KR20190024866A - Flux compositions, solder paste compositions and electronic circuit boards - Google Patents

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Abstract

리플로우 납땜 시의 보이드 발생을 억제하면서 납땜 후의 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있는 플럭스 조성물 및 솔더 페이스트 조성물의 제공을 그 목적으로 한다. 당해 목적을 달성하기 위해 본 발명의 플럭스 조성물은, 땜납 합금 분말과 혼합하여 솔더 페이스트 조성물을 구성하는 플럭스 조성물이며, (A) 베이스 수지와, (B) 활성제와, (C) 틱소제와, (D) 용제를 포함하고, 상기 용제 (D)로서 (D-1) 카르복실기 및 히드록실기 중 어느 것도 갖지 않는 유기산 에스테르를 포함하고, 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도+50℃ 이하이고, 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 배합량은 상기 용제 (D) 전량에 대하여 10질량% 내지 100질량%인 것을 그 특징으로 한다.It is an object of the present invention to provide a flux composition and a solder paste composition capable of suppressing the occurrence of voids during reflow soldering while suppressing stickiness of flux residue after soldering. In order to accomplish the object, the flux composition of the present invention is a flux composition constituting a solder paste composition by mixing with a solder alloy powder, wherein the flux composition comprises (A) a base resin, (B) an activator, (C) (D-1) an organic acid ester having neither a carboxyl group nor a hydroxyl group, wherein the organic acid ester (D-1) is used as the solvent (D) The melting point of the solder alloy constituting the solder alloy powder is not more than 50 DEG C and the amount of the organic acid ester (D-1) is not more than 180 DEG C, ) Is 10% by mass to 100% by mass with respect to the whole amount.

Description

플럭스 조성물, 솔더 페이스트 조성물 및 전자 회로 기판Flux compositions, solder paste compositions and electronic circuit boards

본 발명은 플럭스 조성물, 솔더 페이스트 조성물 및 이것을 사용하여 형성된 땜납 접합체를 갖는 전자 회로 기판에 관한 것이다.The present invention relates to an electronic circuit board having a flux composition, a solder paste composition and a solder joint formed using the composition.

종래, 프린트 배선판이나 실리콘 웨이퍼 등의 기판 위에 형성되는 전자 회로에 전자 부품을 접합하기 위해서는, 플럭스와 땜납 합금 분말을 혼합한 솔더 페이스트 조성물을 기판 위에 인쇄하고, 소정의 위치에 전자 부품을 탑재하여 이것을 리플로우로 등의 가열로 땜납 접합부를 형성하는 방법이 범용적으로 사용되고 있다(이하, 이 방법을 「리플로우 납땜법」이라고 함).Conventionally, in order to bond an electronic component to an electronic circuit formed on a substrate such as a printed wiring board or a silicon wafer, a solder paste composition in which a flux and a solder alloy powder are mixed is printed on a substrate, (Hereinafter referred to as " reflow soldering method ") is generally used as a method of forming a solder joint portion by heating with a reflow furnace or the like.

리플로우 납땜법은 미리 결정된 형태로 성형된 땜납을 사용한 납땜법과 비교하여, 형성된 땜납 접합부에 보이드가 발생하기 쉽다는 결점이 있다. 이 보이드의 발생의 주된 원인은 솔더 페이스트 조성물에 포함되는 땜납 합금 분말이 용융되어 응집될 때에 플럭스 조성물에 포함되는 성분, 특히 휘발성의 용제가 빠르게 응집되는 땜납으로부터 배출되지 않는 데 있다.The reflow soldering method is disadvantageous in that voids are liable to occur in the formed solder joint portions as compared with the soldering method using the solder molded in a predetermined form. The main cause of the generation of this void is that the components contained in the flux composition, especially the volatile solvent, are not discharged from the rapidly agglomerating solder when the solder alloy powder contained in the solder paste composition melts and agglomerates.

근년의 전자 부품의 소형화에 수반하는 패드의 미세화나 전자 부품의 고기능화에 의한 발열량의 증가에 의해, 그때까지는 허용되었던 보이드가 부품의 방열 저해나 접합 신뢰성의 저하에 영향을 미치게 되었다. 예를 들어, 3.2㎜×1.6㎜ 사이즈의 칩 부품에 있어서, 그 전극 아래에 직경 200㎛의 보이드가 2개소 발생한 경우와 직경 300㎛의 보이드가 2개소 발생한 경우, 보이드가 없는 경우에 비해 그 땜납 접합부의 접합 수명은 각각 0.85배, 0.63배 저하되는 것이 보고되어 있다. 이와 같이 땜납 접합부에 있어서의 보이드의 발생은 전자 기기나 전자 부품의 신뢰성을 현저하게 손상시킬 우려가 있다.In recent years, due to miniaturization of pads accompanying miniaturization of electronic parts and increase of heat generation due to high functioning of electronic parts, voids allowed so far have influenced heat dissipation inhibition of parts and deterioration of joint reliability. For example, in the case of a chip component having a size of 3.2 mm x 1.6 mm, when two voids having a diameter of 200 mu m are generated under the electrode and two voids having a diameter of 300 mu m are generated, It is reported that the joint life of the joint is reduced by 0.85 times and 0.63 times, respectively. The occurrence of voids in the solder joint portion in this manner may significantly impair the reliability of electronic devices and electronic components.

이와 같은 보이드의 저감 방법으로서, 종래, 사용하는 플럭스 조성물에 적정량의 활성제를 배합하여, 땜납 용융 시의 유동성을 향상시켜 땜납 내부에 발생한 가스를 배출하는 방법이 사용되고 있었다. 그러나 이와 같은 활성제는 땜납 합금 분말과 플럭스 조성물을 혼합한 시점부터 반응이 개시되어, 솔더 페이스트 조성물의 사용 단계에서는 이미 그 활성력이 어느 정도 소비된 상태에 있다. 따라서 이 경우, 특히 전술한 바와 같은 미세화 패드를 갖는 전자 부품에 있어서는 납땜 시의 충분한 습윤성을 확보하는 것이 어려워, 응집되는 땜납으로부터의 가스의 배출은 어려워진다.As a method for reducing such voids, a method has been used in which a proper amount of an activator is mixed with a flux composition to be used to improve the fluidity at the time of melting the solder, thereby discharging gas generated inside the solder. However, such an activator is initiated from the time when the solder alloy powder and the flux composition are mixed, and the active power is already consumed to some extent at the use stage of the solder paste composition. Therefore, in this case, especially in the case of the electronic part having the miniaturization pad as described above, it is difficult to ensure sufficient wettability in soldering, and discharge of gas from the solder to be agglomerated becomes difficult.

이것을 해결하는 방법으로서, 땜납 합금 분말과의 반응에 의한 활성력의 소비분에 상당하는 활성제를 미리 플럭스 조성물에 배합하여 고활성으로 하여, 땜납 용융 시의 유동성을 향상시키는 방법을 들 수 있다. 그러나 고활성을 위해 활성제를 증량하면 납땜 후에 기판 위에 잔류하는 플럭스 잔사의 절연성이 저하되기 때문에, 이에 의해 부품 단자간의 단락이 일어날 우려가 있다.As a method for solving this problem, there is a method in which an activator corresponding to the consumption of the active power by reaction with the solder alloy powder is added to the flux composition in advance to make it highly active to improve the fluidity at the time of melting the solder. However, if the activator is increased for high activity, the insulating property of the flux residue remaining on the substrate after soldering is lowered, thereby causing a short circuit between the component terminals.

또한, 상술한 보이드의 발생을 저감시키는 다른 방법으로서, 가열 중의 프리 히트의 단계에서 완전히 휘발되어 버리는 용제를 플럭스 조성물에 배합하는 방법을 들 수 있다. 통상, 용제는 솔더 페이스트 조성물을 적정한 점도로 조정하여, 그 인쇄성을 높이기 위해 사용된다. 그로 인해, 기판 위로의 솔더 페이스트 조성물의 인쇄가 완료되면, 용제는 불필요한 성분이 된다.As another method for reducing the generation of voids described above, there is a method of blending the flux composition with a solvent which is completely volatilized during the preheating step during heating. Usually, the solvent is used to adjust the solder paste composition to a proper viscosity and to improve the printability thereof. Thereby, when the printing of the solder paste composition on the substrate is completed, the solvent becomes an unnecessary component.

그러나, 이와 같은 휘발되기 쉬운 용제를 사용하는 경우, 솔더 페이스트 조성물이 메탈 마스크 위에서 건조되기 쉬워지기 때문에 연속 인쇄의 과정에서 증점하여, 메탈 마스크의 개구부 막힘 및 인쇄 누락 불량을 일으킬 우려가 있다.However, when such a volatile solvent is used, the solder paste composition tends to be dried on the metal mask, thereby increasing the viscosity of the solder paste in the course of the continuous printing, thereby causing clogging of openings in the metal mask and poor printing.

또한 리플로우 납땜에 있어서의 보이드의 발생을 저감시키는 다른 방법으로서, 플럭스에 함유되는 용제의 70질량% 이상을 TG법에 의한 측정으로 감량률이 15질량%가 되는 온도(TG-15 온도)가 땜납의 용융 피크 온도보다 5℃ 이상 고온이 되는 용제를 사용한 솔더 페이스트가 제안되어 있다(특허문헌 1 참조). 당해 용제는 땜납이 용융될 때까지 기화하는 양이 최대라도 15질량%보다 적다. 그 때문에 솔더 페이스트가 완전히 용융되어 땜납이 습윤성을 나타낸 후에 그 기화가 왕성해지기 때문에, 용제는 용융 땜납으로부터 배출되기 쉽고, 따라서 보이드의 발생이 억제되는 것이다.Further, as another method for reducing the generation of voids in reflow soldering, a method in which 70% by mass or more of the solvent contained in the flux is heated to a temperature (TG-15 temperature) at which the weight loss rate becomes 15 mass% There has been proposed a solder paste using a solvent which is 5 ° C or more higher than the melting peak temperature of the solder (see Patent Document 1). The amount of the solvent vaporized until the solder melts is at most 15% by mass or less. Therefore, since the solder paste is completely melted and the solder exhibits wettability, vaporization becomes strong, so that the solvent is likely to be discharged from the molten solder, thereby suppressing the generation of voids.

그러나 이와 같은 용제는 리플로우 가열 중에 일부밖에 용제가 기화되지 않은 경우나 실질적으로 전혀 기화되지 않은 경우, 용제 이외의 기화되지 않은 플럭스 성분(예: 수지, 틱소제, 활성제 등)과 함께 플럭스 잔사로서 땜납 접합부 주변에 잔류해 버린다. 용제가 포함된 플럭스 잔사는 끈적거리는 성질을 갖기 때문에 대기 중의 먼지나 티끌이 부착되기 쉽다. 이와 같은 먼지 등이 부착된 플럭스 잔사는 절연성이 저하되기 때문에, 그 신뢰성을 현저하게 손상시킬 우려가 있다.However, such a solvent may be used as a flux residue together with an unvaporized flux component other than the solvent (for example, a resin, a tin scavenger, an activator, etc.) when the solvent is only partially vaporized during reflow heating or substantially no vaporization And remains around the solder joint. Since the flux residue containing the solvent has a sticky nature, dust or dirt in the atmosphere tends to adhere to the atmosphere. Such flux residues with such dust or the like are deteriorated in insulation property, and therefore, there is a fear that the reliability thereof may be remarkably impaired.

또한, 플럭스 잔사는 납땜 후에 세정제에 의한 세정으로 제거할 수도 있다. 그러나 근년에는 비용면, 환경면 등의 관점에서 무세정 타입의 솔더 페이스트 조성물이 널리 사용되고 있어, 보이드 발생을 억제하면서 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있는 솔더 페이스트 조성물의 중요성은 점점 높아지고 있다.Further, the flux residue may be removed by washing with a cleaning agent after soldering. In recent years, however, the non-cleaning type solder paste composition has been widely used from the viewpoints of cost, environment, and the like, and the solder paste composition capable of suppressing stickiness of flux residue while suppressing occurrence of voids is increasingly important.

일본 특허 제4458043호 공보Japanese Patent No. 4458043

본 발명은 상기 과제를 해결하는 것이며, 특히 리플로우 납땜 시의 보이드 발생을 억제하면서 납땜 후의 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있는 플럭스 조성물 및 솔더 페이스트 조성물을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a flux composition and a solder paste composition capable of suppressing stickiness of flux residue after soldering while suppressing generation of voids during reflow soldering.

(1) 본 발명의 플럭스 조성물은, 땜납 합금 분말과 혼합하여 솔더 페이스트 조성물을 구성하는 것이며, (A) 베이스 수지와, (B) 활성제와, (C) 틱소제와, (D) 용제를 포함하고, 상기 용제 (D)로서 (D-1) 카르복실기 및 히드록실기 중 어느 것도 갖지 않는 유기산 에스테르를 포함하고, 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도+50℃ 이하이고, 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 배합량은 상기 용제 (D) 전량에 대하여 10질량% 내지 100질량%인 것을 그 특징으로 한다.(1) The flux composition of the present invention comprises a base resin, (B) an activator, (C) a tin agent, and (D) a solvent, wherein the solder paste composition is composed of a solder paste composition by mixing with a solder alloy powder (D-1) an organic acid ester having neither a carboxyl group nor a hydroxyl group as the solvent (D), wherein the weight loss rate (measured by the TG method) of the organic acid ester (D-1) (D-1) is in the range of 10 to 10% by mass with respect to the total amount of the solvent (D), and the melting point temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder is + By mass to 100% by mass.

