less than 5 mass %, More preferably, it is less than 3 mass %, More preferably, it is less than 2 mass %, Especially preferably, it is less than 1 mass %.

<플럭스 시트의 특징><Features of flux sheet>

본 발명의 플럭스 시트는, 수지 (A) 가, 유리 전이점이 40 ℃ 이하이고, 150 ℃ 의 용융 점도가 500 ㎩·s (전단 속도 10 ㎜/분으로 측정) 이하인 수지 (a1) 을 함유하는 것을 특징으로 하고 있기 때문에, 기판과의 접착성이 강하여, 리플로 중에 땜납 볼의 어긋남이 발생하지 않는다는 효과를 갖는다. 또한, 150 ℃ 의 용융 점도가 500 ㎩·s 이하인 수지 (a1) 을 함유하므로, 땜납 리플로시에, 땜납 볼이 자중으로 가라앉을 수 있어, 땜납 볼의 위치 어긋남을 억제할 수 있다. 그 때문에, 땜납 접합성이 우수한 효과를 발휘할 수 있다.In the flux sheet of the present invention, the resin (A) contains a resin (a1) having a glass transition point of 40°C or less and a melt viscosity of 150°C of 500 Pa·s (measured at a shear rate of 10 mm/min) or less. Because of this feature, the adhesiveness to the substrate is strong, and there is an effect that the solder balls do not shift during reflow. In addition, since it contains the resin (a1) whose melt viscosity at 150°C is 500 Pa·s or less, the solder balls can sink by their own weight during solder reflow, so that the position shift of the solder balls can be suppressed. Therefore, the effect excellent in solder bonding property can be exhibited.

본 발명의 플럭스 시트는, 액상 및 페이스트상 플럭스와 같은 상온에서의 유동성을 가지고 있지 않기 때문에, 플럭스제를 함유시켰다고 해도 플럭스의 응집, 분리, 침강 등이 잘 발생하지 않고, 보존 안정성이 우수하다.Since the flux sheet of the present invention does not have the same fluidity at room temperature as liquid and paste fluxes, aggregation, separation, sedimentation, etc. of the flux do not easily occur even when a flux agent is contained, and the storage stability is excellent.

또, 액상 및 페이스트상 플럭스를 인쇄 등으로 도포하는 경우, 도포량의 편차가 크기 때문에, 적절히, 도포량의 조정 등이 필요하여, 작업성이 떨어지지만, 본 발명의 플럭스 시트는, 소정량의 시트를 기판 상에 재치 (載置), 라미네이트만 하면 되어, 작업성이 우수하다.In addition, when liquid and paste-like fluxes are applied by printing, etc., since there is a large variation in the application amount, it is necessary to appropriately adjust the application amount, etc., so that workability is poor. It only needs to be mounted on a board|substrate and lamination, and it is excellent in workability|operativity.

용매가 잔존하면 접합시에 증발하여 보이드가 되는 경우가 있기 때문에, 본 발명의 플럭스 시트는, 잔존 용매의 함유율을 10 질량% 미만으로 하는 것이 바람직하다. 이 함유율은, 예를 들어, 칼 피셔법이나 가열에 의한 중량 감소에 의해 측정할 수 있다.If the solvent remains, it may evaporate at the time of bonding to form voids. Therefore, in the flux sheet of the present invention, the content of the remaining solvent is preferably less than 10% by mass. This content rate can be measured, for example by the Karl Fischer method or the weight reduction by heating.

본 발명의 플럭스 시트는, 수용성인 수지 (a1) 을 함유하고 있는 경우, 플럭스 시트의 제조시나 실장시, 또는 플럭스 시트를 세정할 때에는 물을 사용할 수 있다. 그 때문에, 휘발되어 대기 중에 방출되는 유기 용매를 사용할 필요가 없기 때문에, 환경 부하를 저감시킬 수 있다.When the flux sheet of the present invention contains the water-soluble resin (a1), water can be used for manufacturing or mounting the flux sheet, or for cleaning the flux sheet. Therefore, since it is not necessary to use the organic solvent which volatilizes and is discharged|emitted into the atmosphere, it is possible to reduce the environmental load.

본 발명의 플럭스 시트의 두께로서, 플럭스 활성, 세정성 등을 고려하여 적절히 설정할 수 있지만, 바람직하게는 1 ∼ 500 ㎛ 이다. 하한값으로는, 바람직하게는 3 ㎛ 이상이고, 보다 바람직하게는 5 ㎛ 이상이다. 상한값으로는, 바람직하게는 100 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 50 ㎛ 이하이다.The thickness of the flux sheet of the present invention can be appropriately set in consideration of flux activity, cleaning properties, etc., but is preferably 1 to 500 µm. As a lower limit, Preferably it is 3 micrometers or more, More preferably, it is 5 micrometers or more. As an upper limit, Preferably it is 100 micrometers or less, More preferably, it is 50 micrometers or less.

또, 플럭스 시트의 크기 (면적) 로는, 사용하는 기판, 칩, 웨이퍼 등의 크기를 고려하여, 적절히 설정할 수 있다. 구체적으로는, 기판 상의 전극 (군) 이 위치하는 영역보다 약간 넓은 면적으로 설정하는 것이 바람직하다. 혹은, 미리 사용할 예정의 크기보다 크게 형성하고, 사용시에 원하는 크기로 절취하여 사용해도 된다. 또한 시트는 절취하지 않고 직접 목적으로 하는 기판을 시트에 가압함으로써 전사, 라미네이트할 수도 있다.The size (area) of the flux sheet can be appropriately set in consideration of the size of the substrate, chip, wafer or the like to be used. Specifically, it is preferable to set the area to be slightly larger than the area where the electrode (group) on the substrate is located. Alternatively, it may be formed to be larger than the size planned to be used in advance, and used after being cut to a desired size during use. Alternatively, the sheet may be transferred and laminated by directly pressing the target substrate against the sheet without cutting the sheet.

본 발명에 있어서, 플럭스 시트의 면적은, 바람직하게는 30000 ㎟ 이상이다.In the present invention, the area of the flux sheet is preferably 30000 mm 2 or more.

플럭스 시트의 면적을 30000 ㎟ 이상으로 함으로써, 대면적의 패널이나 웨이퍼 등의 전자 부재 기판에 대해서도 상기 기판의 전체면에 한 번에 첩부 (貼付) 할 수 있다.By setting the area of the flux sheet to 30000 mm 2 or more, it is possible to affix to the entire surface of the substrate at a time also for an electronic member substrate such as a large-area panel or wafer.

대면적 전자 부재 기판이란, 직경이 200 ㎜ (8 인치) 이상인 웨이퍼나, 가로세로 300 ㎜ 이상인 패널을 포함하는 것이다.The large-area electronic member substrate includes a wafer having a diameter of 200 mm (8 inches) or more and a panel having a width of 300 mm or more.

상기 웨이퍼란, 실리콘 웨이퍼, 사파이어 웨이퍼, 화합물 반도체 웨이퍼, 유리 기판, 수지 기판 (유리 에폭시 기판 (FR-4), 비스말레이미드트리아진 기판, 폴리이미드 수지 기판, 불소 수지 등), 프린트 배선 기판 등이 포함된다.The above-mentioned wafers include silicon wafers, sapphire wafers, compound semiconductor wafers, glass substrates, resin substrates (glass epoxy substrates (FR-4), bismaleimide triazine substrates, polyimide resin substrates, fluororesins, etc.), printed wiring boards, etc. This is included.

웨이퍼의 사이즈로는, 직경이 200 ㎜ (8 인치) 인 웨이퍼, 직경이 300 ㎜ (12 인치) 인 웨이퍼 등이 포함된다.The size of the wafer includes a wafer having a diameter of 200 mm (8 inches), a wafer having a diameter of 300 mm (12 inches), and the like.

상기 패널이란, 유리 기판, 실리콘 기판, 수지 기판 (유리 에폭시 기판 (FR-4), 비스말레이미드트리아진 기판, 폴리이미드 수지 기판, 불소 수지 등), 화합물 반도체 기판, 프린트 배선 기판 등이 포함되고, 그 사이즈는, 예를 들어, 가로세로 250 ㎜ 이상인 것이고, 250 ㎜ × 350 ㎜, 가로세로 300 ㎜ 이상인 것이고, 320 ㎜ × 320 ㎜, 370 × 470 ㎜ 등의 패널이 있다. 또한, 가로세로 400 ㎜ 이상인 패널, 410 ㎜ × 515 ㎜, 508 ㎜ × 610 ㎜, 500 ㎜ × 510 ㎜ 의 패널, 610 ㎜ × 457 ㎜ 의 패널 등이 포함된다.The panel includes a glass substrate, a silicon substrate, a resin substrate (a glass epoxy substrate (FR-4), a bismaleimide triazine substrate, a polyimide resin substrate, a fluororesin, etc.), a compound semiconductor substrate, a printed wiring board, etc. , The size is, for example, 250 mm or more in width and height, 250 mm × 350 mm, 300 mm or more in width, and there are panels such as 320 mm × 320 mm and 370 × 470 mm. Moreover, a panel of 400 mm or more in width and height, a panel of 410 mm x 515 mm, 508 mm x 610 mm, 500 mm x 510 mm, a panel of 610 mm x 457 mm, etc. are contained.

