KR20210045693A - Ultra violet irradiation apparatus - Google Patents

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KR20210045693A
KR20210045693A KR1020190129046A KR20190129046A KR20210045693A KR 20210045693 A KR20210045693 A KR 20210045693A KR 1020190129046 A KR1020190129046 A KR 1020190129046A KR 20190129046 A KR20190129046 A KR 20190129046A KR 20210045693 A KR20210045693 A KR 20210045693A
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Abstract

The present invention is an ultraviolet irradiation apparatus for emitting ultraviolet rays to a target workpiece; an ultraviolet transmission part for transmitting ultraviolet rays emitted from the ultraviolet irradiation part; a chamber provided under the ultraviolet irradiation part and forming an ultraviolet treatment space; and a stage provided in the chamber and on which the workpiece is placed. The present invention is characterized in that a reflector that reflects the ultraviolet rays emitted from the ultraviolet irradiation part is provided in the chamber to place the reflector and the workpiece as close as possible, thereby ensuring uniformity of UV irradiation.

Description

자외선 조사 장치{ULTRA VIOLET IRRADIATION APPARATUS}Ultraviolet irradiation device {ULTRA VIOLET IRRADIATION APPARATUS}

본 발명은 자외선 조사 장치에 관한 발명으로서, 특히 디스플레이 장치 제조시의 경화 공정에 사용되는 자외선 조사 장치에 관한 발명이다. The present invention relates to an ultraviolet irradiation device, and particularly relates to an ultraviolet irradiation device used in a curing step in manufacturing a display device.

정보화 사회가 발전함에 따라 표시 장치에 대한 요구도 다양한 형태로 증가되고 있다. 이에 부응하여 LCD(Liquid Crystal Display Device),PDP(Plasma Display Panel) 등의 평판 표시 장치가 개발되어 여러 장비에서 표시 장치로 활용되어 왔다. 그리고, 최근에는 LCD를 대체할 차세대 디스플레이로 OLED (Organic Light Emitting Diode)가 각광받고 있으며, 많은 기업들이 연구중에 있다. As the information society develops, the demand for display devices is also increasing in various forms. In response to this, flat panel display devices such as LCD (Liquid Crystal Display Device) and PDP (Plasma Display Panel) have been developed and used as display devices in various equipment. And, recently, OLED (Organic Light Emitting Diode) is in the spotlight as a next-generation display to replace LCD, and many companies are under research.

OLED의 경우, 소자가 자체 발광이어서, LCD와 같이 백라이트가 필요없고 따라서 LCD와 대비하여 박막화가 가능하다. 또한, 명암비와 응답 속도도 LCD에 비해 매우 뛰어나며 실사용 환경에 있어서 전력 효율이 뛰어나다. In the case of OLED, the device is self-luminous, so there is no need for a backlight like an LCD, so it is possible to make a thin film compared to an LCD. In addition, the contrast ratio and response speed are very superior to that of LCD, and the power efficiency is excellent in the actual use environment.

상기한 OLED는, 저온 폴리실리콘 제조 공정, 증착 공정, 봉지 공정, 셀 공정 및 모듈 공정을 통해 제조된다. 상기 제조 공정 중 봉지(Encapsulation) 공정의 경우, 외부의 영향을 받지 않고 OLED를 장기간 사용할 수 있도록 마감 처리하는 단계로서, 도 9에 도시된 바와 같이, 셀 시일 글라스(Cell Seal Glass)(1)와 증착 글라스(2)를 합착시켜 OLED 글라스를 제조하는 공정이다. The above-described OLED is manufactured through a low-temperature polysilicon manufacturing process, a deposition process, an encapsulation process, a cell process, and a module process. In the case of the encapsulation process of the manufacturing process, as a step of finishing treatment so that the OLED can be used for a long time without being affected by external influences, as shown in FIG. 9, a cell seal glass (1) and This is a process of manufacturing OLED glass by bonding the evaporation glass 2.

셀 시일 글라스(1)는, 글라스 표면에 소정 간극을 두고 접착 물질인 셀 시일(4)이 도포되어 있으며, 셀 시일(4)을 둘러싸는 형태로, 수지제의 원장 시일(3)이 도포되어 있다. 이러한 셀 시일 글라스(1)를 증착이 완료된 증착 글라스(2)와 합착한 후 셀 시일 글라스(1) 표면의 수지제의 원장 시일(3)을 경화시켜 OLED 글라스가 제조된다. In the cell seal glass 1, a cell seal 4, which is an adhesive material, is applied to the glass surface with a predetermined gap, and in a form surrounding the cell seal 4, a ledger seal 3 made of resin is applied. have. After bonding the cell seal glass 1 with the evaporation glass 2 on which the deposition has been completed, the ledger seal 3 made of a resin on the surface of the cell seal glass 1 is cured to produce an OLED glass.

한편, 원장 시일(3)을 구성하는 수지에는 열경화성 재료 또는 자외선 경화성 재료가 사용되며, 특히 자외선 경화성 재료가 많이 사용된다. 그리고, 자외선 경화성 재료를 접착제로 사용하는 경우, 기판에 자외선을 조사하여 접착제를 경화시키게 되는바, 이 때 참고문헌 1에서 도시된 바와 같은 자외선 경화 장치(Ultra Violet Curing Apparatus)가 사용된다. On the other hand, for the resin constituting the ledger seal 3, a thermosetting material or an ultraviolet curable material is used, and in particular, an ultraviolet curable material is frequently used. In addition, when an ultraviolet curable material is used as an adhesive, the adhesive is cured by irradiating ultraviolet rays on the substrate. In this case, an ultraviolet curing apparatus (Ultra Violet Curing Apparatus) as shown in Reference 1 is used.

특허문헌 1: 대한민국 등록특허 제10-1408115호Patent Document 1: Korean Patent Registration No. 10-1408115

근래 OLED의 대형화 등으로 인하여, 봉지 공정 등의 OLED 생산 과정에서 사용되는 UV 처리 장치에 있어서도, 대형 워크에 대한 효율적인 UV 조사 처리와 관련된 요구가 증가되고 있다. In recent years, due to the increase in size of OLEDs, demands related to efficient UV irradiation treatment for large-sized workpieces are increasing even in UV treatment devices used in OLED production processes such as encapsulation processes.

한편, 종래의 UV 조사 장치의 경우, 도 5에 도시된 바와 같이, 크게 UV 광원을 수납하는 램프 하우스(10), 램프 하우스(10)로부터 조사되는 빛을 반사하는 반사판(20), 진공 챔버(70)의 일면에 형성되어 램프 하우스(10) 및 반사판(20)으로부터의 UV 광을 투과사키는 UV 뷰포트(30), 진공 챔버(70) 내부에 형성되어 처리물인 워크(50)를 올려둘 수 있는 스테이지(60)로 구성된다. 그리고, UV 뷰포트(30)와 처리 대상인 워크(50) 사이에는 패턴이 형성된 마스크 기판(40)이 설치되고, 스테이지(60)와 기대(63) 사이에는 스테이지(60)를 상하 방향으로 구동 시키기 위한 수직 구동 기구(62) 및 좌우 방향으로 구동시키기 위한 얼라이먼트 스테이지(61)가 챔버(70) 내부에 수용되어 있다.Meanwhile, in the case of a conventional UV irradiation apparatus, as shown in FIG. 5, a lamp house 10 largely accommodating a UV light source, a reflector 20 reflecting light irradiated from the lamp house 10, and a vacuum chamber ( It is formed on one side of the lamp house (10) and the UV viewport (30) that transmits UV light from the reflector (20), and is formed in the vacuum chamber (70) to place the workpiece 50 as a processed object. It consists of a stage (60). In addition, a patterned mask substrate 40 is installed between the UV viewport 30 and the workpiece 50 to be processed, and between the stage 60 and the base 63 to drive the stage 60 in the vertical direction. A vertical drive mechanism 62 and an alignment stage 61 for driving in the left-right direction are accommodated in the chamber 70.

