KR20200064091A

KR20200064091A - 광학 필름 및 화상 표시 장치

Info

Publication number: KR20200064091A
Application number: KR1020207010775A
Authority: KR
Inventors: 히로키 마츠시타; 요시마사 오가와; 요오스케 고오사카; 준 사토; 게이스케 에비스; 가즈야 혼다
Original assignee: 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
Priority date: 2017-09-29
Filing date: 2018-09-28
Publication date: 2020-06-05
Also published as: TW201919880A; US20200247092A1; KR102635091B1; TWI791631B; JPWO2019066078A1; WO2019066078A1; JP7196851B2; CN111133341A

Abstract

본 발명의 일 양태에 의하면, 두께가 30㎛ 이상 200㎛ 이하인 유리 기재(11)와, 유리 기재(11)에 인접한 수지층(12)을 구비하고, 수지층(12)에 있어서의 25℃에서의 영율이, 70㎫ 이상 1200㎫ 이하인, 광학 필름(10)이 제공된다.

Description

광학 필름 및 화상 표시 장치

본원은, 선행하는 일본 출원인 일본 특허 출원 제2017-190707(출원일: 2017년 9월 29일)의 우선권의 이익을 향수하는 것이고, 그 개시 내용 전체는 인용함으로써 본 명세서의 일부로 된다.

본 발명은, 광학 필름 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.

종래부터, 스마트폰이나 태블릿 단말기 등의 화상 표시 장치가 알려져 있지만, 현재, 절첩 가능한 화상 표시 장치의 개발이 행해지고 있다. 통상, 스마트폰이나 태블릿 단말기 등은 커버 유리로 덮여 있지만, 화상 표시 장치에 통상의 커버 유리를 사용한 경우, 경도는 우수하기는 하지만, 유연성이 떨어지므로, 구부리려고 하면 균열되어 버릴 우려가 높다. 이 때문에, 절첩 가능한 화상 표시 장치에는, 두께가 통상의 커버 유리보다도 얇고, 유연성을 갖는 박막 유리를 구비하는 광학 필름을 사용하는 것이 검토되고 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조).

일본 특허 공개 제2016-125063호 공보

이와 같은 절첩 가능한 화상 표시 장치에 사용되는 광학 필름에는, 광학 필름의 표면에 충격이 가해지는 경우가 있으므로, 내충격성이 요구되고 있다.

통상의 커버 유리라면, 커버 유리에 충격이 가해지더라도, 유리의 두께가 두꺼우므로 균열되기 어렵지만, 박막 유리는 두께가 얇기 때문에 충격 흡수성이 떨어져, 박막 유리의 표면에 충격이 가해지면, 박막 유리가 균열되어 버리거나, 또는 균열되지 않더라도 박막 유리보다도 화상 표시 장치의 내부에 위치하는 층이 오목한 영향으로 박막 유리의 표면도 오목해져 버리는 경우가 있다.

또한, 박막 유리의 표면에 충격이 가해지면, 화상 표시 장치의 내부에 존재하는 부재(예를 들어, 유기 발광 다이오드 패널 등의 표시 패널)에 충격이 전해져 버려, 상기 부재가 손상을 받아 버리는 경우가 있다.

이와 같은 점에서, 현재, 유연성을 유지하면서, 화상 표시 장치의 표시면에 충격이 가해진 경우라도, 균열되기 어렵고, 표면이 오목해지는 것이 억제되고, 또한 박막 유리보다도 화상 표시 장치의 내부에 존재하는 부재가 손상되지 않는 내충격성을 갖는 광학 필름이 요구되고 있다.

본 발명은, 상기 문제를 해결하기 위해 이루어진 것이다. 즉, 유연성 및 내충격성을 갖는 광학 필름, 및 이것을 구비한 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은, 이하의 발명을 포함한다.

[1] 두께가 30㎛ 이상 200㎛ 이하인 유리 기재와, 상기 유리 기재에 인접한 수지층을 구비하고, 상기 수지층에 있어서의 25℃에서의 영율이, 70㎫ 이상 1200㎫ 이하인, 광학 필름.

[2] 상기 수지층의 막 두께가, 100㎛ 이상 500㎛ 이하인, 상기 [1]에 기재된 광학 필름.

[3] 상기 수지층이, 실리콘 수지를 포함하는, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 광학 필름.

[4] 표시 패널과, 상기 표시 패널보다도 관찰자측에 배치된 상기 [1] 내지 [3] 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 구비하는, 화상 표시 장치.

[5] 상기 표시 패널이, 유기 발광 다이오드 패널인, 상기 [4]에 기재된 화상 표시 장치.

본 발명에 따르면, 유연성 및 내충격성을 갖는 광학 필름을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 이와 같은 광학 필름을 구비하는 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.

도 1은 실시 형태에 관한 광학 필름의 개략 구성도이다.
도 2의 (A) 내지 도 2의 (C)는, 연속 절첩 시험의 모습을 모식적으로 도시한 도면이다.
도 3의 (A) 및 도 3의 (B)는, 절첩 정치 시험의 모습을 모식적으로 도시한 도면이다.
도 4는 실시 형태에 관한 다른 광학 필름의 개략 구성도이다.
도 5는 실시 형태에 관한 다른 광학 필름의 개략 구성도이다.
도 6은 실시 형태에 관한 다른 광학 필름의 개략 구성도이다.
도 7은 실시 형태에 관한 화상 표시 장치의 개략 구성도이다.

이하, 본 발명의 실시 형태에 관한 광학 필름 및 화상 표시 장치에 대하여, 도면을 참조하면서 설명한다. 도 1은 본 실시 형태에 관한 광학 필름의 개략 구성도이고, 도 2의 (A) 내지 도 2의 (C)는 연속 절첩 시험의 모습을 모식적으로 도시한 도면이고, 도 3의 (A) 및 도 3의 (B)는 절첩 정치 시험의 모습을 모식적으로 도시한 도면이고, 도 4 내지 도 6은 본 실시 형태에 관한 다른 광학 필름의 개략 구성도이다.

<<<광학 필름>>>

도 1에 도시되는 광학 필름(10)은, 두께 30㎛ 이상 200㎛ 이하의 유리 기재(11)와, 유리 기재(11)에 인접한 수지층(12)을 구비하는 것이다. 도 1에 있어서는, 광학 필름(10)의 표면(10A)은, 유리 기재(11)에 있어서의 수지층(12)측의 제1 면(11A)과는 반대측의 제2 면(11B)으로 되어 있다. 광학 필름(10)에 있어서는, 유리 기재(11)의 제2 면(11B)이 표면(10A)으로 되어 있으므로, 광학 필름(10)의 표면(11A)에 있어서는 통상의 커버 유리와 동등한 표면 물성을 얻을 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서는, 광학 필름의 「표면」이라는 문언은, 광학 필름의 편측의 표면을 의미하는 것으로서 사용하므로, 광학 필름의 표면과는 반대측의 면은, 광학 필름의 표면과 구별하기 위해 「이면」이라고 칭하는 것으로 한다. 광학 필름(10)의 이면(10B)은, 수지층(12)에 있어서의 유리 기재(11)측의 제1 면(12A)과는 반대측의 제2 면(12B)으로 되어 있다.

광학 필름(10)은, 유연성을 갖는 것이다. 구체적으로는, 광학 필름(10)에 대하여 이어서 설명하는 절첩 시험(연속 절첩 시험)을 10만회 반복해서 행한 경우라도, 광학 필름(10)에 균열 또는 파단이 발생하지 않는 것이 바람직하고, 연속 절첩 시험을 20만회 반복해서 행한 경우라도, 광학 필름(10)에 균열 또는 파단이 발생하지 않는 것이 보다 바람직하고, 연속 절첩 시험을 100만회 반복해서 행한 경우라도, 광학 필름에 균열 또는 파단이 발생하지 않는 것이 더욱 바람직하다. 광학 필름(10)에 대하여 연속 절첩 시험을 10만회 반복해서 행한 경우에, 광학 필름(10)에 균열이나 파단 등이 발생하면, 광학 필름(10)의 절첩성이 불충분해진다. 연속 절첩 시험은, 유리 기재(11)가 외측으로 되게 광학 필름(10)을 절첩하도록 행해져도 되고, 또한 유리 기재(11)가 내측으로 되게 광학 필름(10)을 절첩하도록 행해져도 되지만, 어느 경우라도, 광학 필름(10)에 균열 또는 파단이 발생하지 않는 것이 바람직하다.

연속 절첩 시험은, 이하와 같이 하여 행해진다. 도 2의 (A)에 도시한 바와 같이 연속 절첩 시험에 있어서는, 먼저, 30㎜×100㎜의 크기로 잘라낸 광학 필름(10)의 변부(10C)와, 변부(10C)와 대향하는 변부(10D)를, 평행하게 배치된 고정부(15)에서 각각 고정한다. 또한, 도 2의 (A)에 도시한 바와 같이, 고정부(15)는 수평 방향으로 슬라이드 이동 가능하게 되어 있다.

이어서, 도 2의 (B)에 도시한 바와 같이, 고정부(15)를 서로 근접하도록 이동시킴으로써, 광학 필름(10)이 절첩하도록 변형시키고, 또한 도 2의 (C)에 도시한 바와 같이, 광학 필름(10)의 고정부(15)에서 고정된 대향하는 2개의 변부(10C, 10D)의 간격이 10㎜로 되는 위치까지 고정부(15)를 이동시킨 후, 고정부(15)를 역방향으로 이동시켜 광학 필름(10)의 변형을 해소시킨다.

도 2의 (A) 내지 (C)에 도시한 바와 같이 고정부(15)를 이동시킴으로써, 광학 필름(10)을 180° 절첩할 수 있다. 또한, 광학 필름(10)의 굴곡부(10E)가 고정부(15)의 하단으로부터 비어져 나오지 않도록 연속 절첩 시험을 행하고, 또한 고정부(15)가 가장 접근했을 때의 간격을 제어함으로써, 광학 필름(10)의 대향하는 2개의 변부(10C, 10D)의 간격을 10㎜로 할 수 있다. 이 경우, 굴곡부(10E)의 외경을 10㎜라고 간주한다. 광학 필름(10)에 있어서는, 광학 필름(10)의 대향하는 변부의 간격이 10㎜로 되도록 180° 절첩하는 시험을 10만회 반복해서 행한 경우에 균열 또는 파단이 발생하지 않는 것이 바람직하지만, 광학 필름(10)의 대향하는 변부의 간격이 6㎜, 5㎜, 3.5㎜, 또는 2㎜로 되도록 180° 절첩하는 연속 절첩 시험을 10만회 반복해서 행한 경우에 균열 또는 파단이 발생하지 않는 것이 더욱 바람직하다(상기 변부의 간격이 작을수록 바람직함).

또한, 광학 필름(10)의 한쪽 면측에 점착층이나 접착층을 개재하여 편광판 등의 다른 필름이 마련되어 있는 경우에는, 점착층이나 접착층과 함께 다른 필름을 박리하고 나서, 연속 절첩 시험을 행하는 것으로 한다. 다른 필름의 박리는, 예를 들어 이하와 같이 하여 행할 수 있다. 먼저, 광학 필름에 점착층이나 접착층을 통해 다른 필름이 붙은 적층체를 드라이어로 가열하고, 광학 필름과 다른 필름의 계면이라고 생각되는 부위에 커터의 날끝을 넣고, 천천히 박리해 간다. 이와 같은 가열과 박리를 반복함으로써, 점착층이나 접착층 및 다른 필름을 박리할 수 있다. 또한, 이와 같은 박리 공정이 있었다고 해도, 연속 절첩 시험에는 큰 영향은 없다.

광학 필름(10)에 있어서는, 절첩 정치 시험 후의 개방각 θ가 100° 이상인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 먼저, 도 3의 (A)에 도시된 바와 같이, 광학 필름(10)의 변부(10C)와, 변부(10C)와 대향하는 변부(10D)를, 변부(10C)와 변부(10D)의 간격이 10㎜로 되도록 평행하게 배치된 고정부(16)에서 각각 고정한다. 그리고, 광학 필름(10)을 절첩한 상태에서, 70℃에서 240시간 정치하는 절첩 정치 시험을 행한다. 그 후, 도 3의 (B)에 도시된 바와 같이, 절첩 정치 시험 후에 변부(10D)로부터 고정부(16)를 제거함으로써, 절첩 상태를 개방하고, 실온에서 30분 후에 광학 필름(10)에 있어서 광학 필름(10)이 자연스럽게 개방되는 각도인 개방각 θ를 측정한다. 또한, 개방각 θ는, 클수록 복원성이 양호한 것을 의미하고, 최대로 180°이다. 절첩 정치 시험은, 유리 기재(11)가 내측으로 되게 광학 필름(10)을 절첩하도록 행해져도 되고, 또한 유리 기재(11)가 외측으로 되게 광학 필름(10)을 절첩하도록 행해져도 되지만, 어느 경우라도, 개방각 θ가 100° 이상인 것이 바람직하다.

또한, 광학 필름(10)의 한쪽 면측에 점착층이나 접착층을 개재하여 편광판 등의 다른 필름이 마련되어 있는 경우에는, 상기와 동일한 방법에 의해 점착층이나 접착층과 함께 다른 필름을 박리하고 나서, 절첩 정치 시험을 행하는 것으로 한다. 또한, 이와 같은 박리 공정이 있었다고 해도, 절첩 정치 시험에는 큰 영향은 없다.

