JP6967050B2 - Flux composition for soldering - Google Patents

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Description

本発明は、はんだ付け用フラックス組成物に関する。 The present invention relates to a flux composition for soldering.

電子基板と電子部品とのはんだ付け方法としては、いわゆるリフローはんだ付け法の他に、電子基板に仮留めした電子部品を噴流する溶融はんだに接触させることによりはんだ付けする方法、いわゆるフローはんだ付け法も採用されている。このフローはんだ付け法では、噴流する溶融はんだに接触させる前に、例えば特許文献1に記載のようなフラックス組成物が用いられる。 As a method of soldering an electronic board and an electronic component, in addition to the so-called reflow soldering method, a method of soldering an electronic component temporarily fastened to the electronic board by contacting it with a jet of molten solder, a so-called flow soldering method. Has also been adopted. In this flow soldering method, for example, a flux composition as described in Patent Document 1 is used before being brought into contact with the molten solder to be jetted.

一方で、近年のはんだの鉛フリー化に伴い、高融点のはんだが用いられる傾向にある。最も利用されている鉛フリーはんだ合金は、スズ(Sn)−銀(Ag)−銅(Cu)系のはんだ合金、いわゆるSAC系のはんだ合金である。このSAC系のはんだ合金は、従来のスズ−鉛の共晶はんだと比較して、酸化した銅箔へのぬれ広がりが悪くなる。そのため、このようなフラックス組成物は、はんだ付け性(はんだブリッジの抑制性、はんだぬれ性、ぬれ広がりなど)の向上が求められる。
また、このようなフラックス組成物は、スプレー装置などにより電子基板に塗布される。しかしながら、スプレー装置のうち一部のスプレー装置では、フラックス組成物の塗布を行う際に、フラックス組成物の成分が析出して、ノズル詰まりやドラフト用フィルターの詰まりといったフラックス詰まりが発生する場合があった。このようなフラックス詰まりが発生した場合には、ノズル洗浄またはフィルター交換を行う必要があり、生産性が低下してしまうという問題があった。
On the other hand, with the recent trend toward lead-free soldering, solders having a high melting point tend to be used. The most used lead-free solder alloys are tin (Sn) -silver (Ag) -copper (Cu) -based solder alloys, so-called SAC-based solder alloys. Compared with the conventional tin-lead eutectic solder, this SAC-based solder alloy has poor wetting spread on the oxidized copper foil. Therefore, such a flux composition is required to have improved solderability (soldering bridge inhibitory property, solder wettability, wet spread, etc.).
Further, such a flux composition is applied to an electronic substrate by a spray device or the like. However, in some spraying devices, when the flux composition is applied, the components of the flux composition may precipitate, causing flux clogging such as nozzle clogging or draft filter clogging. rice field. When such flux clogging occurs, it is necessary to clean the nozzle or replace the filter, which causes a problem that productivity is lowered.

特開平8−243787号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-243787

本発明は、はんだ付け性に優れ、かつフラックス詰まりの発生が十分に抑制できるはんだ付け用フラックス組成物を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a flux composition for soldering, which has excellent solderability and can sufficiently suppress the occurrence of flux clogging.

前記課題を解決すべく、本発明は、以下のようなはんだ付け用フラックス組成物を提供するものである。
本発明のはんだ付け用フラックス組成物は、(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)溶剤、並びに、(D)炭素数12〜24の脂肪族カルボン酸と炭素数1〜4のアルコールからなる高級脂肪族エステルを含有し、前記(B)成分が、(B1)炭素数2〜4のジカルボン酸を含有し、前記(C)成分が、(C1)1013hPaにおける沸点が240℃以上320℃以下のグリコール系溶剤またはテルペン系溶剤を含有することを特徴とするものである。
In order to solve the above problems, the present invention provides the following flux composition for soldering.
The soldering flux composition of the present invention comprises (A) a rosin-based resin, (B) an activator, (C) a solvent, and (D) an aliphatic carboxylic acid having 12 to 24 carbon atoms and 1 to 4 carbon atoms. The component (B) contains a dicarboxylic acid having (B1) 2 to 4 carbon atoms, and the component (C) has a boiling point of 240 ° C. at (C1) 1013 hPa. It is characterized by containing a glycol-based solvent or a terpene-based solvent having a temperature of 320 ° C. or lower.

本発明のはんだ付け用フラックス組成物においては、前記(B)成分が、(B2)炭素数5〜8のジカルボン酸をさらに含有することが好ましい。
本発明のはんだ付け用フラックス組成物においては、前記(B)成分が、(B3)ロジンアミンをさらに含有することが好ましい。
In the flux composition for soldering of the present invention, it is preferable that the component (B) further contains (B2) a dicarboxylic acid having 5 to 8 carbon atoms.
In the flux composition for soldering of the present invention, it is preferable that the component (B) further contains (B3) rosinamine.

なお、本発明のはんだ付け用フラックス組成物が、はんだ付け性に優れ、かつフラックス詰まりの発生が十分に抑制できる理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推察する。
すなわち、フラックス詰まりの原因は、フラックス組成物中の活性剤の析出にあると本発明者らは推察する。本発明のはんだ付け用フラックス組成物は、活性作用の確保の観点から、(B1)炭素数2〜4のジカルボン酸を用いているが、この(B1)成分が析出し、結晶化し易い成分である。また、本発明のはんだ付け用フラックス組成物は、スプレー塗布後に残る溶剤である(C1)1013hPaにおける沸点が240℃以上320℃以下のグリコール系溶剤またはテルペン系溶剤と、(D)炭素数12〜24の脂肪族カルボン酸と炭素数1〜4のアルコールからなる高級脂肪族エステルと、を含有している。そして、この(D)成分は、(B1)成分が(C1)成分中から析出することを抑制できる。このようにして、本発明では、はんだ付け性に優れ、かつフラックス詰まりの発生が十分に抑制できるものと本発明者らは推察する。
Although it is not always clear why the soldering flux composition of the present invention is excellent in solderability and can sufficiently suppress the occurrence of flux clogging, the present inventors presume as follows.
That is, the present inventors presume that the cause of the flux clogging is the precipitation of the activator in the flux composition. The flux composition for soldering of the present invention uses (B1) a dicarboxylic acid having 2 to 4 carbon atoms from the viewpoint of ensuring the active action, but the component (B1) is precipitated and easily crystallized. be. The soldering flux composition of the present invention comprises a glycol-based solvent or a terpene-based solvent having a boiling point of 240 ° C. or higher and 320 ° C. or lower at (C1) 1013 hPa, which is a solvent remaining after spray coating, and (D) 12 to 12 carbon atoms. It contains 24 aliphatic carboxylic acids and a higher aliphatic ester consisting of an alcohol having 1 to 4 carbon atoms. Then, this component (D) can suppress the precipitation of the component (B1) from the component (C1). In this way, the present inventors presume that the present invention is excellent in solderability and can sufficiently suppress the occurrence of flux clogging.

