KR20200139327A - 이미지 센싱 장치 - Google Patents
이미지 센싱 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20200139327A KR20200139327A KR1020190065676A KR20190065676A KR20200139327A KR 20200139327 A KR20200139327 A KR 20200139327A KR 1020190065676 A KR1020190065676 A KR 1020190065676A KR 20190065676 A KR20190065676 A KR 20190065676A KR 20200139327 A KR20200139327 A KR 20200139327A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- signal
- pixel
- reset
- image sensing
- photoelectric device
- Prior art date
Links
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 53
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 29
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 11
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 8
- 101100191136 Arabidopsis thaliana PCMP-A2 gene Proteins 0.000 description 6
- 101100048260 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) UBX2 gene Proteins 0.000 description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 description 4
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 4
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 3
- 208000007138 otopalatodigital syndrome type 1 Diseases 0.000 description 3
- 102100026561 Filamin-A Human genes 0.000 description 2
- 101000913549 Homo sapiens Filamin-A Proteins 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 101150028119 SPD1 gene Proteins 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000005622 photoelectricity Effects 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
-
- H04N5/3741—
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/80—Constructional details of image sensors
- H10F39/803—Pixels having integrated switching, control, storage or amplification elements
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
- H04N25/766—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors comprising control or output lines used for a plurality of functions, e.g. for pixel output, driving, reset or power
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/60—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise
- H04N25/616—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise involving a correlated sampling function, e.g. correlated double sampling [CDS] or triple sampling
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
- H04N25/77—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components
- H04N25/771—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components comprising storage means other than floating diffusion
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
- H04N25/78—Readout circuits for addressed sensors, e.g. output amplifiers or A/D converters
-
- H04N5/378—
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/10—Integrated devices
- H10F39/12—Image sensors
- H10F39/18—Complementary metal-oxide-semiconductor [CMOS] image sensors; Photodiode array image sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/80—Constructional details of image sensors
- H10F39/802—Geometry or disposition of elements in pixels, e.g. address-lines or gate electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/80—Constructional details of image sensors
- H10F39/803—Pixels having integrated switching, control, storage or amplification elements
- H10F39/8037—Pixels having integrated switching, control, storage or amplification elements the integrated elements comprising a transistor
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
Description
도 2는 몇몇 실시예에 따른 이미지 센싱 장치의 개념적인(conceptual) 레이아웃을 도시한 도면이다.
도 3은 도 1의 픽셀 어레이와 아날로그 디지털 컨버터에 관한 블록도이다.
도 4는 도 3의 픽셀 어레이에 포함된 단위 픽셀 회로도이다.
도 5는 도 4의 커패시터를 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 도 4 회로의 동작을 설명하기 위한 타이밍도이다.
도 7 내지 도 10은 도 4 회로의 동작을 설명하기 위한 도면들이다.
도 11은 도 3의 아날로그 디지털 컨버터의 동작을 설명하기 위한 타이밍도이다.
도 12 내지 도 15는 몇몇 실시예에 따른 이미지 센싱 장치의 효과를 설명하기 위한 도면들이다.
도 16은 몇몇 실시예에 따른 이미지 센싱 장치의 단위 픽셀 회로도이다.
도 17은 도 16 회로의 동작을 설명하기 위한 타이밍도이다.
도 18은 도 16 회로에서 출력된 픽셀 신호가 램프 신호와 비교되는 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 19는 몇몇 실시예에 따른 이미지 센싱 장치의 픽셀 어레이의 회로도이다.
