JP2020040095A - Flux and solder paste - Google Patents
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Abstract
Description
本発明はフラックス及びソルダペーストに関する。 The present invention relates to flux and solder paste.
プリント配線板、モジュール基板及びシリコンウエハ等の電子回路基板上に形成される導体パターンに電子部品を接合する方法として、ソルダペーストを用いたはんだ接合方法が広く採用されている。この方法では、ソルダペーストを電子回路基板上の所定の位置に印刷し、所定の位置に電子部品を載置し、これを加熱することで、導体パターンと電子部品とをはんだ接合させる。
このソルダペーストの印刷にはメタルマスクが用いられることが多く、具体的には、電子回路基板上に載置したメタルマスクの開口部にスキージを用いてソルダペーストを充填し、その後メタルマスクから電子回路基板を離すことにより電子回路基板側にソルダペーストを転写させる。
この方法によれば、効率的に電子回路基板上にソルダペーストを印刷し得る。しかしソルダペーストの粘度等の条件によっては、ソルダペーストがスキージやメタルマスクの開口部壁面に付着してしまう虞がある。この場合、電子回路基板側に転写されるソルダペーストの体積や形状がメタルマスクの開口設計通りに行われなくなり、はんだ接合に不具合が生じる虞がある。
従って、ソルダペーストにはメタルマスクの開口設計通りにこれを印刷し得る、所謂印刷性が求められる。特に近年は、電子部品の小型化及び電子部品端子間のピッチの微細化が進んでおり、これに伴ってメタルマスクの開口部も更なる微細化が進んでいる。そのため、ソルダペーストには、微細な開口部を有するメタルマスクにも対応し得る印刷性が求められる。
2. Description of the Related Art As a method for joining an electronic component to a conductor pattern formed on an electronic circuit board such as a printed wiring board, a module board, and a silicon wafer, a solder joining method using a solder paste is widely used. In this method, a solder paste is printed at a predetermined position on an electronic circuit board, an electronic component is placed at a predetermined position, and the electronic component is heated, whereby the conductor pattern and the electronic component are soldered.
A metal mask is often used to print this solder paste.Specifically, the opening of the metal mask placed on the electronic circuit board is filled with a solder paste using a squeegee, and then the metal mask is removed from the metal mask. By releasing the circuit board, the solder paste is transferred to the electronic circuit board side.
According to this method, the solder paste can be efficiently printed on the electronic circuit board. However, depending on conditions such as the viscosity of the solder paste, there is a possibility that the solder paste adheres to the opening wall surface of the squeegee or the metal mask. In this case, the volume and shape of the solder paste transferred to the electronic circuit board side are not performed as designed for the opening of the metal mask, and there is a possibility that a problem may occur in solder joining.
Therefore, the solder paste is required to have so-called printability, which allows the solder paste to be printed as designed for the opening of the metal mask. In particular, in recent years, the miniaturization of electronic components and the miniaturization of the pitch between electronic component terminals have been advanced, and accordingly, the opening of the metal mask has been further miniaturized. Therefore, the solder paste is required to have printability that can cope with a metal mask having fine openings.
これまでも、ソルダペーストに良好な印刷性を付与することで、小型及び微細な端子を有する電子部品の実装にも好適に使用できるようにする方法はいくつか提供されており、例えば軟化点または融点が５５℃〜１８０℃、粒径５〜１５０μｍの熱可塑性樹脂微粒子を含有するクリームはんだ（特許文献１）等が存在する。 Until now, there have been provided several methods for imparting good printability to a solder paste so that the solder paste can be suitably used for mounting electronic components having small and fine terminals, such as a softening point or a softening point. There is a cream solder containing thermoplastic resin fine particles having a melting point of 55 ° C. to 180 ° C. and a particle size of 5 to 150 μm (Patent Document 1).
ここで、電子回路実装基板の用途によっては、微細な端子を有する小型の電子部品と従来の大型部品とが混在して電子回路基板に実装されることがある。また高い信頼性が要求される電子回路実装基板の場合、はんだ接合部の信頼性を確保すべく、微細なパターンであっても一定以上の厚みを有するメタルマスクを使用することが少なくない。そしてこのような場合、メタルマスクの厚みは例えば１５０μｍから１６０μｍに設定されることがある。
そして、開口部は微細であって一定以上の厚みを有するメタルマスクは、その開口部のアスペクト比が大きくなるため、ソルダペーストがメタルマスク開口部壁面に付着し易くなる。例えば０．４ｍｍピッチのＱｕａｄ Ｆｌａｔ Ｐａｃｋａｇｅ（ＱＦＰ）に対応するパターン且つ厚み１５０μｍのメタルマスクでスクリーン印刷を行うと、ソルダペーストの転写形状の異常が起こり、転写が安定せず、所謂つの立ちが発生し易い傾向にある。
しかし上記特許文献１には、メタルマスクの開口部が高アスペクト比となるような場合における不具合等とそれを克服する印刷性については言及されていない。
Here, depending on the use of the electronic circuit board, small electronic components having fine terminals and conventional large components may be mixed and mounted on the electronic circuit board. Also, in the case of an electronic circuit mounting board that requires high reliability, a metal mask having a certain thickness or more is often used even in a fine pattern in order to secure the reliability of the solder joint. In such a case, the thickness of the metal mask may be set to, for example, 150 μm to 160 μm.
In a metal mask having a fine opening and a certain thickness or more, the aspect ratio of the opening becomes large, so that the solder paste easily adheres to the wall surface of the metal mask opening. For example, when screen printing is performed using a metal mask having a pattern corresponding to a quad flat package (QFP) having a pitch of 0.4 mm and a thickness of 150 μm, an abnormal transfer shape of the solder paste occurs, the transfer is not stabilized, and so-called standing is generated. It tends to be easy.
