JP6560279B2 - Flux composition for local soldering and soldering method - Google Patents
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Description
本発明は、局所はんだ付け用フラックス組成物およびはんだ付け方法に関する。 The present invention relates to a local soldering flux composition and a soldering method.
電子基板と電子部品とのはんだ付け方法の一つとして、局所はんだ付け法が挙げられる。この局所はんだ付け法とは、電子基板のはんだ付けしたくない部分をパレットマスクで覆い、目的とする部分に限って溶融はんだに接触させることによりはんだ付けを行う工法である。この局所はんだ付け法では、溶融はんだに接触させる前に、例えば特許文献1に記載のようなフラックス組成物が用いられる。この局所はんだ付け法に用いるフラックス組成物としては、はんだ付け性だけでなく、フラックス残さがパレットマスクに堆積しにくいことが求められる。フラックス残さがパレットマスクに堆積しやすい場合には、パレットマスクに堆積したフラックス残さを頻繁に洗浄しなければならず、生産性が低下する。また、パレットマスクに堆積したフラックス残さが、電子基板に付着して、基板の性能を損なうおそれもある。
One method for soldering an electronic substrate and an electronic component is a local soldering method. This local soldering method is a method of performing soldering by covering a portion of an electronic board that is not to be soldered with a pallet mask and bringing the solder into contact with molten solder only at the target portion. In this local soldering method, for example, a flux composition as described in
特許文献1に記載のようなフラックス組成物では、組成物中のロジンの配合量が多いために、フラックス残さがパレットマスクに堆積しやすいという問題がある。一方で、ロジン量を少なくすると、ブリッジやつららといった問題が発生してはんだ付け性が低下する傾向にある。さらに、このはんだ付け性を補うために、活性剤の配合量を多くすると、フラックス残さの絶縁信頼性が低下するといった問題もある。このように、はんだ付け性と、フラックス残さの堆積のしにくさとはトレードオフの関係にあり、従来はこれらを両立させることは困難であった。
さらに、局所はんだ付け法では、全面はんだ付けのフローはんだ付け法と比較して、パレットマスクの厚みの影響により、はんだが付着しにくくなる。そこで、局所はんだ付け法では、はんだ槽の噴流波を高くしたり、はんだ槽の噴流速度を上げたり、溶融はんだに接触させる際のコンベア速度を遅くしたりする。このような場合、溶融はんだからはんだ付け部を切り離しにくくなり、結果として、ブリッジやつららといった問題が発生しやすくなる傾向にある。
In the flux composition as described in
Furthermore, in the local soldering method, the solder is less likely to adhere due to the influence of the thickness of the pallet mask as compared with the flow soldering method of the whole surface soldering. Therefore, in the local soldering method, the jet wave of the solder bath is increased, the jet velocity of the solder bath is increased, or the conveyor speed when contacting the molten solder is decreased. In such a case, it becomes difficult to separate the soldered portion from the molten solder, and as a result, problems such as bridges and icicles tend to occur.
そこで、本発明は、局所はんだ付けを行う場合において、はんだ付け性に優れ、かつパレットマスクにフラックス残さが堆積しにくい局所はんだ付け用フラックス組成物、およびそれを用いたはんだ付け方法を提供することを目的とする。 Accordingly, the present invention provides a flux composition for local soldering, which is excellent in solderability and hardly deposits flux residue on a pallet mask when performing local soldering, and a soldering method using the same. With the goal.
前記課題を解決すべく、本発明は、以下のような局所はんだ付け用フラックス組成物およびはんだ付け方法を提供するものである。
本発明の局所はんだ付け用フラックス組成物は、(A)ロジン系樹脂と、(B)活性剤と、(C)溶剤とを含有し、前記(A)成分が、(A1)軟化点が120℃以上である第一ロジン系樹脂と、(A2)水素添加ロジンおよび不均化ロジンからなる群から選択される少なくとも1種であって、軟化点が90℃以下である第二ロジン系樹脂とを含有し、前記(A2)成分の前記(A1)成分に対する質量比((A2)/(A1))が、2.5以上10以下であり、前記(A)成分の配合量が、フラックス組成物100質量%に対して、7質量%以上20質量%以下であることを特徴とするものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides the following flux composition for local soldering and a soldering method.
The flux composition for local soldering of the present invention contains (A) a rosin resin, (B) an activator, and (C) a solvent, wherein the component (A) is (A1) has a softening point of 120. A first rosin resin having a softening point of 90 ° C. or less, and a first rosin resin having a softening point of 90 ° C. or less, and a first rosin resin having a softening point of 90 ° C. or less; The mass ratio ((A2) / (A1)) of the component (A2) to the component (A1) is 2.5 or more and 10 or less, and the blending amount of the component (A) is a flux composition. It is 7 mass% or more and 20 mass% or less with respect to 100 mass% of things.
本発明の局所はんだ付け用フラックス組成物においては、前記(B)成分が、(B1)アミン類とフッ素化合物との塩を含有することが好ましい。
本発明の局所はんだ付け用フラックス組成物においては、前記(B)成分が、(B2)有機酸をさらに含有することが好ましい。
本発明の局所はんだ付け用フラックス組成物においては、前記(A2)成分が、部分水添ロジンであることが好ましい。
本発明の局所はんだ付け用フラックス組成物においては、前記(A2)成分の前記(A1)成分に対する質量比((A2)/(A1))が、3.5以上6以下であることが好ましい。
本発明のはんだ付け方法は、電子部品を電子基板に挿入するとともに、前記電子部品のはんだ付けを行う箇所に開口部が設けられたパレットマスクに、前記電子基板を取り付ける工程と、前記電子基板のはんだ付け面に、前記局所はんだ付け用フラックス組成物を塗布する工程と、前記電子基板のはんだ付け面を、溶融はんだに接触させて、はんだ付けを行う工程と、を備えることを特徴とする方法である。
In the flux composition for local soldering of this invention, it is preferable that the said (B) component contains the salt of (B1) amines and a fluorine compound.
In the flux composition for local soldering of this invention, it is preferable that the said (B) component further contains (B2) organic acid.
