KR102242412B1 - Flux composition, solder paste composition, and electronic circuit board - Google Patents

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Abstract

리플로우 납땜 시의 보이드 발생을 억제하면서 납땜 후의 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있는 플럭스 조성물 및 솔더 페이스트 조성물의 제공을 그 목적으로 한다. 당해 목적을 달성하기 위해 본 발명의 플럭스 조성물은, 땜납 합금 분말과 혼합하여 솔더 페이스트 조성물을 구성하는 플럭스 조성물이며, (A) 베이스 수지와, (B) 활성제와, (C) 틱소제와, (D) 용제를 포함하고, 상기 용제 (D)로서 (D-1) 카르복실기 및 히드록실기 중 어느 것도 갖지 않는 유기산 에스테르를 포함하고, 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도+50℃ 이하이고, 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 배합량은 상기 용제 (D) 전량에 대하여 10질량% 내지 100질량%인 것을 그 특징으로 한다.An object thereof is to provide a flux composition and a solder paste composition capable of suppressing the stickiness of the flux residue after soldering while suppressing the occurrence of voids during reflow soldering. In order to achieve the object, the flux composition of the present invention is a flux composition that forms a solder paste composition by mixing with a solder alloy powder, (A) a base resin, (B) an activator, (C) a thixotropic agent, and ( D) contains a solvent, and as the solvent (D) (D-1) contains an organic acid ester having neither a carboxyl group nor a hydroxyl group, and the reduction rate of the organic acid ester (D-1) (using the TG method The temperature at which the measured) is 100% by mass is 180° C. or higher, and the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder is +50° C. or lower, and the amount of the organic acid ester (D-1) is the solvent (D ) It characterized in that it is 10 mass%-100 mass% with respect to the total amount.

Description

플럭스 조성물, 솔더 페이스트 조성물 및 전자 회로 기판Flux composition, solder paste composition, and electronic circuit board

본 발명은 플럭스 조성물, 솔더 페이스트 조성물 및 이것을 사용하여 형성된 땜납 접합체를 갖는 전자 회로 기판에 관한 것이다.The present invention relates to an electronic circuit board having a flux composition, a solder paste composition, and a solder joint formed by using the same.

종래, 프린트 배선판이나 실리콘 웨이퍼 등의 기판 위에 형성되는 전자 회로에 전자 부품을 접합하기 위해서는, 플럭스와 땜납 합금 분말을 혼합한 솔더 페이스트 조성물을 기판 위에 인쇄하고, 소정의 위치에 전자 부품을 탑재하여 이것을 리플로우로 등의 가열로 땜납 접합부를 형성하는 방법이 범용적으로 사용되고 있다(이하, 이 방법을 「리플로우 납땜법」이라고 함).Conventionally, in order to bond an electronic component to an electronic circuit formed on a substrate such as a printed wiring board or a silicon wafer, a solder paste composition obtained by mixing a flux and a solder alloy powder is printed on the substrate, and the electronic component is mounted at a predetermined position. A method of forming a solder joint by a heating furnace such as a reflow furnace is generally used (hereinafter, this method is referred to as a "reflow soldering method").

리플로우 납땜법은 미리 결정된 형태로 성형된 땜납을 사용한 납땜법과 비교하여, 형성된 땜납 접합부에 보이드가 발생하기 쉽다는 결점이 있다. 이 보이드의 발생의 주된 원인은 솔더 페이스트 조성물에 포함되는 땜납 합금 분말이 용융되어 응집될 때에 플럭스 조성물에 포함되는 성분, 특히 휘발성의 용제가 빠르게 응집되는 땜납으로부터 배출되지 않는 데 있다.The reflow soldering method has a drawback that voids are liable to occur in the formed solder joints compared to the soldering method using solders molded into a predetermined shape. The main cause of the occurrence of this void is that components contained in the flux composition, particularly volatile solvents, are not discharged from the rapidly agglomerated solder when the solder alloy powder contained in the solder paste composition is melted and agglomerated.

근년의 전자 부품의 소형화에 수반하는 패드의 미세화나 전자 부품의 고기능화에 의한 발열량의 증가에 의해, 그때까지는 허용되었던 보이드가 부품의 방열 저해나 접합 신뢰성의 저하에 영향을 미치게 되었다. 예를 들어, 3.2㎜×1.6㎜ 사이즈의 칩 부품에 있어서, 그 전극 아래에 직경 200㎛의 보이드가 2개소 발생한 경우와 직경 300㎛의 보이드가 2개소 발생한 경우, 보이드가 없는 경우에 비해 그 땜납 접합부의 접합 수명은 각각 0.85배, 0.63배 저하되는 것이 보고되어 있다. 이와 같이 땜납 접합부에 있어서의 보이드의 발생은 전자 기기나 전자 부품의 신뢰성을 현저하게 손상시킬 우려가 있다.In recent years, due to the increase in the amount of heat generated by the miniaturization of pads accompanying the miniaturization of electronic components and the high functionality of electronic components, voids that have been allowed until then have an effect on the heat dissipation of the components and the reduction of the bonding reliability. For example, in a chip component with a size of 3.2 mm x 1.6 mm, when two voids with a diameter of 200 μm and two voids with a diameter of 300 μm are generated under the electrode, the solder is compared to the case where there is no void. It has been reported that the joint life of the joint is reduced by 0.85 times and 0.63 times, respectively. As described above, the occurrence of voids in the solder joints may significantly impair the reliability of electronic devices and electronic components.

이와 같은 보이드의 저감 방법으로서, 종래, 사용하는 플럭스 조성물에 적정량의 활성제를 배합하여, 땜납 용융 시의 유동성을 향상시켜 땜납 내부에 발생한 가스를 배출하는 방법이 사용되고 있었다. 그러나 이와 같은 활성제는 땜납 합금 분말과 플럭스 조성물을 혼합한 시점부터 반응이 개시되어, 솔더 페이스트 조성물의 사용 단계에서는 이미 그 활성력이 어느 정도 소비된 상태에 있다. 따라서 이 경우, 특히 전술한 바와 같은 미세화 패드를 갖는 전자 부품에 있어서는 납땜 시의 충분한 습윤성을 확보하는 것이 어려워, 응집되는 땜납으로부터의 가스의 배출은 어려워진다.As such a method for reducing voids, conventionally, a method in which an appropriate amount of an activator is added to a flux composition to be used to improve fluidity at the time of melting of the solder to discharge gas generated inside the solder has been used. However, such an activator starts to react from the point when the solder alloy powder and the flux composition are mixed, and the activation force is already consumed to some extent in the use stage of the solder paste composition. Therefore, in this case, it is difficult to ensure sufficient wettability at the time of soldering, particularly in the electronic component having the micronized pad as described above, and it is difficult to discharge the gas from the agglomerated solder.

이것을 해결하는 방법으로서, 땜납 합금 분말과의 반응에 의한 활성력의 소비분에 상당하는 활성제를 미리 플럭스 조성물에 배합하여 고활성으로 하여, 땜납 용융 시의 유동성을 향상시키는 방법을 들 수 있다. 그러나 고활성을 위해 활성제를 증량하면 납땜 후에 기판 위에 잔류하는 플럭스 잔사의 절연성이 저하되기 때문에, 이에 의해 부품 단자간의 단락이 일어날 우려가 있다.As a method of solving this, a method of improving the fluidity at the time of melting the solder is mentioned by mixing an activator corresponding to the consumption of the active force due to the reaction with the solder alloy powder in advance in the flux composition to make it highly active. However, if the amount of the activator is increased for high activity, the insulating property of the flux residue remaining on the substrate after soldering decreases, and thus there is a concern that a short circuit between component terminals may occur.

또한, 상술한 보이드의 발생을 저감시키는 다른 방법으로서, 가열 중의 프리 히트의 단계에서 완전히 휘발되어 버리는 용제를 플럭스 조성물에 배합하는 방법을 들 수 있다. 통상, 용제는 솔더 페이스트 조성물을 적정한 점도로 조정하여, 그 인쇄성을 높이기 위해 사용된다. 그로 인해, 기판 위로의 솔더 페이스트 조성물의 인쇄가 완료되면, 용제는 불필요한 성분이 된다.In addition, as another method for reducing the occurrence of voids described above, a method in which a solvent that is completely volatilized at the stage of preheating during heating is blended into the flux composition is exemplified. Usually, the solvent is used to adjust the solder paste composition to an appropriate viscosity and improve its printability. Therefore, when printing of the solder paste composition on the substrate is completed, the solvent becomes an unnecessary component.

그러나, 이와 같은 휘발되기 쉬운 용제를 사용하는 경우, 솔더 페이스트 조성물이 메탈 마스크 위에서 건조되기 쉬워지기 때문에 연속 인쇄의 과정에서 증점하여, 메탈 마스크의 개구부 막힘 및 인쇄 누락 불량을 일으킬 우려가 있다.However, in the case of using such a volatilizable solvent, since the solder paste composition is easily dried on the metal mask, there is a concern that the solder paste composition is thickened in the process of continuous printing, causing clogging of openings in the metal mask and defects in printing.

또한 리플로우 납땜에 있어서의 보이드의 발생을 저감시키는 다른 방법으로서, 플럭스에 함유되는 용제의 70질량% 이상을 TG법에 의한 측정으로 감량률이 15질량%가 되는 온도(TG-15 온도)가 땜납의 용융 피크 온도보다 5℃ 이상 고온이 되는 용제를 사용한 솔더 페이스트가 제안되어 있다(특허문헌 1 참조). 당해 용제는 땜납이 용융될 때까지 기화하는 양이 최대라도 15질량%보다 적다. 그 때문에 솔더 페이스트가 완전히 용융되어 땜납이 습윤성을 나타낸 후에 그 기화가 왕성해지기 때문에, 용제는 용융 땜납으로부터 배출되기 쉽고, 따라서 보이드의 발생이 억제되는 것이다.In addition, as another method of reducing the occurrence of voids in reflow soldering, the temperature at which the reduction rate becomes 15% by mass by measuring 70% by mass or more of the solvent contained in the flux by the TG method (TG-15 temperature) is A solder paste using a solvent that is 5°C or higher higher than the melting peak temperature of the solder has been proposed (refer to Patent Document 1). The amount of the solvent vaporized until the solder is melted is at most less than 15% by mass. Therefore, after the solder paste is completely melted and the solder exhibits wettability, its vaporization becomes active, so that the solvent is easily discharged from the molten solder, and thus the generation of voids is suppressed.

그러나 이와 같은 용제는 리플로우 가열 중에 일부밖에 용제가 기화되지 않은 경우나 실질적으로 전혀 기화되지 않은 경우, 용제 이외의 기화되지 않은 플럭스 성분(예: 수지, 틱소제, 활성제 등)과 함께 플럭스 잔사로서 땜납 접합부 주변에 잔류해 버린다. 용제가 포함된 플럭스 잔사는 끈적거리는 성질을 갖기 때문에 대기 중의 먼지나 티끌이 부착되기 쉽다. 이와 같은 먼지 등이 부착된 플럭스 잔사는 절연성이 저하되기 때문에, 그 신뢰성을 현저하게 손상시킬 우려가 있다.However, such a solvent can be used as a flux residue together with non-vaporized flux components other than the solvent (e.g., resin, thixotropic agent, activator, etc.) when only part of the solvent is vaporized or is not vaporized at all during reflow heating. It remains around the solder joint. Since the flux residue containing the solvent has a sticky property, dust or dust in the air is easily adhered. Since such a flux residue to which dust or the like adheres is deteriorated in insulation, there is a concern that the reliability thereof is remarkably impaired.

또한, 플럭스 잔사는 납땜 후에 세정제에 의한 세정으로 제거할 수도 있다. 그러나 근년에는 비용면, 환경면 등의 관점에서 무세정 타입의 솔더 페이스트 조성물이 널리 사용되고 있어, 보이드 발생을 억제하면서 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있는 솔더 페이스트 조성물의 중요성은 점점 높아지고 있다.Further, the flux residue may be removed by washing with a detergent after soldering. However, in recent years, a non-clean type solder paste composition is widely used from the viewpoint of cost and environment, and the importance of a solder paste composition capable of suppressing the stickiness of the flux residue while suppressing the occurrence of voids is increasing.

일본 특허 제4458043호 공보Japanese Patent No. 4458043

본 발명은 상기 과제를 해결하는 것이며, 특히 리플로우 납땜 시의 보이드 발생을 억제하면서 납땜 후의 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있는 플럭스 조성물 및 솔더 페이스트 조성물을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.It is an object of the present invention to solve the above problems, and in particular, to provide a flux composition and a solder paste composition capable of suppressing the stickiness of the flux residue after soldering while suppressing the occurrence of voids during reflow soldering.

(1) 본 발명의 플럭스 조성물은, 땜납 합금 분말과 혼합하여 솔더 페이스트 조성물을 구성하는 것이며, (A) 베이스 수지와, (B) 활성제와, (C) 틱소제와, (D) 용제를 포함하고, 상기 용제 (D)로서 (D-1) 카르복실기 및 히드록실기 중 어느 것도 갖지 않는 유기산 에스테르를 포함하고, 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도+50℃ 이하이고, 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 배합량은 상기 용제 (D) 전량에 대하여 10질량% 내지 100질량%인 것을 그 특징으로 한다.(1) The flux composition of the present invention is mixed with a solder alloy powder to constitute a solder paste composition, and contains (A) a base resin, (B) an activator, (C) a thixotropic agent, and (D) a solvent. And, as the solvent (D), (D-1) an organic acid ester having neither a carboxyl group nor a hydroxyl group is included, and the reduction rate (measured using the TG method) of the organic acid ester (D-1) is 100 The temperature at which the mass% is reached is 180° C. or higher, and the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder is +50° C. or lower, and the amount of the organic acid ester (D-1) is 10 with respect to the total amount of the solvent (D). It is characterized in that it is in a mass% to 100 mass%.

