KR20210052257A - Substrate holding unit, substrate holding member, substrate holding apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing method, and manufacturing method of electronic device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 기판 보유지지 유닛, 기판 보유지지 부재, 기판 보유지지 장치, 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate holding unit, a substrate holding member, a substrate holding apparatus, a substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a manufacturing method of an electronic device.
산업용이나 민생용 등의 다양한 분야에서, 표시 패널에 화상을 표시하는 디스플레이 장치가 널리 사용되고 있다. 디스플레이 장치로서, 예를 들면, 유기 재료의 전계 발광을 이용한 유기 EL 소자를 구비한 유기 EL 장치나, 액정 디스플레이 장치 등이 있다. 이러한 디스플레이 장치의 제조시에는, 성막 장치에 있어서, 기판 상에 성막 재료(금속 전극 재료나 유기 재료 등)를 부착시켜 성막을 행한다. 기판의 성막실 내로의 반출입시나 성막 공정시에는, 보유지지 기구로 보유지지한 기판을, 반송 기구에 의해 이동 또는 반전시키는 경우가 있다. 그 때문에, 위치 어긋남 등이 발생하지 않도록 기판을 안정적으로 보유지지할 필요가 있다.In various fields such as industrial and consumer use, display devices that display images on a display panel are widely used. Examples of the display device include an organic EL device including an organic EL element using electroluminescence of an organic material, a liquid crystal display device, and the like. In manufacturing such a display device, in a film forming apparatus, a film forming material (metal electrode material, organic material, etc.) is adhered on a substrate to perform film formation. At the time of carrying in/out of the substrate into the film formation chamber or during the film formation process, the substrate held by the holding mechanism may be moved or reversed by the transfer mechanism. Therefore, it is necessary to stably hold the substrate so that position shift or the like does not occur.
반송시나 성막시에 기판을 보유지지하는 기구로서, 클램프에 의한 협지, 수취 핑거에의 재치, 정전척에 의한 흡착 등의 방법 이외에, 점착 재료를 사용하여 기판을 점착 보유지지하는 방법이 있다. 점착 재료를 사용한 물리적인 점착은, PSC(Physical Sticky Chuck)라고도 불리고, 대형 유리 기판 등에도 바람직하게 이용할 수 있다.As a mechanism for holding a substrate during transport or film formation, there are methods of holding a substrate using an adhesive material in addition to methods such as pinching by a clamp, placing on a receiving finger, and adsorption by an electrostatic chuck. Physical adhesion using an adhesive material is also called PSC (Physical Sticky Chuck), and can be preferably used for a large glass substrate or the like.
특허문헌 1에는, 보유지지판 상에 설치된 점착 부재(점착 패드)에 의해 유리 기판을 보유지지하고, 점착 보유지지된 유리 기판을 보유지지판 채로 반송 및 반전하여, 보유지지판에 점착 보유지지된 상태로 유리 기판을 처리하는 구성이 기재되어 있다.In Patent Document 1, a glass substrate is held by an adhesive member (adhesive pad) provided on a holding plate, and the glass substrate holding the adhesive is conveyed and inverted as the holding plate, and the glass is adhered and held on the holding plate. The configuration for processing the substrate is described.
그러나, 점착 부재를 사용하여 기판을 보유지지하는 경우에 있어서, 기판을 보다 양호하게 보유지지하는 방법이 요구되고 있다.However, in the case of holding a substrate using an adhesive member, there is a demand for a method of holding the substrate better.
본 발명은 이러한 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은, 점착 부재를 사용하여 기판을 보다 양호하게 보유지지하기 위한 기술을 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in view of such a problem, and an object thereof is to provide a technique for better holding a substrate by using an adhesive member.
본 발명은 이하의 구성을 채용한다. 즉,The present invention adopts the following configuration. In other words,
보유지지면에 있어서 기판을 보유지지하기 위한 복수의 기판 보유지지 유닛을 갖는 기판 보유지지 장치로서,A substrate holding device having a plurality of substrate holding units for holding a substrate on a holding surface, comprising:
상기 복수의 기판 보유지지 유닛의 각각은, 상기 기판에 점착하는 점착 재료가 형성된 점착면을 갖는 점착 부재와, 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 경동(傾動) 가능하게 하는 경동 기구와, 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 진퇴 가능하게 하는 진퇴 기구를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 보유지지 장치이다.Each of the plurality of substrate holding units includes an adhesive member having an adhesive surface on which an adhesive material adhering to the substrate is formed, and a tilt motion that enables the adhesive surface of the adhesive member to tilt with respect to the holding surface. A substrate holding device comprising: a mechanism; and an advancing and retreating mechanism for advancing and retreating the adhesive surface of the adhesive member with respect to the holding surface.
본 발명은 또한, 이하의 구성을 채용한다. 즉,The present invention also adopts the following configuration. In other words,
보유지지면에 있어서 기판을 보유지지하기 위한 기판 보유지지 유닛으로서,As a substrate holding unit for holding a substrate on the holding surface,
상기 기판에 점착하는 점착 재료가 형성된 점착면을 갖는 점착 부재와,An adhesive member having an adhesive surface on which an adhesive material adhered to the substrate is formed,
상기 점착 부재가 요동 가능한 상태에서 상기 점착 부재를 상기 기판 측으로 가압하는 가압 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 기판 보유지지 유닛이다.A substrate holding unit comprising a pressing means for pressing the adhesive member toward the substrate in a state in which the adhesive member is able to swing.
본 발명에 의하면, 점착 부재를 사용하여 기판을 보다 양호하게 보유지지하기 위한 기술을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a technique for better holding a substrate by using an adhesive member.
도 1은 실시형태 1의 기판 보유지지 장치의 개략 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는 실시형태 1의 기판 보유지지 유닛의 전진 및 후퇴 동작을 나타내는 단면도이다.
도 3은 실시형태 1의 기판 보유지지 유닛의 경동 동작을 나타내는 단면도이다.
도 4는 실시형태 1의 기판 보유지지 유닛의 경동 동작을 나타내는 단면도이다.
도 5a는 실시형태 1의 기판 보유지지 유닛의 동작 흐름을 설명하는 도면이다.
도 5b는 실시형태 1의 기판 보유지지 유닛의 동작 흐름을 설명하는 다른 도면이다.
도 5c는 실시형태 1의 기판 보유지지 유닛의 동작 흐름을 설명하는 다른 도면이다.
도 6은 실시형태 1의 반전 장치의 동작 설명도이다.
도 7은 실시형태 1의 성막 장치의 동작 설명도이다.
도 8은 실시형태 1의 기판 박리 장치의 동작 설명도이다.
도 9는 실시형태 2의 기판 보유지지 유닛의 전진 및 후퇴 동작을 나타내는 단면도이다.
도 10은 실시형태 2의 기판 보유지지 유닛의 경동 동작을 나타내는 단면도이다.
도 11은 실시형태 3의 전자 디바이스의 제조 장치를 나타내는 평면도이다.
도 12는 실시형태 4의 전자 디바이스를 설명하는 도면이다.1 is a diagram showing a schematic configuration of a substrate holding device according to a first embodiment.
2 is a cross-sectional view showing the advance and retreat operation of the substrate holding unit according to the first embodiment.
3 is a cross-sectional view showing a tilting operation of the substrate holding unit according to the first embodiment.
4 is a cross-sectional view showing a tilting operation of the substrate holding unit according to the first embodiment.
5A is a view for explaining an operation flow of the substrate holding unit according to the first embodiment.
5B is another diagram for explaining an operation flow of the substrate holding unit according to the first embodiment.
5C is another diagram explaining the operation flow of the substrate holding unit according to the first embodiment.
6 is a diagram illustrating the operation of the inversion device according to the first embodiment.
7 is an operation explanatory diagram of the film forming apparatus according to the first embodiment.
8 is an operation explanatory diagram of the substrate peeling apparatus according to the first embodiment.
9 is a cross-sectional view showing the advance and retreat operation of the substrate holding unit according to the second embodiment.
10 is a cross-sectional view showing a tilting operation of the substrate holding unit according to the second embodiment.
11 is a plan view showing an electronic device manufacturing apparatus according to the third embodiment.
12 is a diagram illustrating an electronic device according to the fourth embodiment.
이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시형태 및 실시예를 설명한다. 다만, 이하의 실시형태 및 실시예는 본 발명의 바람직한 구성을 예시적으로 나타내는 것에 지나지 않고, 본 발명의 범위를 이들 구성으로 한정하는 것이 아니다. 또한, 이하의 설명에서의, 장치의 하드웨어 구성 및 소프트웨어 구성, 처리 플로우, 제조 조건, 치수, 재질, 형상, 각 부재의 개수나 배치 위치 등은, 특별히 특정적인 기재가 없는 한, 본 발명의 범위를 이들로만 한정하는 취지의 것이 아니다.Hereinafter, preferred embodiments and examples of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the following embodiments and examples are merely illustrative of preferred configurations of the present invention and are not intended to limit the scope of the present invention to these configurations. In the following description, the hardware configuration and software configuration of the device, the processing flow, manufacturing conditions, dimensions, materials, shapes, the number and placement positions of each member, etc., are the scope of the present invention unless otherwise specified. It is not intended to be limited to these only.
본 발명은, 기판을 보유지지하기 위한 기판 보유지지 장치 및 기판 보유지지 방법, 그것을 사용한 성막 장치 및 성막 방법 또는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법, 성막된 기판을 사용한 전자 디바이스의 제조 장치 및 전자 디바이스의 제조 방법 등에 바람직하게 적용할 수 있다. 성막 방법은 증착이나 스퍼터링 등의 방법을 묻지 않고, 성막 재료나 증착 재료의 종류를 묻지 않는다. 본 발명은 또한, 기판 보유지지 방법이나 성막 방법을 컴퓨터에 실행시키는 프로그램이나, 해당 프로그램을 저장한 기억 매체로서도 파악된다. 기억 매체는 컴퓨터에 의해 판독 가능한 비일시적인 기억 매체여도 된다.The present invention relates to a substrate holding apparatus and a substrate holding method for holding a substrate, a film forming apparatus and a film forming method using the same, or a substrate processing apparatus and a substrate processing method, an electronic device manufacturing apparatus and an electronic device using the deposited substrate. It can be preferably applied to a manufacturing method or the like. The film-forming method does not depend on a method such as vapor deposition or sputtering, and does not depend on the type of film-forming material or evaporation material. The present invention is also conceived as a program for causing a computer to execute a substrate holding method or a film forming method, or a storage medium storing the program. The storage medium may be a non-transitory storage medium readable by a computer.
본 발명은, 기판을 세정하거나, 기판의 표면이나 기판 표면에 형성된 다른 재료의 막 위에, 원하는 패턴의 박막(재료층)을 형성하거나 하는 장치에 바람직하게 적용할 수 있다. 기판의 재료로서는, 유리, 수지, 금속, 실리콘 등의 임의의 재료를 선택할 수 있다. 성막 재료로서, 유기 재료, 무기 재료(금속, 금속 산화물 등) 등의 임의의 재료를 선택할 수 있다. 본 발명의 기술은, 예를 들면, 전자 디바이스나 광학 부재의 제조 장치에 적용 가능하며, 특히, 유기 전자 디바이스(예를 들면, 유기 EL 소자를 사용한 유기 EL 장치, 박막 태양 전지, 유기 CMOS 이미지 센서) 등의 제조 장치에 적용 가능하다.The present invention can be preferably applied to an apparatus for cleaning a substrate or forming a thin film (material layer) of a desired pattern on the surface of the substrate or on a film of another material formed on the surface of the substrate. As the material of the substrate, any material such as glass, resin, metal, and silicon can be selected. As the film forming material, an arbitrary material such as an organic material and an inorganic material (metal, metal oxide, etc.) can be selected. The technology of the present invention can be applied to, for example, an apparatus for manufacturing an electronic device or an optical member, and in particular, an organic electronic device (e.g., an organic EL device using an organic EL element, a thin film solar cell, an organic CMOS image sensor) ), etc., can be applied to manufacturing equipment.
