KR20210052257A - Substrate holding unit, substrate holding member, substrate holding apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing method, and manufacturing method of electronic device - Google Patents

Substrate holding unit, substrate holding member, substrate holding apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing method, and manufacturing method of electronic device Download PDF

Info

Publication number
KR20210052257A
KR20210052257A KR1020200136172A KR20200136172A KR20210052257A KR 20210052257 A KR20210052257 A KR 20210052257A KR 1020200136172 A KR1020200136172 A KR 1020200136172A KR 20200136172 A KR20200136172 A KR 20200136172A KR 20210052257 A KR20210052257 A KR 20210052257A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
holding
adhesive
substrate holding
respect
Prior art date
Application number
KR1020200136172A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102579389B1 (en
Inventor
아키라 오카와
마사루 나베시마
Original Assignee
캐논 톡키 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 캐논 톡키 가부시키가이샤 filed Critical 캐논 톡키 가부시키가이샤
Publication of KR20210052257A publication Critical patent/KR20210052257A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102579389B1 publication Critical patent/KR102579389B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H01L51/56
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L21/6836Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L51/001
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/164Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support

Abstract

The present invention is to provide a technique for better holding a substrate using an adhesive member. A substrate holding apparatus has a plurality of substrate holding units for holding a substrate on a holding surface. Each of the plurality of substrate holding units comprises: an adhesive member having an adhesive surface on which an adhesive material bonded to the substrate is formed; a tilting mechanism for tilting the adhesive surface of the adhesive member with respect to the holding surface; and an advancing/retracting mechanism that enables advancing and retreating of the adhesive surface of the adhesive member with respect to the holding surface.

Description

기판 보유지지 유닛, 기판 보유지지 부재, 기판 보유지지 장치, 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법{SUBSTRATE HOLDING UNIT, SUBSTRATE HOLDING MEMBER, SUBSTRATE HOLDING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE}Substrate holding unit, substrate holding member, substrate holding device, substrate processing device, substrate processing method, and manufacturing method of electronic device {SUBSTRATE HOLDING UNIT, SUBSTRATE HOLDING MEMBER, SUBSTRATE HOLDING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE}

본 발명은 기판 보유지지 유닛, 기판 보유지지 부재, 기판 보유지지 장치, 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate holding unit, a substrate holding member, a substrate holding apparatus, a substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a manufacturing method of an electronic device.

산업용이나 민생용 등의 다양한 분야에서, 표시 패널에 화상을 표시하는 디스플레이 장치가 널리 사용되고 있다. 디스플레이 장치로서, 예를 들면, 유기 재료의 전계 발광을 이용한 유기 EL 소자를 구비한 유기 EL 장치나, 액정 디스플레이 장치 등이 있다. 이러한 디스플레이 장치의 제조시에는, 성막 장치에 있어서, 기판 상에 성막 재료(금속 전극 재료나 유기 재료 등)를 부착시켜 성막을 행한다. 기판의 성막실 내로의 반출입시나 성막 공정시에는, 보유지지 기구로 보유지지한 기판을, 반송 기구에 의해 이동 또는 반전시키는 경우가 있다. 그 때문에, 위치 어긋남 등이 발생하지 않도록 기판을 안정적으로 보유지지할 필요가 있다.In various fields such as industrial and consumer use, display devices that display images on a display panel are widely used. Examples of the display device include an organic EL device including an organic EL element using electroluminescence of an organic material, a liquid crystal display device, and the like. In manufacturing such a display device, in a film forming apparatus, a film forming material (metal electrode material, organic material, etc.) is adhered on a substrate to perform film formation. At the time of carrying in/out of the substrate into the film formation chamber or during the film formation process, the substrate held by the holding mechanism may be moved or reversed by the transfer mechanism. Therefore, it is necessary to stably hold the substrate so that position shift or the like does not occur.

반송시나 성막시에 기판을 보유지지하는 기구로서, 클램프에 의한 협지, 수취 핑거에의 재치, 정전척에 의한 흡착 등의 방법 이외에, 점착 재료를 사용하여 기판을 점착 보유지지하는 방법이 있다. 점착 재료를 사용한 물리적인 점착은, PSC(Physical Sticky Chuck)라고도 불리고, 대형 유리 기판 등에도 바람직하게 이용할 수 있다.As a mechanism for holding a substrate during transport or film formation, there are methods of holding a substrate using an adhesive material in addition to methods such as pinching by a clamp, placing on a receiving finger, and adsorption by an electrostatic chuck. Physical adhesion using an adhesive material is also called PSC (Physical Sticky Chuck), and can be preferably used for a large glass substrate or the like.

특허문헌 1에는, 보유지지판 상에 설치된 점착 부재(점착 패드)에 의해 유리 기판을 보유지지하고, 점착 보유지지된 유리 기판을 보유지지판 채로 반송 및 반전하여, 보유지지판에 점착 보유지지된 상태로 유리 기판을 처리하는 구성이 기재되어 있다.In Patent Document 1, a glass substrate is held by an adhesive member (adhesive pad) provided on a holding plate, and the glass substrate holding the adhesive is conveyed and inverted as the holding plate, and the glass is adhered and held on the holding plate. The configuration for processing the substrate is described.

특허문헌 1: 일본특허공개 제2013-55093호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 2013-55093

그러나, 점착 부재를 사용하여 기판을 보유지지하는 경우에 있어서, 기판을 보다 양호하게 보유지지하는 방법이 요구되고 있다.However, in the case of holding a substrate using an adhesive member, there is a demand for a method of holding the substrate better.

본 발명은 이러한 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은, 점착 부재를 사용하여 기판을 보다 양호하게 보유지지하기 위한 기술을 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in view of such a problem, and an object thereof is to provide a technique for better holding a substrate by using an adhesive member.

본 발명은 이하의 구성을 채용한다. 즉,The present invention adopts the following configuration. In other words,

보유지지면에 있어서 기판을 보유지지하기 위한 복수의 기판 보유지지 유닛을 갖는 기판 보유지지 장치로서,A substrate holding device having a plurality of substrate holding units for holding a substrate on a holding surface, comprising:

상기 복수의 기판 보유지지 유닛의 각각은, 상기 기판에 점착하는 점착 재료가 형성된 점착면을 갖는 점착 부재와, 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 경동(傾動) 가능하게 하는 경동 기구와, 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 진퇴 가능하게 하는 진퇴 기구를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 보유지지 장치이다.Each of the plurality of substrate holding units includes an adhesive member having an adhesive surface on which an adhesive material adhering to the substrate is formed, and a tilt motion that enables the adhesive surface of the adhesive member to tilt with respect to the holding surface. A substrate holding device comprising: a mechanism; and an advancing and retreating mechanism for advancing and retreating the adhesive surface of the adhesive member with respect to the holding surface.

본 발명은 또한, 이하의 구성을 채용한다. 즉,The present invention also adopts the following configuration. In other words,

보유지지면에 있어서 기판을 보유지지하기 위한 기판 보유지지 유닛으로서,As a substrate holding unit for holding a substrate on the holding surface,

상기 기판에 점착하는 점착 재료가 형성된 점착면을 갖는 점착 부재와,An adhesive member having an adhesive surface on which an adhesive material adhered to the substrate is formed,

상기 점착 부재가 요동 가능한 상태에서 상기 점착 부재를 상기 기판 측으로 가압하는 가압 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 기판 보유지지 유닛이다.A substrate holding unit comprising a pressing means for pressing the adhesive member toward the substrate in a state in which the adhesive member is able to swing.

본 발명에 의하면, 점착 부재를 사용하여 기판을 보다 양호하게 보유지지하기 위한 기술을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a technique for better holding a substrate by using an adhesive member.

도 1은 실시형태 1의 기판 보유지지 장치의 개략 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는 실시형태 1의 기판 보유지지 유닛의 전진 및 후퇴 동작을 나타내는 단면도이다.
도 3은 실시형태 1의 기판 보유지지 유닛의 경동 동작을 나타내는 단면도이다.
도 4는 실시형태 1의 기판 보유지지 유닛의 경동 동작을 나타내는 단면도이다.
도 5a는 실시형태 1의 기판 보유지지 유닛의 동작 흐름을 설명하는 도면이다.
도 5b는 실시형태 1의 기판 보유지지 유닛의 동작 흐름을 설명하는 다른 도면이다.
도 5c는 실시형태 1의 기판 보유지지 유닛의 동작 흐름을 설명하는 다른 도면이다.
도 6은 실시형태 1의 반전 장치의 동작 설명도이다.
도 7은 실시형태 1의 성막 장치의 동작 설명도이다.
도 8은 실시형태 1의 기판 박리 장치의 동작 설명도이다.
도 9는 실시형태 2의 기판 보유지지 유닛의 전진 및 후퇴 동작을 나타내는 단면도이다.
도 10은 실시형태 2의 기판 보유지지 유닛의 경동 동작을 나타내는 단면도이다.
도 11은 실시형태 3의 전자 디바이스의 제조 장치를 나타내는 평면도이다.
도 12는 실시형태 4의 전자 디바이스를 설명하는 도면이다.
1 is a diagram showing a schematic configuration of a substrate holding device according to a first embodiment.
2 is a cross-sectional view showing the advance and retreat operation of the substrate holding unit according to the first embodiment.
3 is a cross-sectional view showing a tilting operation of the substrate holding unit according to the first embodiment.
4 is a cross-sectional view showing a tilting operation of the substrate holding unit according to the first embodiment.
5A is a view for explaining an operation flow of the substrate holding unit according to the first embodiment.
5B is another diagram for explaining an operation flow of the substrate holding unit according to the first embodiment.
5C is another diagram explaining the operation flow of the substrate holding unit according to the first embodiment.
6 is a diagram illustrating the operation of the inversion device according to the first embodiment.
7 is an operation explanatory diagram of the film forming apparatus according to the first embodiment.
8 is an operation explanatory diagram of the substrate peeling apparatus according to the first embodiment.
9 is a cross-sectional view showing the advance and retreat operation of the substrate holding unit according to the second embodiment.
10 is a cross-sectional view showing a tilting operation of the substrate holding unit according to the second embodiment.
11 is a plan view showing an electronic device manufacturing apparatus according to the third embodiment.
12 is a diagram illustrating an electronic device according to the fourth embodiment.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시형태 및 실시예를 설명한다. 다만, 이하의 실시형태 및 실시예는 본 발명의 바람직한 구성을 예시적으로 나타내는 것에 지나지 않고, 본 발명의 범위를 이들 구성으로 한정하는 것이 아니다. 또한, 이하의 설명에서의, 장치의 하드웨어 구성 및 소프트웨어 구성, 처리 플로우, 제조 조건, 치수, 재질, 형상, 각 부재의 개수나 배치 위치 등은, 특별히 특정적인 기재가 없는 한, 본 발명의 범위를 이들로만 한정하는 취지의 것이 아니다.Hereinafter, preferred embodiments and examples of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the following embodiments and examples are merely illustrative of preferred configurations of the present invention and are not intended to limit the scope of the present invention to these configurations. In the following description, the hardware configuration and software configuration of the device, the processing flow, manufacturing conditions, dimensions, materials, shapes, the number and placement positions of each member, etc., are the scope of the present invention unless otherwise specified. It is not intended to be limited to these only.

본 발명은, 기판을 보유지지하기 위한 기판 보유지지 장치 및 기판 보유지지 방법, 그것을 사용한 성막 장치 및 성막 방법 또는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법, 성막된 기판을 사용한 전자 디바이스의 제조 장치 및 전자 디바이스의 제조 방법 등에 바람직하게 적용할 수 있다. 성막 방법은 증착이나 스퍼터링 등의 방법을 묻지 않고, 성막 재료나 증착 재료의 종류를 묻지 않는다. 본 발명은 또한, 기판 보유지지 방법이나 성막 방법을 컴퓨터에 실행시키는 프로그램이나, 해당 프로그램을 저장한 기억 매체로서도 파악된다. 기억 매체는 컴퓨터에 의해 판독 가능한 비일시적인 기억 매체여도 된다.The present invention relates to a substrate holding apparatus and a substrate holding method for holding a substrate, a film forming apparatus and a film forming method using the same, or a substrate processing apparatus and a substrate processing method, an electronic device manufacturing apparatus and an electronic device using the deposited substrate. It can be preferably applied to a manufacturing method or the like. The film-forming method does not depend on a method such as vapor deposition or sputtering, and does not depend on the type of film-forming material or evaporation material. The present invention is also conceived as a program for causing a computer to execute a substrate holding method or a film forming method, or a storage medium storing the program. The storage medium may be a non-transitory storage medium readable by a computer.

본 발명은, 기판을 세정하거나, 기판의 표면이나 기판 표면에 형성된 다른 재료의 막 위에, 원하는 패턴의 박막(재료층)을 형성하거나 하는 장치에 바람직하게 적용할 수 있다. 기판의 재료로서는, 유리, 수지, 금속, 실리콘 등의 임의의 재료를 선택할 수 있다. 성막 재료로서, 유기 재료, 무기 재료(금속, 금속 산화물 등) 등의 임의의 재료를 선택할 수 있다. 본 발명의 기술은, 예를 들면, 전자 디바이스나 광학 부재의 제조 장치에 적용 가능하며, 특히, 유기 전자 디바이스(예를 들면, 유기 EL 소자를 사용한 유기 EL 장치, 박막 태양 전지, 유기 CMOS 이미지 센서) 등의 제조 장치에 적용 가능하다.The present invention can be preferably applied to an apparatus for cleaning a substrate or forming a thin film (material layer) of a desired pattern on the surface of the substrate or on a film of another material formed on the surface of the substrate. As the material of the substrate, any material such as glass, resin, metal, and silicon can be selected. As the film forming material, an arbitrary material such as an organic material and an inorganic material (metal, metal oxide, etc.) can be selected. The technology of the present invention can be applied to, for example, an apparatus for manufacturing an electronic device or an optical member, and in particular, an organic electronic device (e.g., an organic EL device using an organic EL element, a thin film solar cell, an organic CMOS image sensor) ), etc., can be applied to manufacturing equipment.

본 발명은 성막 용도 이외에도, 점착 부재에 의해 기판을 보유지지하는 공정을 갖는 장치, 예를 들면 디스플레이의 제조 장치나 가공 장치 등에도 적용할 수 있고, 특히 대형 기판이 처리 대상으로 되는 장치나, 기판을 반전하는 공정이 있는 장치에 바람직하게 적용할 수 있다.In addition to film forming applications, the present invention can also be applied to devices having a process of holding a substrate by an adhesive member, for example, a display manufacturing device or a processing device, and in particular, a device or a substrate in which a large substrate is a processing target. It can be suitably applied to an apparatus with a process of inverting.

<검토><Review>

본 출원 발명자들의 검토에 의하면, 기판 보유지지 장치에 의해 평면 형상으로 설치된 점착 부재를 사용하여 기판을 안정적으로 보유지지하기 위해서는, 기판과, 점착 부재가 설치된 점착면이 평행한 상태로 점착 보유지지를 행하는 것이 중요하다는 것을 알았다. 예를 들면, 평면 형상으로 점착 재료가 형성된 점착 패드를 사용하는 경우, 점착 재료와 기판의 사이의 당접 면적이 넓을수록 점착력이 커진다. 한편, 점착면과 기판의 평행도가 저하되면, 당접 면적이 감소하여 보유지지력이 저하될 우려가 있다.According to the review of the inventors of the present application, in order to stably hold a substrate using an adhesive member installed in a planar shape by a substrate holding device, the adhesive holding is performed while the substrate and the adhesive surface on which the adhesive member is installed are parallel. I knew it was important to do. For example, in the case of using an adhesive pad in which an adhesive material is formed in a planar shape, the larger the contact area between the adhesive material and the substrate, the greater the adhesive force. On the other hand, when the degree of parallelism between the adhesive surface and the substrate decreases, there is a concern that the contact area decreases and the holding power decreases.

또한, 특히 대형 기판에 있어서는, 기판이 물결치는 모양이 되거나 처지거나 한 상태로 되기 쉽고, 이러한 상태에서 복수의 점착 패드를 일괄적으로 기판에 당접시키면, 기판의 부위별로 보유지지력이 달라지는 경우가 있다. 즉, 어떤 점착 패드에 대해서는 기판에 대해 평행하게 당접할 수 있다 하더라도, 기판의 처짐이나 기복의 영향으로, 다른 점착 패드에 대해서는 기판에 대해 기울어서 당접하는 경우가 있다. 점착 패드와 기판이 평행하지 않고 기울어져 있으면, 전술한 바와 같이 충분한 보유지지력을 발휘할 수 없어, 안정적인 기판 보유지지에 지장을 초래할 우려가 있다.In addition, especially for large-sized substrates, the substrate tends to become wavy or sag, and if a plurality of adhesive pads are brought into contact with the substrate collectively in such a state, the holding power may vary for each portion of the substrate. . That is, even if a certain adhesive pad can be brought into parallel contact with the substrate, due to the influence of sagging or undulations of the substrate, other adhesive pads may be inclined with respect to the substrate in some cases. If the pressure-sensitive adhesive pad and the substrate are not parallel and inclined, as described above, sufficient holding power cannot be exhibited, and there is a fear that it may interfere with stable holding of the substrate.

