KR20190143371A - 하지층 부착 필름, 투명 도전성 필름, 투명 도전성 필름 적층체 및 화상 표시 장치 - Google Patents

하지층 부착 필름, 투명 도전성 필름, 투명 도전성 필름 적층체 및 화상 표시 장치 Download PDF

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후미히코 고노
쇼야 다케시타
히데히코 안도
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

하지층 부착 필름은, 투명 기재와, 투명 기재의 두께 방향 일방측에 배치되는 하지층을 구비한다. 파장 590 ㎚ 에 있어서의 면내 위상차가, 10.0 ㎚ 이하이다. 하지층의 두께 방향 일방측으로부터 200 ㎚ 깊이에 있어서의 소성 변형량이, 50 ㎚ 이하이다.

Description

하지층 부착 필름, 투명 도전성 필름, 투명 도전성 필름 적층체 및 화상 표시 장치{UNDERLAYERED FILM, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM LAMINATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}
본 발명은 하지층 부착 필름, 투명 도전성 필름, 투명 도전성 필름 적층체 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.
종래부터, 인듐주석 복합 산화물로 이루어지는 투명 도전층을 원하는 전극 패턴이 되도록 투명 기재 상에 형성한 투명 도전성 필름이, 터치 패널 등의 광학 용도에 사용된다.
예를 들어, 일본 공개특허공보 2017-62609호에는, 투명 수지 필름과, 하드 코트층과, 광학 조정층과, 투명 도전층을 차례로 구비하는 투명 도전성 필름이 개시되어 있다. 이와 같은 일본 공개특허공보 2017-62609호의 투명 도전성 필름에 있어서, 하드 코트층은, 투명 도전성 필름에 내찰상성을 부여하기 위해서 형성되고, 광학 조정층은, 전극 패턴이 시인되지 않도록 하기 위해서 형성되어 있다.
그런데, 최근, 전극 패턴 (패턴부) 을 통과하는 광량과, 전극 패턴 이외의 부분 (비패턴부) 을 통과하는 광량의 차를 저감 (반감) 할 수 있고, 전극 패턴의 시인을 억제하기 쉬운 관점에서, 투명 도전성 필름을 편광 필름보다 액정 셀측 (시인측과는 반대측) 에 배치하는 이너 셀형의 화상 표시 장치가 검토되고 있다.
이와 같은 화상 표시 장치에서는, 편광 필름을 통과한 편광이, 투명 도전성 필름을 통과하기 위해서, 투명 도전성 필름에는, 편광의 해소를 억제하는 관점에서 면내 위상차가 낮은 특성이 필요해진다. 그 때문에, 투명 기재로서, 시클로올레핀계 필름 등의 위상차가 낮은 필름이 사용되고 있다.
그러나, 투명 기재에 투명 도전층을 형성하여 투명 도전성 필름을 제조하면, 투명 도전성 필름의 두께 방향 위상차가 대폭 상승하는 문제가 발생된다. 그 결과, 경사 방향으로부터의 색 변화가 발생된다.
본 발명은, 편광의 해소를 억제하면서, 경사 방향으로부터의 색 변화를 억제할 수 있는 하지층 부착 필름, 투명 도전성 필름, 투명 도전성 필름 적층체 및 화상 표시 장치를 제공한다.
본 발명 [1] 은, 투명 기재와, 상기 투명 기재의 두께 방향 일방측에 배치되는 하지층을 구비하고, 파장 590 ㎚ 에 있어서의 면내 위상차가, 10.0 ㎚ 이하이며, 상기 하지층의 상기 두께 방향 일방측으로부터 200 ㎚ 깊이에 있어서의 소성 변형량이, 50 ㎚ 이하인, 하지층 부착 필름을 포함한다.
본 발명 [2] 는, 상기 하지층이, 하드 코트층과, 상기 하드 코트층의 두께 방향 일방측에 배치되는 광학 조정층을 구비하는, [1] 에 기재된 하지층 부착 필름을 포함한다.
본 발명 [3] 은, 상기 하지층의 두께가, 0.5 ㎛ 이상, 2.0 ㎛ 이하인, [1] 또는 [2] 에 기재된 하지층 부착 필름을 포함한다.
본 발명 [4] 는, [1] ∼ [3] 중 어느 한 항에 기재된 하지층 부착 필름과, 상기 하지층 부착 필름의 두께 방향 일방측에 배치되는 투명 도전층을 구비하는, 투명 도전성 필름을 포함한다.
본 발명 [5] 는, 150 ℃, 90 분 동안 가열했을 때에 있어서의 열 수축률이, 0.10 % 이하인, [4] 에 기재된 투명 도전성 필름을 포함한다.
본 발명 [6] 은, 130 ℃, 90 분 동안 가열했을 때에 있어서의 두께 방향 위상차가, 8.0 ㎚ 이하인, [4] 또는 [5] 에 기재된 투명 도전성 필름을 포함한다.
본 발명 [7] 은, 편광자와 [4] ∼ [6] 중 어느 한 항에 기재된 투명 도전성 필름을 구비하는, 투명 도전성 필름 적층체를 포함한다.
본 발명 [8] 은, 화상 표시 소자와, [7] 에 기재된 투명 도전성 필름 적층체를 구비하고, 상기 투명 도전성 필름이, 상기 편광자와 상기 화상 표시 소자 사이에 배치되는, 화상 표시 장치를 포함한다.
본 발명의 하지층 부착 필름에 의하면, 투명 기재와 하지층을 구비하고, 파장 590 ㎚ 에 있어서의 면내 위상차가, 10.0 ㎚ 이하이며, 하지층의 상기 두께 방향 일방측으로부터 200 ㎚ 깊이에 있어서의 소성 변형량이, 50 ㎚ 이하이다. 그 때문에, 본 발명의 하지층 부착 필름에 투명 도전층을 형성하고, 본 발명의 투명 도전성 필름 및 투명 도전성 필름 적층체를 제조하면, 이것들을 통과하는 편광의 해소를 억제할 수 있다. 또, 경사 방향으로부터의 광의 색 변화를 억제할 수 있다.
또, 본 발명의 화상 표시 장치는, 본 발명의 투명 도전성 필름 및 투명 도전성 필름 적층체를 구비하기 때문에, 경사 방향에 있어서도 원하는 색을 발하는 화상을 시인할 수 있다.
도 1 은, 본 발명의 하지층 부착 필름의 일 실시형태의 단면도를 나타낸다.
도 2 는, 도 1 에 나타내는 하지층 부착 필름을 구비하는 투명 도전성 필름의 단면도를 나타낸다.
도 3 은, 도 2 에 나타내는 투명 도전성 필름을 구비하는 투명 도전성 필름 적층체의 단면도를 나타낸다.
도 4 는, 도 3 에 나타내는 투명 도전성 필름 적층체를 구비하는 화상 표시 장치의 단면도를 나타낸다.
<일 실시형태>
도 1 ∼ 도 4 를 참조하여, 본 발명의 하지층 부착 필름, 투명 도전성 필름, 투명 도전성 필름 적층체 및 화상 표시 장치의 각각의 일 실시형태를 설명한다.
도 1 에 있어서, 지면 상하 방향은 상하 방향 (두께 방향, 제 1 방향) 이고, 지면 상측이 상측 (두께 방향 일방측, 제 1 방향 일방측), 지면 하측이 하측 (두께 방향 타방측, 제 1 방향 타방측) 이다. 또, 지면 좌우 방향 및 안쪽 길이 방향은 상하 방향과 직교하는 면 방향이다. 구체적으로는, 각 도면의 방향 화살표에 준거한다.
1. 하지층 부착 필름
도 1 에 나타내는 바와 같이, 하지층 부착 필름 (1) 은, 소정의 두께를 갖는 필름 형상 (시트 형상을 포함하는) 을 갖고, 면 방향으로 연장되며, 평탄한 상면 및 평탄한 하면을 갖는다.
하지층 부착 필름 (1) 은, 투명 기재 (2) 와, 하지층 (3) 을 구비한다. 즉, 하지층 부착 필름 (1) 은, 투명 기재 (2) 와, 그 상면에 배치되는 하지층 (3) 을 구비한다. 바람직하게는, 하지층 부착 필름 (1) 은, 투명 기재 (2) 와 하지층 (3) 으로 이루어진다.
(투명 기재)
투명 기재 (2) 는, 하지층 부착 필름 (1) (나아가서는, 투명 도전성 필름 (6)) 의 기계 강도를 확보하기 위한 투명한 기재이다. 즉, 투명 기재 (2) 는, 하지층 (3) 을 지지하고, 또, 후술하는 투명 도전성 필름 (6) 에 있어서는, 후술하는 투명 도전층 (7) 을 하지층 (3) 과 함께 지지한다.
투명 기재 (2) 는, 하지층 부착 필름 (1) 의 최하층으로서, 필름 형상을 갖는다. 투명 기재 (2) 는, 하지층 (3) 의 하면 전체 면에, 하지층 (3) 의 하면과 접촉하도록 배치되어 있다.
투명 기재 (2) 는, 투명성을 갖고, 면내 위상차 및 두께 방향 위상차가 낮은 재료로 형성되어 있다.
이와 같은 투명 기재 (2) 의 재료로는, 예를 들어, 시클로올레핀계 수지를 들 수 있다. 즉, 투명 기재 (2) 는, 바람직하게는 시클로올레핀계 필름이다.
시클로올레핀계 수지는, 시클로올레핀 모노머를 중합하여 얻어지고, 주사슬의 반복 단위 중에 지환 구조를 갖는 고분자이다. 시클로올레핀계 수지는, 바람직하게는 비정질 시클로올레핀계 수지이다.
시클로올레핀계 수지로는, 예를 들어, 시클로올레핀 모노머로 이루어지는 시클로올레핀 폴리머, 시클로올레핀 모노머와, 에틸렌 등의 올레핀 등의 공중합체로 이루어지는 시클로올레핀 코폴리머 등을 들 수 있다.
시클로올레핀 모노머로는, 예를 들어, 노르보르넨, 메틸노르보르넨, 디메틸노르보르넨, 에틸리덴노르보르넨, 부틸노르보르넨, 디시클로펜타디엔, 디하이드로디시클로펜타디엔, 테트라시클로도데센, 트리시클로펜타디엔 등의 다고리형 올레핀, 예를 들어, 시클로부텐, 시클로펜텐, 시클로옥타디엔, 시클로옥타트리엔 등의 단고리형 올레핀 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 다고리형 올레핀을 들 수 있다. 이들 시클로올레핀은, 단독 사용 또는 2 종 이상 병용할 수 있다.
투명 기재 (2) 의 전광선 투과율 (JIS K 7375-2008) 은, 예를 들어, 80 % 이상, 바람직하게는 85 % 이상이다.
투명 기재 (2) 의 두께는, 기계적 강도, 투명 도전성 필름 (6) 을 터치 패널용 필름으로 했을 때의 타점 특성 등의 관점에서, 예를 들어, 2 ㎛ 이상, 바람직하게는 20 ㎛ 이상이고, 또, 예를 들어, 300 ㎛ 이하, 바람직하게는 150 ㎛ 이하이다. 투명 기재 (2) 의 두께는, 예를 들어, 마이크로 게이지식 두께계를 사용하여 측정할 수 있다.
(하지층)
하지층 (3) 은, 투명 기재 (2), 나아가서는, 후술하는 투명 도전성 필름 (6) 에, 원하는 기능 (예를 들어, 내찰상성, 패턴 시인 억제성) 을 부여하기 위한 층이다.
하지층 (3) 은, 하드 코트층 (4) 과, 광학 조정층 (5) 을 구비한다. 즉, 하지층 (3) 은, 하드 코트층 (4) 과, 그 상면에 배치되는 광학 조정층 (5) 을 구비한다. 바람직하게는, 하지층 (3) 은 하드 코트층 (4) 과 광학 조정층 (5) 으로 이루어진다.
하드 코트층 (4) 은, 투명 기재 (2) 가 파손되는 것을 억제하기 위한 층이다. 또, 하지층 부착 필름 (1) 에 투명 도전층 (7) 을 배치했을 때, 투명 도전층 (7) 에 흠집이 발생되는 것을 억제하기 위한 층이기도 하다.
하드 코트층 (4) 은 필름 형상을 갖는다. 하드 코트층 (4) 은, 투명 기재 (2) 의 상면 전체 면에, 투명 기재 (2) 의 상면에 접촉하도록 배치되어 있다. 보다 구체적으로는, 하드 코트층 (4) 은, 투명 기재 (2) 와 광학 조정층 (5) 사이에, 투명 기재 (2) 의 상면 및 광학 조정층 (5) 의 하면에 접촉하도록 배치되어 있다.
하드 코트층 (4) 은, 경화 수지층으로서, 하드 코트 조성물로 형성되어 있다.
하드 코트 조성물은, 수지를 함유하고, 바람직하게는 수지로 이루어진다.
수지로는, 예를 들어, 경화성 수지, 열가소성 수지 (예를 들어, 폴리올레핀 수지) 등을 들 수 있고, 바람직하게는, 경화성 수지를 들 수 있다.
경화성 수지로는, 예를 들어, 활성 에너지선 (구체적으로는, 자외선, 전자선 등) 의 조사에 의해서 경화되는 활성 에너지선 경화성 수지, 예를 들어, 가열에 의해서 경화되는 열경화성 수지 등을 들 수 있고, 바람직하게는, 활성 에너지선 경화성 수지를 들 수 있다.
활성 에너지선 경화성 수지는, 예를 들어, 분자 중에 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 관능기를 갖는 폴리머를 들 수 있다. 그러한 관능기로는, 예를 들어, 비닐기, (메트)아크릴로일기 (메타크릴로일기 및/또는 아크릴로일기) 등을 들 수 있다.
특히, 활성 에너지선 경화성 수지는, 소성 변형량을 낮출 수 있는 관점에서, 바람직하게는 다관능 아크릴로일 유닛을 갖는다. 다관능 아크릴로일 유닛으로는, 예를 들어, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 유래 유닛 등의 펜타에리트리톨폴리아크릴레이트 유래 유닛, 예를 들어, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 유래 유닛 등의 디펜타에리트리톨폴리아크릴레이트 유래 유닛을 들 수 있고, 바람직하게는, 디펜타에리트리톨폴리아크릴레이트 유래 유닛을 들 수 있다.
활성 에너지선 경화성 수지로는, 구체적으로는, 예를 들어, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트 등의 (메트)아크릴계 자외선 경화성 수지를 들 수 있다. 바람직하게는, 인성 및 소성 변형량의 관점에서, 우레탄아크릴레이트를 들 수 있다. 보다 바람직하게는, 다관능 아크릴로일 유닛이 폴리이소시아네이트에 의해서 변성되어 있는 우레탄아크릴레이트를 들 수 있다.
폴리이소시아네이트로는, 예를 들어, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환식 폴리이소시아네이트를 들 수 있다.
또, 활성 에너지선 경화성 수지 이외의 경화성 수지로는, 예를 들어, 우레탄 수지, 멜라민 수지, 알키드 수지, 실록산계 폴리머, 유기 실란 축합물 등을 들 수 있다.
이들 수지는, 단독 사용 또는 2 종 이상 병용할 수 있다.
하드 코트 조성물은, 필요에 따라서, 입자를 함유할 수도 있다. 입자로는, 예를 들어, 광학 조정층 (5) 에서 예시하는 입자를 들 수 있다.
하드 코트 조성물에는, 추가로 중합 개시제, 가소제, 산화 방지제, 레벨링제, 틱소트로피제, 대전 방지제 등의 공지된 첨가제를 함유시킬 수 있다.
하드 코트층 (4) 의 두께는, 내찰상성의 관점에서, 예를 들어, 0.2 ㎛ 이상, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상이고, 또, 예를 들어, 10 ㎛ 이하, 바람직하게는 2.0 ㎛ 이하이다. 하드 코트층 (4) 의 두께는, 예를 들어, 순간 멀티 측광 시스템을 사용하여 관측되는 간섭 스펙트럼의 파장에 기초하여 산출할 수 있다.
광학 조정층 (5) 은, 투명 도전성 필름 (6) 에 있어서, 투명 도전층 (7) 의 패턴의 시인을 억제하면서, 투명성을 확보하기 위해서, 하지층 부착 필름 (1) (나아가서는, 투명 도전성 필름 (6)) 의 광학 물성 (예를 들어, 굴절률) 을 조정하는 층이다.
광학 조정층 (5) 은, 하지층 부착 필름 (1) 의 최상층으로서, 필름 형상을 갖는다. 광학 조정층 (5) 은, 하드 코트층 (4) 의 상면 전체 면에, 하드 코트층 (4) 의 상면에 접촉하도록 배치되어 있다.
광학 조정층 (5) 은, 광학 조정 조성물로 형성되어 있다. 광학 조정 조성물은, 수지 및 입자를 함유하고, 바람직하게는 수지 및 입자로 이루어진다.
수지로는, 예를 들어, 하드 코트 조성물에서 사용하는 수지와 동일한 것을 들 수 있다. 수지는, 단독 사용 또는 2 종 이상 병용할 수 있다. 바람직하게는 경화성 수지, 보다 바람직하게는 활성 에너지선 경화성 수지를 들 수 있다.
수지의 함유 비율은, 광학 조정 조성물에 대해서, 예를 들어, 10 질량% 이상, 바람직하게는 20 질량% 이상이고, 또, 예를 들어, 70 질량% 이하, 바람직하게는 60 질량% 이하, 보다 바람직하게는 45 질량% 이하이다.
입자로는, 광학 조정층 (5) 이 구하는 굴절률에 따라서 바람직한 재료를 선택할 수 있고, 무기 입자, 유기 입자 등을 들 수 있다. 무기 입자로는, 예를 들어, 실리카 입자, 예를 들어, 산화지르코늄, 산화티탄, 산화아연, 산화주석 등으로 이루어지는 금속 산화물 입자, 예를 들어, 탄산칼슘 등의 탄산염 입자 등을 들 수 있다. 유기 입자로는, 예를 들어, 가교 아크릴 수지 입자 등을 들 수 있다. 입자는, 단독 사용 또는 2 종 이상 병용할 수 있다.
입자로는, 바람직하게는 무기 입자, 보다 바람직하게는 금속 산화물 입자, 더욱 바람직하게는 산화지르코늄 입자 (ZnO2) 를 들 수 있다.
입자의 평균 입자경 (D50) 은, 예를 들어, 10 ㎚ 이상, 바람직하게는 30 ㎚ 이상이고, 또, 예를 들어, 100 ㎚ 이하, 바람직하게는 50 ㎚ 이하이다.
입자의 평균 입자경은, 체적 기준에 의한 입도 분포의 평균 입자경 (D50) 을 나타내고, 예를 들어, 입자를 수중에 분산시킨 용액을 광회절·산란법에 의해서 측정할 수 있다.
입자의 함유 비율은, 광학 조정 조성물에 대해서, 예를 들어, 30 질량% 이상, 바람직하게는 40 질량% 이상, 바람직하게는 55 질량% 이상이고, 또, 예를 들어, 90 질량% 이하, 바람직하게는 80 질량% 이하이다. 입자의 함유량이 상기 하한 이상이면, 하지층 (3) 의 소성 변형량을 보다 확실하게 낮출 수 있다.
광학 조정 조성물에는, 추가로 중합 개시제, 가소제, 산화 방지제, 레벨링제, 틱소트로피제, 대전 방지제 등의 공지된 첨가제를 함유시킬 수 있다.
광학 조정층 (5) 의 굴절률은, 예를 들어, 1.50 이상, 바람직하게는 1.60 이상이고, 또, 예를 들어, 1.80 이하, 바람직하게는 1.75 이하이다. 굴절률은, 예를 들어, 아베 굴절률계에 의해서 측정할 수 있다.
광학 조정층 (5) 의 두께는, 예를 들어, 30 ㎚ 이상, 바람직하게는 50 ㎚ 이상이고, 또, 예를 들어, 150 ㎚ 이하, 바람직하게는 120 ㎚ 이하이다. 광학 조정층의 두께는, 예를 들어, 순간 멀티 측광 시스템을 사용하여 관측되는 간섭 스펙트럼의 파장에 기초하여 산출할 수 있다.
광학 조정층 (5) 의 두께에 대한, 하드 코트층 (4) 의 두께의 비 (하드 코트층/광학 조정층) 는, 예를 들어, 2 이상, 바람직하게는 5 이상이고, 또, 예를 들어, 20 이하, 바람직하게는 15 이하이다. 상기 비가 상기 범위이면, 내찰상성 및 패턴 시인 억제를 양호하게 하면서, 투명 도전성 필름 (6) 의 두께 방향 위상차의 상승을 확실하게 억제할 수 있다.
하지층 (3) 의 상면 (3A) (즉, 광학 조정층 (5) 의 상면) 으로부터의 소성 변형량은, 50 ㎚ 이하, 바람직하게는 45 ㎚ 이하, 보다 바람직하게는 40 ㎚ 이하, 더욱 바람직하게는 38 ㎚ 이하이고, 또, 예를 들어, 10 ㎚ 이상, 바람직하게는 20 ㎚ 이상이다.
소성 변형량이 상기 상한 이하이면, 하지층 (3) 의 상면에 투명 도전층 (7) 을 형성할 때, 투명 기재 (2), 나아가서는, 투명 도전성 필름 (6) 의 두께 방향 위상차의 상승을 억제할 수 있다. 한편, 소성 변형량이 상기 하한 이상이면, 가요성, 내충격성 등이 우수하다.
소성 변형량은, JIS Z 2255 에 준거하여, 하지층 (3) 의 상면 (3A) 으로부터 깊이 200 ㎚ 의 범위에서 측정한다. 자세한 조건은, 실시예에서 상세히 서술한다.
하지층 (3) 의 두께는, 예를 들어, 0.3 ㎛ 이상, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상이고, 또, 예를 들어, 10 ㎛ 이하, 바람직하게는 2.0 ㎛ 이하이다. 하지층 (3) 의 두께가 상기 범위이면, 내찰상성 및 패턴 시인 억제를 양호하게 하면서, 투명 도전성 필름 (6) 의 두께 방향 위상차의 상승을 억제할 수 있다.
(하지층 부착 필름의 제조 방법)
하지층 부착 필름 (1) 의 제조 방법을 설명한다. 하지층 부착 필름 (1) 은, 투명 기재 (2) 를 준비하고, 이어서, 투명 기재 (2) 에 하지층 (3) 을 형성함으로써 제조된다. 하지층 부착 필름 (1) 의 제조는, 바람직하게는 롤 투 롤 방식에 의해서 실시된다.
먼저, 반송 방향 (MD 방향) 으로 장척의 투명 기재 (2) 를 준비한다.
바람직하게는, 면내 위상차 및 두께 방향 위상차가 낮은 투명 기재 (2) 를 준비한다.
준비된 투명 기재 (2) 의 면내 위상차는, 예를 들어, 10.0 ㎚ 이하, 바람직하게는 5.0 ㎚ 이하이다. 투명 기재 (2) 의 두께 방향 위상차는, 예를 들어, 30.0 ㎚ 이하, 바람직하게는 20.0 ㎚ 이하이다. 이와 같은 위상차의 투명 기재 (2) 를 사용하여 투명 도전성 필름 (6) 을 준비함으로써, 얻어지는 하지층 부착 필름 (1) 이나 투명 도전성 필름 (6) 의 면내 위상차 및 두께 방향 위상차를 보다 더 낮출 수 있다.
필요에 따라서, 투명 기재 (2) 와 하드 코트층 (4) 의 밀착성 관점에서, 투명 기재 (2) 의 상면에, 예를 들어, 스퍼터링, 코로나 방전, 화염, 자외선 조사, 전자선 조사, 화성, 산화 등의 에칭 처리나 하도 처리를 실시할 수 있다. 또, 용제 세정, 초음파 세정 등에 의해서 투명 기재 (2) 를 제진 (除塵), 청정화할 수 있다.
이어서, 투명 기재 (2) 의 상면에, 하지층 (3) 을 형성한다. 즉, 투명 기재 (2) 의 상면에, 하드 코트층 (4) 및 광학 조정층 (5) 을 순서대로 형성한다.
먼저, 투명 기재 (2) 의 상면에, 하드 코트층 (4) 을 형성한다. 예를 들어, 투명 기재 (2) 의 상면에 하드 코트 조성물을 습식 도공함으로써, 투명 기재 (2) 의 상면에 하드 코트층 (4) 을 형성한다.
구체적으로는, 예를 들어, 하드 코트 조성물을 용매로 희석한 용액 (바니시) 을 조제하고, 계속해서, 하드 코트 조성물 용액을 투명 기재 (2) 의 상면에 도포하고, 건조시킨다.
용매로는, 예를 들어, 유기 용매, 수계 용매 (구체적으로는, 물) 등을 들 수 있고, 바람직하게는, 유기 용매를 들 수 있다. 유기 용매로는, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올 등의 알코올 화합물, 예를 들어, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 화합물, 예를 들어, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르 화합물, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 (PGME) 등의 에테르 화합물, 예를 들어, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 화합물 등을 들 수 있다. 이들 용매는, 단독 사용 또는 2 종 이상 병용할 수 있다.
하드 코트 조성물 용액에 있어서의 고형분 농도는, 예를 들어, 1 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상이고, 또, 예를 들어, 50 질량% 이하, 바람직하게는 40 질량% 이하이다.
도포 방법은, 하드 코트 조성물 용액 및 투명 기재 (2) 에 따라서 적절히 선택할 수 있다. 도포 방법으로는, 예를 들어, 딥 코트법, 에어 나이프 코트법, 커튼 코트법, 롤러 코트법, 와이어 바 코트법, 그라비아 코트법, 익스트루전 코트법 등을 들 수 있다.
건조 온도는, 예를 들어, 50 ℃ 이상, 바람직하게는 70 ℃ 이상이고, 예를 들어, 200 ℃ 이하, 바람직하게는 100 ℃ 이하이다.
건조 시간은, 예를 들어, 0.5 분 이상, 바람직하게는 1 분 이상이고, 예를 들어, 60 분 이하, 바람직하게는 20 분 이하이다.
그 후, 하드 코트 조성물 조성물이 활성 에너지선 경화성 수지를 함유하는 경우에는, 하드 코트 조성물 용액의 건조 후에, 활성 에너지선을 조사함으로써, 활성 에너지선 경화성 수지를 경화시킨다.
또한, 하드 코트 조성물이 열경화성 수지를 함유하는 경우에는, 이 건조 공정에 의해서, 용매의 건조와 함께, 열경화성 수지를 열경화할 수 있다.
이로써, 투명 기재 (2) 의 상면에, 하드 코트층 (4) 이 형성된다.
이어서, 하드 코트층 (4) 의 상면에, 광학 조정층 (5) 을 형성한다. 예를 들어, 하드 코트층 (4) 의 상면에 광학 조정 조성물을 습식 도공함으로써, 하드 코트층 (4) 의 상면에 광학 조정층 (5) 을 형성한다.
구체적으로는, 예를 들어, 광학 조정 조성물을 용매로 희석한 용액 (바니시) 을 조제하고, 계속해서, 광학 조정 조성물 용액을 하드 코트층 (4) 의 상면에 도포하고, 건조시킨다.
도포 및 건조의 조건 등은, 하드 코트층 (4) 의 형성시의 조건과 동일하다.
그 후, 광학 조정 조성물이 활성 에너지선 경화성 수지를 함유하는 경우에는, 광학 조정 조성물의 건조 후에, 활성 에너지선을 조사함으로써, 활성 에너지선 경화성 수지를 경화시킨다.
또한, 광학 조정 조성물이 열경화성 수지를 함유하는 경우에는, 이 건조 공정에 의해서, 용매의 건조와 함께, 열경화성 수지를 열경화할 수 있다.
이로써, 하드 코트층 (4) 의 상면에 광학 조정층 (5) 이 형성되고, 하드 코트층 (4) 및 광학 조정층 (5) 으로 구성되는 하지층 (3) 이 형성된다. 즉, 투명 기재 (2) 와, 그 상면에 배치되는 하지층 (3) 을 구비하는 하지층 부착 필름이 얻어진다. 구체적으로는, 투명 기재 (2) 와, 투명 기재 (2) 의 상면에 배치되는 하드 코트층 (4) 과, 하드 코트층 (4) 의 상면에 배치되는 광학 조정층 (5) 을 구비하는 하지층 부착 필름이 얻어진다.
얻어지는 하지층 부착 필름 (1) 의 두께는, 예를 들어, 2 ㎛ 이상, 바람직하게는 20 ㎛ 이상이고, 또, 예를 들어, 300 ㎛ 이하, 바람직하게는 150 ㎛ 이하이다.
하지층 부착 필름 (1) 의 면내 위상차는, 10.0 ㎚ 이하, 바람직하게는 8.0 ㎚ 이하, 보다 바람직하게는 5.0 ㎚ 이하이다.
하지층 부착 필름 (1) 의 두께 방향 위상차는, 예를 들어, 10.0 ㎚ 이하, 바람직하게는 8.0 ㎚ 이하, 보다 바람직하게는 6.0 ㎚ 이하이다.
본 발명에 있어서, 면내 위상차 및 두께 방향 위상차는, 23 ℃, 파장 590 ㎚ 에 있어서의 위상차로서, 예를 들어, 편광·위상차 측정 시스템 (액소메트릭스사 제조, 상품명「액소 스캔」) 을 사용하여 측정할 수 있다.
또한, 면내 위상차 R0 는, 식 : R0 = (nx ― ny) × d 에 의해서 산출된다. 두께 위상차 Rth 는, 식 : Rth = (nx ― nz) × d 에 의해서 산출된다. 여기서, nx 는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향 (즉, 지상축 방향) 의 굴절률이고, ny 는 면내에서 지상축과 직교하는 방향의 굴절률이며, nz 는 두께 방향의 굴절률이고, d 는 필름의 두께 (㎚) 이다.
(용도)
하지층 부착 필름 (1) 은, 예를 들어, 투명 도전성 필름 (6) 의 제조에 사용된다. 구체적으로는, 하지층 부착 필름 (1) 은, 투명 도전성 필름 (6) 에 있어서, 투명 도전층 (7) 을 지지하기 위한 지지 필름으로서 사용된다. 하지층 부착 필름 (1) 은, 예를 들어, 후술하는 투명 도전성 필름 (6), 투명 도전성 필름 적층체 (8), 화상 표시 장치 (11) 등을 제작하기 위한 일 부품이다. 즉, 하지층 부착 필름 (1) 은 후술하는 투명 도전층 (7), 편광자 (10) 및 화상 표시 소자 (14) (액정 셀 등) 를 포함하지 않고, 부품 단독으로 유통되어, 산업상 이용 가능한 디바이스이다.
그리고, 하지층 부착 필름 (1) 을 사용하여, 투명 도전성 필름 (6) 을 제조하면, 투명 도전성 필름 (6) 의 경사 방향으로부터의 색 변화를 억제할 수 있다. 구체적으로는, 하지층 부착 필름 (1) 은, 하지층 (3) 의 소성 변형량이 50 ㎚ 이하이다. 즉, 하지층 (3) 이 잘 소성 변형되지 않는다. 그 때문에, 하지층 (3) 의 상면에 투명 도전층 (7) 을 형성했을 때, 하지층 부착 필름 (특히, 투명 기재 (2)) 에 있어서, 열 수축 등의 변형을 억제할 수 있다. 따라서, 하지층 부착 필름 (특히, 투명 기재 (2)) 의 위상차 (특히, 두께 방향 위상차) 의 대폭적인 상승을 억제할 수 있다. 그 결과, 얻어지는 투명 도전성 필름 (6) 의 두께 방향 위상차의 대폭적인 상승을 억제할 수 있고, 경사 방향으로부터의 광의 색 변화를 억제할 수 있다.
또, 하지층 부착 필름 (1) 은, 면내 위상차가 10.0 ㎚ 이하이다. 따라서, 얻어지는 투명 도전성 필름 (6) 의 면내 위상차도 낮아져, 투명 도전성 필름 (6) 을 투과하는 편광에 대해서 편광 해소를 억제할 수 있다.
2. 투명 도전성 필름
도 2 에 나타내는 바와 같이, 투명 도전성 필름 (6) 은, 소정의 두께를 갖는 필름 형상을 갖고, 면 방향으로 연장되며, 평탄한 상면 및 평탄한 하면을 갖는다.
투명 도전성 필름 (6) 은, 하지층 부착 필름 (1) 과, 그 상면에 배치되는 투명 도전층 (7) 을 구비한다. 즉, 투명 도전성 필름 (6) 은, 투명 기재 (2) 와, 투명 기재 (2) 의 상면에 배치되는 하드 코트층 (4) 과, 하드 코트층 (4) 의 상면에 배치되는 광학 조정층 (5) 과, 광학 조정층 (5) 의 상면에 배치되는 투명 도전층 (7) 을 구비한다. 바람직하게는, 투명 도전성 필름 (6) 은, 투명 기재 (2) 와 하드 코트층 (4) 과 광학 조정층 (5) 과 투명 도전층 (7) 으로 이루어진다.
(투명 도전층)
투명 도전층 (7) 은, 필요에 따라서 결정화하고, 후공정에서 원하는 패턴으로 형성하기 위한 도전층이다.
투명 도전층 (7) 은, 투명 도전성 필름 (6) 의 최상층으로서, 필름 형상을 갖는다. 투명 도전층 (7) 은, 하지층 (3) 의 상면 전체 면에, 하지층 (3) 의 상면 (즉, 광학 조정층 (5) 의 상면) 에 접촉하도록 배치되어 있다.
투명 도전층 (7) 의 재료로는, 예를 들어, In, Sn, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, W 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속을 함유하는 금속 산화물을 들 수 있다. 금속 산화물에는, 필요에 따라서, 추가로 상기 군에 기재된 금속 원자를 도프하고 있어도 된다.
투명 도전층 (7) 으로는, 구체적으로는, 예를 들어, 인듐주석 복합 산화물 (ITO) 등의 인듐 함유 산화물, 예를 들어, 안티몬주석 복합 산화물 (ATO) 등의 안티몬 함유 산화물 등을 들 수 있고, 바람직하게는 인듐 함유 산화물을 들 수 있으며, 보다 바람직하게는 ITO 를 들 수 있다.
투명 도전층 (7) 이 ITO 층 등의 인듐주석 복합 산화물층인 경우, 산화주석 (SnO2) 함유 비율은, 산화주석 및 산화인듐 (In2O3) 의 합계량에 대해서, 예를 들어, 0.5 질량% 이상, 바람직하게는 3 질량% 이상이고, 또, 예를 들어, 30 질량% 이하, 바람직하게는 15 질량% 이하이다. 산화주석의 함유 비율이 상기 하한 이상이면, 투명 도전층 (7) 의 내구성을 보다 더 양호하게 할 수 있다. 또, 산화주석의 함유 비율이 상기 상한 이하이면, 투명 도전층 (7) 의 결정 전화 (轉化) 를 용이하게 하여, 투명성이나 표면 저항의 안정성을 향상시킬 수 있다.
본 명세서 중에 있어서의「ITO」란, 적어도 인듐 (In) 과 주석 (Sn) 을 함유하는 복합 산화물이면 되고, 이것들 이외의 추가 성분을 함유해도 된다. 추가 성분으로는, 예를 들어, In, Sn 이외의 금속 원소를 들 수 있고, 구체적으로는, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, W, Fe, Pb, Ni, Nb, Cr, Ga 등을 들 수 있다.
투명 도전층 (7) 의 표면 저항은, 예를 들어, 500 Ω/□ 이하, 바람직하게는 300 Ω/□ 이하이고, 또, 예를 들어, 10 Ω/□ 이상이다. 표면 저항은, 예를 들어, 4 단자법에 의해서 측정할 수 있다.
투명 도전층 (7) 의 두께는, 예를 들어, 10 ㎚ 이상, 바람직하게는 20 ㎚ 이상이고, 또, 예를 들어, 50 ㎚ 이하, 바람직하게는 40 ㎚ 이하이다. 투명 도전층 (7) 의 두께는, 예를 들어, 순간 멀티 측광 시스템을 사용하여 측정할 수 있다.
투명 도전층 (7) 은, 비정질 또는 결정질의 어느 것이어도 된다.
투명 도전층 (7) 이 비결정질인지 결정질인지는, 예를 들어, 투명 도전층이 ITO 층일 경우에는, 20 ℃ 의 염산 (농도 5 질량%) 에 15 분간 침지한 후, 수세·건조시키고, 15 ㎜ 정도 사이의 단자간 저항을 측정함으로써 판단할 수 있다. 본 명세서에 있어서는, 염산 (20 ℃, 농도 : 5 질량%) 에 대한 침지·수세·건조 후에, 15 ㎜ 사이의 단자간 저항이 10 ㏀ 을 초과할 경우, ITO 층이 비정질로 하고, 15 ㎜ 사이의 단자간 저항이 10 ㏀ 이하일 경우, ITO 층이 결정질로 한다.
(투명 도전성 필름의 제조 방법)
투명 도전성 필름 (6) 의 제조 방법을 설명한다. 투명 도전성 필름 (6) 은, 하지층 부착 필름 (1) 을 준비하고, 이어서, 하지층 부착 필름 (1) 의 상면에 투명 도전층 (7) 을 형성함으로써 제조된다. 투명 도전성 필름 (6) 의 제조는, 바람직하게는 롤 투 롤 방식에 의해서 실시된다.
투명 도전층 (7) 은, 예를 들어, 건식 방법에 의해서 하지층 (3) 의 상면 (광학 조정층 (5) 의 상면) 에 형성된다.
건식 방법으로는, 예를 들어, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 스퍼터링법을 들 수 있다. 이 방법에 의해서, 박막이며, 또한, 두께가 균일한 투명 도전층을 형성할 수 있다.
스퍼터링법은, 진공 챔버 내에 타깃 및 피착체 (하지층 부착 필름 (1)) 를 대향 배치하고, 가스를 공급함과 함께 전원으로부터 전압을 인가함으로써 가스 이온을 가속하고, 타깃에 조사시켜 타깃 표면으로부터 타깃 재료를 튕겨 나오게 하고, 그 타깃 재료를 피착 체표면에 적층시킨다.
스퍼터링법을 채용할 경우, 타깃재로는, 투명 도전층 (7) 을 구성하는 상기 서술한 무기물을 들 수 있고, 바람직하게는 ITO 를 들 수 있다. ITO 의 산화주석 농도는, ITO 층의 내구성, 결정화 등의 관점에서, 예를 들어, 0.5 질량% 이상, 바람직하게는 3 질량% 이상이며, 또, 예를 들어, 30 질량% 이하, 바람직하게는 15 질량% 이하이다.
스퍼터 가스로는, 예를 들어, Ar 등의 불활성 가스를 들 수 있다. 또, 필요에 따라서, 산소 가스 등의 반응성 가스를 병용할 수 있다. 반응성 가스를 병용하는 경우에 있어서, 반응성 가스의 유량비는 특별히 한정하지 않지만, 스퍼터 가스 및 반응성 가스의 합계 유량비에 대해서, 예를 들어, 0.1 유량% 이상 5 유량% 이하이다.
스퍼터링법은 진공하에서 실시된다. 구체적으로는, 스퍼터링시의 기압은, 스퍼터링레이트의 저하 억제, 방전 안정성 등의 관점에서, 예를 들어, 1 ㎩ 이하, 바람직하게는 0.7 ㎩ 이하이다.
스퍼터링법에 사용하는 전원은, 예를 들어, DC 전원, AC 전원, MF 전원 및 RF 전원 중 어느 것이어도 되고, 또, 이것들의 조합이어도 된다.
또, 원하는 두께의 투명 도전층 (7) 을 형성하기 위해서, 타깃재나 스퍼터링의 조건 등을 적절히 설정하여 복수 회 스퍼터링을 실시해도 된다.
이로써, 하지층 (3) 의 상면에 투명 도전층 (7) 이 형성된다. 즉, 투명 기재 (2), 하지층 (3) (하드 코트층 (4) 및 광학 조정층 (5)), 및, 투명 도전층 (7) 을 차례로 구비하는 투명 도전성 필름 (6) 이 얻어진다. 또한, 이 때, 투명 도전층 (7) 은, 결정화되어 있지 않은 비정질 투명 도전층 (7a) 이다. 즉, 투명 도전성 필름 (6) 은, 비정질 투명 도전층 (7a) 을 구비하는 비정질 투명 도전성 필름 (6a) 이다.
투명 도전성 필름 (6) 의 두께는, 예를 들어, 2 ㎛ 이상, 바람직하게는 20 ㎛ 이상이고, 또, 예를 들어, 100 ㎛ 이하, 바람직하게는 50 ㎛ 이하이다.
비정질 투명 도전성 필름 (6a) 의 면내 방향 위상차는, 예를 들어, 10.0 ㎚ 이하, 바람직하게는 8.0 ㎚ 이하, 보다 바람직하게는 5.0 ㎚ 이하이다. 상기 면내 위상차가 상기 상한 이하이면, 편광 해소를 억제할 수 있다.
비정질 투명 도전성 필름 (6a) 의 두께 방향 위상차는, 예를 들어, 15.0 ㎚ 이하, 바람직하게는 13.0 ㎚ 이하, 보다 바람직하게는 10.0 ㎚ 이하이다. 상기 두께 방향 위상차가 상기 상한 이하이면, 경사 방향으로부터의 색 변화를 억제할 수 있다.
비정질 투명 도전성 필름 (6a) 은, 150 ℃, 90 분 동안 가열했을 때에 있어서의 열 수축률이, 예를 들어, 0.10 % 이하, 바람직하게는 0.08 % 이하, 보다 바람직하게는 0.06 % 이하이다.
즉, 비정질 투명 도전성 필름 (6a) 을, 제 1 방향 (예를 들어, 반송 방향 : MD 방향) 및 제 2 방향 (예를 들어, 반송 방향과 직교하는 폭 방향 : TD 방향) 으로 연장되는, 평면에서 보았을 때 사각 형상으로 절단하여 샘플을 제작한다. 그 샘플을 150 ℃, 90 분 동안 가열했을 때, 제 1 방향 길이 및 제 2 방향 길이의 열 수축률이 모두 상기 값의 범위가 된다. 또한, 열 수축률 (%) 은, [{(가열 전의 길이) ― (가열 후의 길이)}/(가열 전의 길이) × 100] 에 의해서 산출할 수 있다. 필름의 길이는, 23 ℃ 의 환경하에서 측정된다.
이어서, 필요에 따라서, 투명 도전성 필름 (6) 의 투명 도전층 (7) 에 대해서, 결정 전화 처리를 실시한다. 결정 전화 처리에 의해서, 투명 도전층 (7) 의 도전성을 향상시킴과 함께, 투명 도전성 필름 (6) 의 두께 방향 위상차를 저감시킬 수 있다.
구체적으로는, 투명 도전성 필름 (6) 에 대기하에서 가열 처리를 실시한다.
가열 처리는, 예를 들어, 적외선 히터, 오븐 등을 사용하여 실시할 수 있다.
가열 온도는, 예를 들어, 100 ℃ 이상, 바람직하게는 120 ℃ 이상이고, 또, 예를 들어, 200 ℃ 이하, 바람직하게는 160 ℃ 이하이다.
가열 시간은, 가열 온도에 따라서 적절히 결정되는데, 예를 들어, 10 분 이상, 바람직하게는 30 분 이상이고, 또, 예를 들어, 5 시간 이하, 바람직하게는 3 시간 이하이다.
이로써, 비정질 투명 도전층 (7a) 은, 결정화 투명 도전층 (7b) 이 되고, 결정화 투명 도전성 필름 (6b) 이 얻어진다. 즉, 이 때의 투명 도전성 필름 (6) 은, 결정화 투명 도전층 (7b) 을 구비하는 결정화 투명 도전성 필름 (6b) 이다.
결정화 투명 도전성 필름 (6b) 의 면내 방향 위상차 (특히, 비정질 투명 도전성 필름 (6a) 을 130 ℃, 90 분 동안 가열했을 때에 있어서의 면상 방향 위상차) 는, 예를 들어, 10.0 ㎚ 이하, 바람직하게는 8.0 ㎚ 이하, 보다 바람직하게는 5.0 ㎚ 이하이다. 상기 면내 위상차가 상기 상한 이하이면, 편광 해소를 억제할 수 있다.
결정화 투명 도전성 필름 (6b) 의 두께 방향 위상차 (특히, 비정질 투명 도전성 필름 (6a) 을 130 ℃, 90 분 동안 가열했을 때에 있어서의 두께 방향 위상차) 는, 예를 들어, 10.0 ㎚ 이하, 바람직하게는 8.0 ㎚ 이하, 보다 바람직하게는 5.0 ㎚ 이하, 더욱 바람직하게는 3.0 ㎚ 이하이다. 상기 두께 방향 위상차가 상기 상한 이하이면, 경사 방향으로부터의 색 변화를 억제할 수 있다.
(용도)
투명 도전성 필름 (6) 은, 예를 들어, 화상 표시 장치 (11) (후술) 등의 광학 장치에 구비되는 터치 패널용 기재로서 사용된다. 터치 패널의 형식으로는, 예를 들어, 광학 방식, 초음파 방식, 정전 용량 방식, 저항막 방식 등의 각종 방식 을 들 수 있고, 특히 정전 용량 방식의 터치 패널에 바람직하게 사용된다.
투명 도전성 필름 (6) 은, 투명 도전성 필름 적층체 (8), 화상 표시 장치 (11) 등을 제작하기 위한 일 부품이다. 즉, 투명 도전성 필름 (6) 은, 편광자 (10) 및 화상 표시 소자 (14) (액정 셀 등) 를 포함하지 않고, 부품 단독으로 유통되어, 산업상 이용 가능한 디바이스이다.
그리고, 투명 도전성 필름 (6) 에서는, 면내 위상차가 10.0 ㎚ 이하인 하지층 부착 필름 (1) 을 구비하기 때문에, 면내 위상차의 값이 작다. 그 때문에, 투명 도전성 필름 (6) 을 투과하는 편광에 대해서, 편광 해소를 억제할 수 있다.
또, 투명 도전성 필름 (6) 은, 200 ㎚ 깊이에 있어서의 소성 변형량이 50 ㎚ 이하인 하지층 부착 필름 (1) 을 구비하기 때문에, 투명 도전성 필름 (6) 의 두께 방향 위상차의 값을 작게 할 수 있다. 그 때문에, 투명 도전성 필름 (6) 을 투과하는 편광에 대해서, 색 변화를 억제할 수 있다.
3. 투명 도전성 필름 적층체
도 3 에 나타내는 바와 같이, 투명 도전성 필름 적층체 (8) 는, 소정의 두께를 갖는 필름 형상을 갖고, 면 방향으로 연장되며, 평탄한 상면 및 평탄한 하면을 갖는다.
투명 도전성 필름 적층체 (8) 는, 투명 도전성 필름 (6) 과, 그 상면에 배치되는 제 1 점착제층 (9) 및 편광자 (10) 를 구비한다. 즉, 투명 도전성 필름 적층체 (8) 는, 투명 기재 (2) 와, 투명 기재 (2) 의 상면에 배치되는 하드 코트층 (4) 과, 하드 코트층 (4) 의 상면에 배치되는 광학 조정층 (5) 과, 광학 조정층 (5) 의 상면에 배치되는 투명 도전층 (7) 과, 투명 도전층 (7) 의 상면에 배치되는 제 1 점착제층 (9) 과, 제 1 점착제층 (9) 의 상면에 배치되는 편광자 (10) 를 구비한다. 바람직하게는, 투명 도전성 필름 적층체 (8) 는, 투명 기재 (2) 와, 하드 코트층 (4) 과, 광학 조정층 (5) 과, 투명 도전층 (7) 과, 제 1 점착제층 (9) 과, 편광자 (10) 로 이루어진다.
투명 도전성 필름 적층체 (8) 에 있어서, 투명 도전층 (7) 은, 바람직하게는 결정화 투명 도전층 (7b) 이다. 또, 투명 도전층 (7) 은, 바람직하게는 패터닝 되어 있고, 패턴부 (15) 와 비패턴부 (16) 을 구비한다.
패터닝은, 투명 도전성 필름 (6) 의 결정 전화의 전 또는 후에, 예를 들어, 공지된 에칭에 의해서 실시한다.
투명 도전층 (7) 의 패턴은, 투명 도전성 필름 (6) 이 적용되는 용도에 따라서 적절히 결정되는데, 예를 들어, 스트라이프상 등의 전극 패턴이나 배선 패턴을 들 수 있다.
에칭은, 예를 들어, 패턴부 (15) 및 비패턴부 (16) 에 대응하도록, 피복부 (마스킹 테이프 등) 를 투명 도전층 (7) 상에 배치하고, 피복부로부터 노출되는 투명 도전층 (7) (비패턴부 (16)) 을 에칭액을 사용하여 에칭한다. 에칭액으로는, 예를 들어, 염산, 황산, 질산, 아세트산, 옥살산, 인산 및 이것들의 혼산 등의 산을 들 수 있다. 그 후, 피복부를, 투명 도전층 (7) 의 상면으로부터, 예를 들어, 박리 등에 의해서 제거한다.
이로써, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 투명 도전층 (7) 이 패터닝되고, 투명 도전층 (7) 은 패턴부 (15) 와 비패턴부 (16) 를 구비한다.
(제 1 점착제층)
제 1 점착제층 (9) 은, 투명 도전성 필름 (6) 과 편광자 (10) 를 접착하기 위한 층이다.
제 1 점착제층 (9) 은 필름 형상을 갖는다. 제 1 점착제층 (9) 은, 투명 도전층 (7) (패턴부 (15)) 의 상면 및 측면과 그것으로부터 노출되는 하지층 (3) (비패턴부 (16)) 의 상면 전체 면에, 그것들과 접촉하도록 배치되어 있다. 또, 제 1 점착제층 (9) 은, 편광자 (10) 의 하면 전체 면에, 편광자 (10) 의 하면에 접촉하도록 배치되어 있다.
제 1 점착제층 (9) 의 재료로는, 예를 들어, 아크릴계 점착제, 부틸 고무계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 폴리우레탄계 점착제, 폴리아미드계 점착제, 에폭시계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 불소 수지계 점착제 등을 들 수 있다.
제 1 점착제층 (9) 의 두께는, 예를 들어, 1 ㎛ 이상, 바람직하게는 10 ㎛ 이상이고, 또, 예를 들어, 300 ㎛ 이하, 바람직하게는 150 ㎛ 이하이다.
(편광자)
편광자 (10) 는, 광을 직선 편광으로 변환하기 위한 층이다.
편광자 (10) 는, 투명 도전성 필름 적층체 (8) 의 최상층으로서, 필름 형상을 갖는다. 편광자 (10) 는, 제 1 점착제층 (9) 의 상면 전체 면에, 제 1 점착제층 (9) 의 상면에 접촉하도록 배치되어 있다.
편광자 (10) 로는, 예를 들어, 요오드를 함유하는 폴리비닐알코올계 필름을 들 수 있다.
폴리비닐알코올계 필름의 재료로는, 예를 들어, 폴리비닐알코올 및 그 유도체를 들 수 있다. 유도체로는, 예를 들어, 폴리비닐포말, 폴리비닐아세탈을 들 수 있다. 또, 유도체로서, 예를 들어, 폴리비닐알코올을 올레핀 (예를 들어, 에틸렌, 프로필렌), 불포화 카르복실산 (아크릴산, 메타크릴산 등), 아크릴아미드 등으로 변성시킨 변성체도 들 수 있다.
편광자 (10) 는, 비닐알코올 또는 그 유도체로 이루어지는 필름에, 요오드를 첨가하고, 이어서, 연신함으로써 얻어진다.
이와 같은 편광자는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 소51-069644호, 일본 공개특허공보 2000-338329호, 국제 공개 2010/100917호 팜플렛, 일본 특허 제4691205호 명세서, 일본 특허 제4751481호 명세서 등에 기재되어 있다.
편광자 (10) 는, 폴리비닐알코올계 필름의 상면 및 하면의 각각에 보호 필름을 구비하고 있어도 된다. 즉, 편광자 (10) 는, 폴리비닐알코올계 필름과 그 양면에 배치되는 보호 필름을 구비하는 적층체여도 된다. 보호 필름의 재료로는, 예를 들어, 상기한 투명 기재 (2) 의 재료를 들 수 있다.
편광자 (10) 의 두께는, 예를 들어, 1 ㎛ 이상, 바람직하게는 5 ㎛ 이상이고, 또, 예를 들어, 200 ㎛ 이하, 바람직하게는 100 ㎛ 이하이다.
투명 도전성 필름 적층체 (8) 는, 예를 들어, 투명 도전성 필름 (6) 의 상면에, 액상의 점착제를 도포 또는 점착제 테이프를 배치하여 제 1 점착제층 (9) 을 형성하고, 계속해서, 편광자 (10) 를 제 1 점착제층 (9) 의 상면에 배치함으로써 제조할 수 있다.
(용도)
투명 도전성 필름 적층체 (8) 는, 예를 들어, 화상 표시 장치 (11) 등의 광학 장치에 구비되는 터치 패널용 기재로서 사용된다.
투명 도전성 필름 적층체 (8) 는, 화상 표시 장치 (11) 등을 제작하기 위한 일 부품이다. 즉, 투명 도전성 필름 적층체 (8) 는, 화상 표시 소자 (14) 를 포함하지 않고, 부품 단독으로 유통되어, 산업상 이용 가능한 디바이스이다.
그리고, 투명 도전성 필름 적층체 (8) 는, 투명 도전성 필름 (6) 을 구비하기 때문에, 편광 해소를 억제하면서, 경사 방향으로부터의 광의 색 변화를 억제할 수 있다.
4. 화상 표시 장치
도 4 에 나타내는 바와 같이, 화상 표시 장치 (11) 는, 투명 도전성 필름 적층체 (8) 와, 그 상면에 배치되는 제 2 점착제층 (12) 및 투명 보호판 (13) 과, 그 하면에 대향 배치되는 화상 표시 소자 (14) 를 구비한다. 즉, 화상 표시 장치 (11) 는, 화상 표시 소자 (14) 와, 투명 기재 (2) 와, 하드 코트층 (4) 과, 광학 조정층 (5) 과, 투명 도전층 (7) 과, 제 1 점착제층 (9) 과, 편광자 (10) 와, 제 2 점착제층 (12) 과, 투명 보호판 (13) 을 두께 방향으로 이 순서대로 구비한다. 또한, 도 4 에 있어서, 상측이 시인측이고, 하측이 화상 표시 소자측이다.
(제 2 접착제층)
제 2 점착제층 (12) 은, 투명 도전성 필름 적층체 (8) 와 투명 보호판 (13) 을 접착하기 위한 층이다.
제 2 점착제층 (12) 은 필름 형상을 갖는다. 제 2 점착제층 (12) 은, 편광자 (10) 의 상면 전체 면 및 투명 보호판 (13) 의 하면 전체 면에, 편광자 (10) 의 상면 및 투명 보호판 (13) 의 하면에 접촉하도록 배치되어 있다.
제 2 점착제층 (12) 의 재료는, 제 1 점착제층 (9) 에서 상기한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
제 2 점착제층 (12) 의 두께는, 예를 들어, 1 ㎛ 이상, 바람직하게는 5 ㎛ 이상이고, 또, 예를 들어, 300 ㎛ 이하, 바람직하게는 150 ㎛ 이하이다.
(투명 보호판)
투명 보호판 (13) 은, 외부로부터의 충격이나 오염에 대해서, 화상 표시 소자 (14) 등의 화상 표시 장치 내부 부재를 보호하기 위한 층이다.
투명 보호판 (13) 은, 평면에서 보았을 때 대략 평판 형상을 갖고, 제 2 점착제층 (12) 의 상면 전체 면에, 제 2 점착제층 (12) 의 상면에 접촉하도록 배치되어 있다.
투명 보호판 (13) 은, 투명성을 구비하고, 적당한 두께 및 기계적 강도를 갖는다.
투명 보호판 (13) 으로는, 예를 들어, 아크릴 수지, 폴리카보네이트 수지 등의 경질성 수지로 이루어지는 수지판, 예를 들어, 유리판 등을 들 수 있다.
투명 보호판 (13) 의 두께는, 예를 들어, 10 ㎛ 이상, 바람직하게는 500 ㎛ 이상이고, 또, 예를 들어, 10 ㎜ 이하, 바람직하게는 5 ㎜ 이하이다.
(화상 표시 소자)
화상 표시 소자 (14) 는, 하지층 부착 필름 (1) 과 간격을 두고 대향 배치되어 있다.
화상 표시 소자 (14) 로는, 예를 들어, 액정 셀을 들 수 있다. 액정 셀은, 도시하지 않지만, 액정층과, 액정층의 하측에 배치되는 편광자와, 컬러 필터를 구비하고 있다.
화상 표시 장치 (11) 는, 투명 도전성 필름 (6) 을 구비하기 때문에, 편광자 (10) 와 화상 표시 소자 (14) 사이의 편광 해소가 억제됨과 함께, 경사 방향으로부터의 색 변화가 억제되어 있다. 그 때문에, 터치 패널 기능을 구비하면서, 경사 방향에 있어서도 원하는 색을 발하는 화상을 시인할 수 있다.
<변형예>
상기한 일 실시형태에서는, 하지층 (3) 은, 하드 코트층 (4) 및 광학 조정층 (5) 을 구비하고 있는데, 예를 들어, 도시하지 않지만, 하지층 (3) 은, 하드 코트층 (4) 만을 구비하고 있어도 되고, 또, 광학 조정층 (5) 만을 구비하고 있어도 된다.
바람직하게는, 하지층 (3) 은, 하드 코트층 (4) 및 광학 조정층 (5) 의 양방을 구비한다. 이로써, 찰상성 및 패턴 시인 억제 기능의 양립을 도모하면서, 투명 도전성 필름 (6) 의 두께 방향 위상차를 작게 할 수 있다.
또, 도시하지 않지만, 상기한 일 실시형태는, 투명 기재 (2) 의 하면에, 하드 코트층 (4) 등의 기능층을 추가로 구비할 수도 있다.
실시예
이하에 실시예 및 비교예를 나타내어, 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 또한, 본 발명은, 실시예 및 비교예에 의해서 전혀 한정되지 않는다. 또, 이하의 기재에 있어서 사용되는 배합 비율 (함유 비율), 물성치, 파라미터 등의 구체적 수치는, 상기한「발명을 실시하기 위한 형태」에 기재되어 있는, 그것들에 대응하는 배합 비율 (함유 비율), 물성치, 파라미터 등 해당 기재된 상한치 (「이하」,「미만」으로 정의되어 있는 수치) 또는 하한치 (「이상」,「초과」로 정의되어 있는 수치) 로 대체할 수 있다.
(하지층 부착 필름)
실시예 1
반송 방향 (MD 방향) 으로 장척인 투명 기재로서, 시클로올레핀계 필름 (COP 필름 : 두께 40 ㎛, 닛폰 제온사 제조,「ZEONOR ZF-16」, 면내 위상차 R0 : 4 ㎚, 두께 방향 위상차 Rth : 15 ㎚) 을 준비하였다. 롤 투 롤 방식에 의해서, 하기와 같이 하지층 부착 필름을 제조하였다.
자외선 경화형 아크릴 수지 (아이카 공업사 제조,「Z-850-6L」) 100 질량부, 및, 유기 용매 (아세트산에틸 50 질량% 와 PGME 50 질량% 의 혼합액) 160 질량부를 혼합하여, 하드 코트 조성물 용액을 조제하였다. 하드 코트 조성물 용액을 COP 필름의 상면에 도포하고, 80 ℃ 1 분 동안 건조시킨 후, 자외선을 조사하였다. 이로써, 두께 1.0 ㎛ 의 하드 코트층을 COP 필름의 상면에 형성하였다.
이어서, 지르코니아 입자 함유 자외선 경화형 아크릴 수지 (JSR 사 제조,「오프스타 Z7412」), 및, PGME 700 질량부를 혼합하여, 광학 조정 조성물을 조제하였다. 광학 조정 조성물 용액을 하드 코트층의 상면에 도포하고, 60 ℃ 1 분 동안 건조시킨 후, 자외선을 조사하였다. 이로써, 두께 100 ㎚ 의 광학 조정층을 하드 코트층의 상면에 형성하였다.
이와 같이 하여, COP 필름, 및, 하지층 (하드 코트층 및 광학 조정층) 을 순서대로 구비하는 하지층 부착 필름을 제조하였다.
실시예 2 ∼ 4
광학 조정 조성물의 지르코니아 입자 함유 자외선 경화형 아크릴 수지를, 표 1 에 기재된 지르코니아 입자 함유 자외선 경화형 아크릴 수지로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 하지층 부착 필름을 제조하였다.
비교예 1
자외선 경화형 아크릴 수지 (DIC 사 제조,「RC29-120」) 100 질량부, 및, 유기 용매 (아세트산에틸) 160 질량부를 혼합하여, 하드 코트 조성물 용액을 조제하였다. 이 하드 코트 조성물용 외경을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 하지층 부착 필름을 제조하였다.
비교예 2 ∼ 3
광학 조정 조성물의 지르코니아 입자 함유 자외선 경화형 아크릴 수지를, 표 1 에 기재된 지르코니아 입자 함유 자외선 경화형 아크릴 수지로 변경한 것 이외에는, 비교예 1 과 동일하게 하여, 하지층 부착 필름을 제조하였다.
비교예 4
자외선 경화형 아크릴 수지 (토요 잉크사 제조,「TYZ64-A12」) 100 질량부, 및, 유기 용매 (아세트산에틸) 160 질량부를 혼합하여, 하드 코트 조성물 용액을 조제하고, 이 하드 코트 조성물 용액을 사용하여 하드 코트층을 형성하였다. 또, 광학 조정층을 형성하지 않았다. 이것들 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, COP 필름 및 하드 코트층만을 구비하는 하지층 부착 필름을 제조하였다.
(투명 도전성 필름)
각 실시예 및 각 비교예의 하지층 부착 필름에 있어서, 광학 조정층 (비교예 4 는 하드 코트층) 의 상면에, 두께가 30 ㎚ 인 비정질의 ITO 층 (투명 도전층) 을 형성하였다. 구체적으로는, 권취식 스퍼터링 장치를 사용하여, 아르곤 가스 98 % 및 산소 가스 2 % 를 도입한 기압 0.4 ㎩ 의 진공 분위기하에서, ITO 타깃을 스퍼터링하였다. ITO 타깃으로는, 97 질량% 의 산화인듐 및 3 질량% 의 산화주석의 소결체를 사용하였다. 이와 같이 하여, 투명 도전성 필름을 제조하였다.
(굴절률의 측정)
각 실시예 및 각 비교예의 하지층 부착 필름의 광학 조정층에 대해서, 아베 굴절률계를 사용하여, 광학 조정층의 굴절률을 측정하였다. 광학 조정층의 굴절률은, 모두 1.60 ∼ 1.68 의 범위였다.
(소성 변형량의 측정)
각 실시예 및 각 비교예의 하지층 부착 필름의 상면 (광학 조정층측) 에 대해서, JIS Z 2255 에 준거하여, 하기의 조건에서, 깊이 200 ㎚ 에서의 소성 변형량을 측정하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
사용 장치 : 나노인덴터, Hysitoron 사 제조「Triboindeter」
압자 : Berkobich (삼각추형)
측정 모드 : 단일 압입
측정 온도 : 실온 (23 ℃)
압입 깊이 : 200 ㎚
(면내 위상차 및 두께 방향 위상차의 측정)
각 실시예 및 각 비교예의 하지층 부착 필름 및 투명 도전성 필름에 있어서, 23 ℃ 의 환경하에서, 편광·위상차 측정 시스템 (액소메트릭스사 제조, 상품명「액소 스캔」) 을 사용하여, 파장 590 ㎚ 에 있어서의 면내 위상차 R0 및 두께 방향 위상차 Rth 를 측정하였다.
각 실시예 및 각 비교예의 투명 도전성 필름을 130 ℃ 에서 90 분간 가열하고, ITO 층을 결정화시켰다. 얻어진 결정화 투명 도전성 필름의 면내 위상차 R0 및 두께 방향 위상차 Rth 를 상기와 동일한 조건에서 측정하였다.
이들 결과를 표 1 에 나타낸다.
(열 수축률의 측정)
각 실시예 및 각 비교예의 투명 도전성 필름을 MD 방향 길이 20 ㎝ × TD 방향 길이 20 ㎝ 의 평면에서 보았을 때 정방 형상으로 절단하고, 150 ℃ 에서 90 분간 가열하였다. 이 때의 MD 방향 및 TD 방향의 열 수축률의 각각을, 식 ([가열 전의 길이 ― 가열 후의 길이]/가열 전의 길이 × 100 %) 에 기초하여 측정하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
(경사 방향의 색 변화)
각 실시예 및 각 비교예의 투명 도전성 필름을 130 ℃ 에서 90 분간 가열하고, ITO 층을 결정화시켰다. 얻어진 결정화 투명 도전성 필름을, 정면과 상방 경사 45 도에서 육안으로 관찰하였다.
색미 (色味) 의 변화가 관찰되지 않은 경우를 ◎ 로 평가하였다. 색미에 극히 미세하게 변화가 관찰되었지만, 실용상 문제가 없는 경우를 ○ 로 평가하였다. 색미의 변화가 크게 관찰된 경우를 × 로 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.
Figure pat00001
표에 기재된 상품의 상세한 것을 하기에 나타낸다.
「Z-850-6L」: 아이카 공업사 제조, 자외선 경화형 아크릴 수지 (디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 유래 유닛이 이소포론디이소시아네이트에 의해서 변성되어 있는 우레탄아크릴레이트)
「RC29-120」: DIC 사 제조, 자외선 경화형 아크릴 수지 (아크릴로일기를 갖는 글리세린 유래 유닛을 갖는 메타크릴 폴리머)
「TYZ64-A12」: 토요 잉크사 제조, 자외선 경화형 아크릴 수지 (펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 유래 유닛이 이소포론디이소시아네이트에 의해서 변성되어 있는 우레탄아크릴레이트)
「Z7414」: JSR 사 제조, 지르코니아 입자 (평균 입자경 40 ㎚) 65 질량% 및 자외선 경화형 아크릴 수지를 함유
「Z7412」: JSR 사 제조, 지르코니아 입자 (평균 입자경 40 ㎚) 48 질량% 및 자외선 경화형 아크릴 수지를 함유
「RA023」: 아라카와 화학 공업사 제조, 지르코니아 입자 (평균 입자경 20 ㎚) 49 질량% 및 자외선 경화형 아크릴 수지를 함유
「RA021」: 아라카와 화학 공업사 제조, 지르코니아 입자 (평균 입자경 40 ㎚) 48 질량% 및 자외선 경화형 아크릴 수지를 함유
또한, 상기 설명은 본 발명을 예시한 실시형태로서 제공했지만, 이것은 단순한 예시에 지나지 않고, 한정적으로 해석해서는 안 된다. 당해 기술 분야의 당업자에 의해서 명확한 본 발명의 변형예는, 후기하는 청구의 범위에 포함되는 것이다.

Claims (8)

  1. 투명 기재와,
    상기 투명 기재의 두께 방향 일방측에 배치되는 하지층을 구비하고,
    파장 590 ㎚ 에 있어서의 면내 위상차가, 10.0 ㎚ 이하이며,
    상기 하지층의 상기 두께 방향 일방측으로부터 200 ㎚ 깊이에 있어서의 소성 변형량이, 50 ㎚ 이하인 것을 특징으로 하는, 하지층 부착 필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 하지층이, 하드 코트층과, 상기 하드 코트층의 두께 방향 일방측에 배치되는 광학 조정층을 구비하는 것을 특징으로 하는, 하지층 부착 필름.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 하지층의 두께가, 0.5 ㎛ 이상, 2.0 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는, 하지층 부착 필름.
  4. 제 1 항에 기재된 하지층 부착 필름과,
    상기 하지층 부착 필름의 두께 방향 일방측에 배치되는 투명 도전층을 구비하는 것을 특징으로 하는, 투명 도전성 필름.
  5. 제 4 항에 있어서,
    150 ℃, 90 분 동안 가열했을 때에 있어서의 열 수축률이, 0.10 % 이하인 것을 특징으로 하는, 투명 도전성 필름.
  6. 제 4 항에 있어서,
    130 ℃, 90 분 동안 가열했을 때에 있어서의 두께 방향 위상차가, 8.0 ㎚ 이하인 것을 특징으로 하는, 투명 도전성 필름.
  7. 편광자와,
    제 4 항에 기재된 투명 도전성 필름을 구비하는 것을 특징으로 하는, 투명 도전성 필름 적층체.
  8. 화상 표시 소자와,
    제 7 항에 기재된 투명 도전성 필름 적층체를 구비하고,
    상기 투명 도전성 필름이, 상기 편광자와 상기 화상 표시 소자 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는, 화상 표시 장치.
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