본 발명은 성막 용도 이외에도, 점착 부재에 의해 기판을 보유지지하는 공정을 갖는 장치, 예를 들면 디스플레이의 제조 장치나 가공 장치 등에도 적용할 수 있고, 특히 대형 기판이 처리 대상으로 되는 장치나, 기판을 반전하는 공정이 있는 장치에 바람직하게 적용할 수 있다.In addition to film forming applications, the present invention can also be applied to devices having a process of holding a substrate by an adhesive member, for example, a display manufacturing device or a processing device, and in particular, a device or a substrate in which a large substrate is a processing target. It can be suitably applied to an apparatus with a process of inverting.
<검토><Review>
본 출원 발명자들의 검토에 의하면, 기판 보유지지 장치에 의해 평면 형상으로 설치된 점착 부재를 사용하여 기판을 안정적으로 보유지지하기 위해서는, 기판과, 점착 부재가 설치된 점착면이 평행한 상태로 점착 보유지지를 행하는 것이 중요하다는 것을 알았다. 예를 들면, 평면 형상으로 점착 재료가 형성된 점착 패드를 사용하는 경우, 점착 재료와 기판의 사이의 당접 면적이 넓을수록 점착력이 커진다. 한편, 점착면과 기판의 평행도가 저하되면, 당접 면적이 감소하여 보유지지력이 저하될 우려가 있다.According to the review of the inventors of the present application, in order to stably hold a substrate using an adhesive member installed in a planar shape by a substrate holding device, the adhesive holding is performed while the substrate and the adhesive surface on which the adhesive member is installed are parallel. I knew it was important to do. For example, in the case of using an adhesive pad in which an adhesive material is formed in a planar shape, the larger the contact area between the adhesive material and the substrate, the greater the adhesive force. On the other hand, when the degree of parallelism between the adhesive surface and the substrate decreases, there is a concern that the contact area decreases and the holding power decreases.
또한, 특히 대형 기판에 있어서는, 기판이 물결치는 모양이 되거나 처지거나 한 상태로 되기 쉽고, 이러한 상태에서 복수의 점착 패드를 일괄적으로 기판에 당접시키면, 기판의 부위별로 보유지지력이 달라지는 경우가 있다. 즉, 어떤 점착 패드에 대해서는 기판에 대해 평행하게 당접할 수 있다 하더라도, 기판의 처짐이나 기복의 영향으로, 다른 점착 패드에 대해서는 기판에 대해 기울어서 당접하는 경우가 있다. 점착 패드와 기판이 평행하지 않고 기울어져 있으면, 전술한 바와 같이 충분한 보유지지력을 발휘할 수 없어, 안정적인 기판 보유지지에 지장을 초래할 우려가 있다.In addition, especially for large-sized substrates, the substrate tends to become wavy or sag, and if a plurality of adhesive pads are brought into contact with the substrate collectively in such a state, the holding power may vary for each portion of the substrate. . That is, even if a certain adhesive pad can be brought into parallel contact with the substrate, due to the influence of sagging or undulations of the substrate, other adhesive pads may be inclined with respect to the substrate in some cases. If the pressure-sensitive adhesive pad and the substrate are not parallel and inclined, as described above, sufficient holding power cannot be exhibited, and there is a fear that it may interfere with stable holding of the substrate.
거기서 본 출원 발명자가 예의 검토한 결과, 점착 패드 등의 점착면을 가지는 기판 보유지지 장치에 의해 기판을 보유지지할 때, 해당 점착 패드를 기판에 대해 진퇴 가능하고 경동 가능하게 하여 점착 패드가 기판의 경사에 따르도록 함으로써, 점착 패드의 점착면과 기판의 평행도를 향상시키는 것을 알게 되어, 본 발명을 창출하기에 이르렀다. 이하, 본 발명의 실시예에 대해 설명한다.Accordingly, as a result of a thorough study by the inventors of the present application, when the substrate is held by a substrate holding device having an adhesive surface such as an adhesive pad, the adhesive pad can move forward and backward relative to the substrate, so that the adhesive pad can be applied to the substrate. It was found that the parallelism between the adhesive surface of the adhesive pad and the substrate was improved by making it conform to the inclination, leading to the creation of the present invention. Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described.
[실시형태 1][Embodiment 1]
도면을 참조하여, 본 실시형태의 기판 보유지지 장치의 구성에 대해 설명한다. 도 1은 기판 보유지지 장치의 내부 구성을 설명하기 위한 도면으로, 도 1의 (a)는 기판 보유지지 부재의 평면도, 도 1의 (b)는 기판 보유지지 장치의 측면 단면도이다.With reference to the drawings, the configuration of the substrate holding device of the present embodiment will be described. 1 is a view for explaining an internal configuration of a substrate holding device, in which (a) of FIG. 1 is a plan view of a substrate holding member, and (b) of FIG. 1 is a side cross-sectional view of the substrate holding device.
<기판 보유지지 부재><Substrate holding member>
기판 보유지지 부재(100)는, 기판(10)을 보유지지하는 면(이하, 보유지지면(110X)이라고 칭함)을 갖는 기체(基體, 베이스)를 구비하고 있다. 본 실시예에서, 기체는, 보유지지면(110X)이 평면으로 구성되는 평판 형상 부재(110)와, 평판 형상 부재(110)를 지지하는 프레임(115)을 구비하고 있다. 이 평판 형상 부재(110)에는, 기판(10)을 상하 이동시키기 위한 핀(240)을, 평판 형상 부재(110)에 있어서의 보유지지면(110X)으로부터 출몰시키기 위한 관통 구멍(111)이 복수 설치되어 있다. 또한, 기판 보유지지 부재(100)는, 점착력을 이용하여 기판(10)을 보유지지하기 위한 기판 보유지지 유닛(점착 유닛)(120)을 복수 구비하고 있다. 기판 보유지지 유닛(120)의 구성과 기능에 대해서는 후술한다. 또한, 평판 형상 부재(110)에는, 기판 보유지지 유닛(120)의 구성 부재(점착 패드(123) 등)를 이동 가능하게 구성하는 관통 구멍(112)도 복수 설치되어 있다. 후술하는 바와 같이 점착 부재 구동 기구에 의해 점착 패드(123)를 구동함으로써, 점착 패드(123)를 관통 구멍(112)을 통해 보유지지면(110X)으로부터 돌출 또는 몰입시키거나, 점착 패드(123)의 점착면을 보유지지면(110X)과 하나의 면(동일면)의 상태로 만들거나 할 수 있다.The
나아가, 기판 보유지지 부재(100)는, 기판(10)의 주위를 평판 형상 부재(110)에 고정시키기 위한 고정구(130)를 복수 구비하고 있다. 또한, 본 실시예에서는, 고정구(130)의 일례로서 클램프의 경우를 나타내지만, 고정구로서는 클램프에 한정되지 않고, 각종 공지 기술을 채용할 수 있다. 또한, 평판 형상 부재(110)의 형상 및 치수에 대해서는, 기판(10)의 사이즈, 및 기판(10)에 있어서의 성막 영역에 따라 적절히 설정된다. 그리고, 관통 구멍(111), 기판 보유지지 유닛(120) 및 고정구(130)의 개수 및 배치에 관해서도, 기판(10)의 사이즈, 및 기판(10)에 있어서의 성막 영역에 따라 적절히 설정된다. 또한, 본 실시예에서는 기체가 평판 형상 부재(110)와 프레임(115)으로 구성되는 예에 대해 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 즉, 기체는 평판 형상 부재(110) 및 프레임(115)의 적어도 일방을 구비하고 있으면 된다. 또는, 기체는 평면 형상의 보유지지면(110X)을 갖는 구성이라면, 다른 임의의 부재로 구성할 수도 있다.Further, the
<기판 보유지지 장치><Substrate holding device>
도 1의 (b)에 나타내는 바와 같이, 기판 보유지지 부재(100)는, 기판 보유지지실(R1)(제1 챔버)을 가지고 있다. 기판 보유지지실(R1) 내는, 전형적으로 진공 분위기로 유지되어 있고, 기판(10)이나 마스크를 반출입하기 위한 개구를 구비한다. 또한, 본 명세서에 있어서의 진공이란, 통상의 대기압(1013hPa)보다 낮은 압력의 기체(氣體)로 채워진 공간의 상태를 의미한다. 그리고, 기판 보유지지 장치는, 기판(10)을 상하 이동시키기 위한 핀 유닛(200)(기판 이동 기구)과, 전자 코일(360)을 갖는 전자 코일 유닛(300)(점착 부재 구동 기구)과, 기판 보유지지 부재(100)를 지지(고정)하는 지지대(400)를 구비하고 있다. 지지대(400)에 기판 보유지지 부재(100)가 지지된 상태에서는, 기판 보유지지 부재(100)(평판 형상 부재(110))에 있어서의 보유지지면(110X)은 수평면과 평행하게 되도록 구성되어 있다.As shown in FIG. 1B, the
기판 보유지지실(R1)은 기판 처리 영역(A1)과 구동원 배치 영역(A2)으로 구획된다. 기판 처리 영역(A1)에는 기판 보유지지 부재(100) 등이 배치된다. 구동원 배치 영역(A2)에는, 핀 유닛(200)에 있어서의 모터(210), 및 전자 코일 유닛(300)에 있어서의 모터(310) 등이 배치된다. 이러한 구성에 의해, 모터(210, 310)의 회전에 의해 발생하는 이물(異物)이나, 볼 나사 기구 부분의 슬라이딩(摺動)부에서 발생하는 이물이 기판 처리 영역(A1)에 침입하는 것을 억제할 수 있다. 핀(240)과 핀 유닛(200)을 포함하여 기판 이동 기구로 해도 된다.The substrate holding chamber R1 is divided into a substrate processing region A1 and a driving source arrangement region A2. A
또한, 본 실시형태에서는 상기 2개의 영역(A1, A2)을 모두 기판 보유지지실(R1)의 진공 분위기 내에 배치하는 구성을 설명했지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 기판 처리 영역(A1)만을 기판 보유지지실(R1)의 진공 분위기 내에 배치하고, 구동원 배치 영역(A2)은 대기 분위기하에 배치해도 된다. 이와 같이 함으로써, 전술한, 이물이 기판 처리 영역(A1)으로 침입하는 것을 억제하는 효과를 보다 높일 수 있다.In addition, in the present embodiment, the configuration in which both of the two regions A1 and A2 are disposed in the vacuum atmosphere of the substrate holding chamber R1 has been described, but is not limited thereto. For example, only the substrate processing region A1 may be arranged in the vacuum atmosphere of the substrate holding chamber R1, and the driving source arrangement region A2 may be arranged in an atmospheric atmosphere. By doing in this way, the effect of suppressing the invasion of the above-described foreign material into the substrate processing region A1 can be further enhanced.