[플럭스 시트의 제조 방법][Method for manufacturing flux sheet]

플럭스 시트의 제조 방법으로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 수지 성분 (A) 를 용매에 용해시켜, 수지 용액을 조제하고, 표면에 이형 처리된 지지체 등에, 롤 코터, 콤마 코터, 그라비아 코터 등의 공지된 방법에 의해 도포하여 도포막을 형성하고, 그 도막을 건조시켜 용매를 제거하여 얻는 방법을 들 수 있다. 또, 필요에 따라 플럭스제 (B) 등을 첨가해도 된다. 또한, 용매를 사용하여 용액화하지 않고, (A) (B) 등을 무용제로 혼련 용융하여 시트화해도 된다.Although it does not specifically limit as a manufacturing method of a flux sheet, For example, the resin component (A) is melt|dissolved in a solvent, a resin solution is prepared, and the support body etc. whose surface was mold release-treated are roll coater, comma coater, gravure coater. A method of applying by a known method such as a coating film to form a coating film and drying the coating film to remove the solvent is mentioned. Moreover, you may add a flux agent (B) etc. as needed. Further, without using a solvent to form a solution, (A) (B) or the like may be kneaded and melted without a solvent to form a sheet.

수지 성분 (A) 를 용해시키는 용매로는, 예를 들어, 물, 유기 용매, 물과 유기 용매의 혼합 용매 등을 들 수 있지만, 환경 부하의 저감의 관점에서, 물이 바람직하다. 유기 용매로는, 알코올, 케톤 등을 들 수 있지만, 바람직하게는 알코올이다. 물은 증류수, 이온 교환수, 수돗물 등을 사용할 수 있고, 불순물이 적은 증류수나 이온 교환수, 초순수가 바람직하다. 알코올의 예로는, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, n-부탄올 등을 들 수 있고, 케톤으로는 아세톤, 메틸에틸케톤 등을 들 수 있다. 유기 용매를 사용하는 경우, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.As a solvent in which a resin component (A) is dissolved, although water, an organic solvent, the mixed solvent of water and an organic solvent, etc. are mentioned, for example, From a viewpoint of reduction of environmental load, water is preferable. Although alcohol, a ketone, etc. are mentioned as an organic solvent, Preferably it is alcohol. Distilled water, ion-exchanged water, tap water, etc. can be used as water, and distilled water, ion-exchanged water, and ultrapure water with few impurities are preferable. Examples of the alcohol include methanol, ethanol, n-propanol, and n-butanol, and examples of the ketone include acetone and methyl ethyl ketone. When using an organic solvent, you may use independently and may use 2 or more types together.

수지 성분 (A) 를 물에 용해시키는 경우, 용해 속도를 높이는 관점에서, 40 ∼ 95 ℃ 로 가열한 온수를 사용하는 것이 바람직하다. 수지 성분 (A) 의 고형분 농도로는, 바람직하게는 0.1 ∼ 60 질량% 이다. 또, 플럭스제 (B) 를 첨가하는 경우, 상기 수지 성분 (A) 를 용해시키는 용매와 동일한 것에 용해시켜 첨가하는 것이 바람직하고, 플럭스제 (B) 가 액체인 경우에는 직접 첨가해도 된다. 또한, 첨가 혼합에 의해 분리하기 쉬운 경우에는, 계면 활성제 등에 의해 유화시켜 첨가하는 것이 바람직하다. 상기 용매를 사용하여, 적절한 용융 점도를 갖는 수지 용액으로 함으로써, 도포막 표면의 평활성이 나빠지는 현상이나, 핀홀의 발생을 억제할 수 있다.When dissolving a resin component (A) in water, it is preferable to use the hot water heated at 40-95 degreeC from a viewpoint of raising a dissolution rate. As solid content concentration of a resin component (A), Preferably it is 0.1-60 mass %. In addition, when adding the flux agent (B), it is preferable to dissolve it in the same solvent as the solvent in which the resin component (A) is dissolved and add it. When the flux agent (B) is a liquid, it may be added directly. Moreover, when it is easy to isolate|separate by addition mixing, it is preferable to emulsify with surfactant etc. and to add. By setting it as a resin solution which has an appropriate melt viscosity using the said solvent, the phenomenon in which the smoothness of the surface of a coating film worsens and generation|occurrence|production of a pinhole can be suppressed.

도포막의 건조 온도 및 건조 시간은, 수지 용액용 용매, 막두께 등에 따라, 적절히 설정할 수 있지만, 예를 들어, 시트 원료의 열안정성 (내열분해성) 이나 용매의 휘발 등을 고려하여, 리플로시에 시트의 유동성이 저하되는 등의 얻어지는 플럭스 시트의 물성의 변화를 억제하는 관점에서, 건조 온도가 25 ∼ 180 ℃, 보다 바람직하게는 40 ∼ 100 ℃ 에서 건조시키는 것이 바람직하다. 또한, 복수의 건조로를 형성하고, 단계적으로 건조를 실시하는 것이 바람직하다. 건조 시간은 예를 들어 1 ∼ 90 분간이 바람직하고, 10 ∼ 70 분간이 보다 바람직하다.The drying temperature and drying time of the coating film can be appropriately set depending on the solvent for the resin solution, the film thickness, and the like. From a viewpoint of suppressing the change of the physical property of the flux sheet obtained, such as the fluidity|liquidity of a sheet|seat falling, it is preferable to dry at a drying temperature of 25-180 degreeC, More preferably, it is 40-100 degreeC. In addition, it is preferable to provide a plurality of drying furnaces and to dry in stages. The drying time is, for example, preferably from 1 to 90 minutes, more preferably from 10 to 70 minutes.

[땜납 접합 방법][Solder joint method]

본 발명의 땜납 접합 방법은, 본 발명의 플럭스 시트를 사용한, 하기 스텝을 포함하는 방법인 것을 특징으로 한다.The solder bonding method of the present invention is characterized in that it is a method including the following steps using the flux sheet of the present invention.

(1) 전극을 갖는 기판의 전극을 갖는 면에 상기 플럭스 시트를 배치하는 스텝(1) disposing the flux sheet on the electrode-bearing surface of the electrode-bearing substrate

(2) 상기 플럭스 시트 상에, 땜납 볼을 배치하는 스텝(2) a step of disposing a solder ball on the flux sheet

(3) 상기 플럭스 시트를 땜납의 융점 이상의 온도이며, 또한 상기 수지 시트가 액상화되는 온도로 가열하는 스텝(3) heating the flux sheet to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder and to a temperature at which the resin sheet is liquefied

(4) (3) 과 동시 혹은 그 후, 땜납의 융점 이상의 온도로 가열하는 스텝 (4) a step of heating to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder simultaneously with or after (3)

이 특징에 의하면, 기판과의 접착성이 양호하여, 리플로 중에 땜납 볼의 어긋남이 발생하지 않는 플럭스 시트를 사용하므로, 땜납 접합의 불량 등이 발생하지 않는다는 효과를 발휘할 수 있다.According to this feature, since the flux sheet has good adhesion to the substrate and does not cause misalignment of the solder balls during reflow, it is possible to exhibit the effect that defects such as solder bonding do not occur.

본 발명에 관련된 땜납 접합 방법에서는, 번잡한 인쇄 등의 도포 공정이 불필요하고, 땜납 볼과 기판의 전극 사이에 플럭스 시트를 배치만 하면 되어 작업성이 우수하다.In the solder bonding method according to the present invention, a complicated application process such as printing is unnecessary, and it is only necessary to arrange a flux sheet between the solder ball and the electrode of the substrate, and the workability is excellent.

이하, 상기 접합 방법에 사용하는 기판 및 땜납 볼에 대해 설명한 후에, 각 공정의 상세한 것에 대해, 도면을 참조하면서 설명한다.Hereinafter, after the board|substrate and solder ball used for the said bonding method are demonstrated, the detail of each process is demonstrated, referring drawings.

이하, 본 발명의 땜납 접합 방법의 각 공정에 대해, 도 1 ∼ 5 를 적절히 참조하면서 설명한다. 또한, 도 1 ∼ 5 는, 본 발명의 땜납 접합 방법을 설명하기 위한 개략도로서, 본 발명의 땜납 접합 방법은 이것에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, each process of the solder bonding method of this invention is demonstrated, referring FIGS. 1-5 suitably. 1 to 5 are schematic diagrams for explaining the solder bonding method of the present invention, and the solder bonding method of the present invention is not limited thereto.