도 7에서는, 도 5에서 도시된 종래의 UV 조사 장치를 상방에서 바라보았을 때의 워크(50), UV 뷰포트(30) 및 챔버(70)의 배치 구조를 도시하고 있다. 도 6에서 도시된 바와 같이, 종래의 UV 조사 장치의 UV 뷰포트(30)의 경우, 뷰포트 프레임(31)에 의해 챔버(70)의 상방에 유지되는 것과 더불어, 처리 대상인 워크(50) 전면을 덮을 수 있는 형태의 단일한 평판구조로 되어 있다. 7 shows the arrangement structure of the work 50, the UV viewport 30, and the chamber 70 when the conventional UV irradiation apparatus shown in FIG. 5 is viewed from above. As shown in Figure 6, in the case of the UV viewport 30 of the conventional UV irradiation device, in addition to being held above the chamber 70 by the viewport frame 31, it will cover the entire surface of the workpiece 50 to be processed. It has a single flat plate structure that can be used.

따라서, 도 5 및 도 7에 도시된, 종래의 UV 조사 장치의 경우, OLED의 대형화로 인해 진공 챔버의 크기가 커짐으로써, 필연적으로 UV 뷰포트(30)가 대형화되어야 하는 한계점을 가지고 있다. UV 뷰포트(30)가 대형화되는 경우, UV 뷰포트(30)의 자체 무게로 인한 UV 뷰포트(30)의 휨등으로 인해 UV 조사 정밀도가 떨어지게 되고, UV 뷰포트(30)의 제작 비용도 상승하는 문제점이 발생하게 되며, UV 뷰포트(30) 자체의 안정성도 떨어지게 된다. Therefore, in the case of the conventional UV irradiation apparatus shown in FIGS. 5 and 7, the size of the vacuum chamber increases due to the enlargement of the OLED, which inevitably has a limitation that the UV viewport 30 must be enlarged. When the UV viewport 30 is enlarged, UV irradiation precision is degraded due to bending of the UV viewport 30 due to the weight of the UV viewport 30, and the manufacturing cost of the UV viewport 30 also increases. And, the stability of the UV viewport 30 itself is deteriorated.

또한, 기존의 UV 조사 장치의 경우, 도 5에 도시된 바와 같이, 반사판(20)이 진공 챔버(70)의 바깥쪽에 위치하고 있다. 즉, 반사판(20)이 광경로 상에 있어서, UV 뷰포트(30)의 상류에 위치하고 있어, 반사판(20)의 하류 부분과 워크(50) 사이에 UV 뷰포트(30)가 위치하게 되어, UV 광의 조도 균일도 및 강도가 하락하게 되는 문제점이 있었다. In addition, in the case of a conventional UV irradiation apparatus, as shown in FIG. 5, the reflector 20 is located outside the vacuum chamber 70. That is, since the reflector 20 is on the optical path, the UV viewport 30 is positioned upstream of the UV viewport 30, and the UV viewport 30 is positioned between the downstream portion of the reflector 20 and the work 50, There was a problem in that the uniformity of the illuminance and the strength were decreased.

본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 비교적 저비용으로도 워크의 대형화에 대응할 수 있는 자외선 조사 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention has been conceived to solve the problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide an ultraviolet irradiation apparatus capable of coping with the enlargement of a work even at a relatively low cost.

상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 자외선 조사 장치는, 처리 대상인 워크에 자외선을 조사하는 자외선 조사부; 자외선 조사부로부터 조사되는 자외선을 투과시키는 자외선 투과부; 자외선 조사부의 하방에 구비되고, 자외선 처리 공간을 형성하는 챔버; 챔버 내에 구비되고, 워크가 재치되는 스테이지;를 구비하는 자외선 조사 장치에 있어서, 챔버 내에는, 자외선 조사부로부터 조사되는 자외선을 반사시키는 반사판이 구비되는 것을 특징으로 한다. An ultraviolet irradiation apparatus according to the present invention for solving the above-described problems includes: an ultraviolet irradiation unit for irradiating ultraviolet rays to a workpiece to be treated; An ultraviolet transmitting unit for transmitting ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet irradiating unit; A chamber provided below the ultraviolet irradiation unit and forming an ultraviolet treatment space; An ultraviolet irradiation apparatus comprising: a stage provided in a chamber and on which a work is placed, wherein a reflecting plate for reflecting ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet irradiation unit is provided in the chamber.

상기한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 반사판이 자외선 조사부의 하방의 챔버 내부에 배치되게 된다. 따라서, 반사판과 워크를 최대한 가까이 배치할 수 있게 되어, 자외선 조사의 균일성을 확보하는 데 유리하게 된다. According to the preferred embodiment of the present invention described above, the reflecting plate is disposed inside the chamber below the ultraviolet irradiation unit. Accordingly, it is possible to arrange the reflector and the work as close as possible, which is advantageous in securing uniformity of ultraviolet irradiation.

본 발명의 다른 바람직한 실시예에서는, 자외선 조사부는, 자외선 램프와 자외선 램프를 그 내부에 수용하는 램프 하우스로 구성되고, 자외선 투과부는, 램프 하우스와 반사판 사이에 구비되는 것을 특징으로 한다. In another preferred embodiment of the present invention, the ultraviolet irradiation unit is composed of an ultraviolet lamp and a lamp house accommodating the ultraviolet lamp therein, and the ultraviolet transmitting unit is provided between the lamp house and the reflecting plate.

상기한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 자외선 투과부의 위치가 반사판과 램프 하우스 사이에 위치하게 되고, 반사판은 광경로 상에 있어서 자외선 투과부의 하류에 위치하게 된다. 이 경우, 자외선 램프로부터 방사되는 광이 램프 하우스 내부의 광학 미러를 통해 집광되고, 집광된 광을 자외선 투과부를 통해 투과시키고, 투과된 자외선은 챔버 내에 설치된 반사판에 의해 반사되게 된다. 이를 통해, 종래의 자외선 조사 장치에 비해, 조도 균일도를 향상시킬 수 있다. According to the above-described preferred embodiment of the present invention, the position of the ultraviolet-transmitting part is located between the reflecting plate and the lamp house, and the reflecting plate is located downstream of the ultraviolet-transmitting part on the optical path. In this case, the light emitted from the ultraviolet lamp is condensed through the optical mirror inside the lamp house, the collected light is transmitted through the ultraviolet transmitting part, and the transmitted ultraviolet rays are reflected by a reflecting plate installed in the chamber. Through this, compared to the conventional ultraviolet irradiation apparatus, it is possible to improve the illuminance uniformity.

본 발명의 다른 바람직한 실시예에서는 상기 자외선 조사부는, 각각 자외선 램프를 내설한 복수의 램프 하우스로 구성되고, 자외선 투과부는 상기 복수의 램프 하우스의 광출사 개구부에 각각 구비되는 자외선 투과창으로 구성된다. In another preferred embodiment of the present invention, the ultraviolet irradiation unit is composed of a plurality of lamp houses each having an ultraviolet lamp, and the ultraviolet transmitting unit is composed of an ultraviolet transmitting window provided at each of the light exit openings of the plurality of lamp houses.