(2) 상기 (1)에 기재된 구성에 있어서, 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도가 130℃ 이상 175℃ 미만인 경우에 있어서의 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 225℃ 미만인 것을 그 특징으로 한다.(2) In the constitution described in (1) above, the weight loss rate (TG) of the organic acid ester (D-1) in the case where the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder is 130 캜 or more and less than 175 캜 Method) is at least 180 ° C and less than 225 ° C.

(3) 상기 (1)에 기재된 구성에 있어서, 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도가 175℃ 이상 200℃ 미만인 경우에 있어서의 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 250℃ 미만인 것을 그 특징으로 한다.(3) The composition according to (1) above, wherein the melting rate (TG) of the organic acid ester (D-1) in the case where the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder is 175 캜 or more and less than 200 캜 Method) is not less than 180 占 폚 and less than 250 占 폚.

(4) 상기 (1)에 기재된 구성에 있어서, 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도가 200℃ 이상인 경우에 있어서의 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 상기 용융 피크 온도+50℃ 이하인 것을 그 특징으로 한다.(4) The method according to (1) above, wherein the weight loss rate of the organic acid ester (D-1) when the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder is 200 ° C or higher ) Is not less than 180 占 폚 and the melting peak temperature is not more than +50 占 폚.

(5) 상기 (2)에 기재된 구성에 있어서, 상기 유기산 에스테르 (D-1)은 아디프산디메틸 및 말레산디부틸 중 적어도 한쪽인 것을 그 특징으로 한다.(5) In the structure described in (2) above, the organic acid ester (D-1) is at least one of dimethyl adipate and dibutyl maleate.

(6) 상기 (3)에 기재된 구성에 있어서, 상기 유기산 에스테르 (D-1)은 아디프산디메틸, 아디프산디이소프로필, 말레산디부틸, 세바스산디메틸, 아디프산디이소부틸 및 세바스산디에틸에서 선택되는 적어도 1종인 것을 그 특징으로 한다.(6) The composition according to (3), wherein the organic acid ester (D-1) is selected from the group consisting of dimethyl adipate, diisopropyl adipate, dibutyl maleate, dimethyl sebacate, diisobutyl adipate, Ethyl, and the like.

(7) 상기 (4)에 기재된 구성에 있어서, 상기 유기산 에스테르 (D-1)은 아디프산디메틸, 아디프산디이소프로필, 말레산디부틸, 세바스산디메틸, 아디프산디이소부틸, 세바스산디에틸, 세바스산디이소프로필, 세바스산디부틸 및 세바스산디옥틸에서 선택되는 적어도 1종인 것을 그 특징으로 한다.(7) The composition according to (4), wherein the organic acid ester (D-1) is selected from the group consisting of dimethyl adipate, diisopropyl adipate, dibutyl maleate, dimethyl sebacate, diisobutyl adipate, Ethyl, diisopropyl sebacate, dibutyl sebacate, and di-octyl sebacate.

(8) 상기 (1) 내지 (7) 중 어느 하나에 기재된 구성에 있어서, 상기 베이스 수지 (A)는 (A-1) 로진계 수지 및 (A-2) 합성 수지 중 적어도 한쪽을 포함하고, 상기 합성 수지 (A-2)는 아크릴 수지, 스티렌-말레산 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 페녹시 수지, 테르펜 수지, 폴리알킬렌카르보네이트 및 카르복실기를 갖는 로진계 수지와 다이머산 유도체 유연성 알코올 화합물을 탈수 축합하여 이루어지는 유도체 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 것을 그 특징으로 한다.(8) The composition according to any one of (1) to (7) above, wherein the base resin (A) comprises at least one of a rosin resin (A- The synthetic resin (A-2) can be obtained by mixing a rosin-based resin having an acrylic resin, a styrene-maleic acid resin, an epoxy resin, a urethane resin, a polyester resin, a phenoxy resin, a terpene resin, a polyalkylene carbonate, And a derivative compound obtained by dehydrating condensation of an acid derivative flexible alcohol compound.

(9) 본 발명의 솔더 페이스트 조성물은, 상기 (1) 내지 (8) 중 어느 하나에 기재된 플럭스 조성물과, 땜납 합금 분말을 포함하는 것을 그 특징으로 한다.(9) The solder paste composition of the present invention is characterized by comprising the flux composition according to any one of (1) to (8) and a solder alloy powder.

(10) 상기 (9)에 기재된 구성에 있어서, 상기 땜납 합금 분말은 Ag을 2질량% 이상 3.1질량% 이하, Cu를 0질량% 초과 1질량% 이하, Sb을 1질량% 이상 5질량% 이하, Bi를 0.5질량% 이상 4.5질량% 이하, Ni을 0.01질량% 이상 0.25질량% 이하 포함하고, 잔부가 Sn으로 이루어지는 것을 그 특징으로 한다.(10) The solder alloy powder according to the above (9), wherein the solder alloy powder contains 2 mass% or more and 3.1 mass% or less of Ag, 0 mass% or more and 1 mass% or less of Cu, 1 mass% or more and 5 mass% 0.5 to 4.5% by mass of Bi, 0.01 to 0.25% by mass of Ni, and the remainder being Sn.

(11) 상기 (10)에 기재된 구성에 있어서, 상기 땜납 합금 분말은 Co를 0.001질량% 이상 0.25질량% 이하 더 포함하는 것을 그 특징으로 한다.(11) In the structure described in (10) above, the solder alloy powder further contains Co in an amount of 0.001 mass% or more and 0.25 mass% or less.

(12) 본 발명의 전자 회로 기판은, 상기 (9) 내지 (11) 중 어느 하나에 기재된 솔더 페이스트 조성물을 사용하여 형성된 땜납 접합체를 갖는 것을 그 특징으로 한다.(12) The electronic circuit board of the present invention is characterized by having a solder joint body formed by using the solder paste composition according to any one of (9) to (11).

본 발명에 따르면, 특히 리플로우 납땜 시의 보이드 발생을 억제하면서 납땜 후의 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있는 플럭스 조성물 및 솔더 페이스트 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a flux composition and a solder paste composition capable of suppressing stickiness of flux residues after soldering, in particular, while suppressing generation of voids during reflow soldering.

본 발명의 플럭스 조성물, 솔더 페이스트 조성물 및 전자 회로 기판의 일 실시 형태를 이하에 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명이 이들 실시 형태에 한정되지 않는 것은 물론이다.One embodiment of the flux composition, solder paste composition and electronic circuit board of the present invention will be described in detail below. Needless to say, the present invention is not limited to these embodiments.

(1) 플럭스 조성물(1) Flux composition

본 실시 형태의 플럭스 조성물은, (A) 베이스 수지와, (B) 활성제와, (C) 틱소제와, (D) 용제를 포함한다.The flux composition of the present embodiment comprises (A) a base resin, (B) an activator, (C) a tin agent, and (D) a solvent.

(A) 베이스 수지(A) Base resin

상기 베이스 수지 (A)로서는, 예를 들어 (A-1) 로진계 수지 및 (A-2) 합성 수지 중 적어도 한쪽을 사용하는 것이 바람직하다.As the base resin (A), for example, it is preferable to use at least one of (A-1) a rosin-based resin and (A-2) a synthetic resin.

상기 로진계 수지 (A-1)로서는, 예를 들어 톨유 로진, 검 로진, 우드 로진 등의 로진; 로진을 중합화, 수소 첨가화, 불균일화, 아크릴화, 말레화, 에스테르화 혹은 페놀 부가 반응 등을 행한 로진 유도체; 이들 로진 또는 로진 유도체와 불포화 카르복실산(아크릴산, 메타크릴산, 무수 말레산, 푸마르산 등)을 딜스-알더 반응시켜 얻어지는 변성 로진 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히 변성 로진 수지가 바람직하게 사용되고, 아크릴산을 반응시켜 수소 첨가한 수소 첨가 아크릴산 변성 로진 수지가 특히 바람직하게 사용된다. 또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the rosin-based resin (A-1) include rosins such as tall oil rosin, gum rosin, and wood rosin; Rosin derivatives in which rosin is polymerized, hydrogenated, heterogenized, acrylated, maleized, esterified or subjected to phenol addition reaction; And modified rosin resins obtained by subjecting these rosin or rosin derivatives and unsaturated carboxylic acids (acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, etc.) to a Diels-Alder reaction. Of these, a modified rosin resin is preferably used, and a hydrogenated acrylic acid modified rosin resin obtained by reacting acrylic acid with hydrogen to be added is particularly preferably used. These may be used singly or in combination of plural kinds.

또한, 상기 로진계 수지 (A-1)의 산가는 140㎎KOH/g 내지 350㎎KOH/g인 것이 바람직하고, 그의 중량 평균 분자량은 200Mw 내지 1,000Mw인 것이 바람직하다.The acid value of the rosin-based resin (A-1) is preferably 140 mgKOH / g to 350 mgKOH / g, and the weight average molecular weight thereof is preferably 200 MW to 1,000 MW.

상기 합성 수지 (A-2)로서는, 예를 들어 아크릴 수지, 스티렌-말레산 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 페녹시 수지, 테르펜 수지, 폴리알킬렌카르보네이트 및 카르복실기를 갖는 로진계 수지와 다이머산 유도체 유연성 알코올 화합물을 탈수 축합하여 이루어지는 유도체 화합물을 들 수 있다. 또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the synthetic resin (A-2) include acrylic resin, styrene-maleic acid resin, epoxy resin, urethane resin, polyester resin, phenoxy resin, terpene resin, polyalkylene carbonate and rosin having a carboxyl group Based resin and a derivative compound obtained by dehydrating condensation of a dimeric acid derivative flexible alcohol compound. These may be used singly or in combination of plural kinds.

상기 아크릴 수지는, 예를 들어 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트를 단중합, 또는 당해 아크릴레이트를 주성분으로 하는 단량체를 공중합함으로써 얻어진다. 이와 같은 아크릴 수지 중에서도, 특히 메타크릴산과 탄소쇄가 직쇄상인 탄소수 2 내지 20의 포화 알킬기를 2개 갖는 단량체를 포함하는 단량체류를 중합하여 얻어지는 아크릴 수지가 바람직하게 사용된다. 또한 당해 아크릴 수지는 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.The acrylic resin is obtained, for example, by polymerizing a (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or by copolymerizing a monomer containing the acrylate as a main component. Of these acrylic resins, an acrylic resin obtained by polymerizing monomers containing a monomer having two saturated alkyl groups having 2 to 20 carbon atoms, in which methacrylic acid and a carbon chain are straight-chain, is preferably used. The acrylic resin may be used singly or in combination of plural kinds.

상기 에폭시 수지로서는, 그 말단에 반응성의 에폭시기를 갖는 열경화형의 수지라면 모두 사용할 수 있고, 예를 들어 비스페놀 A형, 비스페놀 F형, 비스페놀 S형, 비페닐형, 나프탈렌형, 크레졸 노볼락형, 페놀 노볼락형, 브롬화 비스페놀 A형, 수소 첨가 비스페놀 A형, 비스페놀 AF형, 플루오렌형, 글리시딜에테르형, 글리시딜에스테르형, 글리시딜아민형, 지환형 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.As the epoxy resin, any thermosetting resin having a reactive epoxy group at the terminal thereof can be used. For example, bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type, biphenyl type, naphthalene type, cresol novolak type, Phenol novolak type, brominated bisphenol A type, hydrogenated bisphenol A type, bisphenol AF type, fluorene type, glycidyl ether type, glycidyl ester type, glycidylamine type, alicyclic type epoxy resin have. These may be used singly or in combination of plural kinds.

상기 우레탄 수지로서는, 예를 들어 1분자 중에 복수의 이소시아네이트기를 갖는 화합물과 1분자 중에 2개 이상의 히드록실기를 갖는 폴리올 화합물을 반응시켜 얻어지는 것이라면 모두 사용할 수 있고, 그 중에서도 특히 지방족 성분, 방향족 성분을 포함하는 폴리우레탄 수지가 바람직하게 사용된다. 또한 당해 우레탄 수지는 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.The urethane resin can be any resin as long as it can be obtained, for example, by reacting a compound having a plurality of isocyanate groups in one molecule with a polyol compound having two or more hydroxyl groups in one molecule. Among these, aliphatic and aromatic components Is preferably used. The urethane resin may be used singly or in combination of plural kinds.

상기 폴리에스테르 수지로서는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리트리메틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌나프탈레이트 등을 들 수 있다. 또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the polyester resin include polyethylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate and the like. These may be used singly or in combination of plural kinds.

상기 페녹시 수지로서는, 예를 들어 비스페놀 A형 페녹시 수지, 비스페놀 F형 페녹시 수지 등을 들 수 있다. 또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the phenoxy resin include a bisphenol A type phenoxy resin and a bisphenol F type phenoxy resin. These may be used singly or in combination of plural kinds.

