JP2010137283A - Flux composition for lead-free solder and lead-free solder paste - Google Patents

Flux composition for lead-free solder and lead-free solder paste Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flux composition for lead-free solder, by which heating slump can be suppressed even at 180°C when it is generated by a solvent or fluid resin in solder paste in preheating the solder paste, and by which superior wettability can be manifested when halogenated compound more effective than organic acid for the solder wettability is extremely reduced (≤0.09 wt.% in terms of chlorine amount and bromine amount, with their total ≤0.15 wt.%). <P>SOLUTION: The flux composition for lead-free solder is used which contains (A) polyamide resin with a melting point ≥200°C and (B) rosin esters (B1) and/or polymerized rosin (B2) and which has an acid number of the flux composition 40 to 100 mg-KOH/g. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、鉛フリーはんだ用フラックス組成物及び鉛フリーはんだペーストに関する。 The present invention relates to a flux composition for lead-free solder and a lead-free solder paste.

電子機器には電子部品を搭載したプリント回路基板が用いられているが、プリント回路基板にコンデンサや抵抗等を固定し、電気的に接続するために、通常、はんだ付けが行われている。プリント回路基板に電子部品をはんだ付けするには、通常、プリント基板にはんだペーストを印刷し、次いでチップ型電子部品を印刷されたはんだ上へ載せ、180℃前後でプリヒートを行い、プリヒートを行った後更に240℃前後に加熱し、はんだペーストを溶融させてはんだ付けする、いわゆるリフローはんだ付方法が行われている。また、最近では電子部品の小型化から、生産性に優れた一括加熱方式を有するリフローはんだ付け方法がしばしば用いられている。 A printed circuit board on which electronic components are mounted is used in electronic equipment, but soldering is usually performed to fix a capacitor, a resistor, and the like to the printed circuit board for electrical connection. In order to solder an electronic component to a printed circuit board, usually, a solder paste is printed on the printed circuit board, and then a chip-type electronic component is placed on the printed solder, preheated at around 180 ° C., and preheated. Thereafter, a so-called reflow soldering method is performed in which the solder paste is melted and soldered by further heating to around 240 ° C. In recent years, a reflow soldering method having a batch heating method with excellent productivity is often used due to the miniaturization of electronic components.

近年、プリント回路基板における表面実装は、高密度化の方向にあり、微小かつ軽量で例えば1608チップ(縦1.6mm、横0.8mm)が多数使用されている。しかし最近の電子部品は更に小型化の傾向にあり、携帯電話や薄型テレビなどの電装機器では0402(縦0.4mm、横0.2mm)などの微小チップが使用されるようになってきている。このため、はんだペーストをスクリーン印刷する際には微小チップ化に伴いマスク開口部が小さくなるため、良好な印刷を実現しようとすると、はんだ金属の微粉化が必要となる。 In recent years, surface mounting on a printed circuit board is in the direction of higher density, and it is minute and lightweight, and for example, a large number of 1608 chips (1.6 mm in length and 0.8 mm in width) are used. However, recent electronic components have been further reduced in size, and microchips such as 0402 (0.4 mm in length, 0.2 mm in width) have come to be used in electrical equipment such as mobile phones and flat-screen TVs. . For this reason, when the solder paste is screen-printed, the mask opening becomes smaller as the chip size is reduced. Therefore, to achieve good printing, it is necessary to pulverize the solder metal.

しかし、はんだペーストは、スクリーン印刷された塗布膜がプリヒート時に流動化して、塗布時の形を維持できず平坦化する、いわゆるだれ性(加熱だれ)の問題がある。特に最近の上記の小型チップやリード間隔の細密な電子部品を高密度実装するプリント回路基板のピッチの狭いはんだ付けにおいては、そのだれ性のために所定の塗布された位置よりはみ出て隣接塗布膜と接触する。これをそのまま加熱してはんだ付を行うと、はんだ付ランド間にはんだの橋架けであるはんだブリッジを形成して、回路が短絡するという問題がある。また、高密度実装を達成するために、微粉化されたはんだ粒子は、はんだペースト中に含まれる溶剤や流動性を有する樹脂によって流されやすいため、加熱だれがより発生しやすいという問題がある。さらに所定の位置から塗布膜がはみ出ると、その溶融後にチップ部品の脇に微小なボール状のいわゆるはんだボールが生じ、振動等によりそのはんだボールが脱落し、回路を短絡させたり、はんだ付ランド間の絶縁抵抗を低下させる。このように、回路の短絡や、絶縁抵抗の低下が起こると、回路の電気的な信頼性を損なう等の問題が発生する。このような問題を解決する方法として、例えば、特定のポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコールブロックポリマーを用いる方法が提案されている(特許文献1)。当該方法によれば、150℃前後に加熱するプリヒートにおいては、加熱だれの改善はできるものの、更に高温のプリヒートでは加熱だれを誘発する可能性があるので、高温プリヒートのリフローには対応できなかった。 However, the solder paste has a problem of so-called drooling (heating dripping), in which a screen-printed coating film is fluidized during preheating, and the shape at the time of coating cannot be maintained and flattened. Especially in the recent soldering with a narrow pitch of printed circuit boards on which the above-mentioned small chips and electronic components with fine lead intervals are mounted at high density, the adjacent coating film protrudes from a predetermined coating position due to its drooling property. In contact with. When this is heated as it is and soldered, a solder bridge, which is a bridge of solder, is formed between the solder lands, and there is a problem that the circuit is short-circuited. In addition, in order to achieve high-density mounting, the pulverized solder particles are likely to be washed away by a solvent contained in the solder paste or a resin having fluidity, so that there is a problem that heating dripping is more likely to occur. Furthermore, if the coating film protrudes from a predetermined position, a so-called small solder ball is formed on the side of the chip part after melting, and the solder ball falls off due to vibration or the like, and the circuit is short-circuited or between the soldered lands. Reduce the insulation resistance. As described above, when the circuit is short-circuited or the insulation resistance is lowered, problems such as deterioration of the electrical reliability of the circuit occur. As a method for solving such a problem, for example, a method using a specific polyethylene glycol-polypropylene glycol-polyethylene glycol block polymer has been proposed (Patent Document 1). According to this method, in the preheating that is heated to around 150 ° C., the heating dripping can be improved, but the higher temperature preheating may induce the heating dripping, so that it could not cope with the reflow of the high temperature preheating. .

また、近年、ハロゲン化合物を含有した廃棄物を焼却すると、ダイオキシンが発生する場合があることから、ハロゲン化合物を含有しない商品開発が進んでおり、はんだ分野においても極力ハロゲン化合物を含まないはんだが求められるようになってきている。一般的には、臭素量もしくは塩素量がそれぞれ0.09重量%以下、または塩素量と臭素量の合計が0.15重量%以下のフラックス組成物はハロゲンフリーフラックスと考えられている。   In recent years, when waste containing halogen compounds is incinerated, dioxins may be generated. Therefore, product development that does not contain halogen compounds is progressing, and there is a need for solders that do not contain halogen compounds as much as possible. It is getting to be. In general, a flux composition in which the bromine amount or the chlorine amount is 0.09% by weight or less, or the total amount of chlorine and bromine is 0.15% by weight or less is considered a halogen-free flux.

