KR20200031680A - 전자파 검출 장치, 기록매체, 및 전자파 검출 시스템 - Google Patents
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Abstract
전자파 검출 장치(10)는 분리부(16)와 제 1 검출부(17)와 전환부(18)와 제 2 검출부(20)를 가진다. 분리부(16)는 분리 상태와 비분리 상태를 전환 가능하다. 분리부(16)는 분리 상태에서 입사하는 전자파를 제 1 방향(d1) 및 제 2 방향(d2)으로 진행하도록 분리한다. 제 1 검출부(17)는 제 1 방향(d1)으로 진행한 전자파를 검출한다. 전환부(18)는 복수의 전환 소자(se)를 가진다. 전환 소자(se)는 제 2 방향(d2)으로 진행한 전자파의 진행 방향을 제 3 방향(d3) 및 제 4 방향(d4)으로 전환 가능하다. 제 2 검출부(20)는 제 3 방향(d3)으로 진행한 전자파를 검출한다.
Description
(관련 출원의 상호 참조)
본 출원은, 2017년 8월 25일에 일본국에 특허 출원된 특원2017-162557의 우선권을 주장하는 것이며, 상기의 출원의 개시 전체를 여기에 참조를 위해 포함시킨다.
본 발명은, 전자파 검출 장치, 프로그램, 및 전자파 검출 시스템에 관한 것이다.
근래, 전자파를 검출하는 복수의 검출기에 의한 검출 결과로부터 주위에 관한 정보를 얻는 장치가 개발되고 있다. 예를 들면, 적외선 카메라로 촬상한 화상 중의 물체의 위치를, 레이저 레이더를 이용하여 측정하는 장치가 알려져 있다.(특허문헌 1 참조).
제 1 관점에 의한 전자파 검출 장치는,
입사하는 전자파를 제 1 방향 및 제 2 방향으로 진행하도록 분리하는 분리 상태와 분리시키지 않는 비분리 상태로 전환 가능한 분리부와,
상기 제 1 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 1 검출부와,
상기 제 2 방향으로 진행한 전자파의 진행 방향을, 제 3 방향 및 제 4 방향으로 전환 가능한 복수의 전환 소자를 가지는 전환부와,
상기 제 3 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 2 검출부를 구비한다.
또한, 제 2 관점에 의한 전자파 검출 시스템은,
입사하는 전자파를 제 1 방향 및 제 2 방향으로 진행하도록 분리하는 분리 상태와 분리시키지 않는 비분리 상태로 전환 가능한 분리부와,
상기 제 1 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 1 검출부와,
상기 제 2 방향으로 진행한 전자파의 진행 방향을, 제 3 방향 및 제 4 방향으로 전환 가능한 복수의 전환 소자를 가지는 전환부와,
상기 제 3 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 2 검출부와,
상기 제 1 검출부 및 상기 제 2 검출부에 의한 전자파의 검출 결과에 기초하여, 주위에 관한 정보를 취득하는 제어부를 구비한다.
또한, 제 3 관점에 의한 프로그램은,
입사하는 전자파를 제 1 방향 및 제 2 방향으로 진행하도록 분리하는 분리 상태와 분리시키지 않는 비분리 상태로 전환하는 단계와,
상기 제 1 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 단계와,
상기 제 2 방향으로 진행한 전자파의 진행 방향을, 제 3 방향 및 제 4 방향으로 전환 가능한 복수의 전환 소자로 상기 제 3 방향 또는 상기 제 4 방향으로 전환시키는 단계와,
상기 제 3 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 단계를 장치에 실행시킨다.
도 1은, 제 1 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치를 포함하는 전자파 검출 시스템의 개략 구성을 나타내는 기능 블록도이다.
도 2는, 도 1의 전자파 검출 장치의 개략 구성을 나타내는 구성도이다.
도 3은, 도 2에 있어서의 분리부의 변형례를 나타내는 구성도이다.
도 4는, 도 2의 전환부에 있어서의 전환 소자의 제 1 상태와 제 2 상태에 있어서의 전자파의 진행 방향을 설명하기 위한, 전자파 검출 장치의 상태도이다.
도 5는, 도 1의 조사부 및 제어부 및 도 2의 제 2 검출부가 구성하는 측거 센서에 의한 측거의 원리를 설명하기 위한 전자파의 방사의 시기와 검출의 시기를 나타내는 타이밍 차트이다.
도 6은, 제 2 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치의 개략 구성을 나타내는 구성도이다.
도 7은, 도 6의 분리부를 분리 상태로 전환한 경우의 전자파의 진행 방향을 설명하기 위한, 전자파 검출 장치의 상태도이다.
도 8은, 제 1 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치의 변형례의 개략 구성을 나타내는 구성도이다.
도 9는, 도 8의 분리부를 비분리 상태로 전환한 경우의 전자파의 진행 방향을 설명하기 위한, 전자파 검출 장치의 상태도이다.
도 2는, 도 1의 전자파 검출 장치의 개략 구성을 나타내는 구성도이다.
도 3은, 도 2에 있어서의 분리부의 변형례를 나타내는 구성도이다.
도 4는, 도 2의 전환부에 있어서의 전환 소자의 제 1 상태와 제 2 상태에 있어서의 전자파의 진행 방향을 설명하기 위한, 전자파 검출 장치의 상태도이다.
도 5는, 도 1의 조사부 및 제어부 및 도 2의 제 2 검출부가 구성하는 측거 센서에 의한 측거의 원리를 설명하기 위한 전자파의 방사의 시기와 검출의 시기를 나타내는 타이밍 차트이다.
도 6은, 제 2 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치의 개략 구성을 나타내는 구성도이다.
도 7은, 도 6의 분리부를 분리 상태로 전환한 경우의 전자파의 진행 방향을 설명하기 위한, 전자파 검출 장치의 상태도이다.
도 8은, 제 1 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치의 변형례의 개략 구성을 나타내는 구성도이다.
도 9는, 도 8의 분리부를 비분리 상태로 전환한 경우의 전자파의 진행 방향을 설명하기 위한, 전자파 검출 장치의 상태도이다.
이하, 본 발명을 적용한 전자파 검출 장치의 실시형태에 대하여, 도면을 참조하여 설명한다. 전자파를 검출하는 복수의 검출기에 의해 전자파를 검출하는 구성에 있어서, 각 검출부의 검출축이 상이하다. 그 때문에, 각 검출기가 동일 영역을 대상으로 한 검출을 행했다고 해도, 검출 결과에 있어서의 좌표계가 각각의 검출부에서 상이하다. 그래서, 각 검출부에 의한 검출 결과에 있어서의 좌표계의 차이를 저감하는 것은 유익하다. 그러나, 당해 차이를 보정에 의해 저감하는 것은 불가능 또는 곤란하다. 그래서, 본 발명을 적용한 전자파 검출 장치는, 각 검출부에 있어서의 검출축의 차이를 저감할 수 있도록 구성됨으로써, 각 검출부에 의한 검출 결과에 있어서의 좌표계의 차이를 저감할 수 있다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 본 개시의 제 1 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치(10)를 포함하는 전자파 검출 시스템(11)은, 전자파 검출 장치(10), 조사부(12), 반사부(13), 및 제어부(14)를 포함하여 구성되어 있다.
이후의 도면에 있어서, 각 기능 블록을 연결하는 파선은, 제어 신호 또는 통신되는 정보의 흐름을 나타낸다. 파선이 나타내는 통신은 유선 통신이어도 되고, 무선 통신이어도 된다. 또한, 각 기능 블록으로부터 돌출하는 실선은, 빔 형상의 전자파를 나타낸다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 전자파 검출 장치(10)는, 전단(前段) 광학계(15), 분리부(16), 제 1 검출부(17), 전환부(18), 제 1 후단 광학계(19), 제 2 검출부(20), 제 2 후단 광학계(21), 및 제 3 검출부(22)를 가지고 있다.
전단 광학계(15)는, 예를 들면, 렌즈 및 미러 중 적어도 일방을 포함하고, 피사체가 되는 대상(ob)의 상(像)을 결상(結像)시킨다.
분리부(16)는, 전단 광학계(15)와, 전단 광학계(15)로부터 소정의 위치를 두고 떨어진 대상(ob)의 상의, 전단 광학계(15)에 의한 결상 위치인 1차 결상 위치의 사이에 마련되어 있다. 분리부(16)는, 분리 상태 및 비분리 상태로 전환 가능하다. 분리부(16)는, 분리 상태에서, 입사하는 전자파를 제 1 방향(d1) 및 제 2 방향(d2)으로 진행하도록 분리한다. 분리부(16)는, 비분리 상태(일점 쇄선 참조)에서, 입사하는 전자파를 제 2 방향(d2)으로 진행시킨다.