本発明によれば、はんだ付け性に優れ、かつフラックス詰まりの発生が十分に抑制できるはんだ付け用フラックス組成物を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a flux composition for soldering, which is excellent in solderability and can sufficiently suppress the occurrence of flux clogging.

本実施形態のはんだ付け用フラックス組成物(以下、単に「フラックス組成物」ともいう)は、以下説明する(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)溶剤および(D)高級脂肪族エステルを含有するものである。
本明細書において、鉛フリーはんだとは、鉛を添加しないはんだ金属または合金のことをいう。ただし、鉛フリーはんだ中に、不可避的不純物として鉛が存在することは許容されるが、この場合に、鉛の量は、300質量ppm以下であることが好ましい。
The soldering flux composition of the present embodiment (hereinafter, also simply referred to as “flux composition”) is described below as (A) rosin-based resin, (B) activator, (C) solvent and (D) higher fat. It contains a group ester.
As used herein, lead-free solder refers to solder metals or alloys to which lead is not added. However, it is permissible for lead to be present as an unavoidable impurity in the lead-free solder, but in this case, the amount of lead is preferably 300 mass ppm or less.

鉛フリーはんだにおけるはんだ合金としては、具体的には、Sn−Ag、Sn−Ag−Cu、Sn−Cu、Sn−Ag−Bi、Sn−Bi、Sn−Ag−Cu−Bi、Sn−Sb、Sn−Zn−Bi、Sn−Zn、Sn−Zn−Al、Sn−Ag−Bi−In、Sn−Ag−Cu−Bi−In−Sb、In−Agなどが挙げられる。これらの中でも、はんだ接合の強度の観点から、Sn−Ag−Cu系のはんだ合金が好ましく用いられている。そして、Sn−Ag−Cu系のはんだの融点は、通常200℃以上250℃以下である。なお、Sn−Ag−Cu系のはんだの中でも、銀含有量が低い系のはんだの融点は、210℃以上250℃以下(より好ましくは、220℃以上240℃以下)である。 Specific examples of the solder alloy in lead-free solder include Sn-Ag, Sn-Ag-Cu, Sn-Cu, Sn-Ag-Bi, Sn-Bi, Sn-Ag-Cu-Bi, and Sn-Sb. Examples thereof include Sn-Zn-Bi, Sn-Zn, Sn-Zn-Al, Sn-Ag-Bi-In, Sn-Ag-Cu-Bi-In-Sb, and In-Ag. Among these, Sn-Ag-Cu based solder alloys are preferably used from the viewpoint of the strength of the solder joint. The melting point of the Sn—Ag—Cu-based solder is usually 200 ° C. or higher and 250 ° C. or lower. Among the Sn—Ag—Cu type solders, the melting point of the solder having a low silver content is 210 ° C. or higher and 250 ° C. or lower (more preferably 220 ° C. or higher and 240 ° C. or lower).

[(A)成分]
本実施形態に用いる(A)ロジン系樹脂としては、ロジン類およびロジン系変性樹脂が挙げられる。ロジン類としては、ガムロジン、ウッドロジンおよびトール油ロジンなどが挙げられる。ロジン系変性樹脂としては、不均化ロジン、重合ロジン、水素添加ロジンおよびこれらの誘導体などが挙げられる。水素添加ロジンとしては、完全水添ロジン、部分水添ロジン、並びに、不飽和有機酸((メタ)アクリル酸などの脂肪族の不飽和一塩基酸、フマル酸、マレイン酸などのα,β−不飽和カルボン酸などの脂肪族不飽和二塩基酸、桂皮酸などの芳香族環を有する不飽和カルボン酸など)の変性ロジンである不飽和有機酸変性ロジンの水素添加物(「水添酸変性ロジン」ともいう)などが挙げられる。これらのロジン系樹脂は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
[(A) component]
Examples of the (A) rosin-based resin used in the present embodiment include rosins and rosin-based modified resins. Examples of rosins include gum rosin, wood rosin and tall oil rosin. Examples of the rosin-based modified resin include disproportionated rosin, polymerized rosin, hydrogenated rosin and derivatives thereof. Hydrogenated rosins include fully hydrogenated rosins, partially hydrogenated rosins, and aliphatic unsaturated monobasic acids such as unsaturated organic acids ((meth) acrylic acid, and α, β- such as fumaric acid and maleic acid. Hydrogenated additive of unsaturated organic acid-modified rosin, which is a modified rosin of aliphatic unsaturated dibasic acid such as unsaturated carboxylic acid, unsaturated carboxylic acid having an aromatic ring such as cinnamic acid, etc.) Also known as "rosin"). One of these rosin-based resins may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.

(A)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、0.5質量%以上20質量%以下であることが好ましく、1質量%以上10質量%以下であることがより好ましく、2質量%以上6質量%以下であることが特に好ましい。(A)成分の配合量が前記下限以上であれば、ブリッジやつららの発生をより確実に抑制できる。他方、(A)成分の配合量が前記上限以下であれば、フラックス残さをより少なくできる。 The blending amount of the component (A) is preferably 0.5% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less, based on 100% by mass of the flux composition. It is particularly preferable that it is 2% by mass or more and 6% by mass or less. When the blending amount of the component (A) is at least the above lower limit, the generation of bridges and icicles can be suppressed more reliably. On the other hand, if the blending amount of the component (A) is not more than the upper limit, the flux residue can be further reduced.