しかし、はんだペーストには、はんだ接合時に、はんだ表面やランド表面上の酸化物を還元し、酸化膜を除去する清浄化作用のためにハロゲン化合物が用いられており、ハロゲン化合物を添加しない場合には清浄化作用が低下し、はんだ金属の濡れ不良が起こりうる。濡れ不良が生じると、加熱だれやはんだボールが発生しやすくなる。   However, the solder paste uses a halogen compound for the cleaning action of reducing oxides on the solder surface and land surface and removing the oxide film during solder joining. May reduce the cleaning action and cause solder metal wetting failure. When wetting failure occurs, heating dripping and solder balls are likely to occur.

特開2002−336993号公報JP 2002-336993 A

本発明の主な目的は、リフローはんだ付工程のプリヒート時におけるだれ性を改善したはんだペースト組成物及びリフローはんだ付方法を提供することであり、さらに、ハロゲン化合物を含まないような場合でも、電極金属やはんだ金属表面の酸化膜を除去する清浄化作用が良好なはんだフラックス組成物を提供することである。 The main object of the present invention is to provide a solder paste composition and a reflow soldering method that have improved drooping properties during preheating in a reflow soldering process, and even when no halogen compound is contained, the electrode An object of the present invention is to provide a solder flux composition having a good cleaning action for removing an oxide film on a metal or solder metal surface.

本発明者は前記課題を解決すべく、鋭意検討した結果、特定のポリアミド樹脂と特定のロジン系樹脂を用い、さらに、フラックスの酸価を調整することにより、前記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the above problems can be solved by using a specific polyamide resin and a specific rosin resin and further adjusting the acid value of the flux. The present invention has been completed.

すなわち、本発明は、(A)融点が200℃より高いポリアミド樹脂並びに(B)ロジンエステル類(B1)及び/又は重合ロジン(B2)を含有し、且つフラックス組成物の酸価が40mgKOH/g以上100mgKOH/g以下である鉛フリーはんだ用フラックス組成物;当該フラックス組成物を含有する鉛フリーはんだペーストに関する。   That is, the present invention comprises (A) a polyamide resin having a melting point higher than 200 ° C. and (B) rosin ester (B1) and / or polymerized rosin (B2), and the flux composition has an acid value of 40 mgKOH / g. The present invention relates to a lead-free solder flux composition of 100 mgKOH / g or less; a lead-free solder paste containing the flux composition.

本発明によれば、微粉仕様のはんだペーストにおけるリフローはんだ付け工程のプリヒート時のだれ性を改善してはんだブリッジやはんだボールの発生を防止することができる。これにより微小チップ部品における、回路短絡によるはんだ付け不良を一層少なくできるはんだペースト組成物を提供することができる。また、本発明のはんだフラックス用組成物は、臭素量もしくは塩素量をそれぞれ0.09重量%以下、または塩素量と臭素量の合計を0.15重量%以下にすることによりハロゲンフリーフラックス組成物としたものであるが、清浄化作用にも優れるものである。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, generation | occurrence | production of a solder bridge and a solder ball can be prevented by improving the dripping property at the time of preheating of the reflow soldering process in the solder paste of fine powder specifications. As a result, it is possible to provide a solder paste composition that can further reduce soldering failure due to a short circuit in a microchip component. Further, the solder flux composition of the present invention is a halogen-free flux composition in which the bromine content or the chlorine content is 0.09% by weight or less, or the total of the chlorine content and the bromine content is 0.15% by weight or less. However, it also has an excellent cleaning effect.

実施例1〜10で得られた鉛フリーはんだペーストをJIS Z 3284 附属書7に準拠し、評価を行った評価片である。It is the evaluation piece which evaluated the lead-free solder paste obtained in Examples 1-10 based on JIS Z 3284 Annex 7. 比較例1〜6で得られた鉛フリーはんだペーストをJIS Z 3284 附属書7に準拠し、評価を行った評価片である。It is the evaluation piece which evaluated the lead-free solder paste obtained by Comparative Examples 1-6 based on JISZ3284 appendix 7. FIG.

本発明の鉛フリーはんだ用フラックス組成物は、(A)融点が200℃より高いポリアミド樹脂(以下、(A)成分という)並びに(B)ロジンエステル類(B1)(以下、(B1)成分という)及び/又は重合ロジン(B2)(以下、(B2)成分という)を含有し(以下、(B1)成分及び/又は(B2)成分を(B)成分という)、且つフラックス組成物の酸価が40mgKOH/g以上100mgKOH/g以下であることを特徴とする。   The flux composition for lead-free solder of the present invention comprises (A) a polyamide resin having a melting point higher than 200 ° C. (hereinafter referred to as “component (A)”) and (B) rosin esters (B1) (hereinafter referred to as “component (B1)”. ) And / or polymerized rosin (B2) (hereinafter referred to as component (B2)) (hereinafter referred to as component (B1) and / or (B2) as component (B)), and the acid value of the flux composition Is 40 mgKOH / g or more and 100 mgKOH / g or less.

本発明で用いる(A)成分は、融点が200℃より高いポリアミド樹脂であれば、特に限定されず、公知のものを使用することができる。ポリアミド樹脂の融点が200℃以下の場合は加熱だれの抑制効果が弱くなるため好ましくない。このようなポリアミド樹脂としては、例えば、ポリアミド6(融点225℃)、ポリアミド66(融点268℃)、ダイセルエボニック(株)製のD22(融点220℃)、三井化学(株)製アーレン(融点320℃)、(株)クラレ製ジェネスタ(融点306℃)、三菱エンジニアリングプラスチック(株)製レニー(ナイロンMXD6(融点243℃))などがあげられる。なお、融点はDSC(示差走査熱量測定)装置を用いてポリアミドを加熱した際に行われる吸熱反応のピーク温度から算出した値である。   (A) component used by this invention will not be specifically limited if melting | fusing point is higher than 200 degreeC, A well-known thing can be used. When the melting point of the polyamide resin is 200 ° C. or lower, the effect of suppressing heating dripping becomes weak, which is not preferable. Examples of such polyamide resins include polyamide 6 (melting point 225 ° C.), polyamide 66 (melting point 268 ° C.), D22 (melting point 220 ° C.) manufactured by Daicel Evonik Co., Ltd., and Allen (melting point 320) manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. ° C), Kuraray Co., Ltd. Genesta (melting point 306 ° C), Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd. Reny (nylon MXD6 (melting point 243 ° C)), and the like. In addition, melting | fusing point is the value computed from the peak temperature of the endothermic reaction performed when a polyamide is heated using a DSC (differential scanning calorimetry) apparatus.