거기서 본 출원 발명자가 예의 검토한 결과, 점착 패드 등의 점착면을 가지는 기판 보유지지 장치에 의해 기판을 보유지지할 때, 해당 점착 패드를 기판에 대해 진퇴 가능하고 경동 가능하게 하여 점착 패드가 기판의 경사에 따르도록 함으로써, 점착 패드의 점착면과 기판의 평행도를 향상시키는 것을 알게 되어, 본 발명을 창출하기에 이르렀다. 이하, 본 발명의 실시예에 대해 설명한다.Accordingly, as a result of a thorough study by the inventors of the present application, when the substrate is held by a substrate holding device having an adhesive surface such as an adhesive pad, the adhesive pad can move forward and backward relative to the substrate, so that the adhesive pad can be applied to the substrate. It was found that the parallelism between the adhesive surface of the adhesive pad and the substrate was improved by making it conform to the inclination, leading to the creation of the present invention. Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described.

[실시형태 1][Embodiment 1]

도면을 참조하여, 본 실시형태의 기판 보유지지 장치의 구성에 대해 설명한다. 도 1은 기판 보유지지 장치의 내부 구성을 설명하기 위한 도면으로, 도 1의 (a)는 기판 보유지지 부재의 평면도, 도 1의 (b)는 기판 보유지지 장치의 측면 단면도이다.With reference to the drawings, the configuration of the substrate holding device of the present embodiment will be described. 1 is a view for explaining an internal configuration of a substrate holding device, in which (a) of FIG. 1 is a plan view of a substrate holding member, and (b) of FIG. 1 is a side cross-sectional view of the substrate holding device.

<기판 보유지지 부재><Substrate holding member>

기판 보유지지 부재(100)는, 기판(10)을 보유지지하는 면(이하, 보유지지면(110X)이라고 칭함)을 갖는 기체(基體, 베이스)를 구비하고 있다. 본 실시예에서, 기체는, 보유지지면(110X)이 평면으로 구성되는 평판 형상 부재(110)와, 평판 형상 부재(110)를 지지하는 프레임(115)을 구비하고 있다. 이 평판 형상 부재(110)에는, 기판(10)을 상하 이동시키기 위한 핀(240)을, 평판 형상 부재(110)에 있어서의 보유지지면(110X)으로부터 출몰시키기 위한 관통 구멍(111)이 복수 설치되어 있다. 또한, 기판 보유지지 부재(100)는, 점착력을 이용하여 기판(10)을 보유지지하기 위한 기판 보유지지 유닛(점착 유닛)(120)을 복수 구비하고 있다. 기판 보유지지 유닛(120)의 구성과 기능에 대해서는 후술한다. 또한, 평판 형상 부재(110)에는, 기판 보유지지 유닛(120)의 구성 부재(점착 패드(123) 등)를 이동 가능하게 구성하는 관통 구멍(112)도 복수 설치되어 있다. 후술하는 바와 같이 점착 부재 구동 기구에 의해 점착 패드(123)를 구동함으로써, 점착 패드(123)를 관통 구멍(112)을 통해 보유지지면(110X)으로부터 돌출 또는 몰입시키거나, 점착 패드(123)의 점착면을 보유지지면(110X)과 하나의 면(동일면)의 상태로 만들거나 할 수 있다.The substrate holding member 100 is provided with a substrate having a surface (hereinafter referred to as holding surface 110X) that holds the substrate 10. In this embodiment, the base body includes a plate-shaped member 110 in which the holding surface 110X is formed in a plane, and a frame 115 supporting the plate-shaped member 110. The plate-shaped member 110 has a plurality of through holes 111 for protruding and protruding from the holding surface 110X of the plate-shaped member 110 with a pin 240 for moving the substrate 10 up and down. Installed. Further, the substrate holding member 100 includes a plurality of substrate holding units (adhesive units) 120 for holding the substrate 10 using adhesive force. The configuration and function of the substrate holding unit 120 will be described later. In addition, a plurality of through holes 112 are provided in the plate-shaped member 110 so as to be able to move the constituent members (adhesive pads 123 and the like) of the substrate holding unit 120. As described later, by driving the adhesive pad 123 by the adhesive member driving mechanism, the adhesive pad 123 is protruded or immersed from the holding surface 110X through the through hole 112, or the adhesive pad 123 It is possible to make the adhesive surface of the holding surface (110X) and the state of one surface (same surface).

나아가, 기판 보유지지 부재(100)는, 기판(10)의 주위를 평판 형상 부재(110)에 고정시키기 위한 고정구(130)를 복수 구비하고 있다. 또한, 본 실시예에서는, 고정구(130)의 일례로서 클램프의 경우를 나타내지만, 고정구로서는 클램프에 한정되지 않고, 각종 공지 기술을 채용할 수 있다. 또한, 평판 형상 부재(110)의 형상 및 치수에 대해서는, 기판(10)의 사이즈, 및 기판(10)에 있어서의 성막 영역에 따라 적절히 설정된다. 그리고, 관통 구멍(111), 기판 보유지지 유닛(120) 및 고정구(130)의 개수 및 배치에 관해서도, 기판(10)의 사이즈, 및 기판(10)에 있어서의 성막 영역에 따라 적절히 설정된다. 또한, 본 실시예에서는 기체가 평판 형상 부재(110)와 프레임(115)으로 구성되는 예에 대해 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 즉, 기체는 평판 형상 부재(110) 및 프레임(115)의 적어도 일방을 구비하고 있으면 된다. 또는, 기체는 평면 형상의 보유지지면(110X)을 갖는 구성이라면, 다른 임의의 부재로 구성할 수도 있다.Further, the substrate holding member 100 includes a plurality of fasteners 130 for fixing the periphery of the substrate 10 to the flat plate member 110. Further, in the present embodiment, the case of a clamp is shown as an example of the fixture 130, but the fixture is not limited to a clamp, and various known techniques can be employed. In addition, the shape and dimensions of the plate-like member 110 are appropriately set according to the size of the substrate 10 and the film-forming region on the substrate 10. The number and arrangement of the through holes 111, the substrate holding unit 120, and the fixture 130 are also appropriately set according to the size of the substrate 10 and the film-forming region on the substrate 10. In addition, in the present embodiment, an example in which the base body is composed of the flat member 110 and the frame 115 will be described, but the present invention is not limited thereto. That is, it is sufficient that the base body includes at least one of the flat member 110 and the frame 115. Alternatively, the base body may be formed of any other member as long as it has a planar holding surface 110X.

<기판 보유지지 장치><Substrate holding device>

도 1의 (b)에 나타내는 바와 같이, 기판 보유지지 부재(100)는, 기판 보유지지실(R1)(제1 챔버)을 가지고 있다. 기판 보유지지실(R1) 내는, 전형적으로 진공 분위기로 유지되어 있고, 기판(10)이나 마스크를 반출입하기 위한 개구를 구비한다. 또한, 본 명세서에 있어서의 진공이란, 통상의 대기압(1013hPa)보다 낮은 압력의 기체(氣體)로 채워진 공간의 상태를 의미한다. 그리고, 기판 보유지지 장치는, 기판(10)을 상하 이동시키기 위한 핀 유닛(200)(기판 이동 기구)과, 전자 코일(360)을 갖는 전자 코일 유닛(300)(점착 부재 구동 기구)과, 기판 보유지지 부재(100)를 지지(고정)하는 지지대(400)를 구비하고 있다. 지지대(400)에 기판 보유지지 부재(100)가 지지된 상태에서는, 기판 보유지지 부재(100)(평판 형상 부재(110))에 있어서의 보유지지면(110X)은 수평면과 평행하게 되도록 구성되어 있다.As shown in FIG. 1B, the substrate holding member 100 has a substrate holding chamber R1 (first chamber). The inside of the substrate holding chamber R1 is typically maintained in a vacuum atmosphere, and has an opening for carrying the substrate 10 or mask in and out. In addition, vacuum in this specification means the state of a space filled with gas of a pressure lower than normal atmospheric pressure (1013 hPa). In addition, the substrate holding device includes a pin unit 200 (substrate moving mechanism) for vertically moving the substrate 10, an electromagnetic coil unit 300 having an electromagnetic coil 360 (adhesive member driving mechanism), A support base 400 for supporting (fixing) the substrate holding member 100 is provided. In a state in which the substrate holding member 100 is supported on the support base 400, the holding surface 110X in the substrate holding member 100 (flat plate-shaped member 110) is configured to be parallel to the horizontal plane. have.

기판 보유지지실(R1)은 기판 처리 영역(A1)과 구동원 배치 영역(A2)으로 구획된다. 기판 처리 영역(A1)에는 기판 보유지지 부재(100) 등이 배치된다. 구동원 배치 영역(A2)에는, 핀 유닛(200)에 있어서의 모터(210), 및 전자 코일 유닛(300)에 있어서의 모터(310) 등이 배치된다. 이러한 구성에 의해, 모터(210, 310)의 회전에 의해 발생하는 이물(異物)이나, 볼 나사 기구 부분의 슬라이딩(摺動)부에서 발생하는 이물이 기판 처리 영역(A1)에 침입하는 것을 억제할 수 있다. 핀(240)과 핀 유닛(200)을 포함하여 기판 이동 기구로 해도 된다.The substrate holding chamber R1 is divided into a substrate processing region A1 and a driving source arrangement region A2. A substrate holding member 100 or the like is disposed in the substrate processing region A1. The motor 210 in the pin unit 200, the motor 310 in the electromagnetic coil unit 300, and the like are arranged in the drive source arrangement region A2. With this configuration, foreign matter generated by the rotation of the motors 210 and 310 or foreign matter generated in the sliding portion of the ball screw mechanism part is suppressed from entering the substrate processing region A1. can do. The pin 240 and the pin unit 200 may be included as a substrate moving mechanism.

또한, 본 실시형태에서는 상기 2개의 영역(A1, A2)을 모두 기판 보유지지실(R1)의 진공 분위기 내에 배치하는 구성을 설명했지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 기판 처리 영역(A1)만을 기판 보유지지실(R1)의 진공 분위기 내에 배치하고, 구동원 배치 영역(A2)은 대기 분위기하에 배치해도 된다. 이와 같이 함으로써, 전술한, 이물이 기판 처리 영역(A1)으로 침입하는 것을 억제하는 효과를 보다 높일 수 있다.In addition, in the present embodiment, the configuration in which both of the two regions A1 and A2 are disposed in the vacuum atmosphere of the substrate holding chamber R1 has been described, but is not limited thereto. For example, only the substrate processing region A1 may be arranged in the vacuum atmosphere of the substrate holding chamber R1, and the driving source arrangement region A2 may be arranged in an atmospheric atmosphere. By doing in this way, the effect of suppressing the invasion of the above-described foreign material into the substrate processing region A1 can be further enhanced.

기판 보유지지 부재(100)가 구비하는 각 유닛은, 전원(710)으로부터 전력이 공급됨과 함께, 제어부(720)로부터 제어 신호를 받아 제어되어 동작한다. 전원(710)으로서는 임의의 이미 알려진 전원 장치를 이용할 수 있다. 제어부(720)로서는, 예를 들면, 프로세서나 메모리 등의 연산 자원을 구비하고, 프로그램에 따라 동작하는 PC나 워크스테이션 등의 정보 처리 장치를 이용할 수 있다.Each unit included in the substrate holding member 100 is controlled and operated by receiving a control signal from the controller 720 while being supplied with power from the power source 710. Any known power supply device can be used as the power supply 710. As the control unit 720, for example, an information processing device such as a PC or a workstation, which is provided with computational resources such as a processor or memory, and operates according to a program, can be used.

기판 보유지지 부재(100)는, 전술한 핀(240)에 의해 기판(10)을 상하 이동시키기 위한 핀 유닛(200)과, 전자 코일(360)을 상하 이동시키기 위한 전자 코일 유닛(300)과, 기판 보유지지 부재(100)를 지지(고정)하는 지지대(400)를 구비하고 있다. 지지대(400)는, 기판 보유지지 부재(100)를, 평판 형상 부재(110)가 구성하는 보유지지면(110X)이 대략 수평으로 되도록 지지 가능하다.The substrate holding member 100 includes a pin unit 200 for vertically moving the substrate 10 by the pin 240 described above, an electronic coil unit 300 for vertically moving the electromagnetic coil 360, and , A support base 400 for supporting (fixing) the substrate holding member 100 is provided. The support base 400 is capable of supporting the substrate holding member 100 so that the holding surface 110X constituted by the flat member 110 is substantially horizontal.

핀 유닛(200)은, 모터(210)와, 모터(210)에 의해 회전하는 나사 축(220)과, 나사 축(220)의 회전 동작에 따라, 나사 축(220)을 따라 상하 이동하는 너트부(230)와, 너트부(230)에 고정되며 너트부(230)와 함께 상하 이동하는 핀(240)을 구비하고 있다. 또한, 너트부(230)의 내주면과 나사 축(220)의 외주면의 사이에는, 복수의 볼이 무한 순환하도록 구성되어 있다. 또한, 핀(240)을 상하 이동시키는 구성은 볼 나사 기구에 한정되지 않고, 랙 앤드 피니언(rack and pinion) 방식 등의 그 밖의 공지 기술을 채용할 수 있다.The pin unit 200 includes a motor 210, a screw shaft 220 rotated by the motor 210, and a nut that moves up and down along the screw shaft 220 according to the rotational motion of the screw shaft 220 A portion 230 and a pin 240 that is fixed to the nut portion 230 and moves up and down together with the nut portion 230 are provided. Further, between the inner peripheral surface of the nut portion 230 and the outer peripheral surface of the screw shaft 220, a plurality of balls are configured to circulate indefinitely. In addition, the configuration in which the pin 240 is moved up and down is not limited to a ball screw mechanism, and other known techniques such as a rack and pinion method can be employed.

또한, 도시한 예에서는, 하나의 핀(240)에 대해, 각각 모터(210) 등의 구동 기구가 구비되어 있다. 이 구성이라면 개별적으로 핀의 상하를 조정 가능하다. 다만, 하나의 구동 기구에 의해, 복수의 핀(240)을 동시에 구동시키는 구성이 가능하다. 예를 들면, 상기 볼 나사 기구를 채용하는 경우에는, 하나의 너트부(230)에 복수의 핀(240)을 설치하면 된다.Further, in the illustrated example, a drive mechanism such as a motor 210 is provided for each pin 240. With this configuration, the pins can be individually adjusted up and down. However, it is possible to drive the plurality of pins 240 at the same time by one driving mechanism. For example, in the case of employing the ball screw mechanism, a plurality of pins 240 may be provided in one nut part 230.

전자 코일 유닛(300)은, 모터(310)와, 모터(310)에 의해 회전하는 나사 축(320)과, 나사 축(320)의 회전 동작에 따라, 나사 축(320)을 따라 상하 이동하는 너트부(330)와, 너트부(330)에 고정되며 너트부(330)와 함께 상하 이동하는 축부(340)와, 축부(340)의 선단에 설치되는 지지부(350)와, 지지부(350)에 지지되는 전자 코일(360)을 구비하고 있다. 또한, 너트부(330)의 내주면과 나사 축(320)의 외주면의 사이에는, 복수의 볼이 무한 순환하도록 구성되어 있다. 또한, 전자 코일(360)을 상하 이동시키는 구성은 볼 나사 기구에 한정되지 않고, 랙 앤드 피니언 방식 등의 그 밖의 공지 기술을 채용할 수 있다.The electromagnetic coil unit 300 is a motor 310, a screw shaft 320 that is rotated by the motor 310, and moves up and down along the screw shaft 320 according to the rotational motion of the screw shaft 320. A nut part 330, a shaft part 340 fixed to the nut part 330 and moving up and down together with the nut part 330, a support part 350 installed at the tip of the shaft part 340, and a support part 350 It is provided with an electromagnetic coil 360 supported by. Further, between the inner peripheral surface of the nut portion 330 and the outer peripheral surface of the screw shaft 320, a plurality of balls are configured to circulate indefinitely. In addition, the configuration in which the electromagnetic coil 360 is moved up and down is not limited to the ball screw mechanism, and other known techniques such as a rack and pinion method can be employed.

또한, 도시한 예에서는, 하나의 전자 코일(360)에 대해, 각각 모터(310) 등의 구동 기구가 구비되어 있다. 이 구성이라면 개별적으로 전자 코일의 상하 이동을 조정할 수 있다. 다만, 하나의 구동 기구에 의해 복수의 전자 코일(360)을 동시에 구동시키는 구성을 채용할 수도 있다. 예를 들면, 상기 볼 나사 기구를 채용하는 경우에는, 하나의 너트부(330)에 대해, 복수의 축부(340), 지지부(350) 및 전자 코일(360)을 설치하면 된다.In addition, in the illustrated example, a drive mechanism such as a motor 310 is provided for each of the electromagnetic coils 360. With this configuration, it is possible to individually adjust the vertical movement of the electromagnetic coil. However, it is also possible to adopt a configuration in which a plurality of electromagnetic coils 360 are simultaneously driven by a single driving mechanism. For example, in the case of employing the ball screw mechanism, a plurality of shaft portions 340, support portions 350, and electromagnetic coils 360 may be provided for one nut portion 330.

또한, 전자 코일(360)에 대해서는, 제어부(720)의 제어에 따라, 전원(710)에 의해 전류가 흐르도록 구성되어 있다. 제어부(720)가 전자 코일(360)에 대해 흘리는 전류의 방향이나 전류의 크기를 변경함으로써, 전자 코일(360)의 동작을 제어 할 수 있다.In addition, the electromagnetic coil 360 is configured such that a current flows by the power source 710 under the control of the control unit 720. The control unit 720 may control the operation of the electronic coil 360 by changing the direction or magnitude of the current flowing through the electronic coil 360.