상기한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 복수의 램프 하우스 각각에 구비된 복수의 소형 자외선 투과부를 이용하여, 자외선 조사부로부터 조사되는 광을 투과시키게 되는바, 워크가 대형화하는 경우에도, 램프 및 자외선 투과부를 개수를 조절함으로써, 조도 균일도 및 자외선 투과부의 강도를 확보하는 것이 가능하다. According to a preferred embodiment of the present invention described above, light irradiated from the ultraviolet irradiation unit is transmitted by using a plurality of small ultraviolet transmissive units provided in each of the plurality of lamp houses. Even when the work is enlarged, the lamp and ultraviolet rays By controlling the number of transmitting portions, it is possible to ensure uniformity of illumination and intensity of the ultraviolet transmitting portions.

본 발명의 다른 바람직한 실시예에서는 상기 챔버의 외측 하방에는 상기 스테이지를 구동하기 위한 구동부가 구비된다. In another preferred embodiment of the present invention, a driving unit for driving the stage is provided below the outer side of the chamber.

상기한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 스테이지 및 스테이지를 구동하기 위한 구동부 중 스테이지만 챔버 내에 구비되도록 하여, 종래 기술 내비 요구되는 챔버의 용적이 줄어들게 되어, 챔버 내 분위기(H20, O2) 등의 농도 관리를 개선할 수 있다. According to the preferred embodiment of the present invention, only the stage is provided in the chamber among the stage and the driving unit for driving the stage, so that the volume of the chamber required for the prior art navigation is reduced, and the atmosphere in the chamber (H 2 0, O 2 ), etc. concentration management can be improved.

본 발명의 다른 바람직한 실시예에서는, 상기 챔버의 상방에는, 챔버의 상방에 구비된 공급구로부터 챔버 내부의 워크를 향해 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급부가 구비된다. In another preferred embodiment of the present invention, an inert gas supply unit is provided above the chamber to supply an inert gas to a workpiece inside the chamber from a supply port provided above the chamber.

상기한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 불활성 가스가 챔버의 상방으로부터 하방을 향해 공급되는바, 불활성 가스가 챔버의 측면을 통해 공급되는 종래 장치와 대비하여, 챔버 내부의 파티클 및 챔버 내부의 N2 농도를 관리하는 데 있어서 유리하다. According to a preferred embodiment of the present invention described above, inert gas is supplied from the top to the bottom of the chamber. In contrast to the conventional apparatus in which the inert gas is supplied through the side of the chamber, particles inside the chamber and N inside the chamber are 2 It is advantageous in managing the concentration.

본 발명의 다른 바람직한 실시예에서는, 상기 자외선 조사부는, 각각 자외선 램프를 내설한 복수의 램프 하우스로 구성되고, 복수의 램프 하우스의 광출사부는 챔버 내에 수용되고, 공급구는 복수의 램프 하우스의 광출사부 사이에 복수개 배치된다. In another preferred embodiment of the present invention, the ultraviolet irradiation unit is composed of a plurality of lamp houses each of which has an ultraviolet lamp, and the light emitting units of the plurality of lamp houses are accommodated in the chamber, and the supply port is the light output of the plurality of lamp houses. A plurality of parts are arranged between the parts.

상기한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 챔버 내부 전체에 걸쳐 불활성 가스의 분위기를 균일하게 유지할 수 있다. According to the preferred embodiment of the present invention described above, the atmosphere of the inert gas can be uniformly maintained throughout the interior of the chamber.

본 발명의 다른 바람직한 실시예에서는, 상기 챔버의 측방에는, 챔버 내부의 공기를 외부로 배기하기 위한 배기구가 구비된다. 그리고, 바람직하게는 챔버의 측방에 구비된 상기 배기구로부터, 챔버의 상방에 구비된 토출구 사이를 연장하고, 챔버 내부의 공기가 배출되는 유로를 형성하는 배기 덕트를 더 구비한다. In another preferred embodiment of the present invention, at the side of the chamber, an exhaust port for exhausting the air inside the chamber to the outside is provided. Further, preferably, an exhaust duct is further provided that extends between the exhaust port provided on the side of the chamber and between the discharge ports provided above the chamber, and forms a flow path through which air inside the chamber is discharged.

상기한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 챔버 상방으로부터 공급되는 불활성 가스를 챔버 측방에 구비된 배기구로부터 배출할 수 있게 되어, 챔버 내부의 파티클 및 챔버 내부의 N2 농도를 관리하는 데 있어서 더욱 유리하다. According to the preferred embodiment of the present invention, it is possible to discharge the inert gas supplied from the upper side of the chamber from the exhaust port provided on the side of the chamber, which is more advantageous in managing the concentration of particles inside the chamber and the N 2 inside the chamber. Do.

본 발명의 다른 바람직한 실시예에서는, 상기 반사판은, 4개의 반사판이 하방으로 경사지도록 서로 대향 배치된다. 이를 통해, 자외선의 조도 균일도를 향상시킬 수 있다. In another preferred embodiment of the present invention, the reflecting plates are disposed opposite to each other so that the four reflecting plates are inclined downward. Through this, it is possible to improve the uniformity of the illuminance of ultraviolet rays.

본 발명의 다른 바람직한 실시예에서는, 상기 반사판과, 상기 워크가 재치되는 상기 스테이지 사이에는, 소정의 마스크 패턴을 가지는 마스크 기판이 구비된다. 이를 통해, 목적으로 하는 워크 상의 소정의 위치에 대해 자외선이 조사될 수 있도록 할 수 있다. In another preferred embodiment of the present invention, a mask substrate having a predetermined mask pattern is provided between the reflective plate and the stage on which the work is placed. Through this, ultraviolet rays can be irradiated to a predetermined position on the target work.

상기한 본 발명에 따른 자외선 조사 장치에 의하면, 반사판의 하단과 워크의 거리를 단축시킬 수 있어, 종래의 자외선 조사 장치와 대비하여 조도의 균일도를 대략 3배 이상 개선하는 것이 가능하다. According to the ultraviolet irradiation apparatus according to the present invention, the distance between the lower end of the reflector and the work can be shortened, and the uniformity of illuminance can be improved by approximately three times or more compared to the conventional ultraviolet irradiation apparatus.

또한, 상기한 본 발명에 따른 자외선 조사 장치에 의하면, 자외선 광원부와 스테이지 사이의 거리가 단축되고, 자외선 투과부의 두께가 얇아짐에 따라 투과율이 상승하여, 평균 조도가 향상된다. Further, according to the ultraviolet irradiation apparatus according to the present invention, the distance between the ultraviolet light source unit and the stage is shortened, the transmittance increases as the thickness of the ultraviolet transmission unit decreases, and the average illuminance is improved.

또한, 상기한 본 발명에 따른 자외선 조사 장치에 의하면, 자외선 광원부와 스테이지 사이의 거리가 단축됨에 따라, 종래의 자외선 조사 장치에 비해 높이를 약 150mm 이상 낮출 수 있어 장비의 컴팩트화를 도모할 수 있다. In addition, according to the ultraviolet irradiation device according to the present invention, as the distance between the ultraviolet light source unit and the stage is shortened, the height can be lowered by about 150 mm or more compared to the conventional ultraviolet irradiation device, thereby making the equipment compact. .