기판 보유지지 부재(100)가 구비하는 각 유닛은, 전원(710)으로부터 전력이 공급됨과 함께, 제어부(720)로부터 제어 신호를 받아 제어되어 동작한다. 전원(710)으로서는 임의의 이미 알려진 전원 장치를 이용할 수 있다. 제어부(720)로서는, 예를 들면, 프로세서나 메모리 등의 연산 자원을 구비하고, 프로그램에 따라 동작하는 PC나 워크스테이션 등의 정보 처리 장치를 이용할 수 있다.Each unit included in the
기판 보유지지 부재(100)는, 전술한 핀(240)에 의해 기판(10)을 상하 이동시키기 위한 핀 유닛(200)과, 전자 코일(360)을 상하 이동시키기 위한 전자 코일 유닛(300)과, 기판 보유지지 부재(100)를 지지(고정)하는 지지대(400)를 구비하고 있다. 지지대(400)는, 기판 보유지지 부재(100)를, 평판 형상 부재(110)가 구성하는 보유지지면(110X)이 대략 수평으로 되도록 지지 가능하다.The
핀 유닛(200)은, 모터(210)와, 모터(210)에 의해 회전하는 나사 축(220)과, 나사 축(220)의 회전 동작에 따라, 나사 축(220)을 따라 상하 이동하는 너트부(230)와, 너트부(230)에 고정되며 너트부(230)와 함께 상하 이동하는 핀(240)을 구비하고 있다. 또한, 너트부(230)의 내주면과 나사 축(220)의 외주면의 사이에는, 복수의 볼이 무한 순환하도록 구성되어 있다. 또한, 핀(240)을 상하 이동시키는 구성은 볼 나사 기구에 한정되지 않고, 랙 앤드 피니언(rack and pinion) 방식 등의 그 밖의 공지 기술을 채용할 수 있다.The
또한, 도시한 예에서는, 하나의 핀(240)에 대해, 각각 모터(210) 등의 구동 기구가 구비되어 있다. 이 구성이라면 개별적으로 핀의 상하를 조정 가능하다. 다만, 하나의 구동 기구에 의해, 복수의 핀(240)을 동시에 구동시키는 구성이 가능하다. 예를 들면, 상기 볼 나사 기구를 채용하는 경우에는, 하나의 너트부(230)에 복수의 핀(240)을 설치하면 된다.Further, in the illustrated example, a drive mechanism such as a
전자 코일 유닛(300)은, 모터(310)와, 모터(310)에 의해 회전하는 나사 축(320)과, 나사 축(320)의 회전 동작에 따라, 나사 축(320)을 따라 상하 이동하는 너트부(330)와, 너트부(330)에 고정되며 너트부(330)와 함께 상하 이동하는 축부(340)와, 축부(340)의 선단에 설치되는 지지부(350)와, 지지부(350)에 지지되는 전자 코일(360)을 구비하고 있다. 또한, 너트부(330)의 내주면과 나사 축(320)의 외주면의 사이에는, 복수의 볼이 무한 순환하도록 구성되어 있다. 또한, 전자 코일(360)을 상하 이동시키는 구성은 볼 나사 기구에 한정되지 않고, 랙 앤드 피니언 방식 등의 그 밖의 공지 기술을 채용할 수 있다.The
또한, 도시한 예에서는, 하나의 전자 코일(360)에 대해, 각각 모터(310) 등의 구동 기구가 구비되어 있다. 이 구성이라면 개별적으로 전자 코일의 상하 이동을 조정할 수 있다. 다만, 하나의 구동 기구에 의해 복수의 전자 코일(360)을 동시에 구동시키는 구성을 채용할 수도 있다. 예를 들면, 상기 볼 나사 기구를 채용하는 경우에는, 하나의 너트부(330)에 대해, 복수의 축부(340), 지지부(350) 및 전자 코일(360)을 설치하면 된다.In addition, in the illustrated example, a drive mechanism such as a
또한, 전자 코일(360)에 대해서는, 제어부(720)의 제어에 따라, 전원(710)에 의해 전류가 흐르도록 구성되어 있다. 제어부(720)가 전자 코일(360)에 대해 흘리는 전류의 방향이나 전류의 크기를 변경함으로써, 전자 코일(360)의 동작을 제어 할 수 있다.In addition, the
여기서, 전자 코일(360)은 복수의 기판 보유지지 유닛(120)의 각각에 대응하도록 복수 설치되어 있다. 이에 의해, 전자 코일 유닛(300)이, 각 기판 보유지지 유닛(120)에 있어서의 점착 패드(123)를 구동시키기 위한 점착 부재 구동 기구로서 기능한다. 즉, 전자 코일 유닛(300)은, 각 기판 보유지지 유닛(120)의 각각이 가지는 진퇴 기구에 대해 비접촉으로 작용함으로써, 점착 패드(123)의 점착면을 보유지지면에 대해 진퇴시킬 수 있다. 그 결과, 기판(10)이 물결치는 모양이 되는 것 등에 의해 보유지지면과 기판(10) 간의 거리가 장소마다 다른 경우라도, 기판(10)에 접촉할 수 있는 위치까지 점착 패드(123)가 이동할 수 있다. 또한, 기판 보유지지 유닛(120)의 각각이 가지는 진퇴 기구에 대해 비접촉으로 작용하여 점착 패드(123)의 점착면을 진퇴시키므로, 접촉하여 점착 패드(123)의 점착면을 진퇴시킬 때에 슬라이딩 등에 의해 생기는 이물(마모분 등)의 발생을 억제하면서, 점착 패드(123)의 점착면의 진퇴를 실현할 수 있다.Here, a plurality of
<기판 보유지지 유닛의 구성><Configuration of substrate holding unit>
도 2, 도 3은 기판 보유지지 유닛(120)의 모식적 단면도이며, 도 1의 AA선 부분의 단면을 나타낸다. 개개의 기판 보유지지 유닛(120)은, 단면 L자 형상의 기판 보유지지 유닛 보유지지부(150)에 보유지지된다. 이 기판 보유지지 유닛 보유지지부(150)는, 평판 형상 부재(110)에 고정되는 피고정부(151)와, 기판 보유지지 유닛(120)을 보유지지하는 보유지지부(152)를 구비하고 있다. 보유지지부(152)에는 관통 구멍(153)이 설치되어 있다. 또한, 본 실시예에서는 기판 보유지지 유닛 보유지지부(150)가 프레임(115)에 고정되는 예를 설명하지만, 이것에 한정되지 않고, 기판 보유지지 유닛 보유지지부(150)는 기체에 고정되어 있어도 된다.2 and 3 are schematic cross-sectional views of the
기판 보유지지 유닛(120)은, 축부(121)와, 축부(121)의 일단에 고정되는 지지 플랜지부(122)와, 지지 플랜지부(122)에 고정되는 점착 패드(123)를 구비하고 있다. 점착 패드(123)는, 실리콘계 수지, 불소계 수지, 디엔계 수지 등으로 이루어지는 점착 재료를 형성한, 점착면을 갖는 시트 형상의 부재이다. 점착 패드(123)가 본 발명의 점착 부재라고 생각해도 되고, 지지 플랜지부(122)와 점착 패드(123)를 합쳐서 점착 부재라고 생각해도 된다. 점착 패드(123)는, 점착성을 가지며 파지면(또는 점착면)을 갖는 점착층과, 점착층을 지지 플랜지부(122)에 접착하기 위한 접착층이 적층된 구조를 가지고 있어도 된다.The
지지 플랜지부(122)는, 회동축으로서의 축부(121)의 일단측에 경동 가능하게 고정된다. 예를 들면, 지지 플랜지부(122)에 축단부를 받는 받음부를 설치함으로써, 지지 플랜지부(122)를 축부(121)의 연장 방향의 축에 대해 경동 가능하게 축 지지할 수 있다. 이러한, 축단부와 축받음부(122a)를 포함하는 경동 기구로서는, 볼 조인트 구조 등의 이미 알려진 구성을 채용할 수 있다. 예를 들면, 도 3의 (a)에서는 점착 패드(123)의 점착면이 기판(10)을 따라 대략 수평으로 되어 있는 것에 비해, 기판(10)이 물결치는 모양이 되어 있는 도 3의 (b)에서는, 점착 패드(123)의 점착면이 기판(10)을 따르도록 수평면에 대해 경동하고 있다.The
또한, 본 실시형태에서는 지지 플랜지부(122)가 축부(121)의 일단측에 경동 가능하게 고정되는 것으로 하였지만, 이것에 한정되지 않고, 지지 플랜지부(122)는 용접 고정 등에 의해 축부(121)에 견고하게 고정되어 있어도 된다. 이 경우라 하더라도, 일체 고정된 지지 플랜지부(122) 및 축부(121)는 후술하는 탄성체(128)에 의해 지지되어 있기 때문에, 지지 플랜지부(122)는 보유지지면에 대해 경동 가능하게 된다. 즉, 지지 플랜지부(122)가 경동하면 탄성체(128)가 굴곡함과 함께 축부(121)가 기울어진다. 그 결과, 도 4에 나타낸 바와 같이, 보유지지부(152)에 설치된 관통 구멍(153)의 여유 범위 내에서 요동할 수 있다. 이에 의해, 점착 패드(123)의 점착면을 기판(10)의 경사에 추종시킬 수 있다. 즉, 탄성체(128)는 경동 기구로서도 기능한다.Further, in the present embodiment, the
또한, 기판 보유지지 유닛(120)은, 축부(121)에 고정되는 스톱퍼부(124)와, 축부(121)가 삽통되고 또한 스톱퍼부(124)에 인접한 상태로 축부(121)에 고정되는 원통 형상의 영구자석(125)과, 영구자석(125)을 축부(121)에 고정시키기 위한 와셔(126) 및 너트(127)를 구비하고 있다. 또한, 축부(121)의 타단측에는 암나사가 형성되어 있고, 이 암나사에 너트(127)를 체결함으로써 영구자석(125)을 축부(121)에 고정시킬 수 있다. 스톱퍼부(124)는, 축부(121)의 양단 중, 점착 패드가 배치되는 일단측과는 반대의 타단측에, 나사 체결이나 용접 등에 의해 고정된다.In addition, the
너트(127)가 체결된 상태에서는, 축부(121)와, 지지 플랜지부(122)와, 점착 패드(123)와, 스톱퍼부(124)와, 영구자석(125)과, 와셔(126) 및 너트(127)는 일체화된 상태로 되어, 일체화된 축부(121) 등을 구성하고 있다. 또한, 원통 형상의 영구자석(125)은 축방향의 일단측과 타단측에서 자극이 다르도록 구성되어 있다. 도시한 예에서는, 점착 패드(123)가 설치되어 있는 측이 N극이며, 그 반대측이 S극으로 되는 경우를 나타내고 있지만, 역방향으로 배치시켜도 된다.In the state where the
그리고, 기판 보유지지 유닛(120)은, 축부(121)의 왕복 이동(상하 이동)을 가능하게 하면서, 축부(121)의 요동을 가능하게 한 상태로, 일체화된 축부(121) 등을 지지하기 위한 탄성체(128)를 구비하고 있다. 도시한 예에서는 탄성체(128)로서 금속제의 스프링(코일 스프링)이 사용되고 있다. 다만, 탄성체에 대해서는, 금속제의 판 스프링이나 엘라스토머 재료로 이루어지는 원통 형상의 부재 등의 적절한 구성을 채용할 수 있다. 그러나, 기판 보유지지 부재(100)를 진공중에서 사용하는 경우에는, 탄성체(128)로서는, 구성 재료로부터의 탈(脫)가스를 저감하는 관점에서 금속제의 탄성 부재를 사용하는 것이 바람직하다.In addition, the