여기서, 전자 코일(360)은 복수의 기판 보유지지 유닛(120)의 각각에 대응하도록 복수 설치되어 있다. 이에 의해, 전자 코일 유닛(300)이, 각 기판 보유지지 유닛(120)에 있어서의 점착 패드(123)를 구동시키기 위한 점착 부재 구동 기구로서 기능한다. 즉, 전자 코일 유닛(300)은, 각 기판 보유지지 유닛(120)의 각각이 가지는 진퇴 기구에 대해 비접촉으로 작용함으로써, 점착 패드(123)의 점착면을 보유지지면에 대해 진퇴시킬 수 있다. 그 결과, 기판(10)이 물결치는 모양이 되는 것 등에 의해 보유지지면과 기판(10) 간의 거리가 장소마다 다른 경우라도, 기판(10)에 접촉할 수 있는 위치까지 점착 패드(123)가 이동할 수 있다. 또한, 기판 보유지지 유닛(120)의 각각이 가지는 진퇴 기구에 대해 비접촉으로 작용하여 점착 패드(123)의 점착면을 진퇴시키므로, 접촉하여 점착 패드(123)의 점착면을 진퇴시킬 때에 슬라이딩 등에 의해 생기는 이물(마모분 등)의 발생을 억제하면서, 점착 패드(123)의 점착면의 진퇴를 실현할 수 있다.Here, a plurality of electromagnetic coils 360 are provided to correspond to each of the plurality of substrate holding units 120. Thereby, the electromagnetic coil unit 300 functions as an adhesive member driving mechanism for driving the adhesive pad 123 in each of the substrate holding units 120. That is, the electromagnetic coil unit 300 can advance and retreat the adhesive surface of the adhesive pad 123 with respect to the holding surface by acting in a non-contact manner with respect to the advance and retreat mechanisms each of the substrate holding units 120 have. As a result, even if the distance between the holding surface and the substrate 10 varies from place to place due to the wave shape of the substrate 10, the adhesive pad 123 is moved to a position where it can contact the substrate 10. You can move. In addition, since it acts in a non-contact manner with respect to the advancing and retreating mechanisms of each of the substrate holding units 120 to advance and retreat the adhesive surface of the adhesive pad 123, when contacting and advancing and retreating the adhesive surface of the adhesive pad 123, by sliding or the like. The advancing and retreating of the adhesive surface of the adhesive pad 123 can be realized while suppressing the generation of foreign matter (abrasion powder, etc.) generated.

<기판 보유지지 유닛의 구성><Configuration of substrate holding unit>

도 2, 도 3은 기판 보유지지 유닛(120)의 모식적 단면도이며, 도 1의 AA선 부분의 단면을 나타낸다. 개개의 기판 보유지지 유닛(120)은, 단면 L자 형상의 기판 보유지지 유닛 보유지지부(150)에 보유지지된다. 이 기판 보유지지 유닛 보유지지부(150)는, 평판 형상 부재(110)에 고정되는 피고정부(151)와, 기판 보유지지 유닛(120)을 보유지지하는 보유지지부(152)를 구비하고 있다. 보유지지부(152)에는 관통 구멍(153)이 설치되어 있다. 또한, 본 실시예에서는 기판 보유지지 유닛 보유지지부(150)가 프레임(115)에 고정되는 예를 설명하지만, 이것에 한정되지 않고, 기판 보유지지 유닛 보유지지부(150)는 기체에 고정되어 있어도 된다.2 and 3 are schematic cross-sectional views of the substrate holding unit 120, and are cross-sectional views taken along line AA in FIG. 1. Each of the substrate holding units 120 is held by the substrate holding unit holding portion 150 having an L-shaped cross section. The substrate holding unit holding portion 150 includes a fixed portion 151 fixed to the flat member 110 and a holding portion 152 holding the substrate holding unit 120. The holding part 152 is provided with a through hole 153. Further, in this embodiment, an example in which the substrate holding unit holding portion 150 is fixed to the frame 115 is described, but the present invention is not limited thereto, and the substrate holding unit holding portion 150 may be fixed to the base body. .

기판 보유지지 유닛(120)은, 축부(121)와, 축부(121)의 일단에 고정되는 지지 플랜지부(122)와, 지지 플랜지부(122)에 고정되는 점착 패드(123)를 구비하고 있다. 점착 패드(123)는, 실리콘계 수지, 불소계 수지, 디엔계 수지 등으로 이루어지는 점착 재료를 형성한, 점착면을 갖는 시트 형상의 부재이다. 점착 패드(123)가 본 발명의 점착 부재라고 생각해도 되고, 지지 플랜지부(122)와 점착 패드(123)를 합쳐서 점착 부재라고 생각해도 된다. 점착 패드(123)는, 점착성을 가지며 파지면(또는 점착면)을 갖는 점착층과, 점착층을 지지 플랜지부(122)에 접착하기 위한 접착층이 적층된 구조를 가지고 있어도 된다.The substrate holding unit 120 includes a shaft portion 121, a support flange portion 122 fixed to one end of the shaft portion 121, and an adhesive pad 123 fixed to the support flange portion 122. . The adhesive pad 123 is a sheet-like member having an adhesive surface formed of an adhesive material made of a silicone resin, a fluorine resin, a diene resin, or the like. The adhesive pad 123 may be considered an adhesive member of the present invention, or may be considered an adhesive member by combining the support flange portion 122 and the adhesive pad 123. The adhesive pad 123 may have a structure in which an adhesive layer having adhesiveness and a gripping surface (or an adhesive surface) and an adhesive layer for adhering the adhesive layer to the support flange portion 122 are stacked.

지지 플랜지부(122)는, 회동축으로서의 축부(121)의 일단측에 경동 가능하게 고정된다. 예를 들면, 지지 플랜지부(122)에 축단부를 받는 받음부를 설치함으로써, 지지 플랜지부(122)를 축부(121)의 연장 방향의 축에 대해 경동 가능하게 축 지지할 수 있다. 이러한, 축단부와 축받음부(122a)를 포함하는 경동 기구로서는, 볼 조인트 구조 등의 이미 알려진 구성을 채용할 수 있다. 예를 들면, 도 3의 (a)에서는 점착 패드(123)의 점착면이 기판(10)을 따라 대략 수평으로 되어 있는 것에 비해, 기판(10)이 물결치는 모양이 되어 있는 도 3의 (b)에서는, 점착 패드(123)의 점착면이 기판(10)을 따르도록 수평면에 대해 경동하고 있다.The support flange portion 122 is fixed so as to be tiltable to one end side of the shaft portion 121 serving as a rotation shaft. For example, by providing a receiving portion receiving the shaft end portion to the support flange portion 122, the support flange portion 122 can be axially supported so as to be tiltable with respect to the axis in the extending direction of the shaft portion 121. As such a tilt mechanism including the shaft end portion and the bearing portion 122a, a known configuration such as a ball joint structure can be adopted. For example, in FIG. 3 (a), the adhesive surface of the adhesive pad 123 is substantially horizontal along the substrate 10, whereas in FIG. 3 (b), the substrate 10 is in a wavy shape. ), the adhesive surface of the adhesive pad 123 is tilted with respect to the horizontal surface so as to follow the substrate 10.

또한, 본 실시형태에서는 지지 플랜지부(122)가 축부(121)의 일단측에 경동 가능하게 고정되는 것으로 하였지만, 이것에 한정되지 않고, 지지 플랜지부(122)는 용접 고정 등에 의해 축부(121)에 견고하게 고정되어 있어도 된다. 이 경우라 하더라도, 일체 고정된 지지 플랜지부(122) 및 축부(121)는 후술하는 탄성체(128)에 의해 지지되어 있기 때문에, 지지 플랜지부(122)는 보유지지면에 대해 경동 가능하게 된다. 즉, 지지 플랜지부(122)가 경동하면 탄성체(128)가 굴곡함과 함께 축부(121)가 기울어진다. 그 결과, 도 4에 나타낸 바와 같이, 보유지지부(152)에 설치된 관통 구멍(153)의 여유 범위 내에서 요동할 수 있다. 이에 의해, 점착 패드(123)의 점착면을 기판(10)의 경사에 추종시킬 수 있다. 즉, 탄성체(128)는 경동 기구로서도 기능한다.Further, in the present embodiment, the support flange portion 122 is tiltably fixed to one end side of the shaft portion 121, but is not limited to this, and the support flange portion 122 is the shaft portion 121 by welding fixing or the like. It may be firmly fixed to the. Even in this case, since the support flange portion 122 and the shaft portion 121 that are integrally fixed are supported by an elastic body 128 to be described later, the support flange portion 122 can tilt with respect to the holding surface. That is, when the support flange portion 122 is tilted, the elastic body 128 is bent and the shaft portion 121 is inclined. As a result, as shown in FIG. 4, it can swing within the margin range of the through hole 153 provided in the holding|maintenance part 152. Thereby, the adhesive surface of the adhesive pad 123 can be made to follow the inclination of the substrate 10. That is, the elastic body 128 also functions as a tilt mechanism.

또한, 기판 보유지지 유닛(120)은, 축부(121)에 고정되는 스톱퍼부(124)와, 축부(121)가 삽통되고 또한 스톱퍼부(124)에 인접한 상태로 축부(121)에 고정되는 원통 형상의 영구자석(125)과, 영구자석(125)을 축부(121)에 고정시키기 위한 와셔(126) 및 너트(127)를 구비하고 있다. 또한, 축부(121)의 타단측에는 암나사가 형성되어 있고, 이 암나사에 너트(127)를 체결함으로써 영구자석(125)을 축부(121)에 고정시킬 수 있다. 스톱퍼부(124)는, 축부(121)의 양단 중, 점착 패드가 배치되는 일단측과는 반대의 타단측에, 나사 체결이나 용접 등에 의해 고정된다.In addition, the substrate holding unit 120, a stopper portion 124 fixed to the shaft portion 121, and a cylinder fixed to the shaft portion 121 in a state in which the shaft portion 121 is inserted and adjacent to the stopper portion 124 A permanent magnet 125 of the shape and a washer 126 and a nut 127 for fixing the permanent magnet 125 to the shaft portion 121 are provided. In addition, a female screw is formed on the other end of the shaft portion 121, and the permanent magnet 125 can be fixed to the shaft portion 121 by fastening the nut 127 to the female screw. The stopper portion 124 is fixed to the other end side of the both ends of the shaft portion 121 opposite to the one end side on which the adhesive pad is disposed, by screwing or welding or the like.

너트(127)가 체결된 상태에서는, 축부(121)와, 지지 플랜지부(122)와, 점착 패드(123)와, 스톱퍼부(124)와, 영구자석(125)과, 와셔(126) 및 너트(127)는 일체화된 상태로 되어, 일체화된 축부(121) 등을 구성하고 있다. 또한, 원통 형상의 영구자석(125)은 축방향의 일단측과 타단측에서 자극이 다르도록 구성되어 있다. 도시한 예에서는, 점착 패드(123)가 설치되어 있는 측이 N극이며, 그 반대측이 S극으로 되는 경우를 나타내고 있지만, 역방향으로 배치시켜도 된다.In the state where the nut 127 is fastened, the shaft portion 121, the support flange portion 122, the adhesive pad 123, the stopper portion 124, the permanent magnet 125, the washer 126, and The nut 127 is in an integrated state, and constitutes an integrated shaft portion 121 and the like. In addition, the cylindrical permanent magnet 125 is configured such that magnetic poles are different at one end side and the other end side in the axial direction. In the illustrated example, the side on which the adhesive pad 123 is provided is the N-pole, and the opposite side is the S-pole, but may be arranged in the reverse direction.

그리고, 기판 보유지지 유닛(120)은, 축부(121)의 왕복 이동(상하 이동)을 가능하게 하면서, 축부(121)의 요동을 가능하게 한 상태로, 일체화된 축부(121) 등을 지지하기 위한 탄성체(128)를 구비하고 있다. 도시한 예에서는 탄성체(128)로서 금속제의 스프링(코일 스프링)이 사용되고 있다. 다만, 탄성체에 대해서는, 금속제의 판 스프링이나 엘라스토머 재료로 이루어지는 원통 형상의 부재 등의 적절한 구성을 채용할 수 있다. 그러나, 기판 보유지지 부재(100)를 진공중에서 사용하는 경우에는, 탄성체(128)로서는, 구성 재료로부터의 탈(脫)가스를 저감하는 관점에서 금속제의 탄성 부재를 사용하는 것이 바람직하다.In addition, the substrate holding unit 120 is capable of reciprocating (up-down movement) of the shaft portion 121 and supporting the integrated shaft portion 121 and the like in a state in which the shaft portion 121 is swingable. It is provided with an elastic body (128) for. In the illustrated example, a metal spring (coil spring) is used as the elastic body 128. However, for the elastic body, an appropriate configuration such as a metal leaf spring or a cylindrical member made of an elastomer material can be adopted. However, when the substrate holding member 100 is used in a vacuum, it is preferable to use a metallic elastic member as the elastic body 128 from the viewpoint of reducing degassing from the constituent material.

보유지지부(152)를 사이에 두고 보유지지면(110X) 측에 점착 패드(123) 등이 배치되고, 그 반대측에 스톱퍼부(124) 등이 배치되도록, 관통 구멍(153)에 축부(121)가 삽통된 상태로, 기판 보유지지 유닛(120)은 기판 보유지지 유닛 보유지지부(150)에 보유지지된다. 이 때, 탄성체(128)의 일단은 지지 플랜지부(122)에 고정되고, 타단은 보유지지부(152)에 고정된 상태로 설치된다. 또한, 탄성체(128)의 내주측의 면과 축부(121)의 외주면의 사이에는 간극이 마련되어, 탄성체(128)와 축부(121)는 접하지 않도록 구성되어 있다. 또한, 스톱퍼부(124)는 관통 구멍(153)보다 대직경으로 설정됨으로써, 일체화된 축부(121) 등이 관통 구멍(153)으로부터 빠지는 것을 방지하고 있다. 이상과 같이, 기판 보유지지 유닛(120)은, 탄성체(128)의 타단만이 보유지지부(152)에 고정되어 있고, 기판 보유지지 유닛(120)을 구성하는 다른 부재는, 기판 보유지지 유닛(120) 이외의 구성 부재에는 접하지 않도록 구성되어 있다. 이와 같이 구성함으로써, 접촉 마모에 의한 이물(파티클)의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 본 실시예에서는 스톱퍼부(124)가, 영구자석(125)과 인접하여 배치되고, 영구자석(125)의 축부(121)의 축방향에 있어서의 위치결정 고정 기능과, 보유지지부(152)와 부딪침으로써 일체화된 축부(121) 등이 관통 구멍(153)으로부터 빠지는 것을 방지하는 기능(기계적 스톱퍼 기능)의 양쪽 모두를 갖지만, 이 구성에는 한정되지 않는다. 즉, 기계적 스톱퍼 기능을 갖는 스톱퍼부(124)와 별도로, 영구자석(125)의 위치결정 고정 기능을 갖춘 부재를 설치해도 된다.An adhesive pad 123 or the like is disposed on the side of the holding surface 110X with the holding portion 152 interposed therebetween, and the shaft portion 121 in the through hole 153 so that the stopper portion 124 or the like is disposed on the opposite side thereof. With the inserted state, the substrate holding unit 120 is held by the substrate holding unit holding portion 150. At this time, one end of the elastic body 128 is fixed to the support flange portion 122, and the other end is installed in a state fixed to the holding portion 152. Further, a gap is provided between the inner circumferential surface of the elastic body 128 and the outer circumferential surface of the shaft portion 121 so that the elastic body 128 and the shaft portion 121 do not come into contact with each other. In addition, the stopper portion 124 is set to have a larger diameter than the through hole 153 to prevent the integrated shaft portion 121 and the like from falling out of the through hole 153. As described above, in the substrate holding unit 120, only the other end of the elastic body 128 is fixed to the holding portion 152, and the other member constituting the substrate holding unit 120 is the substrate holding unit ( It is constructed so as not to contact constituent members other than 120). By constituting in this way, generation of foreign matter (particle) due to contact wear can be suppressed. In addition, in this embodiment, the stopper portion 124 is disposed adjacent to the permanent magnet 125, has a function of positioning and fixing in the axial direction of the shaft portion 121 of the permanent magnet 125, and the holding portion 152 ) Has both functions (mechanical stopper function) of preventing the integrated shaft portion 121 or the like from falling out of the through hole 153 by colliding with it, but is not limited to this configuration. That is, apart from the stopper portion 124 having a mechanical stopper function, a member having a positioning and fixing function of the permanent magnet 125 may be provided.