<스텝 (1) 전극을 갖는 기판의 전극을 갖는 면에 상기 플럭스 시트를 배치하는 스텝><Step (1) Step of disposing the flux sheet on the electrode-bearing surface of the electrode-bearing substrate>

본 스텝은, 기판의 전극을 갖는 면에 상기 플럭스 시트를 배치하는 스텝이다. 도 1 은, 전극을 구비하는 기판의 개략 평면도이다. 또, 도 2 는, 전극을 갖는 기판을 측면에서 본 개략도이다. 다음으로 도 3(A) 에 나타내는 바와 같이, 기판의 전극을 구비하는 전극면측에, 본 발명의 플럭스 시트를 배치한다. 또, 도 3(B) 에 나타내는 바와 같이, 기판 전극이 플럭스 시트에 매립되도록 라미네이트해도 된다. 플럭스 시트를 배치하기 전에, 기판을 미리 탈지해 두는 것이 바람직하다. 기판 상에 플럭스 시트를 배치하는 방법은, 특별히 한정되지 않고, 그대로 두기만 해도 되지만, 플럭스 시트를 둔 후, 대기압하 또는 진공 조건으로 라미네이트 장치를 사용하여 가고정시키는 것이 바람직하다. 라미네이트 장치로는 진공 라미네이트나 롤 라미네이터 장치를 사용할 수 있다. 라미네이트할 때의 온도는, 바람직하게는 유리 전이 온도 이상, 보다 바람직하게는 유리 전이 온도보다 20 ℃ 이상 높은 온도 혹은 연화점 이상인 (연화점이 없는 경우에는, 유리 전이 온도 이상의 고무 상태이다) 것이 바람직하다. 수지 성분 (A) 의 종류 등에 따라 상이하지만, 예를 들어, 30 ∼ 100 ℃ 이다.This step is a step of disposing the flux sheet on the electrode-bearing surface of the substrate. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic plan view of the board|substrate provided with an electrode. Moreover, FIG. 2 is the schematic which looked at the board|substrate which has an electrode from the side. Next, as shown in Fig. 3(A), the flux sheet of the present invention is disposed on the electrode surface side provided with the electrode of the substrate. Moreover, as shown in FIG.3(B), you may laminate so that a board|substrate electrode may be embedded in a flux sheet. Before disposing the flux sheet, it is preferable to degrease the substrate in advance. The method of disposing the flux sheet on the substrate is not particularly limited and may be left as it is, but it is preferable to temporarily fix the flux sheet under atmospheric pressure or under vacuum conditions using a laminating apparatus after placing it. As a lamination apparatus, a vacuum lamination or a roll laminator apparatus can be used. The temperature at the time of lamination is preferably at least the glass transition temperature, more preferably at least 20 ° C. higher than the glass transition temperature, or at least the softening point (if there is no softening point, it is in a rubber state above the glass transition temperature). Although it changes with the kind etc. of a resin component (A), it is 30-100 degreeC, for example.

(기판)(Board)

본 발명의 땜납 접합 방법에서 사용하는 기판은, 전극을 구비하는 기판으로서, 하나 이상의 전극을 구비하고 있으면 되고, 예를 들어, 도 1 에 나타낸 복수의 전극이 구비된 기판, 칩, 웨이퍼 등을 들 수 있다. 또, 일부의 기판 상면의 전극 이외의 영역에는, 솔더 레지스트가 형성되어 있다 (또한, 도 2 ∼ 5 에서는 간략화를 위해 솔더 레지스트를 도시하지 않는다). 이와 같은 전극을 구비하는 기판으로는, 예를 들어, 상기에서 나타낸 프린트 배선 기판 등을 들 수 있다. 전극 표면에는, 땜납 볼과의 젖음성을 향상시키기 위해서, 예를 들어, Cu 전극 표면에는, Cu/Ni/Pd/Au, Cu/Ni/Au, Cu/Ni-P/Au 등으로 이루어지는 UBM (Under Bump Metallization) 층, 또는 Surface Finish 처리층을 형성하고 있는 것이 바람직하다.The substrate used in the solder bonding method of the present invention is a substrate provided with electrodes, and may be provided with one or more electrodes. can Moreover, the soldering resist is formed in the area|region other than the electrode of one part board|substrate upper surface (In addition, in FIGS. 2-5, a soldering resist is not shown for simplification). As a board|substrate provided with such an electrode, the printed wiring board etc. which were shown above are mentioned, for example. In order to improve the wettability with the solder ball on the electrode surface, for example, on the surface of the Cu electrode, UBM (Under) made of Cu/Ni/Pd/Au, Cu/Ni/Au, Cu/Ni-P/Au It is preferable to form a bump metallization) layer or a surface finish treatment layer.

또, 기판의 전극 표면에 유지 등의 오염이 부착되어 있으면, 땜납 볼과의 젖음성이 저하되어 접합성에 악영향을 미치므로, 미리 유기 용매, 산성 수용액, 염기성 수용액 등으로 탈지하는 것이 바람직하다. 탈지시에는, 초음파를 가하면 세정 효과가 더욱 높아지므로 보다 바람직하다. 전극 표면에 UBM 층, 또는 Surface Finish 처리층이 없는 경우에는, 전극 표면에 산화 피막이 형성되기 쉽기 때문에, 산성 수용액이나 염기성 수용액 등에 의해 미리 기판을 세정해도 된다.In addition, if contamination such as oil and fat adheres to the electrode surface of the substrate, the wettability with the solder ball is lowered and the bondability is adversely affected. At the time of degreasing, the application of ultrasonic waves is more preferable because the cleaning effect is further enhanced. When there is no UBM layer or a surface finish-treated layer on the electrode surface, since an oxide film is easy to form on the electrode surface, you may wash|clean the board|substrate beforehand with an acidic aqueous solution, a basic aqueous solution, etc.

<스텝 (2) 상기 플럭스 시트 상에, 땜납 볼을 배치하는 스텝><Step (2) Step of disposing a solder ball on the flux sheet>

본 스텝은, 도 4 와 같이, 땜납 볼을, 플럭스 시트를 개재해서 기판의 전극 상에 위치하도록 배치하고 고정시키는 공정이다. 배치에 관해서는, 각종 볼 마운터 장치를 사용해도 되고, 전극 상에 개구된 메탈 마스크 등을 사용하여 솔 등으로 볼을 떨어뜨려서 넣어 배치하는 방법이나, 선단에 접착제를 도포한 가는 와이어나 핀을 사용하여 볼을 전극으로 옮긴 후 플럭스 시트에 점착시켜 배치하는 방법 등을 사용해도 된다. 플럭스 시트를 개재해서 땜납 볼과 기판에 가고정시키기 위해, 땜납을 배치할 때, 플럭스 시트를 라미네이트할 때의 온도와 동일한 정도, 즉, 바람직하게는 유리 전이점 이상, 보다 바람직하게는 유리 전이점보다 20 ℃ 이상 높은 온도 혹은 연화점 이상 (연화점이 없는 경우에는, 유리 전이점 이상의 고무 상태) 인 온도에서 가열하는 것이 바람직하다. 수지 성분 (A) 의 종류 등에 따라 상이하지만, 예를 들어, 30 ∼ 100 ℃ 이다. 또, 땜납 볼을, 플럭스 시트를 개재해서 기판의 전극 상에 배치할 때, 압압 (押壓) 해도 되지만, 본 발명의 시트는 유리 전이점이 40 ℃ 이하인 수지 (a1) 을 함유하고, 유연한 구조이므로, 적극적으로 압압할 필요는 없다. 본 발명의 플럭스 시트를 사용함으로써, 땜납 볼이 자중으로 플럭스 시트 중에 메워지기 때문에, 땜납 볼과 플럭스 시트 및 기판의 접착이 향상된다.This step is a process of arrange|positioning and fixing a solder ball so that it may be located on the electrode of a board|substrate via a flux sheet|seat, like FIG. Regarding placement, various ball mounters may be used, a method of placing balls by dropping them with a brush or the like using a metal mask opened on the electrode, etc. Then, after moving the ball to the electrode, it may be adhered to the flux sheet and placed. In order to temporarily fix the solder ball and the substrate via the flux sheet, when the solder is placed, the temperature is the same as the temperature when the flux sheet is laminated, that is, preferably above the glass transition point, more preferably at the glass transition point. It is preferable to heat at a temperature higher than 20 DEG C or higher or at a temperature equal to or higher than the softening point (in the case where there is no softening point, the rubber is at the glass transition point or higher). Although it changes with the kind etc. of a resin component (A), it is 30-100 degreeC, for example. Further, when the solder ball is placed on the electrode of the substrate through the flux sheet, it may be pressed, but the sheet of the present invention contains the resin (a1) having a glass transition point of 40° C. or less and has a flexible structure. , there is no need to actively press By using the flux sheet of the present invention, since the solder balls are filled in the flux sheet by their own weight, the adhesion of the solder balls to the flux sheet and the substrate is improved.

(땜납 볼)(solder ball)

본 발명의 땜납 접합 방법에서 사용하는 땜납 볼의 조성으로는, 예를 들어, Sn-Pb 계, Pb-Sn-Sb 계, Sn-Sb 계, Sn-Pb-Bi 계, 납 프리의 Sn-Ag 계, Sn-Ag-Cu 계, Bi-Sn 계, Sn-Cu 계, Sn-Ag-Bi-In 계, Sn-Zn-Bi 계 등을 들 수 있다. 또, 납 프리이고, 또한 저융점 땜납인 Sn-Bi 계 (Sn58Bi : 융해 온도 : 138 ℃) 나 In-Sn 계 (In48Sn : 융해 온도 : 118 ℃) 의 땜납도 사용할 수 있다. 본 발명에서는, 납을 함유하지 않는 납 프리 땜납을 사용하는 것이 바람직하다. 납 프리 땜납 중에서는, 기계 특성 등의 관점에서, Sn-Ag-Cu 계의 땜납이 바람직하고, 예를 들어, Sn3Ag0.5Cu (융해 온도 : 약 217 ℃) 가 보다 바람직하다. 또, 200 ℃ 를 초과하는 고온 프로세스에 있어서, 액정과 같은 재료 자체가 열화되어 버리는 재료에 대해서는, 납 프리이고 저융점의 땜납을 사용하는 것이 바람직하다.The composition of the solder ball used in the solder joining method of the present invention is, for example, Sn-Pb-based, Pb-Sn-Sb-based, Sn-Sb-based, Sn-Pb-Bi-based, or lead-free Sn-Ag. type, Sn-Ag-Cu type, Bi-Sn type, Sn-Cu type, Sn-Ag-Bi-In type, Sn-Zn-Bi type, and the like. Moreover, Sn-Bi type (Sn58Bi: melting temperature: 138 degreeC) or In-Sn type (In48Sn: melting temperature: 118 degreeC) solder which is lead-free and is a low-melting-point solder can also be used. In the present invention, it is preferable to use a lead-free solder containing no lead. Among the lead-free solders, from the viewpoint of mechanical properties and the like, a Sn-Ag-Cu type solder is preferable, and for example, Sn3Ag0.5Cu (melting temperature: about 217°C) is more preferable. Moreover, in a high-temperature process exceeding 200 degreeC, it is preferable to use lead-free and low-melting-point solder about the material in which material itself, such as a liquid crystal, deteriorates.

