JP4826181B2 - パターン形成方法およびパターン形成装置 - Google Patents
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去工程と、前記転写除去工程を経た塗布ローラーの塗布液によるパターンを基材に転写する転写工程とを備えるパターン形成方法で、基材がフィルム状であり、基材巻出し部および基材巻取り部を有しその間に配置された圧胴により基材が塗布ローラに押付けられることでパターンを転写するパターン形成方法において、前記基材巻出し部および基材巻取り部の間に配置された圧胴が複数であり、基材巻出し部および基材巻取り部の間に配置された圧胴が、最初の印圧が最後の印圧より大きい印圧に調整されていることを特徴とするパターンの形成方法を提供して、前記課題を解消するものである。
本発明のパターン形成方法によれば、フィルム状の基材へ材料パターンを転写する際に、まず最初の圧胴により極めて小さい印圧、例えば材料厚み程度の押込み量にて前記フィルム状の基材を塗布ローラに押し当て、基材に材料パターンを転写する。その際、転写時の印圧が非常に小さいことでパターン位置の歪みの発生なく材料パターンを基材に形成できる。そして、最初の圧胴での押圧を経たのち最後の圧胴まで搬送され、最後の圧胴により塗布ローラから基材への材料パターンの転写が確実になされる程度の印圧で押圧することで、前記基材上に欠けなく材料厚みの均一性が良好な材料パターンの形成ができる。このようにして、パターン位置の歪みなくかつパターン欠けなく、材料厚みの均一性も得られたパターンの形成に効果を奏するものである。
また、第一の圧胴を弾性を有しない材質とし、極めて小さい印圧で基材に材料パターンを転写する。そして、弾性を有する材質である第二の圧胴により塗布ローラから基材への材料パターンの転写が確実になされる程度の印圧で押圧する。第一の圧胴を弾性を有さない材質とすることで印圧をかけた際の圧胴の変形を極力小さくし、パターン位置の歪みなく材料パターンを形成できる。また、第二の圧胴を弾性を有する材質にし強い印圧をかけることで、印圧に加え圧胴と塗布ローラ間の接触面積を広く得られることでより確実な材料パターンの転写が可能となる。さらには、フィルム状の基材が第一の圧胴から第二の圧胴に搬送される際、第一の圧胴および第二の圧胴の支持によりフィルム状の基材を塗布ローラに密着させたままにしておくことで、より確実な材料パターンの転写がなされ、かつパターン位置も歪まないまま第二の圧胴にフィルム状の基材を搬送することができる。このようにして、パターン位置の歪みなくかつパターン欠けなく、材料厚みの均一性も得られたパターンの形成により効果を奏するものである。
また、塗布液供給手段は塗布液を塗布ローラに定厚で供給することで、フィルム状の基材に転写された材料厚みが均一になり色ムラをより確実に防止できるとともに、塗布液除去版によるネガパターンの転写除去が適性になされ、連続して印刷する際の塗布ローラの表面を、毎回の塗布工程時に同じ状態に維持できるようになる。
また、塗布液除去版はシリンダー状で、塗布液除去版上に付着した塗布液を洗浄し、塗布液除去版を乾燥することで、連続して印刷する際に常時清浄な塗布液除去版に塗布ローラを押圧させることができ、よってネガパターン部分の塗布液の転写除去が毎回確実に行えるようになる。
また、塗布液供給手段から塗布ローラに供給された塗布液が塗布液除去版に押圧される前に、塗布液乾燥手段により塗布ローラ上の塗布液の乾燥を促し最適な転写が可能な乾燥状態に調整することで、塗布液除去版にて確実な転写除去が行えるようになる。
また、転写除去工程から転写工程を経た塗布ローラ上に残存した塗布液を除去し、塗布ローラを乾燥することで、連続して印刷する際の塗布ローラの表面を、毎回の塗布工程時に同じ状態に維持できるようになる。
(請求項7の効果)
本発明のパターン形成装置によれば、フィルム状の基材へ材料パターンを転写する際に、まず最初の圧胴により極めて小さい印圧、例えば材料厚み程度の押込み量にて前記フィ
ルム状の基材を塗布ローラに押し当て、基材に材料パターンを転写する。その際、転写時の印圧が非常に小さいことでパターン位置の歪みの発生なく材料パターンを基材に形成できる。そして、最初の圧胴での押圧を経たのち最後の圧胴まで搬送され、最後の圧胴により塗布ローラから基材への材料パターンの転写が確実になされる程度の印圧で押圧することで、前記基材上に欠けなく材料厚みの均一性が良好な材料パターンの形成ができる。このようにして、パターン位置の歪みなくかつパターン欠けなく、材料厚みの均一性も得られたパターンの形成に効果を奏するものである。
また、第一の圧胴を弾性を有しない材質とし、極めて小さい印圧で基材に材料パターンを転写する。そして、弾性を有する材質である第二の圧胴により塗布ローラから基材への材料パターンの転写が確実になされる程度の印圧で押圧する。第一の圧胴を弾性を有さない材質とすることで印圧をかけた際の圧胴の変形を極力小さくし、パターン位置の歪みなく材料パターンを形成できる。また、第二の圧胴を弾性を有する材質にし強い印圧をかけることで、印圧に加え圧胴と塗布ローラ間の接触面積を広く得られることでより確実な材料パターンの転写が可能となる。さらには、フィルム状の基材が第一の圧胴から第二の圧胴に搬送される際、第一の圧胴および第二の圧胴の支持によりフィルム状の基材を塗布ローラに密着させたままにしておくと、より確実な材料パターンの転写がなされ、かつパターン位置も歪まないまま第二の圧胴にフィルム状の基材を搬送することができる。このようにして、パターン位置の歪みなくかつパターン欠けなく、材料厚みの均一性も得られたパターンの形成により効果を奏するものである。
また、塗布液供給手段は塗布液を塗布ローラに定厚で供給することで、フィルム状の基材に転写された材料厚みが均一になり色ムラをより確実に防止できるとともに、塗布液除去版によるネガパターンの転写除去が適性になされ、連続して印刷する際の塗布ローラの表面を清浄に維持できるようになる。
また、塗布液除去版はシリンダー状で、塗布液除去版上に付着した塗布液を洗浄し、塗布液除去版を乾燥することで、連続して印刷する際に常時清浄な塗布液除去版に塗布ローラを押圧させることができ、よってネガパターン部分の塗布液の転写除去が毎回確実に行えるようになる。
また、塗布液供給手段から塗布ローラに供給された塗布液が塗布液除去版に押圧される前に、塗布液乾燥手段により塗布ローラ上の塗布液の乾燥を促し最適な転写が可能な乾燥状態に調整することで、塗布液除去版にて確実な転写除去が行えるようになる。
また、転写除去手段から転写手段を経た塗布ローラ上に残存した塗布液を除去し、塗布ローラを乾燥することで、連続して印刷する際の塗布ローラの表面を清浄に維持できるようになる。
に示すように塗布ローラ2、塗布液供給手段3、塗布液乾燥手段4、塗布液除去版5、版洗浄手段6、基材搬送転写部7、塗布ローラ清掃手段8とからなるものである。
(塗布液供給手段 図2)
塗布液供給手段3は塗布ローラ2の回転に伴ない黒色インキIを例えばダイヘッド30にて塗布ローラ2、例えばシリコーンゴムが表面に形成されたものに対して定厚にてパターン構成材料である黒色インキIを供給する。
(塗布液乾燥手段 図3)
塗布ローラ2上に定厚にて塗布された黒色インキIは塗布ローラ2の回転に従い塗布液乾燥手段4の処理位置まで移動され、回転しながら塗布液乾燥手段4により乾燥を促され、最適な転写が可能な状態まで乾燥される。ここで、塗布液乾燥手段4は、例えばエアブロアを用いエアブロアのエア風量もしくはエア温度を調整することで塗布ローラ2上の黒色インキIを最適な転写が可能な乾燥状態にする。
(塗布液除去版、塗布液除去版 図4)
塗布液乾燥手段4にて最適な転写が可能な状態に乾燥された黒色インキIは塗布ローラ2の回転に従い、シリンダー状でかつ所望のブラックマトリクスパターンPのネガパターンを凸部50とする塗布液除去版5の位置まで移動され、塗布ローラ2と同期して回転する塗布液除去版5との接触によって塗布ローラ2上からブラックマトリクスパターンP以外の余剰な黒色インキIを塗布液除去版5上の凸部50に転写し取り除く。それにより塗布ローラ2上にはブラックマトリクスパターンPが形成される。
(基材搬送転写部 図5)
塗布液除去版5にて塗布ローラ2上に形成されたブラックマトリクスパターンPは塗布ローラ2の回転に従い、基材搬送転写部7の処理位置まで移動される。基材搬送転写部7は例えばPETのフィルム基材70がロール状にされ、基材巻出し部71から基材巻取り部72まで巻き取られるようになっている。その基材巻出し部71と基材巻取り部72の間に、第一の圧胴73が基材巻出し部71に近い側に、第二の圧胴74が基材巻取り部72に近い側に並んで配置され、フィルム基材70を支持したそれぞれの圧胴がともに塗布ローラに押付けられるようになっている。また、第一の圧胴73は弾性を有しない材質、例えば鉄材でブラックマトリクスパターンPの厚み程度の押込み量で押印し、第二の圧胴74は弾性を有する材質、例えばゴム材(JIS A硬度40度)でブラックマトリクスパターンPを強い印圧(本実施の形態では押込み量200μmに設定)で押圧するように配置され、第一の圧胴73から第二の圧胴74まで張られたフィルム基材70は塗布ローラ2に密着した状態になっている。前記のように構成された基材搬送転写部7の処理位置まで移動された塗布ローラ2上のブラックマトリクスパターンPは、塗布ローラ2の回転に従い第一の圧胴73で弱い印圧で押圧された後、第一の圧胴73および第二の圧胴74の支持により、フィルム基材70に密着した状態で第二の圧胴74に送りこまれ、強めの印圧で押圧される。それにより、パターン位置の歪みなく確実なブラックマトリクスパターンPの転写がなされる。ブラックマトリクスパターンPが形成されたフィルム基材70は、ヒータ等で硬化処理が施された後、基材巻取り部72に巻き取られ回収される。
(塗布ローラ清掃手段)
基材搬送転写部7での転写工程が完了すると、塗布ローラ2上のブラックマトリクスパターンPが形成されていた部分は、塗布ローラ2の回転に従って塗布ローラ清掃手段8の処理位置に移動され、回転しながら塗布ローラ清掃手段8により塗布ローラ2を塗布工程前の清浄な状態に戻す。塗布ローラ清掃手段8は、塗布ローラ2上に残存している黒色インキIを、例えば粘着性を有したローラを接触させることで取り除き、例えばエアブロアを用いエア風量およびエア温度を調整することで塗布ローラ2表面の乾燥を行うことで塗布ローラを清浄な状態にする。
2 …塗布ローラ
3 …塗布液供給手段
30…ダイヘッド
4 …塗布液乾燥手段
5 …塗布液除去版
50…凸部
6 …版洗浄手段
7 …基材搬送転写部
70…フィルム基材
71…基材巻出し部
72…基材巻取り部
73…第一の圧胴
74…第二の圧胴
8 …塗布ローラ清掃手段
I …黒色インキ
P …ブラックマトリクスパターン
Claims (12)
- 塗布液供給手段からパターン構成材料の塗布液が供給された塗布ローラを、前記パターンのネガパターンを凸部とする塗布液除去版に押圧して、塗布ローラから前記ネガパターンにして塗布液を転写除去する転写除去工程と、前記転写除去工程を経た塗布ローラーの塗布液によるパターンを基材に転写する転写工程とを備えるパターン形成方法で、基材がフィルム状であり、基材巻出し部および基材巻取り部を有しその間に配置された圧胴により基材が塗布ローラに押付けられることでパターンを転写するパターン形成方法において、前記基材巻出し部および基材巻取り部の間に配置された圧胴が複数であり、最初の印圧が最後の印圧より小さい印圧で塗布ローラに押圧されていることを特徴とするパターン形成方法。
- 前記複数の圧胴が、転写工程の中で最初に基材を塗布ローラに押圧する第一の圧胴が弾性を有しない材質であり、第一の圧胴の押圧を経たのち基材を塗布ローラに押圧する第二の圧胴が弾性を有する材質であることを特徴とする請求項1に記載のパターン形成方法。
- 前記塗布液供給手段は塗布液を定厚で供給する請求項1または2に記載のパターン形成方法。
- 前記塗布液除去版がシリンダー状であり、該塗布液除去版上に付着した塗布液を洗浄し、塗布液除去版を乾燥する手段を有することを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
- 前記塗布液供給手段から塗布ローラに供給された塗布液の乾燥を促す塗布液乾燥手段を有することを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
- 前記転写除去工程から前記転写工程を経た塗布ローラ上に残存した塗布液を除去し、塗布ローラを乾燥する手段を有することを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載のパターン形成方法。
- 塗布液供給手段からパターン構成材料の塗布液が供給された塗布ローラを、前記パターンのネガパターンを凸部とする塗布液除去版に押圧して、塗布ローラから前記ネガパターンにして塗布液を転写除去する転写除去手段と、前記転写除去手段を経た塗布ローラーの塗布液によるパターンを基材に転写する転写手段とを備えるパターン形成装置で、基材がフィルム状であり、基材巻出し手段および基材巻取り手段を有しその間に配置された圧胴により基材が塗布ローラに押付けられることでパターンを転写するパターン形成装置において、前記基材巻出し手段および基材巻取り手段の間に配置された圧胴が複数であり、最初の印圧が最後の印圧より小さい印圧で塗布ローラに押圧されていることを特徴とするパターン形成装置。
- 前記複数の圧胴が、転写手段の中で最初に基材を塗布ローラに押圧する第一の圧胴が弾性を有しない材質であり、第一の圧胴の押圧を経たのち基材を塗布ローラに押圧する第二の圧胴が弾性を有する材質であることを特徴とする請求項7に記載のパターン形成装置。
- 前記塗布液供給手段は塗布液を定厚で供給する請求項7または8のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
- 前記塗布液除去版がシリンダー状であり、該塗布液除去版上に付着した塗布液を洗浄し、塗布液除去版を乾燥する手段を有することを特徴とする請求項7から9のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
- 前記塗布液供給手段から塗布ローラに供給された塗布液の乾燥を促す塗布液乾燥手段を有することを特徴とする請求項7から10のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
- 前記転写除去から前記転写手段を経た塗布ローラ上に残存した塗布液を除去し、塗布ローラを乾燥する手段を有することを特徴とする請求項7から11のいずれか一項に記載のパターン形成装置。
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