(2) 상기 (1)에 기재된 구성에 있어서, 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도가 130℃ 이상 175℃ 미만인 경우에 있어서의 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 225℃ 미만인 것을 그 특징으로 한다.(2) In the configuration described in (1) above, the reduction rate (TG) of the organic acid ester (D-1) in the case where the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder is 130°C or more and less than 175°C It is characterized in that the temperature at which (measured using the method) is 100% by mass is 180°C or more and less than 225°C.

(3) 상기 (1)에 기재된 구성에 있어서, 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도가 175℃ 이상 200℃ 미만인 경우에 있어서의 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 250℃ 미만인 것을 그 특징으로 한다.(3) In the configuration described in the above (1), the reduction rate (TG) of the organic acid ester (D-1) in the case where the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder is 175°C or more and less than 200°C It is characterized in that the temperature at which (measured using the method) is 100% by mass is 180°C or higher and less than 250°C.

(4) 상기 (1)에 기재된 구성에 있어서, 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도가 200℃ 이상인 경우에 있어서의 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 상기 용융 피크 온도+50℃ 이하인 것을 그 특징으로 한다.(4) In the configuration described in (1) above, the reduction rate of the organic acid ester (D-1) in the case where the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder is 200°C or higher (using the TG method) It is characterized in that the temperature at which the measured) is 100% by mass is 180°C or higher and the melting peak temperature +50°C or lower.

(5) 상기 (2)에 기재된 구성에 있어서, 상기 유기산 에스테르 (D-1)은 아디프산디메틸 및 말레산디부틸 중 적어도 한쪽인 것을 그 특징으로 한다.(5) In the configuration described in the above (2), the organic acid ester (D-1) is characterized in that it is at least one of dimethyl adipate and dibutyl maleate.

(6) 상기 (3)에 기재된 구성에 있어서, 상기 유기산 에스테르 (D-1)은 아디프산디메틸, 아디프산디이소프로필, 말레산디부틸, 세바스산디메틸, 아디프산디이소부틸 및 세바스산디에틸에서 선택되는 적어도 1종인 것을 그 특징으로 한다.(6) In the configuration described in the above (3), the organic acid ester (D-1) is dimethyl adipate, diisopropyl adipate, dibutyl maleate, dimethyl sebacate, diisobutyl adipate and di sebacate. It is characterized in that it is at least one selected from ethyl.

(7) 상기 (4)에 기재된 구성에 있어서, 상기 유기산 에스테르 (D-1)은 아디프산디메틸, 아디프산디이소프로필, 말레산디부틸, 세바스산디메틸, 아디프산디이소부틸, 세바스산디에틸, 세바스산디이소프로필, 세바스산디부틸 및 세바스산디옥틸에서 선택되는 적어도 1종인 것을 그 특징으로 한다.(7) In the configuration described in the above (4), the organic acid ester (D-1) is dimethyl adipate, diisopropyl adipate, dibutyl maleate, dimethyl sebacate, diisobutyl adipate, di sebacate. It is characterized in that it is at least one selected from ethyl, diisopropyl sebacate, dibutyl sebacate, and dioctyl sebacate.

(8) 상기 (1) 내지 (7) 중 어느 하나에 기재된 구성에 있어서, 상기 베이스 수지 (A)는 (A-1) 로진계 수지 및 (A-2) 합성 수지 중 적어도 한쪽을 포함하고, 상기 합성 수지 (A-2)는 아크릴 수지, 스티렌-말레산 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 페녹시 수지, 테르펜 수지, 폴리알킬렌카르보네이트 및 카르복실기를 갖는 로진계 수지와 다이머산 유도체 유연성 알코올 화합물을 탈수 축합하여 이루어지는 유도체 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 것을 그 특징으로 한다.(8) In the configuration described in any one of (1) to (7), the base resin (A) contains at least one of (A-1) rosin-based resin and (A-2) synthetic resin, The synthetic resin (A-2) is an acrylic resin, a styrene-maleic acid resin, an epoxy resin, a urethane resin, a polyester resin, a phenoxy resin, a terpene resin, a polyalkylene carbonate and a rosin resin having a carboxyl group and a dimer. It is characterized in that it is at least one selected from the group consisting of derivative compounds obtained by dehydrating and condensing an acid derivative flexible alcohol compound.

(9) 본 발명의 솔더 페이스트 조성물은, 상기 (1) 내지 (8) 중 어느 하나에 기재된 플럭스 조성물과, 땜납 합금 분말을 포함하는 것을 그 특징으로 한다.(9) The solder paste composition of the present invention is characterized by containing the flux composition according to any one of the above (1) to (8) and a solder alloy powder.

(10) 상기 (9)에 기재된 구성에 있어서, 상기 땜납 합금 분말은 Ag을 2질량% 이상 3.1질량% 이하, Cu를 0질량% 초과 1질량% 이하, Sb을 1질량% 이상 5질량% 이하, Bi를 0.5질량% 이상 4.5질량% 이하, Ni을 0.01질량% 이상 0.25질량% 이하 포함하고, 잔부가 Sn으로 이루어지는 것을 그 특징으로 한다.(10) In the configuration described in the above (9), the solder alloy powder contains Ag from 2% by mass to 3.1% by mass, Cu from 0% by mass to 1% by mass, and Sb from 1% by mass to 5% by mass. And 0.5% by mass or more and 4.5% by mass or less of Bi and 0.01% by mass or more and 0.25% by mass or less of Ni, and the remainder is composed of Sn.

(11) 상기 (10)에 기재된 구성에 있어서, 상기 땜납 합금 분말은 Co를 0.001질량% 이상 0.25질량% 이하 더 포함하는 것을 그 특징으로 한다.(11) In the configuration described in the above (10), the solder alloy powder further contains 0.001% by mass or more and 0.25% by mass or less of Co.

(12) 본 발명의 전자 회로 기판은, 상기 (9) 내지 (11) 중 어느 하나에 기재된 솔더 페이스트 조성물을 사용하여 형성된 땜납 접합체를 갖는 것을 그 특징으로 한다.(12) The electronic circuit board of the present invention is characterized by having a solder joint formed using the solder paste composition according to any one of (9) to (11) above.

본 발명에 따르면, 특히 리플로우 납땜 시의 보이드 발생을 억제하면서 납땜 후의 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있는 플럭스 조성물 및 솔더 페이스트 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a flux composition and a solder paste composition capable of suppressing the stickiness of the flux residue after soldering while suppressing the occurrence of voids during reflow soldering.

본 발명의 플럭스 조성물, 솔더 페이스트 조성물 및 전자 회로 기판의 일 실시 형태를 이하에 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명이 이들 실시 형태에 한정되지 않는 것은 물론이다.An embodiment of the flux composition, solder paste composition, and electronic circuit board of the present invention will be described in detail below. In addition, it goes without saying that the present invention is not limited to these embodiments.

(1) 플럭스 조성물(1) flux composition

본 실시 형태의 플럭스 조성물은, (A) 베이스 수지와, (B) 활성제와, (C) 틱소제와, (D) 용제를 포함한다.The flux composition of this embodiment contains (A) a base resin, (B) an activator, (C) a thixotropic agent, and (D) a solvent.

(A) 베이스 수지(A) base resin

상기 베이스 수지 (A)로서는, 예를 들어 (A-1) 로진계 수지 및 (A-2) 합성 수지 중 적어도 한쪽을 사용하는 것이 바람직하다.As said base resin (A), it is preferable to use at least one of (A-1) rosin-type resin and (A-2) synthetic resin, for example.

상기 로진계 수지 (A-1)로서는, 예를 들어 톨유 로진, 검 로진, 우드 로진 등의 로진; 로진을 중합화, 수소 첨가화, 불균일화, 아크릴화, 말레화, 에스테르화 혹은 페놀 부가 반응 등을 행한 로진 유도체; 이들 로진 또는 로진 유도체와 불포화 카르복실산(아크릴산, 메타크릴산, 무수 말레산, 푸마르산 등)을 딜스-알더 반응시켜 얻어지는 변성 로진 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히 변성 로진 수지가 바람직하게 사용되고, 아크릴산을 반응시켜 수소 첨가한 수소 첨가 아크릴산 변성 로진 수지가 특히 바람직하게 사용된다. 또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the rosin-based resin (A-1) include rosin such as tall oil rosin, gum rosin, and wood rosin; Rosin derivatives subjected to polymerization, hydrogenation, heterogeneity, acrylation, maleation, esterification, or phenol addition reaction of rosin; A modified rosin resin obtained by reacting these rosin or rosin derivatives with unsaturated carboxylic acids (acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, fumaric acid, etc.) can be mentioned. Among these, a modified rosin resin is particularly preferably used, and a hydrogenated acrylic acid-modified rosin resin obtained by reacting acrylic acid and hydrogenating it is particularly preferably used. Moreover, these may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.

또한, 상기 로진계 수지 (A-1)의 산가는 140㎎KOH/g 내지 350㎎KOH/g인 것이 바람직하고, 그의 중량 평균 분자량은 200Mw 내지 1,000Mw인 것이 바람직하다.Further, the acid value of the rosin-based resin (A-1) is preferably 140 mgKOH/g to 350 mgKOH/g, and its weight average molecular weight is preferably 200 Mw to 1,000 Mw.

상기 합성 수지 (A-2)로서는, 예를 들어 아크릴 수지, 스티렌-말레산 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 페녹시 수지, 테르펜 수지, 폴리알킬렌카르보네이트 및 카르복실기를 갖는 로진계 수지와 다이머산 유도체 유연성 알코올 화합물을 탈수 축합하여 이루어지는 유도체 화합물을 들 수 있다. 또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the synthetic resin (A-2) include acrylic resin, styrene-maleic acid resin, epoxy resin, urethane resin, polyester resin, phenoxy resin, terpene resin, polyalkylene carbonate, and rosin having a carboxyl group. And a derivative compound obtained by dehydrating and condensing a type resin and a dimer acid derivative flexible alcohol compound. Moreover, these may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.

상기 아크릴 수지는, 예를 들어 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트를 단중합, 또는 당해 아크릴레이트를 주성분으로 하는 단량체를 공중합함으로써 얻어진다. 이와 같은 아크릴 수지 중에서도, 특히 메타크릴산과 탄소쇄가 직쇄상인 탄소수 2 내지 20의 포화 알킬기를 2개 갖는 단량체를 포함하는 단량체류를 중합하여 얻어지는 아크릴 수지가 바람직하게 사용된다. 또한 당해 아크릴 수지는 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.The acrylic resin is obtained, for example, by homopolymerizing a (meth)acrylate having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or copolymerizing a monomer containing the acrylate as a main component. Among such acrylic resins, acrylic resins obtained by polymerizing monomers including monomers having methacrylic acid and two saturated alkyl groups having 2 to 20 carbon atoms having a linear carbon chain are preferably used. In addition, the said acrylic resin may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.

상기 에폭시 수지로서는, 그 말단에 반응성의 에폭시기를 갖는 열경화형의 수지라면 모두 사용할 수 있고, 예를 들어 비스페놀 A형, 비스페놀 F형, 비스페놀 S형, 비페닐형, 나프탈렌형, 크레졸 노볼락형, 페놀 노볼락형, 브롬화 비스페놀 A형, 수소 첨가 비스페놀 A형, 비스페놀 AF형, 플루오렌형, 글리시딜에테르형, 글리시딜에스테르형, 글리시딜아민형, 지환형 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.As the epoxy resin, any thermosetting resin having a reactive epoxy group at its terminal can be used. For example, bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type, biphenyl type, naphthalene type, cresol novolak type, Phenol novolak type, brominated bisphenol A type, hydrogenated bisphenol A type, bisphenol AF type, fluorene type, glycidyl ether type, glycidyl ester type, glycidylamine type, alicyclic epoxy resin, etc. have. Moreover, these may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.

상기 우레탄 수지로서는, 예를 들어 1분자 중에 복수의 이소시아네이트기를 갖는 화합물과 1분자 중에 2개 이상의 히드록실기를 갖는 폴리올 화합물을 반응시켜 얻어지는 것이라면 모두 사용할 수 있고, 그 중에서도 특히 지방족 성분, 방향족 성분을 포함하는 폴리우레탄 수지가 바람직하게 사용된다. 또한 당해 우레탄 수지는 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.As the urethane resin, for example, any one obtained by reacting a compound having a plurality of isocyanate groups in one molecule and a polyol compound having two or more hydroxyl groups in one molecule can be used. Polyurethane resin containing is preferably used. Moreover, the said urethane resin may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.

상기 폴리에스테르 수지로서는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리트리메틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌나프탈레이트 등을 들 수 있다. 또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the polyester resin include polyethylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene naphthalate. Moreover, these may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.

상기 페녹시 수지로서는, 예를 들어 비스페놀 A형 페녹시 수지, 비스페놀 F형 페녹시 수지 등을 들 수 있다. 또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the phenoxy resin include bisphenol A phenoxy resin and bisphenol F phenoxy resin. Moreover, these may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.

