KR20210016663A - 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템과 이를 실행하는 방법 - Google Patents

폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템과 이를 실행하는 방법 Download PDF

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Abstract

폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하는 복수의 메쉬 필터, 상기 복수의 메쉬 필터에서 배출된 제1 필터링 현상폐액이 저장되는 버퍼 탱크, 상기 버퍼 탱크에서 유입된 상기 제1 필터링 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하는 재생 필터, 상기 재생 필터에서 배출된 제2 필터링 현상폐액이 저장되는 공급 탱크, 상기 공급 탱크에서 유입된 상기 제2 필터링 현상폐액에서 이물질(Particle)을 필터링하여 배출하는 케미칼 필터 및 상기 복수의 메쉬 필터 중 제1 메쉬 필터 및 상기 재생 필터 중 어느 하나의 재생 필터 각각으로 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 제1 필터링 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었는지 여부 및 상기 제2 필터링 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거되었는지 여부를 판단하고, 상기 판단 결과에 따라 상기 이상이 발생한 메쉬 필터에 역세 방향으로 세정액을 투입하여 해당 필터를 재생하는 제어 장치를 포함한다.

Description

폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템과 이를 실행하는 방법{SYSTEM FOR REMOVING PHOTORESIST HAVING POLYIMIDE AND RECYCLING FILTER AND METHOD PERFORMING THEREOF}
본 발명은 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템과 이를 실행하는 방법에 관한 것이다.
오늘날과 같은 정보화 사회에 있어서 전자 디스플레이 장치(electronic display device)의 역할은 갈수록 중요해지며, 각종 전자 디스플레이 장치가 다양한 산업 분야에 광범위하게 사용되고 있다. 이러한 전자 디스플레이 분야는 발전 을 거듭하여 다양화하는 정보화 사회의 요구에 적합한 새로운 기능의 전자 디스플레이 장치로 지속적으로 개발되고 있다.
일반적으로 전자 디스플레이 장치란 다양한 정보를 시각을 통하여 인간에게 전달하는 장치를 말한다. 즉, 각종 전자 기기로부터 출력되는 전기적 정보 신호를 인간의 시각으로 인식 가능한 광 정보 신호로 변환하는 전자 장치라고 정의 될 수 있으며, 인간과 전자기기를 연결하는 가교적인 역할을 담당하는 장치로 정의될 수도 있다.
이러한 전자 디스플레이 장치는 광 정보 신호가 발광 현상에 의해 표시되는 경우에는 발광형 표시(emissive display) 장치로 불려지며, 반사, 산란, 간섭 현상 등에 의하여 광 변조로 표시되는 경우에는 수광형 표시(non-emissive displ ay) 장치로 일컬어진다.
능동형 표시 장치라고도 불리는 상기 발광형 표시 장치로는 음극선관(cathode ray tube; CR T), 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel; PDP), 발광 다이오드(light emitting diode; LED) 및 일렉트로 루미네슨트 디스플레이(electroluminescent display; ELD) 등을 들 수 있다. 또한, 수동형 표시 장치인 상기 수광형 표시 장치에는 액정표시장치(liquid crystal display; LCD) (electrochemical display; ECD) 및 전기 영동 표시 장치 (electrophoretic image display; EPID) 등이 해당된다.
텔레비전이나 컴퓨터용 모니터 등과 같은 화상 표시 장치에 사용되는 가장 오랜 역사를 갖는 디스플레이 장치인 음극 선관(CRT)은 표시 품질 및 경제성 등의 면에서 가장 높은 점유율을 차지하고 있으나, 무거운 중량, 큰 용적 및 높은 소비 전력 등과 같은 많은 단점을 가지고 있다.
그러나, 반도체 기술의 급속한 진보에 의하여 각종 전자 장치의 고체화, 저 전압 및 저 전력화와 함께 전자 기기의 소형화 및 경량화에 따라 새로운 환경에 적합한 전자 디스플레이 장치가 필요하게 되었다. 즉 얇고 가벼우면서도 낮은 구동 전압 및 낮은 소비 전력의 특징을 갖춘 평판 패널(flat panel)형 디스플레이 장치에 대한 요구가 급격히 증대하고 있는 것이다.