도 20은 몇몇 실시예에 따른 이미지 센싱 장치의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
SN: 스토리지 노드
FD: 플로팅 디퓨전
RT: 리셋 트랜지스터
DT: 구동 트랜지스터
ST: 선택 트랜지스터
C: 캐패시터
Claims (20)
- 일단에 리셋 신호가 제공되고 타단에 센싱 노드가 배치되는 광전 소자;
플로팅 디퓨전을 제1 전압으로 리셋시키는 리셋 트랜지스터;
상기 플로팅 디퓨전과 상기 센싱노드 사이에 배치된 캐패시터;
제2 전압을 이용하여, 상기 광전 소자에서 생성되는 전하로부터 픽셀 신호를 생성하는 구동 트랜지스터; 및
상기 픽셀 신호를 외부로 제공하는 선택 트랜지스터를 포함하되,
상기 선택 트랜지스터가 턴온되는 동안, 제1 시점에 상기 리셋 트랜지스터가 턴오프된 후, 상기 제1 시점보다 늦은 제2 시점에 상기 센싱 노드가 상기 리셋 신호에 의해 리셋되는 이미지 센싱 장치. - 제 1항에 있어서,
상기 광전 소자의 캐소드에는 상기 리셋 신호가 제공되고, 상기 광전 소자의 애노드는 상기 센싱 노드에 연결되는 이미지 센싱 장치. - 제 2항에 있어서,
상기 제1 전압과 상기 제2 전압은 서로 동일한 이미지 센싱 장치. - 제 1항에 있어서,
상기 광전 소자의 애노드에는 상기 리셋 신호가 제공되고, 상기 광전 소자의 캐소드는 상기 센싱 노드에 연결되는 이미지 센싱 장치. - 제 4항에 있어서,
상기 제1 전압은 상기 제2 전압보다 작은 이미지 센싱 장치. - 제 1항에 있어서,
상기 선택 트랜지스터가 턴온되는 동안, 상기 픽셀 신호는, 상기 제1 전압 레벨로부터 제1 레벨만큼 변화된 리셋 전압과 상기 제1 전압 레벨로부터 상기 제1 레벨보다 큰 제2 레벨만큼 변화된 시그널 전압을 포함하는 이미지 센싱 장치. - 제 6항에 있어서,
상기 제1 시점에서 상기 픽셀 신호는 상기 리셋 전압이고, 상기 제2 시점에서 상기 픽셀 신호는 상기 시그널 전압인 이미지 센싱 장치. - 제 1항에 있어서,
상기 캐패시터는,
원통 형상으로 형성된 상부 전극 및 하부 전극과,
상기 상부 전극과 하부 전극 사이에서 하부 전극의 표면을 따라 컨포멀하게(conformally) 배치된 유전막을 포함하는 이미지 센싱 장치. - 제 1항에 있어서,
상기 광전 소자는 유기 포토 다이오드(organic photo diode)를 포함하는 이미지 센싱 장치. - 적어도 하나의 픽셀이 배치된 픽셀 어레이; 및
상기 픽셀 어레이에 제1 및 제2 리셋 신호와, 선택 신호를 제공하는 타이밍 제너레이터를 포함하되,
상기 픽셀은,
일단에 제공된 상기 제1 리셋 신호를 이용하여 타단에 연결된 스토리지 노드를 리셋시키는 광전 소자와,
상기 제2 리셋 신호에 게이팅되어 플로팅 디퓨전을 리셋시키는 리셋 트랜지스터와,
상기 스토리지 노드와 상기 플로팅 디퓨전 사이에 배치된 커패시터와,
상기 광전 소자에서 생성된 전하로부터 픽셀 신호를 생성하는 구동 트랜지스터와,
선택 신호에 게이팅되어 상기 픽셀 신호를 외부로 출력하는 선택 트랜지스터를 포함하고,
상기 타이밍 제너레이터는, 상기 선택 신호를 인에이블시키는 동안, 상기 제2 리셋 신호를 먼저 디스에이블 시키고, 그 이후에 상기 제1 리셋 신호를 인에이블 시키는 이미지 센싱 장치. - 제 10항에 있어서,
상기 타이밍 제너레이터가 상기 제2 리셋 신호를 디스에이블 시키는 것은,
논리 하이 레벨(logical high level)의 상기 제2 리셋 신호를 논리 로우 레벨(logical low level)로 천이(transition)시키는 것을 포함하고,
상기 타이밍 제너레이터가 상기 제1 리셋 신호를 인에이블 시키는 것은,
논리 하이 레벨의 상기 제1 리셋 신호를 논리 로우 레벨로 천이시키는 것을 포함하는 이미지 센싱 장치. - 제 10항에 있어서,
상기 타이밍 제너레이터가 상기 제2 리셋 신호를 디스에이블 시키는 것은,
논리 하이 레벨의 상기 제2 리셋 신호를 논리 로우 레벨로 천이시키는 것을 포함하고,
상기 타이밍 제너레이터가 상기 제1 리셋 신호를 인에이블 시키는 것은,
논리 로우 레벨의 상기 제1 리셋 신호를 논리 하이 레벨로 천이시키는 것을 포함하는 이미지 센싱 장치. - 제 10항에 있어서,
상기 제2 리셋 신호가 디스에이블되어 상기 플로팅 디퓨전이 플로팅 상태에 있는 동안, 상기 스토리지 노드에는 상기 광전 소자에서 생성된 전하가 축적되는 이미지 센싱 장치. - 제 10항에 있어서,
로직회로 영역과, 상기 로직회로 영역 상에 배치되는 픽셀 어레이 영역을 더 포함하되,
상기 타이밍 제너레이터는 상기 로직회로 영역에 배치되고,
상기 커패시터 및 상기 광전 소자는 상기 픽셀 어레이 영역에 배치되는 이미지 센싱 장치. - 제 14항에 있어서,
상기 캐패시터는,
원통 형상으로 형성된 상부 전극 및 하부 전극과,
상기 상부 전극과 하부 전극 사이에서 하부 전극의 표면을 따라 컨포멀하게 배치된 유전막을 포함하는 이미지 센싱 장치. - 제1 광전 소자에서 생성되는 전하를 3개의 트랜지스터를 이용하여 제1 픽셀 신호로 생성하여 제1 비교기에 출력하는 제1 회로;
제2 광전 소자에서 생성되는 전하를 4개의 트랜지스터를 이용하여 제2 픽셀 신호롤 생성하여 제2 비교기에 출력하는 제2 회로; 및
상기 제1 비교기에 제1 램프 신호를 제공하고, 상기 제2 비교기에 제2 램프 신호를 제공하는 램프신호 생성기를 포함하되,
상기 램프신호 생성기는, 상기 제1 및 제2 픽셀 신호에 대한 센싱 주기 동안, 제1 크기의 제1 펄스와 상기 제1 크기보다 큰 제2 크기의 제2 펄스가 순차적으로 인가되는 제1 램프신호를 상기 제1 비교기에 제공하고, 제3 크기의 제3 펄스와 상기 제3 크기보다 큰 제4 크기의 제4 펄스가 순차적으로 인가되는 제2 램프신호를 상기 제2 비교기에 제공하는 이미지 센싱 장치. - 제 16항에 있어서,
상기 제1 회로는,
제1 플로팅 노드를 리셋 시키는 제1 리셋 트랜지스터와,
상기 제1 광전 소자에서 생성된 전하로부터 상기 제1 픽셀 신호를 생성하는 제1 구동 트랜지스터와,
상기 제1 픽셀 신호를 상기 제1 비교기에 전달하는 제1 선택 트랜지스터와,
상기 제1 플로팅 노드와 상기 제1 광전 소자 사이에 배치된 캐패시터를 포함하는 이미지 센싱 장치. - 제 17항에 있어서,
상기 제2 회로는,
제2 플로팅 노드를 리셋 시키는 제2 리셋 트랜지스터와,
상기 제2 광전 소자에서 생성된 전하로부터 상기 제2 픽셀 신호를 생성하는 제2 구동 트랜지스터와,
