KR20200034596A - 기판 처리 장치 - Google Patents

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마사후미 마에다
마사키 니시다
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

기판 처리 장치는, 인덱서부와 제1 처리부와 제1 반송 기구와 제2 처리부와 제2 반송 기구와 제1 재치부와 제2 재치부와 제어부를 구비한다. 제1 반송 기구는 3개의 액세스 동작(구체적으로는, 제1 액세스 동작과 제2 액세스 동작과 제3 액세스 동작)으로 이루어지는 제1 사이클 동작을 반복한다. 제2 반송 기구는 3개의 액세스 동작(구체적으로는, 제4 액세스 동작과 제5 액세스 동작과 제6 액세스 동작)으로 이루어지는 제2 사이클 동작을 반복한다.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
본 발명은, 기판에 처리를 행하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 기판은, 예를 들면, 반도체 웨이퍼, 액정 디스플레이용 기판, 유기 EL(Electroluminescence)용 기판, FPD(Flat Panel Display)용 기판, 광 디스플레이용 기판, 자기 디스크용 기판, 광자기 디스크용 기판, 포토마스크(photomask)용 기판, 태양전지용 기판이다.
일본 특허공개 2009-010291호 공보는, 기판 처리 장치를 개시한다. 이하에서는, 일본 특허공개 2009-010291호 공보에 기재되는 부호를, 괄호 쓰기로 표기한다. 기판 처리 장치(1)는, 반송 기구(TID)와 반송 기구(T1)와 반송 기구(T2)와 반송 기구(TIFA)를 구비한다. 반송 기구(TID, T1, T2, TIFA)는 각각, 기판을 반송한다.
기판 처리 장치(1)는, 재치(載置)부(PASS1)와 재치부(PASS2)와 재치부(PASS5)를 구비한다. 재치부(PASS1, PASS2, PASS5)는 각각, 기판을 재치한다. 반송 기구(TID)와 반송 기구(T1)는, 재치부(PASS1)를 통하여, 기판을 수도(受渡)한다.
반송 기구(T1)와 반송 기구(T2)는, 재치부(PASS2)를 통하여, 기판을 수도한다.
반송 기구(T2)와 반송 기구(TIFA)는, 재치부(PASS5)를 통하여 기판을 수도한다.
기판 처리 장치(1)는, 도포 처리 유닛(31)과 열처리 유닛(41)과 에지 노광 유닛(EEW)과 현상 처리 유닛(DEV)과 열처리 유닛(42)을 구비한다. 도포 처리 유닛(31)과 열처리 유닛(41)과 에지 노광 유닛(EEW)과 현상 처리 유닛(DEV)과 열처리 유닛(42)은 각각, 기판을 처리한다. 반송 기구(T1)는, 도포 처리 유닛(31)과 열처리 유닛(41)에 기판을 반송한다. 반송 기구(T2)는, 에지 노광 유닛(EEW)과 현상 처리 유닛(DEV)과 열처리 유닛(42)에 기판을 반송한다.
반송 기구(T1)는, 일련의 동작(이하, 「사이클 동작」이라고 부른다)을 반복한다. 반송 기구(T1)의 사이클 동작은, 적어도 이하의 4개의 액세스 동작을 포함한다.
·제1 액세스 동작: 재치부(PASS1)에의 액세스
·제2 액세스 동작: 재치부(PASS2)에의 액세스
·제3 액세스 동작: 도포 처리 유닛(31)에의 액세스
·제4 액세스 동작: 열처리 유닛(41)에의 액세스
반송 기구(T2)는, 일련의 동작(이하, 「사이클 동작」이라고 부른다)을 반복한다. 반송 기구(T2)의 사이클 동작은, 적어도 이하의 5개의 액세스 동작을 포함한다.
·제5 액세스 동작: 재치부(PASS2)에의 액세스
·제6 액세스 동작: 재치부(PASS5)에의 액세스
·제7 액세스 동작: 에지 노광 유닛(EEW)에의 액세스
·제8 액세스 동작: 현상 처리 유닛(DEV)에의 액세스
·제9 액세스 동작: 열처리 유닛(42)에의 액세스
기판 처리 장치(1)는, 반송 스페이스(A1)와 반송 스페이스(A2)를 구비한다. 반송 스페이스(A1)은, 도포 처리 유닛(31) 및 열처리 유닛(41)의 측방에 배치된다. 반송 기구(T1)는 반송 스페이스(A1)에 설치된다. 반송 스페이스(A2)는, 에지 노광 유닛(EEW), 현상 처리 유닛(DEV) 및 열처리 유닛(42)의 측방에 배치된다. 반송 기구(T2)는 반송 스페이스(A2)에 설치된다. 재치부(PASS2)는, 반송 스페이스(A1) 및 반송 스페이스(A2)에 걸쳐 배치된다.
기판 처리 장치의 스루풋(단위 시간당 처리 가능한 기판의 수)을 더 향상시키는 것이 요구되고 있다. 그러나, 일본 특허공개 2009-010291호 공보에 나타나는 기판 처리 장치(1)의 구성에서는, 스루풋을 더 향상시키는 것이 곤란하다.
또, 기판 처리 장치의 풋 프린트(설치 면적)를 더 저감하는 것이 요구되고 있다. 그러나, 일본 특허공개 2009-010291호 공보에 나타나는 기판 처리 장치(1)의 구성에서는, 기판 처리 장치(1)의 풋 프린트를 더 저감하는 것이 곤란하다.
본 발명은, 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 스루풋을 향상시킬 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 제1의 목적으로 한다. 또한, 기판 처리 장치의 풋 프린트를 저감할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 제2의 목적으로 한다.
본 발명은, 이러한 목적을 달성하기 위해서, 다음과 같은 구성을 취한다.
즉, 본 발명은, 기판 처리 장치로서, 캐리어로부터 기판을 반출하는 인덱서부와, 기판에 처리를 행하는 제1 처리부와, 상기 제1 처리부에 기판을 반송하는 제1 반송 기구와, 상기 제1 처리부와는 상이한 처리를 기판에 행하는 제2 처리부와, 상기 제2 처리부에 기판을 반송하는 제2 반송 기구와, 상기 인덱서부와 상기 제1 반송 기구 사이에서 반송되는 기판을 재치하는 제1 재치부와, 상기 제1 반송 기구와 상기 제2 반송 기구 사이에서 반송되는 기판을 재치하는 제2 재치부와, 상기 인덱서부와 상기 제1 처리부와 상기 제1 반송 기구와 상기 제2 처리부와 상기 제2 반송 기구를 제어하는 제어부를 구비하고, 상기 제어부의 제어에 따라서, 상기 제1 반송 기구는 3개의 액세스 동작으로 이루어지는 제1 사이클 동작을 반복하고, 상기 제1 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 1개는, 상기 제1 재치부에 액세스하는 제1 액세스 동작이고, 상기 제1 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 다른 1개는, 상기 제1 처리부에 액세스하는 제2 액세스 동작이고, 상기 제1 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 나머지 1개는, 상기 제2 재치부에 액세스하는 제3 액세스 동작이고, 상기 제어부의 제어에 따라서, 상기 제2 반송 기구는 2개 또는 3개의 액세스 동작으로 이루어지는 제2 사이클 동작을 반복하고, 상기 제2 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 1개는, 상기 제2 재치부에 액세스하는 제4 액세스 동작이고, 상기 제2 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 다른 1개는, 상기 제2 처리부에 액세스하는 제5 액세스 동작인 기판 처리 장치이다.
제1 재치부를 통하여, 인덱서부와 제1 반송 기구 사이에서 기판을 반송한다. 제2 재치부를 통하여, 제1 반송 기구와 제2 반송 기구 사이에서 기판을 반송한다. 제1 반송 기구는, 제1 처리부에 기판을 반송한다. 제2 반송 기구는, 제2 처리부에 기판을 반송한다. 제1 처리부와 제2 처리부는 각각, 기판에 처리를 행한다. 제2 처리부가 기판에 행하는 처리는, 제1 처리부가 기판에 행하는 처리와 상이하다.
여기서, 제1 반송 기구는, 제어부의 제어에 따라서, 제1 사이클 동작을 반복한다. 제1 사이클 동작은, 3개의 액세스 동작으로만 이루어진다. 즉, 제1 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는, 3개이다. 제1 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작은, 구체적으로는, 제1 액세스 동작과 제2 액세스 동작과 제3 액세스 동작이다. 이와 같이, 제1 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는, 비교적 적다. 이 때문에, 제1 반송 기구가 단위 시간당 실행 가능한 제1 사이클 동작의 횟수는, 비교적 많다. 환언하면, 제1 반송 기구가 단위 시간당 반송 가능한 기판의 장수는, 비교적 많다. 요컨대, 제1 반송 기구가 기판을 반송하는 효율(이하, 적당히, 「반송 효율」이라고 한다)은, 비교적 높다.
제2 반송 기구는, 제어부의 제어에 따라서, 제2 사이클 동작을 반복한다. 제2 사이클 동작은, 2개 또는 3개의 액세스 동작으로만 이루어진다. 즉, 제2 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는, 2개 또는 3개이다. 제2 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작은, 구체적으로는, 제4 액세스 동작과 제5 액세스 동작이다. 이와 같이, 제2 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는, 비교적 적다. 따라서, 제2 반송 기구의 반송 효율은, 비교적 높다.
이상과 같이, 제1 반송 기구 및 제2 반송 기구의 각 반송 효율은 비교적 높으므로, 기판 처리 장치가 단위 시간당 처리 가능한 기판의 장수는 비교적 많다. 이와 같이, 기판 처리 장치는 스루풋을 적합하게 향상시킬 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제1 액세스 동작은, 상기 제1 재치부 상의 기판을 취하며, 또한, 상기 제1 재치부에 기판을 재치하는 상기 제1 반송 기구의 동작을 포함하고, 상기 제2 액세스 동작은, 상기 제1 처리부에 기판을 반입하며, 또한, 상기 제1 처리부로부터 기판을 반출하는 상기 제1 반송 기구의 동작을 포함하고, 상기 제3 액세스 동작은, 상기 제2 재치부 상의 기판을 취하며, 또한, 상기 제2 재치부에 기판을 재치하는 상기 제1 반송 기구의 동작을 포함하고, 상기 제4 액세스 동작은, 상기 제2 재치부 상의 기판을 취하며, 또한, 상기 제2 재치부에 기판을 재치하는 상기 제2 반송 기구의 동작을 포함하고, 상기 제5 액세스 동작은, 상기 제2 처리부에 기판을 반입하며, 또한, 상기 제2 처리부로부터 기판을 반출하는 상기 제2 반송 기구의 동작을 포함하는 것이 바람직하다. 이에 따르면, 제1 반송 기구 및 제2 반송 기구는, 인덱서부로부터 공급된 기판을 제1 처리부 및 제2 처리부에 반송할 수 있다. 나아가, 제1 반송 기구 및 제2 반송 기구는, 제1 처리부 및 제2 처리부에 있어서 처리된 기판을 인덱서부에 되돌릴 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제1 처리부는, 상기 제2 반송 기구가 기판을 반송 가능한 제2 영역의 밖에 배치되고, 상기 제2 처리부는, 상기 제1 반송 기구가 기판을 반송 가능한 제1 영역의 밖에 배치되는 것이 바람직하다. 제1 처리부는, 제2 반송 기구의 제2 영역의 밖에 배치된다. 이 때문에, 제1 반송 기구는, 제2 반송 기구와 간섭하는 일 없이, 제1 처리부에 액세스할 수 있다. 마찬가지로, 제2 처리부는, 제1 반송 기구의 제1 영역의 밖에 배치된다. 이 때문에, 제2 반송 기구는, 제1 반송 기구와 간섭하는 일 없이, 제2 처리부에 액세스할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제1 영역은, 평면에서 볼 때, 대략 원형이고, 상기 제2 영역은, 평면에서 볼 때, 대략 원형인 것이 바람직하다. 제1 영역은 평면에서 볼 때 대략 원형이므로, 제1 반송 기구는 제1 사이클 동작에 포함되는 3개의 액세스 동작을 효율 좋게 행할 수 있다. 즉, 제1 반송 기구는 제1 사이클 동작을 효율 좋게 행할 수 있다. 따라서, 제1 반송 기구의 반송 효율은 한층 높다. 마찬가지로, 제2 영역은 평면에서 볼 때 대략 원형이므로, 제2 반송 기구는 제2 사이클 동작에 포함되는 2개 또는 3개의 액세스 동작을 효율 좋게 행할 수 있다. 즉, 제2 반송 기구는 제2 사이클 동작을 효율 좋게 행할 수 있다. 따라서, 제2 반송 기구의 반송 효율은 한층 높다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제1 재치부는, 상기 인덱서부와 상기 제1 반송 기구 사이에 배치되고, 상기 제2 재치부는, 상기 제1 반송 기구와 상기 제2 반송 기구 사이에 배치되고, 상기 제1 처리부는, 상기 제1 반송 기구의 측방에 배치되고, 상기 제2 처리부는, 상기 제2 반송 기구의 측방에 배치되는 것이 바람직하다. 제1 재치부는, 인덱서부와 제1 반송 기구 사이에 배치된다. 이 때문에, 인덱서부와 제1 반송 기구는, 제1 재치부에 용이하게 액세스할 수 있다. 제2 재치부는, 제1 반송 기구와 제2 반송 기구 사이에 배치된다. 이 때문에, 제1 반송 기구와 제2 반송 기구는, 제2 재치부에 용이하게 액세스할 수 있다. 제1 처리부는, 제1 반송 기구의 측방에 배치된다. 이 때문에, 제1 반송 기구는, 제1 처리부에 용이하게 액세스할 수 있다. 제2 처리부는, 제2 반송 기구의 측방에 배치된다. 이 때문에, 제2 반송 기구는, 제2 처리부에 용이하게 액세스할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제1 반송 기구와 상기 제2 반송 기구와 상기 제2 재치부는, 평면에서 볼 때, 삼각 배치되는 것이 바람직하다. 이에 따르면, 제1 반송 기구와 제2 반송 기구와 제2 재치부는 각각, 평면에서 볼 때, 삼각형의 각 꼭지점에 위치한다. 이 때문에, 제1 반송 기구와 제2 반송 기구의 간격 거리를 작게 할 수 있다. 따라서, 기판 처리 장치의 설치 면적(풋 프린트)을 작게 할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제1 반송 기구는, 고정적으로 설치되며, 상하 방향으로 연장되는 제1 지주와, 상기 제1 지주에 지지되며, 상하 방향으로 이동 가능한 제1 승강부와, 상기 제1 승강부에 지지되며, 상하 방향과 평행한 제1 축선 둘레로 회전 가능한 제1 회전부와, 상기 제1 회전부에 지지되며, 기판을 유지하는 제1 유지부를 구비하고, 상기 제1 회전부는, 수평 방향으로 이동 불가능하게 설치되고, 상기 제1 처리부는, 기판을 1장씩 처리하는 복수의 제1 처리 유닛을 구비하고, 상기 제1 처리 유닛 각각은, 측면에서 볼 때, 상기 제1 축선과 겹치는 위치에 배치되고, 상기 제2 반송 기구는, 고정적으로 설치되며, 상하 방향으로 연장되는 제2 지주와, 상기 제2 지주에 지지되며, 상하 방향으로 이동 가능한 제2 승강부와, 상기 제2 승강부에 지지되며, 상하 방향과 평행한 제2 축선 둘레로 회전 가능한 제2 회전부와, 상기 제2 회전부에 지지되며, 기판을 유지하는 제2 유지부를 구비하고, 상기 제2 회전부는, 수평 방향으로 이동 불가능하게 설치되고, 상기 제2 처리부는, 기판을 1장씩 처리하는 복수의 제2 처리 유닛을 구비하고, 상기 제2 처리 유닛 각각은, 측면에서 볼 때, 상기 제2 축선과 겹치는 위치에 배치되는 것이 바람직하다. 제1 지주는, 고정적으로 설치된다. 제1 회전부는, 수평 방향으로 이동 불가능하게 설치된다. 이 때문에, 제1 반송 기구는, 제1-제3 액세스 동작을 각각 단시간에 행할 수 있다. 또한, 각 제1 처리 유닛은, 측면에서 볼 때, 제1 축선과 겹치는 위치에 배치된다. 이 때문에, 제1 반송 기구는, 각 제1 처리 유닛에 용이하게 액세스할 수 있다. 마찬가지로, 제2 지주는, 고정적으로 설치된다. 제2 회전부는, 수평 방향으로 이동 불가능하게 설치된다. 이 때문에, 제2 반송 기구는, 제4, 제5 액세스 동작을 각각 단시간에 행할 수 있다. 또한, 각 제2 처리 유닛은, 측면에서 볼 때, 제2 축선과 겹치는 위치에 배치된다. 이 때문에, 제2 반송 기구는, 각 제2 처리 유닛에 용이하게 액세스할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제1 처리 유닛 및 상기 제2 처리 유닛 중 한쪽은, 기판에 열처리를 행하는 열처리 유닛이고, 상기 열처리 유닛은, 상하 방향으로 늘어서도록 배치되는 것이 바람직하다. 열처리 유닛이 상하 방향으로 늘어서도록 배치되어 있으므로, 제1 반송 기구 및 제2 반송 기구 중 어느 1개는, 각 열처리 유닛에 용이하게 액세스할 수 있다. 예를 들면, 제1 처리 유닛이 열처리 유닛인 경우, 제1 반송 기구는 각 열처리 유닛에 용이하게 액세스할 수 있다. 예를 들면, 제2 처리 유닛이 열처리 유닛인 경우, 제2 반송 기구는 열처리 유닛에 용이하게 액세스할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 평면에서 볼 때, 상기 제1 축선과 상기 제2 축선 사이의 거리는, 기판의 반경의 5배 이하인 것이 바람직하다. 이에 따르면, 제1 반송 기구와 제2 반송 기구의 간격 거리를 작게 할 수 있다. 따라서, 기판 처리 장치의 설치 면적(풋 프린트)을 작게 할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제2 재치부는, 평면에서 볼 때, 상기 제1 축선과 상기 제2 축선을 잇는 가상 직선과 겹치지 않는 위치에 배치되는 것이 바람직하다. 이에 따르면, 제1 반송 기구와 제2 반송 기구의 간격 거리를 적합하게 작게 할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 평면에서 볼 때, 상기 제1 축선과 상기 제2 재치부 사이의 거리는, 상기 제2 축선과 상기 제2 재치부 사이의 거리와 대략 동일한 것이 바람직하다. 이에 따르면, 제1 반송 기구 및 제2 반송 기구는 각각, 제2 재치부에 용이하게 액세스할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제2 재치부는, 평면에서 볼 때, 상기 제1 처리부와 겹치는 제1 부분과, 평면에서 볼 때, 상기 제2 처리부와 겹치는 제2 부분을 갖는 것이 바람직하다. 즉, 제2 재치부는, 평면에서 볼 때, 제1 처리부와 제2 처리부의 양쪽과 겹치는 위치에 배치된다. 그 결과, 제1 반송 기구와 제2 반송 기구의 간격 거리를 작게 하는 것과, 제1 반송 기구 및 제2 반송 기구가 제2 재치부에 용이하게 액세스할 수 있는 것을, 적합하게 양립할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제2 재치부는, 평면에서 볼 때, 상기 제1 처리부 및 상기 제2 처리부와 겹치지 않는 제3 부분을 더 갖는 것이 바람직하다. 제1 반송 기구 및 제2 반송 기구는 각각, 제2 재치부에 한층 용이하게 액세스할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제2 재치부의 상기 제3 부분은, 평면에서 볼 때, 상기 제1 반송 기구 및 상기 제2 반송 기구가 설치되는 반송 스페이스와 겹치는 것이 바람직하다. 제1 반송 기구 및 제2 반송 기구는 각각, 제2 재치부에 한층 용이하게 액세스할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 기판 처리 장치는, 상기 제1 반송 기구의 측방에 배치되며, 상하 방향으로 1열로 늘어서는 복수의 제1 슬롯과, 상기 제2 반송 기구의 측방에 배치되며, 상하 방향으로 1열로 늘어서는 복수의 제2 슬롯을 구비하고, 상기 제1 슬롯 중 적어도 1개는, 상기 제1 처리부를 설치하기 위한 처리용 제1 슬롯이고, 상기 제1 슬롯 중 다른 1개는, 상기 제2 재치부를 설치하기 위한 재치용 제1 슬롯이고, 상기 제2 슬롯 중 적어도 1개는, 상기 제2 처리부를 설치하기 위한 처리용 제2 슬롯이고, 상기 제2 슬롯 중 다른 1개는, 상기 제2 재치부를 설치하기 위한 재치용 제2 슬롯이고, 상기 재치용 제2 슬롯은, 상기 재치용 제1 슬롯과 동일한 높이 위치에 배치되고, 상기 제2 재치부는, 상기 재치용 제1 슬롯과 상기 재치용 제2 슬롯에 걸쳐, 설치되는 것이 바람직하다. 제1 슬롯의 일부와 제2 슬롯의 일부를 활용하여, 제2 재치부를 적합하게 설치할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 기판 처리 장치는, 상기 제1 처리부 및 상기 제2 처리부와는 상이한 처리를 기판에 행하는 제3 처리부와, 상기 제3 처리부에 기판을 반송하는 제3 반송 기구와, 상기 제2 반송 기구와 상기 제3 반송 기구 사이에서 반송되는 기판을 재치하는 제3 재치부를 구비하고, 상기 제어부는, 또한, 상기 제3 처리부와 상기 제3 반송 기구를 제어하고, 상기 제2 사이클 동작은 3개의 상기 액세스 동작으로 이루어지고, 상기 제4 액세스 동작 및 상기 제5 액세스 동작 이외의, 상기 제2 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 나머지 1개는, 상기 제3 재치부에 액세스하는 제6 액세스 동작이고, 상기 제어부의 제어에 따라서, 상기 제3 반송 기구는 2개 또는 3개의 액세스 동작으로 이루어지는 제3 사이클 동작을 반복하고, 상기 제3 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 1개는, 상기 제3 재치부에 액세스하는 제7 액세스 동작이고, 상기 제3 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 다른 1개는, 상기 제3 처리부에 액세스하는 제8 액세스 동작인 것이 바람직하다.
제3 재치부를 통하여, 제2 반송 기구와 제3 반송 기구 사이에 기판을 반송한다. 제3 반송 기구는, 기판을 제3 처리부에 반송한다. 제3 처리부는, 기판에 처리를 행한다. 제3 처리부가 기판에 행하는 처리는, 제1 처리부가 기판에 행하는 처리와 상이하며, 또한, 제2 처리부가 기판에 행하는 처리와 상이하다.
여기서, 제2 반송 기구의 제2 사이클 동작은, 3개의 액세스 동작으로만 이루어진다. 즉, 제2 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는, 3개이다. 제2 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작은, 구체적으로는, 제4 액세스 동작과 제5 액세스 동작과 제6 액세스 동작이다. 이와 같이, 제2 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는, 비교적 적다. 따라서, 제2 반송 기구의 반송 효율은, 비교적 높다.