However, Patent Literature 1 does not mention a problem or the like in a case where the opening of the metal mask has a high aspect ratio and a printability to overcome the problem.
また微細な端子を有する小型の電子部品と大型部品とを電子回路基板に実装する際に好適に用いられるはんだペースト組成物として、例えばはんだ合金より低融点の熱可塑性樹脂組成物粉末を有するはんだペースト組成物（特許文献２）も存在するものの、当該樹脂（ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアミド樹脂、アミド変成ポリエチレン樹脂）では、形成されたフラックス残渣において他の成分との分離が生じる（フラックス残渣の表面に粒状の凹凸が発生する）虞がある。
フラックス残渣の表面に発生した凸凹は、画像検査工程においてエラー発生の原因となり易く、歩留まりが低くなる虞がある。近年は、フラックス残渣を洗浄せず、電子回路実装基板上に残存させたままとする傾向にあるため、このような成分分離の発生したフラックス残渣は、電子回路実装基板の製造工程において生産効率を低下させる虞がある。
Further, as a solder paste composition preferably used when mounting a small electronic component having a fine terminal and a large component on an electronic circuit board, for example, a solder paste having a thermoplastic resin composition powder having a melting point lower than that of a solder alloy Although a composition (Patent Document 2) exists, in the resin (polyethylene resin, polypropylene resin, polyamide resin, and amide-modified polyethylene resin), the formed flux residue is separated from other components (the surface of the flux residue). (Granular irregularities may be generated on the surface).
Irregularities generated on the surface of the flux residue are likely to cause errors in the image inspection process, and the yield may be reduced. In recent years, there is a tendency for flux residues to remain on the electronic circuit mounting board without being cleaned. There is a risk of lowering.
本発明は上記課題を解決するものであり、メタルマスクの厚み及び開口サイズにかかわらず良好な版離れ性、充填性及び印刷性（つの立ち抑制）を確保しつつ、信頼性の高いフラックス残渣を形成し得るフラックス及びソルダペーストを提供することをその目的とする。 The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and ensures a highly reliable flux residue while ensuring good plate releasability, filling property and printability (reduction of standing) regardless of the thickness and the opening size of a metal mask. It is an object of the present invention to provide a flux and a solder paste that can be formed.
本発明のフラックスは、ベース樹脂（Ａ）と、溶剤（Ｂ）と、活性剤（Ｃ）と、チクソ剤（Ｄ）とを含み、前記ベース樹脂（Ａ）は、アルキレンと（メタ）アクリル酸を含むモノマー類の共重合により得られるアルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）を含み、前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）の配合量は、フラックス全量に対して１０質量％以下である。 The flux of the present invention comprises a base resin (A), a solvent (B), an activator (C), and a thixotropic agent (D), wherein the base resin (A) comprises alkylene and (meth) acrylic acid. Containing an alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) obtained by copolymerizing monomers containing It is 10% by mass or less based on the total amount.
また本発明のフラックスは、下記一般式（１）で表される構造を有する前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）を含むことが好ましい。 Further, the flux of the present invention preferably contains the alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) having a structure represented by the following general formula (1).
また本発明のフラックスは、前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）が、エチレンと（メタ）アクリル酸を含むモノマー類の共重合により得られることが好ましい。 Further, in the flux of the present invention, the alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) is preferably obtained by copolymerizing ethylene and monomers containing (meth) acrylic acid.
また本発明のフラックスは、前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）に含まれる（メタ）アクリル酸単位の含有量が、前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）全体に対して５質量％以上１５質量％以下であることが好ましい。 Further, in the flux of the present invention, the content of the (meth) acrylic acid unit contained in the alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) is such that the alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A -1) It is preferably from 5% by mass to 15% by mass based on the whole.
また本発明のフラックスは、前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）の配合量が、フラックス全量に対して３質量％以上７質量％以下であることが好ましい。 Further, in the flux of the present invention, the compounding amount of the alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) is preferably 3% by mass or more and 7% by mass or less based on the total amount of the flux.
また本発明のソルダペーストは、上記フラックスと、はんだ合金粉末とを含む。 The solder paste of the present invention contains the above-mentioned flux and solder alloy powder.
本発明のフラックス及びソルダペーストによれば、メタルマスクの厚み及び開口サイズにかかわらず良好な版離れ性、充填性及び印刷性（つの立ち抑制）を確保しつつ、信頼性の高いフラックス残渣を形成し得る。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the flux and the solder paste of the present invention, regardless of the thickness and the opening size of the metal mask, a highly reliable flux residue is formed while securing good plate separation property, filling property and printability (reduction of standing). I can do it.
本発明のフラックス及びソルダペーストの一実施形態を以下に詳述する。なお、本発明がこれらの実施形態に限定されないのはもとよりである。 One embodiment of the flux and the solder paste of the present invention will be described in detail below. In addition, it goes without saying that the present invention is not limited to these embodiments.
１．フラックス
本実施形態のフラックスは、ベース樹脂（Ａ）と、溶剤（Ｂ）と、活性剤（Ｃ）と、チクソ剤（Ｄ）とを含む。
1. Flux The flux of the present embodiment contains a base resin (A), a solvent (B), an activator (C), and a thixotropic agent (D).
ベース樹脂（Ａ）
前記ベース樹脂（Ａ）は、アルキレンと（メタ）アクリル酸を含むモノマー類の共重合により得られるアルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）を含むことが好ましい。
Base resin (A)
The base resin (A) preferably contains an alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) obtained by copolymerizing monomers containing alkylene and (meth) acrylic acid.