상기 폴리알킬렌카르보네이트로서는, 예를 들어 폴리에틸렌카르보네이트, 폴리프로필렌카르보네이트, 폴리부텐카르보네이트, 폴리이소부텐카르보네이트, 폴리펜텐카르보네이트, 폴리헥센카르보네이트, 폴리시클로펜텐카르보네이트, 폴리시클로헥센카르보네이트, 폴리시클로헵텐카르보네이트, 폴리시클로옥텐카르보네이트, 폴리리모넨카르보네이트 등을 폴리프로필렌카르보네이트, 폴리부틸렌카르보네이트 등을 들 수 있다. 또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the polyalkylene carbonate include polyethylene carbonate, polypropylene carbonate, polybutene carbonate, polyisobutene carbonate, polypentene carbonate, polyhexene carbonate, polycyclo There may be mentioned polypropylene carbonate, polybutylene carbonate and the like, such as polytetrafluoroethylene, polytetrafluoroethylene, pentene carbonate, polycyclohexene carbonate, polycycloheptene carbonate, polycyclooctenecarbonate and polyimonenecarbonate . These may be used singly or in combination of plural kinds.

상기 카르복실기를 갖는 로진계 수지와 다이머산 유도체 유연성 알코올 화합물을 탈수 축합하여 이루어지는 유도체 화합물(이하, 「로진 유도체 화합물」이라고 함)에 대하여, 우선 카르복실기를 갖는 로진계 수지로서는, 예를 들어 톨유 로진, 검 로진, 우드 로진 등의 로진; 수소 첨가 로진, 중합 로진, 불균일화 로진, 아크릴산 변성 로진, 말레산 변성 로진 등의 로진 유도체 등을 들 수 있고, 이들 이외에도 카르복실기를 갖는 로진이라면 사용할 수 있다. 또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the rosin-based resin having a carboxyl group for a derivative compound (hereinafter referred to as a " rosin derivative compound ") obtained by dehydration condensation of a rosin-based resin having a carboxyl group and a dimeric acid derivative-compliant alcohol compound include tall oil rosin, Rosins such as gum rosin, wood rosin and the like; Rosin derivatives such as hydrogenated rosin, polymerized rosin, heterogenized rosin, acrylic acid modified rosin and maleic acid modified rosin, and the like, and in addition to these, rosins having a carboxyl group can be used. These may be used singly or in combination of plural kinds.

이어서 상기 다이머산 유도체 유연성 알코올 화합물로서는, 예를 들어 다이머디올, 폴리에스테르폴리올, 폴리에스테르다이머디올과 같은 다이머산으로부터 유도되는 화합물이며, 그 말단에 알코올기를 갖는 것 등을 들 수 있고, 예를 들어 PRIPOL2033, PRIPLAST3197, PRIPLAST1838(이상, 구로다 재팬(주)제) 등을 사용할 수 있다.Examples of the dimeric acid derivative flexible alcohol compound include compounds derived from a dimer acid such as dimer diol, polyester polyol and polyester dimer diol, and having an alcohol group at the terminal thereof. For example, PRIPOL2033, PRIPLAST3197, PRIPLAST1838 (manufactured by Kuroda Japan K.K.) and the like can be used.

상기 로진 유도체 화합물은 상기 카르복실기를 갖는 로진계 수지와 상기 다이머산 유도체 유연성 알코올 화합물을 탈수 축합함으로써 얻어진다. 이 탈수 축합의 방법으로서는 일반적으로 사용되는 방법을 사용할 수 있다. 또한, 상기 카르복실기를 갖는 로진계 수지와 상기 다이머산 유도체 유연성 알코올 화합물을 탈수 축합할 때의 바람직한 중량 비율은 각각 25:75 내지 75:25이다.The rosin derivative compound is obtained by dehydration condensation of the rosin-based resin having a carboxyl group and the dimeric acid derivative flexible alcohol compound. As a method of this dehydration condensation, a commonly used method can be used. The weight ratio of the rosin-based resin having a carboxyl group to the dimeric acid derivative flexible alcohol compound is preferably 25:75 to 75:25.

상기 합성 수지 (A-2)의 산가는 0㎎KOH/g 내지 150㎎KOH/g인 것이 바람직하고, 그의 중량 평균 분자량은 1,000Mw 내지 30,000Mw인 것이 바람직하다.The acid value of the synthetic resin (A-2) is preferably 0 mgKOH / g to 150 mgKOH / g, and the weight average molecular weight thereof is preferably 1,000 Mw to 30,000 Mw.

또한 상기 베이스 수지 (A)의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 10질량% 이상 60질량% 이하인 것이 바람직하고, 30질량% 이상 55질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.The blending amount of the base resin (A) is preferably 10% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 30% by mass or more and 55% by mass or less based on the whole amount of the flux composition.

상기 로진계 수지 (A-1)을 단독으로 사용하는 경우, 그의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 10질량% 이상 50질량% 이하인 것이 바람직하고, 15질량% 이상 45질량% 이하인 것이 더욱 바람직한다. 로진계 수지 (A-1)의 배합량을 이 범위로 함으로써, 양호한 납땜성 및 적당한 플럭스 잔사량으로 할 수 있다.When the rosin-based resin (A-1) is used alone, the blending amount thereof is preferably 10% by mass or more and 50% by mass or less, more preferably 15% by mass or more and 45% by mass or less based on the whole amount of the flux composition. By setting the blending amount of the rosin-based resin (A-1) within this range, good solderability and an appropriate flux residue amount can be obtained.

또한 상기 합성 수지 (A-2)를 단독으로 사용하는 경우, 그의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 10질량% 이상 60질량% 이하인 것이 바람직하고, 15질량% 이상 50질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.When the synthetic resin (A-2) is used alone, its blending amount is preferably 10% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 15% by mass or more and 50% by mass or less based on the whole amount of the flux composition.

또한 상기 로진계 수지 (A-1)과 상기 합성 수지 (A-2)를 병용하는 경우, 그 배합 비율은 20:80 내지 50:50인 것이 바람직하고, 25:75 내지 40:60인 것이 보다 바람직하다.When the rosin-based resin (A-1) and the synthetic resin (A-2) are used in combination, the blending ratio thereof is preferably 20:80 to 50:50, more preferably 25:75 to 40:60 desirable.

(B) 활성제(B) Activator

상기 활성제 (B)로서는, 예를 들어 카르복실산류, 할로겐을 포함하는 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the activator (B) include carboxylic acids, compounds containing a halogen, and the like. These may be used singly or in combination of plural kinds.

상기 카르복실산류로서는, 예를 들어 모노카르복실산, 디카르복실산 등, 그리고 그 밖의 유기산을 들 수 있다.Examples of the carboxylic acids include monocarboxylic acids and dicarboxylic acids, and other organic acids.

상기 모노카르복실산으로서는, 예를 들어 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 카프로산, 에난트산, 카프르산, 라우르산, 미리스트산, 펜타데실산, 팔미트산, 마르가르산, 스테아르산, 투베르쿨로스테아르산, 아라키드산, 베헨산, 리그노세르산, 글리콜산 등을 들 수 있다.Examples of the monocarboxylic acid include monocarboxylic acids such as propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, Tallowuricostearic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, glycolic acid, and the like.

디카르복실산으로서는, 옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세바스산, 푸마르산, 말레산, 타르타르산, 디글리콜산 등을 들 수 있다.Examples of the dicarboxylic acid include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, tartaric acid and diglycolic acid.

또한 상기 그 밖의 유기산으로서는, 다이머산, 레불린산, 락트산, 아크릴산, 벤조산, 살리실산, 아니스산, 시트르산, 피콜린산 등을 들 수 있다.Examples of the other organic acids include dimer acid, levulic acid, lactic acid, acrylic acid, benzoic acid, salicylic acid, anisic acid, citric acid and picolinic acid.

또한 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.These may be used singly or in combination of plural kinds.

상기 할로겐을 포함하는 화합물로서는, 예를 들어 비해리성의 할로겐 화합물(비해리형 활성제), 해리성의 할로겐 화합물(해리형 활성제)을 들 수 있다.Examples of the halogen-containing compound include, for example, a halogen compound (comparative cyclic activator) and a dissociative halogen compound (dissociative activator).

상기 비해리형 활성제로서는, 할로겐 원자가 공유 결합에 의해 결합한 비염계의 유기 화합물을 들 수 있고, 예를 들어 염소화물, 브롬화물, 요오드화물, 불화물과 같이 염소, 브롬, 요오드, 불소의 각 단독 원소의 공유 결합에 의한 화합물이어도 되고, 또한 이의 2 이상의 상이한 할로겐 원자를 공유 결합으로 결합하는 화합물이어도 된다. 당해 화합물은 수성 용매에 대한 용해성을 향상시키기 위해, 예를 들어 할로겐화 알코올과 같이 수산기 등의 극성기를 갖는 것이 바람직하다. 당해 할로겐화 알코올로서는, 예를 들어 2,3-디브로모프로판올, 2,3-디브로모부탄디올, 1,4-디브로모-2-부탄올, 트리브로모네오펜틸알코올 등의 브롬화 알코올; 1,3-디클로로-2-프로판올, 1,4-디클로로-2-부탄올 등의 염소화 알코올; 3-플루오로카테콜 등의 불소화 알코올; 그 밖에 이들과 유사한 화합물을 들 수 있다.Examples of the non-salt type activator include non-salt organic compounds in which halogen atoms are bonded by a covalent bond, and examples thereof include chlorine, bromide, iodide and fluoride. Or may be a compound which binds two or more different halogen atoms thereof via a covalent bond. The compound is preferably a compound having a polar group such as a hydroxyl group such as a halogenated alcohol in order to improve solubility in an aqueous solvent. Examples of the halogenated alcohol include brominated alcohols such as 2,3-dibromopropanol, 2,3-dibromobutanediol, 1,4-dibromo-2-butanol and tribromonopentyl alcohol; Chlorinated alcohols such as 1,3-dichloro-2-propanol and 1,4-dichloro-2-butanol; Fluorinated alcohols such as 3-fluorocatechol; Other compounds similar to these can be mentioned.

또한 상기 해리형 활성제로서는, 예를 들어 아민, 이미다졸 등의 염기의 염화수소산염 및 브롬화수소산염을 들 수 있다. 염화수소산 및 브롬화수소산의 염의 일례로서는, 메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, n-프로필아민, 디-n-프로필아민, 트리-n-프로필아민, 이소프로필아민, 디이소프로필아민, 부틸아민, 디부틸아민, 트리부틸아민, 시클로헥실아민, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 비교적 탄소수가 작은 아민; 이미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-메틸-4-메틸이미다졸, 2-메틸-4-에틸이미다졸, 2-에틸-4-에틸이미다졸, 2-프로필이미다졸, 2-프로필-4-프로필이미다졸 등의 염화수소산염 및 브롬화수소산염 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the dissociative activator include a hydrochloride salt and a hydrobromide salt of a base such as amine and imidazole. Examples of the salts of hydrochloric acid and hydrobromic acid include salts of organic acids such as methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, n-propylamine, di-n-propylamine, Amines having relatively low carbon number such as propylamine, diisopropylamine, butylamine, dibutylamine, tributylamine, cyclohexylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine and the like; Imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-methyl-4-methylimidazole, 2-methyl-4-ethylimidazole, 2-propylimidazole, 2-propyl-4-propimidazole and the like, and hydrobromic acid salts. These may be used singly or in combination of plural kinds.

상기 활성제 (B)의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 0.1질량% 이상 30질량% 이상인 것이 바람직하고, 2질량% 이상 25질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.The blending amount of the activator (B) is preferably 0.1% by mass or more and 30% by mass or more, more preferably 2% by mass or more and 25% by mass or less based on the whole amount of the flux composition.

상기 활성제 (B)에 사용되는 상기 카르복실산류의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 1질량% 이상 25질량% 이하인 것이 바람직하고, 5질량% 이상 15질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 카르복실산류의 배합량을 이 범위로 함으로써, 솔더 볼 발생 억제 및 양호한 플럭스 조성물의 절연성을 발휘할 수 있다.The amount of the carboxylic acid to be used in the activator (B) is preferably 1% by mass or more and 25% by mass or less, more preferably 5% by mass or more and 15% by mass or less, based on the whole amount of the flux composition. When the blending amount of the carboxylic acid is within this range, it is possible to suppress the generation of solder balls and to exhibit a good flux composition insulating property.

또한 상기 활성제 (B)에 사용되는 상기 비해리형 활성제의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 0.1질량% 이상 5질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.5질량% 이상 3질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.The blending amount of the above-mentioned cyclic activator used in the activator (B) is preferably 0.1% by mass or more and 5% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or more and 3% by mass or less based on the whole amount of the flux composition.

이어서 상기 활성제 (B)에 사용되는 상기 해리형 활성제의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 0.1질량% 이상 3질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.3질량% 이상 1.5질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.The blending amount of the dissociative activator used in the activator (B) is preferably 0.1% by mass or more and 3% by mass or less, more preferably 0.3% by mass or more and 1.5% by mass or less based on the whole amount of the flux composition.

또한 상기 해리형 활성제로서 상기 아민 및 이미다졸을 각각 단체로 사용하는 경우, 그의 배합량은 각각 0.1질량% 이상 5질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.5질량% 이상 3질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.When the amines and imidazoles are separately used as the dissociative activator, the amount thereof is preferably 0.1% by mass or more and 5% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or more and 3% by mass or less.