본 발명의 땜납 접합 방법에서 사용하는 땜납 볼의 크기로는, 예를 들어 10 ㎛ 이상이고 1000 ㎛ 이하이다. 하한값으로는, 바람직하게는 30 ㎛ 이상이고, 보다 바람직하게는 40 ㎛ 이상이고, 더욱 바람직하게는 50 ㎛ 이상이다. 상한값으로는, 바람직하게는 760 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 610 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 450 ㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 300 ㎛ 이하이다.As a size of the solder ball used in the solder bonding method of this invention, it is 10 micrometers or more and 1000 micrometers or less, for example. As a lower limit, Preferably it is 30 micrometers or more, More preferably, it is 40 micrometers or more, More preferably, it is 50 micrometers or more. As an upper limit, Preferably it is 760 micrometers or less, More preferably, it is 610 micrometers or less, More preferably, it is 450 micrometers or less, Especially preferably, it is 300 micrometers or less.

<스텝 (3) 상기 플럭스 시트가 용융 혹은 연화되는 온도로 가열하는 스텝><Step (3) Step of heating to a temperature at which the flux sheet is melted or softened>

본 스텝은, 상기 플럭스 시트가 용융 혹은 연화되는 온도 이상에서 가열 처리하는 공정이다. 상기 온도에서 가열 처리를 함으로써, 열에 의해 활성화되는 플럭스 성분을 포함하는 경우에는, 시트의 플럭스 작용에 의해, 땜납 볼의 표면에 형성되는 금속 산화물을 제거할 수 있다. 또, 땜납의 표면뿐만 아니라, 전극의 표면에 존재하는 산화물도 아울러 제거할 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서는, 수지 (A) 에 수지 (a1) 을 포함하는 플럭스 시트를 사용하고 있기 때문에, 본 스텝 (3) 에 있어서, 도 5 와 같이 전극과 땜납의 어긋남이 발생하지 않고, 나아가서는 땜납이 기판에 자중으로 간단하게 관통할 수 있어, 땜납 접합성이 양호해진다.This step is a process of heat-processing above the temperature at which the said flux sheet melts or softens. By heat-treating at the above temperature, when a flux component activated by heat is included, the metal oxide formed on the surface of the solder ball can be removed by the flux action of the sheet. In addition, not only the surface of the solder but also the oxide present on the surface of the electrode can be removed as well. Further, in the present invention, since the flux sheet containing the resin (a1) is used for the resin (A), in this step (3), there is no displacement between the electrode and the solder as shown in Fig. 5, and furthermore The solder can easily penetrate the substrate by its own weight, resulting in good solder bonding properties.

<스텝 (4) : (3) 과 동시 혹은 그 후, 땜납의 융점 이상의 온도로 가열하는 스텝><Step (4): A step of heating to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder simultaneously with or after (3)>

본 스텝은, 땜납의 융점 이상에서 온도 처리하는 공정이다. 상기 온도에서 가열 처리를 함으로써, 땜납 볼을 융해시켜, 납땜할 수 있다. (4) 의 스텝은, (3) 과 동시이어도 되고, (3) 후에 실시해도 된다.This step is a process of performing temperature treatment above the melting point of the solder. By heat-processing at the said temperature, a solder ball can be melt|dissolved and soldering can be carried out. The step of (4) may be performed simultaneously with (3) or after (3).

스텝 (3) (4) 에서의, 가열 온도 (최고 도달 온도), 및 당해 온도에서의 가열 시간 (유지 시간) 은, 땜납 볼의 융해 온도, 수지 성분 (A) 가 연화되는 온도, 수지 성분 (A) 의 용융 점도, 플럭스제의 비점, 기판의 전극의 크기, 전극간 피치 등의 조건에 따라, 적절히 설정할 수 있다.In step (3) (4), the heating temperature (maximum achieved temperature) and the heating time (holding time) at this temperature are the melting temperature of the solder ball, the temperature at which the resin component (A) softens, the resin component ( According to conditions, such as melt viscosity of A), the boiling point of a flux agent, the size of the electrode of a board|substrate, and an interelectrode pitch, it can set suitably.

(3) 가열 온도로는, 수지 시트의 용융 온도 혹은 연화 온도 이상이고, 예를 들어 용융 온도 (연화 온도) + 20 ℃ 이상 + 100 ℃ 이하인 것이 바람직하다. 가열 시간으로는, 예를 들어, 5 초 ∼ 10 분간이 바람직하다. (4) 가열 온도 (최고 도달 온도) 로는, 땜납 볼의 융해 온도를 T (℃) 로 했을 때, 예를 들어, T + 10 ℃ 이상 T + 80 ℃ 이하이다. 하한값으로는, 바람직하게는 T + 20 ℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 T + 30 ℃ 이상이다. 상한값으로는, 바람직하게는 T + 70 ℃ 이하이고, 보다 바람직하게는 T + 45 ℃ 이하이다. 가열 시간으로는, 가열 온도 (최고 도달 온도) 에 따라 적절히 설정할 수 있지만, 가열 온도 (최고 도달 온도) 가 상기 범위의 온도인 경우, 가열 시간 (유지 시간) 으로는, 예를 들어, 5 초 ∼ 10 분간이다. 하한값으로는, 바람직하게는 10 초 이상이고, 보다 바람직하게는 20 초 이상이다. 상한값으로는 5 분간 이하이고, 보다 바람직하게는 3 분간 이하이다. 또, 본 공정은, 대기압 조건하나 질소 등의 불활성 가스 분위기하에서 실시해도 되지만, 질소 등의 불활성 가스 분위기하에서 실시하는 것이 보다 바람직하다.(3) As heating temperature, it is more than the melting temperature or softening temperature of a resin sheet, for example, it is preferable that it is melting temperature (softening temperature) +20 degreeC or more and +100 degreeC or less. As heating time, 5 second - 10 minutes are preferable, for example. (4) The heating temperature (maximum achieved temperature) is, for example, T+10°C or higher and T+80°C or lower when the melting temperature of the solder ball is T (°C). As a lower limit, Preferably it is T+20 degreeC or more, More preferably, it is T+30 degreeC or more. As an upper limit, Preferably it is T+70 degreeC or less, More preferably, it is T+45 degreeC or less. The heating time can be appropriately set depending on the heating temperature (maximum achieved temperature), but when the heating temperature (maximum achieved temperature) is within the above range, the heating time (holding time) is, for example, from 5 seconds to It's 10 minutes. As a lower limit, Preferably it is 10 second or more, More preferably, it is 20 second or more. As an upper limit, it is 5 minutes or less, More preferably, it is 3 minutes or less. Moreover, although you may carry out this process in atmospheric pressure conditions or inert gas atmosphere, such as nitrogen, it is more preferable to carry out in inert gas atmosphere, such as nitrogen.

(3) 후에 (4) 를 실시하는 경우의 온도 프로파일은, 예를 들어, Sn37Pb 의 경우, (3) 100 ∼ 150 ℃, 60 ∼ 120 초, (4) 183 ℃ 이상 60 ∼ 150 초, 피크 온도 225 ∼ 240 ℃ (승온 속도 3 ℃/초 이하) 이어도 된다. 또 Sn3Ag0.5Cu 의 경우에는, (3) 150 ∼ 200 ℃, 60 ∼ 180 초, (4) 217 ℃ 이상 60 ∼ 150 초, 피크 온도 245 ∼ 260 ℃ (승온 속도 3 ℃/초 이하) 이어도 된다. 필요에 따라 이들 스텝은 복수회 실시해도 된다. 온도 프로파일로는, 반도체 기술 협회 (JEDEC) 의 추천 조건인 것이 바람직하다 (IPC/JEDEC J-STD-020C 에 준거).(3) The temperature profile in the case of performing (4) later, for example, in the case of Sn37Pb, (3) 100-150 degreeC, 60-120 second, (4) 183 degreeC or more 60-150 second, peak temperature 225-240 degreeC (temperature increase rate 3 degree-C/sec or less) may be sufficient. Moreover, in the case of Sn3Ag0.5Cu, (3) 150-200 degreeC, 60-180 second, (4) 217 degreeC or more 60-150 second, and peak temperature 245-260 degreeC (temperature increase rate 3 degree-C/sec or less) may be sufficient. You may implement these steps multiple times as needed. As a temperature profile, it is preferable that it is the conditions recommended by the Semiconductor Technology Association (JEDEC) (based on IPC/JEDEC J-STD-020C).

