JPWO2020116403A1 - Flux sheet and solder joining method using flux sheet - Google Patents

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Abstract

本発明の課題は、基板との接着性が強く、リフロー中にはんだボールのズレが生じないフラックスシートを提供することである。上記課題を解決するために、樹脂(A)を含むフラックスシートであって、前記樹脂(A)が、ガラス転移点が40℃以下で、150℃の溶融粘度が500Pa・s(せん断速度10mm/分で測定)以下である樹脂(a1)を含有することを特徴とする、フラックスシートを提供する。これにより、基板とはんだを接合する際に、基板との接着性が強く、リフロー中にはんだボールのズレが生じないという効果を得ることができる。【選択図】なしAn object of the present invention is to provide a flux sheet which has strong adhesiveness to a substrate and does not cause displacement of solder balls during reflow. In order to solve the above problems, the flux sheet containing the resin (A) has a glass transition point of 40 ° C. or less and a melt viscosity of 150 ° C. of 500 Pa · s (shear velocity 10 mm /). Provided is a flux sheet characterized by containing the following resin (a1) (measured in minutes). As a result, when the substrate and the solder are joined, the adhesiveness with the substrate is strong, and it is possible to obtain the effect that the solder balls do not shift during the reflow. [Selection diagram] None

Description

本発明は、電子部品、配線板、基板、半導体チップ、ウエハ、パネル等のはんだ接合等に使用されるフラックスシート、及び、当該フラックスシートを用いたはんだ接合方法に関する。更に詳しくは、基板との接着性に優れるフラックスシートに関するものである。 The present invention relates to a flux sheet used for solder bonding of electronic components, wiring boards, substrates, semiconductor chips, wafers, panels, etc., and a solder bonding method using the flux sheet. More specifically, the present invention relates to a flux sheet having excellent adhesiveness to a substrate.

電子部品を基板などへ実装する手法として、例えば、基板の表面にはんだ付けを行う表面実装手法と、基板の穴に電極リード端子を挿入してはんだ付けを行うスルーホール実装手法等が知られている。表面実装手法としては、例えば、基板の電極上に予めはんだバンプを形成し、このはんだを介して電子部品と基板を電気的に接合する等の手法がある。はんだバンプを形成する方法としては、はんだボール等を基板等の回路電極上に搭載する方法等が知られている。 Known methods for mounting electronic components on a board or the like include, for example, a surface mounting method in which the surface of a board is soldered, and a through-hole mounting method in which an electrode lead terminal is inserted into a hole in the board and soldered. There is. As a surface mounting method, for example, there is a method of forming solder bumps on the electrodes of the substrate in advance and electrically joining the electronic component and the substrate through the solder. As a method of forming a solder bump, a method of mounting a solder ball or the like on a circuit electrode of a substrate or the like is known.

一方、はんだボール等に使用されるはんだの表面は酸化されやすく、正常なはんだ接合を形成させるためには、はんだ表面を覆っている金属酸化物を除去する必要がある。金属酸化物を除去する方法としては、例えば、液状やペースト状のフラックス(融剤)を予めはんだに塗布する方法が知られている。 On the other hand, the surface of solder used for solder balls and the like is easily oxidized, and it is necessary to remove the metal oxide covering the solder surface in order to form a normal solder bond. As a method for removing metal oxides, for example, a method of applying a liquid or paste-like flux (flux) to solder in advance is known.

液状やペースト状のフラックスは、塗布量の調整が難しく、作業性に劣ると共に、フラックスの塗布量が少ないバンプでは、酸化物除去作用が弱いため、はんだ接合の不良を起こすことが問題であった。そこで、例えば、特許文献1では、前記問題を解決するために、ポリビニルアルコールに由来する構造を有する樹脂(A1)、もしくはポリビニルピロリドンに由来する構造を有する樹脂(A2)とフラックス剤(B)とを含む、フラックスフィルムを用いたフリップチップ接合方法が開示されている。 Liquid or paste-like flux is difficult to adjust the coating amount and is inferior in workability, and bumps with a small flux coating amount have a weak oxide removing action, which causes a problem of poor solder bonding. .. Therefore, for example, in Patent Document 1, in order to solve the above problem, a resin (A1) having a structure derived from polyvinyl alcohol, or a resin (A2) having a structure derived from polyvinylpyrrolidone and a flux agent (B) are used. A flip-chip bonding method using a flux film including the above is disclosed.

特開2014−168791号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-168791

しかしながら、上記先行技術文献に開示されたフラックスフィルムは基板との接着性が弱いため、作業時、又は、はんだリフロー中にフィルムと基板とがズレ、その結果はんだボールと基板上の電極とのズレが生じており、そのため、ポリイミドテープ等で別途固定するといった作業が必要になるといった問題が生じている。
そこで、本発明の課題は、基板との接着性が強く、リフロー中にはんだボールのズレが生じないフラックスシートを提供することである。
However, since the flux film disclosed in the prior art document has a weak adhesiveness to the substrate, the film and the substrate are displaced during work or during solder reflow, and as a result, the solder balls and the electrodes on the substrate are displaced. Therefore, there is a problem that it is necessary to separately fix it with a polyimide tape or the like.
Therefore, an object of the present invention is to provide a flux sheet that has strong adhesiveness to a substrate and does not cause displacement of solder balls during reflow.

発明者は、上記課題に対して鋭意検討した結果、ガラス転移点が40℃以下で、150℃の溶融粘度が500Pa・s(せん断速度10mm/分で測定)以下である樹脂(a1)を含有することで、基板との接着が良好であり、リフロー中にはんだボールのズレが生じないフラックスシートが得られることを見出して、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、以下のフラックスシート及びはんだ接合方法である。
As a result of diligent studies on the above problems, the inventor contains a resin (a1) having a glass transition point of 40 ° C. or lower and a melt viscosity of 150 ° C. of 500 Pa · s (measured at a shear rate of 10 mm / min) or less. By doing so, it was found that a flux sheet having good adhesion to the substrate and no displacement of the solder balls during reflow can be obtained, and the present invention has been completed.
That is, the present invention is the following flux sheet and solder bonding method.

上記課題を解決するための本発明のフラックスシートは、樹脂(A)を含むことを特徴とするフラックスシートであって、前記樹脂(A)が、ガラス転移点が40℃以下で、150℃の溶融粘度が500Pa・s(せん断速度10mm/分で測定)以下である樹脂(a1)を含有することを特徴とする。
この特徴によれば、基板との接着性及びはんだボールの保持力が強く、シートの平坦性が良好であるため、シート軟化後にはんだボールが真下に沈むことができ、はんだボールのズレが生じないという効果を発揮することができる。さらに、本発明のフラックスシートは、低温でもラミネートすることができ、またラミネートしなくても基板との接着性が良好であるという効果を生じる。
The flux sheet of the present invention for solving the above problems is a flux sheet containing a resin (A), wherein the resin (A) has a glass transition point of 40 ° C. or lower and 150 ° C. It is characterized by containing a resin (a1) having a melt viscosity of 500 Pa · s (measured at a shear rate of 10 mm / min) or less.
According to this feature, the adhesiveness to the substrate and the holding power of the solder balls are strong, and the flatness of the sheet is good. Therefore, the solder balls can sink directly under the sheet after softening, and the solder balls do not shift. It can exert the effect. Further, the flux sheet of the present invention can be laminated even at a low temperature, and even if it is not laminated, it has an effect that the adhesiveness to the substrate is good.

また、本発明のフラックスシートの一実施態様としては、前記樹脂(A)が、ガラス転移点が40℃以下で、150℃の溶融粘度が500Pa・s(せん断速度10mm/分で測定)以下である樹脂(a1)を35〜99質量%、ガラス転移点が前記樹脂(a1)より大きい樹脂(a2)を1〜65質量%含有することを特徴とする。
この特徴によれば、基板との接着性が良好であり、リフロー中にはんだボールのズレが生じないという効果を発揮できるとともに、フラックスシートの接着性やタック性を制御できるという効果により優れたリワーク性を発揮することができる。
Further, as one embodiment of the flux sheet of the present invention, the resin (A) has a glass transition point of 40 ° C. or lower and a melt viscosity of 150 ° C. of 500 Pa · s (measured at a shear rate of 10 mm / min) or less. It is characterized by containing 35 to 99% by mass of a certain resin (a1) and 1 to 65% by mass of a resin (a2) having a glass transition point larger than that of the resin (a1).
According to this feature, the adhesiveness to the substrate is good, the effect that the solder balls do not shift during reflow can be exhibited, and the adhesiveness and tackiness of the flux sheet can be controlled, which is an excellent rework. Can demonstrate sex.

また、本発明のフラックスシートの一実施態様としては、前記フラックスシートが、フラックス剤(B)を含有することを特徴とする。
この特徴によれば、はんだボールの濡れ性を向上させることができ、はんだリフロー時に、はんだボールと電極との位置ズレを補正することができるという効果(セルフアライメント効果)を発揮することができる。
Moreover, one embodiment of the flux sheet of the present invention is characterized in that the flux sheet contains a flux agent (B).
According to this feature, the wettability of the solder ball can be improved, and the effect (self-alignment effect) that the positional deviation between the solder ball and the electrode can be corrected at the time of solder reflow can be exhibited.

また、本発明のフラックスシートの一実施態様としては、前記フラックスシートは、実質的に(B)以外の低分子化合物を含有しないことを特徴とする。
この特徴によれば、はんだリフロー時における低分子化合物の気化等による基板汚染や、はんだの転がりによるズレを抑制することができるという効果を発揮することができる。
Moreover, one embodiment of the flux sheet of the present invention is characterized in that the flux sheet does not substantially contain a small molecule compound other than (B).
According to this feature, it is possible to exert the effect of suppressing substrate contamination due to vaporization of small molecule compounds during solder reflow and displacement due to solder rolling.

また、本発明のフラックスシートの一実施態様としては、前記樹脂(a1)が水溶性であることを特徴とする。
この特徴によれば、フラックスシートの作製時や実装時やはんだリフロー後、フラックスシートを洗浄する際に、水系の溶媒を用いることができる。これにより揮発性の高い有機溶媒を使用せずにフラックスシートを洗浄することが可能となるため、有機溶媒の揮発による環境負荷を低減することができるという効果を発揮することができる。
Moreover, one embodiment of the flux sheet of the present invention is characterized in that the resin (a1) is water-soluble.
According to this feature, an aqueous solvent can be used at the time of producing or mounting the flux sheet, after solder reflow, and when cleaning the flux sheet. As a result, the flux sheet can be washed without using a highly volatile organic solvent, so that the effect of reducing the environmental load due to the volatility of the organic solvent can be exhibited.

また、本発明のフラックスシートの一実施態様としては、前記樹脂(a1)がポリビニルアルコールの一部のヒドロキシ基(−OH)を、アルキレンオキサイド鎖が1つ又は複数連結した部分構造―(CH(R)CH(R)O)―R(nはアルキレンオキサイド鎖の繰り返し数(平均値)を表し、1.0以上である。R,R及びRは、互いに独立して水素原子又は有機基を示す。R,R及びRが複数ある場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。)に置換した変性ポリビニルアルコール、ポリアミド及びポリエステルから選択される1種以上を含むことを特徴とする。
この特徴によれば、基板との接着性が良好であり、リフロー中にはんだボールのズレが生じないという効果をより発揮することができる。
Further, as one embodiment of the flux sheet of the present invention, the resin (a1) has a partial structure in which a part of hydroxy groups (-OH) of polyvinyl alcohol are linked by one or more alkylene oxide chains- (CH (CH (CH). R 1 ) CH (R 2 ) O) n— R 3 (n represents the number of repetitions (average value) of the alkylene oxide chain and is 1.0 or more. R 1 , R 2 and R 3 are independent of each other. It indicates a hydrogen atom or an organic group. When there are a plurality of R 1 , R 2 and R 3 , they may be the same or different from each other.) It is selected from modified polyvinyl alcohol, polyamide and polyester. It is characterized by containing one or more kinds.
According to this feature, the adhesiveness to the substrate is good, and the effect that the solder balls do not shift during the reflow can be further exhibited.

また、本発明のフラックスシートの一実施態様としては、(a2)としてポリビニルアルコールを含有することを特徴とする。
この特徴によれば、接着性やタック性を制御して作業時の取り扱い性をよくし、リワーク性に優れ、また見かけの水溶性を向上させることができる。
Moreover, one embodiment of the flux sheet of the present invention is characterized by containing polyvinyl alcohol as (a2).
According to this feature, it is possible to control the adhesiveness and tackiness to improve the handleability during work, to have excellent reworkability, and to improve the apparent water solubility.

また、本発明のフラックスシートの一実施態様としては、前記フラックスシートにおいて、前記樹脂(A)の含有量が50質量%以上であること特徴とする。
この特徴によれば、はんだボール保持力と、良好な取り扱い性を両立させることができる。
Further, one embodiment of the flux sheet of the present invention is characterized in that the content of the resin (A) in the flux sheet is 50% by mass or more.
According to this feature, it is possible to achieve both a solder ball holding force and good handleability.

また、本発明のフラックスシートの一実施態様としては、前記フラックスシートの面積が30000mm以上であることを特徴とする。
この特徴によれば、はんだボールと電極との位置ズレがより大きく発生する大面積のウエハや基板に対して、位置ズレをより抑制することができるという効果を発揮することができる。
Further, one embodiment of the flux sheet of the present invention is characterized in that the area of the flux sheet is 30,000 mm 2 or more.
According to this feature, it is possible to exert an effect that the positional deviation can be further suppressed for a large-area wafer or substrate in which the positional deviation between the solder ball and the electrode is larger.

上記課題を解決するための本発明のはんだ接合方法は、前記フラックスシートを用いたはんだ接合方法であって、下記(1)〜(4)のステップを有することを特徴とする。
(1)電極を有する基板の電極を有する面に前記フラックスシートを配置するステップ
(2)前記フラックスシートの上に、はんだボールを配置するステップ
(3)前記フラックスシートが溶融或いは軟化する温度に加熱するステップ
(4)(3)と同時或いはその後、はんだの融点以上の温度に加熱するステップ
この特徴によれば、基板との接着性が強く、リフロー中にはんだボールのズレが生じないフラックスシートを用いることから、はんだ接合の不良等が生じないという効果を発揮することができる。
The solder joining method of the present invention for solving the above problems is a solder joining method using the flux sheet, and is characterized by having the following steps (1) to (4).
(1) Step of arranging the flux sheet on the surface of the substrate having an electrode having an electrode (2) Step of arranging a solder ball on the flux sheet (3) Heating to a temperature at which the flux sheet melts or softens Steps (4) Simultaneously with (3) or after that, heating to a temperature higher than the melting point of the solder According to this feature, a flux sheet that has strong adhesion to the substrate and does not cause displacement of the solder balls during reflow. Since it is used, it is possible to exert the effect that defects such as solder joints do not occur.