보유지지부(152)를 사이에 두고 보유지지면(110X) 측에 점착 패드(123) 등이 배치되고, 그 반대측에 스톱퍼부(124) 등이 배치되도록, 관통 구멍(153)에 축부(121)가 삽통된 상태로, 기판 보유지지 유닛(120)은 기판 보유지지 유닛 보유지지부(150)에 보유지지된다. 이 때, 탄성체(128)의 일단은 지지 플랜지부(122)에 고정되고, 타단은 보유지지부(152)에 고정된 상태로 설치된다. 또한, 탄성체(128)의 내주측의 면과 축부(121)의 외주면의 사이에는 간극이 마련되어, 탄성체(128)와 축부(121)는 접하지 않도록 구성되어 있다. 또한, 스톱퍼부(124)는 관통 구멍(153)보다 대직경으로 설정됨으로써, 일체화된 축부(121) 등이 관통 구멍(153)으로부터 빠지는 것을 방지하고 있다. 이상과 같이, 기판 보유지지 유닛(120)은, 탄성체(128)의 타단만이 보유지지부(152)에 고정되어 있고, 기판 보유지지 유닛(120)을 구성하는 다른 부재는, 기판 보유지지 유닛(120) 이외의 구성 부재에는 접하지 않도록 구성되어 있다. 이와 같이 구성함으로써, 접촉 마모에 의한 이물(파티클)의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 본 실시예에서는 스톱퍼부(124)가, 영구자석(125)과 인접하여 배치되고, 영구자석(125)의 축부(121)의 축방향에 있어서의 위치결정 고정 기능과, 보유지지부(152)와 부딪침으로써 일체화된 축부(121) 등이 관통 구멍(153)으로부터 빠지는 것을 방지하는 기능(기계적 스톱퍼 기능)의 양쪽 모두를 갖지만, 이 구성에는 한정되지 않는다. 즉, 기계적 스톱퍼 기능을 갖는 스톱퍼부(124)와 별도로, 영구자석(125)의 위치결정 고정 기능을 갖춘 부재를 설치해도 된다.An
점착 패드(123)는, 도 2의 (a)에 나타내는 전진 상태와, 도 2의 (b)에 나타내는 후퇴 상태의 사이에서 위치를 변화시킬 수 있다. 즉, 보유지지면(110X)이 수평면에 평행하고 연직 방향 상방을 향한 상태이고, 또한, 기판 보유지지 유닛(120)에는, 그 자중만이 작용하고 있는 상태에서는, 점착 패드(123)는, 보유지지면(110X)보다 약간 연직 방향 상방으로 튀어나와 있다. 이 전진 상태에서는, 일체화된 축부(121) 등은 탄성체(128)에 의해서만 지지되어 있다. 이에 의해, 일체화된 축부(121) 등은 점착 패드(123)의 점착면이 보유지지면(110X)에 대해 진퇴 가능하게 되도록 왕복 이동(상하 이동)이 허용되고 있다. 따라서, 점착 패드(123)는 보유지지면(110X)으로부터 진퇴 가능하게 되어 있다. 또한, 점착 패드(123)의 점착면이 경동하고 있을 때에는, 도 3의 (b)에 나타내는 바와 같이 탄성체(128)를 구성하는 스프링이 변형함으로써 압력을 흡수할 수 있다. 또한, 본 실시예에서는 전술한 상태에 있어서 점착 패드(123)가 보유지지면(110X)보다 약간 돌출한 상태로 되는 예에 대해 설명하지만, 이것에 한정되지 않고, 전술한 상태에 있어서 점착 패드(123)의 점착면이 보유지지면(110X)과 동일 평면 상에 위치해도 된다.The
여기서, 제어부(720)의 제어에 의해 전원(710)이 전자 코일(360)에 전류를 흘림으로써, 전자 코일(360)의 내부에 영구자석(125)을 끌어들이는 전자력을 발생시킨다. 이에 의해, 기판 보유지지 유닛(120)에서의 탄성체(128)의 탄성 반발력(스프링의 스프링력)에 대항하여, 일체화된 축부(121) 등은 연직 방향 하방으로 이동한다. 이에 의해, 도 2의 (b)와 같이, 점착 패드(123)는 보유지지면(110X)보다 연직 방향 하방으로 이동한다. 한편, 여기서는 기판 보유지지 유닛(120)이 영구자석(125)을 가지는 것으로 하였지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 영구자석은 아니라도 자성체에 의해 구성된 자성 부재를 사용해도 된다. 자성체로서는 강자성체 또는 반자성체를 사용하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 전자 코일(360)에 의해 발생한 전자력 등의 외부 자력에 의해, 일체화된 축부(121) 등을 연직 방향 하방 또는 상방으로 이동시킬 수 있다.Here, under the control of the
<기판 보유지지 공정><Substrate holding process>
도 5a 내지 도 5c를 참조하여, 본 실시형태의, 도 4에 예시한 바와 같은 기판 보유지지 유닛(120)이 기판(10)에 점착하는 모습을 설명한다.Referring to FIGS. 5A to 5C, a state in which the
도 5a는 핀(240)이 보유지지면(110X)보다 상방에서 기판(10)을 보유지지하고 있는 모습을 나타낸다. 즉, 기판 보유지지실(R1)에 기판(10)이 반입되기 전에, 핀 유닛(200)은 복수의 핀(240) 각각의 일단부가 이루는 면이, 보유지지면(110X)보다 Z방향에서 상방으로 오도록 제어한다. 또한, 제어부(720)는 전원(710)에 의한 전자 코일(360)에의 통전을 제어하여, 기판 보유지지 유닛(120)의 점착 패드(123)를 후퇴 상태로 하여 둔다. 그리고 그 상태에서 기판 보유지지실(R1)에 기판(10)을 반입함으로써, 도시된 상태로 된다. 도시한 상태에서는, 기판(10)의 높이는 보유지지면(110X)보다 상방이며, 양자는 당접하지 않는다. 이 때의 기판의 높이를 제1 높이로 한다.5A shows a state in which the
도 5b에서는 핀 유닛(200)이 복수의 핀(240)을 하방으로 이동시킨다. 이에 의해, 기판(10)이 보유지지면(110X)에 당접한다. 이 때의 기판 높이를 제2 높이로 한다. 다만, 도시한 예에서는, 기판(10)이 물결치는 모양이 되어 있기 때문에, 해당 기판(10)의 일부가 보유지지면(110X)에 당접하지 않고, 기판(10)의 각도도 수평면에 대해 일부 기울어진, 보유지지면(110X1)과 평행하지 않는 상태로 되어 있다.In FIG. 5B, the
또한, 상향 증착(Deposition Up) 방식이 아니라, 예를 들면 측면 증착(Side Deposition) 방식을 사용하는 경우, 기판(10)은 승강 동작이 아니라 횡방향 이동을 행한다. 그 경우, 기판(10)은, 기판 이동 기구에 의해, 보유지지면과 당접하지 않는 제1 위치와, 보유지지면과 당접하는 제2 위치의 사이에서 이동한다. 이 때 기판 보유지지 유닛은, 기판이 상기 제1 위치에 있을 때에는, 점착면을 보유지지면보다 기판으로부터 떨어진 위치로 후퇴시킨다. 그리고, 기판 이동 기구가 기판을 보유지지면과 당접하지 않는 제1 위치로 이동시킨 후에, 점착면을 보유지지면까지 전진시켜, 기판과 점착면을 당접시킨다.In addition, when a side deposition method is used instead of a deposition up method, for example, the
도 5c에서는, 제어부(720)가 전원(710)에 의한 전자 코일(360)에의 통전을 제어하여, 기판 보유지지 유닛(120)의 점착 패드(123)를 전진시켜 보유지지면(110X)보다 약간 돌출한 상태로 한다. 점착 패드(123)는, 탄성체(128)에 의해 보유지지면에 대해 기판 측으로 가압되고 있기 때문에 기판(10)에 당접한다. 이 때, 경동 기구에 의해 점착 패드(123)의 기울어짐이 허용되어, 기판(10)과 점착 패드(123)의 점착면이 대략 평행한 상태로 당접한다. 즉, 탄성체(128)는, 점착 패드(123)의 점착면을 기판(10) 측으로 가압하는 가압 수단으로서의 기능도 갖는다. 이러한 가압 수단으로서의 탄성체(128)가 점착 패드(123)를 요동 가능한 상태에서 기판 측으로 가압함으로써, 점착면과 기판의 당접 상태가 향상된다.In FIG. 5C, the
도 2 내지 도 5c에서 나타낸 바와 같이 본 실시예에서는, 점착 패드(123)가 보유지지면에 대해 진퇴 가능하고 경동 가능하게 되어 있다. 즉, 일체화된 축부(121) 등에 의해 점착 패드(123)를 보유지지면(110X)에 대해 진퇴 가능하게 하고, 또한 탄성체(128)에 의해 점착 패드(123)가 기판에 대해 가압된 상태로 함으로써, 기판(10)이 물결치는 모양이 되는 것 등에 의해 기판(10)의 위치별로 보유지지면(110X)과의 거리가 다른 경우라 하더라도, 점착 패드(123)가 기판(10)의 높이까지 도달하여 기판에 점착하는 것이 가능하게 된다. 축부(121) 등이나, 전자 코일 유닛(300), 전자 코일(360)은, 점착 패드(123)를 보유지지면에 대해 진퇴 가능하게 하는 진퇴 기구라고 생각할 수 있다.As shown in Figs. 2 to 5C, in this embodiment, the
나아가, 경동 기구에 의해, 점착 패드(123)에 있어서의 점착면의 보유지지면(110X)에 대한 기울기(보유지지면에 평행한 면을 XY 평면으로 한 경우에, 임의의 XY 방향에 대한 기울기)의 변경도 허용되고 있다. 이와 같이 기판 보유지지 유닛(120)이 점착 패드(123)의 경동(머리흔들기 동작)을 허용하고 있음으로써, 기판(10)이 물결치는 모양이 되는 것 등에 의해 기판(10)의 각도가 수평면에 대해 기울어져 있는 경우라도, 점착 패드(123)의 점착면과 기판(10)이 당접할 때의 평행도가 향상되기 때문에, 점착력의 저하가 억제된다.Further, by the tilting mechanism, the inclination of the adhesive surface in the
또한, 도 5b에 나타낸 상태 이후, 핀(240)을 더욱 하방으로 이동시켜, 기판(10)을 기체 상에 재치한 후에, 도시하지 않은 압압부를 사용하여 기판(10)을 상방으로부터 압압하여 기판(10)을 평평하게 하는 압압 공정을 더 마련해도 된다. 기판(10)을 압압부(도시하지 않음)와 기체의 보유지지면(110X) 사이에 끼움으로써 기판(10)이 보다 평평한 상태가 되도록 교정할 수 있다. 그리고 나서, 도 5c에 나타낸 바와 같이 점착 패드(123)를 전진시킴으로써, 보다 양호하게 기판(10)을 보유지지시킬 수 있다. 또한, 이와 같이 하여 기판(10)을 교정한 후에 점착 패드(123)에 의해 보유지지시킨 경우라 하더라도, 시간이 경과함에 따라, 기판(10) 그 자체나 기판(10) 상에 형성된 각종 막의 내부 응력 등에 기인하여 기판(10)이 처지거나 기복이 생기거나 하는 경우가 있다. 이러한 경우라 하더라도, 본 실시형태에 의하면, 점착 패드(230)가 탄성체(128)에 의해 기판(10)에 접근하는(또는, 눌리는) 방향으로 가압되면서, 점착 패드(230)가 경동 가능하게 구성되어 있기 때문에, 점착 패드(230)는 기판(10)의 경동이나 들뜸(浮)에 추종하여 움직인다. 그 때문에, 본 실시형태에 의하면, 장시간에 걸쳐 안정적으로 기판(10)을 보유지지할 수 있다.In addition, after the state shown in FIG. 5B, after the
한편, 본 실시예에서는 기판 보유지지 부재(100)의 보유지지면(110X)이 수평면과 평행하며 연직 방향 상방을 향하도록 배치된 상태로 기판 보유지지 부재(100)에 기판(10)을 보유지지시키는 것으로 하였지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 기판 보유지지 부재(100)의 보유지지면(110X)이 수평면과 직교하도록 배치된 상태, 즉, 보유지지면(110X)이 수평 방향을 향하도록 배치된 상태로, 기판 보유지지 부재(100)에 기판(10)을 보유지지시키도록 해도 된다. 이 경우에는, 기판 이동 기구로서, 기판(10)의 주면(성막면)이 수평 방향을 향한 상태로 기판(10)을 지지하고, 그 상태로 기판(10)을 기판 보유지지 부재(100)의 보유지지면(110X)에 근접하거나 멀어지거나 할 수 있는 기구를 사용하면 된다. 이와 같은 기판 이동 기구로서는 종래 공지된 기구를 채용할 수 있지만, 예를 들면, 주면이 수평 방향을 향한 상태의 기판(10)의 상변 및 하변을 클램프하는 클램프부와, 클램프부를 수평 방향으로 이동시키는 액추에이터를 사용할 수 있다. 또는, 주면이 수평 방향을 향한 상태의 기판(10)의 성막면과는 반대측의 면을 정전 흡착하는 정전척과, 정전척을 수평 방향으로 이동시키는 액추에이터를 사용할 수도 있다.On the other hand, in this embodiment, the