또, 본 발명의 플럭스 시트는, 유리 전이점이 40 ℃ 이하이고, 150 ℃ 의 용융 점도가 500 ㎩·s 이하인 수지 (a1) 을 함유하므로, 땜납 볼로부터 기판을 향하여, 압압된 상태로 가열 처리를 실시할 필요가 없다. 본 스텝 종료 후, 도 5 에 나타내는 바와 같이, 땜납 접합한 상태가 된다.In addition, since the flux sheet of the present invention contains the resin (a1) having a glass transition point of 40° C. or less and a melt viscosity of 150° C. 500 Pa·s or less, heat treatment is performed in a pressed state from the solder ball toward the substrate. no need to carry out After the completion of this step, as shown in FIG. 5 , it is in a soldered state.

또한, 상기의 땜납 접합 방법의 종료 후에, 본 발명의 플럭스 시트를 용매에 의해 용해 제거해도 된다. 플럭스 시트를 용매에 의해 용해 제거함으로써, 땜납 접합한 이외의 영역에 존재하고 있는 플럭스 시트가 용매에 의해 용해 제거되어, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 땜납 접합 부위가 노출된 상태가 된다. 플럭스 시트를 용해 제거하는 세정용의 용매로는, 특별히 제한은 없고, 물, 유기 용매, 물과 유기 용매의 혼합 용매 등을 들 수 있지만, 환경 부하가 낮고, 입수하기 쉽다는 관점에서, 물이 바람직하다. 유기 용매로는, 알코올, 케톤 등을 들 수 있지만, 바람직하게는 알코올이다. 유기 용매를 사용하는 경우, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 또한, 수지 성분 (A) 가 물에 잘 녹지 않는 경우에는, 유기 용매, 또는 물과 유기 용매의 혼합 용매를 사용하는 것이 바람직하다. 물과 유기 용매의 혼합 용매에 있어서, 혼합비는, 특별히 제한은 없지만, 환경 부하의 저감의 관점에서, 유기 용매의 비율이 낮은 편이 바람직하다. 물은 증류수, 이온 교환수, 수돗물 등을 사용할 수 있고, 불순물이 적은 증류수나 이온 교환수, 초순수가 바람직하다. 알코올의 예로는, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, n-부탄올 등을 들 수 있고, 케톤계 용매로는 아세톤, 메틸에틸케톤 등을 들 수 있다. 사용하는 용매의 온도로는, 플럭스 시트 중에 포함되는 수지 성분 (A) 에 의해 적절히 설정할 수 있지만, 작업성의 관점에서, 실온에서 실시하는 것이 바람직하다.In addition, after completion|finish of said soldering method, you may dissolve and remove the flux sheet|seat of this invention with a solvent. By dissolving and removing the flux sheet with the solvent, the flux sheet existing in the region other than the solder joint is dissolved and removed by the solvent, and as shown in FIG. 6 , the solder joint portion is exposed. The solvent for washing by dissolving and removing the flux sheet is not particularly limited, and water, an organic solvent, a mixed solvent of water and an organic solvent, etc. are mentioned, but from the viewpoint of low environmental load and easy availability, water is desirable. Although alcohol, a ketone, etc. are mentioned as an organic solvent, Preferably it is alcohol. When using an organic solvent, you may use independently and may use 2 or more types together. In addition, when the resin component (A) is hardly soluble in water, it is preferable to use an organic solvent or a mixed solvent of water and an organic solvent. In the mixed solvent of water and an organic solvent, although there is no restriction|limiting in particular in a mixing ratio, From a viewpoint of reduction of environmental load, the one where the ratio of an organic solvent is low is preferable. Distilled water, ion-exchanged water, tap water, etc. can be used as water, and distilled water, ion-exchanged water, and ultrapure water with few impurities are preferable. Examples of the alcohol include methanol, ethanol, n-propanol, and n-butanol, and examples of the ketone solvent include acetone and methyl ethyl ketone. Although the temperature of the solvent to be used can be suitably set according to the resin component (A) contained in a flux sheet, it is preferable to carry out at room temperature from a viewpoint of workability|operativity.

또한, 플럭스 시트를 용해시키기 어려울 때나, 용해되는 데에 시간이 걸릴 때에는, 가열한 용매를 사용하는 것이나, 계면 활성제를 함유하는 용매를 사용해도 된다. 이 가열한 용매의 온도로는, 높을수록 플럭스 시트를 용해시키기 쉬워지지만, 그 용매의 비점 미만의 온도인 것이 바람직하다.Moreover, when it is difficult to dissolve a flux sheet, or when it takes time to melt|dissolve, you may use a heated solvent or the solvent containing surfactant. As the temperature of the heated solvent, the higher the temperature, the easier it is to dissolve the flux sheet, but it is preferable that the temperature is lower than the boiling point of the solvent.

계면 활성제로는, 아니온계 계면 활성제, 카티온계 계면 활성제, 양쪽성 이온계 계면 활성제, 논이온계 계면 활성제 등의 계면 활성제를 사용할 수 있다.As surfactant, surfactants, such as an anionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric surfactant, and a nonionic surfactant, can be used.

또, 플럭스 시트의 용해 제거의 효율을 향상시키는 관점에서, 초음파를 조사하면서 용해 제거시키는 것이 바람직하다. 플럭스제 (B) 를 사용한 경우, 플럭스제가 잔존하면, 땜납 접합 부위를 부식시킬 가능성이 있고, 장기 사용의 신뢰성 저하를 초래하는 원인이 되기 때문에, 플럭스제의 제거 효율을 향상시키기 위해서, 초음파를 조사하면서 세정 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 또한, 초음파의 강도로는, 형성한 땜납 접합이 파단되지 않을 정도로 조정하는 것이 바람직하다. 또, 액중 제트, 다이렉트 패스 등의 수류 발생 장치에 의해 세정하는 것이, 플럭스제의 제거 효과를 향상시키기 위해서 바람직하다.Moreover, from a viewpoint of improving the efficiency of dissolution removal of a flux sheet, it is preferable to carry out dissolution removal while irradiating an ultrasonic wave. When the flux agent (B) is used, if the flux agent remains, it may corrode the solder joint site and cause a decrease in reliability of long-term use. It is preferable to perform a washing process while doing it. In addition, it is preferable to adjust the intensity|strength of an ultrasonic wave to such an extent that the formed solder joint does not fracture|rupture. In addition, washing with a water flow generator such as a submerged jet or a direct pass is preferable in order to improve the removal effect of the flux agent.

실시예Example

이하에, 본 발명을 실시예에 의해 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 실시예에서 사용한 각 성분의 물성값에 대해서는, 하기 방법에 기초하여 측정한 값을 사용하였다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to the following Example. In addition, about the physical property value of each component used in the following example, the value measured based on the following method was used.

(수지 용액의 제조)(Preparation of resin solution)

[제조예 1][Production Example 1]

변성 폴리비닐알코올 (폴리에틸렌글리콜이 부가된 폴리비닐알코올 : 닛폰 합성 화학 공업사 제조, 상품명 「고세넥스 (등록상표) LW-100 ; 유리 전이점 -0.5 ℃, 150 ℃ 의 용융 점도 : 63 ㎩·s (전단 속도 10 ㎜/분) (물을 휘발시켜 수지 단독으로 측정), 비누화도 39.0 ∼ 46.0) 을 수지 용액으로 하였다 (고형분 40 질량% 수용액).Modified polyvinyl alcohol (polyvinyl alcohol to which polyethylene glycol is added: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name "Gosenex (registered trademark) LW-100; glass transition point -0.5°C, melt viscosity at 150°C: 63 Pa·s ( A shear rate of 10 mm/min) (measured with resin alone by volatilizing water) and a saponification degree of 39.0 to 46.0) were used as a resin solution (solid content: 40 mass% aqueous solution).

(플럭스 시트의 제조)(Manufacture of flux sheet)

지지체인, 표면에 이형 처리가 실시된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (린텍 주식회사 제조 6502) (이하, 이형 필름으로 한다.) 상에, 상기 조제한 수지 용액을 도포하여, 도막을 형성하였다. 그리고, 이 도막을, 80 ℃, 60 분간 가열 건조시켜, 지지체 상에 막두께가 30 ㎛ 인 플럭스 시트를 제조하였다.The prepared resin solution was apply|coated on the polyethylene terephthalate film (6502 by Lintec Corporation) (henceforth a release film) to which the release process was given to the surface which is a support body, and the coating film was formed. And this coating film was heat-dried at 80 degreeC for 60 minutes, and the flux sheet|seat with a film thickness of 30 micrometers was manufactured on the support body.

[제조예 2][Production Example 2]

플럭스제로서, 아디프산 5 질량부 (LW-100 의 수지 고형분 100 질량부에 대해) 를 사용한 것 이외에는, 제조예 1 과 동일한 방법에 의해, 막두께 30 ㎛ 의 플럭스 시트를 제조하였다. A flux sheet having a film thickness of 30 µm was produced in the same manner as in Production Example 1 except that 5 parts by mass of adipic acid (relative to 100 parts by mass of resin solid content of LW-100) was used as the flux agent.