本発明によれば、基板との接着性が強く、リフロー中にはんだボールのズレが生じないフラックスシートを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a flux sheet that has strong adhesiveness to a substrate and does not cause displacement of solder balls during reflow.

本発明のはんだ接合方法を説明するための概略図であり、電極を備える基板の概略平面図である。It is a schematic diagram for demonstrating the solder joining method of this invention, and is the schematic plan view of the substrate provided with an electrode. 本発明のはんだ接合方法を説明するための概略図であり、電極を備える基板の概略断面図である。It is a schematic diagram for demonstrating the solder joining method of this invention, and is the schematic sectional view of the substrate provided with an electrode. 本発明のはんだ接合方法を説明するための概略図であり、工程(1)における、電極を備える基板の電極面側に、本発明のフラックスシートを配置する方法の一例を示した概略断面図である。It is a schematic diagram for demonstrating the solder bonding method of this invention, and is the schematic cross-sectional view which showed an example of the method of arranging the flux sheet of this invention on the electrode surface side of the substrate provided with an electrode in step (1). be. 本発明のはんだ接合方法を説明するための概略図であり、工程(2)における、はんだボールを本発明のフラックスシートを介して、基板の電極上に位置するように配置する方法の一例を示した概略断面図である。It is a schematic diagram for demonstrating the solder bonding method of this invention, and shows an example of the method of arranging a solder ball in a process (2) so that it may be located on the electrode of a substrate via the flux sheet of this invention. It is a schematic cross-sectional view. 本発明のはんだ接合方法を説明するための概略図であり、工程(3)における、はんだボールを、基板の電極と接合させた、はんだ接合基板の一例を示した概略断面図である。It is a schematic diagram for demonstrating the solder bonding method of this invention, and is the schematic sectional view which showed an example of the solder bonding substrate which bonded the solder ball with the electrode of the substrate in step (3). 本発明のはんだ接合方法を説明するための概略図であり、工程(4)終了後に、フラックスシートを除去した、はんだ接合基板の一例を示した概略断面図である。It is a schematic diagram for demonstrating the solder bonding method of this invention, and is the schematic cross-sectional view which showed an example of the solder bonding substrate which removed the flux sheet after the completion of step (4).

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

[フラックスシート]
本発明のフラックスシートは、樹脂(A)を含むフラックスシートであって、前記樹脂(A)が、ガラス転移点が40℃以下で、150℃の溶融粘度が500Pa・s(せん断速度10mm/分で測定)以下である樹脂(a1)を含有することを特徴とする。本発明において、「フラックスシート」とは、はんだ接合の形成のために用いられるシートであって、はんだ表面の酸化皮膜を除去するために用いるものである。具体的には、樹脂(A)としてフラックス作用を有する樹脂を含有する、もしくはフラックスシートがフラックス剤(B)を含有する、のうち少なくとも一方を満たすことで、フラックス効果を有するシート(フラックスシート)とすることができる。
[Flux sheet]
The flux sheet of the present invention is a flux sheet containing a resin (A), wherein the resin (A) has a glass transition point of 40 ° C. or lower and a melt viscosity of 150 ° C. of 500 Pa · s (shear velocity 10 mm / min). It is characterized by containing the following resin (a1). In the present invention, the "flux sheet" is a sheet used for forming a solder joint and is used for removing an oxide film on a solder surface. Specifically, a sheet having a flux effect (flux sheet) by satisfying at least one of the resin (A) containing a resin having a flux action or the flux sheet containing a flux agent (B). Can be.

<樹脂(A)>
本発明の樹脂(A)は、ガラス転移点が40℃以下で、150℃の溶融粘度が500Pa・s以下である樹脂(a1)を含有することを特徴とする。
ガラス転移点は、物質のガラス転移が起こる温度(ミクロブラウン運動が起こる温度)であり、一般的にガラス転移点未満の温度領域では、硬くガラス状の性質を示し、ガラス転移点より高い温度領域では、軟らかくゴム状や液体状の性質を示す。
上記樹脂(a1)のガラス転移点と接着性の関係について説明すると、アモルファス構造をもつ高分子シートでは、ガラス転移温度より低温で硬いガラス状態、高温で軟らかいゴム状態となる。そのため、ガラス転移温度が低い(室温付近、更には室温以下)樹脂を含むシートは、取り扱う温度領域で軟らかく、基板にシートを配置する際に、基板と界面での密着性が向上するため、シートの接着力が強くなるといえる。またガラス転移温度が低い樹脂を含むシートは、基板の反り発生や熱分解などの悪影響を及ぼす可能性の低い、比較的低温(60〜80℃程度)の領域でも、ボイドをかむことなくラミネートできるといえる。結果、ガラス転移点を40℃以下とすることで粘着付与剤等を添加することなく基板・はんだボールと接着性が良好なフラックスシートが得られる。
<Resin (A)>
The resin (A) of the present invention is characterized by containing a resin (a1) having a glass transition point of 40 ° C. or lower and a melt viscosity of 150 ° C. of 500 Pa · s or less.
The glass transition point is the temperature at which the glass transition of a substance occurs (the temperature at which the microbrown motion occurs). Generally, in the temperature range below the glass transition point, it exhibits hard and glassy properties and is higher than the glass transition point. Then, it exhibits soft, rubber-like and liquid-like properties.
Explaining the relationship between the glass transition point of the resin (a1) and the adhesiveness, the polymer sheet having an amorphous structure is in a hard glass state at a temperature lower than the glass transition temperature and in a soft rubber state at a high temperature. Therefore, a sheet containing a resin having a low glass transition temperature (near room temperature, further below room temperature) is soft in the temperature range to be handled, and when the sheet is placed on the substrate, the adhesion at the interface with the substrate is improved. It can be said that the adhesive strength of the glass becomes stronger. In addition, a sheet containing a resin having a low glass transition temperature can be laminated without biting voids even in a relatively low temperature (about 60 to 80 ° C.) region where there is little possibility of adverse effects such as warpage of the substrate and thermal decomposition. It can be said that. As a result, by setting the glass transition point to 40 ° C. or lower, a flux sheet having good adhesiveness to the substrate / solder balls can be obtained without adding a tackifier or the like.

本発明において、樹脂(a1)のガラス転移点は40℃以下であり、上限値としては、好ましくは30℃以下であり、より好ましくは20℃以下であり、更に好ましくは10℃以下であり、特に好ましくは0℃以下であり、最も好ましくは−20℃以下である。樹脂(a1)のガラス転移点を40℃以下とすることで、樹脂(a1)を含有する樹脂(A)が軟らかくなり、基板とフラックスシートとの接着性が向上する。また、はんだボールが自重で沈み込むことができ、はんだボールの位置ずれを抑制することができる。
本発明において、ガラス転移点は、示差走査熱量測定装置(X−DSC7000 セイコーインスツル株式会社製)を用いて測定することができる。
In the present invention, the glass transition point of the resin (a1) is 40 ° C. or lower, and the upper limit value is preferably 30 ° C. or lower, more preferably 20 ° C. or lower, still more preferably 10 ° C. or lower. It is particularly preferably 0 ° C. or lower, and most preferably −20 ° C. or lower. By setting the glass transition point of the resin (a1) to 40 ° C. or lower, the resin (A) containing the resin (a1) becomes soft and the adhesiveness between the substrate and the flux sheet is improved. In addition, the solder balls can sink under their own weight, and the displacement of the solder balls can be suppressed.
In the present invention, the glass transition point can be measured using a differential scanning calorimetry device (manufactured by X-DSC7000 Seiko Instruments Inc.).

更に、本発明において、樹脂(a1)は150℃の溶融粘度が500Pa・s以下であることを特徴とする。上限値としては、好ましくは、400Pa・s以下であり、より好ましくは350Pa・s以下であり、更に好ましくは200Pa・s以下である。樹脂(a1)の150℃の溶融粘度を500Pa・s以下とすることで、はんだリフロー時に、はんだボールが自重で沈み、基板の電極上に接する(シートを貫通すること)ことができ、はんだの融点以上に昇温されると、ボールと電極は濡れてはんだ接合を形成でき、はんだボールの位置ずれを抑制することができる。
本発明において、150℃の溶融粘度はせん断速度10mm/minの条件で、キャピラリーレオメーター(キャピログラフID 株式会社東洋精機製作所製)により測定することができる。
Further, in the present invention, the resin (a1) is characterized in that the melt viscosity at 150 ° C. is 500 Pa · s or less. The upper limit value is preferably 400 Pa · s or less, more preferably 350 Pa · s or less, and further preferably 200 Pa · s or less. By setting the melt viscosity of the resin (a1) at 150 ° C. to 500 Pa · s or less, the solder balls can sink under their own weight during solder reflow and can come into contact with the electrodes of the substrate (penetrate the sheet). When the temperature rises above the melting point, the balls and the electrodes get wet and a solder joint can be formed, and the displacement of the solder balls can be suppressed.
In the present invention, the melt viscosity at 150 ° C. can be measured by a capillary rheometer (Capillary Graph ID Co., Ltd., manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.) under the condition of a shear rate of 10 mm / min.

ガラス転移点が40℃以下で、150℃の溶融粘度が500Pa・s以下である樹脂(a1)としては特に限定されないが、熱可塑性樹脂であることが好ましく、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリ塩化ビニル、エチレン−環状オレフィン共重合体、ポリスチレン系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸系樹脂、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリ(メタ)アクリルアミド系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレンマレイン酸樹脂、カルボキシル基末端ブタジエンニトリル共重合体(CTBN)等の付加系樹脂、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリカーボネート系樹脂、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルホン等の縮合系樹脂、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリエーテル系樹脂、ポリエチレンイミン等のポリアルキレンイミン系樹脂、ポリシクロオレフィン等の開環重合系樹脂が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよいし、2種以上混合して用いることもできる。これらのなかでも、変性ポリビニルアルコール、ポリアミド及びポリエステルから選択される1種以上を含むことが好ましい。 The resin (a1) having a glass transition point of 40 ° C. or lower and a melt viscosity of 150 ° C. of 500 Pa · s or less is not particularly limited, but is preferably a thermoplastic resin, for example, polyethylene, polypropylene, polybutylene, or poly. Vinyl chloride, ethylene-cyclic olefin copolymer, polystyrene resin, poly (meth) acrylic acid resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol resin such as modified polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, poly (meth) acrylamide resin, polybutadiene , Polyisoprene, styrene maleic acid resin, addition resin such as carboxyl group terminal butadiene nitrile copolymer (CTBN), condensation resin such as polyester, polyamide, polyimide, polyurethane, polycarbonate resin, polyether ketone, polyether sulfone, etc. , Polyether-based resins such as polyethylene glycol and polypropylene glycol, polyalkyleneimine-based resins such as polyethyleneimine, and ring-opening polymerization-based resins such as polycycloolefin. One of these may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used. Among these, it is preferable to contain at least one selected from modified polyvinyl alcohol, polyamide and polyester.

またポリビニルアルコールは、水溶性の観点から、ケン化度が75〜90mol%であることが好ましく、85〜90mol%であることがより好ましい。ポリビニルアルコールのケン化度を上記範囲内とすることで、結晶化して水に溶けにくくなることや親水性基が少なくなり水に溶けにくくなることを抑制することができる。一方、親水性基変性したポリビニルアルコールの場合は、より低いケン化度でも水に溶ける。後述の変性ポリビニルアルコールの場合は、ヒドロキシ基以外の親水性基をグラフト化あるいは主鎖中にブロック化などすることで溶解性を改善できるので、ケン化度は30〜60mol%であることが好ましく、40〜50mol%であることが更に好ましい。親水性基変性に用いる親水性基としては、例えば、エチレングリコール等のアルキレンオキサイド化合物等が好ましい。 Further, from the viewpoint of water solubility, polyvinyl alcohol preferably has a saponification degree of 75 to 90 mol%, more preferably 85 to 90 mol%. By setting the degree of saponification of polyvinyl alcohol within the above range, it is possible to prevent crystallization from becoming difficult to dissolve in water and suppressing hydrophilic groups from becoming difficult to dissolve in water. On the other hand, in the case of polyvinyl alcohol modified with a hydrophilic group, it is soluble in water even at a lower degree of saponification. In the case of the modified polyvinyl alcohol described later, the solubility can be improved by grafting a hydrophilic group other than the hydroxy group or blocking it in the main chain, so the degree of saponification is preferably 30 to 60 mol%. , 40 to 50 mol% is more preferable. As the hydrophilic group used for the hydrophilic group modification, for example, an alkylene oxide compound such as ethylene glycol is preferable.

これらの樹脂において、ヒドロキシ基またはカルボキシル基、アミノ基を含む樹脂は、樹脂自体がフラックス作用を有するため、フラックス剤を配合しなくても、フラックスシートとして用いることができる。具体的には、ポリ(メタ)アクリル酸系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアミド、ポリエステル、カルボキシル基末端ブタジエンニトリル共重合体(CTBN)、ポリウレタンなどの樹脂が、溶融状態でフラックス活性を示すことができる。 Among these resins, the resin containing a hydroxy group, a carboxyl group, or an amino group can be used as a flux sheet without adding a flux agent because the resin itself has a flux action. Specifically, resins such as poly (meth) acrylic acid-based resin, polyvinyl alcohol-based resin, polyamide, polyester, carboxyl group-terminated butadiene nitrile copolymer (CTBN), and polyurethane may exhibit flux activity in a molten state. can.

本発明において、樹脂(a1)の重量平均分子量は、好ましくは1×10〜2.0×10である。下限値としては、好ましくは3.0×10以上であり、より好ましくは8.0×10以上である。上限値としては、好ましくは1.5×10以下であり、より好ましく1.0×10以下である。更に好ましくは5.0×10以下である。樹脂(a1)の重量平均分子量を前記範囲内とすることで、シートの成形性が良好となり、はんだ接合後のシートの溶解除去やボールのシート貫通性が良好となる。In the present invention, the weight average molecular weight of the resin (a1) is preferably 1 × 10 3 ~2.0 × 10 5 . The lower limit is preferably at 3.0 × 10 3 or more, more preferably 8.0 × 10 3 or more. The upper limit is preferably not 1.5 × 10 5 or less, more preferably 1.0 × 10 5 or less. Still more preferably 5.0 × 10 4 or less. By setting the weight average molecular weight of the resin (a1) within the above range, the moldability of the sheet is improved, the dissolution and removal of the sheet after solder joining, and the sheet penetration of the ball are improved.