前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）は、アルキレンと（メタ）アクリル酸を含むモノマー類を公知の方法で共重合することにより生成し得る。なお、本明細書においては、アクリル酸及びメタクリル酸を総称して（メタ）アクリル酸という。 The alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) can be produced by copolymerizing monomers containing alkylene and (meth) acrylic acid by a known method. In this specification, acrylic acid and methacrylic acid are collectively referred to as (meth) acrylic acid.
なお、アルキレンと（メタ）アクリル酸以外のモノマー成分としては、公知のものを用いることができる。 In addition, as a monomer component other than alkylene and (meth) acrylic acid, a known component can be used.
また前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）は、下記一般式（１）で表される構造を有するものが好ましく用いられる。 As the alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1), those having a structure represented by the following general formula (1) are preferably used.
更には、前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）は、エチレンと（メタ）アクリル酸を含むモノマー類の共重合により得られるエチレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）’を含むことが好ましい。 Further, the alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) is an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A) obtained by copolymerizing monomers containing ethylene and (meth) acrylic acid. -1) ′.
また前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）に含まれる（メタ）アクリル酸単位の含有量は、前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）全体に対して５質量％以上１５質量％以下であることが好ましい。更に好ましいその含有量は、５質量％以上１０質量％以下である。 The content of the (meth) acrylic acid unit contained in the alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) is based on the entire alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1). Is preferably 5% by mass or more and 15% by mass or less. More preferably, the content is 5% by mass or more and 10% by mass or less.
前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）の配合量は、フラックス全量に対して１０質量％以下であることが好ましい。より好ましいその配合量は３質量％以上７質量％以下であり、特に好ましいその配合量は、３質量％以上５質量％以下である。 The compounding amount of the alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) is preferably 10% by mass or less based on the total amount of the flux. More preferably, the compounding amount is 3% by mass or more and 7% by mass or less, and particularly preferably, the compounding amount is 3% by mass or more and 5% by mass or less.
前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）の酸価は３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。
また前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）の重量平均分子量は１０，０００Ｍｗ以上１，０００，０００Ｍｗ以下であることが好ましい。更に好ましい重量平均分子量は、２０，０００Ｍｗ以上２００，０００Ｍｗ以下である。
なお、前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）において、アルキレン単位の重量平均分子量は２５０Ｍｗ以上３５，０００Ｍｗ以下であるが好ましく、（メタ）アクリル酸単位の重量平均分子量は７Ｍｗ以上２，８００Ｍｗ以下であることが好ましい。
The acid value of the alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) is preferably 30 mgKOH / g or more and 130 mgKOH / g or less.
The alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) preferably has a weight average molecular weight of 10,000 Mw or more and 1,000,000 Mw or less. A more preferred weight average molecular weight is 20,000 Mw or more and 200,000 Mw or less.
In the alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1), the weight average molecular weight of the alkylene unit is preferably from 250 Mw to 35,000 Mw, and the weight average molecular weight of the (meth) acrylic acid unit is 7 Mw. It is preferably at least 2,800 Mw.
また前記ベース樹脂（Ａ）は、前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）以外の樹脂（その他の樹脂）を含むことができる。
前記その他の樹脂としては、例えばロジン系樹脂、アクリル樹脂、スチレン−マレイン酸樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、テルペン樹脂及びポリアルキレンカーボネート等が挙げられる。これらの中でも、特にロジン系樹脂及びアクリル樹脂が好ましく用いられる。
なお、これらは１種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
Further, the base resin (A) may include a resin (other resin) other than the alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1).
Examples of the other resin include a rosin resin, an acrylic resin, a styrene-maleic acid resin, an epoxy resin, a urethane resin, a polyester resin, a phenoxy resin, a terpene resin, and a polyalkylene carbonate. Among these, rosin-based resins and acrylic resins are particularly preferably used.
In addition, these may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.
前記ロジン系樹脂としては、例えばトール油ロジン、ガムロジン及びウッドロジン等のロジン；ロジンを重合化、水添化、不均一化、アクリル化、マレイン化、エステル化若しくはフェノール付加反応等を行ったロジン誘導体；これらロジンまたはロジン誘導体と不飽和カルボン酸（アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸及びフマル酸等）とをディールス・アルダー反応させて得られる変性ロジン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、特にフラックスの活性化向上の観点から水添ロジン及びアクリル酸変性水添ロジンが好ましく用いられる。
なお、これらは１種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
Examples of the rosin-based resin include rosins such as tall oil rosin, gum rosin, and wood rosin; rosin derivatives obtained by polymerizing, hydrogenating, heterogeneizing, acrylizing, maleating, esterifying, or adding phenol to rosin; A modified rosin resin obtained by a Diels-Alder reaction between these rosins or rosin derivatives and unsaturated carboxylic acids (such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and fumaric acid). Among these, hydrogenated rosin and acrylic acid-modified hydrogenated rosin are preferably used from the viewpoint of improving the activation of the flux.
In addition, these may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.
また前記ロジン系樹脂の酸価は８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上３５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、その質量平均分子量は２５０Ｍｗ以上１，１００Ｍｗ以下であることが好ましい。 The rosin-based resin preferably has an acid value of 80 mgKOH / g to 350 mgKOH / g, and a weight average molecular weight of 250 Mw to 1,100 Mw.
前記アクリル樹脂としては、例えば（メタ）アクリル酸を含むモノマー類を重合することにより生成されるものであればいずれも使用することができる。また当該アクリル樹脂は、１種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。 As the acrylic resin, any resin can be used as long as it is produced by polymerizing monomers containing (meth) acrylic acid. The acrylic resin may be used singly or as a mixture of two or more.
また前記アクリル樹脂の酸価は３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、その質量平均分子量は３，０００Ｍｗ以上３０，０００Ｍｗ以下であることが好ましい。 The acrylic resin preferably has an acid value of 30 mgKOH / g or more and 100 mgKOH / g or less, and a weight average molecular weight of 3,000 Mw or more and 30,000 Mw or less.