In the local soldering flux composition of the present invention, the component (A2) is preferably a partially hydrogenated rosin.
In the local soldering flux composition of the present invention, the mass ratio ((A2) / (A1)) of the component (A2) to the component (A1) is preferably 3.5 or more and 6 or less .
The soldering method of the present invention includes a step of attaching the electronic substrate to a pallet mask provided with an opening at a place where the electronic component is soldered, and inserting the electronic component into the electronic substrate. The method comprising: applying the local soldering flux composition to a soldering surface; and bringing the soldering surface of the electronic substrate into contact with molten solder and soldering It is.
なお、本発明の局所はんだ付け用フラックス組成物が、局所はんだ付けを行う場合において、はんだ付け性に優れ、かつパレットマスクにフラックス残さが堆積しにくい理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推察する。
すなわち、本発明の局所はんだ付け用フラックス組成物においては、(A)ロジン系樹脂として、(A1)軟化点が120℃以上である第一ロジン系樹脂と、(A2)水素添加ロジンおよび不均化ロジンからなる群から選択される少なくとも1種であって、軟化点が90℃以下である第二ロジン系樹脂を併用している。そして、(A2)成分により、フラックス残さがパレットマスクなどに堆積することを抑制できる。この理由は、(A2)成分の存在によりフラックス残さの流動性が増し、はんだ付け部がはんだ槽に接触し、その後はんだ槽から離れる際に、フラックス残さがはんだ槽側に流れ落ちやすくなるためと本発明者らは推察する。一方で、(A1)成分および(A2)成分を併用しており、フラックス組成物中のロジン量自体を少なくするわけではない。そのため、ロジン量を少なくした場合のように、ブリッジやつららといった問題が発生しにくく、はんだ付け性は低下しない。以上のようにして、上記本発明の効果が達成されるものと本発明者らは推察する。
The reason why the flux composition for local soldering of the present invention is excellent in solderability when the local soldering is performed and the flux residue is not easily deposited on the pallet mask is not necessarily clear. Guesses as follows.
That is, in the local soldering flux composition of the present invention, (A) the rosin resin includes (A1) a first rosin resin having a softening point of 120 ° C. or higher, (A2) a hydrogenated rosin and an inhomogeneous resin. A second rosin resin that is at least one selected from the group consisting of fluorinated rosins and has a softening point of 90 ° C. or lower is used in combination. And it can suppress that a flux residue accumulates on a pallet mask etc. by (A2) component. The reason for this is that the fluidity of the flux residue increases due to the presence of the component (A2), and when the soldered part comes into contact with the solder bath and then leaves the solder bath, the flux residue tends to flow down to the solder bath side. The inventors speculate. On the other hand, the components (A1) and (A2) are used in combination, and the amount of rosin in the flux composition itself is not reduced. Therefore, unlike the case where the amount of rosin is reduced, problems such as bridges and icicles hardly occur, and solderability does not deteriorate. As described above, the present inventors speculate that the effects of the present invention are achieved.
本発明によれば、局所はんだ付けを行う場合において、はんだ付け性に優れ、かつパレットマスクにフラックス残さが堆積しにくい局所はんだ付け用フラックス組成物、およびそれを用いたはんだ付け方法を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when performing local soldering, it is excellent in solderability and can provide the flux composition for local soldering which a flux residue does not accumulate on a pallet mask, and the soldering method using the same.
本実施形態の局所はんだ付け用フラックス組成物(以下、単に「フラックス組成物」ともいう)は、以下説明する(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤および(C)溶剤を含有するものである。 The flux composition for local soldering of the present embodiment (hereinafter also simply referred to as “flux composition”) contains (A) a rosin resin, (B) an activator, and (C) a solvent, which will be described below. is there.
[(A)成分]
本実施形態に用いる(A)ロジン系樹脂としては、ロジン類およびロジン系変性樹脂が挙げられる。ロジン類としては、ガムロジン、ウッドロジンおよびトール油ロジンなどが挙げられる。ロジン系変性樹脂としては、不均化ロジン、重合ロジン、水素添加ロジン(完全水添ロジン、部分水添ロジン、並びに、不飽和有機酸((メタ)アクリル酸などの脂肪族の不飽和一塩基酸、フマル酸、マレイン酸などのα,β−不飽和カルボン酸などの脂肪族不飽和二塩基酸、桂皮酸などの芳香族環を有する不飽和カルボン酸など)の変性ロジンである不飽和有機酸変性ロジンの水素添加物(「水添酸変性ロジン」ともいう))およびこれらの誘導体などが挙げられる。これらのロジン系樹脂は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
[(A) component]
Examples of the (A) rosin resin used in the present embodiment include rosins and rosin modified resins. Examples of rosins include gum rosin, wood rosin and tall oil rosin. Examples of rosin-based modified resins include disproportionated rosin, polymerized rosin, hydrogenated rosin (fully hydrogenated rosin, partially hydrogenated rosin, and unsaturated organic acids (aliphatic unsaturated monobasic such as (meth) acrylic acid). Unsaturated organics that are modified rosins of acid, fumaric acid, maleic acid and other aliphatic unsaturated dibasic acids such as α, β-unsaturated carboxylic acids, and unsaturated carboxylic acids having aromatic rings such as cinnamic acid) Examples include hydrogenated products of acid-modified rosin (also referred to as “hydrogenated acid-modified rosin”) and derivatives thereof. These rosin resins may be used alone or in combination of two or more.