樹脂(a1)の分子量分布(Mw/Mn)は、好ましくは1〜30である。下限値としては、好ましくは1.5以上であり、より好ましくは1.8以上である。上限値としては、好ましくは15以下であり、より好ましくは8以下である。樹脂(a1)の上記分子量は、テトラヒドロフラン(THF)を溶離液に用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により測定し、樹脂(a1)の分子量はポリスチレン換算値である。 The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the resin (a1) is preferably 1 to 30. The lower limit is preferably 1.5 or more, and more preferably 1.8 or more. The upper limit is preferably 15 or less, and more preferably 8 or less. The molecular weight of the resin (a1) is measured by a gel permeation chromatography method (GPC method) using tetrahydrofuran (THF) as an eluent, and the molecular weight of the resin (a1) is a polystyrene-equivalent value.

本発明の樹脂(a1)は、好ましくは水溶性である。水溶性とは、25℃、1気圧の条件下において、水100質量部に対して、樹脂(a1)が5質量部以上溶解することを意味する。下限値としては、好ましくは、10質量部以上溶解し、より好ましくは20質量部以上であり、更に好ましくは30質量部以上である。
樹脂(a1)が、水溶性であることで、フラックスシートを製造する際に、水系の溶媒を用いて製造することができる。また、フラックスシートを洗浄する際に、水系の溶媒を用いることができ、有機溶媒の揮発による環境負荷を低減することができるという効果を発揮することができる。
The resin (a1) of the present invention is preferably water-soluble. Water-soluble means that the resin (a1) dissolves in an amount of 5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of water under the conditions of 25 ° C. and 1 atm. The lower limit is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 20 parts by mass or more, and further preferably 30 parts by mass or more.
Since the resin (a1) is water-soluble, it can be produced by using an aqueous solvent when producing the flux sheet. Further, when cleaning the flux sheet, an aqueous solvent can be used, and the effect of reducing the environmental load due to the volatilization of the organic solvent can be exhibited.

上記樹脂(a1)としては、例えば、ポリビニルアルコールの一部のヒドロキシ基(−OH)を、アルキレンオキサイド鎖が1つ又は複数連結した部分構造−(CH(R)CH(R)O)−R)に置換した変性ポリビニルアルコールが挙げられる。The resin (a1) includes, for example, a partial structure in which one or more hydroxy groups (-OH) of polyvinyl alcohol are linked by one or a plurality of alkylene oxide chains- (CH (R 1 ) CH (R 2 ) O). Examples thereof include modified polyvinyl alcohol substituted with n −R 3).

nはアルキレンオキサイド鎖の繰り返し数(平均値)を表し、好ましくは1.0以上である。nの下限値としては、好ましくは1.0以上であり、より好ましくは2.0以上であり、更に好ましくは5.0以上であり、特に好ましくは6.0以上である。上限値としては、好ましくは300.0以下であり、より好ましくは200.0以下であり、更に好ましくは65.0以下である。
nを上記範囲内とすることで、接着性に優れたフラックスシートを得ることができる。
n represents the number of repetitions (average value) of the alkylene oxide chain, and is preferably 1.0 or more. The lower limit of n is preferably 1.0 or more, more preferably 2.0 or more, still more preferably 5.0 or more, and particularly preferably 6.0 or more. The upper limit is preferably 300.0 or less, more preferably 200.0 or less, and further preferably 65.0 or less.
By setting n within the above range, a flux sheet having excellent adhesiveness can be obtained.

、Rとしては、それぞれ水素原子又は有機基が好ましく、有機基としては炭素原子数1〜10のアルキル基が好ましい。炭素原子数1〜10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。As R 1 and R 2 , hydrogen atoms or organic groups are preferable, respectively, and as the organic group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group and the like.

としては水素原子又は有機基が好ましく、有機基としては炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10アシル基、炭素原子数1〜10のアルキルエステル基、炭素原子数1〜10のアルキルアミド基、スルホン酸塩基が好ましい。
炭素原子数1〜10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
炭素原子数1〜10アシル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル基、i−プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、ヘキシル基カルボニル等が挙げられる。
炭素原子数1〜10のアルキルエステル基としては、メチルオキシカルボニルメチレン基、メチルカルボニルオキシメチレン基、エチルオキシカルボニルエチレン基、エチルカルボニルオキシエチレン基等が挙げられる。
炭素原子数1〜10のアルキルアミド基としては、N,N’−ジメチルアミドアルキレン基、N,N’−ジエチルアミドアルキレン基等が挙げられる。
The R 3 is preferably a hydrogen atom or an organic group, and the organic group is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl ester group having 1 to 10 carbon atoms, and 1 carbon atom. 10 to 10 alkylamide groups and sulfonic acid bases are preferable.
Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group and the like.
Examples of the acyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methylcarbonyl group, an ethylcarbonyl group, an n-propylcarbonyl group, an i-propylcarbonyl group, a butylcarbonyl group, a pentylcarbonyl group, and a hexyl group carbonyl.
Examples of the alkyl ester group having 1 to 10 carbon atoms include a methyloxycarbonylmethylene group, a methylcarbonyloxymethylene group, an ethyloxycarbonylethylene group, an ethylcarbonyloxyethylene group and the like.
Examples of the alkylamide group having 1 to 10 carbon atoms include an N, N'-dimethylamide alkylene group and an N, N'-diethylamide alkylene group.

前記変性ポリビニルアルコールとして、具体的には、商品名「ゴーセネックス(登録商標)LW−100(日本合成化学工業社製;ガラス転移点−0.5℃、150℃の溶融粘度:63Pa・s(せん断速度10mm/分)、ケン化度43.1mol%」)が挙げられる。
前記ポリエステルとして、具体的には、商品名「ペスレジンA−680(高松油脂株式会社製;ガラス転移点30℃、150℃の溶融粘度:29Pa・s(せん断速度10mm/分))、前記ポリアミドとして、具体的には、商品名「AQナイロン T−70(東レ株式会社製;ガラス転移点−46℃、150℃の溶融粘度:17Pa・s(せん断速度10mm/分))が挙げられる。
Specifically, the modified polyvinyl alcohol has a trade name of "Gosenex (registered trademark) LW-100 (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd .; glass transition point -0.5 ° C., melt viscosity at 150 ° C.): 63 Pa · s (shear). The speed is 10 mm / min) and the degree of saponification is 43.1 mol% ”).
Specifically, as the polyester, the trade name "Pesresin A-680 (manufactured by Takamatsu Oil & Fat Co., Ltd .; melt viscosity at glass transition point 30 ° C. and 150 ° C.: 29 Pa · s (shear rate 10 mm / min)), as the polyamide. Specifically, the trade name "AQ Nylon T-70 (manufactured by Toray Co., Ltd .; glass transition point -46 ° C., melt viscosity at 150 ° C.: 17 Pa · s (shear rate 10 mm / min)) can be mentioned.

本発明の樹脂(A)は、上記樹脂(a1)を35質量%以上含有することが好ましい。また、本発明の樹脂(A)は、上記樹脂(a1)に加えて、その他の樹脂を含有することも可能である。その他の樹脂としては、ガラス転移点が前記樹脂(a1)より高い樹脂(a2)を含有することが好ましい。
樹脂(a2)としては、ガラス転移点が前記樹脂(a1)より高い樹脂であれば、限定されないが、例えば、上記樹脂(a1)において例示した熱可塑性樹脂を用いることができる。更に、上記熱可塑性樹脂に加えて、熱硬化性樹脂等も含有することができるが、洗浄性の観点からは熱硬化性樹脂は45質量%以下であることが好ましい。熱硬化性樹脂の含有量を60質量%以下とすることで、熱硬化性樹脂が組成物中において島相を形成することができ、良好な洗浄性を得ることができるため好ましい。
樹脂(a2)のガラス転移点としては、40℃より高いことが好ましい。また、下限値としては、より好ましくは50℃以上であり、更に好ましくは60℃以上である。
The resin (A) of the present invention preferably contains the above resin (a1) in an amount of 35% by mass or more. Further, the resin (A) of the present invention may contain other resins in addition to the above resin (a1). As the other resin, it is preferable to contain a resin (a2) having a glass transition point higher than that of the resin (a1).
The resin (a2) is not limited as long as it has a glass transition point higher than that of the resin (a1), but for example, the thermoplastic resin exemplified in the resin (a1) can be used. Further, in addition to the above-mentioned thermoplastic resin, a thermosetting resin or the like can be contained, but from the viewpoint of detergency, the thermosetting resin is preferably 45% by mass or less. When the content of the thermosetting resin is 60% by mass or less, the thermosetting resin can form an island phase in the composition, and good detergency can be obtained, which is preferable.
The glass transition point of the resin (a2) is preferably higher than 40 ° C. The lower limit is more preferably 50 ° C. or higher, and even more preferably 60 ° C. or higher.

ガラス転移点が前記樹脂(a1)より高い樹脂(a2)としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリ塩化ビニル、エチレン−環状オレフィン共重合体、ポリスチレン系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリ(メタ)アクリルアミド系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレンスチレンマレイン酸樹脂等の付加系樹脂、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリカーボネート系樹脂、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルホン等の縮合系樹脂、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリエーテル系樹脂、ポリエチレンイミン等のポリアルキレンイミン系樹脂、ポリシクロオレフィン等の開環重合系樹脂が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよいし、2種以上混合して用いることもできる。 Examples of the resin (a2) having a glass transition point higher than that of the resin (a1) include polyethylene, polypropylene, polybutylene, polyvinyl chloride, ethylene-cyclic olefin copolymer, polystyrene-based resin, and poly (meth) acrylic acid-based resin. , Polypoly alcohol resin, polyvinyl acetate, poly (meth) acrylamide resin, polybutadiene, polyisoprenestyrene maleic acid resin and other additive resins, polyester, polyamide, polyimide, polyurethane, polycarbonate resin, polyether ketone, polyether Examples thereof include condensation resin such as sulfone, polyether resin such as polyethylene glycol and polypropylene glycol, polyalkyleneimine resin such as polyethyleneimine, and ring-opening polymerization resin such as polycycloolefin. One of these may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.

本発明の樹脂(A)は、樹脂(a2)を含有する場合は、好ましくは樹脂(a1)を35〜99質量%、樹脂(a2)を1〜65質量%含有する。
樹脂(a1)の含有量は、下限値としては、好ましくは60質量%以上であり、より好ましくは65質量%以上であり、更に好ましくは、70質量%以上である。上限値としては、95質量%以下であり、より好ましくは、90質量%以下である。
When the resin (A) of the present invention contains the resin (a2), it preferably contains 35 to 99% by mass of the resin (a1) and 1 to 65% by mass of the resin (a2).
The lower limit of the content of the resin (a1) is preferably 60% by mass or more, more preferably 65% by mass or more, and further preferably 70% by mass or more. The upper limit value is 95% by mass or less, more preferably 90% by mass or less.

樹脂(a2)の含有量は、下限値としては、好ましくは5質量%以上であり、より好ましくは10質量%以上である。上限値としては、40質量%以下であり、より好ましくは、35質量%以下であり、更に好ましくは30質量%以下である。
発明の樹脂(A)は、樹脂(a1)に加えて、樹脂(a2)を加えることで、基板等に対する粘着力を制御することができる。また配置されたはんだボールの位置を簡単に補正することができ、リワーク性が向上する。更に、シート自体の柔軟性や取扱い性に優れる。また、樹脂(a2)の含有量を上記範囲内とすることで、水系の溶媒で洗浄することが可能となる。
The content of the resin (a2) is preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more as the lower limit value. The upper limit value is 40% by mass or less, more preferably 35% by mass or less, and further preferably 30% by mass or less.
The resin (A) of the present invention can control the adhesive force to a substrate or the like by adding the resin (a2) in addition to the resin (a1). In addition, the position of the arranged solder balls can be easily corrected, and the reworkability is improved. Further, the sheet itself is excellent in flexibility and handleability. Further, by setting the content of the resin (a2) within the above range, it becomes possible to wash with an aqueous solvent.

樹脂(a1)と樹脂(a2)との相容性が悪いときには、相容化剤・改質剤・分散剤を用いて相容性を向上させることができる。相容化剤・改質剤・分散剤としては、樹脂(a1)及び樹脂(a2)と親和性の高いセグメントが、それぞれ1ヶ所又は複数個所で化学結合したブロック(共)重合体やグラフト(共)重合体などを用いればよい。 When the compatibility between the resin (a1) and the resin (a2) is poor, the compatibility can be improved by using a compatibility agent, a modifier, and a dispersant. As the compatibilizer / modifier / dispersant, a block (co) polymer or graft (co) polymer or graft in which the resin (a1) and the segment having a high affinity with the resin (a2) are chemically bonded at one place or a plurality of places, respectively. Co) A polymer or the like may be used.

前記変性ポリビニルアルコールは、分子中にポリビニルアルコール鎖及び(ポリ)アルキレンオキサイド鎖をもつことから、それぞれポリビニルアルコール及びポリアルキレンオキサイドなどとの、相容化剤・改質剤・分散剤としての機能を発現する。また、前記変性ポリビニルアルコールとポリビニルアルコールとの混合には、相容化剤・改質剤・分散剤として、好ましくはポリアルキレンオキサイド、カルボキシルメチルセルロース、カルボキシルメチルセルロースのナトリウム塩、カルボキシルメチルセルロースのカリウム塩などを用いることができる。 Since the modified polyvinyl alcohol has a polyvinyl alcohol chain and a (poly) alkylene oxide chain in the molecule, it functions as a compatibilizer, a modifier, and a dispersant with polyvinyl alcohol, polyalkylene oxide, and the like, respectively. Express. Further, in the mixing of the modified polyvinyl alcohol and polyvinyl alcohol, polyalkylene oxide, carboxylmethyl cellulose, sodium salt of carboxylmethyl cellulose, potassium salt of carboxylmethyl cellulose and the like are preferably used as compatibilizers, modifiers and dispersants. Can be used.

相容化剤・改質剤・分散剤の配合量は特に制限はないが、相容化の効果や低分子量成分の低減化を考慮して、樹脂(a1)と樹脂(a2)との合計100質量部に対して、下限値としては、好ましくは0.1質量部以上であり、より好ましくは0.2質量部以上であり、更に好ましくは0.5質量部以上である。上限値としては、好ましくは15質量部以下であり、より好ましくは10質量部以下であり、更に好ましくは5質量部以下である。 The blending amount of the compatibilizer, modifier, and dispersant is not particularly limited, but the total of the resin (a1) and the resin (a2) is taken into consideration in consideration of the effect of compatibilization and the reduction of low molecular weight components. The lower limit is preferably 0.1 part by mass or more, more preferably 0.2 part by mass or more, and further preferably 0.5 part by mass or more with respect to 100 parts by mass. The upper limit is preferably 15 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less, and further preferably 5 parts by mass or less.