(C) 틱소제(C) Thick slurry

상기 틱소제 (C)로서는, 예를 들어 수소 첨가 피마자유, 포화 지방산 아미드, 포화 지방산 비스아미드류, 옥시 지방산류, 디벤질리덴소르비톨류 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the thixotropic agent (C) include hydrogenated castor oil, saturated fatty acid amide, saturated fatty acid bisamides, oxy fatty acids, dibenzylidene sorbitol and the like. These may be used singly or in combination of plural kinds.

또한 상기 증점제의 배합량은 플럭스 전량에 대하여 1질량% 이상 15질량% 이하인 것이 바람직하고, 3질량% 이상 10질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.The blending amount of the thickener is preferably 1% by mass or more and 15% by mass or less, more preferably 3% by mass or more and 10% by mass or less based on the entire amount of the flux.

(D) 용제(D) Solvent

상기 용제 (D)로서는, 예를 들어 이소프로필알코올, 에탄올, 아세톤, 톨루엔, 크실렌, 아세트산에틸, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 헥실디글리콜, (2-에틸헥실)디글리콜, 페닐글리콜, 부틸카르비톨, 옥탄디올, α테르피네올, β테르피네올, 테트라에틸렌글리콜디메틸에테르, 트리멜리트산트리스(2-에틸헥실), 세바스산비스이소프로필 등을 사용할 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the solvent (D) include solvents such as isopropyl alcohol, ethanol, acetone, toluene, xylene, ethyl acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, hexyldiglycol, (2-ethylhexyl) , Butyl carbitol, octanediol, alpha terpineol, beta terpineol, tetraethylene glycol dimethyl ether, trimellitic acid tris (2-ethylhexyl), and bisisopropyl sebacate. These may be used singly or in combination of plural kinds.

본 실시 형태의 플럭스 조성물에 있어서는, 상기 용제 (D)로서 (D-1) 카르복실기 및 히드록실기 중 어느 것도 갖지 않는 유기산 에스테르를 포함하는 것이 바람직하다.In the flux composition of the present embodiment, it is preferable that the solvent (D) contains an organic acid ester having neither a carboxyl group nor a hydroxyl group (D-1).

플럭스 조성물에 사용되는 용제로서는, 카르복실기 및 히드록실기 중 어느 것을 포함하는 성분을 사용하는 것이 일반적이다. 플럭스 조성물의 성분 중 활성제는 이와 같은 용제에 용해될 때 전리되고, 이에 의해 부전하를 갖는 유기산 이온(RCOO-)이나 할로겐화물 이온이 발생한다. 상기 카르복실기 및 히드록실기는 이 이온의 주위에 배향되기 쉽고, 그 결과 이들이 용매화되어, 땜납 합금 분말과 용제의 반응이 일어난다.As the solvent used in the flux composition, it is common to use a component containing either a carboxyl group or a hydroxyl group. The active agent in the components of the flux composition is electrolyzed when dissolved in such a solvent, whereby organic acid ions (RCOO < - >) or halide ions having negative charges are generated. The carboxyl group and the hydroxyl group are liable to be oriented around the ion, and as a result, they are solvated to cause a reaction between the solder alloy powder and the solvent.

그러나 상기 유기산 에스테르 (D-1)은 상기 카르복실기 및 히드록실기 중 어느 것도 갖지 않기 때문에, 본 실시 형태의 플럭스 조성물에 있어서는 활성제 (B)로부터 전리된 이온에 배향되기 쉬운 관능기가 없고, 따라서 이들은 용매화되기 어렵다. 그로 인해, 본 실시 형태의 플럭스 조성물을 사용한 솔더 페이스트 조성물은 비가열의 보관 상태에 있어서의 땜납 합금 분말과 활성제의 반응을 억제할 수 있다.However, since the organic acid ester (D-1) does not have any of the carboxyl group and the hydroxyl group, the flux composition of the present embodiment has no functional group which is liable to be oriented to the ion ionized from the activator (B) It is difficult to plum. Therefore, the solder paste composition using the flux composition of the present embodiment can suppress the reaction between the solder alloy powder and the activator in a non-heated storage state.

이와 같이 상기 유기산 에스테르 (D-1)을 포함하는 플럭스 조성물은 솔더 페이스트 조성물의 보관 중에 있어서의 땜납 합금 분말과 활성제 (B)의 반응을 억제할 수 있기 때문에, 활성제 (B)의 활성도나 배합량을 조정하지 않아도 그 활성력은 잔존하여, 납땜 시에 있어서의 양호한 습윤성을 확보하여, 보이드의 발생을 억제할 수 있다.Since the flux composition containing the organic acid ester (D-1) can inhibit the reaction between the solder alloy powder and the activator (B) during storage of the solder paste composition, the activity and the amount of the active agent (B) The activation force remains even without adjustment, so that good wettability at the time of soldering is ensured and generation of voids can be suppressed.

또한, 가령 기판 위에 형성된 플럭스 잔사에 상기 유기산 에스테르 (D-1)이 잔존했다고 해도, 당해 유기산 에스테르 (D-1)은 상술한 바와 같이 카르복실기 및 히드록실기 중 어느 것도 갖지 않으므로 플럭스 잔사의 흡습성을 억제할 수 있기 때문에, 그 플럭스 잔사의 절연성에는 영향을 미치기 어렵다고 생각된다.Further, even if the organic acid ester (D-1) remains in the flux residue formed on the substrate, the organic acid ester (D-1) does not have any of the carboxyl group and the hydroxyl group as described above and therefore the hygroscopicity of the flux residue It is considered that it is difficult to affect the insulating property of the flux residue.

또한 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정. 구체적으로는 열중량 측정-시차 열분석 장치를 사용하여 TG 곡선을 측정하고, 이에 의해 감량률을 산출함. 이하 동일함.)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 상기 땜납 합금을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도+50℃ 이하인 것이 바람직하다. 이와 같은 유기산 에스테르 (D-1)은 기판 위에 형성되는 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있기 때문에, 당해 플럭스 잔사에 양호한 절연성을 부여할 수 있다.Further, the weight loss rate of the organic acid ester (D-1) (measured using the TG method, specifically, the TG curve was measured using a thermogravimetric-differential thermal analyzer, thereby calculating the weight loss rate. ) Is not less than 180 ° C. and the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy + 50 ° C. or less is preferable. Such an organic acid ester (D-1) can suppress stickiness of flux residues formed on the substrate, and therefore can provide good insulating properties to the flux residues.

즉, 솔더 페이스트 조성물의 일반적인 리플로우 가열 조건은 본 가열의 피크 온도를 땜납의 용융 피크 온도보다 10℃ 내지 50℃ 더 높은 온도가 되도록 설정하는 경우가 많다.That is, the general reflow heating conditions of the solder paste composition are often set so that the peak temperature of the heating is 10 ° C to 50 ° C higher than the melting peak temperature of the solder.

본 발명자들은 예의 연구한 결과, 플럭스 조성물에 상기 용제 (D)로서 180℃ 이상이며 또한 사용하는 땜납 합금의 용융 피크 온도보다 50℃ 이내의 높은 온도에서 감량률이 100질량%가 되는 상기 유기산 에스테르 (D-1)을 배합함으로써, 인쇄 시에 있어서의 메탈 마스크 위에서의 건조가 발생하기 어려워져, 안정된 연속 인쇄성을 확보할 수 있고, 또한 상기 리플로우 가열 조건에서의 보이드 발생을 억제하면서, 더욱이 형성된 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있음을 알 수 있었다.As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have found that the above-mentioned organic acid ester (D) having a weight loss rate of 100% or more at a temperature of 180 ° C or higher and a melting peak temperature of 50 ° C or less higher than the melting peak temperature of the solder alloy to be used D-1), the drying on the metal mask at the time of printing is less likely to occur, and stable continuous printing property can be ensured. Further, while suppressing the generation of voids under the reflow heating conditions, It was found that the stickiness of the flux residue can be suppressed.

예를 들어, 혼합에 사용하는 땜납 합금 분말의 땜납 합금의 피크 온도가 130℃ 이상 175℃ 미만인 경우에 있어서는, 상기 유기산 에스테르 (D-1)로서, 그 감량률이 100질량%가 되는 온도가 180℃ 이상이며 또한 225℃ 미만인 것이 바람직하게 사용된다. 이와 같은 유기산 에스테르 (D-1)로서는, 예를 들어 아디프산디메틸, 말레산디부틸 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.For example, when the peak temperature of the solder alloy of the solder alloy powder used for mixing is 130 占 폚 or more and less than 175 占 폚, the temperature at which the weight loss rate of the organic acid ester (D-1) is 100% by mass is 180 Deg.] C and less than 225 [deg.] C is preferably used. Examples of such an organic acid ester (D-1) include dimethyl adipate, dibutyl maleate, and the like. These may be used singly or in combination of plural kinds.

또한 예를 들어, 혼합에 사용하는 땜납 합금 분말의 땜납 합금의 피크 온도가 175℃ 이상 200℃ 미만인 경우에 있어서는, 상기 유기산 에스테르 (D-1)로서, 그 감량률이 100질량%가 되는 온도가 180℃ 이상이며 또한 250℃ 미만인 것이 바람직하게 사용된다. 이와 같은 유기산 에스테르 (D-1)로서는, 예를 들어 아디프산디메틸, 아디프산디이소프로필, 말레산디부틸, 세바스산디메틸, 아디프산디이소부틸, 세바스산디에틸 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Further, for example, when the peak temperature of the solder alloy of the solder alloy powder used for mixing is 175 占 폚 or more and less than 200 占 폚, the temperature at which the weight loss rate of the organic acid ester (D-1) 180 DEG C or more and less than 250 DEG C is preferably used. Examples of such organic acid ester (D-1) include dimethyl adipate, diisopropyl adipate, dibutyl maleate, dimethyl sebacate, diisobutyl adipate, diethyl sebacate and the like. These may be used singly or in combination of plural kinds.

또한 예를 들어, 혼합에 사용하는 땜납 합금 분말의 땜납 합금의 피크 온도가 205℃ 이상인 경우에 있어서는, 상기 유기산 에스테르 (D-1)로서, 그 감량률이 100질량%가 되는 온도가 180℃ 이상이며, 또한 상기 땜납 합금을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도+50℃ 이하인 것이 바람직하게 사용된다. 이와 같은 유기산 에스테르 (D-1)로서는, 예를 들어 아디프산디메틸, 아디프산디이소프로필, 말레산디부틸, 세바스산디메틸, 아디프산디이소부틸, 세바스산디에틸, 세바스산디이소프로필, 세바스산디부틸, 세바스산디옥틸 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.Further, for example, when the peak temperature of the solder alloy of the solder alloy powder used for mixing is 205 DEG C or higher, the temperature at which the weight loss of the organic acid ester (D-1) is 100% And the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy + 50 DEG C or lower is preferably used. Examples of such organic acid esters (D-1) include dimethyl adipate, diisopropyl adipate, dibutyl maleate, dimethyl sebacate, diisobutyl adipate, diethyl sebacate, diisopropyl sebacate, Diisobutyl sebacate, di-octyl sebacate, and the like. These may be used singly or in combination of plural kinds.

상기 용제 (D)의 배합량은 플럭스 조성물 전량에 대하여 20질량% 이상 65질량% 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직한 그의 배합량은 20질량% 이상 60질량% 이하이고, 특히 바람직한 배합량은 25질량% 이상 50질량% 이하이다.The blending amount of the solvent (D) is preferably 20% by mass or more and 65% by mass or less with respect to the total amount of the flux composition. The blending amount thereof is more preferably 20 mass% or more and 60 mass% or less, and particularly preferably 25 mass% or more and 50 mass% or less.

또한 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 배합량은 상기 용제 (D) 전량에 대하여 10질량% 내지 100질량%인 것이 바람직하다.The amount of the organic acid ester (D-1) is preferably 10% by mass to 100% by mass with respect to the total amount of the solvent (D).

또한 본 실시 형태의 플럭스 조성물에는 필요에 따라 첨가제를 배합할 수 있다. 상기 첨가제로서는, 예를 들어 산화 방지제, 소포제, 계면 활성제, 소광제 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 복수종을 혼합하여 사용해도 된다.In the flux composition of the present embodiment, an additive may be added if necessary. Examples of the additive include antioxidants, antifoaming agents, surfactants, quenchers and the like. These may be used singly or in combination of plural kinds.

또한 상기 첨가제의 배합량은 플럭스 전량에 대하여 0.5질량% 이상 20질량% 이하인 것이 바람직하고, 1질량% 이상 15질량% 이하인 것이 보다 바람직하다.The blending amount of the additive is preferably 0.5 mass% or more and 20 mass% or less, more preferably 1 mass% or more and 15 mass% or less with respect to the entire flux.

(2) 솔더 페이스트 조성물(2) Solder paste composition

본 실시 형태의 솔더 페이스트 조성물은 상기 플럭스 조성물과 땜납 합금 분말을 혼합함으로써 얻어진다.The solder paste composition of the present embodiment is obtained by mixing the flux composition and the solder alloy powder.