本実施形態において、前記(A)成分は、(A1)軟化点が120℃以上である第一ロジン系樹脂と、(A2)水素添加ロジンおよび不均化ロジンからなる群から選択される少なくとも1種であって、軟化点が90℃以下である第二ロジン系樹脂とを含有することが必要である。このように(A1)成分および(A2)を併用することにより、局所はんだ付けを行う場合において、パレットマスクにフラックス残さが堆積しにくくできる。さらに、(A1)成分および(A2)を併用することにより、ロジン樹脂の軟化点を調整できるため、局所はんだ付けの際に、ロジン樹脂自体が邪魔になることに起因する未はんだの発生を防止できる。
前記(A1)成分としては、前記(A)成分のうち、軟化点が120℃以上であるロジン系樹脂が挙げられる。また、はんだ付け性の観点から、前記(A1)成分の軟化点は、130℃以上であることが好ましい。なお、軟化点は、環球法により測定できる。
In this embodiment, the component (A) is at least one selected from the group consisting of (A1) a first rosin resin having a softening point of 120 ° C. or higher, and (A2) a hydrogenated rosin and a disproportionated rosin. It is necessary to contain a second rosin resin which is a seed and has a softening point of 90 ° C. or lower. Thus, by using together (A1) component and (A2), when performing local soldering, it is difficult to deposit a flux residue on a pallet mask. Furthermore, since the softening point of the rosin resin can be adjusted by using the components (A1) and (A2) in combination, the occurrence of unsolder due to the rosin resin itself becoming an obstacle during local soldering is prevented. it can.
Examples of the component (A1) include rosin resins having a softening point of 120 ° C. or higher among the components (A). From the viewpoint of solderability, the softening point of the component (A1) is preferably 130 ° C. or higher. The softening point can be measured by the ring and ball method.
前記(A2)成分としては、前記(A)成分のうち、水素添加ロジンおよび不均化ロジンからなる群から選択される少なくとも1種であって、軟化点が90℃以下であるロジン系樹脂が挙げられる。また、水素添加ロジンの中でも、パレットマスクにフラックス残さが更に堆積しにくくなるという観点から、部分水添ロジンを用いることがより好ましい。
さらに、フラックス残さがより流動しやすいという観点から、前記(A2)成分の軟化点は、85℃以下であることが好ましく、80℃以下であることがより好ましい。
The component (A2) is at least one selected from the group consisting of a hydrogenated rosin and a disproportionated rosin among the components (A), and a rosin resin having a softening point of 90 ° C. or less. Can be mentioned. Of the hydrogenated rosins, partially hydrogenated rosin is more preferably used from the viewpoint that the flux residue is more difficult to deposit on the pallet mask.
Furthermore, the softening point of the component (A2) is preferably 85 ° C. or less, and more preferably 80 ° C. or less, from the viewpoint that the flux residue is more likely to flow.
なお、前記(A1)成分および前記(A2)成分の軟化点を調整する手段としては、ロジンの重合度合を調整すること(重合度合が高くなるほど、軟化点が高くなる傾向にある)、ロジンの変性方法を変更すること(例えば、アクリル酸やマレイン酸により変性することで、軟化点が高くなる傾向にある)、ロジンの分子量を調整すること(分子量が高くなるほど、軟化点が高くなる傾向にある)、ロジンに水素化反応を施すこと、並びに、ロジンにエステル化反応またはエステル交換反応を施すことなどが挙げられる。 In addition, as means for adjusting the softening point of the component (A1) and the component (A2), adjusting the polymerization degree of rosin (the higher the polymerization degree, the higher the softening point), Changing the modification method (for example, modification with acrylic acid or maleic acid tends to increase the softening point), adjusting the molecular weight of rosin (the higher the molecular weight, the higher the softening point) And rosin is subjected to hydrogenation reaction, and rosin is subjected to esterification reaction or transesterification reaction.
本実施形態において、前記(A2)成分の前記(A1)成分に対する質量比((A2)/(A1))は、2以上10以下であることが好ましく、2.5以上8以下であることがより好ましく、3以上6以下であることが更により好ましく、3.5以上5.5以下であることが特に好ましい。質量比が前記下限以上であれば、パレットマスクにフラックス残さをより堆積しにくくできる。他方、質量比が前記上限以下であれば、ブリッジやつららの発生をより確実に抑制できる。 In this embodiment, the mass ratio ((A2) / (A1)) of the component (A2) to the component (A1) is preferably 2 or more and 10 or less, and preferably 2.5 or more and 8 or less. More preferably, it is 3 or more and 6 or less, and further preferably 3.5 or more and 5.5 or less. If the mass ratio is equal to or higher than the lower limit, the flux residue can be more difficult to deposit on the pallet mask. On the other hand, if the mass ratio is less than or equal to the above upper limit, the occurrence of bridges and icicles can be more reliably suppressed.
前記(A)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、3質量%以上20質量%以下であることが好ましく、5質量%以上15質量%以下であることがより好ましく、7質量%以上12質量%以下であることが更により好ましく、10質量%以上12質量%以下であることが特に好ましい。(A)成分の配合量が前記下限以上であれば、ブリッジやつららの発生をより確実に抑制できる。他方、(A)成分の配合量が前記上限以下であれば、フラックス残さをより少なくでき、パレットマスクに堆積するフラックス残さをより少なくできる。 The blending amount of the component (A) is preferably 3% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 5% by mass or more and 15% by mass or less, based on 100% by mass of the flux composition. It is even more preferable that the content is not less than 12% by mass and not more than 12% by mass. (A) If the compounding quantity of a component is more than the said minimum, generation | occurrence | production of a bridge | bridging and icicle can be suppressed more reliably. On the other hand, if the blending amount of the component (A) is not more than the above upper limit, the flux residue can be reduced and the flux residue deposited on the pallet mask can be reduced.
