KR20200016099A - 신축성 소자의 제작을 위한 패턴 형성방법 - Google Patents

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Abstract

신축성 소자의 제작을 위한 패턴 형성방법에서, 제1 기판의 상면에 희생층(sacrificial layer) 및 패턴층을 차례로 형성한다. 상기 제1 기판의 상면을 상기 제2 기판과 마주보도록 위치시킨다. 상기 제1 기판의 상부로부터 상기 제1 기판을 통과하여 상기 희생층으로 레이저 광 또는 램프 광을 제공하여, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사한다.

Description

신축성 소자의 제작을 위한 패턴 형성방법{METHOD OF FORMING PATTERNS FOR A STRETCHABLE DEVICE}
본 발명은 패턴 형성방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 유연성(flexible) 소자나 나아가 신축성(stretchable) 소자를 제작하기 위해 유연성 기판 또는 신축성 기판 상에 다양한 패턴을 형성하는 신축성 소자의 제작을 위한 패턴 형성방법에 관한 것이다.
차세대 디스플레이로 얇고 가벼울 뿐만 아니라 충격에도 강하며 휘거나 굽힐 수 있음은 물론 길이 방향으로 신장 또는 압축될 수 있어 다양한 형태로 제작이 가능한 스트레쳐블(신축성, stretchable) 디스플레이에 대한 연구가 진행되고 있다.
특히, 이러한 신축성 디스플레이와 같은 신축성 소자의 제작을 위해서는 다양한 형태의 패턴을 신축성 기판으로 전사하기 위한 공정이 필요하며, 이에 따라 관련 연구가 활발히 진행되고 있다.
일반적으로 신축성 기판을 이용하여 신축성 소자를 제조하는 방법에서는, 레이저 레이저 전사(Laser Induced Forward Transfer, LIFT) 공정, 롤 인쇄 공정 등을 이용하여 신축성 기판 상으로 패턴을 전사하는 방식을 이용하고 있다.
레이저 전사 공정을 이용하는 방법에서는, 대한민국 등록특허 제10-0951778호, 대한민국 공개특허 제10-2017-0008768호 등에서와 같이, 기판 상에 패턴층을 형성한 후 상기 기판으로부터 상기 패턴층을 분리하여 신축성 기판으로 전사한다.
그러나 이와 같은 방법은 패턴층이 기판으로부터 분리될 때 표면에 높은 에너지가 인가되어 표면이 손상되거나 불균일해지는 문제가 있다.
한편, 롤 인쇄 공정은 이용하는 방법에서는, 인쇄롤에 미리 형성하고자 하는 패턴과 동일한 형태의 인쇄 패턴이 형성되어야 하며, 이를 위해 종래에는 대한민국 공개특허 제10-2014-0012408호 등에서와 같이, 클리쉐(clichㅹ)를 이용한 전사 타입의 잉크 패턴 인쇄 방법이 사용되고 있다.
그러나, 이러한 전사 타입 인쇄 방법은 포토리소그래피 방식에 비해 정밀도가 떨어지기 때문에 패턴들 간의 정렬이 정확하게 이루어지지 않아 불량 패턴의 발생에 의한 생산성 저하를 초래할 수 있다. 또한, 연속적인 패턴 인쇄 공정을 위해서는 인쇄롤이 매번 클리쉐의 오목홈 내에 잉크를 공급하는 공정, 클리쉐와 기판 사이에서의 왕복 이동 공정, 및 잉크 패턴의 2회의 전사 공정이 요구되므로 전체 인쇄 공정 시간이 증가한다는 문제가 있었다.
대한민국 등록특허 제10-0951778호 대한민국 공개특허 제10-2017-0008768호 대한민국 공개특허 제10-2014-0012408호
이에, 본 발명의 기술적 과제는 이러한 점에서 착안된 것으로 본 발명의 목적은 패턴층의 박리 시의 손상을 억제하고 패턴들 간의 정렬(alignment)이 보다 정확하게 이루어지도록 하여 신축성 기판으로 고품질의 패턴을 형성함은 물론, 대면적 기판 상에 연속적인 패턴 인쇄 공정이 가능하여 효과적인 신축성 소자의 제작을 위한 패턴 형성방법에 관한 것이다.
상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 신축성 소자의 제작을 위한 패턴 형성방법에서, 제1 기판의 상면에 희생층(sacrificial layer) 및 패턴층을 차례로 형성한다. 상기 제1 기판의 상면을 상기 제2 기판과 마주보도록 위치시킨다. 상기 제1 기판의 상부로부터 상기 제1 기판을 통과하여 상기 희생층으로 레이저 광 또는 램프 광을 제공하여, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사한다.
일 실시예에서, 상기 희생층 및 패턴층을 차례로 형성하는 단계에서, 상기 희생층은 상기 패턴층이 형성되는 영역과 동일하게 상기 제1 기판의 상면의 일부 영역에 형성되고, 상기 패턴층은 잉크젯 프린팅(ink jet printing) 공정에 의해 상기 희생층의 상면에 형성될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 희생층 및 패턴층을 차례로 형성하는 단계에서, 상기 희생층은 상기 제1 기판의 상면의 전체 영역에 형성되고, 상기 패턴층은 상기 희생층의 상면의 전체 영역에 형성되고, 상기 희생층과 상기 패턴층이 소정의 패턴을 가지도록 패터닝 될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 제1 기판은 레이저 상기 광 또는 램프 광이 투과되는 투명 기판일 수 있다.
일 실시예에서, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계에서, 상기 희생층으로 상기 레이저 광 또는 램프 광이 제공됨에 따라 상기 희생층은 증발되고 상기 패턴층이 상기 제1 기판으로부터 분리될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계 이전에, 상기 희생층 및 상기 패턴층이 형성된 상기 제1 기판의 상면의 반대측 면에 마스크 패턴이 형성된 마스크를 정렬할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 희생층 및 상기 패턴층은 상기 제1 기판의 상면의 전체 영역에 형성될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계에서, 상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 마스크 패턴에 의해 차단되며 선택적으로 상기 희생층으로 제공되고, 상기 레이저 광 또는 램프 광이 제공되는 영역에서 상기 패턴층이 상기 제1 기판으로부터 선택적으로 분리될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계 이전에, 상기 제2 기판 중, 상기 패턴층이 전사되는 영역과 동일한 영역에 접착층을 형성할 수 있다.
상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 다른 실시예에 따른 신축성 소자의 제작을 위한 패턴 형성방법에서, 제1 기판의 상면에 패턴층을 형성한다. 상기 제1 기판의 상부에서 롤을 회전시켜 상기 롤의 표면에 상기 패턴층을 부착시킨다. 상기 패턴층이 부착된 롤을 제2 기판과 마주보도록 위치시킨다. 레이저 광 또는 램프 광을 제공하여 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사한다.
일 실시예에서, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계에서, 상기 롤은 일 방향을 회전하고 상기 제2 기판의 연장 방향을 따라, 상기 롤과 상기 제2 기판은 상대적으로 이동할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 롤에 부착된 패턴층이 상기 롤의 가장 하부에 위치하는 경우, 상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 패턴층을 향하여 조사될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 레이저 광 또는 램프 광의 면적은 상기 롤의 가장 하부에 위치하는 패턴층의 면적과 동일할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계에서, 상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 롤과 상기 패턴층의 계면으로 제공되어, 상기 패턴층이 상기 롤의 표면으로부터 분리될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 롤은 투명 재질을 포함하여 상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 롤의 상부로부터 상기 롤을 통과하여 상기 패턴층으로 제공될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 제2 기판은 투명 재질을 포함하여, 상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 제2 기판의 하부로부터 상기 제2 기판을 통과하여 상기 패턴층으로 제공될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 제1 기판의 상면에 패턴층을 형성한 후, 상기 패턴층 상에 희생층을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 롤의 표면에 상기 패턴층을 부착시키는 단계에서, 상기 롤의 표면에 상기 희생층과 상기 패턴층을 부착시키고, 상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 롤과 상기 희생층의 계면으로 제공될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 롤의 표면에 상기 패턴층을 부착시키는 단계 이전에, 상기 롤의 표면에 희생층을 도포하는 단계를 더 포함하고, 상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 롤과 상기 희생층의 계면으로 제공될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계 이전에, 상기 제2 기판 중, 상기 패턴층이 전사되는 영역과 동일한 영역에 접착층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시에에서, 상기 롤은 중공 형상으로 형성되며, 상기 롤의 중공부에 레이저 또는 램프가 위치하여 상기 레이저 광 또는 램프 광을 제공할 수 있다.
상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 또 다른 실시예에 따른 신축성 소자의 제작을 위한 패턴 형성방법에서, 롤의 표면의 전체 영역에 패턴층을 도포한다. 상기 패턴층이 부착된 롤을 제2 기판과 마주보도록 위치시킨다. 레이저 광 또는 램프 광을 제공하여, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사한다.
일 실시에에서, 상기 롤의 표면의 전체 영역에 패턴층을 도포하는 단계에서,상기 롤의 표면의 전체 영역에 희생층을 도포한 후 상기 희생층의 표면의 전체 영역에 상기 패턴층을 도포하고, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계에서,상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 롤과 상기 희생층의 계면으로 제공될 수 있다.
일 실시에에서, 상기 롤은 중공 형상으로 형성되며, 상기 롤의 중공부에 레이저 또는 램프가 위치하여 상기 레이저 광 또는 램프 광을 제공할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 의하면, 레이저 전사 방식을 이용하여 패턴을 형성하는 경우, 제1 기판 상에 먼저 희생층을 형성하고 상기 희생층을 향하여 레이저 광 또는 램프 광을 조사함으로써, 레이저 광 또는 램프 광이 상기 패턴층에 직접 조사되는 경우와 비교하여, 상기 패턴층이 제1 기판으로부터 분리되는 경우 계면을 손상을 최소화할 수 있고, 이에 따라 최종적으로 형성되는 패턴의 표면을 보다 균일하게 형성할 수 있다.
한편, 롤 인쇄 공정에 상기 레이저 전사 방식을 적용하는 경우, 제2 기판으로의 전사를 통한 패턴 형성을 연속적으로 수행할 수 있으며 이에 따라 대면적 기판에 대한 패턴을 상대적으로 높은 공정 속도로 형성할 수 있다.
이 경우, 롤의 표면에 희생층을 형성하여 롤과 패턴층을 직접 접촉시키지 않고 레이저 광 또는 램프 광을 희생층을 향하여 조사함으로써 상기 패턴층이 롤로부터 분리되는 경우 계면의 손상을 최소화할 수 있어, 형성되는 패턴의 품질도 균일하게 향상시킬 수 있다.
나아가, 기판이나 롤에 부착된 패턴층을 제2 기판의 상면으로 전사하기 이전에 제2 기판의 상면에 패턴층이 형성되는 영역과 동일한 영역에 대하여 접착층을 형성함으로써, 상기 기판이나 롤에 부착된 패턴층이 전사되어 형성되는 패턴의 상기 제2 기판과의 접착력을 보다 향상시킬 수 있어, 안정적인 신축성 소자를 제작할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이다.
도 2a 내지 도 2c는 도 1의 패턴 형성방법을 도시한 공정도들이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이다.
도 4는 도 3의 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이다.
도 6a 내지 도 6c는 도 5의 패턴 형성방법을 도시한 공정도들이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이다.
도 8a 내지 도 8d는 도 7의 패턴 형성방법을 도시한 공정도들이다.
도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이다.
도 10은 도 9의 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이다.
도 12는 도 11의 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이다.
도 14는 도 13의 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
도 15는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
도 16은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
도 17은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이다.
도 18은 도 17의 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
도 19는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예들을 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다.
상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이고, 도 2a 내지 도 2c는 도 1의 패턴 형성방법을 도시한 공정도들이다.
우선, 도 1 및 도 2c를 참조하면, 본 실시예에 의한 패턴 형성방법에서는, 먼저, 상기 제1 기판(10)의 상면에 희생층(sacrificial layer, 20) 및 패턴층(30)을 차례로 형성한다(단계 S100). 즉, 제1 기판(10)의 상면에 희생층(20)을 형성하고, 상기 희생층(20)의 상면에 패턴층(30)을 형성한다.
여기서, 상기 제1 기판(10)은 후술하는 레이저 전사(Laser Induced Forward Transfer, LIFT) 공정 시 조사되는 레이저 광 또는 램프 광을 투과시키는 기판으로서, 투명 재질을 포함하는 투명 기판일 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 기판(10)은 사파이어(sapphire) 기판, 석영(quartz) 기판일 수 있으며, 이외에도 투명한 기판으로 사용가능한 것이면 모두 사용 가능하다.
상기 희생층(20)은 화학적기상증착법(Chemical vapor deposition, CVD), 물리적기상증착법(Physical vapor deposition, PVD), 유기 금속 화학 증착법(Metal organic chemical, MOCVD), 분자선 에피택시(Molecular beam epitaxy, MBE)등에 의해 형성될 수 있다.
상기 희생층(20)은 후술하는 레이저 전사 공정 시 레이저 광 또는 램프 광에 의해 증발되는 것으로, 열이 제공되면 열에 의해 증발될 수 있는 물질로 구성되는 것이 바람직하다.
상기 패턴층(30)은 복수의 패턴을 형성하며 상기 희생층(20)의 상면에 증착될 수 있다. 상기 패턴층(30)은 금속, 탄소소재, 나노소재 등을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 패턴층(30)은 니켈(Ni), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 로듐(Rh), 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 알루미늄(Al), 은(Ag) 및 금(Au), 크롬(Cr), 아연(Zn), 철(Fe)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상으로 구성될 수 있으며, 다중벽탄소나노튜브(MWCNT), 단일벽탄소나노튜브(SWCNT), 그래핀(graphene), 그래파이트(graphite) 및 다이아몬드로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상으로 구성될 수 있다.
나아가, 상기 패턴층(30)은 상기 희생층(20)의 상면에 단층으로 형성되는 것으로 도시하였으나 적어도 하나 이상의 금속들이 중첩되어 적층되는 다층 구조로 형성될 수도 있다.
한편, 상기 희생층(20)은 도시된 바와 같이 상기 제1 기판(10)의 상면의 일부 영역에만 형성될 수 있다. 즉, 상기 희생층(20)은 상면에 증착되는 상기 패턴층(30)의 위치를 고려하여, 상기 제1 패턴층(30)이 형성될 위치와 동일한 위치에만 상기 제1 기판(10)의 상면에 위치하게 될 수 있다.
이 경우, 상기 패턴층(30)은 비접촉식 인쇄방식인 잉크젯 프린팅(ink jet printing) 공정을 이용하여 상기 희생층(20)의 상면에 증착할 수 있다.
즉, 상기 제1 기판(10) 상에, 상기 희생층(20)이 상기 패턴층(30)의 패턴과 동일한 패턴을 가지도록 형성된 이후, 상기 패턴층(30)이 잉크젯 프린팅 공정을 통해 상기 희생층(20) 상에만 중첩되어 형성될 수 있다.
이와 달리, 리소그래피(lithography) 공정을 이용하여 상기 패턴층(30)을 상기 희생층(20)의 상면에 증착하는 경우, 상기 희생층(20)은 상기 제1 기판(10)의 상면의 전체 영역에 형성될 수 있다.
즉, 상기 제1 기판(10)의 전면(全面)에 상기 희생층(20)을 도포하고, 상기 희생층(20)의 상면 전체에 상기 패턴층(30)을 도포한 후에, 상기 패턴층(30)의 상부에 마스크를 배치하여 상기 희생층(20)과 상기 패턴층(30)이 동일한 패턴을 가지도록 노광 및 현상하여 상기 제1 기판(20)의 상면에 소정 패턴을 가지는 패턴층(30)을 형성할 수 있다.
나아가, 상기에서 설명한 바와 다른 공정으로도, 상기 제1 기판(10) 상에 동일한 패턴을 가지도록 상기 희생층(20)과 상기 패턴층(30)을 도포할 수 있다.
한편, 상기 희생층(20)은 후술되는 공정을 통해 증발되는 것으로, 반드시 상기 패턴층(30)과 동일한 패턴을 가질 필요는 없으며, 상기 패턴층(30)은 소정 패턴을 가지도록 형성되지만, 상기 희생층(20)은 상기 제1 기판(10)의 전면(全面)에 형성될 수도 있다. 이 경우, 상기 제1 기판(10)은 상기 패턴층(30)의 전사를 위해 사용되고 폐기되는 기판에 불과하므로 상기 제1 기판(10) 상에 상기 희생층(20)이 잔류하더라도 무관하기 때문이다.
따라서, 상기 희생층(20)이 상기 제1 기판(10)의 전면(全面)에 형성되는 경우에는, 상기 잉크젯 프린팅 공정을 통해 상기 희생층(20)의 상면에 소정 패턴을 가지는 상기 패턴층(30)을 형성할 수 있으며, 상기 리소그래피 공정을 통해서는 상기 희생층(20)의 상면에 형성된 패턴층(30)만을 노광 및 현상하여 소정 패턴을 가지는 상기 패턴층(30)을 형성할 수 있다.
상기와 같이 상기 제1 기판(10)의 상면에 상기 희생층(20)이 증착되고 상기 희생층(20)의 상면에 상기 패턴층(30)이 형성되면, 도 2b에 도시된 바와 같이, 상기 제1 기판(10)의 상면이 상기 제2 기판(40)과 마주보도록 상기 제1 기판(10) 및 제2 기판(40)을 소정 간격을 두고 위치시킨다(단계 S200).
상기 제2 기판(40)은 후술하는 공정에 의해 상기 패턴층(30)이 전사되는 기판으로, 신축성(stretchability) 소재를 포함하는 신축성(stretchable) 기판일 수 있다. 예를 들어, 상기 신축성 소재는 PDMS(Polydimethylsiloxane), 에코플렉스(Ecoflex), hydrogel(히드로겔), 고무소재 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
여기서 신축성은 단순히 유연성(flexibility)을 가져 휘어지는 것은 물론이며, 길이 방향으로 늘어나고 줄어들 수 있는 성질을 의미한다. 따라서, 상기 제2 기판은 휘어지는 것은 물론 길이 방향으로 신장 또는 압축될 수 있다.
상기 제1 기판(10)의 상면이 상기 제2 기판(40)과 마주보도록 위치되면, 도 2c에 도시된 바와 같이, 상기 제1 기판(10)의 상부에서 상기 제2 기판(40)을 향하는 방향으로 레이저 광 또는 램프 광(50)을 제공하는 레이저 리프트 전사 공정을 수행한다(단계 S300).
이 경우, 레이저 광 또는 램프 광(50)은 상기 희생층(20)을 향하여 제공되며, 앞서 설명한 바와 같이 레이저 광 또는 램프 광의 열에 의해 상기 희생층(20)이 증발되어 상기 제1 기판(10)과 상기 희생층(20)의 계면이 분리된다.
또한, 이와 동시에 상기 희생층(20)과 상기 희생층(20)에 증착된 상기 패턴층(30)의 계면 역시 분리되어 상기 패턴층(30)의 제1 내지 제3 패턴들(31, 32, 33)이 상기 제2 기판(40)의 상면으로 전사된다.
즉, 레이저 광 또는 램프 광(50)이 음의 제1 방향(-X)으로 이동하면서 상기 제1 패턴(31), 상기 제2 패턴(32) 및 상기 제3 패턴(33)을 차례대로 상기 제2 기판(40)으로 전사하며, 이와 같이 전사된 상기 패턴들(31, 32, 33)은 상기 제2 기판(40) 상에서 소정의 패턴을 형성한다.
이와 같이, 본 실시예에서는, 상기 제1 기판(10)과 상기 패턴층(30)이 직접 접촉되지 않음에 따라, 레이저 광 또는 램프 광에 의해 상기 패턴층(30)이 상기 제2 기판(40)의 상면으로 전사될 때, 상기 패턴층(30)이 상기 제1 기판(10)이 아닌 상기 희생층(20)으로부터 분리됨으로써 상기 희생층(20)과 접하는 면의 손상이 최소화될 수 있다.
즉, 상기 패턴층(30)이 상기 제1 기판(10)에 직접 부착된 상태에서 레이저 광 또는 램프 광(50)에 의해 분리되는 경우, 상기 패턴층(30)과 상기 제1 기판(10) 사이의 계면은 레이저 광 또는 램프 광(50)이 집중적으로 조사되어 높은 에너지를 받게 된다.
이에 따라 상기 패턴층(30)의 상기 제1 기판(10)과 접하는 면은 높은 에너지로 인해 손상될 가능성이 높으며, 이렇게 손상된 패턴층(30)의 일면은 불규칙한 형상을 형성할 수 있어, 상기 제2 기판(40) 상에 형성되는 패턴의 상면 또한 불균일한 표면을 가지게 되고 결국 패턴의 품질이 저하되는 문제를 야기하게 된다.
그러나, 본 실시예에서와 같이, 상기 희생층(20)을 상기 제1 기판(10)과 상기 패턴층(30) 사이에 형성하게 되면, 레이저 광 또는 램프 광(50)으로부터 제공되는 높은 에너지를 상기 희생층(20)이 흡수하며 증발하게 되므로, 상기 패턴층(30)에 직접적으로 열이 인가되지 않게 되어 상기 패턴층(30)의 일면, 즉 상기 희생층(20)과 접하는 면에 대한 손상이 최소화될 수 있으며, 이에 따라 상기 패턴의 상면 역시 균일한 표면을 가질 수 있어, 상기 패턴의 품질이 더욱 향상될 수 있다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이고, 도 4는 도 3의 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
본 실시예에 의한 패턴 형성 방법은 제2 기판 중 패턴층이 전사되는 영역과 동일한 영역에 접착층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 제외하고는 도 1 내지 도 2c를 참조하여 설명한 패턴 형성 방법과 동일하므로, 동일한 참조번호를 사용하고 중복되는 설명은 생략한다.
즉, 도 3에서의 단계 S100, 단계 S200 및 단계 S300은 각각 도 1에서의 단계 S100, 단계 S200 및 단계 S300과 동일하므로 중복되는 설명은 생략한다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 본 실시예에서는 상기 패턴층(30)을 상기 제2 기판(40)의 상면으로 전사하기 전에, 상기 제2 기판(40) 중, 상기 패턴층(30)이 전사되는 영역과 동일한 영역에 접착층(70)을 형성한다(단계 S220).
상기 접착층(70)은 상기 제2 기판(40)의 표면에서 상기 패턴층(30)이 전사될 영역을 표면 처리함으로써 형성될 수 있다. 즉, 상기 패턴층(30)이 형성되는 영역과 동일한 영역에 대하여 상기 제2 기판(40)의 표면을 처리한다.
이 경우, 상기 제2 기판(40)의 표면 처리 방법으로는, 레이저 광 등으로 조사하는 것과 같이 열을 제공하거나, 화학적 처리를 수행하는 방법 등이 가능하다.
이러한 상기 제2 기판(40)의 표면 처리를 통해, 상기 제2 기판(40)의 표면의 성질이 변화, 즉 개질될 수 있다. 그리하여, 상기 제2 기판(40)을 향해 전사되는 상기 패턴층(30)과 상기 제2 기판(40) 사이의 접착 친화성(affinity)을 향상시키며, 이에 따라 상기 제2 기판(40) 상에 형성되는 패턴의 접착력을 보다 향상시킬 수 있다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이고, 도 6a 내지 도 6c는 도 5의 패턴 형성방법을 도시한 공정도들이다.
본 실시예에 의한 패턴 형성 방법은 희생층과 패턴층을 형성하는 방법이 제한되고, 마스크 패턴이 형성된 마스크를 정렬하는 단계를 더 포함하는 것을 제외하고는 도 1 내지 도 2c를 참조하여 설명한 패턴 형성 방법과 동일하므로, 동일한 참조번호를 사용하고 중복되는 설명은 생략한다.
즉, 도 5에서의 단계 S100, 단계 S200 및 단계 S300은 각각 도 1에서의 단계 S100, 단계 S200 및 단계 S300과 동일하므로 중복되는 설명은 생략한다.
본 실시예에서는, 먼저 도 5 및 도 6a를 참조하면, 도시된 바와 같이 상기 희생층(20)은 상기 제1 기판(10)의 상면의 전체 영역에 형성되고, 상기 패턴층(30)은 상기 희생층(20)의 상면의 전체 영역에 형성된다.
즉, 도 1 내지 도 2c를 참조하여 설명한 앞선 실시예에서는 상기 희생층(20) 및 상기 패턴층(30)이 소정의 패턴을 가지도록 형성하는 예에 대하여도 설명하였으나, 본 실시예에서는 상기 희생층(20) 및 상기 패턴층(30)은 소정의 패턴을 가지도록 형성될 필요는 없다.
이에 따라, 상기 제1 기판(10)의 상면 전체에 상기 희생층(20)과 상기 패턴층(30)이 순차적으로 도포되는 것으로 충분하다.
이 후, 도 6b에 도시된 바와 같이, 상기 패턴층(30)을 상기 제2 기판(40)의 상면으로 전사하기 전에, 상기 제1 기판(10)의 상기 희생층(20) 및 상기 패턴층(30)이 형성된 면의 반대 측에 형성된 면에 마스크 패턴(61)이 형성된 마스크(60)를 정렬한다(단계 S240).
이 경우, 상기 마스크 패턴(61)이 형성된 마스크(60)를 별도로 형성하여 상기 제1 기판(10) 상에 정렬할 수 있으나, 상기 제 1 기판(10) 상에 직접 상기 마스크 패턴(61)을 형성할 수도 있다.
상기 제1 기판(10) 상에 직접 상기 마스크 패턴(61)을 형성하는 경우, 상기 마스크 패턴(61)은 전자빔 증발(E-beam evaporation) 공정, 화학 기상 증착(chemical vapor deposition, CVD) 공정, 스퍼터링(sputtering) 공정, 물리 기상 증착(physical vapor deposition, PVD) 공정, 원자층 증착(atomic layer deposition, ALD) 공정과 같은 증착 공정 또는 도금 공정을 통해 형성될 수 있다.
이 경우, 상기 마스크 패턴(61)은 후술되는 레이저 광 또는 램프 광 조사 시, 조사되는 레이저 광 또는 램프 광을 흡수하거나 차단하는 역할을 수행한다.
마지막으로, 도 6c에 도시된 바와 같이, 상기 제1 기판(10)의 상부로부터 제공되는 레이저 광 또는 램프 광(50)은 상기 마스크 패턴(61) 사이에 형성되는 개구부(62)와 상기 제1 기판(10)을 차례로 관통하여 상기 희생층(20)에서 흡수된다.
즉, 상기 조사되는 레이저 광 또는 램프 광(50)은 상기 희생층(20)을 향하여 조사되며, 상기 마스크 패턴(61)이 형성되는 위치에서는 상기 마스크 패턴(61)에 의해 흡수되거나 차단된다.
이 경우, 상기 희생층(20) 중 상기 개구부(62)와 정렬된 영역에서는 레이저 광 또는 램프 광(50)의 열을 흡수함으로써, 상기 선택적으로 증발된다.
이에 따라, 상기 희생층(20) 중 상기 개구부(62)와 정렬된 영역 상에 형성되는 상기 패턴층(30)도 선택적으로 상기 제1 기판(10)으로부터 분리되어 상기 제2 기판(40)의 상면으로 전사되고, 이렇게 전사된 상기 패턴층(30)은 상기 제2 기판(40) 상에 소정의 패턴으로 형성된다.
즉, 본 실시예에서는, 상기 희생층(20) 및 상기 패턴층(30)을 소정의 패턴을 가지도록 형성하지 않으므로 상대적으로 공정을 간단하게 구성할 수 있는 장점을 가진다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이고, 도 8a 내지 도 8d는 도 7의 패턴 형성방법을 도시한 공정도들이다.
우선, 도 7 및 도 8a를 참조하면, 본 실시예에 의한 패턴 형성방법에서는, 제1 기판(100)의 상면에 패턴층(200)을 형성한다(단계 S100).
이 경우, 상기 패턴층(200)을 형성하는 방법은 잉크젯 프린팅, 리소그래피 등 다양한 방법이 적용될 수 있음은 이미 설명한 바와 같다.
그 다음, 도 8b를 참조하면, 상기 제1 기판(100)의 상부에서 롤(300)을 일 방향으로 회전시키고, 이에 따라 상기 롤(300)의 표면에 상기 패턴층(200)이 부착되면서 상기 패턴층(200)은 상기 제1 기판(100)으로부터 분리된다(단계 S200).
이 경우, 상기 패턴층(200)은 상기 제1 기판(100)으로부터 분리가 쉽게 이루어지며 상기 롤(300)의 표면에 접착이 용이한 물질로 구성될 수 있다.
또한, 도시하지 않았으나 상기 롤(300)의 표면에는 상기 패턴층(200)을 보다 용이하게 점착 또는 전사할 수 있는 블랭킷이 형성될 수 있으며, 상기 블랭킷은 탄성체이면 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 폴리디메틸 실록산(polydimethylsiloxane), 우레탄(urethane), 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(nitrile-butadiene rubber), 폴리부타디엔(polybutadiene) 등의 엘라스토머로 구성될 수 있다.
그 다음, 도 8c를 참조하면, 표면에 상기 패턴층(200) 이 부착된 상기 롤을 제2 기판(400)과 마주보도록 위치시킨다(단계 S300). 이때, 후술하는 공정에 의해 상기 패턴층(200)이 상기 제2 기판(400)으로 전사될 수 있도록 상기 롤(300)과 상기 제2 기판(400)이 서로 소정 간격 이격되도록 한다.
이 후, 도 8d를 참조하면, 상기 제2 기판(400)의 상부에서 상기 제2 기판(400)을 향하는 방향으로 레이저 광 또는 램프 광(500)을 제공하여, 상기 패턴층(200)을 상기 제2 기판(400)의 상면으로 전사한다(단계 S400).
보다 구체적으로, 레이저 광 또는 램프 광(500)은 상기 롤(300)을 투과하여 상기 패턴층(200)에 높은 에너지를 인가함으로써 상기 패턴층(200)과 상기 롤(300)의 계면을 분리하여 상기 패턴층(200)이 상기 제2 기판(400)으로 전사되도록 한다.
이 경우, 레이저 광 또는 램프 광(500)은 상기 롤(300)과 상기 패턴층(200) 사이의 계면에 제공되며, 또한 레이저 광 또는 램프 광(500)은 상기 롤(300)의 표면 중 상기 패턴층(200)이 형성된 영역에만 제공된다.
이를 위해, 상기 패턴층(200)으로 제공되는 레이저 광 또는 램프 광(500)의 면적은 상기 패턴층(200)의 면적과 실질적으로 동일할 수 있으며, 이에 따라 레이저 광 또는 램프 광(500)이 상기 패턴층(200)만을 상기 롤(300)의 표면으로부터 정확하게 분리시킬 수 있게 된다.
이와 달리, 레이저 광 또는 램프 광(500)의 조사되는 면적이 상기 패턴층(200)의 면적보다 작을 수 있다. 이 경우, 레이저 광 또는 램프 광(500)은 상기 패턴층(200)이 형성된 면적을 커버할 수 있도록 연속적으로 광을 조사하고, 상기 패턴층(200)이 형성되지 않은 영역에서는 광의 조사를 중단하는 방법으로 제공될 수 있다.
한편, 상기 롤(300)은 레이저 광 또는 램프 광(500)이 투과될 수 있는 투명 재질로 형성되는 것이 바람직하다. 그리하여, 레이저 광 또는 램프 광(500)은 상기 롤(300)을 투과하여 상기 패턴층(200)과 상기 롤(300)의 계면으로 효과적으로 제공될 수 있다.
나아가, 레이저 광 또는 램프 광(500)은, 도 8d에 도시된 바와 같이, 상기 롤(300)의 중심을 관통하여 제공될 수 있다. 그리하여, 상기 롤(300)의 가장 하부에 위치한 패턴층(200)으로 레이저 광 또는 램프 광이 조사되어, 상기 제2 기판(400)의 상면으로 용이하게 전사가 수행될 수 있다.
또한, 상기 제2 기판(400)에 상기 패턴층(200)이 연속적으로 전사되며 상기 제2 기판(400) 상에 소정의 패턴을 형성하기 위해서는, 상기 롤(300)과 상기 제2 기판(400)은 상대적으로 이동되어야 한다.
이를 위해, 상기 롤(300)은 정 위치에서 회전만 수행하며 상기 롤(300)의 가장 하부에 위치한 패턴층(200)으로 레이저 광 또는 램프 광만 조사되고, 상기 제2 기판(400)이 제1 방향(X)을 따라 상기 롤(300)에 대하여 이송될 수 있다.
물론, 이와 달리, 상기 제2 기판(400)은 정 위치에서 위치한 상태에서, 상기 롤(300)이 회전과 함께 상기 제2 기판(400)에 대하여 상기 제1 방향(X)을 따라 이송될 수도 있다. 이 경우, 상기 롤(300)이 상기 제1 방향(X)을 따라 이송된다면 상기 롤(300)의 가장 하부에 위치한 패턴층(200)으로 레이저 광 또는 램프 광을 조사하는 조사부(미도시)도 상기 롤(300)의 이송과 동시에 상기 제1 방향(X)으로 동시에 이송되어야 한다.
이와 같이, 레이저 광 또는 램프 광(500)에 의한 상기 패턴층(200)의 박리가 이루어져 상기 패턴층(200)이 상기 제2 기판(400)의 상면으로 전사되면, 전사된 패턴층(200)은 상기 제2 기판(400)의 상면에서 소정의 패턴을 형성하게 된다.
또한, 본 실시예에서와 같이 롤을 이용하여 제2 기판 상에 소정의 패턴을 형성하는 경우, 이른바 롤-투-롤(roll-to-roll) 공정을 통한 인쇄 공정에서와 같이 연속적으로 제2 기판 상에 소정의 패턴을 형성할 수 있으며, 대면적에서의 패턴 형성을 구현할 수 있다.
도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이고, 도 10은 도 9의 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
본 실시예에 의한 패턴 형성 방법은 제2 기판 중, 상기 패턴층이 전사되는 영역과 동일한 영역에 접착층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 제외하고는 도 7 내지 도 8d를 참조하여 설명한 패턴 형성 방법과 동일하므로, 동일한 참조번호를 사용하고 중복되는 설명은 생략한다.
즉, 도 9에서의 단계 S100, 단계 S200, 단계 S300 및 단계 S400은 각각 도 7에서의 단계 S100, 단계 S200, 단계 S300 및 단계 S400과 동일하므로 중복되는 설명은 생략한다.
도 9 및 도 10을 참조하면, 본 실시예에서는 상기 패턴층(200)을 상기 제2 기판(400)의 상면으로 전사하기 전에, 상기 제2 기판(400)의 상면에 먼저 접착층(700)을 형성한다(단계 S350).
상기 접착층(700)은 상기 제2 기판(400)의 표면에서 상기 패턴층(200)이 전사될 영역을 표면 처리함으로써 형성될 수 있다. 즉, 상기 패턴층(200)이 형성되는 영역과 동일한 영역에 대하여 상기 제2 기판(400)의 표면을 처리한다.
이 경우, 상기 제2 기판(400)의 표면 처리 방법으로는, 레이저 광 등으로 조사하는 것과 같이 열을 제공하거나, 화학적 처리를 수행하는 방법 등이 가능하다.
이러한 상기 제2 기판(400)의 표면 처리를 통해, 상기 제2 기판(400)의 표면의 성질이 변화, 즉 개질될 수 있다. 그리하여, 상기 제2 기판(400)을 향해 전사되는 상기 패턴층(200)과 상기 제2 기판(400) 사이의 접착 친화성(affinity)을 향상시키며, 이에 따라 상기 제2 기판(400) 상에 형성되는 패턴의 접착력을 보다 향상시킬 수 있다.
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이고, 도 12는 도 11의 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
본 실시예에 의한 패턴 형성 방법은 롤의 표면에 희생층을 도포하는 단계를 더 포함하고, 롤을 회전시켜 상기 희생층의 표면에 패턴층을 부착시키는 것을 제외하고는 도 7 내지 도 8d를 참조하여 설명한 패턴 형성 방법과 동일하므로, 동일한 참조번호를 사용하고 중복되는 설명은 생략한다.
즉, 도 11에서의 단계 S100, 단계 S300 및 단계 S400은 각각 도 7에서의 단계 S100, 단계 S300 및 단계 S400과 동일하므로 중복되는 설명은 생략한다.
도 11 및 도 12를 참조하면, 본 실시예에서는 상기 롤(300)을 회전시켜 상기 롤(300)의 표면에 상기 패턴층(200)을 부착하기 이전에, 상기 롤(300)의 표면에 희생층(600)을 먼저 형성한다(단계 S120).
상기 희생층(600)은 상기 롤(300)의 표면에 균일하게 형성될 수 있다. 이 경우, 상기 희생층(600)은 상기 롤(300)의 표면 상에 직접 균일하게 도포할 수 있다. 따라서, 상기 희생층(600)이 균일하게 형성된 롤(300)을 도 12에 도시된 바와 같이 패턴층(200)이 형성된 제1 기판(100) 상에서 회전시켜 상기 패턴층(200)을 상기 희생층(600) 상으로 전사시킬 수 있다(단계 S201).
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이고, 도 14는 도 13의 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
본 실시예에 의한 패턴 형성 방법은 패턴층 상에 희생층을 형성하는 단계를 더 포함하고, 롤의 표면에 상기 희생층 및 상기 패턴층을 부착시키는 것을 제외하고는 도 7 내지 도 8d를 참조하여 설명한 패턴 형성 방법과 동일하므로, 동일한 참조번호를 사용하고 중복되는 설명은 생략한다.
즉, 도 13에서의 단계 S100, 단계 S300 및 단계 S400은 각각 도 7에서의 단계 S100, 단계 S300 및 단계 S400과 동일하므로 중복되는 설명은 생략한다.
도 13 및 도 14를 참조하면, 본 실시예에서 상기 희생층(600)은 상기 패턴층(200)과 동일한 패턴을 가지며 상기 롤(300) 상에 형성될 수 있다(단계 S140). 이를 위해서는 상기 제1 기판(100) 상에 패턴층(200)과 상기 희생층(600)이 동일한 패턴을 가지며 차례로 적층 형성된 상태에서, 상기 패턴층(200)과 상기 희생층(600)을 상기 롤(300)로 전사시킬 수 있다(단계 S202). 그리하여, 상기 롤(300) 상에 상기 희생층(600)과 상기 패턴층(200)이 차례로 동일한 패턴을 가지며 적층 형성될 수 있다.
이상의 방법으로 상기 롤(300) 상에 상기 희생층(600)과 상기 패턴층(200)을 순차적으로 형성시킨 이후, 레이저 광 또는 램프 광(500)을 상기 롤(300)의 상부에서 제공함으로써 상기 패턴층(200)이 상기 제2 기판(400)을 전사되도록 한다.
이 경우, 레이저 광 또는 램프 광(500)은 상기 롤(300)을 투과하여 상기 희생층(600)을 향하여 조사되어 상기 희생층(600)에 열을 제공함으로써 상기 희생층(600)이 증발되도록 하며, 상기 패턴층(200)은 상기 희생층(600)의 증발에 따라 상기 희생층(600)으로부터 분리되어 상기 제2 기판(400)으로 전사된다.
한편, 레이저 광 또는 램프 광(500)이 상기 롤(300)의 중앙을 통과하여 상기 롤(300)의 가장 하부의 패턴층(200)을 향해 조사되어야 하고, 상기 롤(300)은 회전하며, 상기 롤(300)과 상기 제2 기판(400)이 상대적으로 이동되어야 하는 것은, 도 7 내지 도 8d를 참조하여 설명한 패턴 형성방법에서와 동일하다.
이와 같이, 상기 패턴층(200)은 상기 롤(300)과의 박리를 위해 일면에 직접적으로 열이 인가받지 않고 상기 희생층(600)의 증발에 의해 상기 롤(300)과 분리됨으로써 일면, 즉 상면의 손상을 방지할 수 있으며 보다 균일한 상면을 갖게 될 수 있고, 이에 따라 상기 제2 기판(400) 상에 형성되는 패턴의 표면의 품질이 보다 향상될 수 있다.
도 15는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
본 실시예에 의한 패턴 형성 방법은 레이저 광 또는 램프 광이 제2 기판의 하부로부터 제공되는 것을 제외하고는 도 7 내지 도 8d를 참조하여 설명한 패턴 형성 방법과 동일하므로, 동일한 참조번호를 사용하고 중복되는 설명은 생략한다.
도 15를 참조하면, 본 실시예에서 레이저 광 또는 램프 광(500)은 상기 제2 기판(400)의 하부로부터 제공됨에 따라 상기 제2 기판(400)을 투과하여 상기 패턴층(200)으로 광 에너지를 제공한다. 즉, 레이저 광 또는 램프 광(500)은 상기 롤(300)과 상기 패턴층(200) 사이의 계면을 향하에 조사된다.
이에 따라 에너지를 제공받은 상기 패턴층(200)은 상기 롤(300)과 분리되어 상기 제2 기판(400)의 상면으로 전사되고, 전사된 패턴층(200)은 소정의 패턴을 형성하게 된다.
한편 이 경우, 상기 제2 기판(400)은 레이저 광 또는 램프 광(500)이 하부에서부터 투과되므로, 레이저 광 또는 램프 광(500)을 투과시킬 수 있는 투명 기판인 것이 바람직하다. 이와 달리, 상기 롤(300)은 투명한 재질로 형성될 필요는 없다.
마찬가지로 본 실시예에서도, 상기 롤(300)과 상기 패턴층(200)의 사이에 희생층이 추가로 형성될 수 있으며, 레이저 광 또는 램프 광(500)이 상기 희생층을 향하여 조사될 수 있음은 앞선 실시예에서 설명한 바와 같다.
나아가, 레이저 광 또는 램프 광(500)이 상기 롤(300)의 중앙을 향하여 상기 롤(300)의 가장 하부의 패턴층(200)을 향해 조사되어야 하고, 상기 롤(300)은 회전하며, 상기 롤(300)과 상기 제2 기판(400)이 상대적으로 이동되어야 하는 것 역시, 앞선 실시예에서 설명한 바와 같다.
도 16은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
본 실시예에 의한 패턴 형성 방법은 롤이 중공 형상으로 형성되는 것을 제외하고는 도 7 내지 도 8d를 참조하여 설명한 패턴 형성 방법과 동일하므로, 동일한 참조번호를 사용하고 중복되는 설명은 생략한다.
도 16을 참조하면, 본 실시예에서 롤(301)은 중공 형상으로 형성되며, 상기 롤(301)의 중공부에는 레이저 광을 제공하는 레이저 또는 램프 광을 제공하는 램프(501)가 위치된다.
상기 롤(301)의 상기 중공부에 상기 램프(501)가 위치되는 경우, 상기 램프(501)는 예를 들어 IPL(Intense Pulsed Light), UV/IR 램프일 수 있다.
이와 같이 상기 롤(301)의 중공부로부터 레이저 광 또는 램프 광(500)이 제공되는 경우, 상기 롤(301)의 표면에 부착된 패턴층(200)은 제2 기판(400)의 상면으로 전사될 수 있다.
도 17은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 흐름도이다. 도 18은 도 17의 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
본 실시예에 의한 패턴 형성 방법은 패턴층이 롤의 표면의 전체 영역에 도포되는 것을 제외하고는 도 16을 참조하여 설명한 패턴 형성 방법과 동일하므로, 동일한 참조번호를 사용하고 중복되는 설명은 생략한다.
도 17 및 도 18을 참조하면, 본 실시예에에서는 우선 롤(301)의 표면의 전체 영역에 패턴층(200)을 도포한다(단계 S1000).
그 다음, 상기 패턴층(200)이 부착된 상기 롤(301)을 제2 기판(400)과 마주보도록 위치시킨다(단계 S2000).
마지막으로, 상기 롤(301)의 중공부에 위치한 레이저 또는 램프(501)로부터 제공되는 레이저 광 또는 램프 광(500)을 이용하여 상기 패턴층(200)을 상기 제2 기판(400)의 상면으로 전사한다(단계 S3000).
이 경우, 상기 롤(301)의 표면에 도포된 상기 패턴층(200)은 레이저 광 또는 램프 광에 의해 상기 제2 기판(400) 상에 임의의 패턴으로 전사될 수 있다.
한편, 도시하지 않았으나 상기 레이저 또는 상기 램프는 상기 롤(301)의 상부 또는 하부에 위치되어 레이저 광 또는 램프 광을 제공할 수 있음은 앞서 설명한 바와 같다.
도 19는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 패턴 형성방법을 도시한 모식도이다.
본 실시예에 의한 패턴 형성 방법은 희생층이 롤의 표면의 전체 영역에 도포되는 것을 제외하고는 도 17 및 도 18을 참조하여 설명한 패턴 형성 방법과 동일하므로, 동일한 참조번호를 사용하고 중복되는 설명은 생략한다.
도 19를 참조하면, 본 실시에에서는 상기 롤(301)의 표면의 전체 영역에 패턴층(200)을 도포하기 이전에, 우선 상기 롤(301)의 표면의 전체 영역에 희생층(600)을 도포한다.
그 다음, 상기 롤(301)의 표면에 도포된 상기 희생층(600)의 표면의 전체 영역에 패턴층(200)을 도포한다.
이에 따라, 상기 롤(301)의 표면의 전체 영역에는 상기 희생층(600) 및 상기 패턴층(200)이 차레로 도포된 형태를 이루게 된다.
이 후, 상기 롤(301)의 중공부에 위치한 레이저 또는 램프(501)로부터 레이저 광 또는 램프 광(500)이 상기 롤(301)과 상기 희생층(600)의 계면으로 제공되면, 광을 제공받은 상기 희생층(600)이 증발되며 상기 증발되는 희생층(600)의 표면에 형성된 상기 패턴층(200)은 상기 롤(301)로부터 분리되어 제2 기판(400)의 상면으로 전사되게 된다.
이 경우, 상기 패턴층(200)이 상기 롤(301)의 표면이 아닌 상기 희생층(600)으로부터 분리됨으로써 상기 희생층(600)과 접하는 면의 손상이 최소화될 수 있다.
상기와 같은 본 발명의 실시예들에 의하면, 레이저 전사 방식을 이용하여 패턴을 형성하는 경우, 제1 기판 상에 먼저 희생층을 형성하고 상기 희생층을 향하여 레이저 광 또는 램프 광을 조사함으로써, 레이저 광 또는 램프 광이 상기 패턴층에 직접 조사되는 경우와 비교하여, 상기 패턴층이 제1 기판으로부터 분리되는 경우 계면을 손상을 최소화할 수 있고, 이에 따라 최종적으로 형성되는 패턴의 표면을 보다 균일하게 형성할 수 있다.
한편, 롤 인쇄 공정에 상기 레이저 전사 방식을 적용하는 경우, 제2 기판으로의 전사를 통한 패턴 형성을 연속적으로 수행할 수 있으며 이에 따라 대면적 기판에 대한 패턴을 상대적으로 높은 공정 속도로 형성할 수 있다.
이 경우, 롤의 표면에 희생층을 형성하여 롤과 패턴층을 직접 접촉시키지 않고 레이저 광 또는 램프 광을 희생층을 향하여 조사함으로써 상기 패턴층이 롤로부터 분리되는 경우 계면의 손상을 최소화할 수 있어, 형성되는 패턴의 품질도 균일하게 향상시킬 수 있다.
나아가, 기판이나 롤에 부착된 패턴층을 제2 기판의 상면으로 전사하기 이전에 제2 기판의 상면에 패턴층이 형성되는 영역과 동일한 영역에 대하여 접착층을 형성함으로써, 상기 기판이나 롤에 부착된 패턴층이 전사되어 형성되는 패턴의 상기 제2 기판과의 접착력을 보다 향상시킬 수 있어, 안정적인 신축성 소자를 제작할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
10 : 제1 기판 20 : 희생층
30 : 패턴층 40 : 제2 기판
50 : 레이저 광 또는 램프 광 70 : 접착층
100 : 제1 기판 200 : 패턴층
300 : 롤 400 : 제2 기판
500 : 레이저 광 또는 램프 광 600 : 희생층
700 : 접착층

Claims (23)

  1. 제1 기판의 상면에 희생층(sacrificial layer) 및 패턴층을 차례로 형성하는 단계;
    상기 제1 기판의 상면을 상기 제2 기판과 마주보도록 위치시키는 단계; 및
    상기 제1 기판의 상부로부터 상기 제1 기판을 통과하여 상기 희생층으로 레이저 광 또는 램프 광을 제공하여, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계를 포함하는 패턴 형성방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 희생층 및 패턴층을 차례로 형성하는 단계에서,
    상기 희생층은 상기 패턴층이 형성되는 영역과 동일하게 상기 제1 기판의 상면의 일부 영역에 형성되고,
    상기 패턴층은 잉크젯 프린팅(ink jet printing) 공정에 의해 상기 희생층의 상면에 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 희생층 및 패턴층을 차례로 형성하는 단계에서,
    상기 희생층은 상기 제1 기판의 상면의 전체 영역에 형성되고,
    상기 패턴층은 상기 희생층의 상면의 전체 영역에 형성되고,
    상기 희생층과 상기 패턴층이 소정의 패턴을 가지도록 패터닝 되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1 기판은,
    상기 레이저 광 또는 램프 광이 투과되는 투명 기판인 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계에서,
    상기 희생층으로 상기 레이저 광 또는 램프 광이 제공됨에 따라 상기 희생층은 증발되고 상기 패턴층이 상기 제1 기판으로부터 분리되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계 이전에,
    상기 희생층 및 상기 패턴층이 형성된 상기 제1 기판의 상면의 반대측 면에 마스크 패턴이 형성된 마스크를 정렬하는 단계를 더 포함하는 패턴 형성방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 희생층 및 상기 패턴층은 상기 제1 기판의 상면의 전체 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계에서,
    상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 마스크 패턴에 의해 차단되며 선택적으로 상기 희생층으로 제공되고, 상기 레이저 광 또는 램프 광이 제공되는 영역에서 상기 패턴층이 상기 제1 기판으로부터 선택적으로 분리되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계 이전에,
    상기 제2 기판 중, 상기 패턴층이 전사되는 영역과 동일한 영역에 접착층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  10. 제1 기판의 상면에 패턴층을 형성하는 단계;
    상기 제1 기판의 상부에서 롤을 회전시켜 상기 롤의 표면에 상기 패턴층을 부착시키는 단계;
    상기 패턴층이 부착된 롤을 제2 기판과 마주보도록 위치시키는 단계; 및
    레이저 광 또는 램프 광을 제공하여, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계를 포함하는 패턴 형성방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계에서,
    상기 롤은 일 방향을 회전하고,
    상기 제2 기판의 연장 방향을 따라, 상기 롤과 상기 제2 기판은 상대적으로 이동하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 롤에 부착된 패턴층이 상기 롤의 가장 하부에 위치하는 경우, 상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 패턴층을 향하여 조사되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 레이저 광 또는 램프 광의 면적은 상기 롤의 가장 하부에 위치하는 패턴층의 면적과 동일한 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  14. 제10항에 있어서, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계에서,
    상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 롤과 상기 패턴층의 계면으로 제공되어, 상기 패턴층이 상기 롤의 표면으로부터 분리되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  15. 제10항에 있어서,
    상기 롤은 투명 재질을 포함하여,
    상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 롤의 상부로부터 상기 롤을 통과하여 상기 패턴층으로 제공되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  16. 제10항에 있어서,
    상기 제2 기판은 투명 재질을 포함하여,
    상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 제2 기판의 하부로부터 상기 제2 기판을 통과하여 상기 패턴층으로 제공되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  17. 제10항에 있어서,
    상기 제1 기판의 상면에 패턴층을 형성한 후, 상기 패턴층 상에 희생층을 형성하는 단계를 더 포함하고,
    상기 롤의 표면에 상기 패턴층을 부착시키는 단계에서, 상기 롤의 표면에 상기 희생층과 상기 패턴층을 부착시키고,
    상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 롤과 상기 희생층의 계면으로 제공되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  18. 제10항에 있어서,
    상기 롤의 표면에 상기 패턴층을 부착시키는 단계 이전에, 상기 롤의 표면에 희생층을 도포하는 단계를 더 포함하고,
    상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 롤과 상기 희생층의 계면으로 제공되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  19. 제10항에 있어서, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계 이전에,
    상기 제2 기판 중, 상기 패턴층이 전사되는 영역과 동일한 영역에 접착층을 형성하는 단계를 더 포함하는 패턴 형성방법.
  20. 제10항에 있어서,
    상기 롤은 중공 형상으로 형성되며,
    상기 롤의 중공부에 레이저 또는 램프가 위치하여 상기 레이저 광 또는 램프 광을 제공하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  21. 롤의 표면의 전체 영역에 패턴층을 도포하는 단계;
    상기 패턴층이 부착된 롤을 제2 기판과 마주보도록 위치시키는 단계; 및
    레이저 광 또는 램프 광을 제공하여, 상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계를 포함하는 패턴 형성방법.
  22. 제21항에 있어서,
    상기 롤의 표면의 전체 영역에 패턴층을 도포하는 단계에서,
    상기 롤의 표면의 전체 영역에 희생층을 도포한 후 상기 희생층의 표면의 전체 영역에 상기 패턴층을 도포하고,
    상기 패턴층을 상기 제2 기판의 상면으로 전사하는 단계에서,상기 레이저 광 또는 램프 광은 상기 롤과 상기 희생층의 계면으로 제공되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
  23. 제21항에 있어서,
    상기 롤은 중공 형상으로 형성되며,
    상기 롤의 중공부에 레이저 또는 램프가 위치하여 상기 레이저 광 또는 램프 광을 제공하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114050216A (zh) * 2021-10-28 2022-02-15 华中科技大学 一种柔性电子器件及其激光加工方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005310410A (ja) * 2004-04-16 2005-11-04 Toppan Printing Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び装置
JP2008166757A (ja) * 2006-12-29 2008-07-17 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 薄膜キャパシタ内蔵型配線基板の製造方法
KR20100027527A (ko) * 2008-09-02 2010-03-11 삼성전기주식회사 박막소자 제조방법
KR100951778B1 (ko) 2008-05-28 2010-04-08 연세대학교 산학협력단 레이저 프린팅에 의한 박막 패터닝 방법
KR20110109130A (ko) * 2010-03-30 2011-10-06 한국기계연구원 롤임프린트 장치
KR20140012408A (ko) 2012-07-20 2014-02-03 엘지이노텍 주식회사 패턴이 형성된 롤 및 그 제조 방법
KR20170008768A (ko) 2014-05-27 2017-01-24 오르보테크 엘티디. 레이저 유도 순방향 전송에 의한 3d 구조의 인쇄

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005310410A (ja) * 2004-04-16 2005-11-04 Toppan Printing Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び装置
JP2008166757A (ja) * 2006-12-29 2008-07-17 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 薄膜キャパシタ内蔵型配線基板の製造方法
KR100951778B1 (ko) 2008-05-28 2010-04-08 연세대학교 산학협력단 레이저 프린팅에 의한 박막 패터닝 방법
KR20100027527A (ko) * 2008-09-02 2010-03-11 삼성전기주식회사 박막소자 제조방법
KR20110109130A (ko) * 2010-03-30 2011-10-06 한국기계연구원 롤임프린트 장치
KR20140012408A (ko) 2012-07-20 2014-02-03 엘지이노텍 주식회사 패턴이 형성된 롤 및 그 제조 방법
KR20170008768A (ko) 2014-05-27 2017-01-24 오르보테크 엘티디. 레이저 유도 순방향 전송에 의한 3d 구조의 인쇄

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114050216A (zh) * 2021-10-28 2022-02-15 华中科技大学 一种柔性电子器件及其激光加工方法

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