(A)成分の使用量は特に限定されないが、フラックス組成物全体の1重量%〜5重量%とすることが好ましく、1.5重量%〜4重量%とすることがより好ましい。1重量%以上とすることにより、加熱だれの抑制効果は著しく向上し、5重量%以下とすることで、はんだペーストの粘度を適度に保つことができるため印刷性が向上する。   Although the usage-amount of (A) component is not specifically limited, It is preferable to set it as 1 to 5 weight% of the whole flux composition, and it is more preferable to set it as 1.5 to 4 weight%. When the content is 1% by weight or more, the effect of suppressing heating dripping is remarkably improved, and when the content is 5% by weight or less, the viscosity of the solder paste can be appropriately maintained, so that the printability is improved.

本発明で用いる(B)成分は、(B1)成分及び/又は(B2)成分を含有する成分である。(B1)成分は、ロジン類(b1)(以下、(b1)成分という)をアルコール類(b2)と反応させることにより得られる。   The component (B) used in the present invention is a component containing the component (B1) and / or the component (B2). Component (B1) can be obtained by reacting rosin (b1) (hereinafter referred to as component (b1)) with alcohol (b2).

(B1)成分を調製する際に用いる(b1)成分としては、ガムロジン、ウッドロジン、トール油ロジンのような天然ロジン類、または、当該天然ロジン類に、変性、水素化、不均化、後述する重合等の各種公知の操作を少なくとも1つ加えて得られるロジン誘導体が挙げられる。なお、この公知操作を複数組み合わせる場合には、その順番は特に限定されない。 The component (b1) used in preparing the component (B1) is a natural rosin such as gum rosin, wood rosin, tall oil rosin, or modified, hydrogenated, disproportionated to the natural rosin, which will be described later. Examples thereof include rosin derivatives obtained by adding at least one of various known operations such as polymerization. In addition, when combining this well-known operation with two or more, the order is not specifically limited.

変性は、通常不飽和カルボン酸やフェノール類を用いて行う。変性に用いる不飽和カルボン酸類としては、例えば、(無水)マレイン酸、フマル酸、(無水)イタコン酸、(無水)シトラコン酸、(メタ)アクリル酸などが挙げられる。不飽和カルボン酸変性としては、公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば、天然ロジン類と不飽和カルボン酸類を150℃〜300℃程度で、1時間〜24時間程度反応させれば良い。なお、各成分の使用量としては、特に限定されないが、例えば、天然ロジン類100重量部に対して、不飽和カルボン酸類0.1重量部〜20重量部程度である。変性に用いられるフェノール類としては、例えば、フェノール、アルキルフェノール等が挙げられる。フェノール変性としては、公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば、天然ロジン類とフェノール類を150℃〜300℃程度で、1時間〜24時間程度反応させれば良い。なお、各成分の使用量としては、特に限定されないが、例えば、天然ロジン類100重量部に対して、フェノール類0.1重量部〜50重量部程度である。 Modification is usually performed using unsaturated carboxylic acids or phenols. Examples of unsaturated carboxylic acids used for modification include (anhydrous) maleic acid, fumaric acid, (anhydrous) itaconic acid, (anhydrous) citraconic acid, and (meth) acrylic acid. As the unsaturated carboxylic acid modification, a known method can be adopted. Specifically, for example, natural rosins and unsaturated carboxylic acids may be reacted at about 150 ° C. to 300 ° C. for about 1 hour to 24 hours. In addition, although the usage-amount of each component is not specifically limited, For example, it is about 0.1-20 weight part of unsaturated carboxylic acids with respect to 100 weight part of natural rosins. Examples of the phenols used for modification include phenol and alkylphenol. A known method can be adopted as the phenol modification. Specifically, for example, natural rosins and phenols may be reacted at about 150 ° C. to 300 ° C. for about 1 hour to 24 hours. In addition, although the usage-amount of each component is not specifically limited, For example, it is about 0.1-50 weight part of phenols with respect to 100 weight part of natural rosins.

水素化は、特に限定されず、公知の方法により行えば良いが、通常、公知の水素源の存在下、必要に応じて水素化触媒を用い、0.1MPa〜30MPa程度で反応させればよい。水素源としては、水素ガスの他、リチウムアルミニウムハイドライドなどが挙げられ、水素化触媒としては、ラネーニッケル、パラジウム炭素等が挙げられる。   Hydrogenation is not particularly limited, and may be carried out by a known method. Usually, in the presence of a known hydrogen source, a hydrogenation catalyst may be used as necessary, and the reaction may be performed at about 0.1 MPa to 30 MPa. . Examples of the hydrogen source include lithium aluminum hydride and the like in addition to hydrogen gas, and examples of the hydrogenation catalyst include Raney nickel and palladium carbon.

不均化は公知の方法で行えばよく、例えば、通常、公知水素源の存在下、不均化触媒を使用し、常圧で反応させればよい。   The disproportionation may be carried out by a known method. For example, the reaction may be carried out at normal pressure using a disproportionation catalyst in the presence of a known hydrogen source.

(B1)成分を調製する際に用いる(b2)成分としては、メタノール、エタノール、プロパノール等の1価のアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール等の2価のアルコール類、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパンなどの3価のアルコール類、ペンタエリスリトール、ジグリセリンなどの4価のアルコール類、ジペンタエリスリトールなどの6価のアルコール類等が挙げられる。 (B1) Component (b2) used when preparing component includes monovalent alcohols such as methanol, ethanol and propanol, divalent alcohols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol and neopentyl glycol, and glycerin. , Trivalent alcohols such as trimethylolethane and trimethylolpropane, tetravalent alcohols such as pentaerythritol and diglycerin, and hexavalent alcohols such as dipentaerythritol.

(B1)成分は、例えば、(b1)成分および(b2)成分を有機溶媒の存在下または不存在下に、必要により硫酸やパラトルエンスルホン酸等のエステル化触媒を加え、250℃〜280℃程度で、1時間〜8時間程度加熱脱水反応させることにより得られる。溶媒を使用する場合には炭化水素系溶媒を用いることが好ましい。 (B1) component, for example, (b1) component and (b2) component are added in the presence or absence of an organic solvent and, if necessary, an esterification catalyst such as sulfuric acid or paratoluenesulfonic acid is added. About 1 hour to 8 hours, the heat dehydration reaction is performed. When using a solvent, it is preferable to use a hydrocarbon solvent.

なお、(b1)成分と(b2)成分の使用量は、特に限定されないが、通常、(b1)成分のカルボキシル基当量に対し、1倍等量〜2.5倍当量程度の水酸基を有する量の(b2)成分を使用することが好ましい。 In addition, although the usage-amount of (b1) component and (b2) component is not specifically limited, Usually, the quantity which has a hydroxyl group about 1 time equivalent-about 2.5 times equivalent with respect to the carboxyl group equivalent of (b1) component. It is preferable to use the component (b2).

このようにして得られる(B1)成分の軟化点は特に限定されないが、通常、90℃〜110℃程度とすることが好ましい。(B1)成分はこれらの1種を単独で用いても、数種を混合して用いてもよい。 The softening point of the component (B1) thus obtained is not particularly limited, but it is usually preferably about 90 ° C to 110 ° C. As the component (B1), one kind of these may be used alone, or several kinds may be mixed and used.