또한, 상기한 본 발명에 따른 자외선 조사 장치에 의하면, 챔버 내에서 불활성 가스의 상하 방향의 흐름을 통해 워크의 균일한 냉각 및 챔버 내 파티클과 분위기 관리가 용이하게 된다. Further, according to the above-described ultraviolet irradiation apparatus according to the present invention, uniform cooling of the work and easy management of particles and atmosphere in the chamber through the vertical flow of the inert gas in the chamber.

상기한 본 발명에 따른 자외선 조사 장치에 의하면, 자외선 투과부의 위치가 반사판과 자외선 광원부 사이에 위치함으로써, 워크가 대형화하는 경우에도, 자외선 투과부의 크기는, 그에 따라 추가되는 개별적인 자외선 램프의 조사 영역만큼만 커지게 되므로, 자외선 투과부의 물리적 안정성을 확보하는 것이 가능하며, 조도의 균일도도 향상된다. According to the ultraviolet irradiation apparatus according to the present invention, the position of the ultraviolet transmitting part is located between the reflecting plate and the ultraviolet light source part, so that even when the work is enlarged, the size of the ultraviolet transmitting part is only as much as the irradiation area of an individual ultraviolet lamp added accordingly Since it becomes large, it is possible to ensure the physical stability of the ultraviolet-transmitting portion, and the uniformity of illuminance is also improved.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 조사 장치의 단면도,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 조사 장치에 있어서, 위에서 바라보았을 때의 워크, 자외선 투과부의 배치 구조를 나타내는 도면,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 조사 장치에 있어서 불활성 가스의 급배기를 보이는 도면,
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 조사 장치에 의해 조사되는 자외선의 광경로를 나타내는 도면,
도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 조사 장치에 의해, 워크 상에 조사되는 자외선의 조사 상태를 나타내는 도면,
도 4c는 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 조사 장치에 의해 조사되는 자외선의 조도를 나타내는 그래프,
도 5는 종래의 자외선 조사 장치의 단면도,
도 6은 종래의 자외선 조사 장치에 있어서 불활성 가스의 급배기를 보이는 도면,
도 7은 종래의 자외선 조사 장치에 있어서, 위에서 바라보았을 때의 워크, 자외선 뷰포트의 배치 구조를 나타내는 도면,
도 8a는 종래의 자외선 조사 장치에 의해 조사되는 자외선의 광경로를 나타내는 도면,
도 8b는 종래의 자외선 조사 장치에 의해, 워크 상에 조사되는 자외선의 조사 상태를 나타내는 도면,
도 8c는 종래의 자외선 조사 장치에 의해 조사되는 자외선의 조도를 나타내는 그래프,
도 9는, OLED 제조 공정 중, 봉지 공정을 설명하기 위한 도면.1 is a cross-sectional view of an ultraviolet irradiation device according to an embodiment of the present invention,
FIG. 2 is a view showing an arrangement structure of a work and an ultraviolet transmitting part as viewed from above in the ultraviolet irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention;
3 is a view showing the supply and exhaust of an inert gas in the ultraviolet irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention,
4A is a view showing an optical path of ultraviolet rays irradiated by the ultraviolet irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention;
4B is a view showing an irradiation state of ultraviolet rays irradiated onto a work by the ultraviolet irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention;
4C is a graph showing the illuminance of ultraviolet rays irradiated by the ultraviolet irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention;
5 is a cross-sectional view of a conventional ultraviolet irradiation device,
6 is a view showing the supply and exhaust of an inert gas in a conventional ultraviolet irradiation apparatus.
Fig. 7 is a diagram showing an arrangement structure of a work and an ultraviolet viewport as viewed from above in a conventional ultraviolet irradiation device;
8A is a diagram showing an optical path of ultraviolet rays irradiated by a conventional ultraviolet irradiation device;
8B is a diagram showing an irradiation state of ultraviolet rays irradiated onto a work by a conventional ultraviolet irradiation apparatus;
8C is a graph showing the illuminance of ultraviolet rays irradiated by a conventional ultraviolet irradiation apparatus.
9 is a diagram for explaining a sealing process in an OLED manufacturing process.

이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명에 따른 자외선 조사 장치에 관하여 구체적으로 설명한다. Hereinafter, an ultraviolet irradiation apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 3.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 조사 장치의 단면도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 조사 장치에 있어서, 위에서 바라보았을 때의 워크, 자외선 투과부의 배치 구조를 나타내는 도면이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 조사 장치에 있어서 불활성 가스의 급배기를 보이는 도면이다. 1 is a cross-sectional view of an ultraviolet irradiation device according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a view showing an arrangement structure of a work and an ultraviolet transmitting part as viewed from above in an ultraviolet irradiation device according to an exemplary embodiment of the present invention. And Figure 3 is a view showing the supply and exhaust of an inert gas in the ultraviolet irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention.

본 발명에 따른 자외선 조사 장치는, 자외선 조사부(100)와, 자외선 투과부(200)와, 챔버(300)와 스테이지(700)와 반사판(400)을 구비한다. An ultraviolet irradiation apparatus according to the present invention includes an ultraviolet irradiation unit 100, an ultraviolet transmission unit 200, a chamber 300, a stage 700, and a reflecting plate 400.

자외선 조사부(100)는 처리 대상인 워크(600)에 자외선을 조사하는 것으로서, 후술하는 챔버(300)의 상방에 배치된다. 바람직하게는 자외선 조사부(100)는 자외선을 발산하는 광원인 자외선 램프(110)와, 자외선 램프(110)를 내장하는 하우징에 해당하는 램프 하우스(120)로 구성된다. 램프 하우스(120)에는 그 내벽면에서 자외선 램프(110)로부터 발산되는 자외선을 반사하여 집광시키기 위한 광학 미러(도시되지 않음)와, 램프 하우스(120)의 하방에 집광된 자외선이 램프 하우스(120)의 외부로 발산하는 출구인 광출사부가 구비된다. The ultraviolet irradiation unit 100 irradiates ultraviolet rays to the workpiece 600 to be processed, and is disposed above the chamber 300 to be described later. Preferably, the ultraviolet irradiation unit 100 includes an ultraviolet lamp 110, which is a light source emitting ultraviolet rays, and a lamp house 120 corresponding to a housing in which the ultraviolet lamp 110 is embedded. In the lamp house 120, an optical mirror (not shown) for reflecting and condensing ultraviolet rays emitted from the ultraviolet lamp 110 on the inner wall surface thereof, and ultraviolet rays condensed under the lamp house 120 are transmitted to the lamp house 120 ) Is provided with a light output that is an exit to the outside.

바람직하게는 자외선 조사부(100)는 각각 자외선 램프(110)가 내장된 램프 하우스(120)가 복수개 나란히 배열되어 구성될 수 있다. 이 때 램프 하우스(120)의 개수는 처리 대상인 워크(600)의 크기에 따라 결정된다. 따라서, 워크(600)의 크기가 대형화됨에 따라 램프 하우스(120)의 개수와 배열도 변경되게 된다. Preferably, the ultraviolet irradiation unit 100 may be configured by arranging a plurality of lamp houses 120 in which the ultraviolet lamps 110 are installed, respectively. In this case, the number of lamp houses 120 is determined according to the size of the workpiece 600 to be processed. Accordingly, as the size of the work 600 increases, the number and arrangement of the lamp houses 120 are also changed.