상기 땜납 합금 분말로서는, 유납/무납의 어느 땜납 합금 분말이라도 사용할 수 있다. 즉, 본 실시 형태의 솔더 페이스트 조성물은 사용하는 땜납 합금 분말의 성분을 막론하고, 그의 용융 피크 온도에 적합한 상기 유기산 에스테르 (D-1)을 사용함으로써, 리플로우 납땜 시의 보이드 발생을 억제하면서 납땜 후의 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있다.As the solder alloy powder, any of leaded and non-leaded solder alloy powders can be used. That is, the solder paste composition of the present embodiment can be produced by using the above-described organic acid ester (D-1) suitable for the melting peak temperature, regardless of the components of the solder alloy powder to be used, It is possible to suppress the stickiness of the flux residue after it.

또한, 상기 땜납 합금 분말에 사용할 수 있는 합금의 예시로서는, Sn 및 Pb을 포함하는 합금, Sn 및 Pb, 그리고 Ag, Bi 및 In 중 적어도 1종을 포함하는 합금, Sn 및 Ag을 포함하는 합금, Sn 및 Cu를 포함하는 합금, Sn, Ag 및 Cu를 포함하는 합금, Sn 및 Bi를 포함하는 합금 등을 들 수 있다. 또한 이들 이외에도, 예를 들어 Sn, Pb, Ag, Bi, In, Cu, Zn, Ga, Sb, Au, Pd, Ge, Ni, Cr, Al, P 등을 적절히 조합한 땜납 합금 분말을 사용할 수 있다. 또한, 상기에 예로 든 원소 이외라도 그 조합에 사용하는 것은 가능하다.Examples of alloys usable for the solder alloy powder include alloys containing Sn and Pb, Sn and Pb, alloys containing at least one of Ag, Bi and In, alloys containing Sn and Ag, An alloy containing Sn and Cu, an alloy containing Sn, Ag and Cu, an alloy containing Sn and Bi, and the like. A solder alloy powder in which a suitable combination of Sn, Pb, Ag, Bi, In, Cu, Zn, Ga, Sb, Au, Pd, Ge, Ni, Cr, . It is also possible to use them in combination other than the above-mentioned elements.

또한, 이들 중에서도 특히 Sb, Ag 및 Cu를 포함하는 땜납 합금 분말, 예를 들어 Sn-Ag계 땜납 합금, Sn-Ag-Cu계 땜납 합금, Sn-Ag-Cu-Bi-Sb계 땜납 합금의 분말이 바람직하게 사용된다.Among them, a powder of a solder alloy including Sb, Ag and Cu such as a Sn-Ag based solder alloy, a Sn-Ag-Cu based solder alloy and a Sn-Ag-Cu-Bi-Sb based solder alloy Is preferably used.

또한, 이들 중에서도 특히 이하에 예로 드는 합금 조성의 땜납 합금 분말을 사용하면, 형성되는 땜납 접합부의 균열 진전 억제 효과를 향상시킬 수 있다.Among these, the use of the solder alloy powder having an alloy composition as exemplified below can improve the crack propagation inhibiting effect of the solder joint portion to be formed.

즉, 상기 땜납 합금 분말은 Ag을 1질량% 이상 3.1질량% 이하, Cu를 0질량% 초과 1질량% 이하, Sb을 1질량% 이상 5질량% 이하, Bi를 0.5질량% 이상 4.5질량% 이하, Ni을 0.01질량% 이상 0.25질량% 이하 포함하고, 잔부가 Sn으로 이루어지는 것이 바람직하다.That is, the solder alloy powder contains 1 mass% to 3.1 mass% of Ag, 1 mass% or more of Cu, 0 mass% or more and 5 mass% or less of Sb, 0.5 mass% or more and 4.5 mass% or less of Bi , Ni in an amount of not less than 0.01 mass% and not more than 0.25 mass%, and the balance being Sn.

또한, Ag의 보다 바람직한 함유량은 2질량% 이상 3.1질량% 이하이고, Cu의 보다 바람직한 함유량은 0.5질량% 이상 1질량% 이하이고, Sb의 보다 바람직한 함유량은 2질량% 이상 4질량% 이하이고, Bi의 보다 바람직한 함유량은 3.1질량% 이상 4.5질량%이고, Ni의 보다 바람직한 함유량은 0.01질량% 이상 0.15질량% 이하이다.A more preferable content of Ag is 2 mass% to 3.1 mass%, a more preferable content of Cu is 0.5 mass% to 1 mass%, a more preferable content of Sb is 2 mass% to 4 mass% A more preferable content of Bi is 3.1% by mass or more and 4.5% by mass, and a more preferable content of Ni is 0.01% by mass or more and 0.15% by mass or less.

또한 상기 땜납 합금 분말은 Co를 0.001질량% 이상 0.25질량% 이하 더 포함하는 것이 바람직하다. 보다 바람직한 Co의 함유량은 0.001질량% 이상 0.15질량% 이하이다.It is preferable that the solder alloy powder further contains Co in an amount of 0.001 mass% or more and 0.25 mass% or less. The content of Co is more preferably 0.001 mass% or more and 0.15 mass% or less.

이와 같은 땜납 합금 분말을 사용함으로써, 본 실시 형태에 관한 땜납 페이스트 조성물을 사용하여 형성된 땜납 접합부는 한란의 차가 심하고 진동이 부하되는 가혹한 환경 하에서도 땜납 접합부의 균열 진전을 억제할 수 있다. 또한 Ni/Pd/Au 도금이나 Ni/Au 도금이 이루어져 있지 않은 전자 부품을 사용하여 땜납 접합을 한 경우에 있어서도, 땜납 접합부와 전자 부품의 하면 전극의 계면 부근에 있어서의 균열 진전을 억제할 수 있다.By using such a solder alloy powder, the solder joint portion formed by using the solder paste composition according to the present embodiment can suppress crack propagation in the solder joint portion even in a harsh environment in which the difference in the grain boundary is large and vibration is applied. Further, even when solder bonding is performed using an electronic component that is not Ni / Pd / Au plated or Ni / Au plated, it is possible to suppress crack propagation in the vicinity of the interface between the solder joint and the bottom electrode of the electronic component .

상기 땜납 합금 분말의 배합량은 솔더 페이스트 조성물 전량에 대하여 65질량% 내지 95질량%인 것이 바람직하다. 보다 바람직한 그의 배합량은 85질량% 내지 93질량%이고, 특히 바람직한 배합량은 87질량% 내지 92질량%이다.The blending amount of the solder alloy powder is preferably 65% by mass to 95% by mass with respect to the total amount of the solder paste composition. The blending amount thereof is more preferably 85% by mass to 93% by mass, and particularly preferably 87% by mass to 92% by mass.

상기 땜납 합금 분말의 배합량이 65질량% 미만인 경우에는, 얻어지는 솔더 페이스트 조성물을 사용한 경우에 충분한 땜납 접합이 형성되기 어려워지는 경향이 있다. 다른 쪽 상기 땜납 합금 분말의 함유량이 95질량%를 초과하는 경우에는 결합제로서의 플럭스 조성물이 부족하기 때문에, 플럭스 조성물과 땜납 합금 분말을 혼합하기 어려워지는 경향이 있다.When the blending amount of the solder alloy powder is less than 65% by mass, sufficient solder bonding tends to be difficult to be formed when the obtained solder paste composition is used. When the content of the other solder alloy powder is more than 95% by mass, the flux composition as a binder tends to be insufficient, so that it tends to be difficult to mix the flux composition and the solder alloy powder.

또한 상기 땜납 합금 분말의 입자 직경은 1㎛ 이상 40㎛ 이하인 것이 바람직하고, 5㎛ 이상 35㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 10㎛ 이상 30㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다.The particle diameter of the solder alloy powder is preferably 1 mu m or more and 40 mu m or less, more preferably 5 mu m or more and 35 mu m or less, particularly preferably 10 mu m or more and 30 mu m or less.

본 실시 형태의 솔더 페이스트 조성물은 땜납 합금 분말의 땜납 합금의 용융 피크 온도에 적합한 상기 유기산 에스테르 (D-1)을 배합한 플럭스 조성물을 사용함으로써, 리플로우 납땜 시의 보이드 발생을 억제하면서 납땜 후의 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있다.The solder paste composition of the present embodiment is obtained by using the flux composition comprising the organic acid ester (D-1), which is suitable for the melting peak temperature of the solder alloy of the solder alloy powder, to suppress the generation of voids during reflow soldering, The stickiness of the residue can be suppressed.

(3) 전자 회로 기판(3) Electronic circuit board

본 실시 형태의 전자 회로 기판은 상기 솔더 페이스트 조성물을 사용하여 형성되는 땜납 접합부와 플럭스 잔사(본 명세서에 있어서는, 땜납 접합부와 플럭스 잔사를 함께 「땜납 접합체」라고 함)를 갖는 것이 바람직하다. 당해 전자 회로 기판은, 예를 들어 기판 위의 소정의 위치에 전극 및 솔더 레지스트막을 형성하고, 소정의 패턴을 갖는 마스크를 사용하여 본 실시 형태의 솔더 페이스트 조성물을 인쇄하고, 당해 패턴에 적합한 전자 부품을 소정의 위치에 탑재하고, 이것을 리플로우함으로써 제작된다.The electronic circuit board of the present embodiment preferably has a solder joint portion formed using the above solder paste composition and a flux residue (in this specification, a solder joint portion and a flux residue together referred to as a " solder joint body "). The electronic circuit board is manufactured by forming an electrode and a solder resist film at predetermined positions on a substrate, printing a solder paste composition of the present embodiment using a mask having a predetermined pattern, Is mounted at a predetermined position, and is reflowed.

이와 같이 하여 제작된 전자 회로 기판은 상기 전극 위에 땜납 접합부가 형성되고, 당해 땜납 접합부는 당해 전극과 전자 부품을 전기적으로 접합한다. 그리고 상기 기판 위에는, 적어도 땜납 접합부에 접착되도록 플럭스 잔사가 부착되어 있다.The electronic circuit board thus manufactured is provided with a solder joint portion on the electrode, and the solder joint portion electrically connects the electrode and the electronic component. On the substrate, a flux residue is adhered to at least the solder joint portion.

본 실시 형태의 전자 회로 기판은 상기 솔더 페이스트 조성물을 사용하여 그 땜납 접합부 및 플럭스 잔사가 형성되어 있기 때문에, 땜납 접합부에는 보이드가 발생하기 어렵고, 또한 플럭스 잔사를 끈적거리기 어려운 것으로 할 수 있다. 또한 땜납 합금 분말의 합금 조성을 특정한 원소 및 함유량으로 함으로써, 땜납 접합부의 균열 진전 억제 효과를 향상시킬 수도 있다.Since the solder paste composition and the flux residue are formed by using the solder paste composition of the present embodiment, voids are hardly generated in the solder joint portion, and the flux residue is hardly sticky. Further, by making the alloy composition of the solder alloy powder a specific element and a content, it is possible to improve the crack propagation inhibiting effect of the solder joint portion.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples and comparative examples. The present invention is not limited to these examples.

<합성 수지의 제조>&Lt; Production of synthetic resin &

교반기, 환류관 및 질소 도입관을 구비한 500ml의 4구 플라스크에 디에틸렌글리콜모노헥실에테르 200g을 투입하고, 이것을 110℃로 가열했다.200 g of diethylene glycol monohexyl ether was charged into a 500 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux tube and a nitrogen inlet tube, and the mixture was heated to 110 占 폚.

또한 메타크릴산 10질량%, 2-에틸헥실메타크릴레이트 51질량%, 라우릴아크릴레이트 39질량%를 혼합한 것의 300g에 아조계 라디칼 개시제로서 디메틸2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트)(제품명: V-601, 와코준야쿠(주)제)를 0.2질량% 내지 5질량%를 가하여 이것을 용해시켜, 용액을 제작했다.Further, 300 g of a mixture of 10 mass% of methacrylic acid, 51 mass% of 2-ethylhexyl methacrylate, and 39 mass% of lauryl acrylate was added, and dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropyl (Manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (trade name: V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added to dissolve the solution to prepare a solution.

이어서 당해 용액을 상기 4구 플라스크에 1.5시간에 걸쳐 적하한 것을 110℃에서 1시간 교반한 후에 반응을 종료시켜, 실시예에 사용하는 합성 수지 (A-2)를 얻었다. 또한, 당해 합성 수지 (A-2)의 중량 평균 분자량은 7,800Mw, 산가는 40㎎KOH/g, 유리 전이 온도는 -47℃였다.Subsequently, this solution was added dropwise to the above-mentioned four-necked flask over 1.5 hours. The mixture was stirred at 110 DEG C for 1 hour and then the reaction was terminated to obtain a synthetic resin (A-2) used in the examples. The weight average molecular weight of the synthetic resin (A-2) was 7,800 Mw, the acid value was 40 mgKOH / g, and the glass transition temperature was -47 占 폚.

<솔더 페이스트 조성물의 제작>&Lt; Preparation of solder paste composition >

표 1 내지 표 4에 기재된 각 성분을 혼련하여, 실시예 1 내지 34 및 비교예 1 내지 13에 관한 각 플럭스 조성물을 얻었다. 이어서 당해 각 플럭스 조성물 11질량%와, 이하에 예로 드는 땜납 합금 분말 89질량%를 혼련하여, 실시예 1 내지 34 및 비교예 1 내지 13에 관한 각 솔더 페이스트 조성물을 얻었다. 또한, 특별히 기재가 없는 한, 표 1 내지 4에 기재된 수치는 질량%를 의미하는 것으로 한다.Each of the components described in Tables 1 to 4 was kneaded to obtain each of the flux compositions relating to Examples 1 to 34 and Comparative Examples 1 to 13. Subsequently, 11 mass% of each flux composition and 89 mass% of the solder alloy powder exemplified below were kneaded to obtain respective solder paste compositions relating to Examples 1 to 34 and Comparative Examples 1 to 13. Unless otherwise stated, the numerical values set forth in Tables 1 to 4 indicate% by mass.

또한 합성 수지 (A-2)에 대해서는 상술한 수순으로 제작한 솔벤트 형상의 수지를 증발기를 사용하여 용제를 휘발시킨 후에 사용하고 있다. 그로 인해, 표 1 내지 표 4에 기재된 합성 수지 (A-2)의 수치는 용제를 휘발시킨 고형분만을 나타낸다.For the synthetic resin (A-2), the solvent-like resin prepared by the above procedure is used after the solvent is volatilized by using an evaporator. Therefore, the numerical values of the synthetic resin (A-2) shown in Tables 1 to 4 show solids in which the solvent is volatilized.

또한, 각 실시예 및 비교예에 있어서 사용한 땜납 합금 분말은 이하와 같다.The solder alloy powder used in each of the examples and comparative examples is as follows.

실시예 1 내지 20 및 비교예 1 내지 8: Sn-3Ag-0.5Cu 땜납 합금 분말(용융 피크 온도: 219℃)Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 8: Sn-3Ag-0.5Cu solder alloy powder (melt peak temperature: 219 ° C)

실시예 21 및 22, 그리고 비교예 9: Sn-10Sb(용융 피크 온도: 248℃)Examples 21 and 22 and Comparative Example 9: Sn-10Sb (melting peak temperature: 248 ° C)

실시예 23 및 24, 그리고 비교예 10 및 11: Sn-58Bi(용융 피크 온도: 139℃)Examples 23 and 24, and Comparative Examples 10 and 11: Sn-58Bi (melting peak temperature: 139 ° C)

실시예 25 내지 28 및 비교예 12: Sn-3.5Ag-0.5Bi-8In(용융 피크 온도: 202℃)Examples 25 to 28 and Comparative Example 12: Sn-3.5Ag-0.5Bi-8In (melt peak temperature: 202 DEG C)

ㆍ 실시예 29 및 30: Sn-3Ag-0.7Cu-3.5Bi-3Sb-0.04Ni-0.01Co(용융 피크 온도: 223℃)Examples 29 and 30: Sn-3Ag-0.7Cu-3.5Bi-3Sb-0.04Ni-0.01Co (melting peak temperature: 223 DEG C)

ㆍ 실시예 31 및 32: Sn-3Ag-0.5Cu-4.5Bi-3Sb-0.03Ni(용융 피크 온도: 222℃)Examples 31 and 32: Sn-3Ag-0.5Cu-4.5Bi-3Sb-0.03Ni (melt peak temperature: 222 DEG C)

ㆍ 실시예 33 및 34: Sn-3Ag-0.5Cu-3Bi-2Sb-0.03Ni(용융 피크 온도: 223℃)Examples 33 and 34: Sn-3Ag-0.5Cu-3Bi-2Sb-0.03Ni (melting peak temperature: 223 DEG C)

ㆍ 비교예 13: Sn-0.5Ag-0.5Cu-3Bi-2Sb-0.04Ni(용융 피크 온도: 228℃)Comparative Example 13: Sn-0.5Ag-0.5Cu-3Bi-2Sb-0.04Ni (melting peak temperature: 228 DEG C)

각 유기산 에스테르 (D-1) 성분에 대하여 열중량 측정-시차 열분석 장치(제품명: STA7200RV, (주)히타치 하이테크 사이언스제)를 사용하여, TG 곡선에서의 감량률이 100질량%가 되는 온도를 측정하고, 표 1 내지 4의 성분명과 함께 기재했다. 또한, 그 측정 조건은 승온 속도를 10℃/min, 질소 가스 유량을 200ml/min으로 하고, 샘플량을 10㎎으로 했다.A thermogravimetry-differential thermal analyzer (product name: STA7200RV, manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.) was used for each of the organic acid ester (D-1) components and the temperature at which the weight loss rate in the TG curve was 100 mass% Were measured and described together with the component names of Tables 1 to 4. The measurement conditions were a temperature raising rate of 10 占 폚 / min, a nitrogen gas flow rate of 200 ml / min, and a sample amount of 10 mg.

Figure pct00001
Figure pct00001

Figure pct00002
Figure pct00002

Figure pct00003
Figure pct00003

Figure pct00004
Figure pct00004

※1 아라카와 가가쿠 고교(주)제 수소 첨가 산 변성 로진※ 1 Made by Arakawa Kagaku Kogyo Co., Ltd. Hydrogenated acid-modified rosin

※2 니폰 가세이(주)제 지방산 비스아미드* 2 Fatty acid bisamide (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.)

※3 BASF 재팬(주)제 힌더드 페놀계 산화 방지제* 3 Hindered phenolic antioxidant from BASF Japan Ltd.

<인쇄 회복성 시험><Print Recovery Test>

100핀 0.5㎜피치의 BGA를 실장할 수 있는 패턴을 갖는 솔더 레지스트와 전극(직경 0.25㎜)을 구비한 유리 에폭시 기판과, 상기 패턴과 동일한 패턴을 갖는 두께 120㎛의 메탈 마스크를 준비했다.A glass epoxy substrate having a solder resist and an electrode (diameter: 0.25 mm) having a pattern capable of mounting a BGA having a pitch of 100 mm and a pitch of 0.5 mm and a metal mask having the same pattern as the above pattern and having a thickness of 120 탆 were prepared.

이어서, 당해 메탈 마스크를 사용하여 상기 기판 위에 각 솔더 페이스트 조성물을 인쇄했다. 또한 이 인쇄는 1종의 솔더 페이스트 조성물에 대하여, 6장의 상기 기판을 사용하여 연속 인쇄하는 방법에 의해 행하였다.Then, each solder paste composition was printed on the substrate using the metal mask. This printing was also carried out by a method of continuously printing six kinds of the above-mentioned substrates on one solder paste composition.

당해 연속 인쇄를 행한 후, 메탈 마스크 위에 있는 각 솔더 페이스트 조성물을 25℃-50%의 환경 하에서 1시간 방치했다.After this continuous printing, each solder paste composition on the metal mask was allowed to stand for 1 hour under an environment of 25 ° C-50%.

그 후, 이 메탈 마스크 위에 있는 각 솔더 페이스트 조성물을 상기 기판 위에 인쇄했다. 또한 이 인쇄는 1종의 솔더 페이스트 조성물에 대하여, 10장의 상기 기판을 사용하여 연속 인쇄하는 방법에 의해 행하였다.Each solder paste composition on the metal mask was then printed on the substrate. This printing was also performed by a method of continuously printing one kind of solder paste composition using ten sheets of the above substrates.

당해 연속 인쇄를 행한 상기 기판에 대하여, 인쇄순 5번째부터 10번째까지의 직경 0.25㎜의 전극부에 있어서의 그 전사 체적률을 화상 검사기(제품명: aspire2, (주) 고영테크놀러지제)를 사용하여 측정하고, 이하의 기준으로 평가했다. 그 결과를 표 5 내지 표 8에 나타낸다.The transfer volume ratio of an electrode portion having a diameter of 0.25 mm from the 5th to the 10th printing order on the substrate subjected to the continuous printing was measured using an image tester (product name: aspire2, manufactured by Ko Young Technology Co., Ltd.) And evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 5 to 8.

◎: 전사 체적률 35% 이하의 개수가 0개&Amp; cir &amp;: The number of the transfer volume ratio 35% or less is 0

○: 전사 체적률 35% 이하의 개수가 1개 이상 10개 이하?: The number of transfer volume fractions of 35% or less is 1 to 10

△: 전사 체적률 35% 이하의 개수가 11개 이상 50개 이하?: The number of transfer volume percentages of 35% or less was 11 or more and 50 or less

×: 전사 체적률 35% 이하의 개수가 51개 이상X: Number of transfer volume ratio of not more than 35% was 51 or more

<플럭스 잔사 점착성 시험>&Lt; Flux residue stickiness test >

직경 6㎜ 사이즈의 패턴을 갖는 솔더 레지스트와 구리 랜드를 갖는 유리 에폭시 기판과, 상기 패턴과 동일한 패턴을 갖는 두께 150㎛의 메탈 마스크를 준비했다. 이어서 당해 메탈 마스크를 사용하여 상기 유리 에폭시 기판에 각 솔더 페이스트 조성물을 인쇄하고, 이들을 리플로우로(제품명: TNP-538EM, (주)다무라 세이사쿠쇼제)를 사용하여 가열하여, 각 시험 기판을 제작했다. 또한, 리플로우 조건은 인쇄한 각 솔더 페이스트 조성물에 사용한 땜납 합금 분말의 조성에 따라 다르다. 그 조건은 이하와 같다. 또한, 어느 것에 있어서도 리플로우로 내의 산소 농도는 1500±500ppm이다.A glass epoxy substrate having solder resist having a pattern of a size of 6 mm in diameter and a copper land, and a metal mask having a thickness of 150 mu m and having the same pattern as the above pattern were prepared. Subsequently, each solder paste composition was printed on the glass epoxy substrate using the metal mask, and each of the solder paste compositions was heated using a reflow furnace (trade name: TNP-538EM, manufactured by Tamura Seisakusho Co., Ltd.) did. The reflow conditions depend on the composition of the solder alloy powder used for each printed solder paste composition. The conditions are as follows. Also, the oxygen concentration in the reflow furnace is 1500 ± 500 ppm.

ㆍ 실시예 1 내지 20 및 비교예 1 내지 8: 프리 히트를 170℃ 내지 180℃에서 90초간, 피크 온도 230℃, 220℃ 이상이 30초 이하, 피크 온도로부터 200℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초Examples 1 to 20 and Comparative Examples 1 to 8: The preheat was carried out at 170 ° C to 180 ° C for 90 seconds, at the peak temperature of 230 ° C, at 220 ° C or more for 30 seconds or less, at a cooling rate of 3 ° C To 8 [deg.] C / sec

ㆍ 실시예 21 및 22, 그리고 비교예 9: 프리 히트를 180℃ 내지 200℃에서 90초간, 피크 온도 265℃, 250℃ 이상이 30초 이하, 피크 온도로부터 235℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초Examples 21 and 22 and Comparative Example 9: The preheat was carried out at 180 ° C to 200 ° C for 90 seconds, peak temperature 265 ° C, 250 ° C or more for 30 seconds or less, and the cooling rate from peak temperature to 235 ° C, 8 ℃ / sec

ㆍ 실시예 23 및 24, 그리고 비교예 10 및 11: 프리 히트를 100℃ 내지 110℃에서 90초간, 피크 온도 160℃, 150℃ 이상이 30초 이하, 피크 온도로부터 120℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초Examples 23 and 24 and Comparative Examples 10 and 11: The preheat was carried out at 100 ° C to 110 ° C for 90 seconds, at the peak temperature of 160 ° C, at 150 ° C or more for 30 seconds or less, and at the peak temperature to 120 ° C for 3 ° C to 8 ° C / second

ㆍ 실시예 25 내지 28 및 비교예 12: 프리 히트를 150℃ 내지 170℃에서 90초간, 피크 온도 220℃, 210℃ 이상이 30초 이하, 피크 온도로부터 190℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초Examples 25 to 28 and Comparative Example 12: The preheat was carried out at a temperature of 150 to 170 占 폚 for 90 seconds, a peak temperature of 220 占 폚, a temperature of 210 占 폚 or more for 30 seconds or less, and a cooling rate of 3 占 폚 to 8 ℃ / sec

ㆍ 실시예 29 내지 34: 프리 히트를 170℃ 내지 180℃에서 90초간, 피크 온도 230℃, 220℃ 이상이 30초 이하, 피크 온도로부터 200℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초Examples 29 to 34: The preheat was carried out at a temperature of 170 to 180 ° C for 90 seconds, a peak temperature of 230 ° C, a temperature of 220 ° C or more for 30 seconds or less, and a cooling rate of 3 ° C to 8 ° C /

ㆍ 비교예 13: 프리 히트를 170℃ 내지 180℃에서 90초간, 피크 온도 240℃, 230℃ 이상이 30초 이하, 피크 온도로부터 200℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초Comparative Example 13: A preheat was carried out at 170 ° C to 180 ° C for 90 seconds, a peak temperature of 240 ° C, a temperature of 230 ° C or more for 30 seconds or less, and a cooling rate of 3 ° C to 8 ° C /

그리고 각 시험 기판을 실온에서 2시간 방치한 후, 직경 6㎜ 패턴으로 납땜된 각 시험 기판 위에 형성된 플럭스 잔사에 직경 300㎛의 솔더 볼을 뿌리고, 이것을 각 시험 기판의 측면이 지면과 병행이 되도록 하여 책상에 내던져 충격을 주었다. 그 후, 각 시험 기판 위의 플럭스 잔사에 부착된 솔더 볼 수를 카운트하고, 이하의 기준으로 평가했다. 그 결과를 표 5 내지 표 8에 나타낸다.After each test substrate was left at room temperature for 2 hours, a solder ball having a diameter of 300 mu m was sprinkled on the flux residue formed on each test substrate soldered with a pattern of 6 mm in diameter so that the side surface of each test substrate was parallel to the ground I gave it a shock to my desk. Thereafter, the number of solder balls attached to the flux residue on each test substrate was counted and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 5 to 8.

◎: 솔더 볼의 부착 개수가 0개◎: The number of solder balls is 0

○: 솔더 볼의 부착 개수가 1개 이상 10개 이하○: The number of solder balls is 1 or more and 10 or less

△: 솔더 볼의 부착 개수가 11개 이상 30개 이하B: The number of solder balls is 11 or more and 30 or less

×: 솔더 볼의 부착 개수가 31개 이상X: More than 31 solder balls were attached

<연속 롤링 페이스트의 제작>&Lt; Production of Continuous Rolling Paste >

각 솔더 페이스트 조성물에 대하여, 폴리우레탄 고무제 스퀴지(경도 90)를 사용하여, 스퀴지 각도 60°, 인쇄 택트 30초 및 스트로크 300㎜, 환경 25℃-50% R.H.의 조건 하에서 4시간, 연속적으로 스퀴징을 행하였다.Each solder paste composition was continuously subjected to a squeegee angle of 60 °, a printing tact of 30 seconds and a stroke of 300 mm under conditions of 25 ° C-50% RH for 4 hours using a squeegee of polyurethane rubber (hardness 90) Quizzing was performed.

또한, 시료 투입량은 500g이었다. 이와 같이 하여 얻어진 연속 스퀴징 후의 각 솔더 페이스트 조성물을 이하 「연속 롤링 페이스트」라고 한다.The sample injection amount was 500 g. Each solder paste composition thus obtained after continuous scouring is hereinafter referred to as &quot; continuous rolling paste &quot;.

<솔더 볼 시험><Solder ball test>

유리 에폭시 기판과, 2.0㎜×1.2㎜ 사이즈의 칩 부품을 준비했다. 당해 유리 에폭시 기판 위에 상기 칩 부품에 대응하는 솔더 레지스트와 전극(1.25㎜×1.0㎜)을 형성하고, 이것과 동일한 패턴을 갖는 두께 150㎛의 메탈 마스크를 사용하여 상기 유리 에폭시 기판 위에 각 솔더 페이스트 조성물과 각 연속 롤링 페이스트를 각각 인쇄하고, 칩 부품을 탑재했다. 이어서 각 유리 에폭시 기판을 리플로우로(제품명: TNP-538EM, (주)다무라 세이사쿠쇼)에서 가열하여, 각 시험 기판을 제작했다. 또한, 리플로우 조건은 인쇄한 각 솔더 페이스트 조성물ㆍ각 연속 롤링 페이스트에 사용한 땜납 합금 분말의 조성에 따라 다르다. 그 조건은 이하와 같다. 또한, 어느 것에 있어서도 리플로우로 내의 산소 농도는 1500±500ppm이다.A glass epoxy substrate, and a chip component having a size of 2.0 mm x 1.2 mm were prepared. A solder resist and an electrode (1.25 mm x 1.0 mm) corresponding to the chip component were formed on the glass epoxy substrate, and a metal mask having a thickness of 150 mu m having the same pattern as that of the metal mask was used to form each solder paste composition And each continuous rolling paste were printed, and chip parts were mounted. Subsequently, each glass epoxy substrate was heated with reflow furnace (product name: TNP-538EM, manufactured by Tamura Seisakusho Co., Ltd.) to prepare test substrates. The reflow conditions depend on the composition of the solder alloy powder used for each printed solder paste composition and each continuous rolling paste. The conditions are as follows. Also, the oxygen concentration in the reflow furnace is 1500 ± 500 ppm.

ㆍ 실시예 1 내지 20 및 비교예 1 내지 8: 프리 히트를 170℃ 내지 190℃에서 110초간, 피크 온도 260℃, 200℃ 이상이 70초간 및 220℃ 이상이 60초간, 피크 온도로부터 200℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초EXAMPLES 1 to 20 and COMPARATIVE EXAMPLES 1 to 8: Preheats were carried out at a temperature of 170 to 190 占 폚 for 110 seconds, a peak temperature of 260 占 폚, 200 占 폚 or more for 70 seconds, 220 占 폚 or more for 60 seconds, RTI ID = 0.0 &gt; 8 C / sec &lt; / RTI &gt;

ㆍ 실시예 21 및 22, 그리고 비교예 9: 프리 히트를 180℃ 내지 210℃에서 110초간, 피크 온도 290℃, 230℃ 이상이 70초간 및 250℃ 이상이 60초간, 피크 온도로부터 235℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초Examples 21 and 22 and Comparative Example 9: Preheating was carried out at a temperature of 180 ° C to 210 ° C for 110 seconds, a peak temperature of 290 ° C, a temperature of 230 ° C or more for 70 seconds, a temperature of 250 ° C or more for 60 seconds, The cooling rate is 3 [deg.] C to 8 [deg.] C / sec

ㆍ 실시예 23 및 24, 그리고 비교예 10 및 비교예 11: 프리 히트를 100℃ 내지 120℃에서 110초간, 피크 온도 210℃, 130℃ 이상이 70초간 및 150℃ 이상이 60초간, 피크 온도로부터 150℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초Examples 23 and 24 and Comparative Example 10 and Comparative Example 11 A preheat was carried out at a temperature of 100 ° C to 120 ° C for 110 seconds, a peak temperature of 210 ° C, a temperature of 130 ° C or more for 70 seconds, and a temperature of 150 ° C or more for 60 seconds, The cooling rate up to &lt; RTI ID = 0.0 &gt; 150 C &lt; / RTI &

ㆍ 실시예 25 내지 28 및 비교예 12: 프리 히트를 150℃ 내지 180℃에서 110초간, 피크 온도 250℃, 190℃ 이상이 70초간 및 210℃ 이상이 60초간, 피크 온도로부터 190℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초Examples 25 to 28 and Comparative Example 12: Preheating was carried out at a temperature of 150 to 180 ° C for 110 seconds, a peak temperature of 250 ° C, a temperature of 190 ° C or more for 70 seconds, a temperature of 210 ° C or more for 60 seconds, The rate is 3 [deg.] C to 8 [deg.] C / sec

ㆍ 실시예 29 내지 34: 프리 히트를 170℃ 내지 190℃에서 110초간, 피크 온도 260℃, 200℃ 이상이 70초간 및 220℃ 이상이 60초간, 피크 온도로부터 200℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초Examples 29 to 34: Examples 29 to 34: The preheat was carried out at 170 ° C to 190 ° C for 110 seconds, at a peak temperature of 260 ° C, at 200 ° C or more for 70 seconds, at 220 ° C for 60 seconds and at a peak temperature to 200 ° C at 3 ° C To 8 [deg.] C / sec

ㆍ 비교예 13: 프리 히트를 170℃ 내지 190℃에서 110초간, 피크 온도 260℃, 200℃ 이상이 70초간 및 220℃ 이상이 60초간, 피크 온도로부터 200℃까지의 냉각 속도는 3℃ 내지 8℃/초Comparative Example 13: The preheating was carried out at a temperature of 170 to 190 占 폚 for 110 seconds, a peak temperature of 260 占 폚, a temperature of 200 占 폚 or more for 70 seconds, a temperature of 220 占 폚 or more for 60 seconds, ℃ / sec

상기 각 시험 기판을 X선 투과 장치(제품명: SMX-160E, (주)시마즈 세이사쿠쇼제)를 사용하여 관찰하고, 칩 부품의 주변 및 그 하면에 발생한 솔더 볼 수와 그 직경을 카운트하고, 이하와 같이 평가했다. 그 결과를 표 5 내지 표 8에 나타낸다.Each of the test substrates was observed using an X-ray diffraction apparatus (product name: SMX-160E, manufactured by Shimadzu Seisakusho Co., Ltd.), and the number of solder balls and their diameters formed on the periphery and on the undersurface of the chip component were counted . The results are shown in Tables 5 to 8.

◎: 2.0㎜×1.2㎜ 칩 저항 10개당 발생한 볼 수가 0개◎: 2.0 mm × 1.2 mm Number of balls generated per 10 chip resistances is 0

○: 2.0㎜×1.2㎜ 칩 저항 10개당 발생한 볼 수가 1개 이상 5개 이하○: 2.0 mm × 1.2 mm Number of balls generated per 10 chip resistances is 1 to 5

△: 2.0㎜×1.2㎜ 칩 저항 10개당 발생한 볼 수가 6개 이상 10개 이하?: 2.0 mm 占 1.2 mm The number of balls generated per 10 chip resistances was 6 or more and 10 or less

×: 2.0㎜×1.2㎜ 칩 저항 10개당 발생한 볼 수가 11개 이상×: 2.0 mm × 1.2 mm The number of balls generated per 10 chip resistances was 11 or more

<보이드 시험>&Lt; void test >

솔더 볼 시험과 동일한 조건에서 각 시험 기판을 제작하고, 그 표면 상태를 X선 투과 장치(제품명: SMX-160E, (주)시마즈 세이사쿠쇼제)로 관찰하고, 땜납 접합부가 형성되어 있는 영역에서 차지하는 보이드의 총 면적의 비율(보이드의 면적률)을 측정했다. 또한 보이드의 발생 상황은 각 시험 기판 중 20개소의 랜드에 있어서의 보이드의 면적률의 최댓값을 구하고, 이하와 같이 평가했다. 그 결과를 표 5 내지 표 8에 나타낸다.Each test substrate was manufactured under the same conditions as the solder ball test, and the surface state thereof was observed with an X-ray diffraction device (product name: SMX-160E, Shimadzu Corporation) The ratio of the total area of voids (area ratio of voids) was measured. The occurrence of voids was determined by determining the maximum value of the area ratio of the voids in 20 lands among the test substrates, and evaluated as follows. The results are shown in Tables 5 to 8.

◎: 보이드의 면적률의 최댓값이 10% 이하◎: The maximum value of the area ratio of the void is 10% or less

○: 보이드의 면적률의 최댓값이 10% 초과 13% 이하○: The maximum value of the area ratio of the void is more than 10% and not more than 13%

△: 보이드의 면적률의 최댓값이 13% 초과 20% 이하?: The maximum value of the area ratio of the void is more than 13% and not more than 20%

×: 보이드의 면적률의 최댓값이 20% 초과X: The maximum value of the area ratio of the void is more than 20%

<균열 진전 억제 시험>&Lt; Crack propagation inhibition test >

3.2㎜×1.6㎜ 사이즈의 칩 부품(Ni/Sn 도금)과, 당해 사이즈의 칩 부품을 실장할 수 있는 패턴을 갖는 솔더 레지스트 및 상기 칩 부품을 접속하는 전극(1.6㎜×1.2㎜)을 구비한 유리 에폭시 기판과, 동일 패턴을 갖는 두께 150㎛의 메탈 마스크를 준비했다.(Ni / Sn plating) having a size of 3.2 mm x 1.6 mm, a solder resist having a pattern capable of mounting a chip component of this size, and an electrode (1.6 mm x 1.2 mm) A glass epoxy substrate, and a 150 mu m-thick metal mask having the same pattern were prepared.

상기 유리 에폭시 기판 위에 상기 메탈 마스크를 사용하여 각 솔더 페이스트 조성물을 인쇄하고, 각각 상기 칩 부품을 탑재했다.Each solder paste composition was printed on the glass epoxy substrate using the metal mask, and the chip components were mounted on the solder paste composition.

그 후, 리플로우로(제품명: TNP-538EM, (주)다무라 세이사쿠쇼제)를 사용하여 상기 각 유리 에폭시 기판을 가열하여 각각에 상기 유리 에폭시 기판과 상기 칩 부품을 전기적으로 접합하는 땜납 접합부를 형성하고, 상기 칩 부품을 실장했다. 때의 리플로우 조건은 프리 히트를 170℃ 내지 190℃에서 110초간, 피크 온도를 245℃로 하고, 200℃ 이상의 시간이 65초간, 220℃ 이상의 시간이 45초간, 피크 온도로부터 200℃까지의 냉각 속도를 3℃ 내지 8℃/초로 하고, 산소 농도는 1500±500ppm으로 설정했다.Thereafter, each of the glass epoxy substrates was heated using Reflow (trade name: TNP-538EM, manufactured by Shimadzu Corporation) to form solder joints for electrically joining the glass epoxy substrate and the chip components to each other And the chip parts were mounted. The preheat was performed at a temperature of 170 to 190 ° C for 110 seconds and a peak temperature of 245 ° C and for a period of at least 200 ° C for 65 seconds and at a temperature of 220 ° C for 45 seconds for cooling to a peak temperature of 200 ° C The speed was set at 3 占 폚 to 8 占 폚 / second, and the oxygen concentration was set to 1500 占 500ppm.

이어서, -40℃(30분간) 내지 125℃(30분간)의 조건으로 설정한 냉열 충격 시험 장치(제품명: ES-76LMS, 히타치 어플리언스(주)제)를 사용하여, 냉열 충격 사이클을 1,000, 1,500, 2,000, 2,500, 3,000사이클 반복하는 환경 하에 상기 각 유리 에폭시 기판을 각각 노출시킨 후 이것을 취출하고, 각 시험 기판을 제작했다.Next, using a cold and heat impact test apparatus (product name: ES-76LMS, manufactured by Hitachi Appliances Co., Ltd.) set at conditions of -40 ° C. (30 minutes) to 125 ° C. (30 minutes) , 1,500, 2,000, 2,500, and 3,000 cycles, the respective glass epoxy substrates were exposed to each other, and then they were taken out to prepare respective test substrates.

이어서 각 시험 기판의 대상 부분을 잘라내고, 이것을 에폭시 수지(제품명: 에포마운트(주제 및 경화제), 리파인테크(주)제)를 사용하여 밀봉했다. 또한 습식 연마기(제품명: TegraPol-25, 마루모토 스트루어스(주)제)를 사용하여 각 시험 기판에 실장된 상기 칩 부품의 중앙 단면을 알 수 있는 상태로 하고, 형성된 땜납 접합부에 발생한 균열이 땜납 접합부를 완전히 횡단하여 파단에 이르고 있는지 여부를 주사 전자 현미경(제품명: TM-1000, (주)히타치 하이테크놀러지즈제)을 사용하여 관찰하고, 이하의 기준으로 평가했다. 그 결과를 표 5 내지 표 8에 나타낸다. 또한, 각 냉열 충격 사이클에 있어서의 평가 칩수는 10개로 했다.Subsequently, the target portion of each test substrate was cut out and sealed with an epoxy resin (trade name: Epomount (subject and curing agent), Refine Tech Co., Ltd.). Further, by using a wet grinding machine (product name: TegraPol-25, manufactured by Marumoto Struers Co., Ltd.), the central section of the chip component mounted on each test board can be recognized, and cracks generated in the solder joint portion Whether or not the junction was completely traversed and ruptured was observed using a scanning electron microscope (product name: TM-1000, Hitachi High Technologies Co., Ltd.) and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 5 to 8. In addition, the number of evaluation chips in each cold / heat shock cycle was set to ten.

◎◎: 3,000사이클까지 땜납 접합부를 완전히 횡단하는 균열이 발생하지 않는다◎ &amp; cir &amp;: Cracks that completely cross the solder joints do not occur until 3,000 cycles

◎: 2,501 내지 3,000사이클 사이에서 땜납 접합부를 완전히 횡단하는 균열이 발생&Amp; cir &amp; &amp; cir &amp; C: Cracks completely crossing the solder joint occurred between 2,501 and 3,000 cycles

○: 2,001 내지 2,500사이클 사이에서 땜납 접합부를 완전히 횡단하는 균열이 발생?: Cracks that completely cross the solder joint occurred between 2,001 and 2,500 cycles

△: 2,000사이클 이하에서 땜납 접합부를 완전히 횡단하는 균열이 발생DELTA: Cracks completely crossing the solder joint occurred in 2,000 cycles or less

Figure pct00005
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Figure pct00006
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Figure pct00007
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Figure pct00008
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이상에 나타낸 바와 같이, 실시예 1 내지 34에 관한 솔더 페이스트 조성물은, 사용하는 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도에 맞춘 상기 유기산 에스테르 (D-1)을 사용함으로써 안정된 연속 인쇄성을 확보할 수 있고, 또한 리플로우 납땜 시의 보이드 발생을 억제하면서 납땜 후의 플럭스 잔사의 끈적거림을 억제할 수 있음을 알 수 있었다. 또한 이들은 리플로우 시에 양호한 습윤성을 갖고 있기 때문에, 솔더 볼의 발생도 억제할 수 있다. 나아가, 이들은 연속 스퀴징을 행해도 활성제 (B)와 땜납 합금 분말의 반응을 억제할 수 있기 때문에, 연속 롤링 페이스트라도 보이드 및 솔더 볼의 발생을 억제할 수 있음을 알 수 있었다.As described above, the solder paste compositions according to Examples 1 to 34 exhibited stable continuous printability by using the organic acid ester (D-1) adjusted to the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder used And it was also found that the stickiness of the flux residue after soldering can be suppressed while suppressing the occurrence of voids during reflow soldering. In addition, since they have good wettability upon reflow, generation of solder balls can be suppressed. Further, it was found that, even when continuous squeezing is performed, the reaction between the activator (B) and the solder alloy powder can be suppressed, generation of voids and solder balls can be suppressed even with continuous rolling paste.

In을 함유하는 땜납 합금 분말을 사용한 실시예 25 내지 28은 In 첨가의 효과에 의해, 양호한 균열 진전 억제 효과를 발휘할 수 있다.In Examples 25 to 28 using the solder alloy powder containing In, it is possible to exert a good effect of suppressing crack growth by the effect of addition of In.

또한 땜납 합금 분말의 합금 조성을 특정한 원소 및 함유량으로 한 실시예 29 내지 34에 있어서는, 솔더 볼 및 보이드의 발생을 충분히 억제할 수 있고, 또한 In을 첨가하지 않아도, In 함유 땜납 합금 분말을 사용한 경우와 동등 이상의 균열 진전 억제 효과를 발휘할 수 있음을 알 수 있었다. 이와 같은 솔더 페이스트 조성물은, 특히 차량 탑재용 전자 회로 기판 등의 한란차가 심하고 또한 높은 신뢰성이 요구되는 전자 회로 기판에도 적합하게 사용할 수 있다.In Examples 29 to 34 in which the alloy composition of the solder alloy powder was set to a specific element and content, the generation of solder balls and voids could be sufficiently suppressed, and in the case where the In-containing solder alloy powder was used It was found that a crack propagation inhibiting effect equal to or higher than that of Comparative Example 1 can be exhibited. Such a solder paste composition can be suitably used for an electronic circuit board, which is particularly disadvantageous in an electronic circuit board for in-vehicle use, and which requires high reliability.

또한, 표 1 내지 표 4의 유기산 에스테르 (D-1) 중 세바스산디옥틸에 대해서는, 이것에 사용한 땜납 합금 분말의 용융 피크 온도가 295℃ 미만이었기 때문에 양호한 결과가 되지 않았지만, 용융 피크 온도가 295℃ 이상인 땜납 합금 분말을 사용하는 경우에는, 그 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도가 상기 용융 피크 온도+50℃ 이하가 되고, 안정된 연속 인쇄성, 리플로우 납땜 시의 보이드 발생의 억제 및 플럭스 잔사의 끈적거림 억제 효과를 발휘할 수 있는 것이다.With respect to dioctyl sebacate in the organic acid ester (D-1) shown in Tables 1 to 4, the melting peak temperature of the solder alloy powder used therein was less than 295 DEG C, The solder alloy powder having a melting point of not less than 100 ° C and a melting point of not more than 50 ° C is used as the solder alloy powder, It is possible to suppress the occurrence of voids and to suppress the stickiness of the flux residue.

Claims (12)

땜납 합금 분말과 혼합하여 솔더 페이스트 조성물을 구성하는 플럭스 조성물로서,
(A) 베이스 수지와, (B) 활성제와, (C) 틱소제와, (D) 용제를 포함하고,
상기 용제 (D)로서 (D-1) 카르복실기 및 히드록실기 중 어느 것도 갖지 않는 유기산 에스테르를 포함하고,
상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도+50℃ 이하이고,
상기 유기산 에스테르 (D-1)의 배합량은 상기 용제 (D) 전량에 대하여 10질량% 내지 100질량%인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.
1. A flux composition for constituting a solder paste composition by mixing with a solder alloy powder,
(A) a base resin, (B) an activator, (C) a tin agent, and (D) a solvent,
(D-1) an organic acid ester having neither a carboxyl group nor a hydroxyl group as the solvent (D)
The temperature at which the weight loss rate (measured by the TG method) of the organic acid ester (D-1) is 100% by mass is 180 ° C or higher and the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder + ,
Wherein the blending amount of the organic acid ester (D-1) is 10% by mass to 100% by mass with respect to the total amount of the solvent (D).
제1항에 있어서, 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도가 130℃ 이상 175℃ 미만인 경우에 있어서의 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 225℃ 미만인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.The method according to claim 1, wherein the weight loss rate (measured by the TG method) of the organic acid ester (D-1) in the case where the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder is 130 캜 or more and less than 175 캜 100% by mass is 180 占 폚 or higher and lower than 225 占 폚. 제1항에 있어서, 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도가 175℃ 이상 205℃ 미만인 경우에 있어서의 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 255℃ 미만인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.The method according to claim 1, wherein the weight loss rate (measured using the TG method) of the organic acid ester (D-1) in the case where the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder is 175 캜 or more and less than 205 캜 100% by mass is 180 占 폚 or higher and lower than 255 占 폚. 제1항에 있어서, 상기 땜납 합금 분말을 구성하는 땜납 합금의 용융 피크 온도가 205℃ 이상인 경우에 있어서의 상기 유기산 에스테르 (D-1)의 감량률(TG법을 사용하여 측정)이 100질량%가 되는 온도는 180℃ 이상이며 또한 상기 용융 피크 온도+50℃ 이하인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.The method for producing a solder alloy powder according to claim 1, wherein the weight loss rate (measured by the TG method) of the organic acid ester (D-1) when the melting peak temperature of the solder alloy constituting the solder alloy powder is 205 占 폚 or higher is 100% Is 180 DEG C or higher and the melting peak temperature + 50 DEG C or lower. 제2항에 있어서, 상기 유기산 에스테르 (D-1)은 아디프산디메틸 및 말레산디부틸 중 적어도 한쪽인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.The flux composition according to claim 2, wherein the organic acid ester (D-1) is at least one of dimethyl adipate and dibutyl maleate. 제3항에 있어서, 상기 유기산 에스테르 (D-1)은 아디프산디메틸, 아디프산디이소프로필, 말레산디부틸, 세바스산디메틸, 아디프산디이소부틸 및 세바스산디에틸에서 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.The organic acid ester (D-1) according to claim 3, wherein the organic acid ester (D-1) is at least one selected from dimethyl adipate, diisopropyl adipate, dibutyl maleate, dimethyl sebacate, diisobutyl adipate and diethyl sebacate &Lt; / RTI &gt; 제4항에 있어서, 상기 유기산 에스테르 (D-1)은 아디프산디메틸, 아디프산디이소프로필, 말레산디부틸, 세바스산디메틸, 아디프산디이소부틸, 세바스산디에틸, 세바스산디이소프로필, 세바스산디부틸 및 세바스산디옥틸에서 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.The organic acid ester (D-1) according to claim 4, wherein the organic acid ester (D-1) is selected from the group consisting of dimethyl adipate, diisopropyl adipate, dibutyl maleate, dimethyl sebacate, diisobutyl adipate, diethyl sebacate, diisopropyl sebacate , Dibutyl sebacate and dioctyl sebacate. &Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 8. &lt; / RTI &gt; 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 베이스 수지 (A)는 (A-1) 로진계 수지 및 (A-2) 합성 수지 중 적어도 한쪽을 포함하고,
상기 합성 수지 (A-2)는 아크릴 수지, 스티렌-말레산 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 페녹시 수지, 테르펜 수지, 폴리알킬렌카르보네이트 및 카르복실기를 갖는 로진계 수지와 다이머산 유도체 유연성 알코올 화합물을 탈수 축합하여 이루어지는 유도체 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 플럭스 조성물.
8. The resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the base resin (A) comprises at least one of (A-1) a rosin-based resin and (A-2)
The synthetic resin (A-2) can be obtained by mixing a rosin-based resin having an acrylic resin, a styrene-maleic acid resin, an epoxy resin, a urethane resin, a polyester resin, a phenoxy resin, a terpene resin, a polyalkylene carbonate, And a derivative compound obtained by dehydrating condensation of an acid derivative flexible alcohol compound.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 플럭스 조성물과, 땜납 합금 분말을 포함하는 것을 특징으로 하는 솔더 페이스트 조성물.A solder paste composition comprising the flux composition according to any one of claims 1 to 8 and a solder alloy powder. 제9항에 있어서, 상기 땜납 합금 분말은 Ag을 2질량% 이상 3.1질량% 이하, Cu를 0질량% 초과 1질량% 이하, Sb을 1질량% 이상 5질량% 이하, Bi를 0.5질량% 이상 4.5질량% 이하, Ni을 0.01질량% 이상 0.25질량% 이하 포함하고, 잔부가 Sn으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 솔더 페이스트 조성물.The solder alloy powder according to claim 9, wherein the solder alloy powder contains 2 mass% or more and 3.1 mass% or less of Ag, 0 mass% or more and 1 mass% or less of Cu, 1 mass% or more and 5 mass% or less of Sb, 0.5 mass% or more 4.5% by mass or less, Ni by 0.01% by mass or more and 0.25% by mass or less, and the remainder being Sn. 제10항에 있어서, 상기 땜납 합금 분말은 Co를 0.001질량% 이상 0.25질량% 이하 더 포함하는 것을 특징으로 하는 솔더 페이스트 조성물.The solder paste composition according to claim 10, wherein the solder alloy powder further contains Co in an amount of not less than 0.001 mass% and not more than 0.25 mass%. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 솔더 페이스트 조성물을 사용하여 형성된 땜납 접합체를 갖는 것을 특징으로 하는 전자 회로 기판.An electronic circuit board characterized by having a solder joint body formed by using the solder paste composition according to any one of claims 9 to 11.
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