광학 필름(10)의 표면(10A)은, JIS K5600-5-4:1999에서 규정되는 연필 경도 시험으로 측정되었을 때의 경도(연필 경도)가, 2H 이상인 것이 바람직하다. 연필 경도는, 50㎜×100㎜의 크기로 잘라낸 광학 필름을 유리판 상에 접힘이나 주름이 없도록 니치반사제의 셀로판 테이프(등록 상표)로 고정한 상태에서 광학 필름의 표면에 대하여 연필 경도 시험을 행함으로써 측정할 수 있다. 연필 경도 시험은, 연필 경도 시험기(제품명 「연필 긁기 도막 경도 시험기(전동식)」, 가부시키가이샤 도요 세키 세이사쿠쇼제)를 사용하여, 연필(제품명 「유니」, 미쓰비시 엔피츠 가부시키가이샤제)에 750g의 하중을 가하면서 연필을 1㎜/초의 이동 속도로 이동시킴으로써 행하는 것으로 한다. 연필 경도는, 연필 경도 시험에 있어서 광학 필름의 표면에 흠집이 생기지 않은 가장 높은 경도로 한다. 또한, 연필 경도의 측정 시에는, 경도가 다른 연필을 복수개 사용하여 행하지만, 연필 1개에 대하여 5회 연필 경도 시험을 행하여, 5회 중 4회 이상 광학 필름의 표면에 흠집이 생기지 않은 경우에는, 이 경도의 연필에 있어서는 광학 필름의 표면에 흠집이 생기지 않았다고 판단한다. 상기 흠집은, 연필 경도 시험을 행한 광학 필름의 표면을 형광등 아래에서 투과 관찰하여 시인되는 것을 가리킨다.

광학 필름(10)의 파장 380㎚의 광의 투과율은 8％ 이하인 것이 바람직하다. 광학 필름(10)의 상기 투과율이 8％ 이하이면, 광학 필름을 모바일 단말기에 사용한 경우, 편광자가 자외선에 노출되는 것을 억제할 수 있으므로, 편광자의 열화를 억제할 수 있다. 상기 투과율은, 분광 광도계(제품명 「UV-3100PC」, 가부시키가이샤 시마즈 세이사쿠쇼제, 광원: 텅스텐 램프 및 중수소 램프)를 사용하여 측정할 수 있다. 상기 투과율은, 50㎜×100㎜의 크기로 잘라낸 광학 필름에 대하여 3회 측정하고, 3회 측정하여 얻어진 값의 산술 평균값으로 한다. 광학 필름(10)의 상기 투과율의 상한은 5％인 것이 보다 바람직하다. 또한, 광학 필름(10)의 상기 투과율은, 수지층(12) 중의 후술하는 자외선 흡수제의 첨가량을 조정하는 것 등에 의해 달성할 수 있다.

광학 필름(10)의 전체 광선 투과율은, 70％ 이상인 것이 바람직하다. 광학 필름(10)의 전체 광선 투과율이 70％ 이상이면, 충분한 광학적 성능을 얻을 수 있다. 상기 전체 광선 투과율은, 헤이즈 미터(제품명 「HM-150」, 무라카미 시키사이 기쥬츠 겐큐쇼제)를 사용하여 JIS K7361-1:1997에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다. 상기 전체 광선 투과율은, 50㎜×100㎜의 크기로 잘라낸 광학 필름을, 컬이나 주름이 없고, 또한 지문이나 먼지 등이 없는 상태에서 수지층측이 비광원측으로 되도록 헤이즈 미터에 설치하여, 광학 필름 1매에 대하여 3회 측정하고, 측정하여 얻어진 값의 산술 평균값으로 한다. 본 명세서에 있어서의 「3회 측정한다」란, 동일한 장소를 3회 측정하는 것이 아니라, 다른 3개소를 측정하는 것을 의미하는 것으로 한다. 또한, 광학 필름을 상기 크기로 잘라낼 수 없는 경우에는, 예를 들어 HM-150은 측정할 때의 입구 개구가 20㎜φ이므로, 직경 21㎜ 이상으로 되는 샘플 크기가 필요해진다. 이 때문에, 22㎜×22㎜ 이상의 크기로 광학 필름을 적절히 잘라내도 된다. 광학 필름의 크기가 작은 경우는, 광원 스폿이 벗어나지 않는 범위에서 조금씩 어긋나게 하거나, 또는 각도를 바꾸거나 하여 측정점을 3개소로 한다. 광학 필름(10)의 전체 광선 투과율은, 80％ 이상인 것이 보다 바람직하고, 90％ 이상인 것이 더욱 바람직하다.

또한, 광학 필름(10)의 한쪽 면측에 점착층이나 접착층을 개재하여 편광판 등의 다른 필름이 마련되어 있는 경우에는, 상기와 동일한 방법에 의해 점착층이나 접착층과 함께 다른 필름을 박리하고 나서, 전체 광선 투과율의 측정을 행하는 것으로 한다. 또한, 이와 같은 박리 공정이 있었다고 해도, 전체 광선 투과율의 측정에는 큰 영향은 없다.

광학 필름(10)의 헤이즈값(전체 헤이즈값)은 2％ 이하인 것이 바람직하다. 광학 필름의 상기 헤이즈값이 2％ 이하이면, 광학 필름을 모바일 단말기에 사용한 경우의 화상 표시면의 백화를 억제할 수 있다. 상기 헤이즈값은, 헤이즈 미터(제품명 「HM-150」, 무라카미 시키사이 기쥬츠 겐큐쇼제)를 사용하여 JIS K7136:2000에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다. 상기 헤이즈값은, 50㎜×100㎜의 크기로 잘라낸 광학 필름을, 컬이나 주름이 없고, 또한 지문이나 먼지 등이 없는 상태에서 수지층측이 비광원측으로 되도록 헤이즈 미터에 설치하여, 광학 필름 1매에 대하여 3회 측정하고, 측정하여 얻어진 값의 산술 평균값으로 한다. 또한, 광학 필름을 상기 크기로 잘라낼 수 없는 경우에는, 예를 들어 HM-150은 측정할 때의 입구 개구가 20㎜φ이므로, 직경 21㎜ 이상으로 되는 샘플 크기가 필요해진다. 이 때문에, 22㎜×22㎜ 이상의 크기로 광학 필름을 적절히 잘라내도 된다. 광학 필름의 크기가 작은 경우는, 광원 스폿이 벗어나지 않는 범위에서 조금씩 어긋나게 하거나, 또는 각도를 바꾸거나 하여 측정점을 3개소로 한다. 상기 헤이즈값은, 1.5％ 이하인 것이 보다 바람직하고, 1.0％ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 광학 필름(10)의 상기 헤이즈값은, 수지층(12) 중의 후술하는 자외선 흡수제의 첨가량을 조정하는 것 등에 의해 달성할 수 있다.

또한, 광학 필름(10)의 한쪽 면측에 점착층이나 접착층을 개재하여 편광판 등의 다른 필름이 마련되어 있는 경우에는, 상기와 동일한 방법에 의해 점착층이나 접착층과 함께 다른 필름을 박리하고 나서, 헤이즈값의 측정을 행하는 것으로 한다. 또한, 이와 같은 박리 공정이 있었다고 해도, 헤이즈값의 측정에는 큰 영향은 없다.

근년, 퍼스널 컴퓨터나 태블릿 단말기 등의 화상 표시 장치의 백라이트의 광원으로서 발광 다이오드(Light Emitting Diode)가 적극적으로 채용되어 있지만, 이 발광 다이오드는, 블루 라이트라고 불리는 광을 강하게 발하고 있다. 이 블루 라이트는, 파장 380 내지 495㎚의 광에서 자외선에 가까운 성질을 갖고 있고, 강한 에너지를 갖고 있기 때문에, 각막이나 수정체에서 흡수되지 않고 망막에 도달함으로써, 망막의 손상, 안정 피로, 수면에 대한 악영향 등의 원인으로 된다고 되어 있다. 이 때문에, 광학 필름을, 화상 표시 장치에 적용한 경우에, 표시 화면의 색감에 영향을 끼치는 일 없이, 블루 라이트 차폐성이 우수한 것으로 되는 것이 바람직하다. 이 때문에, 블루 라이트를 차광하는 관점에서, 광학 필름(10)은, 파장 380㎚에 있어서의 분광 투과율이 1％ 미만이고, 파장 410㎚에 있어서의 분광 투과율이 10％ 미만이고, 파장 440㎚에 있어서의 분광 투과율이 70％ 이상인 것이 바람직하다. 상기 파장 380㎚에 있어서의 분광 투과율이 1％ 이상이거나, 파장 410㎚에 있어서의 분광 투과율이 10％ 이상이거나 하면, 블루 라이트에 의한 문제를 해소할 수 없는 경우가 있고, 파장 440㎚에 있어서의 분광 투과율이 70％ 미만이면, 광학 필름을 사용한 화상 표시 장치의 표시 화면의 색감에 영향을 끼쳐 버리는 경우가 있기 때문이다. 광학 필름(10)은, 블루 라이트의 파장 중, 파장 410㎚ 이하의 파장 영역의 광을 충분히 흡수시키는 한편, 파장 440㎚ 이상의 광을 충분히 투과시켜, 표시 화면의 색감에 영향을 끼치는 일 없이 블루 라이트의 차폐성을 우수한 것으로 할 수 있다. 또한, 이와 같은 블루 라이트의 차폐성이 우수한 광학 필름(10)을 화상 표시 장치로서 유기 발광 다이오드(OLED) 표시 장치에 적용한 경우, 유기 발광 다이오드 소자의 열화 억제에도 효과적이다.

광학 필름(10)의 광의 투과율은, 파장 380㎚까지는 거의 0％이고, 파장 410㎚로부터 점차 광의 투과가 커지고, 파장 440㎚ 부근에서 급격하게 광의 투과가 크게 되어 있는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들어 파장 410㎚로부터 440㎚ 사이에서 분광 투과율이 시그모이드형의 곡선을 그리도록 변화되는 것이 바람직하다. 상기 파장 380㎚에 있어서의 분광 투과율은, 보다 바람직하게는 0.5％ 미만, 더욱 바람직하게는 0.2％ 미만이고, 파장 410㎚에 있어서의 분광 투과율이 보다 바람직하게는 7％ 미만, 보다 바람직하게는 5％ 미만이고, 파장 440㎚에 있어서의 분광 투과율이 보다 바람직하게는 75％ 이상, 더욱 바람직하게는 80％ 이상이다. 또한, 광학 필름(10)은, 파장 420㎚에 있어서의 분광 투과율이 50％ 미만인 것이 바람직하다. 이와 같은 분광 투과율의 관계를 만족시킴으로써, 광학 필름(10)은, 파장 440㎚ 부근에서 급격하게 투과율이 향상되는 것으로 되고, 표시 화면의 색감에 영향을 끼치는 일 없이 매우 우수한 블루 라이트 차폐성을 얻을 수 있다.

광학 필름(10)에 있어서의 파장 380㎚에 있어서의 분광 투과율은 0.1％ 미만인 것이 보다 바람직하고, 파장 410㎚에 있어서의 분광 투과율은 7％ 미만인 것이 보다 바람직하고, 파장 440㎚에 있어서의 분광 투과율은 80％ 이상인 것이 보다 바람직하다.

광학 필름(10)은, 최소 제곱법을 사용하여 얻어진 파장 415 내지 435㎚의 범위의 투과 스펙트럼의 기울기가 2.0보다 큰 것이 바람직하다. 상기 기울기가 2.0 이하이면, 블루 라이트의 광파장 영역, 예를 들어 파장 415 내지 435㎚의 파장 영역에 있어서 충분히 광을 커트할 수 없어 블루 라이트 커트 효과가 약해지는 경우가 있다. 또한, 블루 라이트의 광파장 영역(파장 415 내지 435㎚)을 너무 커트하고 있을 가능성도 고려되고, 그 경우, 화상 표시 장치의 백라이트나 발광 파장 영역(예를 들어, OLED의 파장 430㎚로부터의 발광)에 간섭해 버려, 색감이 나빠지는 등의 문제가 발생할 가능성이 커지는 경우가 있다. 상기 기울기는, 예를 들어 0.5％ 간격으로 측정 가능한 분광 광도계(제품명 「UV-3100PC」, 가부시키가이샤 시마즈 세이사쿠쇼제)를 사용하여, 전후 1㎚ 사이에서 최저 5포인트분의 투과율의 데이터를 415 내지 435㎚ 사이에서 측정함으로써 산출할 수 있다.

광학 필름(10)은, 블루 라이트의 차폐율이 40％ 이상인 것이 바람직하다. 블루 라이트의 차폐율이 40％ 미만이면, 상술한 블루 라이트에 기인한 문제를 충분히 해소할 수 없는 경우가 있다. 상기 블루 라이트의 차폐율은, 예를 들어 JIS T7333:2005에 의해 산출되는 값이다. 또한, 이와 같은 블루 라이트 차폐율은, 예를 들어 수지층(12)이 후술하는 세사몰형 벤조트리아졸계 단량체를 포함함으로써, 달성할 수 있다.

광학 필름(10)에 있어서는, 23℃, 상대 습도 90％에서의 수증기 투과율(WVTR: Water Vapor Transmission Rate)이 0.01g/(㎡·24h) 이하로 되어 있는 것이 바람직하다. 상기 수증기 투과율은, 수증기 투과율 측정 장치(제품명 「PERMATRAN-W3/31」, MOCON사제)를 사용하여, JIS K7129:2008에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다. 상기 수증기 투과율은, 100㎜×100㎜의 크기로 잘라낸 광학 필름에 대하여 3회 측정하고, 측정하여 얻어진 값의 산술 평균값으로 한다. 광학 필름(10)의 수증기 투과율의 상한은, 0.001g/(㎡·24h) 이하로 되어 있는 것이 보다 바람직하다.

광학 필름(10)은, 원하는 크기로 커트되어 있어도 되지만, 롤상이어도 된다. 광학 필름(10)이 원하는 크기로 커트되어 있는 경우, 광학 필름의 크기는, 특별히 제한되지 않고, 화상 표시 장치의 표시면의 크기에 따라 적절히 결정된다. 구체적으로는, 광학 필름(10)의 크기는, 예를 들어 2.8인치 이상 500인치 이하로 되어 있어도 된다. 본 명세서에 있어서의 「인치」란, 광학 필름이 사각 형상인 경우에는 대각선의 길이를 의미하고, 원 형상인 경우에는 직경을 의미하고, 타원 형상인 경우에는, 짧은 직경과 긴 직경의 합의 평균값을 의미하는 것으로 한다. 여기서, 광학 필름이 사각 형상인 경우, 상기 인치를 구할 때의 광학 필름의 종횡비는, 화상 표시 장치의 표시 화면으로서 문제가 없으면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 세로:가로＝1:1, 4:3, 16:10, 16:9, 2:1 등을 들 수 있다. 단, 특히, 디자인성이 풍부한 차량 탑재 용도나 디지털 사이니지에 있어서는, 이와 같은 종횡비에 한정되지 않는다. 또한, 광학 필름(10)의 크기가 큰 경우에는, 임의의 위치로부터 A5 사이즈(148㎜×210㎜)로 잘라낸 후, 각 측정 항목의 크기로 잘라내는 것으로 한다.