前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）と前記その他の樹脂とを併用する場合、その配合量はフラックス全量に対して１０質量％以上６０質量％以下であることが好ましい。更に好ましいその配合量は、２０質量％以上５５質量％以下である。 When the alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) and the other resin are used in combination, the amount thereof is preferably from 10% by mass to 60% by mass based on the total amount of the flux. More preferably, the amount is 20% by mass or more and 55% by mass or less.
前記その他の樹脂としてロジン系樹脂を配合する場合、その配合量はフラックス全量に対し５質量％以上６０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上４０質量％以下であることが更に好ましい。 When a rosin-based resin is blended as the other resin, the blending amount is preferably from 5% by mass to 60% by mass, more preferably from 10% by mass to 40% by mass, based on the total amount of the flux.
また前記その他の樹脂としてアクリル樹脂を配合する場合、その配合量はフラックス全量に対して１０質量％以上６０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以上５０質量％以下であることがより好ましい。 When an acrylic resin is compounded as the other resin, the compounding amount is preferably 10% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 15% by mass or more and 50% by mass or less based on the total amount of the flux. .
また前記その他の樹脂として前記ロジン系樹脂と前記アクリル樹脂とを併用する場合、その配合比率はロジン系樹脂：アクリル樹脂の比率で１０：９０から５０：５０であることが好ましく、１５：８５から４０：６０であることがより好ましい。 When the rosin-based resin and the acrylic resin are used in combination as the other resin, the compounding ratio is preferably from 10:90 to 50:50 in the ratio of rosin-based resin: acrylic resin, and preferably from 15:85. More preferably, the ratio is 40:60.
また前記ベース樹脂（Ａ）全体としての酸価は３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上３５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。 The acid value of the entire base resin (A) is preferably 30 mgKOH / g or more and 350 mgKOH / g or less.
溶剤（Ｂ）
前記溶剤（Ｂ）としては、例えばイソプロピルアルコール、エタノール、アセトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ヘキシルジグリコール、（２−エチルヘキシル）ジグリコール、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、フェニルグリコール、ブチルカルビトール、オクタンジオール、αテルピネオール、βテルピネオール、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、マレイン酸ジブチル、アジピン酸ジブチル、トリメリット酸トリス（２−エチルヘキシル）及びセバシン酸ジイソプロピル等を使用することができる。
なお、これらは１種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
Solvent (B)
Examples of the solvent (B) include isopropyl alcohol, ethanol, acetone, toluene, xylene, ethyl acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, hexyl diglycol, (2-ethylhexyl) diglycol, diethylene glycol monohexyl ether, phenyl glycol, and butyl carbyl. Toll, octanediol, α-terpineol, β-terpineol, tetraethylene glycol dimethyl ether, dibutyl maleate, dibutyl adipate, tris (2-ethylhexyl) trimellitate, diisopropyl sebacate and the like can be used.
In addition, these may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.
前記溶剤（Ｂ）の配合量は、フラックス全量に対して１０質量％以上６５質量％以下であることが好ましい。より好ましいその配合量は２０質量％以上５０質量％以下であり、特に好ましいその配合量は２５質量％以上４５質量％以下である。 The amount of the solvent (B) is preferably from 10% by mass to 65% by mass based on the total amount of the flux. A more preferable amount is 20% by mass or more and 50% by mass or less, and a particularly preferable amount is 25% by mass or more and 45% by mass or less.
活性剤（Ｃ）
前記活性剤（Ｃ）としては、例えばカルボン酸類、ハロゲンを含む化合物等が挙げられる。これらは１種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
Activator (C)
Examples of the activator (C) include carboxylic acids and compounds containing halogen. These may be used alone or in combination of two or more.
前記カルボン酸類としては、例えばモノカルボン酸、ジカルボン酸等並びにその他の有機酸が挙げられる。
前記モノカルボン酸としては、例えばプロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ツベルクロステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、グリコール酸等が挙げられる。
ジカルボン酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、ジグリコール酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等が挙げられる。
また前記その他の有機酸としては、ダイマー酸、レブリン酸、乳酸、アクリル酸、安息香酸、サリチル酸、アニス酸、クエン酸、ピコリン酸、アントラニル酸等が挙げられる。
なお、これらは１種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
Examples of the carboxylic acids include monocarboxylic acids, dicarboxylic acids, and other organic acids.
Examples of the monocarboxylic acid include propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid, tuberculostearic acid, and arachidic acid. , Behenic acid, lignoceric acid, glycolic acid and the like.
Examples of dicarboxylic acids include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, tartaric acid, diglycolic acid, and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid. Acids and the like.
Examples of the other organic acids include dimer acid, levulinic acid, lactic acid, acrylic acid, benzoic acid, salicylic acid, anisic acid, citric acid, picolinic acid, and anthranilic acid.
In addition, these may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.
前記ハロゲンを含む化合物としては、例えば非解離性のハロゲン化合物（非解離型活性剤）、解離性のハロゲン化合物（解離型活性剤）が挙げられる。
前記非解離型活性剤としては、ハロゲン原子が共有結合により結合した非塩系の有機化合物が挙げられ、例えば塩素化物、臭素化物、ヨウ素化物、フッ化物のように塩素、臭素、ヨウ素、フッ素の各単独元素の共有結合による化合物でもよく、また２以上の異なるハロゲン原子を共有結合で結合する化合物でもよい。当該化合物は水性溶媒に対する溶解性を向上させるために、例えばハロゲン化アルコールのように水酸基等の極性基を有することが好ましい。
当該ハロゲン化アルコールとしては、例えば２，３−ジブロモプロパノール、２，３−ジブロモブタンジオール、１，４−ジブロモ−２−ブタノール、トリブロモネオペンチルアルコール等の臭素化アルコール；２−ブロモヘキサン酸等の臭化有機酸；１，３−ジクロロ−２−プロパノール、１，４−ジクロロ−２−ブタノール等の塩素化アルコール；３−フルオロカテコール等のフッ素化アルコール；その他のこれらに類する化合物が挙げられる。これらは１種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
なお、前記活性剤（Ｃ）として好ましいハロゲンを含む化合物は、ジブロモブテンジオールである。
Examples of the compound containing a halogen include a non-dissociative halogen compound (non-dissociative activator) and a dissociable halogen compound (dissociative activator).
