KR20190128641A - 부드러운 감촉 코팅의 형성 방법 - Google Patents

부드러운 감촉 코팅의 형성 방법 Download PDF

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KR20190128641A
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제프리 클랭
만줄리 굽타
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아르끄마 프랑스
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Abstract

코팅 조성물을 장파장 자외선 방사선원 및 그 후 단파장 자외선 방사선원에 노출시키는 것을 수반하는 다단계 경화 절차를 사용하여, 적어도 하나의 방사선-경화성 화합물, 적어도 하나의 광개시제, 미립자 표면 개질제 슬립 첨가제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 표면 컨디셔너 첨가제를 함유하는 코팅 조성물을 경화시킴으로써 개선된 촉각 품질을 갖는 "부드러운 느낌" 코팅이 수득된다.

Description

부드러운 감촉 코팅의 형성 방법
본 발명은 방사선-경화성 조성물을 사용하여 바람직한 "부드러운 (soft)" 감촉 (touch) 또는 느낌 (feel) 을 갖는 기판 코팅을 형성하는 방법에 관한 것이다.
부드러운 느낌 코팅 또는 부드러운 감촉 코팅을 갖는 제품은 바람직하며, 그 이유는 그러한 코팅이 더욱 즐거운, 호화로운 느낌을 플라스틱, 금속 또는 다른 경질 기판에 제공하기 때문이다. 종래의 부드러운 느낌 코팅은 폴리우레탄 화학에 의한 용매- 또는 수-계 2-부 시스템에 기반했다. 그러한 코팅은 느낌에 관하여 유리하지만, 그러한 코팅은 제형화의 곤란성, 제한된 저장 수명, 긴 경화 시간 및 불량한 보호 특성 예컨대 얼룩, 화학약품, 마모 및 손상 저항성을 포함하는 결점을 갖는다. 그 결과, 그러한 코팅을 개선하는 것, 특히 그러한 코팅이 연장된 저장 안정성 (즉, 향상된 저장 수명) 및 더 짧은 경화 시간을 동시에 제공하도록 제형화될 수 있는 방식을 찾는 것이 바람직할 것이다.
당업계에 알려진 "부드러운 느낌" 코팅 제형의 대표적인 예는 다음과 같이 요약될 수 있다 :
DE 202012012632 는 펜 그립을 위한 UV-경화성 부드러운 느낌 코팅을 개시한다. 실시예에서, 이 공보는 상이한 광개시제 및 단일 파장의 빛의 조합을 사용하여 방사선 경화성인 일관능성 모노머 및 이관능성 올리고머의 혼합물을 사용하여 수득되는 부드러운 느낌 코팅에 관한 것이다.
JP 5000123 은 방사선-경화성 코팅을 형성하는데 사용될 수 있는 우레탄 아크릴레이트 올리고머의 합성을 개시한다.
JP 4778249B2 는 가죽-유형 페인트용 아크릴레이트화 실리콘 올리고머를 포함하는 제형을 개시한다. 공보는 광원의 유형, 광원의 강도 및 노출의 시간을 개시하지만, 상이한 파장의 빛의 램프의 가능한 사용을 언급하지 않는다.
US 4,170,663 은 이온화 방사선, 자외선 광 및 이온화 방사선의 연속하는 사용을 통해 저광택 코팅을 형성하는 것을 개시하며, 안료를 흡수하는 자외선 광은 코팅의 표면으로 이행한다. 얻어지는 코팅은, 그러나, 부드러운 느낌 코팅이 아니다.
종래에 사용되어 온 이소시아네이트-계 폴리우레탄 부드러운 감촉 코팅을 대체하는 방사선-경화성 시스템을 개발하는 것에 관심이 있어 왔다. 이는 방사선-경화성 시스템이 자유 이소시아네이트 (이는 특정 건강 및 안전성 위험을 야기할 수 있다) 를 함유하지 않고, 개선된 내구성을 잠재적으로 제공하고, 효과적으로 무제한의 가용 시간을 갖고, 물 및 비-반응성 용매를 함유하지 않게 제형화될 수 있고 (미경화 상태에서 여전히 적합하게 낮은 점도를 갖는다), 더욱 신속히 (종래의 폴리우레탄 부드러운 감촉 코팅에 전형적으로 필요한 분 내지 시간 보다는, 초 단위로) 경화될 수 있기 때문이다. 그러나, 방사선-경화성 시스템은 부드러운 느낌 코팅으로서의 그것의 사용에 관하여 특정 도전을 갖는다. 부드러운 느낌 코팅은 일반적으로 바람직한 촉각 특성을 코팅 표면에 부여하는데 필요한 표면 질감을 생성하기 위해 미립자 표면 개질제 예컨대 실리카, 왁스 입자 또는 중합체 비드에 의존한다. 요망되는 질감을 부여하기 위해서, 그러한 첨가제는 코팅을 형성하는 수지 매트릭스의 표면을 파괴할 필요가 있다. 용매-계 및 물-계 시스템, 예컨대 대부분의 종래의 폴리우레탄 부드러운 느낌 코팅 조성물에서, 기판의 표면에 적용된 후에 코팅 조성물의 건조는 표면 개질제의 입자가 건조된/경화된 폴리우레탄 매트릭스로부터 부분적으로 돌출되기에 충분한 수축을 허용한다. 이와 대조적으로, 방사선-경화성 코팅 조성물은, 전형적으로 임의의 휘발성 담체 또는 용매를 함유하지 않으며, 최소 수축을 보인다. 이는 표면 개질제의 입자가, 경화된 수지의 층 위로 부분적으로 확장하기 보다는, 경화된 수지 내에 실질적으로 완전히 포매된 상태로 유지된다는 것의 의미한다. 이러한 현상은 방사선-경화성 코팅 조성물에 기반하는 완전히 만족스러운 부드러운 느낌 코팅을 얻는 것을 곤란하게 만든다.
하나 이상의 방사선-경화성 화합물 (예를 들어, 방사선-경화성 올리고머 및/또는 모노머), 광개시제(들) 및 하나 이상의 표면 컨디셔너 첨가제를 함유하는 방사선-경화성 코팅 조성물에 기반하는 방사선-경화된 부드러운 느낌 코팅의 촉각 품질의 유의한 개선이 기판 위의 코팅 조성물의 층이 먼저 장파장 자외선원에 그 후 단파장 자외선원에 노출되는 다단계 절차로 코팅 조성물을 경화시킴으로써 실현될 수 있다는 것이 이제 발견되었다. 슬립 특성을 경화된 코팅에 부여하지 않는 미립자 표면 개질제 예컨대 실리카가 사용되는 상황에서, 적어도 하나의 슬립 첨가제를 표면 컨디셔너 첨가제로서 코팅 조성물에 부가적으로 포함시킴으로써 추가의 개선이 실현될 수 있다. 이론에 구속되는 것을 바라지 않으면서, 다단계 UV-경화는 표면 컨디셔너 제제(들)가 경화 동안 코팅 조성물 층의 표면으로 이행하는 것을 허용하여, 그에 의해 더욱 즐거운 "부드러운" 느낌을 초래한다고 여겨진다.
본 발명의 다양한 비제한적 양태는 다음과 같이 요약될 수 있다:
양태 1 : 기판의 표면에 부드러운 감촉 코팅을 형성하는 방법으로서, 하기의 순차적 (연속) 단계를 포함하거나, 그것으로 본질적으로 이루어지거나, 또는 그것으로 이루어지는 방법:
a) 적어도 하나의 방사선-경화성 화합물, 슬립 첨가제 및 미립자 표면 개질제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 표면 컨디셔너 첨가제 및 적어도 하나의 광개시제로 구성되는, 코팅 조성물의 층을 기판의 표면의 적어도 일부에 적용하는 단계;
b) 코팅 조성물의 층을 장파장 자외선 방사선에 노출시키는 단계; 및
c) 코팅 조성물의 층을 단파장 자외선 방사선에 노출시키는 단계.
양태 2 : 양태 1 에 있어서, 적어도 하나의 표면 컨디셔너 첨가제는 폴리실록산, 천연 및 합성 왁스 및 플루오로중합체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 슬립 첨가제를 포함하거나, 그것으로 본질적으로 이루어지거나, 또는 그것으로 이루어지며, 슬립 첨가제는 적어도 하나의 방사선-경화성 이중 결합을 임의로 포함할 수 있는 방법.
양태 3 : 양태 1 에 있어서, 적어도 하나의 표면 컨디셔너 첨가제는 실리콘 폴리에테르 공중합체 및 실리콘 아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 폴리실록산을 포함하거나, 그것으로 본질적으로 이루어지거나 또는 그것으로 이루어지는 방법 .
양태 4 : 양태 1-3 중 임의의 하나에 있어서, 코팅 조성물은 0.2 내지 20 중량% 의 슬립 첨가제로 구성되는 방법.
양태 5 : 양태 1-4 중 임의의 하나에 있어서, 적어도 하나의 방사선-경화성 화합물은 지방족 모노-알코올의 (메트)아크릴레이트 에스테르, 알콕시화된 지방족 모노-알코올의 (메트)아크릴레이트 에스테르, 지방족 폴리올의 (메트)아크릴레이트 에스테르, 알콕시화된 지방족 폴리올의 (메트)아크릴레이트 에스테르, 방향족 알코올의 (메트)아크릴레이트 에스테르, 알콕시화된 방향족 알코올의 (메트)아크릴레이트 에스테르, 에폭시 (메트)아크릴레이트, 폴리에테르 (메트)아크릴레이트, 우레탄 (메트)아크릴레이트, 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트 및 그의 아민- 및 설파이드-개질된 유도체 및 그의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 (메트)아크릴레이트-관능화된 모노머 또는 올리고머를 포함하거나, 그것으로 본질적으로 이루어지거나, 또는 그것으로 이루어지는 방법.
양태 6 : 양태 1-5 중 임의의 하나에 있어서, 코팅 조성물은 총 50 내지 99 중량% 의 방사선-경화성 화합물 (존재하는 경우에, 임의의 반응성 슬립 첨가제의 양을 포함함) 로 구성되는 방법.
양태 7 : 양태 1-6 중 임의의 하나에 있어서, 적어도 하나의 표면 컨디셔너 첨가제는 실리카, 중합체 비드 및 왁스 입자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 미립자 표면 개질제를 포함하거나, 그것으로 본질적으로 이루어지거나, 또는 그것으로 이루어지는 방법.
양태 8 : 양태 1-7 중 임의의 하나에 있어서, 코팅 조성물은 0.2 내지 30 중량% 의 미립자 표면 개질제로 구성되는 방법.
양태 9 : 양태 1-8 중 임의의 하나에 있어서, 코팅 조성물은 적어도 하나의 슬립 첨가제 및 적어도 하나의 미립자 표면 개질제를 포함하는 방법.
양태 10 : 양태 1-9 중 임의의 하나에 있어서, 코팅 조성물은 적어도 하나의 슬립 첨가제 및 미립자 표면 개질제로서의 적어도 하나의 실리카를 포함하는 방법.
양태 11 : 양태 1-10 중 임의의 하나에 있어서, 코팅 조성물은 슬립 첨가제로서의 적어도 하나의 폴리실록산 및 미립자 표면 개질제로서의 적어도 하나의 실리카를 포함하는 방법.
양태 12 : 양태 1-11 중 임의의 하나에 있어서, 적어도 하나의 광개시제는 알파-히드록시 케톤, 페닐글리옥실레이트, 벤질디메틸케탈, 알파-아미노케톤, 모노-아실 포스핀, 비스-아실 포스핀, 메탈로센, 포스핀 옥시드, 벤조인 에테르 및 벤조페논 및 그의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 광개시제를 포함하거나, 그것으로 본질적으로 이루어지거나, 또는 그것으로 이루어지는 방법.
양태 13 : 양태 1-11 중 임의의 하나에 있어서, 코팅 조성물은 단파장 자외선 방사선 및 장파장 자외선 방사선 둘 모두를 흡수할 수 있는 단일 광개시제를 포함하는 방법.
양태 14 : 양태 13 에 있어서, 단일 광개시제는 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로파논, 벤질 디메틸 케탈 및 1-히드록시시클로헥실페닐 케톤으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 방법.
양태 15 : 양태 1-14 중 임의의 하나에 있어서, 코팅 조성물은 0.1 내지 10 중량% 의 광개시제로 구성되는 방법.
양태 16 : 양태 1-12 중 임의의 하나에 있어서, 코팅 조성물은 단파장 자외선 방사선을 흡수할 수 있는 제 1 광개시제 및 장파장 자외선 방사선을 흡수할 수 있는 제 2 광개시제로 구성되는 방법.
양태 17 : 양태 1-16 중 임의의 하나에 있어서, 코팅 조성물은 총 1 중량% 이하의 비-반응성 용매 및 물로 구성되는 방법.
양태 18 : 양태 1-17 중 임의의 하나에 있어서, 기판은 열가소성 수지, 열경화성 수지, 세라믹스, 셀룰로오스 재료, 가죽 및 금속으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 재료로 구성되는 방법.
양태 19 : 양태 1-18 중 임의의 하나에 있어서, 장파장 UV 광은 D 전구 수은 램프, V 전구 수은 램프 및 LED 램프로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 램프에 의해 공급되는 방법.
양태 20 : 양태 1-19 중 임의의 하나에 있어서, 장파장 UV 광은 300 내지 420 ㎚ 또는 320 내지 400 ㎚ 의 파장을 갖는 방법.
양태 21 : 양태 1-20 중 임의의 하나에 있어서, 단파장 UV 광은 수은 아크 램프 및 H 전구 램프로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 램프에 의해 공급되는 방법.
양태 22 : 양태 1-21 중 임의의 하나에 있어서, 단파장 UV 광은 220 내지 280 ㎚ 또는 230 내지 270 ㎚ 의 파장을 갖는 방법.
양태 23 : 양태 1-22 중 임의의 하나에 있어서, 코팅 조성물의 층은 4 내지 200 마이크론 또는 10 내지 75 마이크론의 두께를 갖는 방법.
양태 24 : 양태 1-23 중 임의의 하나의 방법에 의해 수득된 부드러운 감촉 코팅을 갖는 기판.
특정 구현예에서, 본 발명은 하나 이상의 방사선-경화성 화합물 (예를 들어, 하나 이상의 (메트)아크릴레이트-관능화된 모노머 및/또는 올리고머) 이 적어도 하나의 광개시제 및 슬립 첨가제 및 미립자 표면 개질제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 첨가제와 조합되는 코팅 조성물을 제공한다. 그러한 조성물은 자외선 방사선을 사용하여 경화될 수 있으며, 자유 라디칼 중합 또는 방사선-경화성 화합물(들)을 수반하는 다른 반응으로 인해 방사선-경화성 화합물(들)의 경화가 일어난다. 조성물의 코팅은 바람직하게는 주위 온도 또는 주위 온도 근처에서, 예컨대 10-35℃ 범위에서 기판의 표면에 적용될 수 있지만, 요망되는 경우에 더 높은 적용 온도가 사용될 수 있을 것이다. 적용된 후에, 조성물은 적합한 공급원으로부터의 장파장 및 단파장 자외선 (UV) 광 둘 모두를 사용하여 경화될 수 있다.
코팅 조성물의 층은 방사선-경화성 화합물(들)의 가교/중합을 야기하기에 효과적인 시간 동안 UV 광에 노출된다. UV 광의 강도 및/또는 파장은 요망되는 경화도를 달성하기 위해서 원하는 대로 조정될 수 있다. 노출의 시간 기간은 시간 기간이, 조합으로, 코팅 조성물을 실용적 물품으로 경화시키기에 효과적인 한 특별히 제한되지 않는다. 충분한 가교를 야기하는 에너지에 대한 노출의 시간 프레임은 특별히 제한되지 않고, 수 초 내지 수 분일 수 있다. 광개시제 또는 광개시제들은 코팅 조성물 층이 노출되는 UV 광의 파장에서 활성화되도록 선택될 수 있으며, UV 광은 광개시제의 분해를 유발하고 방사선-경화성 화합물(들)의 경화 (예를 들어, 중합 및 가교) 를 개시하는 자유 라디칼을 생성한다.
다양한 구현예에서, 본원에 기재된 코팅 조성물은 주위 온도 (25℃) 에서 액체이며, Brookfield 점도계, 모델 DV-II 를 사용하여, 27 스핀들 (점도에 따라, 스핀들 속도는 전형적으로 50 내지 200 rpm 으로 다르다) 을 사용하여 측정되는, 점도가 4000 mPa.s (cP) 미만 또는 3500 mPa.s (cP) 미만 또는 3000 mPa.s (cP) 미만 또는 2500 cPs 미만 또는 2000 cPs 미만 또는 1500 cPs 미만 또는, 가장 바람직하게는, 1000 cPs 미만이다. 코팅 조성물은 25℃ 에서의 점도가 약 500 cPs 내지 약 4000 cPs 또는 약 300 cPs 내지 약 2000 cPs 또는 약 400 cPs 내지 약 1500 cPs 또는 약 400 cPs 내지 약 1000 cPs 범위일 수 있다. 본원에 기재된 코팅 조성물의 그러한 점도는 코팅 및 필름으로서 적용하기 위해 기판 위에서 조성물의 쉬운 확전을 촉진한다.
코팅 조성물은 기판 표면에 임의의 알려진 종래의 방식으로, 예를 들어, 분무, 나이프 코팅, 롤러 코팅, 캐스팅, 드럼 코팅, 디핑 등 및 그의 조합에 의해 적용될 수 있다. 전사 공정을 사용하는 간접 적용이 또한 사용될 수 있다. 기판은 임의의 상업적으로 적절한 기판, 예컨대 높은 표면 에너지 기판 또는 낮은 표면 에너지 기판, 예컨대 각각 금속 기판 또는 플라스틱 기판일 수 있다. 기판은 금속, 셀룰로오스 재료 (예컨대 종이, 판지 및 목재), 세라믹스 (유리를 포함함), 열가소성 수지 예컨대 폴리올레핀, 폴리카르보네이트, 아크릴로니트릴 부타디엔 스티렌 (ABS) 및 그의 블렌드, 복합재 (라미네이트를 포함함), 가죽 및 그의 조합을 포함할 수 있다.
방사선-경화성 화합물
본 발명에서 사용하기에 적합한 방사선-경화성 화합물은 일반적으로 적어도 하나의 탄소-탄소 이중 결합, 특히 자유 라디칼 반응, 특히 자외선 방사선에 의해 개시되는 반응에 참여할 수 있는 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 에틸렌계 불포화 화합물로서 기술될 수 있다. 그러한 반응은 중합 또는 경화를 초래하여, 방사선-경화성 화합물이 중합된 매트릭스 또는 중합체성 사슬의 일부로 된다. 본 발명의 다양한 구현예에서, 방사선-경화성 화합물은 분자 당 하나, 둘, 셋, 넷, 다섯 이상의 탄소-탄소 이중 결합을 함유할 수 있다. 상이한 수의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 복수의 에틸렌계 불포화 화합물의 조합이 본 발명의 코팅 조성물에서 이용될 수 있다. 탄소-탄소 이중 결합은 α,β-불포화 카르보닐 모이어티, 예를 들어, α,β-불포화 에스테르 모이어티 예컨대 아크릴레이트 관능기 또는 메타크릴레이트 관능기의 일부로서 존재할 수 있다. 탄소-탄소 이중 결합은 또한 방사선-경화성 화합물에 비닐 기 -CH=CH2 (예컨대 알릴 기, -CH2-CH=CH2) 의 형태로 존재할 수 있다. 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 둘 이상의 상이한 유형의 관능기가 방사선-경화성 화합물에 존재할 수 있다. 예를 들어, 방사선-경화성 화합물은 비닐 기 (알릴 기를 포함함), 아크릴레이트 기, 메타크릴레이트 기 및 그의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 둘 이상의 관능기를 함유할 수 있다.
본 발명의 코팅 조성물은, 다양한 구현예에서, 자외선 방사선에의 노출에 의해 개시되는 자유 라디칼 중합 (경화) 을 겪을 수 있는 하나 이상의 (메트)아크릴레이트 관능성 화합물을 함유할 수 있다. 본원에서 사용되는, 용어 "(메트)아크릴레이트" 는 메타크릴레이트 (-O-C(=O)-C(CH3)=CH2) 뿐만 아니라 아크릴레이트 (-O-C(=O)-CH=CH2) 관능기를 언급한다. 적합한 방사선-경화성 (메트)아크릴레이트는 분자 당 하나, 둘, 셋, 넷 이상의 (메트)아크릴레이트 관능기를 함유하는 화합물을 포함한다; 방사선-경화성 (메트)아크릴레이트는 올리고머 또는 모노머 또는 올리고머(들) 및 모노머(들)의 조합일 수 있다.
전형적으로, 방사선-경화성 화합물(들)은 중량에 의해 본 발명에서 유용한 코팅 조성물의 대부분을 차지할 것이다. 예를 들어, 코팅 조성물은 총 50 내지 99 중량% 의 방사선-경화성 화합물 (예를 들어, (메트)아크릴레이트) 을 함유할 수 있으며, 상기 양은 코팅 조성물의 총 중량에 기초한다.
적합한 방사선-경화성 화합물은 모노머 및 올리고머 둘 모두를 포함하며, 그들 각각의 예는 아래에서 더욱 상세히 논의된다.
방사선-경화성 (메트)아크릴레이트 올리고머
적합한 방사선-경화성 (메트)아크릴레이트 올리고머는, 예를 들어, 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트, 에폭시 (메트)아크릴레이트, 폴리에테르 (메트)아크릴레이트, 폴리우레탄 (메트)아크릴레이트 (또한 때때로 우레탄 (메트)아크릴레이트 또는 우레탄 (메트)아크릴레이트 올리고머로서 언급됨) 및 그의 조합, 뿐만 아니라 그의 아민-개질된 및 설파이드-개질된 변이형을 포함한다.
예시적 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트는 아크릴 또는 메타크릴산 또는 그의 혼합물과 히드록실 기-종결된 폴리에스테르 폴리올의 반응 산물을 포함한다. 반응 과정은 유의한 농도의 잔류 히드록실 기가 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트에 남아 있도록 수행될 수 있거나 또는 폴리에스테르 폴리올의 모든 또는 본질적으로 모든 히드록실 기가 (메트)아크릴레이트화되도록 수행될 수 있다. 폴리에스테르 폴리올은 폴리히드록실 관능성 성분 (특히, 디올) 및 폴리카르복실산 관능성 화합물 (특히, 디카르복실산 및 무수물) 의 중축합 반응에 의해 제조될 수 있다. 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트를 제조하기 위해서, 폴리에스테르 폴리올의 히드록실 기는 그 후 (메트)아크릴산, (메트)아크릴로일 클로라이드, (메트)아크릴 무수물 등과 반응함으로써 일부 또는 전부 에스테르화된다. 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트는 또한 히드록실-함유 (메트)아크릴레이트 예컨대 히드록시알킬 (메트)아크릴레이트 (예를 들어, 히드록시에틸 아크릴레이트) 를 폴리카르복실산과 반응시킴으로써 합성될 수 있다. 폴리히드록실 관능성 및 폴리카르복실산 관능성 성분은 각각 선형, 분지형, 시클로지방족 또는 방향족 구조를 가질 수 있고, 개별적으로 또는 혼합물로서 사용될 수 있다.
적합한 에폭시 (메트)아크릴레이트의 예는 아크릴 또는 메타크릴산 또는 그의 혼합물과 글리시딜 에테르 또는 에스테르의 반응 산물을 포함한다.
예시적 폴리에테르 (메트)아크릴레이트는 아크릴 또는 메타크릴산 또는 그의 혼합물과 폴리에테르올 (또한 폴리에테르 폴리올로서 언급됨) 의 축합 반응 산물을 포함하나, 그에 제한되지 않는다. 적합한 폴리에테르올은 에테르 결합 및 말단 히드록실 기를 함유하는 선형 또는 분지형 물질일 수 있다. 폴리에테르올은 스타터 분자를 사용하여 시클릭 에테르 예컨대 테트라히드로푸란, 1,3-프로필렌 옥시드 또는 알킬렌 옥시드 (예를 들어, 에틸렌 옥시드, 프로필렌 옥시드, 부탄 옥시드 및 그의 조합) 의 개환 중합에 의해 뿐만 아니라 디올, 특히 모노머성 디올 예컨대 에틸렌 글리콜, 1,2-프로필렌 글리콜, 1,3-프로필렌 글리콜 및 1,4-부탄디올의 축합에 의해 제조될 수 있다. 적합한 스타터 분자는 물, 히드록실 관능성 재료, 폴리에스테르 폴리올 및 아민을 포함한다. 폴리에테르올은 (메트)아크릴레이트-함유 반응물 예컨대 (메트)아크릴로일 클로라이드, (메트)아크릴 무수물 또는 (메트)아크릴산으로 에스테르화되어 폴리에테르 (메트)아크릴레이트가 수득될 수 있다. 본 발명의 하나의 바람직한 구현예에서, 코팅 조성물은 적어도 하나의 (메트)아크릴레이트-관능화된 폴리테트라메틸렌 에테르, 특히 적어도 하나의 디(메트)아크릴레이트-관능화된 폴리테트라메틸렌 에테르 (예를 들어, 그것의 말단 히드록실 기에서 (메트)아크릴산으로 에스테르화된 폴리테트라메틸렌 에테르 글리콜) 로 구성된다.
본 발명의 코팅 조성물에서 사용될 수 있는 폴리우레탄 (메트)아크릴레이트 (때때로 또한 "우레탄 (메트)아크릴레이트" 로서 언급됨) 는 (메트)아크릴레이트 말단-기로 캡핑된 지방족 및/또는 방향족 폴리에스테르 폴리올, 폴리에테르 폴리올 및 폴리카르보네이트 폴리올 및 지방족 및/또는 방향족 폴리에스테르 디이소시아네이트 및 폴리에테르 디이소시아네이트에 기반하는 우레탄을 포함한다.
다양한 구현예에서, 폴리우레탄 (메트)아크릴레이트는, 지방족 및/또는 방향족 폴리이소시아네이트 (예를 들어, 디이소시아네이트, 트리이소시아네이트) 를 OH 기 종결된 폴리에스테르 폴리올 (방향족, 지방족 및 혼합된 지방족/방향족 폴리에스테르 폴리올을 포함함), 폴리에테르 폴리올, 폴리카르보네이트 폴리올, 폴리카프로락톤 폴리올, 폴리디메틸실록산 폴리올 또는 폴리부타디엔 폴리올 또는 그의 조합과 반응시켜 이소시아네이트-관능화된 올리고머를 형성하고, 이것을 그 후 히드록실-관능화된 (메트)아크릴레이트 예컨대 히드록시에틸 (메트)아크릴레이트 또는 히드록시프로필 (메트)아크릴레이트와 반응시켜 종결된 (메트)아크릴레이트 기를 제공함으로써 제조될 수 있다. 예를 들어, 폴리우레탄 (메트)아크릴레이트는 분자 당 둘, 셋, 넷 이상의 (메트)아크릴레이트 관능기를 함유할 수 있다. 당업계에 알려진 바와 같이, 다른 첨가 순서를 또한 실시하여 폴리우레탄 (메트)아크릴레이트를 제조할 수 있다. 예를 들어, 히드록실-관능화된 (메트)아크릴레이트는 먼저 폴리이소시아네이트와 반응되어 이소시아네이트-관능화된 (메트)아크릴레이트가 수득될 수 있으며, 이것이 그 후 OH 기 종결된 폴리에스테르 폴리올, 폴리에테르 폴리올, 폴리카르보네이트 폴리올, 폴리카프로락톤 폴리올, 폴리디메틸실록산 폴리올, 폴리부타디엔 폴리올 또는 그의 조합과 반응될 수 있다. 또다른 구현예에서, 폴리이소시아네이트는 먼저 임의의 앞서 언급된 유형의 폴리올을 포함하는 폴리올과 반응되어 이소시아네이트-관능화된 폴리올이 수득될 수 있으며, 이것이 그 후 히드록실-관능화된 (메트)아크릴레이트와 반응되어 폴리우레탄 (메트)아크릴레이트를 초래한다. 대안적으로, 모든 성분이 조합되고 동시에 반응될 수 있다.
임의의 위에서 언급된 유형의 올리고머는 당업계에 알려진 절차에 따라 아민 또는 설파이드 (예를 들어, 티올) 로 개질될 수 있다. 그러한 아민- 및 설파이드-개질된 올리고머는, 예를 들어, 베이스 올리고머에 존재하는 (메트)아크릴레이트 관능기 중 상대적으로 적은 일부 (예를 들어, 2-15%) 를 아민 (예를 들어, 이차 아민) 또는 설파이드 (예를 들어, 티올) 와 반응시킴으로써 제조될 수 있으며, 개질하는 화합물은 마이클 부가 반응으로 (메트)아크릴레이트의 탄소-탄소 이중 결합에 부가된다.
본 발명의 다양한 구현예에서, 적어도 하나의 방사선-경화성 (메트)아크릴레이트 올리고머 (예를 들어, 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트 올리고머 및/또는 폴리에테르 (메트)아크릴레이트 올리고머) 는 코팅 조성물에 약 1 중량% 내지 약 70 중량% 또는 약 20 중량% 내지 약 65 중량% 또는 약 40 중량% 내지 약 60 중량% (그러한 양은 존재할 수 있는 임의의 비-반응성 용매 또는 물 이외의 코팅 조성물의 모든 성분의 총 중량에 기초한다) 의 총량으로 존재할 수 있다.
방사선-경화성 (메트)아크릴레이트 모노머
적합한 방사선-경화성 모노머의 예시적 예는 (메트)아크릴레이트화된 모노- 및 폴리올 (폴리알코올) 및 (메트)아크릴레이트화된 알콕시화된 모노-알코올 및 폴리올을 포함한다. 모노-알코올 및 폴리올은 지방족일 수 있거나 (하나 이상의 시클로지방족 고리를 포함함) 또는 하나 이상의 방향족 고리를 함유할 수 있다 (페놀 또는 비스페놀 A 의 경우에서와 같음). "알콕시화된" 은, 하나 이상의 (메트)아크릴레이트 관능기를 도입하는 에스테르화 전에, 베이스 모노-알코올 또는 폴리올이 하나 이상의 에폭시드 예컨대 에틸렌 옥시드 및/또는 프로필렌 옥시드와 반응되어 하나 이상의 에테르 모이어티 (예를 들어, -CH2CH2-O-) 가 모노-알코올 또는 폴리올의 하나 이상의 히드록실 기에 도입된 것을 의미한다. 예를 들어, 모노-알코올 또는 폴리올과 반응되는 에폭시드의 양은 모노-알코올 또는 폴리올의 mole 당 약 1 내지 약 30 moles 의 에폭시드일 수 있다.
적합한 모노-알코올의 예는 직쇄형, 분지형 및 시클릭 C1-C54 모노-알코올 (이는 일차, 이차 또는 삼차 알코올일 수 있다) 을 포함하나, 그에 제한되지 않는다. 예를 들어, 모노-알코올은 C1-C7 지방족 모노-알코올일 수 있다. 또다른 구현예에서, 모노-알코올은 C8-C24 지방족 모노-알코올 (예를 들어, 라우릴 알코올, 스테아릴 알코올) 일 수 있다. 적합한 폴리올의 예는 분자 당 둘, 셋, 넷 이상의 히드록실 기를 함유하는 유기 화합물 예컨대 글리콜 (디올), 예를 들어, 에틸렌 글리콜, 1,2- 또는 1,3-프로필렌 글리콜 또는 1,2-, 1,3- 또는 1,4-부틸렌 글리콜, 헥산디올, 네오펜틸 글리콜, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 글리세롤 등을 포함한다. 폴리올 또는 알콕시화된 폴리올의 경우에, 폴리올 또는 알콕시화된 폴리올의 히드록실 기의 하나 이상은 (메트)아크릴레이트화된 것일 수 있다; 즉, 폴리올 또는 알콕시화된 폴리올은 일부 또는 전부 에스테르화 ((메트)아크릴레이트화) 될 수 있다.
적합한 방사선-경화성 (메트)아크릴레이트 모노머의 대표적인, 그러나 비제한적인 예는 하기를 포함한다 : 1,3-부틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 더 긴 사슬 지방족 디(메트)아크릴레이트 (예컨대 일반적으로 식 H2C=CRC(=O)-O-(CH2)m-O-C(=O)CR'=CH2 에 해당하는 것, 식에서 R 및 R' 는 독립적으로 H 또는 메틸이고, m 은 8 내지 24 의 정수임), 알콕시화된 (예를 들어, 에톡시화된, 프로폭시화된) 헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 알콕시화된 (예를 들어, 에톡시화된, 프로폭시화된) 네오펜틸 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 도데실 디(메트) 아크릴레이트, 시클로헥산 디메탄올 디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 알콕시화된 (예를 들어, 에톡시화된, 프로폭시화된) 비스페놀 A 디(메트)아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 알콕시화된 (예를 들어, 에톡시화된, 프로폭시화된) 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 알콕시화된 (예를 들어, 에톡시화된, 프로폭시화된) 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 알콕시화된 (예를 들어, 에톡시화된, 프로폭시화된) 글리세릴 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 트리스 (2-히드록시 에틸) 이소시아누레이트 트리(메트)아크릴레이트, 2(2-에톡시에톡시) 에틸 (메트)아크릴레이트, 2-페녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 3,3,5-트리메틸시클로헥실 (메트)아크릴레이트, 알콕시화된 라우릴 (메트)아크릴레이트, 알콕시화된 페놀 (메트)아크릴레이트, 알콕시화된 테트라히드로푸르푸릴 (메트)아크릴레이트, 카프로락톤 (메트)아크릴레이트, 시클릭 트리메틸올프로판 포르말 (메트)아크릴레이트, 디시클로펜타디에닐 (메트)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 메틸 에테르 (메트)아크릴레이트, 알콕시화된 (예를 들어, 에톡시화된, 프로폭시화된) 노닐 페놀 (메트)아크릴레이트, 이소보르닐 (메트)아크릴레이트, 이소데실 (메트)아크릴레이트, 이소옥틸 (메트)아크릴레이트, 라우릴 (메트)아크릴레이트, 메톡시 폴리에틸렌 글리콜 (메트)아크릴레이트, 옥틸데실 (메트)아크릴레이트 (또한 스테아릴 (메트)아크릴레이트로서 알려짐), 테트라히드로푸르푸릴 (메트) 아크릴레이트, 트리데실 (메트)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 에틸 에테르 (메트)아크릴레이트, t-부틸 시클로헥실 (메트)아크릴레이트, 디시클로펜타디엔 디(메트)아크릴레이트, 페녹시에탄올 (메트)아크릴레이트, 옥틸 (메트)아크릴레이트, 데실 (메트)아크릴레이트, 도데실 (메트)아크릴레이트, 테트라데실 (메트)아크릴레이트, 세틸 (메트)아크릴레이트, 헥사데실 (메트)아크릴레이트, 베헤닐 (메트)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 에틸 에테르 (메트)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 부틸 에테르 (메트)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 메틸 에테르 (메트)아크릴레이트, 도데칸디올 디 (메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타/헥사(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 알콕시화된 (예를 들어, 에톡시화된, 프로폭시화된) 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디-트리메틸올프로판 테트라(메트)아크릴레이트, 알콕시화된 (예를 들어, 에톡시화된, 프로폭시화된) 글리세릴 트리(메트)아크릴레이트 및 트리스 (2-히드록시 에틸) 이소시아누레이트 트리(메트)아크릴레이트 및 그의 조합.
일반적으로 말하면, 본 발명의 특정 구현예에서, 일- 또는 이-관능성이고 (즉, 분자 당 하나 또는 둘의 (메트)아크릴레이트 기를 함유한다), 지방족 또는 알콕시화된 것인 하나 이상의 방사선-경화성 (메트)아크릴레이트 모노머를 코팅 조성물에 포함시키는 것이 바람직할 것이다. 그러한 (메트)아크릴레이트 모노머의 예는 프로폭시화된 네오펜틸 글리콜 디아크릴레이트, 도데칸디올 디메타크릴레이트, 헥산디올 디아크릴레이트 및 라우릴 아크릴레이트를 포함한다.
본 발명의 특정 구현예에 따르면, 코팅 조성물은 총 약 1 중량% 내지 약 60 중량% 또는 약 10 중량% 내지 약 50 중량% 또는 약 20 중량% 내지 약 45 중량% 의 방사선-경화성 (메트)아크릴레이트 모노머로 구성된다 (그러한 양은 존재할 수 있는 임의의 비-반응성 용매 또는 물 이외의, 코팅 조성물의 모든 성분의 총 중량에 기초한다).
임의적 담체
본 발명의 특정 구현예에서, 코팅 조성물은 조성물의 다른 성분을 위한 담체로서 기능할 수 있는 물 및/또는 하나 이상의 비-반응성 용매 (예를 들어, 유기 용매) 를 함유할 수 있다.
그러나, 본 발명의 특히 유리한 구현예에서, 코팅 조성물은 물 및/또는 비-반응성 용매를 거의 또는 전혀 함유하지 않도록, 예를 들어, 코팅 조성물의 총 중량에 기초하여 10% 이하 또는 5% 이하 또는 1% 이하 또는 심지어는 0% 의 물 및/또는 비-반응성 용매를 함유하도록 제형화된다. 그러한 "하이 솔리드" 조성물 (이는 UV-경화성 100% 고체 코팅 조성물로 여겨질 수 있다) 은, 예를 들어 저점도 반응성 희석제를 포함하는, 다양한 성분을 사용하여 제형화될 수 있으며, 저점도 반응성 희석제는 용매 또는 물이 존재하지 않더라도 조성물의 점도를 충분히 낮게 만들어서, 조성물이 적합한 적용 온도에서 기판 표면에 용이하게 적용되어 상대적으로 얇은, 균일한 코팅 층을 형성할 수 있도록 선택된다.
본 발명의 다양한 구현예에서, 본원에 기재된 코팅 조성물은, 25℃ 에서 Brookfield 점도계, 모델 DV-II 를 사용하여, 27 스핀들 (점도에 따라, 스핀들 속도는 전형적으로 50 내지 200 rpm 으로 다르다) 을 사용하여 측정되는, 점도가 4000 cPs 미만 또는 3500 cPs 미만 또는 3000 cPs 미만 또는 2500 cPs 미만 또는 2000 cPs 미만 또는 1500 cPs 미만 또는, 가장 바람직하게는, 1000 cPa 미만이다.
광개시제
본원에 기재된 조성물은 적어도 하나의 광개시제를 포함하고, 복사 에너지 (특히, 자외선 방사선) 로 경화가능하다. 광개시제 또는 광개시제들은 본 발명의 방법에서 사용되는 자외선 방사선원에 의해 방사되는 자외선 방사선의 파장에 따라 선택된다. 즉, 단파장 자외선 방사선원에 의해 방사되는 파장에서 에너지를 흡수하는 적어도 하나의 광개시제가 조성물에 존재하고, 장파장 자외선 방사선원에 의해 방사되는 파장에서 에너지를 흡수하는 적어도 하나의 광개시제가 조성물에 존재한다. 하나의 구현예에서, 조성물은 장파장 및 단파장 둘 모두에서 에너지를 흡수하는 단일 광개시제 (이는 "이중 파장 광개시제" 로서 언급될 수 있음) 를 함유한다. 또다른 구현예에서, 조성물은 단파장에서 에너지를 흡수하나 장파장에서 에너지를 흡수하지 않는 제 1 광개시제 및 장파장에서 에너지를 흡수하나 단파장에서 에너지를 흡수하지 않는 제 2 광개시제 (이의 각각은 "단일 파장 광개시제" 로서 언급될 수 있음) 둘 모두를 함유한다. 다른 조합, 예컨대, 예를 들어, 이중 파장 광개시제와 하나 이상의 단일 파장 광개시제의 조합, 상이한 이중 파장 광개시제의 조합 등이 또한 가능하다.
따라서, 본 발명의 하나의 구현예에서, 상이한 흡광 특징을 보유하는 광개시제의 조합이 이용되며, 더 긴 파장 자외선 방사선은 광개시제 또는 광개시제들을 여기 또는 활성화시키는데 사용되지만, 더 짧은 파장 자외선 방사선은 존재하는 하나 이상의 다른 광개시제를 여기시키는데 사용된다.
적합한 광개시제는, 예를 들어, 알파-히드록시 케톤, 페닐글리옥실레이트, 벤질디메틸케탈, 알파-아미노케톤, 모노-아실 포스핀, 비스-아실 포스핀, 메탈로센, 포스핀 옥시드, 벤조인 에테르 및 벤조페논 및 그의 조합을 포함한다. 적합한 이중 파장 광개시제의 예는 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로파논, 벤질 디메틸 케탈 및 1-히드록시시클로헥실페닐 케톤을 포함하나, 그에 제한되지 않는다.
적합한 광개시제는 또한 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-클로로안트라퀴논, 2-벤질안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1,2-벤조-9,10-안트라퀴논, 벤질, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 알파-메틸벤조인, 알파-페닐벤조인, 미힐러 케톤, 벤조페논, 4,4'-비스-(디에틸아미노) 벤조페논, 아세토페논, 2,2 디에틸옥시아세토페논, 디에틸옥시아세토페논, 2-이소프로필티오크산톤, 티오크산톤, 디에틸 티오크산톤, 1,5-아세토나프탈렌, 에틸-p-디메틸아미노벤조에이트, 벤질 케톤, 알파-히드록시 케토, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐 포스핀 옥시드, 벤질 디메틸 케탈, 벤질 케탈 (2,2-디메톡시-1,2-디페닐에타논), 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오) 페닐]-2-모르폴리노프로파논-1,2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로파논, 올리고머성 알파-히드록시 케톤, 페닐비스(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥시드, 에틸-4-디메틸아미노 벤조에이트, 에틸(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐 포스피네이트, 아니소인, 안트라퀴논, 안트라퀴논-2-술폰산, 소듐 염 모노하이드레이트, (벤젠) 트리카르보닐크로뮴, 벤질, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤조페논/1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤, 50/50 블렌드, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복시산 이무수물, 4-벤조일바이페닐, 2-벤질-2-(디메틸아미노)-4'-모르폴리노부티로페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 캄포르퀴논, 2-클로로티오크산텐-9-온, 디벤조수베레논, 4,4'-디히드록시벤조페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 4-(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸벤질, 2,5-디메틸벤조페논, 3,4-디메틸벤조페논, 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥시드 /2-히드록시-2-메틸프로피오페논, 50/50 블렌드, 4'-에톡시아세토페논, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀 옥시드, 페닐 비스(2,4,6-트리메틸 벤조일)포스핀 옥시드, 페로센, 3'-히드록시아세토페논, 4'-히드록시아세토페논, 3-히드록시벤조페논, 4-히드록시벤조페논, 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, 2-메틸벤조페논, 3-메틸벤조페논, 벤조페논 및 메틸벤조페논의 혼합물, 메틸벤조일포르메이트, 2-메틸-4'-(메틸티오)-2-모르폴리노프로피오페논, 페난트렌퀴논, 4'-페녹시아세토페논, (큐멘)시클로펜타디에닐 철(ii) 헥사플루오로포스페이트, 9,10-디에톡시 및 9,10-디부톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 티오크산텐-9-온, 올리고 [2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐] 프로파논] 및 그의 조합을 포함하나, 그에 제한되지 않는다.
광개시제의 양은 결정적인 것으로 여겨지지 않지만, 다른 인자들 중에서, 선택된 광개시제(들), 코팅 조성물에 존재하는 방사선-경화성 에틸렌계 불포화 화합물(들)의 양, 사용된 방사선원 및 방사선 조건에 따라 적절히 다를 수 있다. 전형적으로, 그러나, 광개시제의 양은 코팅 조성물의 총 중량에 기초하여 0.05 중량% 내지 10 중량% 일 수 있다. 특정 구현예에서, 코팅 조성물은 0.1 내지 10 중량% 의 광개시제 (이는 단일 광개시제, 예컨대 이중 파장 광개시제 또는 광개시제, 예컨대 단파장 광개시제 및 장파장 광개시제의 조합일 수 있다) 로 구성된다.
표면 컨디셔너 첨가제
본 발명의 방법에서 이용되는 코팅 조성물은 슬립 첨가제 및 미립자 표면 개질제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 표면 컨디셔너 첨가제를 포함한다. 이들 유형의 첨가제는 경화된 후에 코팅 조성물의 표면의 촉각 특성을 변경하는 기능을 하며, 아래에서 더욱 상세히 논의된다. 그러나, 특정 유형의 물질, 예컨대 왁스는 슬립 첨가제 및 미립자 표면 개질제 둘 모두로서 작용할 수 있다는 점에 주목한다.
하나의 구현예에서, 코팅 조성물은 적어도 하나의 슬립 첨가제 및 적어도 하나의 미립자 표면 개질제 둘 모두로 구성된다. 특히, 코팅 조성물이 미립자 표면 개질제로서 적어도 하나의 무기 물질 예컨대 실리카로 구성되는 경우에, 그것은 부가적으로 적어도 하나의 슬립 첨가제, 예컨대, 예를 들어, 적어도 하나의 폴리실록산 슬립 첨가제로 구성된다.
코팅 조성물의 촉각 또는 촉감 품질을 개선하는 것에 더하여, 본 발명의 다단계 방법에 따라 코팅 조성물이 기판의 표면에서 층으로서 경화될 때, 표면 컨디셔너 첨가제(들)은 경화된 코팅 조성물의 하나 이상의 다른 속성, 예컨대 블로킹방지 특성, 마모 저항성, 발수성 등을 향상시킬 수 있다.
코팅 조성물에 존재하는 표면 컨디셔너 첨가제의 총량은 사용을 위해 선택된 표면 컨디셔너 첨가제의 유형(들)에 따라 유의하게 다를 수 있다. 전형적으로, 그러나, 코팅 조성물은 총 약 0.2 내지 약 40 중량% 의 표면 컨디셔너 첨가제를 포함할 수 있다.
슬립 첨가제
본 발명에서 이용되는 코팅 조성물은 적어도 하나의 슬립 첨가제를 포함할 수 있다. 코팅 기술분야에서 알려진 임의의 슬립 첨가제 또는 그러한 슬립 첨가제의 조합이 이용될 수 있다. 슬립 첨가제는 표면의 "슬립" 을 개선하는 기능을 하는 성분이다. "슬립" 은 서로 접촉되어 있는 두 개의 물체 사이의 상대적 운동이다. 물체가 표면을 따라 운동할 때, 운동의 반대 방향으로 작용하는 저항이 있다. 저항력은 또한 마찰력으로서 호칭되며, 마찰은 접촉하는 두 표면의 불균일로부터 초래된다. 슬립 첨가제는 경화 전에 또는 후에 코팅 조성물에 용해 또는 가용화될 수 있거나 그렇지 않을 수 있으며, 코팅 조성물로부터 수득된 경화된 코팅의 마찰 계수를 감소시키는 역할을 한다.
본 발명에서 사용하기에 적합한 유형의 슬립 첨가제는 반응성 및 비-반응성 슬립 첨가제 둘 모두, 예컨대 폴리실록산, 천연 및 합성 왁스 및 플루오로중합체를 포함한다. 용어 "폴리실록산" 은 단독중합체성 및 공중합체성 재료 둘 모두를 포함하는, 실리콘 화학에 기초하는 올리고머성 및 중합체성 물질을 포함한다. 예시적 유형의 적합한 폴리실록산은 폴리디알킬실록산 (예를 들어, 폴리디메틸실록산), 실리콘 폴리에테르 공중합체 (때때로 또한 폴리옥시알킬렌실록산 공중합체, 폴리옥시알킬렌 메틸알킬실록산 공중합체 또는 폴리실록산/폴리에테르 공중합체로서 언급됨; 그러한 공중합체의 폴리옥시알킬렌 부분은, 예를 들어, 에틸렌 옥시드 및/또는 프로필렌 옥시드에 기반할 수 있다), 폴리에테르-개질된 실리콘 및 실리콘 아크릴레이트 (예를 들어, 실리콘-개질된 폴리아크릴레이트) 를 포함한다. 적합한 왁스는, 예를 들어, 파라핀-계 왁스 및 폴리올레핀 (예를 들어, 폴리프로필렌 및 폴리에틸렌)-계 왁스를 포함한다. 기술분야에서 인정되는 바와 같이, "왁스" 는 천연 또는 합성 재료이며, 20℃ 에서 고체이고 (부드럽고 가소성인 것으로부터 단단하고 부서지기 쉬운 것까지 점조도가 다름), 분해 없이 융점이 적어도 40℃ 이고, 그것의 융점보다 약간 위의 온도에서 상대적으로 낮은 점도를 갖고, 그러한 온도에서 비-스트링잉 (non-stringing) 이고, 소적을 생산할 수 있다 (그에 따라 왁스를 고분자량 중합체와 구별함). 일반적으로 말하면, 왁스는 분자량이 상대적으로 낮다 (Mn < 10,000). 적합한 플루오로중합체 슬립 첨가제는, 예를 들어, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌 및 비닐리덴 플루오라이드, 뿐만 아니라 퍼플루오로알킬 아크릴레이트 (예를 들어, 퍼플루오로 옥틸 아크릴레이트) 및 퍼플루오로폴리에테르 아크릴레이트 (이는 코팅 조성물에 존재하는 다른 방사선-경화성 화합물과 중합 또는 경화 반응을 겪을 수 있으므로 반응성 슬립 첨가제로서 여겨진다) 및 유사한 물질의 단독중합체 및 공중합체를 포함한다. 지방산 아미드, 특히 포화 지방산 아미드가 또한 슬립 첨가제로서 이용될 수 있다. 본 발명의 방법에서 이용되는 코팅 조성물에서 유용한 슬립 첨가제는 상업적 공급원으로부터 입수가능하며, 예를 들어, Evonik 에 의해 브랜드명 TEGO® 하에 판매되는 슬립 첨가제 및 BYK 에 의해 다양한 브랜드명 하에 판매되는 슬립 첨가제를 포함한다.
코팅 조성물에 존재하는 슬립 첨가제의 양은 슬립 첨가제(들) 및 코팅 조성물에서 이용되는 다른 성분의 정체성 및 코팅 조성물로부터 수득되는 경화된 코팅에서 요망되는 특별한 촉각 품질을 포함하는 다수의 인자에 따라 좌우될 것이나, 전형적으로 코팅 조성물의 총 중량에 기초하여 적어도 약 0.05 중량% 일 것이다. 특정 구현예에서, 코팅 조성물은 0.2 내지 20 중량% 의 슬립 첨가제로 구성되며, 슬립 첨가제가 반응성 슬립 첨가제인 경우에 슬립 첨가제의 더 높은 농도가 일반적으로 바람직하다. 존재하는 경우에, 반응성 슬립 첨가제의 양은 코팅 조성물에 존재하는 방사선-경화성 화합물의 총량을 계산할 때 고려된다.
미립자 표면 개질제
본 발명의 코팅 조성물은 하나 이상의 유형의 미립자 표면 개질제를 함유할 수 있으며, 미립자 표면 개질제는 입자 형태이고, 일반적으로 조성물이 경화되기 전에 또는 후에 둘 모두 코팅 조성물에 용해 또는 가용화되지 않는다 (즉, 그것은 경화된 코팅 조성물에서 구별되는 입자로서 남는다). 전형적으로, 그러한 미립자 표면 개질제는 비-반응성이며, 즉, 그것은 코팅 조성물이 자외선 방사선에 노출될 때 코팅 조성물의 경화시에 반응하지 않는다. 적합한 미립자 표면 개질제는 코팅 기술분야에서 "소광제", "편평화제" 또는 "무광제 (flatting agent)" 로서 언급되는 물질을 포함한다. 전형적으로, 미립자 표면 개질제는 평균 입자 크기가 약 0.02 마이크론 내지 약 50 마이크론 범위 내일 것이다. 적합한 미립자 표면 개질제는 유기 및 무기 물질 둘 모두, 뿐만 아니라 유기 및 무기 물질의 조합을 포함한다. 올리고머성 및 중합체성 물질 (예를 들어, 왁스, 열가소성 수지 뿐만 아니라 열경화성 수지 및 가교된 중합체) 은, 특히 왁스 입자 또는 중합체 비드 형태의, 미립자 표면 개질제로서 유용한 유기 물질의 예이다. 예시적 올리고머 및 중합체는 폴리(메트)아크릴레이트 (아크릴 수지), 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리올레핀 (예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌), 폴리실리콘 (예를 들어, 실리콘 탄성중합체), 플루오로중합체 예컨대 폴리테트라플루오로에틸렌 (PTFE) 및 그의 조합을 포함하나, 그에 제한되지 않는다. 미립자 표면 개질제는 왁스, 예를 들어, 왁스 분산물의 형태일 수 있다. 미립자 표면 개질제로서 유용한 무기 물질은 실리카 (발연 또는 열 실리카, 실리케이트 예컨대 알루미늄 실리케이트 뿐만 아니라 실리카-함유 물질 예컨대 규조토, 점토, 탈크 등을 포함함), 금속 히드록시드, 금속 옥시드 (예를 들어, 알루미나), 무기 카르보네이트 예컨대 칼슘 카르보네이트, 지방산 예컨대 스테아르산 등의 칼슘 및 아연 염 뿐만 아니라 그의 유기-개질된 유도체 (예컨대 중합체-처리된 열 실리카 또는 폴리실록산-코팅된 발연 실리카) 를 포함한다. 실리카가 미립자 표면 개질제로서 사용될 때, 그것은 무정형, 에어로겔, 규조토, 하이드로겔, 발연, 미분화, 왁스-처리된 것 및 그의 혼합을 포함하는 다양한 형태로 사용될 수 있다. 본 발명에 따라 미립자 표면 개질제로서 사용하기에 적합한 실리카는 상업적 공급원으로부터 입수가능하며, 예를 들어 Evonik 에 의해 브랜드명 ACEMATT® 하에 판매되는 실리카를 포함한다. 다양한 구현예에서, 미립자 표면 개질제는 구형 비드 또는 중공 비드의 형태일 수 있다.
코팅 조성물 중 미립자 표면 개질제의 양은 이용되는 미립자 표면 개질제(들)의 유형(들) 뿐만 아니라 코팅 조성물로부터 수득되는 경화된 코팅에서 요망되는 촉각 특징에 따라 다를 수 있다. 전형적으로, 그러나, 코팅 조성물의 총 중량에 기초하여 약 0.2 내지 약 30 중량% 의 범위 내의 미립자 표면 개질제의 양이 적합하다.
기타 첨가제
본 발명의 코팅 조성물은 위에서 언급된 성분 대신에 또는 그에 더하여 하나 이상의 첨가제를 임의로 함유할 수 있다. 그러한 첨가제는 산화방지제, 자외선 흡수제, 광안정제, 지포제, 유동 또는 레벨링제, 착색제, 안료, 분산제 (습윤제) 또는 코팅 기술분야에서 종래에 이용된 임의의 첨가제를 포함하는 다른 다양한 첨가제를 포함하나, 그에 제한되지 않는다.
예시적 제형
본 발명의 특정 구현예에서, 코팅 조성물은 하기 성분을 포함하거나, 하기 성분으로 본질적으로 이루어지거나 또는 하기 성분으로 이루어질 수 있다 :
a) (메트)아크릴레이트-관능화된 화합물(들);
b) 임의로, 분산제(들);
c) 미립자 표면 개질제(들);
d) 광개시제(들); 및
e) 슬립 첨가제(들).
특정 구현예에서, 코팅 조성물은, a)-e) 의 총 중량에 기초하여, 70-95 중량% a), 0-5 중량% b), 2-20 중량% c), 2-20 중량% d) 및 0.1-5 중량% e) 로 구성된다. 다른 구현예에서, 코팅 조성물은, a)-e) 의 총 중량에 기초하여, 75-90 중량% a), 0.1-2 중량% b), 4-12 중량% c), 2-10 중량% d) 및 0.5-3 중량% e) 로 구성된다.
기판
본 발명에 따라 위에서 기재된 코팅 조성물이 적용되고 경화될 수 있는 기판은 임의의 상업적으로 적절한 기판, 예컨대 높은 표면 에너지 기판 또는 낮은 표면 에너지 기판, 예컨대 각각 금속 기판 또는 플라스틱 기판일 수 있다. 기판은 강철 또는 다른 금속, 종이, 판지, 유리 또는 다른 유형의 세라믹, 열가소성 수지 예컨대 폴리올레핀, 폴리카르보네이트, 아크릴로니트릴 부타디엔 스티렌 또는 그의 블렌드, 복합재, 목재, 가죽 및 그의 조합을 포함할 수 있다.
코팅 조성물을 적용하고 경화시키는 예시적 방법
다양한 구현예에서, 본원에 기재된 코팅 조성물로 기판을 코팅하는 방법은 조성물을 기판에 적용하는 단계 (여기에서, 예를 들어, 적용되는 조성물은 기판의 표면에서 층의 형태이다) 및 조성물을 경화시키는 단계를 포함하거나, 그것으로 이루어지거나, 또는 그것으로 본질적으로 이루어질 수 있으며, 여기에서 경화는 코팅 조성물을 적어도 둘의 상이한 파장의 자외선 방사선 (장파장 자외선 방사선, 그에 뒤이어 단파장 자외선 방사선을 포함함) 에 노출시킴으로써 경화시키는 것을 포함한다.
본 발명의 다양한 구현예에서, 코팅 조성물은 분무, 나이프 코팅, 롤러 코팅, 캐스팅, 드럼 코팅, 디핑 및 그의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 방법에 의해 기판에 적용될 수 있다. 본 발명에 따른 코팅 조성물의 복수의 층은 기판 표면에 적용될 수 있다; 복수의 층은 동시에 경화될 수 있거나 또는 각각의 층은 코팅 조성물의 부가적 층의 적용 전에 연속적으로 경화될 수 있다.
본 발명의 코팅 조성물로부터 제조된 코팅의 두께는 특정 최종 용도 적용에 바람직하도록 다를 수 있으나, 전형적으로 4 마이크론 내지 200 마이크론 범위일 것이다. 하나의 구현예에서, 경화된 코팅은 두께가 약 10 내지 약 75 마이크론이다.
코팅 조성물의 층을 경화시키기 위해서, 코팅 조성물 층은 상이한 파장의 자외선 방사선원에 연속적으로 노출된다. 바람직한 촉각 특성을 갖는 경화된 코팅을 달성하기 위해서, 먼저 장파장 자외선 방사선을, 그에 뒤이어 (즉시 또는 시간의 기간 후에) 단파장 자외선 방사선을 이용하는 것이 유리하다는 것이 발견되었다. 장파장 UV 방사선은, 예를 들어, UV-A 방사선이거나 또는 파장이 300 내지 420 ㎚ 또는 320 내지 400 ㎚ 일 수 있다. 장파장 UV 방사선은 D 전구 수은 램프, V 전구 수은 램프 및 LED 램프로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 램프에 의해 공급될 수 있다. 단파장 UV 방사선은 UV-C 방사선이거나 또는 파장이 220 내지 280 ㎚ 또는 230 내지 270 ㎚ 일 수 있고, 수은 아크 램프 및 H 전구 램프로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 램프에 의해 공급될 수 있다.
일반적으로 말하면, 자외선 (UV) 경화에 적합한 광원은 아크 램프, 예컨대 탄소 아크 램프, 크세논 아크 램프, 수은 증기 램프, 텅스텐 할라이드 램프, 레이저, 선램프 및 자외선 발광 인광체를 이용하는 형광 램프를 포함한다. 250-450 ㎚ 범위에서 다양한 스펙트럼 아웃풋을 갖는 상업적 UV/가시 광원이 경화 목적을 위해 사용될 수 있으며, 파장 선별은 광학 밴드패스 또는 롱패스 필터를 사용하여 달성될 수 있다. 그러나, 사용된 램프가 단파장 영역에서 대부분의 그것의 에너지를 제공한다면, 코팅 조성물 층이 단파장 자외선 방사선에 노출되는 경화 단계에서 필터의 사용은 필요하지 않을 수 있다 (그러한 단계 동안 일정량의 장파장 자외선 방사선에의 동시 노출은 일반적으로 요망되는 추가의 경화 및 경화된 코팅 특성의 발달을 간섭하지 않을 것이다).
광원에 상관 없이, 램프(들)의 방출 스펙트럼은 광개시제의 흡광 스펙트럼과 중첩되어야 한다. 두 가지 양태의 광개시제 흡광 스펙트럼이 고려될 필요가 있다 : 흡수되는 파장 및 흡수 강도 (몰 소광 계수). 예를 들어, 광개시제 올리고[2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐) 페닐]프로파논] 및 디페닐 (2,4,6-트리메틸벤조일) 포스핀 옥시드는 225-290 ㎚ (이는 단 UV 파장 범위에 있다) 및 320-380 ㎚ (이는 장 UV 파장 범위에 있다) 에서 흡광 피크를 갖는다.
본 발명에 따른 코팅 조성물의 층은, 예를 들어, 기판 표면에 적용되어 코팅된 기판을 제공하고, 미경화 코팅 조성물 층을 장파장 자외선 방사선원에 노출시켜 부분적으로 경화되고, 그 후 부분적으로 경화된 코팅 조성물 층을 단파장 자외선 방사선에 노출시켜 완전히 경화될 수 있다. 전형적 노출 시간은, 예를 들어, 1 초 미만 내지 수 분 범위일 수 있다.
예시적 최종 용도 응용
본 발명의 다양한 구현예에서, 본원에 기재된 코팅 조성물을 사용하여 코팅 및/또는 필름, 예컨대 자동차 및 다른 모터 차량 (예를 들어, 팔걸이, 대시보드, 시트, 스위치, 컨트롤 및 다른 인테리어 부품 위의 코팅으로서), 항공학 부품, 소형 가전제품, 포장재 (예를 들어, 미용제품 포장재) 용 코팅 및/또는 필름, 인쇄 향상제 (잉크), 그래픽 아트 적용에서 잉크 위의 탑 코트 (오버바니시), 가죽 및 합성 가죽 및/또는 가전 제품 위의 코팅을 제공할 수 있다. 예를 들어, 코팅 조성물은 그러한 최종 용도 응용에서 코팅 및/또는 필름으로서 사용하기 전에 경화될 수 있다.
이 명세서 내에서, 구현예는 간결하고 명확한 명세서를 작성하는 것을 가능하게 해주는 방식으로 기재되었으나, 본 발명에서 벗어나지 않으면서 구현예가 다양하게 조합 또는 분리될 수 있다는 것이 의도되고 이해될 것이다. 예를 들어, 본원에 기재된 모든 바람직한 특색은 본원에 기재된 본 발명의 모든 양태에 적용가능하다는 것이 이해될 것이다.
일부 구현예에서, 본원의 본 발명은 경화성 조성물 또는 공정의 기본적인 신규한 특징에 실질적으로 영향을 미치지 않는 임의의 요소 또는 공정 단계를 배제하는 것으로 이해될 수 있다. 부가적으로, 일부 구현예에서, 본 발명은 본원에 명시되지 않은 임의의 요소 또는 공정 단계를 배제하는 것으로 이해될 수 있다.
본 발명은 본원에서 특정 구현예를 참조하여 설명 및 기재되었지만, 본 발명은 제시된 세부사항에 제한되는 것이 의도되지 않는다. 오히려, 청구항의 균등물의 범주 및 범위 내에서 및 본 발명에서 벗어나지 않으면서 세부사항에서 다양한 변경이 만들어질 수 있다.
실시예
실시예 1, 1B 및 2
세 가지 상이한 코팅 조성물을 하기 제형 (표 1-3) 에 따라 제조했다. 미립자 표면 개질제로서 이들 제형에서 사용된 실리카는 중합체-처리된 열 실리카 (또한 폴리실록산-코팅된 발연 실리카로서 특징지어짐) 였다.
실시예 1
표 1 (실시예 1)
Figure pct00001
실시예 1B
표 2 (실시예 1B)
Figure pct00002
실시예 2
표 3 (실시예 2)
Figure pct00003
앞서 언급된 제형을 기판 위에 1 mil 두께 코팅으로서 드로 다운 (draw down) 하고, 하기 표 4 에 요약되어 있는 상이한 조건을 사용하여 광경화시켰다. 경화된 코팅에 관해 수득된 결과가 또한 표에 기재되어 있다.
표 4
Figure pct00004
실시예 3
하기 제형 (표 5) 을 코팅 조성물로서 제조했다. 미립자 표면 개질제로서 이 제형에서 사용된 실리카는 중합체-처리된 열 실리카 (또한 폴리실록산-코팅된 발연 실리카로서 특징지어짐) 였다.
표 5 (실시예 3)
Figure pct00005
실시예 3 의 코팅 조성물을 기판 위에 3 mil 두께로 드로 다운하고, 표 6 에 제시된 조건을 사용하여 광경화시켰다.
표 6
Figure pct00006
실시예 4
코팅 조성물을 하기 제형 (표 7) 에 기초하여 제조했다. 미립자 표면 개질제로서 이 제형에서 사용된 실리카는 중합체-처리된 열 실리카 (또한 폴리실록산-코팅된 발연 실리카로서 특징지어짐) 였다.
표 7 (실시예 4)
Figure pct00007
실시예 5
코팅 조성물을 하기 제형 (표 8) 에 기초하여 제조했다. 미립자 표면 개질제로서 이 제형에서 사용된 실리카는 중합체-처리된 열 실리카 (또한 폴리실록산-코팅된 발연 실리카로서 특징지어짐) 였다.
표 8 (실시예 5)
Figure pct00008
실시예 1B, 2 및 4-5 의 코팅 조성물을 기판 위에 3 mil 두께로 드로 다운하고, 하기 표 9 에 기재된 조건을 사용하여 광경화시켰다.
표 9
Figure pct00009

Claims (24)

  1. 기판의 표면에 부드러운 감촉 코팅을 형성하는 방법으로서, 하기 단계를 연속하여 포함하는 방법:
    a) 적어도 하나의 방사선-경화성 화합물, 슬립 첨가제 및 미립자 표면 개질제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 표면 컨디셔너 첨가제 및 적어도 하나의 광개시제로 구성되는, 코팅 조성물의 층을 기판의 표면의 적어도 일부에 적용하는 단계;
    b) 코팅 조성물의 층을 장파장 자외선 방사선에 노출시키는 단계; 및
    c) 코팅 조성물의 층을 단파장 자외선 방사선에 노출시키는 단계.
  2. 제 1 항에 있어서, 적어도 하나의 표면 컨디셔너 첨가제는 폴리실록산, 천연 및 합성 왁스 및 플루오로중합체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 슬립 첨가제를 포함하며, 슬립 첨가제는 적어도 하나의 방사선-경화성 이중 결합을 임의로 포함할 수 있는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 적어도 하나의 표면 컨디셔너 첨가제는 실리콘 폴리에테르 공중합체 및 실리콘 아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 폴리실록산을 포함하는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물은 0.2 내지 20 중량% 의 슬립 첨가제로 구성되는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 방사선-경화성 화합물은 지방족 모노-알코올의 (메트)아크릴레이트 에스테르, 알콕시화된 지방족 모노-알코올의 (메트)아크릴레이트 에스테르, 지방족 폴리올의 (메트)아크릴레이트 에스테르, 알콕시화된 지방족 폴리올의 (메트)아크릴레이트 에스테르, 방향족 알코올의 (메트)아크릴레이트 에스테르, 알콕시화된 방향족 알코올의 (메트)아크릴레이트 에스테르, 에폭시 (메트)아크릴레이트, 폴리에테르 (메트)아크릴레이트, 우레탄 (메트)아크릴레이트, 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트 및 그의 아민- 및 설파이드-개질된 유도체 및 그의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 (메트)아크릴레이트-관능화된 모노머 또는 올리고머를 포함하는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물은 총 50 내지 99 중량% 의 방사선-경화성 화합물로 구성되는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 표면 컨디셔너 첨가제는 실리카, 중합체 비드 및 왁스 입자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 미립자 표면 개질제를 포함하는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물은 0.2 내지 30 중량% 의 미립자 표면 개질제로 구성되는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물은 적어도 하나의 슬립 첨가제 및 적어도 하나의 미립자 표면 개질제를 포함하는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물은 적어도 하나의 슬립 첨가제 및 미립자 표면 개질제로서의 적어도 하나의 실리카를 포함하는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물은 슬립 첨가제로서의 적어도 하나의 폴리실록산 및 미립자 표면 개질제로서의 적어도 하나의 실리카를 포함하는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 광개시제는 알파-히드록시 케톤, 페닐글리옥실레이트, 벤질디메틸케탈, 알파-아미노케톤, 모노-아실 포스핀, 비스-아실 포스핀, 메탈로센, 포스핀 옥시드, 벤조인 에테르 및 벤조페논 및 그의 조합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 광개시제를 포함하는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  13. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물은 단파장 자외선 방사선 및 장파장 자외선 방사선 둘 모두를 흡수할 수 있는 단일 광개시제를 포함하는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  14. 제 13 항에 있어서, 단일 광개시제는 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로파논, 벤질 디메틸 케탈 및 1-히드록시시클로헥실페닐 케톤으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물은 0.1 내지 10 중량% 의 광개시제로 구성되는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  16. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물은 단파장 자외선 방사선을 흡수할 수 있는 제 1 광개시제 및 장파장 자외선 방사선을 흡수할 수 있는 제 2 광개시제로 구성되는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  17. 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물은 총 1 중량% 이하의 비-반응성 용매 및 물로 구성되는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  18. 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서, 기판은 열가소성 수지, 열경화성 수지, 세라믹스, 셀룰로오스 재료, 가죽 및 금속으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 재료로 구성되는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  19. 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서, 장파장 UV 광은 D 전구 수은 램프, V 전구 수은 램프 및 LED 램프로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 램프에 의해 공급되는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  20. 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서, 장파장 UV 광은 300 내지 420 ㎚ 또는 320 내지 400 ㎚ 의 파장을 갖는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  21. 제 1 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 있어서, 단파장 UV 광은 수은 아크 램프 및 H 전구 램프로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 램프에 의해 공급되는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  22. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서, 단파장 UV 광은 220 내지 280 ㎚ 또는 230 내지 270 ㎚ 의 파장을 갖는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  23. 제 1 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 조성물의 층은 4 내지 200 마이크론 또는 10 내지 75 마이크론의 두께를 갖는 부드러운 감촉 코팅 형성 방법.
  24. 제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 수득되는 부드러운 감촉 코팅을 갖는 기판.

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