KR20190107697A - 전자파 검출 장치, 프로그램, 및 정보 취득 시스템 - Google Patents

전자파 검출 장치, 프로그램, 및 정보 취득 시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR20190107697A
KR20190107697A KR1020197023681A KR20197023681A KR20190107697A KR 20190107697 A KR20190107697 A KR 20190107697A KR 1020197023681 A KR1020197023681 A KR 1020197023681A KR 20197023681 A KR20197023681 A KR 20197023681A KR 20190107697 A KR20190107697 A KR 20190107697A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
state
electromagnetic wave
detection
pixel
switching
Prior art date
Application number
KR1020197023681A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102275104B1 (ko
Inventor
히로키 오카다
에리 우치다
히로유키 미나가와
요시테루 다카아먀
미츠오 오노
아츠시 하세베
가츠토시 가와이
유키토시 가나야마
Original Assignee
교세라 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 교세라 가부시키가이샤 filed Critical 교세라 가부시키가이샤
Publication of KR20190107697A publication Critical patent/KR20190107697A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102275104B1 publication Critical patent/KR102275104B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02—Details
    • G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
    • G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
    • G01S7/481—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements
    • G01S7/4816—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements of receivers alone
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02—Details
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02—Details
    • G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
    • G01J1/0407—Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings
    • G01J1/0414—Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings using plane or convex mirrors, parallel phase plates, or plane beam-splitters
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/0022—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry for sensing the radiation of moving bodies
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/0022—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry for sensing the radiation of moving bodies
    • G01J5/0025—Living bodies
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02—Constructional details
    • G01J5/07—Arrangements for adjusting the solid angle of collected radiation, e.g. adjusting or orienting field of view, tracking position or encoding angular position
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02—Constructional details
    • G01J5/08—Optical arrangements
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02—Constructional details
    • G01J5/08—Optical arrangements
    • G01J5/0806—Focusing or collimating elements, e.g. lenses or concave mirrors
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02—Constructional details
    • G01J5/08—Optical arrangements
    • G01J5/0808—Convex mirrors
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02—Constructional details
    • G01J5/08—Optical arrangements
    • G01J5/0831—Masks; Aperture plates; Spatial light modulators
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02—Constructional details
    • G01J5/08—Optical arrangements
    • G01J5/084—Adjustable or slidable
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02—Constructional details
    • G01J5/08—Optical arrangements
    • G01J5/0846—Optical arrangements having multiple detectors for performing different types of detection, e.g. using radiometry and reflectometry channels
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02—Constructional details
    • G01J5/08—Optical arrangements
    • G01J5/0896—Optical arrangements using a light source, e.g. for illuminating a surface
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/48—Thermography; Techniques using wholly visual means
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S13/00—Systems using the reflection or reradiation of radio waves, e.g. radar systems; Analogous systems using reflection or reradiation of waves whose nature or wavelength is irrelevant or unspecified
    • G01S13/86—Combinations of radar systems with non-radar systems, e.g. sonar, direction finder
    • G01S13/865—Combination of radar systems with lidar systems
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S13/00—Systems using the reflection or reradiation of radio waves, e.g. radar systems; Analogous systems using reflection or reradiation of waves whose nature or wavelength is irrelevant or unspecified
    • G01S13/88—Radar or analogous systems specially adapted for specific applications
    • G01S13/89—Radar or analogous systems specially adapted for specific applications for mapping or imaging
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S17/00—Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
    • G01S17/88—Lidar systems specially adapted for specific applications
    • G01S17/89—Lidar systems specially adapted for specific applications for mapping or imaging
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S17/00—Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
    • G01S17/88—Lidar systems specially adapted for specific applications
    • G01S17/89—Lidar systems specially adapted for specific applications for mapping or imaging
    • G01S17/894—3D imaging with simultaneous measurement of time-of-flight at a 2D array of receiver pixels, e.g. time-of-flight cameras or flash lidar
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
    • G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
    • G01S7/481—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements
    • G01S7/4817—Constructional features, e.g. arrangements of optical elements relating to scanning
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
    • G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
    • G01S7/483—Details of pulse systems
    • G01S7/486—Receivers
    • G01S7/4861—Circuits for detection, sampling, integration or read-out
    • G01S7/4863—Detector arrays, e.g. charge-transfer gates
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
    • G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
    • G01S7/483—Details of pulse systems
    • G01S7/486—Receivers
    • G01S7/4868—Controlling received signal intensity or exposure of sensor
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
    • G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
    • G01S7/497—Means for monitoring or calibrating
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
    • G01S7/48—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
    • G01S7/497—Means for monitoring or calibrating
    • G01S7/4972—Alignment of sensor
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/02—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the intensity of light
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
    • G02B26/0841—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting element being moved or deformed by electrostatic means
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10—Scanning systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10—Scanning systems
    • G02B26/101—Scanning systems with both horizontal and vertical deflecting means, e.g. raster or XY scanners
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10—Scanning systems
    • G02B26/105—Scanning systems with one or more pivoting mirrors or galvano-mirrors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10—Scanning systems
    • G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J2005/0077—Imaging
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
    • G02F1/291—Two-dimensional analogue deflection
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2203/00—Function characteristic
    • G02F2203/01—Function characteristic transmissive
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2203/00—Function characteristic
    • G02F2203/02—Function characteristic reflective

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Remote Sensing (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optical Radar Systems And Details Thereof (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Radiation Pyrometers (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Studio Devices (AREA)

Abstract

전자파 검출 장치(10)는 전환부(16)와 제 1 검출부(19)와 제 2 검출부(20)를 가진다. 전환부(16)는 복수의 화소(px)가 배치된 작용면(as)을 가지고 있다. 전환부(16)는 화소(px)마다 제 1 상태와 제 2 상태로 전환 가능하다. 제 1 상태에서는 작용면(as)에 입사하는 전자파를 제 1 방향(d1)으로 진행시킨다. 제 2 상태에서는 작용면(as)에 입사하는 전자파를 제 2 방향(d2)으로 진행시킨다. 제 1 검출부(19)는 제 1 방향(d1)으로 진행한 전자파를 검출한다. 제 2 검출부(20)는 제 2 방향(d2)으로 진행한 전자파를 검출한다.