현재 개발된 여러 가지 평판 디스플레이 장치 가운데 액정표시장치는 다른 디스플레이 장치에 비하여 얇고 가벼우며, 낮은 소비 전력 및 낮은 구동 전압을 갖추고 있는 동시에 음극선관에 가까운 화상 표시가 가능하기 때문에 다양한 전 자 장치에 광범위하게 사용되고 있다. 또한, 액정표시장치는 제조가 용이하기 때문에 더욱 그 적용 범위를 확장해가고 있다.
이러한 액정표시장치의 제조에 있어서는 글래스의 대형화, 패널의 고정세화 추세에 따라 글래스 조건과 부합된 관련 공정의 조건에 적합한 포토레지스트 조성물이 적용되고 있다.
특히, 미세 회로의 제조 공정 중에서 포토리소그래피(photolithography) 공정은 라인 생산량을 결정하는 중요한 공정으로서, 포토레지스트막의 감도 특성, 현상 콘트라스트, 해상도, 기판과의 접착력, 잔막 특성 등이 후속되는 식각 공정에 의해 제조되는 미세 회로의 품질이 직접적인 영향을 미치게 된다.
따라서, 현상폐액에 포함된 포토레지스트(photoresist)를 여과시켜 현상폐액을 재생시키는 시스템이 요구된다.
본 발명은 복수의 필터 중 어느 하나의 필터를 메인 필터로 설정하고 나머지 필터를 대기 필터로 설정함으로써 메인 필터에 이상이 발생 시 나머지 필터 중 어느 하나의 필터를 메인 필터로 설정하여 현상폐액의 알칼리 농도를 낮추는 요소를 효율적으로 필터링할 수 있도록 하는 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템과 이를 실행하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 메인 필터로 설정된 필터에 압력 차이가 발생 시 자동으로 감지하여 대기 상태로 설정된 필터를 메인 필터로 설정한 후 재생 공정이 자동 전환되게 하여 전체 시스템 공정 진행을 중단하지 않고 현상폐액 재생공정을 수행할 수 있는 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템과 이를 실행하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 현상액 재생 시스템으로부터 필터를 분리하지 않고 시스템 내에서 역세를 포함한 즉석세정(CIP:Cleaning In Place)이 가능하게 하여, 현상액 재생 시스템 내의 일부 필터에서는 현상액을 재생하고, 이와 동시에 현상액 재생 시스템 내의 다른 필터에서는 역세를 포함한 즉석세정(CIP)을 함으로써, 현 상액 재생 공정의 효율을 높일 수 있는 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템과 이를 실행하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있고, 본 발명의 실시예에 의해 보다 분명하게 이해될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허 청구 범위에 나타낸 수단 및 그 조합에 의해 실현될 수 있음을 쉽게 알 수 있을 것이다.
이러한 목적을 달성하기 위한 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하는 복수의 메쉬 필터, 상기 복수의 메쉬 필터에서 배출된 제1 필터링 현상폐액이 저장되는 버퍼 탱크, 상기 버퍼 탱크에서 유입된 상기 제1 필터링 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하는 재생 필터, 상기 재생 필터에서 배출된 제2 필터링 현상폐액이 저장되는 공급 탱크, 상기 공급 탱크에서 유입된 상기 제2 필터링 현상폐액에서 이물질(Particle)을 필터링하여 배출하는 케미칼 필터 및 상기 복수의 메쉬 필터 중 제1 메쉬 필터 및 상기 재생 필터 중 어느 하나의 재생 필터 각각으로 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 제1 필터링 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었는지 여부 및 상기 제2 필터링 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거되었는지 여부를 판단하고, 상기 판단 결과에 따라 상기 이상이 발생한 메쉬 필터에 역세 방향으로 세정액을 투입하여 해당 필터를 재생하는 제어 장치를 포함한다.
또한, 이러한 목적을 달성하기 위한 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법은 회수 탱크에 저장된 현상폐액이 상기 복수의 메쉬 필터 중 제1 메쉬 필터에 유입되면, 상기 제1 메쉬 필터가 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하는 단계, 상기 제1 메쉬 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었는지 여부를 확인하고 버퍼 탱크에 저장할지 또는 다시 회수 탱크에 저장할지를 결정하는 단계, 상기 확인 결과에 따라 제 1 메쉬 필터에 이상이 발생할 경우 역세 방향으로 세정을 하고 제 2 메쉬 필터로 자동 전환되는 단계, 상기 버퍼 탱크에 저장된 제1 필터링 현상폐액이 상기 재생 필터재생에 유입되면, 상기 재생 필터가 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하는 단계, 상기 재생 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 제1 필터링 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거되었는지 여부를 확인하고 공급 탱크에 저장할지 또는 다시 버퍼 탱크에 저장할지를 결정하는 단계, 상기 제 2 필터링 현상폐액에서 제 3 필터링으로 상시 이물질을 제거하고 현상기 요청에 따라 공급하는 단계를 포함한다.