또한, 본 실시예에서는 기판 이동 기구로서 핀(240) 및 액추에이터를 구비한 핀 유닛(200)을 사용했지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다는 것은 전술한 바와 같다. 기판 이동 기구로서는, 전술한 예 이외에, 주면(성막면)이 수평면과 평행한 상태로 배치된 기판(10)의 주변부를 지지하는 1개 또는 복수의 지지부(수취 핑거)와, 이 지지부를 이동시키는 액추에이터를 사용할 수도 있다. 이 경우에는, 기판 보유지지 부재(100)의 기체는, 1개 또는 복수의 지지부의 각각에 대응한 위치에 절결부 등이 마련되어 있어, 지지부에 의한 지지면과 기판 보유지지 부재(100)의 보유지지면(110X)을 동일 평면 형상으로 위치시킬 수 있도록 하는 것이 바람직하다.In addition, in the present embodiment, the
이상에 의해, 기판 보유지지 공정이 종료하고, 기판(10)을 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)는 기판 보유지지실(R1)로부터 반출된다.As described above, the substrate holding process is ended, and the
<그 밖의 공정><Other processes>
<<반전 공정>><<reverse process>>
도 6의 (a), (b)는 반전 장치의 전체 개략 구성의 단면을 나타내고 있다. 반전 장치는 반전실(R2)을 구비하고 있다. 이 반전실(R2) 내는, 진공 분위기로 되도록 구성되어 있다. 반전 장치는, 기판 보유지지 부재(100)를 보유지지하는 보유지지 부재(610)와, 보유지지 부재(610)에 고정되는 회전축(620)과, 회전축(620)을 회전시키는 모터(630)와, 회전축(620)을 축 지지하는 지지 부재(640)를 구비하고 있다.6A and 6B show cross-sections of the overall schematic configuration of the reversing device. The inversion device is provided with the inversion chamber R2. The inside of the inversion chamber R2 is configured to be in a vacuum atmosphere. The reversing device includes a holding
기판(10)을 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)는, 기판 보유지지실(R1)로부터 반출된 후에, 반전 장치(반전실(R2))로 보내진다. 그리고, 반전실(R2) 내에 반입된 기판 보유지지 부재(100)는 보유지지 부재(610)에 의해 보유지지된다(도 6의 (a) 참조). 그 후, 모터(630)에 의해, 기판 보유지지 부재(100)는 반전(180° 회전)된다. 이에 의해, 기판(10)은 기판 보유지지 부재(100)에 대해 연직 방향 하방을 향한 상태로 된다. 도 6의 (b)는 반전 후의 상태를 나타내고 있다. 본 실시형태에 의하면, 점착 패드(123)의 점착면과 기판(10)이 대략 평행하게 당접하고 있기 때문에, 점착력이 저하되지 않고 기판(10)을 보유지지할 수 있다. 또한, 반전 동작 전에 고정구(130)를 사용한 클램프 동작에 의해 기판을 기판 보유지지 부재(100)에 고정하는 것도 바람직하다. 기판 보유지지 부재(100)가 반전된 상태에서는, 스톱퍼부(124)가 기판 보유지지 유닛 보유지지 부재(150)의 보유지지부(152)에 부딪친 상태로 된다. 이에 의해, 기판(10)은 평행한 상태를 유지한 채 복수의 기판 보유지지 유닛(120)에 의해 보유지지된 상태로 된다.After the
이상에 의해, 반전 공정이 종료하고, 기판(10)을 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)는 반전실(R2)로부터 반출된다.As described above, the inversion process is ended, and the
<<마스크 보유지지 공정>><<mask holding process>>
기판(10)을 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)는, 반전실(R2)로부터 반출된 후에, 얼라인먼트 장치(얼라인먼트실)로 보내진다. 얼라인먼트실에서는, 기판(10)에 대해 위치맞춤(얼라인먼트)을 행한 상태로, 기판(10) 상에 마스크(20)가 보유지지된다. 또한, 마스크(20)를 보유지지하는 수법으로서는, 영구자석이나 전자석, 영전자석 등에 의한 자기력을 이용할 수도 있고, 클램프 등의 기계적인 보유지지 수단을 채용할 수도 있다. 물론, 이들을 병용할 수도 있다. 기판(10)에 대해 위치맞춤을 행한 상태로 마스크(20)를 보유지지시키기 위한 장치에 관해서는, 각종 공지 기술을 적용하면 되므로, 그 설명은 생략한다.After the
이상에 의해, 마스크 보유지지 공정이 종료하고, 기판(10)과 마스크(20)를 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)는 얼라인먼트실로부터 반출된다.As described above, the mask holding process is finished, and the
<<성막 공정>><<film forming process>>
도 7은 성막 장치(본 실시예에 있어서는 증착 장치)의 전체 개략 구성의 단면을 나타내고 있다. 성막 장치는 성막실(제2 챔버)(R3)을 구비하고 있다. 이 성막실(R3) 내는, 진공 분위기로 되도록 구성되어 있다. 또한, 성막 장치는 성막원으로서의 증발원(30)을 구비하고 있다.7 is a cross-sectional view of an overall schematic configuration of a film forming apparatus (a vapor deposition apparatus in this embodiment). The film forming apparatus is provided with a film forming chamber (second chamber) R3. The inside of this film formation chamber R3 is comprised so that it may become a vacuum atmosphere. Further, the film forming apparatus is provided with an
기판(10)과 마스크(20)를 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)는, 얼라인먼트실로부터 반출된 후에, 성막 장치(성막실(R3))로 보내진다. 성막실(R3)에는 성막을 행하기 위한 성막원이 배치되어 있고, 기판 보유지지 부재(100)에 보유지지된 기판(10) 상에, 마스크(20)를 통해 성막이 행해진다. 본 실시예에 있어서는, 진공 증착에 의한 성막(증착)이 행해진다. 구체적으로는, 성막원으로서의 증발원(30)으로부터 성막 재료가 증발 또는 승화하고, 기판(10) 상에 성막 재료가 증착함으로써 기판(10) 상에 박막이 형성된다. 증발원(30)에 대해서는, 공지 기술이므로, 그 상세한 설명은 생략한다. 예를 들면, 증발원(30)은, 도가니 등의 성막 재료를 수용하는 용기와, 용기를 가열하는 가열 장치 등에 의해 구성할 수 있다. 또한, 성막실(R3)은 복수의 챔버로 구성되고, 각각의 챔버에 상이한 성막 재료를 성막하기 위한 성막원이 각각 배치되어 있어도 된다. 그리고, 기판(10)을 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)가 각각의 챔버 내를 순차 반송됨으로써, 각각의 성막 재료에 의한 성막이 순차 이루어져도 된다. 또한, 성막원은 증발원(30)에 한정되는 것이 아니고, 성막원은 스퍼터링에 의해 성막을 행하기 위한 스퍼터링 캐소드여도 된다.The
이상에 의해, 성막 공정이 종료한다. 그 후, 기판(10)으로부터 마스크(20)가 떼어내진다. 기판(10)으로부터 마스크(20)를 떼어내는 장치 등에 대해서는, 공지 기술이므로, 그 설명은 생략한다. 또한, 마스크(20)가 떼어내진 후에, 다른 마스크를 사용하여 다른 성막 재료에 의한 성막이 이루어지는 공정이 반복되는 경우도 있다. 그리고, 모든 성막 공정이 완료되고, 마스크가 떼어내진 후에, 기판 보유지지 부재(100)로부터 기판(10)이 박리되는 처리가 실시된다.By the above, the film forming process is finished. After that, the
<<기판 박리 공정>><<substrate peeling process>>
도 8의 (a), (b)는 기판 박리 장치의 전체 개략 구성의 단면을 나타내고 있다. 기판 박리 장치는 기판 박리실(R4)을 구비하고 있다. 이 기판 박리실(R4) 내는 진공 분위기로 되도록 구성되어 있다. 기판 박리 장치는, 기판 보유지지 장치와 마찬가지로, 기판(10)을 상하 이동시키기 위한 핀 유닛(200)(기판 이동 기구)과, 전자 코일 유닛(300)(제1 점착 부재 구동 기구)과, 기판 보유지지 부재(100)를 지지하는 지지대(500)를 구비하고 있다. 이들 구성 자체에 대해서는, 상기와 같으므로, 그 설명은 생략한다.8A and 8B show cross-sections of the overall schematic configuration of the substrate peeling apparatus. The substrate peeling apparatus is provided with the substrate peeling chamber R4. The inside of the substrate peeling chamber R4 is configured to be in a vacuum atmosphere. The substrate peeling device includes a pin unit 200 (substrate moving mechanism) for vertically moving the
그리고, 기판 박리 장치는, 전자 코일 유닛(300)을 지지하는 지지대(370)와, 지지대(370)를 보유지지면(110X)과 평행하게 이동시킴으로써 전자 코일 유닛(300)을 보유지지면(110X)과 평행하게 이동시키는 것을 가능하게 하는 구동 장치(380)(제2 점착 부재 구동 기구)를 구비하고 있다. 또한, 구동 장치(380)에 관해서는, 볼 나사 기구, 랙 앤드 피니언 방식에 의한 액추에이터 등의 각종 공지 기술을 적용할 수 있다. 또한, 도시한 예에서는, 복수의 전자 코일 유닛(300)이 설치되어 있고, 지지대(370)는 모든 전자 코일 유닛(300)을 지지하도록 구성되어 있다.In addition, the substrate peeling apparatus moves the