전송 신호를 제공받고 상기 제2 광전 소자에서 생성된 전하를 상기 제2 구동 트랜지스터에 전달하는 전송 트랜지스터와,
상기 제2 픽셀 신호를 상기 제2 비교기에 전달하는 제2 선택 트랜지스터를 포함하는 이미지 센싱 장치. - 제 16항에 있어서,
상기 램프신호 생성기는 램프 인에이블 신호를 제공받아 상기 제1 및 제2 램프신호를 생성하고,
상기 램프 인에이블 신호는 제1 시간 동안 인에이블된 후, 상기 제1 시간보다 긴 제2 시간 동안 인에이블되는 이미지 센싱 장치. - 제 16항에 있어서,
상기 제1 광전 소자는 유기 포토 다이오드를 포함하고,
상기 제2 광전 소자는 반도체 포토 다이오드를 포함하는 이미지 센싱 장치.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190065676A KR102743552B1 (ko) | 2019-06-04 | 2019-06-04 | 이미지 센싱 장치 |
US16/735,182 US11457164B2 (en) | 2019-06-04 | 2020-01-06 | Image sensing device |
CN202010493188.3A CN112040159B (zh) | 2020-06-03 | 图像感测设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190065676A KR102743552B1 (ko) | 2019-06-04 | 2019-06-04 | 이미지 센싱 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20200139327A true KR20200139327A (ko) | 2020-12-14 |
KR102743552B1 KR102743552B1 (ko) | 2024-12-16 |
Family
ID=73578829
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020190065676A KR102743552B1 (ko) | 2019-06-04 | 2019-06-04 | 이미지 센싱 장치 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11457164B2 (ko) |
KR (1) | KR102743552B1 (ko) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040095495A1 (en) * | 2002-09-30 | 2004-05-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Solid state imaging device and equipment using the same |
KR20060104197A (ko) * | 2005-03-29 | 2006-10-09 | 매그나칩 반도체 유한회사 | 아날로그 상호 연관된 이중 샘플링 기능을 수행하는cmos 이미지센서 |
KR20090090603A (ko) | 2008-02-21 | 2009-08-26 | 삼성전자주식회사 | 상호연관 이중 샘플링 회로 |
KR20130099849A (ko) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 이미지 센서, 카메라, 감시 시스템, 및 이미지 센서의 구동 방법 |
KR20190056902A (ko) * | 2017-11-17 | 2019-05-27 | 삼성전자주식회사 | 이미지 센서 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3664035B2 (ja) | 1999-03-29 | 2005-06-22 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 固体撮像装置 |
US7071505B2 (en) | 2003-06-16 | 2006-07-04 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for reducing imager floating diffusion leakage |
GB2429864B (en) * | 2005-09-01 | 2008-09-24 | Micron Technology Inc | Method and apparatus providing pixel array having automatic light control pixels and image capture pixels |
JP4386113B2 (ja) * | 2007-08-03 | 2009-12-16 | ソニー株式会社 | 参照電圧回路および撮像回路 |
KR101962261B1 (ko) * | 2011-07-15 | 2019-03-26 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 반도체 장치의 구동 방법 |
US8836626B2 (en) | 2011-07-15 | 2014-09-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for driving the same |
US9490373B2 (en) * | 2012-02-02 | 2016-11-08 | Sony Corporation | Solid-state imaging device and electronic apparatus with improved storage portion |
JP2013187728A (ja) | 2012-03-08 | 2013-09-19 | Konica Minolta Inc | 固体撮像装置 |
KR102441803B1 (ko) | 2014-09-02 | 2022-09-08 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 촬상 장치 및 전자 기기 |
JP6555609B2 (ja) | 2015-04-24 | 2019-08-07 | Tianma Japan株式会社 | イメージセンサ |
US10535695B2 (en) * | 2018-03-13 | 2020-01-14 | Stmicroelectronics (Research & Development) Limited | Stacked wafer arrangement for global shutter pixels utilizing capacitive deep trench isolations |
JP7402606B2 (ja) * | 2018-10-31 | 2023-12-21 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 固体撮像装置及び電子機器 |
-
2019
- 2019-06-04 KR KR1020190065676A patent/KR102743552B1/ko active IP Right Grant
-
2020
- 2020-01-06 US US16/735,182 patent/US11457164B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20040095495A1 (en) * | 2002-09-30 | 2004-05-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Solid state imaging device and equipment using the same |
KR20060104197A (ko) * | 2005-03-29 | 2006-10-09 | 매그나칩 반도체 유한회사 | 아날로그 상호 연관된 이중 샘플링 기능을 수행하는cmos 이미지센서 |
KR20090090603A (ko) | 2008-02-21 | 2009-08-26 | 삼성전자주식회사 | 상호연관 이중 샘플링 회로 |
KR20130099849A (ko) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 이미지 센서, 카메라, 감시 시스템, 및 이미지 센서의 구동 방법 |
KR20190056902A (ko) * | 2017-11-17 | 2019-05-27 | 삼성전자주식회사 | 이미지 센서 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200388645A1 (en) | 2020-12-10 |
US11457164B2 (en) | 2022-09-27 |
KR102743552B1 (ko) | 2024-12-16 |
CN112040159A (zh) | 2020-12-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7072362B2 (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 | |
US9961262B2 (en) | Solid-state imaging device having a switchable conversion gain in the floating diffusion, method for driving solid-state imaging device, and electronic apparatus | |
JP5358136B2 (ja) | 固体撮像装置 | |
US20210099659A1 (en) | Solid-state imaging device, method for driving solid-state imaging device, and electronic apparatus | |
KR101077408B1 (ko) | Cmos 이미지 센서 | |
US9848141B2 (en) | Image pixels having processed signal storage capabilities | |
US8174601B2 (en) | Image sensor with controllable transfer gate off state voltage levels | |
KR102211899B1 (ko) | 고체 촬상 소자 및 촬상 장치 | |
KR20200072805A (ko) | 이미지 센서 및 이의 구동 방법 | |
US20160150168A1 (en) | Image sensor having vertical transfer gate and electronic device having the same | |
US20180152653A1 (en) | Image sensor | |
US20120273651A1 (en) | Dual conversion gain pixel methods, systems, and apparatus | |
US11671730B2 (en) | Solid-state imaging device, method for driving solid-state imaging device, and electronic apparatus | |
JP2016015680A (ja) | 固体撮像素子および撮像装置 | |
JP2019062398A (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 | |
US8853756B2 (en) | Array of pixels with good dynamic range | |
WO2015170533A1 (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、及び、電子機器 | |
JP2019062399A (ja) | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法、および電子機器 | |
KR102743552B1 (ko) | 이미지 센싱 장치 | |
KR101475285B1 (ko) | 씨모스 이미지 센서 및 그것의 동작 방법 | |
US11342366B2 (en) | Image sensing device | |
US20220256106A1 (en) | Imaging device and control method | |
JP2021100289A (ja) | 撮像素子および撮像装置 | |
KR20110128019A (ko) | 씨모스 이미지 센서 및 그것의 동작 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20190604 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
A201 | Request for examination | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20220517 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20190604 Comment text: Patent Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20240520 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20241112 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20241212 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20241212 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration |