WO2020022150A1 - 電磁波検出装置および情報取得システム - Google Patents

電磁波検出装置および情報取得システム Download PDF

Info

Publication number
WO2020022150A1
WO2020022150A1 PCT/JP2019/028120 JP2019028120W WO2020022150A1 WO 2020022150 A1 WO2020022150 A1 WO 2020022150A1 JP 2019028120 W JP2019028120 W JP 2019028120W WO 2020022150 A1 WO2020022150 A1 WO 2020022150A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
electromagnetic wave
unit
detection device
wavelength band
state
Prior art date
Application number
PCT/JP2019/028120
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
絵梨 竹内
Original Assignee
京セラ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 京セラ株式会社 filed Critical 京セラ株式会社
Publication of WO2020022150A1 publication Critical patent/WO2020022150A1/ja

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02Details
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02Details
    • G01J1/04Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/48Thermography; Techniques using wholly visual means
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01SRADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S17/00Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
    • G01S17/87Combinations of systems using electromagnetic waves other than radio waves
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01SRADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S17/00Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
    • G01S17/88Lidar systems specially adapted for specific applications
    • G01S17/89Lidar systems specially adapted for specific applications for mapping or imaging
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01SRADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S7/00Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
    • G01S7/48Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
    • G01S7/481Constructional features, e.g. arrangements of optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/28Systems for automatic generation of focusing signals
    • G02B7/30Systems for automatic generation of focusing signals using parallactic triangle with a base line
    • G02B7/32Systems for automatic generation of focusing signals using parallactic triangle with a base line using active means, e.g. light emitter
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/28Systems for automatic generation of focusing signals
    • G02B7/40Systems for automatic generation of focusing signals using time delay of the reflected waves, e.g. of ultrasonic waves
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B13/00Viewfinders; Focusing aids for cameras; Means for focusing for cameras; Autofocus systems for cameras
    • G03B13/32Means for focusing
    • G03B13/34Power focusing
    • G03B13/36Autofocus systems
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof

Definitions

  • the present invention relates to an electromagnetic wave detection device and an information acquisition system.
  • the electromagnetic wave detection device includes: A plurality of pixels are arranged along a reference plane, and a switching unit that can switch between a state in which the electromagnetic wave incident on the reference plane travels in a first direction and a state in which the electromagnetic wave travels in a second direction for each pixel, A first passage section, wherein the transmittance of the electromagnetic wave in the first wavelength band is larger than the transmittance of the electromagnetic wave in the other wavelength band; A first detection unit that detects an electromagnetic wave traveling in the first direction and passing through the first passage unit.
  • the information acquisition system includes: A plurality of pixels are arranged along a reference plane, and a switching unit that can switch between a state in which the electromagnetic wave incident on the reference plane travels in a first direction and a state in which the electromagnetic wave travels in a second direction for each pixel, A first passage section, wherein the transmittance of the electromagnetic wave in the first wavelength band is larger than the transmittance of the electromagnetic wave in the other wavelength band; A first detection unit that detects an electromagnetic wave traveling in the first direction and passing through the first passage unit; A control unit configured to acquire information on surroundings based on detection results of the electromagnetic waves by the first detection unit and the second detection unit.
  • the solution of the present disclosure has been described as an apparatus and a system.
  • the present disclosure can also be realized as an embodiment including these, and a method, a program, It should be understood that the present invention can also be realized as a storage medium on which a program is recorded, and these are also included in the scope of the present disclosure.
  • FIG. 1 is a configuration diagram illustrating a schematic configuration of an information acquisition system including an electromagnetic wave detection device according to a first embodiment.
  • FIG. 2 is a configuration diagram of an information acquisition system for describing a traveling direction of an electromagnetic wave in a first state and a second state of a pixel in a switching unit of the electromagnetic wave detection device in FIG. 1.
  • FIG. 2 is a diagram illustrating spectral characteristics of a bandpass filter included in a first pass unit of FIG. 1.
  • 2 is a timing chart illustrating the timing of electromagnetic wave irradiation and the timing of detection for explaining the principle of distance measurement by a distance measurement sensor configured by an irradiation unit, a first detection unit, and a control unit in FIG. 1.
  • FIG. 5 is a timing chart for explaining control of each part for a control unit to repeatedly acquire image information and distance information in the first embodiment.
  • FIG. 2 is a configuration diagram of an information acquisition system for describing a traveling state of an electromagnetic wave when an arbitrary pixel of a switching unit is in a second state in the first embodiment.
  • FIG. 7 is a configuration diagram of an information acquisition system for explaining a traveling state of an electromagnetic wave when only an arbitrary pixel in FIG. 6 is in a first state.
  • FIG. 7 is a configuration diagram illustrating an example of a schematic configuration of an information acquisition system including an electromagnetic wave detection device according to a second embodiment.
  • FIG. 9 is a diagram illustrating spectral characteristics of a first band-pass filter and a second band-pass filter included in a first pass unit of FIG. 8.
  • FIG. 13 is a configuration diagram illustrating an example of a schematic configuration of an information acquisition system including an electromagnetic wave detection device according to a third embodiment.
  • FIG. 13 is a diagram illustrating spectral characteristics of a band-pass filter and a short-pass filter included in a first pass unit of FIG. 11.
  • FIG. 14 is a configuration diagram illustrating an example of a schematic configuration of an information acquisition system including an electromagnetic wave detection device according to a fourth embodiment.
  • FIG. 15 is a diagram illustrating spectral characteristics of a band-pass filter and a long-pass filter included in a first pass unit of FIG. 14. It is a lineblock diagram showing other examples of a schematic structure of an information acquisition system containing an electromagnetic wave detecting device concerning a 4th embodiment.
  • FIG. 14 is a configuration diagram illustrating an example of a schematic configuration of an information acquisition system including an electromagnetic wave detection device according to a fifth embodiment.
  • FIG. 18 is a diagram illustrating spectral characteristics of a short-pass filter and a long-pass filter included in a first passing unit in FIG. 17. It is a lineblock diagram showing other examples of a schematic structure of an information acquisition system containing an electromagnetic wave detecting device concerning a 5th embodiment.
  • a difference in a coordinate system in detection results of each detector is reduced, and accuracy of various information generated based on the electromagnetic waves is improved. It is beneficial.
  • an object of the present disclosure made in view of the above-described problems of the related art is to reduce a difference in a coordinate system in detection results by a plurality of detectors that detect electromagnetic waves, and to reduce various types of electromagnetic waves generated based on the electromagnetic waves. The accuracy of this information can be improved.
  • the electromagnetic wave detection device to which the present invention is applied is configured to reduce the difference in the detection axis of each detector, thereby reducing the difference in the coordinate system in the detection result by each detector.
  • the electromagnetic wave detection device to which the present invention is applied is configured to reduce the input of wavelengths other than the wavelength band to be detected in each detector, thereby improving the accuracy in generating various types of information based on electromagnetic waves. Can improve.
  • an information acquisition system 11 including an electromagnetic wave detection device 10 according to the first embodiment of the present disclosure includes an electromagnetic wave detection device 10, an irradiation unit 12, a scanning unit 13, and a control unit 14. Have been.
  • broken lines connecting functional blocks indicate the flow of control signals or information to be communicated.
  • the communication indicated by the broken line may be wire communication or wireless communication.
  • a solid line protruding from each functional block indicates a beam-like electromagnetic wave.
  • the electromagnetic wave detection device 10 includes a front optical system 15, a switching unit 16, a first passing unit 17, a second passing unit 18, a first rear optical system 19, a second rear optical system 20, a first detecting unit. 21 and a second detection unit 22.
  • the front optical system 15 includes, for example, at least one of a lens and a mirror, and forms an image of a target ob which is a subject.
  • the switching unit 16 is provided at or near a primary image forming position, which is an image forming position by the previous optical system 15, of an image of the target ob at a predetermined distance from the previous optical system 15. It should just be.
  • the switching unit 16 is provided at the primary imaging position.
  • the switching unit 16 has a reference surface ss on which the electromagnetic wave that has passed through the preceding optical system 15 is incident.
  • the reference plane ss is composed of a plurality of pixels px arranged in a two-dimensional manner.
  • the reference surface ss is a surface that causes an electromagnetic wave to have an action such as reflection and transmission in at least one of a first state and a second state described later.
  • the switching unit 16 can switch, for each pixel px, between a first state in which the electromagnetic wave incident on the reference surface ss advances in the first direction d1 and a second state in which the electromagnetic wave advances in the second direction d2. is there.
  • the first state is a first reflection state in which the electromagnetic wave incident on the reference surface ss is reflected in the first direction d1.
  • the second state is a second reflection state in which the electromagnetic wave incident on the reference surface ss is reflected in the second direction d2.
  • the switching unit 16 more specifically includes a reflection surface that reflects an electromagnetic wave for each pixel px.