점착 패드(123)는, 도 2의 (a)에 나타내는 전진 상태와, 도 2의 (b)에 나타내는 후퇴 상태의 사이에서 위치를 변화시킬 수 있다. 즉, 보유지지면(110X)이 수평면에 평행하고 연직 방향 상방을 향한 상태이고, 또한, 기판 보유지지 유닛(120)에는, 그 자중만이 작용하고 있는 상태에서는, 점착 패드(123)는, 보유지지면(110X)보다 약간 연직 방향 상방으로 튀어나와 있다. 이 전진 상태에서는, 일체화된 축부(121) 등은 탄성체(128)에 의해서만 지지되어 있다. 이에 의해, 일체화된 축부(121) 등은 점착 패드(123)의 점착면이 보유지지면(110X)에 대해 진퇴 가능하게 되도록 왕복 이동(상하 이동)이 허용되고 있다. 따라서, 점착 패드(123)는 보유지지면(110X)으로부터 진퇴 가능하게 되어 있다. 또한, 점착 패드(123)의 점착면이 경동하고 있을 때에는, 도 3의 (b)에 나타내는 바와 같이 탄성체(128)를 구성하는 스프링이 변형함으로써 압력을 흡수할 수 있다. 또한, 본 실시예에서는 전술한 상태에 있어서 점착 패드(123)가 보유지지면(110X)보다 약간 돌출한 상태로 되는 예에 대해 설명하지만, 이것에 한정되지 않고, 전술한 상태에 있어서 점착 패드(123)의 점착면이 보유지지면(110X)과 동일 평면 상에 위치해도 된다.The adhesive pad 123 can change the position between the advanced state shown in FIG. 2(a) and the retracted state shown in FIG. 2(b). That is, when the holding surface 110X is parallel to the horizontal plane and facing upward in the vertical direction, and only its own weight is acting on the substrate holding unit 120, the adhesive pad 123 is held It protrudes slightly upwards in the vertical direction than the support surface 110X. In this advanced state, the integrated shaft portion 121 or the like is supported only by the elastic body 128. Thereby, the integrated shaft portion 121 and the like are allowed to reciprocate (up-down movement) so that the adhesive surface of the adhesive pad 123 can advance and retreat with respect to the holding surface 110X. Therefore, the adhesive pad 123 can advance and retreat from the holding surface 110X. In addition, when the adhesive surface of the adhesive pad 123 is tilted, the spring constituting the elastic body 128 is deformed as shown in Fig. 3B, so that the pressure can be absorbed. Further, in the present embodiment, an example in which the adhesive pad 123 protrudes slightly from the holding surface 110X in the above-described state is described, but the present invention is not limited thereto, and in the above-described state, the adhesive pad ( 123) may be located on the same plane as the holding surface 110X.

여기서, 제어부(720)의 제어에 의해 전원(710)이 전자 코일(360)에 전류를 흘림으로써, 전자 코일(360)의 내부에 영구자석(125)을 끌어들이는 전자력을 발생시킨다. 이에 의해, 기판 보유지지 유닛(120)에서의 탄성체(128)의 탄성 반발력(스프링의 스프링력)에 대항하여, 일체화된 축부(121) 등은 연직 방향 하방으로 이동한다. 이에 의해, 도 2의 (b)와 같이, 점착 패드(123)는 보유지지면(110X)보다 연직 방향 하방으로 이동한다. 한편, 여기서는 기판 보유지지 유닛(120)이 영구자석(125)을 가지는 것으로 하였지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 영구자석은 아니라도 자성체에 의해 구성된 자성 부재를 사용해도 된다. 자성체로서는 강자성체 또는 반자성체를 사용하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 전자 코일(360)에 의해 발생한 전자력 등의 외부 자력에 의해, 일체화된 축부(121) 등을 연직 방향 하방 또는 상방으로 이동시킬 수 있다.Here, under the control of the controller 720, the power source 710 passes current through the electromagnetic coil 360, thereby generating an electromagnetic force that attracts the permanent magnet 125 into the electromagnetic coil 360. Thereby, against the elastic repulsion force (spring force of the spring) of the elastic body 128 in the substrate holding unit 120, the integrated shaft portion 121 and the like move downward in the vertical direction. Thereby, as shown in FIG. 2(b), the adhesive pad 123 moves vertically downward from the holding surface 110X. On the other hand, although it is assumed here that the substrate holding unit 120 has the permanent magnet 125, the present invention is not limited to this, and a magnetic member made of a magnetic material may be used without being a permanent magnet. It is preferable to use a ferromagnetic material or a diamagnetic material as the magnetic material. Thereby, by external magnetic force such as an electromagnetic force generated by the electromagnetic coil 360, the integrated shaft portion 121 or the like can be moved downward or upward in the vertical direction.

<기판 보유지지 공정><Substrate holding process>

도 5a 내지 도 5c를 참조하여, 본 실시형태의, 도 4에 예시한 바와 같은 기판 보유지지 유닛(120)이 기판(10)에 점착하는 모습을 설명한다.Referring to FIGS. 5A to 5C, a state in which the substrate holding unit 120 as illustrated in FIG. 4 of the present embodiment adheres to the substrate 10 will be described.

도 5a는 핀(240)이 보유지지면(110X)보다 상방에서 기판(10)을 보유지지하고 있는 모습을 나타낸다. 즉, 기판 보유지지실(R1)에 기판(10)이 반입되기 전에, 핀 유닛(200)은 복수의 핀(240) 각각의 일단부가 이루는 면이, 보유지지면(110X)보다 Z방향에서 상방으로 오도록 제어한다. 또한, 제어부(720)는 전원(710)에 의한 전자 코일(360)에의 통전을 제어하여, 기판 보유지지 유닛(120)의 점착 패드(123)를 후퇴 상태로 하여 둔다. 그리고 그 상태에서 기판 보유지지실(R1)에 기판(10)을 반입함으로써, 도시된 상태로 된다. 도시한 상태에서는, 기판(10)의 높이는 보유지지면(110X)보다 상방이며, 양자는 당접하지 않는다. 이 때의 기판의 높이를 제1 높이로 한다.5A shows a state in which the pin 240 holds the substrate 10 above the holding surface 110X. That is, before the substrate 10 is carried into the substrate holding chamber R1, the pin unit 200 has a surface formed at one end of each of the plurality of pins 240 above the holding surface 110X in the Z direction. Control to come to. Further, the control unit 720 controls energization of the electromagnetic coil 360 by the power source 710 to place the adhesive pad 123 of the substrate holding unit 120 in a retracted state. Then, by carrying the substrate 10 into the substrate holding chamber R1 in that state, it is brought into the illustrated state. In the illustrated state, the height of the substrate 10 is above the holding surface 110X, and both do not abut. The height of the substrate at this time is taken as the first height.

도 5b에서는 핀 유닛(200)이 복수의 핀(240)을 하방으로 이동시킨다. 이에 의해, 기판(10)이 보유지지면(110X)에 당접한다. 이 때의 기판 높이를 제2 높이로 한다. 다만, 도시한 예에서는, 기판(10)이 물결치는 모양이 되어 있기 때문에, 해당 기판(10)의 일부가 보유지지면(110X)에 당접하지 않고, 기판(10)의 각도도 수평면에 대해 일부 기울어진, 보유지지면(110X1)과 평행하지 않는 상태로 되어 있다.In FIG. 5B, the pin unit 200 moves the plurality of pins 240 downward. Thereby, the substrate 10 comes into contact with the holding surface 110X. The height of the substrate at this time is taken as the second height. However, in the illustrated example, since the substrate 10 has a wavy shape, a part of the substrate 10 does not contact the holding surface 110X, and the angle of the substrate 10 is also partially relative to the horizontal plane. It is in a state which is inclined and is not parallel to the holding surface 110X1.

또한, 상향 증착(Deposition Up) 방식이 아니라, 예를 들면 측면 증착(Side Deposition) 방식을 사용하는 경우, 기판(10)은 승강 동작이 아니라 횡방향 이동을 행한다. 그 경우, 기판(10)은, 기판 이동 기구에 의해, 보유지지면과 당접하지 않는 제1 위치와, 보유지지면과 당접하는 제2 위치의 사이에서 이동한다. 이 때 기판 보유지지 유닛은, 기판이 상기 제1 위치에 있을 때에는, 점착면을 보유지지면보다 기판으로부터 떨어진 위치로 후퇴시킨다. 그리고, 기판 이동 기구가 기판을 보유지지면과 당접하지 않는 제1 위치로 이동시킨 후에, 점착면을 보유지지면까지 전진시켜, 기판과 점착면을 당접시킨다.In addition, when a side deposition method is used instead of a deposition up method, for example, the substrate 10 moves in a lateral direction rather than an elevating operation. In that case, the substrate 10 is moved between a first position not in contact with the holding surface and a second position in contact with the holding surface by the substrate moving mechanism. At this time, when the substrate is in the first position, the substrate holding unit retreats the adhesive surface to a position further from the substrate than the holding surface. Then, after the substrate moving mechanism moves the substrate to a first position not in contact with the holding surface, the adhesive surface is advanced to the holding surface, and the substrate and the adhesive surface are brought into contact with each other.

도 5c에서는, 제어부(720)가 전원(710)에 의한 전자 코일(360)에의 통전을 제어하여, 기판 보유지지 유닛(120)의 점착 패드(123)를 전진시켜 보유지지면(110X)보다 약간 돌출한 상태로 한다. 점착 패드(123)는, 탄성체(128)에 의해 보유지지면에 대해 기판 측으로 가압되고 있기 때문에 기판(10)에 당접한다. 이 때, 경동 기구에 의해 점착 패드(123)의 기울어짐이 허용되어, 기판(10)과 점착 패드(123)의 점착면이 대략 평행한 상태로 당접한다. 즉, 탄성체(128)는, 점착 패드(123)의 점착면을 기판(10) 측으로 가압하는 가압 수단으로서의 기능도 갖는다. 이러한 가압 수단으로서의 탄성체(128)가 점착 패드(123)를 요동 가능한 상태에서 기판 측으로 가압함으로써, 점착면과 기판의 당접 상태가 향상된다.In FIG. 5C, the control unit 720 controls the energization of the electronic coil 360 by the power source 710, and advances the adhesive pad 123 of the substrate holding unit 120 to be slightly more than the holding surface 110X. Make it protruding. The adhesive pad 123 comes into contact with the substrate 10 because it is pressed against the holding surface by the elastic body 128 to the substrate side. At this time, the inclination of the adhesive pad 123 is allowed by the tilting mechanism, and the adhesive surface of the substrate 10 and the adhesive pad 123 abuts in a substantially parallel state. That is, the elastic body 128 also functions as a pressing means for pressing the adhesive surface of the adhesive pad 123 toward the substrate 10. When the elastic body 128 as such a pressing means presses the adhesive pad 123 toward the substrate side in a swingable state, the contact state between the adhesive surface and the substrate is improved.

도 2 내지 도 5c에서 나타낸 바와 같이 본 실시예에서는, 점착 패드(123)가 보유지지면에 대해 진퇴 가능하고 경동 가능하게 되어 있다. 즉, 일체화된 축부(121) 등에 의해 점착 패드(123)를 보유지지면(110X)에 대해 진퇴 가능하게 하고, 또한 탄성체(128)에 의해 점착 패드(123)가 기판에 대해 가압된 상태로 함으로써, 기판(10)이 물결치는 모양이 되는 것 등에 의해 기판(10)의 위치별로 보유지지면(110X)과의 거리가 다른 경우라 하더라도, 점착 패드(123)가 기판(10)의 높이까지 도달하여 기판에 점착하는 것이 가능하게 된다. 축부(121) 등이나, 전자 코일 유닛(300), 전자 코일(360)은, 점착 패드(123)를 보유지지면에 대해 진퇴 가능하게 하는 진퇴 기구라고 생각할 수 있다.As shown in Figs. 2 to 5C, in this embodiment, the adhesive pad 123 is capable of moving forward and backward with respect to the holding surface and tiltable. That is, the adhesive pad 123 can be moved forward and backward with respect to the holding surface 110X by the integrated shaft portion 121, and the adhesive pad 123 is pressed against the substrate by the elastic body 128. , Even if the distance from the holding surface 110X is different for each position of the substrate 10 due to the wave shape of the substrate 10, the adhesive pad 123 reaches the height of the substrate 10 Thus, it becomes possible to adhere to the substrate. The shaft portion 121 and the like, the electromagnetic coil unit 300, and the electromagnetic coil 360 can be considered as an advancing and retreating mechanism that enables the adhesive pad 123 to advance and retreat with respect to the holding surface.

나아가, 경동 기구에 의해, 점착 패드(123)에 있어서의 점착면의 보유지지면(110X)에 대한 기울기(보유지지면에 평행한 면을 XY 평면으로 한 경우에, 임의의 XY 방향에 대한 기울기)의 변경도 허용되고 있다. 이와 같이 기판 보유지지 유닛(120)이 점착 패드(123)의 경동(머리흔들기 동작)을 허용하고 있음으로써, 기판(10)이 물결치는 모양이 되는 것 등에 의해 기판(10)의 각도가 수평면에 대해 기울어져 있는 경우라도, 점착 패드(123)의 점착면과 기판(10)이 당접할 때의 평행도가 향상되기 때문에, 점착력의 저하가 억제된다.Further, by the tilting mechanism, the inclination of the adhesive surface in the adhesive pad 123 with respect to the holding surface 110X (when the surface parallel to the holding surface is an XY plane, an inclination in an arbitrary XY direction) ) Is also permitted. In this way, since the substrate holding unit 120 allows the adhesive pad 123 to tilt (shaking the head), the angle of the substrate 10 is in a horizontal plane due to the substrate 10 becoming a wavy shape. Even when it is inclined to the opposite side, since the degree of parallelism between the adhesive surface of the adhesive pad 123 and the substrate 10 is improved, a decrease in adhesive force is suppressed.

또한, 도 5b에 나타낸 상태 이후, 핀(240)을 더욱 하방으로 이동시켜, 기판(10)을 기체 상에 재치한 후에, 도시하지 않은 압압부를 사용하여 기판(10)을 상방으로부터 압압하여 기판(10)을 평평하게 하는 압압 공정을 더 마련해도 된다. 기판(10)을 압압부(도시하지 않음)와 기체의 보유지지면(110X) 사이에 끼움으로써 기판(10)이 보다 평평한 상태가 되도록 교정할 수 있다. 그리고 나서, 도 5c에 나타낸 바와 같이 점착 패드(123)를 전진시킴으로써, 보다 양호하게 기판(10)을 보유지지시킬 수 있다. 또한, 이와 같이 하여 기판(10)을 교정한 후에 점착 패드(123)에 의해 보유지지시킨 경우라 하더라도, 시간이 경과함에 따라, 기판(10) 그 자체나 기판(10) 상에 형성된 각종 막의 내부 응력 등에 기인하여 기판(10)이 처지거나 기복이 생기거나 하는 경우가 있다. 이러한 경우라 하더라도, 본 실시형태에 의하면, 점착 패드(230)가 탄성체(128)에 의해 기판(10)에 접근하는(또는, 눌리는) 방향으로 가압되면서, 점착 패드(230)가 경동 가능하게 구성되어 있기 때문에, 점착 패드(230)는 기판(10)의 경동이나 들뜸(浮)에 추종하여 움직인다. 그 때문에, 본 실시형태에 의하면, 장시간에 걸쳐 안정적으로 기판(10)을 보유지지할 수 있다.In addition, after the state shown in FIG. 5B, after the pin 240 is further moved downward and the substrate 10 is placed on the substrate, the substrate 10 is pressed from the upper side using a pressing portion (not shown). (10) You may further provide a pressing step of flattening. The substrate 10 can be calibrated so that the substrate 10 is in a more flat state by sandwiching the substrate 10 between the pressing portion (not shown) and the holding surface 110X of the substrate. Then, by advancing the adhesive pad 123 as shown in FIG. 5C, the substrate 10 can be more favorably held. In addition, even if the substrate 10 is calibrated in this way and then held by the adhesive pad 123, as time elapses, the substrate 10 itself or the interior of various films formed on the substrate 10 The substrate 10 may sag or undulate due to stress or the like. Even in this case, according to the present embodiment, the adhesive pad 230 is configured to be tiltable while the adhesive pad 230 is pressed in a direction approaching (or pressed) to the substrate 10 by the elastic body 128 Therefore, the adhesive pad 230 moves in accordance with the tilt or lift of the substrate 10. Therefore, according to this embodiment, the substrate 10 can be stably held over a long period of time.

한편, 본 실시예에서는 기판 보유지지 부재(100)의 보유지지면(110X)이 수평면과 평행하며 연직 방향 상방을 향하도록 배치된 상태로 기판 보유지지 부재(100)에 기판(10)을 보유지지시키는 것으로 하였지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 기판 보유지지 부재(100)의 보유지지면(110X)이 수평면과 직교하도록 배치된 상태, 즉, 보유지지면(110X)이 수평 방향을 향하도록 배치된 상태로, 기판 보유지지 부재(100)에 기판(10)을 보유지지시키도록 해도 된다. 이 경우에는, 기판 이동 기구로서, 기판(10)의 주면(성막면)이 수평 방향을 향한 상태로 기판(10)을 지지하고, 그 상태로 기판(10)을 기판 보유지지 부재(100)의 보유지지면(110X)에 근접하거나 멀어지거나 할 수 있는 기구를 사용하면 된다. 이와 같은 기판 이동 기구로서는 종래 공지된 기구를 채용할 수 있지만, 예를 들면, 주면이 수평 방향을 향한 상태의 기판(10)의 상변 및 하변을 클램프하는 클램프부와, 클램프부를 수평 방향으로 이동시키는 액추에이터를 사용할 수 있다. 또는, 주면이 수평 방향을 향한 상태의 기판(10)의 성막면과는 반대측의 면을 정전 흡착하는 정전척과, 정전척을 수평 방향으로 이동시키는 액추에이터를 사용할 수도 있다.On the other hand, in this embodiment, the substrate 10 is held by the substrate holding member 100 in a state in which the holding surface 110X of the substrate holding member 100 is parallel to the horizontal plane and is arranged to face upward in the vertical direction. Although it was supposed to be made, the present invention is not limited to this. For example, in a state in which the holding surface 110X of the substrate holding member 100 is disposed so as to be orthogonal to the horizontal plane, that is, the state that the holding surface 110X is arranged facing the horizontal direction, the substrate holding member You may make it hold the board|substrate 10 by 100. In this case, as a substrate moving mechanism, the substrate 10 is supported with the main surface (film formation surface) of the substrate 10 facing the horizontal direction, and the substrate 10 is held in that state of the substrate holding member 100. A mechanism capable of approaching or moving away from the holding surface 110X may be used. As such a substrate moving mechanism, a conventionally known mechanism may be employed. For example, a clamp portion for clamping the upper and lower sides of the substrate 10 with the main surface facing the horizontal direction, and a clamp portion for moving the clamp portion in the horizontal direction. Actuators can be used. Alternatively, an electrostatic chuck that electrostatically adsorbs a surface on the opposite side of the film-forming surface of the substrate 10 with the main surface facing the horizontal direction, and an actuator that moves the electrostatic chuck in the horizontal direction may be used.