Examples of the non-dissociating activator include non-salt organic compounds in which a halogen atom is bonded by a covalent bond, such as chlorinated, brominated, iodinated, and fluorinated chlorine, bromine, iodine, and fluorine. The compound may be a compound formed by a covalent bond of each single element, or a compound formed by covalently bonding two or more different halogen atoms. The compound preferably has a polar group such as a hydroxyl group such as a halogenated alcohol in order to improve the solubility in an aqueous solvent.
Examples of the halogenated alcohol include brominated alcohols such as 2,3-dibromopropanol, 2,3-dibromobutanediol, 1,4-dibromo-2-butanol, and tribromoneopentyl alcohol; 2-bromohexanoic acid; Brominated organic acids; chlorinated alcohols such as 1,3-dichloro-2-propanol and 1,4-dichloro-2-butanol; fluorinated alcohols such as 3-fluorocatechol; and other similar compounds. . These may be used alone or in combination of two or more.
Incidentally, a compound containing a halogen which is preferable as the activator (C) is dibromobutenediol.
前記活性剤（Ｃ）の配合量は、フラックス全量に対して１質量％以上２０質量％以下であることが好ましい。より好ましいその配合量は１質量％以上１５質量％以下であり、特に好ましいその配合量は１質量％以上１０質量％以下である。 The compounding amount of the activator (C) is preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less based on the total amount of the flux. A more preferable amount is 1% by mass or more and 15% by mass or less, and a particularly preferable amount is 1% by mass or more and 10% by mass or less.
チクソ剤（Ｄ）
前記チクソ剤（Ｄ）としては、例えば水素添加ヒマシ油、飽和脂肪酸アミド、飽和脂肪酸ビスアミド類、オキシ脂肪酸類及びジベンジリデンソルビトール類等が挙げられる。
なお、これらは１種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
Thixotropic agent (D)
Examples of the thixotropic agent (D) include hydrogenated castor oil, saturated fatty acid amides, saturated fatty acid bisamides, oxy fatty acids, and dibenzylidene sorbitol.
In addition, these may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.
前記チクソ剤（Ｄ）の配合量は、フラックス全量に対して１質量％以上１０質量％以下が好ましい。更に好ましいその配合量は、２質量％以上９質量％以下である。 The mixing amount of the thixotropic agent (D) is preferably from 1% by mass to 10% by mass with respect to the total amount of the flux. A more preferable blending amount is 2% by mass or more and 9% by mass or less.
酸化防止剤
本実施形態のフラックスには、はんだ合金粉末の酸化を抑える目的で酸化防止剤を配合することができる。このような酸化防止剤としては、例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、ビスフェノール系酸化防止剤、ポリマー型酸化防止剤等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中でも特にヒンダードフェノール系酸化防止剤が好ましく用いられる。このヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えばイルガノックス２４５（ＢＡＳＦジャパン（株）製）等が挙げられる。
なお、これらは１種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
Antioxidant An antioxidant can be added to the flux of the present embodiment for the purpose of suppressing oxidation of the solder alloy powder. Examples of such antioxidants include, but are not limited to, hindered phenolic antioxidants, phenolic antioxidants, bisphenol antioxidants, and polymer antioxidants. Among these, hindered phenol-based antioxidants are particularly preferably used. Examples of the hindered phenol-based antioxidant include Irganox 245 (manufactured by BASF Japan Ltd.).
In addition, these may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.
前記酸化防止剤の配合量は特に限定されないが、一般的にはフラックス全量に対して０．５質量％以上１０質量％程度以下であることが好ましい。 Although the amount of the antioxidant is not particularly limited, it is generally preferable that the amount be 0.5% by mass or more and 10% by mass or less based on the total amount of the flux.
また本実施形態のフラックスには、消泡剤、防錆剤、界面活性剤、熱硬化剤、つや消し剤等の添加剤を配合することができる。当該添加剤の配合量は、フラックス全量に対して１０質量％以下、特に５質量％以下であることが好ましい。
なお、これらは１種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。
In addition, additives such as an antifoaming agent, a rust preventive, a surfactant, a thermosetting agent, and a matting agent can be added to the flux of the present embodiment. The amount of the additive is preferably 10% by mass or less, particularly preferably 5% by mass or less based on the total amount of the flux.
In addition, these may be used individually by 1 type or in mixture of multiple types.
本実施形態のフラックスは、前記ベース樹脂（Ａ）がアルキレンと（メタ）アクリル酸を含むモノマー類の共重合により得られるアルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）を含むことから、フラックスのすべり性が向上し得る。また特に、エチレンと（メタ）アクリル酸を含むモノマー類の共重合により得られるエチレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）’を含む場合、当該効果を更に発揮し得る。
そのため、メタルマスクの開口部が高アスペクト比となるような場合においても良好な版離れ性を発揮することができ、このような条件下でも充填性、印刷性（つの立ち抑制）が安定し、良好な転写を実現することができる。
更には、このようなフラックスは、形成されたフラックス残渣の成分分離の発生を抑制し、信頼性の高いフラックス残渣を提供することができる。
In the flux of the present embodiment, the base resin (A) contains an alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) obtained by copolymerizing monomers containing alkylene and (meth) acrylic acid. And the sliding property of the flux can be improved. In particular, when the composition contains an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) ′ obtained by copolymerizing monomers containing ethylene and (meth) acrylic acid, the effect can be further exerted.
Therefore, even when the opening portion of the metal mask has a high aspect ratio, it is possible to exhibit good plate separation, and even under such conditions, the filling property and the printing property (suppression of standing) are stable, Good transfer can be realized.
Furthermore, such a flux can suppress occurrence of component separation of the formed flux residue, and can provide a highly reliable flux residue.
（２）ソルダペースト
本実施形態のソルダペーストは、上記フラックスとはんだ合金粉末とを混合することにより得られる。
前記はんだ合金粉末としては、例えば錫及び鉛を含む合金、錫及び鉛並びに銀、ビスマス及びインジウムの少なくとも１種を含む合金、錫及び銀を含む合金、錫及び銅を含む合金、錫、銀及び銅を含む合金、錫及びビスマスを含む合金等を用いることができる。またこれら以外にも、例えば錫、鉛、銀、ビスマス、インジウム、銅、亜鉛、ガリウム、アンチモン、金、パラジウム、ゲルマニウム、ニッケル、クロム、アルミニウム、リン等を適宜組合せたはんだ合金粉末を使用することができる。なお、上記に挙げた元素以外であってもその組合せに使用することは可能である。
(2) Solder paste The solder paste of the present embodiment is obtained by mixing the above-mentioned flux and solder alloy powder.
Examples of the solder alloy powder include alloys containing tin and lead, tin and lead, and silver, alloys containing at least one of bismuth and indium, alloys containing tin and silver, alloys containing tin and copper, tin, silver and An alloy containing copper, an alloy containing tin and bismuth, or the like can be used. In addition to these, for example, using a solder alloy powder appropriately combined with tin, lead, silver, bismuth, indium, copper, zinc, gallium, antimony, gold, palladium, germanium, nickel, chromium, aluminum, phosphorus, and the like. Can be. It should be noted that elements other than those listed above can be used in combinations thereof.
前記はんだ合金粉末の配合量は、ソルダペースト全量に対して６５質量％以上９５質量％以下であることが好ましい。より好ましいその配合量は８５質量％以上９３質量％以下であり、特に好ましいその配合量は８８質量％以上９１質量％以下である。 The amount of the solder alloy powder is preferably 65% by mass or more and 95% by mass or less based on the total amount of the solder paste. A more preferable blending amount is 85% by mass or more and 93% by mass or less, and a particularly preferable amount is 88% by mass or more and 91% by mass or less.
更に前記はんだ合金粉末の粒子径は、２０μｍ以上３８μｍ以下であることが好ましい。なお、当該粒子径は、動的光散乱式の粒子径測定装置により測定し得る。 Further, the particle diameter of the solder alloy powder is preferably 20 μm or more and 38 μm or less. The particle size can be measured by a dynamic light scattering type particle size measuring device.
また、本実施形態のフラックスと前記はんだ合金粉末との混合方法としては、混合に使用する混練機の容器内の圧力を−１０１Ｋｐａになるまで真空引きして行うことが好ましい。このような条件下で混練を行うことにより、ソルダペーストの印刷性を更に向上することができる。 In addition, as a method of mixing the flux of the present embodiment and the solder alloy powder, it is preferable that the pressure in the container of the kneading machine used for mixing is reduced to −101 Kpa. By performing kneading under such conditions, the printability of the solder paste can be further improved.
本実施形態のソルダペーストは、上記フラックスを使用することにより、ソルダペーストのすべり性を向上し得る。
そのため、メタルマスクの開口部が高アスペクト比となるような場合においても良好な版離れ性を発揮することができ、このような条件下でも充填性、印刷性（つの立ち抑制）が安定し、良好な転写を実現することができる。
更には、このようなソルダペーストは、形成されたフラックス残渣の成分分離の発生を抑制し、信頼性の高いフラックス残渣を提供することができる。
The solder paste of the present embodiment can improve the slipperiness of the solder paste by using the above flux.
Therefore, even when the opening portion of the metal mask has a high aspect ratio, it is possible to exhibit good plate separation, and even under such conditions, the filling property and the printing property (suppression of standing) are stable, Good transfer can be realized.
Furthermore, such a solder paste can suppress occurrence of component separation of the formed flux residue, and can provide a highly reliable flux residue.
なお、上記においてはフラックスをソルダペーストに使用する実施形態について説明したが、本実施形態におけるフラックスの用途はこれに限定されず、例えばはんだボール用ボンドフラックス等の他のフラックス用途にも種々適用可能である。 In the above, the embodiment in which the flux is used for the solder paste has been described. However, the application of the flux in the present embodiment is not limited to this, and can be variously applied to other flux applications such as a solder ball bond flux. It is.
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を詳述する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples. Note that the present invention is not limited to these examples.
表１に記載の各成分を混練し、実施例１から７、並びに比較例１から３に係る各フラックスを作製した。
また上記各フラックス１０．５質量％と、Ｓｎ−３Ａｇ−０．５Ｃｕはんだ合金粉末（粒径２０μｍから３８μｍ）８９．５質量％とを混合し、実施例１から７、並びに比較例１から３に係る各ソルダペーストを作製した。なお、各ソルダペーストの作製にあたり、フラックスとはんだ合金粉末との混練においては、混練機の容器内の圧力が−１０１Ｋｐａになるまで真空引きした後、混練を行った。
なお、特に記載のない限り、表１に記載の数値は質量％を意味するものとする。
Each component described in Table 1 was kneaded to produce fluxes according to Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 3.
Further, 10.5% by mass of each of the above fluxes and 89.5% by mass of Sn-3Ag-0.5Cu solder alloy powder (particle size: 20 μm to 38 μm) were mixed, and Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 3 were mixed. Were prepared. In the preparation of each solder paste, in kneading the flux and the solder alloy powder, kneading was performed after evacuation was performed until the pressure in the container of the kneader became -101 Kpa.
Unless otherwise specified, the numerical values described in Table 1 mean mass%.
※２ シグマ アルドリッチ社製 アクリル酸単位の含有量５質量％（カタログ記載値）
※３ アクリル酸単位の含有量１０質量％（カタログ記載値）のエチレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂 ＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製
※４ シグマ アルドリッチ社製 アクリル酸単位の含有量１５質量％（カタログ記載値）
※５ シグマ アルドリッチ社製 アクリル酸単位の含有量２０質量％（カタログ記載値）
※６ ポリエチレン樹脂（アクリル酸単位の含有量０質量％） シャムロック テクノロジーズ社製
※７ 高級脂肪酸ポリアマイド 共栄社化学（株）製
※８ ヒンダードフェノール系酸化防止剤 ＢＡＳＦジャパン（株）製
* 2 Sigma Aldrich Acrylic acid unit content 5% by mass (value described in catalog)
* 3 Ethylene- (meth) acrylic acid copolymer resin with an acrylic acid unit content of 10% by mass (value described in the catalog) manufactured by ExxonMobil Chemical
* 4 Sigma-Aldrich Acrylic acid unit content 15% by mass (value described in catalog)
* 5 Sigma-Aldrich Acrylic acid unit content 20% by mass (value described in catalog)
* 6 Polyethylene resin (content of acrylic acid unit: 0% by mass) * 7 Shamrock Technologies Co., Ltd. * 7 Higher fatty acid polyamide Kyoeisha Chemical Co., Ltd. * 8 Hindered phenolic antioxidant BASF Japan Co., Ltd.
＜印刷性試験＞
以下の用具を用意した。
・ピン０．５ｍｍピッチのＱＦＰ（パッケージサイズ：１４ｍｍ×１４ｍｍ×１ｍｍ）に対応するソルダレジストと電極（１１８０μｍ×２０３μｍ）を備えたプリント配線板
・前記電極のパターンと同じパターンを有するメタルマスク（厚さ：１５０μｍ）
※上記メタルマスクの開口部のアスペクト比は１．７３
実施例及び比較例に係る各ソルダペーストを、印刷機（製品名：ＳＰ６０Ｐ−Ｌ、パナソニック（株）製）及び前記メタルマスクを用い、前記プリント配線板に印刷した。
この印刷では、ソルダペースト１種につき、計９枚の前記プリント配線板に印刷を行った。具体的には、ソルダペースト１種につき、捨て刷りとして２枚の前記プリント配線板に連続印刷した後、更に７枚の前記プリント配線板に連続印刷した。また印刷時の条件はスキージ速度：１００ｍｍ／秒、版離れ速度：１０ｍｍ／秒に設定した。
各ソルダペーストを７枚連続で印刷した前記プリント配線板を各試験基板とし、それぞれの試験基板上に印刷された各ソルダペースト（ソルダペースト１種につき、１００ピン（か所）×７枚＝７００か所）の３次元形状について画像検査機（製品名：ａＳＰＩｒｅ２、（株）コーヨンテクノロジー製）を用いて観察し、全印刷部分の転写率（％）を算出した。
上記転写率から、各ソルダペーストの転写率の標準偏差（σ）と平均（ａｖ）を計算した。そしてその結果に基づき、以下の計算式（１）及び（２）で算出した値の小さい方を各ソルダペーストの工程性能指数（Ｐｐｋ）とした。なお、Ｐｐｋの算出に際しては、生産性の観点から規格上限を１３０％、規格下限を７０％に設定した。
（１３０−ａｖ）／（３×σ） … 計算式（１）
（ａｖ−７０）／（３×σ） … 計算式（２）
そして、算出した各ソルダペーストのＰｐｋについて、以下の基準にて評価した。その結果を表２に表す。
◎◎：１．８超
◎：１．６超１．８以下
〇：１．５超１．６以下
△：１．３超１．５以下
×：１．３以下
<Printability test>
The following tools were prepared.
-A printed wiring board provided with solder resist corresponding to QFP (package size: 14 mm x 14 mm x 1 mm) having pins of 0.5 mm pitch and electrodes (1180 µm x 203 µm)-Metal mask (thickness) having the same pattern as the electrode pattern (150 μm)
* The aspect ratio of the metal mask opening is 1.73.
Each solder paste according to Examples and Comparative Examples was printed on the printed wiring board using a printing machine (product name: SP60P-L, manufactured by Panasonic Corporation) and the metal mask.
In this printing, printing was performed on a total of nine pieces of the printed wiring board for each type of solder paste. Specifically, one kind of solder paste was continuously printed on two printed wiring boards as discard printing, and then continuously printed on seven printed wiring boards. The printing conditions were set at a squeegee speed of 100 mm / sec and a plate separation speed of 10 mm / sec.
The printed wiring board on which seven solder pastes were continuously printed was used as each test board, and each solder paste printed on each test board (100 pins (places) × 7 boards = 700 pieces per solder paste) The three-dimensional shape was observed using an image inspection machine (product name: aSPIre2, manufactured by Koyon Technology Co., Ltd.), and the transfer rate (%) of all printed portions was calculated.
From the transfer rates, the standard deviation (σ) and average (av) of the transfer rates of the respective solder pastes were calculated. Then, based on the result, the smaller of the values calculated by the following formulas (1) and (2) was taken as the process performance index (Ppk) of each solder paste. In calculating Ppk, the upper limit of the standard was set to 130% and the lower limit of the standard was set to 70% from the viewpoint of productivity.