챔버(300)는 통 형상의 부재로 내부에 처리대상인 워크(600)가 수용되어, 자외선 조사부(100)에 의해 조사되는 자외선에 의한 워크(600)의 처리 공간을 형성한다. 워크(600)는 자외선을 조사받아 소정의 처리가 이루어지는 대상물로서, 바람직하게는 도 9에 도시된, 셀 시일 글라스(1)와 증착 글라스(2)를 합착시켜 구성되는 OLED 글라스일 수 있다. 이 경우, 워크(600)에는 자외선을 조사받아 경화되는 수지가 도포될 수 있다.The chamber 300 is a cylindrical member in which the workpiece 600 to be processed is accommodated to form a space for processing the workpiece 600 by ultraviolet rays irradiated by the ultraviolet irradiation unit 100. The work 600 may be an OLED glass formed by bonding the cell seal glass 1 and the deposition glass 2 as shown in FIG. 9 as a target object to which a predetermined treatment is performed by irradiation with ultraviolet rays. In this case, a resin cured by irradiation with ultraviolet rays may be applied to the work 600.

챔버(300)의 상방에는 챔버(300) 내부로 불활성 가스를 주입하기 위한 불활성 가스 공급부(800)가 구비된다. 불활성 가스 공급부(800)는, 일단이 챔버(300)의 상방에 구비되어 챔버(300)의 내부와 연통하는 공급구(810)에 연결되고, 타단이 도시되지 않은 가스 저장 탱크에 연결된다. 불활성 가스 공급부(800)에 의해 챔버(300) 내부로 불활성 가스가 공급됨으로써, 챔버(300) 내부를 불활성 가스 분위기로 형성할 수 있다. 따라서, 불활성 가스 분위기 내에서 워크(600) 상의 수지를 경화시킬 수 있어, 산소와의 접촉이 차단된 상태로 수지의 경화가 이루어 질 수 있다. 따라서, 자외선 조사에 따른 수지의 경화 반응을 보다 원활하게 할 수 있다. 바람직하게는, 도 1에 도시된 바와 같이 공급구(810)는 복수의 램프 하우스(120)의 광출사부 사이에 복수개 배치된다. 이를 통해, 챔버(300) 내부 전체에 걸쳐 불활성 가스의 분위기를 균일하게 유지할 수 있다. An inert gas supply unit 800 for injecting an inert gas into the chamber 300 is provided above the chamber 300. The inert gas supply unit 800 has one end connected to a supply port 810 that is provided above the chamber 300 and communicates with the interior of the chamber 300, and the other end is connected to a gas storage tank (not shown). By supplying an inert gas into the chamber 300 by the inert gas supply unit 800, the interior of the chamber 300 may be formed in an inert gas atmosphere. Accordingly, the resin on the work 600 can be cured in an inert gas atmosphere, so that the resin can be cured in a state in which contact with oxygen is blocked. Therefore, the curing reaction of the resin according to ultraviolet irradiation can be made more smoothly. Preferably, as shown in FIG. 1, a plurality of supply ports 810 are disposed between the light output portions of the plurality of lamp houses 120. Through this, the atmosphere of the inert gas can be uniformly maintained throughout the interior of the chamber 300.

바람직하게는, 챔버(300) 하방의 측벽면 상에는, 챔버(300) 내부의 공기를 외부로 배기하기 위한 배기구(910)가 구비된다. 그리고 챔버(300)의 측벽면에 구비된 배기구(910)로부터, 챔버(300)의 상방에 구비된 토출구(920) 사이를 연장하고, 챔버(300) 내부의 공기가 배출되는 유로를 형성하는 배기 덕트(900)를 더 구비한다. 바람직하게는 배기 덕트(900)의 배출구(910) 측 단부에는 도시되지 않은 배기 펌프 등이 구비되어, 챔버(300) 내부의 불활성 가스 또는 공기를 흡입하여 배출할 수 있도록 한다. 이를 통해, 자외선 처리 공정의 개시 시에 챔버(300) 내부의 공기를 신속하게 배출하도록 하여 챔버(300) 내부를 불활성 가스 분위기로 신속히 전환할 수 있으며, 처리 공정의 종료 시에는 신속히 불활성 가스 분위기를 배출할 수 있도록 하여, 질소 등의 불활성 가스에 의한 사고를 방지할 수 있다. Preferably, an exhaust port 910 for exhausting the air inside the chamber 300 to the outside is provided on the side wall surface below the chamber 300. And exhaust that extends between the discharge ports 920 provided above the chamber 300 from the exhaust ports 910 provided on the side wall of the chamber 300, and forms a flow path through which the air inside the chamber 300 is discharged. A duct 900 is further provided. Preferably, an exhaust pump, not shown, is provided at an end of the exhaust duct 900 on the side of the outlet 910 so that the inert gas or air in the chamber 300 can be sucked and discharged. Through this, the air inside the chamber 300 can be quickly discharged at the start of the ultraviolet treatment process, so that the inside of the chamber 300 can be quickly converted to an inert gas atmosphere, and at the end of the treatment process, the inert gas atmosphere is quickly released. By allowing it to be discharged, accidents caused by inert gases such as nitrogen can be prevented.

상기한 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 조사 장치에 의하면, 도 3에서 도시되어 있는 바와 같이, 챔버(300)의 상방으로부터 하방의 워크(600)를 향해 불활성 가스의 유동이 형성된다. 따라서, 도 6에 도시된 바와 같이, 챔버(70)의 대향하는 양쪽 측벽면에 각각 형성되는 공급구(81) 및 배출구(82)와 가스 리턴 경로를 통해 챔버(70)의 좌우 방향으로 불활성 가스의 흐름이 형성되는 종래의 자외선 조사 장치와 대비하여, 불활성 가스에 의한 워크(600)의 냉각 성능을 향상시킬 수 있으며, 챔버(300) 내부에서 발생하는 파티클의 배출 및 챔버(300) 내부의 분위기(산소 분위기 및 질소 분위기)의 농도 제어를 용이하게 할 수 있다. According to the above-described ultraviolet irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention, as shown in FIG. 3, a flow of an inert gas is formed from the upper side of the chamber 300 toward the lower work 600. Accordingly, as shown in FIG. 6, the inert gas in the left and right directions of the chamber 70 through the supply port 81 and the discharge port 82 and the gas return path respectively formed on opposite side walls of the chamber 70 Compared with the conventional ultraviolet irradiation apparatus in which the flow of light is formed, the cooling performance of the work 600 by the inert gas can be improved, and the discharge of particles generated inside the chamber 300 and the atmosphere inside the chamber 300 The concentration control of (oxygen atmosphere and nitrogen atmosphere) can be facilitated.