전술한 바와 같은 본 발명에 의하면, 복수의 필터 중 어느 하나의 필터를 메인 필터로 설정하고 나머지 필터를 대기 필터로 설정함으로써 메인 필터에 이상이 발생 시 나머지 필터 중 어느 하나의 필터를 메인 필터로 설정하여 현상폐액의 알칼리 농도를 낮추는 요소를 효율적으로 필터링할 수 있다는 장점이 있다.
또한 본 발명에 의하면, 메인 필터로 설정된 필터에 압력 차이가 발생 시 자동으로 감지하여 대기 상태로 설정된 필터를 메인 필터로 설정한 후 재생 공정이 자동 전환되게 하여 전체 시스템 공정 진행을 중단하지 않고 현상폐액 재생 공정을 수행할 수 있다는 장점이 있다.
또한 본 발명에 의하면, 현상액 재생 시스템으로부터 필터를 분리하지 않고 시스템 내에서 역세를 포함한 즉석세정(CIP:Cleaning In Place)이 가능하게 하여, 현상액 재생 시스템 내의 일부 필터에서는 현상액을 재생하고, 이와 동시에 현상액 재생 시스템 내의 다른 필터에서는 역세를 포함한 즉석세정(CIP)을 함으로써, 현상액 재생 공정의 효율을 높일 수 있다는 장점이 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템을 설명하기 위한 구성도이다.
도 2는 본 발명에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법의 일 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.
도 3은 본 발명에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법의 다른 일 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.
도 4은 본 발명에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법의 또 다른 일 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.
전술한 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 후술되며, 이에 따라 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 상세한 설명을 생략한다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 도면에서 동일한 참조부호는 동일 또는 유사한 구성요소를 가리키는 것으로 사용된다.
본 명세서에서 사용된 용어 중 “회수 탱크”는 현상프로세스에 공급되는 현상액의 폐액을 집수하는 저장 용기이다.
본 명세서에서 사용된 용어 중 “버퍼 탱크”는 폴리이미드가 제거된 제 1필터링 현상폐액을 집수하는 저장 용기이다.
본 명세서에서 사용된 용어 중 “공급 탱크”는 포토레지스트가 제거된 제 2필터링 현상폐액을 집수하는 저장 용기이다.
본 명세서에서 사용된 용어 중 “세정 탱크”는 신너, 초순수, 현상액 신액과 같은 세정액을 집수하는 저장 용기이다.
본 명세서에서 사용된 용어 중 “흡광도계”는 흡수되는 빛의 양은 그 물질의 농도에 따라 다른 원리인, 즉 빛이 액체를 투과할 때 흡수되는 빛의 세기를 측정하는 장치이다.
본 명세서에서 사용된 용어 중 “복수의 메쉬 필터”는 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하는 두 개 이상의 메쉬 필터를 의미한다.
본 명세서에서는 설명의 편의를 위해 복수의 메쉬 필터 중 제1 메쉬 필터만이 동작하며 제1 메쉬 필터의 이상이 발생 시 자동으로 다른 메쉬 필터가 동작된다.
본 명세서에서 사용된 용어 중 “재생 필터”는 제1 필터링 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하는 두 개 이상의 재생 필터를 의미한다.
본 명세서에서 사용된 용어 중 “케미칼 필터”는 제2 필터링 현상폐액에서 이물질(Particle)을 필터링하여 배출하는 필터를 의미한다.
본 명세서에서 사용된 용어 중 “제1 필터링 현상폐액”은 현상폐액에서 폴리이미드가 필터링된 후 배출되는 현상폐액을 의미한다.
본 명세서에서 사용된 용어 중 “제2 필터링 현상폐액”은 제1 필터링 현상폐액에서 포토레지스트가 필터링된 후 배출되는 현상폐액을 의미한다.본 명세서에서 사용된 용어 중 “폴리이미드가 포함된 포토레지스트”는 현상액의 알칼리 농도를 낮추는 요소이며, 가교제 성분으로 인하여 필터를 막히게 한다. 본 발명에서는 현상폐액 내에서 이를 제거한 재생액을 공급함으로써, 현상액의 사용량을 줄여 비용을 절감할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템을 설명하기 위한 구성도이다.