[(B)成分]
本実施形態に用いる(B)活性剤は、(B1)炭素数2〜4のジカルボン酸を含有する。この(B1)成分により、はんだ付け性(はんだブリッジの抑制性、はんだぬれ性、ぬれ広がりなど)を向上できる。
(B1)成分としては、シュウ酸、マロン酸およびコハク酸などが挙げられる。これらの中でも、活性作用の観点から、コハク酸が好ましい。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
[(B) component]
The (B) activator used in this embodiment contains (B1) a dicarboxylic acid having 2 to 4 carbon atoms. With this component (B1), solderability (soldering bridge restraint, solder wettability, wet spread, etc.) can be improved.
Examples of the component (B1) include oxalic acid, malonic acid and succinic acid. Among these, succinic acid is preferable from the viewpoint of active action. One of these may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.

(B1)成分の配合量は、0.1質量%以上5質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上4質量%以下であることがより好ましく、1質量%以上3質量%以下であることが特に好ましい。(B1)成分の配合量が前記下限以上であれば、ブリッジやつららの発生をより確実に抑制できる。他方、(B1)成分の配合量が前記上限以下であれば、フラックス詰まりの発生をより確実に抑制できる。 The blending amount of the component (B1) is preferably 0.1% by mass or more and 5% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or more and 4% by mass or less, and 1% by mass or more and 3% by mass or less. Is particularly preferable. When the blending amount of the component (B1) is at least the above lower limit, the generation of bridges and icicles can be suppressed more reliably. On the other hand, when the blending amount of the component (B1) is not more than the upper limit, the occurrence of flux clogging can be suppressed more reliably.

(B)成分は、(B2)炭素数5〜8のジカルボン酸をさらに含有することが好ましい。この(B2)成分により、(B1)成分が結晶化した場合の結晶を微細化できる傾向があり、フラックス詰まりの発生をより確実に抑制できる。
(B2)成分としては、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸およびスベリン酸などが挙げられる。これらの中でも、(B1)成分からなる結晶の微細化の観点から、アジピン酸が好ましい。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
The component (B) preferably further contains (B2) a dicarboxylic acid having 5 to 8 carbon atoms. With this component (B2), there is a tendency that the crystal when the component (B1) is crystallized can be made finer, and the occurrence of flux clogging can be suppressed more reliably.
Examples of the component (B2) include glutaric acid, adipic acid, pimelic acid and suberic acid. Among these, adipic acid is preferable from the viewpoint of miniaturization of the crystal composed of the component (B1). One of these may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.

(B2)成分の配合量は、0.1質量%以上3質量%以下であることが好ましく、0.2質量%以上2質量%以下であることがより好ましく、0.3質量%以上1質量%以下であることが特に好ましい。(B2)成分の配合量が前記範囲内であれば、フラックス詰まりの発生をより確実に抑制できる。 The blending amount of the component (B2) is preferably 0.1% by mass or more and 3% by mass or less, more preferably 0.2% by mass or more and 2% by mass or less, and 0.3% by mass or more and 1% by mass. % Or less is particularly preferable. When the blending amount of the component (B2) is within the above range, the occurrence of flux clogging can be suppressed more reliably.

(B)成分は、(B3)ロジンアミンをさらに含有することが好ましい。この(B3)成分により、フラックス詰まりの発生をより確実に抑制でき、また、銅箔腐食も抑制できる。
(B3)成分としては、デヒドロアビエチルアミンを主成分として(好ましくは50質量%以上、より好ましくは70質量%以上、特に好ましくは90質量%以上)含有するものが挙げられる。このロジンアミンは、例えば、ロジン類をアンモニアと反応させた後、水素化する方法で製造できる。ロジン類としては、(A)成分と同様のものが挙げられる。
The component (B) preferably further contains (B3) rosinamine. With this component (B3), the occurrence of flux clogging can be suppressed more reliably, and copper foil corrosion can also be suppressed.
Examples of the component (B3) include those containing dehydroabiethylamine as a main component (preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, particularly preferably 90% by mass or more). This rosin amine can be produced, for example, by reacting rosins with ammonia and then hydrogenating them. Examples of rosins include those similar to the component (A).

(B3)成分の配合量は、0.1質量%以上3質量%以下であることが好ましく、0.2質量%以上2質量%以下であることがより好ましく、0.3質量%以上1質量%以下であることが特に好ましい。(B3)成分の配合量が前記範囲内であれば、フラックス詰まりの発生をより確実に抑制でき、また、銅箔腐食も抑制できる。 The blending amount of the component (B3) is preferably 0.1% by mass or more and 3% by mass or less, more preferably 0.2% by mass or more and 2% by mass or less, and 0.3% by mass or more and 1% by mass. % Or less is particularly preferable. When the blending amount of the component (B3) is within the above range, the occurrence of flux clogging can be more reliably suppressed, and the corrosion of copper foil can also be suppressed.

(B)成分は、(B1)成分〜(B3)成分以外の公知の活性剤((B4)成分)をさらに含有していてもよい。(B4)成分としては、(B1)成分および(B2)成分以外の有機酸、非解離性のハロゲン化化合物からなる非解離型活性剤、およびアミン系活性剤などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
(B1)成分および(B2)成分以外の有機酸としては、モノカルボン酸、(B1)成分および(B2)成分以外のジカルボン酸などの他に、その他の有機酸が挙げられる。
モノカルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ブチリック酸、バレリック酸、カプロン酸、エナント酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ツベルクロステアリン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸、リグノセリン酸、およびグリコール酸などが挙げられる。
ジカルボン酸としては、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、およびジグリコール酸などが挙げられる。
その他の有機酸としては、ダイマー酸、レブリン酸、乳酸、アクリル酸、安息香酸、サリチル酸、アニス酸、クエン酸、およびピコリン酸などが挙げられる。
The component (B) may further contain a known activator (component (B4)) other than the components (B1) to (B3). Examples of the component (B4) include organic acids other than the components (B1) and (B2), non-dissociative activators composed of non-dissociative halogenated compounds, and amine-based activators. One of these may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.
Examples of the organic acid other than the component (B1) and the component (B2) include a monocarboxylic acid, a dicarboxylic acid other than the component (B1) and the component (B2), and other organic acids.
Monocarboxylic acids include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid and tubercrostearic acid. , Arakidic acid, behenic acid, lignoseric acid, and glycolic acid.
Examples of the dicarboxylic acid include azelaic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, tartaric acid, and diglycolic acid.
Other organic acids include dimer acid, levulinic acid, lactic acid, acrylic acid, benzoic acid, salicylic acid, anis acid, citric acid, picolin acid and the like.