챔버(300) 내부에는, 챔버(300) 내부로 조사되는 자외선을 반사시켜, 워크(600)의 처리면 상에 집광시키기 위한 반사판(400)이 구비된다. 이와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 반사판(400)이 자외선 조사부(100)의 하방에 위치하는 챔버(300) 내부에 배치되는바, 도 5에 도시된 바와 같이, 챔버(70)의 외부에 반사판(20)이 구비되는 종래의 자외선 조사 장치와는 달리, 반사판(400)을 워크(600)에 최대한 가까이 배치할 수 있게 된다. 따라서, 종래의 자외선 조사 장치와 대비하여 자외선 조사의 균일성을 확보하는 것에 있어 보다 유리하다. 한편, 바람직하게는, 도 1에 도시된 바와 같이, 반사판(400)은, 4개의 반사판(400)이 하방으로 경사지도록 서로 대향 배치되도록 구성된다. 이를 통해, 자외선의 조도 균일도를 향상시킬 수 있다. Inside the chamber 300, a reflecting plate 400 for reflecting ultraviolet rays irradiated into the chamber 300 and condensing light on the processing surface of the work 600 is provided. As such, according to a preferred embodiment of the present invention, the reflecting plate 400 is disposed inside the chamber 300 located under the ultraviolet irradiation unit 100, as shown in FIG. Unlike the conventional ultraviolet irradiation apparatus in which the reflector 20 is provided outside, the reflector 400 can be disposed as close to the work 600 as possible. Therefore, it is more advantageous in securing the uniformity of ultraviolet irradiation compared to the conventional ultraviolet irradiation apparatus. On the other hand, preferably, as shown in FIG. 1, the reflective plate 400 is configured to face each other so that the four reflecting plates 400 are inclined downward. Through this, it is possible to improve the uniformity of the illuminance of ultraviolet rays.

챔버(300) 내부에는 워크(600)를 재치하기 위한 스테이지(700)가 구비된다. 스테이지(700)는 워크(600)의 이면을 지지하는 평판 형상을 갖는다. 바람직하게는 스테이지(700)의 표면에는 워크(600)를 흡착 지지하기 위한 진공 흡착 구멍(도시되지 않음)을 구비할 수 있다. A stage 700 for placing the work 600 is provided inside the chamber 300. The stage 700 has a flat plate shape supporting the back surface of the work 600. Preferably, a vacuum adsorption hole (not shown) for adsorbing and supporting the work 600 may be provided on the surface of the stage 700.

또한, 챔버(300) 외측 하방에는 스테이지(700)의 위치 조정을 위한 구동부(710, 720, 730, 740)가 구비된다. 구동부(710, 720, 730, 740)는 챔버(300) 외측 하방에 위치하는 기대(740), 기대(740)와 스테이지(700) 사이에 위치하여 스테이지(700)의 수평 방향의 이동을 조절하기 위한 얼라인먼트 스테이지(720), 얼라인먼트 스테이지(720), 기대(740)의 상부에 지지되어 얼라인먼트 스테이지(720)의 상하 방향 이동을 조절하기 위한 상하방향 이동기구(730), 챔버(300) 외부의 얼라인먼트 스테이지(720)와 챔버(300) 내부의 스테이지(700)를 연결하는 벨로우즈(710)를 포함한다. 바람직하게는 얼라인먼트 스테이지(720), 상하방향 이동기구(730) 등은 서보모터 등을 이용하여 제어 대상의 수평방향 또는 상하 방향의 이동을 제어한다. Further, driving units 710, 720, 730, and 740 for adjusting the position of the stage 700 are provided below the outside of the chamber 300. The driving units 710, 720, 730, and 740 are positioned between the base 740 and the base 740 and the stage 700 located below the outside of the chamber 300 to control the movement of the stage 700 in the horizontal direction. The alignment stage 720 for the alignment stage 720, the alignment stage 720, a vertical movement mechanism 730 for adjusting the vertical movement of the alignment stage 720 by being supported on the upper part of the base 740, alignment outside the chamber 300 It includes a bellows 710 connecting the stage 720 and the stage 700 inside the chamber 300. Preferably, the alignment stage 720, the vertical movement mechanism 730, and the like control movement of the control object in the horizontal direction or the vertical direction using a servo motor or the like.

상기한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 스테이지(700)를 구동하기 위한 구동부(710, 720, 730, 740)가 챔버(300)의 외부에 구비되어 있어, 종래 자외선 조사 장치와 대비하여 챔버(300)의 소형화가 가능하게 된다. 이에 따라, 종래 자외선 조사 장치와 대비하여 챔버(300) 내부의 분위기 조절 및 파티클 발생 등을 보다 용이하게 제어할 수 있게 된다. As described above, according to a preferred embodiment of the present invention, the driving units 710, 720, 730, and 740 for driving the stage 700 are provided outside the chamber 300, compared to the conventional ultraviolet irradiation apparatus. Thus, the chamber 300 can be miniaturized. Accordingly, compared to the conventional ultraviolet irradiation apparatus, it is possible to more easily control the atmosphere inside the chamber 300 and the generation of particles.

자외선 조사부(100)와, 후술하는 반사판(400) 사이에는 자외선 조사부(100)로부터 조사되는 자외선을 투과시키는 자외선 투과부(200)가 구비된다. 자외선 투과부(200)는 원하는 파장의 자외선만 투과가 가능하게 형성되는 광학 필터로서, 쿼츠, 파이렉스, 크리스탈, 유리 등의 재질로 형성될 수 있다. 자외선 조사부(100)로부터 조사되는 자외선은, 자외선 투과부(200)를 투과하여 챔버(300) 내의 워크(600)에 조사된다. 상기한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 자외선 투과부(200)의 위치가 반사판(400)과 자외선 조사부(100) 사이에 위치하게 되고, 반사판(400)은 광경로 상에 있어서 자외선 투과부(200)의 하류에 위치하게 된다. 이 경우, 자외선 램프(120)로부터 방사되는 광이 램프 하우스(110) 내부의 광학 미러를 통해 집광되고, 집광된 광을 자외선 투과부(200)를 통해 투과시키고, 투과된 자외선은 챔버(300) 내에 설치된 반사판(400)에 의해 반사되게 된다. 이를 통해, 도 5에 도시된 종래의 자외선 조사 장치에 비해, 조도 균일도를 향상시킬 수 있다. Between the ultraviolet irradiation unit 100 and the reflective plate 400 to be described later, an ultraviolet transmitting unit 200 for transmitting ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet irradiating unit 100 is provided. The ultraviolet transmitting part 200 is an optical filter formed to transmit only ultraviolet rays of a desired wavelength, and may be formed of a material such as quartz, Pyrex, crystal, and glass. The ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet irradiation unit 100 pass through the ultraviolet transmission unit 200 and are irradiated to the work 600 in the chamber 300. According to the preferred embodiment of the present invention, the position of the ultraviolet transmitting part 200 is located between the reflecting plate 400 and the ultraviolet irradiating part 100, and the reflecting plate 400 is on the optical path, and the ultraviolet transmitting part 200 It is located downstream of. In this case, the light emitted from the ultraviolet lamp 120 is condensed through the optical mirror inside the lamp house 110, and the collected light is transmitted through the ultraviolet transmitting unit 200, and the transmitted ultraviolet rays are transmitted in the chamber 300. It is reflected by the installed reflector 400. Through this, compared to the conventional ultraviolet irradiation apparatus shown in FIG. 5, it is possible to improve the illuminance uniformity.

또한, 바람직하게는, 자외선 투과부(200)는 자외선 조사부(100)를 구성하는 복수의 램프 하우스(120)의 광출사 개구부에 각각 구비되는 자외선 투과창(200)으로 구성된다. 도 2에서는 상기한 구조를 갖는 조외선 조사 장치를 위에서 바라보았을 때의 워크(600), 자외선 투과부(200)의 배치 구조를 나타내고 있다. 도 2에서 도시된 바와 같이, 자외선 투과부는 복수개의 자외선 투과창(200)과 각각의 자외선 투과창(200)의 외주를 지지하는 지지 프레임(210)으로 구성된다. 도 2에서 도시되지는 않았지만, 도 1에서 도시된 바에 의하면, 자외선 투과창(200)을 지지하는 지지 프레임(210)은 자외선 조사부(100)의 램프 하우스(120)의 광출사부 상에서 자외선 투과창(200)을 지지하게 된다. 도 2에서 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 자외선 조사 장치에서는 자외선 투과부가 복수의 자외선 조사부(100)에 각각 구비되는 소형의 자외선 투과창(200)으로 구성되어 있는바, 개별적인 자외선 투과창(300)의 크기는 워크(600)의 크기와 대비하여 현저히 작다. 따라서, 도 7에서 도시된 종래의 자외선 조사 장치와는 달리, 워크(600)가 대형화하는 경우에도, 워크(600)의 대형화에 따라 추가되는 자외선 조사부(100)의 조사 영역에 대응되는 자외선 투과창(200)을 추가하는 것만으로 대응가능한바, 자외선 투과부의 내구성 및 안정성을 높일 수 있으며, 자외선 투과부(200)의 자중에 의한 휨을 방지할 수 있고, 자외선 투과부(200)를 얇게 할 수 있어, 조도의 균일도를 확보할 수 있게 된다. In addition, preferably, the ultraviolet transmitting unit 200 is composed of an ultraviolet transmitting window 200 provided at each of the light exit openings of the plurality of lamp houses 120 constituting the ultraviolet irradiating unit 100. In FIG. 2, the arrangement structure of the work 600 and the ultraviolet-transmitting part 200 when the ultraviolet ray irradiation apparatus having the above-described structure is viewed from above is shown. As shown in FIG. 2, the ultraviolet transmitting part is composed of a plurality of ultraviolet transmitting windows 200 and a support frame 210 supporting the outer periphery of each of the ultraviolet transmitting windows 200. Although not shown in FIG. 2, as shown in FIG. 1, the support frame 210 supporting the ultraviolet transmitting window 200 is an ultraviolet transmitting window on the light output part of the lamp house 120 of the ultraviolet irradiating unit 100. (200) will be supported. As shown in FIG. 2, in the ultraviolet irradiation apparatus according to the preferred embodiment of the present invention, the ultraviolet ray transmitting part is composed of a small ultraviolet ray transmitting window 200 provided in each of the plurality of ultraviolet ray irradiating units 100, and individual ultraviolet rays The size of the transmission window 300 is significantly smaller than the size of the work 600. Therefore, unlike the conventional ultraviolet irradiation apparatus shown in FIG. 7, even when the work 600 is enlarged, an ultraviolet transmission window corresponding to the irradiation area of the ultraviolet irradiation unit 100 added according to the enlargement of the work 600 Since it is possible to respond only by adding 200, it is possible to increase the durability and stability of the UV-transmitting portion, prevent bending due to the self-weight of the UV-transmitting portion 200, and make the UV-transmitting portion 200 thin, so that the illuminance It is possible to ensure the uniformity of.

도 1에 도시된 바와 같이, 바람직하게는 반사판(400)과 워크(600) 사이에 마스크 기판(500)이 구비될 수 있다. 마스크 기판(500) 상에는 소정의 패턴이 형성되어 있어, 마스크 기판(500)을 투과하는 자외선이 워크(600) 상에 소정 패턴으로 조사되게 할 수 있다. 또한, 마스크 기판(500)은 챔버(300) 내에 교체 가능하게 장착되어 있어, 필요한 패턴을 갖는 마스크 기판(500)을 선택하여 챔버(300) 내에 교체 장착하는 것이 가능하게 된다. As shown in FIG. 1, preferably, a mask substrate 500 may be provided between the reflective plate 400 and the work 600. Since a predetermined pattern is formed on the mask substrate 500, ultraviolet rays that pass through the mask substrate 500 may be irradiated onto the work 600 in a predetermined pattern. In addition, since the mask substrate 500 is mounted in the chamber 300 to be replaceable, it is possible to select a mask substrate 500 having a required pattern and replace it in the chamber 300.

이하에서는 도 4a 내지 도 4c 및 도 8a 내지 도 8c를 참조하여, 종래 자외선 조사 장치 대비 본 발명에 따른 자외선 조사 장치의 작용 효과에 대해서 설명한다. Hereinafter, with reference to FIGS. 4A to 4C and FIGS. 8A to 8C, the effect of the ultraviolet irradiation device according to the present invention will be described as compared to the conventional ultraviolet irradiation device.

도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 조사 장치에 의해 조사되는 자외선의 광경로를 나타내는 도면이고, 도 8b는, 도 5에 도시된 종래의 자외선 조사 장치에 의해 조사되는 자외선의 광경로를 나타내는 도면이다. 4A is a view showing an optical path of ultraviolet rays irradiated by an ultraviolet irradiating device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 8B is a diagram illustrating an optical path of ultraviolet rays irradiated by the conventional ultraviolet irradiating device shown in FIG. 5. It is a drawing showing.

도 4a와 도 8a를 대비하여 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 자외선 조사 장치에 의하면, 반사판(400)의 상류 측에 자외선 투과부(200)가 구비되어 있어 반사판(400)과 워크(600)를 더 가까이 위치시킬 수 있는바, 반사판(20)의 하부에 자외선 뷰포트(30)가 설치된 종래 자외선 조사 장치와 대비하여, 자외선이 워크(600) 상에 보다 균일하게 도달하게 된다. As can be seen in comparison between FIGS. 4A and 8A, according to the ultraviolet irradiation apparatus according to the present invention, the ultraviolet transmitting part 200 is provided on the upstream side of the reflecting plate 400, so that the reflecting plate 400 and the work 600 As compared to the conventional ultraviolet irradiation apparatus in which the ultraviolet viewport 30 is installed under the reflective plate 20, the ultraviolet rays reach more uniformly on the work 600.

도 4b와 도 4c는 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 조사 장치에 의해, 워크 상에 조사되는 자외선의 조사 상태(워크 표면 상의 자외선 조도)를 나타내는 도면 및 그래프이고, 도 8b 및 8c는, 도 5에 도시된 종래의 자외선 조사 장치에 의해, 워크 상에 조사되는 자외선의 조사 상태를 나타내는 도면 및 그래프이다. 4B and 4C are views and graphs showing an irradiation state (ultraviolet irradiance on a work surface) of ultraviolet rays irradiated onto a work by an ultraviolet irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 8B and 8C are, It is a figure and a graph which show the state of irradiation of ultraviolet rays irradiated on a work by the conventional ultraviolet irradiation apparatus shown in FIG.

도 4b, 도 4c, 도 8b 및 도 8c의 도시 내용에 따르면, 본 발명에 따른 자외선 조사 장치에서는 워크(600)의 표면 전체에 걸쳐 균일하게 높은 자외선 조사량을 보이나. 종래 자외선 조사 장치에서는, 전반적으로 조사량이 본원 발명에 따른 조사 장치보다 낮고, 워크(600)의 중심부에 있어서 수직 방향으로 자외선 조사가 집중되는 것을 알 수 있다. According to the contents of FIGS. 4B, 4C, 8B and 8C, the ultraviolet irradiation apparatus according to the present invention uniformly shows a high ultraviolet irradiation dose over the entire surface of the work 600. In the conventional ultraviolet irradiation device, it can be seen that the amount of irradiation is generally lower than that of the irradiation device according to the present invention, and the ultraviolet irradiation is concentrated in the vertical direction in the central portion of the work 600.