  • the switching unit 16 switches the first reflection state and the second reflection state for each pixel px by changing the direction of the reflection surface for each pixel px.
  • the switching unit 16 includes, for example, a digital micromirror device (DMD).
  • the DMD can switch the reflection surface to any one of + 12 ° and ⁇ 12 ° with respect to the reference surface ss for each pixel px by driving the minute reflection surface forming the reference surface ss. .
  • the reference surface ss is parallel to the plate surface of the substrate on which the minute reflecting surface of the DMD is placed.
  • the switching unit 16 switches between the first state and the second state for each pixel px based on the control of the control unit 14 described later. For example, as illustrated in FIG. 2, the switching unit 16 can simultaneously switch some of the pixels px1 to the first state to cause the electromagnetic waves incident on the pixel px1 to travel in the first direction d1. By switching some of the pixels px2 to the second state, the electromagnetic wave incident on the pixels px2 can be advanced in the second direction d2. In addition, the switching unit 16 switches the same pixel px from the first state to the second state, so that the electromagnetic wave incident on the pixel px is directed in the second direction d2 after the first direction d1. Let it proceed.
  • the first passing unit 17 is provided from the switching unit 16 in the first direction d1.
  • the first passing unit 17 allows the electromagnetic waves in the first wavelength band among the electromagnetic waves traveling in the first direction d1 from the switching unit 16 to pass at a higher transmittance than the electromagnetic waves in the other wavelength bands. That is, the transmittance of the first wavelength band of the electromagnetic wave in the first wavelength band is higher than the transmittance of the electromagnetic wave in the first wavelength band other than the first wavelength band.
  • the first wavelength band may be a wavelength band having a transmittance of 50% or more of the maximum transmittance.
  • the first wavelength band is a wavelength band of an electromagnetic wave to be detected by the first detection unit 21 to generate distance information described later. As shown in FIG. 3, the first wavelength band at least partially overlaps with the wavelength band of the electromagnetic wave radiated by the irradiation unit 12.
  • the first wavelength band may include all the wavelength bands of the electromagnetic waves emitted by the irradiation unit 12.
  • the first wavelength band may coincide with the wavelength band of the electromagnetic wave radiated by the irradiation unit 12.
  • the first wavelength band may be, for example, an infrared wavelength band.
  • the first wavelength band may include all the wavelength bands of the electromagnetic wave that can be detected by the first detection unit 21.
  • the first wavelength band may coincide with the wavelength band of the electromagnetic wave that can be detected by the first detection unit 21.
  • the first pass unit 17 has one or a combination of a long-pass filter, a short-pass filter, and a band-pass filter. As shown in FIG. 1, in the first embodiment, the first passing unit 17 has a bandpass filter 17a.
  • the band-pass filter allows the electromagnetic waves in the first predetermined wavelength band to pass at a higher transmittance than the electromagnetic waves in the other than the first predetermined wavelength band.
  • the first wavelength band of the first passing unit 17 corresponds to a first predetermined wavelength band of the bandpass filter 17a.
  • the second passage section 18 is provided in the second direction d2 from the switching section 16.
  • the second passing unit 18 allows the electromagnetic wave in the second wavelength band among the electromagnetic waves traveling in the second direction d2 from the switching unit 16 to pass at a higher transmissivity than the electromagnetic waves other than the second wavelength band. That is, the transmittance of the second passage section 18 for electromagnetic waves in the second wavelength band is higher than the transmittance for electromagnetic waves other than the second wavelength band.
  • the second passage section 18 can be a filter different from the first passage section 17.
  • the second passage section 18 may be a filter of the same type as the first passage section 17.
  • the second wavelength band is a wavelength band of an electromagnetic wave to be detected by the second detection unit 22 to generate image information, temperature information, and the like described later.
  • the second passing unit 18 includes, for example, at least one of an IR (infrared) cut filter and a dichroic mirror.
  • the second wavelength band may include all the wavelength bands of the electromagnetic wave that can be detected by the second detection unit 22.
  • the second wavelength band may match the wavelength band of the electromagnetic wave that can be detected by the second detection unit 22.
  • the first rear optical system 19 is provided in the first direction d1 from the first passage portion 17.
  • the first rear optical system 19 includes, for example, at least one of a lens and a mirror.
  • the traveling direction of the first rear optical system 19 is switched to the first direction d ⁇ b> 1 by the switching unit 16, and an image of the target ob as an electromagnetic wave passing through the first passing unit 17 is formed.
  • the second rear optical system 20 is provided in the second direction d2 from the second passage portion 18.
  • the second post-stage optical system 20 includes, for example, at least one of a lens and a mirror.
  • the traveling direction of the second rear optical system 20 is switched to the second direction d ⁇ b> 2 by the switching unit 16, and an image of the target ob as an electromagnetic wave passing through the second passing unit 18 is formed.
  • the first detection unit 21 is provided on a path of an electromagnetic wave that travels in the first direction d1 by the switching unit 16 and travels through the first post-stage optical system 19 after passing through the second passage unit 18. Have been.
  • the first detection unit 21 detects an electromagnetic wave that has passed through the first post-stage optical system 19, that is, an electromagnetic wave that has traveled in the first direction d1.
  • the first detection unit 21 is an active sensor that detects a reflected wave of the electromagnetic wave emitted from the irradiation unit 12 toward the target ob from the target ob. Note that, in the first embodiment, the first detection unit 21 reflects the electromagnetic wave emitted from the irradiation unit 12 and reflected by the scanning unit 13 to the object ob and reflected from the object ob. Is detected.
  • the electromagnetic wave emitted from the irradiation unit 12 may be, for example, infrared light.
  • the first detection unit 21 more specifically includes an element constituting a distance measurement sensor.
  • the first detection unit 21 includes a single element such as an APD (Avalanche @ PhotoDiode), a PD (PhotoDiode), and a ranging image sensor.
  • the first detection unit 21 may include an element array such as an APD array, a PD array, a ranging imaging array, and a ranging image sensor.
  • the first detection unit 21 transmits detection information indicating that a reflected wave from a subject has been detected to the control unit 14 as a signal. More specifically, the first detector 21 detects electromagnetic waves in the infrared band.
  • the first detection unit 21 is only required to be able to detect an electromagnetic wave in the configuration that is a single element constituting the above-described distance measurement sensor, and does not need to form an image on the detection surface. Therefore, the first detection unit 21 does not need to be provided at the secondary imaging position, which is the imaging position of the first post-stage optical system 19. That is, in this configuration, if the electromagnetic waves from all angles of view can be incident on the detection surface in this configuration, the first detection unit 21 performs the first It may be arranged anywhere on the path of the electromagnetic wave traveling via the rear optical system 19.
  • the second detection unit 22 travels in the second direction d2 by the switching unit 16, and on the path of the electromagnetic wave that travels via the second post-stage optical system 20 after passing through the second passing unit 18, Is provided.
  • the second detection unit 22 detects an electromagnetic wave that has passed through the second post-stage optical system 20, that is, an electromagnetic wave that has traveled in the second direction d2.
  • the second detection unit 22 is a passive sensor.
  • the second detection unit 22 more specifically includes an element array.
  • the second detection unit 22 includes an image sensor such as an image sensor or an imaging array, captures an image formed by an electromagnetic wave on the detection surface, and generates image information corresponding to the captured object ob.
  • the second detection unit 22 captures a visible light image more specifically.
  • the second detection unit 22 transmits the generated image information to the control unit 14 as a signal.
  • the second detector 22 detects electromagnetic waves different from the first detector 21.
  • the second detection unit 22 may capture an image other than visible light, such as an infrared light image.
  • the second detection unit 22 may include a thermo sensor.
  • the electromagnetic wave detection device 10 can acquire the temperature information by the second detection unit 22.
  • the second detector 22 may detect the same type of electromagnetic wave as the first detector 21.
  • the second detection unit 22 includes the element array. Therefore, in the first embodiment, the second detection unit 22 couples the incident electromagnetic wave on the detection surface. When an image is formed, the formed electromagnetic wave enters each element, so that the resolution can be improved. Therefore, the second detection unit 22 may be provided at a secondary imaging position, which is an imaging position of the second post-stage optical system 20.
  • the irradiation unit 12 emits at least one of infrared light, visible light, ultraviolet light, and radio waves. In the first embodiment, the irradiation unit 12 emits infrared light.
  • the irradiating unit 12 irradiates the radiated electromagnetic wave directly or indirectly via the scanning unit 13 to the target ob. In the first embodiment, the irradiating unit 12 indirectly irradiates the radiated electromagnetic wave to the object ob via the scanning unit 13.
  • the irradiating unit 12 emits a narrow-width, for example, 0.5 ° beam-shaped electromagnetic wave.
  • the irradiation unit 12 can emit an electromagnetic wave in a pulsed manner.