<<유리 기재>>

유리 기재(11)의 두께는, 30㎛ 이상 200㎛ 이하로 되어 있다. 유리 기재(11)의 두께가 30㎛ 이상이면, 광학 필름(10)의 컬을 억제할 수 있고, 또한 충분한 경도를 얻을 수 있다. 한편, 유리 기재(11)의 두께가 200㎛ 이하라면, 양호한 유연성을 얻을 수 있다. 또한, 광학 필름(10)의 경량화의 면에서 바람직하다. 유리 기재(11)의 두께는, 주사형 전자 현미경(SEM)을 사용하여, 유리 기재(11)의 단면을 촬영하고, 그 단면의 화상에 있어서 유리 기재(11)의 두께를 10개소 측정하고, 그 10개소의 두께의 산술 평균값으로 한다. 유리 기재(11)의 하한은 35㎛ 이상, 40㎛ 이상의 순으로 바람직하고(수치가 클수록 바람직함), 유리 기재(11)의 상한은 100㎛ 이하, 80㎛ 이하, 60㎛ 이하의 순으로 바람직하다(수치가 작을수록 바람직함).

유리 기재(11)를 구성하는 유리로서는, 특별히 한정되지 않고, 규산염 유리나 실리카 유리를 들 수 있다. 이들 중에서도, 붕규산 유리, 알루미노규산염 유리, 알루미노붕규산 유리가 바람직하고, 무알칼리 유리가 가장 바람직하다. 유리 기재(11)의 시판품으로서는, 예를 들어 닛폰 덴키 가라스 가부시키가이샤제의 G-Leaf(등록 상표), 마츠나미 가라스 고교 가부시키가이샤제의 극박막 유리 등을 들 수 있다.

<<수지층>>

수지층(12)은, 광투과성을 갖는 수지로 이루어지는 층이다. 수지층(12)은, 충격 흡수성을 갖는 층이지만, 유리 기재(11)가 균열되었을 때의 유리 비산을 억제하는 층으로서도 기능한다. 수지층은, 2 이상의 수지층으로 이루어지는 다층 구조로 되어 있어도 된다.

수지층(12)의 25℃에서의 영율은, 70㎫ 이상 1200㎫ 이하로 되어 있다. 수지층(12)의 25℃에서의 영율이 70㎫ 이상이면, 광학 필름(10)의 표면(10A)에 충격이 가해졌을 때에, 광학 필름(10)보다도 화상 표시 장치의 내부에 위치하는 부재의 손상을 억제할 수 있다. 또한, 수지층(12)의 25℃에서의 영율이 1200㎫ 이하이면, 광학 필름(10)을 구부렸을 때에 광학 필름(10)의 균열을 더 억제할 수 있다. 수지층(12)의 영율의 하한은, 80㎫ 이상, 90㎫ 이상, 100㎫ 이상의 순으로 바람직하고(수치가 클수록 바람직함), 상한은, 1000㎫ 이하, 960㎫ 이하, 500㎫ 이하, 300㎫ 이하의 순으로 바람직하다(수치가 작을수록 바람직함).

본 명세서에 있어서의 「수지층의 영율」은, 수지층(12)의 인덴테이션 경도(H_IT)를 측정할 때에 구해지는 접촉 투영 면적 A_p를 사용하여 산출하는 것으로 한다. 「인덴테이션 경도」란, 나노인덴테이션법에 의한 경도 측정에 의해 얻어지는 압자의 부하로부터 제하 제하(除荷))까지의 하중-변위 곡선으로부터 구해지는 값이다.

상기 인덴테이션 경도(H_IT)의 측정은, 측정 샘플에 대하여 HYSITRON(하이지트론)사제의 「TI950 TriboIndenter」를 사용하여 행하는 것으로 한다. 구체적으로는, 먼저, 1㎜×10㎜로 잘라낸 광학 필름을 포매 수지에 의해 포매한 블록을 제작하고, 이 블록으로부터 일반적인 절편 제작 방법에 의해 구멍 등이 없는 균일한, 두께 70㎚ 이상 100㎚ 이하의 절편을 잘라낸다. 절편의 제작에는, 「울트라 마이크로톰 EM UC7」(레이카 마이크로 시스템즈 가부시키가이샤) 등을 사용할 수 있다. 그리고, 이 구멍 등이 없는 균일한 절편이 잘라내진 나머지의 블록을 측정 샘플로 한다. 이어서, 이와 같은 측정 샘플에 있어서의 상기 절편이 잘라내짐으로써 얻어진 단면에 있어서, 이하의 측정 조건에서, 상기 압자로서 베르코비치(Berkovich) 압자(삼각추, BRUKER사제의 TI-0039)를 수지층의 단면 중앙에 25초 가하여 최대 압입 하중 500μN까지 수직으로 압입한다. 여기서, 베르코비치 압자는, 유리 기재의 영향을 피하기 위해 그리고 수지층의 측연부의 영향을 피하기 위해, 유리 기재와 수지층의 계면으로부터 수지층의 중앙측으로 500㎚ 이격되어, 수지층의 양측단으로부터 각각 수지층의 중앙측으로 500㎚ 이격된 수지층의 부분 내에 압입하는 것으로 한다. 또한, 수지층에 있어서의 유리 기재측의 면과는 반대측의 면에 기능층이 존재하는 경우에는, 기능층과 수지층의 계면으로부터도 수지층의 중앙측으로 500㎚ 이격된 수지층의 부분 내에 압입하는 것으로 한다. 그 후, 일정 유지하여 잔류 응력의 완화를 행한 후, 25초 걸려서 제하시키고, 완화 후의 최대 하중을 계측하고, 해당 최대 하중 P_max(μN)와 접촉 투영 면적 A_p(㎚²)를 사용하여, P_max/A_p에 의해, 인덴테이션 경도(H_IT)를 산출한다. 상기 접촉 투영 면적은, 표준 시료의 용융 석영(BRUKER사제의 5-0098)을 사용하여 Oliver-Pharr법으로 압자 선단 곡률을 보정한 접촉 투영 면적이다. 인덴테이션 경도(H_IT)는, 10개소 측정하여 얻어진 값의 산술 평균값으로 한다. 또한, 측정값 중에 산술 평균값으로부터 ±20％ 이상 벗어나는 것이 포함되어 있는 경우는, 그 측정값을 제외하고 재측정을 행하는 것으로 한다. 측정값 중에 산술 평균값으로부터 ±20％ 이상 벗어나 있는 것이 존재하는지 여부는, 측정값을 A라고 하고, 산술 평균값을 B라고 했을 때, (A－B)/B×100에 의해 구해지는 값(％)이 ±20％ 이상인지에 따라 판단하는 것으로 한다. 인덴테이션 경도(H_IT)는, 후술하는 수지층을 구성하는 수지의 종류 등에 의해 조정할 수 있다.

(측정 조건)

· 하중 속도: 20μN/초

· 유지 시간: 5초

· 하중 제하 속도: 20μN/초

· 측정 온도: 25℃

수지층(12)의 영율 E_s는, 이하와 같이 하여 구해진다. 먼저, 압자와 수지층의 복합 영율 E_r을, 하기 수식 (1)에 의해, 인덴테이션 경도의 측정 시에 구해진 접촉 투영 면적 A_p를 사용하여 구한다. 영율은, 인덴테이션 경도를 10개소 측정하여, 그때마다 영율을 구하고, 얻어진 10개소의 영율의 산술 평균값으로 한다.

상기 수식 (1) 중, A_p는 접촉 투영 면적이고, E_r은 압자와 수지층의 복합 영율이고, S는 접촉 강성이다.

그리고, 상기에 의해 구해진 복합 영율 E_r을 사용하여, 하기 수식 (2)에 의해 수지층의 영율 E_s를 구한다.

상기 수식 (2) 중, E_i는 압자의 영율이고, E_s는 수지층의 영율이고, v_i는 압자의 푸아송비이고, v_s는 수지층의 푸아송비이다. 수지층의 푸아송비는, 변형에 대하여 체적 변화가 없으므로, 0.5로 한다.

수지층(12)의 막 두께는, 100㎛ 이상 500㎛ 이하로 되어 있는 것이 바람직하다. 수지층(12)의 막 두께가, 100㎛ 이상이면, 수지층(12)의 경도가 저하되는 경우도 없고, 또한 500㎛ 이하이면, 막 두께가 너무 두껍지 않으므로, 박형화에 적합함과 함께, 가공성이 악화될 우려도 없다. 수지층(12)의 하한은 150㎛ 이상인 것이 보다 바람직하고, 수지층(12)의 상한은 300㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 200㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다.

수지층의 막 두께는, 주사 투과형 전자 현미경(SEM)을 사용하여, 수지층의 단면을 촬영하고, 그 단면의 화상에 있어서 수지층의 막 두께를 10개소 측정하고, 그 10개소의 막 두께의 산술 평균값으로 한다. 구체적인 단면 사진의 촬영 방법을 이하에 기재한다. 먼저, 1㎜×10㎜로 잘라낸 광학 필름을 포매 수지에 의해 포매한 블록을 제작하고, 이 블록을 일반적인 단면 절삭 방법에 의해 요철이 없는 단면을 제작했다. 이 단면의 제작에는, 「울트라 마이크로톰 EM UC7」(레이카 마이크로 시스템즈 가부시키가이샤) 등을 사용할 수 있다. 그 후, 주사 투과형 전자 현미경(SEM)(제품명 「S-4800」, 가부시키가이샤 히타치 하이테크놀러지즈사제)을 사용하여, 측정 샘플의 단면 사진을 촬영한다. 상기 S-4800을 사용하여 단면 사진을 촬영할 때에는, 검출기를 「SE」, 가속 전압을 「5㎸」, 에미션 전류를 「10㎂」로 하여 단면 관찰을 행한다. 배율에 대해서는, 포커스를 조절하여 콘트라스트 및 밝기를 각 층이 분별되는지 관찰하면서 200배 내지 1만배로 적절히 조절한다. 바람직한 배율은, 200배 내지 2000배, 더욱 바람직한 배율은 400배 내지 1000배이고, 가장 바람직한 배율은 600배 내지 1000배이다. 또한, 상기 S-4800을 사용하여 단면 사진을 촬영할 때에는, 또한, 애퍼쳐를 「빔 모니터 조리개 3」으로 하고, 대물 렌즈 조리개를 「3」으로 하고, 또한 W.D.를 「8㎜」로 해도 된다. 또한, 계면의 콘트라스트는 고배율인 쪽이 알기 어려운 경우가 있다. 그 경우에는, 저배율도 동시에 관찰한다. 예를 들어, 200배와 1000배나, 1000배와 2000배 등, 고저의 두 배율로 관찰하고, 양 배율로 상기한 산술 평균값을 구하고, 또한 그 평균값을 수지층의 막 두께의 값으로 한다.

수지층(12)을 구성하는 수지는, 영율이 상기 범위 내로 되는 수지라면, 특별히 한정되지 않는다. 이와 같은 수지로서는, 실리콘 수지 등을 들 수 있다. 또한, 수지층(12)을 구성하는 수지가, 어떤 구조의 고분자쇄(반복 단위)에 의해 형성되어 있는지는, 예를 들어 열분해 GC-MS 및 FT-IR에 의해 수지층(12)을 분석함으로써 판단 가능하다. 특히, 열분해 GC-MS는, 수지층(12)에 포함되는 단량체 단위를 모노머 성분으로서 검지할 수 있기 때문에 유용하다.

<실리콘 수지>

실리콘 수지는, 주쇄에 실록산 결합을 갖는 수지이다. 수지층(12)을 실리콘 수지로 구성함으로써, 유리 기재(11)와 수지층(12)의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 이것은, 수지층(12)의 표면에 잔존한 히드로실릴기(Si-H기)가 가수분해 반응을 거쳐서 실라놀기(Si-OH기)로 되고, 이 실라놀기가, 유리 기재(11)의 표면에 존재하는 실라놀기와 축합 반응을 하기 때문이라고 생각된다. 또한, 수지층(12)을 실리콘 수지로 구성함으로써, 수지층(12)의 형성 시의 수축을 억제할 수 있으므로, 광학 필름(10)의 컬을 억제할 수 있다. 또한, 실리콘 수지는 (메트)아크릴계 수지에 비해, 내구성이 우수하므로, 수지층(12)을 실리콘 수지로 구성함으로써, 내구성을 향상시킬 수 있다.

실리콘 수지는, 방향족 기를 갖고 있는 것이어도 되지만, 방향족 기를 갖고 있지 않는 것이어도 된다. 수지층(12)이 방향족 기를 갖는 실리콘 수지로 구성되어 있는 경우에는, 방향족 기를 갖지 않는 실리콘 수지로 구성되어 있는 경우보다도 단단해, 우수한 내충격성을 얻을 수 있다. 또한, 수지층(12)이 방향족 기를 갖지 않는 실리콘 수지로 구성되어 있는 경우에는, 방향족 기를 갖는 실리콘 수지로 구성되어 있는 경우보다도, 수지층(12)의 굴절률을 유리 기재(11)의 굴절률에 가깝게 할 수 있으므로, 유리 기재(11)와 수지층(12) 사이의 계면 반사를 억제할 수 있다. 본 명세서에 있어서의 「방향족 기」란, 탄소환식의 아릴기(이하, 단순히 「아릴기」라고도 함)를 의미하고, 아릴기의 치환 가능한 위치가 치환기로 치환된 것도 포함된다. 아릴기의 탄소수는, 6 내지 25인 것이 바람직하고, 6 내지 15인 것이 더욱 바람직하고, 6 내지 10인 것이 가장 바람직하다. 아릴기의 구체예로서는, 예를 들어 페닐기나 나프틸기를 들 수 있다.

