JP2008543114A - 鋸歯状フーリエフィルタ及び検査システム - Google Patents

Abstract

鋸歯状フーリエフィルタと検査システムが提示される。フーリエフィルタの１つには、ウェハからの光の一部を遮断するように構成された１つ以上の遮断要素が含まれている。フーリエフィルタは、１つ以上の遮断要素のエッジに形成された周期的な鋸歯状部分も含む。周期的な鋸歯状部分によって１つ以上の遮断要素の移行領域が形成される。周期的な鋸歯状部分は、移行領域の両端間における透過度の変化がほぼ平滑になるように、移行領域における透過度を変化させるように構成されている。検査システムの１つには、上述のように構成されたフーリエフィルタと、フーリエフィルタによって透過された光を検出するように構成された検出器とが含まれている。検出器によって発生した信号を利用して、ウェハ上の欠陥を検出する。

Description

本発明は、一般に、鋸歯状フーリエフィルタ及び検査システムに関するものである。いくつかの実施態様は、１つ以上の遮断要素のエッジに形成され、１つ以上の遮断要素の移行領域両端間における透過度変化の平滑性を高めるように構成された周期的鋸歯状部を含むフーリエフィルタに関するものである。

下記の説明及び例は、このセクションに記載されていることを理由に先行技術と認められるものではない。

論理デバイスや記憶デバイスのような半導体デバイスの製作には、一般に、さまざまなフィーチャを形成したり、複数レベルの半導体デバイスを形成するため、多数の半導体製作プロセスを利用して、半導体ウェハのような基板を処理することが含まれる。例えば、リソグラフィは、半導体ウェハに配置されたレジストに、レクチルからパターンを転写することを必要とする半導体製作プロセスである。半導体製作プロセスのさらなる例には、制限するわけではないが、化学機械的研磨、エッチング、堆積、イオン注入が含まれる。単一半導体ウェハ上に、ある配列をなすように複数の半導体デバイスを製作し、その後、個別半導体デバイスに切り離すようにしている。

製造プロセスにおけるより高い歩留まり、従って、より高い利益を促進するため、半導体製造プロセス中のさまざまなステップにおいて検査プロセスを利用し、ウェハの欠陥が検出される。常に、検査は集積回路のような半導体デバイスの製作の重要な部分である。しかし、半導体デバイスの寸法が縮小するにつれて、より小さい欠陥によってデバイスが機能しなくなる可能性があるため、検査は、許容可能な半導体デバイスを首尾よく製造する上においてますます重要になる。例えば、比較的小さい欠陥でさえ、半導体デバイスに望ましくない異常を生じる可能性があるので、半導体デバイスの寸法が縮小するにつれて、サイズが小さくなる欠陥の検出が必要になる。

半導体ウェハを検査するために、多種多様な検査ツールが開発されている。検査ツールは、一般に、検査対象とされる試験体のタイプに基づいて分類することが可能である。例えば、検査ツールのカテゴリの１つは、一般に非パターン形成半導体ウェハを検査するように設計されている。これらのツールは、非パターン形成ウェハの検査のために最適化されているので、一般に、いくつかの理由でパターン形成ウェハを検査することができない。例えば、多くの非パターン形成ウェハの検査ツールは、レンズ又は別の集光器によって集められた光の全てを、レンズによって集められた光の全てを表わす単一出力信号を発生させる単一検出器に向けるように構成されている。従って、試験体のパターン又は他のフィーチャから散乱する光が、他の散乱光と結合することになる。従って、単一検出器は飽和する可能性があり、このため、欠陥検出のために分析可能な信号が生じないということになる。さらに、単一検出器が飽和しなかったとしても、ウェハ上のパターン又は他のフィーチャから散乱する光を他の散乱光から分離することができず、その結果、他の散乱光に基づく欠陥検出が、遮断されないにしても、妨げられることになる。

通常、処理される半導体ウェハにはフィーチャのパターンが形成されているので、パターン形成ウェハの検査は、半導体産業にとってとりわけ問題であり、重要である。プロセス・ツールを通り抜けた、非パターン形成ウェハすなわち「モニタ・ウェハ」の検査は、パターン形成ウェハすなわち「製品ウェハ」上に見つかる可能性のある欠陥の数とタイプに対するゲージとして用いられるが、モニタ・ウェハ上で検出される欠陥は、プロセス・ツールにおける同じ処理後にパターン形成ウェハ上で検出される欠陥を必ずしも正確に反映するものではない。従って、こうした処理後におけるパターン形成ウェハの検査は、処理中又は処理結果としてウェハ上に形成された可能性のある欠陥を正確に検出するのに重要である。従って、パターン形成ウェハすなわち製品ウェハを検査すると、モニタ・ウェハを検査するより正確にプロセスと、プロセス・ツールをモニタし、制御することが可能になる。

パターン形成ウェハの検査用に多くの検査ツールが開発されている。例えば、パターン形成ウェハ用の検査ツールの１つでは、空間フィルタを利用して、パターン化フィーチャからの散乱光を他の散乱光から分離し、他の散乱光を別個に検出できるようにする。パターン化フィーチャからの散乱光は、側方寸法や周期のようなパターン化フィーチャのさまざまな特性によって左右されるので、空間フィルタの設計もパターン化フィーチャのこうした特性によって決まる。結果として、空間フィルタは、パターン化フィーチャの既知の又は確認された特性に基づいて設計しなければならず、さまざまなパターン化フィーチャの検出に応じて変更しなければならない。

上述のように用いることが可能な空間フィルタ・タイプの１つが、フーリエフィルタである。フーリエフィルタは、ウェハ上に形成されたパターン化フィーチャからの光のフィルタリングに比較的有効である。しかしながら、フーリエフィルタは、望ましい光を望ましくない方向に回折する可能性があるので、透過光に悪影響を及ぼす可能性がある。透過光に対するフーリエフィルタの悪影響を軽減させるため、透過光に位相変化をもたらすことのないように、フーリエフィルタの遮断領域と透明領域との間の移行を比較的平滑にすべきである。

フーリエフィルタの遮断領域から透明領域への移行の平滑性を高めるため、いくつかの異なるアプローチが提案されている。アプローチの１つは、遮断領域の中心における不透明度が１００％で、エッジにおける１００％の透過度に漸次移行する、フーリエフィルタの遮断領域をガラス板上に形成することである。この種のフーリエフィルタは、正確に製作される限りにおいて、うまく機能することが可能である。しかしながら、この種のフィルタの製作は、高くつくだけではなく、技術的に困難である。もう１つのアプローチは、導入しなければ１００％不透明であるフーリエフィルタの遮断要素のエッジにランダムな鋸歯状部分を導入することである。こうして製作されたフーリエフィルタは、比較的安価であるが、所望の性能を発揮しない。

従って、本発明の目的は、遮断領域と透過領域との間の移行が比較的平滑で、その結果、比較的優れた性能を発揮することになり、比較的安価で、技術的に製造しやすいフーリエフィルタを開発することにある。

鋸歯状フーリエフィルタと検査システムの各種実施態様や実施形態に関する下記の説明は、決して付属の請求項の対象を制限するものと解釈してはならない。

実施態様の１つは、ウェハからの光の一部を遮断するように構成されたフーリエフィルタに関連している。フーリエフィルタには、光の一部を遮断するように構成された１つ以上の遮断要素が含まれている。フーリエフィルタには、１つ以上の遮断要素のエッジに形成された周期的な鋸歯状部分も含まれている。周期的な鋸歯状部分は、１つ以上の遮断要素の移行領域を形成している。周期的な鋸歯状部分は、移行領域両端間における透過度変化がほぼ平滑になるように、移行領域における透過度を変化させるように構成されている。

実施態様の１つでは、周期的な鋸歯状部分の周期が、ゼロ次以外の全ての回折次数の光が像面で光電性素子外に向けられるように選択される。実施態様によっては、周期的な鋸歯状部分を、像面における近隣光電性素子（例えば、検出器のピクセル）へのゼロ次光の回折を大幅に減少させるように構成することができる。もう１つの実施態様では、周期的な鋸歯状部分は、フーリエフィルタによって透過される光のＳ／Ｎ比の大幅な低下を阻止するように構成される。

実施態様の１つでは、透過度は平均透過度である。もう１つの実施態様では、透過度の変化には、１つ以上の局部的最小透過度が含まれる。

実施態様によっては、周期的な鋸歯状部分の幅が、周期的な鋸歯状部分の長さにわたってほぼ正弦的に変化する。他の実施態様では、周期的な鋸歯状部分の幅は周期的な鋸歯状部分の長さにわたってほぼ線形に変化する。もう１つの実施態様では、周期的な鋸歯状部分は１つ以上の遮断要素のエッジに沿って対称に配置される。異なる実施態様では、周期的な鋸歯状部分は１つ以上の遮断要素のエッジに沿って非対称に配置される。上述のフーリエフィルタの実施態様のそれぞれを、さらに本明細書に記載のように構成することが可能である。

もう１つの実施態様は、ウェハからの光の一部を遮断するように構成されたもう１つのフーリエフィルタに関連している。このフーリエフィルタには、光の一部を遮断するように構成された１つ以上の遮断要素が含まれている。これら１つ以上の遮断要素は、透過度が変化する移行領域を備えている。移行領域は物理的に平滑ではない。しかしながら、移行領域は光学的にはほぼ平滑である。フーリエフィルタのこの実施態様を、さらに、本明細書に記載のように構成することが可能である。

もう１つの実施態様は、ウェハ上の欠陥を検出するように構成された検査システムに関連している。このシステムには、１つ以上の遮断要素のエッジに形成された周期的な鋸歯状部分を含むフーリエフィルタが含まれている。１つ以上の遮断要素は、ウェハから戻される光の一部を遮断するように構成されている。周期的な鋸歯状部分は、１つ以上の遮断要素の移行領域を形成している。周期的な鋸歯状部分は、移行領域両端間における透過度変化がほぼ平滑になるように、移行領域における透過度を変化させるように構成されている。このシステムには、フーリエフィルタによって透過される光を検出するように構成された検出器も含まれている。検出器によって発生する信号は、ウェハ上の欠陥の検出に用いることが可能である。

実施態様の１つでは、周期的居歯状部分の周期は、ゼロ次以外の全ての回折次数の光が検出器の光電性素子外に向けられるように選択される。もう１つの実施態様では、周期的な鋸歯状部分は、検出器の近隣光電性素子（例えば、検出器のピクセル）へのゼロ次光の回折を大幅に減少させるように構成される。実施態様によっては、周期的居歯状部分が、フーリエフィルタによって透過される光のＳ／Ｎ比の大幅な低下を阻止するように構成されてもよい。

実施態様の１つでは、透過度は平均透過度である。もう１つの実施態様では、透過度の変化には、１つ以上の局部的最小透過度が含まれる。

実施態様によっては、周期的な鋸歯状部分の幅が、周期的な鋸歯状部分の長さにわたってほぼ正弦変化するものもある。他の実施態様では、周期的な鋸歯状部分の幅が、周期的な鋸歯状部分の長さにわたってほぼ線形に変化する。もう１つの実施態様では、周期的な鋸歯状部分は１つ以上の遮断要素のエッジに沿って対称に配置される。異なる実施態様では、周期的な鋸歯状部分は、１つ以上の遮断要素のエッジに沿って非対称に配置される。上述の検査システムの実施態様のそれぞれを、さらに本明細書に記載のように構成することが可能である。

本発明の他の目的及び利点については、下記の詳細な説明を読み、添付の図面を参照することによって明らかになるであろう。

本発明は、さまざまな修正や代替形態を受け入れることができるが、その特定の実施形態が、図面中に例として示されており、本明細書で詳述されることになる。ただし云うまでもないが、図面とそれに対する説明は、本発明を開示の特定の形態に制限することを意図したものではなく、逆に、本発明は、付属の請求項によって定義される本発明の精神と範囲内にある全ての修正、均等、代替形態を包含することを意図したものである。

本明細書において用いられる限りにおいて「ウェハ」という用語は、一般に半導体又は非半導体材料から形成された基板を表わしている。こうした半導体又は非半導体材料の例には、制限するわけではないが、単結晶シリコン、砒化ガリウム、リン化インジウムが含まれる。こうした基板は、一般に半導体製造施設において見受けられ、及び／又は処理される。ウェハには、基板上に形成された１つ以上の層を含む。例えば、こうした層には、制限するわけではないが、レジスト、誘電体材料、導電材料を含む。当該技術では多種多様なこうした層は既知であり、本明細書において用いられるウェハという用語は、あらゆるタイプのこうした層を含むウェハを包含することを意図したものである。

ウェハ上に形成される１つ以上の層は、パターン形成される場合もあれば、パターン形成されない場合もある。例えば、ウェハは、それぞれ、反復パターンのフィーチャを備える複数のダイを含むことがある。こうした材料層の形成及び処理によって、最終的に完成デバイスが得られる。ウェハ上に多種多様なデバイスを形成することが可能であり、本明細書において用いられるウェハという用語は、当該技術において既知の任意のタイプのデバイスが製作されるウェハを含むことを意図したものである。

ここで図面に戻ると、図が一定の比率で描かれていないという点に留意されたい。すなわち、図のいくつかの要素の比率は、要素の特性を強調するため大幅に誇張されている。また、図が同じ比率で描かれていないという点にも留意されたい。同様に構成することが可能な、２つ以上の図に示されている要素は、同じ参照番号を用いて表示されている。

図１には、フーリエフィルタを含む結像系の一例が示されている。図１に示すように、物体１２からの光１０が集光レンズ１４によって集められる。物体１２は例えばウェハである。集光レンズ１４には、当該技術において既知の任意の適合する屈折又は反射レンズを含む。光１０には一般に散乱光と回折光が含まれる。集光レンズ１４によって集められる光は、フーリエフィルタ１６が配置される結像系のフーリエ平面を通過する。フーリエフィルタ１６は、本明細書に記載のように構成される。フーリエフィルタを通る光は、検出器（不図示）を配置することが可能な像平面２０に、結像レンズ１８によって焦点を合わせられる。結像レンズ１８には、当該技術において既知の任意の適合する屈折レンズ又は反射レンズを含むことが可能である。検出器は、当該技術において既知の任意の適合する検出器を含むことが可能である。例えば、検出器は、イメージ・センサ又はピクセルのような光電性素子の１次元アレイを含む。

フーリエフィルタは、一般に、光学系のフーリエ平面において望ましくない光を遮断する遮光デバイスと定義することが可能である。ウェハのような物体の反復パターンフィーチャからの回折光は離散的であり、フーリエ平面において空間的にうまく閉じ込められるので、フーリエフィルタは、こうしたフィーチャからの回折光を遮断するのにとりわけ有効である。しかしながら、フーリエフィルタは、望ましい光を望ましくない方向に回折する可能性もあるので、フーリエフィルタを透過する光に対して悪影響を生じる可能性もある。透過光に対するフーリエフィルタの悪影響を軽減するため、フーリエフィルタの遮断領域と透明領域との間における移行は、透過光に位相変化をもたらすことがないように、ほぼ平滑であることが望ましい。しかしながら、この種の平滑な移行の実現は、光周波数範囲において物理的に高くつく。幸いにも、光学素子は、光学的に平滑であるために、必ずしも物理的に平滑な移行を必要とするとは限らない。すなわち、移行が光学的意味においてほぼ平滑である限り、移行が物理的に平滑であろうとなかろうと、性能に違いはない。本明細書に記載の実施形態によれば、製造しやすく、光学的にほぼ平滑であるが物理的に必ずしも平滑ではない移行領域を有する、安価なフーリエフィルタが得られる。

従って、ウェハからの光の一部を遮断するように構成されたフーリエフィルタの実施形態の１つには、光の一部を遮断するように構成された１つ以上の遮断要素が含まれている。１つ以上の遮断要素は、透過度が変化する移行領域を有している。移行領域は物理的に平滑ではない。しかしながら、移行領域は光学的にはほぼ平滑である。フーリエフィルタのこの実施形態は、さらに、本発明書に記載され、図３、５、６に示されているように構成されることも可能である。

ウェハからの光の一部を遮断するように構成されたフーリエフィルタのもう１つの実施形態には、光の一部を遮断するように構成された１つ以上の遮断要素が含まれる。フーリエフィルタには、１つ以上の遮断要素のエッジに形成された周期的な鋸歯状部分も含まれている。周期的な鋸歯状部分は、１つ以上の遮断要素の移行領域を形成する。周期的な鋸歯状部分は、移行領域両端間における透過度変化がほぼ平滑になるように、移行領域における透過度を変化させるように構成されている。フーリエフィルタのこの実施形態は、さらに、本発明書に記載され、図３、５、６に示されているように構成させることも可能である。

こうして、フーリエフィルタは、１００％の不透明度から１００％の透過度への移行をほぼ平滑にするため、遮断要素のエッジに沿って周期的な鋸歯状部分を備えている。透過度は平均透過度である。さらに、フーリエフィルタには、その平均透過度が０％の透過度から１００％の透過度にほぼ平滑に変化する任意のエッジ鋸歯状パターンを含むことが可能である。フーリエフィルタには、その透過パターンが０％の透過度から１００％の透過度にほぼ平滑に変化し、その間に１つ以上の局部的最小透過度が存在する、任意の鋸歯状パターンを含むことも可能である。こうして、移行領域両端間における透過度の変化には、１つ以上の局部的最小透過度を含むことが可能になる。換言すれば、透過度は０％の透過度から１００％の透過度にほぼ平滑に変化することができるが、単調に変化する場合もあれば、単調でない場合もある。

従って、フーリエフィルタには、不透明なフーリエフィルタのエッジにランダムではなく、周期的な居歯状部分が含まれている。周期的な鋸歯状部分によって、遮断要素のエッジが和らげるが、光が回折されて離散的次数の光になる。しかしながら、周期的居歯状部分からの回折はランダムではなく、鋸歯状部分の周期性のため像面に離散的回折次数光を形成し、この結果、鋸歯状部分の周期を十分に精細にすることによって、回折光の全てを検出領域外に向けることが可能になる。実施形態の１つでは、従って、周期的な鋸歯状部分の周期が、ゼロ次以外の全ての回折次数光が像面で光電性素子外に向けられるように選択される。こうして、ゼロ次の非回折光だけが検出器に到達することが可能になる。非回折光は、周期的な鋸歯状部分の細部に「直面」することはなく、周期的な鋸歯状部分の平均透過度によって可能になる平滑な移行をするだけである。下記の理論によって、この効果が明確に示されることになる。従って、周期的な鋸歯状部分を備えたフーリエフィルタは、上記で詳述した平滑に漸変するフーリエフィルタと光学的に同等であるが、はるかに製作が容易である。

本明細書に提示の鋸歯状フーリエフィルタに関する理論的説明では、下記の座標系が用いられる。すなわち、照射系と検出器は、ｙ方向に沿って縦に延びるように配置される。フーリエフィルタは、ｘ方向において縦に延びるように配置される。ｘｙ座標は、フーリエ平面において設定される。ｆ_xｆ_y座標はウェハと検出器の面に設定される。ｆ_x又はｆ_y＝（物理的寸法）／λｆであり、ここで、ｆ＝焦点距離である。図１にはこの座標系が例示されている。

図２には、一般的な漸変フーリエフィルタの振幅透過の一例が示されている。フーリエフィルタは、遮断要素の中心が１００％の不透明度であり、これが遮断要素のエッジにおける１００％の透過度に向かって漸次移行するという意味において漸変する。透過度の移行は、遮断要素の物理的特性の漸次移行によって生じる。これらの透過特性が、図２において、遮断要素の１００％の不透明度に相当する振幅透過グラフの中心に近い低振幅透過度によって示されている。

フーリエフィルタの移行領域は、１００％の不透明度からグラフのエッジのフーリエフィルタの高振幅透過度領域への振幅透過度の増大によって示されている。これら高振幅透過度領域は、遮断要素のエッジにおける１００％の透過度に相当する。振幅透過度は下記方程式によって表わされる。

ここで、ｔ_n＝振幅透過度であり、強度透過度ではない。図２にはｙ_n及びｗ_yが例示されている。フィルタの回折パターンは、そのフーリエ変換と同じである。方程式（１）のフーリエ変換は次の通りである。

図３には、「鋸歯状フーリエフィルタ」の実施形態の１つが例示されている。図３に示すように、居歯状フーリエフィルタには、ウェハからの光の一部を遮断するように構成された遮断要素２２が含まれている。鋸歯状フーリエフィルタには、遮断要素２２のエッジに形成された周期的な鋸歯状部分２４も含まれている。周期的な鋸歯状部分２４によって、遮断要素２２の移行領域が形成される。周期的な鋸歯状部分２４は、移行領域両端間における透過度変化がほぼ平滑になるように、移行領域における透過度を変化させるように構成されている。フーリエフィルタのこの実施形態は、さらに、本明細書に記載のように構成させることが可能である。

図３及び本明細書で説明される他の図には、特定の数の周期的な鋸歯状部分が示されているが、もちろん、フーリエフィルタの遮断要素のエッジに形成される周期的な鋸歯状部分の数は、例えば、周期的な鋸歯状部分のピッチや遮断要素の長さによって変わることになる。周期的な鋸歯状部分のピッチは、本明細書においてさらに説明されるように選択することが可能である。さらに、図３及び本明細書で説明される他の図には、１つの遮断要素の一部が示されているが、云うまでもなく、フーリエフィルタには２つ以上の遮断要素を含むことが可能である。

一般に、鋸歯状フーリエフィルタは下記の方程式で表わすことが可能である。

図３には、方程式（３）の変数が例示されている。方程式（３）のフーリエ変換は次の通りである。

居歯状フーリエフィルタの回折パターンを例示した図４には、鋸歯状フーリエフィルタによるｘ方向の回折が示されている。図４に示すように、ゼロ次光が検出器アレイ２６に入射する。さらに図４に示すように、ゼロ次光だけが検出器アレイ２６に入射する。鋸歯状フーリエフィルタによって回折される他の全ての次数の光は、検出器アレイ２６に入射しない。こうして、周期的鋸歯状エッジを備えたフーリエフィルタは、ゼロ次光を除く光をセンサアレイの外に回折させる。検出器アレイ２６には、当該技術において既知の任意の適合する検出器を含むことが可能である。

方程式（４）のゼロ次部分は、次の通りである。

これは方程式（２）と同じである。ｔ_nとｗ_xnは１対１するという点に留意されたい。すなわち、ゼロ次だけが選択される場合、鋸歯状フーリエフィルタは漸変フーリエフィルタとほぼ同等である。方程式（５）の逆フーリエ変換は次の通りである。

これは、方程式（１）に示す漸変フーリエフィルタの関数と同じである。

上記方程式の全てが、極限をｗ_x→０及びｗ_y→０とすることによって、積分形式で数学的によりすっきりと表わすことが可能になるという点に留意されたい。しかしながら、本形式は回折パターンの数値計算により適している。

フーリエ平面における回折スペックル・サイズは下記の方程式によって表わすことが可能である。
ｄ_x≒λｆ／ｗ_L （７）
ここで、ｄ_x＝フーリエフィルタに沿った（ｘ方向に配置されたフーリエフィルタの長さに沿った）フーリエ平面におけるスペックル長であり、λ＝波長であり、ｆ＝前レンズ群（例えば図１に示す集光レンズ１４）の焦点距離であり、ｗ_L＝物体平面における照射線幅である。照射線長はｙ方向に設定される。

鋸歯状フーリエフィルタの鋸歯状部分のピッチは、下記方程式から求めることが可能である。
ｐ＜＜ｄ_x≒λｆ／ｗ_L （８）
ここで、ｐ＝鋸歯状部分のピッチである。さらに、周期的な鋸歯状部分のピッチは、一次回折光が検出器アレイの照射線から逸れるように選択することが可能である。こうして、周期的鋸歯状エッジを備えたフーリエフィルタは、センサ領域外のゼロ次の光を除く全ての回折次数の光を回折するために十分に小さい鋸歯状部分周期を備えるように構成することが可能になる。すなわち、次のようになる。
λｆ／ｐ＞ｗ_L （９）
方程式（８）と（９）は同等である。居歯状部分のピッチが方程式（８）又は（９）を満たす任意の種類の周期的な鋸歯状部分を用いて、高性能なフーリエフィルタを提供することが可能である。

下記の分析では、さまざまな周期的鋸歯状フーリエフィルタの実施形態の例が提示される。しかしながら云うまでもなく、本明細書に記載の実施形態は、本開示に示される例に制限されるものではない。すなわち、本明細書に記載のものと光学的に同等である鋸歯状フィルタの任意の変形を利用して、高性能なフーリエフィルタを提供することが可能である。こうした例の１つにネジ付きロッドがある。

漸変（非鋸歯状）フーリエフィルタの振幅透過度は、下記の方程式によって表わすことが可能である。

ここで、ｔ_n＝漸変フィルタのｎ番目のスライスにおける透過度である。方程式（１０）のフーリエ変換は次の通りである。

実施形態の１つでは、周期的鋸歯状フーリエフィルタは、対称な鋸歯状とすることが可能である。換言すれば、こうしたフーリエフィルタの周期的な鋸歯状部分は、フーリエフィルタの１つ以上の遮断要素のエッジに沿って対称に配置することが可能である。こうして、対称鋸歯状フーリエフィルタには、図５に示すように、フーリエフィルタの遮断要素のエッジに折りたたみ対称性を有する周期的な鋸歯状部分が含まれている。図５に示すように、この実施形態の場合、鋸歯状フーリエフィルタにはウェハからの光の一部を遮断するように構成された遮断要素２８が含まれている。鋸歯状フーリエフィルタには、遮断要素２８のエッジに形成された周期的な鋸歯状部分３０も含まれている。周期的な鋸歯状部分３０によって、遮断要素２８の移行領域が形成されている。周期的な鋸歯状部分３０は、移行領域両端間における透過度変化がほぼ平滑になるように、移行領域における透過度を変化させるように構成されている。フーリエフィルタのこの実施形態は、さらに、本明細書に記載のように構成することが可能である。

対称をなす周期的鋸歯状フーリエフィルタの一般的な式は、下記の方程式によって表わすことが可能である。

図３には、この方程式の変数が例示されている。方程式（１２）のフーリエ変換は次の通りである。

この方程式のゼロ次部分は次の通りである。

従って、ゼロ次の回折光だけがイメージ・センサに到達し、他の全ての回折次数の光はイメージ・センサから「外れる」ことになる。ｗ_xnが方程式（１１）におけるｔ_nに等しいと設定されると、方程式（１４）は方程式（１１）と同じである。従って、ここでもやはり、分析によって周期的鋸歯状フーリエフィルタが漸変フーリエフィルタとほぼ光学的に同等であることが明らかである。

対称周期的鋸歯状フーリエフィルタのフーリエ変換の一次部分は、次の通りである。

方程式（１５）を用いて、センサ領域に入射する回折光の不鮮明化を推定することが可能である。

もう１つの実施形態では、周期的鋸歯状フーリエフィルタは、非対称な鋸歯状とすることが可能である。こうした実施形態の場合、フーリエフィルタの周期的な鋸歯状部分は、フーリエフィルタの１つ以上の遮断要素のエッジに沿って非対称に配置することが可能である。例えば、非対称鋸歯状フーリエフィルタには、図３や６に示すように、フーリエフィルタの１つ以上の遮断要素のエッジに形成された、食違い状にする（例えば半周期だけ食い違うようにする）ことが可能な周期的な鋸歯状部分が含まれる。

図６に示すように、この実施形態では、鋸歯状フーリエフィルタには、ウェハからの光の一部を遮断するように構成された遮断要素３２が含まれている。鋸歯状フーリエフィルタには、遮断要素３２のエッジに形成された周期的な鋸歯状部分３４も含まれている。周期的な鋸歯状部分３４によって、遮断要素３２の移行領域が形成される。周期的な鋸歯状部分３４は、移行領域両端間における透過度変化がほぼ平滑になるように、移行領域における透過度を変化させるように構成されている。フーリエフィルタのこの実施形態を、さらに、本明細書に記載のように構成することが可能である。

非対称をなす周期的鋸歯状フーリエフィルタの一般的な式は、下記の方程式によって表わすことが可能である。

図３及び６には、方程式（１６）における変数が例示されている。方程式（１６）のフーリエ変換は次の通りである。

このフーリエ変換のゼロ次部分は次の通りである。

これは方程式（１１）及び（１４）に相当する。従って、非対称鋸歯状フーリエフィルタは、漸変フーリエフィルタと対称鋸歯状フーリエフィルタの両方と光学的に同等である。より一般的には、フーリエフィルタの鋸歯状部分が周期的であり、鋸歯状部分のピッチが方程式（８）又は（９）を満たす限りにおいて、周期的鋸歯状フーリエフィルタは、互いに及び漸変フーリエフィルタと光学的に同等である。

方程式１７のフーリエ変換の第１の部分は次の通りである。

方程式（１９）を用いて、センサ領域に入射する回折光の不鮮明化を推定することが可能である。

鋸歯状フーリエフィルタの回折パターンは、鋸歯状部分の形状によって決まる。本明細書では、回折パターンが居歯形状にどれほど左右されるかを例証するため、いくつかの鋸歯形状について述べることにする。下記の鋸歯形状は、適合する鋸歯形状の単なる一例として提示されるものである。もちろん、本明細書に記載の実施形態は、本開示で示される鋸歯形状に制限されるものではない。

実施形態によっては、周期的鋸歯状フーリエフィルタは、正弦曲線的鋸歯状という場合もある。こうした実施形態では、フーリエフィルタの周期的な鋸歯状部分の幅が周期的な鋸歯状部分の長さに沿ってほぼ正弦的に変化する。このように、正弦曲線的鋸歯状部分は、図３や５に示すような正弦曲線の一部を描くエッジラインを備えている。図３、５に示すように、正弦曲線的な周期的鋸歯状フーリエフィルタは、上記で詳述したように対称又は非対称とすることが可能である。この種の鋸歯状部分は、鋸歯状部分の先端が極めて鋭いため、物理的に生産が比較的困難である。しかしながら、こうした鋸歯状部分は、その平均透過度変化が概ね漸進的であるため最良の光学性能の１つとなる。このフィルタは、実用的であるか否かは分からないが、性能ゲージとして用いられることになるであろう。換言すれば、より実用的な周期的鋸歯状フーリエフィルタの性能評価が、そのフーリエ変換と正弦曲線的な周期的鋸歯状フーリエフィルタのフーリエ変換を比較することによって可能になる。

正弦曲線的鋸歯状フーリエフィルタは、その移行領域において下記のエネルギ分布を有している：２／π≒６３．７％が透過され、（１−（２／π））≒３６．３％が吸収される。透過エネルギのうち５０％がゼロ次回折光となり、（（２／π）−０．５）≒１３．７％がより高い回折次数光になる。エネルギの５０％がゼロ次回折光になるということによって、このフィルタの性能が最適又は少なくとも最適に極めて近いはずであるということが再確認される。

正弦曲線的鋸歯状フーリエフィルタの回折は、図７に示すようにまず全透過波面から非回折成分を分離することによって（バビネの原理に基づいて）容易に計算可能である。すなわち、図７に示すように、フーリエフィルタの回折成分からフーリエフィルタの非回折成分を引くことによって、フーリエフィルタの振幅透過度を得ることができる。図７に示すグラフの中央部分は、フーリエフィルタの遮断要素に対応し、一方、図７に示すグラフの端部は、遮断要素の両側におけるフーリエフィルタの透過領域に対応する。正弦曲線的鋸歯状フーリエフィルタに関するフーリエ変換は次の通りである。

もう１つの実施形態では、周期的鋸歯状フーリエフィルタは、線形鋸歯状フーリエフィルタとすることが可能である。こうした実施形態の場合、フーリエフィルタの周期的な鋸歯状部分の幅は、周期的な鋸歯状部分の長さにわたってほぼ線形に変化する。このように、線形鋸歯状フーリエフィルタには、図６に示すように直線のジグザグになった鋸歯状エッジが含まれる。図６に示すように、線形鋸歯状フーリエフィルタを、非対称鋸歯状フーリエフィルタとすることが可能である。代替案として、線形鋸歯状フーリエフィルタは、対称鋸歯状フーリエフィルタとすることも可能である。線形鋸歯状が性能に関して理想的であるか否かは分からないが、製造のしやすさに関して最も実用的であると思われる。単純な線形鋸歯状による性能劣化は、ほとんどの用途にとって許容可能であろう。

線形周期的鋸歯状フーリエフィルタは、その移行領域において下記のエネルギ分布を有している。５０％が透過され、５０％が吸収される。５０％の透過エネルギのうち３３％がゼロ次回折光となり、１７％がより高い回折次数光になる。

線形鋸歯状フーリエフィルタの回折は、図７に示すようにまず全透過波面から非回折成分を分離することによって（バビネの原理に基づいて）容易に計算可能である。線形鋸歯状フーリエフィルタのフィルタ関数は、下記方程式によって表わすことが可能である。

そのフーリエ変換は次の通りである。

数値シミュレーションを利用して、線形周期的鋸歯状フーリエフィルタの性能と、正弦曲線的な周期的鋸歯状フーリエフィルタ及び鋸歯状部分のないフーリエフィルタの性能とを比較することが可能である。計算には方程式（２７）と（３４）が利用される。図８には、移行領域幅が１．０ｍｍ（図３と６に示されているｂ）及び０．５ｍｍ（やはり図３と６に示されているａ）の、鋸歯状部分のないフーリエフィルタ、線形周期的な鋸歯状部分を備えたフーリエフィルタ、又は、正弦曲線的な周期的鋸歯状フーリエフィルタに関する回折パターンのシミュレーションが例示されている。

図８に示すグラフのｙ軸には対数振幅が描かれている。対数振幅は、一般にノイズを表わしている。図８には、ｘ軸に沿って描かれた（図８〜１０に示すｘ軸はウェハ上のｙ軸に対応する）ウェハフィールドにおけるノイズが示されている。このように、図８のグラフには、センサアレイの個々のピクセル域を越えることが予測可能な光がどれほどになるかを例示している。従って、図８の高い対数振幅値は、明らかに望ましくない、１つのピクセルから隣接するピクセルに溢れ出す大量の光を表わしている。従って、図８における低い対数振幅値は、より優れた性能であることを示している。

鋸歯状部分のないフーリエフィルタに関するグラフは、ウェハフィールドの距離が長くなると対数振幅値がはるかに高くなる図８のグラフである。正弦曲線的な周期的な鋸歯状部分を備えるフーリエフィルタに関するグラフは、とりわけ鋸歯状部分のないフーリエフィルタと比べて、ウェハフィールドの距離が長くなると対数振幅値がはるかに低くなる、比較的ピーク幅の広い図８のグラフである。線形鋸歯状部分を備えるフーリエフィルタに関するグラフは、ウェハフィールドの距離が長くなるとやはり対数振幅値がはるかに低くなるが、ピーク幅のより狭いグラフである。

図８に示す数値シミュレーション結果によって明らかなように、正弦曲線的な周期的鋸歯状フーリエフィルタは、線形周期的鋸歯状フーリエフィルタに比べて性能がほんの少ししか良くならない。しかし、やはり図８に示す結果から明らかなように、線形鋸歯状フーリエフィルタの性能は十分に受け入れることのできるものである。さらに、正弦曲線的鋸歯状フーリエフィルタと線形鋸歯状フーリエフィルタの性能は、両方とも、鋸歯状部分のないフーリエフィルタより大幅に優れている。

実施形態のいくつかでは、周期的な鋸歯状部分は、像面で近隣の光電性素子（例えば検出器又はセンサアレイのピクセル）に入射するゼロ次光の回折を大幅に減少させるように構成される。こうして、周期的な鋸歯状部分によって、像面に生じる干渉量が減少する。もう１つの実施形態では、周期的な鋸歯状部分は、フーリエフィルタによって透過される光のＳ／Ｎ比の大幅な低下を阻止するように構成される。従って、本明細書に記載のフーリエフィルタは、高Ｓ／Ｎ比、従って高感度が望ましい光学用途に用いることが可能である。例えば、図９には、異なる移行領域幅（ｂ＝０ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ、１．５ｍｍ、２ｍｍ）及びａ＝０．５ｍｍの正弦曲線的な周期的な鋸歯状部分を備えるフーリエフィルタについてシミュレートした回折パターンが例示されている。図１０には、異なる移行領域幅（ｂ＝０ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ、１．５ｍｍ、２ｍｍ）及びａ＝０．５ｍｍの線形周期的な鋸歯状部分を備えるフーリエフィルタについてシミュレートした回折パターンが例示されている。

図８と同様、図９と１０には、対数振幅対ウェハフィールドが例示されている。このように、図８のグラフと同様、図９と１０のグラフには、センサアレイの個々のピクセル域を越えることが予測可能な光がどれほどになるかを例示している。従って、図９、１０の高い対数振幅値は、明らかに望ましくない、１つのピクセルから隣接するピクセルに溢れ出す大量の光を表わしている。従って、図９、１０における低い対数振幅値は、より優れた性能であることを示している。

図９、１０に示す数値シミュレーション結果から明らかなように、移行領域の幅が広くなるにつれて、周期的鋸歯状フーリエフィルタによって生じる回折が減少する。しかし、図９、１０に示す結果によれば、ある特定幅の後、移行領域拡大の報いが減少することも明らかである。すなわち、図９、１０において対数振幅値が最も高いグラフは、移行領域がゼロのフーリエフィルタ（すなわち鋸歯状部分がないフーリエフィルタ）に関するものである。さらに、図９、１０に示すように、移行領域の幅が広くなるにつれて、対数振幅値が減少する。さらに、ｂ＝０．５ｍｍの場合と比べると、ｂ＝０ｍｍの場合のグラフからの対数振幅値の減少は比較的大きくなる。しかしながら、移行領域幅がさらに広がると、対数振幅値の減少が同様に大きくなるということはない。従って、移行領域幅が０．５ｍｍを超えると、溢出の減少という報いも少なくなる。このように、周期的鋸歯状エッジを含むフーリエフィルタは、近隣領域に入射するゼロ次光の回折を許容可能レベルまで減らすが、遮断する信号光が多すぎないようにするのに十分な大きさの移行領域を備えるように構成することが可能である。換言すれば、移行領域は、その両方とも移行領域幅の拡大につれて減少する、ノイズと信号との間におけるトレードオフのバランスをとるように選択することが可能である。

本明細書に記載のフーリエフィルタは、当該技術において既知の任意の方法及び／又は技法を用いて製造することが可能である。例えば、フーリエフィルタの遮断要素のそれぞれは、比較的薄い金属板から製造することが可能である。金属板の厚さは約１０μｍ〜約０．１ｍｍが可能である。さらに、金属板は、当該技術において既知の任意の適合する材料から形成することが可能である。遮断要素は、当該技術において既知の任意の技法を用いて金属板から形成することが可能である。

本明細書に記載の周期的鋸歯状フーリエフィルタは、ウェハ検査ツールに用いることが可能である。さらに、本明細書に記載のフーリエフィルタは、ウェーの検査又は反復性で散乱の強いフィーチャを備えた任意の他の物体の検査に合わせて構成された又は構成することが可能な、当該技術において既知の任意の光学系に用いることが可能である。

実施形態の１つでは、ウェハ上の欠陥を検出するように構成された検査システムには、１つ以上の遮断要素のエッジに形成された周期的な鋸歯状部分を含むフーリエフィルタが含まれている。１つ以上の遮断要素は、ウェハから戻る光の一部を遮断するように構成されている。周期的な鋸歯状部分によって、１つ以上の遮断要素の移行領域が形成されている。周期的な鋸歯状部分は、移行領域両端間における透過度の変化がほぼ平滑になるように、移行領域における透過度を変化させるように構成されている。フーリエフィルタを、さらに、本明細書で記載され、例証されているように構成することが可能である。検査システムには、フーリエフィルタによって透過された光を検出するように構成された検出器も含まれている。検出器によって発生した信号を用いて、ウェハ上の欠陥を検出することが可能である。

図１１には、こうした検査システムの実施形態の１つが例示されている。図１１に示すように、検査システムには光源３６が含まれている。光源３６には、可視及び／又は紫外領域の１つ以上の波長を有する光を発生するように構成されたレーザのような当該技術において既知の任意の適合する光源を含むことが可能である。光源３６は、ウェハ（不図示）の配置が可能な物体平面３８に光を向けるように構成されている。さらに、検査システムには、光源３６に結合されて、光源からの光を物体平面３８に向けるように構成されたレーザ、折畳みミラー、偏光コンポーネント等のような１つ以上の光学コンポーネント（不図示）を含むことが可能である。

物体平面３８から散乱及び／又は回折する光４０は、集光レンズ４２によって集められる。集光レンズ４２には、当該技術において既知の任意の適合する屈折又は回折コンポーネントを含むことが可能である。集光レンズ４２によって集められた光は、フーリエフィルタ４４の配置されたシステムのフーリエ平面を通過する。フーリエフィルタ４４は、本明細書に記載のように構成することが可能である。すなわち、フーリエフィルタ４４には、１つ以上の遮断要素のエッジに形成された周期的な鋸歯状部分が含まれる。

フーリエフィルタによって透過される光は、結像レンズ４６によって検出器５０が配置されている像平面４８に焦点を合わせられる。結像レンズ４６には、当該技術において既知の任意の適合する屈折又は反射コンポーネントを含むことが可能である。検出器５０には、線形アレイをなす光電性素子又は電荷結合素子（ＣＣＤ）のようなアレイ検出器といった当該技術において既知の任意の適合する検出器を含む。実施形態の１つでは、フーリエフィルタの周期的な鋸歯状部分の周期は、ゼロ次以外の全ての回折次数光が検出器の光電性素子の外に向けられるように選択される。もう１つの実施形態では、フーリエフィルタの周期的な鋸歯状部分は、検出器の近隣光電性素子（例えばピクセル）に入射するゼロ次光の回折を大幅に減少させるように構成されている。

検出器によって検出された光に応答して検出器５０によって発生された信号が、プロセッサ５２に送られる。プロセッサ５２は、当該技術において既知の任意の方法（例えば、伝送媒体及び／又は１つ以上の電子コンポーネント）によって検出器５０に結合されることが可能である。プロセッサ５２を、検出器によって発生した信号を利用して、ウェハ上の欠陥を検出するように構成することが可能である。こうしたシステムを利用して検出可能な欠陥には、ウェハ又は検査される別の物体上において見つけることが可能な任意のタイプの欠陥を含むことが可能である。プロセッサは、当該技術において既知の任意の方法及び／又は技法を用いてウェハ上の欠陥を検出するように構成することが可能である。さらに、プロセッサは、当該技術において既知の任意の他の検査関連機能（例えば、欠陥位置、欠陥サイズ等の確認）を実施するように構成されてもよい。プロセッサには、コンピュータシステムのプロセッサのような当該技術において既知の任意の適合する処理コンポーネントを含むことが可能である。

図１１には、ある特定の構成のウェハ検査システムが示されているが、もちろん、本明細書に記載のフーリエフィルタは、当該技術において既知の任意の光ウェハ検査システムに用いることが可能である。本明細書に記載のように、フーリエフィルタを、当該技術において既知の任意の他の光ウェハ検査システムのフーリエ平面に配置することが可能である。

当該技術者には、この説明に鑑みて本発明のさまざまな態様のさらなる修正や代替実施形態が明らかになるであろう。例えば、鋸歯状フーリエフィルタ及び検査システムが得られる。従って、この説明は例示のためだけのものとみなすべきであり、本発明を実施する一般的なやり方を当該技術者に教示することを目的としたものである。云うまでもなく、本明細書に示され説明された本発明の形態は、現在のところ望ましい実施形態とみなすべきである。本説明の恩恵に浴した後、その全てが当該技術者には明らかになるように、構成要素及び材料は本明細書に例示及び説明されたものと置き換えることが可能であり、部分及びプロセスを逆にすることも可能であり、本発明のいくつかのフィーチャを独立して利用することも可能である。付属の請求項に記載の本発明の精神及び範囲を逸脱することなく、本明細書に記載の要素に変更を加えることが可能である。

フーリエフィルタを含むシステムの一例の側面図を例示した概略図である。 漸変フーリエフィルタの振幅透過を例示したグラフである。 周期的な鋸歯状部分を含むフーリエフィルタの実施形態の１つに関する平面図を例示した概略図である。 周期的な鋸歯状部分を含むフーリエフィルタの実施形態の１つに関する回折パターンを例示した概略図である。 周期的な鋸歯状部分を含むフーリエフィルタの異なる実施形態に関する平面図を例示した概略図である。 周期的な鋸歯状部分を含むフーリエフィルタの異なる実施形態に関する平面図を例示した概略図である。 フーリエフィルタの回折及び非回折成分の分離を例示したグラフである。 鋸歯状部分を含まないフーリエフィルタ、及び、移行領域幅が１．０ｍｍの周期的な鋸歯状部分を含むフーリエフィルタの異なる実施形態についてシミュレートした回折パターンを例示したグラフである。 異なる移行領域幅を有する周期的な鋸歯状部分と、周期的な鋸歯状部分の長さに沿って正弦変化する周期的な鋸歯状部分幅を有するフーリエフィルタについてシミュレートした回折パターンを例示したグラフである。 異なる移行領域幅を有する周期的な鋸歯状部分と、周期的な鋸歯状部分の長さに沿って線形に変化する周期的な鋸歯状部分幅を有するフーリエフィルタについてシミュレートした回折パターンを例示したグラフである。 検査システムの実施形態の１つの側面図を例示した概略図である。

Claims (21)

1. ウェハからの光の一部を遮断するように構成されたフーリエフィルタであって、
   前記光の一部を遮断するように構成された１つ以上の遮断要素と、
   前記１つ以上の遮断要素のエッジに形成された周期的な鋸歯状部分と
   を含み、
   前記周期的な鋸歯状部分によって前記１つ以上の遮断要素の移行領域が形成され、前記周期的な鋸歯状部分が、前記移行領域における透過度を、前記移行領域両端間における透過度変化がほぼ平滑になるように変化させるべく構成されていることを特徴とするフーリエフィルタ。
2. 前記周期的な鋸歯状部分の周期が、ゼロ次以外の全ての回折次数光が像平面において光電性素子外に向けられるように選択されることを特徴とする請求項１に記載のフーリエフィルタ。
3. 前記周期的な鋸歯状部分が、さらに像平面において近隣光電性素子に入射するゼロ次光の回折を大幅に減少させるように構成されることを特徴とする請求項１に記載のフーリエフィルタ。
4. 前記周期的な鋸歯状部分が、さらに前記フーリエフィルタによって透過された光のＳ／Ｎ比の大幅低下を阻止するように構成されることを特徴とする請求項１に記載のフーリエフィルタ。
5. 前記透過度が平均透過度であることを特徴とする請求項１に記載のフーリエフィルタ。
6. 前記透過度変化に１つ以上の局部的最小透過度が含まれることを特徴とする請求項１に記載のフーリエフィルタ。
7. 前記周期的な鋸歯状部分の幅が、前記周期的な鋸歯状部分の長さにわたってほぼ正弦変化することを特徴とする請求項１に記載のフーリエフィルタ。
8. 前記周期的な鋸歯状部分の幅が、前記周期的な鋸歯状部分の長さにわたってほぼ線形に変化することを特徴とする請求項１に記載のフーリエフィルタ。
9. 前記周期的な鋸歯状部分が、前記１つ以上の遮断要素のエッジに沿って対称に配置されることを特徴とする請求項１に記載のフーリエフィルタ。
10. 前記周期的な鋸歯状部分が、前記１つ以上の遮断要素のエッジに沿って非対称に配置されることを特徴とする請求項１に記載のフーリエフィルタ。
11. ウェハからの光の一部を遮断するように構成されたフーリエフィルタであって、前記光の一部を遮断するように構成された１つ以上の遮断要素を含み、前記１つ以上の遮断要素が透過度の変化する移行領域をそなえ、前記移行領域が物理的には平滑でなく、前記移行領域が光学的には平滑であることを特徴とする、フーリエフィルタ。
12. ウェハ上の欠陥を検出するように構成された検査システムであって、
    １つ以上の遮断要素のエッジに形成された周期的な鋸歯状部分を含むフーリエフィルタ及びそのフーリエフィルタによって透過された光を検出するように構成された検出器を含み、
    前記１つ以上の遮断要素が、前記ウェハから戻される光の一部を遮断するように構成されており、前記周期的な鋸歯状部分によって前記１つ以上の遮断要素の移行領域が形成されており、前記周期的な鋸歯状部分が、前記移行領域における透過度を、前記移行領域両端間における透過度変化がほぼ平滑になるように変化させるように構成されており、
    前記検出器によって発生する信号を利用して、前記ウェハ上の欠陥を検出することを特徴とするシステム。
13. 前記鋸歯状部分の周期が、ゼロ次以外の全ての回折次数光が前記検出器の光電性素子外に向けられるように選択されることを特徴とする請求項１２に記載のシステム。
14. さらに、前記周期的な鋸歯状部分が、前記検出器の近隣光電性素子に入射するゼロ次光の回折を大幅に減少させるように構成されることを特徴とする請求項１２に記載のシステム。
15. さらに、前記周期的な鋸歯状部分が、前記フーリエフィルタによって透過された光のＳ／Ｎ比の大幅低下を阻止するように構成されることを特徴とする請求項１２記載のシステム。
16. 前記透過度が平均透過度であることを特徴とする請求項１２に記載のシステム。
17. 前記透過度変化に１つ以上の局部的最小透過度が含まれることを特徴とする請求項１２に記載のシステム。
18. 前記周期的な鋸歯状部分の幅が、前記周期的な鋸歯状部分の長さにわたってほぼ正弦変化することを特徴とする請求項１２記載のシステム。
19. 前記周期的な鋸歯状部分の幅が、前記周期的な鋸歯状部分の長さにわたってほぼ線形に変化することを特徴とする請求項１２に記載のシステム。
20. 前記周期的な鋸歯状部分が、前記１つ以上の遮断要素のエッジに沿って対称に配置されることを特徴とする請求項１２に記載のシステム。
21. 前記周期的な鋸歯状部分が、前記１つ以上の遮断要素のエッジに沿って非対称に配置されることを特徴とする請求項１２に記載のシステム。

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