非解離性のハロゲン化化合物からなる非解離型活性剤としては、ハロゲン原子が共有結合により結合した非塩系の有機化合物が挙げられる。このハロゲン化化合物としては、塩素化物、臭素化物、フッ化物のように塩素、臭素、フッ素の各単独元素の共有結合による化合物でもよいが、塩素、臭素およびフッ素の任意の2つまたは全部のそれぞれの共有結合を有する化合物でもよい。これらの化合物は、水性溶媒に対する溶解性を向上させるために、例えばハロゲン化アルコールやハロゲン化カルボキシルのように水酸基やカルボキシル基などの極性基を有することが好ましい。ハロゲン化アルコールとしては、例えば臭素化アルコール(2,3−ジブロモプロパノール、2,3−ジブロモブタンジオール、トランス−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール(TDBD)、1,4−ジブロモ−2−ブタノール、およびトリブロモネオペンチルアルコールなど)、塩素化アルコール(1,3−ジクロロ−2−プロパノール、および1,4−ジクロロ−2−ブタノールなど)、フッ素化アルコール(3−フルオロカテコールなど)、および、その他これらに類する化合物が挙げられる。ハロゲン化カルボキシルとしては、ヨウ化カルボキシル(2−ヨード安息香酸、3−ヨード安息香酸、2−ヨードプロピオン酸、5−ヨードサリチル酸、および5−ヨードアントラニル酸など)、塩化カルボキシル(2−クロロ安息香酸、および3−クロロプロピオン酸など)、臭素化カルボキシル(2,3−ジブロモプロピオン酸、2,3−ジブロモコハク酸、2−ブロモ安息香酸など)、および、その他これらに類する化合物が挙げられる。 Examples of the non-dissociable activator composed of a non-dissociable halogenated compound include non-salt organic compounds in which halogen atoms are covalently bonded. The halogenated compound may be a compound formed by a covalent bond of each single element of chlorine, bromine, and fluorine, such as chlorinated, bromine, and fluoride, but any two or all of chlorine, bromine, and fluorine can be used. It may be a compound having a covalent bond of. These compounds preferably have polar groups such as hydroxyl groups and carboxyl groups, such as alcohol halides and carboxyl halides, in order to improve solubility in aqueous solvents. Examples of the halogenated alcohol include brominated alcohols (2,3-dibromopropanol, 2,3-dibromobutandiol, trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol (TDBD), 1,4. -Dibromo-2-butanol, tribromoneopentyl alcohol, etc.), chlorinated alcohol (1,3-dichloro-2-propanol, and 1,4-dichloro-2-butanol, etc.), fluorinated alcohol (3-fluoro, etc.) (Catecol, etc.), and other similar compounds. Halogenated carboxyls include carboxyl iodide (2-iodobenzoic acid, 3-iodobenzoic acid, 2-iodopropionic acid, 5-iodosalicylic acid, 5-iodoanthranic acid, etc.), carboxyl chloride (2-chlorobenzoic acid, etc.). , And 3-chloropropionic acid, etc.), carboxylated bromide (2,3-dibromopropionic acid, 2,3-dibromosuccinic acid, 2-bromobenzoic acid, etc.), and other similar compounds.

アミン系活性剤としては、アミン類(エチレンジアミンなどのポリアミンなど)、アミン塩類(トリメチロールアミン、シクロヘキシルアミン、ジエチルアミンなどのアミンやアミノアルコールなどの有機酸塩や無機酸塩(塩酸、硫酸、臭化水素酸など))、アミノ酸類(グリシン、アラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、およびバリンなど)、アミド系化合物などが挙げられる。具体的には、ジフェニルグアニジン臭化水素酸塩、シクロヘキシルアミン臭化水素酸塩、ジエチルアミン塩(塩酸塩、コハク酸塩、アジピン酸塩、セバシン酸塩など)、トリエタノールアミン、モノエタノールアミン、および、これらのアミンの臭化水素酸塩などが挙げられる。 Amine-based activators include amines (polyamines such as ethylenediamine), amine salts (amines such as trimethylolamine, cyclohexylamine and diethylamine, organic acid salts such as aminoalcohol and inorganic acid salts (hydrochloride, sulfuric acid, bromide). Hydrogen acid etc.)), amino acids (glycine, alanine, aspartic acid, glutamic acid, valine etc.), amide compounds and the like. Specifically, diphenylguanidine hydrobromide, cyclohexylamine hydrobromide, diethylamine salts (salts, succinates, adipates, sebacates, etc.), triethanolamine, monoethanolamine, and , Hydrobromide of these amines and the like.

(B)成分の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、0.5質量%以上10質量%以下であることが好ましく、1質量%以上8質量%以下であることがより好ましく、2質量%以上5質量%以下であることが特に好ましい。配合量が前記下限以上であれば、はんだ付け性を向上でき、他方、前記上限以下であれば、フラックス組成物の絶縁性を確保できる。 The blending amount of the component (B) is preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less, and more preferably 1% by mass or more and 8% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition. It is particularly preferable that the content is 2% by mass or more and 5% by mass or less. When the blending amount is not less than the lower limit, the solderability can be improved, while when it is not more than the upper limit, the insulating property of the flux composition can be ensured.

[(C)成分]
本実施形態に用いる(C)溶剤は、(C1)1013hPaにおける沸点が240℃以上320℃以下のグリコール系溶剤またはテルペン系溶剤を含有する。この(C1)成分により、スプレー塗布後のフラックス組成物中に、(B1)成分を溶解させておくことができる。
[(C) component]
The solvent (C) used in the present embodiment contains a glycol-based solvent or a terpene-based solvent having a boiling point of (C1) 1013 hPa of 240 ° C. or higher and 320 ° C. or lower. With this component (C1), the component (B1) can be dissolved in the flux composition after spray coating.