(B2)成分は、前述した(b1)成分を重合させたものや重合させた後水素化した物を用いることができる。(b1)成分を重合する方法としては、公知の方法を採用することができる。具体的には、前述した天然ロジン類を、硫酸、フッ化水素、塩化アルミニウム、四塩化チタン等の触媒を含むトルエン、キシレン等の溶媒中、温度40℃〜160℃程度で、1時間〜5時間程度反応させる方法等があげられる。 As the component (B2), one obtained by polymerizing the component (b1) described above or a product obtained by polymerizing and hydrogenating the component can be used. As a method for polymerizing the component (b1), a known method can be employed. Specifically, the natural rosins described above are heated at a temperature of about 40 ° C. to 160 ° C. for 1 hour to 5 hours in a solvent such as toluene and xylene containing a catalyst such as sulfuric acid, hydrogen fluoride, aluminum chloride, and titanium tetrachloride. For example, a method of reacting for about an hour.

(B)成分の使用量は、特に限定されないが、はんだフラックス組成物全体の8重量%〜40重量%程度とすることが好ましい。8重量%以上とすることで加熱だれの抑制効果が著しく向上し、40重量%以下とすることで、はんだペーストとした場合の粘度が適度に維持できるため印刷性が向上する。また、(B1)成分のみを用いる場合には、(B1)成分の量を8重量%〜40重量%とすることが、(B2)成分のみを用いる場合には、(B2)成分の量を20重量%〜40重量%とすることが特に好ましい。 Although the usage-amount of (B) component is not specifically limited, It is preferable to set it as about 8 to 40 weight% of the whole solder flux composition. When the amount is 8% by weight or more, the effect of suppressing heating dripping is remarkably improved, and when the amount is 40% by weight or less, the viscosity in the case of a solder paste can be appropriately maintained, so that the printability is improved. In addition, when only the component (B1) is used, the amount of the component (B1) is 8% to 40% by weight. When only the component (B2) is used, the amount of the component (B2) It is especially preferable to set it as 20 to 40 weight%.

なお、本発明のはんだフラックス組成物には、(C)酸価が140mgKOH/g〜240mgKOH/gのロジン類(以下、(C)成分という)を添加することができる。(C)成分とは、前述した(b1)成分のうち酸価が140mgKOH/g〜240mgKOH/g程度のものを用いることができる。なお、これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。なお、(C)成分としては、アクリル化ロジン、水添ロジン、不均化ロジン、重合ロジンを用いることが、前述のポリアミド樹脂との相溶性が良好なため好ましい。   In addition, (C) rosins (henceforth (C) component) whose acid value is 140 mgKOH / g-240 mgKOH / g can be added to the solder flux composition of this invention. As the component (C), the component (b1) having an acid value of about 140 mgKOH / g to 240 mgKOH / g can be used. In addition, these may be used individually by 1 type and may be used in mixture of 2 or more types. As the component (C), it is preferable to use an acrylated rosin, a hydrogenated rosin, a disproportionated rosin, or a polymerized rosin because of good compatibility with the polyamide resin described above.

(C)成分の使用量は、特に限定されないが、通常、フラックス全体の10重量%〜40重量%程度とすることが好ましい。10重量%以上とすることでロジンに対するポリアミドの相溶性が向上するため好ましい。また40重量%以下とすることにより、はんだペーストとした場合の粘度を適度に維持できるため、印刷性が向上する。本発明のフラックス組成物には、前記(A)成分、(B)成分及び必要に応じて用いる(C)成分以外にさらに必要に応じて、公知の添加物等を使用することができる。添加物としては、はんだフラックス用ベース樹脂、酸化防止剤、溶剤、チキソ剤、活性剤、可塑剤その他の添加剤等が挙げられる。   Although the usage-amount of (C) component is not specifically limited, Usually, it is preferable to set it as about 10 to 40 weight% of the whole flux. The content of 10% by weight or more is preferable because the compatibility of polyamide with rosin is improved. Moreover, since the viscosity at the time of setting it as a solder paste can be maintained moderately by setting it as 40 weight% or less, printability improves. In addition to the component (A), the component (B) and the component (C) used as necessary, a known additive or the like can be used for the flux composition of the present invention. Examples of the additive include a solder flux base resin, an antioxidant, a solvent, a thixotropic agent, an activator, a plasticizer, and other additives.

はんだフラックス用ベース樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、テルペン樹脂、(A)成分以外のポリアミド樹脂などが挙げられる。他のフラックス用ベース樹脂を使用する場合の使用量は、特に限定されないが、通常、フラックス全体量の1重量%〜10重量%程度である。   Examples of the base resin for solder flux include polyester resins, phenoxy resins, terpene resins, and polyamide resins other than the component (A). The amount of use in the case of using other base resin for flux is not particularly limited, but is usually about 1% to 10% by weight of the total amount of flux.

酸化防止剤としては、特に限定されず公知の物を使用することができる。具体的には、例えば2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、パラ−tert−アミルフェノール、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)などがあげられる。酸化防止剤の使用量は、特に限定されないが通常、フラックス全体量の0.5重量%〜1重量%程度である。 The antioxidant is not particularly limited, and a known product can be used. Specific examples include 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, para-tert-amylphenol, 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol) and the like. Although the usage-amount of antioxidant is not specifically limited, Usually, it is about 0.5 to 1 weight% of the whole flux amount.

溶剤としては、特に限定されず公知のものを使用することができる。具体的には、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、イソブタノール等のアルコール類、ブチルカルビトール、ヘキシルカルビトール等のグリコールエーテル類、酢酸イソプロピル、プロピオン酸エチル、安息香酸ブチル、アジピン酸ジエチル等のエステル類、n−ヘキサン、ドデカン、テトラデセン等の炭化水素類などが挙げられる。なお、溶剤の使用量は特に限定されないが、通常、フラックス全体量の20重量%〜40重量%程度である。 The solvent is not particularly limited, and known solvents can be used. Specifically, alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol and isobutanol, glycol ethers such as butyl carbitol and hexyl carbitol, esters such as isopropyl acetate, ethyl propionate, butyl benzoate and diethyl adipate And hydrocarbons such as n-hexane, dodecane, and tetradecene. In addition, although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, Usually, it is about 20 to 40 weight% of the whole flux amount.

チキソ剤としては、特に限定されず公知のものを使用することができる。具体的には、例えば、硬化ひまし油、蜜ロウ、カルナバワックス、ステアリン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸エチレンビスアミドなどが挙げられる。チキソ剤の使用量は、特に限定されないが、通常、フラックス全体量の3重量%〜10重量%程度である。 The thixotropic agent is not particularly limited, and known ones can be used. Specific examples include hardened castor oil, beeswax, carnauba wax, stearamide, hydroxy stearic acid ethylene bisamide, and the like. Although the usage-amount of a thixotropic agent is not specifically limited, Usually, it is about 3 to 10 weight% of the whole amount of flux.