  • the irradiation unit 12 includes an LED (Light Emitting Diode), an LD (Laser Diode), and the like. The irradiation unit 12 switches between emission and stop of electromagnetic waves based on the control of the control unit 14 described below.
  • the scanning unit 13 changes the irradiation position of the electromagnetic wave irradiated on the target ob by reflecting the electromagnetic wave emitted from the irradiation unit 12 while changing its direction. That is, the scanning unit 13 scans the target ob with the electromagnetic waves emitted from the irradiation unit 12. Therefore, in the first embodiment, the first detecting unit 21 constitutes a scanning type distance measuring sensor in cooperation with the scanning unit 13. The scanning unit 13 scans the target ob in the one-dimensional direction or the two-dimensional direction. In the first embodiment, the scanning unit 13 scans the target ob in a two-dimensional direction.
  • the scanning unit 13 is configured such that at least a part of the irradiation area of the electromagnetic wave radiated and reflected from the irradiation unit 12 is included in the electromagnetic wave detection range of the electromagnetic wave detection device 10. Therefore, at least a part of the electromagnetic wave applied to the target ob via the scanning unit 13 can be detected by the electromagnetic wave detection device 10.
  • the scanning unit 13 is configured such that at least a part of the irradiation area of the electromagnetic wave radiated from the irradiation unit 12 and reflected by the scanning unit 13 is included in the detection range of the first detection unit 21. It is configured. Therefore, in the first embodiment, at least a part of the electromagnetic wave applied to the target ob via the scanning unit 13 can be detected by the first detection unit 21.
  • the scanning unit 13 includes, for example, a MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) mirror, a polygon mirror, a galvano mirror, and the like. In the first embodiment, the scanning unit 13 includes a MEMS mirror.
  • MEMS Micro Electro Mechanical Systems
  • the scanning unit 13 changes the direction in which the electromagnetic wave is reflected based on the control of the control unit 14 described below.
  • the scanning unit 13 may include an angle sensor such as an encoder, for example, and may notify the control unit 14 of the angle detected by the angle sensor as direction information for reflecting electromagnetic waves.
  • the control unit 14 can calculate the irradiation position based on the direction information acquired from the scanning unit 13.
  • the control unit 14 can calculate the irradiation position based on a drive signal input to cause the scanning unit 13 to change the direction in which the electromagnetic wave is reflected.
  • the control unit 14 includes one or more processors and a memory.
  • the processor may include at least one of a general-purpose processor that reads a specific program and executes a specific function, and a dedicated processor specialized for a specific process.
  • the special purpose processor may include an application specific integrated circuit (ASIC; Application ⁇ Specific ⁇ Integrated ⁇ Circuit).
  • the processor may include a programmable logic device (PLD; Programmable Logic Device).
  • the PLD may include an FPGA (Field-Programmable Gate Array).
  • the control unit 14 may include at least one of an SoC (System-on-a-Chip) in which one or a plurality of processors cooperate, and a SiP (System ⁇ In ⁇ a ⁇ Package).
  • the control unit 14 acquires information about the periphery of the electromagnetic wave detection device 10 based on the electromagnetic waves detected by the first detection unit 21 and the second detection unit 22, respectively.
  • the information about the surroundings is, for example, image information, distance information, and temperature information.
  • the control unit 14 irradiates the irradiation unit 12 based on the detection information detected by the first detection unit 21 by using a Time-of-Flight (ToF) method as described below.
  • the distance information of the irradiation position to be performed is acquired.
  • the control unit 14 acquires the electromagnetic wave detected as an image by the second detection unit 22 as image information.
  • the control unit 14 causes the irradiation unit 12 to emit a pulsed electromagnetic wave by inputting the electromagnetic wave emission signal to the irradiation unit 12 (refer to the column of “electromagnetic wave emission signal”).
  • the irradiating unit 12 irradiates an electromagnetic wave based on the input electromagnetic wave radiation signal (see the “irradiating unit radiation amount” column).
  • the electromagnetic wave emitted from the irradiation unit 12 and reflected by the scanning unit 13 and applied to an arbitrary irradiation area is reflected in the irradiation area.
  • the first detection unit 21 notifies the control unit 14 of the detection information as described above.
  • the control unit 14 has, for example, a time measurement LSI (Large Scale Integrated circuit), and acquires detection information from the time T1 at which the irradiation unit 12 emits the electromagnetic wave (see the “detection information acquisition” column). The time ⁇ T until T2 is measured. The control unit 14 calculates the distance to the irradiation position by multiplying the time ⁇ T by the speed of light and dividing by 2. In addition, the control unit 14 calculates the irradiation position based on the direction information acquired from the scanning unit 13 or the driving signal output to the scanning unit 13 as described above. The control unit 14 creates distance information in the image information obtained from the second detection unit 22 by calculating the distance to each irradiation position while changing the irradiation position.
  • LSI Large Scale Integrated circuit
  • the information acquisition system 11 is configured to irradiate a laser beam and create distance information by using Direct @ ToF, which directly measures the time until returning.
  • the information acquisition system 11 is not limited to such a configuration.
  • the information acquisition system 11 irradiates an electromagnetic wave at a constant cycle, and obtains distance information by Flash @ ToF which indirectly measures a time until the electromagnetic wave is returned from a phase difference between the emitted electromagnetic wave and the returned electromagnetic wave. May be created.
  • the information acquisition system 11 may create the distance information by another ToF method, for example, Phased @ ToF.
  • the control unit 14 controls the irradiation unit 12, the scanning unit 13, the switching unit 16, the first detection unit 21, and the second detection unit 22 to repeatedly acquire image information and distance information. Control of each part for repeatedly acquiring image information and distance information will be described below with reference to the timing chart of FIG.
  • the control unit 14 causes the second detection unit 22 to start detecting an electromagnetic wave for generating image information of the first frame.
  • all the pixels px of the switching unit 16 are in the second state, and the electromagnetic wave incident on the upstream optical system 15 reaches the second detection unit 22 (see FIG. 6).
  • the control unit 14 starts switching of the first pixel px from the second state to the first state in the switching unit 16 (“switching unit first”). Pixel drive signal ”section).
  • all the other pixels px remain in the second state (see the “switching unit second pixel state” and “switching unit Nth pixel state” columns).
  • the control unit 14 Emit electromagnetic waves (see “Electromagnetic wave emission timing” column).
  • the first pixel px of the switching unit 16 switches from the second state (see FIG. 6) to the first state, enters the pre-stage optical system 15, and the first pixel px of the switching unit 16
  • the electromagnetic wave imaged at the pixel px proceeds in the first direction d1 after the second direction d2 (see FIG. 7).
  • the control unit 14 causes the first detection unit 21 to detect the electromagnetic wave (see the “second detection unit detection timing” section). Note that the time required from the irradiation of the electromagnetic wave by the irradiation unit 12 to the arrival at the electromagnetic wave detection device 10 is extremely shorter than the detection time for generating image information, for example, on the order of nanoseconds. Therefore, the detection of the electromagnetic wave by the first detection unit 21 is completed in a minute time that can be regarded as the timing t2.
  • the control unit 14 obtains the distance information by calculating the distance information at the irradiation position corresponding to the first pixel px of the switching unit 16 based on the detection information obtained at the timing t2.
  • the control unit 14 causes the switching unit 16 to start switching the first pixel px from the first state to the second state (see the “switching unit first pixel drive signal” column). .
  • the control unit 14 switches the first pixel px in the switching unit 16 from the first state to the second state, so that the second detection unit 22 in the second detection unit 22 corresponding to the first pixel px again switches to the first state.
  • the element can detect electromagnetic waves (visible light).
  • the control unit 14 switches to the switching unit.
  • the switching of the second pixel px from the second state to the first state at 16 is started (see the “switching section second pixel drive signal” column).
  • all the other pixels px remain in the second state (see the “switching section first pixel state” and “switching section Nth pixel state” columns).
  • the control unit 14 Emit electromagnetic waves (see “Electromagnetic wave emission timing” column).
  • the second pixel px of the switching unit 16 switches from the second state to the first state, enters the pre-stage optical system 15, and forms an image at the second pixel px of the switching unit 16.
  • the traveling electromagnetic wave proceeds in the first direction d1 after the second direction d2.
  • the control unit 14 causes the first detection unit 21 to detect the electromagnetic wave (see the “second detection unit detection timing” section).
  • the control unit 14 acquires the distance information by calculating the distance information at the irradiation position corresponding to the second pixel px of the switching unit 16 based on the detection information acquired at the timing t4.
  • the control unit 14 causes the switching unit 16 to start switching the second pixel px from the first state to the second state (see the “Switching Unit Second Pixel Drive Signal” section). .
  • the control unit 14 switches the second pixel px in the switching unit 16 from the first state to the second state, so that the control unit 14 again controls the second detection unit 22 corresponding to the second pixel px.