분리부(16)는 분리면을 가지고 있다. 분리부(16)는, 입사하는 전자파, 환언하면, 전단 광학계(15)를 통과한 전자파의 진행로의 위에 위치하지 않는 상태 및 위치하는 상태의 사이에서 분리면을 전환 가능하다. 분리부(16)는, 분리면을 진행로의 위에 위치하지 않는 상태로부터 위치하는 상태로 전환함으로써, 비분리 상태로부터 분리 상태로 전환된다. 또한, 분리부(16)는, 분리면을 진행로의 위에 위치하는 상태로부터 위치하지 않는 상태로 전환함으로써, 분리 상태로부터 비분리 상태로 전환된다.
제 1 실시형태에 있어서, 분리부(16)는, 더 상세하게는, 전자파의 진행로의 밖 및 당해 진행로의 위와의 사이에서 분리면을 이동시킴으로써, 전자파의 진행로의 위에 위치하지 않는 상태 및 위치하는 상태의 사이에서 분리면을 전환 가능하다. 분리부(16)는, 분리면을 진행로의 밖으로부터 진행로의 위로 이동시킴으로써, 비분리 상태로부터 분리 상태로 전환된다. 또한, 분리부(16)는, 분리면을 진행로의 위로부터 진행로의 밖으로 이동시킴으로써, 분리 상태로부터 비분리 상태로 전환된다.
분리부(16)는, 예를 들면, 진행로의 밖에서, 전단 광학계(15)의 광축에 수직한 방향으로 연장되는 직선을 축으로 분리면을 회동(回動) 가능하게 축 지지되어 있다. 분리면은, 분리부(16)를 당해 직선을 축으로 회동시킴으로써, 전자파의 진행로의 밖 및 당해 진행로의 위와의 사이에서 이동할 수 있다. 또는, 분리부(16)는, 예를 들면, 도 3에 나타내는 바와 같이, 분리면에 평행하게 변위 가능하게 지지되어 있다. 분리면은, 분리부(16)를 변위시킴으로써, 전자파의 진행로의 밖 및 당해 진행로의 위와의 사이에서 이동할 수 있다.
제 1 실시형태에 있어서는, 분리부(16)는, 분리 상태에서, 입사하는 전자파의 일부를 제 1 방향(d1)으로 반사하고, 전자파의 다른 일부를 제 2 방향(d2)으로 투과한다. 분리부(16)는, 입사하는 전자파의 일부를 제 1 방향(d1)으로 투과하고, 전자파의 다른 일부를 제 2 방향(d2)으로 투과해도 된다. 또한, 분리부(16)는, 입사하는 전자파의 일부를 제 1 방향(d1)으로 굴절시키고, 전자파의 다른 일부를 제 2 방향(d2)으로 굴절시켜도 된다. 분리부(16)는, 예를 들면, 하프 미러, 빔 스플리터, 다이크로익 미러, 콜드 미러, 핫 미러, 메타 서피스, 편향 소자, 및 프리즘 등이다.
제 1 검출부(17)는, 분리부(16)로부터 제 1 방향(d1)으로 진행하는 전자파의 경로 상에 마련되어 있다. 또한, 제 1 검출부(17)는, 전단 광학계(15)로부터 소정의 위치를 두고 떨어진 대상(ob)의 상의, 분리부(16)로부터 제 1 방향(d1)에 있어서의 전단 광학계(15)에 의한 결상 위치 또는 당해 결상 위치 근방에 마련되어 있다. 제 1 검출부(17)는, 분리부(16)로부터 제 1 방향(d1)으로 진행한 전자파를 검출한다.
또한, 제 1 검출부(17)는, 분리부(16)로부터 제 1 방향(d1)으로 진행하는 전자파의 제 1 진행축이, 제 1 검출부(17)의 제 1 검출축에 평행해지도록, 분리부(16)에 대하여 배치되어 있어도 된다. 제 1 진행축은, 분리부(16)로부터 제 1 방향(d1)으로 진행하는, 방사상으로 넓어지면서 전파되는 전자파의 중심축이다. 제 1 실시형태에 있어서는, 제 1 진행축은, 전단 광학계(15)의 광축을 분리부(16)까지 연장시키고, 분리부(16)에 있어서 제 1 방향(d1)에 평행해지도록 절곡한 축이다. 제 1 검출축은, 제 1 검출부(17)의 검출면의 중심을 지나고, 당해 검출면에 수직한 축이다.
또한, 제 1 검출부(17)는, 제 1 진행축 및 제 1 검출축의 간격이 제 1 간격 문턱값 이하가 되도록 배치되어 있어도 된다. 또한, 제 1 검출부(17)는, 제 1 진행축 및 제 1 검출축이 일치하도록 배치되어 있어도 된다. 제 1 실시형태에 있어서는, 제 1 검출부(17)는, 제 1 진행축 및 제 1 검출축이 일치하도록 배치되어 있다.
또한, 제 1 검출부(17)는, 제 1 진행축과, 제 1 검출부(17)의 검출면이 이루는 제 1 각도가 제 1 각도 문턱값 이하 또는 소정의 각도가 되도록, 분리부(16)에 대하여 배치되어 있어도 된다. 제 1 실시형태에 있어서는, 제 1 검출부(17)는, 전술과 같이, 제 1 각도가 90°가 되도록 배치되어 있다.
제 1 실시형태에 있어서, 제 1 검출부(17)는 패시브 센서이다. 제 1 실시형태에 있어서, 제 1 검출부(17)는, 더 구체적으로는, 소자 어레이를 포함한다. 예를 들면, 제 1 검출부(17)는, 이미지 센서 또는 이미징 어레이 등의 촬상 소자를 포함하고, 검출면에서 결상한 전자파에 의한 상을 촬상하여, 촬상한 대상(ob)에 상당하는 화상 정보를 생성한다.
또한, 제 1 실시형태에 있어서, 제 1 검출부(17)는, 더 구체적으로는 가시광의 상을 촬상한다. 제 1 검출부(17)는, 생성한 화상 정보를 신호로서 제어부(14)에 송신한다.
또한, 제 1 검출부(17)는, 적외선, 자외선, 및 전파의 상 등, 가시광 이외의 상을 촬상해도 된다. 또한, 제 1 검출부(17)는 측거 센서를 포함하고 있어도 된다. 이 구성에 있어서, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출부(17)에 의해 화상 형상의 거리 정보를 취득할 수 있다. 또한, 제 1 검출부(17)는 서모 센서 등을 포함하고 있어도 된다. 이 구성에 있어서, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출부(17)에 의해 화상 형상의 온도 정보를 취득할 수 있다.
전환부(18)는, 분리부(16)로부터 제 2 방향(d2)으로 진행하는 전자파의 경로 상에 마련되어 있다. 또한, 전환부(18)는, 전단 광학계(15)로부터 소정의 위치를 두고 떨어진 대상(ob)의 상의, 분리부(16)로부터 제 2 방향(d2)에 있어서의 전단 광학계(15)에 의한 1차 결상 위치 또는 당해 1차 결상 위치 근방에 마련되어 있다.
제 1 실시형태에 있어서는, 전환부(18)는, 당해 결상 위치에 마련되어 있다. 전환부(18)는, 전단 광학계(15) 및 분리부(16)를 통과한 전자파가 입사하는 작용면(as)을 가지고 있다. 작용면(as)은, 2차원 형상을 따라 나열되는 복수의 전환 소자(se)에 의해 구성되어 있다. 작용면(as)은, 후술하는 제 1 상태 및 제 2 상태 중 적어도 어느 것에 있어서, 전자파에, 예를 들면, 반사 및 투과 등의 작용을 발생시키는 면이다.
전환부(18)는, 작용면(as)에 입사하는 전자파를, 제 3 방향(d3)으로 진행시키는 제 1 상태와, 제 4 방향(d4)으로 진행시키는 제 2 상태로, 전환 소자(se)마다 전환 가능하다. 제 1 실시형태에 있어서, 제 1 상태는, 작용면(as)에 입사하는 전자파를, 제 3 방향(d3)으로 반사하는 제 1 반사 상태이다. 또한, 제 2 상태는, 작용면(as)에 입사하는 전자파를, 제 4 방향(d4)으로 반사하는 제 2 반사 상태이다.
제 1 실시형태에 있어서, 전환부(18)는, 더 구체적으로는, 전환 소자(se)마다 전자파를 반사하는 반사면을 포함하고 있다. 전환부(18)는, 전환 소자(se)마다의 반사면의 방향을 변경함으로써, 제 1 반사 상태 및 제 2 반사 상태를 전환 소자(se)마다 전환한다.
제 1 실시형태에 있어서, 전환부(18)는, 예를 들면 DMD(Digital Micro mirror Device:디지털 마이크로 미러 디바이스)를 포함한다. DMD는, 작용면(as)을 구성하는 미소한 반사면을 구동함으로써, 전환 소자(se)마다 당해 반사면을 작용면(as)에 대하여 +12° 및 -12° 중 어느 경사 상태로 전환 가능하다. 또한, 작용면(as)은, DMD에 있어서의 미소한 반사면을 탑재하는 기판의 판면에 평행하다.