또한, 본 실시예에서는 기판 이동 기구로서 핀(240) 및 액추에이터를 구비한 핀 유닛(200)을 사용했지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다는 것은 전술한 바와 같다. 기판 이동 기구로서는, 전술한 예 이외에, 주면(성막면)이 수평면과 평행한 상태로 배치된 기판(10)의 주변부를 지지하는 1개 또는 복수의 지지부(수취 핑거)와, 이 지지부를 이동시키는 액추에이터를 사용할 수도 있다. 이 경우에는, 기판 보유지지 부재(100)의 기체는, 1개 또는 복수의 지지부의 각각에 대응한 위치에 절결부 등이 마련되어 있어, 지지부에 의한 지지면과 기판 보유지지 부재(100)의 보유지지면(110X)을 동일 평면 형상으로 위치시킬 수 있도록 하는 것이 바람직하다.In addition, in the present embodiment, the pin 240 and the pin unit 200 including the actuator are used as the substrate moving mechanism, but it is as described above that the present invention is not limited thereto. As the substrate moving mechanism, in addition to the above-described examples, one or more support portions (receiving fingers) supporting the peripheral portion of the substrate 10 arranged in a state in which the main surface (film formation surface) is parallel to the horizontal surface, and the support portion moving You can also use an actuator. In this case, the substrate of the substrate holding member 100 is provided with a cutout portion or the like at a position corresponding to each of one or a plurality of support portions, and the support surface and the substrate holding member 100 are held by the support portion. It is desirable to be able to position the support surface 110X in the same plane shape.

이상에 의해, 기판 보유지지 공정이 종료하고, 기판(10)을 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)는 기판 보유지지실(R1)로부터 반출된다.As described above, the substrate holding process is ended, and the substrate holding member 100 holding the substrate 10 is carried out from the substrate holding chamber R1.

<그 밖의 공정><Other processes>

<<반전 공정>><<reverse process>>

도 6의 (a), (b)는 반전 장치의 전체 개략 구성의 단면을 나타내고 있다. 반전 장치는 반전실(R2)을 구비하고 있다. 이 반전실(R2) 내는, 진공 분위기로 되도록 구성되어 있다. 반전 장치는, 기판 보유지지 부재(100)를 보유지지하는 보유지지 부재(610)와, 보유지지 부재(610)에 고정되는 회전축(620)과, 회전축(620)을 회전시키는 모터(630)와, 회전축(620)을 축 지지하는 지지 부재(640)를 구비하고 있다.6A and 6B show cross-sections of the overall schematic configuration of the reversing device. The inversion device is provided with the inversion chamber R2. The inside of the inversion chamber R2 is configured to be in a vacuum atmosphere. The reversing device includes a holding member 610 that holds the substrate holding member 100, a rotation shaft 620 fixed to the holding member 610, a motor 630 that rotates the rotation shaft 620, and , It is provided with a support member 640 for supporting the axis of the rotation shaft 620.

기판(10)을 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)는, 기판 보유지지실(R1)로부터 반출된 후에, 반전 장치(반전실(R2))로 보내진다. 그리고, 반전실(R2) 내에 반입된 기판 보유지지 부재(100)는 보유지지 부재(610)에 의해 보유지지된다(도 6의 (a) 참조). 그 후, 모터(630)에 의해, 기판 보유지지 부재(100)는 반전(180° 회전)된다. 이에 의해, 기판(10)은 기판 보유지지 부재(100)에 대해 연직 방향 하방을 향한 상태로 된다. 도 6의 (b)는 반전 후의 상태를 나타내고 있다. 본 실시형태에 의하면, 점착 패드(123)의 점착면과 기판(10)이 대략 평행하게 당접하고 있기 때문에, 점착력이 저하되지 않고 기판(10)을 보유지지할 수 있다. 또한, 반전 동작 전에 고정구(130)를 사용한 클램프 동작에 의해 기판을 기판 보유지지 부재(100)에 고정하는 것도 바람직하다. 기판 보유지지 부재(100)가 반전된 상태에서는, 스톱퍼부(124)가 기판 보유지지 유닛 보유지지 부재(150)의 보유지지부(152)에 부딪친 상태로 된다. 이에 의해, 기판(10)은 평행한 상태를 유지한 채 복수의 기판 보유지지 유닛(120)에 의해 보유지지된 상태로 된다.After the substrate holding member 100 holding the substrate 10 is taken out from the substrate holding chamber R1, it is sent to a reversing device (reversing chamber R2). Then, the substrate holding member 100 carried into the inversion chamber R2 is held by the holding member 610 (see Fig. 6A). Then, by the motor 630, the substrate holding member 100 is inverted (rotated by 180°). Thereby, the substrate 10 is brought into a state facing downward in the vertical direction with respect to the substrate holding member 100. 6B shows the state after reversal. According to this embodiment, since the adhesive surface of the adhesive pad 123 and the substrate 10 are in substantially parallel contact, the substrate 10 can be held without lowering the adhesive force. It is also preferable to fix the substrate to the substrate holding member 100 by a clamping operation using the fixture 130 before the reversing operation. In a state in which the substrate holding member 100 is inverted, the stopper portion 124 is brought into a state in which the stopper portion 124 hits the holding portion 152 of the substrate holding unit holding member 150. Thereby, the substrate 10 is in a state held by the plurality of substrate holding units 120 while maintaining a parallel state.

이상에 의해, 반전 공정이 종료하고, 기판(10)을 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)는 반전실(R2)로부터 반출된다.As described above, the inversion process is ended, and the substrate holding member 100 holding the substrate 10 is carried out from the inversion chamber R2.

<<마스크 보유지지 공정>><<mask holding process>>

기판(10)을 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)는, 반전실(R2)로부터 반출된 후에, 얼라인먼트 장치(얼라인먼트실)로 보내진다. 얼라인먼트실에서는, 기판(10)에 대해 위치맞춤(얼라인먼트)을 행한 상태로, 기판(10) 상에 마스크(20)가 보유지지된다. 또한, 마스크(20)를 보유지지하는 수법으로서는, 영구자석이나 전자석, 영전자석 등에 의한 자기력을 이용할 수도 있고, 클램프 등의 기계적인 보유지지 수단을 채용할 수도 있다. 물론, 이들을 병용할 수도 있다. 기판(10)에 대해 위치맞춤을 행한 상태로 마스크(20)를 보유지지시키기 위한 장치에 관해서는, 각종 공지 기술을 적용하면 되므로, 그 설명은 생략한다.After the substrate holding member 100 holding the substrate 10 is taken out from the inversion chamber R2, it is sent to an alignment device (alignment chamber). In the alignment chamber, the mask 20 is held on the substrate 10 in a state in which the substrate 10 is aligned (aligned). Further, as a method of holding the mask 20, magnetic force by a permanent magnet, an electromagnet, or a zero electromagnet may be used, or a mechanical holding means such as a clamp may be employed. Of course, these can also be used together. As for the apparatus for holding the mask 20 in the state of being aligned with the substrate 10, since various known techniques may be applied, the description thereof will be omitted.

이상에 의해, 마스크 보유지지 공정이 종료하고, 기판(10)과 마스크(20)를 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)는 얼라인먼트실로부터 반출된다.As described above, the mask holding process is finished, and the substrate holding member 100 holding the substrate 10 and the mask 20 is carried out from the alignment chamber.

<<성막 공정>><<film forming process>>

도 7은 성막 장치(본 실시예에 있어서는 증착 장치)의 전체 개략 구성의 단면을 나타내고 있다. 성막 장치는 성막실(제2 챔버)(R3)을 구비하고 있다. 이 성막실(R3) 내는, 진공 분위기로 되도록 구성되어 있다. 또한, 성막 장치는 성막원으로서의 증발원(30)을 구비하고 있다.7 is a cross-sectional view of an overall schematic configuration of a film forming apparatus (a vapor deposition apparatus in this embodiment). The film forming apparatus is provided with a film forming chamber (second chamber) R3. The inside of this film formation chamber R3 is comprised so that it may become a vacuum atmosphere. Further, the film forming apparatus is provided with an evaporation source 30 as a film forming source.

기판(10)과 마스크(20)를 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)는, 얼라인먼트실로부터 반출된 후에, 성막 장치(성막실(R3))로 보내진다. 성막실(R3)에는 성막을 행하기 위한 성막원이 배치되어 있고, 기판 보유지지 부재(100)에 보유지지된 기판(10) 상에, 마스크(20)를 통해 성막이 행해진다. 본 실시예에 있어서는, 진공 증착에 의한 성막(증착)이 행해진다. 구체적으로는, 성막원으로서의 증발원(30)으로부터 성막 재료가 증발 또는 승화하고, 기판(10) 상에 성막 재료가 증착함으로써 기판(10) 상에 박막이 형성된다. 증발원(30)에 대해서는, 공지 기술이므로, 그 상세한 설명은 생략한다. 예를 들면, 증발원(30)은, 도가니 등의 성막 재료를 수용하는 용기와, 용기를 가열하는 가열 장치 등에 의해 구성할 수 있다. 또한, 성막실(R3)은 복수의 챔버로 구성되고, 각각의 챔버에 상이한 성막 재료를 성막하기 위한 성막원이 각각 배치되어 있어도 된다. 그리고, 기판(10)을 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)가 각각의 챔버 내를 순차 반송됨으로써, 각각의 성막 재료에 의한 성막이 순차 이루어져도 된다. 또한, 성막원은 증발원(30)에 한정되는 것이 아니고, 성막원은 스퍼터링에 의해 성막을 행하기 위한 스퍼터링 캐소드여도 된다.The substrate holding member 100 holding the substrate 10 and the mask 20 is taken out from the alignment chamber and then sent to a film forming apparatus (film forming chamber R3). A film formation source for performing film formation is arranged in the film formation chamber R3, and film formation is performed on the substrate 10 held by the substrate holding member 100 through the mask 20. In this embodiment, film formation (deposition) by vacuum evaporation is performed. Specifically, a film-forming material is evaporated or sublimated from the evaporation source 30 as a film-forming source, and the film-forming material is deposited on the substrate 10 to form a thin film on the substrate 10. Since the evaporation source 30 is a known technique, a detailed description thereof will be omitted. For example, the evaporation source 30 can be constituted by a container for accommodating a film forming material such as a crucible, a heating device for heating the container, or the like. Further, the film formation chamber R3 is constituted by a plurality of chambers, and a film formation source for depositing a different film formation material may be disposed in each of the chambers. Then, the substrate holding member 100 holding the substrate 10 is sequentially conveyed in each chamber, so that the film formation using each film forming material may be sequentially performed. In addition, the film formation source is not limited to the evaporation source 30, and the film formation source may be a sputtering cathode for performing film formation by sputtering.

이상에 의해, 성막 공정이 종료한다. 그 후, 기판(10)으로부터 마스크(20)가 떼어내진다. 기판(10)으로부터 마스크(20)를 떼어내는 장치 등에 대해서는, 공지 기술이므로, 그 설명은 생략한다. 또한, 마스크(20)가 떼어내진 후에, 다른 마스크를 사용하여 다른 성막 재료에 의한 성막이 이루어지는 공정이 반복되는 경우도 있다. 그리고, 모든 성막 공정이 완료되고, 마스크가 떼어내진 후에, 기판 보유지지 부재(100)로부터 기판(10)이 박리되는 처리가 실시된다.By the above, the film forming process is finished. After that, the mask 20 is removed from the substrate 10. A device or the like for removing the mask 20 from the substrate 10 is a known technique, and its description is omitted. Further, after the mask 20 is removed, the process of forming a film using another film forming material using another mask may be repeated. Then, after all the film formation processes are completed and the mask is removed, a process in which the substrate 10 is peeled from the substrate holding member 100 is performed.

<<기판 박리 공정>><<substrate peeling process>>

도 8의 (a), (b)는 기판 박리 장치의 전체 개략 구성의 단면을 나타내고 있다. 기판 박리 장치는 기판 박리실(R4)을 구비하고 있다. 이 기판 박리실(R4) 내는 진공 분위기로 되도록 구성되어 있다. 기판 박리 장치는, 기판 보유지지 장치와 마찬가지로, 기판(10)을 상하 이동시키기 위한 핀 유닛(200)(기판 이동 기구)과, 전자 코일 유닛(300)(제1 점착 부재 구동 기구)과, 기판 보유지지 부재(100)를 지지하는 지지대(500)를 구비하고 있다. 이들 구성 자체에 대해서는, 상기와 같으므로, 그 설명은 생략한다.8A and 8B show cross-sections of the overall schematic configuration of the substrate peeling apparatus. The substrate peeling apparatus is provided with the substrate peeling chamber R4. The inside of the substrate peeling chamber R4 is configured to be in a vacuum atmosphere. The substrate peeling device includes a pin unit 200 (substrate moving mechanism) for vertically moving the substrate 10, an electromagnetic coil unit 300 (first adhesive member driving mechanism), and a substrate, similar to the substrate holding device. It is provided with a support (500) for supporting the holding member (100). These configurations themselves are the same as those described above, and the description thereof will be omitted.

그리고, 기판 박리 장치는, 전자 코일 유닛(300)을 지지하는 지지대(370)와, 지지대(370)를 보유지지면(110X)과 평행하게 이동시킴으로써 전자 코일 유닛(300)을 보유지지면(110X)과 평행하게 이동시키는 것을 가능하게 하는 구동 장치(380)(제2 점착 부재 구동 기구)를 구비하고 있다. 또한, 구동 장치(380)에 관해서는, 볼 나사 기구, 랙 앤드 피니언 방식에 의한 액추에이터 등의 각종 공지 기술을 적용할 수 있다. 또한, 도시한 예에서는, 복수의 전자 코일 유닛(300)이 설치되어 있고, 지지대(370)는 모든 전자 코일 유닛(300)을 지지하도록 구성되어 있다.In addition, the substrate peeling apparatus moves the support 370 for supporting the electromagnetic coil unit 300 and the support 370 in parallel with the holding surface 110X to hold the electromagnetic coil unit 300 on the holding surface 110X. ) And a drive device 380 (a second adhesive member drive mechanism) capable of being moved in parallel. In addition, for the drive device 380, various known techniques such as a ball screw mechanism and an actuator using a rack-and-pinion method can be applied. Further, in the illustrated example, a plurality of electromagnetic coil units 300 are provided, and the support 370 is configured to support all of the electromagnetic coil units 300.

마스크가 떼어내진 후에, 기판(10)을 보유지지한 기판 보유지지 부재(100)는 기판 박리실(R4)로 반입된다. 그리고, 이 기판 보유지지 부재(100)는 지지대(500)에 지지된다(고정된다). 도 8의 (a)는 기판 보유지지 부재(100)가 지지대(500)에 지지된 상태를 나타내고 있다. 그 후, 전자 코일(360)에 전류를 흘림으로써, 전자 코일(360)의 내부로 영구자석(125)을 끌어들이는 전자력을 발생시킨다. 본 실시예에서는, 점착 패드(123)의 점착력이 높기 때문에, 이 전자력만으로는, 점착 패드(123)가 기판(10)으로부터 벗겨지지 않는다.After the mask is removed, the substrate holding member 100 holding the substrate 10 is carried into the substrate peeling chamber R4. Then, this substrate holding member 100 is supported (fixed) by the support 500. FIG. 8A shows a state in which the substrate holding member 100 is supported by the support 500. Thereafter, by passing a current through the electromagnetic coil 360, an electromagnetic force that draws the permanent magnet 125 into the electromagnetic coil 360 is generated. In this embodiment, since the adhesive force of the adhesive pad 123 is high, the adhesive pad 123 is not peeled off from the substrate 10 only by this electromagnetic force.