  • the element can detect electromagnetic waves (visible light).
  • control unit 14 sequentially switches the third pixel px to the N-th pixel px in the switching unit 16 from the second state to the first state in the same manner as the first pixel px.
  • the image information of the first frame is obtained and the distance information at the irradiation position corresponding to each pixel px is obtained.
  • the control unit 14 determines that the (M-1) -th pixel px is in the second state of the M-th pixel px at the time when the switching from the first state to the second state is completed.
  • the switching unit 16 sets the number of pixels px of T img / T dis to the time T img for generating the image information of one frame.
  • the second state can be switched to the first state. That is, the control unit 14 can generate distance information for the number of pixels px of T img / T dis at the time T img .
  • M is an integer satisfying 2 ⁇ M ⁇ N.
  • T dis is a time obtained by adding a time required for switching the pixel px of the switching unit 16 from the second state to the first state and a time required for returning the pixel px from the first state to the second state. It is. That is, T dis is the time required for an arbitrary pixel px to switch in the order of the second state, the first state, and the second state. In the first embodiment, for example, T img is 1/60 second and T dis is 1/3000 second.
  • the control unit 14 cannot switch all the pixels px in the switching unit 16 during the time T img . Therefore, the control unit 14 cannot generate the distance information corresponding to the one-frame image information while generating the one-frame image information. That is, the control unit 14 can generate only the distance information corresponding to a frame (for example, 0.5 frame) less than the one-frame image information while generating the one-frame image information.
  • the control unit 14 switches, among all the pixels px in the switching unit 16, pixels px that are equal to or less than the number of T img / T dis. Select as Further, the control unit 14 controls the scanning unit 13 to irradiate the region within the irradiation region corresponding to each pixel px with the electromagnetic wave at the time of switching each pixel px selected as a switching target to the first state. Control.
  • the control unit 14 in a configuration in which the value of T img / T dis is smaller than the number of pixels of the switching unit 16, the control unit 14 generates image information for a plurality of frames (P frame: P is a positive number satisfying P> 1). May be controlled so that all the switching of the pixels px in the switching unit 16 is completed during the time P ⁇ T img for . Further, the control unit 14 controls the scanning unit 13 so that the electromagnetic wave is emitted to the area in the irradiation area corresponding to each pixel px when the switching unit 16 switches each pixel px.
  • the control unit 14 divides all the pixels px in the switching unit 16 into groups equal to or less than the number of T img / T dis , and The pixels px are switched collectively. Furthermore, the control unit 14 performs scanning so that an electromagnetic wave is emitted to an area in an irradiation area corresponding to the pixel px at a switching time of the pixel px at a position representative of each group (for example, the center position of each group).
  • the unit 13 may be controlled.
  • the control unit 14 divides all the pixels px in the switching unit 16 into groups equal to or less than the number of T img / T dis , and , Only one of the pixels px is switched. Further, the control unit 14 may control the scanning unit 13 such that the electromagnetic wave is emitted to a region in the irradiation region corresponding to the pixel px at the switching timing of the pixel px to be switched.
  • the control unit 14 may compensate for the reduced signal strength by multiplying the signal value of the pixel in the second detection unit 22 by a gain.
  • the imaging time of an image for one frame corresponds to a time during which the second detection unit 22 is detecting an electromagnetic wave in order to generate image information for one frame.
  • the control unit 14 controls the first (M ⁇ 1) -th pixel px of the pixel px.
  • the switching of the M-th pixel px from the second state to the first state may be started before the completion of the switching from the state to the second state.
  • T scn is the time required for the irradiation position of the electromagnetic wave radiated from the irradiation unit 12 and reflected by the scanning unit 13 to change from one irradiation position to the next irradiation position, or from a certain irradiation position to the next irradiation position.
  • the time required to change to a position has a greater number of pixels in a shorter time than the control of switching the other pixel to the first state after the completion of the switching of the arbitrary state of the pixel px from the first state to the second state. May be generated.
  • the control unit 14 2 The detection of the electromagnetic wave for generating the image information of the frame is started. After the detection of the electromagnetic wave by the second detection unit 22 from the timing t1 to the timing t5 is completed, the control unit 14 acquires the image information of the first frame based on the electromagnetic wave detected during that time. Thereafter, similarly to the control performed between the timings t1 and t5, the control unit 14 controls the irradiation unit 12, the scanning unit 13, the switching unit 16, and the first detection unit for acquiring image information and distance information. The control unit 21 and the second detection unit 22 are controlled.
  • the electromagnetic wave detection device 10 according to the first embodiment having the above-described configuration is switched between the first state and the second state for each pixel px arranged on the reference surface ss of the switching unit 16, and the switching unit 16 It is possible to detect an electromagnetic wave that has traveled in the first direction d1 and has passed through the first passage portion 17.
  • the electromagnetic wave detection device 10 of the first embodiment The wavelength of the electromagnetic wave incident on the first detection unit 21 can be defined.
  • the electromagnetic wave detection device 10 of the first embodiment can reduce the deviation of the optical axis of the first detection unit 21 and the second detection unit 22 and reduce only the electromagnetic wave of a desired wavelength band to the first detection unit. 21.
  • the electromagnetic wave detection device 10 of the first embodiment can detect only an electromagnetic wave in a wavelength band necessary for generating information based on the incident electromagnetic wave, and therefore, the electromagnetic wave detection device 10 generates the information based on the electromagnetic wave.
  • the accuracy of the information provided can be improved. It should be noted that such a configuration and effects are described below in an electromagnetic wave detecting device 100 according to a second embodiment, an electromagnetic wave detecting device 101 according to a third embodiment, an electromagnetic wave detecting device 102 according to a fourth embodiment, and a fifth embodiment. The same applies to the electromagnetic wave detection device 103 in the form.
  • an electromagnetic wave detection device 100 according to the second embodiment of the present disclosure will be described.
  • the configuration and function of the first passing unit are different from those of the first embodiment.
  • the second embodiment will be described focusing on the differences from the first embodiment. Parts having the same configuration as the first embodiment are denoted by the same reference numerals.
  • the information acquisition system 110 including the electromagnetic wave detection device 100 includes the electromagnetic wave detection device 100, the irradiation unit 12, the scanning unit 13, and the control unit 14. .
  • the electromagnetic wave detection device 100 includes a front optical system 15, a switching unit 16, a first passing unit 170, a second passing unit 18, a first rear optical system 19, a second rear optical system 20, a first detecting unit. 21 and a second detection unit 22.
  • the configuration and function of the detection unit 22 are the same as in the first embodiment.
  • the first passage section 170 is provided in the first direction d1 from the switching section 16 as in the first embodiment. Further, the first passing unit 170 converts the electromagnetic wave of the first wavelength band among the electromagnetic waves traveling in the first direction d1 from the switching unit 16 into the electromagnetic waves other than the first wavelength band, as in the first embodiment. Pass at a higher pass rate.
  • the first pass section 170 is configured to include a plurality of different bandpass filters.
  • the first pass section 170 has a first bandpass filter 170a and a second bandpass filter 170b.
  • the first bandpass filter 170a allows the electromagnetic waves of the second predetermined wavelength band to pass at a higher transmittance than the electromagnetic waves of the second predetermined wavelength band.
  • the second predetermined wavelength band may be, for example, a wavelength band having a transmittance of 50% or more of the maximum transmittance.
  • the second band-pass filter 170b allows the electromagnetic waves in the third predetermined wavelength band to pass at a higher transmission rate than the electromagnetic waves in the third predetermined wavelength band.
  • the third predetermined wavelength band may be, for example, a wavelength band having a transmittance of 50% or more of the maximum transmittance.
  • the first wavelength band corresponds to a wavelength band included in both the second predetermined wavelength band and the third predetermined wavelength band. Therefore, the first wavelength band included in both the second predetermined wavelength band and the third predetermined wavelength band is narrower than the second predetermined wavelength band and the third predetermined wavelength band.
  • the first band-pass filter 170a and the second band-pass filter 170b are arranged from the switching unit 16 in the first direction d1.
  • the first band-pass filter 170a is disposed closer to the switching unit 16 than the second band-pass filter 170b, and the second band-pass filter 170b is more than the first band-pass filter 170a. It is arranged on the rear optical system 19 side.
  • the first bandpass filter 170a is disposed closer to the first post-stage optical system 19 than the second bandpass filter 170b, and the second bandpass filter 170b is connected to the first bandpass filter 170a. You may arrange
  • the electromagnetic wave detection device 100 includes the first passing unit 170 having the first bandpass filter 170a and the second bandpass filter 170b.
  • the first wavelength band included in both the second predetermined wavelength band and the third predetermined wavelength band is higher than the second predetermined wavelength band and the third predetermined wavelength band. narrow.
  • the electromagnetic wave emitted by the irradiation unit 12 is, for example, a laser beam
  • the wavelength band of the electromagnetic wave is narrower than a general band-pass filter.