[(B)成分]
本実施形態に用いる(B)活性剤としては、アミン類とフッ素化合物との塩、有機酸、非解離性のハロゲン化化合物からなる非解離型活性剤、およびアミン系活性剤などが挙げられる。これらの活性剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。また、この(B)成分は、(B1)アミン類とフッ素化合物との塩を含有することが好ましい。この(B1)成分により、溶融はんだからはんだ付け部を切り離しやすくでき、ブリッジやつららをより確実に抑制できる。
[Component (B)]
Examples of the (B) activator used in the present embodiment include salts of amines and fluorine compounds, organic acids, non-dissociative activators composed of non-dissociable halogenated compounds, and amine-based activators. These activators may be used individually by 1 type, and may mix and
前記(B1)成分におけるアミン類としては、鎖状アミン(例えば、n−ブチルアミンなど)であってもよく、環状アミン(例えば、ピペリジンなど)であってもよい。また、前記(B1)成分におけるフッ素化合物としては、3フッ化ホウ素、およびホウフッ化水素酸などが挙げられる。
なお、前記(B1)成分は、ピペリジン(置換基を有していてもよい)を配位子とする錯体であってもよい。錯体の金属としては、ホウ素、銅、およびアルミニウムなどが挙げられる。
前記(B1)成分としては、例えば、3フッ化ホウ素ピペリジン錯塩、およびn−ブチルアミンホウフッ化水素酸塩が挙げられる。これらの中でも、3フッ化ホウ素ピペリジン錯塩が特に好ましい。
The amine in the component (B1) may be a chain amine (eg, n-butylamine) or a cyclic amine (eg, piperidine). Examples of the fluorine compound in the component (B1) include boron trifluoride and borohydrofluoric acid.
The component (B1) may be a complex having piperidine (which may have a substituent) as a ligand. Examples of the metal of the complex include boron, copper, and aluminum.
Examples of the component (B1) include boron trifluoride piperidine complex and n-butylamine borofluoride. Among these, boron trifluoride piperidine complex salt is particularly preferable.
前記(B1)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、0.01質量%以上5質量%以下であることが好ましく、0.05質量%以上2質量%以下であることがより好ましく、0.1質量%以上1質量%以下であることが特に好ましい。配合量が前記下限以上であれば、ブリッジやつららをより確実に抑制できる。他方、前記上限以下であれば、フラックス組成物中にピペリジン錯塩を溶解でき、液としての安定性を確保できる。 The blending amount of the component (B1) is preferably 0.01% by mass or more and 5% by mass or less, and 0.05% by mass or more and 2% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition. More preferably, the content is 0.1% by mass or more and 1% by mass or less. If a compounding quantity is more than the said minimum, bridge | bridging and icicle can be suppressed more reliably. On the other hand, if it is below the said upper limit, a piperidine complex salt can be melt | dissolved in a flux composition, and the stability as a liquid is securable.
前記(B)成分は、はんだ付け性の観点から、(B2)有機酸をさらに含有することが好ましい。
前記(B2)成分としては、モノカルボン酸、ジカルボン酸などの他に、その他の有機酸が挙げられる。
モノカルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ブチリック酸、バレリック酸、カプロン酸、エナント酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ツベルクロステアリン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸、リグノセリン酸、およびグリコール酸などが挙げられる。
ジカルボン酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、およびジグリコール酸などが挙げられる。
その他の有機酸としては、ダイマー酸、レブリン酸、乳酸、アクリル酸、安息香酸、サリチル酸、アニス酸、クエン酸、およびピコリン酸などが挙げられる。
The component (B) preferably further contains (B2) an organic acid from the viewpoint of solderability.
Examples of the component (B2) include other organic acids in addition to monocarboxylic acid and dicarboxylic acid.
Monocarboxylic acids include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid, tuberculostearic acid Arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, glycolic acid and the like.
Examples of the dicarboxylic acid include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, tartaric acid, and diglycolic acid.
Examples of other organic acids include dimer acid, levulinic acid, lactic acid, acrylic acid, benzoic acid, salicylic acid, anisic acid, citric acid, and picolinic acid.
前記(B2)成分の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、0.1質量%以上5質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上4質量%以下であることがより好ましく、1質量%以上3質量%以下であることが特に好ましい。配合量が前記下限以上であれば、はんだ付け性を更に向上でき、他方、前記上限以下であれば、フラックス組成物の絶縁性を確保できる。 The blending amount of the component (B2) is preferably 0.1% by mass or more and 5% by mass or less, and 0.5% by mass or more and 4% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition. Is more preferable, and 1% by mass or more and 3% by mass or less is particularly preferable. If the amount is greater than or equal to the lower limit, the solderability can be further improved. On the other hand, if the amount is less than or equal to the upper limit, the insulation of the flux composition can be secured.
前記(B)成分は、必要に応じて、前記(B1)成分および前記(B2)成分以外の活性剤((B3)成分)を含有してもよい。(B3)成分としては、非解離性のハロゲン化化合物からなる非解離型活性剤、および前記(B1)成分以外のアミン系活性剤などが挙げられる。
前記非解離性のハロゲン化化合物からなる非解離型活性剤としては、ハロゲン原子が共有結合により結合した非塩系の有機化合物が挙げられる。このハロゲン化化合物としては、塩素化物、臭素化物、フッ化物のように塩素、臭素、フッ素の各単独元素の共有結合による化合物でもよいが、塩素、臭素およびフッ素の任意の2つまたは全部のそれぞれの共有結合を有する化合物でもよい。これらの化合物は、水性溶媒に対する溶解性を向上させるために、例えばハロゲン化アルコールやハロゲン化カルボキシルのように水酸基やカルボキシル基などの極性基を有することが好ましい。ハロゲン化アルコールとしては、例えば2,3−ジブロモプロパノール、2,3−ジブロモブタンジオール、トランス−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、1,4−ジブロモ−2−ブタノール、およびトリブロモネオペンチルアルコールなどの臭素化アルコール、1,3−ジクロロ−2−プロパノール、および1,4−ジクロロ−2−ブタノールなどの塩素化アルコール、3−フルオロカテコールなどのフッ素化アルコール、並びに、これらに類する化合物が挙げられる。ハロゲン化カルボキシルとしては、2−ヨード安息香酸、3−ヨード安息香酸、2−ヨードプロピオン酸、5−ヨードサリチル酸、および5−ヨードアントラニル酸などのヨウ化カルボキシル、2−クロロ安息香酸、および3−クロロプロピオン酸などの塩化カルボキシル、2,3−ジブロモプロピオン酸、2,3−ジブロモコハク酸、および2−ブロモ安息香酸などの臭素化カルボキシル、並びに、これらに類する化合物が挙げられる。
The component (B) may contain an active agent (component (B3)) other than the component (B1) and the component (B2) as necessary. Examples of the component (B3) include a non-dissociative activator composed of a non-dissociable halogenated compound, and an amine-based activator other than the component (B1).