상기 폴리알킬렌카르보네이트로서는, 예를 들어 폴리에틸렌카르보네이트, 폴리프로필렌카르보네이트, 폴리부텐카르보네이트, 폴리이소부텐카르보네이트, 폴리펜텐카르보네이트, 폴리헥센카르보네이트, 폴리시클로펜텐카르보네이트, 폴리시클로헥센카르보네이트, 폴리시클로헵텐카르보네이트, 폴리시클로옥텐카르보네이트, 폴리리모넨카르보네이트 등을 폴리프로필렌카르보네이트, 폴리부틸렌카르보네이트 등을 들 수 있다. 또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the polyalkylene carbonate include polyethylene carbonate, polypropylene carbonate, polybutene carbonate, polyisobutene carbonate, polypentene carbonate, polyhexene carbonate, and polycyclo Pentene carbonate, polycyclohexene carbonate, polycycloheptene carbonate, polycyclooctene carbonate, polylimonene carbonate, etc., polypropylene carbonate, polybutylene carbonate, etc. are mentioned. . Moreover, these may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.

상기 카르복실기를 갖는 로진계 수지와 다이머산 유도체 유연성 알코올 화합물을 탈수 축합하여 이루어지는 유도체 화합물(이하, 「로진 유도체 화합물」이라고 함)에 대하여, 우선 카르복실기를 갖는 로진계 수지로서는, 예를 들어 톨유 로진, 검 로진, 우드 로진 등의 로진; 수소 첨가 로진, 중합 로진, 불균일화 로진, 아크릴산 변성 로진, 말레산 변성 로진 등의 로진 유도체 등을 들 수 있고, 이들 이외에도 카르복실기를 갖는 로진이라면 사용할 수 있다. 또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.With respect to the derivative compound (hereinafter referred to as ``rosin derivative compound'') obtained by dehydrating condensation of the rosin-based resin having a carboxyl group and a flexible alcohol compound of a dimer acid derivative (hereinafter referred to as ``rosin derivative compound''), first, as a rosin-based resin having a carboxyl group, for example, tall oil rosin, Rosin such as gum rosin and wood rosin; Rosin derivatives such as hydrogenated rosin, polymerized rosin, heterogeneous rosin, acrylic acid-modified rosin, and maleic acid-modified rosin, and the like. In addition to these, any rosin having a carboxyl group can be used. Moreover, these may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.

이어서 상기 다이머산 유도체 유연성 알코올 화합물로서는, 예를 들어 다이머디올, 폴리에스테르폴리올, 폴리에스테르다이머디올과 같은 다이머산으로부터 유도되는 화합물이며, 그 말단에 알코올기를 갖는 것 등을 들 수 있고, 예를 들어 PRIPOL2033, PRIPLAST3197, PRIPLAST1838(이상, 구로다 재팬(주)제) 등을 사용할 수 있다.Next, examples of the dimer acid derivative flexible alcohol compound include compounds derived from dimer acids such as dimerdiol, polyester polyol, and polyester dimerdiol, and those having an alcohol group at the terminal thereof. PRIPOL2033, PRIPLAST3197, PRIPLAST1838 (above, Kuroda Japan Co., Ltd. product), etc. can be used.

상기 로진 유도체 화합물은 상기 카르복실기를 갖는 로진계 수지와 상기 다이머산 유도체 유연성 알코올 화합물을 탈수 축합함으로써 얻어진다. 이 탈수 축합의 방법으로서는 일반적으로 사용되는 방법을 사용할 수 있다. 또한, 상기 카르복실기를 갖는 로진계 수지와 상기 다이머산 유도체 유연성 알코올 화합물을 탈수 축합할 때의 바람직한 중량 비율은 각각 25:75 내지 75:25이다.The rosin derivative compound is obtained by dehydrating condensation of the rosin resin having a carboxyl group and the dimer acid derivative flexible alcohol compound. As a method of this dehydration and condensation, a method generally used can be used. Further, the preferred weight ratio when dehydrating and condensing the rosin-based resin having a carboxyl group and the dimer acid derivative flexible alcohol compound is 25:75 to 75:25, respectively.

상기 합성 수지 (A-2)의 산가는 0㎎KOH/g 내지 150㎎KOH/g인 것이 바람직하고, 그의 중량 평균 분자량은 1,000Mw 내지 30,000Mw인 것이 바람직하다.The acid value of the synthetic resin (A-2) is preferably 0 mgKOH/g to 150 mgKOH/g, and its weight average molecular weight is preferably 1,000 Mw to 30,000 Mw.

또한 상기 베이스 수지 (A)의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 10질량% 이상 60질량% 이하인 것이 바람직하고, 30질량% 이상 55질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.In addition, the blending amount of the base resin (A) is preferably 10% by mass or more and 60% by mass or less, and more preferably 30% by mass or more and 55% by mass or less with respect to the total amount of the flux composition.

상기 로진계 수지 (A-1)을 단독으로 사용하는 경우, 그의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 10질량% 이상 50질량% 이하인 것이 바람직하고, 15질량% 이상 45질량% 이하인 것이 더욱 바람직한다. 로진계 수지 (A-1)의 배합량을 이 범위로 함으로써, 양호한 납땜성 및 적당한 플럭스 잔사량으로 할 수 있다.When the said rosin-type resin (A-1) is used individually, it is preferable that it is 10 mass% or more and 50 mass% or less with respect to the total amount of a flux composition, and it is more preferable that it is 15 mass% or more and 45 mass% or less. By setting the blending amount of the rosin-based resin (A-1) in this range, it is possible to achieve satisfactory solderability and an appropriate amount of residual flux.

또한 상기 합성 수지 (A-2)를 단독으로 사용하는 경우, 그의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 10질량% 이상 60질량% 이하인 것이 바람직하고, 15질량% 이상 50질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.Moreover, when using the said synthetic resin (A-2) alone, it is preferable that it is 10 mass% or more and 60 mass% or less with respect to the total amount of a flux composition, and it is more preferable that it is 15 mass% or more and 50 mass% or less.

또한 상기 로진계 수지 (A-1)과 상기 합성 수지 (A-2)를 병용하는 경우, 그 배합 비율은 20:80 내지 50:50인 것이 바람직하고, 25:75 내지 40:60인 것이 보다 바람직하다.In addition, when the rosin-based resin (A-1) and the synthetic resin (A-2) are used in combination, the blending ratio is preferably 20:80 to 50:50, and more preferably 25:75 to 40:60. desirable.

(B) 활성제(B) activator

상기 활성제 (B)로서는, 예를 들어 카르복실산류, 할로겐을 포함하는 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the activator (B) include compounds containing carboxylic acids and halogens. These may be used alone or in combination of multiple types.

상기 카르복실산류로서는, 예를 들어 모노카르복실산, 디카르복실산 등, 그리고 그 밖의 유기산을 들 수 있다.Examples of the carboxylic acids include monocarboxylic acids, dicarboxylic acids, and other organic acids.

상기 모노카르복실산으로서는, 예를 들어 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 카프로산, 에난트산, 카프르산, 라우르산, 미리스트산, 펜타데실산, 팔미트산, 마르가르산, 스테아르산, 투베르쿨로스테아르산, 아라키드산, 베헨산, 리그노세르산, 글리콜산 등을 들 수 있다.Examples of the monocarboxylic acid include propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, pentadecyl acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid, And tuberculostearic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, glycolic acid, and the like.

디카르복실산으로서는, 옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세바스산, 푸마르산, 말레산, 타르타르산, 디글리콜산 등을 들 수 있다.Examples of the dicarboxylic acid include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, tartaric acid, and diglycolic acid.

또한 상기 그 밖의 유기산으로서는, 다이머산, 레불린산, 락트산, 아크릴산, 벤조산, 살리실산, 아니스산, 시트르산, 피콜린산 등을 들 수 있다.Further, examples of the other organic acids include dimer acid, levulinic acid, lactic acid, acrylic acid, benzoic acid, salicylic acid, aniseic acid, citric acid, picolinic acid, and the like.

또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Moreover, these may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.

상기 할로겐을 포함하는 화합물로서는, 예를 들어 비해리성의 할로겐 화합물(비해리형 활성제), 해리성의 할로겐 화합물(해리형 활성제)을 들 수 있다.Examples of the halogen-containing compound include a non-dissociable halogen compound (non-dissociation type activator) and a dissociable halogen compound (dissociation type activator).

상기 비해리형 활성제로서는, 할로겐 원자가 공유 결합에 의해 결합한 비염계의 유기 화합물을 들 수 있고, 예를 들어 염소화물, 브롬화물, 요오드화물, 불화물과 같이 염소, 브롬, 요오드, 불소의 각 단독 원소의 공유 결합에 의한 화합물이어도 되고, 또한 이의 2 이상의 상이한 할로겐 원자를 공유 결합으로 결합하는 화합물이어도 된다. 당해 화합물은 수성 용매에 대한 용해성을 향상시키기 위해, 예를 들어 할로겐화 알코올과 같이 수산기 등의 극성기를 갖는 것이 바람직하다. 당해 할로겐화 알코올로서는, 예를 들어 2,3-디브로모프로판올, 2,3-디브로모부탄디올, 1,4-디브로모-2-부탄올, 트리브로모네오펜틸알코올 등의 브롬화 알코올; 1,3-디클로로-2-프로판올, 1,4-디클로로-2-부탄올 등의 염소화 알코올; 3-플루오로카테콜 등의 불소화 알코올; 그 밖에 이들과 유사한 화합물을 들 수 있다.Examples of the non-dissociating activator include non-salt-based organic compounds in which a halogen atom is bonded by a covalent bond. For example, chlorine, bromine, iodine, and fluoride, such as chlorine, bromide, iodide, and fluoride. The compound may be a covalent bond, or a compound which bonds two or more different halogen atoms thereof by a covalent bond. In order to improve the solubility in an aqueous solvent, the compound preferably has a polar group such as a hydroxyl group such as a halogenated alcohol. Examples of the halogenated alcohol include brominated alcohols such as 2,3-dibromopropanol, 2,3-dibromobutanediol, 1,4-dibromo-2-butanol, and tribromoneopentyl alcohol; Chlorinated alcohols such as 1,3-dichloro-2-propanol and 1,4-dichloro-2-butanol; Fluorinated alcohols such as 3-fluorocatechol; Other compounds similar to these may be mentioned.

또한 상기 해리형 활성제로서는, 예를 들어 아민, 이미다졸 등의 염기의 염화수소산염 및 브롬화수소산염을 들 수 있다. 염화수소산 및 브롬화수소산의 염의 일례로서는, 메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, n-프로필아민, 디-n-프로필아민, 트리-n-프로필아민, 이소프로필아민, 디이소프로필아민, 부틸아민, 디부틸아민, 트리부틸아민, 시클로헥실아민, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 비교적 탄소수가 작은 아민; 이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-메틸-4-메틸이미다졸, 2-메틸-4-에틸이미다졸, 2-에틸-4-에틸이미다졸, 2-프로필이미다졸, 2-프로필-4-프로필이미다졸 등의 염화수소산염 및 브롬화수소산염 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.In addition, examples of the dissociation-type activator include hydrochloric acid salts and hydrobromide salts of bases such as amines and imidazoles. Examples of salts of hydrochloric acid and hydrobromic acid include methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, n-propylamine, di-n-propylamine, tri-n-propylamine, iso Amines having a relatively small carbon number such as propylamine, diisopropylamine, butylamine, dibutylamine, tributylamine, cyclohexylamine, monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine; Imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-methyl-4-methylimidazole, 2-methyl-4-ethylimidazole, 2-ethyl-4-ethylimidazole, Hydrochloric acid salts, such as 2-propylimidazole and 2-propyl-4-propylimidazole, and hydrobromide, etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of multiple types.

상기 활성제 (B)의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 0.1질량% 이상 30질량% 이상인 것이 바람직하고, 2질량% 이상 25질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.The blending amount of the activator (B) is preferably 0.1% by mass or more and 30% by mass or more, and more preferably 2% by mass or more and 25% by mass or less with respect to the total amount of the flux composition.

상기 활성제 (B)에 사용되는 상기 카르복실산류의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 1질량% 이상 25질량% 이하인 것이 바람직하고, 5질량% 이상 15질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 카르복실산류의 배합량을 이 범위로 함으로써, 솔더 볼 발생 억제 및 양호한 플럭스 조성물의 절연성을 발휘할 수 있다.The blending amount of the carboxylic acids used in the activator (B) is preferably 1% by mass or more and 25% by mass or less, and more preferably 5% by mass or more and 15% by mass or less with respect to the total amount of the flux composition. By setting the blending amount of carboxylic acids into this range, it is possible to suppress generation of solder balls and exhibit good insulation properties of the flux composition.

또한 상기 활성제 (B)에 사용되는 상기 비해리형 활성제의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 0.1질량% 이상 5질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.5질량% 이상 3질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.Further, the amount of the non-dissociated activator used in the activator (B) is preferably 0.1% by mass or more and 5% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or more and 3% by mass or less with respect to the total amount of the flux composition.

이어서 상기 활성제 (B)에 사용되는 상기 해리형 활성제의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 0.1질량% 이상 3질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.3질량% 이상 1.5질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.Next, the amount of the dissociating activator used in the activator (B) is preferably 0.1% by mass or more and 3% by mass or less, and more preferably 0.3% by mass or more and 1.5% by mass or less with respect to the total amount of the flux composition.

또한 상기 해리형 활성제로서 상기 아민 및 이미다졸을 각각 단체로 사용하는 경우, 그의 배합량은 각각 0.1질량% 이상 5질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.5질량% 이상 3질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.In addition, when the amine and imidazole are used individually as the dissociating activator, the blending amounts are preferably 0.1% by mass or more and 5% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or more and 3% by mass or less.

(C) 틱소제(C) thixotropic agent

상기 틱소제 (C)로서는, 예를 들어 수소 첨가 피마자유, 포화 지방산 아미드, 포화 지방산 비스아미드류, 옥시 지방산류, 디벤질리덴소르비톨류 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the thixotropic agent (C) include hydrogenated castor oil, saturated fatty acid amide, saturated fatty acid bisamide, oxy fatty acid, and dibenzylidenesorbitol. These may be used alone or in combination of multiple types.