Description

전자파 검출 장치, 프로그램, 및 정보 취득 시스템
(관련 출원의 상호 참조)
본 출원은, 2017년 2월 14일에 일본국에 특허 출원된 특원2017-025375의 우선권을 주장하는 것이며, 상기 출원의 개시 전체를 여기에 참조를 위해 포함시킨다.
본 발명은 전자파 검출 장치, 프로그램 및 정보 취득 시스템에 관한 것이다.
근래, 전자파를 검출하는 복수의 검출기에 의한 검출 결과로부터 주위에 관한 정보를 얻는 장치가 개발되고 있다. 예를 들면, 적외선 카메라로 촬상한 화상 중의 물체의 위치를, 레이저 레이더를 이용하여 측정하는 장치가 알려져 있다.(특허문헌 1 참조).
일본공개특허 특개2011-220732호 공보
제 1 관점에 의한 전자파 검출 장치는,
복수의 화소가 배치된 작용면을 포함하고, 상기 작용면에 입사하는 전자파를, 상기 화소마다, 제 1 방향으로 진행시키는 제 1 상태와, 제 2 방향으로 진행시키는 제 2 상태로 전환 가능한 전환부와,
상기 제 1 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 1 검출부와,
상기 제 2 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 2 검출부를 구비한다.
또한, 제 2 관점에 의한 정보 취득 시스템은,
작용면에 입사하는 전자파를, 상기 작용면을 구성하는 복수의 화소마다, 제 1 방향으로 진행시키는 제 1 상태와, 제 2 방향으로 진행시키는 제 2 상태로 전환 가능한 전환부와,
상기 제 1 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 1 검출부와,
상기 제 2 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 2 검출부와,
상기 제 1 검출부 및 상기 제 2 검출부가 각각 검출한 상기 전자파에 기초하여 주위에 관한 정보를 취득하는 제어부를, 구비한다.
또한, 제 3 관점에 의한 프로그램은,
작용면에 입사하는 전자파를, 상기 작용면을 구성하는 복수의 화소마다, 제 1 방향으로 진행시키는 제 1 상태와, 제 2 방향으로 진행시키는 제 2 상태로 전환하는 단계와,
상기 제 1 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 단계와,
상기 제 2 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 단계를 장치에 실행시킨다.
도 1은, 제 1 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치를 포함하는 정보 취득 시스템의 개략 구성을 나타내는 구성도이다.
도 2는, 도 1의 전자파 검출 장치의 전환부에 있어서의 화소의 제 1 상태와 제 2 상태에 있어서의 전자파의 진행 방향을 설명하기 위한, 정보 취득 시스템의 구성도이다.
도 3은, 도 1의 조사부, 제 2 검출부, 및 제어부(14)가 구성하는 측거(測距) 센서에 의한 측거의 원리를 설명하기 위한 전자파의 방사의 시기와 검출의 시기를 나타내는 타이밍 차트이다.
도 4는, 제 1 실시형태에 있어서 제어부가 화상 정보 및 거리 정보를 반복 취득하기 위한 각 부위의 제어를 설명하기 위한 타이밍 차트이다.
도 5는, 제 1 실시형태에 있어서 전환부의 임의의 화소가 제 1 상태일 때의 전자파의 진행 상태를 설명하기 위한, 정보 취득 시스템의 구성도이다.
도 6은, 도 5의 임의의 화소만이 제 2 상태일 때의 전자파의 진행 상태를 설명하기 위한, 정보 취득 시스템의 구성도이다.
도 7은, 제 2 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치를 포함하는 정보 취득 시스템의 개략 구성을 나타내는 구성도이다.
도 8은, 제 2 실시형태에 있어서 제어부가 제 1 검출부 및 제 2 검출부로부터 화상 정보를 번갈아 반복 취득하기 위한 각 부위의 제어를 설명하기 위한 타이밍 차트이다.
도 9는, 제 3 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치를 포함하는 정보 취득 시스템의 개략 구성을 나타내는 구성도이다.
이하, 본 발명을 적용한 전자파 검출 장치의 실시형태에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 전자파를 검출하는 복수의 검출기에 의해 전자파를 검출하는 구성에 있어서, 각 검출기의 검출축이 상이하다. 그 때문에, 각 검출기가 동일 영역을 대상으로 한 검출을 행했다고 해도, 검출 결과에 있어서의 좌표계가 각각의 검출기에서 상이하다. 그래서, 각 검출기에 의한 검출 결과에 있어서의 좌표계의 차이를 저감하는 것은 유익하다. 그러나, 당해 차이를 보정에 의해 저감하는 것은 불가능하거나 곤란하다. 그래서, 본 발명을 적용한 전자파 검출 장치는, 각 검출기에 있어서의 검출축의 차이를 저감할 수 있도록 구성됨으로써, 각 검출기에 의한 검출 결과에 있어서의 좌표계의 차이를 저감할 수 있다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 본 개시의 제 1 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치(10)를 포함하는 정보 취득 시스템(11)은, 전자파 검출 장치(10), 조사부(12), 반사부(13), 및 제어부(14)를 포함하여 구성되어 있다.
이후의 도면에 있어서, 각 기능 블록을 연결하는 파선은, 제어 신호 또는 통신되는 정보의 흐름을 나타낸다. 파선이 나타내는 통신은 유선 통신이어도 되고, 무선 통신이어도 된다. 또한, 각 기능 블록으로부터 돌출하는 실선은, 빔 형상의 전자파를 나타낸다.
전자파 검출 장치(10)는, 전단(前段) 광학계(15), 전환부(16), 제 1 후단 광학계(17), 제 2 후단 광학계(18), 제 1 검출부(19), 및 제 2 검출부(20)를 가지고 있다.
전단 광학계(15)는, 예를 들면, 렌즈 및 미러 중 적어도 일방을 포함하고, 피사체가 되는 대상(ob)의 상(像)을 결상(結像)시킨다.
전환부(16)는, 전단 광학계(15)로부터 소정의 위치를 두고 떨어진 대상(ob)의 상의, 전단 광학계(15)에 의한 결상 위치인 1차 결상 위치, 또는 당해 1차 결상 위치 근방에 마련되어 있으면 된다. 제 1 실시형태에 있어서는, 전환부(16)는, 당해 1차 결상 위치에 마련되어 있다. 전환부(16)는, 전단 광학계(15)를 통과한 전자파가 입사하는 작용면(as)을 가지고 있다. 작용면(as)은, 2차원 형상을 따라 나열되는 복수의 화소(px)에 의해 구성되어 있다. 작용면(as)은, 후술하는 제 1 상태 및 제 2 상태 중 적어도 어느 것에 있어서, 전자파에, 예를 들면, 반사 및 투과 등의 작용을 발생시키는 면이다.
전환부(16)는, 작용면(as)에 입사하는 전자파를, 제 1 방향(d1)으로 진행시키는 제 1 상태와, 제 2 방향(d2)으로 진행시키는 제 2 상태로, 화소(px)마다 전환 가능하다. 제 1 실시형태에 있어서, 제 1 상태는, 작용면(as)에 입사하는 전자파를, 제 1 방향(d1)으로 반사하는 제 1 반사 상태이다. 또한, 제 2 상태는, 작용면(as)에 입사하는 전자파를, 제 2 방향(d2)으로 반사하는 제 2 반사 상태이다.
제 1 실시형태에 있어서, 전환부(16)는, 더 구체적으로는, 화소(px)마다 전자파를 반사하는 반사면을 포함하고 있다. 전환부(16)는, 화소(px)마다의 반사면의 방향을 변경함으로써, 제 1 반사 상태 및 제 2 반사 상태를 화소(px)마다 전환한다. 제 1 실시형태에 있어서, 전환부(16)는, 예를 들면 DMD(Digital Micro mirror Device:디지털 마이크로 미러 디바이스)를 포함한다. DMD는, 작용면(as)을 구성하는 미소한 반사면을 구동함으로써, 화소(px)마다 당해 반사면을 작용면(as)에 대하여 +12° 및 -12° 중 어느 경사 상태로 전환 가능하다. 또한, 작용면(as)은, DMD에 있어서의 미소한 반사면을 재치(載置)하는 기판의 판면에 평행하다.
전환부(16)는, 후술하는 제어부(14)의 제어에 기초하여, 제 1 상태 및 제 2 상태를 화소(px)마다 전환한다. 예를 들면, 도 2에 나타내는 바와 같이, 전환부(16)는, 동시에, 일부의 화소(px1)를 제 1 상태로 전환함으로써 당해 화소(px1)에 입사하는 전자파를 제 1 방향(d1)으로 진행시킬 수 있고, 다른 일부의 화소(px2)를 제 2 상태로 전환함으로써 당해 화소(px2)에 입사하는 전자파를 제 2 방향(d2)으로 진행시킬 수 있다. 또한, 전환부(16)는, 동일한 화소(px)를 제 1 상태로부터 제 2 상태로 전환함으로써, 당해 화소(px)에 입사하는 전자파를 제 1 방향(d1)의 다음에 제 2 방향(d2)을 향해 진행시킬 수 있다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 제 1 후단 광학계(17)는, 전환부(16)로부터 제 1 방향(d1)에 마련되어 있다. 제 1 후단 광학계(17)는, 예를 들면, 렌즈 및 미러 중 적어도 일방을 포함한다. 제 1 후단 광학계(17)는, 전환부(16)에 있어서 진행 방향이 전환된 전자파로서의 대상(ob)의 상을 결상시킨다.
제 2 후단 광학계(18)는, 전환부(16)로부터 제 2 방향(d2)에 마련되어 있다. 제 2 후단 광학계(18)는, 예를 들면, 렌즈 및 미러 중 적어도 일방을 포함한다. 제 2 후단 광학계(18)는, 전환부(16)에 있어서 진행 방향이 전환된 전자파로서의 대상(ob)의 상을 결상시킨다.
제 1 검출부(19)는, 전환부(16)에 의한 제 1 방향(d1)으로 진행한 후에 제 1 후단 광학계(17)를 경유하여 진행하는 전자파의 경로 상에 마련되어 있다. 제 1 검출부(19)는, 제 1 후단 광학계(17)를 경유한 전자파, 즉 제 1 방향(d1)으로 진행한 전자파를 검출한다.
제 1 실시형태에 있어서, 제 1 검출부(19)는 패시브 센서이다. 제 1 실시형태에 있어서, 제 1 검출부(19)는, 더 구체적으로는 소자 어레이를 포함한다. 예를 들면, 제 1 검출부(19)는, 이미지 센서 또는 이미징 어레이 등의 촬상 소자를 포함하고, 검출면에 있어서 결상한 전자파에 의한 상을 촬상하여, 촬상한 대상(ob)에 상당하는 화상 정보를 생성한다. 또한, 제 1 실시형태에 있어서, 제 1 검출부(19)는, 더 구체적으로는 가시광의 상을 촬상한다. 제 1 실시형태에 있어서, 제 1 검출부(19)는, 생성한 화상 정보를 신호로서 제어부(14)에 송신한다.
또한, 제 1 검출부(19)는, 적외광의 상 등, 가시광 이외의 상을 촬상해도 된다. 또한, 제 1 검출부(19)는 서모 센서를 포함하고 있어도 된다. 이 구성에 있어서, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출부(19)에 의해 온도 정보를 취득할 수 있다.
이와 같이, 제 1 실시형태에 있어서, 제 1 검출부(19)는, 소자 어레이를 포함한다. 그 때문에, 제 1 실시형태에 있어서, 제 1 검출부(19)는, 입사된 전자파가 검출면에 있어서 결상하면, 결상한 전자파는 각 소자에 입사하기 때문에, 해상도를 향상시킬 수 있다. 그래서, 제 1 검출부(19)는, 제 1 후단 광학계(17)에 의한 결상 위치인 2차 결상 위치에 마련되면 된다.
제 2 검출부(20)는, 전환부(16)에 의한 제 2 방향(d2)으로 진행한 후에 제 2 후단 광학계(18)를 경유하여 진행하는 전자파의 경로 상에 마련되어 있다. 제 2 검출부(20)는, 제 2 후단 광학계(18)를 경유한 전자파, 즉 제 2 방향(d2)으로 진행한 전자파를 검출한다.
제 1 실시형태에 있어서, 제 2 검출부(20)는, 조사부(12)로부터 대상(ob)을 향해 조사된 전자파의 당해 대상(ob)으로부터의 반사파를 검출하는 액티브 센서이다. 또한, 제 1 실시형태에 있어서, 제 2 검출부(20)는, 조사부(12)로부터 조사되고 또한 반사부(13)에 의해 반사됨으로써 대상(ob)을 향해 조사된 전자파의 당해 대상(ob)으로부터의 반사파를 검출한다. 후술하는 바와 같이, 조사부(12)로부터 조사되는 전자파는 적외선이고, 제 2 검출부(20)는, 제 1 검출부(19)와는 이종의 전자파를 검출한다.
제 1 실시형태에 있어서, 제 2 검출부(20)는, 더 구체적으로는 측거 센서를 구성하는 소자를 포함한다. 예를 들면, 제 2 검출부(20)는, APD(Avalanche Photo Diode), PD(Photo Diode) 및 측거 이미지 센서 등의 단일의 소자를 포함한다. 또한, 제 2 검출부(20)는, APD 어레이, PD 어레이, 측거 이미징 어레이, 및 측거 이미지 센서 등의 소자 어레이를 포함하는 것이어도 된다. 제 1 실시형태에 있어서, 제 2 검출부(20)는, 피사체로부터의 반사파를 검출한 것을 나타내는 검출 정보를 신호로서 제어부(14)에 송신한다. 제 2 검출부(20)는, 더 구체적으로는 적외선 대역의 전자파를 검출한다.
또한, 제 2 검출부(20)는, 상술한 측거 센서를 구성하는 단일의 소자인 구성에 있어서, 전자파를 검출할 수 있으면 되고, 검출면에 있어서 결상될 필요는 없다. 그 때문에, 제 2 검출부(20)는, 제 2 후단 광학계(18)에 의한 결상 위치인 2차 결상 위치에 마련되지 않아도 된다. 즉, 이 구성에 있어서, 제 2 검출부(20)는, 모든 화각으로부터의 전자파가 검출면 상에 입사 가능한 위치라면, 전환부(16)에 의해 제 2 방향(d2)으로 진행한 후에 제 2 후단 광학계(18)를 경유하여 진행하는 전자파의 경로 상의 어디에 배치되어도 된다.
조사부(12)는, 적외선, 가시광선, 자외선, 및 전파 중 적어도 어느 것을 방사한다. 제 1 실시형태에 있어서, 조사부(12)는 적외선을 방사한다. 조사부(12)는, 방사하는 전자파를, 대상(ob)을 향해, 직접 또는 반사부(13)를 개재하여 간접적으로 조사한다. 제 1 실시형태에 있어서는, 조사부(12)는, 방사하는 전자파를, 대상(ob)을 향해, 반사부(13)를 개재하여 간접적으로 조사한다.
제 1 실시형태에 있어서는, 조사부(12)는, 폭이 가는, 예를 들면, 0.5°의 빔 형상의 전자파를 방사한다. 또한, 제 1 실시형태에 있어서, 조사부(12)는 전자파를 펄스 형상으로 방사 가능하다. 예를 들면, 조사부(12)는, LED(Light Emitting Diode) 및 LD(Laser Diode) 등을 포함한다. 조사부(12)는, 후술하는 제어부(14)의 제어에 기초하여, 전자파의 방사 및 정지를 전환한다.
반사부(13)는, 조사부(12)로부터 방사된 전자파를, 방향을 바꾸면서 반사함으로써, 대상(ob)에 조사되는 전자파의 조사 위치를 변경한다. 즉, 반사부(13)는, 조사부(12)로부터 방사되는 전자파에 의해, 대상(ob)을 주사한다. 따라서, 제 1 실시형태에 있어서, 제 2 검출부(20)는, 반사부(13)와 협동하여, 주사형의 측거 센서를 구성한다. 또한, 반사부(13)는, 1차원 방향 또는 2차원 방향으로 대상(ob)을 주사한다. 제 1 실시형태에 있어서는, 반사부(13)는, 2차원 방향으로 대상(ob)을 주사한다.
반사부(13)는, 조사부(12)로부터 방사되어 반사한 전자파의 조사 영역의 적어도 일부가, 전자파 검출 장치(10)에 있어서의 전자파의 검출 범위에 포함되도록, 구성되어 있다. 따라서, 반사부(13)를 개재하여 대상(ob)에 조사되는 전자파의 적어도 일부는, 전자파 검출 장치(10)에 있어서 검출될 수 있다.
또한, 제 1 실시형태에 있어서, 반사부(13)는, 조사부(12)로부터 방사되고 또한 반사부(13)에 반사한 전자파의 조사 영역의 적어도 일부가, 제 2 검출부(20)에 있어서의 검출 범위에 포함되도록 구성되어 있다. 따라서, 제 1 실시형태에 있어서, 반사부(13)를 개재하여 대상(ob)에 조사되는 전자파의 적어도 일부는, 제 2 검출부(20)에 의해 검출될 수 있다.
반사부(13)는, 예를 들면, MEMS(Micro Electro Mechanical Systems) 미러, 폴리곤 미러, 및 갈바노 미러 등을 포함한다. 제 1 실시형태에 있어서는, 반사부(13)는 MEMS 미러를 포함한다.
반사부(13)는, 후술하는 제어부(14)의 제어에 기초하여, 전자파를 반사하는 방향을 바꾼다. 또한, 반사부(13)는, 예를 들면 인코더 등의 각도 센서를 가져도 되며, 각도 센서가 검출하는 각도를, 전자파를 반사하는 방향 정보로서, 제어부(14)에 통지해도 된다. 이와 같은 구성에 있어서, 제어부(14)는, 반사부(13)로부터 취득하는 방향 정보에 기초하여, 조사 위치를 산출할 수 있다. 또한, 제어부(14)는, 반사부(13)에 전자파를 반사하는 방향을 바꾸게 하기 위하여 입력하는 구동 신호에 기초하여 조사 위치를 산출할 수 있다.
제어부(14)는, 1 이상의 프로세서 및 메모리를 포함한다. 프로세서는, 특정한 프로그램을 불러오게 하여 특정한 기능을 실행하는 범용의 프로세서, 및 특정한 처리에 특화된 전용의 프로세서 중 적어도 어느 것을 포함해도 된다. 전용의 프로세서는, 특정 용도를 위한 IC(ASIC; Application Specific Integrated Circuit)를 포함해도 된다. 프로세서는, 프로그래머블 로직 디바이스(PLD; Programmable Logic Device)를 포함해도 된다. PLD는, FPGA(Field-Programmable Gate Array)를 포함해도 된다. 제어부(14)는, 1개 또는 복수의 프로세서가 협동하는 SoC(System-on-a-Chip) 및 SiP(System In a Package) 중 적어도 어느 것을 포함해도 된다.
제어부(14)는, 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(20)가 각각 검출한 전자파에 기초하여, 전자파 검출 장치(10)의 주위에 관한 정보를 취득한다. 주위에 관한 정보는, 예를 들면 화상 정보, 거리 정보, 및 온도 정보 등이다. 제 1 실시형태에 있어서, 제어부(14)는, 전술과 같이, 제 1 검출부(19)가 화상으로서 검출한 전자파를 화상 정보로서 취득한다. 또한, 제 1 실시형태에 있어서, 제어부(14)는, 제 2 검출부(20)가 검출하는 검출 정보에 기초하여, 이하에 설명한 바와 같이, ToF(Time-of-Flight) 방식에 의해, 조사부(12)에 조사되는 조사 위치의 거리 정보를 취득한다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 제어부(14)는, 조사부(12)에 전자파 방사 신호를 입력함으로써, 조사부(12)에 펄스 형상의 전자파를 방사시킨다("전자파 방사 신호"란 참조). 조사부(12)는, 입력된 당해 전자파 방사 신호에 기초하여 전자파를 조사한다("조사부 방사량"란 참조). 조사부(12)가 방사하고 또한 반사부(13)가 반사하여 임의의 조사 영역에 조사된 전자파는, 당해 조사 영역에 있어서 반사한다. 그리고, 제 2 검출부(20)는, 당해 조사 영역에 있어서 반사된 전자파를 검출할 때("전자파 검출량"란 참조), 전술과 같이, 검출 정보를 제어부(14)에 통지한다.
제어부(14)는, 예를 들면, 시간 계측 LSI(Large Scale Integrated circuit)를 가지고 있고, 조사부(12)에 전자파를 방사시킨 시기(T1)부터 검출 정보를 취득("검출 정보 취득"란 참조)한 시기(T2)까지의 시간(ΔT)을 계측한다. 제어부(14)는, 당해 시간(ΔT)에, 광속을 곱하고, 또한 2로 나눔으로써, 조사 위치까지의 거리를 산출한다. 또한, 제어부(14)는, 상술과 같이, 반사부(13)로부터 취득하는 방향 정보, 또는 자신이 반사부(13)에 출력하는 구동 신호에 기초하여, 조사 위치를 산출한다. 제어부(14)는, 조사 위치를 바꾸면서, 각 조사 위치까지의 거리를 산출함으로써, 제 1 검출부(19)로부터 취득한 화상 정보에 있어서의 거리 정보를 작성한다.
또한, 본 실시형태에 있어서, 정보 취득 시스템(11)은, 도 3에 나타내는 바와 같이, 레이저광을 조사하여, 돌아올 때까지의 시간을 직접 측정하는 Direct ToF에 의해 거리 정보를 작성하는 구성이다. 그러나, 정보 취득 시스템(11)은, 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 정보 취득 시스템(11)은, 전자파를 일정한 주기로 조사하고, 조사된 전자파와 돌아온 전자파의 위상차로부터, 돌아올 때까지의 시간을 간접적으로 측정하는 Flash ToF에 의해 거리 정보를 작성해도 된다. 또한, 정보 취득 시스템(11)은, 다른 ToF 방식, 예를 들면, Phased ToF에 의해 거리 정보를 작성해도 된다.
또한, 제어부(14)는, 조사부(12), 반사부(13), 전환부(16), 제 1 검출부(19), 및 제 2 검출부(20)를 제어하여, 화상 정보 및 거리 정보를 반복 취득한다. 화상 정보 및 거리 정보를 반복 취득하기 위한 각 부위의 제어에 대하여, 도 4의 타이밍 차트를 이용하여 이하에 설명한다.
타이밍 t1에 있어서, 제어부(14)는, 제 1 검출부(19)에 제 1 프레임의 화상 정보의 생성을 위한 전자파의 검출을 개시시킨다. 또한, 타이밍 t1에 있어서는, 전환부(16)의 전체 화소(px)는 제 1 상태이고, 전단 광학계(15)에 입사하는 전자파는 제 1 검출부(19)에 도달한다(도 5 참조). 또한, 도 4에 나타내는 바와 같이, 타이밍 t1에 있어서, 제어부(14)는, 전환부(16)에 있어서의 제 1 화소(px)의 제 1 상태로부터 제 2 상태로의 전환을 개시시킨다("전환부 제 1 화소 구동 신호"란 참조). 또한, 타이밍 t1에 있어서, 다른 전체 화소(px)는 제 1 상태 그대로이다("전환부 제 2 화소 상태", "전환부 제 N 화소 상태"란 참조).
전환부(16)의 제 1 화소(px)의 제 1 상태로부터 제 2 상태로의 전환이 완료되는 타이밍 t2에 있어서("전환부 제 1 화소 상태"란 참조), 제어부(14)는 조사부(12)에 전자파를 방사시킨다("전자파 방사 시기"란 참조). 또한, 타이밍 t2에 있어서는, 전환부(16)의 제 1 화소(px)가 제 1 상태(도 5 참조)로부터 제 2 상태로 전환되고, 전단 광학계(15)에 입사하여, 전환부(16)의 제 1 화소(px)에 있어서 결상하는 전자파가 제 1 방향(d1)의 다음에 제 2 방향(d2)을 향해 진행한다(도 6 참조).
도 4에 나타내는 바와 같이, 또한, 타이밍 t2에 있어서, 제어부(14)는, 제 2 검출부(20)에 전자파를 검출시킨다("제 2 검출부 검출 시기"란 참조). 또한, 조사부(12)가 전자파를 조사하고 나서 전자파 검출 장치(10)에 도달할 때까지 걸리는 시간은, 화상 정보의 생성을 위한 검출 시간에 비해 극히 짧고, 예를 들면, 나노 초의 오더이다. 그 때문에, 타이밍 t2로 간주할 수 있는 미소한 시간에 제 2 검출부(20)에 의한 전자파의 검출이 완료된다. 제어부(14)는, 타이밍 t2에 있어서 취득하는 검출 정보에 기초하여, 전환부(16)의 제 1 화소(px)에 대응하는 조사 위치에 있어서의 거리 정보를 산출함으로써 취득한다.
또한, 타이밍 t2에 있어서, 제어부(14)는, 전환부(16)에 있어서의 제 1 화소(px)의 제 2 상태로부터 제 1 상태로의 전환을 개시시킨다("전환부 제 1 화소 구동 신호"란 참조). 이와 같이, 제어부(14)는, 전환부(16)에 있어서의 제 1 화소(px)를 제 2 상태로부터 제 1 상태로 전환하기 때문에, 재차, 제 1 화소(px)에 대응하는 제 1 검출부(19)에 있어서의 소자에 전자파(가시광)를 검출시킬 수 있다.
전환부(16)의 제 1 화소(px)의 제 2 상태로부터 제 1 상태로의 전환이 완료되는 타이밍 t3에 있어서("전환부 제 1 화소 상태"란 참조), 제어부(14)는, 전환부(16)에 있어서의 제 2 화소(px)의 제 1 상태로부터 제 2 상태로의 전환을 개시시킨다("전환부 제 2 화소 구동 신호"란 참조). 또한, 타이밍 t3에 있어서, 다른 전체 화소(px)는 제 1 상태 그대로이다("전환부 제 1 화소 상태", "전환부 제 N 화소 상태"란 참조).
전환부(16)의 제 2 화소(px)의 제 1 상태로부터 제 2 상태로의 전환이 완료되는 타이밍 t4에 있어서("전환부 제 2 화소 상태"란 참조), 제어부(14)는 조사부(12)에 전자파를 방사시킨다("전자파 방사 시기"란 참조). 또한, 타이밍 t4에 있어서는, 전환부(16)의 제 2 화소(px)가 제 1 상태로부터 제 2 상태로 전환되고, 전단 광학계(15)에 입사하여, 전환부(16)의 제 2 화소(px)에 있어서 결상하는 전자파가 제 1 방향(d1)의 다음에 제 2 방향(d2)을 향해 진행한다. 또한, 타이밍 t4에 있어서, 제어부(14)는, 제 2 검출부(20)에 전자파를 검출시킨다("제 2 검출부 검출 시기"란 참조). 제어부(14)는, 타이밍 t4에 있어서 취득하는 검출 정보에 기초하여, 전환부(16)의 제 2 화소(px)에 대응하는 조사 위치에 있어서의 거리 정보를 산출함으로써 취득한다.
또한, 타이밍 t4에 있어서, 제어부(14)는, 전환부(16)에 있어서의 제 2 화소(px)의 제 2 상태로부터 제 1 상태로의 전환을 개시시킨다("전환부 제 2 화소 구동 신호"란 참조). 이와 같이, 제어부(14)는, 전환부(16)에 있어서의 제 2 화소(px)를 제 2 상태로부터 제 1 상태로 전환하기 때문에, 재차, 제 2 화소(px)에 대응하는 제 1 검출부(19)에 있어서의 소자에 전자파(가시광)를 검출시킬 수 있다.
이후, 제어부(14)는, 전환부(16)에 있어서의 제 3 화소(px) 내지 제 N 화소(px)에 대하여, 제 1 화소(px)와 마찬가지로, 차례로, 제 1 상태로부터 제 2 상태로의 전환과, 제 2 상태로부터 제 1 상태로의 전환을 행함으로써, 제 1 프레임의 화상 정보를 취득함과 함께, 각 화소(px)에 대응하는 조사 위치에 있어서의 거리 정보를 취득한다.
또한, 상술과 같이, 제어부(14)가, 제 (M-1) 화소(px)가 제 2 상태로부터 제 1 상태로의 전환이 완료되는 시기에 있어서, 제 M 화소(px)의 제 1 상태로부터 제 2 상태로의 전환을 개시시키는 제어를 행하는 구성에 있어서, 1 프레임분(分)의 화상 정보의 생성을 위한 시간(Timg)에, 전환부(16)는, Timg/Tdis의 수의 화소(px)를 제 1 상태로부터 제 2 상태로 전환 가능하다. 즉, 제어부(14)는, 시간 Timg에, Timg/Tdis의 수의 화소(px)분의 거리 정보의 생성이 가능하다. 또한, M은 2≤M≤N을 충족시키는 정수이다. 또한, Tdis는, 전환부(16)의 화소(px)의 제 1 상태로부터 제 2 상태로의 전환에 걸리는 시간과, 제 2 상태로부터 제 1 상태로 되돌릴 때까지 걸리는 시간을 합계한 시간이다. 즉, Tdis는, 임의의 화소(px)가 제 1 상태, 제 2 상태, 및 제 1 상태의 순으로 전환되기 위하여 필요한 시간이다. 제 1 실시형태에 있어서는, 예를 들면, Timg는 1/60초이고, Tdis는 1/3000초이다.
Timg/Tdis의 값이 전환부(16)의 화소수보다 적은 구성에 있어서, 제어부(14)는, 시간 Timg 중에, 전환부(16)에 있어서의 화소(px)의 전부를 전환할 수 없다. 그 때문에, 제어부(14)는, 1 프레임분의 화상 정보의 생성 중에, 당해 1 프레임분의 화상 정보에 대응하는 거리 정보를 생성할 수 없다. 즉, 제어부(14)는, 1 프레임분의 화상 정보의 생성 중에, 당해 1 프레임분의 화상 정보에 미달인 프레임(예를 들면, 0.5 프레임)분에 대응하는 거리 정보밖에 생성할 수 없다.
그래서, Timg/Tdis의 값이 전환부(16)의 화소수보다 적은 구성에 있어서, 제어부(14)는, 전환부(16)에 있어서의 전체 화소(px) 중, Timg/Tdis의 수 이하의 화소(px)를 전환 대상으로서 선택한다. 또한, 제어부(14)는, 전환 대상으로서 선택한 각 화소(px)의 제 2 상태로의 전환 시기에 당해 각 화소(px)에 대응하는 조사 영역 내의 영역에 전자파가 조사되도록, 반사부(13)를 제어한다.
또는, Timg/Tdis의 값이 전환부(16)의 화소수보다 적은 구성에 있어서, 제어부(14)는, 복수의 프레임(P 프레임:P는 P>1을 충족시키는 정의 수)분의 화상 정보의 생성을 위한 시간(P×Timg) 중에, 전환부(16)에 있어서의 화소(px)의 모든 전환이 완료되도록 제어해도 된다. 또한, 제어부(14)는, 전환부(16)의 각 화소(px)의 전환 시기에 당해 각 화소(px)에 대응하는 조사 영역 내의 영역에 전자파가 조사되도록, 반사부(13)를 제어한다.
또는, Timg/Tdis의 값이 전환부(16)의 화소수보다 적은 구성에 있어서, 제어부(14)는, 전환부(16)에 있어서의 전체 화소(px)를, Timg/Tdis의 수 이하의 그룹으로 나누고, 그룹마다 화소(px)를 모아서 전환한다. 또한, 제어부(14)는, 각 그룹을 대표하는 위치(예를 들면, 각 그룹의 중심 위치)의 화소(px)의 전환 시기에 당해 화소(px)에 대응하는 조사 영역 내의 영역에 전자파가 조사되도록, 반사부(13)를 제어하도록 해도 된다.
또는, Timg/Tdis의 값이 전환부(16)의 화소수보다 적은 구성에 있어서, 제어부(14)는, 전환부(16)에 있어서의 전체 화소(px)를, Timg/Tdis의 수 이하의 그룹으로 나누고, 그룹마다 어느 화소(px)만을 전환한다. 또한, 제어부(14)는, 전환하는 당해 화소(px)의 전환 시기에 당해 화소(px)에 대응하는 조사 영역 내의 영역에 전자파가 조사되도록, 반사부(13)를 제어하도록 해도 된다.
또한, 1 프레임분의 화상의 촬상 시간 중에 제 2 상태로 전환된 전환부(16)의 화소(px)에 대응하는 제 1 검출부(19)에 있어서의 화소는, 당해 화소(px)가 제 2 상태로 전환되고 있는 동안, 수광할 수 없다. 그 때문에, 제 1 검출부(19)에 있어서의 당해 화소에 의한 신호 강도는 저하한다. 그래서, 제어부(14)는, 제 1 검출부(19)에 있어서의 당해 화소의 신호값에 게인을 곱함으로써, 저하한 신호 강도를 보상(補償)해도 된다. 또한, 1 프레임분의 화상의 촬상 시간은, 1 프레임분의 화상 정보를 생성하기 위하여 제 1 검출부(19)가 전자파를 검출하고 있는 시간에 상당한다.
또한, 반사부(13)에 의한 주사 속도가 화소(px)의 전환 속도보다 고속인, 즉, Tscn이 Tdis보다 짧은 구성에 있어서, 제어부(14)는, 제 (M-1) 화소(px)의 제 2 상태로부터 제 1 상태로의 전환이 완료되는 시기보다 전에, 제 M 화소(px)의 제 1 상태로부터 제 2 상태로의 전환을 개시시켜도 된다. 또한, Tscn은, 조사부(12)로부터 방사되어 반사부(13)에 의해 반사된 전자파의 조사 위치가, 어떤 조사 위치로부터 다음 조사 위치로 바뀌기 위하여 필요한 시간, 또는, 어떤 조사 위치로부터 인접하는 조사 위치로 바뀌기 위하여 필요한 시간이다. 이와 같은 구성은, 임의의 화소(px)의 제 2 상태로부터 제 1 상태로의 전환의 완료 후에 다른 화소의 제 2 상태로의 전환을 행하는 제어보다, 단시간에 보다 많은 화소에 있어서의 거리 정보를 생성할 수 있다.
도 4에 나타내는 바와 같이, 타이밍 t1부터 제 1 프레임의 화상 정보의 생성을 위한 시간(Timg)의 경과 후인 t5에 있어서("제 1 검출부 검출 시기"란 참조), 제어부(14)는, 제 2 프레임의 화상 정보의 생성을 위한 전자파의 검출을 개시시킨다. 또한, 제어부(14)는, 타이밍 t1부터 t5에 있어서의 제 1 검출부(19)에 의한 전자파의 검출이 종료된 후, 그 동안에 검출한 전자파에 기초한 제 1 프레임의 화상 정보를 취득한다. 이후, 제어부(14)는, 타이밍 t1부터 t5 동안에 행한 제어와 마찬가지로, 화상 정보의 취득 및 거리 정보의 취득을 위한 조사부(12), 반사부(13), 전환부(16), 제 1 검출부(19), 및 제 2 검출부(20)의 제어를 행한다.
이상과 같은 구성의 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 전환부(16)의 작용면(as)에 배치된 화소(px)마다 제 1 상태와 제 2 상태로 전환할 수 있다. 이와 같은 구성에 의해, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 전단 광학계(15)의 광축을, 제 1 상태에 있어서 전자파를 진행시키는 제 1 방향(d1)에 있어서의 제 1 후단 광학계(17)의 광축에, 또한 제 2 상태에 있어서 전자파를 진행시키는 제 2 방향(d2)에 있어서의 제 2 후단 광학계(18)의 광축에 맞추는 것이 가능해진다. 따라서, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 전환부(16)의 화소(px)를 제 1 상태 및 제 2 상태 중 어느 것으로 전환함으로써, 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(20)의 광축의 어긋남을 저감할 수 있다. 이에 의해, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(20)에 있어서의 검출축의 어긋남을 저감할 수 있다. 그 때문에, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(20)에 의한 검출 결과에 있어서의 좌표계의 어긋남을 저감할 수 있다. 또한, 이와 같은 구성 및 효과는, 후술하는 제 2 실시형태의 전자파 검출 장치(100) 및 제 3 실시형태의 전자파 검출 장치(101)에 대해서도 동일하다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 전환부(16)에 있어서의 일부의 화소(px)를 제 1 상태로 전환하고, 또한 다른 일부의 화소(px)를 제 2 상태로 전환할 수 있다. 따라서, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 일부의 화소(px)에 있어서 제 1 검출부(19)에 전자파를 검출시키면서, 동시에 다른 일부의 화소(px)에 있어서 제 2 검출부(20)에 전자파를 검출시킬 수 있다. 이에 의해, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 상이한 영역에 관한 정보를 동시에 취득할 수 있다. 또한, 이와 같은 구성 및 효과는, 후술하는 제 2 실시형태의 전자파 검출 장치(100) 및 제 3 실시형태의 전자파 검출 장치(101)에 대해서도 동일하다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 전환부(16)에 있어서의 동일한 화소(px)를 제 1 상태의 다음에 제 2 상태로 전환할 수 있다. 이와 같은 구성에 있어서, 전환부(16)에 있어서의 화소(px)의 제 1 상태에 있어서 제 1 검출부(19)에 전자파가 검출될 수 있고, 그 직후, 당해 화소(px)의 제 2 상태에 있어서 제 2 검출부(20)에 전자파가 검출될 수 있다. 따라서, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 전환부(16)에 있어서의 동일한 화소(px)에 의한 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(20)에 있어서의 전자파의 검출 시기의 어긋남을 저감할 수 있다. 이에 의해, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 동일 영역에 관한 정보의 취득 시기의 어긋남을 저감할 수 있다. 또한, 이와 같은 구성 및 효과는, 후술하는 제 2 실시형태의 전자파 검출 장치(100) 및 제 3 실시형태의 전자파 검출 장치(101)에 대해서도 동일하다.
또한, 제 1 실시형태의 정보 취득 시스템(11)은, 조사부(12)를 가지고 있다. 따라서, 제 1 실시형태의 정보 취득 시스템(11)은, 대상(ob)에 전자파를 조사함으로써, 제 2 검출부(20)를 액티브 센서로서 기능시킬 수 있다. 또한, 제 1 실시형태의 정보 취득 시스템(11)은, 제 1 검출부(19)를 패시브 센서로서 기능시킬 수 있다. 이와 같은 구성에 있어서, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 전환부(16)에 있어서의 화소(px) 중 적어도 어느 것을 제 1 상태의 다음에 제 2 상태로 전환함으로써, 동일 영역에 관한 정보를 액티브 센서 및 패시브 센서의 양방에 취득시킬 수 있다. 또한, 이와 같은 구성에 있어서, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 전환부(16)에 있어서의 일부의 화소(px)를 제 1 상태로 전환하고, 또한 다른 일부의 화소(px)를 제 2 상태로 전환함으로써, 액티브 센서가 정보를 취득하는 영역과 패시브 센서가 정보를 취득하는 영역을 나눌 수 있다.
또한, 제 1 실시형태의 정보 취득 시스템(11)은, 반사부(13)를 가지고 있다. 이와 같은 구성에 의해, 정보 취득 시스템(11)은, 조사부(12)가 방사하는 전자파를 이용하여 대상(ob)을 주사할 수 있다. 즉, 제 1 실시형태의 정보 취득 시스템(11)은, 제 2 검출부(20)를 반사부(13)와 협동시켜 주사형의 액티브 센서로서 기능시킬 수 있다. 따라서, 제 1 실시형태의 정보 취득 시스템(11)은, 제 2 검출부(20)에 의해, 1차원 방향 또는 2차원 방향의 위치에 따라 정보를 취득할 수 있다.
다음에, 본 개시의 제 2 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치에 대하여 설명한다. 제 2 실시형태에서는 반사부 및 조사부를 갖지 않는 점, 및 제 2 검출부의 구성 및 기능이 제 1 실시형태와 상이하다. 이하에, 제 1 실시형태와 상이한 점을 중심으로 제 2 실시형태에 대하여 설명한다. 또한, 제 1 실시형태와 동일한 구성을 가지는 부위에는 동일한 부호를 붙인다.
도 7에 나타내는 바와 같이, 제 2 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치(100)를 포함하는 정보 취득 시스템(110)은, 전자파 검출 장치(100) 및 제어부(14)를 포함하여 구성되어 있다.
전자파 검출 장치(100)는, 제 1 실시형태와 같이, 전단 광학계(15), 전환부(16), 제 1 후단 광학계(17), 제 2 후단 광학계(18), 제 1 검출부(19), 및 제 2 검출부(200)를 가지고 있다. 제 2 실시형태에 있어서의, 전단 광학계(15), 전환부(16), 제 1 후단 광학계(17), 제 2 후단 광학계(18), 및 제 1 검출부(19)의 구성 및 기능은, 제 1 실시형태와 동일하다.
제 2 검출부(200)는, 제 1 실시형태와 같이, 전환부(16)에 의해 제 2 방향(d2)으로 진행한 후에 제 2 후단 광학계(18)를 경유하여 진행하는 전자파의 경로 상에 마련되어 있다. 또한, 제 2 검출부(200)는, 제 1 실시형태와 같이, 제 2 후단 광학계(18)를 경유한 전자파, 즉 제 2 방향(d2)으로 진행한 전자파를 검출한다.
제 2 실시형태에 있어서, 제 2 검출부(200)는, 제 1 검출부(19)와 동일한 구성 및 기능이고, 제 1 검출부(19)와 동종의 전자파의 상을 촬상한다. 따라서, 제 2 실시형태에 있어서, 제 2 검출부(200)는, 제 1 검출부(19)와 마찬가지로, 전단 광학계(15)에 의해 전환부(16) 또는 그 근방에 있어서 결상하여 제 2 방향(d2)으로 진행하는 상의, 제 2 후단 광학계(18)에 의한 결상 위치인 2차 결상 위치, 또는 당해 2차 결상 위치 근방에 마련되어 있으면 된다.
제어부(14)는, 제 1 실시형태와 같이, 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(200)가 각각 검출한 전자파에 기초하여, 전자파 검출 장치(100)의 주위에 관한 정보를 취득한다. 제 2 실시형태에 있어서, 제어부(14)는, 전술과 같이, 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(200) 각각이 화상으로서 검출한 전자파를 화상 정보로서 취득한다.
제어부(14)는, 전환부(16), 제 1 검출부(19), 및 제 2 검출부(200)를 제어하여, 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(200)로부터 번갈아 반복 화상 정보를 취득한다. 화상 정보를 번갈아 반복 취득하기 위한 각 부위의 제어에 대하여, 도 8의 타이밍 차트를 이용하여 이하에 설명한다.
전환부(16)의 전체 화소(px)의 제 1 상태로의 전환이 완료되는 타이밍 t6에 있어서("전환부 제 1 화소 상태", "전환부 제 2 화소 상태", "전환부 제 N 화소 상태"란 참조), 제어부(14)는, 제 1 검출부(19)에 제 1 프레임의 화상 정보의 생성을 위한 전자파의 검출을 개시시킨다.
타이밍 t6부터 1 프레임의 화상 정보의 생성을 위한 전자파의 검출 시간의 경과 후인 t7에 있어서("제 1 검출부 검출 시기"란 참조), 제어부(14)는, 전환부(16)에 있어서의 전체 화소(px)의 제 1 상태로부터 제 2 상태로의 전환을 개시시킨다("전환부 제 1 화소 구동 신호", "전환부 제 2 화소 구동 신호", "전환부 제 N 화소 구동 신호"란 참조).
전환부(16)의 전체 화소(px)의 제 2 상태로의 전환이 완료되는 타이밍 t8에 있어서("전환부 제 1 화소 상태", "전환부 제 2 화소 상태", "전환부 제 N 화소 상태"란 참조), 제어부(14)는, 제 2 검출부(200)에 제 2 프레임의 화상 정보의 생성을 위한 전자파의 검출을 개시시킴과 함께, 타이밍 t6부터 t7 동안에 제 1 검출부(19)가 검출한 전자파에 기초한 제 1 프레임의 화상 정보의 취득을 개시한다.
타이밍 t8부터 제 2 프레임의 화상 정보의 생성을 위한 전자파의 검출 시간의 경과 후인 t9에 있어서("제 2 검출부 검출 시기"란 참조), 제어부(14)는, 전환부(16)에 있어서의 전체 화소(px)의 제 2 상태로부터 제 1 상태로의 전환을 개시시킨다("전환부 제 1 화소 구동 신호", "전환부 제 2 화소 구동 신호", "전환부 제 N 화소 구동 신호"란 참조).
전환부(16)의 전체 화소(px)의 제 1 상태로의 전환이 완료되는 타이밍 t10에 있어서("전환부 제 1 화소 상태", "전환부 제 2 화소 상태", "전환부 제 N 화소 상태"란 참조), 제어부(14)는, 제 1 검출부(19)에 제 3 프레임의 화상 정보의 생성을 위한 전자파의 검출을 개시시킴과 함께, 타이밍 t8부터 t9 동안에 제 2 검출부(200)가 검출한 전자파에 기초한 제 2 프레임의 화상 정보의 취득을 개시한다. 이후, 제어부(14)는, 타이밍 t6부터 t10 동안에 행한 제어와 마찬가지로, 화상 정보의 취득을 위한 전환부(16), 제 1 검출부(19), 및 제 2 검출부(200)의 제어를 행한다.
이상과 같이, 제 2 실시형태의 전자파 검출 장치(100)에 있어서, 제 1 검출부(19)가 검출한 전자파에 기초한 화상 정보의 출력을 제 2 검출부(200)에 의한 전자파의 검출 중에 실행 가능하고, 또한 제 2 검출부(200)가 검출한 전자파에 기초한 화상 정보의 출력을, 제 1 검출부(19)에 의한 전자파의 검출 중에 실행 가능하다. 따라서, 제 2 실시형태의 전자파 검출 장치(100)는, 장치 전체로서의 프레임 레이트를, 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(200) 그 자체의 프레임 레이트로부터 배가시킬 수 있다.
또한, 상술과 같은, 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(200)의 일방이 전자파를 검출 중에 타방이 검출한 정보를 출력하는 제어에서는, 1 프레임의 화상의 검출 시간은, 제 1 검출부(19) 또는 제 2 검출부(200) 그 자체의 프레임 레이트로 각각 단독으로 동작시킨 경우보다 짧아진다. 그 때문에, 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(200)에 있어서의 각 화소의 수광량은, 각각 단독으로 그 자체의 프레임 레이트로 동작한 경우보다 저하하여, 그 신호 강도는 저하한다. 그래서, 제어부(14)는, 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(200)에 있어서의 각 화소의 신호값에 게인을 곱함으로써, 저하한 신호 강도를 보상하도록 해도 된다.
다음에, 본 개시의 제 3 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치에 대하여 설명한다. 제 3 실시형태에서는 복수의 조사부를 가지는 점 및 제 1 검출부의 구성 및 기능이 제 1 실시형태와 상이하다. 이하에, 제 1 실시형태와 상이한 점을 중심으로 제 3 실시형태에 대하여 설명한다. 또한, 제 1 실시형태와 동일한 구성을 가지는 부위에는 동일한 부호를 붙인다.
도 9에 나타내는 바와 같이, 제 3 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치(101)를 포함하는 정보 취득 시스템(111)은, 전자파 검출 장치(101), 제 1 조사부(211), 제 2 조사부(221), 제 1 미러(231), 제 2 미러(241), 반사부(13), 및 제어부(14)를 포함하여 구성되어 있다. 제 3 실시형태에 있어서, 반사부(13)의 구성 및 기능은, 제 1 실시형태와 유사하다. 제 3 실시형태에 있어서의 반사부(13)는, 제 1 조사부(211) 및 제 2 조사부(221)로부터 방사된 전자파를 반사하는 점이 제 1 실시형태와 상이하다.
또한, 제 3 실시형태에 있어서, 제 1 검출부(191), 반사부(13), 및 제어부(14)가 협동한 기능은, 제 1 실시형태와 유사하다. 제 3 실시형태에 있어서의 제 1 검출부(191)는, 제 1 조사부(211)로부터 조사되고 반사부(13)에 의해 반사되어 대상(ob)을 향해 조사된 전자파의 당해 대상(ob)으로부터의 반사파를 검출하는 점이 제 1 실시형태와 상이하다. 즉, 제 3 실시형태에 있어서, 제 1 검출부(191)는, 반사부(13)와 협동하여, 주사형의 액티브 센서를 구성한다.
전자파 검출 장치(101)는, 제 1 실시형태와 같이, 전단 광학계(15), 전환부(16), 제 1 후단 광학계(17), 제 2 후단 광학계(18), 제 1 검출부(191), 및 제 2 검출부(20)를 가지고 있다. 제 3 실시형태에 있어서의, 전단 광학계(15), 전환부(16), 제 1 후단 광학계(17), 제 2 후단 광학계(18), 및 제 2 검출부(20)의 구성 및 기능은, 제 1 실시형태와 동일하다.
제 3 실시형태에 있어서, 제 1 조사부(211)는, 제 2 조사부(221)와는 이종의 전자파를 방사한다. 제 3 실시형태에 있어서, 제 1 조사부(211)는, 보다 구체적으로는 가시광선을 방사한다. 또한, 제 1 조사부(211)는, 폭이 가는, 예를 들면, 0.5°의 빔 형상의 전자파를 방사한다. 또한, 제 1 조사부(211)는 전자파를 펄스 형상 또는 연속 형상으로 방사한다. 예를 들면, 제 1 조사부(211)는 LED 및 LD 등이다. 제 1 조사부(211)는, 후술하는 제어부(14)의 제어에 기초하여, 전자파의 방사 및 정지를 전환한다.
제 3 실시형태에 있어서, 제 2 조사부(221)는, 제 1 실시형태에 있어서의 조사부(12)와 동일하고, 적외선을 방사한다.
제 1 미러(231)는, 제 1 조사부(211)가 방사하는 전자파의 방사 방향에 마련되어 있다. 제 1 미러(231)는, 제 1 조사부(211)가 방사하는 전자파를 반사한다.
제 2 미러(241)는, 제 2 조사부(221)가 방사하는 전자파의 방사 방향, 또한 제 1 조사부(211)가 방사하는 전자파의 제 1 미러(231)에 의한 반사 방향에 마련되어 있다. 제 2 미러(241)는, 제 1 조사부(211)가 방사하여 제 1 미러(231)가 반사하는 전자파를 반사하고, 제 2 조사부(221)가 방사하는 전자파를 투과한다. 제 2 미러(241)는, 하프 미러 및 다이크로익 미러 등에 의해 실현된다.
제 2 미러(241)에 의해 반사되는 제 1 조사부(211)가 방사하는 빔 형상의 전자파와, 제 2 미러(241)를 투과하는 제 2 조사부(221)가 방사하는 빔 형상의 전자파가 겹치도록, 또는, 겹치지 않도록, 제 1 조사부(211), 제 2 조사부(221), 제 1 미러(231), 및 제 2 미러(241)는 배치되어 있으면 된다. 제 3 실시형태에 있어서, 제 1 조사부(211), 제 2 조사부(221), 제 1 미러(231), 및 제 2 미러(241)는, 제 2 미러(241)에 의해 반사되는 제 1 조사부(211)가 방사하는 빔 형상의 전자파와, 제 2 미러(241)를 투과하는 제 2 조사부(221)가 방사하는 빔 형상의 전자파가 겹치도록 배치되어 있다.
이상과 같이, 제 3 실시형태의 전자파 검출 장치(101)는, 제 1 조사부(211) 및 제 2 조사부(221)로부터 방사되는 빔 형상의 전자파를 반사부(13)에 주사시킴으로써, 상이한 조사부로부터 조사된 전자파를 이용하여 동일한 영역을 동시에 주사할 수 있다.
본 발명을 제(諸) 도면 및 실시형태에 기초하여 설명하였으나, 당업자라면 본 개시에 기초하여 다양한 변형 및 수정을 행하는 것이 용이한 것에 주의하기 바란다. 따라서, 이러한 변형 및 수정은 본 발명의 범위에 포함되는 것에 유의하기 바란다.
예를 들면, 제 1 실시형태에 있어서, 조사부(12), 반사부(13), 및 제어부(14)가, 전자파 검출 장치(10)와 함께 정보 취득 시스템(11)을 구성하고 있지만, 전자파 검출 장치(10)는, 이들 중 적어도 1개를 포함하여 구성되어도 된다. 마찬가지로, 제 2 실시형태에 있어서, 제어부(14)가 전자파 검출 장치(100)와 함께 정보 취득 시스템(110)을 구성하고 있지만, 전자파 검출 장치(100)는, 제어부(14)를 포함하여 구성되어도 된다. 또한, 마찬가지로, 제 3 실시형태에 있어서, 제 1 조사부(211), 제 2 조사부(221), 제 1 미러(231), 제 2 미러(241), 반사부(13), 및 제어부(14)가, 전자파 검출 장치(101)와 함께 정보 취득 시스템(111)을 구성하고 있지만, 전자파 검출 장치(101)는, 이들 중 적어도 1개를 포함하여 구성되어도 된다.
또한, 제 1 실시형태 내지 제 3 실시형태에 있어서, 전환부(16)는, 작용면(as)에 입사하는 전자파의 진행 방향을 제 1 방향(d1) 및 제 2 방향(d2)의 2방향으로 전환 가능하지만, 2방향 중 어느 것으로의 전환이 아니라, 3 이상의 방향으로 전환 가능해도 된다.
또한, 제 1 실시형태 내지 제 3 실시형태의 전환부(16)에 있어서, 제 1 상태 및 제 2 상태는, 작용면(as)에 입사하는 전자파를, 각각, 제 1 방향(d1)으로 반사하는 제 1 반사 상태, 및 제 2 방향(d2)으로 반사하는 제 2 반사 상태이지만, 다른 양태여도 된다.
예를 들면, 제 2 상태가, 작용면(as)에 입사하는 전자파를, 투과시켜 제 2 방향(d2)으로 진행시키는 투과 상태여도 된다. 전환부(16)는, 더 구체적으로는, 화소(px)마다 전자파를 반사하는 반사면을 가지는 셔터를 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 구성의 전환부(16)에 있어서는, 화소(px)마다의 셔터를 개폐함으로써, 제 1 반사 상태 및 제 2 반사의 상태로서의 투과 상태를 화소(px)마다 전활할 수 있다. 이와 같은 구성의 전환부(16)로서, 예를 들면, 개폐 가능한 복수의 셔터가 어레이 형상으로 배열된 MEMS 셔터를 포함하는 전환부를 들 수 있다. 또한, 전환부(16)는, 전자파를 반사하는 반사 상태와 전자파를 투과하는 투과 상태를 액정 배향에 따라 전환 가능한 액정 셔터를 포함하는 전환부를 들 수 있다. 이와 같은 구성의 전환부(16)에 있어서는, 화소(px)마다의 액정 배향을 전환함으로써, 제 1 상태로서의 반사 상태 및 제 2 상태로서의 투과 상태를 화소(px)마다 전활할 수 있다.
또한, 제 1 실시형태에 있어서, 정보 취득 시스템(11)은, 조사부(12)로부터 방사되는 빔 형상의 전자파를 반사부(13)에 주사시킴으로써, 제 2 검출부(20)를 반사부(13)와 협동시켜 주사형의 액티브 센서로서 기능시키는 구성을 가진다. 그러나, 정보 취득 시스템(11)은, 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 정보 취득 시스템(11)은, 반사부(13)를 구비하지 않고, 조사부(12)로부터 방사상의 전자파를 방사시켜, 주사 없이 정보를 취득하는 구성이라도, 제 1 실시형태와 유사한 효과가 얻어진다.
또한, 제 1 실시형태에 있어서, 정보 취득 시스템(11)은, 제 1 검출부(19)가 패시브 센서이고, 제 2 검출부(20)가 액티브 센서인 구성을 가진다. 그러나, 정보 취득 시스템(11)은, 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 정보 취득 시스템(11)은, 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(20)가 모두 액티브 센서인 구성이라도, 패시브 센서인 구성이라도 제 1 실시형태와 유사한 효과가 얻어진다.
또한, 제 2 실시형태에 있어서, 전자파 검출 장치(100)는, 제 1 검출부(19)와 제 2 검출부(200)가 동종의 전자파의 상을 촬상하는 구성을 가진다. 그러나, 전자파 검출 장치(100)는, 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 전자파 검출 장치(100)는, 제 1 검출부(19)와 제 2 검출부(200)가 이종의 전자파를 검출하는 구성이라도, 제 2 실시형태와 유사한 효과가 얻어진다.
또한, 제 2 실시형태에 있어서, 전자파 검출 장치(100)는, 제 1 검출부(19)와 제 2 검출부(200)가 모두 패시브 센서인 구성을 가진다. 그러나, 전자파 검출 장치(100)는, 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 전자파 검출 장치(100)는, 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(200) 중 일방이 패시브 센서이고 다른 일방이 액티브 센서인 구성이라도, 모두 액티브 센서인 구성이라도, 제 2 실시형태와 유사한 효과가 얻어진다.
또한, 제 3 실시형태에 있어서, 정보 취득 시스템(111)은, 제 1 조사부(211) 및 제 2 조사부(221)로부터 방사되는 빔 형상의 전자파를 반사부(13)에 주사시킴으로써, 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(20)를 주사형의 액티브 센서로서 기능시키는 구성을 가진다. 그러나, 정보 취득 시스템(111)은, 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 정보 취득 시스템(111)은, 반사부(13)를 구비하지 않고, 제 1 조사부(211) 및 제 2 조사부(221)로부터 방사상의 전자파를 방사시킴으로써, 주사 없이 화상 정보를 취득하는 구성이라도, 제 3 실시형태와 유사한 효과가 얻어진다.
또한, 제 3 실시형태에 있어서, 정보 취득 시스템(111)은, 제 1 조사부(211) 및 제 2 조사부(221)로부터 방사되는 빔 형상의 전자파를 반사부(13)에 주사시킴으로써, 제 1 검출부(19) 및 제 2 검출부(20)를 주사형의 액티브 센서로서 기능시키는 구성을 가진다. 그러나, 정보 취득 시스템(111)은, 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 정보 취득 시스템(111)은, 제 1 조사부(211) 및 제 2 조사부(221)의 어느 일방으로부터만 방사상의 전자파를 방사시킴으로써, 그 일방에 대해서는 반사부(13)에 의한 주사 없이 화상 정보를 취득하는 구성이라도, 제 3 실시형태와 유사한 효과가 얻어진다.
또한, 제 3 실시형태에 있어서, 정보 취득 시스템(111)은, 제 1 조사부(211) 및 제 2 조사부(221)로부터 방사되는 전자파를 반사부(13)에 주사시킴으로써, 상이한 조사부에 의해 동일한 영역을 주사하는 구성을 가진다. 그러나, 정보 취득 시스템(111)은, 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 정보 취득 시스템(111)은, 제 1 조사부(211) 및 제 2 조사부(221) 중 일방만을 구비하고, 당해 일방으로부터만 방사된 전자파를 복수 방향으로 분할하고, 분할한 전자파를 반사부(13)에 의해 주사시키는 구성이어도 된다. 이와 같은 구성에 의해, 정보 취득 시스템(111)은, 단일의 조사부로 상이한 영역을 동시에 주사하는 것이 가능해진다.
또한, 제 3 실시형태에 있어서, 정보 취득 시스템(111)은, 제 1 미러(231) 및 제 2 미러(241)를 이용하여, 제 1 조사부(211) 및 제 2 조사부(221)로부터 방사되는 전자파를, 단일의 반사부(13)에 입사시키고, 대상(ob)으로의 조사 위치를 변경하는 구성이다. 그러나, 정보 취득 시스템(111)은, 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 정보 취득 시스템(111)은, 복수의 반사부(13) 각각에, 제 1 조사부(211) 및 제 2 조사부(221)가 방사하는 전자파를 입사시키는 구성이라도, 제 3 실시형태와 유사한 효과가 얻어진다.
또한, 제 3 실시형태에 있어서, 정보 취득 시스템(111)은, 제 1 조사부(211) 및 제 2 조사부(221)가 각각 이종의 전자파를 방사하는 구성이다. 그러나, 정보 취득 시스템(111)은, 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 정보 취득 시스템(111)은, 제 1 조사부(211) 및 제 2 조사부(221)가 동종의 전자파를 방사하는 구성이라도 제 3 실시형태와 유사한 효과가 얻어진다.
또한, 여기서는, 특정한 기능을 실행하는 다양한 모듈 및/또는 유닛을 가지는 것으로서의 시스템을 개시하고 있고, 이러한 모듈 및 유닛은, 그 기능성을 간략하게 설명하기 위하여 모식적으로 나타내어진 것으로서, 반드시, 특정한 하드웨어 및/또는 소프트웨어를 나타내는 것은 아닌 것에 유의하기 바란다. 그 의미에 있어서, 이러한 모듈, 유닛, 그 밖의 구성 요소는, 여기서 설명된 특정한 기능을 실질적으로 실행하도록 실장된 하드웨어 및/또는 소프트웨어이면 된다. 상이한 구성 요소의 다양한 기능은, 하드웨어 및/또는 소프트웨어의 어떤 조합 또는 분리한 것이어도 되고, 각각 따로따로, 또는 어느 조합에 의해 이용할 수 있다. 또한, 키보드, 디스플레이, 터치 스크린, 포인팅 디바이스 등을 포함하지만 이들에 한정되지 않는 입력/출력 또는 I/O 디바이스 또는 사용자 인터페이스는, 시스템에 직접 또는 개재하는 I/O 컨트롤러를 통하여 접속할 수 있다. 이와 같이, 본 개시 내용의 다양한 측면은, 많은 상이한 양태로 실시할 수 있고, 그러한 양태는 모두 본 개시 내용의 범위에 포함된다.
10, 100, 101 : 전자파 검출 장치
11, 110, 111 : 정보 취득 시스템
12 : 조사부
13 : 반사부
14 : 제어부
15 : 전단 광학계
16 : 전환부
17 : 제 1 후단 광학계
18 : 제 2 후단 광학계
19, 191 : 제 1 검출부
20, 200 : 제 2 검출부
211 : 제 1 조사부
221 : 제 2 조사부
231 : 제 1 미러
241 : 제 2 미러
as : 작용면
d1 : 제 1 방향
d2 : 제 2 방향
ob : 대상
px, px1, px2 : 화소

Claims (24)

  1. 복수의 화소가 배치된 작용면을 포함하고, 상기 작용면에 입사하는 전자파를, 상기 화소마다, 제 1 방향으로 진행시키는 제 1 상태와, 제 2 방향으로 진행시키는 제 2 상태로 전환 가능한 전환부와,
    상기 제 1 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 1 검출부와,
    상기 제 2 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 2 검출부를 구비하는 전자파 검출 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 전환부는, 상기 작용면에 입사하는 상기 전자파를 상기 제 1 방향으로 반사하는 상기 제 1 상태로서의 제 1 반사 상태와, 상기 작용면에 입사하는 상기 전자파를 상기 제 2 방향으로 반사하는 상기 제 2 상태로서의 제 2 반사 상태를, 상기 화소마다 전환 가능한 전자파 검출 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 전환부는, 상기 화소마다 상기 전자파를 반사하는 반사면을 포함하고, 상기 반사면마다의 방향을 변경함으로써, 상기 제 1 반사 상태 및 상기 제 2 반사 상태를 화소마다 전환하는 전자파 검출 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 전환부는, 디지털 마이크로 미러 디바이스를 포함하는 전자파 검출 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 전환부는, 상기 작용면에 입사하는 상기 전자파를 상기 제 1 방향으로 반사하는 상기 제 1 상태로서의 반사 상태와, 상기 작용면에 입사하는 상기 전자파를 투과시켜 상기 제 2 방향으로 진행시키는 상기 제 2 상태로서의 투과 상태를, 상기 화소마다 전환 가능한 전자파 검출 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 전환부는, 상기 화소마다 전자파를 반사하는 반사면을 가지는 셔터를 포함하고, 상기 셔터마다 개폐함으로써, 상기 반사 상태 및 상기 투과 상태를 화소마다 전환하는 전자파 검출 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 전환부는, 개폐 가능한 상기 복수의 셔터가 어레이 형상으로 배열된 MEMS 셔터를 포함하는 전자파 검출 장치.
  8. 제 5 항에 있어서,
    상기 전환부는, 전자파를 반사하는 반사 상태와 투과하는 투과 상태를 액정 배향에 따라 화소마다 전환 가능한 액정 셔터를 포함하는 전자파 검출 장치.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전환부는, 일부의 상기 화소에 입사하는 상기 전자파를 상기 제 1 방향으로 진행시키도록 제 1 상태로 전환하고, 다른 일부의 상기 화소에 입사하는 상기 전자파를 상기 제 2 방향으로 진행시키도록 제 2 상태로 전환하는 전자파 검출 장치.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전환부는, 동일한 상기 화소에 입사하는 상기 전자파를 상기 제 1 방향의 다음에 상기 제 2 방향을 향해 진행시키도록, 상기 제 1 상태와 상기 제 2 상태를 전환하는 전자파 검출 장치.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 검출부 및 상기 제 2 검출부는 각각, 이종 또는 동종의 전자파를 검출하는 전자파 검출 장치.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 검출부 및 상기 제 2 검출부는 각각, 조사부로부터 대상을 향해 조사된 전자파의 상기 대상으로부터의 반사파를 검출하는 액티브 센서, 또는 패시브 센서를 포함하는 전자파 검출 장치.
  13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 검출부 및 상기 제 2 검출부는 각각, 상이한 조사부, 또는 동일한 조사부로부터 대상을 향해 조사된 전자파의 상기 대상으로부터의 반사파를 검출하는 액티브 센서를 포함하는 전자파 검출 장치.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 상이한 조사부는 각각, 이종 또는 동종의 전자파를 방사하는 전자파 검출 장치.
  15. 제 12 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조사부를, 더 구비하는 전자파 검출 장치.
  16. 제 12 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조사부는, 적외선, 가시광선, 자외선, 전파 중 어느 것을 방사하는 전자파 검출 장치.
  17. 제 12 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조사부로부터 방사된 전자파를, 방향을 바꾸면서 반사함으로써, 상기 대상에 조사되는 전자파의 조사 위치를 변경하는 반사부를, 더 구비하는 전자파 검출 장치.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 반사부는, MEMS 미러, 폴리곤 미러, 갈바노 미러 중 어느 것을 포함하는 전자파 검출 장치.
  19. 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 검출부 및 상기 제 2 검출부는 각각, 측거 센서, 이미지 센서, 또는, 서모 센서를 포함하는 전자파 검출 장치.
  20. 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 검출부 및 상기 제 2 검출부가 각각 검출한 상기 전자파에 기초하여 주위에 관한 정보를 취득하는 제어부를, 더 구비하는 전자파 검출 장치.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 주위에 관한 정보로서 화상 정보, 거리 정보, 및 온도 정보 중 적어도 어느 것을 취득하는 전자파 검출 장치.
  22. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 검출부 및 상기 제 2 검출부는 각각, 적외선, 가시광선, 자외선, 전파 중 어느 것을 검출하는 전자파 검출 장치.
  23. 작용면에 입사하는 전자파를, 상기 작용면을 구성하는 복수의 화소마다, 제 1 방향으로 진행시키는 제 1 상태와, 제 2 방향으로 진행시키는 제 2 상태로 전환하는 단계와,
    상기 제 1 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 단계와,
    상기 제 2 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 단계를 장치에 실행시키는 프로그램.
  24. 작용면에 입사하는 전자파를, 상기 작용면을 구성하는 복수의 화소마다, 제 1 방향으로 진행시키는 제 1 상태와, 제 2 방향으로 진행시키는 제 2 상태로 전환 가능한 전환부와,
    상기 제 1 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 1 검출부와,
    상기 제 2 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 2 검출부와,
    상기 제 1 검출부 및 상기 제 2 검출부가 각각 검출한 상기 전자파에 기초하여 주위에 관한 정보를 취득하는 제어부를, 구비하는 정보 취득 시스템.
KR1020197023681A 2017-02-14 2018-01-26 전자파 검출 장치, 프로그램, 및 정보 취득 시스템 KR102275104B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017025375A JP6754706B2 (ja) 2017-02-14 2017-02-14 電磁波検出装置、プログラム、および情報取得システム
JPJP-P-2017-025375 2017-02-14
PCT/JP2018/002566 WO2018150850A1 (ja) 2017-02-14 2018-01-26 電磁波検出装置、プログラム、および情報取得システム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190107697A true KR20190107697A (ko) 2019-09-20
KR102275104B1 KR102275104B1 (ko) 2021-07-08

Family

ID=63170287

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020197023681A KR102275104B1 (ko) 2017-02-14 2018-01-26 전자파 검출 장치, 프로그램, 및 정보 취득 시스템

Country Status (6)

Country Link
US (2) US11835653B2 (ko)
EP (1) EP3584551A4 (ko)
JP (1) JP6754706B2 (ko)
KR (1) KR102275104B1 (ko)
CN (2) CN114659623A (ko)
WO (1) WO2018150850A1 (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7324518B2 (ja) * 2018-04-01 2023-08-10 オプシス テック リミテッド 雑音適応型固体ライダシステム
JP2020043135A (ja) * 2018-09-06 2020-03-19 京セラ株式会社 電磁波検出器、撮像装置、測距装置、及び電磁波検出装置
JP7246151B2 (ja) * 2018-09-26 2023-03-27 京セラ株式会社 電磁波検出装置
US12019188B2 (en) 2020-03-02 2024-06-25 Microvision, Inc. Eye-safe scanning lidar with virtual protective housing
JP7402129B2 (ja) * 2020-07-01 2023-12-20 京セラ株式会社 電磁波検出装置、測距装置および電磁波検出方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004279197A (ja) * 2003-03-14 2004-10-07 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 微弱光二次元位置検出システム
JP2004294106A (ja) * 2003-03-25 2004-10-21 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 入射光の二次元位置検出装置
JP2005514615A (ja) * 2001-12-27 2005-05-19 カペラ フォトニクス インコーポレイテッド 時分割多重検出方式を採用する光学的スペクトルパワーモニタ
JP2011220732A (ja) 2010-04-06 2011-11-04 Honda Motor Co Ltd 車両の周辺監視装置
JP2016180624A (ja) * 2015-03-23 2016-10-13 三菱重工業株式会社 レーザレーダ装置及び走行体

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62115389A (ja) * 1985-11-14 1987-05-27 Matsushita Electric Works Ltd 異常監視センサ
CN100524015C (zh) 1995-06-22 2009-08-05 3Dv系统有限公司 生成距景物距离的图象的方法和装置
EP1102104A2 (en) * 1999-11-17 2001-05-23 Lucent Technologies Inc. Optical switch
JP2001311891A (ja) * 2000-04-27 2001-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd 光源ユニット、光ビーム走査装置、及びカラー画像記録装置
JP2001310497A (ja) * 2000-04-27 2001-11-06 Fuji Photo Film Co Ltd 光ビーム走査装置
US6686602B2 (en) 2002-01-15 2004-02-03 Applied Materials, Inc. Patterned wafer inspection using spatial filtering
JP4052382B2 (ja) 2002-11-13 2008-02-27 学校法人東京電機大学 非接触画像計測装置
JP4222569B2 (ja) 2003-02-25 2009-02-12 パナソニック株式会社 光検出装置
JP2005005975A (ja) * 2003-06-11 2005-01-06 Shimadzu Corp 撮影装置
DE102005049471B4 (de) 2005-10-13 2007-09-13 Ingenieurbüro Spies GbR (vertretungsberechtigte Gesellschafter: Hans Spies, Martin Spies, 86558 Hohenwart) Entfernungssensor mit Einzelflächenabtastung
US7483151B2 (en) * 2006-03-17 2009-01-27 Alpineon D.O.O. Active 3D triangulation-based imaging method and device
JP2008128792A (ja) * 2006-11-20 2008-06-05 Fujifilm Corp 距離画像作成装置及び方法
CN102422179A (zh) 2009-04-21 2012-04-18 密歇根宇航公司 大气测量系统
US8681260B2 (en) * 2009-09-11 2014-03-25 Clear Align Llc Dual site imaging camera
US9689667B2 (en) * 2011-03-17 2017-06-27 Universitat Politecnica De Catalunya System, method and computer program for receiving a light beam
ES2512965B2 (es) * 2013-02-13 2015-11-24 Universitat Politècnica De Catalunya Sistema y método para escanear una superficie y programa de ordenador que implementa el método
AU2014310703B2 (en) * 2013-08-19 2018-09-27 Basf Se Optical detector
TW201525813A (zh) * 2013-12-24 2015-07-01 Qisda Corp 觸控投影系統
CN103925999B (zh) * 2014-05-06 2015-12-30 中山大学 一种图像光谱探测方法及系统
US10247811B2 (en) * 2014-10-16 2019-04-02 Harris Corporation Modulation of input to Geiger mode avalanche photodiode LIDAR using digital micromirror devices
JP2017015611A (ja) * 2015-07-03 2017-01-19 株式会社リコー 距離測定装置
US20170357000A1 (en) * 2016-06-09 2017-12-14 Texas Instruments Incorporated Processing techniques for lidar receiver using spatial light modulators

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005514615A (ja) * 2001-12-27 2005-05-19 カペラ フォトニクス インコーポレイテッド 時分割多重検出方式を採用する光学的スペクトルパワーモニタ
JP2004279197A (ja) * 2003-03-14 2004-10-07 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 微弱光二次元位置検出システム
JP2004294106A (ja) * 2003-03-25 2004-10-21 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 入射光の二次元位置検出装置
JP2011220732A (ja) 2010-04-06 2011-11-04 Honda Motor Co Ltd 車両の周辺監視装置
JP2016180624A (ja) * 2015-03-23 2016-10-13 三菱重工業株式会社 レーザレーダ装置及び走行体

Also Published As

Publication number Publication date
WO2018150850A1 (ja) 2018-08-23
JP6754706B2 (ja) 2020-09-16
US20240012114A1 (en) 2024-01-11
JP2018132384A (ja) 2018-08-23
CN110291367B (zh) 2022-03-25
KR102275104B1 (ko) 2021-07-08
EP3584551A4 (en) 2020-12-30
US11835653B2 (en) 2023-12-05
CN110291367A (zh) 2019-09-27
EP3584551A1 (en) 2019-12-25
US20200003893A1 (en) 2020-01-02
CN114659623A (zh) 2022-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102456631B1 (ko) 전자파 검출 장치 및 정보 취득 시스템
KR102275104B1 (ko) 전자파 검출 장치, 프로그램, 및 정보 취득 시스템
JP6850173B2 (ja) 電磁波検出装置、プログラム、および電磁波検出システム
WO2018168507A1 (ja) 電磁波検出装置、プログラム、および電磁波検出システム
CN111954796A (zh) 电磁波检测装置以及信息获取系统
KR20200031680A (ko) 전자파 검출 장치, 기록매체, 및 전자파 검출 시스템
KR102287265B1 (ko) 전자파 검출 장치, 프로그램, 및 전자파 검출 시스템
KR20190142401A (ko) 전자파 검출 장치, 전자파 검출 시스템, 및 프로그램
WO2018186153A1 (ja) 電磁波検出装置、プログラム、および電磁波検出システム
JP7037609B2 (ja) 電磁波検出装置およびプログラム
KR102384160B1 (ko) 전자파 검출 장치, 전자파 검출 시스템, 및 프로그램
JP7260966B2 (ja) 電磁波検出装置
WO2020022150A1 (ja) 電磁波検出装置および情報取得システム

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right