마스크가 떼어내진 후에, 기판(10)을 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)는 기판 박리실(R4)로 반입된다. 그리고, 이 기판 보유지지 부재(100)는 지지대(500)에 지지된다(고정된다). 도 8의 (a)는 기판 보유지지 부재(100)가 지지대(500)에 지지된 상태를 나타내고 있다. 그 후, 전자 코일(360)에 전류를 흘림으로써, 전자 코일(360)의 내부로 영구자석(125)을 끌어들이는 전자력을 발생시킨다. 본 실시예에서는, 점착 패드(123)의 점착력이 높기 때문에, 이 전자력만으로는, 점착 패드(123)가 기판(10)으로부터 벗겨지지 않는다.After the mask is removed, the
그리고, 상기 전자력을 발생시킨 상태에서, 구동 장치(380)에 의해, 지지대(370)를 이동시킴으로써, 모든 전자 코일(360)을, 동시에 보유지지면(110X)과 평행하게 이동시킨다. 이에 의해, 기판 보유지지 유닛(120)에 있어서의 영구자석(125)이 보유지지면(110X)과 평행한 방향으로 잡아당겨져서, 축부(121)가 조금 기움으로써, 점착 패드(123)도 기울고, 기판(10)으로부터 벗겨진 상태가 된다. 그 후, 탄성체(128)의 탄성 반발력에 대항하여, 일체화된 축부(121) 등은, 전자력에 의해 연직 방향 하방으로 이동함으로써, 점착 패드(123)는 기판(10)으로부터 멀어진 상태로 된다. 또한, 본 실시예에서는, 하나의 지지대(370)와 하나의 구동 장치(380)에 의해, 동시에 모든 전자 코일(360)을 이동시키는 경우를 나타내었다. 그러나, 본 발명은 그러한 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 복수의 전자 코일(360)에 대해 복수 세트로 나누고, 각 세트에 대해 각각 지지대(370)와 구동 장치(380)를 설치할 수도 있다. 이 경우, 모든 세트에 대해, 동시에 전자 코일(360)을 이동시켜도 되고, 세트별로 시기를 나누어서 전자 코일(360)을 이동시켜도 된다. 각 세트에는 하나 이상의 전자 코일(360)이 존재하면 된다. 또한, 각 세트에 복수의 전자 코일(360)이 존재하는 경우에 있어서는, 하나의 전자 코일(360)에 대해, 개별적으로 모터(310) 등의 구동 기구가 구비되는 구성을 채용할 수도 있고, 상기와 같이, 하나의 구동 기구에 의해, 복수의 전자 코일(360)을 동시에 구동시키는 구성을 채용할 수도 있다. 따라서, 각 세트에 대해서는, 하나의 전자 코일 유닛(300)만(다만, 전자 코일(360)은 복수 설치됨)이 구비되는 구성도 채용할 수 있다. 또한, 기판 박리 장치에는, 하나의 전자 코일 유닛(300)만(다만, 전자 코일(360)은 복수 설치됨)이 구비되는 구성도 채용할 수 있다.In the state in which the electromagnetic force is generated, by moving the
점착 패드(123)가 기판(10)으로부터 떨어진 후에, 고정구(130)에 의한 기판(10)의 고정이 해제된다. 도 8의 (b)는 지지대(370)가 이동하고, 또한 고정구(130)에 의한 기판(10)의 고정이 해제된 상태를 나타내고 있다. 또한, 고정구(130)에 의한 기판(10)의 고정의 해제 동작에 대해서는, 지지대(370)를 이동시키기 전에 행하도록 제어해도 된다. 그 후, 모터(210)에 의해, 핀(240)이 연직 방향 상방으로 이동하고, 기판(10)은 복수의 핀(240)에 의해 들어올려져, 기판 보유지지 부재(100)로부터 이격된다. 그 후, 기판(10)은 기판 박리실(R4)로부터 반출된다.After the
또한, 본 실시예에서는 기판 보유지지 부재(100)의 보유지지면(110X)이 수평면과 평행하며 연직 방향 상방을 향하도록 배치된 상태로 기판 보유지지 부재(100)로부터 기판(10)을 박리시키는 것으로 하였지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 기판 보유지지 부재(100)의 보유지지면(110X)이 수평면과 직교하도록 배치된 상태, 즉, 보유지지면(110X)이 수평 방향을 향하도록 배치된 상태로, 기판 보유지지 부재(100)로부터 기판(10)을 박리시키도록 해도 된다. 또한, 기판 이동 기구로서는, 기판 보유지지 공정의 설명에서 기술한 바와 같이, 종래 공지의 다른 기구를 사용할 수 있다는 것은 말할 필요도 없다.In addition, in this embodiment, the
[실시형태 2][Embodiment 2]
도 9 및 도 10을 참조하여, 기판 보유지지 부재(100)의 다른 구성에 대해 설명한다. 실시형태 1과 동일한 구성에는 동일한 부호를 부여하고, 설명을 생략한다.9 and 10, another configuration of the
도 9의 (a)는 본 실시형태의 기판 보유지지 부재(100)의 점착 패드(123)의 점착면이 보유지지면(110X)보다 상방으로 돌출하고 있는 전진 상태이며, 도 9의 (b)는 해당 점착면이 보유지지면(110X)보다 하방으로 후퇴하고 있는 후퇴 상태이다. 실시형태 1의 점착 패드(123)와의 상이점을 설명한다. 도 9의 (c)는 Z 방향 상방으로부터 점착 패드(123)를 본 평면도이다.FIG. 9(a) is an advanced state in which the adhesive surface of the
도 9의 (a) 내지 도 9의 (c)에 나타낸 바와 같이, 본 실시형태의 지지 플랜지부(122)는 중앙부에 축부(121)가 삽통하는 구멍이 개구된 저부를 갖는 원통 용기 형상으로 구성되어 있고, 점착 패드(123)의 점착 재료가 해당 원통 용기의 벽의 상부에 배치되어 점착면을 구성하고 있다. 삽통 구멍을 통해 축부(121)를 볼트(129)가 고정함으로써, 기판 보유지지 부재(100)의 상하가 반전되었을 때라도 점착 패드(123)가 탈락하는 경우가 없다.9(a) to 9(c), the
본 실시형태에서도, 점착 패드(123)가 보유지지면(110X)으로부터 하방으로 후퇴한 상태로 기판(10)이 반입되고, 핀(240)에 의해 보유지지면(110X)보다 상방에서 지지된다. 그리고, 핀(240)이 하강하여, 기판(10)이 보유지지면(110X)에 재치된다. 그 후, 제어부(720)의 제어에 의해 전자 코일(360)이 동작하여 기판 보유지지 유닛(120)을 상방으로 이동시킴으로써, 점착 패드(123)가 기판(10)에 당접한다.In this embodiment as well, the
도 10의 (a)는, 기판(10)이 대략 수평으로 보유지지면(110X)에 재치되었을 때의 당접 상태를 나타낸다. 한편, 도 10의 (b)는, 기판(10)이 물결치는 모양으로 되어 있기 때문에 보유지지면(110X)에 대해 어떤 각도를 가지고 재치된 모습을 나타낸다. 도시한 바와 같이, 탄성체(128)에 의해 가압된 지지 플랜지부(122)가 기판(10)의 기울기에 따라 경동 가능한 구성으로 되어 있기 때문에, 점착 패드(123)의 점착면과 기판(10)이 대략 평행하게 당접할 수 있다.Fig. 10(a) shows an abutting state when the
실시형태 2에 있어서도, 점착 패드(123)의 점착면이 보유지지면에 대해 진퇴 가능하며 경동 가능함으로써, 기판(10)과 점착 패드(123)의 당접 면적이 증가하고, 점착력의 저하를 억제할 수 있다.Also in the second embodiment, since the adhesive surface of the
[실시형태 3][Embodiment 3]
본 실시형태에서는, 유기 EL 디스플레이 등을 제조하기 위한 전자 디바이스 제조 장치에, 상기 각 실시형태의 성막 장치를 적용하는 방법에 대해 설명한다. 도 11은 전자 디바이스의 제조 장치(500)의 일부를 모식적으로 나타내는 평면도이다. 전자 디바이스의 제조 장치(500)는, 전자 디바이스 제조에 있어서, 기판의 전처리로부터 성막·봉지까지의 공정을 자동으로 행한다.In this embodiment, a method of applying the film forming apparatus of each of the above embodiments to an electronic device manufacturing apparatus for manufacturing an organic EL display or the like will be described. 11 is a plan view schematically showing a part of an electronic
한편, 도시한 바와 같은, 반송실의 주위에 복수의 처리실을 배치한 클러스터형의 구성 대신에, 복수의 처리실을 공정 순서대로 배치한 인라인형의 구성을 채용해도 된다. 인라인형의 구성을 채용하는 경우에, 기판을 보유지지하는 기판 보유지지 장치를 반송 캐리어에 설치해 두고, 각 처리실의 사이를 이동시켜도 된다. 그 경우에, 전자 디바이스 제조 장치로 반입된 기판을, 피성막면이 위를 향한 상태에서 반송 캐리어에 보유지지시킨 후, 기판 상에 마스크를 얼라인먼트하면서 설치하고 나서, 반송 캐리어를 상하 반전시켜도 된다. 이에 의해, 피성막면이 아래를 향한 상태로 된 기판을 반송 캐리어마다 성막실로 반입하고, 성막 재료를 사용한 성막이 행해진다.On the other hand, instead of the cluster-type configuration in which a plurality of processing chambers are arranged around the conveyance chamber as shown in the figure, an in-line configuration in which a plurality of processing chambers are arranged in sequence of steps may be employed. In the case of adopting an in-line configuration, a substrate holding device for holding a substrate may be provided on the transfer carrier, and may be moved between the processing chambers. In that case, after holding the board|substrate carried in to the electronic device manufacturing apparatus by the conveyance carrier with the film-forming surface facing upward, after installing it while aligning a mask on the board|substrate, you may turn the conveyance carrier upside-down. Thereby, the substrate with the film-forming surface facing downward is carried into the film-forming chamber for each transport carrier, and film-forming using the film-forming material is performed.
반송실(510)의 주위에는, 전처리실(511), 유기 처리실(512), 금속 처리실(513), 측정실(514)이 방사상으로 배치되어 있다. 한편, 도 11은 간략화한 도면이며, 처리실의 종류나 수는 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층, 전자 주입층 등의 처리실을 설치해도 되고, R(적), G(녹), B(청) 등의 색별로 발광층의 처리실을 설치해도 된다. 반송실(510)에는, 기판(10)을 보유지지하여 반송하는 반송 로봇(519)이 설치되어 있다. 반송 로봇(519)은, 예를 들면, 다관절 암에, 기판을 보유지지하는 로봇 핸드가 부착된 구조를 가지는 로봇이며, 각 처리실 및 측정실로의 기판의 반입과 반출을 행한다.Around the
전자 디바이스의 제조 프로세스는 개략적으로 다음과 같다. 먼저, 기판(10)이 전처리실(511)로 반입되어, 세정 등의 전처리가 행해진다. 그 후, 기판은 성막 재료의 종류에 따라, 반송 로봇(519)에 의해 유기 처리실(512)이나 금속 처리실(513)로 반송된다. 각 처리실에서는, 증발원으로부터의 증착이나 스퍼터링에 의해 증착 재료가 기판에 부착되어 막이 형성된다. 이어서, 기판(10)이 측정실(514)로 반입된다. 측정실 내에서는, 막두께나 성막의 균일성 등이 측정된다.The manufacturing process of the electronic device is schematically as follows. First, the
성막을 행하는 각 처리실에는 각각 성막 장치가 설치되어 있다. 반송 로봇과의 기판의 주고받음, 기판과 마스크의 상대 위치의 조정(얼라인먼트), 마스크 상으로의 기판의 고정, 성막(증착) 등의 일련의 프로세스는, 성막 장치에 의해 자동으로 행해진다. 또한, 측정실에서의 측정 공정도 자동화가 가능하다. 나아가 측정 후의 처리로서, 건조제나 접착제를 도포한 봉지 유리에 의한 봉지 처리가 행해져도 된다. 완성된 패널은 제조 장치로부터 자동 반출되어, 다음 공정(예를 들면, 디스플레이 패널의 어셈블리 공정)으로 공급된다. 다만, 상기 구성은 일례이며, 본 발명의 성막 장치나 그것을 포함한 전자 디바이스 제조 장치의 구성을 한정하는 것이 아니다.A film forming apparatus is provided in each processing chamber in which a film is formed. A series of processes such as transfer of the substrate to and from the transfer robot, adjustment (alignment) of the relative position of the substrate and the mask, fixing of the substrate onto the mask, and film formation (deposition) are performed automatically by the film forming apparatus. In addition, it is possible to automate the measurement process in the measurement room. Further, as the treatment after the measurement, a sealing treatment with a sealing glass coated with a drying agent or an adhesive may be performed. The completed panel is automatically taken out of the manufacturing apparatus and supplied to the next process (for example, the assembly process of the display panel). However, the above configuration is only an example, and does not limit the configuration of the film forming apparatus of the present invention or the electronic device manufacturing apparatus including the same.
이상의 전자 디바이스 제조 장치나, 그것을 사용한 전자 디바이스 제조 방법에 의하면, 성막 장치에 있어서 기판의 온도 조절이 양호하게 행해지고 있으므로, 양호하게 성막이 행해진다. 그 결과, 품질이 좋은 전자 디바이스를 제조 가능하게 된다.According to the electronic device manufacturing apparatus described above and the electronic device manufacturing method using the same, since the temperature control of the substrate is satisfactorily performed in the film forming apparatus, film formation is satisfactorily performed. As a result, it becomes possible to manufacture an electronic device of good quality.
[실시형태 4][Embodiment 4]
<유기 전자 디바이스의 제조 방법><Method of manufacturing organic electronic device>
본 실시형태에서는, 증발원 장치를 구비하는 성막 장치를 사용한 유기 전자 디바이스의 제조 방법의 일례를 설명한다. 이하, 유기 전자 디바이스의 예로서 유기 EL 표시 장치의 구성 및 제조 방법을 예시한다. 먼저, 제조하는 유기 EL 표시 장치에 대해 설명한다. 도 12의 (a)는 유기 EL 표시 장치(60)의 전체 도면, 도 12의 (b)는 하나의 화소의 단면 구조를 나타내고 있다.In this embodiment, an example of a method of manufacturing an organic electronic device using a film forming apparatus provided with an evaporation source device will be described. Hereinafter, the configuration and manufacturing method of an organic EL display device will be exemplified as an example of an organic electronic device. First, an organic EL display device to be manufactured will be described. FIG. 12A is an overall view of the organic
도 12의 (a)에 나타내는 바와 같이, 유기 EL 표시 장치(60)의 표시 영역(61)에는, 발광 소자를 복수 구비하는 화소(62)가 매트릭스 형상으로 복수 배치되어 있다. 발광 소자의 각각은, 한 쌍의 전극 사이에 끼워진 유기층을 구비한 구조를 가지고 있다. 한편, 여기서 말하는 화소란, 표시 영역(61)에서 원하는 색의 표시를 가능하게 하는 최소 단위를 가리키고 있다. 본 도면의 유기 EL 표시 장치의 경우, 서로 다른 발광을 나타내는 제1 발광 소자(62R), 제2 발광 소자(62G), 제3 발광 소자(62B)의 조합에 의해 화소(62)가 구성되어 있다. 화소(62)는 적색 발광 소자와 녹색 발광 소자와 청색 발광 소자의 조합으로 구성되는 경우가 많지만, 황색 발광 소자와 시안 발광 소자와 백색 발광 소자의 조합이어도 되고, 적어도 1색 이상이라면 특별히 제한되지 않는다. 또한, 각 발광 소자는 복수의 발광층이 적층되어 구성되어 있어도 된다.As shown in Fig. 12A, in the
또한, 화소(62)를 동일한 발광을 나타내는 복수의 발광 소자로 구성하고, 각각의 발광 소자에 대응하도록 복수의 다른 색변환 소자가 패턴 형상으로 배치된 컬러 필터를 사용하여, 1개의 화소가 표시 영역(61)에서 원하는 색의 표시를 가능하게 해도 된다. 예를 들면, 화소(62)를 적어도 3개의 백색 발광 소자로 구성하고, 각각의 발광 소자에 대응하도록, 적색, 녹색, 청색의 각 색변환 소자가 배열된 컬러 필터를 사용해도 된다. 또는, 화소(62)를 적어도 3개의 청색 발광 소자로 구성하고, 각각의 발광 소자에 대응하도록, 적색, 녹색, 무색의 각 색변환 소자가 배열된 컬러 필터를 사용해도 된다. 후자의 경우에는, 컬러 필터를 구성하는 재료로서 양자점(Quantum Dot: QD) 재료를 사용한 양자점 컬러 필터(QD-CF)를 사용함으로써, 양자점 컬러 필터를 사용하지 않는 통상의 유기 EL 표시 장치보다 표시 색역을 넓게 할 수 있다.In addition, the
도 12의 (b)는 도 12의 (a)의 A-B선에 있어서의 부분 단면 모식도이다. 화소(62)는, 기판(10) 상에, 제1 전극(양극)(64)과, 정공 수송층(65)과, 발광층(66R, 66G, 66B) 중 어느 하나와, 전자 수송층(67)과, 제2 전극(음극)(68)을 구비하는 유기 EL 소자를 가지고 있다. 이들 중 정공 수송층(65), 발광층(66R, 66G, 66B), 전자 수송층(67)이 유기층에 해당한다. 또한, 본 실시형태에서는, 발광층(66R)은 적색을 발하는 유기 EL 층, 발광층(66G)은 녹색을 발하는 유기 EL 층, 발광층(66B)는 청색을 발하는 유기 EL 층이다. 또한, 전술한 바와 같이 컬러 필터 또는 양자점 컬러 필터를 사용하는 경우에는, 각 발광층의 광 출사측, 즉, 도 12의 (b)의 상부 또는 하부에 컬러 필터 또는 양자점 컬러 필터가 배치되지만, 도시는 생략한다.Fig. 12(b) is a schematic partial cross-sectional view taken along line A-B in Fig. 12(a). On the
발광층(66R, 66G, 66B)은 각각 적색, 녹색, 청색을 발하는 발광 소자(유기 EL 소자라고 기술하는 경우도 있음)에 대응하는 패턴으로 형성되어 있다. 또한, 제1 전극(64)은 발광 소자별로 분리되어 형성되어 있다. 정공 수송층(65)과 전자 수송층(67)과 제2 전극(68)은, 복수의 발광 소자(62R, 62G, 62B)에 공통으로 형성되어 있어도 되고, 발광 소자마다 형성되어 있어도 된다. 또한, 제1 전극(64)과 제2 전극(68)이 이물에 의해 쇼트되는 것을 방지하기 위해, 제1 전극(64) 사이에 절연층(69)이 설치되어 있다. 나아가, 유기 EL 층은 수분이나 산소에 의해 열화되기 때문에, 수분이나 산소로부터 유기 EL 소자를 보호하기 위한 보호층(P)이 설치되어 있다.The light-emitting
다음으로, 전자 디바이스로서의 유기 EL 표시 장치의 제조 방법의 예에 대해 구체적으로 설명한다. 먼저, 유기 EL 표시 장치를 구동하기 위한 회로(도시하지 않음) 및 제1 전극(64)이 형성된 기판(10)을 준비한다.Next, an example of a method of manufacturing an organic EL display device as an electronic device will be described in detail. First, a
다음으로, 제1 전극(64)이 형성된 기판(10) 위에 아크릴 수지를 스핀 코트로 형성하고, 아크릴 수지를 리소그래피법에 의해, 제1 전극(64)이 형성된 부분에 개구가 형성되도록 패터닝하여 절연층(69)을 형성한다. 이 개구부가 발광 소자가 실제로 발광하는 발광 영역에 상당한다.Next, on the
다음으로, 절연층(69)이 패터닝된 기판(10)을 제1 성막 장치로 반입하여, 기판 보유지지 유닛에서 기판을 보유지지하고, 정공 수송층(65)을, 표시 영역의 제1 전극(64) 위에 공통층으로서 성막한다. 정공 수송층(65)은 진공 증착에 의해 성막된다. 실제로는 정공 수송층(65)은 표시 영역(61)보다 큰 사이즈로 형성되기 때문에, 매우 세밀한(고정밀) 마스크는 불필요하다. 여기서, 본 단계에서의 성막이나 이하의 각 층의 성막에 있어서 이용되는 성막 장치는, 상기 각 실시형태 중 어느 하나에 기재된 성막 장치이다.Next, the
다음으로, 정공 수송층(65)까지 형성된 기판(10)을 제2 성막 장치로 반입하여, 기판 보유지지 유닛에서 보유지지한다. 기판과 마스크의 얼라인먼트를 행하고, 기판을 마스크 위에 재치하여, 기판(10)의 적색을 발하는 소자를 배치하는 부분에 적색을 발하는 발광층(66R)을 성막한다. 본 예에 의하면, 마스크와 기판을 양호하게 겹쳐 맞출 수 있어 고정밀한 성막을 행할 수 있다.Next, the
발광층(66R)의 성막과 마찬가지로, 제3 성막 장치에 의해 녹색을 발하는 발광층(66G)을 성막하고, 나아가 제4 성막 장치에 의해 청색을 발하는 발광층(66B)을 성막한다. 발광층(66R, 66G, 66B)의 성막이 완료된 후, 제5 성막 장치에 의해 표시 영역(61)의 전체에 전자 수송층(67)을 성막한다. 전자 수송층(67)은, 3색의 발광층(66R, 66G, 66B)에 공통층으로서 형성된다. 본 실시형태에서는, 전자 수송층(67), 발광층(66R, 66G, 66B)은 진공 증착에 의해 성막된다.Similar to the film formation of the light-emitting
전자 수송층(67)까지 형성된 기판을 스퍼터링 장치로 이동하여, 제2 전극(68)을 성막하고, 그 후 플라스마 CVD 장치로 이동하여 보호층(P)을 성막하여, 유기 EL 표시 장치(60)가 완성된다. 한편, 여기서는 제2 전극(68)을 스퍼터링에 의해 형성하는 것으로 하였지만, 이것에 한정되지 않고, 제2 전극(68)도 전자 수송층(67)까지와 마찬가지로 진공 증착에 의해 형성되어도 된다.The substrate formed up to the
절연층(69)이 패터닝된 기판(10)을 성막 장치로 반입하고 나서 보호층(P)의 성막이 완료될 때까지는, 수분이나 산소를 포함한 분위기에 노출되어 버리면, 유기 EL 재료로 이루어지는 발광층이 수분이나 산소에 의해 열화될 우려가 있다. 따라서, 본 예에 있어서, 성막 장치 간의 기판의 반입 반출은, 진공 분위기 또는 불활성 가스 분위기 하에서 행해진다.After carrying the
본 실시형태에 관련되는 기판 보유지지 유닛, 기판 보유지지 부재, 기판 보유지지 장치, 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법에 의하면, 기판을 보유지지할 때의 기판과 점착 부재의 사이의 당접 영역이 향상되고, 점착 부재에 의한 점착 성능을 발휘할 수 있으므로, 안정성이 향상되어 기판을 양호하게 보유지지하는 것이 가능하게 된다.According to the substrate holding unit, the substrate holding member, the substrate holding apparatus, the substrate processing apparatus, the substrate processing method, and the electronic device manufacturing method according to the present embodiment, between the substrate and the adhesive member when holding the substrate Since the contact area of is improved and the adhesive performance by the adhesive member can be exhibited, stability is improved, and it becomes possible to hold the substrate satisfactorily.