Examples of the non-dissociable activator comprising the non-dissociable halogenated compound include non-salt organic compounds in which halogen atoms are bonded by a covalent bond. The halogenated compound may be a compound formed by covalent bonding of chlorine, bromine and fluorine, such as chlorinated, brominated and fluoride, but any two or all of chlorine, bromine and fluorine may be used. The compound which has the following covalent bond may be sufficient. In order to improve the solubility in an aqueous solvent, these compounds preferably have a polar group such as a hydroxyl group or a carboxyl group such as a halogenated alcohol or a halogenated carboxyl. Examples of the halogenated alcohol include 2,3-dibromopropanol, 2,3-dibromobutanediol, trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 1,4-dibromo-2-butanol, And brominated alcohols such as tribromoneopentyl alcohol, chlorinated alcohols such as 1,3-dichloro-2-propanol, and 1,4-dichloro-2-butanol, fluorinated alcohols such as 3-fluorocatechol, and The compound similar to these is mentioned. Examples of the halogenated carboxyl include 2-iodobenzoic acid, 3-iodobenzoic acid, 2-iodopropionic acid, 5-iodosalicylic acid, 5-iodoanthranilic acid, and the like, 2-chlorobenzoic acid, and 3- Examples thereof include carboxyl chloride such as chloropropionic acid, brominated carboxyl such as 2,3-dibromopropionic acid, 2,3-dibromosuccinic acid, and 2-bromobenzoic acid, and similar compounds.
前記(B1)成分以外のアミン系活性剤としては、アミン類(エチレンジアミンなどのポリアミンなど)、アミン塩類(エチルアミン、ジエチルアミン、トリメチロールアミン、シクロヘキシルアミン、およびジエチルアミンなどのアミンやアミノアルコールなどの有機酸塩や無機酸塩(塩酸、硫酸、臭化水素酸など))、アミノ酸類(グリシン、アラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、およびバリンなど)、および、アミド系化合物などが挙げられる。具体的には、エチルアミン臭化水素酸塩、ジフェニルグアニジン臭化水素酸塩、シクロヘキシルアミン臭化水素酸塩、ジエチルアミン塩(塩酸塩、コハク酸塩、アジピン酸塩、およびセバシン酸塩など)、トリエタノールアミン、モノエタノールアミン、および、これらのアミンの臭化水素酸塩などが挙げられる。 Examples of amine-based activators other than the component (B1) include amines (polyamines such as ethylenediamine), amine salts (ethylamine, diethylamine, trimethylolamine, cyclohexylamine, amines such as diethylamine, and organic acids such as amino alcohols) Examples thereof include salts and inorganic acid salts (hydrochloric acid, sulfuric acid, hydrobromic acid, etc.), amino acids (glycine, alanine, aspartic acid, glutamic acid, valine, etc.), amide compounds, and the like. Specifically, ethylamine hydrobromide, diphenylguanidine hydrobromide, cyclohexylamine hydrobromide, diethylamine salts (such as hydrochloride, succinate, adipate, and sebacate), tris Examples include ethanolamine, monoethanolamine, and hydrobromides of these amines.
前記(B)成分の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、0.5質量%以上10質量%以下であることが好ましく、1質量%以上8質量%以下であることがより好ましく、2質量%以上5質量%以下であることが特に好ましい。配合量が前記下限以上であれば、はんだ付け性を更に向上でき、他方、前記上限以下であれば、フラックス組成物の絶縁性を確保できる。 The blending amount of the component (B) is preferably 0.5% by mass to 10% by mass and more preferably 1% by mass to 8% by mass with respect to 100% by mass of the flux composition. It is particularly preferably 2% by mass or more and 5% by mass or less. If the amount is greater than or equal to the lower limit, the solderability can be further improved. On the other hand, if the amount is less than or equal to the upper limit, the insulation of the flux composition can be secured.
[(C)成分]
本実施形態に用いる(C)溶剤としては、公知の溶剤を適宜用いることができる。前記(C)成分としては、沸点100℃以下の水溶性溶剤を用いることが好ましい。前記(C)成分としては、エチルアルコール、およびイソプロピルアルコールなどが挙げられる。これらの溶剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
[Component (C)]
As the solvent (C) used in the present embodiment, a known solvent can be appropriately used. As the component (C), a water-soluble solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower is preferably used. Examples of the component (C) include ethyl alcohol and isopropyl alcohol. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
前記(C)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、70質量%以上95質量%以下であることが好ましく、75質量%以上92質量%以下であることがより好ましく、80質量%以上90質量%以下であることが特に好ましい。配合量が前記範囲内であれば、フラックス組成物の塗布性を適正な範囲に調整できる。 The blending amount of the component (C) is preferably 70% by mass or more and 95% by mass or less, more preferably 75% by mass or more and 92% by mass or less, with respect to 100% by mass of the flux composition. It is particularly preferable that the content is not less than mass% and not more than 90 mass%. If a compounding quantity is in the said range, the applicability | paintability of a flux composition can be adjusted to an appropriate range.
本実施形態のフラックス組成物は、前記(A)成分、前記(B)成分および前記(C)成分の他に、必要に応じて、チクソ剤、酸化防止剤、消泡剤、防錆剤、および界面活性剤などの添加剤を含有していてもよい。これらの添加剤の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、0.01質量%以上5質量%以下であることが好ましい。 In addition to the component (A), the component (B) and the component (C), the flux composition of the present embodiment includes a thixotropic agent, an antioxidant, an antifoaming agent, a rust preventive agent, if necessary. And additives such as surfactants may be contained. As a compounding quantity of these additives, it is preferable that they are 0.01 mass% or more and 5 mass% or less with respect to 100 mass% of flux compositions.
[はんだ付け方法]
次に、本実施形態のはんだ付け方法について説明する。本実施形態のはんだ付け方法は、以上説明した本実施形態のフラックス組成物を用いるはんだ付け方法である。そして、本実施形態のはんだ付け方法は、以下説明する取付工程、フラックス塗布工程およびはんだ付け工程を備える方法である。
[Soldering method]
Next, the soldering method of this embodiment will be described. The soldering method of this embodiment is a soldering method using the flux composition of this embodiment described above. And the soldering method of this embodiment is a method provided with the attachment process demonstrated below, a flux application | coating process, and a soldering process.