도 1을 참조하면, 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 회수 탱크(110), 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2), 세정 탱크(130), 버퍼 탱크(140), 재생 필터(150), 복수의 메쉬 필터 유입 압력 측정계(121_1, 121_2), 복수의 메쉬 필터 배출 압력 측정계(122_1, 122_2), 재생 필터 유입 압력 측정계(151), 재생 필터 배출 압력 측정계(152), 흡광도계(123, 153), 공급 탱크(160), 케미칼 필터(170) 및 제어 장치(180)를 포함한다.
회수 탱크(110)에 집수된 현상폐액은 펌프를 통해 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 중 제1 메쉬 필터(120_1)에 유입된다.
이러한 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각은 병렬로 구성되며, 이와 같은 이유는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 중 메인 장치로 설정된 제1 메쉬 필터(120_1)에 이상이 발생 시 자동으로 제2 메쉬 필터(120_2)가 메인 장치로 설정되고 이는 설비를 지속적으로 구동하기 위해서이다.
상기의 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각은 회수 탱크에서 유입된 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하고, 배출된 제1 필터링 현상폐액의 탁도를 흡광도계가 측정하여 설정된 탁도 설정 값 범위일 경우 버퍼 탱크(140)에 저장되고 아닐 경우 회수 탱크(110)에 다시 저장된다.
이때, 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각은 항상 동작하는 것이 아니라 제어 장치(180)의 제어에 따라 메인 장치로 설정된 제1 메쉬 필터(120_1)만이 동작하여 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출한다.
이를 위해, 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 중 제1 메쉬 필터(120_1)가 메인 장치로 동작할 때에는 제1 메쉬 필터(120_1)의 입구측 유로상에 형성된 현상폐액 유입 제어 밸브(V1)의 상태가 개방 상태로 변경되어 현상폐액이 제1 메쉬 필터(120_1)로 유입되며, 나머지 메쉬 필터(120_2)의 입구측 유로상에 형성된 현상폐액 유입 제어 밸브(V2)의 상태가 폐쇄 상태를 유지하여 현상폐액이 제2 메쉬 필터(120_2)에 유입되지 않도록 한다.
만일, 제1 메쉬 필터(120_1)에 이상이 발생 시 제어 장치(180)의 제어에 따라 제2 메쉬 필터(120_2)가 동작하여 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출한다.
이때, 제1 메쉬 필터(120_1)의 입구측 유로상에 형성된 현상폐액 유입 제어 밸브(V1)의 상태가 개방 상태에서 폐쇄 상태로 변경되어 현상폐액이 제1 메쉬 필터(120_1)에 유입되지 않도록 하며, 제2 메쉬 필터(120_2)의 입구측 유로상에 형성된 현상폐액 유입 제어 밸브(V2)의 상태가 폐쇄 상태에서 개방 상태로 변경되어 현상폐액이 제2 메쉬 필터(120_2)에 유입되도록 한다.
그런 다음, 제1 메쉬 필터(120_1)에 세정액을 역세 방향으로 투입하여 제1 메쉬 필터(120_1)가 세척될 수 있도록 한다. 세정액은 신너, 초순수 및 현상액 신액을 포함한다.
이를 위해, 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각의 배출측에는 세정 탱크(130)의 세정액을 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2)의 유입측에 도입한 후 순환시키는 세정관을 구비한다. 세정액 탱크에는 초순수탱크로부터 초순수(DIW)가 유입되는 배관 및 밸브과, 신너탱크에서 신너(thinner)가 유입되는 배관 및 밸브와, 현상액 신액탱크로부터 현상액(Developer)이 유입되는 배관 및 밸브를 구비한다.
재생 필터(150)는 버퍼 탱크(140)에서 유입된 제1 필터링 현상폐액을 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하고, 배출된 제2 필터링 현상폐액은 공급 탱크(160)에 저장된다.
이때, 재생 필터(150)는 항상 동작하는 것이 아니라 제어 장치(180)의 제어에 따라 동작하여 제1 필터링 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출한다.
복수의 메쉬 필터 유입 압력 측정계(121_1, 121_2)는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각의 입구측에 설치되며, 회수 탱크(110)로부터 현상폐액의 유입 압력을 측정하여 제어 장치(180)에 제공한다.
복수의 메쉬 필터 배출 압력 측정계(122_1, 122_2)는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각의 출구측에 설치되며, 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각에서 배출되는 제1 필터링 현상폐액의 배출 압력을 측정하여 제어 장치(180)에 제공한다.
재생 필터 유입 압력 측정계(151)는 재생 필터(150) 입구측에 설치되며, 제1 필터링 현상폐액의 유입 압력을 측정하여 제어 장치(180)에 제공한다.
재생 필터 배출 압력 측정계(152)는 재생 필터(150) 출구측에 설치되며, 재생 필터(150)에서 배출되는 제2 필터링 현상폐액의 배출 압력을 측정하여 제어 장치(180)에 제공한다.
메쉬 필터 흡광도계(123)는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 출구측에 설치되며, 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 각각에서 배출되는 제1 필터링 현상폐액의 탁도를 측정하여 제어 장치(180)에 제공한다.
재생 필터 흡광도계(153)는 재생 필터(150) 출구측에 설치되며, 재생 필터(150)에서 배출되는 제2 필터링 현상폐액의 탁도를 측정하여 제어 장치(180)에 제공한다.
공급 탱크(160)에는 재생 필터(150)에서 배출된 제2 필터링 현상폐액이 집수되며, 공급 탱크(160)에 집수된 제2 필터링 현상폐액은 케미칼 필터(170)를 통해 이물질(Particle)이 제거된다. 또한,케미칼 유입측과 배출측에 설치된 압력 측정계(171, 172)가 압력을 측정하여 제어 장치(180)에 제공한다.
제어 장치(180)는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 중 제1 메쉬 필터(120_1)로부터 유입된 제1 필터링 현상폐액을 이용하여 현상폐액에서 폴리이미드가 제거되었는지 여부를 확인한 후 확인 결과에 따라 제1 필터링 현상폐액을 버퍼 탱크(140) 또는 회수 탱크(110)에 저장되도록 제어한다.
일 실시예에서, 제어 장치(180)는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 중 제1 메쉬 필터(120_1)로부터 유입된 제1 필터링 현상폐액의 탁도 값이 설정 값 범위에 해당하면 제1 메쉬 필터(120_1)가 정상적으로 동작한다고 판단하며 제1 필터링 현상폐액을 버퍼 탱크(140)에 유입되도록 한다.
다른 일 실시예에서, 제어 장치(180)는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 중 제1 메쉬 필터(120_1)로부터 유입된 제1 필터링 현상폐액의 탁도 값이 설정 값 범위에 해당하지 않으면 제1 메쉬 필터(120_1)가 정상적으로 동작하지 않는다고 판단하며 제1 필터링 현상폐액을 다시 회수 탱크(110)에 유입되도록 한다.
제어 장치(180)는 복수의 메쉬 필터(120_1, 120_2) 중 제1 메쉬 필터(120_1)가 정상적으로 동작하지 않는 경우 역세 방향으로 세정액을 투입하여 제1 메쉬 필터(120_1)가 세정되도록 제어한다.
일 실시예에서, 제어 장치(180)는 제1 메쉬 필터 유입 압력 측정계(121_1)로부터 수신된 제1 메쉬 필터(120_1)의 유입 압력 및 제1 메쉬 필터 배출 압력 측정계(122_1)로부터 수신된 제1 메쉬 필터(120_1)의 배출 압력을 비교하여 압력 차이를 산출하고, 압력 차이가 설정 압력 이상이면 상기 제1 메쉬 필터(120_1)에 이상이 발생하였다고 판단하여 역세 방향으로 세정액을 투입하여 제1 메쉬 필터(120_1)가 세정되도록 제어한다.
다른 일 실시예에서, 제어 장치(180)는 제1 메쉬 필터 흡광도계(123_1)로부터 수신된 제1 필터링 현생폐액의 탁도가 제1 탁도 범위를 벗어나면, 제1 메쉬 필터(120_1)에 이상이 발생하였다고 판단하여 역세 방향으로 세정액을 투입하여 제1 메쉬 필터(120_1)가 세정되도록 제어한다.