100: 기판 보유지지 장치
120: 기판 보유지지 유닛
122: 지지 플랜지부
122a: 경동 기구
123: 점착 패드
300: 전자 코일 유닛
360: 전자 코일
720: 제어부100: substrate holding device
120: substrate holding unit
122: support flange portion
122a: tilt mechanism
123: adhesive pad
300: electronic coil unit
360: electronic coil
720: control unit
Claims (21)
상기 기판에 점착하는 점착 재료가 형성된 점착면을 갖는 점착 부재와,
상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 경동(傾動) 가능하게 하는 경동 기구와,
상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 진퇴 가능하게 하는 진퇴 기구를 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 유닛.As a substrate holding unit for holding a substrate on the holding surface,
An adhesive member having an adhesive surface on which an adhesive material adhered to the substrate is formed,
A tilt mechanism for tilting the adhesive surface of the adhesive member with respect to the holding surface;
A substrate holding unit comprising an advancing and retreating mechanism that enables the adhering surface of the adhesive member to advance and retreat with respect to the holding surface.
상기 진퇴 기구는, 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 기판 측으로 가압하는 탄성체를 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 유닛.The method of claim 1,
The substrate holding unit, wherein the advancing and retreating mechanism includes an elastic body for pressing the adhesive surface of the adhesive member toward the substrate.
상기 진퇴 기구는, 외부 자력을 받음으로써 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 진퇴 가능하게 하는 자성 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 유닛.The method according to claim 1 or 2,
The substrate holding unit, characterized in that the advancing and retreating mechanism includes a magnetic member that enables the adhesive surface of the adhesive member to advance and retreat with respect to the holding surface by receiving an external magnetic force.
상기 복수의 기판 보유지지 유닛의 각각은, 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 기판 보유지지 유닛이며,
상기 복수의 기판 보유지지 유닛 각각의 상기 점착면이 상기 기판에 점착함으로써 상기 기판을 보유지지하는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 부재.As a substrate holding member having a substrate having a holding surface and a plurality of substrate holding units,
Each of the plurality of substrate holding units is the substrate holding unit according to any one of claims 1 to 3,
A substrate holding member, characterized in that the adhesive surface of each of the plurality of substrate holding units adheres to the substrate to hold the substrate.
상기 기판을, 상기 보유지지면과 당접하지 않는 제1 위치와, 상기 기판과 상기 보유지지면이 당접하는 제2 위치의 사이에서 이동시키는 기판 이동 기구를 가지며,
상기 기판 보유지지 유닛은, 상기 기판이 상기 제1 위치에 있을 때 상기 점착면을 상기 보유지지면보다 상기 기판으로부터 떨어진 위치로 후퇴시키고, 상기 기판 이동 기구가 상기 기판을 상기 제1 위치로 이동시킨 후에 상기 점착면을 상기 보유지지면까지 전진시켜, 상기 기판에 상기 점착면을 당접시키는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.A substrate holding device for holding a substrate with respect to the substrate holding member according to claim 4, comprising:
A substrate moving mechanism for moving the substrate between a first position not in contact with the holding surface and a second position in which the substrate and the holding surface abut,
The substrate holding unit retracts the adhesive surface to a position further from the substrate than the holding surface when the substrate is in the first position, and after the substrate moving mechanism moves the substrate to the first position A substrate holding device, characterized in that the adhesive surface is advanced to the holding surface, and the adhesive surface is brought into contact with the substrate.
상기 기판 보유지지 부재가 구비하는 상기 복수의 기판 보유지지 유닛의 각각이 가지는 상기 진퇴 기구에 대해 비접촉으로 작용함으로써, 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 진퇴시키는 점착 부재 구동 기구를 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.The method of claim 5,
An adhesive member driving mechanism for moving the adhesive surface of the adhesive member forward and backward with respect to the holding surface by acting in a non-contact manner with respect to the advancing and retreating mechanisms of each of the plurality of substrate holding units provided by the substrate holding member. A substrate holding device, characterized in that it has.
상기 기판 보유지지 부재가 구비하는 상기 복수의 기판 보유지지 유닛의 각각이 가지는 상기 진퇴 기구에 대해 비접촉으로 작용함으로써, 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 진퇴시키는 점착 부재 구동 기구를 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.A substrate holding device for holding a substrate with respect to the substrate holding member according to claim 4, comprising:
An adhesive member driving mechanism for moving the adhesive surface of the adhesive member forward and backward with respect to the holding surface by acting in a non-contact manner with respect to the advancing and retreating mechanisms of each of the plurality of substrate holding units provided by the substrate holding member. A substrate holding device, characterized in that it has.
상기 진퇴 기구는 자성 부재를 구비하고,
상기 점착 부재 구동 기구는 전자 코일을 구비하고 있어, 상기 자성 부재에 전자력을 작용시킴으로써 상기 점착면을 진퇴시키는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.The method according to claim 6 or 7,
The advancing and retreating mechanism includes a magnetic member,
The adhesive member driving mechanism is provided with an electromagnetic coil, wherein the adhesive surface is moved forward and backward by applying an electromagnetic force to the magnetic member.
상기 자성 부재는 영구자석인 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.The method of claim 8,
A substrate holding apparatus, characterized in that the magnetic member is a permanent magnet.
상기 진퇴 기구는, 일단측에 상기 점착 부재가 설치되고 타단측에 상기 자성 부재가 설치된 축부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.The method according to claim 8 or 9,
The substrate holding device, wherein the advancing and retreating mechanism includes a shaft portion provided with the adhesive member at one end and the magnetic member at the other end.
상기 경동 기구는 상기 점착 부재와 상기 축부의 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.The method of claim 10,
The substrate holding device, wherein the tilt mechanism is formed between the adhesive member and the shaft portion.
상기 기판에 점착하는 점착 재료가 형성된 점착면을 갖는 점착 부재와,
상기 점착 부재가 요동 가능한 상태에서 상기 점착 부재를 상기 기판 측으로 가압하는 가압 수단을 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 유닛.As a substrate holding unit for holding a substrate on the holding surface,
An adhesive member having an adhesive surface on which an adhesive material adhered to the substrate is formed,
A substrate holding unit comprising: a pressing means for pressing the adhesive member toward the substrate in a state in which the adhesive member is able to swing.
일단측에 상기 점착 부재가 설치되고 타단측에 자성 부재가 설치된 축부를 구비하는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 유닛.The method of claim 12,
A substrate holding unit comprising: a shaft portion provided with the adhesive member at one end and a magnetic member at the other end.
상기 복수의 기판 보유지지 유닛의 각각은, 제12항 또는 제13항에 기재된 기판 보유지지 유닛이며,
상기 복수의 기판 보유지지 유닛 각각의 상기 점착면이 상기 기판에 점착함으로써 상기 기판을 보유지지하는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 부재.As a substrate holding member having a substrate having a holding surface and a plurality of substrate holding units,
Each of the plurality of substrate holding units is the substrate holding unit according to claim 12 or 13,
A substrate holding member, characterized in that the adhesive surface of each of the plurality of substrate holding units adheres to the substrate to hold the substrate.
상기 기판을, 상기 보유지지면과 당접하지 않는 제1 위치와, 상기 기판과 상기 보유지지면이 당접하는 제2 위치의 사이에서 이동시키는 기판 이동 기구를 가지며,
상기 기판 보유지지 유닛은, 상기 기판이 상기 제1 위치에 있을 때 상기 점착면을 상기 보유지지면보다 상기 기판으로부터 떨어진 위치로 후퇴시키고, 상기 기판 이동 기구가 상기 기판을 상기 제1 위치로 이동시킨 후에 상기 점착면을 상기 보유지지면까지 전진시켜, 상기 기판에 상기 점착면을 당접시키는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.A substrate holding device for holding a substrate with respect to the substrate holding member according to claim 14, comprising:
A substrate moving mechanism for moving the substrate between a first position not in contact with the holding surface and a second position in which the substrate and the holding surface abut,
The substrate holding unit retracts the adhesive surface to a position further from the substrate than the holding surface when the substrate is in the first position, and after the substrate moving mechanism moves the substrate to the first position A substrate holding device, characterized in that the adhesive surface is advanced to the holding surface, and the adhesive surface is brought into contact with the substrate.
상기 기판 보유지지 부재가 구비하는 상기 복수의 기판 보유지지 유닛의 각각이 가지는 진퇴 기구에 대해 비접촉으로 작용함으로써, 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 진퇴시키는 점착 부재 구동 기구를 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.The method of claim 15,
It has an adhesive member driving mechanism for moving the adhesive surface of the adhesive member forward and backward with respect to the holding surface by acting in a non-contact manner with respect to the advance/retreat mechanism of each of the plurality of substrate holding units provided by the substrate holding member. A substrate holding device, characterized in that.
상기 기판 보유지지 부재가 구비하는 상기 복수의 기판 보유지지 유닛의 각각이 가지는 진퇴 기구에 대해 비접촉으로 작용함으로써, 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 진퇴시키는 점착 부재 구동 기구를 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.A substrate holding device for holding a substrate with respect to the substrate holding member according to claim 14, comprising:
It has an adhesive member driving mechanism for moving the adhesive surface of the adhesive member forward and backward with respect to the holding surface by acting in a non-contact manner with respect to the advance/retreat mechanism of each of the plurality of substrate holding units provided by the substrate holding member. A substrate holding device, characterized in that.
상기 진퇴 기구는 자성 부재를 구비하고,
상기 점착 부재 구동 기구는 전자 코일을 구비하고 있어, 상기 자성 부재에 전자력을 작용시킴으로써 상기 점착면을 진퇴시키는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.The method of claim 16 or 17,
The advancing and retreating mechanism includes a magnetic member,
The adhesive member driving mechanism is provided with an electromagnetic coil, wherein the adhesive surface is moved forward and backward by applying an electromagnetic force to the magnetic member.
상기 기판 보유지지 장치에 의해 상기 기판 보유지지 부재에 보유지지된 기판 상에 성막을 실시하는 성막 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는, 기판 처리 장치.The substrate holding device according to any one of claims 5 to 11 and 15 to 18, and
A substrate processing apparatus comprising: a film forming apparatus for forming a film on a substrate held by the substrate holding member by the substrate holding apparatus.
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