  • the wavelength band of the electromagnetic wave passed by the first passage section 170 can be narrower than in the case of using one band-pass filter.
  • the electromagnetic wave detection device 100 of the second embodiment can pass only electromagnetic waves in a wavelength band close to the wavelength band of the electromagnetic waves radiated by the irradiation unit 12. Therefore, the detection of the electromagnetic waves having different wavelength bands by the first detection unit 21 from other than the irradiation unit 12 can be reduced, and the electromagnetic waves irradiated from the irradiation unit 12 and reflected by the object ob can be reduced in all wavelength bands. And can be detected without omission. Therefore, information can be generated with higher accuracy than the electromagnetic wave detection device 10 of the first embodiment. Note that such configurations and effects are the same for the electromagnetic wave detection device 101 of the third embodiment, the electromagnetic wave detection device 102 of the fourth embodiment, and the electromagnetic wave detection device 103 of the fifth embodiment described below. .
  • an electromagnetic wave detection device 101 according to the third embodiment of the present disclosure will be described.
  • the configuration and function of the first passing unit are different from those of the first embodiment.
  • the third embodiment will be described focusing on the differences from the first embodiment. Parts having the same configuration as the first embodiment are denoted by the same reference numerals.
  • the information acquisition system 111 including the electromagnetic wave detection device 101 includes the electromagnetic wave detection device 101, the irradiation unit 12, the scanning unit 13, and the control unit 14. .
  • the electromagnetic wave detection device 101 includes a front optical system 15, a switching unit 16, a first passing unit 171, a second passing unit 18, a first rear optical system 19, a second rear optical system 20, a first detecting unit. 21 and a second detection unit 22.
  • the configuration and function of the detection unit 22 are the same as in the first embodiment.
  • the first passing unit 171 is provided in the first direction d1 from the switching unit 16 as in the first embodiment. Further, the first passing unit 171 converts the electromagnetic wave of the first wavelength band among the electromagnetic waves traveling from the switching unit 16 in the first direction d1 to the electromagnetic waves other than the first wavelength band, as in the first embodiment. Pass at a higher pass rate.
  • the first passing unit 171 has a band pass filter 171a and a short pass filter 171b.
  • the band-pass filter 171a allows an electromagnetic wave in the fourth predetermined wavelength band to pass at a higher transmission rate than electromagnetic waves in other than the fourth predetermined wavelength band.
  • the fourth predetermined wavelength band may be, for example, a wavelength band having a transmittance of 50% or more of the maximum transmittance.
  • the short-pass filter 171b allows an electromagnetic wave in a wavelength band shorter than the first wavelength to pass at a higher transmittance than an electromagnetic wave in a wavelength band equal to or longer than the first wavelength.
  • the first wavelength may be, for example, a wavelength having a transmittance of 50% of the maximum transmittance.
  • the first wavelength is included in a fourth predetermined wavelength band.
  • the first wavelength band corresponds to a band included in a fourth predetermined wavelength band and a wavelength band smaller than the first wavelength.
  • the band pass filter 171a and the short pass filter 171b are arranged in the first direction d1.
  • the band-pass filter 171a is arranged closer to the switching unit 16 than the short-pass filter 171b
  • the short-pass filter 171b is arranged closer to the first post-stage optical system 19 than the band-pass filter 171a.
  • the band-pass filter 171a may be arranged closer to the first post-stage optical system 19 than the short-pass filter 171b
  • the short-pass filter 171b may be arranged closer to the switching unit 16 than the band-pass filter 171a.
  • the electromagnetic wave detection device 101 of the third embodiment includes the first passing unit 171 having the band-pass filter 171a and the short-pass filter 171b. As shown in FIG. 12, the transmittance of the short-pass filter 171b with respect to the wavelength of the electromagnetic wave decreases near the first wavelength. This drop is steeper than the drop of the pass rate of the band pass filter 17a constituting the first pass section 17 in the electromagnetic wave detection device 10 of the first embodiment.
  • the band that changes from the maximum transmission rate to the minimum transmission rate is shorter than that of the band-pass filter 17a.
  • the changing band becomes shorter, an increase in the amount of electromagnetic waves reaching the first detection unit 21 and a reduction in noise components can be realized.
  • the design upper limit of the wavelength passed by the first passage unit 171 approaches the lower limit of the changing band, the amount of electromagnetic wave passing as a noise component in a band equal to or higher than the lower limit of the changing band increases. Because you do.
  • the short-pass filter 171b can reduce the noise component that passes on the longer wavelength side of the desired wavelength band and increase the amount of the desired electromagnetic wave that passes, as compared with the band-pass filter 17a.
  • Such configurations and effects are the same for the electromagnetic wave detection device 103 according to a fifth embodiment described later.
  • an electromagnetic wave detection device 102 according to the fourth embodiment of the present disclosure will be described.
  • the configuration and function of the first passing unit are different from those of the first embodiment.
  • the fourth embodiment will be described with a focus on differences from the first embodiment. Parts having the same configuration as the first embodiment are denoted by the same reference numerals.
  • the information acquisition system 112 including the electromagnetic wave detection device 102 includes the electromagnetic wave detection device 102, the irradiation unit 12, the scanning unit 13, and the control unit 14. .
  • the electromagnetic wave detection device 102 includes a front optical system 15, a switching unit 16, a first passing unit 172, a second passing unit 18, a first rear optical system 19, a second rear optical system 20, a first detecting unit. 21 and a second detection unit 22.
  • the front optical system 15, the switching unit 16, the second passing unit 18, the first rear optical system 19, the second rear optical system 20, the first detection unit 21, and the second The configuration and function of the detection unit 22 are the same as in the first embodiment.
  • the first passing unit 172 is provided in the first direction d1 from the switching unit 16 as in the first embodiment. Further, the first passing unit 172 converts the electromagnetic wave of the first wavelength band among the electromagnetic waves traveling in the first direction d1 from the switching unit 16 to the electromagnetic waves other than the first wavelength band, as in the first embodiment. Pass at a higher pass rate.
  • the first passing unit 172 has a band-pass filter 172a and a long-pass filter 172b.
  • the band-pass filter 172a allows an electromagnetic wave in the fifth predetermined wavelength band to pass at a higher pass rate than electromagnetic waves in other than the fifth predetermined wavelength band.
  • the fifth predetermined wavelength band may be, for example, a wavelength band having a transmittance of 50% or more of the maximum transmittance.
  • the long-pass filter 172b allows an electromagnetic wave in a wavelength band equal to or greater than the second wavelength to pass at a higher transmittance than an electromagnetic wave in a wavelength band less than the second wavelength.
  • the second wavelength may be, for example, a wavelength having a transmittance of 50% of the maximum transmittance.
  • the second wavelength is included in a fifth predetermined wavelength band.
  • the first wavelength band corresponds to a band included in the fifth predetermined wavelength band and included in a wavelength band longer than the second wavelength.
  • the band-pass filter 172a and the long-pass filter 172b are arranged in the first direction d1 from the switching unit 16.
  • the bandpass filter 172a is disposed closer to the switching unit 16 than the longpass filter 172b
  • the longpass filter 172b is disposed closer to the first post-stage optical system 19 than the bandpass filter 172a.
  • the band-pass filter 172a may be arranged closer to the first post-stage optical system 19 than the long-pass filter 172b
  • the long-pass filter 172b may be arranged closer to the switching unit 16 than the band-pass filter 172a.
  • the electromagnetic wave detection device 102 includes the first passing unit 172 having the band-pass filter 172a and the long-pass filter 172b. As shown in FIG. 15, the transmittance of the long-pass filter 172b with respect to the wavelength of the electromagnetic wave increases near the second wavelength. For this reason, similar to the third embodiment, the electromagnetic wave detection device 102 of the fourth embodiment is more desirable than the electromagnetic wave detection device 10 of the first embodiment on the short wavelength side in the first wavelength band. The amount of electromagnetic waves in the wavelength band can be increased, and the passage of electromagnetic waves outside the desired wavelength band that can be a noise component can be reduced. Note that such a configuration and effects are the same for an electromagnetic wave detection device 103 according to a fifth embodiment described later.
  • an electromagnetic wave detection device 103 according to the fifth embodiment of the present disclosure will be described.
  • the configuration and function of the first passing unit are different from those of the first embodiment.
  • the fifth embodiment will be described focusing on the differences from the first embodiment. Parts having the same configuration as the first embodiment are denoted by the same reference numerals.
  • the information acquisition system 113 including the electromagnetic wave detection device 103 is configured to include the electromagnetic wave detection device 103, the irradiation unit 12, the scanning unit 13, and the control unit 14. .
  • the electromagnetic wave detection device 103 includes a front optical system 15, a switching unit 16, a first passing unit 173, a second passing unit 18, a first rear optical system 19, a second rear optical system 20, a first detecting unit. 21 and a second detection unit 22.
  • the configuration and function of the detection unit 22 are the same as in the first embodiment.
  • the first passage portion 173 is provided in the first direction d1 from the switching portion 16 as in the first embodiment. Further, the first passing unit 173 converts the electromagnetic wave of the first wavelength band among the electromagnetic waves traveling in the first direction d1 from the switching unit 16 into the electromagnetic waves other than the first wavelength band, as in the first embodiment. Pass at a higher pass rate.
  • the first passing unit 173 has a short-pass filter 173a and a long-pass filter 173b.
  • the short-pass filter 173a allows an electromagnetic wave in a wavelength band shorter than the first wavelength to pass at a higher pass rate than an electromagnetic wave in a wavelength band equal to or longer than the first wavelength.
  • the first wavelength may be, for example, a wavelength having a transmittance of 50% of the maximum transmittance of the electromagnetic wave in the short-pass filter 173a.
  • the long-pass filter 173b allows an electromagnetic wave in a wavelength band equal to or greater than the second wavelength to pass at a higher transmittance than an electromagnetic wave in a wavelength band less than the second wavelength.
  • the second wavelength may be, for example, a wavelength having a transmittance of 50% of the maximum transmittance of the electromagnetic wave in the long-pass filter 173b.
  • the second wavelength is shorter than the first wavelength.
  • the first wavelength band corresponds to a wavelength band lower than the first wavelength and equal to or longer than the second wavelength.
  • the short pass filter 173a and the long pass filter 173b are arranged in the first direction d1.
  • the short-pass filter 173a is disposed closer to the switching unit 16 than the long-pass filter 173b
  • the long-pass filter 173b is disposed closer to the first post-stage optical system 19 than the short-pass filter 173a.
  • the short-pass filter 173a may be arranged closer to the first post-stage optical system 19 than the long-pass filter 173b
  • the long-pass filter 173b may be arranged closer to the switching unit 16 than the short-pass filter 173a.
  • the electromagnetic wave detection device 103 of the fifth embodiment is different from the electromagnetic wave detection device 103 of the fifth embodiment for the same reason as described in the third embodiment and the fourth embodiment.
  • the amount of electromagnetic waves in a desired wavelength band is increased as compared with the electromagnetic wave detection device 10 of the first embodiment, and other than the desired wavelength band that can be a noise component. Can be reduced.
  • the first detection unit 21 is not limited to the example described above, and may include an arbitrary number of band-pass filters, short-pass filters, and long-pass filters.
  • the irradiating unit 12, the scanning unit 13, and the control unit 14 include the electromagnetic wave detection devices 10, 100, 101, 102, and 103 together with the information acquisition systems 11, 110, respectively. , 111, 112, and 113.
  • each of the electromagnetic wave detection devices 10, 100, 101, 102, and 103 may include at least one of the irradiation unit 12, the scanning unit 13, and the control unit 14.
  • the switching unit 16 is capable of switching the traveling direction of the electromagnetic wave incident on the reference surface ss into two directions, a first direction d1 and a second direction d2.
  • the first state and the second state are such that the electromagnetic waves incident on the reference surface ss are reflected in the first direction d1, respectively.
  • the first state may be a transmission state in which an electromagnetic wave incident on the reference surface ss is transmitted and travels in the first direction d1.
  • the switching unit 16 may include a shutter having a reflection surface that reflects an electromagnetic wave for each pixel px.
  • the first reflection state and the transmission state as the second reflection state can be switched for each pixel px by opening and closing the shutter for each pixel px.
  • the switching unit 16 having such a configuration includes, for example, a switching unit including a MEMS shutter in which a plurality of shutters that can be opened and closed are arranged in an array.
  • the switching unit 16 includes a switching unit that includes a liquid crystal shutter that can switch between a reflection state in which electromagnetic waves are reflected and a transmission state in which electromagnetic waves are transmitted in accordance with liquid crystal alignment.
  • the reflection state as the second state and the transmission state as the first state can be switched for each pixel px by switching the liquid crystal alignment for each pixel px.
  • the information acquisition systems 11, 110, 111, 112, and 113 cause the scanning unit 13 to scan the beam-shaped electromagnetic waves emitted from the irradiation unit 12,
  • the first detection unit 21 is configured to function as a scanning active sensor in cooperation with the scanning unit 13.
  • the information acquisition system 11 is not limited to such a configuration.
  • the information acquisition systems 11, 110, 111, 112, and 113 do not include the scanning unit 13, emit radial electromagnetic waves from the irradiation unit 12, and acquire information without scanning. A similar effect is obtained.
  • the first detection unit 21 is an active sensor
  • the second detection unit 22 is a passive sensor. It has the composition which is.
  • the information acquisition system 11 is not limited to such a configuration.
  • the information acquisition system 11 can obtain the same effect as that of the first embodiment regardless of whether the first detection unit 21 and the second detection unit 22 are both active sensors or passive sensors.
  • the electromagnetic wave detection devices 10, 100, 101, Each of 102 and 103 has a configuration in which the first detection unit 21 and the second detection unit 22 are both passive sensors.
  • the electromagnetic wave detection devices 10, 100, 101, 102, and 103 are not limited to such a configuration.
  • the electromagnetic wave detection devices 10, 100, 101, 102, and 103 are both active sensors even if one of the first detection unit 21 and the second detection unit 22 is a passive sensor and the other is an active sensor. Similar effects can be obtained with a certain configuration.
  • the information acquisition systems 11, 110, 111, 112, and 113 may include a plurality of irradiation units 12.
  • the plurality of irradiation units 12 emit different kinds of electromagnetic waves.
  • the information acquisition systems 11, 110, 111, 112, and 113 may include a plurality of mirrors in the configuration including the plurality of irradiation units 12. The plurality of mirrors are provided in the radiation direction of the electromagnetic wave irradiated by the corresponding irradiation unit 12 among the plurality of irradiation units 12.
  • the information acquisition systems 11, 110, 111, 112, and 113 cause the scanning unit 13 to scan the beam-shaped electromagnetic waves emitted from the irradiation unit 12,
  • the second detection unit 22 is configured to function as a scanning active sensor in cooperation with the scanning unit 13.
  • the information acquisition systems 11, 110, 111, 112, and 113 are not limited to such a configuration.
  • a scanning active type is provided without a scanning unit 13 by a phased scanning method in which electromagnetic waves are emitted from each radiation source while shifting the emission timing.
  • the information acquisition systems 11, 110, 111, 112, and 113 do not include the scanning unit 13, emit radial electromagnetic waves from the irradiation unit 12, and acquire information without scanning. According to the embodiment, an effect similar to that of the fifth embodiment can be obtained.
  • Electromagnetic wave detection device 11 110, 111, 112, 113 Information acquisition system 12
  • Irradiation unit 13 Scanning unit 14
  • Control unit 15 Pre-stage optical system 16
  • Detection unit 22 second detection unit ss reference plane d1 first direction d2 second direction ob target px, px1, px2 pixels

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Remote Sensing (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Optical Radar Systems And Details Thereof (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Radiation Pyrometers (AREA)
  • Focusing (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

電磁波検出装置は、切替部と、第1の通過部と、第1の検出部と、を備える。切替部は、基準面に沿って複数の画素が配置され、基準面に入射した電磁波を画素毎に第1の方向へ進行させる状態と第2の方向へ進行させる状態とに切替可能である。第1の通過部は、第1の波長帯域の電磁波の通過率が、第1の波長帯域以外の電磁波の通過率よりも大きい。第1の検出部は、第1の方向へ進行して第1の通過部を通過した電磁波を検出する。

Description

電磁波検出装置および情報取得システム 関連出願の相互参照
 本出願は、2018年7月27日出願の日本国特許出願第2018-141786号の優先権を主張するものであり、当該出願の開示全体を、ここに参照のために取り込む。
 本発明は、電磁波検出装置および情報取得システムに関するものである。
 近年、電磁波を検出する複数の検出器による検出結果から周囲に関する情報を得る装置が開発されている。例えば、赤外線カメラで撮像した画像中の物体の位置を、レーザレーダを用いて測定する装置が知られている。(特許文献1参照)。
特開2011-220732号公報
 上述した諸課題を解決すべく、第1の観点による電磁波検出装置は、
 基準面に沿って複数の画素が配置され、前記基準面に入射した電磁波を前記画素毎に第1の方向へ進行させる状態と第2の方向へ進行させる状態とに切替可能な切替部と、
 第1の波長帯域の電磁波の通過率が、前記第1の波長帯域以外の電磁波の通過率よりも大きい第1の通過部と、
 前記第1の方向へ進行して前記第1の通過部を通過した電磁波を検出する第1の検出部と、を備える。
 また、第2の観点による情報取得システムは、
 基準面に沿って複数の画素が配置され、前記基準面に入射した電磁波を前記画素毎に第1の方向へ進行させる状態と第2の方向へ進行させる状態とに切替可能な切替部と、
 第1の波長帯域の電磁波の通過率が、前記第1の波長帯域以外の電磁波の通過率よりも大きい第1の通過部と、
 前記第1の方向へ進行して前記第1の通過部を通過した電磁波を検出する第1の検出部と、
 前記第1の検出部および前記第2の検出部による電磁波の検出結果に基づいて、周囲に関する情報を取得する制御部と、備える。
 上述したように本開示の解決手段を装置、およびシステムとして説明してきたが、本開示は、これらを含む態様としても実現し得るものであり、また、これらに実質的に相当する方法、プログラム、プログラムを記録した記憶媒体としても実現し得るものであり、本開示の範囲にはこれらも包含されるものと理解されたい。
第1の実施形態に係る電磁波検出装置を含む情報取得システムの概略構成を示す構成図である。 図1の電磁波検出装置の切替部における画素の第1の状態と第2の状態における電磁波の進行方向を説明するための、情報取得システムの構成図である。 図1の第1の通過部が有するバンドパスフィルタの分光特性を示す図である。 図1の照射部、第1の検出部、および制御部が構成する測距センサによる測距の原理を説明するための電磁波の照射の時期と検出の時期を示すタイミングチャートである。 第1の実施形態において制御部が画像情報および距離情報を繰返し取得するための各部位の制御を説明するためのタイミングチャートである。 第1の実施形態において切替部の任意の画素が第2の状態であるときの電磁波の進行状態を説明するための、情報取得システムの構成図である。 図6の任意の画素のみが第1の状態であるときの電磁波の進行状態を説明するための、情報取得システムの構成図である。 第2の実施形態に係る電磁波検出装置を含む情報取得システムの概略構成の一例を示す構成図である。 図8の第1の通過部が有する第1のバンドパスフィルタおよび第2のバンドパスフィルタの分光特性を示す図である。 第2の実施形態に係る電磁波検出装置を含む情報取得システムの概略構成の他の例を示す構成図である。 第3の実施形態に係る電磁波検出装置を含む情報取得システムの概略構成の一例を示す構成図である。 図11の第1の通過部が有するバンドパスフィルタおよびショートパスフィルタの分光特性を示す図である。 第3の実施形態に係る電磁波検出装置を含む情報取得システムの概略構成の他の例を示す構成図である。 第4の実施形態に係る電磁波検出装置を含む情報取得システムの概略構成の一例を示す構成図である。 図14の第1の通過部が有するバンドパスフィルタおよびロングパスフィルタの分光特性を示す図である。 第4の実施形態に係る電磁波検出装置を含む情報取得システムの概略構成の他の例を示す構成図である。 第5の実施形態に係る電磁波検出装置を含む情報取得システムの概略構成の一例を示す構成図である。 図17の第1の通過部が有するショートパスフィルタおよびロングパスフィルタの分光特性を示す図である。 第5の実施形態に係る電磁波検出装置を含む情報取得システムの概略構成の他の例を示す構成図である。
 電磁波を検出する複数の検出器による検出結果から周囲に関する情報を得る装置において、各検出器による検出結果における座標系の差異を低減し、電磁波に基づいて生成される各種の情報の精度を向上させることは有益である。
 従って、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされた本開示の目的は、電磁波を検出する複数の検出器による検出結果における座標系の差異を低減させ、電磁波に基づいて生成される各種の情報の精度を向上させ得ることにある。
 以下、本発明を適用した電磁波検出装置の実施形態について、図面を参照して説明する。電磁波を検出する複数の検出器により電磁波を検出する構成において、各検出器の検出軸が異なる。そのため、各検出器が同一領域を対象とした検出を行ったとしても、検出結果における座標系がそれぞれの検出器で異なる。そこで、各検出器による検出結果における座標系の差異を低減することは有益である。しかし、当該差異を補正によって低減することは不可能、または困難である。そこで、本発明を適用した電磁波検出装置は、各検出器における検出軸の差異を低減し得るように構成されることにより、各検出器による検出結果における座標系の差異を低減し得る。
 また、各検出器に、各検出器の検出対象である波長帯域以外の波長の電磁波が入力されると、検出対象である波長帯域以外の波長がノイズとなり、電磁波検出装置は、検出された電磁波に基づいて高い精度で各種の情報を生成することが困難である。そこで、本発明を適用した電磁波検出装置は、各検出器において検出対象である波長帯域以外の波長の入力を低減し得るように構成されることにより、電磁波に基づく各種の情報の生成における精度を向上し得る。
 図1に示すように、本開示の第1の実施形態に係る電磁波検出装置10を含む情報取得システム11は、電磁波検出装置10、照射部12、走査部13、および制御部14を含んで構成されている。
 以後の図において、各機能ブロックを結ぶ破線は、制御信号または通信される情報の流れを示す。破線が示す通信は有線通信であってもよいし、無線通信であってもよい。また、各機能ブロックから突出する実線は、ビーム状の電磁波を示す。
 電磁波検出装置10は、前段光学系15、切替部16、第1の通過部17、第2の通過部18、第1の後段光学系19、第2の後段光学系20、第1の検出部21、および第2の検出部22を有している。
 前段光学系15は、例えば、レンズおよびミラーの少なくとも一方を含み、被写体となる対象obの像を結像させる。
 切替部16は、前段光学系15から所定の距離をおいて離れた対象obの像の、前段光学系15による結像位置である一次結像位置、または当該一次結像位置近傍に、設けられていればよい。第1の実施形態においては、切替部16は、当該一次結像位置に、設けられている。切替部16は、前段光学系15を通過した電磁波が入射する基準面ssを有している。基準面ssは、2次元状に沿って並ぶ複数の画素pxによって構成されている。基準面ssは、後述する第1の状態および第2の状態の少なくともいずれかにおいて、電磁波に、例えば、反射および透過などの作用を生じさせる面である。
 切替部16は、基準面ssに入射する電磁波を、第1の方向d1に進行させる第1の状態と、第2の方向d2に進行させる第2の状態とに、画素px毎に切替可能である。第1の実施形態において、第1の状態は、基準面ssに入射する電磁波を、第1の方向d1に反射する第1の反射状態である。また、第2の状態は、基準面ssに入射する電磁波を、第2の方向d2に反射する第2の反射状態である。
 第1の実施形態において、切替部16は、さらに具体的には、画素px毎に電磁波を反射する反射面を含んでいる。切替部16は、画素px毎の反射面の向きを変更することにより、第1の反射状態および第2の反射状態を画素px毎に切替える。第1の実施形態において、切替部16は、例えばDMD(Digital Micro mirror Device:デジタルマイクロミラーデバイス)を含む。DMDは、基準面ssを構成する微小な反射面を駆動することにより、画素px毎に当該反射面を基準面ssに対して+12°および-12°のいずれかの傾斜状態に切替可能である。なお、基準面ssは、DMDにおける微小な反射面を載置する基板の板面に平行である。
 切替部16は、後述する制御部14の制御に基づいて、第1の状態および第2の状態を、画素px毎に切替える。例えば、図2に示すように、切替部16は、同時に、一部の画素px1を第1の状態に切替えることにより当該画素px1に入射する電磁波を第1の方向d1に進行させ得、別の一部の画素px2を第2の状態に切替えることにより当該画素px2に入射する電磁波を第2の方向d2に進行させ得る。また、切替部16は、同一の画素pxを第1の状態から第2の状態に切替えることにより、当該画素pxに入射する電磁波を第1の方向d1の次に第2の方向d2に向けて進行させ得る。