전환부(18)는, 후술하는 제어부(14)의 제어에 기초하여, 제 1 상태 및 제 2 상태를, 전환 소자(se)마다 전환한다. 예를 들면, 도 4에 나타내는 바와 같이, 전환부(18)는, 동시에, 일부의 전환 소자(se1)를 제 1 상태로 전환함으로써 당해 전환 소자(se1)에 입사하는 전자파를 제 3 방향(d3)으로 진행시킬 수 있고, 다른 일부의 전환 소자(se2)를 제 2 상태로 전환함으로써 당해 전환 소자(se2)에 입사하는 전자파를 제 4 방향(d4)으로 진행시킬 수 있다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 제 1 후단 광학계(19)는, 전환부(18)로부터 제 3 방향(d3)에 마련되어 있다. 제 1 후단 광학계(19)는, 예를 들면, 렌즈 및 미러 중 적어도 일방을 포함한다. 제 1 후단 광학계(19)는, 전환부(18)에서 진행 방향이 전환된 전자파로서의 대상(ob)의 상을 결상시킨다.
제 2 검출부(20)는, 전환부(18)에 의한 제 3 방향(d3)으로 진행한 후에 제 1 후단 광학계(19)를 경유하여 진행하는 전자파의 경로 상에 마련되어 있다. 제 2 검출부(20)는, 제 1 후단 광학계(19)를 경유한 전자파, 즉 제 3 방향(d3)으로 진행한 전자파를 검출한다.
또한, 제 2 검출부(20)는, 전환부(18)와 함께, 분리부(16)로부터 제 2 방향(d2)으로 진행하여 전환부(18)에 의해 제 3 방향(d3)으로 진행 방향이 전환된 전자파의 제 2 진행축이, 제 2 검출부(20)의 제 2 검출축에 평행해지도록, 분리부(16)에 대하여 배치되어 있어도 된다. 제 2 진행축은, 전환부(18)로부터 제 3 방향(d3)으로 진행하는, 방사상으로 넓어지면서 전파되는 전자파의 중심축이다. 제 1 실시형태에 있어서는, 제 2 진행축은, 전단 광학계(15)의 광축을 전환부(18)까지 연장시키고, 전환부(18)에서 제 3 방향(d3)에 평행해지도록 절곡한 축이다. 제 2 검출축은, 제 2 검출부(20)의 검출면의 중심을 지나고, 당해 검출면에 수직한 축이다.
또한, 제 2 검출부(20)는, 전환부(18)와 함께, 제 2 진행축 및 제 2 검출축의 간격이 제 2 간격 문턱값 이하가 되도록 배치되어 있어도 된다. 또한, 제 2 간격 문턱값은, 제 1 간격 문턱값과 동일한 값이어도 상이한 값이어도 된다. 또한, 제 2 검출부(20)는, 제 1 검출부(17) 및 전환부(18)와 함께, 제 1 진행축 및 제 1 검출축의 간격과, 제 2 진행축 및 제 2 검출축의 간격과의 차가 소정의 간격차(예를 들면, 제 1 검출부(17) 및 제 2 검출부(20)의 검출면의 직경) 이하가 되도록 배치되어 있어도 된다. 또한, 제 2 검출부(20)는, 제 2 진행축 및 제 2 검출축이 일치하도록 배치되어 있어도 된다. 제 1 실시형태에 있어서는, 제 2 검출부(20)는, 제 2 진행축 및 제 2 검출축이 일치하도록 배치되어 있다.
또한, 제 2 검출부(20)는, 전환부(18)와 함께, 제 2 진행축과, 제 2 검출부(20)의 검출면이 이루는 제 2 각도가 제 2 각도 문턱값 이하 또는 소정의 각도가 되도록, 분리부(16)에 대하여 배치되어 있어도 된다. 또한, 제 2 각도 문턱값은, 제 1 각도 문턱값과 동일한 값이어도 상이한 값이어도 된다. 또한, 제 2 검출부(20)는, 제 1 검출부(17) 및 전환부(18)와 함께, 제 1 각도와 제 2 각도의 차가 소정의 각도차 이하가 되도록(예를 들면, 샤인 프루프의 원리를 충족시키도록) 배치되어도 된다. 제 1 실시형태에 있어서는, 제 2 검출부(20)는, 전술과 같이, 제 2 각도가 90°가 되도록 배치되어 있다.
제 1 실시형태에 있어서, 제 2 검출부(20)는, 조사부(12)로부터 대상(ob)을 향하여 조사된 전자파의 당해 대상(ob)으로부터의 반사파를 검출하는 액티브 센서이다. 또한, 제 1 실시형태에 있어서, 제 2 검출부(20)는, 조사부(12)로부터 조사되고 또한 반사부(13)에 의해 반사됨으로써 대상(ob)을 향하여 조사된 전자파의 당해 대상(ob)으로부터의 반사파를 검출한다. 후술하는 바와 같이, 조사부(12)로부터 조사되는 전자파는 적외선, 가시광선, 자외선, 및 전파 중 적어도 어느 것이며, 제 2 검출부(20)는, 제 1 검출부(17)와는 이종 또는 동종의 전자파를 검출한다.
제 1 실시형태에 있어서, 제 2 검출부(20)는, 더 구체적으로는, 측거 센서를 구성하는 소자를 포함한다. 예를 들면, 제 2 검출부(20)는, APD(Avalanche PhotoDiode), PD(PhotoDiode) 및 측거 이미지 센서 등의 단일의 소자를 포함한다. 또한, 제 2 검출부(20)는, APD 어레이, PD 어레이, 측거 이미징 어레이, 및 측거 이미지 센서 등의 소자 어레이를 포함하는 것이어도 된다.
제 1 실시형태에 있어서, 제 2 검출부(20)는, 피사체로부터의 반사파를 검출한 것을 나타내는 검출 정보를 신호로서 제어부(14)에 송신한다. 제 2 검출부(20)는, 더 구체적으로는, 적외선 대역의 전자파를 검출한다.
또한, 제 2 검출부(20)는, 상술한 측거 센서를 구성하는 단일의 소자인 구성에 있어서, 전자파를 검출할 수 있으면 되고, 검출면에서 결상될 필요는 없다. 그 때문에, 제 2 검출부(20)는, 제 1 후단 광학계(19)에 의한 결상 위치인 2차 결상 위치에 마련되지 않아도 된다. 즉, 이 구성에 있어서, 제 2 검출부(20)는, 모든 화각으로부터의 전자파가 검출면 상에 입사 가능한 위치라면, 전환부(18)에 의해 제 3 방향(d3)으로 진행한 후에 제 1 후단 광학계(19)를 경유하여 진행하는 전자파의 경로 상의 어디에 배치되어도 된다.
제 2 후단 광학계(21)는, 전환부(18)로부터 제 4 방향(d4)에 마련되어 있다. 제 2 후단 광학계(21)는, 예를 들면, 렌즈 및 미러 중 적어도 일방을 포함한다. 제 2 후단 광학계(21)는, 전환부(18)에서 진행 방향이 전환된 전자파로서의 대상(ob)의 상을 결상시킨다.
제 3 검출부(22)는, 전환부(18)에 의한 제 4 방향(d4)으로 진행한 후에 제 2 후단 광학계(21)를 경유하여 진행하는 전자파의 경로 상에 마련되어 있다. 제 3 검출부(22)는, 제 2 후단 광학계(21)를 경유한 전자파, 즉 제 4 방향(d4)으로 진행한 전자파를 검출한다.
또한, 제 3 검출부(22)는, 전환부(18)와 함께, 분리부(16)로부터 제 2 방향(d2)으로 진행하여 전환부(18)에 의해 제 4 방향(d4)으로 진행 방향이 전환된 전자파의 제 3 진행축이, 제 3 검출부(22)의 제 3 검출축에 평행해지도록, 분리부(16)에 대하여 배치되어 있어도 된다. 제 3 진행축은, 전환부(18)로부터 제 4 방향(d4)으로 진행하는, 방사상으로 넓어지면서 전파하는 전자파의 중심축이다. 제 1 실시형태에 있어서는, 제 3 진행축은, 전단 광학계(15)의 광축을 전환부(18)까지 연장시키고, 전환부(18)에서 제 4 방향(d4)에 평행해지도록 절곡한 축이다. 제 3 검출축은, 제 3 검출부(22)의 검출면의 중심을 지나고, 당해 검출면에 수직한 축이다.
또한, 제 3 검출부(22)는, 전환부(18)와 함께, 제 3 진행축 및 제 3 검출축의 간격이 제 3 간격 문턱값 이하가 되도록 배치되어 있어도 된다. 또한, 제 3 간격 문턱값은, 제 1 간격 문턱값 또는 제 2 간격 문턱값과 동일한 값이어도 상이한 값이어도 된다. 또한, 제 3 검출부(22)는, 제 1 검출부(17), 전환부(18), 및 제 2 검출부(20)와 함께, 제 1 진행축 및 제 1 검출축의 간격, 및 제 2 진행축 및 제 2 검출축의 간격과, 제 3 진행축 및 의 간격과의 차가 소정의 간격차 이하가 되도록 배치되어 있어도 된다. 또한, 제 3 검출부(22)는, 제 3 진행축 및 제 3 검출축이 일치하도록 배치되어 있어도 된다. 제 1 실시형태에 있어서는, 제 3 검출부(22)는, 제 3 진행축 및 제 3 검출축이 일치하도록 배치되어 있다.
또한, 제 3 검출부(22)는, 전환부(18)와 함께, 제 3 진행축과, 제 3 검출부(22)의 검출면이 이루는 제 3 각도가 제 3 각도 문턱값 이하 또는 소정의 각도가 되도록, 분리부(16)에 대하여 배치되어 있어도 된다. 또한, 제 3 각도 문턱값은, 제 1 각도 문턱값 또는 제 2 각도 문턱값과 동일한 값이어도 상이한 값이어도 된다. 또한, 제 3 검출부(22)는, 제 1 검출부(17), 전환부(18), 및 제 2 검출부(20)와 함께, 제 1 각도 및 제 2 각도와, 제 3 각도와의 차가 소정의 각도차 이하가 되도록 배치되어도 된다. 제 1 실시형태에 있어서는, 제 3 검출부(22)는, 전술과 같이, 제 3 각도가 90°가 되도록 배치되어 있다.
제 1 실시형태에 있어서, 제 3 검출부(22)는 패시브 센서이다. 제 3 검출부(22)는, 제 1 검출부(17)와는 이종 또는 동종이고, 제 2 검출부(20)와는 이종 또는 동종의 전자파를 검출한다. 제 1 실시형태에 있어서, 제 3 검출부(22)는, 더 구체적으로는, 소자 어레이를 포함한다. 예를 들면, 제 3 검출부(22)는, 서모 센서를 포함하고, 검출면에서 결상한 전자파에 의한 온도를 검출하여, 대상(ob)의 화상 형상의 온도 정보를 생성한다. 제 3 검출부(22)는, 생성한 온도 정보를 신호로서 제어부(14)에 송신한다.
또한, 제 3 검출부(22)는, 가시광, 자외선, 및 전파의 상 등, 적외선 이외의 상을 검출해도 된다. 또한, 제 3 검출부(22)는 이미지 센서를 포함하고 있어도 된다. 이 구성에 있어서, 전자파 검출 장치(10)는, 제 3 검출부(22)에 의해 화상 정보를 취득할 수 있다. 또한, 제 3 검출부(22)에 의해 화상 정보를 취득하는 구성에 있어서는, 예를 들면, HDR(High Dynamic Range) 화상을 합성하기 위하여 제 1 검출부(17)와 상이한 노광 시간으로 화상 정보를 취득시킬 수 있다. 또한, 제 3 검출부(22)는 측거 센서 등을 포함하고 있어도 된다. 이 구성에 있어서, 전자파 검출 장치(10)는, 제 3 검출부(22)에 의해 화상 형상의 거리 정보를 취득할 수 있다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 조사부(12)는, 적외선, 가시광선, 자외선, 및 전파 중 적어도 어느 것을 방사한다. 제 1 실시형태에 있어서, 조사부(12)는 적외선을 방사한다. 조사부(12)는, 방사하는 전자파를, 대상(ob)을 향하여, 직접 또는 반사부(13)를 개재하여 간접적으로 조사한다. 제 1 실시형태에 있어서는, 조사부(12)는, 방사하는 전자파를, 대상(ob)을 향하여, 반사부(13)를 개재하여 간접적으로 조사한다.
제 1 실시형태에 있어서는, 조사부(12)는, 폭이 좁은, 예를 들면 0.5°의 빔 형상의 전자파를 방사한다. 또한, 제 1 실시형태에 있어서, 조사부(12)는 전자파를 펄스 형상으로 방사 가능하다. 예를 들면, 조사부(12)는, LED(Light Emitting Diode) 및 LD(Laser Diode) 등을 포함한다. 조사부(12)는, 후술하는 제어부(14)의 제어에 기초하여, 전자파의 방사 및 정지를 전환한다.
반사부(13)는, 조사부(12)로부터 방사된 전자파를, 방향을 바꾸면서 반사함으로써, 대상(ob)에 조사되는 전자파의 조사 위치를 변경한다. 즉, 반사부(13)는, 조사부(12)로부터 방사되는 전자파에 의해, 대상(ob)을 주사한다. 따라서, 제 1 실시형태에 있어서, 제 2 검출부(20)는, 반사부(13)와 협동하여, 주사형의 측거 센서를 구성한다. 또한, 반사부(13)는, 1차원 방향 또는 2차원 방향으로 대상(ob)을 주사한다. 제 1 실시형태에 있어서는, 반사부(13)는, 2차원 방향으로 대상(ob)을 주사한다.
반사부(13)는, 조사부(12)로부터 방사되어 반사한 전자파의 조사 영역의 적어도 일부가, 전자파 검출 장치(10)에 있어서의 전자파의 검출 범위에 포함되도록 구성되어 있다. 따라서, 반사부(13)를 개재하여 대상(ob)에 조사되는 전자파의 적어도 일부는, 전자파 검출 장치(10)에서 검출될 수 있다.
또한, 제 1 실시형태에 있어서, 반사부(13)는, 조사부(12)로부터 방사되고 또한 반사부(13)에 반사한 전자파의 조사 영역의 적어도 일부가, 제 2 검출부(20)에 있어서의 검출 범위에 포함되도록 구성되어 있다. 따라서, 제 1 실시형태에 있어서, 반사부(13)를 개재하여 대상(ob)에 조사되는 전자파의 적어도 일부는, 제 2 검출부(20)에 의해 검출될 수 있다.
반사부(13)는, 예를 들면, MEMS(Micro Electro Mechanical Systems) 미러, 폴리곤 미러, 및 갈바노 미러 등을 포함한다. 제 1 실시형태에 있어서는, 반사부(13)는, MEMS 미러를 포함한다.
반사부(13)는, 후술하는 제어부(14)의 제어에 기초하여, 전자파를 반사하는 방향을 바꾼다. 또한, 반사부(13)는, 예를 들면 인코더 등의 각도 센서를 가져도 되고, 각도 센서가 검출하는 각도를, 전자파를 반사하는 방향 정보로서, 제어부(14)에 통지해도 된다. 이와 같은 구성에 있어서, 제어부(14)는, 반사부(13)로부터 취득하는 방향 정보에 기초하여, 조사 위치를 산출할 수 있다. 또한, 제어부(14)는, 반사부(13)에 전자파를 반사하는 방향을 바꾸게 하기 위하여 입력하는 구동 신호에 기초하여 조사 위치를 산출할 수 있다.
제어부(14)는, 1 이상의 프로세서 및 메모리를 포함한다. 프로세서는, 특정한 프로그램을 판독하게 하여 특정한 기능을 실행하는 범용의 프로세서, 및 특정한 처리에 특화된 전용의 프로세서 중 적어도 어느 것을 포함해도 된다. 전용의 프로세서는, 특정 용도용 IC(ASIC; Application Specific Integrated Circuit)를 포함해도 된다. 프로세서는, 프로그래머블 로직 디바이스(PLD; Programmable Logic Device)를 포함해도 된다. PLD는, FPGA(Field-Programmable Gate Array)를 포함해도 된다. 제어부(14)는, 1개 또는 복수의 프로세서가 협동하는 SoC(System-on-a-Chip), 및 SiP(System In a Package) 중 적어도 어느 것을 포함해도 된다.
제어부(14)는, 제 1 검출부(17), 제 2 검출부(20), 및 제 3 검출부(22)가 각각 검출한 전자파에 기초하여, 전자파 검출 장치(10)의 주위에 관한 정보를 취득한다. 주위에 관한 정보는, 예를 들면 화상 정보, 거리 정보, 및 온도 정보 등이다. 제 1 실시형태에 있어서, 제어부(14)는, 전술과 같이, 제 1 검출부(17)가 화상으로서 검출한 전자파를 화상 정보로서 취득한다. 또한, 제 1 실시형태에 있어서, 제어부(14)는, 제 2 검출부(20)가 검출하는 검출 정보에 기초하여, 이하에 설명하는 바와 같이, ToF(Time-of-Flight) 방식에 의해, 조사부(12)에 조사되는 조사 위치의 거리 정보를 취득한다. 또한, 제 1 실시형태에 있어서, 제어부(14)는, 제 3 검출부(22)가 검출한 전자파를 온도 정보로서 취득한다.