活性剤としては、特に限定されず公知のものを使用することができる。具体的には、例えば、アミンのハロゲン化水素酸塩、有機酸類や有機ハロゲン類、有機アミン類などが挙げられる。活性剤の使用量は、特に限定されないが、通常、フラックス全体量の3重量%〜10重量%である。なお、臭素量もしくは塩素量がそれぞれ0.09重量%以下、または塩素量と臭素量の合計が0.15重量%以下となるように活性剤に含まれるハロゲン化合物の含有量を調整することによりハロゲンフリーフラックス組成物とすることができる。 As an activator, it does not specifically limit but a well-known thing can be used. Specific examples include amine hydrohalides, organic acids, organic halogens, and organic amines. Although the usage-amount of an activator is not specifically limited, Usually, it is 3 weight%-10 weight% of the whole flux. By adjusting the content of the halogen compound contained in the activator so that the bromine amount or the chlorine amount is 0.09% by weight or less, or the total of the chlorine and bromine amounts is 0.15% by weight or less. It can be set as a halogen free flux composition.

可塑剤としては特に限定されず公知のものを使用することができる。具体的には、例えば、フタル酸ジオクチル、アジピン酸ジオクチルなどのカルボン酸エステルが挙げられる。可塑剤の使用量は、特に限定されないが、通常、フラックス全体量の5重量%〜10重量%である。 It does not specifically limit as a plasticizer, A well-known thing can be used. Specific examples include carboxylic acid esters such as dioctyl phthalate and dioctyl adipate. Although the usage-amount of a plasticizer is not specifically limited, Usually, it is 5 to 10 weight% of the whole amount of flux.

その他の添加剤としては通常フラックスの調製に用いることができるものであれば特に限定されず公知のものを用いることができる。防黴剤、艶消し剤等の添加剤を含有することができる。   Other additives are not particularly limited as long as they can be usually used for the preparation of a flux, and known ones can be used. Additives such as antifungal agents and matting agents can be contained.

このようにして得られたはんだフラックス組成物に、はんだ粉末等を加えて、鉛フリーはんだペーストを調製することができる。   A lead-free solder paste can be prepared by adding solder powder or the like to the solder flux composition thus obtained.

本発明で用いられるはんだ粉末の合金組成は特に限定されず、各種公知のものを使用できる。例えば、鉛フリーはんだとして開発されている錫−銀合金、錫−亜鉛系合金等のはんだ合金組成;さらには前記はんだ合金に、銅、ビスマス、インジウム、アンチモン等を添加したもの等を使用できる。また、平均粉末粒子径としては、通常、1〜50μm程度、更に好ましくは25μm未満の粉末を使用することができる。 The alloy composition of the solder powder used in the present invention is not particularly limited, and various known ones can be used. For example, a solder alloy composition such as a tin-silver alloy and a tin-zinc alloy that has been developed as a lead-free solder; and a solder alloy obtained by adding copper, bismuth, indium, antimony, or the like to the solder alloy can be used. Moreover, as an average powder particle diameter, the powder of about 1-50 micrometers normally, More preferably, less than 25 micrometers can be used.

各成分の使用量は特に限定されないが、通常、鉛フリーはんだペースト中に、はんだ粉末80重量%〜95重量%程度、はんだフラックスが5重量%〜20重量%程度を含むことが好ましい。 Although the usage-amount of each component is not specifically limited, Usually, it is preferable that a lead-free solder paste contains about 80% to 95% by weight of solder powder and about 5% to 20% by weight of solder flux.

以下、実施例を示し、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、融点測定はセイコー電子(株)製DSC220Cを用いて測定し、フラックスの酸価測定はJIS Z 3197に準拠して行った。また、印刷性、加熱だれの評価はJIS Z 3284
附属書5、7に準拠し、印刷性に関しては連続20枚印刷でにじみ、かすれがないものは○、にじみやかすれが生じた場合は×とした。加熱だれに関しては0.2を達成したものは○、それ以外の物は×とした。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is shown and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these. In addition, melting | fusing point measurement was measured using Seiko Electronics Co., Ltd. DSC220C, and the acid value measurement of the flux was performed based on JISZ3197. In addition, printability, evaluation of heating drool is JIS Z 3284
In accordance with Annexes 5 and 7, the printability was blotted with continuous 20-sheet printing, with no blurring, and with blurring or blurring with x. Regarding the heating soot, those that achieved 0.2 were rated as ◯, and those other than that were rated as x.

実施例1
ポリアミド樹脂(D22、ダイセルエボニック(株)製、融点220℃)を2重量%、かつロジンのグリセリンエステル(荒川化学工業(株)製)およびアクリル化ロジン(荒川化学工業(株)製、酸価238mgKOH/g)をそれぞれ11重量%、36.8重量%とし、溶剤(HeDG、(株)日本油脂製)36.5重量%、活性剤(東京化成(株)、アジピン酸 0.1重量%、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸 2重量%、セバシン酸 2重量%、(株)アルドリッチ社製 トランス−2,3−ジブロモ−1,4−ブタンジオール 0.1重量%、(株)ライオン社製 アーミン2HT 3重量%)、チキソ剤(MAWAXO、川研ファインケミカル(株)社製)6重量%、酸化防止剤(Irganox1010、チバ・ジャパン(株)製)0.5重量%を用いて混合し、鉛フリーはんだフラックス組成物を調製した。燃焼イオンクロマト法(ダイアインスツルメンツ製 AQF−100型、ダイオネクス製 ICS−3000)によって測定された、このフラックス組成物に含まれる臭素量は0.07重量%、塩素量は0.01重量%以下、フラックスの酸価は49mgKOH/gであった。このようにして得られたフラックス組成物に平均粉末粒子径が10〜25μm、合金組成がSn96.5重量%−Ag3.0重量%−銅0.5重量%のハンダ粉末(山石金属(株)社製)を用いて鉛フリーはんだペーストを調製した。このようにして得られた鉛フリーはんだペーストをJIS Z 3284 附属書5、7に準拠し、評価を行った。組成表とフラックス組成物の酸価を表1、印刷性、加熱だれの結果を表3および図1に示す。
Example 1
Polyamide resin (D22, manufactured by Daicel Evonik Co., Ltd., melting point 220 ° C.) 2% by weight, glycerin ester of rosin (produced by Arakawa Chemical Co., Ltd.) and acrylated rosin (produced by Arakawa Chemical Co., Ltd., acid value) 238 mgKOH / g) was 11% by weight and 36.8% by weight, respectively, 36.5% by weight of solvent (HeDG, manufactured by NOF Corporation), activator (Tokyo Kasei Co., Ltd., 0.1% by weight of adipic acid) 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid 2% by weight, sebacic acid 2% by weight, Aldrich Co., Ltd. trans-2,3-dibromo-1,4-butanediol 0.1% by weight, Lion Co., Ltd. Armin 2HT 3% by weight), thixotropic agent (MAWAXO, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) 6% by weight, antioxidant (Irganox 1010, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 0 .5 wt% was mixed to prepare a lead-free solder flux composition. The amount of bromine contained in this flux composition was 0.07% by weight and the amount of chlorine was not more than 0.01% by weight, as measured by combustion ion chromatography (AQF-100, manufactured by Dia Instruments, ICS-3000, manufactured by Dionex). The acid value of the flux was 49 mgKOH / g. Solder powder having an average powder particle size of 10 to 25 μm and an alloy composition of Sn96.5 wt% -Ag 3.0 wt% -copper 0.5 wt% (Yamaishi Metal Co., Ltd.) Was used to prepare a lead-free solder paste. The lead-free solder paste thus obtained was evaluated according to JIS Z 3284 Annexes 5 and 7. Table 1 shows the acid values of the composition table and the flux composition, and Table 3 and FIG.