<フラックス剤(B)>
本発明のフラックスシートは、樹脂(A)に加えて、例えば、フラックス剤(B)を含有させてもよい。フラックス剤を含有させることで、より強いフラックス作用を発現或いは向上させ、はんだ接合の形成性を良好にすると共に、電気伝導性を向上させることができる。また、はんだの濡れ性を向上させることができ、はんだリフロー時に、はんだボールと電極との位置ズレを補正することができるという効果(セルフアライメント効果)をより発揮することができる。
フラックス剤(B)は、はんだ表面にある高融点の金属酸化物を取り除くことができる成分であれば特に限定されず、酸性物質、塩基性物質又はアルコール等が好ましく用いられる。また常温で活性を有するもの、加熱により活性するもの、いずれも用いることができる。
<Flux agent (B)>
The flux sheet of the present invention may contain, for example, a flux agent (B) in addition to the resin (A). By containing a flux agent, a stronger flux action can be exhibited or improved, the formability of the solder joint can be improved, and the electrical conductivity can be improved. In addition, the wettability of the solder can be improved, and the effect (self-alignment effect) of being able to correct the positional deviation between the solder balls and the electrodes during solder reflow can be further exhibited.
The flux agent (B) is not particularly limited as long as it is a component capable of removing a metal oxide having a high melting point on the surface of the solder, and an acidic substance, a basic substance, an alcohol or the like is preferably used. Further, those which are active at room temperature and those which are activated by heating can be used.

フラックス剤(B)として、具体的には、例えば、アジピン酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、ペンタン酸、サリチル酸、安息香酸、m−ジヒドロキシ安息香酸、セバシン酸等のカルボン酸類、ドデシルアミン等のアミン類、アミンのハロゲン化水素酸塩、ロジン樹脂等が挙げられる。またフラックス剤は単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。本発明のフラックスシート中に含まれるフラックス剤(B)としては、はんだ粒子の酸化皮膜の除去性、シートの流動性、はんだ接合後の樹脂の溶解除去性、はんだとの濡れ性向上の観点から、アジピン酸、サリチル酸、ドデシルアミン、安息香酸、m−ジヒドロキシ安息香酸、セバシン酸が好ましく、アジピン酸、サリチル酸、ドデシルアミンがより好ましい。 Specific examples of the flux agent (B) include adipic acid, malonic acid, succinic acid, maleic acid, pentanoic acid, salicylic acid, benzoic acid, m-dihydroxybenzoic acid, carboxylic acids such as sebacic acid, dodecylamine and the like. Examples of amines, hydrogen halides of amines, rosin resins and the like. Further, the flux agent may be used alone or in combination of two or more. The flux agent (B) contained in the flux sheet of the present invention is used from the viewpoints of removing the oxide film of the solder particles, the fluidity of the sheet, the dissolution and removal property of the resin after solder bonding, and the improvement of the wettability with the solder. , Adipic acid, salicylic acid, dodecylamine, benzoic acid, m-dihydroxybenzoic acid and sebacic acid are preferable, and adipic acid, salicylic acid and dodecylamine are more preferable.

フラックス剤(B)の含有量は、はんだボールの数、大きさ(表面積)、表面の酸化皮膜の厚さ、及びフラックスシートの厚さ等により適宜設定することができるが、樹脂(A)100質量部に対して、10質量部以下であることが好ましい。また、上限値としては、より好ましくは8質量部以下であり、更に好ましくは7質量部以下であり、特に好ましくは6質量部以下である。一方、下限値としては、好ましくは1質量部以上であり、より好ましくは3質量部以上である。
フラックス剤(B)の含有量を上記範囲内とすることで、フラックス剤と基板との接着性を抑制せずに、はんだ表面の酸化皮膜を充分に除去することができる。更に基板中にフラックス剤が残留することを抑制することで高温高湿での絶縁抵抗の低下抑制や、金属の腐食やマイグレーションを防ぐことができる。
The content of the flux agent (B) can be appropriately set depending on the number and size (surface area) of the solder balls, the thickness of the oxide film on the surface, the thickness of the flux sheet, and the like, but the resin (A) 100 It is preferably 10 parts by mass or less with respect to the mass part. The upper limit is more preferably 8 parts by mass or less, further preferably 7 parts by mass or less, and particularly preferably 6 parts by mass or less. On the other hand, the lower limit value is preferably 1 part by mass or more, and more preferably 3 parts by mass or more.
By setting the content of the flux agent (B) within the above range, the oxide film on the solder surface can be sufficiently removed without suppressing the adhesiveness between the flux agent and the substrate. Further, by suppressing the residual flux agent in the substrate, it is possible to suppress a decrease in insulation resistance at high temperature and high humidity, and to prevent metal corrosion and migration.

<その他添加剤>
本発明のフラックスシートは、上記樹脂(A)及びフラックス剤(B)に加えて、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば、一般的なフラックスに含まれる添加剤を含有してもよい。添加剤としては、チクソトロピー性付与剤やフラックス活性補助剤、消泡剤などが挙げられる。
チクソトロピー性付与剤としては、m−キシリレンビスステアリン酸アミドなどの脂肪酸アミド、カスターワックス(硬化ひまし油)などのポリオレフィン系ワックス、N−ブチル−N'−ステアリル尿素などの置換尿素ワックス、ポリエチレングリコール、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースなどの高分子化合物、シリカ粒子、カオリン粒子などの無機粒子、などが挙げられる。
チクソトロピー性付与剤は1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Other additives>
In addition to the resin (A) and the flux agent (B), the flux sheet of the present invention may contain, for example, an additive contained in a general flux as long as the effect of the present invention is not impaired. Examples of the additive include a thixotropy-imparting agent, a flux activation aid, and an antifoaming agent.
Examples of the thixotropic property-imparting agent include fatty acid amides such as m-xylylene bisstearic acid amide, polyolefin waxes such as caster wax (hardened castor oil), substituted urea waxes such as N-butyl-N'-stearyl urea, and polyethylene glycol. Examples thereof include high molecular compounds such as methyl cellulose, ethyl cellulose and hydroxyethyl cellulose, and inorganic particles such as silica particles and kaolin particles.
The thixotropy-imparting agent may be used alone or in combination of two or more.

本発明のフラックスにおいてチクソトロピー性付与剤を使用する場合、その含有量は、重合体(A)100質量部に対して、好ましくは0.1〜20質量部である。下限値としては、好ましくは0.2質量部以上であり、より好ましくは0.5質量部以上である。上限値としては、好ましくは15質量部以下であり、より好ましくは10質量部以下である。チクソトロピー性付与剤の含有量を前記範囲とすることにより、はんだボールや基板との接着力を調整することができる。 When a thixotropy-imparting agent is used in the flux of the present invention, its content is preferably 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer (A). The lower limit is preferably 0.2 parts by mass or more, and more preferably 0.5 parts by mass or more. The upper limit is preferably 15 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass or less. By setting the content of the thixotropy-imparting agent within the above range, the adhesive force with the solder ball or the substrate can be adjusted.

フラックス活性補助剤としては、例えば、ジエチルアミン臭化水素酸塩、シクロヘキシルアミン臭化水素酸塩等のアミンのハロゲン化水素酸塩、ステアリン酸等の有機酸類、トリブチルアミン等の有機アミン類、トランス−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール等の有機ハロゲン化物等の活性剤等が挙げられる。
消泡剤としては、例えば、ラウリルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコール、エイコサノール、ドコサノール等のアルコール、ポリエチレンワックス、パラフィンワックス、白油などの炭化水素系化合物、カルボン酸(例えば、パルミチン酸、オレイン酸、ステアリン酸など)とアルコール(例えば、メタノール、エタノール、オクタノールなど)と縮合により得られる脂肪酸エステル類、牛脂、大豆油、アマニ油、などの天然物油脂、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサンなどのシロキサン類などが挙げられる。また、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤等の親油性の高い界面活性剤も用いることができる。
Examples of the flux activation aid include hydrogen halides of amines such as diethylamine hydrobromide and cyclohexylamine hydrobromide, organic acids such as stearic acid, organic amines such as tributylamine, and trans-. Examples thereof include activators such as organic halides such as 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol.
Examples of the defoaming agent include alcohols such as lauryl alcohol, cetyl alcohol, stearic alcohol, eikosanol and docosanol, hydrocarbon compounds such as polyethylene wax, paraffin wax and white oil, and carboxylic acids (for example, palmitic acid and oleic acid). Fatty acid esters obtained by condensing with alcohol (eg, methanol, ethanol, octanol, etc.), natural fats and oils such as beef fat, soybean oil, flaxseed oil, and siloxanes such as polydimethylsiloxane and polymethylphenylsiloxane. Kind and so on. Further, a highly lipophilic surfactant such as a cationic surfactant, an anionic surfactant, or a nonionic surfactant can also be used.

更に、本発明のフラックスシートは、実質的に(B)以外の低分子化合物を含有しないことが好ましい。(B)以外の低分子化合物としては、例えば分子量が1000以下のものであり、代表的なものとしてはグリセリン、フタル酸エステル、アジピン酸エステル、トリメリット酸エステル等の可塑剤を挙げることができる。
実質的に(B)以外の低分子化合物を含有しないことで、はんだリフロー時における低分子化合物の気化等による基板汚染や、突発的な気化によるはんだの転がりによるズレを抑制することができるという効果を発揮することができる。
実質的に含有しないとは、フラックスシートの構成成分として、意図的に(B)以外の低分子化合物を添加しないことを意味する。フラックスシートにおいて、シート作成工程上必要となる溶媒や(A)樹脂の原料モノマー由来の低分子化合物などが残存することがあるが、その場合、例えば、含有量として10質量%未満であり、上限値としては、好ましくは5質量%未満であり、より好ましくは3質量%未満であり、更に好ましくは2質量%未満であり、特に好ましくは1質量%未満である。
Further, it is preferable that the flux sheet of the present invention does not substantially contain a small molecule compound other than (B). Examples of the low molecular weight compound other than (B) include those having a molecular weight of 1000 or less, and typical examples thereof include plasticizers such as glycerin, phthalate ester, adipate ester, and trimellitic acid ester. ..
By substantially not containing a small molecule compound other than (B), it is possible to suppress substrate contamination due to vaporization of the small molecule compound during solder reflow and displacement due to rolling of the solder due to sudden vaporization. Can be demonstrated.
Substantially not contained means that a small molecule compound other than (B) is not intentionally added as a constituent component of the flux sheet. In the flux sheet, a solvent required for the sheet preparation process and a small molecule compound derived from the raw material monomer of the resin (A) may remain. In that case, for example, the content is less than 10% by mass, which is the upper limit. The value is preferably less than 5% by mass, more preferably less than 3% by mass, still more preferably less than 2% by mass, and particularly preferably less than 1% by mass.

<フラックスシートの特徴>
本発明のフラックスシートは、樹脂(A)が、ガラス転移点が40℃以下で、150℃の溶融粘度が500Pa・s(せん断速度10mm/分で測定)以下である樹脂(a1)を含有することを特徴としているため、基板との接着性が強く、リフロー中にはんだボールのズレが生じないという効果を有する。更に、150℃の溶融粘度が500Pa・s以下である樹脂(a1)を含有することから、はんだリフロー時に、はんだボールが自重で沈み込むことができ、はんだボールの位置ずれを抑制することができる。そのため、はんだ接合性に優れた効果を発揮することができる。
<Characteristics of flux sheet>
The flux sheet of the present invention contains the resin (A) in which the resin (A) has a glass transition point of 40 ° C. or lower and a melt viscosity of 150 ° C. of 500 Pa · s (measured at a shear rate of 10 mm / min) or less. Therefore, it has a strong adhesiveness to the substrate and has an effect that the solder balls do not shift during reflow. Further, since the resin (a1) having a melt viscosity at 150 ° C. of 500 Pa · s or less is contained, the solder balls can sink under their own weight during solder reflow, and the displacement of the solder balls can be suppressed. .. Therefore, it is possible to exert an effect of excellent solder bondability.

本発明のフラックスシートは、液状及びペースト状フラックスのような常温での流動性を有していないため、フラックス剤を含有させたとしてもフラックスの凝集、分離、沈降などが発生しにくく、保存安定性に優れている。
また、液状及びペースト状フラックスを印刷等で塗布する場合、塗布量のばらつきが大きいので、適宜、塗布量の調整等が必要であり、作業性が劣るが、本発明のフラックスシートは、所定量のシートを基板上に載置、ラミネートするのみでよく、作業性に優れている。
溶媒が残存すると接合時に蒸発してボイドとなることがあるため、本発明のフラックスシートは、残存溶媒の含有率を10質量%未満とすることが好ましい。この含有率は、例えば、カールフィッシャ―法や加熱による重量減少により測定することができる。
Since the flux sheet of the present invention does not have fluidity at room temperature like liquid and paste-like fluxes, even if a flux agent is contained, flux aggregation, separation, sedimentation, etc. are unlikely to occur, and storage stability is stable. Excellent in sex.
Further, when liquid or paste-like flux is applied by printing or the like, the amount of application varies widely, so it is necessary to adjust the amount of application as appropriate, and the workability is inferior. However, the flux sheet of the present invention has a predetermined amount. It is only necessary to place and laminate the sheet of No. 1 on the substrate, and it is excellent in workability.
If the solvent remains, it may evaporate to form voids at the time of bonding. Therefore, the flux sheet of the present invention preferably has a residual solvent content of less than 10% by mass. This content can be measured, for example, by the curl fisher method or weight reduction by heating.

本発明のフラックスシートは、水溶性である樹脂(a1)を含有している場合、フラックスシートの作製時や実装時、または、フラックスシートを洗浄する際には水を使用することできる。そのため、揮発して大気中に放出される有機溶媒を用いる必要がないため、環境負荷を低減させることができる。 When the flux sheet of the present invention contains a water-soluble resin (a1), water can be used when producing or mounting the flux sheet, or when cleaning the flux sheet. Therefore, it is not necessary to use an organic solvent that volatilizes and is released into the atmosphere, so that the environmental load can be reduced.

本発明のフラックスシートの厚さとして、フラックス活性、洗浄性等を考慮して適宜設定することができるが、好ましくは1〜500μmである。下限値としては、好ましくは3μm以上であり、より好ましくは5μm以上である。上限値としては、好ましくは100μm以下であり、より好ましくは50μm以下である。 The thickness of the flux sheet of the present invention can be appropriately set in consideration of flux activity, detergency, etc., but is preferably 1 to 500 μm. The lower limit is preferably 3 μm or more, and more preferably 5 μm or more. The upper limit is preferably 100 μm or less, and more preferably 50 μm or less.

