JP5847304B2 - 検査装置 - Google Patents
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Description
(1)空間フィルタエッジで生じる不所望な回折光を低減し、欠陥検出感度を向上させることが可能となる。
(2)空間フィルタ幅の設定を自動化することができる。
(1)形成された繰り返しパターンの周波数がラインエッジラフネスなどによって多少の幅を持つこと。
(2)空間フィルタユニット120の位置とフーリエ変換面の位置とのずれ。
(3)照明光20によってウェーハ上に形成された照射領域の大きさと照明領域内のパターン領域の大きさとの関係。例えば、SRAMメモリ面積が照明領域の面積に比べて小さくなるほど、輝点601は広がりを持つこと。
そして、瞳開口面積変化率Rの2乗と前述した欠陥信号の基準Sとの積が瞳開口を通過する散乱光の量、つまり欠陥信号強度S′ということになる。つまり、欠陥信号強度S′は以下の式で表現できる。なお、欠陥信号強度S′がRの2乗に比例するのは、光の干渉に起因するものである。
Sは前述したように制御部90に格納されており既知である、またRも瞳開口の面積、空間フィルタユニット120が占有する面積を得ておくことで既知とすることができる。つまり、この瞳開口面積変化率Rがある値のときの欠陥信号強度S′は制御部90や別途設けた計算機による数値解析によって得ることができるということである。また、欠陥信号強度S′は前述した標準試料の微小異物を用いて、瞳開口面積変化率Rを変化させた時の欠陥信号強度S′の変化を事前に調べておくことでも代用可能である(手順370)。ここまでの手順で、SN比を評価する領域内のSN比は、上記のS′、Nを用いて、以下の式で定義することができる。
そして、作業者、又は制御部90はSN比が予め設定した所望の値となるか確認する(手順380)。所望の値であれば、空間フィルタユニット120の幅の設定は終了する(手順3100)。実際の検査を行う際の空間フィルタユニット120の幅は、この所望の値を得た際の幅となる。ここで、所望の値とは、例えば、図8に示すような飽和した際のSN比810、または空間フィルタユニット120の幅の最大値と表現することができる。
20 照明光
30 照明光学系
40 検出レンズ
50 ビームスプリッタ
60 観察光学系
70 センサ
80 画像処理部
90 制御部
100 操作部
210 チップ
120 空間フィルタユニット
130 検査光学系
270 回折光ノイズ
410 空間フィルタ
1110 上方検査光学系
1120 第1斜方検査光学系
1130 第2斜方検査光学系
Claims (16)
- 検査装置において
基板へ光を照明する照明光学系と、
前記基板からの光を集光、及び結像して第1の像を形成する第1の検出光学系と、
前記第1の検出光学系の光路に配置された第1の空間フィルタと、
処理部と、を有し
前記処理部は、前記第1の像の中から前記第1の空間フィルタから発生した第1の回折光成分を得て、
前記第1の回折光成分から前記第1の空間フィルタの幅を決定するための第1の指標を得ることを特徴とする検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
さらに、
第2の像を得るために前記第1の検出光学系とは異なる位置に配置された第2の検出光学系と、
前記第2の検出光学系の光路に配置された第2の空間フィルタと、を有し、
前記処理部は、
前記第2の像の中から前記第2の空間フィルタから発生した第2の回折光成分を得て、
前記第2の回折光を含む部分から前記第2の空間フィルタの幅を決定するための第2の指標を得ることを特徴とする検査装置。 - 請求項2に記載の検査装置において、
前記照明光学系は、前記基板上に線状の照明領域を形成することを特徴とする検査装置。 - 請求項3に記載の検査装置において、
前記第1の像、及び前記第2の像は暗視野像であることを特徴とする検査装置。 - 請求項4に記載の検査装置において、
前記第1の空間フィルタは前記第1の検出光学系の光路に対して出し入れ可能に配置されており、
前記処理部は、前記第1の指標を得るために、前記第1の空間フィルタを前記第1の検出光学系の光路の外に配置した状態で得られた光の輝度を使用することを特徴とする検査装置。 - 請求項5に記載の検査装置において、
前記処理部は、前記第1の指標を得るために、前記第1の検出光学系の瞳開口の面積、及び前記第1の空間フィルタが前記瞳開口を占有する面積を使用することを特徴とする検査装置。 - 請求項6に記載の検査装置において、
前記処理部は、前記第1の指標に応じて前記空間フィルタの幅を変更することを特徴とする検査装置。 - 請求項7に記載の検査装置において、
表示部を有し、
前記表示部は、前記第1の回折光成分の像を表示することを特徴とする検査装置。 - 請求項8に記載の検査装置において、
入力部を有し、
前記処理部は、前記入力部によって前記第1の回折光成分の像から選択された範囲に基づいて、前記第1の指標を得ることを特徴とする検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
前記照明光学系は、前記基板上に線状の照明領域を形成することを特徴とする検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
前記第1の像は暗視野像であることを特徴とする検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
前記処理部は、前記第1の指標を得るために、前記第1の空間フィルタを前記第1の検出光学系の光路の外に配置した状態で得られた光の輝度を使用することを特徴とする検査装置。 - 請求項12に記載の検査装置において、
前記処理部は、前記第1の指標を得るために、前記第1の検出光学系の瞳開口の面積、及び前記第1の空間フィルタが前記瞳開口を占有する面積を使用することを特徴とする検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
前記処理部は、前記第1の指標に応じて前記空間フィルタの幅を変更することを特徴とする検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
表示部を有し、
前記表示部は、前記第1の回折光成分の像を表示することを特徴とする検査装置。 - 請求項15に記載の検査装置において、
入力部を有し、
前記処理部は、前記入力部によって前記第1の回折光成分の像から選択された範囲に基づいて、前記第1の指標を得ることを特徴とする検査装置。
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