実施例2
実施例1においてロジンのグリセリンエステルおよびアクリル化ロジンを重合ロジン(荒川化学工業(株)製、酸価151mgKOH/g)21.9重量%、水添ロジン(荒川化学工業(株)製、酸価170mgKOH/g)20.9重量%とし、可塑剤(CRODAMOL IPD(株)CRODA社製)を5重量%使用し、フラックスの酸価を94mgKOH/gとした以外は実施例1と同様にして鉛フリーはんだペーストを得た。組成表とフラックス組成物の酸価を表1、印刷性、加熱だれの評価結果を表3および図1に示す。
Example 2
In Example 1, glycerin ester of rosin and acrylated rosin were polymerized rosin (Arakawa Chemical Industries, Ltd., acid value 151 mgKOH / g), 21.9% by weight, hydrogenated rosin (Arakawa Chemical Industries, Ltd., acid value) 170 mgKOH / g) 20.9 wt%, lead was used in the same manner as in Example 1 except that 5 wt% of a plasticizer (CRODAMOL IPD Co., Ltd. CRODA) was used and the acid value of the flux was 94 mgKOH / g. A free solder paste was obtained. Table 1 shows the acid values of the composition table and the flux composition, and Table 3 and FIG.

実施例3
実施例1においてロジンのグリセリンエステルおよびアクリル化ロジンをアクリル化ロジン(荒川化学工業(株)製、酸価 238mgKOH/g)30重量%、ロジンのグリセリンエステル(荒川化学工業(株)製)18重量%、ポリアミド樹脂(D22、ダイセルエボニック(株)製、融点220℃)1.8重量%とし、フラックスの酸価を94mgKOH/gとした以外は実施例1と同様にして鉛フリーはんだペーストを得た。組成表とフラックス組成物の酸価を表1、印刷性、加熱だれの評価結果を表3および図1に示す。
Example 3
In Example 1, glycerin ester of rosin and acrylated rosin were acrylated rosin (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., acid value 238 mg KOH / g), 30% by weight, glycerin ester of rosin (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 18 wt. %, Polyamide resin (D22, manufactured by Daicel Evonik Co., Ltd., melting point 220 ° C.) 1.8% by weight, and a lead-free solder paste was obtained in the same manner as in Example 1 except that the acid value of the flux was 94 mgKOH / g. It was. Table 1 shows the acid values of the composition table and the flux composition, and Table 3 and FIG.

実施例4
実施例1においてロジンのグリセリンエステルおよびアクリル化ロジンをアクリル化ロジン(荒川化学工業(株)製、酸価 238mgKOH/g)22.8重量%、ロジンのペンタエリスリトールエステル(荒川化学工業(株)製)22重量%、溶剤HeDG((株)日本油脂製)39.5重量%とし、フラックスの酸価を78mgKOH/gとした以外は実施例1と同様にして鉛フリーはんだペーストを得た。組成表とフラックス組成物の酸価を表1、印刷性、加熱だれの評価結果を表3および図1に示す。
Example 4
In Example 1, glycerin ester of rosin and acrylated rosin were acrylated rosin (manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd., acid value 238 mg KOH / g), 22.8% by weight, rosin pentaerythritol ester (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) A lead-free solder paste was obtained in the same manner as in Example 1 except that the content was 22 wt%, the solvent HeDG (manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) 39.5 wt%, and the acid value of the flux was 78 mgKOH / g. Table 1 shows the acid values of the composition table and the flux composition, and Table 3 and FIG.

実施例5
実施例1においてロジンのグリセリンエステルおよびアクリル化ロジンをアクリル化ロジン(荒川化学工業(株)製、酸価 238mgKOH/g)38.8重量%、ロジンのグリセリンエステル(荒川化学工業(株)製)8.05重量%、溶剤(HeDG、(株)日本油脂製)39.55重量%、D22(ダイセルエボニック(株)社製)3重量%、セバシン酸(東京化成(株)社製)1重量%、アジピン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸を添加せず、フラックスの酸価を98mgKOH/gとした以外は同様にして鉛フリーはんだペーストを得た。この鉛フリーはんだペーストを用いて実施例と同様に試験した組成表とフラックス組成物の酸価を表1、印刷性、加熱だれの評価結果を表3および図1に示す。
Example 5
In Example 1, the glycerin ester of rosin and the acrylated rosin were converted to acrylated rosin (Arakawa Chemical Industries, Ltd., acid value 238 mg KOH / g), 38.8% by weight, glycerin ester of rosin (Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 8.05% by weight, solvent (HeDG, manufactured by NOF Corporation) 39.55% by weight, D22 (produced by Daicel Evonik) 3% by weight, sebacic acid (produced by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 1% %, Adipic acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid were not added, and a lead-free solder paste was obtained in the same manner except that the acid value of the flux was 98 mgKOH / g. The composition table tested in the same manner as in the Examples using this lead-free solder paste and the acid value of the flux composition are shown in Table 1, and the evaluation results of printability and heating dripping are shown in Table 3 and FIG.

実施例6
実施例1においてロジンのグリセリンエステルおよびアクリル化ロジンを重合ロジン(荒川化学工業(株)製、酸価151mgKOH/g)21.9重量%、水添ロジン(荒川化学工業(株)製、酸価170mgKOH/g)20.9重量%とし、可塑剤(CRODAMOL IPD(株)CRODA社製)を5重量%、ポリアミド樹脂(東洋紡(株)社製、T802 融点220℃)を2重量%使用し、フラックスの酸価を94mgKOH/gとした以外は実施例1と同様にして鉛フリーはんだペーストを得た。組成表とフラックス組成物の酸価を表1、印刷性、加熱だれの評価結果を表3および図1に示す。
Example 6
In Example 1, glycerin ester of rosin and acrylated rosin were polymerized rosin (Arakawa Chemical Industries, Ltd., acid value 151 mgKOH / g), 21.9% by weight, hydrogenated rosin (Arakawa Chemical Industries, Ltd., acid value) 170 mgKOH / g) 20.9 wt%, 5 wt% plasticizer (CRODAMOL IPD Co., Ltd. CRODA), 2 wt% polyamide resin (Toyobo Co., Ltd., T802 melting point 220 ° C) A lead-free solder paste was obtained in the same manner as in Example 1 except that the acid value of the flux was 94 mgKOH / g. Table 1 shows the acid values of the composition table and the flux composition, and Table 3 and FIG.