그리고, 상기 전자력을 발생시킨 상태에서, 구동 장치(380)에 의해, 지지대(370)를 이동시킴으로써, 모든 전자 코일(360)을, 동시에 보유지지면(110X)과 평행하게 이동시킨다. 이에 의해, 기판 보유지지 유닛(120)에 있어서의 영구자석(125)이 보유지지면(110X)과 평행한 방향으로 잡아당겨져서, 축부(121)가 조금 기움으로써, 점착 패드(123)도 기울고, 기판(10)으로부터 벗겨진 상태가 된다. 그 후, 탄성체(128)의 탄성 반발력에 대항하여, 일체화된 축부(121) 등은, 전자력에 의해 연직 방향 하방으로 이동함으로써, 점착 패드(123)는 기판(10)으로부터 멀어진 상태로 된다. 또한, 본 실시예에서는, 하나의 지지대(370)와 하나의 구동 장치(380)에 의해, 동시에 모든 전자 코일(360)을 이동시키는 경우를 나타내었다. 그러나, 본 발명은 그러한 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 복수의 전자 코일(360)에 대해 복수 세트로 나누고, 각 세트에 대해 각각 지지대(370)와 구동 장치(380)를 설치할 수도 있다. 이 경우, 모든 세트에 대해, 동시에 전자 코일(360)을 이동시켜도 되고, 세트별로 시기를 나누어서 전자 코일(360)을 이동시켜도 된다. 각 세트에는 하나 이상의 전자 코일(360)이 존재하면 된다. 또한, 각 세트에 복수의 전자 코일(360)이 존재하는 경우에 있어서는, 하나의 전자 코일(360)에 대해, 개별적으로 모터(310) 등의 구동 기구가 구비되는 구성을 채용할 수도 있고, 상기와 같이, 하나의 구동 기구에 의해, 복수의 전자 코일(360)을 동시에 구동시키는 구성을 채용할 수도 있다. 따라서, 각 세트에 대해서는, 하나의 전자 코일 유닛(300)만(다만, 전자 코일(360)은 복수 설치됨)이 구비되는 구성도 채용할 수 있다. 또한, 기판 박리 장치에는, 하나의 전자 코일 유닛(300)만(다만, 전자 코일(360)은 복수 설치됨)이 구비되는 구성도 채용할 수 있다.In the state in which the electromagnetic force is generated, by moving the support base 370 by the driving device 380, all the electromagnetic coils 360 are simultaneously moved in parallel with the holding surface 110X. Thereby, the permanent magnet 125 in the substrate holding unit 120 is pulled in a direction parallel to the holding surface 110X, and the shaft portion 121 is slightly inclined, so that the adhesive pad 123 is also inclined. , It is in a state peeled off from the substrate 10. Thereafter, against the elastic repulsion force of the elastic body 128, the integrated shaft portion 121 or the like moves downward in the vertical direction by electromagnetic force, so that the adhesive pad 123 is moved away from the substrate 10. In addition, in the present embodiment, a case in which all the electromagnetic coils 360 are simultaneously moved by one support 370 and one driving device 380 is illustrated. However, the present invention is not limited to such a configuration. For example, a plurality of electromagnetic coils 360 may be divided into a plurality of sets, and a support 370 and a driving device 380 may be provided for each set. In this case, for all sets, the electromagnetic coil 360 may be moved at the same time, or the electromagnetic coil 360 may be moved by dividing the timing for each set. One or more electromagnetic coils 360 may be present in each set. In addition, in the case where a plurality of electromagnetic coils 360 exist in each set, a configuration in which a drive mechanism such as a motor 310 is individually provided for one electromagnetic coil 360 may be adopted, and the above As described above, a configuration in which a plurality of electromagnetic coils 360 are simultaneously driven by a single drive mechanism may be employed. Therefore, for each set, a configuration in which only one electromagnetic coil unit 300 (however, a plurality of electromagnetic coils 360 are provided) may be employed. In addition, a configuration in which only one electromagnetic coil unit 300 (however, a plurality of electromagnetic coils 360 are provided) may be adopted in the substrate peeling apparatus.

점착 패드(123)가 기판(10)으로부터 떨어진 후에, 고정구(130)에 의한 기판(10)의 고정이 해제된다. 도 8의 (b)는 지지대(370)가 이동하고, 또한 고정구(130)에 의한 기판(10)의 고정이 해제된 상태를 나타내고 있다. 또한, 고정구(130)에 의한 기판(10)의 고정의 해제 동작에 대해서는, 지지대(370)를 이동시키기 전에 행하도록 제어해도 된다. 그 후, 모터(210)에 의해, 핀(240)이 연직 방향 상방으로 이동하고, 기판(10)은 복수의 핀(240)에 의해 들어올려져, 기판 보유지지 부재(100)로부터 이격된다. 그 후, 기판(10)은 기판 박리실(R4)로부터 반출된다.After the adhesive pad 123 is separated from the substrate 10, the fixing of the substrate 10 by the fixture 130 is released. FIG. 8B shows a state in which the support 370 is moved and the fixing of the substrate 10 by the fixture 130 is released. Moreover, you may control so that it may perform before moving the support base 370 about the release|release operation of the fixation of the board|substrate 10 by the fixture 130. After that, by the motor 210, the pin 240 moves upward in the vertical direction, and the substrate 10 is lifted up by the plurality of pins 240 and separated from the substrate holding member 100. After that, the substrate 10 is carried out from the substrate peeling chamber R4.

또한, 본 실시예에서는 기판 보유지지 부재(100)의 보유지지면(110X)이 수평면과 평행하며 연직 방향 상방을 향하도록 배치된 상태로 기판 보유지지 부재(100)로부터 기판(10)을 박리시키는 것으로 하였지만, 본 발명은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 기판 보유지지 부재(100)의 보유지지면(110X)이 수평면과 직교하도록 배치된 상태, 즉, 보유지지면(110X)이 수평 방향을 향하도록 배치된 상태로, 기판 보유지지 부재(100)로부터 기판(10)을 박리시키도록 해도 된다. 또한, 기판 이동 기구로서는, 기판 보유지지 공정의 설명에서 기술한 바와 같이, 종래 공지의 다른 기구를 사용할 수 있다는 것은 말할 필요도 없다.In addition, in this embodiment, the substrate 10 is peeled off from the substrate holding member 100 in a state in which the holding surface 110X of the substrate holding member 100 is parallel to the horizontal plane and is arranged to face upward in the vertical direction. Although it was supposed, the present invention is not limited to this. For example, in a state in which the holding surface 110X of the substrate holding member 100 is disposed so as to be orthogonal to the horizontal plane, that is, the state that the holding surface 110X is arranged facing the horizontal direction, the substrate holding member You may make the board|substrate 10 peel from 100. In addition, it goes without saying that as the substrate moving mechanism, as described in the description of the substrate holding step, other conventionally known mechanisms can be used.

[실시형태 2][Embodiment 2]

도 9 및 도 10을 참조하여, 기판 보유지지 부재(100)의 다른 구성에 대해 설명한다. 실시형태 1과 동일한 구성에는 동일한 부호를 부여하고, 설명을 생략한다.9 and 10, another configuration of the substrate holding member 100 will be described. The same reference numerals are assigned to the same configurations as those of the first embodiment, and the description is omitted.

도 9의 (a)는 본 실시형태의 기판 보유지지 부재(100)의 점착 패드(123)의 점착면이 보유지지면(110X)보다 상방으로 돌출하고 있는 전진 상태이며, 도 9의 (b)는 해당 점착면이 보유지지면(110X)보다 하방으로 후퇴하고 있는 후퇴 상태이다. 실시형태 1의 점착 패드(123)와의 상이점을 설명한다. 도 9의 (c)는 Z 방향 상방으로부터 점착 패드(123)를 본 평면도이다.FIG. 9(a) is an advanced state in which the adhesive surface of the adhesive pad 123 of the substrate holding member 100 of the present embodiment protrudes upward from the holding surface 110X, and FIG. 9(b) Is a retreat state in which the corresponding adhesive surface is retreating downward from the holding surface 110X. The difference from the adhesive pad 123 of the first embodiment will be described. 9C is a plan view of the adhesive pad 123 viewed from the upper direction in the Z direction.

도 9의 (a) 내지 도 9의 (c)에 나타낸 바와 같이, 본 실시형태의 지지 플랜지부(122)는 중앙부에 축부(121)가 삽통하는 구멍이 개구된 저부를 갖는 원통 용기 형상으로 구성되어 있고, 점착 패드(123)의 점착 재료가 해당 원통 용기의 벽의 상부에 배치되어 점착면을 구성하고 있다. 삽통 구멍을 통해 축부(121)를 볼트(129)가 고정함으로써, 기판 보유지지 부재(100)의 상하가 반전되었을 때라도 점착 패드(123)가 탈락하는 경우가 없다.9(a) to 9(c), the support flange part 122 of the present embodiment is configured in a cylindrical container shape having a bottom portion in which a hole through which the shaft portion 121 is inserted is opened in the central portion. And the adhesive material of the adhesive pad 123 is disposed on the upper portion of the wall of the cylindrical container to constitute the adhesive surface. Since the bolt 129 fixes the shaft portion 121 through the insertion hole, the adhesive pad 123 does not come off even when the top and bottom of the substrate holding member 100 is reversed.

본 실시형태에서도, 점착 패드(123)가 보유지지면(110X)으로부터 하방으로 후퇴한 상태로 기판(10)이 반입되고, 핀(240)에 의해 보유지지면(110X)보다 상방에서 지지된다. 그리고, 핀(240)이 하강하여, 기판(10)이 보유지지면(110X)에 재치된다. 그 후, 제어부(720)의 제어에 의해 전자 코일(360)이 동작하여 기판 보유지지 유닛(120)을 상방으로 이동시킴으로써, 점착 패드(123)가 기판(10)에 당접한다.In this embodiment as well, the substrate 10 is carried in with the adhesive pad 123 retracted downward from the holding surface 110X, and is supported above the holding surface 110X by the pins 240. Then, the pin 240 is lowered, and the substrate 10 is placed on the holding surface 110X. Thereafter, the electronic coil 360 operates under the control of the controller 720 to move the substrate holding unit 120 upward, so that the adhesive pad 123 contacts the substrate 10.

도 10의 (a)는, 기판(10)이 대략 수평으로 보유지지면(110X)에 재치되었을 때의 당접 상태를 나타낸다. 한편, 도 10의 (b)는, 기판(10)이 물결치는 모양으로 되어 있기 때문에 보유지지면(110X)에 대해 어떤 각도를 가지고 재치된 모습을 나타낸다. 도시한 바와 같이, 탄성체(128)에 의해 가압된 지지 플랜지부(122)가 기판(10)의 기울기에 따라 경동 가능한 구성으로 되어 있기 때문에, 점착 패드(123)의 점착면과 기판(10)이 대략 평행하게 당접할 수 있다.Fig. 10(a) shows an abutting state when the substrate 10 is placed on the holding surface 110X substantially horizontally. On the other hand, Fig. 10B shows a state in which the substrate 10 is placed in a wave shape with respect to the holding surface 110X at a certain angle. As shown, since the support flange portion 122 pressed by the elastic body 128 is configured to tilt according to the inclination of the substrate 10, the adhesive surface of the adhesive pad 123 and the substrate 10 It can be touched roughly in parallel.

실시형태 2에 있어서도, 점착 패드(123)의 점착면이 보유지지면에 대해 진퇴 가능하며 경동 가능함으로써, 기판(10)과 점착 패드(123)의 당접 면적이 증가하고, 점착력의 저하를 억제할 수 있다.Also in the second embodiment, since the adhesive surface of the adhesive pad 123 can advance and retreat with respect to the holding surface and can be tilted, the contact area between the substrate 10 and the adhesive pad 123 increases, and a decrease in adhesive force can be suppressed. I can.

[실시형태 3][Embodiment 3]

본 실시형태에서는, 유기 EL 디스플레이 등을 제조하기 위한 전자 디바이스 제조 장치에, 상기 각 실시형태의 성막 장치를 적용하는 방법에 대해 설명한다. 도 11은 전자 디바이스의 제조 장치(500)의 일부를 모식적으로 나타내는 평면도이다. 전자 디바이스의 제조 장치(500)는, 전자 디바이스 제조에 있어서, 기판의 전처리로부터 성막·봉지까지의 공정을 자동으로 행한다.In this embodiment, a method of applying the film forming apparatus of each of the above embodiments to an electronic device manufacturing apparatus for manufacturing an organic EL display or the like will be described. 11 is a plan view schematically showing a part of an electronic device manufacturing apparatus 500. The electronic device manufacturing apparatus 500 automatically performs steps from pretreatment of a substrate to film formation and sealing in electronic device manufacturing.

한편, 도시한 바와 같은, 반송실의 주위에 복수의 처리실을 배치한 클러스터형의 구성 대신에, 복수의 처리실을 공정 순서대로 배치한 인라인형의 구성을 채용해도 된다. 인라인형의 구성을 채용하는 경우에, 기판을 보유지지하는 기판 보유지지 장치를 반송 캐리어에 설치해 두고, 각 처리실의 사이를 이동시켜도 된다. 그 경우에, 전자 디바이스 제조 장치로 반입된 기판을, 피성막면이 위를 향한 상태에서 반송 캐리어에 보유지지시킨 후, 기판 상에 마스크를 얼라인먼트하면서 설치하고 나서, 반송 캐리어를 상하 반전시켜도 된다. 이에 의해, 피성막면이 아래를 향한 상태로 된 기판을 반송 캐리어마다 성막실로 반입하고, 성막 재료를 사용한 성막이 행해진다.On the other hand, instead of the cluster-type configuration in which a plurality of processing chambers are arranged around the conveyance chamber as shown in the figure, an in-line configuration in which a plurality of processing chambers are arranged in sequence of steps may be employed. In the case of adopting an in-line configuration, a substrate holding device for holding a substrate may be provided on the transfer carrier, and may be moved between the processing chambers. In that case, after holding the board|substrate carried in to the electronic device manufacturing apparatus by the conveyance carrier with the film-forming surface facing upward, after installing it while aligning a mask on the board|substrate, you may turn the conveyance carrier upside-down. Thereby, the substrate with the film-forming surface facing downward is carried into the film-forming chamber for each transport carrier, and film-forming using the film-forming material is performed.

반송실(510)의 주위에는, 전처리실(511), 유기 처리실(512), 금속 처리실(513), 측정실(514)이 방사상으로 배치되어 있다. 한편, 도 11은 간략화한 도면이며, 처리실의 종류나 수는 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층, 전자 주입층 등의 처리실을 설치해도 되고, R(적), G(녹), B(청) 등의 색별로 발광층의 처리실을 설치해도 된다. 반송실(510)에는, 기판(10)을 보유지지하여 반송하는 반송 로봇(519)이 설치되어 있다. 반송 로봇(519)은, 예를 들면, 다관절 암에, 기판을 보유지지하는 로봇 핸드가 부착된 구조를 가지는 로봇이며, 각 처리실 및 측정실로의 기판의 반입과 반출을 행한다.Around the conveyance chamber 510, a pretreatment chamber 511, an organic processing chamber 512, a metal processing chamber 513, and a measurement chamber 514 are arranged radially. On the other hand, Fig. 11 is a simplified diagram, and the type and number of processing chambers are not limited thereto. For example, a processing chamber such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer may be provided, or a processing chamber of a light emitting layer for each color such as R (red), G (green), and B (blue) may be provided. . In the transfer chamber 510, a transfer robot 519 that holds and transfers the substrate 10 is provided. The transfer robot 519 is, for example, a robot having a structure in which a robot hand that holds a substrate is attached to an articulated arm, and carries the substrate into and out of each processing chamber and measurement chamber.

전자 디바이스의 제조 프로세스는 개략적으로 다음과 같다. 먼저, 기판(10)이 전처리실(511)로 반입되어, 세정 등의 전처리가 행해진다. 그 후, 기판은 성막 재료의 종류에 따라, 반송 로봇(519)에 의해 유기 처리실(512)이나 금속 처리실(513)로 반송된다. 각 처리실에서는, 증발원으로부터의 증착이나 스퍼터링에 의해 증착 재료가 기판에 부착되어 막이 형성된다. 이어서, 기판(10)이 측정실(514)로 반입된다. 측정실 내에서는, 막두께나 성막의 균일성 등이 측정된다.The manufacturing process of the electronic device is schematically as follows. First, the substrate 10 is carried into the pretreatment chamber 511, and pretreatment such as cleaning is performed. After that, the substrate is transported to the organic processing chamber 512 or the metal processing chamber 513 by the conveying robot 519 according to the type of the film forming material. In each processing chamber, a vapor deposition material is adhered to the substrate by vapor deposition or sputtering from an evaporation source to form a film. Subsequently, the substrate 10 is carried into the measurement chamber 514. In the measurement chamber, the film thickness, uniformity of film formation, and the like are measured.

성막을 행하는 각 처리실에는 각각 성막 장치가 설치되어 있다. 반송 로봇과의 기판의 주고받음, 기판과 마스크의 상대 위치의 조정(얼라인먼트), 마스크 상으로의 기판의 고정, 성막(증착) 등의 일련의 프로세스는, 성막 장치에 의해 자동으로 행해진다. 또한, 측정실에서의 측정 공정도 자동화가 가능하다. 나아가 측정 후의 처리로서, 건조제나 접착제를 도포한 봉지 유리에 의한 봉지 처리가 행해져도 된다. 완성된 패널은 제조 장치로부터 자동 반출되어, 다음 공정(예를 들면, 디스플레이 패널의 어셈블리 공정)으로 공급된다. 다만, 상기 구성은 일례이며, 본 발명의 성막 장치나 그것을 포함한 전자 디바이스 제조 장치의 구성을 한정하는 것이 아니다.A film forming apparatus is provided in each processing chamber in which a film is formed. A series of processes such as transfer of the substrate to and from the transfer robot, adjustment (alignment) of the relative position of the substrate and the mask, fixing of the substrate onto the mask, and film formation (deposition) are performed automatically by the film forming apparatus. In addition, it is possible to automate the measurement process in the measurement room. Further, as the treatment after the measurement, a sealing treatment with a sealing glass coated with a drying agent or an adhesive may be performed. The completed panel is automatically taken out of the manufacturing apparatus and supplied to the next process (for example, the assembly process of the display panel). However, the above configuration is only an example, and does not limit the configuration of the film forming apparatus of the present invention or the electronic device manufacturing apparatus including the same.