(C1)成分としては、トリエチレングリコールモノメチルエーテル(249℃)、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル(295℃)、トリエチレングリコールモノブチルエーテル(271℃)、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(259℃)、ジエチレングリコールモノ2−エチルヘキシルエーテル(272℃)、エチレングリコールモノフェニルエーテル(245℃)、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル(283℃)、エチレングリコールモノベンジルエーテル(256℃)、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル(302℃)、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル(242℃)、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル(274℃)、プロピレングリコールモノフェニルエーテル(243℃)、ジエチレングリコールジブチルエーテル(255℃)、テトラエチレングリコールジメチルエーテル(275℃)およびイソボルニルシクロヘキサノール(310〜318℃)などが挙げられる。これらの中でも、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノ2−エチルヘキシルエーテル、イソボルニルシクロヘキサノールが好ましい。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。なお、括弧内に記載の温度は、上記の溶剤の沸点である。 The components (C1) include triethylene glycol monomethyl ether (249 ° C), polyethylene glycol monomethyl ether (295 ° C), triethylene glycol monobutyl ether (271 ° C), diethylene glycol monohexyl ether (259 ° C), and diethylene glycol mono2-ethylhexyl. Ether (272 ° C), ethylene glycol monophenyl ether (245 ° C), diethylene glycol monophenyl ether (283 ° C), ethylene glycol monobenzyl ether (256 ° C), diethylene glycol monobenzyl ether (302 ° C), tripropylene glycol monoethyl ether (242 ° C), tripropylene glycol monobutyl ether (274 ° C), propylene glycol monophenyl ether (243 ° C), diethylene glycol dibutyl ether (255 ° C), tetraethylene glycol dimethyl ether (275 ° C) and isobornylcyclohexanol (310 ° C). 318 ° C.) and the like. Among these, tripropylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol mono2-ethylhexyl ether, and isobornylcyclohexanol are preferable. One of these may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used. The temperature shown in parentheses is the boiling point of the above solvent.

(C1)成分の配合量は、0.5質量%以上10質量%以下であることが好ましく、1質量%以上5質量%以下であることがより好ましく、1.5質量%以上3質量%以下であることが特に好ましい。(C1)成分の配合量が前記範囲内であれば、フラックス詰まりの発生をより確実に抑制できる。 The blending amount of the component (C1) is preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 5% by mass or less, and 1.5% by mass or more and 3% by mass or less. Is particularly preferable. When the blending amount of the component (C1) is within the above range, the occurrence of flux clogging can be suppressed more reliably.

(C)成分は、(C2)沸点100℃以下の水溶性溶剤を含有することが好ましい。この(C2)成分により、フラックス組成物を適正な範囲に調整できる。
(C2)成分としては、エチルアルコール、およびイソプロピルアルコールなどが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
The component (C) preferably contains (C2) a water-soluble solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower. With this component (C2), the flux composition can be adjusted to an appropriate range.
Examples of the component (C2) include ethyl alcohol and isopropyl alcohol. One of these may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.

(C)成分は、(C1)成分および(C2)成分以外の溶剤((C3)成分)をさらに含有していてもよい。(C3)成分としては、炭化水素系溶剤(イソオクタンなど)などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。 The component (C) may further contain a solvent (component (C3)) other than the component (C1) and the component (C2). Examples of the component (C3) include hydrocarbon solvents (isooctane and the like) and the like. One of these may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.

(C)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、70質量%以上95質量%以下であることが好ましく、75質量%以上92質量%以下であることがより好ましく、80質量%以上90質量%以下であることが特に好ましい。配合量が前記範囲内であれば、フラックス組成物の塗布性を適正な範囲に調整できる。 The blending amount of the component (C) is preferably 70% by mass or more and 95% by mass or less, more preferably 75% by mass or more and 92% by mass or less, and 80% by mass with respect to 100% by mass of the flux composition. It is particularly preferable that it is% or more and 90% by mass or less. When the blending amount is within the above range, the coatability of the flux composition can be adjusted within an appropriate range.

[(D)成分]
本実施形態に用いる(D)高級脂肪族エステルは、炭素数12〜24の脂肪族カルボン酸と炭素数1〜4のアルコールからなる高級脂肪族エステルである。この(D)成分は、(B1)成分の(C1)成分中への溶解性を向上させ、析出することを抑制できる。また、長時間の放置により、(B1)成分が析出した場合、新液の供給により速やかに液中に再溶解させることができ、フラックス詰まりを抑制できる。なお、脂肪族カルボン酸の炭素数が11以下の場合には、上記の効果が不十分である。他方、脂肪族カルボン酸の炭素数が25以上のものは入手が困難である。また、アルコールの炭素数が5以上の場合には、上記の効果が不十分である。脂肪族カルボン酸の炭素数は、12〜18であることが好ましく、18であることが特に好ましい。アルコールの炭素数は、2〜4であることが好ましく、4であることが特に好ましい。
これらの高級脂肪族エステルは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
[(D) component]
The (D) higher aliphatic ester used in the present embodiment is a higher aliphatic ester composed of an aliphatic carboxylic acid having 12 to 24 carbon atoms and an alcohol having 1 to 4 carbon atoms. This component (D) can improve the solubility of the component (B1) in the component (C1) and suppress precipitation. Further, when the component (B1) is precipitated by being left for a long time, it can be quickly redissolved in the liquid by supplying a new liquid, and flux clogging can be suppressed. When the number of carbon atoms of the aliphatic carboxylic acid is 11 or less, the above effect is insufficient. On the other hand, aliphatic carboxylic acids having 25 or more carbon atoms are difficult to obtain. Further, when the number of carbon atoms of the alcohol is 5 or more, the above effect is insufficient. The aliphatic carboxylic acid preferably has 12 to 18 carbon atoms, and particularly preferably 18. The carbon number of the alcohol is preferably 2 to 4, and particularly preferably 4.
One of these higher aliphatic esters may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.

ここで、脂肪族カルボン酸は、飽和であってもよく、不飽和であってもよい。また、脂肪族カルボン酸は、分岐を有していてもよい。
脂肪族カルボン酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ノナデシル酸、アラキジン酸、ヘンイコシル酸、ベヘン酸、トリコシル酸、リグノセリン酸、α−リノレン酸、リノール酸、およびオレイン酸などが挙げられる。
アルコールとしては、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、およびtert−ブチルアルコールなどが挙げられる。
Here, the aliphatic carboxylic acid may be saturated or unsaturated. Further, the aliphatic carboxylic acid may have a branch.
The aliphatic carboxylic acids include lauric acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, margaric acid, stearate, nonadesilic acid, arachidic acid, henicosyl acid, bechenic acid, tricosyl acid, lignoceric acid, α-linolenic acid, and linoleic acid. , And oleic acid and the like.
Examples of the alcohol include methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, tert-butyl alcohol and the like.

(D)成分の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、0.1質量%以上5質量%以下であることが好ましく、0.2質量%以上3質量%以下であることがより好ましく、0.5質量%以上2質量%以下であることが特に好ましい。配合量が前記下限以上であれば、フラックス詰まりの発生をより確実に抑制でき、他方、前記上限以下であれば、絶縁信頼性を維持できる。 The blending amount of the component (D) is preferably 0.1% by mass or more and 5% by mass or less, and preferably 0.2% by mass or more and 3% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition. It is more preferably 0.5% by mass or more and 2% by mass or less. When the blending amount is not less than the lower limit, the occurrence of flux clogging can be suppressed more reliably, while when it is not more than the upper limit, insulation reliability can be maintained.

本実施形態のフラックス組成物は、(A)成分〜(D)成分の他に、必要に応じて、チクソ剤、酸化防止剤、消泡剤、防錆剤、および界面活性剤などの添加剤を含有していてもよい。これらの添加剤の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、0.01質量%以上5質量%以下であることが好ましい。 In the flux composition of the present embodiment, in addition to the components (A) to (D), additives such as a thix agent, an antioxidant, an antifoaming agent, a rust preventive agent, and a surfactant are added, if necessary. May be contained. The blending amount of these additives is preferably 0.01% by mass or more and 5% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition.

[はんだ付け方法]
次に、本実施形態のフラックス組成物を用いたはんだ付け方法について説明する。本実施形態のはんだ付け方法は、以下説明する部品取付工程、フラックス塗布工程およびはんだ付け工程を備える方法である。
[Soldering method]
Next, a soldering method using the flux composition of the present embodiment will be described. The soldering method of the present embodiment is a method including a component mounting step, a flux applying step, and a soldering step described below.

部品取付工程においては、先ず、電子部品を電子基板に挿入して、取り付ける。
電子基板としては、例えば、プリント配線基板などが挙げられる。
電子部品は、電子基板のスルーホールに挿入可能で、挿入後にはんだ付けをすることで実装する方法(いわゆるスルーホール実装)で用いるものである。電子部品としては、集積回路、トランジスタ、ダイオード、抵抗器およびコンデンサなどが挙げられる。
In the component mounting process, first, the electronic component is inserted into the electronic board and mounted.
Examples of the electronic board include a printed wiring board and the like.
Electronic components can be inserted into through-holes on an electronic board, and are used in a method of mounting by soldering after insertion (so-called through-hole mounting). Electronic components include integrated circuits, transistors, diodes, resistors and capacitors.

フラックス塗布工程においては、電子基板のはんだ付け面に、前述したフラックス組成物を塗布する。
フラックス組成物の塗布装置としては、塗布量の安定性の観点から、スプレーフラクサーなどを採用できる。なお、本実施形態のフラックス組成物は、フラックス詰まりの発生が十分に抑制できるため、スプレーフラクサーに好適に用いることができる。
フラックス組成物の塗布量は、はんだ付け性の観点から、30mL/m以上180mL/m以下であることが好ましく、40mL/m以上150mL/m以下であることがより好ましく、50mL/m以上120mL/m以下であることが特に好ましい。
In the flux application step, the above-mentioned flux composition is applied to the soldered surface of the electronic substrate.
As a flux composition coating device, a spray fluxer or the like can be adopted from the viewpoint of stability of the coating amount. Since the flux composition of the present embodiment can sufficiently suppress the occurrence of flux clogging, it can be suitably used for a spray fluxer.
From the viewpoint of solderability, the coating amount of the flux composition is preferably 30 mL / m 2 or more and 180 mL / m 2 or less, more preferably 40 mL / m 2 or more and 150 mL / m 2 or less, and more preferably 50 mL / m /. it is particularly preferred m is 2 or more 120 mL / m 2 or less.

はんだ付け工程においては、電子基板のはんだ付け面を、溶融はんだに接触させて、はんだ付けを行う。
溶融はんだを接触させる方法としては、溶融はんだを電子基板に接触できる方法であればよく、特に限定されない。このような方法としては、例えば、電子基板に噴流する溶融はんだに接触させる方法(フローはんだ付け法)を採用してもよい。また、溶融はんだの入ったはんだ槽を電子基板に接触させる方法を採用してもよい。
はんだ付けの条件は、はんだの融点に応じて適宜設定すればよい。例えば、Sn−Au−Cu系のはんだ合金を用いる場合には、溶融はんだの温度は、230℃以上280℃以下(好ましくは、250℃以上270℃以下)に設定すればよい。また、プリヒート温度としては、加熱温度80℃以上130℃以下(好ましくは、90℃以上120℃以下)に設定すればよい。
In the soldering process, the soldered surface of the electronic board is brought into contact with the molten solder for soldering.
The method of contacting the molten solder is not particularly limited as long as it can contact the molten solder with the electronic substrate. As such a method, for example, a method of contacting with molten solder jetting on an electronic substrate (flow soldering method) may be adopted. Further, a method of bringing the solder bath containing the molten solder into contact with the electronic board may be adopted.
The soldering conditions may be appropriately set according to the melting point of the solder. For example, when a Sn—Au—Cu based solder alloy is used, the temperature of the molten solder may be set to 230 ° C. or higher and 280 ° C. or lower (preferably 250 ° C. or higher and 270 ° C. or lower). The preheat temperature may be set to a heating temperature of 80 ° C. or higher and 130 ° C. or lower (preferably 90 ° C. or higher and 120 ° C. or lower).

次に、本発明を実施例および比較例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、実施例および比較例にて用いた材料を以下に示す。
((A)成分)
ロジン系樹脂:商品名「中国ロジンX」、荒川化学工業社製
((B1)成分)
活性剤A:コハク酸
((B2)成分)
活性剤B:アジピン酸
((B3)成分)
活性剤C:商品名「ロジンアミン」、丸善油化商事社製
((B3)成分)
活性剤D:トランス−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール(TDBD)、丸善油化商事社製
((C1)成分)
溶剤A:トリプロピレングリコールモノブチルエーテル
((C2)成分)
溶剤B:イソプロピルアルコール
((C3)成分)
溶剤C:イソオクタン、丸善油化商事社製
((D)成分)
高級脂肪酸エステル:ステアリン酸ブチル、商品名「エキセパールBS」、島田商会社製
Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these examples. The materials used in Examples and Comparative Examples are shown below.
((A) component)
Rosin resin: Product name "China Rosin X", manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd. ((B1) component)
Activator A: Succinic acid ((B2) component)
Activator B: Adipic acid ((B3) component)
Activator C: Product name "Rodinamine", manufactured by Maruzen Yuka Shoji Co., Ltd. ((B3) ingredient)
Activator D: Trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol (TDBD), manufactured by Maruzen Yuka Shoji Co., Ltd. ((C1) component)
Solvent A: Tripropylene glycol monobutyl ether ((C2) component)
Solvent B: Isopropyl alcohol ((C3) component)
Solvent C: Isooctane, manufactured by Maruzen Yuka Shoji Co., Ltd. (component (D))
Higher fatty acid ester: Butyl stearate, trade name "Exepearl BS", manufactured by Shimada Trading Co., Ltd.

[実施例1]
ロジン系樹脂3質量%、活性剤A1.7質量%、活性剤B0.3質量%、活性剤C0.3質量%、活性剤D0.7質量%、高級脂肪酸エステル0.5質量%、溶剤A2.5質量%、溶剤B86質量%および溶剤C5質量%を容器に投入し、混合してフラックス組成物を得た。
[Example 1]
Rosin resin 3% by mass, activator A 1.7% by mass, activator B 0.3% by mass, activator C 0.3% by mass, activator D 0.7% by mass, higher fatty acid ester 0.5% by mass, solvent A2 .5% by mass, solvent B86% by mass and solvent C5% by mass were put into a container and mixed to obtain a flux composition.

[実施例2〜7および比較例1〜3]
表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして、フラックス組成物を得た。
[Examples 2 to 7 and Comparative Examples 1 to 3]
A flux composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that each material was blended according to the composition shown in Table 1.

<フラックス組成物の評価>
フラックス組成物の特性(フラックス詰まり、はんだブリッジ、銅箔腐食)を以下のような方法で評価した。得られた結果を表1に示す。
(1)フラックス詰まり
スプレーフラクサー(「TAF40−12PV」、タムラ製作所社製)にて、以下の条件で、フラックス組成物を塗布した。
スプレーノズルの直径:1.2mm
塗布量:100mL/m
そして、フラックス組成物の塗布を、1時間行った後の、(i)スプレーノズル、および(ii)ドレインフィルターの状態を目視確認し、下記の基準に従って、フラックス詰まりを評価した。
(i)スプレーノズル
○:スプレーノズルの周囲に、結晶物がない。
△:スプレーノズルの周囲に、僅かに結晶物がある。
×:スプレーノズルの周囲に、結晶物がある。
(ii)ドレインフィルター
○:ドレインフィルターに付着物がない、或いは、ドレインフィルターに付着している付着物が、液状である。
×:ドレインフィルターに付着している付着物が、粉体状または固形物である。
(2)はんだブリッジ
コネクタを挿入可能な基板(銅箔を劣化処理したもの)を準備し、この基板の裏側から、コネクタ(「B8b−EH(LF)(SN)」、J.S.T. Mfg. co.,Ltd社製、スズめっき8ピン)を、10箇所に挿入し、テープで仮止めして、試験板を得た。
この試験板に、スプレーフラクサー(「TAF40−12PV」、タムラ製作所社製)にて、以下の条件で、フラックス組成物を塗布した。
スプレーノズルの直径:1.2mm
塗布量:110mL/m
そして、この試験板に、フローはんだ付けを行い、評価用試料を得た。ここでのフローはんだ付け条件は、プリヒート温度が100〜120℃(30〜60秒間)で、はんだ温度が250℃で、はんだ合金組成が96.5Sn−3.0Ag−0.5Cuである。
得られた評価用試料のコネクタ部10箇所を観察し、隣接するランド、またはコネクタピンがはんだによって短絡した箇所を、不良部としてカウントした。なお、評価用試料は3枚作製し、全コネクタにおける不良部の合計数から、下記の基準に従って、はんだブリッジを評価した。
○:不良点数が40未満である。
×:不良点数が40以上である。
(3)銅箔腐食
銅板(大きさ:50mm×50mm、厚み:0.5mm)を清浄にし、中央に直径20mmの鋼球で、深さ3mmの窪みを形成した。次に、線はんだ(合金組成:96.5Sn−3.0Ag−0.5Cu)1gをらせん状に巻き、銅板の中央に配置した。次いで、銅板の窪みに、固形分量が0.035〜0.040gになるように、フラックス組成物の滴下と乾燥とを繰り返して、試験板を得た。この試験板を、温度250℃に設定したはんだバス上で加熱し、はんだ溶融後5秒間加熱を続けた。その後、室温に放冷した後、温度40℃湿度90%RHの恒温恒湿槽に、96時間投入した。そして、投入前後での試験板の変化を目視にて観察し、下記の基準に従って、銅箔腐食を評価した。
○:銅板上に広がったフラックス残さ部において、著しい変色、および銅板への腐食がない。
△:銅板上に広がったフラックス残さ部において、著しい変色、または銅板への腐食が認められる。
<Evaluation of flux composition>
The characteristics of the flux composition (flux clogging, solder bridge, copper foil corrosion) were evaluated by the following methods. The results obtained are shown in Table 1.
(1) Flux clogging A flux composition was applied with a spray fluxer (“TAF40-12PV”, manufactured by Tamura Corporation) under the following conditions.
Spray nozzle diameter: 1.2mm
Application amount: 100 mL / m 2
Then, after the application of the flux composition was carried out for 1 hour, the states of (i) the spray nozzle and (ii) the drain filter were visually confirmed, and the flux clogging was evaluated according to the following criteria.
(I) Spray nozzle ○: There are no crystals around the spray nozzle.
Δ: There are a few crystals around the spray nozzle.
X: There are crystals around the spray nozzle.
(Ii) Drain filter ◯: There is no deposit on the drain filter, or the deposit on the drain filter is liquid.
X: The deposits adhering to the drain filter are powdery or solid.
(2) A board into which a solder bridge connector can be inserted (deteriorated copper foil) is prepared, and from the back side of this board, a connector (“B8b-EH (LF) (SN)”, JST. Mfg. Co., manufactured by Ltd., tin-plated 8-pin) was inserted at 10 points and temporarily fixed with tape to obtain a test plate.
A flux composition was applied to this test plate with a spray fluxer (“TAF40-12PV”, manufactured by Tamura Corporation) under the following conditions.
Spray nozzle diameter: 1.2mm
Application amount: 110 mL / m 2
Then, flow soldering was performed on this test plate to obtain a sample for evaluation. The flow soldering conditions here are a preheat temperature of 100 to 120 ° C. (30 to 60 seconds), a solder temperature of 250 ° C., and a solder alloy composition of 96.5 Sn-3.0Ag-0.5Cu.
Ten points of the connector portion of the obtained evaluation sample were observed, and the portion where the adjacent land or the connector pin was short-circuited by the solder was counted as a defective portion. Three evaluation samples were prepared, and the solder bridge was evaluated according to the following criteria from the total number of defective parts in all connectors.
◯: The number of defective points is less than 40.
X: The number of defective points is 40 or more.
(3) Corrosion of copper foil A copper plate (size: 50 mm × 50 mm, thickness: 0.5 mm) was cleaned, and a steel ball having a diameter of 20 mm was formed in the center to form a depression having a depth of 3 mm. Next, 1 g of wire solder (alloy composition: 96.5 Sn-3.0Ag-0.5Cu) was spirally wound and placed in the center of the copper plate. Next, a test plate was obtained by repeating dropping and drying the flux composition in the recesses of the copper plate so that the solid content was 0.035 to 0.040 g. This test plate was heated on a solder bath set at a temperature of 250 ° C., and heating was continued for 5 seconds after the solder was melted. Then, after allowing to cool to room temperature, it was put into a constant temperature and humidity chamber having a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% RH for 96 hours. Then, the change of the test plate before and after charging was visually observed, and the copper foil corrosion was evaluated according to the following criteria.
◯: There is no significant discoloration or corrosion on the copper plate in the flux residue portion spread on the copper plate.
Δ: Significant discoloration or corrosion to the copper plate is observed in the flux residue portion spread on the copper plate.

Figure 0006967050
Figure 0006967050

表1に示す結果からも明らかなように、本発明のフラックス組成物を用いた場合(実施例1〜7)には、フラックス詰まり、はんだブリッジ、および銅箔腐食の全てが良好であることが分かった。従って、本発明によれば、はんだ付け性に優れ、かつフラックス詰まりの発生が十分に抑制できることが確認された。 As is clear from the results shown in Table 1, when the flux composition of the present invention is used (Examples 1 to 7), all of the flux clogging, the solder bridge, and the copper foil corrosion are good. Do you get it. Therefore, according to the present invention, it has been confirmed that the solderability is excellent and the occurrence of flux clogging can be sufficiently suppressed.

本発明のはんだ付け用フラックス組成物は、電子機器のプリント配線基板などの電子基板に電子部品を実装するための技術として特に好適に用いることができる。 The flux composition for soldering of the present invention can be particularly preferably used as a technique for mounting an electronic component on an electronic board such as a printed wiring board of an electronic device.

Claims (3)

(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)溶剤、並びに、(D)炭素数12〜24の脂肪族カルボン酸と炭素数1〜4のアルコールからなる高級脂肪族エステルを含有するフラックス組成物であって
前記(B)成分が、(B1)炭素数2〜4のジカルボン酸を含有し、
前記(C)成分が、(C1)1013hPaにおける沸点が240℃以上320℃以下のグリコール系溶剤またはテルペン系溶剤を含有し、
前記(B1)成分の配合量が、前記フラックス組成物100質量%に対して、0.1質量%以上5質量%以下であり、
前記(C1)成分の配合量が、前記フラックス組成物100質量%に対して、0.5質量%以上10質量%以下であり、
前記(D)成分の配合量が、フラックス組成物100質量%に対して、0.1質量%以上5質量%以下である
ことを特徴とするはんだ付け用フラックス組成物。
(A) rosin resin, (B) a active agent, (C) a solvent, and contains a higher aliphatic ester consisting of (D) an alcohol having 1 to 4 aliphatic carboxylic acid with a carbon number of 12 to 24 carbon atoms It is a flux composition
The component (B) contains (B1) a dicarboxylic acid having 2 to 4 carbon atoms.
The component (C) contains a glycol-based solvent or a terpene-based solvent having a boiling point of 240 ° C. or higher and 320 ° C. or lower at (C1) 1013 hPa.
The blending amount of the component (B1) is 0.1% by mass or more and 5% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition.
The blending amount of the component (C1) is 0.5% by mass or more and 10% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition.
A flux composition for soldering, wherein the blending amount of the component (D) is 0.1% by mass or more and 5% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition.
請求項1に記載のはんだ付け用フラックス組成物において、
前記(B)成分が、(B2)炭素数5〜8のジカルボン酸をさらに含有する
ことを特徴とするはんだ付け用フラックス組成物。
In the soldering flux composition according to claim 1,
A flux composition for soldering, wherein the component (B) further contains (B2) a dicarboxylic acid having 5 to 8 carbon atoms.
請求項1または請求項2に記載のはんだ付け用フラックス組成物において、
前記(B)成分が、(B3)ロジンアミンをさらに含有する
ことを特徴とするはんだ付け用フラックス組成物。
In the soldering flux composition according to claim 1 or 2.
A flux composition for soldering, wherein the component (B) further contains (B3) rosinamine.
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