[제조예 3][Production Example 3]

플럭스제로서, 살리실산 5 질량부 (LW-100 의 수지 고형분 100 질량부에 대해) 를 사용한 것 이외에는, 제조예 1 과 동일한 방법에 의해, 막두께 30 ㎛ 의 플럭스 시트를 제조하였다.A flux sheet having a film thickness of 30 µm was produced in the same manner as in Production Example 1 except that 5 parts by mass of salicylic acid (relative to 100 parts by mass of resin solid content of LW-100) was used as the flux agent.

[제조예 4][Production Example 4]

폴리아미드 (PA) (도레이 주식회사 제조, 상품명 「AQ 나일론 T-70 ; 유리 전이점 -46 ℃, 150 ℃ 의 용융 점도 : 17 ㎩·s (전단 속도 10 ㎜/분) (물을 휘발시켜 수지 단독으로 측정)) 100 질량부 (고형분 51 질량%) 에, 플럭스제로서, 도데실아민 5 질량부 (T-70 의 수지 고형분 100 질량부에 대해) 를 첨가하고 교반하여, 수지 용액을 제조하였다. 그리고, 이 조정한 수지 용액을 사용하여, 제조예 1 과 동일한 방법에 의해, 막두께 30 ㎛ 의 플럭스 시트를 제조하였다. Polyamide (PA) (manufactured by Toray Corporation, trade name "AQ Nylon T-70; glass transition point -46°C, melt viscosity at 150°C: 17 Pa·s (shear rate 10 mm/min)) (resin alone by volatilizing water) to 100 parts by mass (solid content of 51 mass%)) as a flux agent, 5 parts by mass of dodecylamine (relative to 100 parts by mass of resin solid content of T-70) was added and stirred to prepare a resin solution. And using this adjusted resin solution, the flux sheet with a film thickness of 30 micrometers was manufactured by the method similar to manufacture example 1.

[제조예 5][Production Example 5]

플럭스제로서, 아디프산 5 질량부 (T-70 의 수지 고형분 100 질량부에 대해) 를 사용한 것 이외에는, 제조예 4 와 동일한 방법에 의해, 막두께 30 ㎛ 의 플럭스 시트를 제조하였다.A flux sheet having a film thickness of 30 µm was produced in the same manner as in Production Example 4 except that 5 parts by mass of adipic acid (relative to 100 parts by mass of resin solid content of T-70) was used as the flux agent.

[제조예 6][Production Example 6]

폴리에스테르 (PEs) (타카마츠 유지 주식회사 제조, 상품명 「페스레진 A-680 ; 유리 전이점 30 ℃, 150 ℃ 의 용융 점도 : 29 ㎩·s (전단 속도 10 ㎜/분) (물을 휘발시켜 수지 단독으로 측정)) 100 질량부 (고형분 20 질량%) 에, 플럭스제로서, 아디프산 5 질량부 (페스레진 A-680 의 수지 고형분 100 질량부에 대해) 를 증류수에 용해시킨 수용액을 첨가하고 교반하여, 수지 용액을 제조하였다. 그리고, 이 조정한 수지 용액을 사용하여, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해, 막두께 30 ㎛ 의 플럭스 시트를 제조하였다.Polyester (PEs) (manufactured by Takamatsu Oil Co., Ltd., trade name "Pesresin A-680; Glass transition point 30°C, melt viscosity at 150°C: 29 Pa·s (shear rate 10 mm/min)) (Water volatilized and resin To 100 parts by mass (measured alone)) (solid content: 20 mass%), an aqueous solution in which 5 parts by mass of adipic acid (relative to 100 parts by mass of resin solid content of pesresin A-680) was dissolved in distilled water as a flux agent was added, By stirring, a resin solution was prepared. And using this adjusted resin solution, the flux sheet with a film thickness of 30 micrometers was manufactured by the method similar to Example 1.

[제조예 7][Production Example 7]

플럭스제로서, 살리실산 43 질량부 (LW-100 의 수지 고형분 100 질량부에 대해) 를 사용한 것 이외에는, 제조예 1 과 동일한 방법에 의해, 막두께 30 ㎛ 의 플럭스 시트를 제조하였다.A flux sheet having a film thickness of 30 µm was produced in the same manner as in Production Example 1 except that 43 parts by mass of salicylic acid (relative to 100 parts by mass of the resin solid content of LW-100) was used as the flux agent.

[제조예 8][Production Example 8]

LW-100 의 고형분을 70 질량부로 하고, 폴리비닐알코올 (PVA) (니혼사쿠 비포발 주식회사 제조, 상품명 「포발 JP-03」 ; 유리 전이점 63 ℃) 30 질량부를 사용하고, 아디프산 5 질량부 (상기 LW-100 과 JP-03 의 합계 100 질량부에 대해) 를 사용한 것 이외에는, 제조예 1 과 동일한 방법에 의해, 막두께 30 ㎛ 의 플럭스 시트를 제조하였다.The solid content of LW-100 was 70 parts by mass, and 30 parts by mass of polyvinyl alcohol (PVA) (manufactured by Nippon Saku Bipoval Co., Ltd., trade name "Poval JP-03"; glass transition point 63°C) was used, and 5 mass parts of adipic acid A flux sheet having a film thickness of 30 µm was produced in the same manner as in Production Example 1, except that parts (with respect to a total of 100 parts by mass of the LW-100 and JP-03) were used.

[제조예 9][Production Example 9]

LW-100 의 고형분의 배합량을 60 질량부로 하고, JP-03 의 배합량을 40 질량부, 상용화제로서 카르복시메틸셀룰로오스 (CMC) (다이셀 파인켐 주식회사 제조, 상품명 「CMC1220」) 5 중량부를 사용한 것 이외에는, 제조예 8 과 동일한 방법에 의해, 막두께 30 ㎛ 의 플럭스 시트를 제조하였다.The blending amount of the solid content of LW-100 was 60 parts by mass, the blending amount of JP-03 was 40 parts by mass, and 5 parts by weight of carboxymethyl cellulose (CMC) (manufactured by Daicel Finechem Co., Ltd., trade name “CMC1220”) as a compatibilizer was used. A flux sheet having a film thickness of 30 µm was manufactured in the same manner as in Production Example 8 except for this.

[제조예 10][Production Example 10]

LW-100 의 고형분의 배합량을 50 질량부로 하고, JP-03 의 배합량을 50 질량부로 한 것 이외에는, 제조예 9 와 동일한 방법에 의해, 막두께 30 ㎛ 의 플럭스 시트를 제조하였다.A flux sheet having a thickness of 30 µm was produced in the same manner as in Production Example 9 except that the blending amount of the solid content of LW-100 was 50 parts by mass and the blending amount of JP-03 was 50 parts by mass.

[제조예 11][Production Example 11]

LW-100 의 고형분의 배합량을 40 질량부로 하고, JP-03 의 배합량을 60 질량부로 한 것 이외에는, 제조예 10 과 동일한 방법에 의해, 막두께 30 ㎛ 의 플럭스 시트를 제조하였다.A flux sheet having a film thickness of 30 µm was produced in the same manner as in Production Example 10, except that the blending amount of the solid content of LW-100 was 40 parts by mass and the blending amount of JP-03 was 60 parts by mass.

[비교 제조예 1][Comparative Preparation Example 1]

폴리비닐부티랄 (PVB) (세키스이 화학 공업 주식회사 제조, 상품명 「에스렉 KW-1 ; 유리 전이점 65 ℃, 150 ℃ 의 용융 점도 : 1444 ㎩·s (전단 속도 10 ㎜/분) (물을 휘발시켜 수지 단독으로 측정)) 의 고형분 100 질량부 (고형분 20 질량%) 에, 플럭스제로서, 아디프산 5 질량부 (KW-1 의 수지 고형분 100 질량부에 대해) 를 증류수에 용해시킨 수용액을 첨가하고 교반하여, 수지 용액을 제조하였다. 그리고, 이 조정한 수지 용액을 사용하여, 제조예 1 과 동일한 방법에 의해, 막두께 30 ㎛ 의 플럭스 시트를 제조하였다.Polyvinyl butyral (PVB) (manufactured by Sekisui Chemical Industry Co., Ltd., trade name "S-Rec KW-1; glass transition point 65°C, melt viscosity at 150°C: 1444 Pa·s (shear rate 10 mm/min)) (water An aqueous solution obtained by dissolving 5 parts by mass of adipic acid (relative to 100 parts by mass of solid resin of KW-1) in distilled water as a flux agent in 100 parts by mass (solid content of 20 mass%) of adipic acid (measured with resin alone by volatilization)) was added and stirred to prepare a resin solution. And using this adjusted resin solution, the flux sheet with a film thickness of 30 micrometers was manufactured by the method similar to manufacture example 1.

[비교 제조예 2][Comparative Preparation Example 2]

폴리비닐알코올 (PVA) (니혼사쿠 비포발 주식회사 제조, 상품명 「포발 JP-03 ; 유리 전이점 63 ℃, 150 ℃ 에서는 용융되지 않는다) 의 고형분 100 질량부에, 플럭스제로서, 아디프산 5 질량부 (JP-03 의 수지 고형분 100 질량부에 대해) 를 첨가하고 교반하여, 수지 용액을 제조하였다. 그리고, 이 조정한 수지 용액을 사용하여, 제조예 1 과 동일한 방법에 의해, 막두께 30 ㎛ 의 플럭스 시트를 제조하였다.Polyvinyl alcohol (PVA) (manufactured by Nihonsaku Bipoval Co., Ltd., trade name "Poval JP-03; does not melt at a glass transition point of 63°C and 150°C) in 100 parts by mass of a solid content of adipic acid as a flux agent by 5 mass parts (relative to 100 parts by mass of the resin solid content of JP-03) were added and stirred to prepare a resin solution. And using this adjusted resin solution, the flux sheet with a film thickness of 30 micrometers was manufactured by the method similar to manufacture example 1.

[비교 제조예 3][Comparative Production Example 3]

에틸렌·아세트산비닐 공중합체 (EVA) (덴카 주식회사 제조, 상품명 「덴카 EVA 라텍스 55N」 ; 유리 전이점 -10 ℃, 150 ℃ 에서는 용융되지 않는다) 의 고형분 100 질량부에, 플럭스제로서, 아디프산 5 질량부 (덴카 EVA 라텍스 55N 의 수지 고형분 100 질량부에 대해) 를 증류수에 용해시킨 수용액을 첨가하고 교반하여, 수지 용액을 제조하였다. 그리고, 이 조정한 수지 용액을 사용하여, 제조예 1 과 동일한 방법에 의해, 막두께 30 ㎛ 의 플럭스 시트를 제조하였다.To 100 parts by mass of the solid content of the ethylene/vinyl acetate copolymer (EVA) (manufactured by Denka Corporation, trade name "Denka EVA Latex 55N"; glass transition point -10°C, does not melt at 150°C), adipic acid as a flux agent An aqueous solution in which 5 parts by mass (with respect to 100 parts by mass of resin solid content of Denka EVA Latex 55N) was dissolved in distilled water was added and stirred to prepare a resin solution. And using this adjusted resin solution, the flux sheet with a film thickness of 30 micrometers was manufactured by the method similar to manufacture example 1.

[플럭스 시트를 사용한 땜납 접합 시험][Solder joint test using flux sheet]

땜납 접합 시험에 있어서, 사용한 기판 및 땜납 볼은 이하와 같다.The solder joint test WHEREIN: The board|substrate and solder ball used are as follows.

기판 : FR-4 (유리 에폭시 기판이고, 전극은 구리로 이루어지고, 전극 표면의 UBM 층은 Cu/Ni/Au (Ni 층의 두께는 3 ㎛, Au 층의 두께는 0.03 ㎛) 로 이루어지는 것이다.)Substrate: FR-4 (a glass epoxy substrate, the electrode is made of copper, and the UBM layer on the electrode surface is made of Cu/Ni/Au (the thickness of the Ni layer is 3 μm, the thickness of the Au layer is 0.03 μm). )

땜납 볼 : 땜납 조성 (직경 760 ㎛, Sn-Ag-Cu ; Sn : 96.5 질량%, Ag : 3.0 질량%, Cu : 0.5 질량% (융해 온도 217 ∼ 219 ℃)))Solder ball: Solder composition (diameter 760 µm, Sn-Ag-Cu; Sn: 96.5 mass%, Ag: 3.0 mass%, Cu: 0.5 mass% (melting temperature 217 to 219°C)))

[실시예 1 ∼ 11, 비교예 1 ∼ 3][Examples 1 to 11, Comparative Examples 1 to 3]

상기 제조예 1 ∼ 11, 비교 제조예 1 ∼ 3 에서 제조한 플럭스 시트에 사용하여 하기 (1) ∼ (6) 의 항목에 대해, 이하의 방법에 기초하여 평가를 실시하였다. 평가 결과를 표 1 에 나타낸다.Using the flux sheets produced in Production Examples 1 to 11 and Comparative Production Examples 1 to 3, the following items (1) to (6) were evaluated based on the following method. Table 1 shows the evaluation results.

(1) 플럭스 시트와 기판의 접착성(1) Adhesion between the flux sheet and the substrate

상기에서 제조한 이형 필름이 부착된 플럭스 시트를 80 ℃ 로 가열하고, 기판에 진공으로 가압하여, 기판에 라미네이트하였다. 실온으로 되돌리고, 이형 필름을 박리할 때의 기판의 모습을 관찰하였다.The above-prepared flux sheet with a release film attached thereto was heated to 80° C., pressurized to the substrate in vacuum, and laminated to the substrate. It returned to room temperature and the mode of the board|substrate at the time of peeling a release film was observed.

A : 플럭스 시트가 이형 필름으로부터 멀어져 기판에 전사되었다.A: The flux sheet moved away from the release film and transferred to the substrate.

C : 플럭스 시트/기판 계면에서의 박리, 또는/또한 플럭스 시트 내에서의 파괴가 일어났다.C: Peeling at the flux sheet/substrate interface, or/or breakage in the flux sheet occurred.

(2) 플럭스 시트의 택성(2) Tackiness of the flux sheet

상기에서 제조한 플럭스 시트에 대해 지촉 (指觸) 하고, 실온에서의 택성을 관능 평가하였다.The flux sheet prepared above was touched and sensory evaluation was performed for tackiness at room temperature.

A : 적당한 택을 갖는다 (끈적거림이 있다).A : It has a suitable tag (there is stickiness).

C : 택이 없다 (끈적거림이 없고 타재 (他材) 에 대한 첩착 (貼着) 이 불가한 것).C: No tack (no stickiness and impossible to adhere to other materials).

(3) 플럭스 시트의 리워크성·취급성(3) Reworkability and handling properties of the flux sheet

상기에서 제조한 플럭스 시트에 대해, 시트에 지촉 후, 시트에 눌러 댄 손가락을 다른 손가락에 눌러 댔을 때의 점착의 유무로 풀 잔존을 확인하고, 실온 (체온) 에서의 리워크성·취급성을 관능 평가하였다.For the flux sheet prepared above, after touching the sheet, the glue residue was checked by the presence or absence of adhesion when the finger pressed against the sheet was pressed against another finger, and reworkability and handleability at room temperature (body temperature) was sensory evaluated.

A : 손가락에 대한 풀 잔존이 없다.A: There is no glue residue for the fingers.

C : 손가락에 대한 풀 잔존이 있다.C: There is glue residue on the finger.

(4) 땜납 볼의 유지력(4) Retaining force of the solder ball

메탈 마스크를 사용하여, 플럭스 시트로 라미네이트된 기판 상에 땜납 볼 36 개를 배치시키고, 일단 80 ℃ 로 승온시키고, 실온으로 되돌렸다.Using a metal mask, 36 solder balls were placed on a substrate laminated with a flux sheet, and the temperature was once raised to 80° C. and returned to room temperature.

땜납 볼이 배치된 후의 기판을 특정 각도로 기울여, 플럭스 시트에 의한 땜납 볼의 유지력을 측정하였다.The substrate after the solder balls were placed was tilted at a specific angle, and the holding force of the solder balls by the flux sheet was measured.

A : 땜납 볼 배치 후 90 도 기울였을 때, 땜납 볼이 떨어지지 않는다.A: When the solder ball is tilted 90 degrees after placement, the solder ball does not fall off.

C : 땜납 볼 배치 후 90 도 기울였을 때, 땜납 볼이 떨어졌다.C: When the solder ball was tilted 90 degrees after placement, the solder ball fell off.

(5) 용해 제거성 (육안 및 루페에 의한 관찰)(5) dissolution removal properties (visual and loupe observation)

땜납 볼을 탑재한 기판을, 250 ℃, 대기하에서 가열 처리를 실시하여, 땜납과 기판을 접합시켰다.The board on which the solder ball was mounted was heat-treated at 250 DEG C in the atmosphere to bond the solder to the board.

땜납 접합을 형성한 기판을, 초음파 세정기 「브란소닉」 (제품명 5510, BRANSON 사 제조) 을 사용하여, 42 k㎐ 로 요동한 25 ℃ 의 증류수에 침지시키고, 5 분간의 세정 처리를 실시하였다. 또한, 실시예 6 에 있어서는, 증류수 대신에, 메탄올/증류수 = 1/1 (질량비) 의 혼합 용매를 사용하였다. 이상의 공정을 거쳐, 플럭스 시트를 사용한 경우의 땜납 접합체를 얻었다.The board|substrate on which the solder joint was formed was immersed in the distilled water of 25 degreeC rocked|fluctuated at 42 kHz using the ultrasonic cleaner "Bransonic" (product name 5510, manufactured by BRANSON), and the washing process for 5 minutes was performed. In Example 6, a mixed solvent of methanol/distilled water = 1/1 (mass ratio) was used instead of distilled water. Through the above steps, a solder joint in the case of using a flux sheet was obtained.

세정 후의 기판을 육안 및 루페를 사용하여, 땜납/기판간의 간극에 잔존하는 플럭스 시트의 유무를 관찰하고, 이하의 기준에 의해 평가하였다.The substrate after cleaning was observed for the presence or absence of a flux sheet remaining in the gap between the solder/substrate using the naked eye and a loupe, and evaluated according to the following criteria.

A : 플럭스 시트가 전혀 잔존하고 있지 않다.A: No flux sheet remains at all.

B : 플럭스 시트가 땜납 단부 (端部) 에 약간 관찰된다.B: A flux sheet is slightly observed at the solder end.