제어부의 제어에 따라서, 제3 반송 기구는, 제3 사이클 동작을 반복한다. 제3 사이클 동작은, 2개 또는 3개의 액세스 동작으로만 이루어진다. 제3 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는, 2개 또는 3개이다. 제3 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작은, 제7 액세스 동작과 제8 액세스 동작이다. 이와 같이, 제3 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는, 비교적 적다. 따라서, 제3 반송 기구의 반송 효율은, 비교적 높다.
이상과 같이, 제1 반송기, 제2 반송 기구 및 제3 반송 기구의 각 반송 효율은 높으므로, 기판 처리 장치는 스루풋을 적합하게 향상시킬 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제6 액세스 동작은, 상기 제3 재치부 상의 기판을 취하며, 또한, 상기 제3 재치부에 기판을 재치하는 상기 제2 반송 기구의 동작을 포함하고, 상기 제7 액세스 동작은, 상기 제3 재치부 상의 기판을 취하며, 또한, 상기 제3 재치부에 기판을 재치하는 상기 제3 반송 기구의 동작을 포함하고, 상기 제8 액세스 동작에서는, 상기 제3 처리부에 기판을 반입하며, 또한, 상기 제3 처리부로부터 기판을 반출하는 상기 제3 반송 기구의 동작을 포함하는 것이 바람직하다. 이에 따르면, 제1 반송 기구, 제2 반송 기구 및 제3 반송 기구는, 인덱서부로부터 공급된 기판을 제1 처리부, 제2 처리부 및 제3 처리부에 반송할 수 있다. 또한, 제1 반송 기구, 제2 반송 기구 및 제3 반송 기구는, 제1 처리부, 제2 처리부 및 제3 처리부에 있어서 처리된 기판을 인덱서부에 되돌릴 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제1 처리부 및 상기 제2 처리부 중 한쪽은, 기판의 주연부를 노광하는 에지 노광 처리부이고, 상기 제1 처리부 및 상기 제2 처리부 중 다른쪽은, 기판에 열처리를 행하는 열처리부이고, 상기 제3 처리부는, 기판에 액처리를 행하는 액처리부인 것이 바람직하다. 제1 처리부 및 제2 처리부는, 제3 처리부에 비해, 인덱서부에 가까운 위치에 배치된다. 따라서, 인덱서부에 비교적 가까운 위치에, 에지 노광 처리부와 열처리부를 배치할 수 있다. 환언하면, 제3 처리부는, 제1 처리부 및 제2 처리부에 비해, 인덱서부로부터 먼 위치에 배치된다. 따라서, 인덱서부로부터 비교적 먼 위치에, 액처리부를 배치할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제어부에 의한 제어에 따라서, 상기 제1 반송 기구와 상기 제2 반송 기구와 상기 제3 반송 기구는, 상기 인덱서부로부터 공급된 기판을, 상기 에지 노광 처리부와 상기 액처리부와 상기 열처리부에, 이 순서로 반송하고, 상기 제어부에 의한 제어에 따라서, 상기 제1 반송 기구와 상기 제2 반송 기구는, 상기 열처리부로부터 반출한 기판을, 상기 제3 반송 기구에 건네주는 일 없이, 상기 인덱서부에 되돌리는 것이 바람직하다. 제3 반송 기구는, 열처리부로부터 반출된 기판을 반송하지 않는다. 즉, 제3 반송 기구는, 열처리 후의 기판과 접촉하지 않는다. 제3 반송 기구는, 열처리 전의 기판만을 액처리부에 반송한다. 이 때문에, 제3 반송 기구는, 열처리 후의 기판으로부터, 열적인 영향을 받지 않는다. 따라서, 액처리부에 반송되는 기판은, 제3 반송 기구로부터 열적인 영향을 받지 않는다. 그 결과, 액처리부에 있어서의 액처리의 품질이 손상되는 것을, 적합하게 방지할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제3 처리부를 상기 제2 처리부로부터 떼어놓는 차열(遮熱) 공간을 구비하는 것이 바람직하다. 제3 처리부가 제2 처리부로부터 받는 열적인 영향을 효과적으로 저감할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 제3 처리부는, 제3 장(長)처리부와, 제3 단(短)처리부를 구비하고, 상기 제3 반송 기구는, 상기 제3 장처리부와 제3 단처리부 사이에 배치되고, 상기 제3 장처리부와 상기 제3 반송 기구와 상기 제3 단처리부는, 폭방향으로 늘어서고, 상기 폭방향과 직교하는 전후 방향에 있어서의 상기 제3 단처리부의 길이는, 상기 전후 방향에 있어서의 제3 장처리부의 길이보다 작고, 상기 기판 처리 장치는, 메인터넌스 공간을 구비하고, 상기 메인터넌스 공간과 상기 제3 단처리부는, 상기 전후 방향으로 늘어서는 것이 바람직하다. 기판 처리 장치는 메인터넌스 공간을 구비하므로, 기판 처리 장치를 적합하게 메인터넌스 할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 기판 처리 장치는, 상기 제1 처리부와 상기 제1 반송 기구와 상기 제2 처리부와 상기 제2 반송 기구와 상기 제2 재치부를 수용하는 제1 블록과, 상기 제1 블록에 접속되며, 상기 제3 처리부와 상기 제3 반송 기구를 수용하는 제2 블록을 구비하고, 상기 제1 블록은, 정면, 평면, 및 측면에서 볼 때 대략 직사각형이고, 상기 제2 블록은, 정면, 평면, 및 측면에서 볼 때 대략 직사각형인 것이 바람직하다. 제1 처리부 및 제2 처리부는 제1 블록에 설치된다. 제3 처리부는 제2 블록에 설치된다. 이에 따라, 제1 처리부 및 제2 처리부를, 제3 처리부로부터 적합하게 떼어놓을 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 기판 처리 장치는, 상기 제1 블록의 골조로서 설치되며, 상기 제1 반송 기구와 상기 제2 반송 기구와 상기 제1 처리부와 상기 제2 처리부와 상기 제2 재치부를 지지하는 제1 프레임과, 상기 제2 블록의 골조로서 설치되며, 상기 제3 반송 기구와 상기 제3 처리부를 지지하는 제2 프레임을 구비하고, 상기 제2 프레임은, 상기 제1 프레임에 연결되는 것이 바람직하다. 제1 프레임 및 제2 프레임에 의해 제1 블록 및 제2 블록을 적합하게 구성할 수 있다.
또, 본 발명은, 기판 처리 장치로서, 기판에 처리를 행하는 제1 처리부와, 기판에 처리를 행하는 제2 처리부와, 상기 제1 처리부 및 상기 제2 처리부의 측방에 형성되는 반송 스페이스와, 상기 반송 스페이스에 설치되며, 상기 제1 처리부에 기판을 반송하는 제1 반송 기구와, 상기 반송 스페이스에 설치되며, 상기 제2 처리부에 기판을 반송하는 제2 반송 기구와, 상기 제1 반송 기구와 상기 제2 반송 기구 사이에서 반송되는 기판을 재치하는 재치부를 구비하고, 상기 재치부는, 평면에서 볼 때, 상기 제1 처리부와 겹치는 제1 부분과, 상기 제2 처리부와 겹치는 제2 부분을 갖는 기판 처리 장치이다.
재치부를 통하여, 제1 반송 기구와 제2 반송 기구 사이에 기판을 반송한다. 제1 반송 기구는, 제1 처리부에 기판을 반송한다. 제2 반송 기구는, 제2 처리부에 기판을 반송한다. 제1 처리부와 제2 처리부는 각각, 기판에 처리를 행한다.
재치부는, 제1 처리부와 제2 처리부의 양쪽과 겹치는 위치에 배치된다. 이 때문에, 제1 반송 기구와 제2 반송 기구의 간격 거리를 작게 할 수 있다. 그 결과, 기판 처리 장치의 풋 프린트를 저감할 수 있다.
상술한 기판 처리 장치에 있어서, 상기 재치부는, 평면에서 볼 때, 상기 반송 스페이스와 겹치는 제3 부분을 갖는 것이 바람직하다. 제1 반송 기구 및 제2 반송 기구는 각각, 재치부에 용이하게 액세스할 수 있다.
발명을 설명하기 위해서 현재 적합하다고 생각되는 몇 개의 형태가 도시되어 있으나, 발명이 도시된 바와 같은 구성 및 방책에 한정되는 것은 아닌 점을 이해해야 할 것이다.
도 1은, 제1 실시 형태의 기판 처리 장치의 개념도이다.
도 2는, 제1-제3 사이클 동작을 모식적으로 나타내는 도이다.
도 3은, 기판의 반송 경로를 모식적으로 나타내는 도이다.
도 4는, 제1 실시 형태의 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 5는, 기판 처리 장치의 좌부의 구성을 나타내는 좌측면도이다.
도 6은, 폭방향에 있어서의 기판 처리 장치의 중앙부의 구성을 나타내는 좌측면도이다.
도 7은, 기판 처리 장치의 우부의 구성을 나타내는 우측면도이다.
도 8은, 제1 블록의 구성을 나타내는 정면도이다.
도 9는, 제1 블록의 평면도이다.
도 10은, 제2 블록의 구성을 나타내는 배면도이다.
도 11a, 11B는 각각, 제2 실시 형태의 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 12는, 기판 처리 장치의 좌부의 구성을 나타내는 좌측면도이다.
도 13은, 폭방향에 있어서의 기판 처리 장치의 중앙부의 구성을 나타내는 좌측면도이다.
도 14는, 기판 처리 장치의 우부의 구성을 나타내는 우측면도이다.
도 15는, 제1 블록의 구성을 나타내는 정면도이다.
도 16은, 제2 블록의 구성을 나타내는 배면도이다.
도 17은, 반송 기구의 사이클 동작을 모식적으로 나타내는 도이다.
도 18은, 기판의 반송 경로를 모식적으로 나타내는 도이다.
도 19는, 변형 실시 형태의 기판 처리 장치의 평면도이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 기판 처리 장치를 설명한다.
[제1 실시 형태]
<기판 처리 장치의 개요>
도 1은, 제1 실시 형태의 기판 처리 장치의 개념도이다. 제1 실시 형태의 기판 처리 장치(1)는, 일련의 처리를 기판(예를 들면, 반도체 웨이퍼)(W)에 행한다.
기판(W)은, 예를 들면, 반도체 웨이퍼, 액정 디스플레이용 기판, 유기 EL(Electroluminescence)용 기판, FPD(Flat Panel Display)용 기판, 광 디스플레이용 기판, 자기 디스크용 기판, 광자기 디스크용 기판, 포토마스크(photomask)용 기판, 태양전지용 기판이다. 기판(W)은, 평면에서 볼 때 대략 원 형상을 갖는다.
기판 처리 장치(1)는, 인덱서부(11)를 구비한다. 인덱서부(11)는, 캐리어(C)로부터 기판(W)을 반출한다. 또한, 인덱서부(11)는, 캐리어(C)에 기판(W)을 반입한다. 캐리어(C)는, 복수장의 기판(W)을 수용한다. 캐리어(C)는, 예를 들면, FOUP(front opening unified pod)이다.
기판 처리 장치(1)는, 제1 처리부(34)와 제2 처리부(37)와 제3 처리부(64)를 구비한다. 제1 처리부(34)와 제2 처리부(37)와 제3 처리부(64)는 각각, 기판(W)에 처리를 행한다. 제1 처리부(34)가 기판(W)에 행하는 처리는, 제2 처리부(37)가 기판(W)에 행하는 처리와 상이하다. 제1 처리부(34)가 기판(W)에 행하는 처리는, 제3 처리부(64)가 기판(W)에 행하는 처리와 상이하다. 제2 처리부(37)가 기판(W)에 행하는 처리는, 제3 처리부(64)가 기판(W)에 행하는 처리와 상이하다.
제1 처리부(34)는, 예를 들면, 기판(W)의 주연부를 노광하는 에지 노광 처리부이다. 제1 처리부(34)가 기판(W)에 행하는 처리는, 예를 들면, 기판(W)의 주연부를 노광하는 에지 노광 처리이다.
제2 처리부(37)는, 예를 들면, 기판(W)에 열처리를 행하는 열처리부이다. 제2 처리부(37)가 기판(W)에 행하는 처리는, 예를 들면, 열처리이다. 제2 처리부(37)에 의해 행해지는 열처리는, 기판(W)을 가열하는 가열 처리를 포함한다.
제3 처리부(64)는, 예를 들면, 기판(W)에 액처리를 행하는 액처리부이다. 제3 처리부(64)가 기판(W)에 행하는 처리는, 예를 들면, 액처리이다. 제3 처리부(64)에 의해 행해지는 액처리는, 예를 들면, 기판(W)에 현상액을 공급하고, 기판(W)을 현상하는 현상 처리이다.
기판 처리 장치(1)는, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)와 제3 반송 기구(68)를 구비한다. 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)와 제3 반송 기구(68)는 각각, 기판(W)을 반송한다. 제1 반송 기구(46)는, 제1 처리부(34)에 기판(W)을 반송한다. 제1 반송 기구(46)는, 제2 처리부(37) 및 제3 처리부(64)에 기판(W)을 반송하지 않는다. 제2 반송 기구(48)는, 제2 처리부(37)에 기판(W)을 반송한다. 제2 반송 기구(48)는, 제1 처리부(34) 및 제3 처리부(64)에 기판(W)을 반송하지 않는다. 제3 반송 기구(68)는, 제3 처리부(64)에 기판(W)을 반송한다. 제3 반송 기구(68)는, 제1 처리부(34) 및 제2 처리부(37)에 기판(W)을 반송하지 않는다.
기판 처리 장치(1)는, 제1 재치부(21)와 제2 재치부(41)와 제3 재치부(51)를 구비한다. 제1 재치부(21)와 제2 재치부(41)와 제3 재치부(51)는 각각, 기판(W)을 재치한다. 제1 재치부(21)는, 인덱서부(11)와 제1 반송 기구(46) 사이에서 반송되는 기판(W)을 재치한다. 제2 재치부(41)는, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48) 사이에서 반송되는 기판(W)을 재치한다. 제3 재치부(51)는, 제2 반송 기구(48)와 제3 반송 기구(68) 사이에서 반송되는 기판(W)을 재치한다.
기판 처리 장치(1)는, 제어부(81)를 구비한다. 제어부(81)는, 예를 들면, 인덱서부(11)에 설치되어 있다. 제어부(81)는, 기판 처리 장치(1)를 제어한다.
구체적으로는, 제어부(81)는, 인덱서부(11)와 제1 처리부(34)와 제2 처리부(37)와 제3 처리부(64)와 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)와 제3 반송 기구(68)를 제어한다.
제어부(81)는, 각종 처리를 실행하는 중앙 연산 처리 장치(CPU), 연산 처리의 작업 영역이 되는 RAM(Random-Access Memory), 고정 디스크 등의 기억 매체 등에 의해 실현되어 있다. 기억 매체에는, 기판(W)을 처리하기 위한 처리 레시피(처리 프로그램)나, 각 기판(W)을 식별하기 위한 정보 등 각종 정보가 기억되어 있다.
도 2는, 제1-제3 사이클 동작을 모식적으로 나타내는 도이다. 제어부(81)의 제어에 따라서, 제1 반송 기구(46)는, 제1 사이클 동작을 반복한다. 제어부(81)의 제어에 따라서, 제2 반송 기구(48)는, 제2 사이클 동작을 반복한다. 제어부(81)의 제어에 따라서, 제3 반송 기구(68)는, 제3 사이클 동작을 반복한다.
제1 반송 기구(46)의 제1 사이클 동작은, 3개의 액세스 동작으로 이루어진다. 제1 사이클 동작에 포함되는 3개의 액세스 동작은, 이하와 같다.
·제1 재치부(21)에 액세스하는 제1 액세스 동작
·제1 처리부(34)에 액세스하는 제2 액세스 동작
·제2 재치부(41)에 액세스하는 제3 액세스 동작
여기서, 제1 액세스 동작은, 제1 반송 기구(46)가 제1 재치부(21) 상의 기판(W)을 취하는 동작과, 제1 반송 기구(46)가 제1 재치부(21)에 기판(W)을 재치하는 동작을 포함한다. 제2 액세스 동작은, 제1 반송 기구(46)가 제1 처리부(34)에 기판(W)을 반입하는 동작과, 제1 반송 기구(46)가 제1 처리부(34)로부터 기판(W)을 반출하는 동작을 포함한다. 제3 액세스 동작은, 제1 반송 기구(46)가 제2 재치부(41) 상의 기판(W)을 취하는 동작과, 제1 반송 기구(46)가 제2 재치부(41)에 기판(W)을 재치하는 동작을 포함한다.
제2 반송 기구(48)의 제2 사이클 동작은, 3개의 액세스 동작으로 이루어진다. 제2 사이클 동작에 포함되는 3개의 액세스 동작은, 이하와 같다.
·제2 재치부(41)에 액세스하는 제4 액세스 동작
·제2 처리부(37)에 액세스하는 제5 액세스 동작
·제3 재치부(51)에 액세스하는 제6 액세스 동작
여기서, 제4 액세스 동작은, 제2 반송 기구(48)가 제2 재치부(41) 상의 기판(W)을 취하는 동작과, 제2 반송 기구(48)가 제2 재치부(41)에 기판(W)을 재치하는 동작을 포함한다. 제5 액세스 동작은, 제2 반송 기구(48)가 제2 처리부(37)에 기판(W)을 반입하는 동작과, 제2 반송 기구(48)가 제2 처리부(37)로부터 기판(W)을 반출하는 동작을 포함한다. 제6 액세스 동작은, 제2 반송 기구(48)가 제3 재치부(51) 상의 기판(W)을 취하는 동작과, 제2 반송 기구(48)가 제3 재치부(51)에 기판(W)을 재치하는 동작을 포함한다.
제3 반송 기구(68)의 제3 사이클 동작은, 2개의 액세스 동작으로 이루어진다. 제3 사이클 동작에 포함되는 2개의 액세스 동작은, 이하와 같다.
·제3 재치부(51)에 액세스하는 제7 액세스 동작
·제3 처리부(64)에 액세스하는 제8 액세스 동작
여기서, 제7 액세스 동작은, 제3 반송 기구(68)가 제3 재치부(51) 상의 기판(W)을 취하는 동작과, 제3 반송 기구(68)가 제3 재치부(51)에 기판(W)을 재치하는 동작을 포함한다. 제8 액세스 동작은, 제3 반송 기구(68)가 제3 처리부(64)에 기판(W)을 반입하는 동작과, 제3 반송 기구(68)가 제3 처리부(64)로부터 기판(W)을 반출하는 동작을 포함한다.
기판 처리 장치(1)는, 예를 들면, 다음과 같이 동작한다. 제어부(81)에 의한 제어에 따라서, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)와 제3 반송 기구(68)는, 인덱서부(11)로부터 공급된 기판(W)을, 제1 처리부(에지 노광 처리부)(34)와 제3 처리부(액처리부)(64)와 제2 처리부(열처리부)(37)에, 이 순서로 반송한다. 그 후, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)는, 제2 처리부(37)로부터 인덱서부(11)에 기판(W)을 반송한다. 여기서, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)는, 제2 처리부(열처리부)(37)로부터 반출한 기판(W)을, 제3 반송 기구(68)에 건네주는 일 없이, 인덱서부(11)에 되돌린다. 이하, 기판 처리 장치(1)의 동작예를, 보다 상세하게 설명한다.
도 2, 3을 참조한다. 도 3은, 기판의 반송 경로를 모식적으로 나타내는 도이다.
인덱서부(11)는, 캐리어(C)로부터 기판(W)을 반출한다. 인덱서부(11)는, 기판(W)을 제1 재치부(21)에 재치한다. 이에 따라, 인덱서부(11)는, 캐리어(C)로부터 제1 재치부(21)에 기판(W)을 반송한다.
제1 반송 기구(46)는, 제1 재치부(21) 상의 기판(W)을 취한다(제1 액세스 동작). 제1 반송 기구(46)는, 기판(W)을 제1 처리부(34)에 반입한다(제2 액세스 동작). 이에 따라, 제1 반송 기구(46)는, 제1 재치부(21)로부터 제1 처리부(34)에 기판(W)을 반송한다. 제1 처리부(34)는, 기판(W)에 처리(에지 노광 처리)를 행한다. 제1 반송 기구(46)는, 제1 처리부(34)로부터 기판(W)을 반출한다(제2 액세스 동작). 제1 반송 기구(46)는, 기판(W)을 제2 재치부(41)에 둔다(제3 액세스 동작). 이에 따라, 제1 반송 기구(46)는, 제1 처리부(34)로부터 제2 재치부(41)에 기판(W)을 반송한다.
제2 반송 기구(48)는, 제2 재치부(41) 상의 기판(W)을 취한다(제4 액세스 동작). 제2 반송 기구(48)는, 기판(W)을 제3 재치부(51)에 재치한다(제6 액세스 동작). 이에 따라, 제2 반송 기구(48)는, 제2 재치부(41)로부터 제3 재치부(51)에 기판(W)을 반송한다.
제3 반송 기구(68)는, 제3 재치부(51) 상의 기판(W)을 취한다(제7 액세스 동작). 제3 반송 기구(68)는, 기판(W)을 제3 처리부(64)에 반입한다(제8 액세스 동작). 이에 따라, 제3 반송 기구(68)는, 제3 재치부(51)로부터 제3 처리부(64)에 기판(W)을 반송한다. 제3 처리부(64)는 기판(W)에 처리(액처리)를 행한다. 제3 반송 기구(68)는 제3 처리부(64)로부터 기판(W)을 반출한다(제8 액세스 동작). 제3 반송 기구(68)는 제3 재치부(51)에 기판(W)을 재치한다(제7 액세스 동작). 이에 따라, 제3 반송 기구(68)는, 제3 처리부(64)로부터 제3 재치부(51)에 기판(W)을 반송한다.
제2 반송 기구(48)는, 제3 재치부(51) 상의 기판(W)을 취한다(제6 액세스 동작). 제2 반송 기구(48)는, 기판(W)을 제2 처리부(37)에 반입한다(제5 액세스 동작). 이에 따라, 제2 반송 기구(48)는, 제3 재치부(51)로부터 제2 처리부(37)에 기판(W)을 반송한다. 제2 처리부(37)는 기판(W)에 처리(열처리)를 행한다. 제2 반송 기구(48)는 제2 처리부(37)로부터 기판(W)을 반출한다(제5 액세스 동작). 제2 반송 기구(48)는 제2 재치부(41)에 기판(W)을 재치한다(제4 액세스 동작). 이에 따라, 제2 반송 기구(48)는, 제2 처리부(37)로부터 제2 재치부(41)에 기판(W)을 반송한다.
제1 반송 기구(46)는, 제2 재치부(41) 상의 기판(W)을 취한다(제3 액세스 동작). 제1 반송 기구(46)는, 기판(W)을 제1 재치부(21)에 재치한다(제1 액세스 동작). 이에 따라, 제1 반송 기구(46)는, 제2 재치부(41)로부터 제1 재치부(21)에 기판(W)을 반송한다.