실리콘 수지의 중량 평균 분자량은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 25℃에 있어서의 점도가 300센티푸아즈 이상 10000센티푸아즈로 되는 중량 평균 분자량인 것이 바람직하다.

실리콘 수지는, 부가 반응형 실리콘 수지 조성물, 축합 반응형 실리콘 수지 조성물 및 전리 방사선 경화형 실리콘 수지 조성물의 어느 경화물이어도 된다. 이들 중에서도, 경도의 관점에서, 부가 반응형 실리콘 수지 조성물의 경화물이 바람직하다.

부가 반응형 실리콘 수지 조성물로서는, 예를 들어 규소 원자에 결합한 알케닐기를 1분자당 2개 이상 갖는 오르가노폴리실록산(즉, 오르가노알케닐폴리실록산)과, 규소 원자에 결합한 수소 원자(하이드로실릴기)를 갖는 오르가노폴리실록산(즉, 오르가노히드로겐폴리실록산)과, 백금족계 촉매를 포함하는 것을 사용할 수 있다. 오르가노알케닐폴리실록산의 알케닐기는, 오르가노히드로겐폴리실록산의 히드로실릴기와 히드로실릴화부가 반응함으로써 경화물을 형성한다.

오르가노알케닐폴리실록산의 주쇄는, 디오르가노실록산 단위를 반복하는 것이 일반적이지만, 일부 분기한 구조나 환상의 구조를 포함한 것이어도 된다.

오르가노알케닐폴리실록산의 알케닐기로서는, 비닐기, 알릴기, 프로페닐기, 이소프로페닐기 등이 일반적이지만, 이들 중에서도 비닐기가 바람직하다. 또한, 알케닐기는, 분자쇄 말단의 규소 원자에만 결합하여 존재하는 것이 바람직하다.

상기 알케닐기 이외에 규소 원자에 결합하는 관능기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 알킬기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 시클로알킬기, 페닐기, 크실릴기, 비페닐릴기 등의 알릴기, 벤질기, 페닐에틸기, 페닐프로필기 등의 아르알킬기 등의 1가의 탄화수소기를 들 수 있다. 또한, 1가의 탄화수소기의 탄소 원자에 결합하고 있는 수소 원자의 일부 또는 전부가, 불소, 염소, 브롬 등의 할로겐 원자, 시아노기 등으로 치환되어 있어도 된다. 또한, 규소 원자에 결합한 알케닐기 이외의 관능기는 모두가 동일하지 않아도 된다.

오르가노히드로겐폴리실록산은, 오르가노알케닐폴리실록산의 가교제로서 작용한다. 오르가노히드로겐폴리실록산은, 1분자 중에 2개 이상 100개 이하의 히드로실릴기를 갖는 것이 바람직하다.

백금족계 촉매(히드로실릴화용 백금족계 촉매)는, 상기 오르가노알케닐폴리실록산 중의 알케닐기와, 상기 오르가노히드로겐폴리실록산의 히드로실릴기의 히드로실릴화 반응을, 진행 및 촉진시키기 위한 촉매이다. 백금족계 촉매로서는, 백금계 촉매, 팔라듐계 촉매, 로듐계 촉매 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 특히 백금계 촉매가 경제성, 반응성의 점에서 바람직하다.

수지층(12)은, 25℃에서의 영율 Hz가 상기 범위 내로 되어 있으면, Hz 자외선 흡수제나 분광 투과율 조정제 등을 포함하고 있어도 된다.

<자외선 흡수제>

광학 필름은, 절첩 가능한 스마트폰이나 태블릿 단말기와 같은 모바일 단말기에 특히 적합하게 사용되지만, 이와 같은 모바일 단말기는 옥외에서 사용되는 경우가 많고, 그때문에, 광학 필름보다 표시 소자측에 배치된 편광자가 자외선에 노출되어 열화되기 쉽다는 문제가 있다. 그러나, 수지층은, 편광자의 표시 화면측에 배치되기 때문에, 수지층에 자외선 흡수제가 함유되어 있으면, 편광자가 자외선에 노출되는 것에 의한 열화를 적합하게 방지할 수 있다. 자외선 흡수제(UVA)는, 후술하는 하드 코트층에 함유되어 있어도 된다.

자외선 흡수제로서는, 예를 들어 트리아진계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제 및 벤조트리아졸계 자외선 흡수제 등을 들 수 있다.

상기 트리아진계 자외선 흡수제로서는, 예를 들어 2-(2-히드록시-4-[1-옥틸옥시카르보닐에톡시]페닐)-4,6-비스(4-페닐페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[4-[(2-히드록시-3-도데실옥시프로필)옥시]-2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스[2-히드록시-4-부톡시페닐]-6-(2,4-디부톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[4-[(2-히드록시-3-트리데실옥시프로필)옥시]-2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진 및 2-[4-[(2-히드록시-3-(2'-에틸)헥실)옥시]-2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. 시판되고 있는 트리아진계 자외선 흡수제로서는, 예를 들어 TINUVIN460, TINUVIN477(모두 BASF사제), LA-46(ADEKA사제) 등을 들 수 있다.

상기 벤조페논계 자외선 흡수제로서는, 예를 들어 2-히드록시벤조페논, 2,4-디히드록시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 히드록시메톡시벤조페논술폰산 및 그의 삼수염, 히드록시메톡시벤조페논술폰산나트륨 등을 들 수 있다. 시판되고 있는 벤조페논계 자외선 흡수제로서는, 예를 들어 CHMASSORB81/FL(BASF사제) 등을 들 수 있다.

상기 벤조트리아졸계 자외선 흡수제로서는, 예를 들어 2-에틸헥실-3-〔3-tert-부틸-4-히드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)페닐〕프로피오네이트, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(직쇄 및 측쇄 도데실)-4-메틸페놀, 2-〔5-클로로(2H)-벤조트리아졸-2-일〕-4-메틸-6-(tert-부틸)페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-디-tert-펜틸페놀, 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-3'-(3",4",5",6"-테트라히드로프탈이미도메틸)-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2,2-메틸렌비스(4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀) 및 2-(2'-히드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸 등을 들 수 있다. 시판되고 있는 벤조트리아졸계 자외선 흡수제로서는, 예를 들어 KEMISORB71D, KEMISORB79(모두, 케미프로 가세이샤제), JF-80, JAST-500(모두, 조호쿠 가가쿠샤제), ULS-1933D(잇포샤제), RUVA-93(오츠카 가가쿠샤제) 등을 들 수 있다.

자외선 흡수제는, 그 중에서도, 트리아진계 자외선 흡수제, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제가 적합하게 사용된다. 자외선 흡수제는, 하드 코트층을 구성하는 수지 성분과의 용해성이 높은 쪽이 바람직하고, 또한 상술한 연속 절첩 시험 후의 블리드 아웃이 적은 쪽이 바람직하다. 자외선 흡수제는, 폴리머화 또는 올리고머화되어 있는 것이 바람직하다. 자외선 흡수제로서는, 벤조트리아졸, 트리아진, 벤조페논 골격을 갖는 폴리머 또는 올리고머가 바람직하고, 구체적으로는, 벤조트리아졸이나 벤조페논 골격을 갖는 (메트)아크릴레이트와, 메틸메타크릴레이트(MMA)를 임의의 비율로 열 공중합한 것인 것이 바람직하다. 또한, 유기 발광 다이오드(OLED) 표시 장치에 광학 필름을 적용하는 경우, 자외선 흡수제는, OLED를 자외선으로부터 보호하는 역할도 행할 수 있다.

자외선 흡수제의 함유량으로서는 특별히 한정되지 않지만, 수지층용 조성물의 고형분 100질량부에 대하여 1질량부 이상 6질량부 이하인 것이 바람직하다. 1질량부 미만이면, 상술한 자외선 흡수제를 하드 코트층에 함유시키는 효과를 충분히 얻을 수 없는 경우가 있고, 6질량부를 초과하면, 수지층에 현저한 착색이나 강도 저하가 발생하는 경우가 있다. 상기 자외선 흡수제의 함유량의 보다 바람직한 하한은 2질량부 이상, 보다 바람직한 상한은 5질량부 이하이다.

<분광 투과율 조정제>

분광 투과율 조정제는, 광학 필름의 분광 투과율을 조정하는 것이다. 수지층(12)에, 예를 들어 하기 일반식 (1)로 표현되는 세사몰형 벤조트리아졸계 단량체를 포함시킨 경우에는, 상술한 분광 투과율을 적합하게 만족시킬 수 있다.

상기 일반식 (1) 중, R¹은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. R²는 탄소수 1 내지 6의 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬렌기 또는 탄소수 1 내지 6의 직쇄상 또는 분지쇄상의 옥시알킬렌기를 나타낸다.

상기한 세사몰형 벤조트리아졸계 단량체로서는 특별히 제한되지 않지만, 구체적인 물질명으로서는, 2-[2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-일]에틸메타크릴레이트, 2-[2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-일]에틸아크릴레이트, 3-[2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-일]프로필메타크릴레이트, 3-[2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-일]프로필아크릴레이트, 4-[2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-일]부틸메타크릴레이트, 4-[2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-일]부틸아크릴레이트, 2-[2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸메타크릴레이트, 2-[2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-일옥시]에틸아크릴레이트, 2-[3-{2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-일}프로파노일옥시]에틸메타크릴레이트, 2-[3-{2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-일}프로파노일옥시]에틸아크릴레이트, 4-[3-{2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-일}프로파노일옥시]부틸메타크릴레이트, 4-[3-{2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-일}프로파노일옥시]부틸아크릴레이트, 2-[3-{2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-일}프로파노일옥시]에틸메타크릴레이트, 2-[3-{2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-일}프로파노일옥시]에틸아크릴레이트, 2-(메타크릴로일옥시)에틸2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5카르복실레이트, 2-(아크릴로일옥시)에틸2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-카르복실레이트, 4-(메타크릴로일옥시)부틸2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-카르복실레이트, 4-(아크릴로일옥시)부틸2-(6-히드록시벤조[1,3]디옥솔-5-일)-2H-벤조트리아졸-5-카르복실레이트 등을 들 수 있다. 또한, 이들 세사몰형 벤조트리아졸계 단량체는 1종류로 사용해도 되고, 또한 2종류 이상 사용해도 된다.

상기 세사몰형 벤조트리아졸계 단량체는, 수지층(12)에 함유되어 있어도 되지만, 수지층이 2 이상의 다층 구조인 경우에는, 1층 이상의 수지층에 함유되어, 상기 분광 투과율의 요건을 만족시켜도 된다. 예를 들어, 수지층의 하나에 파장 380㎚에 있어서의 분광 투과율만을 달성할 수 있도록 상기 세사몰형 벤조트리아졸계 단량체를 함유하고, 다른 수지층에 파장 410㎚ 및 파장 440㎚에 있어서의 분광 투과율의 조건을 달성할 수 있도록 상기 세사몰형 벤조트리아졸계 단량체를 함유하고 있는 구성 등을 들 수 있다. 또한, 수지층이 3층 이상으로 이루어지고, 각 수지층에서 상술한 분광 투과율의 요건을 만족시키도록 상기 세사몰형 벤조트리아졸계 단량체를 함유하고 있어도 된다.

상기 세사몰형 벤조트리아졸계 단량체가 수지층(12)에 함유되어 있는 경우, 예를 들어 상기 세사몰형 벤조트리아졸계 단량체는, 수지층(12) 중에 15 내지 30질량％로 함유되어 있는 것이 바람직하다. 이와 같은 범위에서 세사몰형 벤조트리아졸계 단량체가 함유되어 있음으로써, 상술한 분광 투과율을 만족시킬 수 있다. 또한, 상기 세사몰형 벤조트리아졸계 단량체는, 수지층(12)에 있어서, 수지층(12)을 구성하는 수지 성분과 반응하여 일체적으로 함유되어 있어도 되지만, 수지층(12)을 구성하는 수지 성분과 반응하지 않고 단독으로 함유되어 있어도 된다.

<<다른 광학 필름>>

광학 필름(10)에 있어서는, 광학 필름(10)의 표면(10A)은, 유리 기재(11)의 제2 면(11B)으로 되어 있지만, 광학 필름은, 도 4에 도시된 바와 같이, 유리 기재(11)의 제2 면(11B)측에 형성된 하드 코트층(21)을 더 구비하는 광학 필름(20)이어도 된다. 유리 기재(11)의 제2 면(11B)측에 하드 코트층(21)을 형성함으로써, 원하는 연필 경도가 얻어짐과 함께, 유리 기재(11)가 균열되었을 때에 유리가 비산되는 것을 더 억제할 수 있다. 광학 필름(20)에 있어서는, 광학 필름(20)의 표면(20A)은 하드 코트층(21)의 표면(21A)으로 되어 있고, 이면(20B)은 수지층(12)의 제2 면(12B)으로 되어 있다. 하드 코트층(21)은, 유리 기재(11)에 인접하고 있다. 또한, 도 4 내지 도 6에 있어서, 도 1과 동일한 부호가 붙여져 있는 부재는, 도 1에서 도시한 부재와 동일한 것이므로, 설명을 생략하는 것으로 한다.

광학 필름(20)의 물성 등은, 광학 필름(10)의 물성 등과 마찬가지이므로, 여기서는 설명을 생략하는 것으로 한다.

<하드 코트층>

하드 코트층(21)은, 하드 코트층(21)의 단면 중앙에 있어서의 마르텐스 경도가 375㎫ 이상인 층을 의미하는 것으로 한다. 본 명세서에 있어서, 「마르텐스 경도」란, 나노인덴테이션법에 의한 경도 측정에 의해, 압자를 500㎚ 압입했을 때의 경도이다. 상기 나노인덴테이션법에 의한 마르텐스 경도의 측정은, 30㎜×30㎜의 크기로 잘라낸 광학 필름에 있어서 HYSITRON(하이지트론)사제의 「TI950 TriboIndenter」를 사용하여 행하는 것으로 한다. 즉, 이하의 측정 조건에서, 상기 압자로서 Berkovich 압자(삼각추, BRUKER사제의 TI-0039)를 하드 코트층의 단면에 수직으로 500㎚ 압입한다. 여기서, 베르코비치 압자는, 유리 기재의 영향을 피하기 위해 그리고 하드 코트층의 측연의 영향을 피하기 위해, 유리 기재와 하드 코트층의 계면으로부터 하드 코트층의 중앙측으로 500㎚ 이격되고, 하드 코트층의 양측단으로부터 각각 하드 코트층의 중앙측으로 500㎚ 이격된 하드 코트층의 부분 내에 압입하는 것으로 한다. 그 후, 일정 유지하여 잔류 응력의 완화를 행한 후, 제하시키고, 완화 후의 최대 하중을 계측하여, 해당 최대 하중 P_max(μN)와 깊이 500㎚의 오목부 면적 A(㎚²)를 사용하여, P_max/A에 의해, 마르텐스 경도를 산출한다. 마르텐스 경도는, 10개소 측정하여 얻어진 값의 산술 평균값으로 한다.

(측정 조건)

· 하중 속도: 10㎚/초

· 유지 시간: 5초

· 하중 제하 속도: 10㎚/초

· 측정 온도: 25℃

하드 코트층(21)은 단층 구조여도 되지만, 2층 이상의 다층 구조여도 된다. 하드 코트층(21)의 막 두께는, 1㎛ 이상 20㎛ 이하로 되어 있는 것이 바람직하다. 하드 코트층(21)의 막 두께가, 1㎛ 이상이면, 하드 코트층으로서 충분한 경도를 얻을 수 있고, 또한 20㎛ 이하이면, 가공성의 악화를 억제할 수 있다. 본 명세서에 있어서의 「하드 코트층의 막 두께」란, 하드 코트층이 다층 구조로 되어 있는 경우에는, 각 하드 코트층의 막 두께를 합계한 막 두께(총 두께)를 의미하는 것으로 한다. 하드 코트층(21)의 막 두께는, 주사형 전자 현미경(SEM)을 사용하여, 하드 코트층(21)의 단면을 촬영하고, 그 단면의 화상에 있어서 하드 코트층(21)의 막 두께를 20개소 측정하고, 그 20개소의 막 두께의 산술 평균값으로 한다. 하드 코트층(21)의 상한은 15㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 10㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다.

하드 코트층(21)은, 수지를 포함하고 있다. 하드 코트층(21)은, 수지 중에 분산된 무기 입자를 더 함유하고 있어도 된다.

(수지)

수지는, 중합성 화합물(경화성 화합물)의 중합체(경화물)를 포함한다. 중합성 화합물은, 분자 내에 중합성 관능기를 적어도 하나 갖는 것이다. 중합성 관능기로서는, 예를 들어 (메트)아크릴로일기, 비닐기, 알릴기 등의 에틸렌성 불포화기를 들 수 있다. 또한, 「(메트)아크릴로일기」란, 「아크릴로일기」 및 「메타크릴로일기」의 양쪽을 포함하는 의미이다.

중합성 화합물로서는, 다관능 (메트)아크릴레이트가 바람직하다. 상기 다관능 (메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트, 테트라펜타에리트리톨데카(메트)아크릴레이트, 이소시아누르산트리(메트)아크릴레이트, 이소시아누르산디(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르트리(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르디(메트)아크릴레이트, 비스페놀디(메트)아크릴레이트, 디글리세린테트라(메트)아크릴레이트, 아다만틸디(메트)아크릴레이트, 이소보로닐디(메트)아크릴레이트, 디시클로펜탄디(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸디(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트나, 이들을 PO, EO, 카프로락톤 등에 의해 변성한 것을 들 수 있다.

이들 중에서도 상술한 마르텐스 경도를 적합하게 만족시킬 수 있는 점에서, 3 내지 6관능의 것이 바람직하고, 예를 들어 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PETA), 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA), 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(PETTA), 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(DPPA), 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트, 테트라펜타에리트리톨데카(메트)아크릴레이트 등이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, (메트)아크릴레이트란, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 어느 것을 의미한다.

또한, 경도나 조성물의 점도 조정, 밀착성의 개선 등을 위해, 단관능 (메트)아크릴레이트 모노머를 더 포함하고 있어도 된다. 상기 단관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 예를 들어 히드록시에틸아크릴레이트(HEA), 글리시딜메타크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 이소스테아릴(메트)아크릴레이트, 2-아크릴로일옥시에틸숙시네이트, 아크릴로일모르폴린, N-아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈이미드, 시클로헥실아크릴레이트, 테트라히드로푸릴아크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트 및 아다만틸아크릴레이트 등을 들 수 있다.

상기 모노머의 중량 평균 분자량은, 수지층의 경도를 향상시키는 관점에서, 1000 미만이 바람직하고, 200 이상 800 이하가 보다 바람직하다. 또한, 상기 중합성 올리고머의 중량 평균 분자량은, 1000 이상 2만 이하인 것이 바람직하고, 1000 이상 1만 이하인 것이 보다 바람직하고, 2000 이상 7000 이하인 것이 더욱 바람직하다.

(무기 입자)

무기 입자는, 주로 무기물로 이루어지는 입자이다. 무기 입자는, 유기 성분을 포함하고 있어도 되지만, 무기물만으로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 무기 입자는, 유기 성분에 의해 표면 처리된 것이어도 된다. 무기 입자로서는, 경도를 향상시킬 수 있으면, 특별히 한정되지 않지만, 우수한 경도를 얻는 관점에서, 실리카 입자가 바람직하다. 실리카 입자 중에서도, 반응성 실리카 입자가 바람직하다. 상기 반응성 실리카 입자는, 상기 다관능 (메트)아크릴레이트와의 사이에서 가교 구조를 구성하는 것이 가능한 실리카 입자이고, 이 반응성 실리카 입자를 함유함으로써, 하드 코트층(21)의 경도를 충분히 높일 수 있다.

상기 반응성 실리카 입자는, 그 표면에 반응성 관능기를 갖는 것이 바람직하고, 해당 반응성 관능기로서는, 예를 들어 상기한 중합성 관능기가 적합하게 사용된다.

상기 반응성 실리카 입자로서는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 것을 사용할 수 있고, 예를 들어 일본 특허 공개 제2008-165040호 공보 기재된 반응성 실리카 입자 등을 들 수 있다. 또한, 상기 반응성 실리카 입자의 시판품으로서는, 예를 들어 닛산 가가쿠 고교 가부시키가이샤제의 MIBK-SD, MIBK-SDMS, MIBK-SDL, MIBK-SDZL, 닛키 쇼쿠바이 가세이 가부시키가이샤제의 V8802, V8803 등을 들 수 있다.

또한, 상기 실리카 입자는, 구형 실리카 입자여도 되지만, 이형 실리카 입자인 것이 바람직하다. 구형 실리카 입자와 이형 실리카 입자를 혼합시켜도 된다. 또한, 본 명세서에 있어서의 「구형 실리카 입자」란, 예를 들어 진구상, 타원구상 등의 실리카 입자를 의미하고, 또한, 「이형 실리카 입자」란, 감자상(단면 관찰 시의 애스펙트비가 1.2 이상 40 이하)의 랜덤한 요철을 표면에 갖는 형상의 실리카 입자를 의미한다. 상기 이형 실리카 입자는, 그 표면적이 구형 실리카 입자와 비교하여 크기 때문에, 이와 같은 이형 실리카 입자를 함유함으로써, 상기 다관능 (메트)아크릴레이트 등과의 접촉 면적이 커져, 상기 하드 코트층의 경도를 향상시킬 수 있다. 하드 코트층에 포함되어 있는 실리카 입자가 이형 실리카 입자인지 여부는, 하드 코트층의 단면을 투과형 전자 현미경(TEM) 또는 주사 투과형 전자 현미경(STEM)으로 관찰함으로써 확인할 수 있다.

상기 실리카 입자의 평균 입자경은, 5㎚ 이상 200㎚ 이하인 것이 바람직하다. 5㎚ 미만이면, 입자 자신의 제조가 곤란해져, 입자끼리가 응집하거나 하는 경우가 있고, 또한 이형으로 하는 것이 매우 곤란해지는 경우가 있고, 또한 상기 도포 시공 전의 잉크의 단계에서 이형 실리카 입자의 분산성이 나쁘게 응집하거나 하는 경우가 있다. 한편, 상기 이형 실리카 입자의 평균 입자경이 200㎚를 초과하면, 하드 코트층에 큰 요철이 형성되거나, 헤이즈의 상승 등의 문제가 발생하거나 하는 경우가 있다. 실리카 입자가 구형 실리카 입자인 경우에는, 실리카 입자의 평균 입자경은, 투과형 전자 현미경(TEM) 또는 주사 투과형 전자 현미경(STEM)을 사용하여 촬영한 입자의 단면의 화상으로부터 20개의 입자의 입자경을 측정하고, 20개의 입자의 입자경의 산술 평균값으로 한다. 또한, 실리카 입자가 이형 실리카 입자인 경우에는, 실리카 입자의 평균 입자경은, 투과형 전자 현미경(TEM) 또는 주사 투과형 전자 현미경(STEM)을 사용하여 촬영한 하드 코트층의 단면의 화상으로부터 입자의 외주의 2점간 거리의 최댓값(긴 직경)과 최솟값(짧은 직경)을 측정하고, 평균하여 입자경을 구하고, 20개의 입자의 입자경의 산술 평균값으로 한다.

상기 무기 입자의 크기 및 배합량을 제어함으로써 하드 코트층(21)의 경도(마르텐스 경도)를 제어할 수 있다. 예를 들어, 하드 코트층을 형성하는 경우, 상기 실리카 입자는 직경이 5㎚ 이상 200㎚ 이하이고, 상기 중합성 화합물 100질량부에 대하여, 25 내지 60질량부인 것이 바람직하다.

하드 코트층(21)은, 자외선 흡수제, 분광 투과율 조정제, 및/또는 방오제를 더 포함하고 있어도 된다. 자외선 흡수제 및 분광 투과율 조정제는, 수지층(12)의 란에서 설명한 자외선 흡수제 및 분광 투과율 조정제와 마찬가지이므로, 설명을 생략하는 것으로 한다.

(방오제)

방오제는, 하드 코트층에 균일하게 방오제가 분산되어 있어도 되지만, 적은 첨가량으로 충분한 방오성을 얻음과 함께 하드 코트층의 강도 저하를 억제하는 관점에서, 하드 코트층의 표면측에 편재되어 포함되어 있는 것이 바람직하다. 하드 코트층이 단층 구조인 경우에 있어서, 방오제를 하드 코트층의 표면측에 편재시키는 방법으로서는, 예를 들어, 하드 코트층 형성 시에 있어서, 하드 코트층용 조성물을 사용하여 형성한 도막을 건조시키고, 경화시키기 전에, 도막을 가열하여, 도막에 포함되는 수지 성분의 점도를 낮춤으로써 유동성을 높여, 방오제를 하드 코트층의 표면측에 편재시키는 방법이나, 표면 장력이 낮은 방오제를 선정하여 사용하여, 도막의 건조 시에 열을 가하지 않고 도막의 표면에 방오제를 뜨게 하고, 그 후 도막을 경화시킴으로써, 상기 방오제를 하드 코트층의 최표면측에 편재시키는 방법 등을 들 수 있다.

방오제로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 실리콘계 방오제, 불소계 방오제, 실리콘계이고 또한 불소계 방오제를 들 수 있고, 각각 단독으로 사용해도 되고, 혼합하여 사용해도 된다. 또한, 방오제로서는, 아크릴계 방오제여도 된다.

방오제의 함유량으로서는, 상술한 수지 성분 100질량부에 대하여, 0.01 내지 3.0질량부인 것이 바람직하다. 0.01질량부 미만이면, 수지층에 충분한 방오 성능을 부여할 수 없는 경우가 있고, 또한 3.0질량부를 초과하면, 하드 코트층의 경도가 저하될 우려가 있다.

방오제는, 중량 평균 분자량이 5000 이하인 것이 바람직하고, 방오 성능의 내구성을 개선하기 위해, 반응성 관능기를 바람직하게는 1 이상, 보다 바람직하게는 2 이상 갖는 화합물이다. 그 중에서도, 2 이상의 반응성 관능기를 갖는 방오제를 사용함으로써, 우수한 내찰상성을 부여할 수 있다.

방오제가 반응성 관능기를 갖지 않는 경우, 광학 필름이 롤상인 경우에도, 시트상인 경우에도, 겹쳤을 때에 광학 필름의 이면에 방오제가 전이되어 버려, 광학 필름의 이면에 다른 층을 첩부 또는 도포하고자 하면, 다른 층의 박리가 발생하는 경우가 있고, 다시 복수회의 연속 절첩 시험을 행함으로써 쉽게 박리되는 경우가 있다.

또한, 상기 반응성 관능기를 갖는 방오제는, 방오 성능의 성능 지속성(내구성)이 양호해지고, 그 중에서도, 상술한 불소계 방오제를 포함하는 하드 코트층은, 지문이 묻기 어렵고(눈에 띄기 어렵고), 닦아냄성도 양호하다. 또한, 하드 코트층용 조성물의 도포 시공 시의 표면 장력을 낮출 수 있으므로, 레벨링성이 양호하고, 형성되는 하드 코트층의 외관이 양호한 것으로 된다.

실리콘계 방오제를 포함하는 하드 코트층은, 미끄럼성이 양호하고, 내스틸 울성이 양호하다. 하드 코트층에 이와 같은 실리콘계 방오제를 포함하는 광학 필름을 탑재한 터치 센서는, 손가락이나 펜 등으로 접촉했을 때의 미끄럼이 양호해지기 때문에, 촉감이 양호해진다. 또한, 하드 코트층에 지문도 묻기 어렵고(눈에 띄기 어렵고), 닦아냄성도 양호해진다. 또한, 하드 코트층용 조성물의 도포 시공 시의 표면 장력을 낮출 수 있으므로, 레벨링성이 양호하고, 형성되는 하드 코트층의 외관이 양호한 것으로 된다.

광학 필름(20)에 있어서는, 하드 코트층(21)은, 유리 기재(11)의 제2 면(11B)측에 마련되어 있지만, 광학 필름은, 도 5에 도시된 바와 같이, 하드 코트층(31)이, 수지층(12)의 제2 면(12B)측에 마련된 광학 필름(30)이어도 된다. 광학 필름(30)에 있어서는, 광학 필름(30)의 표면(30A)은 하드 코트층(31)의 표면(31A)으로 되어 있고, 이면(30B)은 유리 기재(11)의 제2 면(11B)으로 되어 있다. 하드 코트층(31)은, 수지층(12)에 인접하고 있다.

광학 필름(30)의 물성 등은, 광학 필름(10)의 물성 등과 마찬가지이므로, 여기서는 설명을 생략하는 것으로 한다. 또한, 하드 코트층(31)은, 하드 코트층(21)과 마찬가지이므로, 여기서는 설명을 생략하는 것으로 한다.

광학 필름(30)에 있어서는, 이면(30A)이 유리 기재(11)의 제2 면(11B)으로 되어 있지만, 광학 필름은, 도 6에 도시된 바와 같이, 유리 기재(11)의 제2 면(11B)측에 수지층(41)을 더 구비하는 광학 필름(40)이어도 된다. 광학 필름(40)의 표면(40A)은 하드 코트층(31)의 표면(31A)으로 되어 있고, 이면(40B)은 수지층(41)의 표면(41A)으로 되어 있다. 수지층(41)은, 유리 기재(11)에 인접하고 있다.

광학 필름(40)의 물성 등은, 광학 필름(10)의 물성 등과 마찬가지이므로, 여기서는 설명을 생략하는 것으로 한다. 또한, 수지층(41)은, 수지층(12)과 마찬가지이므로, 여기서는 설명을 생략하는 것으로 한다.

광학 필름(30, 40)을 화상 표시 장치에 내장할 때에는, 하드 코트층(31)이 유리 기재(11)보다도 관찰자측에 위치하도록 배치된다. 따라서, 유리 기재(11)는, 하드 코트층(31)이나 수지층(12)보다도 화상 표시 장치의 내부에 위치한다. 이 때문에, 광학 필름(30, 40)의 표면(30A, 40A)에 충격이 가해진 경우라도, 유리 기재(11)가 균열되기 어렵다.

<<광학 필름의 제조 방법>>

광학 필름(10)은, 예를 들어 이하와 같이 하여 제작할 수 있다. 먼저, 유리 기재(11)의 제1 면(11A)에, 바 코터 등의 도포 장치에 의해, 수지층용 조성물을 도포하여, 수지층용 조성물의 도막을 형성한다.

<수지층용 조성물>

수지층용 조성물은, 수지층(12)을 구성하는 수지에 의해서도 조성이 상이하지만, 수지층이 실리콘 수지로 구성되는 경우에는, 수지층용 조성물로서는, 규소 원자에 결합한 알케닐기를 1분자당 2개 이상 갖는 오르가노알케닐폴리실록산과, 오르가노히드로겐폴리실록산과, 백금족계 촉매를 포함하는 부가 반응형 실리콘 수지 조성물을 사용할 수 있다.

수지층용 조성물의 도막을 형성한 후, 각종 공지의 방법으로 도막을, 예를 들어 80℃ 이상 300℃ 이하, 바람직하게는 100℃ 이상 250℃ 이하의 온도에서 가열하고, 도막을 경화시켜, 수지층(12)을 얻는다. 이에 의해, 도 1에 도시되는 광학 필름(10)이 얻어진다.

광학 필름(20)은, 광학 필름(10)의 유리 기재(11)의 제2 면(11B) 상에 하드 코트층(21)을 형성함으로써 얻을 수 있다. 구체적으로는, 먼저, 유리 기재(11)의 제2 면(11B)에 하드 코트층용 조성물을 도포하고, 하드 코트층용 조성물의 도막을 형성한다.

<하드 코트층용 조성물>

하드 코트층용 조성물은, 하드 코트층(21)을 형성하기 위한 중합성 화합물을 포함하고 있다. 하드 코트층용 조성물은, 기타, 필요에 따라, 자외선 흡수제, 분광 투과율 조정제, 방오제, 무기 입자, 레벨링제, 용제, 중합 개시제를 포함하고 있어도 된다.

(용매)

상기 용매로서는, 알코올(예, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, s-부탄올, t-부탄올, 벤질 알코올, PGME, 에틸렌글리콜, 디아세톤 알코올), 케톤(예, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 헵타논, 디이소부틸케톤, 디에틸케톤, 디아세톤 알코올), 에스테르(아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산n-프로필, 아세트산이소프로필, 포름산메틸, PGMEA), 지방족 탄화수소(예, 헥산, 시클로헥산), 할로겐화 탄화수소(예, 메틸렌클로라이드, 클로로포름, 사염화탄소), 방향족 탄화수소(예, 벤젠, 톨루엔, 크실렌), 아미드(예, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, n-메틸피롤리돈), 에테르(예, 디에틸에테르, 디옥산, 테트라히드로푸란), 에테르 알코올(예, 1-메톡시-2-프로판올), 카르보네이트(탄산디메틸, 탄산디에틸, 탄산에틸메틸), 등을 들 수 있다. 이들 용매는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 그 중에서도, 상기 용매로서는, 우레탄(메트)아크릴레이트 등의 성분, 그리고 다른 첨가제를 용해 혹은 분산시켜, 하드 코트층용 조성물을 적합하게 도포 시공할 수 있는 점에서, 메틸이소부틸케톤, 메틸에틸케톤이 바람직하다.

(중합 개시제)

중합 개시제는, 전리 방사선 조사로부터 분해되고, 라디칼을 발생하여 중합성 화합물의 중합(가교)을 개시 또는 진행시키는 성분이다.

중합 개시제는, 전리 방사선 조사에 의해 라디칼 중합을 개시시키는 물질을 방출하는 것이 가능하면 특별히 한정되지 않는다. 중합 개시제로서는, 특별히 한정되지 않고, 공지의 것을 사용할 수 있고, 구체예에는, 예를 들어 아세토페논류, 벤조페논류, 미힐러벤조일벤조에이트, α-아밀옥심에스테르, 티오크산톤류, 프로피오페논류, 벤질류, 벤조인류, 아실포스핀옥시드류를 들 수 있다. 또한, 광증감제를 혼합하여 사용하는 것이 바람직하고, 그 구체예로서는, 예를 들어 n-부틸아민, 트리에틸아민, 폴리-n-부틸포스핀 등을 들 수 있다.

하드 코트층용 조성물의 도막을 형성한 후, 각종 공지의 방법으로 도막을, 예를 들어 30℃ 이상 120℃ 이하의 온도에서 10초간 내지 120초간 가열함으로써 건조시켜, 용제를 증발시킨다.

도막을 건조시킨 후, 도막에 자외선 등의 전리 방사선을 조사하고, 도막을 경화시켜, 하드 코트층(21)을 얻는다. 이에 의해, 도 4에 도시되는 유리 기재(11)의 제2 면(11B)에 하드 코트층(21)을 구비하는 광학 필름(20)이 얻어진다.

광학 필름(30)은, 광학 필름(10)의 수지층(12)의 제2 면(12B) 상에 하드 코트층(31)을 형성함으로써 얻을 수 있다. 하드 코트층(31)의 형성 방법은, 수지층(12)의 제2 면(12B)에 하드 코트층용 조성물을 도포하는 것 이외에, 하드 코트층(21)의 형성 방법과 마찬가지이므로, 여기서는 설명을 생략하는 것으로 한다.

광학 필름(40)은, 광학 필름(30)의 유리 기재(11)의 제2 면(11B) 상에 수지층(41)을 형성함으로써 얻을 수 있다. 수지층(41)의 형성 방법은, 유리 기재(11)의 제2 면(11B)에 수지층용 조성물을 도포하는 것 이외에, 수지층(12)의 형성 방법과 마찬가지이므로, 여기서는 설명을 생략하는 것으로 한다.

<<<화상 표시 장치>>>

광학 필름(10, 20, 30, 40)은, 절첩 가능한 화상 표시 장치에 내장하여 사용하는 것이 가능하다. 도 7은, 본 실시 형태에 관한 화상 표시 장치의 개략 구성도이다. 도 7에 도시된 바와 같이, 화상 표시 장치(50)는, 관찰자측을 향해, 주로, 전지 등이 수납된 하우징(51), 보호 필름(52), 표시 패널(53), 원 편광판(54), 터치 센서(55) 및 광학 필름(10)이 이 순으로 적층되어 있다. 표시 패널(53)과 원 편광판(54) 사이, 원 편광판(54)과 터치 센서(55) 사이, 터치 센서(55)와 광학 필름(10) 사이에는, 광투과성을 갖는 점착층(56)이 배치되어 있고, 이들 부재는 점착층(56)에 의해 서로 고정되어 있다. 또한, 점착층(56)은, 표시 패널(53)과 원 편광판(54) 사이, 원 편광판(54)과 터치 센서(55) 사이, 터치 센서(55)와 광학 필름(10) 사이에 배치되어 있지만, 점착층의 배치 개소는, 광학 필름과 표시 패널 사이라면, 특별히 한정되지 않는다. 또한, 점착층 대신에 접착층을 사용해도 된다.

광학 필름(10)은, 유리 기재(11)가 수지층(12)보다도 관찰자측으로 되도록 배치되어 있다. 화상 표시 장치(50)에 있어서는, 광학 필름(10)의 유리 기재(11)의 제2 면(11B)이, 화상 표시 장치(50)의 표면(50A)을 구성하고 있다.

화상 표시 장치(50)에 있어서는, 표시 패널(53)은, 유기 발광 다이오드 등을 포함하는 유기 발광 다이오드 패널로 되어 있다. 터치 센서(54)는, 원 편광판(55)보다도 표시 패널(53)측에 배치되어 있지만, 원 편광판(55)과 광학 필름(10) 사이에 배치되어 있어도 된다. 또한, 터치 센서(54)는, 온 셀 방식이나 인 셀 방식이어도 된다.

점착층(56)로서는, 예를 들어 OCA(Optical Clear Adhesive)를 사용할 수 있지만, 내충격성을 향상시켜, 표시 패널(53)의 손상을 방지하는 관점에서, 상기 아크릴계 겔로 이루어지는 점착층을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 점착층(56)이 상기 아크릴계 겔로 이루어지는 점착층을 사용하는 경우, 표시 패널(53)과 원 편광판(54) 사이, 원 편광판(54)과 터치 센서(55) 사이, 터치 센서(55)와 광학 필름(10) 사이의 적어도 어느 것에 상기 점착층을 배치하면 된다.

또한, 상기에 있어서는, 광학 필름(10)이 화상 표시 장치(50)에 내장된 예에 대하여 설명했지만, 광학 필름(20, 30, 40)도 화상 표시 장치(50)와 동일한 화상 표시 장치에 내장하는 것이 가능하다. 이 경우, 광학 필름(20, 30, 40)은, 표면(20A, 30A, 40A)이 이면(20B, 30B, 40B)보다도 관찰자측에 위치하도록 배치된다.

본 실시 형태에 있어서는, 유리 기재(11)의 두께가 30㎛ 이상 200㎛ 이하로 되어 있으므로, 종래의 커버 유리보다도 얇고, 광학 필름(10, 20, 30, 40)에 유연성을 부여할 수 있다. 또한, 수지층(12)의 25℃에서의 영율이, 70㎫ 이상 1200㎫ 이하로 되어 있으므로, 광학 필름(10, 20, 30, 40)의 표면(10A, 20A, 30A, 40A)에 충격이 가해진 경우라도, 광학 필름(10, 20, 30, 40)이 균열되기 어렵고, 표면(10A, 20A, 30A, 40A)이 오목해지는 것이 억제되고, 또한 유리 기재(11)보다도 화상 표시 장치의 내부에 존재하는 부재가 손상되지 않는 내충격성을 광학 필름(10, 20, 30, 40)에 부여할 수 있다. 이에 의해, 유연성을 유지하면서, 내충격성을 갖는 광학 필름(10, 20, 30, 40)을 제공할 수 있다.

유기 발광 다이오드는, 수분에 의해 열화되어 버리므로, 통상, 밀봉되어 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 유연성을 갖는 유리 기재(11)를 사용하고 있으므로, 폴리이미드 등의 유연성을 갖는 수지 기재를 사용한 경우에 비해, 수증기 투과율이 낮다. 이 때문에, 표시 패널(53)로서 유기 발광 다이오드 패널을 사용한 경우에는, 유기 발광 다이오드의 열화를 더 억제할 수 있다.

상기 실시 형태에 있어서는, 광학 필름(10)을 화상 표시 장치에 사용하고 있지만, 본 발명의 광학 필름의 용도는, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 본 발명의 광학 필름은, 광을 투과시키는 것이 요구되어 있는 다양한 용도로 사용해도 된다. 또한, 본 발명의 광학 필름은, 화상 표시 장치(스마트폰, 태블릿 단말기, 퍼스널 컴퓨터, 웨어러블 단말기, 텔레비전, 디지털 사이니지, 퍼블릭 인포메이션 디스플레이(PID), 차량 탑재 디스플레이 등을 포함함) 관련 제품 이외에, 주택이나 차(자동차뿐만 아니라, 전철이나 차량 건설용 기계 등, 모든 차를 포함함)에서 사용되는 전화(電化) 제품이나 창 또는 전시용 디스플레이에 사용해도 된다. 특히, 본 발명의 광학 필름은, 투명성이 중시되는 부분에 적합하게 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 광학 필름은, 투명성 등의 기술적 관점뿐만 아니라, 의장성이나 디자인성이 요구되는 용도에도 적합하게 사용할 수 있다. 상기 각 화상 표시 장치의 형태로서는, 폴더블, 롤러블 등의 플렉시블성을 필요로 하는 용도로도 바람직하다.

실시예

본 발명을 상세하게 설명하기 위해, 이하에 실시예를 들어 설명하지만, 본 발명은 이들의 기재에 한정되지 않는다. 또한, 하기의 「고형분 100％ 환산값」이란, 용제 희석품 중의 고형분을 100％로 했을 때의 값이다.

<수지층용 조성물의 조제>

먼저, 하기에 나타내는 조성으로 되도록 각 성분을 배합하여, 수지층용 조성물을 얻었다.

(수지층용 조성물 1)

· 페닐 실리콘(제품명 「OE-6652A」, 도레이 다우코닝 가부시키가이샤제): 20질량부

· 페닐 실리콘(제품명 「OE-6652B」, 도레이 다우코닝 가부시키가이샤제): 80질량부

(수지층용 조성물 2)

· 페닐 실리콘(제품명 「OE-6630A」, 도레이 다우코닝 가부시키가이샤제): 20질량부

· 페닐 실리콘(제품명 「OE-6630B」, 도레이 다우코닝 가부시키가이샤제): 80질량부

(수지층용 조성물 3)

· 페닐 실리콘(제품명 「OE-6672A」, 도레이 다우코닝 가부시키가이샤제): 2.5질량부

· 페닐 실리콘(제품명 「OE-6672B」, 도레이 다우코닝 가부시키가이샤제): 100질량부

(수지층용 조성물 4)

· 페닐 실리콘(제품명 「OE-6631A」, 도레이 다우코닝 가부시키가이샤제): 33.3질량부

· 페닐 실리콘(제품명 「OE-6631B」, 도레이 다우코닝 가부시키가이샤제): 66.7질량부

(수지층용 조성물 5)

· 페닐 실리콘(제품명 「OE-6636A」, 도레이 다우코닝 가부시키가이샤제): 33.3질량부

· 페닐 실리콘(제품명 「OE-6636B」, 도레이 다우코닝 가부시키가이샤제): 66.7질량부

(수지층용 조성물 6)

· 메틸 실리콘(제품명 「OE-7810A」, 도레이 다우코닝 가부시키가이샤제): 50질량부

· 메틸 실리콘(제품명 「OE-7810B」, 도레이 다우코닝 가부시키가이샤제): 50질량부

<하드 코트층용 조성물의 조제>

하기에 나타내는 조성으로 되도록 각 성분을 배합하여, 하드 코트층용 조성물 1을 얻었다.

(하드 코트층용 조성물 1)

· 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트의 혼합물(제품명 「M403」, 도아 고세 가부시키가이샤제): 25질량부

· 디펜타에리트리톨 EO 변성 헥사아크릴레이트(제품명 「A-DPH-6E」, 신나카무라 가가쿠 고교 가부시키가이샤제): 25질량부

· 이형 실리카 입자(평균 입자경 25㎚, 닛키 쇼쿠바이 가세이 가부시키가이샤제): 50질량부(고형분 100％ 환산값)

· 광중합 개시제(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 제품명 「Irgacure(등록 상표) 184」, BASF 재팬사제): 4질량부

· 불소계 레벨링제(제품명 「F568」, DIC 가부시키가이샤제): 0.2질량부(고형분 100％ 환산값)

· 메틸이소부틸케톤(MIBK): 150질량부

<실시예 1>

먼저, 두께 50㎛의 유리 기재(제품명 「스크라이브 유리」, 마츠나미 글래스 가부시키가이샤제)를 준비하고, 유리 기재의 한쪽 면에, 바 코터로 수지층용 조성물 1을 도포하여, 도막을 형성했다. 그 후, 형성한 도막을, 150℃, 60분간 가열하고, 경화시켜, 막 두께 100㎛의 제1 수지층을 얻었다. 이에 의해, 유리 기재의 한쪽 면에 제1 수지층이 형성된 광학 필름을 얻었다. 광학 필름의 표면은 유리 기재의 표면이고, 광학 필름의 이면은 수지층의 표면이었다. 또한, 유리 기재의 두께 및 제1 수지층의 막 두께는, 주사 투과형 전자 현미경(SEM)(제품명 「S-4800」, 가부시키가이샤 히타치 하이테크놀러지즈사제)을 사용하여, 유리 기재의 단면 및 제1 수지층의 단면을 촬영하고, 그 단면의 화상에 있어서 유리 기재의 막 두께 및 제1 수지층의 막 두께를 각각 10개소 측정하고, 각각 그 10개소의 막 두께의 산술 평균값으로 했다. 제1 수지층의 단면 사진은, 이하와 같이 하여 촬영했다. 먼저, 1㎜×10㎜로 잘라낸 광학 필름을 포매 수지에 의해 포매한 블록을 제작하고, 이 블록을 일반적인 단면 절삭 방법에 의해 요철이 없는 단면을 제작했다. 이 단면의 제작에는, 「울트라 마이크로톰 EM UC7」(레이카 마이크로 시스템즈 가부시키가이샤) 등을 사용했다. 그 후, 주사 투과형 전자 현미경(SEM)을 사용하여, 측정 샘플의 단면 사진을 촬영했다. 이 단면 사진의 촬영 시에는, 검출기를 「SE」, 가속 전압을 「5㎸」, 에미션 전류를 「10㎂」로 하여 SEM 관찰을 행하였다. 배율에 대해서는, 포커스를 조절하여 콘트라스트 및 밝기를 각 층이 분별되는지 관찰하면서 1000배 내지 1만배로 적절히 조절했다. 또한, 단면 사진의 촬영 시에는, 또한, 애퍼쳐를 「빔 모니터 조리개 3」으로 하고, 대물 렌즈 조리개를 「3」으로 하고, 또한 W.D.를 「8㎜」로 했다. 실시예 2 내지 8 및 비교예 1 내지 6에 있어서도, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 유리 기재의 두께 및 수지층의 막 두께를 측정했다. 또한, 후술하는 하드 코트층이나 제2 수지층의 막 두께도, 제1 수지층의 막 두께와 동일한 방법에 의해 측정했다.

<실시예 2>

실시예 2에 있어서는, 제1 수지층의 막 두께를 200㎛로 한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 광학 필름을 얻었다.

<실시예 3>

실시예 3에 있어서는, 제1 수지층의 막 두께를 500㎛로 한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 광학 필름을 얻었다.

<실시예 4>

실시예 4에 있어서는, 수지층용 조성물 1 대신에 수지층용 조성물 2를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 광학 필름을 얻었다.

<실시예 5>

실시예 5에 있어서는, 수지층용 조성물 1 대신에 수지층용 조성물 3을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 광학 필름을 얻었다.

<실시예 6>

실시예 6에 있어서는, 실시예 1에 관한 광학 필름의 유리 기재에 있어서의 제1 수지층측의 면과는 반대측의 면에, 하드 코트층을 더 형성한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 광학 필름을 얻었다. 하드 코트층의 형성은, 이하와 같이 하여 행해졌다. 먼저, 실시예 1에 관한 광학 필름의 유리 기재의 다른 쪽 면에, 하드 코트층용 조성물 1을 도포하여, 도막을 형성했다. 그리고, 형성한 도막에 대하여, 70℃, 1분간 가열시킴으로써 도막 중의 용제를 증발시켜, 자외선 조사 장치(퓨전 UV 시스템 재팬사제, 광원 H벌브)를 사용하여, 자외선을 산소 농도가 200ppm 이하인 조건 하에서 적산 광량이 200mJ/㎠로 되도록 조사하여 도막을 경화시켰다. 이에 의해, 제1 수지층과, 유리 기재와, 막 두께 5㎛의 하드 코트층을 이 순으로 구비하는 광학 필름을 얻었다. 실시예 6에 관한 광학 필름의 표면은 하드 코트층의 표면이고, 광학 필름의 이면은 제1 수지층의 표면이었다.

<실시예 7>

실시예 7에 있어서는, 실시예 1에 관한 광학 필름의 수지층에 있어서의 유리 기재측의 면과는 반대측의 면에, 막 두께 5㎛의 하드 코트층을 더 형성한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 광학 필름을 얻었다. 하드 코트층은, 실시예 1에 관한 광학 필름의 제1 수지층에 있어서의 유리 기재측의 면과는 반대측의 면에 하드 코트층용 조성물 1을 도포한 것 이외는, 실시예 6과 동일한 방법에 의해 형성되었다. 실시예 7에 관한 광학 필름의 표면은 하드 코트층의 표면이고, 광학 필름의 이면은 유리 기재의 표면이었다.

<실시예 8>

실시예 8에 있어서는, 실시예 7에 관한 광학 필름의 유리 기재에 있어서의 제1 수지층측의 면과는 반대측의 면에, 막 두께 100㎛의 제2 수지층을 더 형성한 것 이외는, 실시예 7과 마찬가지로 하여, 광학 필름을 얻었다. 제2 수지층은, 실시예 7에 관한 광학 필름의 유리 기재에 있어서의 제1 수지층측의 면과는 반대측의 면에 수지층용 조성물 1을 도포한 것 이외는, 제1 수지층과 동일한 방법에 의해 형성되었다. 실시예 8에 관한 광학 필름의 표면은 하드 코트층의 표면이고, 광학 필름의 이면은 제2 수지층의 표면이었다.

<비교예 1>

비교예 1에 있어서는, 두께 50㎛의 유리 기재 대신에, 두께 300㎛의 유리 기재(제품명 「D263Teco」, 마츠나미 글래스 가부시키가이샤제)를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 광학 필름을 얻었다.

<비교예 2>

비교예 2에 있어서는, 두께 50㎛의 유리 기재 대신에, 두께 700㎛의 유리 기재(제품명 「소다 유리」, 히라오카 도꾸슈 가라스 세이사꾸 가부시키가이샤제)를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 광학 필름을 얻었다.

<비교예 3>

비교예 3에 있어서는, 수지층용 조성물 1 대신에 수지층용 조성물 4를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 광학 필름을 얻었다.

<비교예4>

비교예 4에 있어서는, 수지층용 조성물 1 대신에 수지층용 조성물 5를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 광학 필름을 얻었다.

<비교예 5>

비교예 5에 있어서는, 수지층용 조성물 1 대신에 수지층용 조성물 6을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 광학 필름을 얻었다.

<비교예 6>

비교예 6에 있어서는, 유리 기재 대신 두께 50㎛의 폴리이미드계 기재(제품명 「네오풀림」, 미쯔비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤제)를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 광학 필름을 얻었다.

<영율 산출>

실시예 및 비교예에 관한 광학 필름의 제1 수지층의 25℃에서의 영율을 구했다. 먼저, 제1 수지층의 인덴테이션 경도를 측정했다. 인덴테이션 경도(H_IT)의 측정은, 측정 샘플에 대하여 HYSITRON(하이지트론)사제의 「TI950 TriboIndenter」를 사용하여 행하였다. 구체적으로는, 먼저, 1㎜×10㎜로 잘라낸 광학 필름을 포매 수지에 의해 포매한 블록을 제작하고, 이 블록으로부터 일반적인 절편 제작 방법에 의해 구멍 등이 없는 균일한, 두께 70㎚ 이상 100㎚ 이하의 절편을 잘라냈다. 절편의 제작에는, 「울트라 마이크로톰 EM UC7」(레이카 마이크로 시스템즈 가부시키가이샤)을 사용했다. 그리고, 이 구멍 등이 없는 균일한 절편이 잘라내진 나머지의 블록을 측정 샘플로 했다. 이어서, 이와 같은 측정 샘플에 있어서의 상기 절편이 잘라내짐으로써 얻어진 단면에 있어서, 이하의 측정 조건에서, 상기 압자로서 베르코비치(Berkovich) 압자(삼각추, BRUKER사제의 TI-0039)를 제1 수지층의 단면 중앙에 25초에 걸쳐 최대 압입 하중 500μN으로 될 때까지 수직으로 압입했다. 여기서, 베르코비치 압자는, 유리 기재의 영향을 피하기 위해 그리고 제1 수지층의 측연의 영향을 피하기 위해, 유리 기재와 수지층의 계면으로부터 제1 수지층의 중앙측으로 500㎚ 이격되고, 제1 수지층의 양측단으로부터 각각 제1 수지층의 중앙측으로 500㎚ 이격된 제1 수지층의 부분 내에 압입했다. 또한, 제1 수지층에 있어서의 유리 기재측의 면과는 반대측의 면에 하드 코트층이 존재하는 경우에는, 하드 코트층과 제1 수지층의 계면으로부터도 제1 수지층의 중앙측으로 500㎚ 이격된 제1 수지층의 부분 내에 압입했다. 그 후, 일정 유지하여 잔류 응력의 완화를 행한 후, 25초에 걸쳐 제하시키고, 완화 후의 최대 하중을 계측하여, 해당 최대 하중 P_max(μN)와 접촉 투영 면적 A_p(㎚²)를 사용하여 P_max/A_p에 의해, 인덴테이션 경도(H_IT)를 산출했다. 상기 접촉 투영 면적은, 표준 시료의 용융 석영(BRUKER사제의 5-0098)을 사용하여 Oliver-Pharr법으로 압자 선단 곡률을 보정한 접촉 투영 면적이었다. 또한, 측정값 중에 산술 평균값으로부터 ±20％ 이상 벗어나는 것이 포함되어 있는 경우는, 그 측정값을 제외하고 재측정을 행하는 것으로 한다.

(측정 조건)

· 하중 속도: 20μN/초

· 유지 시간: 5초

· 하중 제하 속도: 20μN/초

· 측정 온도: 25℃

이어서, 얻어진 제1 수지층의 인덴테이션 경도(H_IT)를 측정할 때에 구해지는 상기 접촉 투영 면적 A_p를 사용하여, 상기 수식 (1) 및 수식 (2)로부터 25℃에서의 영율을 구했다. 영율은, 인덴테이션 경도를 10개소 측정하여, 그때마다 영율을 구하고, 얻어진 10개소의 영율의 산술 평균값으로 했다.

<내충격성 시험>

실시예 및 비교예에 관한 광학 필름에 대하여 내충격성 시험을 행하였다. 먼저, 두께 0.7㎜의 소다 유리의 표면에, 소다 유리측이 100㎜×100㎜의 크기로 잘라낸 광학 필름의 이면측으로 되도록 광학 필름을 직접 두고, 높이 30㎝의 위치로부터 무게 100g, 직경 30㎜의 철구를 광학 필름의 표면에 낙하시키는 내충격성 시험을 각 3회 행하였다. 또한, 내충격성 시험에 있어서, 철구를 낙하시키는 위치는 그때마다 바꾸는 것으로 했다. 그리고, 내충격성 시험 후의 광학 필름에 있어서, 눈으로 보아 광학 필름의 표면에 오목부가 발생하고 있는지를 평가함과 함께, 소다 유리에 균열이 발생하고 있는지 평가했다. 평가 결과는, 이하와 같이 했다.