도 5에 나타내는 바와 같이, 제어부(14)는, 조사부(12)에 전자파 방사 신호를 입력함으로써, 조사부(12)에 펄스 형상의 전자파를 방사시킨다("전자파 방사 신호"란 참조). 조사부(12)는, 입력된 당해 전자파 방사 신호에 기초하여 전자파를 조사한다("조사부 방사량"란 참조). 조사부(12)가 방사하고 또한 반사부(13)가 반사하여 임의의 조사 영역에 조사된 전자파는, 당해 조사 영역에서 반사한다. 제어부(14)는, 당해 조사 영역의 반사파의 전단 광학계(15)에 의한 전환부(18)에 있어서의 결상 영역 중의 적어도 일부의 전환 소자(se)를 제 1 상태로 전환하고, 다른 전환 소자(se)를 제 2 상태로 전환한다. 그리고, 제 2 검출부(20)는, 당해 조사 영역에서 반사된 전자파를 검출할 때("전자파 검출량"란 참조), 전술과 같이, 검출 정보를 제어부(14)에 통지한다.
제어부(14)는, 예를 들면, 시간 계측 LSI(Large Scale Integrated circuit)를 가지고 있고, 조사부(12)에 전자파를 방사시킨 시기 T1로부터, 검출 정보를 취득("검출 정보 취득"란 참조)한 시기 T2까지의 시간(ΔT)을 계측한다. 제어부(14)는, 당해 시간(ΔT)에, 광속을 곱하고, 또한 2로 나눔으로써, 조사 위치까지의 거리를 산출한다. 또한, 제어부(14)는, 상술과 같이, 반사부(13)로부터 취득하는 방향 정보, 또는 자신이 반사부(13)에 출력하는 구동 신호에 기초하여, 조사 위치를 산출한다. 제어부(14)는, 조사 위치를 바꾸면서, 각 조사 위치까지의 거리를 산출함으로써, 화상 형상의 거리 정보를 작성한다.
또한, 제 1 실시형태에 있어서, 전자파 검출 시스템(11)은, 상술과 같이, 레이저광을 조사하여, 돌아올 때까지의 시간을 직접 측정하는 Direct ToF에 의해 거리 정보를 작성하는 구성이다. 그러나, 전자파 검출 시스템(11)은, 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 전자파 검출 시스템(11)은, 전자파를 일정한 주기로 조사하고, 조사된 전자파와 돌아온 전자파의 위상차로부터, 돌아올 때까지의 시간을 간접적으로 측정하는 Flash ToF에 의해 거리 정보를 작성해도 된다. 또한, 전자파 검출 시스템(11)은, 다른 ToF 방식, 예를 들면, Phased ToF에 의해 거리 정보를 작성해도 된다.
이상과 같은 구성의 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 입사하는 전자파를 제 1 방향(d1) 및 제 2 방향(d2)으로 진행하도록 분리하고, 또한 제 2 방향(d2)으로 진행시킨 전자파의 진행 방향을 제 3 방향(d3)으로 전환 가능하다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 전단 광학계(15)의 광축을, 제 1 방향(d1)으로 진행시킨 전자파의 중심축인 제 1 진행축에, 또한 제 3 방향(d3)으로 진행시킨 전자파의 중심축인 제 2 진행축에 맞추는 것이 가능해진다. 따라서, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출부(17) 및 제 2 검출부(20)의 광축의 어긋남을 저감할 수 있다. 이에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출축 및 제 2 검출축의 어긋남을 저감할 수 있다. 그 때문에, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출부(17) 및 제 2 검출부(20)에 의한 검출 결과에 있어서의 좌표계의 어긋남을 저감할 수 있다. 또한, 이와 같은 구성 및 효과는, 후술하는 제 2 실시형태의 전자파 검출 장치에 대해서도 동일하다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)에서는, 입사하는 전자파를 제 1 방향(d1) 및 제 2 방향(d2)으로 진행하도록 분리하는 분리 상태와, 분리시키지 않는 비분리 상태를 전환 가능하다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 비분리 상태로 전환함으로써, 분리 상태에 있어서의 광량의 저하를 방지할 수 있다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)에서는, 입사하는 전자파는, 비분리 상태에서 제 2 방향(d2)으로 진행한다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 비분리 상태로 전환함으로써, 입사하는 전자파의 분리부(16)에 의한 강도한 저하를 저감시킬 수 있다. 따라서, 전자파 검출 장치(10)는, 예를 들면, 제 2 검출부(20) 또는 제 3 검출부(22)에 있어서의 전자파의 검출을 고감도로 행하는 것이 요망되는 상황에 있어서, 조사부(12)로부터 방사하는 전자파의 강도를 올리지 않고 검출할 수 있다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 전환부(18)에 있어서의 일부의 전환 소자(se)를 제 1 상태로 전환하고, 또한 다른 일부의 전환 소자(se)를 제 2 상태로 전환할 수 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 각 전환 소자(se)에 입사하는 전자파를 출사하는 대상(ob)의 부분마다의 전자파에 기초한 정보를 제 2 검출부(20)에 검출시킬 수 있다. 또한, 이와 같은 구성 및 효과는, 후술하는 제 2 실시형태의 전자파 검출 장치에 대해서도 동일하다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 전환부(18)로부터 제 4 방향(d4)으로 진행한 전자파를 검출하는 제 3 검출부(22)를 가지고 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 전단 광학계(15)의 광축을, 제 1 방향(d1)으로 진행시킨 전자파의 중심축인 제 1 진행축에, 제 3 방향(d3)으로 진행시킨 전자파의 중심축인 제 2 진행축에, 또한 제 4 방향(d4)으로 진행시킨 전자파의 중심축인 제 3 진행축에 맞추는 것이 가능해진다. 따라서, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출부(17), 제 2 검출부(20), 및 제 3 검출부(22)의 광축의 어긋남을 저감할 수 있다. 이에 의해, 전자파 검출 장치(100)는, 제 1 검출축, 제 2 검출축, 및 제 3 검출축의 어긋남을 저감할 수 있다. 그 때문에, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출부(17), 제 2 검출부(20), 및 제 3 검출부(22)에 의한 검출 결과에 있어서의 좌표계의 어긋남을 저감할 수 있다.
또한, 제 2 실시형태의 전자파 검출 장치(100)는, 전환부(180)에 있어서의 일부의 전환 소자(se)를 제 1 상태로 전환하고, 또한 다른 일부의 전환 소자(se)를 제 2 상태로 전환할 수 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(100)는, 일부의 전환 소자(se)에 제 2 검출부(20)를 향하여 전자파를 진행시키면서, 동시에 다른 일부의 전환 소자(se)에 제 3 검출부(220)를 향하여 전자파를 진행시킬 수 있다. 따라서, 전자파 검출 장치(100)는, 상이한 영역에 관한 정보를 동시에 취득할 수 있다. 이와 같이, 전자파 검출 장치(100)는, 예를 들면, 화상 형상의 거리 정보의 취득에 걸리는 시간을 단축할 수 있다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 진행축이 제 1 검출축과 평행해지도록, 제 2 진행축이 제 2 검출축과 평행해지도록, 제 1 검출부(17), 전환부(18), 및 제 2 검출부(20)가 분리부(16)에 대하여 배치되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출축 및 제 2 검출축의 어긋남을 저감함과 함께, 진행축으로부터의 거리에 상관없이 검출면에 있어서의 전자파의 결상 상태를 균질화할 수 있다. 따라서, 전자파 검출 장치(10)는, 제어부(14)에 있어서의 결상 상태의 균질화를 위한 정보 처리를 행하지 않고, 균질한 결상 상태인 주위에 관한 정보를 취득시킬 수 있다. 또한, 이와 같은 구성 및 효과는, 후술하는 제 2 실시형태의 전자파 검출 장치에 대해서도 동일하다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 진행축 및 제 1 검출축의 간격이 제 1 간격 문턱값 이하가 되도록 제 1 검출부(17)는 분리부(16)에 대하여 배치되고, 제 2 진행축 및 제 2 검출축의 간격이 제 2 간격 문턱값 이하가 되도록 전환부(18) 및 제 2 검출부(20)는 분리부(16)에 대하여 배치되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출축 및 제 2 검출축의 어긋남을 더 저감할 수 있다. 또한, 이와 같은 구성 및 효과는, 후술하는 제 2 실시형태의 전자파 검출 장치에 대해서도 동일하다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 진행축 및 제 1 검출축의 간격과, 제 2 진행축 및 제 2 검출축의 간격과의 차가 소정의 간격차 이하가 되도록, 제 1 검출부(17), 전환부(18), 및 제 2 검출부(20)가, 분리부(16)에 대하여 배치되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출축 및 제 2 검출축의 어긋남을 한층 저감할 수 있다. 또한, 이와 같은 구성 및 효과는, 후술하는 제 2 실시형태의 전자파 검출 장치에 대해서도 동일하다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 진행축 및 제 1 검출축이 일치하고, 제 2 진행축 및 제 2 검출축이 일치하도록, 제 1 검출부(17), 전환부(18), 및 제 2 검출부(20)가, 분리부(16)에 대하여 배치되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출축 및 제 2 검출축의 어긋남을 한층 더 저감할 수 있다. 또한, 이와 같은 구성 및 효과는, 후술하는 제 2 실시형태의 전자파 검출 장치에 대해서도 동일하다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 각도가 제 1 각도 문턱값 이하 또는 소정의 각도가 되도록, 또한 제 2 각도가 제 2 각도 문턱값 이하 또는 소정의 각도가 되도록, 제 1 검출부(17), 전환부(18), 및 제 2 검출부(20)가, 분리부(16)에 대하여 배치되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출축 및 제 2 검출축의 어긋남을 저감함과 함께, 진행축으로부터의 거리에 따른 검출면에 있어서의 전자파의 결상 상태의 불균질화를 저감할 수 있다. 따라서, 전자파 검출 장치(10)는, 제어부(14)에 있어서의 결상 상태의 균질화를 위한 정보 처리의 부하를 저감할 수 있다. 또한, 이와 같은 구성 및 효과는, 후술하는 제 2 실시형태의 전자파 검출 장치에 대해서도 동일하다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 각도와 제 2 각도의 차가 소정의 각도차 이하가 되도록, 제 1 검출부(17), 전환부(18), 및 제 2 검출부(20)가 분리부(16)에 대하여 배치되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출부(17) 및 제 2 검출부(20)의 광축의 어긋남을 한층 저감할 수 있다. 또한, 이와 같은 구성 및 효과는, 후술하는 제 2 실시형태의 전자파 검출 장치에 대해서도 동일하다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 제 3 진행축이 제 3 검출축과 평행해지도록, 제 3 검출부(22)는, 전환부(18)와 함께 분리부(16)에 대하여 배치되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출축, 제 2 검출축, 및 제 3 검출축의 어긋남을 저감함과 함께, 제 3 진행축으로부터의 거리에 상관없이 제 3 검출부(22)의 검출면에 있어서의 전자파의 결상 상태를 균질화할 수 있다. 따라서, 전자파 검출 장치(10)는, 제어부(14)에 있어서의 결상 상태의 균질화를 위한 정보 처리를 행하지 않고, 균질한 결상 상태인 주위에 관한 정보를 취득시킬 수 있다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 제 3 진행축 및 제 3 검출축의 간격이 제 3 간격 문턱값 이하가 되도록, 제 3 검출부(22)는, 전환부(18)와 함께 분리부(16)에 대하여 배치되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출축 또는 제 2 검출축에 대한 제 3 검출축의 어긋남을 더 저감시킬 수 있다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 제 3 진행축 및 제 3 검출축의 간격과, 제 1 진행축 및 제 1 검출축의 간격 및 제 2 진행축 및 제 2 검출축의 간격과의 차가 소정의 간격차 이하가 되도록, 제 1 검출부(17), 전환부(18), 제 2 검출부(20), 및 제 3 검출부(22)가, 분리부(16)에 대하여 배치되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출축 및 제 2 검출축에 대한 제 3 검출축의 어긋남을 한층 저감할 수 있다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 제 3 진행축 및 제 3 검출축이 일치하도록, 제 3 검출부(22)가, 전환부(18)와 함께, 분리부(16)에 대하여 배치되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출축 및 제 2 검출축에 대한 제 3 검출축의 어긋남을 한층 더 저감할 수 있다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 제 3 각도가 제 3 각도 문턱값 이하 또는 소정의 각도가 되도록, 제 3 검출부(22)가, 전환부(18)와 함께, 분리부(16)에 대하여 배치되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출축, 제 2 검출축, 및 제 3 검출축의 어긋남을 저감함과 함께, 제 3 진행축으로부터의 거리에 따른 제 3 검출부(22)의 검출면에 있어서의 전자파의 결상 상태의 불균질화를 저감할 수 있다. 따라서, 전자파 검출 장치(10)는, 제어부(14)에 있어서의 결상 상태의 균질화를 위한 정보 처리의 부하를 저감할 수 있다.
또한, 제 1 실시형태의 전자파 검출 장치(10)는, 제 3 각도와 제 1 각도 및 제 2 각도와의 차가 소정의 각도차 이하가 되도록, 제 1 검출부(17), 전환부(18), 제 2 검출부(20), 및 제 3 검출부(22)가 분리부(16)에 대하여 배치되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(10)는, 제 1 검출부(17) 및 제 2 검출부(20)에 대한 제 3 검출부(22)의 광축의 어긋남을 한층 저감할 수 있다.
다음에, 본 개시의 제 2 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치에 대하여 설명한다. 제 2 실시형태에서는, 제 2 후단 광학계의 구성이 제 1 실시형태와 상이하다. 이하에, 제 1 실시형태와 상이한 점을 중심으로 제 2 실시형태에 대하여 설명한다. 또한, 제 1 실시형태와 동일한 구성을 가지는 부위에는 동일한 부호를 붙인다.
도 6에 나타내는 바와 같이, 제 2 실시형태에 관련되는 전자파 검출 장치(100)는, 전단 광학계(15), 분리부(16), 제 1 검출부(17), 전환부(18), 제 1 후단 광학계(19), 제 2 후단 광학계(210), 및 제 2 검출부(20)를 가지고 있다. 또한, 제 2 실시형태에 관련되는 전자파 검출 시스템(11)에 있어서의, 전자파 검출 장치(100) 이외의 구성은, 제 1 실시형태와 동일하다. 제 2 실시형태에 있어서의 전단 광학계(15), 분리부(16), 제 1 검출부(17), 전환부(18), 제 1 후단 광학계(19), 및 제 2 검출부(20)의 구성 및 기능은, 제 1 실시형태와 동일하다.
제 2 실시형태에 있어서, 제 2 후단 광학계(210)는, 제 1 실시형태와 동일하게, 전환부(18)로부터 제 4 방향(d4)에 마련되어 있다. 제 2 후단 광학계(210)는, 적어도 미러를 포함한다. 제 2 후단 광학계(210)는, 렌즈를 포함해도 된다. 제 2 후단 광학계(210)는, 제 1 실시형태와 달리, 전환부(18)에서 진행 방향이 전환된 전자파를, 제 1 검출부(17)를 향하여 반사한다. 또한, 제 2 후단 광학계(210)는, 전환부(18)에서 진행 방향이 전환된 전자파로서의 대상(ob)의 상을, 제 1 검출부(17)에 결상시킨다.
제 2 실시형태에 있어서, 제어부(14)는, 분리부(16)를 비분리 상태로 전환하고 있는 동안, 전환 소자(se)의 제 2 상태로의 전환을 허용하고, 제 4 방향(d4)으로 진행한 전자파를 제 1 검출부(17)에 검출시킨다. 또한, 제어부(14)는, 도 7에 나타내는 바와 같이, 분리부(16)를 분리 상태로 전환하고 있는 동안, 전환 소자(se)의 제 2 상태로의 전환을 금지하고, 작용면(as)에 입사하는 전자파를 제 3 방향(d3)으로만 진행시킨다. 제 2 실시형태에 있어서, 제어부(14)는, 액추에이터 구동 등에 의해, 분리부(16)를 도 6 및 도 7에 나타내는 바와 같이, 비분리 상태와 분리 상태로 전환을 제어한다.
이상과 같이, 제 2 실시형태의 전자파 검출 장치(100)에서는, 제 1 검출부(17)에 제 1 방향(d1)으로 진행한 전자파뿐만 아니라, 제 4 방향(d4)으로 진행한 전자파도 검출할 수 있다. 이와 같은 구성에 의해, 전자파 검출 장치(100)는, 제 3 검출부(22)를 마련하지 않고, 제 1 방향(d1) 및 제 4 방향(d4)으로 진행한 전자파를 검출하여, 각각의 검출 결과에 기초한, 주위에 관한 정보를 취득할 수 있다.
본 발명을 제(諸) 도면 및 실시예에 기초하여 설명했지만, 당업자라면 본 개시에 기초하여 다양한 변형 및 수정을 행하는 것이 용이한 것에 주의하기 바란다. 따라서, 이러한 변형 및 수정은 본 발명의 범위에 포함되는 것에 유의하기 바란다.
예를 들면, 제 1 실시형태 및 제 2 실시형태에 있어서, 분리부(16)는, 전자파의 진행로의 밖 및 당해 진행로의 위와의 사이에서 분리면을 이동시킴으로써, 전자파의 진행로의 위에 위치하지 않는 상태 및 위치하는 상태의 사이에서 분리면을 전환 가능하지만, 분리면의 상태의 전환은, 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 도 8, 9에 나타내는 바와 같이, 발현 상태 및 비발현 상태를 전환 가능한 분리면(ss)를 가지는 분리부(16)를 이용해도, 제 1 실시형태 및 제 2 실시형태와 유사한 효과가 얻어진다. 또한, 발현 상태란, 분리부(16) 내에서 분리면(ss)이 발현되어 있는 상태이다. 비발현 상태란, 분리부(16) 내에서 분리면(ss)이 발현되어 있지 않은 상태이다. 분리부(16)는, 분리면(ss)이 발현되어 있지 않은 비발현 상태로부터 발현되어 있는 발현 상태로 전환함으로써, 비분리 상태로부터 분리 상태로 전환된다. 또한, 분리부(16)는, 분리면(ss)를 발현 상태로부터 비발현 상태로 전환함으로써, 분리 상태로부터 비분리 상태로 전환된다. 이와 같은 분리부(16)로서, 예를 들면, 순간 조광 유리 또는 액정 조광 유리를 들 수 있다.
또한, 제 1 실시형태 및 제 2 실시형태에 있어서 조사부(12), 반사부(13), 및 제어부(14)가, 전자파 검출 장치(10, 100)와 함께 전자파 검출 시스템(11)을 구성하고 있지만, 전자파 검출 장치(10, 100)는, 이들 중 적어도 1개를 포함하여 구성되어도 된다.
또한, 제 1 실시형태에 있어서, 전환부(18)는, 작용면(as)에 입사하는 전자파의 진행 방향을 2방향으로 전환 가능하지만, 2방향 중 어느 것으로의 전환이 아니라, 3 이상의 방향으로 전환 가능해도 된다. 또한, 제 2 실시형태에 있어서, 전환부(180)는, 작용면(as)에 입사하는 전자파의 진행 방향을 3방향으로 전환 가능하지만, 4 이상의 방향으로 전환 가능해도 된다.
또한, 제 1 실시형태의 전환부(18)에서, 제 1 상태 및 제 2 상태는, 작용면(as)에 입사하는 전자파를, 각각, 제 3 방향(d3)으로 반사하는 제 1 반사 상태, 및 제 4 방향(d4)으로 반사하는 제 2 반사 상태이지만, 다른 양태여도 된다.
예를 들면, 제 2 상태가, 작용면(as)에 입사하는 전자파를, 투과시켜 제 2 방향(d2)으로 진행시키는 투과 상태여도 된다. 전환부(18)는, 더 구체적으로는, 전환 소자(se)마다 전자파를 반사하는 반사면을 가지는 셔터를 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 구성의 전환부(18)에 있어서는, 전환 소자(se)마다의 셔터를 개폐함으로써, 제 2 방향(d2)으로 진행한 전자파를, 제 3 방향(d3)으로 투과하는 투과 상태와, 제 4 방향(d4)으로 반사하는 반사 상태로, 전환 소자(se)마다 전환할 수 있다.
이와 같은 구성의 전환부(18)로서, 예를 들면, 개폐 가능한 복수의 셔터가 어레이 형상으로 배열된 MEMS 셔터를 포함하는 전환부를 들 수 있다. 또한, 전환부(18)는, 전자파를 반사하는 반사 상태와 전자파를 투과하는 투과 상태를 액정 배광에 따라 전환 가능한 액정 셔터를 포함하는 전환부를 들 수 있다. 이와 같은 구성의 전환부(18)에 있어서는, 전환 소자(se)마다의 액정 배향을 전환함으로써, 반사 상태 및 투과 상태를 전환 소자(se)마다 전환할 수 있다.
또한, 제 1 실시형태 및 제 2 실시형태에 있어서, 전자파 검출 시스템(11)은, 조사부(12)로부터 방사되는 빔 형상의 전자파를 반사부(13)에 주사시킴으로써, 제 2 검출부(20)를 반사부(13)와 협동시켜 주사형의 액티브 센서로서 기능시키는 구성을 가진다. 그러나, 전자파 검출 시스템(11)은, 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 전자파 검출 시스템(11)은, 반사부(13)를 구비하지 않고, 조사부(12)로부터 방사상의 전자파를 방사시켜, 주사 없이 정보를 취득하는 구성에서도, 제 1 실시형태와 유사한 효과가 얻어진다.
또한, 제 1 실시형태에 있어서, 전자파 검출 시스템(11)은, 제 1 검출부(17) 및 제 3 검출부(22)가 패시브 센서이고, 제 2 검출부(20)가 액티브 센서인 구성을 가진다. 그러나, 전자파 검출 시스템(11)은, 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 전자파 검출 시스템(11)에 있어서, 제 1 검출부(17), 제 2 검출부(20), 및 제 3 검출부(22)가 모두 액티브 센서인 구성에서도, 패시브 센서인 구성에서도 제 1 실시형태와 유사한 효과가 얻어진다. 또한, 제 1 실시형태에 있어서, 예를 들면, 전자파 검출 시스템(11)은, 제 1 검출부(17), 제 2 검출부(20), 및 제 3 검출부(220) 중 어느 2개가 액티브 센서인 구성에서도 제 1 실시형태와 유사한 효과가 얻어진다. 또한, 제 2 실시형태에 있어서, 전자파 검출 시스템(11)은, 제 1 검출부(17)가 패시브 센서이고, 제 2 검출부(20)가 액티브 센서인 구성을 가진다. 그러나, 전자파 검출 시스템(11)은, 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 전자파 검출 시스템(11)에 있어서, 제 1 검출부(17) 및 제 2 검출부(20)가 모두 액티브 센서인 구성에서도, 패시브 센서인 구성에서도 제 2 실시형태와 유사한 효과가 얻어진다.
또한, 여기서는, 특정한 기능을 실행하는 다양한 모듈 및/또는 유닛을 가지는 것으로서의 시스템을 개시하고 있고, 이들 모듈 및 유닛은, 그 기능성을 간략하게 설명하기 위하여 모식적으로 나타내어진 것으로서, 반드시 특정한 하드웨어 및/또는 소프트웨어를 나타내는 것은 아닌 것에 유의하게 바란다. 그 의미에 있어서, 이들 모듈, 유닛, 그 밖의 구성 요소는, 여기에 설명된 특정한 기능을 실질적으로 실행하도록 실장된 하드웨어 및/또는 소프트웨어이면 된다. 상이한 구성 요소의 다양한 기능은, 하드웨어 및/또는 소프트웨어의 어떠한 조합 또는 분리된 것이어도 되고, 각각 따로따로, 또는 어느 것의 조합에 의해 이용할 수 있다. 또한, 키보드, 디스플레이, 터치 스크린, 포인팅 디바이스 등을 포함하지만 이들에 한정되지 않는 입력/출력 또는 I/O 디바이스 또는 사용자 인터페이스는, 시스템에 직접적으로 또는 개재하는 I/O 컨트롤러를 통해 접속할 수 있다. 이와 같이, 본 개시 내용의 다양한 측면은, 많은 상이한 양태로 실시할 수 있고, 그러한 양태는 모두 본 개시 내용의 범위에 포함된다.
10, 100 : 전자파 검출 장치
11 : 전자파 검출 시스템
12 : 조사부
13 : 반사부
14 : 제어부
15 : 전단 광학계
16 : 분리부
17 : 제 1 검출부
18 : 전환부
19 : 제 1 후단 광학계
20 : 제 2 검출부
21, 210 : 제 2 후단 광학계
22 : 제 3 검출부
as : 작용면
d1, d2, d3, d4 : 제 1 방향, 제 2 방향, 제 3 방향, 제 4 방향
ob : 대상
se, se1, se2 : 전환 소자
11 : 전자파 검출 시스템
12 : 조사부
13 : 반사부
14 : 제어부
15 : 전단 광학계
16 : 분리부
17 : 제 1 검출부
18 : 전환부
19 : 제 1 후단 광학계
20 : 제 2 검출부
21, 210 : 제 2 후단 광학계
22 : 제 3 검출부
as : 작용면
d1, d2, d3, d4 : 제 1 방향, 제 2 방향, 제 3 방향, 제 4 방향
ob : 대상
se, se1, se2 : 전환 소자
Claims (25)
- 입사하는 전자파를 제 1 방향 및 제 2 방향으로 진행하도록 분리하는 분리 상태와 분리시키지 않는 비분리 상태로 전환 가능한 분리부와,
상기 제 1 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 1 검출부와,
상기 제 2 방향으로 진행한 전자파의 진행 방향을, 제 3 방향 및 제 4 방향으로 전환 가능한 복수의 전환 소자를 가지는 전환부와,
상기 제 3 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 2 검출부를 구비하는 전자파 검출 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 분리부는, 입사하는 전자파의 일부를 상기 제 1 방향으로 반사하고, 당해 전자파의 다른 일부를 상기 제 2 방향으로 투과하는 전자파 검출 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 분리부는, 입사하는 전자파의 일부를 상기 제 1 방향으로 투과하고, 당해 전자파의 다른 일부를 상기 제 2 방향으로 투과하는 전자파 검출 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 분리부는, 입사하는 전자파의 일부를 상기 제 1 방향으로 굴절시키고, 당해 전자파의 다른 일부를 상기 제 2 방향으로 굴절시키는 전자파 검출 장치. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
입사하는 상기 전자파는, 상기 비분리 상태에서, 상기 제 2 방향으로 진행하는 전자파 검출 장치. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분리부는, 입사하는 전자파를 분리하는 분리면을 가지고,
상기 분리면이, 입사하는 전자파의 진행로의 위에 위치하지 않는 상태로부터 위치하는 상태로 전환됨으로써, 상기 비분리 상태로부터 상기 분리 상태로 전환되고, 상기 진행로의 위에 위치하는 상태로부터 위치하지 않는 상태로 전환됨으로써, 상기 분리 상태로부터 상기 비분리 상태로 전환되는 전자파 검출 장치. - 제 6 항에 있어서,
상기 분리면이, 상기 진행로의 밖으로부터 상기 진행로의 위로 이동함으로써, 상기 비분리 상태로부터 상기 분리 상태로 전환되고, 상기 진행로의 위로부터 상기 진행로의 밖으로 이동함으로써, 상기 분리 상태로부터 상기 비분리 상태로 전환되는 전자파 검출 장치. - 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분리부는, 하프 미러, 빔 스플리터, 다이크로익 미러, 콜드 미러, 핫 미러, 메타 서피스, 편향 소자, 및 프리즘 중 적어도 어느 것을 포함하는 전자파 검출 장치. - 제 6 항에 있어서,
상기 진행로의 위에 있어서, 상기 분리면이 발현되어 있지 않은 상태로부터 발현되어 있는 상태로 전환됨으로써, 상기 비분리 상태로부터 상기 분리 상태로 전환되고, 상기 분리면이 발현되어 있는 상태로부터 발현되어 있지 않은 상태로 전환됨으로써, 상기 분리 상태로부터 상기 비분리 상태로 전환되는 전자파 검출 장치. - 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전환부는, 상기 제 2 방향으로 진행한 전자파를, 상기 제 3 방향으로 반사하는 제 1 반사 상태와, 상기 제 4 방향으로 반사하는 제 2 반사 상태로, 상기 전환 소자마다 전환하는 전자파 검출 장치. - 제 10 항에 있어서,
상기 전환 소자는 전자파를 반사하는 반사면을 가지고,
상기 전환부는, 상기 전환 소자마다, 상기 반사면의 방향을 변경함으로써 상기 제 1 반사 상태와 상기 제 2 반사 상태를 전환하는 전자파 검출 장치. - 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
상기 전환부는, 디지털 마이크로 미러 디바이스를 포함하는 전자파 검출 장치. - 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전환부는, 상기 제 2 방향으로 진행한 전자파를, 상기 제 3 방향으로 투과하는 투과 상태와, 상기 제 4 방향으로 반사시키는 반사 상태로, 상기 전환 소자마다 전환하는 전자파 검출 장치. - 제 13 항에 있어서,
상기 전환 소자는 전자파를 반사하는 반사면을 포함하는 셔터를 가지고,
상기 전환 소자마다, 상기 셔터를 개폐함으로써 상기 반사 상태와 상기 투과 상태를 전환하는 전자파 검출 장치. - 제 14 항에 있어서,
상기 전환부는, 개폐 가능한 복수의 상기 셔터가 어레이 형상으로 배열된 MEMS 셔터를 포함하는 전자파 검출 장치. - 제 13 항에 있어서,
상기 전환부는, 전자파를 반사하는 반사 상태 및 투과하는 투과 상태를 액정 배광에 따라 상기 전환 소자마다 전환 가능한 액정 셔터를 포함하는 전자파 검출 장치. - 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 검출부 및 상기 제 2 검출부는 각각, 측거 센서, 이미지 센서, 및 서모 센서 중 적어도 어느 것을 포함하는 전자파 검출 장치. - 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 검출부 및 상기 제 2 검출부는, 이종 또는 동종의 전자파를 검출하는 전자파 검출 장치. - 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 검출부 및 상기 제 2 검출부는 각각, 적외선, 가시광선, 자외선, 및 전파 중 적어도 어느 것을 검출하는 전자파 검출 장치. - 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 4 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 3 검출부를, 더 구비하는 전자파 검출 장치. - 제 1 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 검출부는, 상기 제 4 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 전자파 검출 장치. - 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 검출부 및 상기 제 2 검출부에 의한 전자파의 검출 결과에 기초하여, 주위에 관한 정보를 취득하는 제어부를, 더 구비하는 전자파 검출 장치. - 제 22 항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 주위에 관한 정보로서, 화상 정보, 거리 정보, 및 온도 정보 중 적어도 어느 것을 취득하는 전자파 검출 장치. - 입사하는 전자파를 제 1 방향 및 제 2 방향으로 진행하도록 분리하는 분리 상태와 분리시키지 않는 비분리 상태로 전환하는 단계와,
상기 제 1 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 단계와,
상기 제 2 방향으로 진행한 전자파의 진행 방향을, 제 3 방향 및 제 4 방향으로 전환 가능한 복수의 전환 소자로 상기 제 3 방향 또는 상기 제 4 방향으로 전환시키는 단계와,
상기 제 3 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 단계를 장치에 실행시키는 프로그램. - 입사하는 전자파를 제 1 방향 및 제 2 방향으로 진행하도록 분리하는 분리 상태와 분리시키지 않는 비분리 상태로 전환 가능한 분리부와,
상기 제 1 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 1 검출부와,
상기 제 2 방향으로 진행한 전자파의 진행 방향을, 제 3 방향 및 제 4 방향으로 전환 가능한 복수의 전환 소자를 가지는 전환부와,
상기 제 3 방향으로 진행한 상기 전자파를 검출하는 제 2 검출부와,
상기 제 1 검출부 및 상기 제 2 검출부에 의한 전자파의 검출 결과에 기초하여, 주위에 관한 정보를 취득하는 제어부를 구비하는 전자파 검출 시스템.
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Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011220732A (ja) | 2010-04-06 | 2011-11-04 | Honda Motor Co Ltd | 車両の周辺監視装置 |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05134040A (ja) * | 1991-11-13 | 1993-05-28 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ倣い式変位計 |
| WO2005054826A1 (ja) * | 2003-12-08 | 2005-06-16 | Omron Corporation | 光分析装置及び光分析デバイス |
| JP2005241370A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 外観検査方法 |
| JP4392833B2 (ja) * | 2004-06-14 | 2010-01-06 | 三井造船株式会社 | ３次元画像情報取得装置 |
| JP2006235353A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Nikon Corp | 焦点検出装置および撮像装置 |
| DE102005049471B4 (de) * | 2005-10-13 | 2007-09-13 | Ingenieurbüro Spies GbR (vertretungsberechtigte Gesellschafter: Hans Spies, Martin Spies, 86558 Hohenwart) | Entfernungssensor mit Einzelflächenabtastung |
| JP2008116405A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査方法及びその装置 |
| US7714997B2 (en) * | 2006-11-07 | 2010-05-11 | Hitachi High-Technologies Corporation | Apparatus for inspecting defects |
| JP5025302B2 (ja) * | 2007-03-29 | 2012-09-12 | 富士フイルム株式会社 | 撮像装置 |
| KR20100110321A (ko) * | 2007-12-06 | 2010-10-12 | 가부시키가이샤 니콘 | 검사 장치 및 검사 방법 |
| WO2009133849A1 (ja) * | 2008-04-28 | 2009-11-05 | 株式会社ニコン | 検査装置 |
| JP2011185837A (ja) * | 2010-03-10 | 2011-09-22 | Mitsubishi Electric Corp | 異物検出装置 |
| US8587686B1 (en) * | 2010-03-16 | 2013-11-19 | University Of Central Florida Research Foundation, Inc. | Hybrid differential optical sensing imager |
| CN103299166B (zh) * | 2010-10-27 | 2015-09-23 | 康奈尔大学 | 光场图像传感器、方法和应用 |
| JP5609696B2 (ja) * | 2010-11-15 | 2014-10-22 | 富士通株式会社 | 電磁波イメージング装置 |
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| US9528819B2 (en) * | 2011-10-14 | 2016-12-27 | Iee International Electronics & Engineering S.A. | Spatially selective detection using a dynamic mask in an image plane |
| JP5932343B2 (ja) * | 2012-01-13 | 2016-06-08 | エイチエスティ・ビジョン株式会社 | 観測装置 |
| US9440844B2 (en) * | 2012-04-02 | 2016-09-13 | Semiconductor Components Industries, Llc | Optical and infrared imaging system |
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| JP2017517748A (ja) * | 2014-04-26 | 2017-06-29 | テトラビュー， インコーポレイテッド | 三次元撮像における奥行き検知のための、安定して広範囲の照明用波形のための方法とシステム |
| US9857585B2 (en) * | 2015-12-21 | 2018-01-02 | Raytheon Company | Rolling beam splitter optical switching mechanism for combination and selection of detector illumination |
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