인덱서부(11)는, 제1 재치부(21) 상의 기판(W)을 취한다. 인덱서부(11)는, 캐리어(C)에 기판(W)을 반입한다. 이에 따라, 인덱서부(11)는, 제1 재치부(21)로부터 캐리어(C)에 기판(W)을 반송한다.
여기서, 기판 처리 장치(1)는, 복수의 기판(W)을 병행하여 처리할 수 있다. 기판 처리 장치(1)가 복수의 기판(W)을 병행하여 처리하는 경우, 1회의 제1 액세스 동작에 있어서, 제1 반송 기구(46)는, 제1 재치부(21) 상의 기판(W)을 취하는 동작과, 제1 반송 기구(46)가 제1 재치부(21)에 기판(W)을 재치하는 동작을 행한다. 제2-제8 액세스 동작에 있어서도, 마찬가지이다.
<제1 실시 형태의 주요 효과>
상술한 기판 처리 장치(1)에 따르면, 이하의 효과를 나타낸다.
기판 처리 장치(1)는, 3개의 처리부(34, 37, 64)를 구비한다. 기판 처리 장치(1)는, 각 처리부(34, 37, 64)에 대해, 반송 기구(46, 48, 68)를 개별로 구비한다. 제1 처리부(34)에 대응하여 제1 반송 기구(46)가 설치되며, 제2 처리부(37)에 대응하여 제2 반송 기구(48)가 설치되며, 제3 처리부(64)에 대응하여 제3 반송 기구(68)가 설치된다. 따라서, 제1 반송 기구(46)가 기판(W)을 반송하는 처리부의 수는, 1개이다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46)의 제1 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수가, 4개 이상이 되는 것을 적합하게 방지할 수 있다. 마찬가지로, 제2 반송 기구(48)가 기판(W)을 반송하는 처리부의 수는, 1개이다. 이 때문에, 제2 반송 기구(48)의 제2 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수가, 4개 이상이 되는 것을 적합하게 방지할 수 있다. 제3 반송 기구(68)가 기판(W)을 반송하는 처리부의 수는, 1개이다. 이 때문에, 제3 반송 기구(68)의 제3 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수가, 4개 이상이 되는 것을 적합하게 방지할 수 있다.
구체적으로는, 제1 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는 3개이다. 제1 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는 비교적 적다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46)가 단위 시간당 실행 가능한 제1 사이클 동작의 횟수는, 비교적 많다. 환언하면, 제1 반송 기구(46)가 단위 시간당 반송 가능한 기판(W)의 장수는, 비교적 많다. 요컨대, 제1 반송 기구(46)가 기판(W)을 반송하는 효율(이하, 적당히, 「반송 효율」이라고 한다)은, 비교적 높다.
제2 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는 3개이다. 제2 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는 비교적 적다. 따라서, 제2 반송 기구(48)의 반송 효율은, 비교적 높다.
제3 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는 2개이다. 제3 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는 비교적 적다. 따라서, 제3 반송 기구(68)의 반송 효율은, 비교적 높다.
이상과 같이, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)와 제3 반송 기구(68)의 각 반송 효율은 비교적 높으므로, 기판 처리 장치(1)가 단위 시간당 처리 가능한 기판(W)의 장수는 비교적 많다. 따라서, 기판 처리 장치(1)의 스루풋을 적합하게 향상시킬 수 있다.
제1 액세스 동작은, 제1 재치부(21) 상의 기판(W)을 취하는 동작과, 제1 재치부(21)에 기판(W)을 재치하는 동작을 포함한다. 제2 액세스 동작은, 제1 처리부(34)에 기판(W)을 반입하는 동작과, 제1 처리부(34)로부터 기판(W)을 반출하는 동작을 포함한다. 제3 액세스 동작은, 제2 재치부(41) 상의 기판(W)을 취하는 동작과, 제2 재치부(41)에 기판(W)을 재치하는 동작을 포함한다. 제4 액세스 동작은, 제2 재치부(41) 상의 기판(W)을 취하는 동작과, 제2 재치부(41)에 기판(W)을 재치하는 동작을 포함한다. 제5 액세스 동작은, 제2 처리부(37)에 기판(W)을 반입하는 동작과, 제2 처리부(37)로부터 기판(W)을 반출하는 동작을 포함한다. 제6 액세스 동작은, 제3 재치부(51) 상의 기판(W)을 취하는 동작과, 제3 재치부(51)에 기판(W)을 재치하는 동작을 포함한다. 제7 액세스 동작은, 제3 재치부(51) 상의 기판(W)을 취하는 동작과, 제3 재치부(51)에 기판(W)을 재치하는 동작을 포함한다. 제8 액세스 동작은, 제3 처리부(64)에 기판(W)을 반입하는 동작과, 제3 처리부(64)로부터 기판(W)을 반출하는 동작을 포함한다. 이 때문에, 제1, 제2, 제3 반송 기구(46, 48, 68)는, 인덱서부(11)로부터 공급된 기판(W)을, 제1, 제2, 제3 처리부(34, 37, 64)에 반송할 수 있다. 또한, 제1, 제2, 제3 반송 기구(46, 48, 68)는, 제1, 제2, 제3 처리부(34, 37, 64)에 있어서 처리된 기판(W)을 인덱서부(11)에 되돌릴 수 있다.
제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)와 제3 반송 기구(68)는, 인덱서부(11)로부터 공급된 기판(W)을, 제1 처리부(에지 노광 처리부)(34)와 제3 처리부(액처리부)(64)와 제2 처리부(열처리부)(37)에, 이 순서로 반송한다. 또한, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)는, 제2 처리부(열처리부)(37)로부터 반출한 기판(W)을, 제3 반송 기구(68)에 건네주는 일 없이, 인덱서부(11)에 되돌린다. 이 때문에, 제3 반송 기구(68)는, 제2 처리부(열처리부)(37)로부터 반출된 기판(W)을 반송하지 않는다. 즉, 제3 반송 기구(68)는, 열처리 후의 기판(W)과 접촉하지 않는다. 제3 반송 기구(68)는, 열처리 전의 기판(W)만을 반송한다. 이 때문에, 제3 반송 기구(68)는, 열처리 후의 기판(W)으로부터, 열적인 영향을 받지 않는다. 따라서, 제3 반송 기구(68)는, 기판(W)에 열적인 영향을 주는 일 없이, 제3 처리부(액처리부)(64)에 기판(W)을 반송할 수 있다. 예를 들면, 제3 반송 기구(68)는, 기판(W)의 온도를 변화시키는 일 없이, 제3 처리부(액처리부)(64)에 기판(W)을 반송할 수 있다. 따라서, 제3 처리부(액처리부)(64)에 있어서의 처리의 품질이 손상되는 것을, 적합하게 방지할 수 있다.
이하에서는, 기판 처리 장치(1)의 구조에 대하여, 더욱 상세하게 설명한다.
<기판 처리 장치(1)의 전체 구조>
도 4는, 제1 실시 형태의 기판 처리 장치(1)의 평면도이다. 기판 처리 장치(1)는, 인덱서부(11)와 제1 블록(31)과 제2 블록(61)을 구비한다. 제1 블록(31)은, 인덱서부(11)에 접속된다. 제2 블록(61)은, 제1 블록(31)에 접속된다. 제1 블록(31)은, 제1 처리부(34)와 제2 처리부(37)와 제2 재치부(41)와 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)를 수용한다. 제2 블록(61)은, 제3 처리부(64)와 제3 반송 기구(68)를 수용한다. 제1 재치부(21)는, 인덱서부(11)와 제1 블록(31)에 걸쳐 설치된다. 제3 재치부(51)는, 제1 블록(31)과 제2 블록(61)에 걸쳐 설치된다.
인덱서부(11)와 제1 블록(31)과 제2 블록(61)은, 수평 방향으로 일렬로 늘어서도록 배치된다. 제1 블록(31)은, 인덱서부(11)와 제2 블록(61) 사이에 배치된다.
여기서, 인덱서부(11)와 제1 블록(31)과 제2 블록(61)이 늘어서는 방향을, 「전후 방향(X)」이라고 부른다. 전후 방향(X) 중, 제2 블록(61)으로부터 인덱서부(11)를 향하는 방향을 「전방」이라고 부른다. 전방과 반대인 방향을 「후방」이라고 부른다. 전후 방향(X)과 직교하는 수평한 방향을, 「폭방향(Y)」 또는 「측방」이라고 부른다. 「폭방향(Y)」의 일 방향을 적당히 「우방」이라고 부른다. 우방과는 반대인 방향을 「좌방」이라고 부른다. 수직인 방향을 「상하 방향(Z)」이라고 부른다. 상하 방향(Z)은, 전후 방향(X)과 직교하며, 또한, 폭방향(Y)과 직교한다. 각 도면에서는, 참고로서, 전, 후, 우, 좌, 상, 하를 적당히 나타낸다.
이하, 기판 처리 장치(1)의 각 부에 대하여 설명한다.
<인덱서부(11)>
도 4-7을 참조한다. 도 5는, 기판 처리 장치(1)의 좌부의 구성을 나타내는 좌측면도이다. 도 6은, 폭방향(Y)에 있어서의 기판 처리 장치(1)의 중앙부의 구성을 나타내는 좌측면도이다. 도 7은, 기판 처리 장치(1)의 우부의 구성을 나타내는 우측면도이다.
인덱서부(11)는, 캐리어 재치부(12A, 12B)를 구비한다. 캐리어 재치부(12A, 12B)는, 폭방향(Y)으로 늘어서도록 배치된다. 캐리어 재치부(12A)는, 캐리어 재치부(12B)의 우방에 배치된다. 캐리어 재치부(12A, 12B)는 각각, 1개의 캐리어(C)를 재치한다.
캐리어 재치부(12A) 상의 캐리어(C)와 캐리어 재치부(12B) 상의 캐리어(C)를 구별하는 경우, 캐리어 재치부(12A) 상의 캐리어(C)를 「캐리어(CA)」라고 기재하고, 캐리어 재치부(12B) 상의 캐리어(C)를 「캐리어(CB)」라고 기재한다.
인덱서부(11)는, 반송 스페이스(13)를 구비한다. 반송 스페이스(13)는, 캐리어 재치부(12A, 12B)의 후방에 배치된다.
인덱서부(11)는, 인덱서용 반송 기구(14A, 14B)를 구비한다. 인덱서용 반송 기구(14A, 14B)는, 반송 스페이스(13)에 설치된다. 인덱서용 반송 기구(14A, 14B)는, 폭방향(Y)으로 늘어서도록 배치된다. 인덱서용 반송 기구(14B)는, 인덱서용 반송 기구(14A)의 좌방에 배치된다. 인덱서용 반송 기구(14A)는, 캐리어 재치부(12A)의 후방에 배치된다. 인덱서용 반송 기구(14B)는, 캐리어 재치부(12B)의 후방에 배치된다.
인덱서용 반송 기구(14A)는, 지주(15a)와 승강부(15b)와 회전부(15c)와 유지부(15d, 15e)를 구비한다. 유지부(15e)는 도 7에 나타난다. 지주(15a)는, 상하 방향(Z)으로 연장된다. 지주(15a)는, 고정적으로 설치된다. 즉, 지주(15a)는, 이동 불가능하다. 승강부(15b)는, 지주(15a)에 지지된다. 승강부(15b)는, 지주(15a)에 대해서 상하 방향(Z)으로 이동 가능하다. 승강부(15b)는, 수평 방향으로 이동 불가능하다. 회전부(15c)는, 승강부(15b)에 지지된다. 회전부(15c)는, 승강부(15b)에 대해, 회전 가능하다. 회전부(15c)의 회전 축선은, 상하 방향(Z)으로 평행하다. 회전부(15c)는, 수평 방향으로 이동 불가능하다. 유지부(15d, 15e)는, 회전부(15c)에 지지된다. 유지부(15d, 15e)는, 회전부(15c)에 대해, 수평 방향으로 진퇴 이동 가능하다. 유지부(15d, 15e)는, 서로 독립적으로, 진퇴 이동 가능하다. 유지부(15d, 15e)는 각각, 기판(W)과 접촉한다. 유지부(15d, 15e)는 각각, 1장의 기판(W)을 수평 자세로 유지한다.
인덱서용 반송 기구(14B)는, 인덱서용 반송 기구(14A)와 대략 동일한 구조를 갖는다. 즉, 인덱서용 반송 기구(14B)는, 지주(15a)와 승강부(15b)와 회전부(15c)와 유지부(15d, 15e)를 구비한다.
이와 같이, 본 명세서에서는, 상이한 요소가 동일한 구조를 갖는 경우에는, 그 구조에 공통의 부호를 붙여 상세한 설명을 생략한다.
인덱서용 반송 기구(14A)는, 캐리어(CA)와 제1 재치부(21)에 액세스 가능하다. 인덱서용 반송 기구(14A)는, 캐리어(CA)로부터 기판(W)을 반출 가능하며, 캐리어(CA)에 기판(W)을 반입 가능하다. 인덱서용 반송 기구(14A)는, 제1 재치부(21)에 기판(W)을 재치 가능하며, 제1 재치부(21) 상의 기판(W)을 취할 수 있다. 인덱서용 반송 기구(14A)는, 캐리어(CB)에 액세스 불가능하다.
인덱서용 반송 기구(14B)는, 캐리어(CB)와 제1 재치부(21)에 액세스 가능하다.
인덱서용 반송 기구(14B)는, 캐리어(CB)로부터 기판(W)을 반출 가능하며, 캐리어(CB)에 기판(W)을 반입 가능하다. 인덱서용 반송 기구(14B)는, 제1 재치부(21)에 기판(W)을 재치 가능하며, 제1 재치부(21) 상의 기판(W)을 취할 수 있다. 인덱서용 반송 기구(14B)는, 캐리어(CA)에 액세스 불가능하다.
인덱서용 반송 기구(14A, 14B)는, 제어부(81)에 의해 제어된다. 제어부(81)에 의한 제어에 따라서, 인덱서용 반송 기구(14A)는, 캐리어(CA)에의 액세스 동작과 제1 재치부(21)에의 액세스 동작을 교대로 행한다. 제어부(81)에 의한 제어에 따라서, 인덱서용 반송 기구(14B)는, 캐리어(CB)에의 액세스 동작과 제1 재치부(21)에의 액세스 동작을 교대로 행한다. 이에 따라, 인덱서부(11)는, 캐리어(C)로부터 기판(W)을 반출하고, 캐리어(C)로부터 반출한 기판(W)을 제1 반송 기구(46)에 건네준다. 또한, 인덱서부(11)는, 제1 반송 기구(46)로부터 기판(W)을 받고, 제1 반송 기구(46)로부터 받은 기판(W)을 캐리어(C)에 반입한다.
<제1 블록(31)>
도 4-8을 참조한다. 도 8은, 제1 블록(31)의 구성(구체적으로는, 제2 처리부(37)와 제2 반송 기구(48))을 나타내는 정면도이다. 제1 블록(31)은, 대략 상자 형상을 갖는다. 제1 블록(31)은, 평면, 측면 및 정면에서 볼 때, 대략 직사각형이다.
제1 블록(31)은, 제1 프레임(32)을 갖는다. 제1 프레임(32)은, 제1 블록(31)의 골조(골격)로서 설치된다. 제1 프레임(32)은, 제1 블록(31)의 형상을 획정한다. 제1 프레임(32)은, 예를 들면, 금속제이다.
제1 프레임(32)은, 제1 처리부(34)와 제2 처리부(37)와 제2 재치부(41)와 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)를 지지한다.
기판 처리 장치(1)는, 반송 스페이스(45)를 구비한다. 반송 스페이스(45)는, 제1 블록(31)에 형성된다. 반송 스페이스(45)는, 제1 처리부(34) 및 제2 처리부(37)의 측방에 형성된다. 보다 구체적으로는, 반송 스페이스(45)는, 폭방향(Y)에 있어서의 제1 블록(31)의 중앙부에 형성된다. 반송 스페이스(45)는, 전후 방향(X)으로 연장된다. 반송 스페이스(45)는, 제1 블록(31)의 전부로부터 제1 블록(31)의 후부까지 연장된다. 반송 스페이스(45)는, 인덱서부(11)의 반송 스페이스(13)와 접한다. 반송 스페이스(45)와 제1 처리부(34)는, 폭방향(Y)으로 늘어선다. 반송 스페이스(45)와 제2 처리부(37)는, 폭방향(Y)으로 늘어선다.
제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)는, 반송 스페이스(45)에 설치된다. 제1 반송 기구(46)는, 인덱서부(11)의 후방에 배치된다. 제2 반송 기구(48)는, 제1 반송 기구(46)의 후방에 배치된다. 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)는, 전후 방향(X)으로 늘어서도록 배치된다. 제1 반송 기구(46)는, 인덱서부(11)와 제2 반송 기구(48) 사이에 배치된다.
제1 처리부(34)는, 제1 반송 기구(46)의 측방에 배치된다. 보다 상세하게는, 제1 처리부(34)와 제1 반송 기구(46)는, 폭방향(Y)으로 늘어선다. 제1 처리부(34)는, 제1 반송 기구(46)의 우방의 위치 및 제1 반송 기구(46)의 좌방의 위치에 배치된다. 제1 반송 기구(46)의 우방의 위치에 배치되는 제1 처리부(34)를, 「제1 우처리부(34R)」라고 부른다. 제1 반송 기구(46)의 좌방의 위치에 배치되는 제1 처리부(34)를, 「제1 좌처리부(34L)」라고 부른다. 제1 우처리부(34R)와 제1 반송 기구(46)와 제1 좌처리부(34L)는, 폭방향(Y)으로 1열로 늘어선다. 제1 반송 기구(46)는, 제1 우처리부(34R)와 제1 좌처리부(34L) 사이에 배치된다.
제2 처리부(37)는, 제2 반송 기구(48)의 측방에 배치된다. 보다 상세하게는, 제2 처리부(37)와 제2 반송 기구(48)는, 폭방향(Y)으로 늘어선다. 제2 처리부(37)는, 제2 반송 기구(48)의 우방의 위치 및 제2 반송 기구(48)의 좌방의 위치에 배치된다. 제2 반송 기구(48)의 우방의 위치에 배치되는 제2 처리부(37)를, 「제2 우처리부(37R)」라고 부른다. 제2 반송 기구(48)의 좌방의 위치에 배치되는 제2 처리부(37)를, 「제2 좌처리부(37L)」라고 부른다. 제2 우처리부(37R)와 제2 반송 기구(48)와 제2 좌처리부(37L)는, 폭방향(Y)으로 1열로 늘어선다. 제2 반송 기구(48)는, 제2 우처리부(37R)와 제2 좌처리부(37L) 사이에 배치된다.
제1 처리부(34)와 제2 처리부(37)는, 전후 방향(X)으로 늘어선다. 제2 처리부(37)는, 제1 처리부(34)의 후방에 배치된다. 제2 처리부(37)는, 평면에서 볼 때, 제1 처리부(34)와 겹치지 않는 위치에 배치된다. 제2 우처리부(37R)는, 제1 우처리부(34R)의 후방에 배치된다. 제1 우처리부(34R)와 제2 우처리부(37R)는, 반송 스페이스(45)를 따라, 전후 방향(X)으로 늘어선다. 제2 좌처리부(37L)는, 제1 좌처리부(34L)의 후방에 배치된다. 제1 좌처리부(34L)와 제2 좌처리부(37L)는, 반송 스페이스(45)를 따라, 전후 방향(X)으로 늘어선다.
제2 재치부(41)는, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48) 사이에 배치된다. 제2 재치부(41)는, 제1 반송 기구(46)에 대해, 좌방 또한 후방에 배치된다. 제2 재치부(41)는, 제2 반송 기구(48)에 대해, 좌방 또한 전방에 배치된다.
제2 재치부(41)와 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)는, 평면에서 볼 때, 삼각 배치된다. 구체적으로는, 제2 재치부(41)와 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)는 각각, 평면에서 볼 때, 가상적인 삼각형(구체적으로는 예각 삼각형)의 각 꼭지점에 위치한다.
제2 재치부(41)는, 평면에서 볼 때, 제1 처리부(34) 및 제2 처리부(37)와 겹치는 위치에 배치된다. 구체적으로는, 제2 재치부(41)는, 평면에서 볼 때 제1 처리부(34)와 겹치는 제1 부분(41a)과, 평면에서 볼 때 제2 처리부(37)와 겹치는 제2 부분(41b)을 갖는다. 보다 상세하게는, 제2 재치부(41)의 제1 부분(41a)은, 평면에서 볼 때, 제1 좌처리부(34L)와 겹친다. 제2 재치부(41)의 제2 부분(41b)은, 평면에서 볼 때, 제2 좌처리부(37L)와 겹친다.
또한, 제2 재치부(41)는, 반송 스페이스(45)로 튀어 나와 있다. 구체적으로는, 제2 재치부(41)는, 평면에서 볼 때 반송 스페이스(45)와 겹치는 제3 부분(41c)을 갖는다. 제2 재치부(41)의 제3 부분(41c)은, 평면에서 볼 때, 제1 처리부(34) 및 제2 처리부(37)와 겹치지 않는다. 제2 재치부(41)의 제3 부분(41c)은, 제1 좌처리부(34L) 및 제2 좌처리부(37L)보다 반송 스페이스(45)를 향해 튀어 나와 있다.
제2 재치부(41)는, 제1 반송 기구(46) 및 제2 반송 기구(48)로부터 대략 등거리의 위치에 배치된다. 구체적으로는, 평면에서 볼 때, 제1 반송 기구(46)와 제2 재치부(41) 사이의 거리는, 제2 반송 기구(48)와 제2 재치부(41) 사이의 거리와 대략 동일하다.
제1 처리부(34)는, 기판(W)을 1장씩 처리하는 복수(예를 들면 2개)의 제1 처리 유닛(35)을 구비한다. 제1 처리 유닛(35)은, 에지 노광 처리 유닛이다. 각 제1 처리 유닛(35)은, 1장의 기판(W)에 에지 노광 처리를 행한다. 1개의 제1 처리 유닛(35)은, 제1 반송 기구(46)의 우방에 배치된다. 제1 반송 기구(46)의 우방에 배치되는 제1 처리 유닛(35)은, 제1 우처리부(34R)에 속한다. 나머지 1개의 제1 처리 유닛(35)은, 제1 반송 기구(46)의 좌방에 배치된다. 제1 반송 기구(46)의 좌방에 배치되는 제1 처리 유닛(35)은, 제1 좌처리부(34L)에 속한다.
각 제1 처리 유닛(35)은, 회전 유지부(36a)와 광 조사부(36b)를 구비한다. 회전 유지부(36a)는, 1장의 기판(W)을 수평 자세로 유지한다. 회전 유지부(36a)는, 유지한 기판(W)을 회전 가능하다. 기판(W)의 회전 축선은, 상하 방향(Z)으로 대략 평행하다. 광 조사부(36b)는, 회전 유지부(36a)에 유지된 기판(W)의 주연부에 광을 조사한다. 광 조사부(36b)가 조사하는 광에 의해, 기판(W)의 주연부는 노광된다.