(광학 필름의 균열/오목부 평가)

○: 광학 필름을 정면 및 비스듬히 관찰한 경우의 양쪽에 있어서, 광학 필름의 균열 및 광학 필름의 표면의 오목부 모두 확인되지 않았다.

△: 광학 필름을 정면으로부터 관찰한 경우에는 광학 필름의 균열 및 광학 필름의 표면의 오목부 모두 관찰되지 않았지만, 비스듬히 관찰한 경우에는 광학 필름의 표면에 오목부가 확인되었다.

×: 광학 필름을 정면 및 비스듬히 관찰한 경우의 양쪽에 있어서, 광학 필름의 균열 또는 광학 필름의 표면에 명확한 오목부가 관찰되었다.

(소다 유리의 균열 평가)

◎: 3회 모두 소다 유리가 균열되지 않고, 또한 흠집도 생기지 않았다.

○: 3회 모두 소다 유리가 균열되지 않았지만, 흠집이 생긴 것이 있었다.

△: 1 내지 2회 소다 유리에 균열이 발생했다.

×: 3회 모두 소다 유리에 균열이 발생했다.

<연속 절첩 시험>

실시예 및 비교예에 관한 광학 필름에 대하여 절첩 시험을 행하여, 절첩성을 평가했다. 구체적으로는, 먼저, 30㎜×100㎜의 크기로 잘라낸 광학 필름을, 내구 시험기(제품명 「DLDMLH-FS」, 유아사 시스템 기끼 가부시키가이샤제)에, 광학 필름의 짧은 변(30㎜)측을 고정부에서 각각 고정하고, 도 2의 (C)에 도시한 바와 같이 대향하는 2개의 변부의 최소의 간격이 10㎜로 되도록 하여 조정하고, 광학 필름의 표면을 180° 절첩하는 연속 절첩 시험(광학 필름의 표면이 내측으로 되고, 광학 필름의 이면이 외측으로 되도록 절첩하는 시험)을 10만회 행하여, 굴곡부에 균열 또는 파단이 발생하지 않는지 조사했다. 또한, 실시예 및 비교예에 관한 광학 필름으로 상기와 마찬가지로 제작한 새로운 광학 필름을, 상기한 내구 시험기에, 상기와 마찬가지로 설치하고, 광학 필름의 이면을 180° 절첩하는 연속 절첩 시험(광학 필름의 이면이 내측으로 되고, 광학 필름의 표면이 외측으로 되도록 절첩하는 시험)을 10만회 행하여, 굴곡부에 균열 또는 파단이 발생하지 않는지 조사했다. 연속 절첩 시험의 결과를, 이하의 기준으로 평가했다.

○: 어느 연속 절첩 시험에 있어서도, 굴곡부에 균열 또는 파단이 발생하지 않았다.

×: 어느 연속 절첩 시험에 있어서, 굴곡부에 균열 또는 파단이 발생했다.

<절첩 정치 시험>

실시예 및 비교예에 관한 광학 필름에 대하여 절첩 정치 시험을 행하여, 절첩 상태를 개방했을 때의 개방각을 측정했다. 구체적으로는, 먼저, 30㎜×100㎜의 크기로 잘라낸 광학 필름의 짧은 변(30㎜)측을, 광학 필름의 대향하는 변부의 간격이 10㎜로 되도록 평행하게 배치된 고정부에 각각 고정하고, 광학 필름을 절첩한 상태에서, 70℃에서 240시간 정치하는 절첩 정치 시험을 행하였다. 그리고, 절첩 정치 시험 후에 한쪽의 변부로부터 고정부를 제거함으로써, 절첩 상태를 개방하고, 실온에서 30분 후에 광학 필름이 자연스럽게 개방되는 각도인 개방각(도 3의 (B) 참조)을 측정했다. 또한, 개방각으로서는, 광학 필름의 표면이 내측으로 되도록 절첩하는 경우와, 광학 필름의 표면이 외측으로 되도록 절첩하는 경우의 양쪽에서 절첩 정치 시험을 하여, 각도가 작은 쪽을 채용했다. 또한, 표 1의 절첩 정치 시험의 결과에 있어서의 「×」는, 광학 필름의 대향하는 변부의 간격이 10㎜로 되도록 굴곡시켰을 때에 균열이 발생한 것을 의미한다.

<전체 광선 투과율 측정>

실시예 및 비교예에 관한 광학 필름에 대하여, 헤이즈 미터(제품명 「HM-150」, 무라카미 시키사이 기쥬츠 겐큐쇼제)를 사용하여, JIS K7361-1:1997에 따라 전체 광선 투과율을 측정했다. 전체 광선 투과율을 측정할 때에는, 50㎜×100㎜의 크기로 잘라낸 광학 필름을, 컬이나 주름이 없고, 또한 지문이나 먼지 등이 없는 상태에서, 헤이즈 미터에 설정하여, 광학 필름의 이면(광학 필름의 이면)측으로부터 광을 조사했다. 전체 광선 투과율은, 광학 필름 1매에 대하여 3회 측정하고, 3회 측정하여 얻어진 값의 산술 평균값으로 했다.

<헤이즈값 측정>

실시예 및 비교예에 관한 광학 필름에 대하여, 헤이즈 미터(제품명 「HM-150」, 무라카미 시키사이 기쥬츠 겐큐쇼제)를 사용하여 JIS K7136:2000에 따라 헤이즈값을 측정했다. 헤이즈값을 측정할 때에는, 50㎜×100㎜의 크기로 잘라낸 광학 필름을, 컬이나 주름이 없고, 또한 지문이나 먼지 등이 없는 상태에서, 헤이즈 미터에 설치하여, 광학 필름의 이면측으로부터 광을 조사했다. 헤이즈값은, 광학 필름 1매에 대하여 3회 측정하고, 3회 측정하여 얻어진 값의 산술 평균값으로 했다.

<연필 경도>

실시예 및 비교예에 관한 광학 필름의 표면에 있어서의 연필 경도를, JIS K5600-5-4:1999에 기초하여 각각 측정했다. 또한, 연필 경도의 측정 시에는, 연필 경도 시험기(제품명 「연필 긁기 도막 경도 시험기(전동식)」, 가부시키가이샤 도요 세키 세이사쿠쇼제)를 사용하여, 50㎜×100㎜의 크기로 잘라낸 광학 필름을 두께 2㎜의 유리판 상에 접힘이나 주름이 없도록 니치반사제의 셀로판 테이프(등록 상표)로 고정한 상태에서, 연필(제품명 「유니」, 미쓰비시 엔피츠 가부시키가이샤제)에 750g의 하중을 가하면서, 연필을 속도 1㎜/초로 이동시켰다. 연필 경도는, 연필 경도 시험에 있어서 광학 필름의 표면(광학 필름의 표면)에 흠집이 생기지 않는 가장 높은 경도로 한다. 또한, 연필 경도의 측정 시에는, 경도가 다른 연필을 복수개 사용하여 행하지만, 연필 1개에 대해서 5회 연필 경도 시험을 행하여, 5회 중 4회 이상 형광등 아래에서 광학 필름의 표면을 투과 관찰했을 때에 광학 필름의 표면에 흠집이 시인되지 않는 경우에는, 이 경도의 연필에 있어서는 광학 필름의 표면에 흠집이 생기지 않았다고 판단한다.

<수증기 투과율 측정>

실시예 및 비교예에 관한 광학 필름에 있어서, 수증기 투과율을 각각 측정했다. 수증기 투과율은, JIS K7129:2008에 준거하여, 수증기 투과율 측정 장치(제품명 「PERMATRAN-W3/31」, MOCON사제)를 사용하여, 23℃, 상대 습도 90％의 조건 하에서 측정했다. 수증기 투과율을 측정할 때에는, 100㎜×100㎜의 크기로 잘라낸 광학 필름을 사용하고, 또한 수증기 투과율은 3회 측정하여 얻어진 값의 산술 평균값으로 했다.

<내찰상성 시험>

실시예 및 비교예에 관한 광학 필름의 표면에 대하여 내찰상성 시험을 행하였다. 구체적으로는, 먼저, 50㎜×100㎜의 크기로 잘라낸 광학 필름의 이면을, 막 두께 50㎛의 투명 점착층(굴절률: 1.55, 제품명 「PDC-SI」, 파낙 가부시키가이샤제)을 개재하여, 크기 10㎝×10㎝ 및 두께 2㎜의 아크릴판(제품명 「코모글래스 DFA502K」, 가부시키가이샤 쿠라레제)에 접합했다. 그리고, 광학 필름의 표면에 대하여, ＃0000번의 스틸울(제품명 「본스타」, 닛폰 스틸울 가부시키가이샤제)을 사용하여 500g/㎠의 하중을 가하면서 10왕복 마찰하는 내찰상성 시험을 행하고, 눈으로 보아 광학 필름의 표면에 흠집이 확인되는지 여부를 관찰했다. 평가 결과는, 이하와 같이 했다.

○: 흠집이 확인되지 않았거나, 또는 흠집이 약간 확인되었지만 실용상 문제가 없는 레벨이었다.

×: 흠집이 명확하게 확인되었다.

이하, 결과를 표 1 및 표 2에 나타낸다.

이하, 결과에 대하여 설명한다. 비교예 1, 2에 관한 광학 필름에 있어서는, 유리 기재의 두께가 30㎛ 이상 200㎛ 이하의 범위 외였으므로, 연속 절첩 시험에서 광학 필름에 균열이나 파단이 발생했다. 또한, 비교예 3 내지 6에 관한 광학 필름에 있어서는, 제1 수지층의 25℃에서의 영율이 70㎫ 이상 1200㎫ 이하의 범위 외였으므로, 내충격성 시험에서, 광학 필름이 균열되고, 광학 필름의 표면이 오목해지거나 또는 소다 유리가 균열되어 버렸다. 이에 비해, 실시예 1 내지 8에 관한 광학 필름에 있어서는, 유리 기재의 두께가 30㎛ 이상 200㎛ 이하의 범위 내였으므로, 연속 절첩 시험에서 광학 필름에 균열이나 파단이 발생하지 않았다. 또한, 실시예 1 내지 6에 관한 광학 필름에 있어서는, 제1 수지층의 25℃에서의 영율이 70㎫ 이상 1200㎫ 이하의 범위 내였으므로, 내충격성 시험에서, 광학 필름이 균열되지 않거나, 또는 광학 필름의 표면이 오목해지지 않거나, 또는 소다 유리가 균열되지 않았다.

실시예 6 내지 8에 관한 광학 필름의 하드 코트층의 마르텐스 경도를 측정한바, 하드 코트층의 마르텐스 경도는 830㎫이었다. 마르텐스 경도는, 측정 샘플에 대하여 HYSITRON(하이지트론)사제의 「TI950 TriboIndenter」를 사용하여, 측정했다. 구체적으로는, 먼저 1㎜×10㎜로 잘라낸 광학 필름을 포매 수지에 의해 포매한 블록을 제작하고, 이 블록으로부터 일반적인 절편 제작 방법에 의해 구멍 등이 없는 균일한, 두께 70㎚ 이상 100㎚ 이하의 절편을 잘라냈다. 절편의 제작에는, 「울트라 마이크로톰 EM UC7」(레이카 마이크로 시스템즈 가부시키가이샤)을 사용했다. 그리고, 이 구멍 등이 없는 균일한 절편이 잘라내진 나머지의 블록을 측정 샘플로 했다. 이어서, 이와 같은 측정 샘플에 있어서의 상기 절편이 잘라내짐으로써 얻어진 단면에 있어서, 압자로서 Berkovich 압자(삼각추, BRUKER사제의 TI-0039)를 사용하여, 이하의 측정 조건에서, 하드 코트층의 단면에 수직으로 500㎚ 압입했다. 여기서, 베르코비치 압자는, 유리 기재의 영향을 피하기 위해 그리고 하드 코트층의 측연의 영향을 피하기 위해, 하드 코트층에 인접한 층과 하드 코트층의 계면으로부터 하드 코트층의 중앙측으로 500㎚ 이격되고, 하드 코트층의 양측단으로부터 각각 하드 코트층의 중앙측으로 500㎚ 이격된 하드 코트층의 부분 내에 압입했다. 그 후, 일정 유지하여 잔류 응력의 완화를 행한 후, 제하시키고, 완화 후의 최대 하중을 계측하여, 해당 최대 하중 P_max(μN)와 깊이 500㎚의 오목부 면적 A(㎚²)를 사용하여, P_max/A에 의해 산출했다. 마르텐스 경도는, 10개소 측정하여 얻어진 값의 산술 평균값으로 했다.

(측정 조건)

· 하중 속도: 10㎚/초

· 유지 시간: 5초

· 하중 제하 속도: 10㎚/초

· 측정 온도: 25℃

10, 20, 30, 40: 광학 필름
10A, 20A, 30A, 40A: 표면
10B, 20B, 30B, 40B: 이면
11: 유리 기재
11A: 제1 면
11B: 제2 면
12, 41: 수지층
12A: 제1 면
12B: 제2 면
21, 31: 하드 코트층
50: 화상 표시 장치
53: 표시 패널

Claims

두께가 30㎛ 이상 200㎛ 이하인 유리 기재와,
상기 유리 기재에 인접한 수지층을 구비하고,
상기 수지층에 있어서의 25℃에서의 영율이, 70㎫ 이상 1200㎫ 이하인, 광학 필름.
제1항에 있어서, 상기 수지층의 막 두께가, 100㎛ 이상 500㎛ 이하인, 광학 필름.
제1항에 있어서, 상기 수지층이, 실리콘 수지를 포함하는, 광학 필름.
표시 패널과,
상기 표시 패널보다도 관찰자측에 배치된 제1항에 기재된 광학 필름
을 구비하는, 화상 표시 장치.
제4항에 있어서, 상기 표시 패널이, 유기 발광 다이오드 패널인, 화상 표시 장치.