実施例7
実施例1においてロジンのグリセリンエステルおよびアクリル化ロジンを重合ロジン(荒川化学工業(株)製、酸価151mgKOH/g)21.9重量%、水添ロジン(荒川化学工業(株)製、酸価170mgKOH/g)20.9重量%とし、可塑剤(CRODAMOL IPD(株)CRODA社製)を5重量%、ポリアミド樹脂(東洋紡(株)社製、T662 裕点260℃))を2重量%使用し、フラックスの酸価を94mgKOH/gとした以外は実施例1と同様にして鉛フリーはんだペーストを得た。組成表とフラックス組成物の酸価を表1、印刷性、加熱だれの評価結果を表3および図1に示す。
Example 7
In Example 1, glycerin ester of rosin and acrylated rosin were polymerized rosin (Arakawa Chemical Industries, Ltd., acid value 151 mgKOH / g), 21.9% by weight, hydrogenated rosin (Arakawa Chemical Industries, Ltd., acid value) 170 mgKOH / g) 20.9% by weight, 5% by weight of plasticizer (CRODAMOL IPD Co., Ltd. CRODA), 2% by weight of polyamide resin (Toyobo Co., Ltd., T662, good point 260 ° C.) A lead-free solder paste was obtained in the same manner as in Example 1 except that the acid value of the flux was 94 mgKOH / g. Table 1 shows the acid values of the composition table and the flux composition, and Table 3 and FIG.

実施例8
実施例1においてロジンのグリセリンエステルおよびアクリル化ロジンをアクリル化ロジン(荒川化学工業(株)製、酸価 238mgKOH/g)15重量%、ロジンのグリセリンエステル(荒川化学工業(株)製)45重量%、溶剤HeDG((株)日本油脂製)24.25重量%とし、フラックスの酸価を41mgKOH/gとした以外は実施例1と同様にして鉛フリーはんだペーストを得た。組成表とフラックス組成物の酸価を表1、印刷性、加熱だれの評価結果を表3および図1に示す。
Example 8
In Example 1, the glycerin ester of rosin and the acrylated rosin were acrylated rosin (Arakawa Chemical Industries, Ltd., acid value 238 mgKOH / g) 15% by weight, rosin glycerin ester (Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 45% %, The solvent HeDG (manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) 24.25% by weight, and a lead-free solder paste was obtained in the same manner as in Example 1 except that the acid value of the flux was 41 mgKOH / g. Table 1 shows the acid values of the composition table and the flux composition, and Table 3 and FIG.

実施例9
実施例1においてロジンのグリセリンエステルおよびアクリル化ロジンを重合ロジン(荒川化学工業(株)製、酸価151mgKOH/g)18.9重量%、水添ロジン(荒川化学工業(株)製、酸価170mgKOH/g)19.9重量%とし、溶剤HeDG((株)日本油脂製)37.45重量%、ポリアミド樹脂(D22、ダイセルエボニック(株)製、融点220℃)5重量%、可塑剤(CRODAMOL IPD(株)CRODA社製)を5重量%使用し、フラックスの酸価を85mgKOH/gとした以外は実施例1と同様にして鉛フリーはんだペーストを得た。組成表とフラックス組成物の酸価を表1、印刷性、加熱だれの評価結果を表3および図1に示す。
Example 9
In Example 1, the glycerin ester of rosin and the acrylated rosin were polymerized rosin (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., acid value 151 mgKOH / g), 18.9% by weight, hydrogenated rosin (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., acid value) 170 mgKOH / g) 19.9% by weight, solvent HeDG (manufactured by NOF Corporation) 37.45% by weight, polyamide resin (D22, manufactured by Daicel Evonik Co., Ltd., melting point 220 ° C.) 5% by weight, plasticizer ( A lead-free solder paste was obtained in the same manner as in Example 1 except that 5% by weight of CRODAMOL IPD (manufactured by CRODA) was used and the acid value of the flux was 85 mgKOH / g. Table 1 shows the acid values of the composition table and the flux composition, and Table 3 and FIG.

実施例10
実施例1においてロジンのグリセリンエステル(荒川化学工業(株)製)37.5重量%、ポリアミド樹脂(D22、ダイセルエボニック(株)製、融点220℃)1.3重量%としフラックスの酸価を48mgKOH/gとした以外は実施例1と同様にして鉛フリーはんだペーストを得た。組成表とフラックス組成物の酸価を表1、印刷性、加熱だれの評価結果を表3および図1に示す。
Example 10
In Example 1, the glycerin ester of rosin (Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 37.5% by weight, polyamide resin (D22, manufactured by Daicel Evonik Co., Ltd., melting point 220 ° C.) 1.3% by weight and the acid value of the flux A lead-free solder paste was obtained in the same manner as in Example 1 except that the concentration was 48 mgKOH / g. Table 1 shows the acid values of the composition table and the flux composition, and Table 3 and FIG.

比較例1
実施例1においてロジンのグリセリンエステルおよびアクリル化ロジンをロジンのグリセリンエステル(荒川化学工業(株)製)、10重量%、アクリル化ロジン(荒川化学工業(株)製 酸価 238mgKOH/g)37.8重量%としてフラックスの酸価113mgKOH/gとした以外は実施例1と同様にして鉛フリーはんだペーストを得た。組成表とフラックス組成物の酸価を表2、印刷性、加熱だれの評価結果を表4および図2に示す。
Comparative Example 1
In Example 1, glycerin ester of rosin and acrylated rosin are glycerin ester of rosin (Arakawa Chemical Industries, Ltd.), 10% by weight, acrylated rosin (acid value 238 mgKOH / g, Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 37. A lead-free solder paste was obtained in the same manner as in Example 1 except that the acid value of the flux was 113 mgKOH / g with 8% by weight. Table 2 shows the acid values of the composition table and the flux composition, and Table 4 and FIG.

比較例2
実施例1においてロジンのグリセリンエステルおよびアクリル化ロジンを重合ロジン(荒川化学工業(株)製 酸価 151mgKOH/g)10重量%、アクリル化ロジン(荒川化学工業(株)製 酸価 238mgKOH/g)37.8重量%としてフラックスの酸価を127mgKOH/gとした以外は実施例1と同様にしてはんだペーストを得た。組成表とフラックス組成物の酸価を表2、印刷性、加熱だれの評価結果を表4および図2に示す。
Comparative Example 2
In Example 1, glycerin ester of rosin and acrylated rosin were polymerized rosin (Arakawa Chemical Industries, Ltd. acid value 151 mgKOH / g), 10% by weight, acrylated rosin (Arakawa Chemical Industries, Ltd. acid value 238 mgKOH / g) A solder paste was obtained in the same manner as in Example 1 except that 37.8% by weight and the acid value of the flux was 127 mgKOH / g. Table 2 shows the acid values of the composition table and the flux composition, and Table 4 and FIG.

比較例3
実施例1においてロジンのグリセリンエステルおよびアクリル化ロジンをアクリル化ロジン(荒川化学工業(株)製 酸価 238mgKOH/g)22.8重量%、ロジンのグリセリンエステル(荒川化学工業(株)製)25重量%、融点が200℃より低いポリアミド樹脂(PA−30、(富士化成工業(株)製 融点184℃)2重量%とし、フラックスの酸価を80mgKOH/gとした以外は実施例1と同様にして鉛フリーはんだペーストを得た。組成表とフラックス組成物の酸価を表2、印刷性、加熱だれの評価結果を表4および図2に示す。
Comparative Example 3
In Example 1, the glycerin ester of rosin and the acrylated rosin were converted to acrylated rosin (acid value 238 mg KOH / g, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 22.8% by weight, glycerin ester of rosin (produced by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 25 Example 1 except that the polyamide resin (PA-30, manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd., melting point 184 ° C.) is 2% by weight and the acid value of the flux is 80 mg KOH / g. The lead-free solder paste was obtained as shown in Table 2. The acid values of the composition table and the flux composition are shown in Table 2, and the evaluation results of printability and heating dripping are shown in Table 4 and FIG.

比較例4
実施例1においてロジンのグリセリンエステルおよびアクリル化ロジンをアクリル化ロジン(荒川化学工業(株)製 酸価 238mgKOH/g)22.8重量%、ロジンのグリセリンエステル(荒川化学工業(株)製)27重量%とし、ポリアミドを添加せず、フラックスの酸価を77mgKOH/gとした以外は実施例1と同様にして鉛フリーはんだペーストを得た。組成表とフラックス組成物の酸価を表2、印刷性、加熱だれの評価結果を表4および図2に示す。
Comparative Example 4
In Example 1, the glycerin ester of rosin and the acrylated rosin were converted to acrylated rosin (acid value 238 mg KOH / g, manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.) 22.8% by weight, glycerin ester of rosin (produced by Arakawa Chemical Co., Ltd.) 27 A lead-free solder paste was obtained in the same manner as in Example 1 except that the weight percentage was not changed, polyamide was not added, and the acid value of the flux was 77 mgKOH / g. Table 2 shows the acid values of the composition table and the flux composition, and Table 4 and FIG.

比較例5
実施例1においてロジンのグリセリンエステルおよびアクリル化ロジンをアクリル化ロジン(荒川化学工業(株)製 酸価 238mgKOH/g)38.8重量%、ロジンのグリセリンエステル(荒川化学工業(株)製)10.3重量%、ポリアミド樹脂(D22、ダイセルエボニック(株)製、融点220℃)0.7重量%とし、フラックスの酸価を118mgKOH/gとした以外は実施例1と同様にして鉛フリーはんだペーストを得た。組成表とフラックス組成物の酸価を表2、印刷性、加熱だれの評価結果を表4および図2に示す。
Comparative Example 5
In Example 1, the glycerin ester of rosin and the acrylated rosin were acrylated rosin (acid value 238 mg KOH / g, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 38.8% by weight, glycerin ester of rosin (produced by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) 10 .3% by weight, polyamide resin (D22, manufactured by Daicel Evonik Co., Ltd., melting point 220 ° C.) 0.7% by weight, and lead-free solder in the same manner as in Example 1 except that the acid value of the flux was 118 mgKOH / g A paste was obtained. Table 2 shows the acid values of the composition table and the flux composition, and Table 4 and FIG.

比較例6
実施例1においてロジンのグリセリンエステルおよびアクリル化ロジンをそれぞれロジンのグリセリンエステルを除きアクリル化ロジン(荒川化学工業(株)製 酸価 238mgKOH/g)47.8重量%としてフラックスの酸価を135mgKOH/gとした以外は実施例1と同様にして鉛フリーはんだペーストを得た。組成表とフラックス組成物の酸価を表2、印刷性、加熱だれの評価結果を表4および図2に示す。

Comparative Example 6
In Example 1, the glycerin ester of rosin and the acrylated rosin except for the glycerin ester of rosin, respectively, were acrylated rosin (acid value 238 mgKOH / g, manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.), and the acid value of the flux was 135 mgKOH / A lead-free solder paste was obtained in the same manner as in Example 1 except that g was used. Table 2 shows the acid values of the composition table and the flux composition, and Table 4 and FIG.

Figure 2010137283
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表3、4の結果から本発明のはんだフラックスを用いた場合には、リフロー時のフラックスの流動性が低くなりだれ性が改善されることは明らかである。また同組成であっても融点が200℃より低いポリアミドを使用した場合は加熱だれの抑制効果もないことが明らかである。 From the results of Tables 3 and 4, it is clear that when the solder flux of the present invention is used, the fluidity of the flux at the time of reflow is lowered and the wetting is improved. In addition, even when the composition is the same, it is clear that when a polyamide having a melting point lower than 200 ° C. is used, there is no effect of suppressing heating.

Claims (7)

(A)融点が200℃より高いポリアミド樹脂並びに(B)ロジンエステル類(B1)及び/又は重合ロジン(B2)を含有し、且つフラックス組成物の酸価が40mgKOH/g以上100mgKOH/g以下である鉛フリーはんだ用フラックス組成物。 (A) a polyamide resin having a melting point higher than 200 ° C. and (B) a rosin ester (B1) and / or a polymerized rosin (B2), and the acid value of the flux composition is 40 mgKOH / g or more and 100 mgKOH / g or less A certain lead-free solder flux composition. 含有される臭素量もしくは塩素量がそれぞれ0.09重量%以下または塩素量と臭素量の合計が0.15重量%以下である請求項1に記載の鉛フリーはんだ用フラックス組成物。 The flux composition for lead-free solder according to claim 1, wherein the amount of bromine or chlorine contained is 0.09% by weight or less, or the total amount of chlorine and bromine is 0.15% by weight or less. (B)ロジンエステル類(B1)及び/又は重合ロジン(B2)をフラックス組成物全体の8重量%〜40重量%含有する請求項1又は2に記載のフラックス組成物。 The flux composition according to claim 1 or 2, wherein (B) the rosin ester (B1) and / or the polymerized rosin (B2) is contained in an amount of 8% by weight to 40% by weight based on the entire flux composition. (A)融点が200℃より高いポリアミド樹脂を少なくとも1重量%〜5重量%含有する請求項1〜3のいずれかに記載の鉛フリーはんだ用フラックス組成物 The flux composition for lead-free solder according to any one of claims 1 to 3, comprising (A) at least 1 wt% to 5 wt% of a polyamide resin having a melting point higher than 200 ° C. (C)酸価が140mgKOH/g〜240mgKOH/gのロジン類を10重量%〜40重量%含有する請求項1〜4のいずれかに記載の鉛フリーはんだ用フラックス組成物。 (C) The lead-free solder flux composition according to any one of claims 1 to 4, comprising 10 to 40% by weight of rosins having an acid value of 140 mgKOH / g to 240 mgKOH / g. 請求項1〜5のいずれかに記載の鉛フリーはんだ用フラックス組成物を含有する鉛フリーはんだペースト。 A lead-free solder paste containing the flux composition for lead-free solder according to any one of claims 1 to 5. 平均粉末粒子径が25μm未満のはんだ粉末を使用する請求項6に記載の鉛フリーはんだペースト。
The lead-free solder paste according to claim 6, wherein a solder powder having an average powder particle size of less than 25 µm is used.
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