이상의 전자 디바이스 제조 장치나, 그것을 사용한 전자 디바이스 제조 방법에 의하면, 성막 장치에 있어서 기판의 온도 조절이 양호하게 행해지고 있으므로, 양호하게 성막이 행해진다. 그 결과, 품질이 좋은 전자 디바이스를 제조 가능하게 된다.According to the electronic device manufacturing apparatus described above and the electronic device manufacturing method using the same, since the temperature control of the substrate is satisfactorily performed in the film forming apparatus, film formation is satisfactorily performed. As a result, it becomes possible to manufacture an electronic device of good quality.

[실시형태 4][Embodiment 4]

<유기 전자 디바이스의 제조 방법><Method of manufacturing organic electronic device>

본 실시형태에서는, 증발원 장치를 구비하는 성막 장치를 사용한 유기 전자 디바이스의 제조 방법의 일례를 설명한다. 이하, 유기 전자 디바이스의 예로서 유기 EL 표시 장치의 구성 및 제조 방법을 예시한다. 먼저, 제조하는 유기 EL 표시 장치에 대해 설명한다. 도 12의 (a)는 유기 EL 표시 장치(60)의 전체 도면, 도 12의 (b)는 하나의 화소의 단면 구조를 나타내고 있다.In this embodiment, an example of a method of manufacturing an organic electronic device using a film forming apparatus provided with an evaporation source device will be described. Hereinafter, the configuration and manufacturing method of an organic EL display device will be exemplified as an example of an organic electronic device. First, an organic EL display device to be manufactured will be described. FIG. 12A is an overall view of the organic EL display device 60, and FIG. 12B shows a cross-sectional structure of one pixel.

도 12의 (a)에 나타내는 바와 같이, 유기 EL 표시 장치(60)의 표시 영역(61)에는, 발광 소자를 복수 구비하는 화소(62)가 매트릭스 형상으로 복수 배치되어 있다. 발광 소자의 각각은, 한 쌍의 전극 사이에 끼워진 유기층을 구비한 구조를 가지고 있다. 한편, 여기서 말하는 화소란, 표시 영역(61)에서 원하는 색의 표시를 가능하게 하는 최소 단위를 가리키고 있다. 본 도면의 유기 EL 표시 장치의 경우, 서로 다른 발광을 나타내는 제1 발광 소자(62R), 제2 발광 소자(62G), 제3 발광 소자(62B)의 조합에 의해 화소(62)가 구성되어 있다. 화소(62)는 적색 발광 소자와 녹색 발광 소자와 청색 발광 소자의 조합으로 구성되는 경우가 많지만, 황색 발광 소자와 시안 발광 소자와 백색 발광 소자의 조합이어도 되고, 적어도 1색 이상이라면 특별히 제한되지 않는다. 또한, 각 발광 소자는 복수의 발광층이 적층되어 구성되어 있어도 된다.As shown in Fig. 12A, in the display area 61 of the organic EL display device 60, a plurality of pixels 62 including a plurality of light emitting elements are arranged in a matrix shape. Each of the light-emitting elements has a structure including an organic layer sandwiched between a pair of electrodes. On the other hand, the pixel referred to herein refers to a minimum unit capable of displaying a desired color in the display area 61. In the case of the organic EL display device of this figure, a pixel 62 is formed by a combination of a first light-emitting element 62R, a second light-emitting element 62G, and a third light-emitting element 62B that exhibit different light emission. . The pixel 62 is often composed of a combination of a red light-emitting element, a green light-emitting element, and a blue light-emitting element, but may be a combination of a yellow light-emitting element, a cyan light-emitting element, and a white light-emitting element, and is not particularly limited if it is at least one color. . Further, each light-emitting element may be configured by stacking a plurality of light-emitting layers.

또한, 화소(62)를 동일한 발광을 나타내는 복수의 발광 소자로 구성하고, 각각의 발광 소자에 대응하도록 복수의 다른 색변환 소자가 패턴 형상으로 배치된 컬러 필터를 사용하여, 1개의 화소가 표시 영역(61)에서 원하는 색의 표시를 가능하게 해도 된다. 예를 들면, 화소(62)를 적어도 3개의 백색 발광 소자로 구성하고, 각각의 발광 소자에 대응하도록, 적색, 녹색, 청색의 각 색변환 소자가 배열된 컬러 필터를 사용해도 된다. 또는, 화소(62)를 적어도 3개의 청색 발광 소자로 구성하고, 각각의 발광 소자에 대응하도록, 적색, 녹색, 무색의 각 색변환 소자가 배열된 컬러 필터를 사용해도 된다. 후자의 경우에는, 컬러 필터를 구성하는 재료로서 양자점(Quantum Dot: QD) 재료를 사용한 양자점 컬러 필터(QD-CF)를 사용함으로써, 양자점 컬러 필터를 사용하지 않는 통상의 유기 EL 표시 장치보다 표시 색역을 넓게 할 수 있다.In addition, the pixel 62 is composed of a plurality of light-emitting elements that exhibit the same light emission, and a color filter in which a plurality of different color conversion elements are arranged in a pattern shape to correspond to each light-emitting element is used, so that one pixel is a display area. In (61), a desired color may be displayed. For example, the pixel 62 may be constituted by at least three white light-emitting elements, and a color filter in which red, green, and blue color conversion elements are arranged to correspond to the respective light-emitting elements may be used. Alternatively, a color filter in which the pixel 62 is composed of at least three blue light-emitting elements and each of red, green, and colorless color conversion elements is arranged to correspond to each light-emitting element may be used. In the latter case, by using a quantum dot color filter (QD-CF) using a quantum dot (QD) material as a material constituting the color filter, the display color gamut is higher than that of a conventional organic EL display device that does not use a quantum dot color filter. Can be made wider.

도 12의 (b)는 도 12의 (a)의 A-B선에 있어서의 부분 단면 모식도이다. 화소(62)는, 기판(10) 상에, 제1 전극(양극)(64)과, 정공 수송층(65)과, 발광층(66R, 66G, 66B) 중 어느 하나와, 전자 수송층(67)과, 제2 전극(음극)(68)을 구비하는 유기 EL 소자를 가지고 있다. 이들 중 정공 수송층(65), 발광층(66R, 66G, 66B), 전자 수송층(67)이 유기층에 해당한다. 또한, 본 실시형태에서는, 발광층(66R)은 적색을 발하는 유기 EL 층, 발광층(66G)은 녹색을 발하는 유기 EL 층, 발광층(66B)는 청색을 발하는 유기 EL 층이다. 또한, 전술한 바와 같이 컬러 필터 또는 양자점 컬러 필터를 사용하는 경우에는, 각 발광층의 광 출사측, 즉, 도 12의 (b)의 상부 또는 하부에 컬러 필터 또는 양자점 컬러 필터가 배치되지만, 도시는 생략한다.Fig. 12(b) is a schematic partial cross-sectional view taken along line A-B in Fig. 12(a). On the substrate 10, the pixel 62 includes a first electrode (anode) 64, a hole transport layer 65, a light emitting layer 66R, 66G, 66B, an electron transport layer 67, and , An organic EL element including a second electrode (cathode) 68. Among these, the hole transport layer 65, the light emitting layers 66R, 66G, and 66B, and the electron transport layer 67 correspond to the organic layer. In addition, in this embodiment, the light emitting layer 66R is an organic EL layer emitting red, the light emitting layer 66G is an organic EL layer emitting green, and the light emitting layer 66B is an organic EL layer emitting blue. In addition, in the case of using a color filter or a quantum dot color filter as described above, a color filter or a quantum dot color filter is disposed on the light emitting side of each light emitting layer, that is, on the upper or lower portion of FIG. Omit it.

발광층(66R, 66G, 66B)은 각각 적색, 녹색, 청색을 발하는 발광 소자(유기 EL 소자라고 기술하는 경우도 있음)에 대응하는 패턴으로 형성되어 있다. 또한, 제1 전극(64)은 발광 소자별로 분리되어 형성되어 있다. 정공 수송층(65)과 전자 수송층(67)과 제2 전극(68)은, 복수의 발광 소자(62R, 62G, 62B)에 공통으로 형성되어 있어도 되고, 발광 소자마다 형성되어 있어도 된다. 또한, 제1 전극(64)과 제2 전극(68)이 이물에 의해 쇼트되는 것을 방지하기 위해, 제1 전극(64) 사이에 절연층(69)이 설치되어 있다. 나아가, 유기 EL 층은 수분이나 산소에 의해 열화되기 때문에, 수분이나 산소로부터 유기 EL 소자를 보호하기 위한 보호층(P)이 설치되어 있다.The light-emitting layers 66R, 66G, and 66B are formed in patterns corresponding to light-emitting elements emitting red, green, and blue colors (which may be described as organic EL elements), respectively. In addition, the first electrode 64 is formed separately for each light emitting device. The hole transport layer 65, the electron transport layer 67, and the second electrode 68 may be formed in common with the plurality of light emitting elements 62R, 62G, 62B, or may be formed for each light emitting element. In addition, in order to prevent the first electrode 64 and the second electrode 68 from being shorted by foreign substances, an insulating layer 69 is provided between the first electrode 64. Furthermore, since the organic EL layer is deteriorated by moisture or oxygen, a protective layer P for protecting the organic EL element from moisture or oxygen is provided.

다음으로, 전자 디바이스로서의 유기 EL 표시 장치의 제조 방법의 예에 대해 구체적으로 설명한다. 먼저, 유기 EL 표시 장치를 구동하기 위한 회로(도시하지 않음) 및 제1 전극(64)이 형성된 기판(10)을 준비한다.Next, an example of a method of manufacturing an organic EL display device as an electronic device will be described in detail. First, a substrate 10 on which a circuit (not shown) for driving an organic EL display device and a first electrode 64 are formed is prepared.

다음으로, 제1 전극(64)이 형성된 기판(10) 위에 아크릴 수지를 스핀 코트로 형성하고, 아크릴 수지를 리소그래피법에 의해, 제1 전극(64)이 형성된 부분에 개구가 형성되도록 패터닝하여 절연층(69)을 형성한다. 이 개구부가 발광 소자가 실제로 발광하는 발광 영역에 상당한다.Next, on the substrate 10 on which the first electrode 64 is formed, an acrylic resin is formed by spin coating, and the acrylic resin is patterned to form an opening in the portion where the first electrode 64 is formed by a lithography method to insulate. A layer 69 is formed. This opening corresponds to a light-emitting region in which the light-emitting element actually emits light.

다음으로, 절연층(69)이 패터닝된 기판(10)을 제1 성막 장치로 반입하여, 기판 보유지지 유닛에서 기판을 보유지지하고, 정공 수송층(65)을, 표시 영역의 제1 전극(64) 위에 공통층으로서 성막한다. 정공 수송층(65)은 진공 증착에 의해 성막된다. 실제로는 정공 수송층(65)은 표시 영역(61)보다 큰 사이즈로 형성되기 때문에, 매우 세밀한(고정밀) 마스크는 불필요하다. 여기서, 본 단계에서의 성막이나 이하의 각 층의 성막에 있어서 이용되는 성막 장치는, 상기 각 실시형태 중 어느 하나에 기재된 성막 장치이다.Next, the substrate 10 on which the insulating layer 69 is patterned is carried into the first film forming apparatus, the substrate is held by the substrate holding unit, and the hole transport layer 65 is provided with the first electrode 64 in the display area. ) On top of it as a common layer. The hole transport layer 65 is formed by vacuum evaporation. Actually, since the hole transport layer 65 is formed to have a size larger than that of the display area 61, a very fine (high precision) mask is not required. Here, the film formation apparatus used in film formation in this step and the film formation of each of the following layers is the film formation apparatus in any one of the above embodiments.

다음으로, 정공 수송층(65)까지 형성된 기판(10)을 제2 성막 장치로 반입하여, 기판 보유지지 유닛에서 보유지지한다. 기판과 마스크의 얼라인먼트를 행하고, 기판을 마스크 위에 재치하여, 기판(10)의 적색을 발하는 소자를 배치하는 부분에 적색을 발하는 발광층(66R)을 성막한다. 본 예에 의하면, 마스크와 기판을 양호하게 겹쳐 맞출 수 있어 고정밀한 성막을 행할 수 있다.Next, the substrate 10 formed up to the hole transport layer 65 is carried into the second film forming apparatus, and held by the substrate holding unit. The substrate and the mask are aligned, the substrate is placed on the mask, and a light emitting layer 66R emitting red is formed on a portion of the substrate 10 in which an element emitting red is disposed. According to this example, the mask and the substrate can be properly stacked, and high-definition film formation can be performed.

발광층(66R)의 성막과 마찬가지로, 제3 성막 장치에 의해 녹색을 발하는 발광층(66G)을 성막하고, 나아가 제4 성막 장치에 의해 청색을 발하는 발광층(66B)을 성막한다. 발광층(66R, 66G, 66B)의 성막이 완료된 후, 제5 성막 장치에 의해 표시 영역(61)의 전체에 전자 수송층(67)을 성막한다. 전자 수송층(67)은, 3색의 발광층(66R, 66G, 66B)에 공통층으로서 형성된다. 본 실시형태에서는, 전자 수송층(67), 발광층(66R, 66G, 66B)은 진공 증착에 의해 성막된다.Similar to the film formation of the light-emitting layer 66R, the light-emitting layer 66G emitting green is formed by the third film forming device, and further, the light-emitting layer 66B emitting blue color is formed by the fourth film-forming device. After the formation of the light emitting layers 66R, 66G, and 66B is completed, the electron transport layer 67 is formed over the entire display area 61 by the fifth film forming apparatus. The electron transport layer 67 is formed as a common layer on the three color light emitting layers 66R, 66G, and 66B. In this embodiment, the electron transport layer 67 and the light emitting layers 66R, 66G, 66B are formed by vacuum evaporation.

전자 수송층(67)까지 형성된 기판을 스퍼터링 장치로 이동하여, 제2 전극(68)을 성막하고, 그 후 플라스마 CVD 장치로 이동하여 보호층(P)을 성막하여, 유기 EL 표시 장치(60)가 완성된다. 한편, 여기서는 제2 전극(68)을 스퍼터링에 의해 형성하는 것으로 하였지만, 이것에 한정되지 않고, 제2 전극(68)도 전자 수송층(67)까지와 마찬가지로 진공 증착에 의해 형성되어도 된다.The substrate formed up to the electron transport layer 67 is moved to a sputtering device, the second electrode 68 is formed, and then it is moved to a plasma CVD device to form a protective layer P, and the organic EL display device 60 is It is completed. On the other hand, although it is assumed here that the second electrode 68 is formed by sputtering, the present invention is not limited thereto, and the second electrode 68 may also be formed by vacuum evaporation in the same manner as the electron transport layer 67.

절연층(69)이 패터닝된 기판(10)을 성막 장치로 반입하고 나서 보호층(P)의 성막이 완료될 때까지는, 수분이나 산소를 포함한 분위기에 노출되어 버리면, 유기 EL 재료로 이루어지는 발광층이 수분이나 산소에 의해 열화될 우려가 있다. 따라서, 본 예에 있어서, 성막 장치 간의 기판의 반입 반출은, 진공 분위기 또는 불활성 가스 분위기 하에서 행해진다.After carrying the substrate 10 patterned with the insulating layer 69 into the film forming apparatus until the protective layer P is formed, when exposed to an atmosphere containing moisture or oxygen, the light-emitting layer made of an organic EL material is There is a risk of deterioration due to moisture or oxygen. Therefore, in this example, carrying in/out of the substrate between the film forming apparatuses is performed in a vacuum atmosphere or an inert gas atmosphere.

본 실시형태에 관련되는 기판 보유지지 유닛, 기판 보유지지 부재, 기판 보유지지 장치, 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법에 의하면, 기판을 보유지지할 때의 기판과 점착 부재의 사이의 당접 영역이 향상되고, 점착 부재에 의한 점착 성능을 발휘할 수 있으므로, 안정성이 향상되어 기판을 양호하게 보유지지하는 것이 가능하게 된다.According to the substrate holding unit, the substrate holding member, the substrate holding apparatus, the substrate processing apparatus, the substrate processing method, and the electronic device manufacturing method according to the present embodiment, between the substrate and the adhesive member when holding the substrate Since the contact area of is improved and the adhesive performance by the adhesive member can be exhibited, stability is improved, and it becomes possible to hold the substrate satisfactorily.