取付工程においては、先ず、図1に示すような電子基板1および電子部品2、並びに、図2に示すような電子部品2のはんだ付けを行う箇所に開口部31が設けられたパレットマスク3を準備する。
そして、図3に示すように、電子部品2を電子基板1に挿入するとともに、パレットマスク3に電子基板1を取り付ける。
電子基板1としては、例えば、プリント配線基板などが挙げられる。
電子部品2は、電子基板1のスルーホールに挿入可能で、挿入後にはんだ付けをすることで実装する方法(いわゆるスルーホール実装)で用いるものである。電子部品2としては、集積回路、トランジスタ、ダイオード、抵抗器およびコンデンサなどが挙げられる。
パレットマスク3は、電子部品2のはんだ付けを行う箇所に開口部31が設けられている。すなわち、パレットマスク3には、図3および図4に示すように、電子部品2のはんだ付けを行う箇所に開口部31が設けられている。そして、電子基板1のはんだ付け面1Aは、開口部31では、溶融はんだと接触できるが、開口部31以外の部分においては、溶融はんだと接触できない。
この取付工程においては、先に、電子部品2を電子基板1に挿入してもよいし、先に、パレットマスク3に電子基板1を取り付けてもよい。
In the attaching step, first, the
Then, as shown in FIG. 3, the
Examples of the
The
The
In this attachment step, the
フラックス塗布工程においては、図4に示すような電子基板1のはんだ付け面1Aに、前述したフラックス組成物を塗布する。
フラックス組成物の塗布装置としては、スプレーフラクサー、および発泡式フラクサーなどを採用できる。これらの中でも、塗布量の安定性の観点から、スプレーフラクサーが好ましい。
フラックス組成物の塗布量は、はんだ付け性の観点から、30mL/m2以上150mL/m2以下であることが好ましく、40mL/m2以上120mL/m2以下であることがより好ましく、50mL/m2以上100mL/m2以下であることが特に好ましい。
In the flux application step, the aforementioned flux composition is applied to the
As a flux composition coating device, a spray fluxer, a foaming fluxer, or the like can be employed. Among these, a spray fluxer is preferable from the viewpoint of coating amount stability.
From the viewpoint of solderability, the application amount of the flux composition is preferably 30 mL / m 2 or more and 150 mL / m 2 or less, more preferably 40 mL / m 2 or more and 120 mL / m 2 or less, and 50 mL / m 2. it is particularly preferred m is 2 or more 100 mL / m 2 or less.
はんだ付け工程においては、電子基板1のはんだ付け面1Aを、溶融はんだに接触させて、はんだ付けを行う。
パレットマスク3の開口部31以外の部分においては、溶融はんだが電子基板1のはんだ付け面1Aに接触しない。一方で、パレットマスク3の開口部31においては、溶融はんだが電子基板1のはんだ付け面1Aに接触する。そのため、電子部品2のはんだ付けを行う箇所に限って局所的にはんだ付けをすることができる。
溶融はんだを接触させる方法としては、溶融はんだを電子基板1に接触できる方法であればよく、特に限定されない。このような方法としては、例えば、電子基板1に噴流する溶融はんだに接触させる方法(フローはんだ付け法)を採用してもよい。また、溶融はんだの入ったはんだ槽を電子基板1に接触させる方法を採用してもよい。
はんだ付けの条件は、はんだの融点に応じて適宜設定すればよい。例えば、Sn−Au−Cu系のはんだ合金を用いる場合には、溶融はんだの温度は、230℃以上280℃以下(好ましくは、250℃以上270℃以下)に設定すればよい。また、プリヒートとしては、加熱温度80℃以上130℃以下(好ましくは、90℃以上120℃以下)に設定すればよい。
In the soldering process, soldering is performed by bringing the
In a portion other than the
The method for bringing the molten solder into contact is not particularly limited as long as it is a method capable of bringing the molten solder into contact with the
What is necessary is just to set the conditions of soldering suitably according to melting | fusing point of solder. For example, when using a Sn—Au—Cu-based solder alloy, the temperature of the molten solder may be set to 230 ° C. or higher and 280 ° C. or lower (preferably 250 ° C. or higher and 270 ° C. or lower). Further, the preheating may be set to a heating temperature of 80 ° C. or higher and 130 ° C. or lower (preferably 90 ° C. or higher and 120 ° C. or lower).
次に、本発明を実施例および比較例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、実施例および比較例にて用いた材料を以下に示す。
((A1)成分)
第一ロジン系樹脂A:水添酸変性ロジン(軟化点:約130℃)、商品名「パインクリスタルKE−604」、荒川化学工業社製
第一ロジン系樹脂B:重合ロジン(軟化点:約140℃)、商品名「重合ロジン140」、荒川化学工業社製
((A2)成分)
第二ロジン系樹脂A:部分水添ロジン(軟化点:約80℃)、商品名「ステベライトレジンE」、イーストマンケミカルジャパン社製
第二ロジン系樹脂B:部分水添ロジン(軟化点:約80℃)、商品名「RHR−301M」、丸善油化社製
第二ロジン系樹脂C:不均化ロジン(軟化点:約80℃)、商品名「ロンジスR」、荒川化学工業社製
第二ロジン系樹脂D:完全水添ロジン(軟化点:約80℃)、商品名「フォーラルAX」、イーストマンケミカルジャパン社製
((B1)成分)
活性剤A:3フッ化ホウ素ピペリジン錯塩
((B2)成分)
活性剤B:コハク酸
活性剤C:パルチミン酸
((B3)成分)
活性剤D:エチルアミン臭化水素酸塩
活性剤E:トランス−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール
((C)成分)
溶剤:イソプロピルアルコール
EXAMPLES Next, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples. In addition, the material used in the Example and the comparative example is shown below.
((A1) component)
First rosin resin A: hydrogenated acid modified rosin (softening point: about 130 ° C.), trade name “Pine Crystal KE-604”, Arakawa Chemical Industries, Ltd. first rosin resin B: polymerized rosin (softening point: about 140 ° C.), trade name “polymerized rosin 140”, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. (component (A2))
Second rosin resin A: partially hydrogenated rosin (softening point: about 80 ° C.), trade name “Stevelite Resin E”, second rosin resin B manufactured by Eastman Chemical Japan: partially hydrogenated rosin (softening point: About 80 ° C.), trade name “RHR-301M”, second rosin resin C manufactured by Maruzen Oil Chemical Co., Ltd .: disproportionated rosin (softening point: about 80 ° C.), trade name “Longis R”, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. Second rosin resin D: fully hydrogenated rosin (softening point: about 80 ° C.), trade name “Foral AX”, manufactured by Eastman Chemical Japan (component (B1))
Activator A: Boron trifluoride piperidine complex salt (component (B2))
Activator B: Succinic acid activator C: Palmitic acid (component (B3))
Activator D: Ethylamine hydrobromide Activator E: trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol (component (C))
Solvent: Isopropyl alcohol
[実施例1]
第一ロジン系樹脂A1質量%、第二ロジン系樹脂A10質量%、活性剤A0.4質量%、活性剤B0.2質量%、活性剤C2質量%、活性剤D0.9質量%、活性剤E0.5質量%および溶剤85質量%を容器に投入し、混合してフラックス組成物を得た。
[Example 1]
First
[実施例2〜12]
表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして、フラックス組成物を得た。
[比較例1〜3]
表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして、フラックス組成物を得た。
[Examples 2 to 12]
A flux composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that each material was blended according to the composition shown in Table 1.
[Comparative Examples 1-3]
A flux composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that each material was blended according to the composition shown in Table 1.
<フラックス組成物の評価>
フラックス組成物の特性(フラックス残さの付着性、はんだ付け性、銅板腐食性、保存性)を以下のような方法で評価した。得られた結果を表1に示す。
(1)フラックス残さの付着性
予め質量を測定しておいたセラミックス板(大きさ:25mm×25mm、厚み:1.6mm)に、0.02mLのフラックス組成物を塗布した後に、はんだ槽(静止はんだ槽、はんだ合金組成:Sn/3.0Ag/0.5Cu、はんだ槽の温度:265℃)に10秒間浸漬し、その後、セラミックス板を取り出す。この操作を5回繰り返し、そのときのセラミックス板の質量を測定し、セラミックス板に付着したフラックス残さの付着量(単位:g)を算出した。
実施例4および比較例1については、上記の操作を5回繰り返した毎に、測定したフラックス残さの付着量(単位:g)と、繰り返し回数との関係を図5に示す。
また、上記の操作を20回繰り返した後に、セラミックス板に付着したフラックス残さの付着量(単位:g)を算出した。そして、下記の基準に従って、フラックス残さの付着性を評価した。
○:フラックス残さの付着量が、0.02g以下である。
△:フラックス残さの付着量が、0.02g超0.03g以下である。
×:フラックス残さの付着量が、0.03g超である。
(2)はんだ付け性
評価基板(タムラ評価基板TSTB、大きさ:150mm×200mm、厚み:1.6mm、はんだ付けポイント数:1032箇所)を、はんだ付けを行う箇所に開口部が設けられたパレットマスクに取り付けた。その後、パレットマスクに取り付けられた評価基板に、下記のはんだ付け条件で、はんだ付けを行った。
(はんだ付け条件)
はんだ付け装置:タムラ製作所社製の「HC33−36NF」
フラックス塗布装置:スプレーフラクサー(タムラ製作所社製の「TAF33−12PV」)
フラックス塗布量:70mL/m2
コンベア速度:1m/min
プリヒート温度:100℃
はんだ槽の温度:265℃
はんだの合金組成:Sn/3.0Ag/0.5Cu
そして、はんだ付け後の評価基板を拡大鏡にて観察し、下記の基準に従って、はんだ付け性を評価した。
○:未はんだの発生がなく、ブリッジの発生が39箇所以下であり、かつ、つららの発生が5箇所以下である。
△:未はんだの発生がないが、ブリッジの発生が40箇所以上49箇所以下であるか、或いは、つららの発生が6箇所以上9箇所以下である。
×:未はんだの発生があるか、ブリッジの発生が50箇所以上であるか、或いは、つららの発生が10箇所以上である。
(3)銅板腐食性
JIS Z 3197−1986に記載の方法により、下記の基準に従って、銅板腐食性を評価した。
○:合格
×:不合格
(4)保存性
フラックス組成物を、温度−15℃の環境下に、72時間放置して、その外観を目視にて観察した。そして、下記の基準に従って、フラックス組成物の保存性を評価した。
○:結晶の発生がない。
×:結晶が発生している。
<Evaluation of flux composition>
The properties of the flux composition (adhesion of flux residue, solderability, copper plate corrosivity, storage stability) were evaluated by the following methods. The obtained results are shown in Table 1.
(1) Adhesion of flux residue After applying 0.02 mL of flux composition to a ceramic plate (size: 25 mm × 25 mm, thickness: 1.6 mm) whose mass has been measured in advance, a solder bath (stationary Solder bath, solder alloy composition: Sn / 3.0Ag / 0.5Cu, solder bath temperature: 265 ° C.) for 10 seconds, and then the ceramic plate is taken out. This operation was repeated 5 times, the mass of the ceramic plate at that time was measured, and the amount of adhesion of the flux residue adhering to the ceramic plate (unit: g) was calculated.
For Example 4 and Comparative Example 1, FIG. 5 shows the relationship between the measured adhesion amount of the flux residue (unit: g) and the number of repetitions every time the above operation is repeated five times.
Moreover, after repeating said
(Circle): The adhesion amount of a flux residue is 0.02 g or less.
(Triangle | delta): The adhesion amount of a flux residue is more than 0.02g and 0.03g or less.
X: The adhesion amount of a flux residue is more than 0.03g.
(2) Solderability Pallet with an opening provided at a place where soldering is performed on an evaluation board (Tamura evaluation board TSTB, size: 150 mm × 200 mm, thickness: 1.6 mm, number of soldering points: 1032 places) Attached to the mask. Then, it soldered to the evaluation board | substrate attached to the pallet mask on the following soldering conditions.
(Soldering conditions)
Soldering device: “HC33-36NF” manufactured by Tamura Corporation
Flux coating device: spray fluxer (“TAF33-12PV” manufactured by Tamura Corporation)
Flux application amount: 70 mL / m 2
Conveyor speed: 1m / min
Preheat temperature: 100 ° C
Solder bath temperature: 265 ° C
Alloy composition of solder: Sn / 3.0Ag / 0.5Cu
And the evaluation board | substrate after soldering was observed with the magnifier, and solderability was evaluated according to the following reference | standard.
○: There is no generation of unsolder, the generation of bridges is 39 or less, and the occurrence of icicles is 5 or less.
Δ: There is no generation of unsolder, but the generation of bridges is 40 or more and 49 or less, or the occurrence of icicles is 6 or more and 9 or less.
X: The occurrence of unsolder is present, the occurrence of bridges is 50 or more, or the occurrence of icicles is 10 or more.
(3) Copper plate corrosivity The copper plate corrosivity was evaluated according to the following criteria by the method described in JIS Z 3197-1986.
○: Pass x: Fail (4) Preservability The flux composition was left in an environment at a temperature of −15 ° C. for 72 hours, and the appearance was visually observed. And the preservability of the flux composition was evaluated according to the following criteria.
○: There is no generation of crystals.
X: Crystal is generated.
表1に示す結果からも明らかなように、本発明のフラックス組成物を用いた場合(実施例1〜12)には、フラックス残さの付着性、はんだ付け性、銅板腐食性および保存性の全てが良好であることが分かった。従って、局所はんだ付けを行う場合において、はんだ付け性に優れ、かつパレットマスクにフラックス残さが堆積しにくいことが確認された。
これに対し、(A1)成分、(A2)成分および(B)成分のいずれか1つ以上を含有しない場合(比較例1〜3)には、フラックス残さの付着性およびはんだ付け性のいずれかが不十分となることが確認された。
As is apparent from the results shown in Table 1, when the flux composition of the present invention is used (Examples 1 to 12), all of the adhesiveness of the flux residue, solderability, copper plate corrosivity and storage stability are all obtained. Was found to be good. Therefore, when performing local soldering, it was confirmed that the solderability was excellent and the flux residue was not easily deposited on the pallet mask.
On the other hand, when any one or more of the (A1) component, the (A2) component, and the (B) component is not contained (Comparative Examples 1 to 3), either the adhesiveness of the flux residue or the solderability Was confirmed to be insufficient.
本発明の局所はんだ付け用フラックス組成物は、パレットマスクを用いた局所はんだ付けに好適に用いることができる。 The flux composition for local soldering of the present invention can be suitably used for local soldering using a pallet mask.
1…電子基板
1A…はんだ付け面
2…電子部品
3…パレットマスク
31…開口部
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記(A)成分が、(A1)軟化点が120℃以上である第一ロジン系樹脂と、(A2)水素添加ロジンおよび不均化ロジンからなる群から選択される少なくとも1種であって、軟化点が90℃以下である第二ロジン系樹脂とを含有し、
前記(A2)成分の前記(A1)成分に対する質量比((A2)/(A1))が、2.5以上10以下であり、
前記(A)成分の配合量が、フラックス組成物100質量%に対して、7質量%以上20質量%以下である
ことを特徴とする局所はんだ付け用フラックス組成物。 (A) containing a rosin resin, (B) an activator, and (C) a solvent,
The component (A) is at least one selected from the group consisting of (A1) a first rosin resin having a softening point of 120 ° C. or higher, and (A2) a hydrogenated rosin and a disproportionated rosin, A second rosin resin having a softening point of 90 ° C. or less ,
The mass ratio ((A2) / (A1)) of the component (A2) to the component (A1) is 2.5 or more and 10 or less,
The local soldering flux composition, wherein the blending amount of the component (A) is 7% by mass to 20% by mass with respect to 100% by mass of the flux composition.
前記(B)成分が、(B1)アミン類とフッ素化合物との塩を含有する
ことを特徴とする局所はんだ付け用フラックス組成物。 In the local soldering flux composition according to claim 1,
The said (B) component contains the salt of (B1) amines and a fluorine compound. The flux composition for local soldering characterized by the above-mentioned.
前記(B)成分が、(B2)有機酸をさらに含有する
ことを特徴とする局所はんだ付け用フラックス組成物。 In the local soldering flux composition according to claim 2,
The component (B) further contains (B2) an organic acid. A flux composition for local soldering, wherein:
前記(A2)成分が、部分水添ロジンである
ことを特徴とする局所はんだ付け用フラックス組成物。 In the flux composition for local soldering of any one of Claims 1-3,
The component (A2) is a partially hydrogenated rosin. A flux composition for local soldering, wherein:
前記(A2)成分の前記(A1)成分に対する質量比((A2)/(A1))が、3.5以上6以下であるThe mass ratio ((A2) / (A1)) of the component (A2) to the component (A1) is 3.5 or more and 6 or less.
ことを特徴とする局所はんだ付け用フラックス組成物。A flux composition for local soldering characterized by the above.
前記電子基板のはんだ付け面に、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の局所はんだ付け用フラックス組成物を塗布する工程と、
前記電子基板のはんだ付け面を、溶融はんだに接触させて、はんだ付けを行う工程と、
を備えることを特徴とするはんだ付け方法。 A step of attaching the electronic substrate to a pallet mask provided with an opening at a place where soldering of the electronic component is performed while inserting the electronic component into the electronic substrate;
Applying the local soldering flux composition according to any one of claims 1 to 5 to the soldering surface of the electronic substrate;
A process of performing soldering by bringing the soldering surface of the electronic substrate into contact with molten solder; and
A soldering method comprising:
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