상기한 시험 결과를 구체적인 수치로 도표화 하면 하기의 표 1과 같다. 표 1에서는 크기가 2500×2200(mm)인 워크에 대해서, 본 발명에 따른 자외선 조사 장치(실시예)와 도 5에서 도시된 종래의 자외선 조사 장치(비교예)에 의해 각각 자외선 조사 처리를 실시한 결과를 나타낸다. When the above test results are plotted with specific values, they are shown in Table 1 below. In Table 1, for a workpiece having a size of 2500 × 2200 (mm), ultraviolet irradiation treatment was performed by an ultraviolet irradiation apparatus according to the present invention (Example) and a conventional ultraviolet irradiation apparatus (Comparative Example) shown in FIG. Show the results.

[표 1][Table 1]

Figure pat00001
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표 1에서 나타나 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 자외선 조사 장치에 의하면, 종래 자외선 조사 장치와 대비하여 조도 균일도가 약 29%에서 약10%로 3배 가량 상승하게 되는 것을 알 수 있다. 조도의 최대값 또한 종래 자외선 조사 장치와 대비하여 30% 이상 향상되는 것을 알 수 있으며, 워크 전체에서의 평균 조도도 종래 자외선 조사 장치 대비 20% 이상 향상되는 것을 알 수 있다. As shown in Table 1, according to the ultraviolet irradiation apparatus according to the present invention, it can be seen that the illuminance uniformity is increased three times from about 29% to about 10% compared to the conventional ultraviolet irradiation apparatus. It can be seen that the maximum value of the illuminance is also improved by 30% or more compared to the conventional ultraviolet irradiation device, and the average illuminance in the entire work is also improved by 20% or more compared to the conventional ultraviolet irradiation device.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고하여 설명되었으나, 이는 예시에 불과하며, 본 발명의 보호범위는 상기한 실시예로 제한되지 않고, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 수정 및 변형이 가능하다. The present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but these are only examples, and the scope of protection of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains. It can be modified and transformed.

Claims (10)

처리 대상인 워크에 자외선을 조사하는 자외선 조사부;
상기 자외선 조사부로부터 조사되는 자외선을 투과시키는 자외선 투과부;
상기 자외선 조사부의 하방에 구비되고, 자외선 처리 공간을 형성하는 챔버;
상기 챔버 내에 구비되고, 상기 워크가 재치되는 스테이지;를 구비하는 자외선 조사 장치에 있어서,
상기 챔버 내에는, 상기 자외선 조사부로부터 조사되는 자외선을 반사시키는 반사판이 구비되는 것을 특징으로 하는 자외선 조사 장치.An ultraviolet irradiation unit for irradiating ultraviolet rays to the workpiece to be treated;
An ultraviolet transmitting unit for transmitting ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet irradiating unit;
A chamber provided below the ultraviolet irradiation unit and forming an ultraviolet treatment space;
In the ultraviolet irradiation apparatus including; a stage provided in the chamber and on which the work is placed,
An ultraviolet irradiation apparatus, characterized in that the chamber is provided with a reflector for reflecting ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet irradiation unit. 청구항 1에 있어서,
상기 자외선 조사부는, 자외선 램프와 상기 자외선 램프를 그 내부에 수용하는 램프 하우스로 구성되고,
상기 자외선 투과부는, 상기 램프 하우스와 상기 반사판 사이에 구비되는 것을 특징으로 하는 자외선 조사 장치. The method according to claim 1,
The ultraviolet irradiation unit is composed of an ultraviolet lamp and a lamp house accommodating the ultraviolet lamp therein,
The ultraviolet irradiation device, characterized in that provided between the lamp house and the reflecting plate. 청구항 2에 있어서,
상기 자외선 조사부는, 각각 자외선 램프를 내설한 복수의 램프 하우스로 구성되고,
상기 자외선 투과부는 상기 복수의 램프 하우스의 광출사 개구부에 각각 구비되는 자외선 투과창으로 구성되는 것을 특징으로 하는 자외선 조사 장치.The method according to claim 2,
The ultraviolet irradiation unit is composed of a plurality of lamp houses each having an ultraviolet lamp,
The ultraviolet irradiation device, characterized in that the ultraviolet light transmitting part is composed of an ultraviolet light transmitting window provided in each of the light exit opening of the plurality of lamp houses. 청구항 1에 있어서,
상기 챔버의 외측 하방에는 상기 스테이지를 구동하기 위한 구동부가 구비되는 것을 특징으로 하는 자외선 조사 장치.The method according to claim 1,
Ultraviolet irradiation apparatus, characterized in that the driving unit for driving the stage is provided below the outer side of the chamber. 청구항 1에 있어서,
상기 챔버의 상방에는, 상기 챔버의 상방에 구비된 공급구로부터 챔버 내부의 워크를 향해 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급부가 구비되는 것을 특징으로 하는 자외선 조사 장치.The method according to claim 1,
An ultraviolet irradiation apparatus, characterized in that, above the chamber, an inert gas supply unit for supplying an inert gas to a work in the chamber from a supply port provided above the chamber is provided. 청구항 5에 있어서,
상기 자외선 조사부는, 각각 자외선 램프를 내설한 복수의 램프 하우스로 구성되고,
상기 복수의 램프 하우스의 광출사부는 상기 챔버 내에 수용되고,
상기 공급구는 상기 복수의 램프 하우스의 광출사부 사이에 복수개 배치되는 것을 특징으로 하는 자외선 조사 장치. The method of claim 5,
The ultraviolet irradiation unit is composed of a plurality of lamp houses each having an ultraviolet lamp,
The light output portions of the plurality of lamp houses are accommodated in the chamber,
The ultraviolet irradiation apparatus, characterized in that a plurality of the supply ports are disposed between the light output portions of the plurality of lamp houses. 청구항 5에 있어서,
상기 챔버의 측방에는, 상기 챔버 내부의 공기를 외부로 배기하기 위한 배기구가 구비되는 것을 특징으로 하는 자외선 조사 장치. The method of claim 5,
An ultraviolet irradiation apparatus, characterized in that an exhaust port for exhausting the air inside the chamber to the outside is provided at the side of the chamber. 청구항 7에 있어서,
상기 챔버의 측방에 구비된 상기 배기구로부터, 상기 챔버의 상방에 구비된 토출구 사이를 연장하고, 상기 챔버 내부의 공기가 배출되는 유로를 형성하는 배기 덕트를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 자외선 조사 장치. The method of claim 7,
And an exhaust duct extending from the exhaust port provided on the side of the chamber to the discharge port provided above the chamber and forming a flow path through which air inside the chamber is discharged. 청구항 1에 있어서,
상기 반사판은, 4개의 반사판이 하방으로 경사지도록 서로 대향 배치되는 것을 특징으로 하는 자외선 조사 장치. The method according to claim 1,
The reflecting plates are arranged to face each other so that the four reflecting plates are inclined downward. 청구항 1에 있어서,
상기 반사판과, 상기 워크가 재치되는 상기 스테이지 사이에는, 소정의 마스크 패턴을 가지는 마스크 기판이 구비되는 것을 특징으로 하는 자외선 조사 장치.The method according to claim 1,
An ultraviolet irradiation apparatus, wherein a mask substrate having a predetermined mask pattern is provided between the reflector and the stage on which the work is placed.
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