즉, 제1 메쉬 필터(120_1)는 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하기 때문에 제1 메쉬 필터(120_1)에 이상이 없다면 제1 필터링 현상폐액의 탁도는 제1 탁도 범위에 해당할 것이고, 제1 메쉬 필터(120_1)에 이상이 있다면 제1 필터링 현상폐액의 탁도는 제1 탁도 범위를 벗어날 것이다.
상기에서, 제어 장치(180)는 제1 메쉬 필터(120_1)를 세정할 때 세정 탱크(130) 내 세정액으로 신너(Thinner)와 초순수(DIW), 현상액을 순차적으로 역세 방향으로 투입하여 제1 메쉬 필터(120_1)가 세정될 수 있도록 한다.
제어 장치(180)는 재생 필터(150)로부터 유입된 제2 필터링 현상폐액을 이용하여 현상폐액에서 포토레지스트가 제거되었는지 여부를 확인한 후 확인 결과에 따라 제2 필터링 현상폐액을 버퍼 탱크(140) 또는 공급 탱크(160)에 저장되도록 제어한다.
일 실시예에서, 제어 장치(180)는 재생 필터(150)로부터 유입된 제2 필터링 현상폐액의 탁도 값이 설정 값 범위에 해당하면 재생 필터(150)가 정상적으로 동작한다고 판단하며 제2 필터링 현상폐액을 공급 탱크(160)에 유입되도록 한다.
다른 일 실시예에서, 제어 장치(180)는 재생 필터(150)로부터 유입된 제2 필터링 현상폐액의 탁도 값이 설정 값 범위에 해당하지 않으면 재생 필터(150)가 정상적으로 동작하지 않는다고 판단하며 제2 필터링 현상폐액을 다시 버퍼 탱크(140)에 유입되도록 한다.
즉, 재생 필터(150)는 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하기 때문에 재생 필터(150)에 이상이 없다면 제2 필터링 현상폐액의 탁도는 제2 탁도 범위에 해당할 것이고, 재생 필터(150)에 이상이 있다면 제2 필터링 현상폐액의 탁도는 제2 탁도 범위를 벗어날 것이다.
제어 장치(180)는 공급 탱크(160)에 저장된 제2 필터링 현상폐액에서 케미칼 필터(170)를 통해 이물질(Particle)을 제거하고 현상기(200)로부터 공급 요청을 받을 경우 제어 밸브(V4)가 자동으로 유량을 조절할 수 있도록 제어한다.
도 2는 본 발명에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법의 일 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.
도 2를 참조하면, 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 회수 및 버퍼 탱크의 수위를 확인하고 설정된 조건과의 일치 여부를 판단한다(단계 S210).
폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 제1 메쉬 필터로 현상폐액을 이송하여 제 1 필터링을 진행한다(단계 S220).
폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 제 1 필터링 현상폐액의 탁도를 측정하여(단계 S230) 설정된 값과 일치할 경우 버퍼 탱크로 제 1 필터링 현상폐액을 저장하고(단계 S240), 설정된 값과 일치하지 않을 경우 회수 탱크로 제 1 필터링 현상폐액을 다시 저장한다.(단계 S250)
도 3은 본 발명에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법의 다른 일 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.
도 3을 참조하면, 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 현상폐액 제 1 필터링 진행 중 필터 압력 상승, 탁도 상승, 재생률 저하 등과 같은 문제 발생 여부를 판단하고(단계 S310), 문제 발생 시 제 1 메쉬 필터 작동은 정지한다(단계 S320).
폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 제 1 메쉬 필터 작동이 정지된 후 설정된 시간이 지나면 제 2 메쉬 필터로 자동 전환되어 현상폐액 제 1 필터링이 다시 진행된다.(단계 S330)
폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 정지된 제 1 메쉬 필터에는 역세 방향으로 세정액을 투입하여 설정된 시간 동안 순차적으로 세정 작업이 이뤄진 후 작동 대기 상태로 전환된다(단계 S340).
도 4는 본 발명에 따른 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법의 또 다른 일 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.
도 4을 참조하면, 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 버퍼 및 공급 탱크의 수위를 확인하고 설정된 조건과의 일치 여부를 판단한다(단계 S410). 그 후, 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 재생 필터로 현상폐액을 이송하여 제 2 필터링을 진행한다.(단계 S420)
폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 제 2 필터링 현상폐액의 탁도를 측정하여(단계 S430) 설정된 값과 일치할 경우 공급 탱크로 제 2 필터링 현상폐액을 저장하고(단계 S440), 설정된 값과 일치하지 않을 경우 회수 탱크로 제 2 필터링 현상폐액을 다시 저장한다(단계 S450).
폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템은 제 2 필터링 현상폐액은 상시 이물질이 제거되면서 공급 탱크에 저장되고 현상기로부터 공급 요청을 받게 되면 공급한다.(단계 S460)
이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 이는 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명 사상은 아래에 기재된 특허청구범위에 의해서만 파악되어야 하고, 이의 균등 또는 등가적 변형 모두는 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
110: 회수 탱크
120_1, 120_2: 복수의 메쉬 필터
121_1, 121_2: 복수의 메쉬 필터 유입 압력 측정계
122_1, 122_2: 복수의 메쉬 필터 배출 압력 측정계
123: 메쉬 필터 흡광도계
130: 세정 탱크
140: 버퍼 탱크
150: 재생 필터
151: 재생 필터 유입 압력 측정계
152: 재생 필터 배출 압력 측정계
153: 재생 필터 흡광도계
160: 공급 탱크
170 : 케미칼 필터
171: 케미칼 필터 유입 압력 측정계
172: 케미칼 필터 배출 압력 측정계
180: 제어 장치
200 : 현상기
V1, V2, V3, V4: 복수의 현상폐액 유량 제어 밸브

Claims (9)

  1. 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하는 복수의 메쉬 필터;
    상기 복수의 메쉬 필터에서 배출된 제1 필터링 현상폐액이 저장되는 버퍼 탱크;
    상기 버퍼 탱크에서 유입된 상기 제1 필터링 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하는 재생 필터;
    상기 재생 필터에서 배출된 제2 필터링 현상폐액이 저장되는 공급 탱크;
    상기 공급 탱크에서 유입된 상기 제2 필터링 현상폐액에서 이물질을 필터링하여 배출하는 케미칼 필터;
    상기 복수의 메쉬 필터 중 제1 메쉬 필터 및 상기 재생 필터 중 어느 하나의 재생 필터 각각으로 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 제1 필터링 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었는지 여부 및 상기 제2 필터링 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거되었는지 여부를 판단하고, 상기 판단 결과에 따라 상기 이상이 발생한 필터에 역세 방향으로 세정액을 투입하여 해당 필터를 재생하는 제어 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는
    폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 메쉬 필터의 입구측에 설치되어 상기 복수의 메쉬 필터에 유입되는 현상폐액의 압력을 측정하여 전송하는 제1 유입 압력 측정계;
    상기 복수의 메쉬 필터의 출구측에 설치되어 상기 복수의 메쉬 필터에서 배출되는 상기 제1 필터링 현상폐액의 배출 압력을 측정하여 전송하는 제1 메쉬 필터 배출 압력 측정계;
    상기 재생 필터 입구측에 설치되어 재생 필터에 유입되는 상기 제1 필터링 현상폐액의 압력을 측정하여 전송하는 재생 필터 유입 압력 측정계;
    상기 재생 필터 출구측에 설치되어 재생 필터에서 배출되는 상기 제2 필터링 현상폐액의 배출 압력을 측정하여 전송하는 압력 측정계;
    상기 케미칼 필터 입구측에 설치되어 케미칼 필터에 유입되는 상기 제2 필터링 현상폐액의 압력을 측정하여 전송하는 케미칼 필터 유입 압력 측정계;
    상기 케미칼 필터 출구측에 설치되어 케미칼 필터에서 배출되는 상기 제2 필터링 현상폐액의 배출 압력을 측정하여 전송하는 케미칼 배출 압력 측정계를 포함하는 것을 특징으로 하는
    폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제어 장치는
    상기 복수의 메쉬 필터 중 제1 메쉬 필터의 유입 압력 및 배출 압력과 상기 재생 필터 중 재생 필터의 유입 압력 및 배출 압력과 상기 케미칼 필터의 유입 압력 및 배출 압력을 수신하여 각각의 압력 차이를 산출하고, 상기 압력 차이에 따라 상기 제1 메쉬 필터 및 상기 재생 필터, 케미칼 필터 각각의 이상 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는
    폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제어 장치는
    상기 제1 메쉬 필터를 세정할 때 세정 탱크 내 세정액으로 신너(Thinner)와 초순수(DIW)와 현상액(Developer)을 순차적으로 역세 방향으로 투입하여 제1 메쉬 필터를 세정하고 자동으로 제2 메쉬 필터로 전환되는 것을 특징으로 하는
    폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템.
  5. 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 시스템에서 실행되는 폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법에 있어서,
    회수 탱크에 저장된 현상폐액이 상기 복수의 메쉬 필터 중 제1 메쉬 필터에 유입되면, 상기 제1 메쉬 필터가 현상폐액에서 폴리이미드를 필터링하여 제1 필터링 현상폐액을 배출하는 단계;
    상기 제1 메쉬 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었는지 여부를 확인하는 단계;
    상기 확인 결과에 따라 상기 제1 필터링 현상폐액을 회수 탱크에 저장하거나 버퍼 탱크에 저장, 또는 상기 제1 메쉬 필터에 역세 방향으로 세정액을 투입하여 해당 필터를 세정 단계;
    상기 버퍼 탱크에 저장된 제1 필터링 현상폐액이 상기 재생 필터에 유입되면, 상기 재생 필터가 현상폐액에서 포토레지스트를 필터링하여 제2 필터링 현상폐액을 배출하는 단계;
    상기 재생 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 제1 필터링 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거되었는지 여부를 확인하는 단계;
    상기 확인 결과에 따라 상기 제2 필터링 현상폐액을 버퍼 탱크에 저장하거나 공급 탱크에 저장하는 단계;
    상기 케미칼 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 공급 탱크에 저장된 상기 제2 필터링 현상폐액에서 상기 이물질이 제거되었는지 여부를 확인하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는
    폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제1 메쉬 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었는지 여부를 확인하는 단계는
    상기 제1 메쉬 필터에 유입되는 현상폐액의 유입 압력 및 상기 제1 메쉬 필터에서 배출되는 제1 필터링 현상폐액의 배출 압력을 수신하는 단계;
    상기 유입 압력 및 배출 압력 사이의 압력 차이를 산출하는 단계;
    상기 제1 메쉬 필터 흡광도계로부터 탁도를 수신하고 산출하는 단계; 및
    상기 압력 차이와 탁도에 따라 상기 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었다고 판단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는
    폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 재생 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 상기 제1 필터링 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거되었는지 여부를 확인하는 단계는
    상기 재생 필터에 유입되는 제1 필터링 현상폐액의 유입 압력 및 상기 재생 필터에서 배출되는 제2 필터링 현상폐액의 배출 압력을 수신하는 단계;
    상기 유입 압력 및 배출 압력 사이의 압력 차이를 산출하는 단계;
    상기 재생 필터 흡광도계로부터 탁도를 수신하고 산출하는 단계; 및
    상기 압력 차이와 탁도에 따라 상기 현상폐액에서 상기 폴리이미드가 제거되었다고 판단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는
    폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 확인 결과에 따라 상기 제1 필터링 현상폐액을 회수 탱크에 저장하거나 버퍼 탱크에 저장, 또는 상기 제1 메쉬 필터에 역세 방향으로 세정액을 투입하여 해당 필터를 세정하는 단계는
    상기 제1 메쉬 필터를 세정할 때 세정 탱크 내 세정액으로 신너(Thinner)와 초순수(DIW)와 현상액(Developer)을 순차적으로 역세 방향으로 투입하여 제1 메쉬 필터를 세정하고 자동으로 제2 메쉬 필터로 전환되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는
    폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법.
  9. 제 5항에 있어서,
    상기 케미칼 필터에 유입되는 현상폐액의 정보 및 배출되는 현상폐액의 정보를 기초로 공급 탱크에 저장된 상기 제2 필터링 현상폐액에서 상기 이물질이 제거되었는지 여부를 확인하는 단계는
    상기 케미칼 필터에 유입되는 제2 필터링 현상폐액의 유입 압력 및 상기 케미칼 필터에서 배출되는 제2 필터링 현상폐액의 배출 압력을 수신하는 단계;
    상기 유입 압력 및 배출 압력 사이의 압력 차이를 산출하는 단계;
    상기 압력 차이에 따라 상기 현상폐액에서 상기 이물질이 제거되었다고 판단하고 현상기로부터 공급 요청을 받을 경우 제어 밸브가 자동으로 유량을 조절할 수 있는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는
    폴리이미드를 포함한 포토레지스트 제거 및 재생 방법.
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