また、フラックスシートの大きさ(面積)としては、使用する基板、チップ、ウエハ等の大きさを考慮して、適宜設定することができる。具体的には、基板上の電極(群)が位置する領域よりも若干広い面積に設定することが好ましい。あるいは、予め使用する予定の大きさよりも大きく形成し、使用時に所望の大きさに切り取って使用してもよい。なおシートは切り取らずに直接目的の基板をシートに押し付けることで転写、ラミネートすることも可能である。 Further, the size (area) of the flux sheet can be appropriately set in consideration of the size of the substrate, chip, wafer, etc. to be used. Specifically, it is preferable to set the area slightly wider than the area where the electrodes (groups) on the substrate are located. Alternatively, it may be formed to be larger than the size planned to be used in advance, and may be cut into a desired size at the time of use. It is also possible to transfer and laminate the sheet by directly pressing the target substrate against the sheet without cutting it.

本発明において、フラックスシートの面積は、好ましくは30000mm以上である。
フラックスシートの面積を30000mm以上とすることで、大面積のパネルやウエハ等の電子部材基板に対しても前記基板の全面に一度で貼付することができる。
大面積電子部材基板とは、直径が200mm(8インチ)以上のウエハや、300mm角以上パネルを含むものである。
In the present invention, the area of the flux sheet is preferably 30,000 mm 2 or more.
By setting the area of the flux sheet to 30,000 mm 2 or more, it is possible to attach the flux sheet to the entire surface of the substrate at once even on an electronic member substrate such as a panel or a wafer having a large area.
The large-area electronic member substrate includes a wafer having a diameter of 200 mm (8 inches) or more and a panel having a diameter of 300 mm square or more.

前記ウエハとは、シリコンウエハ、サファイアウエハ、化合物半導体ウエハ、ガラス基板、樹脂基板(ガラスエポキシ基板(FR−4)、ビスマレイミドトリアジン基板、ポリイミド樹脂基板、フッ素樹脂など)、プリント配線基板等が含まれる。
ウエハのサイズとしては、直径が200mm(8インチ)のウエハ、直径が300mm(12インチ)のウエハ等が含まれる。
The wafer includes a silicon wafer, a sapphire wafer, a compound semiconductor wafer, a glass substrate, a resin substrate (glass epoxy substrate (FR-4), a bismaleimide triazine substrate, a polyimide resin substrate, a fluororesin, etc.), a printed wiring substrate, and the like. Is done.
The wafer size includes a wafer having a diameter of 200 mm (8 inches), a wafer having a diameter of 300 mm (12 inches), and the like.

前記パネルとは、ガラス基板、シリコン基板、樹脂基板(ガラスエポキシ基板(FR−4)、ビスマレイミドトリアジン基板、ポリイミド樹脂基板、フッ素樹脂など)、化合物半導体基板、プリント配線基板等が含まれ、そのサイズは、例えば、250mm角以上のもので、250mm×350mm、300mm角以上のもので、320mm×320mm、370×470mm等のパネルがある。更に、400mm角以上のパネル、410mm×515mm、508mm×610mm、500mm×510mmのパネル、610mm×457mmのパネル等が含まれる。 The panel includes a glass substrate, a silicon substrate, a resin substrate (glass epoxy substrate (FR-4), bismaleimide triazine substrate, polyimide resin substrate, fluororesin, etc.), a compound semiconductor substrate, a printed wiring board, and the like. The size is, for example, 250 mm square or more, 250 mm × 350 mm, 300 mm square or more, and there are panels of 320 mm × 320 mm, 370 × 470 mm, and the like. Further, a panel of 400 mm square or larger, a panel of 410 mm × 515 mm, a panel of 508 mm × 610 mm, a panel of 500 mm × 510 mm, a panel of 610 mm × 457 mm and the like are included.

[フラックスシートの作製方法]
フラックスシートの作製方法としては、特に限定されないが、例えば、樹脂成分(A)を溶媒に溶解させ、樹脂溶液を調製し、表面に離型処理された支持体等に、ロールコーター、コンマコーター、グラビアコーター等の公知の方法により塗布して塗布膜を形成し、該塗膜を乾燥させて溶媒を除去して得る方法が挙げられる。また、必要に応じてフラックス剤(B)等を添加してもよい。なお、溶媒を用いて溶液化せず、(A)(B)等を無溶剤で混練溶融してシート化してもよい。
[How to make a flux sheet]
The method for producing the flux sheet is not particularly limited, but for example, the resin component (A) is dissolved in a solvent to prepare a resin solution, and a roll coater, a comma coater, etc. Examples thereof include a method in which a coating film is formed by coating by a known method such as a gravure coater, and the coating film is dried to remove a solvent. Further, a flux agent (B) or the like may be added as needed. It should be noted that (A), (B) and the like may be kneaded and melted without a solvent to form a sheet without making a solution using a solvent.

樹脂成分(A)を溶解させる溶媒としては、例えば、水、有機溶媒、水と有機溶媒の混合溶媒等が挙げられるが、環境負荷の低減の観点から、水が好ましい。有機溶媒としては、アルコール、ケトン等をあげることができるが、好ましくはアルコールである。水は蒸留水、イオン交換水、水道水等を使うことができ、不純物の少ない蒸留水やイオン交換水、超純水が好ましい。アルコールの例としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール等が挙げられ、ケトンとしてはアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。有機溶媒を使用する場合、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the solvent for dissolving the resin component (A) include water, an organic solvent, a mixed solvent of water and an organic solvent, and the like, but water is preferable from the viewpoint of reducing the environmental load. Examples of the organic solvent include alcohols and ketones, but alcohols are preferable. Distilled water, ion-exchanged water, tap water and the like can be used as the water, and distilled water having less impurities, ion-exchanged water, ultra-pure water and the like are preferable. Examples of alcohols include methanol, ethanol, n-propanol, n-butanol and the like, and ketones include acetone, methyl ethyl ketone and the like. When an organic solvent is used, it may be used alone or in combination of two or more.

樹脂成分(A)を水に溶解させる場合、溶解速度を上げる観点から、40〜95℃に加熱した温水を用いることが好ましい。樹脂成分(A)の固形分濃度としては、好ましくは0.1〜60質量%である。また、フラックス剤(B)を添加する場合、上記樹脂成分(A)を溶解させる溶媒と同様のものに溶解させて添加することが好ましく、フラックス剤(B)が液体の場合は直接添加してもよい。なお、添加混合により分離しやすい場合は、界面活性剤などにより乳化させて加えることが好ましい。前記溶媒を用いて、適切な溶融粘度を有する樹脂溶液とすることで、塗布膜表面の平滑性が悪くなる現象や、ピンホールの発生を抑制することができる。 When the resin component (A) is dissolved in water, it is preferable to use warm water heated to 40 to 95 ° C. from the viewpoint of increasing the dissolution rate. The solid content concentration of the resin component (A) is preferably 0.1 to 60% by mass. When the flux agent (B) is added, it is preferable to dissolve the resin component (A) in the same solvent as that used to dissolve the resin component (A), and when the flux agent (B) is a liquid, it is directly added. May be good. If it is easy to separate by adding and mixing, it is preferable to emulsify with a surfactant or the like before adding. By using the solvent to prepare a resin solution having an appropriate melt viscosity, it is possible to suppress a phenomenon in which the smoothness of the coating film surface deteriorates and the occurrence of pinholes.

塗布膜の乾燥温度及び乾燥時間は、樹脂溶液用溶媒、膜厚等により、適宜設定することができるが、例えば、シート原料の熱安定性(耐熱分解性)や溶媒の揮発などを考慮し、リフロー時にシートの流動性が低下する等の得られるフラックスシートの物性の変化を抑制する観点から、乾燥温度が25〜180℃、より好ましくは40〜100℃で乾燥することが好ましい。更に、複数の乾燥炉を設けて、段階的に乾燥を行うことが好ましい。乾燥時間は例えば1〜90分間が好ましく、10〜70分間がより好ましい。 The drying temperature and drying time of the coating film can be appropriately set depending on the solvent for the resin solution, the film thickness, etc. From the viewpoint of suppressing changes in the physical properties of the obtained flux sheet such as a decrease in the fluidity of the sheet during reflow, it is preferable to dry at a drying temperature of 25 to 180 ° C., more preferably 40 to 100 ° C. Further, it is preferable to provide a plurality of drying furnaces and perform drying step by step. The drying time is preferably, for example, 1 to 90 minutes, more preferably 10 to 70 minutes.

[はんだ接合方法]
本発明のはんだ接合方法は、本発明のフラックスシートを用いた、下記ステップを含む方法であることを特徴とする。
(1)電極を有する基板の電極を有する面に前記フラックスシートを配置するステップ
(2)前記フラックスシート上に、はんだボールを配置するステップ
(3)前記フラックスシートをはんだの融点以上の温度であって、かつ前記樹脂シートが液状化する温度に加熱するステップ
(4)(3)と同時或いはその後、はんだの融点以上の温度に加熱するステップ
この特徴によれば、基板との接着性が良好であり、リフロー中にはんだボールのズレが生じないフラックスシートを用いることから、はんだ接合の不良等が生じないという効果を発揮することができる。
本発明に係るはんだ接合方法では、煩雑な印刷等の塗布工程が不要で、はんだボールと基板の電極との間にフラックスシートを配置するのみでよく作業性に優れている。
以下、上記接合方法に用いる基板及びはんだボールについて説明した上で、各工程の詳細について、図面を参照しながら、説明する。
[Soldering method]
The solder joining method of the present invention is characterized by using the flux sheet of the present invention and including the following steps.
(1) Step of arranging the flux sheet on the surface of the substrate having the electrode having the electrode (2) Step of arranging the solder balls on the flux sheet (3) The temperature of the flux sheet is equal to or higher than the melting point of the solder. And at the same time as or after the steps (4) and (3) of heating the resin sheet to a temperature at which the resin sheet is liquefied, a step of heating to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder. According to this feature, the adhesiveness to the substrate is good. Therefore, since a flux sheet that does not cause the solder balls to shift during reflow is used, it is possible to exert the effect that defects such as solder joints do not occur.
The solder joining method according to the present invention does not require a complicated coating process such as printing, and only requires arranging a flux sheet between the solder balls and the electrodes of the substrate, and is excellent in workability.
Hereinafter, the substrate and the solder balls used in the above joining method will be described, and then the details of each step will be described with reference to the drawings.

以下、本発明のはんだ接合方法の各工程について、図1〜5を適宜参照しながら説明する。なお、図1〜5は、本発明のはんだ接合方法を説明するための概略図であって、本発明のはんだ接合方法はこれに限定されるものではない。
<ステップ(1)電極を有する基板の電極を有する面に前記フラックスシートを配置するステップ>
本ステップは、基板の電極を有する面に前記フラックスシートを配置するステップである。図1は、電極を備える基板の概略平面図である。また、図2は、電極を有する基板を側面からみた概略図である。次に図3(A)に示すように、基板の電極を備える電極面側に、本発明のフラックスシートを配置する。また、図3(B)に示すように、基板電極がフラックスシートに埋め込まれるようにラミネートしてもよい。フラックスシートを配置する前に、基板を予め脱脂しておくことが好ましい。基板上にフラックスシートを配置する方法は、特に限定されず、そのまま置くのみでもよいが、フラックスシートを置いた後、大気圧下または真空条件でラミネート装置を用いて仮固定することが好ましい。ラミネート装置としては真空ラミネートやロールラミネータ装置を用いることができる。ラミネートする際の温度は、好ましくはガラス転移温度以上、より好ましくはガラス転移温度より20℃以上高い温度もしくは軟化点以上である(軟化点がない場合は、ガラス転移温度以上のゴム状態である)ことが好ましい。樹脂成分(A)の種類などにより異なるが、例えば、30〜100℃である。
Hereinafter, each step of the solder joining method of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5 as appropriate. It should be noted that FIGS. 1 to 5 are schematic views for explaining the solder joining method of the present invention, and the solder joining method of the present invention is not limited thereto.
<Step (1) A step of arranging the flux sheet on the surface of the substrate having the electrodes having the electrodes>
This step is a step of arranging the flux sheet on the surface of the substrate having electrodes. FIG. 1 is a schematic plan view of a substrate including electrodes. Further, FIG. 2 is a schematic view of a substrate having electrodes as viewed from the side surface. Next, as shown in FIG. 3A, the flux sheet of the present invention is arranged on the electrode surface side provided with the electrodes of the substrate. Further, as shown in FIG. 3B, the substrate electrodes may be laminated so as to be embedded in the flux sheet. It is preferable to degreas the substrate in advance before arranging the flux sheet. The method of arranging the flux sheet on the substrate is not particularly limited, and the flux sheet may be placed as it is, but it is preferable to temporarily fix the flux sheet under atmospheric pressure or under vacuum conditions using a laminating device. As the laminating device, a vacuum laminating device or a roll laminator device can be used. The temperature at the time of laminating is preferably a temperature equal to or higher than the glass transition temperature, more preferably 20 ° C or higher than the glass transition temperature or a softening point or higher (if there is no softening point, the rubber state is equal to or higher than the glass transition temperature). Is preferable. The temperature varies depending on the type of the resin component (A) and the like, but is, for example, 30 to 100 ° C.

(基板)
本発明のはんだ接合方法で用いる基板は、電極を備える基板であって、一つ以上の電極を備えていればよく、例えば、図1に示された複数の電極が備えられた基板、チップ、ウエハ等が挙げられる。また、一部の基板上面の電極以外の領域には、ソルダーレジストが形成されている(なお、図2〜5では簡略化のためソルダーレジストを図示しない)。このような電極を備える基板としては、例えば、上記で示したプリント配線基板等が挙げられる。電極表面には、はんだボールとの濡れ性を向上させるために、例えば、Cu電極表面には、Cu/Ni/Pd/Au、Cu/Ni/Au、Cu/Ni−P/Au等からなるUBM(Under Bump Metallization)層又は、Surface Finish処理層を形成していることが好ましい。
(substrate)
The substrate used in the solder bonding method of the present invention is a substrate provided with electrodes, and may include one or more electrodes. For example, a substrate, a chip, or a substrate provided with a plurality of electrodes shown in FIG. Examples include wafers. Further, a solder resist is formed in a region other than the electrodes on the upper surface of a part of the substrate (note that the solder resist is not shown in FIGS. 2 to 5 for simplification). Examples of the substrate provided with such an electrode include the printed wiring board shown above. In order to improve the wettability with solder balls on the electrode surface, for example, the Cu electrode surface is made of UBM composed of Cu / Ni / Pd / Au, Cu / Ni / Au, Cu / Ni-P / Au, etc. It is preferable to form a (Under Copper Metallization) layer or a Surface Finish-treated layer.

また、基板の電極表面に油脂等の汚れが付着していると、はんだボールとのぬれ性が低下し接合性に悪影響を及ぼすので、あらかじめ有機溶媒、酸性水溶液、塩基性水溶液等で脱脂するのが好ましい。脱脂の際には、超音波をかけると洗浄効果が更に高くなるのでより好ましい。電極表面にUBM層又は、Surface Finish処理層がない場合には、電極表面に酸化皮膜が形成されやすいため、酸性水溶液や塩基性水溶液等によりあらかじめ基板を洗浄してもよい。 In addition, if dirt such as oils and fats adheres to the electrode surface of the substrate, the wettability with the solder balls will decrease and the bondability will be adversely affected. Is preferable. At the time of degreasing, it is more preferable to apply ultrasonic waves because the cleaning effect is further enhanced. When there is no UBM layer or Surface Finish-treated layer on the electrode surface, an oxide film is likely to be formed on the electrode surface, so the substrate may be washed in advance with an acidic aqueous solution, a basic aqueous solution, or the like.

<ステップ(2)前記フラックスシート上に、はんだボールを配置するステップ>
本ステップは、図4のように、はんだボールを、フラックスシートを介して基板の電極上に位置するように配置して固定する工程である。配置に関しては、各種のボールマウンター装置を用いてもよいし、電極上に開口したメタルマスクなどを用いて刷毛などでボールを落としこみ配置する方法や、先端に接着剤を塗布した細いワイヤーやピンを用いてボールを電極に運んだ後フラックスシートに粘着させ配置する方法などを用いてもよい。フラックスシートを介してはんだボールと基板に仮固定するために、はんだを配置する際、フラックスシートをラミネートする際の温度と同程度、即ち、好ましくはガラス転移点以上、より好ましくはガラス転移点より20℃以上高い温度もしくは軟化点以上(軟化点がない場合は、ガラス転移点以上のゴム状態)の温度で加熱することが好ましい。樹脂成分(A)の種類などにより異なるが、例えば、30〜100℃である。また、はんだボールを、フラックスシートを介して基板の電極上に配置する際、押圧してもよいが、本発明のシートはガラス転移点が40℃以下である樹脂(a1)を含有し、柔軟な構造であることから、積極的に押圧する必要はない。本発明のフラックスシートを用いることで、はんだボールが自重でフラックスシート中に埋まるため、はんだボールとフラックスシート及び基板との接着が向上する。
<Step (2) Step of arranging the solder balls on the flux sheet>
This step is a step of arranging and fixing the solder balls so as to be located on the electrodes of the substrate via the flux sheet as shown in FIG. Regarding the placement, various ball mounter devices may be used, a method of dropping the balls with a brush or the like using a metal mask opened on the electrodes, or a thin wire or pin having an adhesive applied to the tip. After carrying the ball to the electrode using the above method, a method of adhering the ball to the flux sheet and arranging the ball may be used. When arranging the solder for temporary fixing to the solder ball and the substrate via the flux sheet, the temperature is about the same as the temperature at which the flux sheet is laminated, that is, preferably above the glass transition point, more preferably above the glass transition point. It is preferable to heat at a temperature higher than 20 ° C. or a temperature of a softening point or higher (when there is no softening point, a rubber state of a glass transition point or higher). The temperature varies depending on the type of the resin component (A) and the like, but is, for example, 30 to 100 ° C. Further, when the solder balls are arranged on the electrodes of the substrate via the flux sheet, they may be pressed, but the sheet of the present invention contains a resin (a1) having a glass transition point of 40 ° C. or lower and is flexible. Since it has a simple structure, it is not necessary to press it positively. By using the flux sheet of the present invention, the solder balls are buried in the flux sheet by their own weight, so that the adhesion between the solder balls and the flux sheet and the substrate is improved.

(はんだボール)
本発明のはんだ接合方法で使用するはんだボールの組成としては、例えば、Sn−Pb系、Pb−Sn−Sb系、Sn−Sb系、Sn−Pb−Bi系、鉛フリーのSn−Ag系、Sn−Ag−Cu系、Bi−Sn系、Sn−Cu系、Sn−Ag−Bi−In系、Sn−Zn−Bi系等が挙げられる。また、鉛フリーで、且つ低融点はんだであるSn−Bi系(Sn58Bi:融解温度:138℃)やIn−Sn系(In48Sn:融解温度:118℃)のはんだも使用することができる。本発明では、鉛を含有しない鉛フリーはんだを用いることが好ましい。鉛フリーはんだの中では、機械特性等の観点から、Sn−Ag−Cu系のはんだが好ましく、例えば、Sn3Ag0.5Cu(融解温度:約217℃)がより好ましい。また、200℃を超える高温プロセスにおいて、液晶のような材料自体が劣化してしまう材料に対しては、鉛フリーで低融点のはんだを用いることが好ましい。
(Solder ball)
The composition of the solder balls used in the solder bonding method of the present invention includes, for example, Sn-Pb system, Pb-Sn-Sb system, Sn-Sb system, Sn-Pb-Bi system, lead-free Sn-Ag system, and the like. Examples thereof include Sn-Ag-Cu system, Bi-Sn system, Sn-Cu system, Sn-Ag-Bi-In system, Sn-Zn-Bi system and the like. In addition, Sn-Bi-based (Sn58Bi: melting temperature: 138 ° C.) or In-Sn-based (In48Sn: melting temperature: 118 ° C.) solder, which is lead-free and has a low melting point, can also be used. In the present invention, it is preferable to use lead-free solder that does not contain lead. Among the lead-free solders, Sn—Ag—Cu-based solders are preferable from the viewpoint of mechanical properties and the like, and for example, Sn3Ag0.5Cu (melting temperature: about 217 ° C.) is more preferable. Further, for a material such as a liquid crystal display in which the material itself deteriorates in a high temperature process exceeding 200 ° C., it is preferable to use lead-free and low melting point solder.

本発明のはんだ接合方法で使用するはんだボールの大きさとしては、例えば10μm以上であり1000μm以下である。下限値としては、好ましくは30μm以上であり、より好ましくは40μm以上であり、更に好ましくは50μm以上である。上限値としては、好ましくは760μm以下であり、より好ましくは610μm以下であり、更に好ましくは450μm以下であり、特に好ましくは300μm以下である。 The size of the solder balls used in the solder joining method of the present invention is, for example, 10 μm or more and 1000 μm or less. The lower limit value is preferably 30 μm or more, more preferably 40 μm or more, and further preferably 50 μm or more. The upper limit is preferably 760 μm or less, more preferably 610 μm or less, still more preferably 450 μm or less, and particularly preferably 300 μm or less.

<ステップ(3)前記フラックスシートが溶融或いは軟化する温度に加熱するステップ>
本ステップは、前記フラックスシートが溶融或いは軟化する温度以上で加熱処理する工程である。上記温度で加熱処理をすることで、熱により活性化するフラックス成分を含む場合は、シートのフラックス作用により、はんだボールの表面に形成される金属酸化物を除去することができる。また、はんだの表面だけでなく、電極の表面に存在する酸化物も併せて除去できる。なお、本発明においては、樹脂(A)に樹脂(a1)を含むフラックスシートを用いているため、本ステップ(3)において、図5のように電極とはんだとのズレが生じず、更にはんだが基板へ自重で簡単に貫通することができ、はんだ接合性が良好となる。
<Step (3) Step of heating to a temperature at which the flux sheet melts or softens>
This step is a step of heat-treating at a temperature higher than the temperature at which the flux sheet melts or softens. By performing the heat treatment at the above temperature, when a flux component activated by heat is contained, the metal oxide formed on the surface of the solder ball can be removed by the flux action of the sheet. Further, not only the surface of the solder but also the oxide existing on the surface of the electrode can be removed at the same time. In the present invention, since the flux sheet containing the resin (a1) in the resin (A) is used, in this step (3), the electrode and the solder do not shift as shown in FIG. 5, and the solder is further formed. Can easily penetrate the substrate by its own weight, and the solder bondability is improved.

<ステップ(4):(3)と同時或いはその後、はんだの融点以上の温度に加熱するステップ>
本ステップは、はんだの融点以上で温度処理する工程である。上記温度で加熱処理をすることで、はんだボールを融解して、はんだ付けすることができる。(4)のステップは、(3)と同時であってもよく、(3)の後に実施してもよい。
<Step (4): Simultaneously with or after (3), the step of heating to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder>
This step is a step of temperature-treating the temperature above the melting point of the solder. By heat-treating at the above temperature, the solder balls can be melted and soldered. The step (4) may be performed at the same time as (3) or after (3).

ステップ(3)(4)での、加熱温度(最高到達温度)及び、当該温度での加熱時間(保持時間)は、はんだボールの融解温度、樹脂成分(A)が軟化する温度、樹脂成分(A)の溶融粘度、フラックス剤の沸点、基板の電極の大きさ、電極間ピッチ等の条件により、適宜設定することができる。
(3)加熱温度としては、樹脂シートの溶融温度或いは軟化温度以上であり、例えば溶融温度(軟化温度)+20℃以上+100℃以下であることが好ましい。加熱時間としては、例えば、5秒〜10分間が好ましい。(4)加熱温度(最高到達温度)としては、はんだボールの融解温度をT(℃)としたとき、例えば、T+10℃以上T+80℃以下である。下限値としては、好ましくはT+20℃以上であり、より好ましくはT+30℃以上である。上限値としては、好ましくはT+70℃以下であり、より好ましくはT+45℃以下である。加熱時間としては、加熱温度(最高到達温度)によって適宜設定できるが、加熱温度(最高到達温度)が上記範囲の温度である場合、加熱時間(保持時間)としては、例えば、5秒〜10分間である。下限値としては、好ましくは10秒以上であり、より好ましくは20秒以上である。上限値としては5分間以下であり、より好ましくは3分間以下である。また、本工程は、大気圧条件下や窒素等の不活性ガス雰囲気下で行ってもよいが、窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことがより好ましい。
The heating temperature (maximum reached temperature) and the heating time (holding time) at the temperature in steps (3) and (4) are the melting temperature of the solder ball, the temperature at which the resin component (A) softens, and the resin component ( It can be appropriately set depending on the conditions such as the melt viscosity of A), the boiling point of the flux agent, the size of the electrodes on the substrate, and the pitch between the electrodes.
(3) The heating temperature is preferably equal to or higher than the melting temperature or softening temperature of the resin sheet, for example, melting temperature (softening temperature) + 20 ° C. or higher and + 100 ° C. or lower. The heating time is preferably, for example, 5 seconds to 10 minutes. (4) The heating temperature (maximum temperature reached) is, for example, T + 10 ° C. or higher and T + 80 ° C. or lower when the melting temperature of the solder balls is T (° C.). The lower limit is preferably T + 20 ° C. or higher, and more preferably T + 30 ° C. or higher. The upper limit is preferably T + 70 ° C. or lower, and more preferably T + 45 ° C. or lower. The heating time can be appropriately set depending on the heating temperature (maximum temperature reached), but when the heating temperature (maximum temperature reached) is within the above range, the heating time (holding time) is, for example, 5 seconds to 10 minutes. Is. The lower limit is preferably 10 seconds or longer, more preferably 20 seconds or longer. The upper limit is 5 minutes or less, more preferably 3 minutes or less. Further, this step may be carried out under atmospheric pressure conditions or in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen, but it is more preferable to carry out the step in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen.

(3)の後に(4)を実施する場合の温度プロファイルは、例えば、Sn37Pbの場合、(3)100〜150℃、60〜120秒、(4)183℃以上60〜150秒、ピーク温度225〜240℃(昇温速度3℃/秒以下)であってよい。またSn3Ag0.5Cuの場合は、(3)150〜200℃、60〜180秒、(4)217℃以上60〜150秒、ピーク温度245〜260℃(昇温速度3℃/秒以下)であってよい。必要に応じてこれらステップは複数回実施してもよい。温度プロファイルとしては、半導体技術協会(JEDEC)の推奨条件であることが好ましい(IPC/JEDEC J−STD−020Cに準拠)。
また、本発明のフラックスシートは、ガラス転移点が40℃以下であり、150℃の溶融粘度が500Pa・s以下の樹脂(a1)を含有するから、はんだボールから基板へ向けて、押圧した状態で加熱処理を行う必要が無い。本ステップ終了後、図5に示すように、はんだ接合した状態となる。
The temperature profile in the case of carrying out (4) after (3) is, for example, in the case of Sn37Pb, (3) 100 to 150 ° C., 60 to 120 seconds, (4) 183 ° C. or higher for 60 to 150 seconds, peak temperature 225. It may be ~ 240 ° C. (heating rate 3 ° C./sec or less). In the case of Sn3Ag0.5Cu, (3) 150 to 200 ° C., 60 to 180 seconds, (4) 217 ° C. or higher and 60 to 150 seconds, peak temperature 245 to 260 ° C. (heating rate 3 ° C./sec or less). It's okay. These steps may be performed multiple times, if desired. The temperature profile is preferably a recommended condition of the Semiconductor Technology Association (JEDEC) (based on IPC / JEDEC J-STD-020C).
Further, since the flux sheet of the present invention contains a resin (a1) having a glass transition point of 40 ° C. or lower and a melt viscosity of 150 ° C. of 500 Pa · s or less, it is in a state of being pressed from a solder ball toward a substrate. There is no need to perform heat treatment with. After the completion of this step, as shown in FIG. 5, the soldered state is obtained.

更に、上記のはんだ接合方法の終了後に、本発明のフラックスシートを溶媒により溶解除去してもよい。フラックスシートを溶媒により溶解除去することによって、はんだ接合した以外の領域に存在しているフラックスシートを溶媒により溶解除去され、図6に示されるように、はんだ接合部位が露出した状態となる。フラックスシートを溶解除去する洗浄用の溶媒としては、特に制限はなく、水、有機溶媒、水と有機溶媒との混合溶媒等が挙げられるが、環境負荷が低く、入手しやすいとの観点から、水が好ましい。有機溶媒としては、アルコール、ケトンなどをあげることができるが、好ましくはアルコールである。有機溶媒を使用する場合、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。なお、樹脂成分(A)が水に溶けにくい場合は、有機溶媒、又は水と有機溶媒との混合溶媒を用いることが好ましい。水と有機溶媒との混合溶媒において、混合比は、特に制限はないが、環境負荷の低減の観点から、有機溶媒の比率が低いほうが好ましい。水は蒸留水、イオン交換水、水道水等を使うことができ、不純物の少ない蒸留水やイオン交換水、超純水が好ましい。アルコールの例としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール等を挙げられ、ケトン系溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。使用する溶媒の温度としては、フラックスシート中に含まれる樹脂成分(A)により適宜設定することができるが、作業性の観点から、室温で行うのが好ましい。 Further, after the completion of the above solder joining method, the flux sheet of the present invention may be dissolved and removed with a solvent. By dissolving and removing the flux sheet with a solvent, the flux sheet existing in the region other than the solder-bonded region is dissolved and removed by the solvent, and as shown in FIG. 6, the solder-bonded portion is exposed. The cleaning solvent for dissolving and removing the flux sheet is not particularly limited, and examples thereof include water, an organic solvent, and a mixed solvent of water and an organic solvent. However, from the viewpoint of low environmental load and easy availability, there is no particular limitation. Water is preferred. Examples of the organic solvent include alcohols and ketones, but alcohols are preferable. When an organic solvent is used, it may be used alone or in combination of two or more. When the resin component (A) is difficult to dissolve in water, it is preferable to use an organic solvent or a mixed solvent of water and an organic solvent. The mixing ratio of the mixed solvent of water and the organic solvent is not particularly limited, but it is preferable that the ratio of the organic solvent is low from the viewpoint of reducing the environmental load. Distilled water, ion-exchanged water, tap water and the like can be used as the water, and distilled water having less impurities, ion-exchanged water, ultra-pure water and the like are preferable. Examples of the alcohol include methanol, ethanol, n-propanol, n-butanol and the like, and examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone and the like. The temperature of the solvent to be used can be appropriately set depending on the resin component (A) contained in the flux sheet, but from the viewpoint of workability, it is preferably performed at room temperature.

なお、フラックスシートを溶解しにくいときや、溶解するのに時間がかかるときには、加熱した溶媒を用いることや、界面活性剤を含有する溶媒を用いてもよい。この加熱した溶媒の温度としては、高いほどフラックスシートを溶解しやすくなるが、その溶媒の沸点未満の温度であることが好ましい。
界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性イオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤等の界面活性剤を用いることができる。
When the flux sheet is difficult to dissolve or when it takes a long time to dissolve, a heated solvent may be used, or a solvent containing a surfactant may be used. The higher the temperature of the heated solvent, the easier it is to dissolve the flux sheet, but it is preferable that the temperature is lower than the boiling point of the solvent.
As the surfactant, a surfactant such as an anionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric ionic surfactant, or a nonionic surfactant can be used.

また、フラックスシートの溶解除去の効率を向上させる観点から、超音波を照射つつ溶解除去させることが好ましい。フラックス剤(B)を用いた場合、フラックス剤が残存すると、はんだ接合部位を腐食する可能性があり、長期使用の信頼性低下を招く原因となるため、フラックス剤の除去効率を向上させるために、超音波を照射しつつ洗浄処理を行うことが好ましい。なお、超音波の強さとしては、形成したはんだ接合が破断しない程度に調整することが好ましい。また、液中ジェット、ダイレクトパスなどの水流発生装置により洗浄することが、フラックス剤の除去効果を向上させるために好ましい。 Further, from the viewpoint of improving the efficiency of dissolution and removal of the flux sheet, it is preferable to dissolve and remove the flux sheet while irradiating it with ultrasonic waves. When the flux agent (B) is used, if the flux agent remains, it may corrode the solder joint portion and cause a decrease in reliability of long-term use. Therefore, in order to improve the removal efficiency of the flux agent. , It is preferable to perform the cleaning treatment while irradiating ultrasonic waves. The intensity of the ultrasonic waves is preferably adjusted so that the formed solder joint does not break. Further, cleaning with a water flow generator such as a submerged jet or a direct path is preferable in order to improve the effect of removing the flux agent.

以下に、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、以下の実施例で使用した各成分の物性値については、下記の方法に基づいて測定した値を使用した。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. As for the physical property values of each component used in the following examples, the values measured based on the following method were used.

(樹脂溶液の作製)
[製造例1]
変性ポリビニルアルコール(ポリエチレングリコールが付加されたポリビニルアルコール:日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセネックス(登録商標)LW−100;ガラス転移点−0.5℃、150℃の溶融粘度:63Pa・s(せん断速度10mm/分)(水を揮発させて樹脂単独で測定)、ケン化度39.0〜46.0)を樹脂溶液とした(固形分40質量%水溶液)。
(Preparation of resin solution)
[Manufacturing Example 1]
Modified polyvinyl alcohol (polyvinyl alcohol to which polyethylene glycol is added: manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name "Gosenex (registered trademark) LW-100; glass transition point -0.5 ° C, melt viscosity at 150 ° C: 63 Pa · s" (Shearing rate 10 mm / min) (measured by volatilizing water with the resin alone) and saponification degree 39.0 to 46.0) were used as the resin solution (solid content 40% by mass aqueous solution).

(フラックスシートの作製)
支持体である、表面に離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム(リンテック株式会社製6502)(以下、離型フィルムとする。)上に、上記調製した樹脂溶液を塗布し、塗膜を形成した。そして、この塗膜を、80℃、60分間加熱乾燥して、支持体上に膜厚が30μmのフラックスシートを作製した。
(Preparation of flux sheet)
A coating film is formed by applying the above-prepared resin solution on a polyethylene terephthalate film (6502 manufactured by Lintec Corporation) (hereinafter referred to as a release film) which is a support whose surface has been subjected to a mold release treatment. bottom. Then, this coating film was heated and dried at 80 ° C. for 60 minutes to prepare a flux sheet having a film thickness of 30 μm on the support.

[製造例2]
フラックス剤として、アジピン酸5質量部(LW−100の樹脂固形分100質量部に対して)を用いたこと以外は、製造例1と同様の方法により、膜厚30μmのフラックスシートを作製した。
[Manufacturing example 2]
A flux sheet having a film thickness of 30 μm was produced by the same method as in Production Example 1 except that 5 parts by mass of adipic acid (relative to 100 parts by mass of the resin solid content of LW-100) was used as the flux agent.

[製造例3]
フラックス剤として、サリチル酸5質量部(LW−100の樹脂固形分100質量部に対して)を用いたこと以外は、製造例1と同様の方法により、膜厚30μmのフラックスシートを作製した。
[Manufacturing example 3]
A flux sheet having a film thickness of 30 μm was produced by the same method as in Production Example 1 except that 5 parts by mass of salicylic acid (relative to 100 parts by mass of the resin solid content of LW-100) was used as the flux agent.

[製造例4]
ポリアミド(PA)(東レ株式会社製、商品名「AQナイロン T−70;ガラス転移点−46℃、150℃の溶融粘度:17Pa・s(せん断速度10mm/分)(水を揮発させて樹脂単独で測定))100質量部(固形分51質量%)に、フラックス剤として、ドデシルアミン5質量部(T−70の樹脂固形分100質量部に対して)を加えて攪拌し、樹脂溶液を作製した。そして、この調整した樹脂溶液を用いて、製造例1と同様の方法により、膜厚30μmのフラックスシートを作製した。
[Manufacturing example 4]
Polyamide (PA) (manufactured by Toray Co., Ltd., trade name "AQ nylon T-70; glass transition point -46 ° C, 150 ° C, melt viscosity: 17 Pa · s (shear rate 10 mm / min)) (resin alone by volatilizing water) )) To 100 parts by mass (51% by mass of solid content), 5 parts by mass of dodecylamine (relative to 100 parts by mass of resin solid content of T-70) was added as a flux agent and stirred to prepare a resin solution. Then, using this prepared resin solution, a flux sheet having a thickness of 30 μm was prepared by the same method as in Production Example 1.

[製造例5]
フラックス剤として、アジピン酸5質量部(T−70の樹脂固形分100質量部に対してを用いたこと以外は、製造例4と同様の方法により、膜厚30μmのフラックスシートを作製した。
[Manufacturing Example 5]
A flux sheet having a film thickness of 30 μm was produced by the same method as in Production Example 4 except that 5 parts by mass of adipic acid (based on 100 parts by mass of the resin solid content of T-70) was used as the flux agent.

[製造例6]
ポリエステル(PEs)(高松油脂株式会社製、商品名「ペスレジンA−680;ガラス転移点30℃、150℃の溶融粘度:29Pa・s(せん断速度10mm/分)(水を揮発させて樹脂単独で測定))100質量部(固形分20質量%)に、フラックス剤として、アジピン酸5質量部(ペスレジンA−680の樹脂固形分100質量部に対して)を蒸留水に溶解した水溶液を加えて攪拌し、樹脂溶液を作製した。そして、この調整した樹脂溶液を用いて、実施例1と同様の方法により、膜厚30μmのフラックスシートを作製した。
[Manufacturing example 6]
Polyester (PEs) (manufactured by Takamatsu Oil & Fat Co., Ltd., trade name "Pesresin A-680; glass transition point 30 ° C., 150 ° C. melt viscosity: 29 Pa · s (shear rate 10 mm / min)) Measurement)) To 100 parts by mass (solid content 20% by mass), add an aqueous solution prepared by dissolving 5 parts by mass of adipic acid (relative to 100 parts by mass of resin solid content of pesresin A-680) in distilled water as a flux agent. A resin solution was prepared by stirring. Then, using this adjusted resin solution, a flux sheet having a thickness of 30 μm was prepared by the same method as in Example 1.

[製造例7]
フラックス剤として、サリチル酸43質量部(LW−100の樹脂固形分100質量部に対して)を用いたこと以外は、製造例1と同様の方法により、膜厚30μmのフラックスシートを作製した。
[Manufacturing example 7]
A flux sheet having a film thickness of 30 μm was produced by the same method as in Production Example 1 except that 43 parts by mass of salicylic acid (relative to 100 parts by mass of the resin solid content of LW-100) was used as the flux agent.

[製造例8]
LW−100の固形分を70質量部とし、ポリビニルアルコール(PVA)(日本酢ビポバール株式会社製、商品名「ポバールJP−03」;ガラス転移点63℃)30質量部を用い、アジピン酸5質量部(前記LW−100とJP−03の合計100質量部に対して)を用いたこと以外は、製造例1と同様の方法により、膜厚30μmのフラックスシートを作製した。
[製造例9]
LW−100の固形分の配合量を60質量部とし、JP−03の配合量を40質量部、相容化剤としてカルボキシメチルセルロース(CMC)(ダイセルファインケム株式会社製、商品名「CMC1220」)5重量部を用いたこと以外は、製造例8と同様の方法により、膜厚30μmのフラックスシートを作製した。
[Manufacturing Example 8]
The solid content of LW-100 is 70 parts by mass, and 30 parts by mass of polyvinyl alcohol (PVA) (manufactured by Japan Vam & Poval Co., Ltd., trade name "Poval JP-03"; glass transition point 63 ° C.) is used, and 5 parts by mass of adipic acid is used. A flux sheet having a thickness of 30 μm was produced by the same method as in Production Example 1 except that parts (relative to a total of 100 parts by mass of LW-100 and JP-03) were used.
[Manufacturing example 9]
The solid content of LW-100 is 60 parts by mass, the amount of JP-03 is 40 parts by mass, and carboxymethyl cellulose (CMC) as a compatibilizer (manufactured by Daicel FineChem Co., Ltd., trade name "CMC1220") 5 A flux sheet having a thickness of 30 μm was produced by the same method as in Production Example 8 except that the parts by weight were used.

[製造例10]
LW−100の固形分の配合量を50質量部とし、JP−03の配合量を50質量部とした以外は、製造例9と同様の方法により、膜厚30μmのフラックスシートを作製した。
[Manufacturing Example 10]
A flux sheet having a film thickness of 30 μm was produced by the same method as in Production Example 9 except that the solid content of LW-100 was 50 parts by mass and the amount of JP-03 was 50 parts by mass.

[製造例11]
LW−100の固形分の配合量を40質量部とし、JP−03の配合量を60質量部とした以外は、製造例10と同様の方法により、膜厚30μmのフラックスシートを作製した。
[Manufacturing Example 11]
A flux sheet having a film thickness of 30 μm was produced by the same method as in Production Example 10 except that the solid content of LW-100 was 40 parts by mass and the amount of JP-03 was 60 parts by mass.

[比較製造例1]
ポリビニルブチラール(PVB)(積水化学工業株式会社製、商品名「エスレック KW−1;ガラス転移点65℃、150℃の溶融粘度:1444Pa・s(せん断速度10mm/分)(水を揮発させて樹脂単独で測定))の固形分100質量部(固形分20質量%)に、フラックス剤として、アジピン酸5質量部(KW−1の樹脂固形分100質量部に対して)を蒸留水に溶解した水溶液を加えて攪拌し、樹脂溶液を作製した。そして、この調整した樹脂溶液を用いて、製造例1と同様の方法により、膜厚30μmのフラックスシートを作製した。
[Comparative Manufacturing Example 1]
Polyvinyl butyral (PVB) (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., trade name "Eslek KW-1; glass transition point 65 ° C., 150 ° C. melt viscosity: 1444 Pa · s (shear rate 10 mm / min)) (resin by volatilizing water 5 parts by mass of adipic acid (relative to 100 parts by mass of resin solid content of KW-1) was dissolved in distilled water as a flux agent in 100 parts by mass of solid content (20% by mass of solid content) of))). An aqueous solution was added and stirred to prepare a resin solution. Then, using this prepared resin solution, a flux sheet having a thickness of 30 μm was prepared by the same method as in Production Example 1.

[比較製造例2]
ポリビニルアルコール(PVA)(日本酢ビポバール株式会社製、商品名「ポバール JP−03;ガラス転移点63℃、150℃では溶融しない)の固形分100質量部に、フラックス剤として、アジピン酸5質量部(JP−03の樹脂固形分100質量部に対して)を加えて攪拌し、樹脂溶液を作製した。そして、この調整した樹脂溶液を用いて、製造例1と同様の方法により、膜厚30μmのフラックスシートを作製した。
[Comparative Manufacturing Example 2]
Polyvinyl alcohol (PVA) (manufactured by Japan Vam & Poval Co., Ltd., trade name "Poval JP-03; does not melt at glass transition point 63 ° C. and 150 ° C.)" has a solid content of 100 parts by mass and 5 parts by mass of adipic acid as a flux agent. (With respect to 100 parts by mass of the resin solid content of JP-03) was added and stirred to prepare a resin solution. Then, using this adjusted resin solution, the film thickness was 30 μm by the same method as in Production Example 1. Flux sheet was prepared.

[比較製造例3]
エチレン・酢酸ビニル共重合体(EVA)(デンカ株式会社製、商品名「デンカEVAラテックス55N」;ガラス転移点−10℃、150℃では溶融しない)の固形分100質量部に、フラックス剤として、アジピン酸5質量部(デンカEVAラテックス55Nの樹脂固形分100質量部に対して)を蒸留水に溶解した水溶液を加えて攪拌し、樹脂溶液を作製した。そして、この調整した樹脂溶液を用いて、製造例1と同様の方法により、膜厚30μmのフラックスシートを作製した。
[Comparative Manufacturing Example 3]
As a flux agent on 100 parts by mass of the solid content of ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) (manufactured by Denka Co., Ltd., trade name "Denka EVA Latex 55N"; does not melt at glass transition point -10 ° C and 150 ° C). An aqueous solution prepared by dissolving 5 parts by mass of adipic acid (relative to 100 parts by mass of the resin solid content of Denka EVA latex 55N) in distilled water was added and stirred to prepare a resin solution. Then, using this adjusted resin solution, a flux sheet having a film thickness of 30 μm was produced by the same method as in Production Example 1.

[フラックスシートを用いたはんだ接合試験]
はんだ接合試験にあたり、使用した、基板及びはんだボールは以下の通りである。
基板:FR−4(ガラスエポキシ基板で、電極は銅からなり、電極表面のUBM層はCu/Ni/Au(Ni層の厚さは3μm、Au層の厚さは0.03μm)からなるものである。)
はんだボール:はんだ組成(直径760μm、Sn−Ag−Cu;Sn:96.5質量%、Ag:3.0質量%、Cu:0.5質量%(融解温度217〜219℃)))
[Soldering joint test using flux sheet]
The substrates and solder balls used in the solder joint test are as follows.
Substrate: FR-4 (glass epoxy substrate, electrode made of copper, UBM layer on the electrode surface made of Cu / Ni / Au (Ni layer thickness is 3 μm, Au layer thickness is 0.03 μm) Is.)
Solder ball: Solder composition (diameter 760 μm, Sn-Ag-Cu; Sn: 96.5% by mass, Ag: 3.0% by mass, Cu: 0.5% by mass (melting temperature 217 to 219 ° C.))

[実施例1〜11、比較例1〜3]
上記製造例1〜11、比較製造例1〜3で作製したフラックスシートに用いて下記(1)〜(6)の項目について、以下の方法に基づいて評価を行った。評価結果を表1に示す。
(1)フラックスシートと基板との接着性
上記で作製した離型フィルム付フラックスシートを80℃に加熱し、基板に真空で押し当て、基板にラミネートした。室温に戻して、離型フィルムを引き剥がしたときの基板の様子を観察した。
A:フラックスシートが離型フィルムから離れ基板に転写された。
C:フラックスシート/基板界面での剥離、又は/且つ、フラックスシート内での破壊が起こった。
(2)フラックスシートのタック性
上記で作製したフラックスシートについて指触し、室温でのタック性を官能評価した。
A:適度なタックを有する(べたつきがある)
C:タックがない(べたつきがなく他材への貼着が不可のもの)
(3)フラックスシートのリワーク性・取り扱い性
上記で作製したフラックスシートについて、シートに指触後、シートに押し当てた指を他の指に押し当てたときの粘着の有無でのり残りを確認し、室温(体温)でのリワーク性・取り扱い性を官能評価した。
A:指へののり残りない
C:指へののり残りあり
(4)はんだボールの保持力
メタルマスクを用いて、フラックスシートでラミネートされた基板上にはんだボール36個を配置させ、一旦80℃に昇温し、室温に戻した。
はんだボールが配置後の基板を特定角度で傾け、フラックスシートによるはんだボールの保持力を測定した。
A:はんだボール配置後90度傾けたとき、はんだボールが落ちない。
C:はんだボール配置後90度傾けたとき、はんだボールが落ちた。
[Examples 1 to 11, Comparative Examples 1 to 3]
The items (1) to (6) below were evaluated based on the following methods using the flux sheets prepared in Production Examples 1 to 11 and Comparative Production Examples 1 to 3. The evaluation results are shown in Table 1.
(1) Adhesion between Flux Sheet and Substrate The flux sheet with a release film produced above was heated to 80 ° C., pressed against the substrate in a vacuum, and laminated on the substrate. After returning to room temperature, the state of the substrate when the release film was peeled off was observed.
A: The flux sheet was separated from the release film and transferred to the substrate.
C: Peeling at the flux sheet / substrate interface or / and destruction in the flux sheet occurred.
(2) Tackiness of Flux Sheet The flux sheet prepared above was touched and sensory evaluated for its tackiness at room temperature.
A: Has moderate tack (sticky)
C: No tack (non-sticky and cannot be attached to other materials)
(3) Reworkability and handleability of the flux sheet For the flux sheet produced above, after touching the sheet, check the adhesive residue when the finger pressed against the sheet is pressed against another finger. , Reworkability and handleability at room temperature (body temperature) were sensory evaluated.
A: No adhesive residue on the finger C: No adhesive residue on the finger (4) Holding power of solder balls Using a metal mask, 36 solder balls are placed on a substrate laminated with a flux sheet, and once at 80 ° C. The temperature was raised to room temperature and returned to room temperature.
The substrate after the solder balls were placed was tilted at a specific angle, and the holding force of the solder balls by the flux sheet was measured.
A: The solder balls do not fall when tilted 90 degrees after the solder balls are placed.
C: When the solder ball was tilted 90 degrees after placement, the solder ball fell.

(5)溶解除去性(目視及びルーペによる観察)
はんだボールを搭載した基板を、250℃、大気下で加熱処理を行い、はんだと基板を接合させた。
はんだ接合を形成した基板を、超音波洗浄機「プランソニック」(製品名5510、BRANSON社製)を用いて、42kHzで揺動した25℃の蒸留水に浸漬し、5分間の洗浄処理を行った。なお、実施例6においては、蒸留水の代わりに、メタノール/蒸留水=1/1(質量比)の混合溶媒を用いた。以上の工程を経て、フラックスシートを用いた場合のはんだ接合体を得た。
洗浄後の基板を目視及びルーペを用いて、はんだ/基板間の隙間に残存するフラックスシートの有無を観察し、以下の基準により評価した。
A:フラックスシートが全く残存していない。
B:フラックスシートがはんだ端部に少し観察される。
C:フラックスシートが全体にわたって残存している。
(6)はんだ接合力
ダイシェアテスターにより、接合したはんだボール5個についてシェアテストを行い、はんだ接合力を確認した。
A:全て凝集破壊である。
C:一部または全て界面破壊である。
(5) Dissolving and removing property (visual observation and loupe observation)
The substrate on which the solder balls were mounted was heat-treated at 250 ° C. in the atmosphere to bond the solder and the substrate.
The solder-bonded substrate is immersed in distilled water at 25 ° C. rocked at 42 kHz using an ultrasonic cleaner "Plansonic" (product name 5510, manufactured by BRANSON) for 5 minutes. rice field. In Example 6, instead of distilled water, a mixed solvent of methanol / distilled water = 1/1 (mass ratio) was used. Through the above steps, a solder joint using a flux sheet was obtained.
The cleaned substrate was visually observed and the presence or absence of the flux sheet remaining in the gap between the solder / substrate was observed using a loupe, and the evaluation was made according to the following criteria.
A: No flux sheet remains.
B: A flux sheet is slightly observed at the end of the solder.
C: The flux sheet remains throughout.
(6) Solder bonding force A die share tester was used to perform a share test on five bonded solder balls to confirm the solder bonding force.
A: All are cohesive fractures.
C: Partial or all interfacial fracture.

Figure 2020116403
Figure 2020116403

実施例1〜11は、ガラス転移点が40℃以下、150℃の溶融粘度が500Pa・s以下の樹脂を含むフラックスシートを用いていることから、接着性、タック性、リワーク性、はんだ保持力、溶解除去性、はんだ接合力のいずれの評価においても、良好な結果が得られた。なお、実施例1〜5、7〜11と実施例6を比較すると、水との水素結合がより弱い実施例1〜5、7〜11のシートは、実施例6のシートに比べて、水に対する溶解性がより優れる結果となった。実施例8〜11では、ガラス転移点が40℃以下、150℃の溶融粘度が500Pa・s以下の樹脂を含み、かつガラス転移点が前記樹脂より高い樹脂を含有していることからリワーク性・取り扱い性が向上することがわかった。 Since Examples 1 to 11 use a flux sheet containing a resin having a glass transition point of 40 ° C. or lower and a melt viscosity of 150 ° C. of 500 Pa · s or less, adhesiveness, tackiness, reworkability, and solder holding power Good results were obtained in all of the evaluations of dissolution and removability and solder bonding strength. Comparing Examples 1 to 5 and 7 to 11 with Example 6, the sheets of Examples 1 to 5 and 7 to 11 having weaker hydrogen bonds with water are more water than the sheets of Example 6. The result was that it was more soluble in water. In Examples 8 to 11, a resin having a glass transition point of 40 ° C. or lower and a melt viscosity of 150 ° C. of 500 Pa · s or less is contained, and a resin having a glass transition point higher than that of the resin is contained. It was found that the handleability was improved.

比較例1〜2は、ガラス転移点が40℃以下である樹脂を用いていないことから、基板との接着力が弱く、はんだボール保持力が弱いため、はんだ接合力が劣る結果となった。また、比較例3は、150℃の溶融粘度が500Pa・s以下である樹脂を用いていないため、基板との接着力が弱く、はんだボールの沈み込み不足のため、はんだ接合力等が劣る結果となった。 In Comparative Examples 1 and 2, since a resin having a glass transition point of 40 ° C. or lower was not used, the adhesive force with the substrate was weak and the solder ball holding force was weak, resulting in inferior solder bonding force. Further, in Comparative Example 3, since a resin having a melt viscosity at 150 ° C. of 500 Pa · s or less is not used, the adhesive force with the substrate is weak, and the solder ball is insufficiently subducted, resulting in inferior solder bonding force and the like. It became.

本発明によれば、基板との接着性が強く、リフロー中にはんだボールのズレが生じないフラックスシートを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a flux sheet that has strong adhesiveness to a substrate and does not cause displacement of solder balls during reflow.

更に、本発明によれば、多数のはんだバンプを均一性良く形成でき、かつ生産性が高く、環境負荷が小さいはんだ接合方法を提供することができる。 Further, according to the present invention, it is possible to provide a solder joining method capable of forming a large number of solder bumps with good uniformity, high productivity, and low environmental load.

1・・・電極、2・・・ソルダーレジスト、3・・・フラックスシート、4・・・はんだボール、100・・・基板

1 ... Electrode, 2 ... Solder resist, 3 ... Flux sheet, 4 ... Solder ball, 100 ... Substrate

Claims (10)

樹脂(A)を含むフラックスシートであって、前記樹脂(A)が、ガラス転移点が40℃以下で、150℃の溶融粘度が500Pa・s(せん断速度10mm/分で測定)以下である樹脂(a1)を含有することを特徴とする、フラックスシート。 A flux sheet containing the resin (A), wherein the resin (A) has a glass transition point of 40 ° C. or less and a melt viscosity of 150 ° C. of 500 Pa · s (measured at a shear rate of 10 mm / min) or less. A flux sheet containing (a1). 前記樹脂(A)が、ガラス転移点が40℃以下で、150℃の粘度が500Pa・s(せん断速度10mm/分で測定)以下である樹脂(a1)を35〜99質量%、ガラス転移点が前記樹脂(a1)より高い樹脂(a2)を1〜65質量%含有することを特徴とする、請求項1に記載のフラックスシート。 The resin (A) contains 35 to 99% by mass of the resin (a1) having a glass transition point of 40 ° C. or lower and a viscosity of 150 ° C. of 500 Pa · s (measured at a shear rate of 10 mm / min) or less, and a glass transition point. The flux sheet according to claim 1, wherein the flux sheet contains 1 to 65% by mass of the resin (a2), which is higher than the resin (a1). 前記フラックスシートが、フラックス剤(B)を含有することを特徴とする、請求項1又は2に記載のフラックスシート。 The flux sheet according to claim 1 or 2, wherein the flux sheet contains a flux agent (B). 前記フラックスシートは、実質的に(B)以外の低分子化合物を含有しないことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載のフラックスシート。 The flux sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the flux sheet does not substantially contain a small molecule compound other than (B). 前記樹脂(a1)が水溶性であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載のフラックスシート。 The flux sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein the resin (a1) is water-soluble. 前記樹脂(a1)がポリビニルアルコールの一部のヒドロキシ基(−OH)を、アルキレンオキサイド鎖が1つ又は複数連結した部分構造−(CH(R)CH(R)O)―R(nはアルキレンオキサイド鎖の繰り返し数(平均値)を表し、1.0以上である。R,R及びRは、互いに独立して水素原子又は有機基を示す。R,R及びRが複数ある場合、それぞれ同一であってもよく異なっていてもよい。)に置換した変性ポリビニルアルコール、ポリアミド及びポリエステルから選択される1種以上を含むことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載のフラックスシート。The resin (a1) has a partial structure in which one or more hydroxy groups (-OH) of polyvinyl alcohol are linked by one or more alkylene oxide chains- (CH (R 1 ) CH (R 2 ) O) n- R 3 (N represents the number of repetitions (average value) of the alkylene oxide chain and is 1.0 or more. R 1 , R 2 and R 3 represent hydrogen atoms or organic groups independently of each other. R 1 , R 2 and if there are a plurality of R 3, characterized in that it comprises one or more selected respectively may be different may be the same.) substituted and modified polyvinyl alcohol, polyamide and polyester, according to claim 1 The flux sheet according to any one of 1 to 5. 前記樹脂(a2)としてポリビニルアルコールを含有することを特徴とする、請求項2〜6の何れか一項に記載のフラックスシート。 The flux sheet according to any one of claims 2 to 6, wherein the resin (a2) contains polyvinyl alcohol. 前記フラックスシートにおいて、前記樹脂(A)の含有量が50質量%以上であること特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載のフラックスシート。 The flux sheet according to any one of claims 1 to 7, wherein the content of the resin (A) in the flux sheet is 50% by mass or more. 前記フラックスシートの面積が30000mm以上であることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載のフラックスシート。The flux sheet according to any one of claims 1 to 8, wherein the area of the flux sheet is 30,000 mm 2 or more. 請求項1〜9のいずれか一項に記載のフラックスシートを用いたはんだ接合方法であって、下記(1)〜(4)のステップを有することを特徴とする、はんだ接合方法。
(1)電極を有する基板の電極を有する面に前記フラックスシートを配置するステップ
(2)前記フラックスシートの上に、はんだボールを配置するステップ
(3)前記フラックスシートが溶融或いは軟化する温度に加熱するステップ
(4)(3)と同時或いはその後、はんだの融点以上の温度に加熱するステップ

A solder joining method using the flux sheet according to any one of claims 1 to 9, wherein the solder joining method includes the following steps (1) to (4).
(1) Step of arranging the flux sheet on the surface of the substrate having an electrode having an electrode (2) Step of arranging a solder ball on the flux sheet (3) Heating to a temperature at which the flux sheet melts or softens Steps (4) Simultaneously with (3) or after that, the step of heating to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder.

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