제2 처리부(37)는, 기판(W)을 1장씩 처리하는 복수(예를 들면 9개)의 제2 처리 유닛(38)을 구비한다. 제2 처리 유닛(38)은, 열처리 유닛이다. 각 제2 처리 유닛(38)은, 1장의 기판(W)에 열처리를 행한다. 열처리 유닛은, 상하 방향(Z)으로 늘어서도록 배치된다.
도 7, 8을 참조한다. 5개의 제2 처리 유닛(38)은, 제2 반송 기구(48)의 우방에 배치된다. 제2 반송 기구(48)의 우방에 배치되는 모든 제2 처리 유닛(38)은, 제2 우처리부(37R)에 속한다. 제2 우처리부(37R)에 속하는 모든 제2 처리 유닛(38)은, 상하 방향(Z)으로 1열로 늘어서도록 배치된다.
도 5, 8을 참조한다. 나머지 4개의 제2 처리 유닛(38)은, 제2 반송 기구(48)의 좌방에 배치된다. 제2 반송 기구(48)의 좌방에 배치되는 모든 제2 처리 유닛(38)은, 제2 좌처리부(37L)에 속한다. 제2 좌처리부(37L)에 속하는 모든 제2 처리 유닛(38)은, 상하 방향(Z)으로 1열로 늘어서도록 배치된다.
도 4, 8을 참조한다. 각 제2 처리 유닛(38)은, 제1 플레이트(39a)와 제2 플레이트(39b)를 구비한다. 제1 플레이트(39a)는, 1장의 기판(W)을 수평 자세로 재치한다. 제2 플레이트(39b)는, 1장의 기판(W)을 수평 자세로 재치한다. 제1 플레이트(39a)와 제2 플레이트(39b)는, 폭방향(Y)으로 늘어서도록 배치된다. 제1 플레이트(39a)는, 제2 플레이트(39b)보다, 반송 스페이스(45)에 가까운 위치에 배치된다. 각 제2 처리 유닛(38)은, 도시하지 않은 로컬 반송 기구를 구비한다. 로컬 반송 기구는, 제1 플레이트(39a)와 제2 플레이트(39b) 사이에서, 기판(W)을 반송한다. 각 제2 처리 유닛(38)은, 또한, 도시하지 않은 온도 조절 기기를 구비한다. 온도 조절 기기는, 제2 플레이트(39b)에 부착된다. 온도 조절 기기는, 제2 플레이트(39b)의 온도를 조절한다. 온도 조절 기기는, 예를 들면, 히터이다. 이 때문에, 제2 플레이트(39b)는, 제2 플레이트(39b) 상에 재치된 기판(W)을 소정의 온도로 가열할 수 있다.
도 5, 8을 참조한다. 제2 재치부(41)는, 복수(예를 들면 2개)의 플레이트(42a, 42b)를 갖는다. 각 플레이트(42a, 42b)는, 1장의 기판(W)을 수평 자세로 재치한다. 플레이트(42a, 42b)는, 상하 방향(Z)으로 늘어서도록 배치된다. 플레이트(42b)는, 플레이트(42a)의 하방에 배치된다. 플레이트(42b)는, 평면에서 볼 때, 플레이트(42a)와 겹친다.
도 5, 7, 8을 참조한다. 기판 처리 장치(1)는, 슬롯(43a-43j)과 슬롯(44a-44j)을 구비한다. 슬롯(43a-43c, 43f-43h)은, 제1 처리부(34)를 지지한다. 슬롯(43a-43c, 43f-43h)은, 제1 처리부(34)를 설치하기 위한 선반 또는 스테이로서 기능한다. 슬롯(44a-44h, 44j)은, 제2 처리부(37)를 지지한다. 슬롯(44a-44h, 44j)은, 제2 처리부(37)를 설치하기 위한 선반 또는 스테이로서 기능한다. 슬롯(43i, 44i)은, 제2 재치부(41)를 지지한다. 슬롯(43i, 44i)은, 제2 재치부(41)를 설치하기 위한 선반 또는 스테이로서 기능한다. 슬롯(43a-43j, 44a-44j)은, 대략 동일한 형상 및 구조를 갖는다.
슬롯(43a-43j)을 구별하지 않는 경우에는, 「슬롯(43)」이라고 부른다. 슬롯(44a-44j)을 구별하지 않는 경우에는, 「슬롯(44)」이라고 부른다.
슬롯(43)은, 제1 반송 기구(46)의 측방에 배치된다. 슬롯(43)과 제1 반송 기구(46)는, 폭방향(Y)으로 늘어선다. 슬롯(43a-43e)은, 제1 반송 기구(46)의 우방의 위치에 배치된다. 슬롯(43f-43j)은, 제1 반송 기구(46)의 좌방의 위치에 배치된다. 슬롯(44)은, 제2 반송 기구(48)의 측방에 배치된다. 슬롯(44)과 제2 반송 기구(48)는, 폭방향(Y)으로 늘어선다. 슬롯(44a-44e)은, 제2 반송 기구(48)의 우방의 위치에 배치된다. 슬롯(44f-44j)은, 제2 반송 기구(48)의 좌방의 위치에 배치된다.
도 7을 참조한다. 슬롯(43a-43e)은, 상하 방향(Z)으로 1열로 늘어선다. 슬롯(43a, 43b, 43c, 43d, 43e)은, 이 순서로 위에서부터 아래로 배치된다. 슬롯(43a)은, 슬롯(43a-43e) 중에서 가장 높은 위치에 배치된다. 슬롯(43e)은, 슬롯(43a-43e) 중에서 가장 낮은 위치에 배치된다.
도 5를 참조한다. 슬롯(43f-43j)은, 상하 방향(Z)으로 1열로 늘어선다. 슬롯(43f, 43g, 43h, 43i, 43j)은, 이 순서로 위에서부터 아래로 배치된다. 슬롯(43f)은, 슬롯(43f-43j) 중에서 가장 높은 위치에 배치된다. 슬롯(43j)은, 슬롯(43f-43j) 중에서 가장 낮은 위치에 배치된다.
도 7, 8을 참조한다. 슬롯(44a-44e)은, 상하 방향(Z)으로 1열로 늘어선다. 슬롯(44a, 44b, 44c, 44d, 44e)은, 이 순서로 위에서부터 아래로 배치된다. 슬롯(44a)은, 슬롯(44a-44e) 중에서 가장 높은 위치에 배치된다. 슬롯(44e)은, 슬롯(44a-44e) 중에서 가장 낮은 위치에 배치된다.
도 5, 8을 참조한다. 슬롯(44f-44j)은, 상하 방향(Z)으로 1열로 늘어선다. 슬롯(44f, 44g, 44h, 44i, 44j)은, 이 순서로 위에서부터 아래로 배치된다. 슬롯(44f)은, 슬롯(44f-44j) 중에서 가장 높은 위치에 배치된다. 슬롯(44j)은, 슬롯(44f-44j) 중에서 가장 낮은 위치에 배치된다.
슬롯(43)과 슬롯(44)은, 전후 방향(X)으로 늘어선다. 슬롯(44)은, 슬롯(43)의 후방에 배치된다. 구체적으로는, 슬롯(43a)과 슬롯(44a)은, 전후 방향(X)으로 늘어선다. 슬롯(44a)은, 슬롯(43a)의 후방에 배치된다. 슬롯(44a)은, 슬롯(43a)과 동일한 높이 위치에 배치된다. 마찬가지로, 슬롯(43b-43e)과 슬롯(44b-44e)은, 전후 방향(X)으로 늘어선다. 슬롯(44b-44e)은 각각, 슬롯(43b-43e)의 후방에 배치된다. 슬롯(44b-44e)은 각각, 슬롯(43b-43e)과 동일한 높이 위치에 배치된다. 슬롯(43f-43j)과 슬롯(44f-44j)은, 전후 방향(X)으로 늘어선다. 슬롯(44f-44j)은 각각, 슬롯(43f-43j)의 후방에 배치된다. 슬롯(44f-44j)은 각각, 슬롯(43f-43j)과 동일한 높이 위치에 배치된다.
도 5, 7을 참조한다. 1개의 제1 처리 유닛(35)은, 상하 방향(Z)으로 연속하는 슬롯(43), 3개분에 상당하는 크기를 갖는다. 제1 우처리부(34R)에 속하는 제1 처리 유닛(35)은, 슬롯(43a-43c)에 걸쳐 설치된다. 슬롯(43a, 43b)을 떼어놓는 수평한 벽부, 및, 슬롯(43b, 43c)을 떼어놓는 수평한 벽부는, 생략되어 있다. 제1 좌처리부(34L)에 속하는 제1 처리 유닛(35)은, 슬롯(43f-43h)에 걸쳐 설치된다. 슬롯(43f, 43g)을 떼어놓는 수평한 벽부, 및, 슬롯(43g, 43h)을 떼어놓는 수평한 벽부는, 생략되어 있다.
슬롯(43d, 43e, 43j)은, 비어 있다. 제1 처리 유닛(35) 및 제2 재치부(41)의 어느 것도, 슬롯(43d, 43e, 43j)에 설치되어 있지 않다.
도 5, 7, 8을 참조한다. 1개의 제2 처리 유닛(38)은, 슬롯(44), 1개분에 상당하는 크기를 갖는다. 제2 처리 유닛(38)은, 슬롯(44a-44h, 44j)에 1개씩 설치된다.
제2 재치부(41)는, 슬롯(43i)과 슬롯(44i)에 걸쳐 설치된다. 제2 재치부(41)는, 슬롯(43i)과 슬롯(44i)에 걸쳐 설치된다. 슬롯(43i)과 슬롯(44i)을 떼어놓는 수직인 벽부는, 생략되어 있다. 제2 재치부(41)의 제1 부분(41a)은, 슬롯(43i) 내에 수용된다. 제2 재치부(41)의 제2 부분(41b)은, 슬롯(44i) 내에 수용된다. 제2 재치부(41)의 제3 부분(41c)은, 슬롯(43i) 및 슬롯(44i)으로부터, 튀어 나와 있다.
슬롯(43f-43j)은, 본 발명에 있어서의 제1 슬롯의 예이다. 특히, 제1 슬롯 중 3개(구체적으로는, 슬롯(43f-43h))는, 본 발명에 있어서의 처리용 제1 슬롯의 예이다. 제1 슬롯 중 다른 1개(구체적으로는, 슬롯(43i))는, 본 발명에 있어서의 재치용 제1 슬롯의 예이다. 슬롯(44f-44j)은, 본 발명에 있어서의 제2 슬롯의 예이다. 특히, 제2 슬롯 중 4개(구체적으로는, 슬롯(44f-44h, 44j))는, 본 발명에 있어서의 처리용 제2 슬롯의 예이다. 제2 슬롯 중 다른 1개(구체적으로는, 슬롯(44i))는, 본 발명에 있어서의 재치용 제2 슬롯의 예이다.
도 6, 9를 참조한다. 도 9는, 제1 블록(31)의 평면도이다. 제1 반송 기구(46)는, 제1 지주(47a, 47b)와 제1 승강부(47c)와 제1 회전부(47d)와 제1 유지부(47e, 47f)를 구비한다. 제1 지주(47a, 47b)는, 상하 방향(Z)으로 연장된다. 제1 지주(47a, 47b)는, 폭방향(Y)으로 늘어서도록 배치된다. 제1 지주(47a, 47b)는, 고정적으로 설치된다. 이 때문에, 제1 지주(47a, 47b)는, 이동 불가능하다. 구체적으로는, 제1 지주(47a, 47b)는, 제1 프레임(32)에 고정된다. 제1 지주(47a, 47b)는, 제1 프레임(32)에 대해 이동 불가능하다. 제1 승강부(47c)는, 제1 지주(47a, 47b)에 지지된다. 제1 승강부(47c)는, 제1 지주(47a, 47b)에 대해 이동 가능하다. 제1 승강부(47c)는, 상하 방향(Z)으로 이동 가능하다. 제1 승강부(47c)는, 수평 방향으로 이동 불가능하다. 제1 회전부(47d)는, 제1 승강부(47c)에 지지된다. 제1 회전부(47d)는, 제1 승강부(47c)에 대해, 회전 가능하다. 제1 회전부(47d)는, 제1 축선(A1) 둘레로 회전 가능하다. 제1 축선(A1)은, 상하 방향(Z)으로 평행하다. 제1 회전부(47d)는, 수평 방향으로 이동 불가능하다. 제1 축선(A1)은, 수평 방향으로 이동 불가능하다. 제1 유지부(47e, 47f)는, 제1 회전부(47d)에 지지된다. 제1 유지부(47e, 47f)는, 제1 회전부(47d)에 대해, 수평 방향으로 진퇴 이동 가능하다. 제1 유지부(47e, 47f)는, 서로 독립적으로, 진퇴 이동 가능하다. 제1 유지부(47e, 47f)는 각각, 기판(W)과 접촉한다. 제1 유지부(47e, 47f)는 각각, 1장의 기판(W)을 수평 자세로 유지한다.
도 6, 8, 9를 참조한다. 제2 반송 기구(48)는, 제2 지주(49a, 49b)와 제2 승강부(49c)와 제2 회전부(49d)와 제2 유지부(49e, 49f)를 구비한다. 제2 지주(49a, 49b)는, 상하 방향(Z)으로 연장된다. 제2 지주(49a, 49b)는, 폭방향(Y)으로 늘어서도록 배치된다. 제2 지주(49a, 49b)는, 고정적으로 설치된다. 이 때문에, 제2 지주(49a, 49b)는, 이동 불가능하다. 구체적으로는, 제2 지주(49a, 49b)는, 제1 프레임(32)에 고정된다. 제2 지주(49a, 49b)는, 제1 프레임(32)에 대해 이동 불가능하다. 제2 승강부(49c)는, 제2 지주(49a, 49b)에 지지된다. 제2 승강부(49c)는, 제2 지주(49a, 49b)에 대해 이동 가능하다. 제2 승강부(49c)는, 상하 방향(Z)으로 이동 가능하다. 제2 승강부(49c)는, 수평 방향으로 이동 불가능하다. 제2 회전부(49d)는, 제2 승강부(49c)에 지지된다. 제2 회전부(49d)는, 제2 승강부(49c)에 대해, 회전 가능하다. 제2 회전부(49d)는, 제2 축선(A2) 둘레로 회전 가능하다. 제2 축선(A2)은, 상하 방향(Z)으로 평행하다. 제2 회전부(49d)는, 수평 방향으로 이동 불가능하다. 제2 축선(A2)은, 수평 방향으로 이동 불가능하다. 제2 유지부(49e, 49f)는, 제2 회전부(49d)에 지지된다. 제2 유지부(49e, 49f)는, 제2 회전부(49d)에 대해, 수평 방향으로 진퇴 이동 가능하다. 제2 유지부(49e, 49f)는, 서로 독립적으로, 진퇴 이동 가능하다. 제2 유지부(49e, 49f)는 각각, 기판(W)과 접촉한다. 제2 유지부(49e, 49f)는 각각, 1장의 기판(W)을 수평 자세로 유지한다.
도 5, 7을 참조한다. 각 제1 처리 유닛(35)은, 측면에서 볼 때, 제1 축선(A1)과 겹치는 위치에 배치된다. 즉, 모든 제1 처리 유닛(35)은, 측면에서 볼 때, 제1 축선(A1)과 겹친다. 각 제2 처리 유닛(38)은, 측면에서 볼 때, 제2 축선(A2)과 겹치는 위치에 배치된다. 즉, 모든 제2 처리 유닛(38)은, 측면에서 볼 때, 제2 축선(A2)과 겹친다.
도 9를 참조한다. 도 9는, 제1 축선(A1)과 제2 축선(A2)을 잇는 가상 직선(L)을 나타낸다. 가상 직선(L)은, 평면에서 볼 때, 전후 방향(X)과 평행하다. 제2 재치부(41)는, 평면에서 볼 때, 가상 직선(L)과 겹치지 않는 위치에 배치된다. 제2 재치부(41)는, 평면에서 볼 때, 가상 직선(L)의 좌방에 배치된다.
평면에서 볼 때, 제1 축선(A1)과 제2 축선(A2) 사이의 거리(D1)는, 기판(W)의 반경(r)의 5배 이하이다. 평면에서 볼 때, 제1 축선(A1)과 제2 축선(A2) 사이의 거리(D1)는, 기판(W)의 반경(r)의 4배 이상이다.
평면에서 볼 때, 제2 재치부(41)는, 제1 축선(A1) 및 제2 축선(A2)으로부터 대략 등거리의 위치에 배치된다. 구체적으로는, 평면에서 볼 때, 제1 축선(A1)과 제2 재치부(41)의 거리는, 제2 축선(A2)과 제2 재치부(41)의 거리와 대략 동일하다.
제2 재치부(41)에 재치되는 기판(W)의 중심점을, 「점(P1)」이라고 부른다. 평면에서 볼 때, 제1 축선(A1)과 점(P1) 사이의 거리(D2)는, 제2 축선(A2)과 점(P1) 사이의 거리(D3)와 대략 동일하다. 예를 들면, 거리(D2)와 거리(D3)의 차는, 기판(W)의 반경(r) 이하이다.
평면에서 볼 때, 제1 축선(A1)은, 제2 재치부(41) 및 제1 처리부(34)로부터 대략 등거리의 위치에 배치된다. 구체적으로는, 평면에서 볼 때, 제1 축선(A1)과 제2 재치부(41)의 거리는, 제1 축선(A1)과 제1 처리부(34)의 거리와 대략 동일하다.
회전 유지부(36a)에 재치되는 기판(W)의 중심점을, 「점(P2)」이라고 부른다. 평면에서 볼 때, 제1 축선(A1)과 점(P1)의 거리(D2)는, 제1 축선(A1)과 점(P2)의 거리(D4)와 대략 동일하다. 거리(D2)와 거리(D4)의 차는, 기판(W)의 반경(r) 이하이다.
평면에서 볼 때, 제2 축선(A2)은, 제2 재치부(41) 및 제2 처리부(37)로부터 대략 등거리의 위치에 배치된다. 구체적으로는, 평면에서 볼 때, 제2 축선(A2)과 제2 재치부(41)의 거리는, 제2 축선(A2)과 제2 처리부(37)의 거리와 대략 동일하다.
제1 플레이트(39a)에 재치되는 기판(W)의 중심점을, 「점(P3)」이라고 부른다. 평면에서 볼 때, 제2 축선(A2)과 점(P1)의 거리(D3)는, 제2 축선(A2)과 점(P3)의 거리(D5)와 대략 동일하다. 거리(D3)와 거리(D5)의 차는, 기판(W)의 반경(r) 이하이다.
도 4, 9를 참조한다. 기판 처리 장치(1)는, 또한, 공간(E)을 구비한다. 공간(E)은, 제1 블록(31)에 형성된다. 공간(E)은, 제2 처리부(37)의 후방에 배치된다. 공간(E)은, 반송 스페이스(45)의 측방에 배치된다.
공간(E)은, 공간(E1, E2)을 포함한다. 공간(E1)은, 제2 우처리부(37R)의 후방, 또한, 반송 스페이스(45)의 우방에 형성된다. 공간(E2)은, 제2 좌처리부(37L)의 후방, 또한, 반송 스페이스(45)의 좌방에 형성된다.
<제2 블록(61)>
도 4-7, 10을 참조한다. 도 10은, 제2 블록(61)의 구성을 나타내는 배면도이다. 제2 블록(61)은, 대략 상자 형상을 갖는다. 제2 블록(61)은, 평면, 측면 및 정면에서 볼 때, 대략 직사각형이다.
제2 블록(61)은, 제2 프레임(62)을 갖는다. 제2 프레임(62)은, 제2 블록(61)의 골조(골격)로서, 설치된다. 제2 프레임(62)은, 제2 블록(61)의 형상을 획정한다. 제2 프레임(62)은, 예를 들면, 금속제이다.
제2 프레임(62)은, 제1 프레임(32)에 연결된다. 제2 프레임(62)은, 제3 처리부(64)와 제3 반송 기구(68)를 지지한다.
기판 처리 장치(1)는, 반송 스페이스(67)를 구비한다. 반송 스페이스(67)는, 제2 블록(61)에 형성된다. 반송 스페이스(67)는, 제3 처리부(64)의 측방에 형성된다. 보다 구체적으로는, 반송 스페이스(67)는, 폭방향(Y)에 있어서의 제2 블록(61)의 중앙부에 형성된다. 반송 스페이스(67)는, 전후 방향(X)으로 연장된다. 반송 스페이스(67)는, 제2 블록(61)의 전부으로부터 제2 블록(61)의 후부까지 연장된다. 반송 스페이스(67)는, 반송 스페이스(45)와 접한다. 반송 스페이스(67)와 제3 처리부(64)는, 폭방향(Y)으로 늘어선다.
제3 반송 기구(68)는, 반송 스페이스(67)에 설치된다. 제3 반송 기구(68)는, 제2 반송 기구(48)의 후방에 배치된다. 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)와 제3 반송 기구(68)는, 전후 방향(X)으로 1열로 늘어서도록 배치된다. 제2 반송 기구(48)는, 제1 반송 기구(46)와 제3 반송 기구(68) 사이에 배치된다.
제3 처리부(64)는, 제3 반송 기구(68)의 측방에 배치된다. 보다 상세하게는, 제3 처리부(64)와 제3 반송 기구(46)는, 폭방향(Y)으로 늘어선다. 제3 처리부(64)는, 제3 반송 기구(68)의 우방의 위치 및 제3 반송 기구(68)의 좌방의 위치에 배치된다. 제3 반송 기구(68)의 우방의 위치에 배치되는 제3 처리부(64)를, 「제3 우처리부(64R)」라고 부른다. 제3 반송 기구(68)의 좌방의 위치에 배치되는 제3 처리부(64)를, 「제3 좌처리부(64L)」라고 부른다. 제3 우처리부(64R)와 제3 반송 기구(68)와 제3 좌처리부(64L)는, 폭방향(Y)으로 늘어선다. 제3 반송 기구(68)는, 제3 우처리부(64R)와 제3 좌처리부(64L) 사이에 배치된다.
전후 방향(X)에 있어서의 제3 우처리부(64R)의 길이(G1)는, 전후 방향(X)에 있어서의 제3 좌처리부(64L)의 길이(G2)보다 작다. 전후 방향(X)에 있어서의 제3 우처리부(64R)의 길이(G1)는, 전후 방향(X)에 있어서의 제3 좌처리부(64L)의 길이(G2)보다 500[mm] 이상, 작은 것이 바람직하다. 즉, 길이(G1)와 길이(G2)의 차는, 500[mm] 이상인 것이 바람직하다. 길이(G2)는, 예를 들면, 길이(G1)의 약 1.5배이다.
제3 우처리부(64R)는, 본 발명에 있어서의 제3 단처리부의 예이다. 제3 좌처리부(64L)는, 본 발명에 있어서의 제3 장처리부의 예이다.