또한 상기 증점제의 배합량은 플럭스 전량에 대하여 1질량% 이상 15질량% 이하인 것이 바람직하고, 3질량% 이상 10질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.In addition, the blending amount of the thickener is preferably 1% by mass or more and 15% by mass or less, and more preferably 3% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the total amount of the flux.

(D) 용제(D) solvent

상기 용제 (D)로서는, 예를 들어 이소프로필알코올, 에탄올, 아세톤, 톨루엔, 크실렌, 아세트산에틸, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 헥실디글리콜, (2-에틸헥실)디글리콜, 페닐글리콜, 부틸카르비톨, 옥탄디올, α테르피네올, β테르피네올, 테트라에틸렌글리콜디메틸에테르, 트리멜리트산트리스(2-에틸헥실), 세바스산비스이소프로필 등을 사용할 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the solvent (D) include isopropyl alcohol, ethanol, acetone, toluene, xylene, ethyl acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, hexyldiglycol, (2-ethylhexyl)diglycol, phenylglycol , Butylcarbitol, octanediol, α terpineol, β terpineol, tetraethylene glycol dimethyl ether, trimellitic acid tris (2-ethylhexyl), bisisopropyl sebacate, and the like can be used. These may be used alone or in combination of multiple types.

본 실시 형태의 플럭스 조성물에 있어서는, 상기 용제 (D)로서 (D-1) 카르복실기 및 히드록실기 중 어느 것도 갖지 않는 유기산 에스테르를 포함하는 것이 바람직하다.In the flux composition of the present embodiment, it is preferable that the solvent (D) contains an organic acid ester having neither a carboxyl group nor a hydroxyl group (D-1).

플럭스 조성물에 사용되는 용제로서는, 카르복실기 및 히드록실기 중 어느 것을 포함하는 성분을 사용하는 것이 일반적이다. 플럭스 조성물의 성분 중 활성제는 이와 같은 용제에 용해될 때 전리되고, 이에 의해 부전하를 갖는 유기산 이온(RCOO-)이나 할로겐화물 이온이 발생한다. 상기 카르복실기 및 히드록실기는 이 이온의 주위에 배향되기 쉽고, 그 결과 이들이 용매화되어, 땜납 합금 분말과 용제의 반응이 일어난다.As the solvent used in the flux composition, it is common to use a component containing either a carboxyl group or a hydroxyl group. Among the components of the flux composition, the active agent is ionized when dissolved in such a solvent, thereby generating negatively charged organic acid ions (RCOO-) or halide ions. The carboxyl groups and hydroxyl groups tend to be oriented around these ions, and as a result, they are solvated, and the reaction of the solder alloy powder and the solvent occurs.

그러나 상기 유기산 에스테르 (D-1)은 상기 카르복실기 및 히드록실기 중 어느 것도 갖지 않기 때문에, 본 실시 형태의 플럭스 조성물에 있어서는 활성제 (B)로부터 전리된 이온에 배향되기 쉬운 관능기가 없고, 따라서 이들은 용매화되기 어렵다. 그로 인해, 본 실시 형태의 플럭스 조성물을 사용한 솔더 페이스트 조성물은 비가열의 보관 상태에 있어서의 땜납 합금 분말과 활성제의 반응을 억제할 수 있다.However, since the organic acid ester (D-1) does not have any of the carboxyl group and the hydroxyl group, in the flux composition of the present embodiment, there is no functional group that is liable to be oriented to the ion ionized from the activator (B). It is difficult to become plum. Therefore, the solder paste composition using the flux composition of the present embodiment can suppress the reaction between the solder alloy powder and the activator in a non-heated storage state.

이와 같이 상기 유기산 에스테르 (D-1)을 포함하는 플럭스 조성물은 솔더 페이스트 조성물의 보관 중에 있어서의 땜납 합금 분말과 활성제 (B)의 반응을 억제할 수 있기 때문에, 활성제 (B)의 활성도나 배합량을 조정하지 않아도 그 활성력은 잔존하여, 납땜 시에 있어서의 양호한 습윤성을 확보하여, 보이드의 발생을 억제할 수 있다.As described above, since the flux composition containing the organic acid ester (D-1) can suppress the reaction between the solder alloy powder and the activator (B) during storage of the solder paste composition, the activity and the amount of the activator (B) can be reduced. Even without adjustment, the active force remains, and good wettability in soldering is ensured, and generation of voids can be suppressed.

또한, 가령 기판 위에 형성된 플럭스 잔사에 상기 유기산 에스테르 (D-1)이 잔존했다고 해도, 당해 유기산 에스테르 (D-1)은 상술한 바와 같이 카르복실기 및 히드록실기 중 어느 것도 갖지 않으므로 플럭스 잔사의 흡습성을 억제할 수 있기 때문에, 그 플럭스 잔사의 절연성에는 영향을 미치기 어렵다고 생각된다.In addition, even if the organic acid ester (D-1) remains in the flux residue formed on the substrate, the organic acid ester (D-1) does not have any of a carboxyl group and a hydroxyl group as described above, so the moisture absorption of the flux residue is Since it can be suppressed, it is thought that it is difficult to affect the insulating properties of the flux residue.

또한 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정. 구체적으로는 열중량 측정-시차 열분석 장치를 사용하여 TG 곡선을 측정하고, 이에 의해 감량률을 산출함. 이하 동일함.)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 상기 땜납 합금을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도+50℃ 이하인 것이 바람직하다. 이와 같은 유기산 에스테르 (D-1)은 기판 위에 형성되는 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있기 때문에, 당해 플럭스 잔사에 양호한 절연성을 부여할 수 있다.In addition, the loss ratio (measured using the TG method) of the organic acid ester (D-1). Specifically, the TG curve was measured using a thermogravimetric-differential thermal analysis device, and the reduction ratio was calculated by this. It is preferable that the temperature at which ha) is 100% by mass is 180° C. or higher, and the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy + 50° C. or lower. Since such organic acid ester (D-1) can suppress the stickiness of the flux residue formed on the substrate, it is possible to impart good insulating properties to the flux residue.

즉, 솔더 페이스트 조성물의 일반적인 리플로우 가열 조건은 본 가열의 피크 온도를 땜납의 용융 피크 온도보다 10℃ 내지 50℃ 더 높은 온도가 되도록 설정하는 경우가 많다.That is, the general reflow heating conditions of the solder paste composition are often set such that the peak temperature of the main heating is 10°C to 50°C higher than the melting peak temperature of the solder.

본 발명자들은 예의 연구한 결과, 플럭스 조성물에 상기 용제 (D)로서 180℃ 이상이며 또한 사용하는 땜납 합금의 용융 피크 온도보다 50℃ 이내의 높은 온도에서 감량률이 100질량%가 되는 상기 유기산 에스테르 (D-1)을 배합함으로써, 인쇄 시에 있어서의 메탈 마스크 위에서의 건조가 발생하기 어려워져, 안정된 연속 인쇄성을 확보할 수 있고, 또한 상기 리플로우 가열 조건에서의 보이드 발생을 억제하면서, 더욱이 형성된 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있음을 알 수 있었다.As a result of intensive research, the present inventors have found that the above organic acid ester in which the loss rate becomes 100% by mass at a temperature higher than 180°C as the solvent (D) in the flux composition and within 50°C above the melting peak temperature of the solder alloy to be used ( By blending D-1), drying on the metal mask at the time of printing becomes difficult to occur, and stable continuous printability can be ensured, and further formed while suppressing the occurrence of voids under the above reflow heating conditions. It was found that stickiness of the flux residue can be suppressed.

예를 들어, 혼합에 사용하는 땜납 합금 분말의 땜납 합금의 피크 온도가 130℃ 이상 175℃ 미만인 경우에 있어서는, 상기 유기산 에스테르 (D-1)로서, 그 감량률이 100질량%가 되는 온도가 180℃ 이상이며 또한 225℃ 미만인 것이 바람직하게 사용된다. 이와 같은 유기산 에스테르 (D-1)로서는, 예를 들어 아디프산디메틸, 말레산디부틸 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.For example, when the peak temperature of the solder alloy of the solder alloy powder used for mixing is 130°C or more and less than 175°C, the organic acid ester (D-1) has a temperature at which the loss rate is 100% by mass. It is preferably used at a temperature higher than or equal to or less than 225C. As such an organic acid ester (D-1), dimethyl adipate, dibutyl maleate, etc. are mentioned, for example. These may be used alone or in combination of multiple types.

또한 예를 들어, 혼합에 사용하는 땜납 합금 분말의 땜납 합금의 피크 온도가 175℃ 이상 200℃ 미만인 경우에 있어서는, 상기 유기산 에스테르 (D-1)로서, 그 감량률이 100질량%가 되는 온도가 180℃ 이상이며 또한 250℃ 미만인 것이 바람직하게 사용된다. 이와 같은 유기산 에스테르 (D-1)로서는, 예를 들어 아디프산디메틸, 아디프산디이소프로필, 말레산디부틸, 세바스산디메틸, 아디프산디이소부틸, 세바스산디에틸 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Further, for example, in the case where the peak temperature of the solder alloy of the solder alloy powder used for mixing is 175°C or more and less than 200°C, the organic acid ester (D-1) has a temperature at which the reduction rate is 100% by mass. What is 180 degreeC or more and also less than 250 degreeC is used preferably. Examples of such organic acid ester (D-1) include dimethyl adipate, diisopropyl adipate, dibutyl maleate, dimethyl sebacate, diisobutyl adipate, and diethyl sebacate. These may be used alone or in combination of multiple types.

또한 예를 들어, 혼합에 사용하는 땜납 합금 분말의 땜납 합금의 피크 온도가 205℃ 이상인 경우에 있어서는, 상기 유기산 에스테르 (D-1)로서, 그 감량률이 100질량%가 되는 온도가 180℃ 이상이며, 또한 상기 땜납 합금을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도+50℃ 이하인 것이 바람직하게 사용된다. 이와 같은 유기산 에스테르 (D-1)로서는, 예를 들어 아디프산디메틸, 아디프산디이소프로필, 말레산디부틸, 세바스산디메틸, 아디프산디이소부틸, 세바스산디에틸, 세바스산디이소프로필, 세바스산디부틸, 세바스산디옥틸 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Further, for example, when the peak temperature of the solder alloy of the solder alloy powder used for mixing is 205°C or higher, the organic acid ester (D-1) has a temperature at which the loss rate is 100% by mass, 180°C or higher. In addition, those having a melting peak temperature of +50°C or lower of the solder alloy constituting the solder alloy are preferably used. As such an organic acid ester (D-1), for example, dimethyl adipate, diisopropyl adipate, dibutyl maleate, dimethyl sebacate, diisobutyl adipate, diethyl sebacate, diisopropyl sebacate, Dibutyl sebacate, dioctyl sebacate, and the like. These may be used alone or in combination of multiple types.

상기 용제 (D)의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 20질량% 이상 65질량% 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직한 그의 배합량은 20질량% 이상 60질량% 이하이고, 특히 바람직한 배합량은 25질량% 이상 50질량% 이하이다.The blending amount of the solvent (D) is preferably 20% by mass or more and 65% by mass or less with respect to the total amount of the flux composition. A more preferable blending amount is 20% by mass or more and 60% by mass or less, and a particularly preferable blending amount is 25% by mass or more and 50% by mass or less.

또한 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 배합량은 상기 용제 (D) 전량에 대하여 10질량% 내지 100질량%인 것이 바람직하다.In addition, the amount of the organic acid ester (D-1) to be blended is preferably 10% by mass to 100% by mass based on the total amount of the solvent (D).

또한 본 실시 형태의 플럭스 조성물에는 필요에 따라 첨가제를 배합할 수 있다. 상기 첨가제로서는, 예를 들어 산화 방지제, 소포제, 계면 활성제, 소광제 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.In addition, additives can be blended into the flux composition of the present embodiment as necessary. Examples of the additives include antioxidants, defoaming agents, surfactants, and matting agents. These may be used alone or in combination of multiple types.

또한 상기 첨가제의 배합량은 플럭스 전량에 대하여 0.5질량% 이상 20질량% 이하인 것이 바람직하고, 1질량% 이상 15질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.Moreover, it is preferable that it is 0.5 mass% or more and 20 mass% or less, and, as for the blending amount of the said additive, it is more preferable that it is 1 mass% or more and 15 mass% or less with respect to the total amount of the flux.

(2) 솔더 페이스트 조성물(2) Solder paste composition

본 실시 형태의 솔더 페이스트 조성물은 상기 플럭스 조성물과 땜납 합금 분말을 혼합함으로써 얻어진다.The solder paste composition of this embodiment is obtained by mixing the flux composition and solder alloy powder.

상기 땜납 합금 분말로서는, 유납/무납의 어느 땜납 합금 분말이라도 사용할 수 있다. 즉, 본 실시 형태의 솔더 페이스트 조성물은 사용하는 땜납 합금 분말의 성분을 막론하고, 그의 용융 피크 온도에 적합한 상기 유기산 에스테르 (D-1)을 사용함으로써, 리플로우 납땜 시의 보이드 발생을 억제하면서 납땜 후의 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있다.As the solder alloy powder, any solder alloy powder of solder/lead may be used. That is, the solder paste composition of the present embodiment uses the organic acid ester (D-1) suitable for its melting peak temperature regardless of the components of the solder alloy powder to be used, thereby suppressing the occurrence of voids during reflow soldering. The stickiness of the flux residue afterwards can be suppressed.