C : 플럭스 시트가 전체에 걸쳐서 잔존하고 있다.C: The flux sheet remains throughout.

(6) 땜납 접합력(6) Solder bonding strength

다이 셰어 테스터에 의해, 접합한 땜납 볼 5 개에 대해 셰어 테스트를 실시하고, 땜납 접합력을 확인하였다.With a die share tester, a share test was performed on five solder balls joined, and the solder bonding strength was confirmed.

A : 모두 응집 파괴이다.A: All are cohesive failures.

C : 일부 또는 모두 계면 파괴이다.C: Some or all are interfacial fractures.

Figure pct00001
Figure pct00001

실시예 1 ∼ 11 은, 유리 전이점이 40 ℃ 이하, 150 ℃ 의 용융 점도가 500 ㎩·s 이하인 수지를 포함하는 플럭스 시트를 사용하고 있으므로, 접착성, 택성, 리워크성, 땜납 유지력, 용해 제거성, 땜납 접합력 중 어느 평가에 있어서도, 양호한 결과가 얻어졌다. 또한, 실시예 1 ∼ 5, 7 ∼ 11 과 실시예 6 을 비교하면, 물과의 수소 결합이 보다 약한 실시예 1 ∼ 5, 7 ∼ 11 의 시트는, 실시예 6 의 시트에 비해, 물에 대한 용해성이 보다 우수한 결과가 되었다. 실시예 8 ∼ 11 에서는, 유리 전이점이 40 ℃ 이하, 150 ℃ 의 용융 점도가 500 ㎩·s 이하인 수지를 포함하고, 또한 유리 전이점이 상기 수지보다 높은 수지를 함유하고 있으므로 리워크성·취급성이 향상되는 것을 알 수 있었다.Since Examples 1 to 11 use a flux sheet containing a resin having a glass transition point of 40°C or less and a melt viscosity of 150°C of 500 Pa·s or less, adhesiveness, tackiness, reworkability, solder holding power, dissolution removal Good results were obtained in any evaluation of the properties and solder bonding strength. Further, comparing Examples 1 to 5, 7 to 11 and Example 6, the sheets of Examples 1 to 5 and 7 to 11, which have weaker hydrogen bonding with water, are more resistant to water than the sheets of Example 6. The result was more excellent in solubility. In Examples 8 to 11, the glass transition point contains a resin having a melt viscosity of 40° C. or less and a melt viscosity of 150° C. of 500 Pa·s or less, and contains a resin having a glass transition point higher than that of the resin, so reworkability and handleability are excellent. could be seen to improve.

비교예 1 ∼ 2 는, 유리 전이점이 40 ℃ 이하인 수지를 사용하고 있지 않으므로, 기판과의 접착력이 약하고, 땜납 볼 유지력이 약하기 때문에, 땜납 접합력이 떨어지는 결과가 되었다. 또, 비교예 3 은, 150 ℃ 의 용융 점도가 500 ㎩·s 이하인 수지를 사용하고 있지 않기 때문에, 기판과의 접착력이 약하고, 땜납 볼의 가라앉음 부족 때문에, 땜납 접합력 등이 떨어지는 결과가 되었다.In Comparative Examples 1 and 2, since the resin having a glass transition point of 40°C or less was not used, the adhesive force with the substrate was weak and the solder ball holding force was weak, resulting in poor solder bonding strength. Moreover, in Comparative Example 3, since the resin having a melt viscosity at 150°C of 500 Pa·s or less was not used, the adhesive force with the substrate was weak, and due to insufficient sinking of the solder balls, the solder bonding strength and the like were inferior.

산업상 이용가능성Industrial Applicability

본 발명에 의하면, 기판과의 접착성이 강하여, 리플로 중에 땜납 볼의 어긋남이 발생하지 않는 플럭스 시트를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the adhesiveness with a board|substrate is strong and it can provide the flux sheet|seat which does not generate|occur|produce the misalignment of a solder ball during reflow.

또한, 본 발명에 의하면, 다수의 땜납 범프를 양호한 균일성으로 형성할 수 있고, 또한 생산성이 높고, 환경 부하가 작은 땜납 접합 방법을 제공할 수 있다.Further, according to the present invention, it is possible to provide a solder bonding method in which a large number of solder bumps can be formed with good uniformity, and the productivity is high and the environmental load is small.

1 전극
2 솔더 레지스트
3 플럭스 시트
4 땜납 볼
100 기판
1 electrode
2 Solder Resist
3 flux sheet
4 Solder Balls
100 boards

Claims (10)

수지 (A) 를 포함하는 플럭스 시트로서, 상기 수지 (A) 가, 유리 전이점이 40 ℃ 이하이고, 150 ℃ 의 용융 점도가 500 ㎩·s (전단 속도 10 ㎜/분으로 측정) 이하인 수지 (a1) 을 함유하는 것을 특징으로 하는, 플럭스 시트.A flux sheet comprising a resin (A), wherein the resin (A) has a glass transition point of 40°C or less and a melt viscosity of 150°C of 500 Pa·s (measured at a shear rate of 10 mm/min) or less (a1) ), characterized in that it contains a flux sheet. 제 1 항에 있어서,
상기 수지 (A) 가, 유리 전이점이 40 ℃ 이하이고, 150 ℃ 의 점도가 500 ㎩·s (전단 속도 10 ㎜/분으로 측정) 이하인 수지 (a1) 을 35 ∼ 99 질량%, 유리 전이점이 상기 수지 (a1) 보다 높은 수지 (a2) 를 1 ∼ 65 질량% 함유하는 것을 특징으로 하는, 플럭스 시트.
The method of claim 1,
The resin (A) has a glass transition point of 40°C or less, and a viscosity of 150°C is 35 to 99% by mass of the resin (a1) having a viscosity of 500 Pa·s (measured at a shear rate of 10 mm/min) or less, the glass transition point is the above A flux sheet characterized by containing from 1 to 65 mass% of a resin (a2) higher than the resin (a1).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 플럭스 시트가, 플럭스제 (B) 를 함유하는 것을 특징으로 하는, 플럭스 시트.
3. The method according to claim 1 or 2,
The flux sheet, characterized in that the flux sheet contains a flux agent (B).
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 플럭스 시트는, 실질적으로 (B) 이외의 저분자 화합물을 함유하지 않는 것을 특징으로 하는, 플럭스 시트.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The flux sheet is characterized in that it contains substantially no low molecular weight compounds other than (B).
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지 (a1) 이 수용성인 것을 특징으로 하는, 플럭스 시트.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The flux sheet, characterized in that the resin (a1) is water-soluble.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지 (a1) 이 폴리비닐알코올의 일부의 하이드록시기 (-OH) 를, 알킬렌옥사이드 사슬이 1 개 또는 복수 연결된 부분 구조 -(CH(R1)CH(R2)O)n-R3 (n 은 알킬렌옥사이드 사슬의 반복수 (평균값) 를 나타내고, 1.0 이상이다. R1, R2 및 R3 은, 서로 독립적으로 수소 원자 또는 유기기를 나타낸다. R1, R2 및 R3 이 복수 있는 경우, 각각 동일해도 되고 상이해도 된다.) 으로 치환한 변성 폴리비닐알코올, 폴리아미드 및 폴리에스테르에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는, 플럭스 시트.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The resin (a1) has a partial structure in which one or more alkylene oxide chains are linked to a hydroxyl group (-OH) of a part of polyvinyl alcohol -(CH(R 1 )CH(R 2 )O) n -R 3 (n represents the repeating number (average value) of the alkylene oxide chain, and is 1.0 or more. R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an organic group. R 1 , R 2 and R 3 are A flux sheet comprising at least one selected from modified polyvinyl alcohol substituted with , polyamide, and polyester.
제 2 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지 (a2) 로서 폴리비닐알코올을 함유하는 것을 특징으로 하는, 플럭스 시트.
7. The method according to any one of claims 2 to 6,
A flux sheet comprising polyvinyl alcohol as the resin (a2).
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 플럭스 시트에 있어서, 상기 수지 (A) 의 함유량이 50 질량% 이상인 것을 특징으로 하는, 플럭스 시트.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
In the flux sheet, the content of the resin (A) is 50 mass% or more.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 플럭스 시트의 면적이 30000 ㎟ 이상인 것을 특징으로 하는, 플럭스 시트.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
The flux sheet, characterized in that the area of the flux sheet is 30000 mm2 or more.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 플럭스 시트를 사용한 땜납 접합 방법으로서, 하기 (1) ∼ (4) 의 스텝을 갖는 것을 특징으로 하는, 땜납 접합 방법.
(1) 전극을 갖는 기판의 전극을 갖는 면에 상기 플럭스 시트를 배치하는 스텝
(2) 상기 플럭스 시트 상에, 땜납 볼을 배치하는 스텝
(3) 상기 플럭스 시트가 용융 혹은 연화되는 온도로 가열하는 스텝
(4) (3) 과 동시 혹은 그 후, 땜납의 융점 이상의 온도로 가열하는 스텝
A solder bonding method using the flux sheet according to any one of claims 1 to 9, comprising the following steps (1) to (4).
(1) disposing the flux sheet on the electrode-bearing surface of the electrode-bearing substrate
(2) a step of disposing a solder ball on the flux sheet
(3) heating to a temperature at which the flux sheet is melted or softened
(4) a step of heating to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder simultaneously with or after (3)
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