(130−av) / (3 × σ) Equation (1)
(Av−70) / (3 × σ) Equation (2)
Then, the calculated Ppk of each solder paste was evaluated according to the following criteria. Table 2 shows the results.
◎ ◎: more than 1.8 ◎: more than 1.6 1.8 or less 〇: more than 1.5 1.6 or less △: more than 1.3 1.5 or less ×: 1.3 or less
また上記印刷性試験において、一例として実施例１に係るソルダペーストのＰｐｋの算出に用いた各試験基板（７枚）のそれぞれの転写率（％）の最大値、最小値及び平均値を表２に表す。
また、実施例１に係るソルダペーストの各試験基板（７枚）について算出した転写率（％）に基づき算出した標準偏差（σ）と平均（ａｖ）、計算式（１）で算出した値、計算式（２）で算出した値及びＰｐｋを表３に表す。
なお、標準偏差（σ）は、１００ピン（か所）×７枚＝７００か所全体での転写率に基づき算出されたものである。また平均（ａｖ）は、１００ピン（か所）×７枚＝７００か所全体での転写率に基づき算出された平均値である。
In the printability test, as an example, the maximum value, the minimum value, and the average value of the transfer rates (%) of the test substrates (seven sheets) used for calculating the Ppk of the solder paste according to Example 1 are shown in Table 2. To
Further, a standard deviation (σ) and an average (av) calculated based on a transfer rate (%) calculated for each test substrate (seven sheets) of the solder paste according to Example 1, a value calculated by the calculation formula (1), Table 3 shows the values and Ppk calculated by equation (2).
Note that the standard deviation (σ) is calculated based on the transfer rate at all of the 100 pins (locations) × 7 = 700 locations. Further, the average (av) is an average value calculated based on the transfer rate in all of the 700 pins (100 pins (locations) × 7 sheets).
＜残渣分離確認試験＞
上記印刷性試験で作成した各試験基板をリフロー炉（製品名：ＴＮＰ−５３８ＥＭ、（株）タムラ製作所製）を用いて加熱し、各試験基板上にはんだ接合部とフラックス残渣とを形成した。この際のリフロー条件は、プリヒートを１７０℃から１９０℃で１１０秒間、ピーク温度を２４５℃とし、２００℃以上の時間が６５秒間、２２０℃以上の時間が４５秒間、ピーク温度から２００℃までの冷却速度を３℃から８℃／秒とし、酸素濃度は１，０００±５００ｐｐｍに設定した。
各試験基板上に形成された各フラックス残渣について、その表面に粒状の凹凸が発生している（残渣分離が発生している）かどうかを目視で確認した。その結果を表２に表す。
<Residue separation confirmation test>
Each test substrate prepared in the above printability test was heated using a reflow furnace (product name: TNP-538EM, manufactured by Tamura Corporation) to form a solder joint and a flux residue on each test substrate. The reflow conditions at this time were preheating at 170 ° C to 190 ° C for 110 seconds, peak temperature at 245 ° C, time of 200 ° C or more for 65 seconds, time of 220 ° C or more for 45 seconds, and peak temperature to 200 ° C. The cooling rate was from 3 ° C. to 8 ° C./sec, and the oxygen concentration was set at 1,000 ± 500 ppm.
With respect to each flux residue formed on each test substrate, it was visually confirmed whether or not granular irregularities occurred on the surface (residue separation had occurred). Table 2 shows the results.
以上に示す通り、本実施例に係るフラックスは、メタルマスクの開口部のアスペクト比が高い条件下においても転写率のバラツキが小さく、高い印刷精度を発揮し得ることが分かる。特に実施例１、２、４及び５、その中でも特に実施例１及び４は非常に良好な結果を示すことが分かる。
また本実施例に係るフラックスは、高い印刷精度を発揮しつつ、フラックス残渣の成分分離の発生も抑制し得ることから、高い信頼性を保つことができる。
なお、印刷性試験のうち比較例２については、比較例２に係るフラックスはエチレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂の配合量が１２質量％であったため、印刷時にソルダペーストがメタルマスク上で適切にローリングせず、プリント配線板上にほとんど転写されないため、転写率が×という結果となった。
As described above, it can be seen that the flux according to the present example has a small variation in the transfer rate even under the condition that the aspect ratio of the opening of the metal mask is high, and can exhibit high printing accuracy. In particular, Examples 1, 2, 4, and 5, and particularly, Examples 1 and 4 show very good results.
Further, the flux according to the present embodiment can maintain high reliability because it can suppress occurrence of component separation of the flux residue while exhibiting high printing accuracy.
In the printability test, for Comparative Example 2, the flux according to Comparative Example 2 contained 12% by mass of the ethylene- (meth) acrylic acid copolymer resin, so that the solder paste was printed on the metal mask during printing. Since it was not properly rolled and hardly transferred onto the printed wiring board, the transfer rate was x.
Claims (6)
前記ベース樹脂（Ａ）は、アルキレンと（メタ）アクリル酸を含むモノマー類の共重合により得られるアルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）を含み、
前記アルキレン−（メタ）アクリル酸共重合樹脂（Ａ−１）の配合量は、フラックス全量に対して１０質量％以下であることを特徴とするフラックス。 A flux containing a base resin (A), a solvent (B), an activator (C), and a thixotropic agent (D),
The base resin (A) includes an alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) obtained by copolymerizing monomers including alkylene and (meth) acrylic acid,
A flux, wherein the blending amount of the alkylene- (meth) acrylic acid copolymer resin (A-1) is 10% by mass or less based on the total amount of the flux.
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