100: 기판 보유지지 장치
120: 기판 보유지지 유닛
122: 지지 플랜지부
122a: 경동 기구
123: 점착 패드
300: 전자 코일 유닛
360: 전자 코일
720: 제어부
100: substrate holding device
120: substrate holding unit
122: support flange portion
122a: tilt mechanism
123: adhesive pad
300: electronic coil unit
360: electronic coil
720: control unit

Claims (21)

보유지지면에 있어서 기판을 보유지지하기 위한 기판 보유지지 유닛으로서,
상기 기판에 점착하는 점착 재료가 형성된 점착면을 갖는 점착 부재와,
상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 경동(傾動) 가능하게 하는 경동 기구와,
상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 진퇴 가능하게 하는 진퇴 기구를 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 유닛.
As a substrate holding unit for holding a substrate on the holding surface,
An adhesive member having an adhesive surface on which an adhesive material adhered to the substrate is formed,
A tilt mechanism for tilting the adhesive surface of the adhesive member with respect to the holding surface;
A substrate holding unit comprising an advancing and retreating mechanism that enables the adhering surface of the adhesive member to advance and retreat with respect to the holding surface.
제1항에 있어서,
상기 진퇴 기구는, 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 기판 측으로 가압하는 탄성체를 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 유닛.
The method of claim 1,
The substrate holding unit, wherein the advancing and retreating mechanism includes an elastic body for pressing the adhesive surface of the adhesive member toward the substrate.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 진퇴 기구는, 외부 자력을 받음으로써 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 진퇴 가능하게 하는 자성 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 유닛.
The method according to claim 1 or 2,
The substrate holding unit, characterized in that the advancing and retreating mechanism includes a magnetic member that enables the adhesive surface of the adhesive member to advance and retreat with respect to the holding surface by receiving an external magnetic force.
보유지지면을 갖는 기체(基體)와, 복수의 기판 보유지지 유닛을 갖는 기판 보유지지 부재로서,
상기 복수의 기판 보유지지 유닛의 각각은, 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 기판 보유지지 유닛이며,
상기 복수의 기판 보유지지 유닛 각각의 상기 점착면이 상기 기판에 점착함으로써 상기 기판을 보유지지하는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 부재.
As a substrate holding member having a substrate having a holding surface and a plurality of substrate holding units,
Each of the plurality of substrate holding units is the substrate holding unit according to any one of claims 1 to 3,
A substrate holding member, characterized in that the adhesive surface of each of the plurality of substrate holding units adheres to the substrate to hold the substrate.
제4항에 기재된 기판 보유지지 부재에 대해 기판을 보유지지시키는 기판 보유지지 장치로서,
상기 기판을, 상기 보유지지면과 당접하지 않는 제1 위치와, 상기 기판과 상기 보유지지면이 당접하는 제2 위치의 사이에서 이동시키는 기판 이동 기구를 가지며,
상기 기판 보유지지 유닛은, 상기 기판이 상기 제1 위치에 있을 때 상기 점착면을 상기 보유지지면보다 상기 기판으로부터 떨어진 위치로 후퇴시키고, 상기 기판 이동 기구가 상기 기판을 상기 제1 위치로 이동시킨 후에 상기 점착면을 상기 보유지지면까지 전진시켜, 상기 기판에 상기 점착면을 당접시키는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.
A substrate holding device for holding a substrate with respect to the substrate holding member according to claim 4, comprising:
A substrate moving mechanism for moving the substrate between a first position not in contact with the holding surface and a second position in which the substrate and the holding surface abut,
The substrate holding unit retracts the adhesive surface to a position further from the substrate than the holding surface when the substrate is in the first position, and after the substrate moving mechanism moves the substrate to the first position A substrate holding device, characterized in that the adhesive surface is advanced to the holding surface, and the adhesive surface is brought into contact with the substrate.
제5항에 있어서,
상기 기판 보유지지 부재가 구비하는 상기 복수의 기판 보유지지 유닛의 각각이 가지는 상기 진퇴 기구에 대해 비접촉으로 작용함으로써, 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 진퇴시키는 점착 부재 구동 기구를 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.
The method of claim 5,
An adhesive member driving mechanism for moving the adhesive surface of the adhesive member forward and backward with respect to the holding surface by acting in a non-contact manner with respect to the advancing and retreating mechanisms of each of the plurality of substrate holding units provided by the substrate holding member. A substrate holding device, characterized in that it has.
제4항에 기재된 기판 보유지지 부재에 대해 기판을 보유지지시키는 기판 보유지지 장치로서,
상기 기판 보유지지 부재가 구비하는 상기 복수의 기판 보유지지 유닛의 각각이 가지는 상기 진퇴 기구에 대해 비접촉으로 작용함으로써, 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 진퇴시키는 점착 부재 구동 기구를 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.
A substrate holding device for holding a substrate with respect to the substrate holding member according to claim 4, comprising:
An adhesive member driving mechanism for moving the adhesive surface of the adhesive member forward and backward with respect to the holding surface by acting in a non-contact manner with respect to the advancing and retreating mechanisms of each of the plurality of substrate holding units provided by the substrate holding member. A substrate holding device, characterized in that it has.
제6항 또는 제7항에 있어서,
상기 진퇴 기구는 자성 부재를 구비하고,
상기 점착 부재 구동 기구는 전자 코일을 구비하고 있어, 상기 자성 부재에 전자력을 작용시킴으로써 상기 점착면을 진퇴시키는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.
The method according to claim 6 or 7,
The advancing and retreating mechanism includes a magnetic member,
The adhesive member driving mechanism is provided with an electromagnetic coil, wherein the adhesive surface is moved forward and backward by applying an electromagnetic force to the magnetic member.
제8항에 있어서,
상기 자성 부재는 영구자석인 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.
The method of claim 8,
A substrate holding apparatus, characterized in that the magnetic member is a permanent magnet.
제8항 또는 제9항에 있어서,
상기 진퇴 기구는, 일단측에 상기 점착 부재가 설치되고 타단측에 상기 자성 부재가 설치된 축부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.
The method according to claim 8 or 9,
The substrate holding device, wherein the advancing and retreating mechanism includes a shaft portion provided with the adhesive member at one end and the magnetic member at the other end.
제10항에 있어서,
상기 경동 기구는 상기 점착 부재와 상기 축부의 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.
The method of claim 10,
The substrate holding device, wherein the tilt mechanism is formed between the adhesive member and the shaft portion.
보유지지면에 있어서 기판을 보유지지하기 위한 기판 보유지지 유닛으로서,
상기 기판에 점착하는 점착 재료가 형성된 점착면을 갖는 점착 부재와,
상기 점착 부재가 요동 가능한 상태에서 상기 점착 부재를 상기 기판 측으로 가압하는 가압 수단을 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 유닛.
As a substrate holding unit for holding a substrate on the holding surface,
An adhesive member having an adhesive surface on which an adhesive material adhered to the substrate is formed,
A substrate holding unit comprising: a pressing means for pressing the adhesive member toward the substrate in a state in which the adhesive member is able to swing.
제12항에 있어서,
일단측에 상기 점착 부재가 설치되고 타단측에 자성 부재가 설치된 축부를 구비하는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 유닛.
The method of claim 12,
A substrate holding unit comprising: a shaft portion provided with the adhesive member at one end and a magnetic member at the other end.
보유지지면을 갖는 기체와, 복수의 기판 보유지지 유닛을 갖는 기판 보유지지 부재로서,
상기 복수의 기판 보유지지 유닛의 각각은, 제12항 또는 제13항에 기재된 기판 보유지지 유닛이며,
상기 복수의 기판 보유지지 유닛 각각의 상기 점착면이 상기 기판에 점착함으로써 상기 기판을 보유지지하는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 부재.
As a substrate holding member having a substrate having a holding surface and a plurality of substrate holding units,
Each of the plurality of substrate holding units is the substrate holding unit according to claim 12 or 13,
A substrate holding member, characterized in that the adhesive surface of each of the plurality of substrate holding units adheres to the substrate to hold the substrate.
제14항에 기재된 기판 보유지지 부재에 대해 기판을 보유지지시키는 기판 보유지지 장치로서,
상기 기판을, 상기 보유지지면과 당접하지 않는 제1 위치와, 상기 기판과 상기 보유지지면이 당접하는 제2 위치의 사이에서 이동시키는 기판 이동 기구를 가지며,
상기 기판 보유지지 유닛은, 상기 기판이 상기 제1 위치에 있을 때 상기 점착면을 상기 보유지지면보다 상기 기판으로부터 떨어진 위치로 후퇴시키고, 상기 기판 이동 기구가 상기 기판을 상기 제1 위치로 이동시킨 후에 상기 점착면을 상기 보유지지면까지 전진시켜, 상기 기판에 상기 점착면을 당접시키는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.
A substrate holding device for holding a substrate with respect to the substrate holding member according to claim 14, comprising:
A substrate moving mechanism for moving the substrate between a first position not in contact with the holding surface and a second position in which the substrate and the holding surface abut,
The substrate holding unit retracts the adhesive surface to a position further from the substrate than the holding surface when the substrate is in the first position, and after the substrate moving mechanism moves the substrate to the first position A substrate holding device, characterized in that the adhesive surface is advanced to the holding surface, and the adhesive surface is brought into contact with the substrate.
제15항에 있어서,
상기 기판 보유지지 부재가 구비하는 상기 복수의 기판 보유지지 유닛의 각각이 가지는 진퇴 기구에 대해 비접촉으로 작용함으로써, 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 진퇴시키는 점착 부재 구동 기구를 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.
The method of claim 15,
It has an adhesive member driving mechanism for moving the adhesive surface of the adhesive member forward and backward with respect to the holding surface by acting in a non-contact manner with respect to the advance/retreat mechanism of each of the plurality of substrate holding units provided by the substrate holding member. A substrate holding device, characterized in that.
제14항에 기재된 기판 보유지지 부재에 대해 기판을 보유지지시키는 기판 보유지지 장치로서,
상기 기판 보유지지 부재가 구비하는 상기 복수의 기판 보유지지 유닛의 각각이 가지는 진퇴 기구에 대해 비접촉으로 작용함으로써, 상기 점착 부재의 상기 점착면을 상기 보유지지면에 대해 진퇴시키는 점착 부재 구동 기구를 갖는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.
A substrate holding device for holding a substrate with respect to the substrate holding member according to claim 14, comprising:
It has an adhesive member driving mechanism for moving the adhesive surface of the adhesive member forward and backward with respect to the holding surface by acting in a non-contact manner with respect to the advance/retreat mechanism of each of the plurality of substrate holding units provided by the substrate holding member. A substrate holding device, characterized in that.
제16항 또는 제17항에 있어서,
상기 진퇴 기구는 자성 부재를 구비하고,
상기 점착 부재 구동 기구는 전자 코일을 구비하고 있어, 상기 자성 부재에 전자력을 작용시킴으로써 상기 점착면을 진퇴시키는 것을 특징으로 하는, 기판 보유지지 장치.
The method of claim 16 or 17,
The advancing and retreating mechanism includes a magnetic member,
The adhesive member driving mechanism is provided with an electromagnetic coil, wherein the adhesive surface is moved forward and backward by applying an electromagnetic force to the magnetic member.
제5항 내지 제11항 및 제15항 내지 제18항 중 어느 한 항에 기재된 기판 보유지지 장치와,
상기 기판 보유지지 장치에 의해 상기 기판 보유지지 부재에 보유지지된 기판 상에 성막을 실시하는 성막 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는, 기판 처리 장치.
The substrate holding device according to any one of claims 5 to 11 and 15 to 18, and
A substrate processing apparatus comprising: a film forming apparatus for forming a film on a substrate held by the substrate holding member by the substrate holding apparatus.
제19항에 기재된 기판 처리 장치에 의해 기판의 처리를 행하는 것을 특징으로 하는, 기판 처리 방법.A substrate processing method characterized in that the substrate is processed by the substrate processing apparatus according to claim 19. 제19항에 기재된 기판 처리 장치를 구비하고, 상기 기판 처리 장치에 의해 상기 기판에 처리를 행함으로써 전자 디바이스를 제조하는, 전자 디바이스의 제조 방법.A method for manufacturing an electronic device, comprising the substrate processing apparatus according to claim 19, and manufacturing an electronic device by performing processing on the substrate by the substrate processing apparatus.
KR1020200136172A 2019-10-29 2020-10-20 Substrate holding unit, substrate holding member, substrate holding apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing method, and manufacturing method of electronic device KR102579389B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019196791A JP7057334B2 (en) 2019-10-29 2019-10-29 Manufacturing method of board holding unit, board holding member, board holding device, board processing device and electronic device
JPJP-P-2019-196791 2019-10-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210052257A true KR20210052257A (en) 2021-05-10
KR102579389B1 KR102579389B1 (en) 2023-09-14

Family

ID=75648817

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200136172A KR102579389B1 (en) 2019-10-29 2020-10-20 Substrate holding unit, substrate holding member, substrate holding apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing method, and manufacturing method of electronic device

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7057334B2 (en)
KR (1) KR102579389B1 (en)
CN (1) CN112750746B (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3113494U (en) * 2005-06-09 2005-09-08 日本メクトロン株式会社 Vacuum workpiece transfer device for plate workpiece
KR20110068511A (en) * 2009-12-16 2011-06-22 보그워너베루시스템즈코리아 주식회사 Solenoid
JP2013055093A (en) 2011-09-01 2013-03-21 Creative Technology:Kk Adhesive chuck device and adhesion holding method of work-piece
JP2013074197A (en) * 2011-09-28 2013-04-22 Disco Abrasive Syst Ltd Tabular object transport device
KR20130138652A (en) * 2011-02-28 2013-12-19 신에츠 엔지니어링 가부시키가이샤 Thin plate-shaped workpiece adhesion and retention method, thin plate-shaped workpiece adhesion and retention device, and manufacturing system
JP2015216364A (en) * 2014-04-23 2015-12-03 株式会社アルバック Retention device, vacuum processing apparatus

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3113494B2 (en) * 1994-05-11 2000-11-27 沖電気工業株式会社 Dielectric ceramics for microwave
WO2007036996A1 (en) * 2005-09-28 2007-04-05 Shin-Etsu Engineering Co., Ltd. Substrate holding structure
JP6689719B2 (en) * 2016-09-23 2020-04-28 株式会社Screenホールディングス Substrate processing equipment
CN110039566B (en) * 2019-04-11 2021-07-16 深圳市森镁环保回收有限公司 Chip sorting equipment with dust removal function and high reliability

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3113494U (en) * 2005-06-09 2005-09-08 日本メクトロン株式会社 Vacuum workpiece transfer device for plate workpiece
KR20110068511A (en) * 2009-12-16 2011-06-22 보그워너베루시스템즈코리아 주식회사 Solenoid
KR20130138652A (en) * 2011-02-28 2013-12-19 신에츠 엔지니어링 가부시키가이샤 Thin plate-shaped workpiece adhesion and retention method, thin plate-shaped workpiece adhesion and retention device, and manufacturing system
JP2013055093A (en) 2011-09-01 2013-03-21 Creative Technology:Kk Adhesive chuck device and adhesion holding method of work-piece
JP2013074197A (en) * 2011-09-28 2013-04-22 Disco Abrasive Syst Ltd Tabular object transport device
JP2015216364A (en) * 2014-04-23 2015-12-03 株式会社アルバック Retention device, vacuum processing apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP7057334B2 (en) 2022-04-19
KR102579389B1 (en) 2023-09-14
JP2021072319A (en) 2021-05-06
CN112750746A (en) 2021-05-04
CN112750746B (en) 2024-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109837505B (en) Film forming apparatus, film forming method, and method for manufacturing organic EL display device
JP6703078B2 (en) Film forming apparatus and method for manufacturing organic EL display device using the same
JP7278541B2 (en) Electrostatic chuck system, film forming apparatus, adsorption method, film forming method, and electronic device manufacturing method
CN109972084B (en) Film forming apparatus, film forming method, and method for manufacturing electronic device
JP7120545B2 (en) Film forming apparatus, film forming method, and method for manufacturing organic EL display device using the same
CN109837507B (en) Film forming apparatus, film forming method, and method for manufacturing organic EL display device
JP2020122223A (en) Film forming apparatus, film forming method, and manufacturing method of organic el display device using the same
JP6686100B2 (en) Film forming apparatus, film forming method, and electronic device manufacturing method
KR102505832B1 (en) Adsorption apparatus, position adjusting method, and method for forming film
CN112779503B (en) Film forming apparatus and method for controlling film forming apparatus
KR102579389B1 (en) Substrate holding unit, substrate holding member, substrate holding apparatus, substrate processing apparatus, substrate processing method, and manufacturing method of electronic device
JP7069280B2 (en) Film forming equipment, film forming method, and manufacturing method of electronic devices
JP7007688B2 (en) Adsorption device, film forming device, adsorption method, film forming method and manufacturing method of electronic device
KR20210052265A (en) Substrate detaching apparatus, substrate processing apparatus, and substrate detaching method
JP2019117924A (en) Electrostatic chuck, film forming apparatus, substrate suction method, film forming method, and manufacturing method of electronic device
JP6956244B2 (en) Film formation equipment and film formation method
KR20230112054A (en) Substrate holding apparatus, electrostatic chuck, and substrate holding method
KR20210052264A (en) Substrate holding member, substrate holding apparatus, substrate processing apparatus, substrate holding method, film forming method, and manufacturing method of electronic device
KR20210052263A (en) Substrate holding apparatus, substrate processing apparatus, substrate holding method, film forming method, and manufacturing method of electronic device
KR20190070896A (en) Mask attaching device, film-forming apparatus, film-forming method, and method for manufacturing electronic device

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant