JP7194141B2 - SOLDER COMPOSITION FOR LASER SOLDERING AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC SUBSTRATE - Google Patents

SOLDER COMPOSITION FOR LASER SOLDERING AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC SUBSTRATE Download PDF

Info

Publication number
JP7194141B2
JP7194141B2 JP2020053726A JP2020053726A JP7194141B2 JP 7194141 B2 JP7194141 B2 JP 7194141B2 JP 2020053726 A JP2020053726 A JP 2020053726A JP 2020053726 A JP2020053726 A JP 2020053726A JP 7194141 B2 JP7194141 B2 JP 7194141B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
solder
acid
mass
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020053726A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2021154291A (en
Inventor
武見 水野
慎二 吉澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tamura Corp
Original Assignee
Tamura Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tamura Corp filed Critical Tamura Corp
Priority to JP2020053726A priority Critical patent/JP7194141B2/en
Priority to CN202110300864.5A priority patent/CN113453445A/en
Publication of JP2021154291A publication Critical patent/JP2021154291A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7194141B2 publication Critical patent/JP7194141B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3489Composition of fluxes; Methods of application thereof; Other methods of activating the contact surfaces
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3457Solder materials or compositions; Methods of application thereof
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/04Soldering or other types of metallurgic bonding
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/10Using electric, magnetic and electromagnetic fields; Using laser light
    • H05K2203/107Using laser light

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Description

本発明は、レーザーはんだ付け用はんだ組成物、電子基板、および電子基板の製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a solder composition for laser soldering, an electronic substrate, and a method for manufacturing an electronic substrate.

一般的に、はんだごてを使用した糸はんだによる電子部品の実装が行われている。しかし、近年電子製品の軽薄短小化に伴ってプリント配線基板の微細化が進み、はんだごてのような接触方法によるはんだ付けでは対応が難しい問題があった。
このようなはんだごてによるはんだ付けが困難な微細部などへのはんだ付けでは、レーザー光を用いた非接触によるはんだ付け方法が利用されている。
この技術は、はんだ付け装置のはんだ付けヘッドからプリント配線基板に向けてレーザー光を照射し、照射されたレーザー光の光エネルギーをはんだに吸収させ、発熱を引き起こし、はんだを溶融させてはんだ付けする方法であり、プリント配線基板の微細な部位に電子部品を短時間で実装することができるという利点がある。
また、はんだ接続を行いたい部分に選択的にレーザー光を照射することができるため、フロー式やリフロー式と比較して、電子部品の実装時に、部品全体に熱を加えずに実装を行うことが可能であることから、熱に弱い部品に適用可能である。
Generally, electronic components are mounted by thread solder using a soldering iron. In recent years, however, electronic products have become lighter, thinner, shorter and smaller, and printed circuit boards have become finer.
A non-contact soldering method using a laser beam is used for soldering to such minute parts that are difficult to solder with a soldering iron.
With this technology, a laser beam is emitted from the soldering head of a soldering machine toward the printed wiring board, and the light energy of the irradiated laser beam is absorbed by the solder, causing heat to melt and melt the solder. This method has the advantage that electronic components can be mounted in a minute portion of a printed wiring board in a short time.
In addition, since it is possible to selectively irradiate the laser beam to the part to be soldered, it is possible to mount electronic components without applying heat to the entire component compared to the flow method or reflow method. can be applied to heat-sensitive parts.

このように、熱源としてレーザー光を用いた方法によって、微細な部分へのはんだ付けが非接触で可能となる。しかしながら、急加熱が行われることから、はんだボールの発生、フラックスの飛散、フラックス残さの広がりなどの発生が顕著に起こるようになった。
そこで、これらの問題を解決できるはんだ組成物として、例えば、(A)ロジン系樹脂、(B)有機酸、(C)溶剤、および(D)25℃で固体の有機ハロゲン化合物を含有するフラックスと、(E)はんだ粉末とを含有し、前記(A)成分は、(A1)軟化点が130℃以上の高軟化点ロジン系樹脂を含有し、前記(A1)成分の配合量は、前記(A)成分の合計量100質量%に対して、70質量%以上であるはんだ組成物が提案されている(特許文献1参照)。
Thus, the method using laser light as a heat source enables non-contact soldering to minute portions. However, since rapid heating is performed, the occurrence of solder balls, the scattering of flux, the spread of flux residue, and the like, has remarkably occurred.
Therefore, as a solder composition that can solve these problems, for example, (A) a rosin resin, (B) an organic acid, (C) a solvent, and (D) a flux containing an organic halogen compound that is solid at 25 ° C. , (E) solder powder, the (A) component contains (A1) a high softening point rosin resin having a softening point of 130 ° C. or higher, and the amount of the (A1) component is A) A solder composition has been proposed in which the total amount of component A is 70% by mass or more with respect to 100% by mass (see Patent Document 1).

特開2015-142936号公報JP 2015-142936 A

特許文献1に記載のようなはんだ組成物によれば、レーザーはんだ付けをする場合に、はんだボールの発生、フラックスの飛散およびフラックス残さの広がりの発生をある程度は抑制できる。しかしながら、はんだボールの発生の抑制については、未だ必ずしも十分なものではなく、更なる向上が求められていた。特に、スルーホールに挿入する電子部品をはんだ付けする場合においては、必要なはんだ量が多いためはんだボールが発生しやすくなっている。
なお、はんだボールの発生については、はんだ組成物中の活性剤の配合量を多くすることで、抑制できる傾向にある。しかしながら、活性剤の配合量が多すぎると、絶縁信頼性が低下するおそれがあるので、活性剤を過剰に配合することはできない。
According to the solder composition as described in Patent Document 1, the occurrence of solder balls, the scattering of flux, and the spread of flux residue can be suppressed to some extent in laser soldering. However, the suppression of the occurrence of solder balls is still not necessarily sufficient, and further improvement has been desired. In particular, when soldering an electronic component to be inserted into a through-hole, a large amount of solder is required, so solder balls are likely to occur.
The occurrence of solder balls tends to be suppressed by increasing the amount of the activator in the solder composition. However, if the amount of the activator is too large, the insulation reliability may deteriorate, so the activator cannot be excessively blended.

本発明は、レーザーはんだ付けをする場合に、はんだボールの発生を十分に抑制できるレーザーはんだ付け用はんだ組成物、並びに、それを用いた電子基板およびその製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a solder composition for laser soldering that can sufficiently suppress the occurrence of solder balls when performing laser soldering, an electronic substrate using the same, and a method for manufacturing the same.

本発明の一態様に係るレーザーはんだ付け用はんだ組成物は、(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)溶剤および(D)チクソ剤を含有するフラックス組成物と、(E)はんだ粉末とを含有し、前記(A)成分が、(A1)軟化点が130℃以上であり、かつ酸価が200mgKOH/g以下である重合ロジンを含有し、前記(C)成分が、(C1)セバシン酸ジアルキルを含有することを特徴とするものである。 A solder composition for laser soldering according to an aspect of the present invention comprises (A) a rosin resin, (B) an activator, (C) a solvent and (D) a flux composition containing a thixotropic agent; The (A) component contains (A1) a polymerized rosin having a softening point of 130° C. or higher and an acid value of 200 mgKOH/g or less, and the (C) component ( C1) It is characterized by containing a dialkyl sebacate.

本発明の一態様に係るレーザーはんだ付け用はんだ組成物においては、前記(D)成分が、(D1)エチレンビスステアリン酸アミドを含有することが好ましい。 In the solder composition for laser soldering according to one aspect of the present invention, the component (D) preferably contains (D1) ethylenebisstearic acid amide.

本発明の一態様に係る電子基板は、前記本発明の一態様に係るレーザーはんだ付け用はんだ組成物を用いたはんだ付け部を備えることを特徴とするものである。 An electronic substrate according to an aspect of the present invention is characterized by comprising a soldered portion using the solder composition for laser soldering according to the above-described aspect of the present invention.

本発明の一態様に係る電子基板の製造方法は、前記本発明の一態様に係るレーザーはんだ付け用はんだ組成物を用いた電子基板の製造方法であって、配線基板の電極上に、ディスペンサーを用いて、前記はんだ組成物を塗布する塗布工程と、前記はんだ組成物上に、電子部品を搭載する搭載工程と、レーザー光を用いて、前記はんだ組成物を加熱して、前記電極と前記電子部品とをはんだ接合するはんだ付け工程と、を備えることを特徴とする方法である。 A method for manufacturing an electronic substrate according to one aspect of the present invention is a method for manufacturing an electronic substrate using the solder composition for laser soldering according to one aspect of the present invention, wherein a dispenser is placed on an electrode of a wiring substrate. Using a coating step of applying the solder composition, a mounting step of mounting an electronic component on the solder composition, and using a laser beam to heat the solder composition, the electrode and the electron and a soldering step of soldering the components together.

本発明のレーザーはんだ付け用はんだ組成物によって、レーザーはんだ付けをする場合に、はんだボールの発生を十分に抑制できる理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推察する。
すなわち、急加熱が行われるレーザーはんだ付けなどで、はんだボールの発生する理由は次の通りであると本発明者らは推察する。つまり、レーザー照射による急加熱によって、流動性が急上昇したフラックスがはんだ粉末の溶融よりも先にパッド外に流れ出し、そのときに、未溶融のはんだ粉末を同時にパッド外に流してしまうことによって生じているものと本発明者らは推察する。これに対し、本発明のレーザーはんだ付け用はんだ組成物は、(A1)軟化点が130℃以上であり、かつ酸価が200mgKOH/g以下である重合ロジンを含有している。そして、本発明では、急加熱を伴うはんだ付けの際に、(A1)成分が、はんだ組成物の表面を覆うように分布する傾向にあり、一時的に皮膜のようになる。かかる皮膜は、高融点の(A1)成分に、他の成分が分散しているものからなるために、比較的に流動性が低い。そのため、かかる皮膜により(B)活性剤や(C)溶剤が飛散してパッド外に流れ出すのを抑制できる。
また、本発明者らは、高融点のロジン系樹脂の中でも、重合ロジンを用いた場合には、驚くべきことに、はんだボールの発生を劇的に抑制できることを見出した。さらに、(C1)セバシン酸ジアルキルを(A1)成分と併用することでも、はんだボールの発生を劇的に抑制できることを見出した。そして、これらの(A1)成分および(C1)成分の作用により、上記本発明の効果が達成されるものと本発明者らは推察する。
The reason why the solder composition for laser soldering of the present invention can sufficiently suppress the occurrence of solder balls during laser soldering is not necessarily clear, but the present inventors speculate as follows.
That is, the present inventors presume that the reason why solder balls are generated in laser soldering or the like in which rapid heating is performed is as follows. In other words, due to rapid heating by laser irradiation, the flux whose fluidity has suddenly increased flows out of the pad before the solder powder melts, and at that time, the unmelted solder powder flows out of the pad at the same time. The inventors speculate that there is. In contrast, the solder composition for laser soldering of the present invention contains (A1) a polymerized rosin having a softening point of 130° C. or higher and an acid value of 200 mgKOH/g or lower. In the present invention, during soldering involving rapid heating, the component (A1) tends to be distributed so as to cover the surface of the solder composition, temporarily forming a film. Such a film has relatively low fluidity because it consists of the high-melting-point component (A1) dispersed with other components. Therefore, the film can prevent the (B) active agent and (C) solvent from scattering and flowing out of the pad.
In addition, the present inventors have surprisingly found that, among high-melting rosin-based resins, when polymerized rosin is used, the occurrence of solder balls can be dramatically suppressed. Furthermore, it has been found that the use of (C1) dialkyl sebacate together with component (A1) can also dramatically suppress the occurrence of solder balls. The present inventors presume that the effects of the present invention are achieved by the action of these components (A1) and (C1).

本発明によれば、レーザーはんだ付けをする場合に、はんだボールの発生を十分に抑制できるレーザーはんだ付け用はんだ組成物、並びに、それを用いた電子基板およびその製造方法を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the solder composition for laser soldering which can fully suppress the generation|occurence|production of a solder ball, an electronic substrate using the same, and its manufacturing method can be provided when performing laser soldering.

本実施形態のレーザーはんだ付け用はんだ組成物は、以下説明するフラックス組成物と、以下説明する(E)はんだ粉末とを含有するものである。 The solder composition for laser soldering of the present embodiment contains a flux composition described below and (E) solder powder described below.

[フラックス組成物]
まず、本実施形態に用いるフラックス組成物について説明する。本実施形態に用いるフラックス組成物は、はんだ組成物におけるはんだ粉末以外の成分であり、(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)溶剤および(D)チクソ剤を含有するものである。
[Flux composition]
First, the flux composition used in this embodiment will be described. The flux composition used in this embodiment is a component other than the solder powder in the solder composition, and contains (A) a rosin resin, (B) an activator, (C) a solvent and (D) a thixotropic agent. be.

前記フラックス組成物の配合量は、はんだ組成物100質量%に対して、8質量%以上20質量%以下であることが好ましく、10質量%以上15質量%以下であることがより好ましい。フラックスの配合量が8質量%未満の場合(はんだ粉末の配合量が92質量%を超える場合)には、塗布性が不十分となる傾向にあり、他方、フラックスの配合量が20質量%を超える場合(はんだ粉末の配合量が80質量%未満の場合)には、得られるはんだ組成物を用いた場合に、十分なはんだ接合を形成できにくくなる傾向にある。 The amount of the flux composition is preferably 8% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 15% by mass or less, based on 100% by mass of the solder composition. When the amount of flux is less than 8% by mass (when the amount of solder powder is more than 92% by mass), the coatability tends to be insufficient. When it exceeds (when the amount of solder powder is less than 80% by mass), it tends to be difficult to form a sufficient solder joint when the resulting solder composition is used.

[(A)成分]
本実施形態に用いる(A)ロジン系樹脂は、(A1)軟化点が130℃以上であり、かつ酸価が200mgKOH/g以下である重合ロジンを含有することが必要である。このような(A1)成分により、レーザーはんだ付けをする場合に、はんだボールの発生を抑制できる。
(A1)成分の軟化点が130℃未満である場合には、フラックス飛散を抑制できず、はんだボールの発生を十分に抑制できない。また、はんだボールの発生の抑制の観点から、(A1)成分の軟化点は、135℃以上であることが好ましく、140℃以上であることがより好ましい。(A1)成分の軟化点の上限は、特に限定されない。例えば、(A1)成分の軟化点は、200℃以下であってもよい。
(A1)成分の酸価が200mgKOH/gを超える場合には、絶縁信頼性が不十分となる。また、活性作用および絶縁信頼性の観点から、(A1)成分の酸価は、20mgKOH/g以上180mgKOH/g以下であることが好ましく、100mgKOH/g以上150mgKOH/g以下であることがより好ましい。
なお、酸価(平均酸価)は、試料1gに含まれている遊離脂肪酸を中和するのに必要な水酸化カリウムを求めることで測定できる。また、軟化点は、環球法により測定できる。
[(A) Component]
The (A) rosin-based resin used in this embodiment must contain (A1) a polymerized rosin having a softening point of 130° C. or higher and an acid value of 200 mgKOH/g or lower. Such a component (A1) can suppress the occurrence of solder balls during laser soldering.
If the softening point of the component (A1) is less than 130° C., the flux scattering cannot be suppressed and the occurrence of solder balls cannot be sufficiently suppressed. From the viewpoint of suppressing the occurrence of solder balls, the softening point of the component (A1) is preferably 135° C. or higher, more preferably 140° C. or higher. The upper limit of the softening point of component (A1) is not particularly limited. For example, the softening point of component (A1) may be 200°C or lower.
If the acid value of component (A1) exceeds 200 mgKOH/g, insulation reliability will be insufficient. In addition, from the viewpoint of activation action and insulation reliability, the acid value of component (A1) is preferably 20 mgKOH/g or more and 180 mgKOH/g or less, more preferably 100 mgKOH/g or more and 150 mgKOH/g or less.
The acid value (average acid value) can be measured by obtaining potassium hydroxide required to neutralize the free fatty acids contained in 1 g of the sample. Also, the softening point can be measured by the ring and ball method.

重合ロジンとは、ロジン類を公知の方法で重合させることにより得られるものである。ロジン類としては、ガムロジン、ウッドロジンおよびトール油ロジンなどが挙げられる。これらのロジン類は、未精製のまま使用してもよいが、色調が良好な(ガードナー色数が低い)重合ロジンを得るという観点から、ロジン類を精製して用いることが好ましい。
重合ロジンのガードナー色数は、はんだボールの抑制効果の観点から、8以下であることが好ましい。
重合ロジンは、ロジン類を、通常、硫酸系触媒存在下、有機溶剤中で、例えば40℃以上160℃以下の温度で、1時間以上10時間以下の時間、反応させることにより得られる。硫酸系触媒としては、硫酸、p-トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、およびスチレン-ジビニルベンゼンなどの共重合体スルホン化物などが挙げられる。また、硫酸系触媒に加え、ぎ酸、フッ化水素、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、および四塩化チタンなども併用できる。また、有機溶剤としては、トルエン、キシレン、およびハロゲン化炭化水素などが挙げられる。反応終了後、触媒を除去するためには、通常、水洗、およびろ過などの各種公知の方法を採用できる。また、未反応ロジンおよび分解物は減圧蒸留により除去できる。
A polymerized rosin is obtained by polymerizing rosins by a known method. Rosins include gum rosin, wood rosin and tall oil rosin. Although these rosins may be used unpurified, it is preferable to use rosins after purification from the viewpoint of obtaining a polymerized rosin with good color tone (low Gardner color number).
The Gardner color number of the polymerized rosin is preferably 8 or less from the viewpoint of the effect of suppressing solder balls.
The polymerized rosin is generally obtained by reacting rosins in the presence of a sulfuric acid catalyst in an organic solvent at a temperature of, for example, 40° C. or higher and 160° C. or lower for 1 hour or longer and 10 hours or shorter. Sulfuric acid-based catalysts include sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, and sulfonated copolymers such as styrene-divinylbenzene. In addition to sulfuric acid-based catalysts, formic acid, hydrogen fluoride, zinc chloride, aluminum chloride, titanium tetrachloride, and the like can also be used in combination. Organic solvents include toluene, xylene, and halogenated hydrocarbons. In order to remove the catalyst after completion of the reaction, various known methods such as washing with water and filtration can be generally employed. Also, unreacted rosin and decomposition products can be removed by vacuum distillation.

(A1)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、10質量%以上60質量%以下であることが好ましく、20質量%以上50質量%以下であることがより好ましく、25質量%以上40質量%以下であることが特に好ましい。(A1)成分の配合量が前記下限以上であれば、レーザーはんだ付けの際に、はんだボールをより確実に抑制できる。また、(A1)成分の配合量が前記上限以下であれば、フラックス残さ量を十分に抑制できる。 The amount of component (A1) is preferably 10% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 20% by mass or more and 50% by mass or less, and 25% by mass, based on 100% by mass of the flux composition. % or more and 40 mass % or less is particularly preferable. When the blending amount of the component (A1) is at least the above lower limit, solder balls can be suppressed more reliably during laser soldering. Moreover, if the compounding quantity of (A1) component is below the said upper limit, the amount of flux residue can fully be suppressed.

本実施形態においては、(A)成分は、(A1)成分以外のロジン系樹脂((A2)成分)を含有してもよい。
本実施形態に用いる(A2)ロジン系樹脂としては、ロジン類およびロジン系変性樹脂が挙げられる。ロジン類としては、ガムロジン、ウッドロジンおよびトール油ロジンなどが挙げられる。ロジン系変性樹脂としては、不均化ロジン、水素添加ロジンおよびこれらの誘導体などが挙げられる。水素添加ロジンとしては、完全水添ロジン、部分水添ロジン、並びに、不飽和有機酸((メタ)アクリル酸などの脂肪族の不飽和一塩基酸、フマル酸、マレイン酸などのα,β-不飽和カルボン酸などの脂肪族不飽和二塩基酸、桂皮酸などの芳香族環を有する不飽和カルボン酸など)の変性ロジンである不飽和有機酸変性ロジンの水素添加物(「水添酸変性ロジン」ともいう)などが挙げられる。これらのロジン系樹脂は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
In this embodiment, the (A) component may contain a rosin-based resin ((A2) component) other than the (A1) component.
The (A2) rosin-based resin used in the present embodiment includes rosins and rosin-based modified resins. Rosins include gum rosin, wood rosin and tall oil rosin. Examples of rosin-based modified resins include disproportionated rosin, hydrogenated rosin and derivatives thereof. Hydrogenated rosins include fully hydrogenated rosins, partially hydrogenated rosins, unsaturated organic acids (aliphatic unsaturated monobasic acids such as (meth)acrylic acid, α,β- Hydrogenated unsaturated organic acid-modified rosin ("hydrogenated acid-modified (also referred to as "rosin"). These rosin-based resins may be used singly or in combination of two or more.

(A2)成分の軟化点は、フラックス飛散およびはんだボールの抑制の観点から、120℃以上であることが好ましく、130℃以上であることがより好ましく、140℃以上であることが特に好ましい。
(A2)成分の酸価は、特に限定されない。例えば、(A2)成分の酸価は、220mgKOH/g以上500mgKOH/g以下であってもよい。
The softening point of component (A2) is preferably 120° C. or higher, more preferably 130° C. or higher, and particularly preferably 140° C. or higher, from the viewpoint of suppressing flux scattering and solder balls.
The acid value of component (A2) is not particularly limited. For example, the acid value of component (A2) may be 220 mgKOH/g or more and 500 mgKOH/g or less.

なお、(A)成分の軟化点を調整する手段としては、(i)ロジンの重合度合を調整すること(重合度合が高くなるほど、軟化点が高くなる傾向にある)、(ii)ロジンの変性方法を変更すること(例えば、アクリル酸やマレイン酸により変性することで、軟化点が高くなる傾向にある)、(iii)ロジンの分子量を調整すること(分子量が高くなるほど、軟化点が高くなる傾向にある)、(iv)ロジンに水素化反応を施すこと、または、(v)ロジンにエステル化反応またはエステル交換反応を施すことなどが挙げられる。
また、(A)成分の酸価を調整する手段としては、ロジンの変性方法を変更すること(例えば、アクリル酸やマレイン酸により変性することで、酸価が高くなる傾向にあり、エステル化することで、酸価が低くなる傾向にある)などが挙げられる。
As means for adjusting the softening point of component (A), (i) the degree of polymerization of rosin is adjusted (the higher the degree of polymerization, the higher the softening point tends to be), and (ii) the modification of rosin. (For example, modifying with acrylic acid or maleic acid tends to increase the softening point), (iii) adjusting the molecular weight of rosin (the higher the molecular weight, the higher the softening point. (iv) subjecting rosin to hydrogenation reaction, or (v) subjecting rosin to esterification reaction or transesterification reaction.
In addition, as a means for adjusting the acid value of component (A), changing the method of modifying rosin (for example, modifying with acrylic acid or maleic acid tends to increase the acid value, and esterification As a result, the acid value tends to be low).

(A)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、25質量%以上65質量%以下であることが好ましく、27質量%以上60質量%以下であることがより好ましく、30質量%以上58質量%以下であることが特に好ましい。(A)成分の配合量が前記下限以上であれば、はんだ付ランドの銅箔面の酸化を防止してその表面に溶融はんだを濡れやすくする、いわゆるはんだ付け性を向上でき、はんだボールを十分に抑制できる。また、(A)成分の配合量が前記上限以下であれば、フラックス残さ量を十分に抑制できる。 The amount of component (A) is preferably 25% by mass or more and 65% by mass or less, more preferably 27% by mass or more and 60% by mass or less, and 30% by mass, based on 100% by mass of the flux composition. % or more and 58 mass % or less is particularly preferable. If the blending amount of component (A) is at least the above lower limit, it is possible to prevent oxidation of the copper foil surface of the soldering land and make it easier for molten solder to wet the surface, so-called solderability can be improved, and solder balls can be sufficiently formed. can be suppressed to Moreover, if the compounding quantity of (A) component is below the said upper limit, the flux residue amount can fully be suppressed.

[(B)成分]
本実施形態に用いる(B)活性剤としては、有機酸、非解離性のハロゲン化化合物からなる非解離型活性剤、およびアミン系活性剤などが挙げられる。これらの活性剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
有機酸としては、モノカルボン酸、ジカルボン酸などの他に、その他の有機酸が挙げられる。
モノカルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ブチリック酸、バレリック酸、カプロン酸、エナント酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ツベルクロステアリン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸、リグノセリン酸、およびグリコール酸などが挙げられる。
ジカルボン酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、エイコサン二酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、およびジグリコール酸などが挙げられる。
その他の有機酸としては、ダイマー酸、レブリン酸、乳酸、アクリル酸、安息香酸、サリチル酸、アニス酸、クエン酸、およびピコリン酸などが挙げられる。
[(B) Component]
Examples of the (B) activator used in this embodiment include organic acids, non-dissociative activators comprising non-dissociable halogenated compounds, and amine-based activators. These activators may be used singly or in combination of two or more.
Examples of organic acids include monocarboxylic acids, dicarboxylic acids, and other organic acids.
Monocarboxylic acids include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, pentadecyl acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid, and tuberculostearic acid. , arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, and glycolic acid.
Dicarboxylic acids include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, eicosanedioic acid, fumaric acid, maleic acid, tartaric acid, and diglycolic acid. mentioned.
Other organic acids include dimer acid, levulinic acid, lactic acid, acrylic acid, benzoic acid, salicylic acid, anisic acid, citric acid, and picolinic acid.

非解離性のハロゲン化化合物からなる非解離型活性剤としては、ハロゲン原子が共有結合により結合した非塩系の有機化合物が挙げられる。このハロゲン化化合物としては、塩素化物、臭素化物、フッ化物のように塩素、臭素、フッ素の各単独元素の共有結合による化合物でもよいが、塩素、臭素およびフッ素の任意の2つまたは全部のそれぞれの共有結合を有する化合物でもよい。これらの化合物は、水性溶媒に対する溶解性を向上させるために、例えばハロゲン化アルコールやハロゲン化カルボキシルのように水酸基やカルボキシル基などの極性基を有することが好ましい。ハロゲン化アルコールとしては、例えば2,3-ジブロモプロパノール、2,3-ジブロモブタンジオール、トランス-2,3-ジブロモ-2-ブテン-1,4-ジオール(TDBD)、1,4-ジブロモ-2-ブタノール、トリブロモネオペンチルアルコールなどの臭素化アルコール、1,3-ジクロロ-2-プロパノール、1,4-ジクロロ-2-ブタノールなどの塩素化アルコール、3-フルオロカテコールなどのフッ素化アルコール、その他これらに類する化合物が挙げられる。ハロゲン化カルボキシルとしては、2-ヨード安息香酸、3-ヨード安息香酸、2-ヨードプロピオン酸、5-ヨードサリチル酸、5-ヨードアントラニル酸などのヨウ化カルボキシル、2-クロロ安息香酸、3-クロロプロピオン酸などの塩化カルボキシル、2,3-ジブロモプロピオン酸、2,3-ジブロモコハク酸、2-ブロモ安息香酸などの臭素化カルボキシル、その他これらに類する化合物が挙げられる。 Non-dissociative activators comprising non-dissociable halogenated compounds include non-salt organic compounds in which halogen atoms are covalently bonded. The halogenated compound may be a compound formed by a covalent bond of each single element of chlorine, bromine and fluorine, such as chloride, bromide and fluoride, but any two or all of chlorine, bromine and fluorine may be may be a compound having a covalent bond of These compounds preferably have a polar group such as a hydroxyl group or a carboxyl group, such as a halogenated alcohol or a halogenated carboxyl group, in order to improve the solubility in an aqueous solvent. Examples of halogenated alcohols include 2,3-dibromopropanol, 2,3-dibromobutanediol, trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol (TDBD), 1,4-dibromo-2 -butanol, brominated alcohols such as tribromoneopentyl alcohol, chlorinated alcohols such as 1,3-dichloro-2-propanol, 1,4-dichloro-2-butanol, fluorinated alcohols such as 3-fluorocatechol, etc. Compounds similar to these can be mentioned. Carboxyl halides include carboxyl iodides such as 2-iodobenzoic acid, 3-iodobenzoic acid, 2-iodopropionic acid, 5-iodosalicylic acid, 5-iodoanthranilic acid, 2-chlorobenzoic acid, and 3-chloropropione. carboxyl chlorides such as acids, bromides such as 2,3-dibromopropionic acid, 2,3-dibromosuccinic acid, 2-bromobenzoic acid, and other similar compounds.

アミン系活性剤としては、アミン類(エチレンジアミンなどのポリアミンなど)、アミン塩類(トリメチロールアミン、シクロヘキシルアミン、ジエチルアミンなどのアミンやアミノアルコールなどの有機酸塩や無機酸塩(塩酸、硫酸、臭化水素酸など))、アミノ酸類(グリシン、アラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、バリンなど)、アミド系化合物などが挙げられる。具体的には、ジフェニルグアニジン臭化水素酸塩、シクロヘキシルアミン臭化水素酸塩、ジエチルアミン塩(塩酸塩、コハク酸塩、アジピン酸塩、セバシン酸塩など)、トリエタノールアミン、モノエタノールアミン、および、これらのアミンの臭化水素酸塩などが挙げられる。 Amine surfactants include amines (polyamines such as ethylenediamine, etc.), amine salts (trimethylolamine, cyclohexylamine, diethylamine, etc.), organic acid salts such as aminoalcohols, and inorganic acid salts (hydrochloric acid, sulfuric acid, brominated hydrogen acid, etc.), amino acids (glycine, alanine, aspartic acid, glutamic acid, valine, etc.), amide compounds, and the like. Specifically, diphenylguanidine hydrobromide, cyclohexylamine hydrobromide, diethylamine salts (hydrochloride, succinate, adipate, sebacate, etc.), triethanolamine, monoethanolamine, and , hydrobromides of these amines, and the like.

(B)成分の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、0.1質量%以上10質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上6質量%以下であることがより好ましく、1質量%以上3質量%以下であることが特に好ましい。(B)成分の配合量が前記下限以上であれば、はんだボールがより確実に抑制できる。また、(B)成分の配合量が前記上限以下であれば、フラックス組成物の絶縁信頼性を向上できる。
なお、本実施形態においては、(B)成分の配合量が前記上限以下であったとしても、レーザーはんだ付けの際に、はんだボールを十分に抑制できる。
The blending amount of component (B) is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, and preferably 0.5% by mass or more and 6% by mass or less, based on 100% by mass of the flux composition. More preferably, it is particularly preferably 1% by mass or more and 3% by mass or less. If the blending amount of component (B) is at least the above lower limit, solder balls can be suppressed more reliably. Moreover, if the compounding quantity of (B) component is below the said upper limit, the insulation reliability of a flux composition can be improved.
In the present embodiment, solder balls can be sufficiently suppressed during laser soldering even if the blending amount of component (B) is equal to or less than the upper limit.

[(C)成分]
本実施形態に用いる(C)溶剤は、(C1)セバシン酸ジアルキルを含有することが必要である。このような(C1)成分により、レーザーはんだ付けをする場合に、はんだボールの発生を抑制できる。
(C1)成分におけるアルキルは、炭素数1~10の直鎖アルキル、または炭素数3~10の分岐鎖アルキルであることが好ましい。また、はんだボールの抑制効果の観点から、(C1)成分におけるアルキルは、炭素数2~9の直鎖アルキル、または炭素数3~9の分岐鎖アルキルであることがより好ましく、炭素数3~8の直鎖アルキル、または炭素数3~8の分岐鎖アルキルであることが特に好ましい。
また、(C1)成分における2つのアルキルは、同一であってもよく、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
[(C) component]
The (C) solvent used in this embodiment must contain (C1) dialkyl sebacate. Such a (C1) component can suppress the occurrence of solder balls when performing laser soldering.
Alkyl in component (C1) is preferably linear alkyl having 1 to 10 carbon atoms or branched alkyl having 3 to 10 carbon atoms. Further, from the viewpoint of the effect of suppressing solder balls, the alkyl in the component (C1) is more preferably straight-chain alkyl having 2 to 9 carbon atoms or branched-chain alkyl having 3 to 9 carbon atoms. Straight-chain alkyl of 8 or branched-chain alkyl of 3 to 8 carbon atoms are particularly preferred.
Two alkyl groups in the component (C1) may be the same or different, but are preferably the same.

(C1)成分としては、セバシン酸ジメチル、セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジプロピル(セバシン酸ジイソプロピルなど)、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジペンチル、セバシン酸ジヘキシル、セバシン酸ジヘプチル、およびセバシン酸ジオクチル(セバシン酸ジ(2-エチルヘキシル)など)などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。 Component (C1) includes dimethyl sebacate, diethyl sebacate, dipropyl sebacate (diisopropyl sebacate, etc.), dibutyl sebacate, dipentyl sebacate, dihexyl sebacate, diheptyl sebacate, and dioctyl sebacate (di(di(sebacate 2-ethylhexyl), etc.). These may be used individually by 1 type, and may be used in mixture of 2 or more types.

(C)成分は、本発明の目的に影響のない範囲であれば、(C1)成分以外の他の溶剤((C2)成分)を含有していてもよい。ただし、(C2)成分を用いる場合、(C1)成分の配合量は、(C)成分100質量%に対して、25質量%以上であることが好ましく、50質量%以上であることがより好ましく、80質量%以上であることがさらに好ましく、90質量%以上であることが特に好ましい。 Component (C) may contain a solvent (component (C2)) other than component (C1) as long as it does not affect the object of the present invention. However, when component (C2) is used, the amount of component (C1) is preferably 25% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, relative to 100% by mass of component (C). , more preferably 80% by mass or more, and particularly preferably 90% by mass or more.

(C2)成分としては、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、1,5-ペンタンジオール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、オクタンジオール、フェニルグリコール、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(DEH)、ジエチレングリコールモノ2-エチルヘキシルエーテル(EHDG)、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、およびジブチルマレイン酸などが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。 Component (C2) includes diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, hexylene glycol, 1,5-pentanediol, methyl carbitol, butyl carbitol, octanediol, phenyl glycol, diethylene glycol monohexyl ether (DEH), Diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether (EHDG), tetraethylene glycol dimethyl ether, dibutyl maleic acid, and the like. These may be used individually by 1 type, and may be used in mixture of 2 or more types.

(C)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、10質量%以上60質量%以下であることが好ましく、20質量%以上50質量%以下であることがより好ましく、25質量%以上40質量%以下であることが特に好ましい。溶剤の配合量が前記範囲内であれば、得られるはんだ組成物の粘度を適正な範囲に適宜調整できる。 The amount of component (C) is preferably 10% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 20% by mass or more and 50% by mass or less, and 25% by mass, based on 100% by mass of the flux composition. % or more and 40 mass % or less is particularly preferable. If the blending amount of the solvent is within the above range, the viscosity of the resulting solder composition can be appropriately adjusted to an appropriate range.

[(D)成分]
本実施形態に用いる(D)チクソ剤は、(D1)エチレンビスステアリン酸アミドを含有することが好ましい。この(D1)成分と(A1)成分の組み合わせにより、レーザーはんだ付けの際に、(A1)成分を主成分とする皮膜の流動性をより低くでき、フラックス飛散やはんだボールの抑制効果を高めることができる。
[(D) Component]
The (D) thixotropic agent used in the present embodiment preferably contains (D1) ethylenebisstearic acid amide. By combining the (D1) component and the (A1) component, the fluidity of the coating containing the (A1) component as the main component can be made lower during laser soldering, and the effect of suppressing flux scattering and solder balls can be enhanced. can be done.

(D1)成分の配合量は、はんだボールの抑制効果の観点から、フラックス組成物100質量%に対して、1質量%以上10質量%以下であることが好ましく、1質量%以上5質量%以下であることがより好ましく、1.5質量%以上3質量%以下であることが特に好ましい。 From the viewpoint of suppressing solder balls, the amount of component (D1) is preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less, and 1% by mass or more and 5% by mass or less, based on 100% by mass of the flux composition. more preferably, and particularly preferably 1.5% by mass or more and 3% by mass or less.

(D)成分は、本発明の目的に影響のない範囲であれば、(D1)成分以外の他のチクソ剤((D2)成分)を含有していてもよい。
(D2)成分としては、(D1)成分以外のアマイド類、硬化ひまし油、カオリン、コロイダルシリカ、有機ベントナイト、およびガラスフリットなどが挙げられる。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
Component (D) may contain a thixotropic agent (component (D2)) other than component (D1) as long as it does not affect the object of the present invention.
Component (D2) includes amides other than component (D1), hydrogenated castor oil, kaolin, colloidal silica, organic bentonite, and glass frit. These may be used individually by 1 type, and may be used in mixture of 2 or more types.

(D)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、1質量%以上20質量%以下であることが好ましく、3質量%以上15質量%以下であることがより好ましく、5質量%以上12質量%以下であることが特に好ましい。配合量が前記下限以上であれば、十分なチクソ性が得られ、ダレを十分に抑制できる。また、配合量が前記上限以下であれば、チクソ性が高すぎて、印刷不良となることはない。 The amount of component (D) is preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 3% by mass or more and 15% by mass or less, and 5% by mass, based on 100% by mass of the flux composition. % or more and 12 mass % or less is particularly preferable. When the blending amount is at least the above lower limit, sufficient thixotropic properties can be obtained, and sagging can be sufficiently suppressed. Further, if the blending amount is equal to or less than the above upper limit, the thixotropy is too high, and printing defects do not occur.

[他の成分]
本実施形態に用いるフラックス組成物には、(A)成分、(B)成分、(C)成分および(D)成分の他に、必要に応じて、その他の添加剤を加えることができる。その他の添加剤としては、酸化防止剤、消泡剤、改質剤、つや消し剤、および発泡剤などが挙げられる。
[Other ingredients]
In addition to components (A), (B), (C) and (D), other additives may be added to the flux composition used in this embodiment, if necessary. Other additives include antioxidants, defoamers, modifiers, flatting agents, foaming agents, and the like.

[(E)成分]
本実施形態に用いる(E)はんだ粉末は、鉛フリーはんだ粉末のみからなることが好ましいが、有鉛のはんだ粉末であってもよい。このはんだ粉末におけるはんだ合金としては、スズ(Sn)を主成分とする合金が好ましい。また、この合金の第二元素としては、銀(Ag)、銅(Cu)、亜鉛(Zn)、ビスマス(Bi)、インジウム(In)およびアンチモン(Sb)などが挙げられる。さらに、この合金には、必要に応じて他の元素(第三元素以降)を添加してもよい。他の元素としては、銅、銀、ビスマス、インジウム、アンチモン、およびアルミニウム(Al)などが挙げられる。
ここで、鉛フリーはんだ粉末とは、鉛を添加しないはんだ金属または合金の粉末のことをいう。ただし、鉛フリーはんだ粉末中に、不可避的不純物として鉛が存在することは許容されるが、この場合に、鉛の量は、300質量ppm以下であることが好ましい。
[(E) Component]
The (E) solder powder used in this embodiment is preferably composed of only lead-free solder powder, but may be lead-containing solder powder. As the solder alloy in this solder powder, an alloy containing tin (Sn) as a main component is preferable. In addition, the second elements of this alloy include silver (Ag), copper (Cu), zinc (Zn), bismuth (Bi), indium (In) and antimony (Sb). Furthermore, other elements (third and subsequent elements) may be added to this alloy, if necessary. Other elements include copper, silver, bismuth, indium, antimony, and aluminum (Al).
Here, the lead-free solder powder means powder of solder metal or alloy to which lead is not added. However, the presence of lead as an unavoidable impurity in lead-free solder powder is allowed, but in this case, the amount of lead is preferably 300 ppm by mass or less.

鉛フリーはんだ粉末におけるはんだ合金としては、具体的には、Sn-Ag、Sn-Ag-Cu、Sn-Cu、Sn-Ag-Bi、Sn-Bi、Sn-Ag-Cu-Bi、Sn-Sb、Sn-Zn-Bi、Sn-Zn、Sn-Zn-Al、Sn-Ag-Bi-In、Sn-Ag-Cu-Bi-In-Sb、In-Agなどが挙げられる。これらの中でも、はんだ接合の強度の観点から、Sn-Ag-Cu系のはんだ合金が好ましく用いられている。そして、Sn-Ag-Cu系のはんだの融点は、通常200℃以上250℃以下である。なお、Sn-Ag-Cu系のはんだの中でも、銀含有量が低い系のはんだの融点は、210℃以上250℃以下(より好ましくは、220℃以上240℃以下)である。 Specifically, the solder alloy in the lead-free solder powder includes Sn--Ag, Sn--Ag--Cu, Sn--Cu, Sn--Ag--Bi, Sn--Bi, Sn--Ag--Cu--Bi, Sn--Sb , Sn--Zn--Bi, Sn--Zn, Sn--Zn--Al, Sn--Ag--Bi--In, Sn--Ag--Cu--Bi--In--Sb and In--Ag. Among these, Sn--Ag--Cu based solder alloys are preferably used from the viewpoint of solder joint strength. The melting point of the Sn--Ag--Cu solder is usually 200.degree. C. or higher and 250.degree. C. or lower. Among Sn--Ag--Cu based solders, the melting point of solder with a low silver content is 210.degree. C. to 250.degree. C. (more preferably, 220.degree. C. to 240.degree.

(E)成分の平均粒子径は、通常1μm以上40μm以下であるが、はんだ付けパッドのピッチが狭い電子基板にも対応するという観点から、1μm以上35μm以下であることがより好ましく、2μm以上30μm以下であることがさらにより好ましい。なお、平均粒子径は、動的光散乱式の粒子径測定装置により測定できる。 The average particle size of the component (E) is usually 1 μm or more and 40 μm or less, but from the viewpoint of compatibility with electronic substrates having narrow soldering pad pitches, it is more preferably 1 μm or more and 35 μm or less, and 2 μm or more and 30 μm. It is even more preferred that: The average particle size can be measured with a dynamic light scattering particle size measuring device.

[レーザーはんだ付け用はんだ組成物の製造方法]
本発明のレーザーはんだ付け用はんだ組成物は、上記説明したフラックス組成物と上記説明した(E)はんだ粉末とを上記所定の割合で配合し、撹拌混合することで製造できる。
[Method for producing solder composition for laser soldering]
The solder composition for laser soldering of the present invention can be produced by blending the flux composition described above and the solder powder (E) described above in the above-described predetermined ratio and stirring and mixing.

[電子基板およびその製造方法]
次に、本実施形態の電子基板について説明する。
本実施形態の電子基板は、以上説明したレーザーはんだ付け用はんだ組成物を用いたはんだ付け部を備えることを特徴とするものである。本実施形態の電子基板は、例えば、以下説明する本実施形態の電子基板の製造方法により、製造できる。
本実施形態の電子基板の製造方法は、前述したレーザーはんだ付け用はんだ組成物を用いて電子基板を製造する方法であって、以下説明する塗布工程、搭載工程、およびはんだ付け工程を備える方法である。
[Electronic substrate and its manufacturing method]
Next, the electronic board of this embodiment will be described.
The electronic board of the present embodiment is characterized by having a soldered portion using the solder composition for laser soldering described above. The electronic substrate of this embodiment can be manufactured, for example, by the method of manufacturing an electronic substrate of this embodiment described below.
The method for producing an electronic substrate according to the present embodiment is a method for producing an electronic substrate using the above-described solder composition for laser soldering, and is a method comprising a coating step, a mounting step, and a soldering step described below. be.

塗布工程においては、配線基板の電極上に、ディスペンサーを用いて、レーザーはんだ付け用はんだ組成物を塗布する。
ディスペンサーとしては、エア式、またはジェット式が用いられる。
配線基板は、リジット基板であってもよく、フレキシブル基板であってもよい。配線基板の基材としては、特に限定されず、公知の基材を適宜用いることができる。
配線の金属としては、銅、銀、および金などが挙げられる。また、配線は、蒸着法、または、めっき法などで形成できる。
前記本実施形態のレーザーはんだ付け用はんだ組成物は、ディスペンサーでの塗布性が優れており、このようなディスペンサーで良好に塗布できる。
In the application step, the solder composition for laser soldering is applied onto the electrodes of the wiring board using a dispenser.
As a dispenser, an air type or a jet type is used.
The wiring board may be a rigid board or a flexible board. The base material of the wiring board is not particularly limited, and known base materials can be used as appropriate.
Metals for the wiring include copper, silver, and gold. Also, the wiring can be formed by a vapor deposition method, a plating method, or the like.
The solder composition for laser soldering of the present embodiment has excellent applicability with a dispenser, and can be applied satisfactorily with such a dispenser.

搭載工程においては、レーザーはんだ付け用はんだ組成物上に、電子部品を搭載する。
電子部品としては、チップ、およびパッケージ部品などが挙げられる。
また、搭載装置としては、適宜公知の搭載装置を用いることができる。
In the mounting step, an electronic component is mounted on the solder composition for laser soldering.
Electronic components include chips, package components, and the like.
As the mounting device, a known mounting device can be used as appropriate.

はんだ付け工程においては、レーザー光を用いて、レーザーはんだ付け用はんだ組成物を加熱して、前記電極と前記電子部品とをはんだ接合する。
本実施形態においては、前述の通り、レーザーはんだ付けをする場合に、はんだボールの発生を十分に抑制できるはんだ組成物を用いているので、適切にレーザーはんだ付けを行うことができる。
はんだ付けに使用するレーザー光のレーザー光源の種類は、特に限定されず、金属の吸収帯に合わせた波長に応じて適宜採用できる。レーザー光源としては、例えば、固体レーザー(ルビー、ガラス、YAGなど)、半導体レーザー(GaAs、InGaAsP、有機物など)、液体レーザー(色素など)、および気体レーザー(He-Ne、Ar、CO、エキシマーなど)が挙げられる。
レーザー照射条件は、特に限定されない。例えば、スポット径φは、0.1mm以上2mm以下であることが好ましい。また、照射時間は、0.1秒間以上5秒間以下であることが好ましい。
レーザー光の出力は、特に限定されない。
In the soldering step, a laser beam is used to heat a solder composition for laser soldering, thereby soldering the electrode and the electronic component.
In the present embodiment, as described above, when laser soldering is performed, a solder composition that can sufficiently suppress the occurrence of solder balls is used, so laser soldering can be performed appropriately.
The type of laser light source for the laser light used for soldering is not particularly limited, and can be appropriately employed according to the wavelength matched to the absorption band of the metal. Examples of laser light sources include solid lasers (ruby, glass, YAG, etc.), semiconductor lasers (GaAs, InGaAsP, organic substances, etc.), liquid lasers (dyes, etc.), and gas lasers (He—Ne, Ar, CO 2 , excimer etc.).
Laser irradiation conditions are not particularly limited. For example, the spot diameter φ is preferably 0.1 mm or more and 2 mm or less. Also, the irradiation time is preferably 0.1 seconds or more and 5 seconds or less.
The output of laser light is not particularly limited.

本実施形態においては、フラックス残さは洗浄することなく、電子部品を搭載した配線基板に被覆されたままにしてもよい。
なお、本発明のレーザーはんだ付け用はんだ組成物および電子基板の製造方法は、前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良などは本発明に含まれるものである。
In the present embodiment, the flux residue may remain coated on the wiring board on which electronic components are mounted without being washed.
The solder composition for laser soldering and the method for producing an electronic substrate of the present invention are not limited to the above-described embodiments, and modifications and improvements within the scope of achieving the object of the present invention are included in the present invention. It is something that can be done.

次に、本発明を実施例および比較例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、実施例および比較例にて用いた材料を以下に示す。
((A1)成分)
重合ロジン:重合ロジン(軟化点:140℃、酸価:145mgKOH/g、ガードナー色数:8)、商品名「中国重合ロジン140」、荒川化学工業社製
((A2)成分)
ロジン系樹脂:水添酸変性ロジン(軟化点:130℃、酸価:245mgKOH/g)、商品名「KE-604」、荒川化学工業社製
((B)成分)
活性剤A:グルタル酸
活性剤B:ピコリン酸
((C1)成分)
溶剤A:セバシン酸ジイソプロピル、豊国製油社製
溶剤B:セバシン酸ジオクチル、豊国製油社製
((C2)成分)
溶剤C:ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(DEH)、日本乳化剤社製
溶剤D:ジエチレングリコールモノ2-エチルヘキシルエーテル(EHDG)、日本乳化剤社製
溶剤E:ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(EDGAC)、ダイセル社製
((D1)成分)
チクソ剤A:エチレンビスステアリン酸アミド、商品名「スリパックスE」、日本化成社製
((D2)成分)
チクソ剤B:商品名「スリパックスZHH」、日本化成社製
((E)成分)
はんだ粉末:粒子径は15~25μm、はんだ融点は216~220℃、はんだ組成はSn/Ag/Cu
(他の成分)
酸化防止剤:商品名「イルガノックス245」、BASF社製
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. Materials used in Examples and Comparative Examples are shown below.
((A1) component)
Polymerized rosin: Polymerized rosin (softening point: 140°C, acid value: 145 mgKOH/g, Gardner color number: 8), trade name "China polymerized rosin 140", manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. ((A2) component)
Rosin-based resin: Hydrogenated acid-modified rosin (softening point: 130°C, acid value: 245 mgKOH/g), trade name "KE-604", manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. (component (B))
Active agent A: glutaric acid Active agent B: picolinic acid (component (C1))
Solvent A: Diisopropyl sebacate, manufactured by Toyokuni Oil Co., Ltd. Solvent B: Dioctyl sebacate, manufactured by Toyokuni Oil Co., Ltd. (Component (C2))
Solvent C: Diethylene glycol monohexyl ether (DEH), Solvent D: Diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether (EHDG), manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd. Solvent E: Diethylene glycol monoethyl ether acetate (EDGAC), manufactured by Daicel ((D1 )component)
Thixotropic agent A: ethylenebisstearic acid amide, trade name "Slipax E", manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd. (component (D2))
Thixotropic agent B: trade name "Slipax ZHH", manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd. (component (E))
Solder powder: particle size 15-25 μm, solder melting point 216-220° C., solder composition Sn/Ag/Cu
(other ingredients)
Antioxidant: trade name "Irganox 245", manufactured by BASF

[実施例1]
重合ロジン30質量%、ロジン系樹脂27質量%、活性剤A1.3質量%、活性剤B0.5質量%、溶剤A32質量%、チクソ剤A2質量%、チクソ剤B5.2質量%、および酸化防止剤2質量%をそれぞれ容器に投入し、らいかい機を用いて混合してフラックス組成物を得た。
得られたフラックス組成物12.6質量%およびはんだ粉末87.4質量%(合計で100質量%)を容器に投入し、混練機にて混合することで、下記表1に示す組成を有するはんだ組成物を調製した。
[Example 1]
30% by weight of polymerized rosin, 27% by weight of rosin resin, 1.3% by weight of activator A, 0.5% by weight of activator B, 32% by weight of solvent A, 2% by weight of thixotropic agent A, 5.2% by weight of thixotropic agent B, and oxidation 2 mass % of the inhibitor was put into each container and mixed using a scouring machine to obtain a flux composition.
12.6% by mass of the resulting flux composition and 87.4% by mass of solder powder (100% by mass in total) were charged into a container and mixed with a kneader to obtain solder having the composition shown in Table 1 below. A composition was prepared.

[実施例2~4]
下記表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして、はんだ組成物を得た。
[比較例1~3]
下記表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして、はんだ組成物を得た。
[Examples 2 to 4]
A solder composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that each material was blended according to the composition shown in Table 1 below.
[Comparative Examples 1 to 3]
A solder composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that each material was blended according to the composition shown in Table 1 below.

<はんだ組成物の評価>
はんだ組成物の評価(粘度、はんだボール、ぬれ性)を以下のような方法で行った。得られた結果を表1に示す。
(1)粘度
はんだ組成物の温度25℃における粘度を、スパイラル粘度計(製品名「PCU-02」、Malcom社製)を用いて測定した。
(2)はんだボール
下記の2つの試験条件で、はんだボールをそれぞれ評価した。
(i)試験1
直径0.3mmの銅パッドを100個有する基板に、130μm厚のメタルマスクを使用して、それぞれの銅パッド上にはんだ組成物を印刷した。その後、レーザー波長808nm、スポット径Φ400μm、照射時間0.5秒間の条件で、それぞれの銅パッドにレーザーはんだ付けを行い、試験基板を得た。そして、試験基板を目視にて観察し、以下の基準に従って、はんだボールを評価した。
◎:はんだボールの数が、0個である。
〇:はんだボールの数が、1個以上10個未満である。
×:はんだボールの数が、10個以上である。
(ii)試験2
直径1mmの銅パッドを100個有する基板に、130μm厚のメタルマスクを使用して、それぞれの銅パッド上にはんだ組成物を印刷した。その後、レーザー波長808nm、スポット径Φ1.2mm、照射時間1.0秒間の条件で、それぞれの銅パッドにレーザーはんだ付けを行い、試験基板を得た。そして、試験基板を目視にて観察し、以下の基準に従って、はんだボールを評価した。
◎:はんだボールの数が、30個以下である。
〇:はんだボールの数が、30個以上50個未満である。
×:はんだボールの数が、50個以上である。
(3)ぬれ性
上記(2)はんだボールの試験で得られた2枚の評価基板(試験1および試験2)のパッド(全200パッド)を、目視にて観察した。そして、以下の基準に従って、ぬれ性を評価した。
〇:ぬれ不足のパッドがない。
△:ぬれ不足のパッドの数が、1つ以上5つ未満である。
×:ぬれ不足のパッドの数が、5つ以上である。
<Evaluation of Solder Composition>
The solder composition was evaluated (viscosity, solder balls, wettability) by the following methods. Table 1 shows the results obtained.
(1) Viscosity The viscosity of the solder composition at a temperature of 25° C. was measured using a spiral viscometer (product name “PCU-02”, manufactured by Malcom).
(2) Solder balls Solder balls were evaluated under the following two test conditions.
(i) Test 1
A substrate having 100 copper pads of 0.3 mm diameter was printed with a solder composition on each copper pad using a 130 μm thick metal mask. After that, laser soldering was performed on each copper pad under the conditions of a laser wavelength of 808 nm, a spot diameter of 400 μm, and an irradiation time of 0.5 seconds to obtain a test substrate. Then, the test substrate was visually observed, and solder balls were evaluated according to the following criteria.
A: The number of solder balls is 0.
Good: The number of solder balls is 1 or more and less than 10.
x: The number of solder balls is 10 or more.
(ii) Test 2
A substrate having 100 copper pads of 1 mm diameter was printed with a solder composition on each copper pad using a 130 μm thick metal mask. After that, laser soldering was performed on each copper pad under the conditions of a laser wavelength of 808 nm, a spot diameter of 1.2 mm, and an irradiation time of 1.0 second to obtain a test substrate. Then, the test substrate was visually observed, and solder balls were evaluated according to the following criteria.
A: The number of solder balls is 30 or less.
Good: The number of solder balls is 30 or more and less than 50.
x: The number of solder balls is 50 or more.
(3) Wettability The pads (200 pads in total) of the two evaluation boards (Test 1 and Test 2) obtained in the above (2) solder ball test were visually observed. Then, wettability was evaluated according to the following criteria.
◯: There is no insufficiently wetted pad.
Δ: The number of insufficiently wetted pads is 1 or more and less than 5.
x: The number of insufficiently wetted pads is 5 or more.

Figure 0007194141000001
Figure 0007194141000001

表1に示す結果からも明らかなように、本発明のレーザーはんだ付け用はんだ組成物を用いた場合(実施例1~4)には、レーザーはんだ付けをする場合に、はんだボールの発生を十分に抑制できることが確認された。 As is clear from the results shown in Table 1, when the solder composition for laser soldering of the present invention was used (Examples 1 to 4), solder balls were sufficiently generated when laser soldering was performed. It was confirmed that the

本発明のレーザーはんだ付け用はんだ組成物は、レーザー光を使用して電子機器のプリント配線基板に部品を実装するための技術として好適に用いることができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The solder composition for laser soldering of the present invention can be suitably used as a technology for mounting components on printed wiring boards of electronic devices using laser light.

Claims (3)

(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)溶剤および(D)チクソ剤を含有するフラックス組成物と、(E)はんだ粉末とを含有し、
前記(A)成分が、(A1)軟化点が130℃以上であり、かつ酸価が200mgKOH/g以下である重合ロジンを含有し、
前記(C)成分が、(C1)セバシン酸ジアルキルを含有し、
前記(C1)成分におけるアルキルは、炭素数1~10の直鎖アルキル、または炭素数3~10の分岐鎖アルキルであり、
前記(C1)成分の配合量は、前記(C)成分100質量%に対して、50質量%以上である
ことを特徴とするレーザーはんだ付け用はんだ組成物。
A flux composition containing (A) a rosin resin, (B) an activator, (C) a solvent and (D) a thixotropic agent, and (E) a solder powder,
The component (A) contains (A1) a polymerized rosin having a softening point of 130° C. or higher and an acid value of 200 mgKOH/g or lower,
The component (C) contains (C1) dialkyl sebacate,
The alkyl in the component (C1) is straight-chain alkyl having 1 to 10 carbon atoms or branched-chain alkyl having 3 to 10 carbon atoms,
A solder composition for laser soldering, wherein the compounding amount of the component (C1) is 50% by mass or more with respect to 100% by mass of the component (C).
請求項1に記載のレーザーはんだ付け用はんだ組成物において、
前記(D)成分が、(D1)エチレンビスステアリン酸アミドを含有する
ことを特徴とするレーザーはんだ付け用はんだ組成物。
In the solder composition for laser soldering according to claim 1,
A solder composition for laser soldering, wherein the component (D) contains (D1) ethylenebisstearic acid amide.
請求項1または請求項2に記載のレーザーはんだ付け用はんだ組成物を用いた電子基板の製造方法であって、
配線基板の電極上に、ディスペンサーを用いて、前記はんだ組成物を塗布する塗布工程と、
前記はんだ組成物上に、電子部品を搭載する搭載工程と、
レーザー光を用いて、前記はんだ組成物を加熱して、前記電極と前記電子部品とをはんだ接合するはんだ付け工程と、を備える
ことを特徴とする電子基板の製造方法。
A method for manufacturing an electronic substrate using the solder composition for laser soldering according to claim 1 or 2,
A coating step of coating the solder composition on the electrodes of the wiring board using a dispenser;
A mounting step of mounting an electronic component on the solder composition;
and a soldering step of heating the solder composition using a laser beam to solder-bond the electrode and the electronic component.
JP2020053726A 2020-03-25 2020-03-25 SOLDER COMPOSITION FOR LASER SOLDERING AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC SUBSTRATE Active JP7194141B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020053726A JP7194141B2 (en) 2020-03-25 2020-03-25 SOLDER COMPOSITION FOR LASER SOLDERING AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC SUBSTRATE
CN202110300864.5A CN113453445A (en) 2020-03-25 2021-03-22 Solder composition for laser welding, electronic substrate, and method for producing electronic substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020053726A JP7194141B2 (en) 2020-03-25 2020-03-25 SOLDER COMPOSITION FOR LASER SOLDERING AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC SUBSTRATE

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021154291A JP2021154291A (en) 2021-10-07
JP7194141B2 true JP7194141B2 (en) 2022-12-21

Family

ID=77809116

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020053726A Active JP7194141B2 (en) 2020-03-25 2020-03-25 SOLDER COMPOSITION FOR LASER SOLDERING AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC SUBSTRATE

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7194141B2 (en)
CN (1) CN113453445A (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114654129B (en) * 2022-04-14 2024-01-02 云南锡业新材料有限公司 High-stability soldering paste and preparation method thereof

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1876311A (en) 2006-04-30 2006-12-13 北京市航天焊接材料厂 Lead-free and halogen-free soldering paste and preparation method thereof
CN105855749A (en) 2016-04-27 2016-08-17 深圳市晨日科技股份有限公司 Washing chip solid crystal solder paste and preparing method thereof
JP2019025484A (en) 2017-07-25 2019-02-21 株式会社タムラ製作所 Solder composition and electronic substrate
JP2019171467A (en) 2018-03-29 2019-10-10 株式会社タムラ製作所 Solder composition for dispense coating
JP2020040120A (en) 2018-09-10 2020-03-19 株式会社タムラ製作所 Solder composition for jet dispenser, and method for manufacturing electronic substrate

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1876311A (en) 2006-04-30 2006-12-13 北京市航天焊接材料厂 Lead-free and halogen-free soldering paste and preparation method thereof
CN105855749A (en) 2016-04-27 2016-08-17 深圳市晨日科技股份有限公司 Washing chip solid crystal solder paste and preparing method thereof
JP2019025484A (en) 2017-07-25 2019-02-21 株式会社タムラ製作所 Solder composition and electronic substrate
JP2019171467A (en) 2018-03-29 2019-10-10 株式会社タムラ製作所 Solder composition for dispense coating
JP2020040120A (en) 2018-09-10 2020-03-19 株式会社タムラ製作所 Solder composition for jet dispenser, and method for manufacturing electronic substrate

Also Published As

Publication number Publication date
CN113453445A (en) 2021-09-28
JP2021154291A (en) 2021-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6138464B2 (en) Solder composition for laser soldering and mounting method using the same
JP6851352B2 (en) Solder composition for laser soldering and electronic board
JP6402213B2 (en) Solder composition and electronic substrate
JP6674982B2 (en) Solder composition and electronic substrate
JP5887331B2 (en) Solder composition
JP5887330B2 (en) Solder composition and printed wiring board using the same
JP5916674B2 (en) Solder composition for jet dispenser
JP6138846B2 (en) Solder composition and method for producing electronic substrate using the same
JP6346757B2 (en) Method for manufacturing printed wiring board
CN109290701B (en) Solder composition, electronic substrate, and method for manufacturing electronic substrate
JP6293514B2 (en) Solder composition and printed wiring board manufacturing method
JP6895213B2 (en) Method for manufacturing solder composition and electronic board
JP6713027B2 (en) Solder composition and electronic substrate
JP2020040105A (en) Solder composition and method for manufacturing electronic substrate
JP2020040120A (en) Solder composition for jet dispenser, and method for manufacturing electronic substrate
JP2015131336A (en) Solder composition and printed wiring board prepared using the same
CN111225764A (en) Solder composition and electronic substrate
JP7194141B2 (en) SOLDER COMPOSITION FOR LASER SOLDERING AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC SUBSTRATE
JP2019130566A (en) Flux composition, solder composition and electronic substrate
CN109420861B (en) Solder composition, electronic substrate, and bonding method
US10449638B2 (en) Solder composition and electronic board
JP7066798B2 (en) Solder composition
CN109719422B (en) Solder composition and electronic substrate
JP7361481B2 (en) Solder composition and electronic board manufacturing method
JP7169390B2 (en) Solder composition and electronic substrate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210417

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220517

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220622

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220920

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221011

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221129

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221209

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7194141

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150