기판 처리 장치(1)는, 공간(F)을 구비한다. 공간(F)은, 제2 블록(61)에 형성된다. 공간(F)과 제3 우처리부(64R)는, 전후 방향(X)으로 늘어선다. 공간(F)은, 제3 우처리부(64R)의 전방에 배치된다. 공간(F)은, 제3 반송 스페이스(67)의 측방에 배치된다. 공간(F)과 제3 반송 스페이스(67)는, 폭방향(Y)으로 늘어선다. 공간(F)은, 반송 스페이스(67)의 우방에 배치된다. 공간(F)은, 제3 반송 기구(68)의 측방에 배치된다. 공간(F)과 제3 반송 기구(68)는, 폭방향(Y)으로 늘어선다. 공간(F)은, 제3 반송 기구(68)의 우방에 배치된다. 공간(F)과 반송 스페이스(67)와 제3 좌처리부(64L)는, 폭방향(Y)으로 늘어선다. 공간(F)은, 반송 스페이스(67)를 사이에 두고, 제3 좌처리부(64L)와 마주하고 있다. 반송 스페이스(67)는, 공간(F)과 제3 좌처리부(64L) 사이에 배치된다. 공간(F)은, 사람(예를 들면, 기판 처리 장치(1)의 오퍼레이터)이 들어올 수 있을 정도의 크기를 갖는 것이 바람직하다.
공간(F)은, 본 발명에 있어서의 메인터넌스 공간의 예이다.
제2 처리부(37)와 제3 처리부(64)는, 전후 방향(X)으로 늘어선다. 제3 처리부(64)는, 제2 처리부(37)의 후방에 배치된다. 제2 우처리부(37R)와 제3 우처리부(64R)는, 전후 방향(X)으로 늘어선다. 제3 우처리부(64R)는, 제2 우처리부(37R)의 후방에 배치된다. 제1 우처리부(34R)와 제2 우처리부(37R)와 제3 우처리부(64R)는, 전후 방향(X)으로 1열로 늘어선다. 제2 좌처리부(37L)와 제3 좌처리부(64L)는, 전후 방향(X)으로 늘어선다. 제3 좌처리부(64L)는, 제2 좌처리부(37L)의 후방에 배치된다. 제1 좌처리부(34L)와 제2 좌처리부(37L)와 제3 좌처리부(64L)는, 전후 방향(X)으로 1열로 늘어선다.
공간(E)과 공간(F)은, 제2 처리부(37)와 제3 처리부(64) 사이에 배치된다. 공간(E1)과 공간(F)은, 제2 우처리부(37R)와 제3 우처리부(64R) 사이에 배치된다. 제2 우처리부(37R)와 공간(E1)과 공간(F)과 제3 우처리부(64R)는, 전후 방향(X)으로 늘어선다. 제2 우처리부(37R)와 공간(E1)과 공간(F)과 제3 우처리부(64R)는, 이 순서로 일렬로 늘어선다. 공간(E2)은, 제2 좌처리부(37L)와 제3 좌처리부(64L) 사이에 배치된다. 제2 좌처리부(37L)와 공간(E2)과 제3 좌처리부(64L)는, 전후 방향(X)으로 늘어선다. 제2 좌처리부(37L)와 공간(E2)과 제3 좌처리부(64L)는, 이 순서로 일렬로 늘어선다.
공간(E)과 공간(F)은, 본 발명에 있어서의 차열 공간의 예이다. 공간(F)은, 본 발명에 있어서의 메인터넌스 공간의 예이며, 본 발명에 있어서의 차열 공간의 예이다. 즉, 공간(F)은, 본 발명에 있어서의 메인터넌스 공간 및 차열 공간을 겸한다.
기판 처리 장치(1)는, 점검구(71)와 덮개부(72)를 갖는다. 점검구(71)는, 제2 블록(61)에 형성된다. 점검구(71)는, 제2 블록(61)의 우벽부에 형성되는 개구이다. 점검구(71)는, 작업자가 통과할 수 있을 정도로 큰 것이 바람직하다. 덮개부(72)는, 제2 블록(61)에 부착되어 있다. 덮개부(72)는, 제2 블록(61)의 우벽부에 부착되어 있다. 덮개부(72)는, 제2 블록(61)에 대해 회동(回動) 가능하다. 덮개부(72)는, 점검구(71)를 개폐 가능하다.
제3 처리부(64)는, 기판(W)을 1장씩 처리하는 복수(예를 들면 10개)의 제3 처리 유닛(65)을 구비한다. 각 제3 처리 유닛(65)은, 1장의 기판(W)에 액처리를 행한다. 보다 상세하게는, 각 제3 처리 유닛(65)은, 1장의 기판(W)에 현상 처리를 행한다.
도 7을 참조한다. 4개의 제3 처리 유닛(65)은, 제3 반송 기구(68)의 우방에 배치된다. 제3 반송 기구(68)의 우방에 배치되는 모든 제3 처리 유닛(65)은, 제3 우처리부(64R)에 속한다.
제3 우처리부(64R)에 속하는 제3 처리 유닛(65)은, 전후 방향(X) 및 상하 방향(Z)으로 행렬 형상으로 배치된다. 2개의 제3 처리 유닛(65)이, 제3 우처리부(64R)의 상단에 배치된다. 나머지 2개의 제3 처리 유닛(65)이, 제3 우처리부(64R)의 하단에 배치된다. 제3 우처리부(64R)의 상단에 배치되는 2개의 제3 처리 유닛(65)은, 전후 방향(X)으로 늘어서도록 배치된다. 제3 우처리부(64R)의 하단에 배치되는 2개의 제3 처리 유닛(65)은, 전후 방향(X)으로 늘어서도록 배치된다. 제3 우처리부(64R)의 하단에 배치되는 2개의 제3 처리 유닛(65)은, 평면에서 볼 때, 제3 우처리부(64R)의 상단에 배치되는 2개의 제3 처리 유닛(65)과 겹친다.
도 5를 참조한다. 6개의 제3 처리 유닛(65)은, 제3 반송 기구(68)의 좌방에 배치된다. 제3 반송 기구(68)의 좌방에 배치되는 모든 제3 처리 유닛(65)은, 제3 좌처리부(64L)에 속한다.
제3 좌처리부(64L)에 속하는 제3 처리 유닛(65)은, 전후 방향(X) 및 상하 방향(Z)으로 행렬 형상으로 배치된다. 3개의 제3 처리 유닛(65)이, 제3 좌처리부(64L)의 상단에 배치된다. 나머지 3개의 제3 처리 유닛(65)이, 제3 좌처리부(64L)의 하단에 배치된다. 제3 좌처리부(64L)의 상단에 배치되는 3개의 제3 처리 유닛(65)은, 전후 방향(X)으로 늘어서도록 배치된다. 제3 좌처리부(64L)의 하단에 배치되는 3개의 제3 처리 유닛(65)은, 전후 방향(X)으로 늘어서도록 배치된다. 제3 좌처리부(64L)의 하단에 배치되는 3개의 제3 처리 유닛(65)은, 평면에서 볼 때, 제3 좌처리부(64L)의 상단에 배치되는 3개의 제3 처리 유닛(65)과 겹친다.
각 제3 처리 유닛(65)은, 회전 유지부(66a)와 노즐(66b)과 컵(66c)을 구비한다. 회전 유지부(66a)는, 1장의 기판(W)을 수평 자세로 유지한다. 회전 유지부(66a)는, 유지한 기판(W)을 회전 가능하다. 기판(W)의 회전 축선은, 상하 방향(Z)으로 대략 평행하다. 노즐(66b)은, 처리액을 기판(W)에 토출한다. 처리액은, 예를 들면, 현상액이다. 노즐(66b)은, 처리 위치와 퇴피 위치에 이동 가능하게 설치된다. 처리 위치는, 회전 유지부(66a)에 유지된 기판(W)의 상방의 위치이다. 처리 위치는, 평면에서 볼 때, 회전 유지부(66a)에 유지된 기판(W)과 겹치는 위치이다. 퇴피 위치는, 평면에서 볼 때, 회전 유지부(66a)에 유지된 기판(W)과 겹치지 않는 위치이다. 컵(66c)은, 회전 유지부(66a)의 주위에 배치된다. 컵(66c)은, 처리액을 회수한다.
기판 처리 장치(1)는, 복수의 챔버(하우징)(72a-72d)를 구비한다. 챔버(72a-72d)는, 반송 스페이스(67)의 측방에 배치된다.
도 7, 10을 참조한다. 챔버(72a, 72b)는, 반송 스페이스(67)의 우방의 위치에 배치된다. 챔버(72a, 72b)는, 상하 방향(Z)으로 늘어서도록 배치된다. 챔버(72b)는, 챔버(72a)의 하방에 배치된다. 챔버(72a)는, 제3 우처리부(64R)의 상단에 배치되는 2개의 제3 처리 유닛(65)을 수용한다. 챔버(72b)는, 제3 우처리부(64R)의 하단에 배치되는 2개의 제3 처리 유닛(65)을 수용한다.
도 5, 10을 참조한다. 챔버(72c, 72d)는, 반송 스페이스(67)의 좌방의 위치에 배치된다. 챔버(72c, 72d)는, 상하 방향(Z)으로 늘어서도록 배치된다. 챔버(72d)는, 챔버(72c)의 하방에 배치된다. 챔버(72c)는, 제3 좌처리부(64L)의 상단에 배치되는 3개의 제3 처리 유닛(65)을 수용한다. 챔버(72d)는, 제3 좌처리부(64L)의 하단에 배치되는 3개의 제3 처리 유닛(65)을 수용한다.
도 4, 6, 10을 참조한다. 제3 반송 기구(68)는, 제3 지주(69a, 69b)와, 제3 승강부(69c)와, 제3 수평 이동부(69d)와, 제3 회전부(69e)와, 제3 유지부(69f, 69g)를 구비한다. 제3 지주(69a, 69b)는, 상하 방향(Z)으로 연장된다. 제3 지주(69a, 69b)는, 전후 방향(X)으로 늘어서도록 배치된다. 제3 지주(69a, 69b)는, 제3 우처리부(64R)보다 제3 좌처리부(64L)에 가까운 위치에 배치된다. 제3 지주(69a)는, 반송 스페이스(67)의 좌전부에 배치된다. 제3 지주(69b)는, 반송 스페이스(67)의 좌후부에 배치된다. 제3 지주(69a, 69b)는, 고정적으로 설치된다. 이 때문에, 제3 지주(69a, 69b)는, 이동 불가능하다. 구체적으로는, 제3 지주(69a, 69b)는, 제2 프레임(62)에 고정된다. 제3 지주(69a, 69b)는, 제2 프레임(62)에 대해 이동 불가능하다. 제3 승강부(69c)는, 전후 방향(X)으로 연장된다. 제3 승강부(69c)는, 제3 지주(69a, 69b)에 지지된다. 제3 승강부(69c)는, 제3 지주(69a, 69b)에 대해 이동 가능하다. 제3 승강부(69c)는, 상하 방향(Z)으로 이동 가능하다. 제3 승강부(69c)는, 수평 방향으로 이동 불가능하다. 제3 수평 이동부(69d)는, 제3 승강부(69c)에 지지된다. 제3 수평 이동부(69d)는, 제3 승강부(69c)에 대해 이동 가능하다. 제3 수평 이동부(69d)는, 수평 방향(구체적으로는, 전후 방향(X))으로 이동 가능하다. 제3 회전부(69e)는, 제3 수평 이동부(69d)에 지지된다. 이 때문에, 제3 회전부(69e)는, 수평 방향(구체적으로는, 전후 방향(X))으로 이동 가능하다. 제3 회전부(69e)는, 제3 수평 이동부(69d)에 대해, 회전 가능하다. 제3 회전부(69e)의 회전 축선은, 상하 방향(Z)으로 평행하다. 제3 회전부(69e)의 회전 축선은, 전후 방향(X)으로 이동 가능하다. 제3 유지부(69f, 69g)는, 제3 회전부(69e)에 지지된다. 제3 유지부(69f, 69g)는, 제3 회전부(69e)에 대해, 수평 방향으로 진퇴 이동 가능하다. 제3 유지부(69f, 69g)는, 서로 독립적으로, 진퇴 이동 가능하다. 제3 유지부(69f, 69g)는 각각, 기판(W)과 접촉한다. 제3 유지부(69f, 69g)는 각각, 1장의 기판(W)을 수평 자세로 유지한다.
<제1 재치부(21)와 제3 재치부(51)>
제1 재치부(21)는, 인덱서부(11)와 제1 반송 기구(46) 사이에 배치된다. 제1 재치부(21)는, 인덱서부(11)와 제1 블록(31)에 걸쳐 배치된다. 제1 재치부(21)는, 인덱서부(11)의 반송 스페이스(13)와 제1 블록(31)의 반송 스페이스(45)에 걸쳐 배치된다. 제1 재치부(21)의 일부는, 인덱서부(11)의 반송 스페이스(13)에 배치된다. 제1 재치부(21)의 나머지 부분은, 제1 블록(31)의 반송 스페이스(45)에 배치된다.
제1 재치부(21)는, 인덱서용 반송 기구(14A)와 인덱서용 반송 기구(14B) 사이에 배치된다. 제1 재치부(21)는, 인덱서용 반송 기구(14A)의 후방 또한 좌방에 배치된다. 제1 재치부(21)는, 인덱서용 반송 기구(14B)의 후방 또한 우방에 배치된다. 제1 재치부(21)는, 인덱서용 반송 기구(14A, 14B)로부터 대략 등거리의 위치에 배치된다. 구체적으로는, 평면에서 볼 때, 인덱서용 반송 기구(14A)와 제1 재치부(21) 사이의 거리는, 인덱서용 반송 기구(14B)와 제1 재치부(21) 사이의 대략 거리와 동일하다.
제1 재치부(21)와 제1 반송 기구(46)는, 전후 방향(X)으로 늘어선다. 제1 재치부(21)는, 제1 반송 기구(46)의 전방에 배치된다. 제1 재치부(21)와 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)는, 전후 방향(X)으로 1열로 늘어선다. 도 9에 나타내는 바와 같이, 제1 재치부(21)는, 평면에서 볼 때, 가상 직선(L)과 겹치는 위치에 배치된다.
제3 재치부(51)는, 제2 반송 기구(48)와 제3 반송 기구(68) 사이에 배치된다. 제3 재치부(51)는, 제1 블록(31)과 제2 블록(61)에 걸쳐 배치된다. 제3 재치부(51)는, 제1 블록(31)의 반송 스페이스(45)와 제2 블록(61)의 반송 스페이스(67)에 걸쳐 배치된다. 제3 재치부(51)의 일부는, 제1 블록(31)의 반송 스페이스(45)에 배치된다. 제3 재치부(51)의 나머지 부분은, 제2 블록(61)의 반송 스페이스(67)에 배치된다.
제3 재치부(51)는, 제2 반송 기구(48)의 후방에 배치된다. 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)와 제3 재치부(51)는, 전후 방향(X)으로 일렬로 늘어선다. 도 9에 나타내는 바와 같이, 제3 재치부(51)는, 평면에서 볼 때, 가상 직선(L)과 겹치는 위치에 배치된다.
제3 재치부(51)는, 제3 반송 기구(68)의 전방에 배치된다. 제2 반송 기구(48)와 제3 재치부(51)와 제3 반송 기구(68)는, 전후 방향(X)으로 일렬로 늘어선다.
도 6을 참조한다. 제1 재치부(21)는, 복수의 플레이트(22a, 22b)를 갖는다. 각 플레이트(22a, 22b)는, 1장의 기판(W)을 수평 자세로 재치한다. 플레이트(22a, 22b)는, 상하 방향(Z)으로 늘어서도록 배치된다. 플레이트(22b)는, 플레이트(22a)의 하방에 배치된다. 플레이트(22b)는, 평면에서 볼 때, 플레이트(22a)와 겹친다.
제3 재치부(51)는, 복수의 플레이트(52a, 52b)를 갖는다. 각 플레이트(52a, 52b)는, 1장의 기판(W)을 수평 자세로 재치한다. 플레이트(52a, 52b)는, 상하 방향(Z)으로 늘어서도록 배치된다. 플레이트(52b)는, 플레이트(52a)의 하방에 배치된다. 플레이트(52b)는, 평면에서 볼 때, 플레이트(52a)와 겹친다.
<반송 기구>
도 4를 참조한다. 제1, 제2, 제3 반송 기구(46, 48, 68)가 액세스 가능한 재치부 및 처리부를 이하에 정리한다. 또한, 각 제1, 제2, 제3 반송 기구(46, 48, 68)가 액세스 불가능한 재치부 및 처리부를 이하에 정리한다.
제1 반송 기구(46)는, 제1 재치부(21)에 액세스 가능하다. 제1 반송 기구(46)는, 제1 재치부(21)의 플레이트(22a, 22b)에 액세스 가능하다. 제1 반송 기구(46)는, 각 제1 처리 유닛(35)에 액세스 가능하다. 제1 반송 기구(46)는, 각 제1 처리 유닛(35)의 회전 유지부(36a)에 액세스 가능하다. 제1 반송 기구(46)는, 제2 재치부(41)에 액세스 가능하다. 제1 반송 기구(46)는, 제2 재치부(41)의 플레이트(42a, 42b)에 액세스 가능하다.
제2 반송 기구(48)는, 제2 재치부(41)에 액세스 가능하다. 제2 반송 기구(48)는, 제2 재치부(41)의 플레이트(42a, 42b)에 액세스 가능하다. 제2 반송 기구(48)는, 각 제2 처리 유닛(38)에 액세스 가능하다. 제2 반송 기구(48)는, 각 제2 처리 유닛(38)의 제1 플레이트(39a)에 액세스 가능하다. 제2 반송 기구(48)는, 제3 재치부(51)에 액세스 가능하다. 제2 반송 기구(48)는, 제3 재치부(51)의 플레이트(52a, 52b)에 액세스 가능하다.
제3 반송 기구(68)는, 제3 재치부(51)에 액세스 가능하다. 제3 반송 기구(68)는, 제3 재치부(51)의 플레이트(52a, 52b)에 액세스 가능하다. 제3 반송 기구(68)는, 각 제3 처리 유닛(65)에 액세스 가능하다. 제3 반송 기구(68)는, 각 제3 처리 유닛(65)의 회전 유지부(66a)에 액세스 가능하다.
도 4는, 제1 반송 기구(46)가 기판(W)을 반송 가능한 제1 영역(B1)을 일점쇄선으로 나타낸다. 제1 반송 기구(46)는, 제1 영역(B1)의 밖으로 기판(W)을 반송할 수 없다. 기판(W)은, 제1 반송 기구(46)에 의해, 제1 영역(B1) 내를 이동한다. 제1 영역(B1)은, 평면에서 볼 때, 대략 원형이다. 제1 영역(B1)의 중심은, 평면에서 볼 때, 제1 축선(A1)과 대략 일치한다. 제1 재치부(21)와 제1 처리부(34)와 제2 재치부(41)는, 제1 영역(B1) 내에 배치된다. 제2 처리부(37)의 제1 플레이트(39a)의 적어도 일부는, 제1 영역(B1)의 밖에 배치된다. 이와 같이, 제2 처리부(37)는, 실질적으로, 제1 반송 기구(46)의 제1 영역(B1)의 밖에 배치된다. 즉, 제1 반송 기구(46)는, 제2 처리부(37)에 액세스 불가능하다. 마찬가지로, 제3 처리부(64)는, 평면에서 볼 때, 제1 영역(B1)의 밖에 배치된다. 즉, 제1 반송 기구(46)는, 제3 처리부(64)에 액세스 불가능하다. 제3 재치부(51)는, 평면에서 볼 때, 제1 영역(B1)의 밖에 배치된다. 즉, 제1 반송 기구(46)는, 제3 재치부(51)에 액세스 불가능하다.
도 4는, 제2 반송 기구(48)가 기판(W)을 반송 가능한 제2 영역(B2)을 일점쇄선으로 나타낸다. 제2 영역(B2)은, 평면에서 볼 때, 대략 원형이다. 제2 영역(B2)의 중심은, 평면에서 볼 때, 제2 축선(A2)과 대략 일치한다. 제2 재치부(41)와 제2 처리부(37)와 제3 재치부(51)는, 제2 영역(B2) 내에 배치된다. 제1 처리부(34)의 회전 유지부(36a)는, 제2 반송 기구(48)의 제2 영역(B2)의 밖에 배치된다. 즉, 제2 반송 기구(48)는, 제1 처리부(34)에 액세스 불가능하다. 마찬가지로, 제3 처리부(64)는, 평면에서 볼 때, 제2 영역(B2)의 밖에 배치된다. 즉, 제2 반송 기구(48)는, 제3 처리부(64)에 액세스 불가능하다. 제1 재치부(21)는, 평면에서 볼 때, 제2 영역(B2)의 밖에 배치된다. 즉, 제2 반송 기구(48)는, 제1 재치부(21)에 액세스 불가능하다.
도 4는, 제3 반송 기구(68)가 기판(W)을 반송 가능한 제3 영역(B3)을 일점쇄선으로 나타낸다. 제3 영역(B3)은, 평면에서 볼 때, 전후 방향(X)으로 길다. 평면에서 볼 때, 전후 방향(X)에 있어서의 제3 영역(B3)의 길이는, 폭방향(Y)에 있어서의 제3 영역(B3)의 길이보다 크다. 제3 재치부(51)와 제3 처리부(64)는, 제3 영역(B3) 내에 배치된다. 제1 처리부(34) 및 제2 처리부(37)는, 제3 반송 기구(68)의 제3 영역(B3)의 밖에 배치된다. 즉, 제3 반송 기구(68)는, 제1 처리부(34) 및 제2 처리부(37)에 액세스 불가능하다. 마찬가지로, 제1 재치부(21) 및 제2 재치부(41)는, 제3 영역(B3)의 밖에 배치된다. 즉, 제3 반송 기구(68)는, 제1 재치부(21) 및 제2 재치부(41)에 액세스 불가능하다.
<제1 실시 형태의 다른 효과>
제1 실시 형태의 주요 효과는, 상술한 바와 같다. 이하, 제1 실시 형태의 그 밖의 효과를 설명한다.
제1 처리부(34)는, 제2 영역(B2)의 밖에 배치된다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46)는, 제2 반송 기구(48)와 간섭하는 일 없이, 제1 처리부(34)에 액세스할 수 있다.
제1 처리부(34)는, 제3 영역(B3)의 밖에 배치된다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46)는, 제3 반송 기구(68)으로 간섭하는 일 없이, 제1 처리부(34)에 액세스할 수 있다.
제2 처리부(37)는, 제1 영역(B1)의 밖에 배치된다. 따라서, 제2 반송 기구(48)는, 제1 반송 기구(46)와 간섭하는 일 없이, 제2 처리부(37)에 액세스할 수 있다.
제2 처리부(37)는, 제3 영역(B3)의 밖에 배치된다. 따라서, 제2 반송 기구(48)는, 제3 반송 기구(68)으로 간섭하는 일 없이, 제2 처리부(37)에 액세스할 수 있다.
제3 처리부(64)는, 제1 영역(B1)의 밖에 배치된다. 따라서, 제3 반송 기구(68)는, 제1 반송 기구(46)와 간섭하는 일 없이, 제3 처리부(64)에 액세스할 수 있다.
제3 처리부(64)는, 제2 영역(B2)의 밖에 배치된다. 따라서, 제3 반송 기구(68)는, 제2 반송 기구(48)와 간섭하는 일 없이, 제3 처리부(64)에 액세스할 수 있다.
제1 재치부(21)는, 제2 영역(B2) 및 제3 영역(B3)의 밖에 배치된다. 따라서, 제1 반송 기구(46)는, 제2 반송 기구(48) 및 제3 반송 기구(68)와 간섭하는 일 없이, 제1 재치부(21)에 액세스할 수 있다.
제2 재치부(41)는, 제3 영역(B3)의 밖에 배치된다. 따라서, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)는, 제3 반송 기구(68)와 간섭하는 일 없이, 제2 재치부(41)에 액세스할 수 있다.
제3 재치부(51)는, 제1 영역(B1)의 밖에 배치된다. 따라서, 제2 반송 기구(48)와 제3 반송 기구(68)는, 제1 반송 기구(46)와 간섭하는 일 없이, 제3 재치부(51)에 액세스할 수 있다.
제1 영역(B1)은, 평면에서 볼 때, 대략 원형이다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46)는 제1 액세스 동작과 제2 액세스 동작과 제3 액세스 동작을 효율 좋게 행할 수 있다. 따라서, 제1 반송 기구(46)는, 제1 사이클 동작을 효율 좋게 행할 수 있다. 즉, 제1 반송 기구(46)의 반송 효율은 한층 높다.
제2 반송 기구(48)의 제2 영역(B2)은, 평면에서 볼 때, 대략 원형이다. 이 때문에, 제2 반송 기구(48)는 제4 액세스 동작과 제5 액세스 동작과 제6 액세스 동작을 효율 좋게 행할 수 있다. 따라서, 제2 반송 기구(48)는, 제2 사이클 동작을 효율 좋게 행할 수 있다. 즉, 제2 반송 기구(48)의 반송 효율은 한층 높다.
제1 반송 기구(46)는, 인덱서부(11)와 제2 반송 기구(48) 사이에 배치된다. 이 때문에, 인덱서부(11)와 제1 반송 기구(46) 사이에서 기판(W)을 적합하게 반송할 수 있고, 또한, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48) 사이에서 기판(W)을 적합하게 반송할 수 있다. 구체적으로는, 제1 반송 기구(46)는 인덱서부(11)의 후방에 배치된다. 이 때문에, 인덱서부(11)와 제1 반송 기구(46) 사이에서 기판(W)을 적합하게 반송할 수 있다. 제2 반송 기구(48)는, 제1 반송 기구(46)의 후방에 배치된다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48) 사이에서 기판(W)을 적합하게 반송할 수 있다.
제2 반송 기구(48)는, 제1 반송 기구(46)와 제3 반송 기구(68) 사이에 배치된다. 구체적으로는, 제3 반송 기구(68)는, 제2 반송 기구(48)의 후방에 배치된다. 이 때문에, 제2 반송 기구(48)와 제3 반송 기구(68) 사이에서 기판(W)을 적합하게 반송할 수 있다.
제1 재치부(21)는, 인덱서부(11)와 제1 반송 기구(46) 사이에 배치된다. 이 때문에, 인덱서부(11)와 제1 반송 기구(46)는, 제1 재치부(21)에 용이하게 액세스할 수 있다. 제2 재치부(41)는, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48) 사이에 배치된다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)는, 제2 재치부(41)에 용이하게 액세스할 수 있다. 제3 재치부(51)는, 제2 반송 기구(48)와 제3 반송 기구(68) 사이에 배치된다. 이 때문에, 제2 반송 기구(48)와 제3 반송 기구(68)는, 제3 재치부(51)에 용이하게 액세스할 수 있다.
제1 처리부(34)는, 제1 반송 기구(46)의 측방에 배치된다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46)는, 제1 처리부(34)에 용이하게 액세스할 수 있다. 제2 처리부(37)는, 제2 반송 기구(48)의 측방에 배치된다. 이 때문에, 제2 반송 기구(48)는, 제2 처리부(37)에 용이하게 액세스할 수 있다. 제3 처리부(64)는, 제3 반송 기구(68)의 측방에 배치된다. 이 때문에, 제3 반송 기구(68)는, 제3 처리부(64)에 용이하게 액세스할 수 있다.
제1 반송 기구(46)는, 제1 우처리부(34R)와 제1 좌처리부(34L) 사이에 배치된다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46)는, 제1 우처리부(34R)와 제1 좌처리부(34L)에 용이하게 액세스할 수 있다. 제2 반송 기구(48)는, 제2 우처리부(37R)와 제2 좌처리부(37L) 사이에 배치된다. 이 때문에, 제2 반송 기구(48)는, 제2 우처리부(37R)와 제2 좌처리부(37L)에 용이하게 액세스할 수 있다. 제3 반송 기구(68)는, 제3 우처리부(64R)와 제3 좌처리부(64L) 사이에 배치된다. 이 때문에, 제3 반송 기구(68)는, 제3 우처리부(64R)와 제3 좌처리부(64L)에 용이하게 액세스할 수 있다.
제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)와 제2 재치부(41)는, 평면에서 볼 때, 삼각 배치된다. 이에 따르면, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)의 간격 거리를 작게 할 수 있다. 따라서, 기판 처리 장치(1)의 설치 면적(풋 프린트)을 작게 할 수 있다.
제2 재치부(41)는, 제1 반송 기구(46)의 측방 또한 후방의 위치에 배치된다. 제2 재치부(41)는, 제2 반송 기구(48)의 측방 또한 전방의 위치에 배치된다. 이에 따르면, 전후 방향(X)에 있어서의 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)의 간격 거리를 작게 할 수 있다. 따라서, 기판 처리 장치(1)의 설치 면적(풋 프린트)을 작게 할 수 있다.
제1 회전부(47d)는, 수평 방향으로 이동 불가능하게 설치된다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46)는 제1 액세스 동작과 제2 액세스 동작과 제3 액세스 동작을 효율 좋게 행할 수 있다. 따라서, 제1 반송 기구(46)는, 제1 사이클 동작을 효율 좋게 행할 수 있다.
각 제1 처리 유닛(35)은, 측면에서 볼 때, 제1 반송 기구(46)의 제1 축선(A1)과 겹치는 위치에 배치된다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46)는, 제1 처리부(34)에 용이하게 액세스할 수 있다.
제2 회전부(49d)는, 수평 방향으로 이동 불가능하게 설치된다. 이 때문에, 제2 반송 기구(48)는 제4 액세스 동작과 제5 액세스 동작과 제6 액세스 동작을 효율 좋게 행할 수 있다. 따라서, 제2 반송 기구(48)는, 제2 사이클 동작을 효율 좋게 행할 수 있다.
각 제2 처리 유닛(38)은, 측면에서 볼 때, 제2 반송 기구(48)의 제2 축선(A2)과 겹치는 위치에 배치된다. 이 때문에, 제2 반송 기구(48)는, 제2 처리부(37)에 용이하게 액세스할 수 있다.
제2 처리 유닛(38)은 열처리 유닛이다. 열처리 유닛은, 상하 방향(Z)으로 늘어서도록 배치된다. 이 때문에, 제2 반송 기구(48)는, 각 열처리 유닛에 용이하게 액세스할 수 있다.
제2 우처리부(37R)에 속하는 5개의 제2 처리 유닛(38)은, 제2 반송 기구(48)의 우방의 위치에 있어서, 상하 방향(Z)으로 1열로 늘어서도록 배치된다. 따라서, 제2 반송 기구(48)는, 제2 반송 기구(48)의 우방에 배치되는 각 제2 처리 유닛(38)에 용이하게 액세스할 수 있다. 여기서, 제2 처리 유닛(38)은 열처리 유닛이다. 따라서, 제2 반송 기구(48)는, 제2 반송 기구(48)의 우방에 배치되는 각 열처리 유닛에 용이하게 액세스할 수 있다.
제2 좌처리부(37L)에 속하는 4개의 제2 처리 유닛(38)은, 제2 반송 기구(48)의 좌방의 위치에 있어서, 상하 방향(Z)으로 1열로 늘어서도록 배치된다. 따라서, 제2 반송 기구(48)는, 제2 반송 기구(48)의 좌방에 배치되는 각 열처리 유닛에 용이하게 액세스할 수 있다.
평면에서 볼 때, 제1 축선(A1)과 제2 축선(A2) 사이의 거리(D1)는, 기판(W)의 반경(r)의 5배 이하이다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)의 간격 거리를 작게 할 수 있다. 따라서, 기판 처리 장치(1)의 설치 면적을 작게 할 수 있다.
제2 재치부(41)는, 평면에서 볼 때, 제1 축선(A1)과 제2 축선(A2)을 잇는 가상 직선(L)과 겹치지 않는 위치에 배치된다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)의 간격 거리를 적합하게 작게 할 수 있다.
평면에서 볼 때, 제1 축선(A1)과 제2 재치부(41) 사이의 거리는, 제2 축선(A2)과 제2 재치부(41) 사이의 거리와 대략 동일하다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46) 및 제2 반송 기구(48)는 각각, 제2 재치부(41)에 용이하게 액세스할 수 있다.
제2 재치부(41)는, 평면에서 볼 때, 제1 처리부(34)와 겹치는 제1 부분(41a)과, 평면에서 볼 때, 제2 처리부(37)와 겹치는 제2 부분(41b)을 갖는다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)의 간격 거리를 작게 할 수 있다. 그 결과, 기판 처리 장치(1)의 풋 프린트를 저감할 수 있다. 또한, 제1 반송 기구(46) 및 제2 반송 기구(48)는 각각, 제2 재치부(41)에 용이하게 액세스할 수 있다.
제2 재치부(41)는, 평면에서 볼 때, 제1 처리부(34) 및 제2 처리부(37)와 겹치지 않는 제3 부분(41c)을 갖는다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46) 및 제2 반송 기구(48)는 각각, 제2 재치부(41)에 한층 용이하게 액세스할 수 있다.
제2 재치부(41)의 제3 부분(41c)은, 평면에서 볼 때, 제1 반송 기구(46) 및 제2 반송 기구(48)가 설치되는 반송 스페이스(45)와 겹친다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46) 및 제2 반송 기구(48)는 각각, 제2 재치부(41)에 한층 용이하게 액세스할 수 있다.
기판 처리 장치(1)는, 슬롯(43a-43c, 43f-43h)을 구비하고 있으므로, 제1 처리부(34)(구체적으로는 제1 처리 유닛(35))를 적합하게 설치할 수 있다.
기판 처리 장치(1)는, 슬롯(44a-44h, 44j)을 구비하고 있으므로, 제2 처리부(37)(구체적으로는 제2 처리 유닛(38))를 적합하게 설치할 수 있다.
기판 처리 장치(1)는, 슬롯(43i)과 슬롯(44i)을 구비하고 있으므로, 제2 재치부(41)를 적합하게 설치할 수 있다.
슬롯(43f-43j)은, 제1 반송 기구(46)의 측방에 배치된다. 슬롯(43f-43j)은, 상하 방향(Z)으로 1열로 늘어선다. 제1 처리부(34)(제1 좌처리부(34L))는, 슬롯(43f-43h)에 설치된다. 제2 재치부(41)는 슬롯(43i)에 설치된다. 슬롯(44f-44j)은, 제2 반송 기구(48)의 측방에 배치된다. 슬롯(44f-44j)은, 상하 방향(Z)으로 1열로 늘어선다. 제2 처리부(37)(제2 좌처리부(37L))는, 슬롯(44f-44h, 44j)에 설치된다. 제2 재치부(41)는 슬롯(44i)에도 설치된다. 슬롯(44i)은, 슬롯(43i)과 동일한 높이 위치에 배치된다. 제2 재치부(41)는, 슬롯(43i)과 슬롯(44i)에 걸쳐, 설치된다. 이와 같이, 슬롯(43a-43j)의 일부와 슬롯(44a-44j)의 일부를 활용하여, 제2 재치부(41)를 적합하게 설치할 수 있다.
슬롯(43f-43j)은, 상하 방향(Z)으로 늘어선다. 슬롯(43i)은, 슬롯(43f-43j) 중에서 가장 높은 위치에 배치되는 것이 아니며, 또한, 가장 낮은 위치에 배치되는 것은 아니다. 환언하면, 슬롯(43i)은, 슬롯(43f-43j) 중에서 가장 높은 위치, 및, 가장 낮은 위치 이외의 위치에 배치된다. 슬롯(44f-44j)은, 상하 방향(Z)으로 늘어선다. 슬롯(44i)은, 슬롯(44f-44j) 중에서 가장 높은 위치에 배치되는 것이 아니며, 또한, 가장 낮은 위치에 배치되는 것은 아니다. 환언하면, 슬롯(44i)은, 슬롯(44f-44j) 중에서 가장 높은 위치, 및, 가장 낮은 위치 이외의 위치에 배치된다. 따라서, 제1 반송 기구(46)는, 제2 재치부(41)에 한층 용이하게 액세스할 수 있다. 구체적으로는, 제2 재치부(41)에 액세스할 때의 제1 반송 기구(46)의 승강량을 작게 할 수 있다. 마찬가지로, 제2 반송 기구(48)는, 제2 재치부(41)에 한층 용이하게 액세스할 수 있다.
제1 처리부(34)는, 에지 노광 처리부이다. 제2 처리부(37)는, 열처리부이다. 제3 처리부(64)는, 액처리부이다. 따라서, 인덱서부(11)에 비교적 가까운 위치에, 에지 노광 처리부와 열처리부를 설치할 수 있다. 인덱서부(11)로부터 비교적 먼 위치에, 액처리부를 설치할 수 있다.
기판 처리 장치(1)는, 제2 처리부(37)로부터 제3 처리부(64)를 떼어놓는 공간(E, F)를 구비한다. 이 때문에, 제3 처리부(64)가 제2 처리부(37)로부터 받는 열적인 영향을 효과적으로 저감할 수 있다.
기판 처리 장치(1)는, 공간(F)을 구비한다. 이 때문에, 기판 처리 장치(1)를 적합하게 메인터넌스할 수 있다.
전후 방향(X)에 있어서의 제3 우처리부(64R)의 길이(G1)는, 전후 방향(X)에 있어서의 제3 좌처리부(64L)의 길이(G2)보다 작다. 공간(F)과 제3 우처리부(64R)는, 전후 방향(X)으로 늘어선다. 따라서, 공간(F)을 용이하게 확보할 수 있다.
제1 블록(31)은, 제1 처리부(34) 및 제2 처리부(37)를 수용한다. 제2 블록(61)은 제3 처리부(64)를 수용한다. 즉, 열처리부(제2 처리부(37))와 액처리부(제3 처리부(64))는, 동일한 블록에 수용되지 않는다. 따라서, 열처리부(제2 처리부(37))와 액처리부(제3 처리부(64))를 각각 적합하게 배치할 수 있다.
기판 처리 장치(1)는, 제1 프레임(32)을 구비한다. 이 때문에, 제1 프레임(32)에 의해, 제1 블록(31)을 적합하게 구성할 수 있다.
기판 처리 장치(1)는, 제2 프레임(62)을 구비한다. 이 때문에, 제2 프레임(62)에 의해, 제2 블록(61)을 적합하게 구성할 수 있다.
[제2 실시 형태]
도면을 참조하여, 제2 실시 형태의 기판 처리 장치(1)를 설명한다. 또한, 제1 실시 형태와 동일한 구성에 대해서는 동일 부호를 붙여 상세한 설명을 생략한다.
<기판 처리 장치의 개요>
도 11a, 11B는 각각, 제2 실시 형태의 기판 처리 장치(1)의 평면도이다. 제2 실시 형태의 기판 처리 장치(1)는, 계층 구조를 갖는다. 기판 처리 장치(1)는, 상계층(90T)과 하계층(90B)을 구비한다. 하계층(90B)은 상계층(90T)의 하방에 배치된다. 하계층(90B)은, 평면에서 볼 때 상계층(90T)과 겹친다.
상계층(90T) 및 하계층(90B)은 각각, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)와 제3 반송 기구(68)와 제1 처리부(34)와 제2 처리부(37)와 제3 처리부(64)와 제1 재치부(21)와 제2 재치부(41)와 제3 재치부(51)를 구비한다. 상계층(90T)과 하계층(90B)은 각각, 기판(W)의 반송, 및, 기판(W)에 대한 처리를 병행하여 실행한다.
<인덱서부(11)>
도 11a, 11B, 12, 13, 14를 참조한다. 도 12는, 기판 처리 장치(1)의 좌부의 구성을 나타내는 좌측면도이다. 도 13은, 폭방향(Y)에 있어서의 기판 처리 장치(1)의 중앙부의 구성을 나타내는 좌측면도이다. 도 14는, 기판 처리 장치(1)의 우부의 구성을 나타내는 우측면도이다. 인덱서부(11)는, 캐리어 재치부(12A, 12B)에 더하여, 캐리어 재치부(12C, 12D)를 구비한다. 캐리어 재치부(12C)는, 캐리어 재치부(12A)의 상방에 배치된다. 캐리어 재치부(12D)는, 캐리어 재치부(12B)의 상방에 배치된다. 캐리어 재치부(12C, 12D)는 각각, 1개의 캐리어(C)를 재치한다.
캐리어 재치부(12C) 상의 캐리어(C)를, 적당히 「캐리어(CC)」라고 기재한다. 캐리어 재치부(12D) 상의 캐리어(C)를, 적당히 「캐리어(CD)」라고 기재한다.
인덱서용 반송 기구(14A)는, 캐리어 재치부(12A, 12C)에 재치되는 캐리어(CA, CC)에 액세스한다. 인덱서용 반송 기구(14B)는, 캐리어 재치부(12B, 12D)에 재치되는 캐리어(CB, CD)에 액세스한다.
도 11a에 나타나는 인덱서용 반송 기구(14A)는, 도 11b에 나타나는 인덱서용 반송 기구(14A)와 동일물이다. 도 11a에 나타나는 인덱서용 반송 기구(14B)는, 도 11b에 나타나는 인덱서용 반송 기구(14B)와 동일물이다.
<제1 블록(31)>
도 11a, 11B, 12, 13, 14, 15를 참조한다. 도 15는, 제1 블록(31)의 구성(구체적으로는, 제2 처리부(37)와 제2 반송 기구(48))을 나타내는 정면도이다. 기판 처리 장치(1)는, 2기(其)의 제1 반송 기구(46)를 구비한다. 2기의 제1 반송 기구(46)는, 상하 방향(Z)으로 늘어서도록 배치된다. 상방의 제1 반송 기구(46)를, 「제1 상반송 기구(46T)」라고 기재하고, 하방의 제1 반송 기구(46)를, 「제1 하반송 기구(46B)」라고 기재한다.
기판 처리 장치(1)는, 2기의 제2 반송 기구(48)를 구비한다. 2기의 제2 반송 기구(48)는, 상하 방향(Z)으로 늘어서도록 배치된다. 상방의 제2 반송 기구(48)를, 「제2 상반송 기구(48T)」라고 기재하고, 하방의 제2 반송 기구(48)를, 「제2 하반송 기구(48B)」라고 기재한다.
도 13, 15를 참조한다. 기판 처리 장치(1)는, 격벽(91)을 구비한다. 격벽(91)은, 제1 블록(31)의 반송 스페이스(45)에 설치된다. 격벽(91)은, 수평한 판 형상을 갖는다. 격벽(91)은, 반송 스페이스(45)를, 상반송 스페이스(45T)와 하반송 스페이스(45B)로 분리한다. 상반송 스페이스(45T)는, 하반송 스페이스(45B)의 상방에 배치된다. 제1 상반송 기구(46T)와 제2 상반송 기구(48T)는, 상반송 스페이스(45T)에 배치된다. 제1 하반송 기구(46B)와 제2 하반송 기구(48B)는, 하반송 스페이스(45B)에 배치된다.
도 11a, 11B를 참조한다. 제1 처리부(34)는, 제1 상반송 기구(46T)의 측방 및 제1 하반송 기구(46B)의 측방에 배치된다. 제1 상반송 기구(46T)의 측방에 배치되는 제1 처리부(34)를, 「제1 상처리부(34T)」라고 부른다. 제1 하반송 기구(46B)의 측방에 배치되는 제1 처리부(34)를, 「제1 하처리부(34B)」라고 부른다.
제2 처리부(37)는, 제2 상반송 기구(48T)의 측방 및 제2 하반송 기구(48B)의 측방에 배치된다. 제2 상반송 기구(48T)의 측방에 배치되는 제2 처리부(37)를, 「제2 상처리부(37T)」라고 부른다. 제2 하반송 기구(48B)의 측방에 배치되는 제2 처리부(37)를, 「제2 하처리부(37B)」라고 부른다.
제2 재치부(41)는, 제1 상반송 기구(46T)와 제2 상반송 기구(48T) 사이, 및, 제1 하반송 기구(46B)와 제2 하반송 기구(48B) 사이에 배치된다. 제1 상반송 기구(46T)와 제2 상반송 기구(48T) 사이에 배치되는 제2 재치부(41)를, 「제2 상재치부(41T)」라고 부른다. 제1 하반송 기구(46B)와 제2 하반송 기구(48B) 사이에 배치되는 제2 재치부(41)를, 「제2 하재치부(41B)」라고 부른다.
도 12, 14를 참조한다. 제1 상처리부(34T)는, 격벽(91)의 상방에 배치된다. 제1 상반송 기구(46T)는, 제1 상처리부(34T)에 액세스한다. 제1 하처리부(34B)는, 격벽(91)의 하방에 배치된다. 제1 하반송 기구(46B)는, 제1 하처리부(34B)에 액세스한다.
도 12, 14, 15를 참조한다. 제2 상처리부(37T)는, 격벽(91)의 상방에 배치된다. 제2 상반송 기구(48T)는, 제2 상처리부(37T)에 액세스한다. 제2 하처리부(37B)는, 격벽(91)의 하방에 배치된다. 제2 하반송 기구(48B)는, 제2 하처리부(37B)에 액세스한다.
도 15를 참조한다. 제2 상재치부(41T)는, 격벽(91)의 상방에 배치된다. 제1 상반송 기구(46T)와 제2 상반송 기구(48T)는, 제2 상재치부(41T)에 액세스한다. 제2 상재치부(41T)는, 제1 상반송 기구(46T)와 제2 상반송 기구(48T) 사이에서 반송되는 기판(W)을 재치한다. 제2 하재치부(41B)는, 격벽(91)의 하방에 배치된다. 제1 하반송 기구(46B)와 제2 하반송 기구(48B)는, 제2 하재치부(41B)에 액세스한다. 제2 하재치부(41B)는, 제1 하반송 기구(46B)와 제2 하반송 기구(48B) 사이에서 반송되는 기판(W)을 재치한다.
<제2 블록(61)>
도 11a, 11B, 12, 13, 14, 16을 참조한다. 도 16은, 제2 블록(61)의 구성을 나타내는 배면도이다. 기판 처리 장치(1)는, 2기의 제3 반송 기구(68)를 구비한다. 2기의 제3 반송 기구(68)는, 상하 방향(Z)으로 늘어서도록 배치된다. 상방의 제3 반송 기구(68)를, 「제3 상반송 기구(68T)」라고 기재하고, 하방의 제3 반송 기구(68)를, 「제3 하반송 기구(68B)」라고 기재한다.
도 13, 16을 참조한다. 기판 처리 장치(1)는, 격벽(92)을 구비한다. 격벽(92)은, 반송 스페이스(67)에 설치된다. 격벽(92)은, 수평한 판 형상을 갖는다. 격벽(92)은, 반송 스페이스(67)를, 상반송 스페이스(67T)와 하반송 스페이스(67B)로 분리한다. 상반송 스페이스(67T)는, 하반송 스페이스(67B)의 상방에 배치된다. 제3 상반송 기구(68T)는, 상반송 스페이스(67T)에 배치된다. 제3 하반송 기구(68B)는, 하반송 스페이스(67B)에 배치된다.
도 11a, 11B를 참조한다. 제3 처리부(64)는, 제3 상반송 기구(68T)의 측방 및 제3 하반송 기구(68B)의 측방에 배치된다. 제3 상반송 기구(68T)의 측방에 배치되는 제3 처리부(64)를, 「제3 상처리부(64T)」라고 부른다. 제3 하반송 기구(68B)의 측방에 배치되는 제3 처리부(64)를, 「제3 하처리부(64B)」라고 부른다.
도 12, 14, 16을 참조한다. 제3 상처리부(64T)는, 격벽(92)의 상방에 배치된다. 제3 상반송 기구(68T)는, 제3 상처리부(64T)에 액세스한다. 제3 하처리부(64B)는, 격벽(92)의 하방에 배치된다. 제3 하반송 기구(68B)는, 제3 하처리부(64B)에 액세스한다.
<제1 재치부(21)>
도 11a, 11B를 참조한다. 제1 재치부(21)는, 인덱서부(11)와 제1 상반송 기구(46T) 사이, 및, 인덱서부(11)와 제1 하반송 기구(46B) 사이에 배치된다. 인덱서부(11)와 제1 상반송 기구(46T) 사이에 배치되는 제1 재치부(21)를, 「제1 상재치부(21T)」라고 부른다. 인덱서부(11)와 제1 하반송 기구(46B) 사이에 배치되는 제1 재치부(21)를, 「제1 하재치부(21B)」라고 부른다.
제1 상재치부(21T)는, 인덱서부(11)의 반송 스페이스(13)와 제1 블록(31)의 상반송 스페이스(45T)에 걸쳐 배치된다. 제1 하재치부(21B)는, 인덱서부(11)의 반송 스페이스(13)와 제1 블록(31)의 하반송 스페이스(45B)에 걸쳐 배치된다. 인덱서용 반송 기구(14A)는, 제1 상재치부(21T) 및 제1 하재치부(21B)에 액세스한다. 인덱서용 반송 기구(14B)는, 제1 상재치부(21T) 및 제1 하재치부(21B)에 액세스한다. 제1 상반송 기구(46T)는, 제1 상재치부(21T)에 액세스한다. 제1 하반송 기구(46B)는, 제1 하재치부(21B)에 액세스한다. 제1 상재치부(21T)는, 인덱서부(11)(즉, 인덱서용 반송 기구(14A, 14B))와 제1 상반송 기구(46T) 사이에서 반송되는 기판(W)을 재치한다. 제1 하재치부(21B)는, 인덱서부(11)(즉, 인덱서용 반송 기구(14A, 14B))와 제1 하반송 기구(46B) 사이에서 반송되는 기판(W)을 재치한다.
<제3 재치부(51)>
제3 재치부(51)는, 제2 상반송 기구(48T)와 제3 상반송 기구(68T) 사이, 및, 제2 하반송 기구(48B)와 제3 하반송 기구(68B) 사이에 배치된다. 제2 상반송 기구(48T)와 제3 상반송 기구(68T) 사이에 배치되는 제3 재치부(51)를, 「제3 상재치부(51T)」라고 부른다. 제2 하반송 기구(48B)와 제3 하반송 기구(68B) 사이에 배치되는 제3 재치부(51)를, 「제3 하재치부(51B)」라고 부른다. 제3 상재치부(51T)는, 제1 블록(31)의 상반송 스페이스(45T)와 제2 블록(61)의 상반송 스페이스(67T)에 걸쳐 배치된다. 제3 하재치부(51B)는, 제1 블록(31)의 하반송 스페이스(45B)와 제2 블록(61)의 하반송 스페이스(67B)에 걸쳐 배치된다. 제2 상반송 기구(48T)와 제3 상반송 기구(68T)는, 제3 상재치부(51T)에 액세스한다. 제2 하반송 기구(48B)와 제3 하반송 기구(68B)는, 제3 하재치부(51B)에 액세스한다. 제3 상재치부(51T)는, 제2 상반송 기구(48T)와 제3 상반송 기구(68T) 사이에서 반송되는 기판(W)을 재치한다. 제3 하재치부(51B)는, 제2 하반송 기구(48B)와 제3 하반송 기구(68B) 사이에서 반송되는 기판(W)을 재치한다.
상계층(90T)은, 제1 상반송 기구(46T)와 제2 상반송 기구(48T)와 제3 상반송 기구(68T)와 제1 상재치부(21T)와 제2 상재치부(41T)와 제3 상재치부(51T)와 제1 상처리부(34T)와 제2 상처리부(37T)와 제3 상처리부(64T)를 포함한다. 하계층(90B)은, 제1 하반송 기구(46B)와 제2 하반송 기구(48B)와 제3 하반송 기구(68B)와 제1 하재치부(21B)와 제2 하재치부(41B)와 제3 하재치부(51B)와 제1 하처리부(34T)와 제2 하처리부(37B)와 제3 하처리부(64B)를 포함한다.
<제어부(81)>
제어부(81)(예를 들면 도 1 참조)는, 인덱서부(11)와 제1 처리부(34)와 제1 반송 기구(46)와 제2 처리부(37)와 제2 반송 기구(48)와 제3 처리부(64)와 제3 반송 기구(68)를 제어한다.
<각 반송 기구의 사이클 동작>
도 17은, 반송 기구의 사이클 동작을 모식적으로 나타내는 도이다.
인덱서용 반송 기구(14A)는, 하기의 2개의 액세스 동작으로 이루어지는 사이클 동작을 반복한다.
·캐리어(CA, CC)에의 액세스 동작
·제1 재치부(21)(제1 상재치부(21T) 및 제1 하재치부(21B))에의 액세스 동작
인덱서용 반송 기구(14B)는, 하기의 2개의 액세스 동작으로 이루어지는 사이클 동작을 반복한다.
·캐리어(CB, CD)에의 액세스 동작
·제1 재치부(21)(제1 상재치부(21T) 및 제1 하재치부(21B))에의 액세스 동작
제1 상반송 기구(46T)는, 하기의 3개의 액세스 동작으로 이루어지는 제1 사이클 동작을 반복한다.
·제1 상재치부(21T)에 액세스하는 제1 액세스 동작
·제1 상처리부(34T)에 액세스하는 제2 액세스 동작
·제2 상재치부(41T)에 액세스하는 제3 액세스 동작
제1 하반송 기구(46B)는, 하기의 3개의 액세스 동작으로 이루어지는 제1 사이클 동작을 반복한다.
·제1 하재치부(21B)에 액세스하는 제1 액세스 동작
·제1 하처리부(34B)에 액세스하는 제2 액세스 동작
·제2 하재치부(41B)에 액세스하는 제3 액세스 동작
제2 상반송 기구(48T)는, 하기의 3개의 액세스 동작으로 이루어지는 제2 사이클 동작을 반복한다.
·제2 상재치부(41T)에 액세스하는 제4 액세스 동작
·제2 상처리부(37T)에 액세스하는 제5 액세스 동작
·제3 상재치부(51T)에 액세스하는 제6 액세스 동작
제2 하반송 기구(48B)는, 하기의 3개의 액세스 동작으로 이루어지는 제2 사이클 동작을 반복한다.
·제2 하재치부(41B)에 액세스하는 제4 액세스 동작
·제2 하처리부(37B)에 액세스하는 제5 액세스 동작
·제3 하재치부(51B)에 액세스하는 제6 액세스 동작
제3 상반송 기구(68T)는, 하기의 2개의 액세스 동작으로 이루어지는 제3 사이클 동작을 반복한다.
·제3 상재치부(51T)에 액세스하는 제7 액세스 동작
·제3 상처리부(64T)에 액세스하는 제8 액세스 동작
제3 하반송 기구(68B)는, 하기의 2개의 액세스 동작으로 이루어지는 제3 사이클 동작을 반복한다.
·제3 하재치부(51B)에 액세스하는 제7 액세스 동작
·제3 하처리부(64B)에 액세스하는 제8 액세스 동작
<동작예>
도 18은, 기판의 반송 경로를 모식적으로 나타내는 도이다. 기판 처리 장치(1)는, 예를 들면, 다음과 같이 동작한다.
<인덱서부(11)의 동작(1)>
인덱서부(11)는, 제1 상재치부(21T)와 제1 하재치부(21B)에 교대로 기판(W)을 반송한다.
구체적으로는, 인덱서용 반송 기구(14A)의 하나의 사이클 동작에서는, 인덱서용 반송 기구(14A)는, 캐리어(CA, CC) 중 어느 1개로부터 기판(W)을 반출하고, 기판(W)을 제1 상재치부(21T)에 재치한다. 인덱서용 반송 기구(14A)의 다음 사이클 동작에서는, 인덱서용 반송 기구(14A)는, 캐리어(CA, CC) 중 어느 1개로부터 기판(W)을 반출하고, 기판(W)을 제1 하재치부(21B)에 재치한다.
<제1 블록(31) 및 제2 블록(61)의 동작>
상계층(90T)에 있어서의 동작은, 하계층(90B)에 있어서의 동작과 유사하다. 이 때문에, 상계층(90T)에 있어서의 동작을 이하에 설명하고, 하계층(90B)에 있어서의 동작의 설명을 생략한다. 하계층(90B)에 있어서의 동작은, 이하의 설명에 있어서, 제1, 제2, 제3 상반송 기구(46T, 48T, 68T)를 각각, 제1, 제2, 제3 하반송 기구(46B, 48B, 68B)로 바꿔 읽고, 제1, 제2, 제3 상재치부(21T, 41T, 51T)를 각각, 제1, 제2, 제3 하재치부(21B, 41B, 51B)로 바꿔 읽고, 제1, 제2, 제3 상처리부(34T, 37T, 64T)를 각각, 제1, 제2, 제3 하처리부(34B, 37B, 64B)로 바꿔 읽은 것에 상당한다.
제1 상반송 기구(46T)는, 제1 상재치부(21T) 상의 기판(W)을 취한다(제1 액세스 동작). 제1 상반송 기구(46T)는, 기판(W)을 제1 상처리부(34T)에 반입한다(제2 액세스 동작). 제1 상처리부(34T)는, 기판(W)에 처리(에지 노광 처리)를 행한다. 제1 상반송 기구(46T)는, 제1 상처리부(34T)로부터 기판(W)을 반출한다(제2 액세스 동작). 제1 상반송 기구(46T)는, 기판(W)을 제2 상재치부(41T)에 재치한다(제3 액세스 동작).
제2 상반송 기구(48T)는, 제2 상재치부(41T) 상의 기판(W)을 취한다(제4 액세스 동작). 제2 상반송 기구(48T)는, 기판(W)을 제3 상재치부(51T)에 재치한다(제6 액세스 동작).
제3 상반송 기구(68T)는, 제3 상재치부(51T) 상의 기판(W)을 취한다(제7 액세스 동작). 제3 상반송 기구(68T)는, 기판(W)을 제3 상처리부(64T)에 반입한다(제8 액세스 동작). 제3 상처리부(64T)는 기판(W)에 처리(액처리)를 행한다. 제3 상반송 기구(68T)는 제3 상처리부(64T)로부터 기판(W)을 반출한다(제8 액세스 동작). 제3 상반송 기구(68T)는 제3 상재치부(51T)에 기판(W)을 재치한다(제7 액세스 동작).
제2 상반송 기구(48T)는, 제3 상재치부(51T) 상의 기판(W)을 취한다(제6 액세스 동작). 제2 상반송 기구(48T)는, 기판(W)을 제2 상처리부(37T)에 반입한다(제5 액세스 동작). 제2 상처리부(37T)는 기판(W)에 처리(열처리)를 행한다. 제2 상반송 기구(48T)는 제2 상처리부(37T)로부터 기판(W)을 반출한다(제5 액세스 동작). 제2 상반송 기구(48T)는 제2 상재치부(41T)에 기판(W)을 재치한다(제4 액세스 동작).
제1 상반송 기구(46T)는, 제2 상재치부(41T) 상의 기판(W)을 취한다(제3 액세스 동작). 제1 상반송 기구(46T)는, 기판(W)을 제1 상재치부(21T)에 재치한다(제1 액세스 동작).
<인덱서부(11)의 동작(2)>
인덱서부(11)는, 제1 상재치부(21T)와 제1 하재치부(21B)로부터 교대로 기판(W)을 취한다.
구체적으로는, 인덱서용 반송 기구(14B)의 하나의 사이클 동작에서는, 인덱서용 반송 기구(14B)는, 제1 상재치부(21T) 상의 기판(W)을 취하고, 기판(W)을 캐리어(CB, CD) 중 어느 1개에 반입한다. 인덱서용 반송 기구(14B)의 다음 사이클 동작에서는, 인덱서용 반송 기구(14B)는, 제1 하재치부(21B) 상의 기판(W)을 취하고, 기판(W)을 캐리어(CB, CD) 중 어느 1개에 반입한다.
<제2 실시 형태의 효과>
제2 실시 형태에 따라서도, 제1 실시 형태와 동일한 효과를 나타낸다. 예를 들면, 제1 반송 기구(46(46T, 46B))의 각 제1 사이클 동작은 3개의 액세스 동작으로 이루어진다. 제2 반송 기구(48(48T, 48B))의 각 제2 사이클 동작은 3개의 액세스 동작으로 이루어진다. 제3 반송 기구(68((68T, 68B))의 각 제3 사이클 동작은 2개의 액세스 동작으로 이루어진다. 이 때문에, 기판 처리 장치(1)의 스루풋을 적합하게 향상시킬 수 있다.
제2 재치부(41((41T, 41B))는, 평면에서 볼 때, 제1 처리부(34((34T, 34B))와 겹치는 제1 부분(41a)과, 평면에서 볼 때, 제2 처리부(37((37T, 37B))와 겹치는 제2 부분(41b)을 갖는다. 이 때문에, 제1 반송 기구(46)와 제2 반송 기구(48)의 간격 거리를 작게 할 수 있다. 또한, 제1 반송 기구(46) 및 제2 반송 기구(48)는 각각, 제2 재치부(41)에 용이하게 액세스할 수 있다.
또한, 제2 실시 형태에 따르면, 이하의 효과를 나타낸다. 제1 처리부(34)에 대응하여 2개의 제1 반송 기구(46((46T, 46B))가 설치된다. 제2 처리부(37)에 대응하여 2개의 제2 반송 기구(48((48T, 48B))가 설치된다. 제3 처리부(64)에 대응하여 2개의 제3 반송 기구(68((68T, 68B))가 설치된다. 이 때문에, 기판 처리 장치(1)의 스루풋을 배증할 수 있다.
제1 상반송 기구(46T)와 제1 하반송 기구(46B)는 상하 방향(Z)으로 늘어서도록 배치된다. 이 때문에, 기판 처리 장치(1)의 설치 면적(풋 프린트)이 증대하는 것을 적합하게 억제할 수 있다.
제2 상반송 기구(48T)와 제2 하반송 기구(48B)는 상하 방향(Z)으로 늘어서도록 배치된다. 이 때문에, 기판 처리 장치(1)의 설치 면적(풋 프린트)이 증대하는 것을 적합하게 억제할 수 있다.
제3 상반송 기구(68T)와 제3 하반송 기구(68B)는 상하 방향(Z)으로 늘어서도록 배치된다. 이 때문에, 기판 처리 장치(1)의 설치 면적(풋 프린트)이 증대하는 것을 적합하게 억제할 수 있다.
상계층(90T)과 하계층(90B)은 상하 방향(Z)으로 늘어서도록 배치된다. 이 때문에, 기판 처리 장치(1)의 설치 면적(풋 프린트)이 증대하는 것을 적합하게 억제할 수 있다.
본 발명은, 상기 실시 형태로 한정되는 것은 아니며, 하기와 같이 변형 실시할 수 있다.
(1) 상술한 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태에서는, 제2 재치부(41)는, 평면에서 볼 때, 제1 축선(A1)과 제2 축선(A2)을 잇는 가상 직선(L)과 겹치지 않는 위치에 배치된다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 평면에서 볼 때, 제1 축선(A1)과 제2 축선(A2)을 잇는 가상 직선(L)과 겹치는 위치에 제2 재치부(41)를 배치해도 된다.
도 19는, 변형 실시 형태의 기판 처리 장치(1)의 평면도이다. 또한, 제1 실시 형태와 동일한 구성에 대해서는 동일 부호를 붙여 상세한 설명을 생략한다. 제2 재치부(41)는, 제1 처리부(34)와 겹치지 않는 위치에 배치된다. 제2 재치부(41)는, 제2 처리부(37)와 겹치지 않는 위치에 배치된다. 제2 재치부(41)의 전부(全部)는, 반송 스페이스(45)에 배치된다. 제2 재치부(41)는, 제1 축선(A1)과 제2 축선(A2)을 잇는 가상 직선(L)과 겹치는 위치에 배치된다. 제1 반송 기구(46)와 제2 재치부(41)와 제2 반송 기구(48)는, 전후 방향(X)으로 1열로 늘어선다.
(2) 상술한 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태에서는, 처리부의 수는, 3개(구체적으로는, 제1-제3 처리부(34, 37, 64))였다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 예를 들면, 처리부의 수는, 2개여도 된다. 예를 들면, 처리부의 수는, 4개 이상이어도 된다.
예를 들면, 제3 처리부(64)가 생략되는 경우, 제3 재치부(51)를 생략할 수 있다. 또한, 제6 액세스 동작을 생략할 수 있다. 그 결과, 제2 반송 기구(48)의 제2 사이클 동작은, 2개의 액세스 동작으로 이루어진다. 즉, 제2 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는, 2개이다. 구체적으로는, 제2 사이클 동작에 포함되는 2개의 액세스 동작은, 이하와 같다.
·제2 재치부(41)에 액세스하는 제4 액세스 동작
·제2 처리부(37)에 액세스하는 제5 액세스 동작
(3) 상술한 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태에서는, 기판 처리 장치(1)는, 기판(W)을 노광하는 노광기에 접속되어 있지 않다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 예를 들면, 기판 처리 장치(1)에, 노광기를 접속해도 된다.
예를 들면, 제2 블록(61)의 후부에 노광기를 접속해도 된다. 이 경우, 기판 처리 장치(1)는, 제3 반송 기구(68)와 노광기 사이에서 반송되는 기판(W)을 재치하는 제4 재치부를 구비해도 된다. 본 변형 실시 형태에서는, 제3 반송 기구(68)는, 하기의 3개의 액세스 동작으로 이루어지는 제3 사이클 동작을 반복한다.
·제3 재치부(51)에 액세스하는 제7 액세스 동작
·제3 처리부(64)에 액세스하는 제8 액세스 동작
·제4 재치부에 액세스하는 제9 액세스 동작
본 변형 실시 형태에서는, 제3 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는, 3개이다. 따라서, 제3 반송 기구(68)의 반송 효율은, 여전히, 높다. 따라서, 기판 처리 장치(1)의 스루풋을 향상시킬 수 있다.
혹은, 제3 반송 기구(68)는, 노광기에 직접적으로 기판(W)을 반송해도 된다. 본 변형 실시 형태에서는, 제3 반송 기구(68)는, 하기의 3개의 액세스 동작으로 이루어지는 제3 사이클 동작을 반복한다.
·제3 재치부(51)에 액세스하는 제7 액세스 동작
·제3 처리부(64)에 액세스하는 제8 액세스 동작
·노광기에 액세스하는 제9 액세스 동작
본 변형 실시 형태에서는, 제3 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는, 3개이다. 따라서, 제3 반송 기구(68)의 반송 효율은, 여전히, 높다. 따라서, 기판 처리 장치(1)의 스루풋을 향상시킬 수 있다.
(4) 상술한 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태에서는, 기판 처리 장치(1)는, 기판(W)을 노광기에 반송하기 위한 인터페이스부를 구비하고 있지 않다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 예를 들면, 기판 처리 장치(1)는, 인터페이스부를 구비해도 된다.
예를 들면, 인터페이스부는, 제2 블록(61)의 후부에 접속된다. 이 경우, 기판 처리 장치(1)는, 제3 반송 기구(68)와 인터페이스부 사이에서 반송되는 기판(W)을 재치하는 제4 재치부를 구비해도 된다. 본 변형 실시 형태에서는, 제3 반송 기구(68)는, 하기의 3개의 액세스 동작으로 이루어지는 제3 사이클 동작을 반복한다.
·제3 재치부(51)에 액세스하는 제7 액세스 동작
·제3 처리부(64)에 액세스하는 제8 액세스 동작
·제4 재치부에 액세스하는 제9 액세스 동작
본 변형 실시 형태에서는, 제3 사이클 동작에 포함되는 액세스 동작의 수는, 3개이다. 따라서, 제3 반송 기구(68)의 반송 효율은, 여전히, 높다. 따라서, 기판 처리 장치(1)의 스루풋을 향상시킬 수 있다.
(5) 상술한 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태에서는, 제1 처리부(34)는 에지 노광 처리부였고, 제2 처리부(37)는 열처리부였다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 제1 처리부(34)는 열처리부여도 된다. 제2 처리부는 에지 노광 처리부여도 된다.
상술한 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태에서는, 제1 처리 유닛(35)은 에지 노광 처리 유닛이었고, 제2 처리 유닛(38)은 열처리 유닛이었다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 제1 처리 유닛(35)은 열처리 유닛이어도 된다. 제2 처리 유닛(38)은 에지 노광 처리 유닛이어도 된다.
(6) 상술한 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태에서는, 제3 처리부(64)가 행하는 액처리는, 현상 처리였다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 제3 처리부(64)가 행하는 액처리는, 예를 들면, 도포 처리여도 된다. 도포 처리는, 기판(W)에 도막 재료를 도포하고, 기판(W)에 도막을 형성하는 처리이다. 도막은, 예를 들면, 레지스트막 또는 반사 방지막이다. 제3 처리부(64)가 행하는 액처리는, 예를 들면, 세정 처리여도 된다. 세정 처리는, 기판(W)에 세정액을 공급하는 처리이다.
(7) 상술한 제1 실시 형태에서는, 제1 반송 기구(46)는, 2개의 제1 지주(47a, 47b)를 구비하였다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 예를 들면, 제1 지주(47a, 47b) 중 한쪽을 생략해도 된다. 마찬가지로, 상술한 제1 실시 형태에서는, 제2 반송 기구(48)는, 2개의 제2 지주(49a, 49b)를 구비하였다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 예를 들면, 제2 지주(49a, 49b) 중 한쪽을 생략해도 된다.
(8) 상술한 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태에서는, 제1 처리부(34)는 반송 스페이스(45)의 우방의 위치 및 반송 스페이스(45)의 좌방의 위치에 배치되었다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 예를 들면, 반송 스페이스(45)의 우방의 위치 및 반송 스페이스(45)의 좌방의 위치 중 어느 1개에만 제1 처리부(34)를 배치해도 된다. 제2 처리부(37)와 제3 처리부(64)에 대해서도, 동일하게 변경해도 된다.
(9) 상술한 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태에 있어서, 제2 처리 유닛(38)은, 또한, 제1 플레이트(39a)에 부착되는 온도 조절 기기로서, 제1 플레이트(39a)의 온도를 조절하는 온도 조절 기기를 구비해도 된다. 예를 들면, 제1 플레이트(39a)는, 기판(W)의 온도를 조정해도 된다. 예를 들면, 제1 플레이트(39a)는, 제2 플레이트(39b)에 의해 가열된 기판(W)을, 냉각해도 된다.
혹은, 제2 처리 유닛(38)은, 또한, 로컬 반송 기구에 부착되는 온도 조절 기기로서, 로컬 반송 기구의 온도를 조절하는 온도 조절 기기를 구비해도 된다. 예를 들면, 로컬 반송 기구는, 기판(W)의 온도를 조정해도 된다. 예를 들면, 로컬 반송 기구는, 제2 플레이트(39b)에 의해 가열된 기판(W)을, 냉각해도 된다.
(10) 상술한 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태에 있어서, 제2 재치부(41)는, 평면에서 볼 때, 제1 좌처리부(34L) 및 제2 좌처리부(37L)와 겹치는 위치에 배치되었다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 제2 재치부(41)는, 평면에서 볼 때, 제1 우처리부(34R) 및 제2 우처리부(37R)와 겹치는 위치에 배치되어도 된다.
(11) 상술한 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태에 있어서, 공간(F)은, 제3 우처리부(64R)의 전방의 위치에 배치되었다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 공간(F)은, 제3 우처리부(64R)의 후방의 위치에 배치되어도 된다. 공간(F)은, 제3 우처리부(64R)의 전방의 위치 및 후방의 위치에 배치되어도 된다.
(12) 상술한 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태에 있어서, 전후 방향(X)에 있어서의 제3 우처리부(64R)의 길이(G1)는, 전후 방향(X)에 있어서의 제3 좌처리부(64L)의 길이(G2)보다 작았다. 단, 이것으로 한정되지 않는다. 길이(G2)는, 길이(G1)보다 작아도 된다. 본 변형 실시 형태의 경우, 제3 우처리부(64R)는, 본 발명에 있어서의 제3 장처리부의 예이다. 제3 좌처리부(64L)는, 본 발명에 있어서의 제3 단처리부의 예이다. 본 변형 실시 형태에서는, 공간(F)과 제3 좌처리부(64L)는, 전후 방향(X)으로 늘어선다. 본 변형 실시 형태에서는, 공간(F)의 배치를 적당히 변경해도 된다.
(13) 상술한 제1 실시 형태에 있어서, 인덱서부(11)의 동작을 상술하지 않았다. 이하에, 인덱서부(11)의 동작을 예시한다. 예를 들면, 인덱서부(11)는, 캐리어 재치부(12A) 상의 캐리어(CA)로부터 기판(W)을 반출하고, 캐리어 재치부(12B) 상의 캐리어(CB)에 기판(W)을 반입해도 된다. 이 경우, 캐리어 재치부(12A) 상의 캐리어(CA) 내의 모든 기판(W)가 반출된 후, 캐리어 재치부(12A) 상의 캐리어(CA)를, 캐리어 재치부(12B)에 반송해도 된다. 인덱서부(11)는, 캐리어 재치부(12A) 상의 캐리어(CA)에 기판(W)을 반입하지 않아도 된다. 인덱서부(11)는, 캐리어 재치부(12B) 상의 캐리어(CB)로부터 기판(W)을 반출하지 않아도 된다.
(14) 상술한 실시예 및 상기 (1) 내지 (13)에서 설명한 각 변형 실시예의 각 구성을 적당히 조합하도록 변경해도 된다.
본 발명은, 그 사상 또는 본질로부터 벗어나지 않고 다른 구체적인 형태로 실시할 수 있고, 따라서, 발명의 범위를 나타내는 것으로서, 이상의 설명이 아닌, 부가된 클레임을 참조해야만 한다.
1 기판 처리 장치
11 인덱서부
12A, 12B, 12C, 12D 캐리어 재치부
13 반송 스페이스
14A, 14B 인덱서용 반송 기구
21 제1 재치부
21T 제1 상재치부
21B 제1 하재치부
22a, 22b 플레이트
31 제1 블록
32 제1 프레임
34 제1 처리부
34R 제1 우처리부
34L 제1 좌처리부
34T 제1 상처리부
34B 제1 하처리부
35 제1 처리 유닛
36a 회전 유지부
36b 광 조사부
37 제2 처리부
37R 제2 우처리부
37L 제2 좌처리부
37T 제2 상처리부
37B 제2 하처리부
38 제2 처리 유닛
39a 제1 플레이트
39b 제2 플레이트
41 제2 재치부(재치부)
41a 제1 부분
41b 제2 부분
41c 제3 부분
41T 제2 상재치부
41B 제2 하재치부
42a, 42b 플레이트
43, 44 슬롯
43f-43j 슬롯(제1 슬롯)
43f-43h 슬롯(처리용 제1 슬롯)
43i 슬롯(재치용 제1 슬롯)
44f-44j 슬롯(제2 슬롯)
44f-44h, 44j 슬롯(처리용 제2 슬롯)
44i 슬롯(재치용 제2 슬롯)
45 반송 스페이스
45T 상반송 스페이스
45B 하반송 스페이스
46 제1 반송 기구
46T 제1 상반송 기구
46B 제1 하반송 기구
47a, 47b 제1 지주
47c 제1 승강부
47d 제1 회전부
47e, 47f 제1 유지부
48 제2 반송 기구
48T 제2 상반송 기구
48B 제2 하반송 기구
49a, 49b 제2 지주
49c 제2 승강부
49d 제2 회전부
49e, 49f 제2 유지부
51 제3 재치부
51T 제3 상재치부
51B 제3 하재치부
52a, 52b 플레이트
61 제2 블록
62 제2 프레임
64 제3 처리부
64R 제3 우처리부(제3 단처리부)
64L 제3 좌처리부(제3 장처리부)
64T 제3 상처리부
64B 제3 하처리부
65 제3 처리 유닛
66a 회전 유지부
66b 노즐
66c 컵
67 반송 스페이스
67T 상반송 스페이스
67B 하반송 스페이스
68 제3 반송 기구
68T 제3 상반송 기구
68B 제3 하반송 기구
69a, 69b 제3 지주
69c 제3 승강부
69d 제3 수평 이동부
69e 제3 회전부
69f, 69g 제3 유지부
71 점검구
72 덮개부
81 제어부
90T 상계층
90B 하계층
91 격벽
92 격벽
A1 제1 축선
A2 제2 축선
B1 제1 영역
B2 제2 영역
B3 제3 영역
C, CA, CB, CC, CD 캐리어
D1 제1 축선(A1)과 제2 축선(A2) 사이의 거리
D2 평면에서 볼 때의 제1 축선(A1)과 점(P1) 사이의 거리
D3 평면에서 볼 때의 제2 축선(A2)과 점(P1) 사이의 거리
D4 평면에서 볼 때의 제1 축선(A1)과 점(P2) 사이의 거리
D5 평면에서 볼 때의 제2 축선(A2)과 점(P3)의 거리
E, E1, E2 공간(차열 공간)
F 공간(차열 공간, 메인터넌스 공간)
G1 전후 방향에 있어서의 제3 우처리부의 길이
G2 전후 방향에 있어서의 제3 좌처리부의 길이
L 가상 직선
P1 제2 재치부에 재치되는 기판의 중심점
P2 제1 처리부(회전 유지부(36a))에 재치되는 기판의 중심점
P3 제2 처리부(제1 플레이트(39a))에 재치되는 기판의 중심점
r 기판의 반경
W 기판
X 전후 방향
Y 폭방향
Z 상하 방향

Claims (25)

  1. 기판 처리 장치로서,
    캐리어로부터 기판을 반출하는 인덱서부와,
    기판에 처리를 행하는 제1 처리부와,
    상기 제1 처리부에 기판을 반송하는 제1 반송 기구와,
    상기 제1 처리부와는 상이한 처리를 기판에 행하는 제2 처리부와,
    상기 제2 처리부에 기판을 반송하는 제2 반송 기구와
    상기 인덱서부와 상기 제1 반송 기구 사이에서 반송되는 기판을 재치(載置)하는 제1 재치부와,
    상기 제1 반송 기구와 상기 제2 반송 기구 사이에서 반송되는 기판을 재치하는 제2 재치부와,
    상기 인덱서부와 상기 제1 처리부와 상기 제1 반송 기구와 상기 제2 처리부와 상기 제2 반송 기구를 제어하는 제어부를 구비하고,
    상기 제어부의 제어에 따라서, 상기 제1 반송 기구는 3개의 액세스 동작으로 이루어지는 제1 사이클 동작을 반복하고,
    상기 제1 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 1개는, 상기 제1 재치부에 액세스하는 제1 액세스 동작이고,
    상기 제1 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 다른 1개는, 상기 제1 처리부에 액세스하는 제2 액세스 동작이고,
    상기 제1 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 나머지 1개는, 상기 제2 재치부에 액세스하는 제3 액세스 동작이고,
    상기 제어부의 제어에 따라서, 상기 제2 반송 기구는 2개 또는 3개의 액세스 동작으로 이루어지는 제2 사이클 동작을 반복하고,
    상기 제2 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 1개는, 상기 제2 재치부에 액세스하는 제4 액세스 동작이고,
    상기 제2 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 다른 1개는, 상기 제2 처리부에 액세스하는 제5 액세스 동작인,
    기판 처리 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1 액세스 동작은, 상기 제1 재치부 상의 기판을 취하며, 또한, 상기 제1 재치부에 기판을 재치하는 상기 제1 반송 기구의 동작을 포함하고,
    상기 제2 액세스 동작은, 상기 제1 처리부에 기판을 반입하며, 또한, 상기 제1 처리부로부터 기판을 반출하는 상기 제1 반송 기구의 동작을 포함하고,
    상기 제3 액세스 동작은, 상기 제2 재치부 상의 기판을 취하며, 또한, 상기 제2 재치부에 기판을 재치하는 상기 제1 반송 기구의 동작을 포함하고,
    상기 제4 액세스 동작은, 상기 제2 재치부 상의 기판을 취하며, 또한, 상기 제2 재치부에 기판을 재치하는 상기 제2 반송 기구의 동작을 포함하고,
    상기 제5 액세스 동작은, 상기 제2 처리부에 기판을 반입하며, 또한, 상기 제2 처리부로부터 기판을 반출하는 상기 제2 반송 기구의 동작을 포함하는,
    기판 처리 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1 처리부는, 상기 제2 반송 기구가 기판을 반송 가능한 제2 영역의 밖에 배치되고,
    상기 제2 처리부는, 상기 제1 반송 기구가 기판을 반송 가능한 제1 영역의 밖에 배치되는,
    기판 처리 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 제1 영역은, 평면에서 볼 때, 원형이고,
    상기 제2 영역은, 평면에서 볼 때, 원형인,
    기판 처리 장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1 재치부는, 상기 인덱서부와 상기 제1 반송 기구 사이에 배치되고, 상기 제2 재치부는, 상기 제1 반송 기구와 상기 제2 반송 기구 사이에 배치되고,
    상기 제1 처리부는, 상기 제1 반송 기구의 측방에 배치되고,
    상기 제2 처리부는, 상기 제2 반송 기구의 측방에 배치되는,
    기판 처리 장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 제1 반송 기구와 상기 제2 반송 기구와 상기 제2 재치부는, 평면에서 볼 때, 삼각 배치되는,
    기판 처리 장치.
  7. 청구항 5에 있어서,
    상기 제1 반송 기구는,
    고정적으로 설치되며, 상하 방향으로 연장되는 제1 지주와,
    상기 제1 지주에 지지되며, 상하 방향으로 이동 가능한 제1 승강부와,
    상기 제1 승강부에 지지되며, 상하 방향과 평행한 제1 축선 둘레로 회전 가능한 제1 회전부와,
    상기 제1 회전부에 지지되며, 기판을 유지하는 제1 유지부를 구비하고,
    상기 제1 회전부는, 수평 방향으로 이동 불가능하게 설치되고,
    상기 제1 처리부는, 기판을 1장씩 처리하는 복수의 제1 처리 유닛을 구비하고,
    상기 제1 처리 유닛 각각은, 측면에서 볼 때, 상기 제1 축선과 겹치는 위치에 배치되고,
    상기 제2 반송 기구는,
    고정적으로 설치되며, 상하 방향으로 연장되는 제2 지주와,
    상기 제2 지주에 지지되며, 상하 방향으로 이동 가능한 제2 승강부와,
    상기 제2 승강부에 지지되며, 상하 방향과 평행한 제2 축선 둘레로 회전 가능한 제2 회전부와,
    상기 제2 회전부에 지지되며, 기판을 유지하는 제2 유지부를 구비하고,
    상기 제2 회전부는, 수평 방향으로 이동 불가능하게 설치되고,
    상기 제2 처리부는, 기판을 1장씩 처리하는 복수의 제2 처리 유닛을 구비하고, 상기 제2 처리 유닛 각각은, 측면에서 볼 때, 상기 제2 축선과 겹치는 위치에 배치되는,
    기판 처리 장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 제1 처리 유닛 및 상기 제2 처리 유닛 중 한쪽은, 기판에 열처리를 행하는 열처리 유닛이고,
    상기 열처리 유닛은, 상하 방향으로 늘어서도록 배치되는,
    기판 처리 장치.
  9. 청구항 7에 있어서,
    평면에서 볼 때, 상기 제1 축선과 상기 제2 축선 사이의 거리는, 기판의 반경의 5배 이하인, 기판 처리 장치.
  10. 청구항 7에 있어서,
    상기 제2 재치부는, 평면에서 볼 때, 상기 제1 축선과 상기 제2 축선을 잇는 가상 직선과 겹치지 않는 위치에 배치되는, 기판 처리 장치.
  11. 청구항 10에 있어서,
    평면에서 볼 때, 상기 제1 축선과 상기 제2 재치부 사이의 거리는, 상기 제2 축선과 상기 제2 재치부 사이의 거리와 동일한, 기판 처리 장치.
  12. 청구항 1에 있어서,
    상기 제2 재치부는,
    평면에서 볼 때, 상기 제1 처리부와 겹치는 제1 부분과,
    평면에서 볼 때, 상기 제2 처리부와 겹치는 제2 부분을 갖는, 기판 처리 장치.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 제2 재치부는, 평면에서 볼 때, 상기 제1 처리부 및 상기 제2 처리부와 겹치지 않는 제3 부분을 더 갖는, 기판 처리 장치.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 제2 재치부의 상기 제3 부분은, 평면에서 볼 때, 상기 제1 반송 기구 및 상기 제2 반송 기구가 설치되는 반송 스페이스와 겹치는, 기판 처리 장치.
  15. 청구항 1에 있어서,
    상기 기판 처리 장치는,
    상기 제1 반송 기구의 측방에 배치되며, 상하 방향으로 1열로 늘어서는 복수의 제1 슬롯과,
    상기 제2 반송 기구의 측방에 배치되며, 상하 방향으로 1열로 늘어서는 복수의 제2 슬롯을 구비하고,
    상기 제1 슬롯 중 적어도 1개는, 상기 제1 처리부를 설치하기 위한 처리용 제1 슬롯이고,
    상기 제1 슬롯 중 다른 1개는, 상기 제2 재치부를 설치하기 위한 재치용 제1 슬롯이고,
    상기 제2 슬롯 중 적어도 1개는, 상기 제2 처리부를 설치하기 위한 처리용 제2 슬롯이고,
    상기 제2 슬롯 중 다른 1개는, 상기 제2 재치부를 설치하기 위한 재치용 제2 슬롯이고,
    상기 재치용 제2 슬롯은, 상기 재치용 제1 슬롯과 동일한 높이 위치에 배치되고,
    상기 제2 재치부는, 상기 재치용 제1 슬롯과 상기 재치용 제2 슬롯에 걸쳐, 설치되는, 기판 처리 장치.
  16. 청구항 1에 있어서,
    상기 기판 처리 장치는,
    상기 제1 처리부 및 상기 제2 처리부와는 상이한 처리를 기판에 행하는 제3 처리부와,
    상기 제3 처리부에 기판을 반송하는 제3 반송 기구와,
    상기 제2 반송 기구와 상기 제3 반송 기구 사이에서 반송되는 기판을 재치하는 제3 재치부를 구비하고,
    상기 제어부는, 또한, 상기 제3 처리부와 상기 제3 반송 기구를 제어하고,
    상기 제2 사이클 동작은 3개의 상기 액세스 동작으로 이루어지고,
    상기 제4 액세스 동작 및 상기 제5 액세스 동작 이외의, 상기 제2 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 나머지 1개는, 상기 제3 재치부에 액세스하는 제6 액세스 동작이고,
    상기 제어부의 제어에 따라서, 상기 제3 반송 기구는 2개 또는 3개의 액세스 동작으로 이루어지는 제3 사이클 동작을 반복하고,
    상기 제3 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 1개는, 상기 제3 재치부에 액세스하는 제7 액세스 동작이고,
    상기 제3 사이클 동작에 포함되는 상기 액세스 동작 중 다른 1개는, 상기 제3 처리부에 액세스하는 제8 액세스 동작인,
    기판 처리 장치.
  17. 청구항 16에 있어서,
    상기 제6 액세스 동작은, 상기 제3 재치부 상의 기판을 취하며, 또한, 상기 제3 재치부에 기판을 재치하는 상기 제2 반송 기구의 동작을 포함하고,
    상기 제7 액세스 동작은, 상기 제3 재치부 상의 기판을 취하며, 또한, 상기 제3 재치부에 기판을 재치하는 상기 제3 반송 기구의 동작을 포함하고,
    상기 제8 액세스 동작에서는, 상기 제3 처리부에 기판을 반입하며, 또한, 상기 제3 처리부로부터 기판을 반출하는 상기 제3 반송 기구의 동작을 포함하는,
    기판 처리 장치.
  18. 청구항 16에 있어서,
    상기 제1 처리부 및 상기 제2 처리부 중 한쪽은, 기판의 주연부를 노광하는 에지 노광 처리부이고,
    상기 제1 처리부 및 상기 제2 처리부 중 다른쪽은, 기판에 열처리를 행하는 열처리부이고,
    상기 제3 처리부는, 기판에 액처리를 행하는 액처리부인,
    기판 처리 장치.
  19. 청구항 18에 있어서,
    상기 제어부에 의한 제어에 따라서, 상기 제1 반송 기구와 상기 제2 반송 기구와 상기 제3 반송 기구는, 상기 인덱서부로부터 공급된 기판을, 상기 에지 노광 처리부와 상기 액처리부와 상기 열처리부에, 이 순서로 반송하고, 상기 제어부에 의한 제어에 따라서, 상기 제1 반송 기구와 상기 제2 반송 기구는, 상기 열처리부로부터 반출한 기판을, 상기 제3 반송 기구에 건네주는 일 없이, 상기 인덱서부에 되돌리는, 기판 처리 장치.
  20. 청구항 18에 있어서,
    상기 제3 처리부를 상기 제2 처리부로부터 떼어놓는 차열(遮熱) 공간을 구비하는, 기판 처리 장치.
  21. 청구항 16에 있어서,
    상기 제3 처리부는,
    제3 장(長)처리부와,
    제3 단(短)처리부를 구비하고,
    상기 제3 반송 기구는, 상기 제3 장처리부와 제3 단처리부 사이에 배치되고,
    상기 제3 장처리부와 상기 제3 반송 기구와 상기 제3 단처리부는, 폭방향으로 늘어서고,
    상기 폭방향과 직교하는 전후 방향에 있어서의 상기 제3 단처리부의 길이는, 상기 전후 방향에 있어서의 제3 장처리부의 길이보다 작고,
    상기 기판 처리 장치는, 메인터넌스 공간을 구비하고,
    상기 메인터넌스 공간과 상기 제3 단처리부는, 상기 전후 방향으로 늘어서는,
    기판 처리 장치.
  22. 청구항 16에 있어서,
    상기 기판 처리 장치는,
    상기 제1 처리부와 상기 제1 반송 기구와 상기 제2 처리부와 상기 제2 반송 기구와 상기 제2 재치부를 수용하는 제1 블록과,
    상기 제1 블록에 접속되며, 상기 제3 처리부와 상기 제3 반송 기구를 수용하는 제2 블록을 구비하고,
    상기 제1 블록은, 정면, 평면 및 측면에서 볼 때 직사각형이고,
    상기 제2 블록은, 정면, 평면, 및 측면에서 볼 때 직사각형인, 기판 처리 장치.
  23. 청구항 22에 있어서,
    상기 기판 처리 장치는,
    상기 제1 블록의 골조로서 설치되며, 상기 제1 반송 기구와 상기 제2 반송 기구와 상기 제1 처리부와 상기 제2 처리부와 상기 제2 재치부를 지지하는 제1 프레임과,
    상기 제2 블록의 골조로서 설치되며, 상기 제3 반송 기구와 상기 제3 처리부를 지지하는 제2 프레임을 구비하고,
    상기 제2 프레임은, 상기 제1 프레임에 연결되는, 기판 처리 장치.
  24. 기판 처리 장치로서,
    기판에 처리를 행하는 제1 처리부와,
    기판에 처리를 행하는 제2 처리부와,
    상기 제1 처리부 및 상기 제2 처리부의 측방에 형성되는 반송 스페이스와, 상기 반송 스페이스에 설치되며, 상기 제1 처리부에 기판을 반송하는 제1 반송 기구와,
    상기 반송 스페이스에 설치되며, 상기 제2 처리부에 기판을 반송하는 제2 반송 기구와,
    상기 제1 반송 기구와 상기 제2 반송 기구 사이에서 반송되는 기판을 재치하는 재치부를 구비하고,
    상기 재치부는, 평면에서 볼 때,
    상기 제1 처리부와 겹치는 제1 부분과,
    상기 제2 처리부와 겹치는 제2 부분
    을 갖는, 기판 처리 장치.
  25. 청구항 24에 있어서,
    상기 재치부는, 평면에서 볼 때, 상기 반송 스페이스와 겹치는 제3 부분을 갖는, 기판 처리 장치.
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