또한, 상기 땜납 합금 분말에 사용할 수 있는 합금의 예시로서는, Sn 및 Pb을 포함하는 합금, Sn 및 Pb, 그리고 Ag, Bi 및 In 중 적어도 1종을 포함하는 합금, Sn 및 Ag을 포함하는 합금, Sn 및 Cu를 포함하는 합금, Sn, Ag 및 Cu를 포함하는 합금, Sn 및 Bi를 포함하는 합금 등을 들 수 있다. 또한 이들 이외에도, 예를 들어 Sn, Pb, Ag, Bi, In, Cu, Zn, Ga, Sb, Au, Pd, Ge, Ni, Cr, Al, P 등을 적절히 조합한 땜납 합금 분말을 사용할 수 있다. 또한, 상기에 예로 든 원소 이외라도 그 조합에 사용하는 것은 가능하다.In addition, examples of alloys that can be used in the solder alloy powder include an alloy containing Sn and Pb, an alloy containing Sn and Pb, and at least one of Ag, Bi and In, an alloy containing Sn and Ag, An alloy containing Sn and Cu, an alloy containing Sn, Ag and Cu, and an alloy containing Sn and Bi. In addition to these, for example, a solder alloy powder obtained by appropriately combining Sn, Pb, Ag, Bi, In, Cu, Zn, Ga, Sb, Au, Pd, Ge, Ni, Cr, Al, P, etc. can be used. . In addition, it is possible to use the elements other than those exemplified above for their combination.

또한, 이들 중에서도 특히 Sb, Ag 및 Cu를 포함하는 땜납 합금 분말, 예를 들어 Sn-Ag계 땜납 합금, Sn-Ag-Cu계 땜납 합금, Sn-Ag-Cu-Bi-Sb계 땜납 합금의 분말이 바람직하게 사용된다.In addition, among these, in particular, solder alloy powder containing Sb, Ag, and Cu, such as Sn-Ag-based solder alloy, Sn-Ag-Cu-based solder alloy, and Sn-Ag-Cu-Bi-Sb-based solder alloy powder. Is preferably used.

또한, 이들 중에서도 특히 이하에 예로 드는 합금 조성의 땜납 합금 분말을 사용하면, 형성되는 땜납 접합부의 균열 진전 억제 효과를 향상시킬 수 있다.In addition, among these, in particular, when a solder alloy powder having an alloy composition exemplified below is used, the effect of suppressing crack propagation of the formed solder joint can be improved.

즉, 상기 땜납 합금 분말은 Ag을 1질량% 이상 3.1질량% 이하, Cu를 0질량% 초과 1질량% 이하, Sb을 1질량% 이상 5질량% 이하, Bi를 0.5질량% 이상 4.5질량% 이하, Ni을 0.01질량% 이상 0.25질량% 이하 포함하고, 잔부가 Sn으로 이루어지는 것이 바람직하다.That is, the solder alloy powder contains Ag from 1% by mass to 3.1% by mass, Cu from 0% by mass to 1% by mass, Sb from 1% by mass to 5% by mass, and Bi from 0.5% by mass to 4.5% by mass. , Ni is preferably 0.01% by mass or more and 0.25% by mass or less, and the remainder is preferably made of Sn.

또한, Ag의 보다 바람직한 함유량은 2질량% 이상 3.1질량% 이하이고, Cu의 보다 바람직한 함유량은 0.5질량% 이상 1질량% 이하이고, Sb의 보다 바람직한 함유량은 2질량% 이상 4질량% 이하이고, Bi의 보다 바람직한 함유량은 3.1질량% 이상 4.5질량%이고, Ni의 보다 바람직한 함유량은 0.01질량% 이상 0.15질량% 이하이다.Further, a more preferable content of Ag is 2% by mass or more and 3.1% by mass or less, a more preferable content of Cu is 0.5% by mass or more and 1% by mass or less, and a more preferable content of Sb is 2% by mass or more and 4% by mass or less, A more preferable content of Bi is 3.1% by mass or more and 4.5% by mass, and a more preferable content of Ni is 0.01% by mass or more and 0.15% by mass or less.

또한 상기 땜납 합금 분말은 Co를 0.001질량% 이상 0.25질량% 이하 더 포함하는 것이 바람직하다. 보다 바람직한 Co의 함유량은 0.001질량% 이상 0.15질량% 이하이다.Moreover, it is preferable that the said solder alloy powder further contains 0.001 mass% or more and 0.25 mass% or less of Co. More preferable Co content is 0.001 mass% or more and 0.15 mass% or less.

이와 같은 땜납 합금 분말을 사용함으로써, 본 실시 형태에 관한 땜납 페이스트 조성물을 사용하여 형성된 땜납 접합부는 한란의 차가 심하고 진동이 부하되는 가혹한 환경 하에서도 땜납 접합부의 균열 진전을 억제할 수 있다. 또한 Ni/Pd/Au 도금이나 Ni/Au 도금이 이루어져 있지 않은 전자 부품을 사용하여 땜납 접합을 한 경우에 있어서도, 땜납 접합부와 전자 부품의 하면 전극의 계면 부근에 있어서의 균열 진전을 억제할 수 있다.By using such a solder alloy powder, the solder joint formed by using the solder paste composition according to the present embodiment can suppress the crack propagation of the solder joint even under a severe environment in which the difference in temperature is severe and vibration is loaded. In addition, even in the case of solder bonding using Ni/Pd/Au plating or electronic components that do not have Ni/Au plating, crack propagation in the vicinity of the interface between the solder joint and the lower electrode of the electronic component can be suppressed. .

상기 땜납 합금 분말의 배합량은 솔더 페이스트 조성물 전량에 대하여 65질량% 내지 95질량%인 것이 바람직하다. 보다 바람직한 그의 배합량은 85질량% 내지 93질량%이고, 특히 바람직한 배합량은 87질량% 내지 92질량%이다.It is preferable that the blending amount of the solder alloy powder is 65% by mass to 95% by mass based on the total amount of the solder paste composition. A more preferable blending amount is 85% by mass to 93% by mass, and a particularly preferable blending amount is 87% by mass to 92% by mass.

상기 땜납 합금 분말의 배합량이 65질량% 미만인 경우에는, 얻어지는 솔더 페이스트 조성물을 사용한 경우에 충분한 땜납 접합이 형성되기 어려워지는 경향이 있다. 다른 쪽 상기 땜납 합금 분말의 함유량이 95질량%를 초과하는 경우에는 결합제로서의 플럭스 조성물이 부족하기 때문에, 플럭스 조성물과 땜납 합금 분말을 혼합하기 어려워지는 경향이 있다.When the blending amount of the solder alloy powder is less than 65% by mass, sufficient solder joints tend to be difficult to form when the resulting solder paste composition is used. On the other hand, when the content of the solder alloy powder exceeds 95% by mass, since the flux composition as a binder is insufficient, it tends to be difficult to mix the flux composition and the solder alloy powder.

또한 상기 땜납 합금 분말의 입자 직경은 1㎛ 이상 40㎛ 이하인 것이 바람직하고, 5㎛ 이상 35㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 10㎛ 이상 30㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다.Further, the particle diameter of the solder alloy powder is preferably 1 µm or more and 40 µm or less, more preferably 5 µm or more and 35 µm or less, and particularly preferably 10 µm or more and 30 µm or less.

본 실시 형태의 솔더 페이스트 조성물은 땜납 합금 분말의 땜납 합금의 용융 피크 온도에 적합한 상기 유기산 에스테르 (D-1)을 배합한 플럭스 조성물을 사용함으로써, 리플로우 납땜 시의 보이드 발생을 억제하면서 납땜 후의 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있다.The solder paste composition of the present embodiment uses a flux composition containing the organic acid ester (D-1) suitable for the melting peak temperature of the solder alloy of the solder alloy powder, thereby suppressing the occurrence of voids during reflow soldering and the flux after soldering. It can suppress the stickiness of the residue.

(3) 전자 회로 기판(3) electronic circuit board

본 실시 형태의 전자 회로 기판은 상기 솔더 페이스트 조성물을 사용하여 형성되는 땜납 접합부와 플럭스 잔사(본 명세서에 있어서는, 땜납 접합부와 플럭스 잔사를 함께 「땜납 접합체」라고 함)를 갖는 것이 바람직하다. 당해 전자 회로 기판은, 예를 들어 기판 위의 소정의 위치에 전극 및 솔더 레지스트막을 형성하고, 소정의 패턴을 갖는 마스크를 사용하여 본 실시 형태의 솔더 페이스트 조성물을 인쇄하고, 당해 패턴에 적합한 전자 부품을 소정의 위치에 탑재하고, 이것을 리플로우함으로써 제작된다.It is preferable that the electronic circuit board of this embodiment has a solder joint and a flux residue (in this specification, a solder joint and a flux residue are referred to as a ``solder joint'' together) formed using the above solder paste composition. In the electronic circuit board, for example, an electrode and a solder resist film are formed at a predetermined position on the substrate, and the solder paste composition of the present embodiment is printed using a mask having a predetermined pattern, and an electronic component suitable for the pattern is Is mounted in a predetermined position, and is produced by reflowing it.

이와 같이 하여 제작된 전자 회로 기판은 상기 전극 위에 땜납 접합부가 형성되고, 당해 땜납 접합부는 당해 전극과 전자 부품을 전기적으로 접합한다. 그리고 상기 기판 위에는, 적어도 땜납 접합부에 접착되도록 플럭스 잔사가 부착되어 있다.In the electronic circuit board thus produced, a solder joint is formed on the electrode, and the solder joint electrically joins the electrode and the electronic component. Further, on the substrate, a flux residue is attached so as to adhere at least to the solder joint.

본 실시 형태의 전자 회로 기판은 상기 솔더 페이스트 조성물을 사용하여 그 땜납 접합부 및 플럭스 잔사가 형성되어 있기 때문에, 땜납 접합부에는 보이드가 발생하기 어렵고, 또한 플럭스 잔사를 끈적거리기 어려운 것으로 할 수 있다. 또한 땜납 합금 분말의 합금 조성을 특정한 원소 및 함유량으로 함으로써, 땜납 접합부의 균열 진전 억제 효과를 향상시킬 수도 있다.In the electronic circuit board of the present embodiment, since the solder joint portion and the flux residue are formed using the solder paste composition, voids are less likely to occur in the solder joint portion, and the flux residue can be made difficult to become sticky. Further, by setting the alloy composition of the solder alloy powder to a specific element and content, the effect of suppressing the crack propagation of the solder joint can be improved.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples. In addition, the present invention is not limited to these examples.

<합성 수지의 제조><Production of synthetic resin>

교반기, 환류관 및 질소 도입관을 구비한 500ml의 4구 플라스크에 디에틸렌글리콜모노헥실에테르 200g을 투입하고, 이것을 110℃로 가열했다.200 g of diethylene glycol monohexyl ether was put into a 500 ml 4-neck flask equipped with a stirrer, a reflux tube, and a nitrogen introduction tube, and this was heated to 110°C.

또한 메타크릴산 10질량%, 2-에틸헥실메타크릴레이트 51질량%, 라우릴아크릴레이트 39질량%를 혼합한 것의 300g에 아조계 라디칼 개시제로서 디메틸2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트)(제품명: V-601, 와코준야쿠(주)제)를 0.2질량% 내지 5질량%를 가하여 이것을 용해시켜, 용액을 제작했다.Further, to 300 g of a mixture of 10% by mass of methacrylic acid, 51% by mass of 2-ethylhexyl methacrylate, and 39% by mass of lauryl acrylate, dimethyl2,2′-azobis(2-methylpropane) Cypionate) (product name: V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added 0.2% by mass to 5% by mass, and this was dissolved to prepare a solution.

이어서 당해 용액을 상기 4구 플라스크에 1.5시간에 걸쳐 적하한 것을 110℃에서 1시간 교반한 후에 반응을 종료시켜, 실시예에 사용하는 합성 수지 (A-2)를 얻었다. 또한, 당해 합성 수지 (A-2)의 중량 평균 분자량은 7,800Mw, 산가는 40㎎KOH/g, 유리 전이 온도는 -47℃였다.Subsequently, the solution was added dropwise to the four-neck flask over 1.5 hours, stirred at 110° C. for 1 hour, and then the reaction was terminated to obtain a synthetic resin (A-2) used in Examples. Moreover, the weight average molecular weight of this synthetic resin (A-2) was 7,800 Mw, the acid value was 40 mgKOH/g, and the glass transition temperature was -47 degreeC.

<솔더 페이스트 조성물의 제작><Preparation of solder paste composition>

표 1 내지 표 4에 기재된 각 성분을 혼련하여, 실시예 1 내지 34 및 비교예 1 내지 13에 관한 각 플럭스 조성물을 얻었다. 이어서 당해 각 플럭스 조성물 11질량%와, 이하에 예로 드는 땜납 합금 분말 89질량%를 혼련하여, 실시예 1 내지 34 및 비교예 1 내지 13에 관한 각 솔더 페이스트 조성물을 얻었다. 또한, 특별히 기재가 없는 한, 표 1 내지 4에 기재된 수치는 질량%를 의미하는 것으로 한다.Each component described in Tables 1 to 4 was kneaded to obtain each flux composition according to Examples 1 to 34 and Comparative Examples 1 to 13. Subsequently, 11 mass% of each of the flux compositions and 89 mass% of the following solder alloy powder were kneaded to obtain respective solder paste compositions according to Examples 1 to 34 and Comparative Examples 1 to 13. In addition, unless otherwise specified, the numerical values shown in Tables 1 to 4 shall mean mass%.

또한 합성 수지 (A-2)에 대해서는 상술한 수순으로 제작한 솔벤트 형상의 수지를 증발기를 사용하여 용제를 휘발시킨 후에 사용하고 있다. 그로 인해, 표 1 내지 표 4에 기재된 합성 수지 (A-2)의 수치는 용제를 휘발시킨 고형분만을 나타낸다.In addition, as for the synthetic resin (A-2), a solvent-shaped resin produced by the above-described procedure is used after volatilizing the solvent using an evaporator. Therefore, the numerical value of the synthetic resin (A-2) described in Tables 1 to 4 shows only the solid content obtained by volatilizing the solvent.

또한, 각 실시예 및 비교예에 있어서 사용한 땜납 합금 분말은 이하와 같다.In addition, the solder alloy powder used in each Example and a comparative example is as follows.

실시예 1 내지 20 및 비교예 1 내지 8: Sn-3Ag-0.5Cu 땜납 합금 분말(용융 피크 온도: 219℃)Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 8: Sn-3Ag-0.5Cu solder alloy powder (melting peak temperature: 219°C)

실시예 21 및 22, 그리고 비교예 9: Sn-10Sb(용융 피크 온도: 248℃)Examples 21 and 22, and Comparative Example 9: Sn-10Sb (melting peak temperature: 248°C)

실시예 23 및 24, 그리고 비교예 10 및 11: Sn-58Bi(용융 피크 온도: 139℃)Examples 23 and 24, and Comparative Examples 10 and 11: Sn-58Bi (melting peak temperature: 139° C.)

실시예 25 내지 28 및 비교예 12: Sn-3.5Ag-0.5Bi-8In(용융 피크 온도: 202℃)Examples 25 to 28 and Comparative Example 12: Sn-3.5Ag-0.5Bi-8In (melting peak temperature: 202°C)

ㆍ 실시예 29 및 30: Sn-3Ag-0.7Cu-3.5Bi-3Sb-0.04Ni-0.01Co(용융 피크 온도: 223℃)-Examples 29 and 30: Sn-3Ag-0.7Cu-3.5Bi-3Sb-0.04Ni-0.01Co (melting peak temperature: 223° C.)

ㆍ 실시예 31 및 32: Sn-3Ag-0.5Cu-4.5Bi-3Sb-0.03Ni(용융 피크 온도: 222℃)-Examples 31 and 32: Sn-3Ag-0.5Cu-4.5Bi-3Sb-0.03Ni (melting peak temperature: 222° C.)

ㆍ 실시예 33 및 34: Sn-3Ag-0.5Cu-3Bi-2Sb-0.03Ni(용융 피크 온도: 223℃)-Examples 33 and 34: Sn-3Ag-0.5Cu-3Bi-2Sb-0.03Ni (melting peak temperature: 223° C.)

ㆍ 비교예 13: Sn-0.5Ag-0.5Cu-3Bi-2Sb-0.04Ni(용융 피크 온도: 228℃)-Comparative Example 13: Sn-0.5Ag-0.5Cu-3Bi-2Sb-0.04Ni (melting peak temperature: 228°C)

각 유기산 에스테르 (D-1) 성분에 대하여 열중량 측정-시차 열분석 장치(제품명: STA7200RV, (주)히타치 하이테크 사이언스제)를 사용하여, TG 곡선에서의 감량률이 100질량%가 되는 온도를 측정하고, 표 1 내지 4의 성분명과 함께 기재했다. 또한, 그 측정 조건은 승온 속도를 10℃/min, 질소 가스 유량을 200ml/min으로 하고, 샘플량을 10㎎으로 했다.For each organic acid ester (D-1) component, a thermogravimetric measurement-differential thermal analysis device (product name: STA7200RV, manufactured by Hitachi Hi-Tech Science Co., Ltd.) was used, and the temperature at which the loss rate in the TG curve becomes 100% by mass was measured. It measured and described together with the component names of Tables 1-4. In addition, as for the measurement conditions, the temperature increase rate was 10°C/min, the nitrogen gas flow rate was 200 ml/min, and the sample amount was 10 mg.

Figure 112018021237064-pct00001
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Figure 112018021237064-pct00002
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Figure 112018021237064-pct00003
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Figure 112018021237064-pct00004
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※1 아라카와 가가쿠 고교(주)제 수소 첨가 산 변성 로진※1 Hydrogenated acid-modified rosin manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.

※2 니폰 가세이(주)제 지방산 비스아미드※2 Nippon Kasei Co., Ltd. fatty acid bisamide

※3 BASF 재팬(주)제 힌더드 페놀계 산화 방지제※3 BASF Japan's hindered phenolic antioxidant

<인쇄 회복성 시험><Print recovery test>

100핀 0.5㎜피치의 BGA를 실장할 수 있는 패턴을 갖는 솔더 레지스트와 전극(직경 0.25㎜)을 구비한 유리 에폭시 기판과, 상기 패턴과 동일한 패턴을 갖는 두께 120㎛의 메탈 마스크를 준비했다.A glass epoxy substrate having a solder resist having a pattern capable of mounting a 100-pin 0.5 mm pitch BGA and an electrode (0.25 mm in diameter), and a metal mask having a thickness of 120 μm having the same pattern as the above pattern were prepared.

이어서, 당해 메탈 마스크를 사용하여 상기 기판 위에 각 솔더 페이스트 조성물을 인쇄했다. 또한 이 인쇄는 1종의 솔더 페이스트 조성물에 대하여, 6장의 상기 기판을 사용하여 연속 인쇄하는 방법에 의해 행하였다.Subsequently, each solder paste composition was printed on the substrate using the metal mask. In addition, this printing was performed by a method of continuously printing one type of solder paste composition using six of the above substrates.

당해 연속 인쇄를 행한 후, 메탈 마스크 위에 있는 각 솔더 페이스트 조성물을 25℃-50%의 환경 하에서 1시간 방치했다.After performing the continuous printing, each solder paste composition on the metal mask was allowed to stand in an environment of 25°C-50% for 1 hour.

그 후, 이 메탈 마스크 위에 있는 각 솔더 페이스트 조성물을 상기 기판 위에 인쇄했다. 또한 이 인쇄는 1종의 솔더 페이스트 조성물에 대하여, 10장의 상기 기판을 사용하여 연속 인쇄하는 방법에 의해 행하였다.Thereafter, each solder paste composition on this metal mask was printed on the substrate. In addition, this printing was performed by a method of continuously printing one type of solder paste composition using 10 of the above substrates.

당해 연속 인쇄를 행한 상기 기판에 대하여, 인쇄순 5번째부터 10번째까지의 직경 0.25㎜의 전극부에 있어서의 그 전사 체적률을 화상 검사기(제품명: aspire2, (주) 고영테크놀러지제)를 사용하여 측정하고, 이하의 기준으로 평가했다. 그 결과를 표 5 내지 표 8에 나타낸다.With respect to the substrate subjected to the continuous printing, the transfer volume ratio in the electrode portion having a diameter of 0.25 mm from the 5th to the 10th printing order was measured using an image inspection machine (product name: aspire2, manufactured by Koyoung Technology Co., Ltd.). It measured and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 5 to 8.

◎: 전사 체적률 35% 이하의 개수가 0개◎: The number of transfer volume ratio of 35% or less is 0

○: 전사 체적률 35% 이하의 개수가 1개 이상 10개 이하○: The number of transfer volume ratio of 35% or less is 1 or more and 10 or less

△: 전사 체적률 35% 이하의 개수가 11개 이상 50개 이하△: The number of transfer volume ratio of 35% or less is 11 or more and 50 or less

×: 전사 체적률 35% 이하의 개수가 51개 이상X: 51 or more of the number of transfer volume ratio of 35% or less

<플럭스 잔사 점착성 시험><Flux residue adhesion test>

직경 6㎜ 사이즈의 패턴을 갖는 솔더 레지스트와 구리 랜드를 갖는 유리 에폭시 기판과, 상기 패턴과 동일한 패턴을 갖는 두께 150㎛의 메탈 마스크를 준비했다. 이어서 당해 메탈 마스크를 사용하여 상기 유리 에폭시 기판에 각 솔더 페이스트 조성물을 인쇄하고, 이들을 리플로우로(제품명: TNP-538EM, (주)다무라 세이사쿠쇼제)를 사용하여 가열하여, 각 시험 기판을 제작했다. 또한, 리플로우 조건은 인쇄한 각 솔더 페이스트 조성물에 사용한 땜납 합금 분말의 조성에 따라 다르다. 그 조건은 이하와 같다. 또한, 어느 것에 있어서도 리플로우로 내의 산소 농도는 1500±500ppm이다.A glass epoxy substrate having a solder resist having a pattern of 6 mm in diameter and a copper land, and a metal mask having a thickness of 150 µm having the same pattern as the pattern were prepared. Subsequently, each solder paste composition was printed on the glass epoxy substrate using the metal mask, and these were heated using a reflow furnace (product name: TNP-538EM, manufactured by Tamura Seisakusho Co., Ltd.) to prepare each test substrate. did. In addition, the reflow conditions differ depending on the composition of the solder alloy powder used for each printed solder paste composition. The conditions are as follows. In addition, in any case, the oxygen concentration in the reflow furnace is 1500±500 ppm.

ㆍ 실시예 1 내지 20 및 비교예 1 내지 8: 프리 히트를 170℃ 내지 180℃에서 90초간, 피크 온도 230℃, 220℃ 이상이 30초 이하, 피크 온도로부터 200℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초ㆍ Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 8: Pre-heat at 170°C to 180°C for 90 seconds, peak temperature 230°C, 220°C or higher for 30 seconds or less, and cooling rate from peak temperature to 200°C is 3°C To 8°C/sec

ㆍ 실시예 21 및 22, 그리고 비교예 9: 프리 히트를 180℃ 내지 200℃에서 90초간, 피크 온도 265℃, 250℃ 이상이 30초 이하, 피크 온도로부터 235℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초-Examples 21 and 22, and Comparative Example 9: Pre-heating at 180°C to 200°C for 90 seconds, peak temperature of 265°C, 250°C or higher for 30 seconds or less, and cooling rate from peak temperature to 235°C of 3°C to 8℃/sec

ㆍ 실시예 23 및 24, 그리고 비교예 10 및 11: 프리 히트를 100℃ 내지 110℃에서 90초간, 피크 온도 160℃, 150℃ 이상이 30초 이하, 피크 온도로부터 120℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초ㆍ Examples 23 and 24, and Comparative Examples 10 and 11: Pre-heat at 100 ℃ to 110 ℃ for 90 seconds, the peak temperature 160 ℃, 150 ℃ or more is 30 seconds or less, the cooling rate from the peak temperature to 120 ℃ is 3 °C to 8 °C/sec

ㆍ 실시예 25 내지 28 및 비교예 12: 프리 히트를 150℃ 내지 170℃에서 90초간, 피크 온도 220℃, 210℃ 이상이 30초 이하, 피크 온도로부터 190℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초-Examples 25 to 28 and Comparative Example 12: Pre-heating at 150°C to 170°C for 90 seconds, peak temperature 220°C, 210°C or higher for 30 seconds or less, cooling rate from peak temperature to 190°C is 3°C to 8 ℃/sec

ㆍ 실시예 29 내지 34: 프리 히트를 170℃ 내지 180℃에서 90초간, 피크 온도 230℃, 220℃ 이상이 30초 이하, 피크 온도로부터 200℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초ㆍ Examples 29 to 34: Preheating at 170°C to 180°C for 90 seconds, peak temperature 230°C, 220°C or higher is 30 seconds or less, and cooling rate from peak temperature to 200°C is 3°C to 8°C/second

ㆍ 비교예 13: 프리 히트를 170℃ 내지 180℃에서 90초간, 피크 온도 240℃, 230℃ 이상이 30초 이하, 피크 온도로부터 200℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초ㆍ Comparative Example 13: Preheating at 170°C to 180°C for 90 seconds, peak temperature of 240°C, 230°C or higher for 30 seconds or less, cooling rate from peak temperature to 200°C is 3°C to 8°C/second

그리고 각 시험 기판을 실온에서 2시간 방치한 후, 직경 6㎜ 패턴으로 납땜된 각 시험 기판 위에 형성된 플럭스 잔사에 직경 300㎛의 솔더 볼을 뿌리고, 이것을 각 시험 기판의 측면이 지면과 병행이 되도록 하여 책상에 내던져 충격을 주었다. 그 후, 각 시험 기판 위의 플럭스 잔사에 부착된 솔더 볼 수를 카운트하고, 이하의 기준으로 평가했다. 그 결과를 표 5 내지 표 8에 나타낸다.Then, after leaving each test board at room temperature for 2 hours, a solder ball having a diameter of 300 μm was sprinkled on the flux residue formed on each test board soldered in a 6 mm diameter pattern, and the side of each test board was parallel to the ground. I threw it on my desk and shocked me. Thereafter, the number of solder balls adhered to the flux residue on each test board was counted, and the following criteria were evaluated. The results are shown in Tables 5 to 8.

◎: 솔더 볼의 부착 개수가 0개◎: The number of solder balls attached is 0

○: 솔더 볼의 부착 개수가 1개 이상 10개 이하○: The number of solder balls attached is 1 or more and 10 or less

△: 솔더 볼의 부착 개수가 11개 이상 30개 이하△: The number of solder balls attached is 11 or more and 30 or less

×: 솔더 볼의 부착 개수가 31개 이상×: The number of solder balls attached is 31 or more

<연속 롤링 페이스트의 제작><Production of continuous rolling paste>

각 솔더 페이스트 조성물에 대하여, 폴리우레탄 고무제 스퀴지(경도 90)를 사용하여, 스퀴지 각도 60°, 인쇄 택트 30초 및 스트로크 300㎜, 환경 25℃-50% R.H.의 조건 하에서 4시간, 연속적으로 스퀴징을 행하였다.For each solder paste composition, using a polyurethane rubber squeegee (hardness 90), a squeegee angle of 60°, a printing tact of 30 seconds and a stroke of 300 mm, an environment of 25°C-50% RH for 4 hours, continuously Quizing was performed.

또한, 시료 투입량은 500g이었다. 이와 같이 하여 얻어진 연속 스퀴징 후의 각 솔더 페이스트 조성물을 이하 「연속 롤링 페이스트」라고 한다.In addition, the sample input amount was 500 g. Each solder paste composition after continuous squeezing obtained in this way is hereinafter referred to as "continuous rolling paste".

<솔더 볼 시험><Solder Ball Test>

유리 에폭시 기판과, 2.0㎜×1.2㎜ 사이즈의 칩 부품을 준비했다. 당해 유리 에폭시 기판 위에 상기 칩 부품에 대응하는 솔더 레지스트와 전극(1.25㎜×1.0㎜)을 형성하고, 이것과 동일한 패턴을 갖는 두께 150㎛의 메탈 마스크를 사용하여 상기 유리 에폭시 기판 위에 각 솔더 페이스트 조성물과 각 연속 롤링 페이스트를 각각 인쇄하고, 칩 부품을 탑재했다. 이어서 각 유리 에폭시 기판을 리플로우로(제품명: TNP-538EM, (주)다무라 세이사쿠쇼)에서 가열하여, 각 시험 기판을 제작했다. 또한, 리플로우 조건은 인쇄한 각 솔더 페이스트 조성물ㆍ각 연속 롤링 페이스트에 사용한 땜납 합금 분말의 조성에 따라 다르다. 그 조건은 이하와 같다. 또한, 어느 것에 있어서도 리플로우로 내의 산소 농도는 1500±500ppm이다.A glass epoxy substrate and a chip component having a size of 2.0 mm x 1.2 mm were prepared. Each solder paste composition on the glass epoxy substrate by forming a solder resist and an electrode (1.25 mm×1.0 mm) corresponding to the chip component on the glass epoxy substrate, and using a metal mask having a thickness of 150 μm having the same pattern as this And each continuous rolling paste were printed, respectively, and chip parts were mounted. Subsequently, each glass epoxy substrate was heated in a reflow furnace (product name: TNP-538EM, Tamura Seisakusho Co., Ltd.) to prepare each test substrate. In addition, the reflow conditions differ depending on the composition of each printed solder paste composition and the solder alloy powder used for each continuous rolling paste. The conditions are as follows. In addition, in any case, the oxygen concentration in the reflow furnace is 1500±500 ppm.

ㆍ 실시예 1 내지 20 및 비교예 1 내지 8: 프리 히트를 170℃ 내지 190℃에서 110초간, 피크 온도 260℃, 200℃ 이상이 70초간 및 220℃ 이상이 60초간, 피크 온도로부터 200℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초ㆍ Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 8: Preheating at 170°C to 190°C for 110 seconds, peak temperature of 260°C, 200°C or higher for 70 seconds and 220°C or higher for 60 seconds, from peak temperature to 200°C The cooling rate of 3 ℃ to 8 ℃ / second

ㆍ 실시예 21 및 22, 그리고 비교예 9: 프리 히트를 180℃ 내지 210℃에서 110초간, 피크 온도 290℃, 230℃ 이상이 70초간 및 250℃ 이상이 60초간, 피크 온도로부터 235℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초ㆍ Examples 21 and 22, and Comparative Example 9: Pre-heating at 180°C to 210°C for 110 seconds, peak temperature of 290°C, 230°C or higher for 70 seconds, and 250°C or higher for 60 seconds, from peak temperature to 235°C The cooling rate is 3°C to 8°C/sec

ㆍ 실시예 23 및 24, 그리고 비교예 10 및 비교예 11: 프리 히트를 100℃ 내지 120℃에서 110초간, 피크 온도 210℃, 130℃ 이상이 70초간 및 150℃ 이상이 60초간, 피크 온도로부터 150℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초ㆍExamples 23 and 24, and Comparative Example 10 and Comparative Example 11: Preheat at 100°C to 120°C for 110 seconds, peak temperature 210°C, 130°C or higher for 70 seconds and 150°C or higher for 60 seconds, from the peak temperature Cooling rate up to 150°C is 3°C to 8°C/sec

ㆍ 실시예 25 내지 28 및 비교예 12: 프리 히트를 150℃ 내지 180℃에서 110초간, 피크 온도 250℃, 190℃ 이상이 70초간 및 210℃ 이상이 60초간, 피크 온도로부터 190℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초ㆍ Examples 25 to 28 and Comparative Example 12: Preheat cooling from 150°C to 180°C for 110 seconds, peak temperature 250°C, 190°C or higher for 70 seconds and 210°C or higher for 60 seconds, and from peak temperature to 190°C The speed is 3°C to 8°C/sec

ㆍ 실시예 29 내지 34: 프리 히트를 170℃ 내지 190℃에서 110초간, 피크 온도 260℃, 200℃ 이상이 70초간 및 220℃ 이상이 60초간, 피크 온도로부터 200℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초-Examples 29 to 34: Preheating at 170°C to 190°C for 110 seconds, peak temperature of 260°C, 200°C or higher for 70 seconds and 220°C or higher for 60 seconds, and cooling rate from peak temperature to 200°C for 3°C To 8°C/sec

ㆍ 비교예 13: 프리 히트를 170℃ 내지 190℃에서 110초간, 피크 온도 260℃, 200℃ 이상이 70초간 및 220℃ 이상이 60초간, 피크 온도로부터 200℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초ㆍComparative Example 13: Pre-heating at 170°C to 190°C for 110 seconds, peak temperature of 260°C, 200°C or higher for 70 seconds, and 220°C or higher for 60 seconds, and the cooling rate from peak temperature to 200°C is 3°C to 8 ℃/sec

상기 각 시험 기판을 X선 투과 장치(제품명: SMX-160E, (주)시마즈 세이사쿠쇼제)를 사용하여 관찰하고, 칩 부품의 주변 및 그 하면에 발생한 솔더 볼 수와 그 직경을 카운트하고, 이하와 같이 평가했다. 그 결과를 표 5 내지 표 8에 나타낸다.Each of the above test boards was observed using an X-ray transmission device (product name: SMX-160E, manufactured by Shimadzu Corporation), and the number of solder balls generated on the periphery of the chip component and its lower surface and its diameter were counted. Evaluated as. The results are shown in Tables 5 to 8.

◎: 2.0㎜×1.2㎜ 칩 저항 10개당 발생한 볼 수가 0개◎: 0 balls per 10 2.0mm×1.2mm chip resistors

○: 2.0㎜×1.2㎜ 칩 저항 10개당 발생한 볼 수가 1개 이상 5개 이하○: The number of balls generated per 10 2.0mm×1.2mm chip resistors is 1 or more and 5 or less

△: 2.0㎜×1.2㎜ 칩 저항 10개당 발생한 볼 수가 6개 이상 10개 이하△: The number of balls generated per 10 2.0mm×1.2mm chip resistors is 6 or more and 10 or less

×: 2.0㎜×1.2㎜ 칩 저항 10개당 발생한 볼 수가 11개 이상×: The number of balls generated per 10 2.0 mm×1.2 mm chip resistors is 11 or more

<보이드 시험><Void test>

솔더 볼 시험과 동일한 조건에서 각 시험 기판을 제작하고, 그 표면 상태를 X선 투과 장치(제품명: SMX-160E, (주)시마즈 세이사쿠쇼제)로 관찰하고, 땜납 접합부가 형성되어 있는 영역에서 차지하는 보이드의 총 면적의 비율(보이드의 면적률)을 측정했다. 또한 보이드의 발생 상황은 각 시험 기판 중 20개소의 랜드에 있어서의 보이드의 면적률의 최댓값을 구하고, 이하와 같이 평가했다. 그 결과를 표 5 내지 표 8에 나타낸다.Each test board was prepared under the same conditions as the solder ball test, and the surface condition was observed with an X-ray transmission device (product name: SMX-160E, manufactured by Shimadzu Corporation), and occupied the area where the solder joint was formed. The ratio of the total area of the voids (area ratio of the voids) was measured. In addition, the occurrence state of voids was evaluated by obtaining the maximum value of the area ratio of voids in lands at 20 locations among each test board. The results are shown in Tables 5 to 8.

◎: 보이드의 면적률의 최댓값이 10% 이하◎: The maximum value of the area ratio of voids is 10% or less

○: 보이드의 면적률의 최댓값이 10% 초과 13% 이하○: The maximum value of the void area ratio is more than 10% and 13% or less

△: 보이드의 면적률의 최댓값이 13% 초과 20% 이하△: The maximum value of the void area ratio is more than 13% and 20% or less

×: 보이드의 면적률의 최댓값이 20% 초과X: The maximum value of the area ratio of voids exceeds 20%

<균열 진전 억제 시험><Crack propagation inhibition test>

3.2㎜×1.6㎜ 사이즈의 칩 부품(Ni/Sn 도금)과, 당해 사이즈의 칩 부품을 실장할 수 있는 패턴을 갖는 솔더 레지스트 및 상기 칩 부품을 접속하는 전극(1.6㎜×1.2㎜)을 구비한 유리 에폭시 기판과, 동일 패턴을 갖는 두께 150㎛의 메탈 마스크를 준비했다.A chip component having a size of 3.2 mm x 1.6 mm (Ni/Sn plating), a solder resist having a pattern for mounting the chip component of the size, and an electrode (1.6 mm x 1.2 mm) connecting the chip component A glass epoxy substrate and a 150 µm-thick metal mask having the same pattern were prepared.

상기 유리 에폭시 기판 위에 상기 메탈 마스크를 사용하여 각 솔더 페이스트 조성물을 인쇄하고, 각각 상기 칩 부품을 탑재했다.Each solder paste composition was printed on the glass epoxy substrate using the metal mask, and each of the chip components was mounted.

그 후, 리플로우로(제품명: TNP-538EM, (주)다무라 세이사쿠쇼제)를 사용하여 상기 각 유리 에폭시 기판을 가열하여 각각에 상기 유리 에폭시 기판과 상기 칩 부품을 전기적으로 접합하는 땜납 접합부를 형성하고, 상기 칩 부품을 실장했다. 때의 리플로우 조건은 프리 히트를 170℃ 내지 190℃에서 110초간, 피크 온도를 245℃로 하고, 200℃ 이상의 시간이 65초간, 220℃ 이상의 시간이 45초간, 피크 온도로부터 200℃까지의 냉각 속도를 3℃ 내지 8℃/초로 하고, 산소 농도는 1500±500ppm으로 설정했다.Thereafter, the respective glass epoxy substrates are heated using a reflow furnace (product name: TNP-538EM, manufactured by Tamura Seisakusho Co., Ltd.), and a solder joint for electrically bonding the glass epoxy substrate and the chip component to each of them. Formed, and the chip component was mounted. Reflow conditions at this time are preheating at 170°C to 190°C for 110 seconds, peak temperature at 245°C, 200°C or higher for 65 seconds, 220°C or higher for 45 seconds, and cooling from peak temperature to 200°C. The rate was set at 3°C to 8°C/sec, and the oxygen concentration was set at 1500±500 ppm.

이어서, -40℃(30분간) 내지 125℃(30분간)의 조건으로 설정한 냉열 충격 시험 장치(제품명: ES-76LMS, 히타치 어플리언스(주)제)를 사용하여, 냉열 충격 사이클을 1,000, 1,500, 2,000, 2,500, 3,000사이클 반복하는 환경 하에 상기 각 유리 에폭시 기판을 각각 노출시킨 후 이것을 취출하고, 각 시험 기판을 제작했다.Subsequently, using a cold and thermal shock test apparatus (product name: ES-76LMS, manufactured by Hitachi Appliance Co., Ltd.) set in the conditions of -40°C (30 minutes) to 125°C (30 minutes), the cold and thermal shock cycle was 1,000 , 1,500, 2,000, 2,500, and 3,000 cycles, each of the above glass epoxy substrates was exposed, and then taken out, and each test substrate was prepared.

이어서 각 시험 기판의 대상 부분을 잘라내고, 이것을 에폭시 수지(제품명: 에포마운트(주제 및 경화제), 리파인테크(주)제)를 사용하여 밀봉했다. 또한 습식 연마기(제품명: TegraPol-25, 마루모토 스트루어스(주)제)를 사용하여 각 시험 기판에 실장된 상기 칩 부품의 중앙 단면을 알 수 있는 상태로 하고, 형성된 땜납 접합부에 발생한 균열이 땜납 접합부를 완전히 횡단하여 파단에 이르고 있는지 여부를 주사 전자 현미경(제품명: TM-1000, (주)히타치 하이테크놀러지즈제)을 사용하여 관찰하고, 이하의 기준으로 평가했다. 그 결과를 표 5 내지 표 8에 나타낸다. 또한, 각 냉열 충격 사이클에 있어서의 평가 칩수는 10개로 했다.Subsequently, the target portion of each test board was cut out, and this was sealed using an epoxy resin (product name: Epomount (main and curing agent), manufactured by Refinetech Co., Ltd.). In addition, using a wet grinder (product name: TegraPol-25, manufactured by Marumoto Struus Co., Ltd.), the central cross section of the chip component mounted on each test board is known, and cracks occurring in the formed solder joint are soldered. Whether or not completely crossing the junction and reaching fracture was observed using a scanning electron microscope (product name: TM-1000, manufactured by Hitachi High-Technologies Co., Ltd.), and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 5 to 8. In addition, the number of evaluation chips in each cooling and heat shock cycle was set to ten.

◎◎: 3,000사이클까지 땜납 접합부를 완전히 횡단하는 균열이 발생하지 않는다◎◎: No cracks that cross the solder joint completely up to 3,000 cycles

◎: 2,501 내지 3,000사이클 사이에서 땜납 접합부를 완전히 횡단하는 균열이 발생◎: Between 2,501 and 3,000 cycles, cracks completely cross the solder joint

○: 2,001 내지 2,500사이클 사이에서 땜납 접합부를 완전히 횡단하는 균열이 발생○: Between 2,001 and 2,500 cycles, cracks completely transverse the solder joints.

△: 2,000사이클 이하에서 땜납 접합부를 완전히 횡단하는 균열이 발생△: Cracks that completely traverse the solder joints occur in less than 2,000 cycles.

Figure 112018021237064-pct00005
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이상에 나타낸 바와 같이, 실시예 1 내지 34에 관한 솔더 페이스트 조성물은, 사용하는 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도에 맞춘 상기 유기산 에스테르 (D-1)을 사용함으로써 안정된 연속 인쇄성을 확보할 수 있고, 또한 리플로우 납땜 시의 보이드 발생을 억제하면서 납땜 후의 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있음을 알 수 있었다. 또한 이들은 리플로우 시에 양호한 습윤성을 갖고 있기 때문에, 솔더 볼의 발생도 억제할 수 있다. 나아가, 이들은 연속 스퀴징을 행해도 활성제 (B)와 땜납 합금 분말의 반응을 억제할 수 있기 때문에, 연속 롤링 페이스트라도 보이드 및 솔더 볼의 발생을 억제할 수 있음을 알 수 있었다.As shown above, the solder paste compositions according to Examples 1 to 34 have stable continuous printability by using the organic acid ester (D-1) adjusted to the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder to be used. It was found that it can be secured, and the stickiness of the flux residue after soldering can be suppressed while suppressing the occurrence of voids during reflow soldering. Further, since these have good wettability during reflow, generation of solder balls can also be suppressed. Furthermore, since these can suppress the reaction between the activator (B) and the solder alloy powder even when continuous squeezing is performed, it has been found that even the continuous rolling paste can suppress the generation of voids and solder balls.

In을 함유하는 땜납 합금 분말을 사용한 실시예 25 내지 28은 In 첨가의 효과에 의해, 양호한 균열 진전 억제 효과를 발휘할 수 있다.Examples 25 to 28 using the solder alloy powder containing In can exhibit a good crack propagation suppression effect by the effect of the addition of In.

또한 땜납 합금 분말의 합금 조성을 특정한 원소 및 함유량으로 한 실시예 29 내지 34에 있어서는, 솔더 볼 및 보이드의 발생을 충분히 억제할 수 있고, 또한 In을 첨가하지 않아도, In 함유 땜납 합금 분말을 사용한 경우와 동등 이상의 균열 진전 억제 효과를 발휘할 수 있음을 알 수 있었다. 이와 같은 솔더 페이스트 조성물은, 특히 차량 탑재용 전자 회로 기판 등의 한란차가 심하고 또한 높은 신뢰성이 요구되는 전자 회로 기판에도 적합하게 사용할 수 있다.Further, in Examples 29 to 34 in which the alloy composition of the solder alloy powder was a specific element and content, the generation of solder balls and voids can be sufficiently suppressed, and even without In addition, the case of using the In-containing solder alloy powder. It was found that an equal or higher crack propagation suppression effect could be exhibited. In particular, such a solder paste composition can be suitably used for electronic circuit boards, such as vehicle-mounted electronic circuit boards, which are subject to severe heat dissipation and require high reliability.

또한, 표 1 내지 표 4의 유기산 에스테르 (D-1) 중 세바스산디옥틸에 대해서는, 이것에 사용한 땜납 합금 분말의 용융 피크 온도가 295℃ 미만이었기 때문에 양호한 결과가 되지 않았지만, 용융 피크 온도가 295℃ 이상인 땜납 합금 분말을 사용하는 경우에는, 그 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도가 상기 용융 피크 온도+50℃ 이하가 되고, 안정된 연속 인쇄성, 리플로우 납땜 시의 보이드 발생의 억제 및 플럭스 잔사의 끈적거림 억제 효과를 발휘할 수 있는 것이다.In addition, for dioctyl sebacate among the organic acid esters (D-1) in Tables 1 to 4, since the melting peak temperature of the solder alloy powder used for this was less than 295° C., good results were not obtained, but the melting peak temperature was 295. In the case of using a solder alloy powder of at least °C, the temperature at which the loss rate (measured using the TG method) becomes 100% by mass is the melting peak temperature +50 °C or less, stable continuous printability, and during reflow soldering. It is possible to exhibit the effect of suppressing the occurrence of voids and suppressing stickiness of the flux residue.

Claims (20)

땜납 합금 분말과 혼합하여 솔더 페이스트 조성물을 구성하는 플럭스 조성물로서,
(A) 베이스 수지와, (B) 활성제와, (C) 틱소제와, (D) 용제를 포함하고,
상기 용제 (D)로서 (D-1) 카르복실기 및 히드록실기 중 어느 것도 갖지 않는 유기산 에스테르를 포함하고,
상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도+50℃ 이하이고,
상기 유기산 에스테르 (D-1)의 배합량은 상기 용제 (D) 전량에 대하여 10질량% 내지 100질량%인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.
As a flux composition that forms a solder paste composition by mixing with a solder alloy powder,
(A) a base resin, (B) an activator, (C) a thixotropic agent, and (D) a solvent,
As the solvent (D) (D-1) contains an organic acid ester having neither a carboxyl group nor a hydroxyl group,
The temperature at which the loss ratio (measured using the TG method) of the organic acid ester (D-1) becomes 100% by mass is 180°C or higher, and the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder +50°C or lower. ,
The flux composition, wherein the amount of the organic acid ester (D-1) is 10% by mass to 100% by mass based on the total amount of the solvent (D).
제1항에 있어서, 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도가 130℃ 이상 175℃ 미만인 경우에 있어서의 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 225℃ 미만인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.The reduction rate (measured using the TG method) of the organic acid ester (D-1) according to claim 1, wherein the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder is 130°C or more and less than 175°C. A flux composition characterized in that the temperature at 100% by mass is 180°C or more and less than 225°C. 제1항에 있어서, 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도가 175℃ 이상 205℃ 미만인 경우에 있어서의 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 255℃ 미만인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.The reduction rate (measured using the TG method) of the organic acid ester (D-1) according to claim 1, in the case where the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder is 175°C or more and less than 205°C. A flux composition characterized in that the temperature at 100% by mass is 180°C or more and less than 255°C. 제1항에 있어서, 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도가 205℃ 이상인 경우에 있어서의 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 상기 용융 피크 온도+50℃ 이하인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.The reduction rate (measured using the TG method) of the organic acid ester (D-1) in the case where the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder is 205°C or higher is 100% by mass. A flux composition, characterized in that the temperature at which it is equal to or higher than 180° C. and equal to or lower than the melting peak temperature of +50° C. 제2항에 있어서, 상기 유기산 에스테르 (D-1)은 아디프산디메틸 및 말레산디부틸 중 적어도 한쪽인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.The flux composition according to claim 2, wherein the organic acid ester (D-1) is at least one of dimethyl adipate and dibutyl maleate. 제3항에 있어서, 상기 유기산 에스테르 (D-1)은 아디프산디메틸, 아디프산디이소프로필, 말레산디부틸, 세바스산디메틸, 아디프산디이소부틸 및 세바스산디에틸에서 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.The method of claim 3, wherein the organic acid ester (D-1) is at least one selected from dimethyl adipate, diisopropyl adipate, dibutyl maleate, dimethyl sebacate, diisobutyl adipate, and diethyl sebacate. Flux composition, characterized in that. 제4항에 있어서, 상기 유기산 에스테르 (D-1)은 아디프산디메틸, 아디프산디이소프로필, 말레산디부틸, 세바스산디메틸, 아디프산디이소부틸, 세바스산디에틸, 세바스산디이소프로필, 세바스산디부틸 및 세바스산디옥틸에서 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.The method of claim 4, wherein the organic acid ester (D-1) is dimethyl adipate, diisopropyl adipate, dibutyl maleate, dimethyl sebacate, diisobutyl adipate, diethyl sebacate, diisopropyl sebacate , Flux composition, characterized in that at least one selected from dibutyl sebacate and dioctyl sebacate. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 베이스 수지 (A)는 (A-1) 로진계 수지 및 (A-2) 합성 수지 중 적어도 한쪽을 포함하고,
상기 합성 수지 (A-2)는 아크릴 수지, 스티렌-말레산 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 페녹시 수지, 테르펜 수지, 폴리알킬렌카르보네이트 및 카르복실기를 갖는 로진계 수지와 다이머산 유도체 유연성 알코올 화합물을 탈수 축합하여 이루어지는 유도체 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 7, wherein the base resin (A) contains at least one of (A-1) rosin-based resin and (A-2) synthetic resin,
The synthetic resin (A-2) is an acrylic resin, a styrene-maleic acid resin, an epoxy resin, a urethane resin, a polyester resin, a phenoxy resin, a terpene resin, a polyalkylene carbonate, and a rosin resin having a carboxyl group and a dimer. A flux composition, characterized in that it is at least one selected from the group consisting of derivative compounds obtained by dehydrating condensation of an acid derivative flexible alcohol compound.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 플럭스 조성물과, 땜납 합금 분말을 포함하는 것을 특징으로 하는 솔더 페이스트 조성물.A solder paste composition comprising the flux composition according to any one of claims 1 to 7, and a solder alloy powder. 제8항에 기재된 플럭스 조성물과, 땜납 합금 분말을 포함하는 것을 특징으로 하는 솔더 페이스트 조성물.A solder paste composition comprising the flux composition according to claim 8 and a solder alloy powder. 제9항에 있어서, 상기 땜납 합금 분말은 Ag을 2질량% 이상 3.1질량% 이하, Cu를 0질량% 초과 1질량% 이하, Sb을 1질량% 이상 5질량% 이하, Bi를 0.5질량% 이상 4.5질량% 이하, Ni을 0.01질량% 이상 0.25질량% 이하 포함하고, 잔부가 Sn으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 솔더 페이스트 조성물.The method according to claim 9, wherein the solder alloy powder contains Ag of 2% by mass or more and 3.1% by mass or less, Cu of 0% by mass or more and 1% by mass or less, Sb of 1% by mass or more and 5% by mass or less, and Bi is 0.5% by mass or more. A solder paste composition characterized in that it contains 4.5% by mass or less, 0.01% by mass or more and 0.25% by mass or less of Ni, and the remainder is made of Sn. 제10항에 있어서, 상기 땜납 합금 분말은 Ag을 2질량% 이상 3.1질량% 이하, Cu를 0질량% 초과 1질량% 이하, Sb을 1질량% 이상 5질량% 이하, Bi를 0.5질량% 이상 4.5질량% 이하, Ni을 0.01질량% 이상 0.25질량% 이하 포함하고, 잔부가 Sn으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 솔더 페이스트 조성물.The method according to claim 10, wherein the solder alloy powder contains Ag of 2% by mass or more and 3.1% by mass or less, Cu of 0% by mass or more and 1% by mass or less, Sb of 1% by mass or more and 5% by mass or less, and Bi is 0.5% by mass or more. A solder paste composition comprising 4.5% by mass or less, 0.01% by mass or more and 0.25% by mass or less of Ni, and the remainder is made of Sn. 제11항에 있어서, 상기 땜납 합금 분말은 Co를 0.001질량% 이상 0.25질량% 이하 더 포함하는 것을 특징으로 하는 솔더 페이스트 조성물.The solder paste composition according to claim 11, wherein the solder alloy powder further contains 0.001% by mass or more and 0.25% by mass or less of Co. 제12항에 있어서, 상기 땜납 합금 분말은 Co를 0.001질량% 이상 0.25질량% 이하 더 포함하는 것을 특징으로 하는 솔더 페이스트 조성물.The solder paste composition according to claim 12, wherein the solder alloy powder further contains 0.001% by mass or more and 0.25% by mass or less of Co. 제9항에 기재된 솔더 페이스트 조성물을 사용하여 형성된 땜납 접합체를 갖는 것을 특징으로 하는 전자 회로 기판.An electronic circuit board comprising a solder joint formed using the solder paste composition according to claim 9. 제10항에 기재된 솔더 페이스트 조성물을 사용하여 형성된 땜납 접합체를 갖는 것을 특징으로 하는 전자 회로 기판.An electronic circuit board comprising a solder joint formed using the solder paste composition according to claim 10. 제11항에 기재된 솔더 페이스트 조성물을 사용하여 형성된 땜납 접합체를 갖는 것을 특징으로 하는 전자 회로 기판.An electronic circuit board comprising a solder joint formed using the solder paste composition according to claim 11. 제12항에 기재된 솔더 페이스트 조성물을 사용하여 형성된 땜납 접합체를 갖는 것을 특징으로 하는 전자 회로 기판.An electronic circuit board comprising a solder joint formed using the solder paste composition according to claim 12. 제13항에 기재된 솔더 페이스트 조성물을 사용하여 형성된 땜납 접합체를 갖는 것을 특징으로 하는 전자 회로 기판.An electronic circuit board comprising a solder joint formed using the solder paste composition according to claim 13. 제14항에 기재된 솔더 페이스트 조성물을 사용하여 형성된 땜납 접합체를 갖는 것을 특징으로 하는 전자 회로 기판.An electronic circuit board comprising a solder joint formed using the solder paste composition according to claim 14.
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