 図1に示すように、第1の通過部17は、切替部16から第1の方向d1に設けられている。第1の通過部17は、切替部16から第1の方向d1に進行する電磁波のうち第1の波長帯域の電磁波を、第1の波長帯域以外の電磁波より高い通過率で通過させる。すなわち、第1の通過部17における第1の波長帯域の電磁波の通過率は、第1の波長帯域以外の電磁波の通過率よりも大きい。例えば、第1の波長帯域は、図3に示すように、最大の通過率の50%以上の通過率となる波長帯域であってよい。
 第1の波長帯域は、第1の検出部21が、後述する距離情報を生成するために検出すべき電磁波の波長帯域である。図3に示すように、第1の波長帯域は、照射部12が放射する電磁波の波長帯域と少なくとも一部で重複する。第1の波長帯域は、照射部12が放射する電磁波の波長帯域を全て含んでもよい。第1の波長帯域は、照射部12が放射する電磁波の波長帯域と一致してもよい。第1の波長帯域は、例えば、赤外線の波長帯域であってもよい。
 第1の波長帯域は、第1の検出部21によって検出可能な電磁波の波長帯域の少なくとも一部が重複する。第1の波長帯域は、第1の検出部21によって検出可能な電磁波の波長帯域を全て含んでもよい。第1の波長帯域は、第1の検出部21によって検出可能な電磁波の波長帯域と一致してもよい。
 第1の通過部17は、ロングパスフィルタ、ショートパスフィルタ、およびバンドパスフィルタのいずれかまたは組合せを有する。図1に示すように、第1の実施形態において、第1の通過部17は、バンドパスフィルタ17aを有する。バンドパスフィルタが第1の所定波長帯域の電磁波を、第1の所定波長帯域以外の電磁波より高い通過率で通過させる。このような構成において、第1の通過部17の第1の波長帯域は、バンドパスフィルタ17aの第1の所定波長帯域に相当する。
 第2の通過部18は、切替部16から第2の方向d2に設けられている。第2の通過部18は、切替部16から第2の方向d2に進行する電磁波のうち第2の波長帯域の電磁波を、第2の波長帯域以外の電磁波より高い通過率で通過させる。すなわち、第2の通過部18における第2の波長帯域の電磁波の通過率は、第2の波長帯域以外の電磁波の通過率よりも大きい。第2の通過部18は、第1の通過部17と異種のフィルタとすることができる。第2の通過部18は、第1の通過部17と同種のフィルタとしてもよい。
 第2の波長帯域は、第2の検出部22が、後述する画像情報、温度情報等を生成するために検出すべき電磁波の波長帯域である。第2の通過部18は、例えば、IR(infrared)カットフィルタおよびダイクロイックミラーの少なくとも一方を含む。
 第2の波長帯域は、第2の検出部22によって検出可能な電磁波の波長帯域の少なくとも一部が重複する。第2の波長帯域は、第2の検出部22によって検出可能な電磁波の波長帯域を全て含んでもよい。第2の波長帯域は、第2の検出部22によって検出可能な電磁波の波長帯域と一致してもよい。
 第1の後段光学系19は、第1の通過部17から第1の方向d1に設けられている。第1の後段光学系19は、例えば、レンズおよびミラーの少なくとも一方を含む。第1の後段光学系19は、切替部16において第1の方向d1に進行方向を切替えられ、第1の通過部17を通過した電磁波としての対象obの像を結像させる。
 第2の後段光学系20は、第2の通過部18から第2の方向d2に設けられている。第2の後段光学系20は、例えば、レンズおよびミラーの少なくとも一方を含む。第2の後段光学系20は切替部16において第2の方向d2に進行方向を切替えられ、第2の通過部18を通過した電磁波としての対象obの像を結像させる。
 第1の検出部21は、切替部16によって第1の方向d1に進行し、第2の通過部18を通過した後に第1の後段光学系19を経由して進行する電磁波の経路上に設けられている。第1の検出部21は、第1の後段光学系19を経由した電磁波、すなわち第1の方向d1に進行した電磁波を検出する。
 第1の実施形態において、第1の検出部21は、照射部12から対象obに向けて照射された電磁波の当該対象obからの反射波を検出するアクティブセンサである。なお、第1の実施形態において、第1の検出部21は、照射部12から照射され且つ走査部13により反射されることにより対象obに向けて照射された電磁波の当該対象obからの反射波を検出する。照射部12から照射される電磁波は、例えば、赤外線であってよい。
 第1の実施形態において、第1の検出部21は、さらに具体的には、測距センサを構成する素子を含む。例えば、第1の検出部21は、APD(Avalanche PhotoDiode)、PD(PhotoDiode)および測距イメージセンサなどの単一の素子を含む。また、第1の検出部21は、APDアレイ、PDアレイ、測距イメージングアレイ、および測距イメージセンサなどの素子アレイを含むものであってもよい。第1の実施形態において、第1の検出部21は、被写体からの反射波を検出したことを示す検出情報を信号として制御部14に送信する。第1の検出部21は、さらに具体的には、赤外線の帯域の電磁波を検出する。
 なお、第1の検出部21は、上述した測距センサを構成する単一の素子である構成において、電磁波を検出できればよく、検出面において結像される必要はない。それゆえ、第1の検出部21は、第1の後段光学系19による結像位置である二次結像位置に設けられなくてもよい。すなわち、この構成において、第1の検出部21は、すべての画角からの電磁波が検出面上に入射可能な位置であれば、切替部16により第1の方向d1に進行した後に第1の後段光学系19を経由して進行する電磁波の経路上のどこに配置されてもよい。
 第2の検出部22は、切替部16によって第2の方向d2に進行し、第2の通過部18を通過した後に第2の後段光学系20を経由して進行する電磁波の経路上に、設けられている。第2の検出部22は、第2の後段光学系20を経由した電磁波、すなわち第2の方向d2に進行した電磁波を検出する。
 第1の実施形態において、第2の検出部22は、パッシブセンサである。第1の実施形態において、第2の検出部22は、さらに具体的には、素子アレイを含む。例えば、第2の検出部22は、イメージセンサまたはイメージングアレイなどの撮像素子を含み、検出面において結像した電磁波による像を撮像して、撮像した対象obに相当する画像情報を生成する。なお、第1の実施形態において、第2の検出部22は、さらに具体的には可視光の像を撮像する。第1の実施形態において、第2の検出部22は、生成した画像情報を信号として制御部14に送信する。
 なお、第2の検出部22は、第1の検出部21とは異種の電磁波を検出する。例えば、第2の検出部22は、赤外光の像など、可視光以外の像を撮像してもよい。また、第2の検出部22はサーモセンサを含んでいてもよい。この構成において、電磁波検出装置10は、第2の検出部22により温度情報を取得し得る。第2の検出部22は、第1の検出部21と同種の電磁波を検出してもよい。
 このように、第1の実施形態において、第2の検出部22は、素子アレイを含む、そのため、第1の実施形態において、第2の検出部22は、入射された電磁波が検出面において結像すると、結像した電磁波は各素子に入射するため、解像度を向上させ得る。そこで、第2の検出部22は、第2の後段光学系20による結像位置である二次結像位置に設けられるとよい。
 照射部12は、赤外線、可視光線、紫外線、および電波の少なくともいずれかを放射する。第1の実施形態において、照射部12は、赤外線を放射する。照射部12は、放射する電磁波を、対象obに向けて、直接または走査部13を介して間接的に、照射する。第1の実施形態においては、照射部12は、放射する電磁波を、対象obに向けて、走査部13を介して間接的に照射する。
 第1の実施形態においては、照射部12は、幅の細い、例えば0.5°のビーム状の電磁波を放射する。また、第1の実施形態において、照射部12は電磁波をパルス状に放射可能である。例えば、照射部12は、LED(Light Emitting Diode)およびLD(Laser Diode)などを含む。照射部12は、後述する制御部14の制御に基づいて、電磁波の放射および停止を切替える。
 走査部13は、照射部12から放射された電磁波を、向きを変えながら反射することにより、対象obに照射される電磁波の照射位置を変更する。すなわち、走査部13は、照射部12から放射される電磁波により、対象obを走査する。したがって、第1の実施形態において、第1の検出部21は、走査部13と協働して、走査型の測距センサを構成する。なお、走査部13は、一次元方向または二次元方向に対象obを走査する。第1の実施形態においては、走査部13は、二次元方向に対象obを走査する。
 走査部13は、照射部12から放射されて反射した電磁波の照射領域の少なくとも一部が、電磁波検出装置10における電磁波の検出範囲に含まれるように、構成されている。したがって、走査部13を介して対象obに照射される電磁波の少なくとも一部は、電磁波検出装置10において検出され得る。
 なお、第1の実施形態において、走査部13は、照射部12から放射され且つ走査部13で反射した電磁波の照射領域の少なくとも一部が、第1の検出部21における検出範囲に含まれるように、構成されている。したがって、第1の実施形態において、走査部13を介して対象obに照射される電磁波の少なくとも一部は、第1の検出部21により検出され得る。
 走査部13は、例えば、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)ミラー、ポリゴンミラー、およびガルバノミラーなどを含む。第1の実施形態においては、走査部13は、MEMSミラーを含む。
 走査部13は、後述する制御部14の制御に基づいて、電磁波を反射する向きを変える。また、走査部13は、例えばエンコーダなどの角度センサを有してもよく、角度センサが検出する角度を、電磁波を反射する方向情報として、制御部14に通知してもよい。このような構成において、制御部14は、走査部13から取得する方向情報に基づいて、照射位置を算出し得る。また、制御部14は、走査部13に電磁波を反射する向きを変えさせるために入力する駆動信号に基づいて照射位置を算出し得る。
 制御部14は、1以上のプロセッサおよびメモリを含む。プロセッサは、特定のプログラムを読み込ませて特定の機能を実行する汎用のプロセッサ、および特定の処理に特化した専用のプロセッサの少なくともいずれかを含んでよい。専用のプロセッサは、特定用途向けIC(ASIC;Application Specific Integrated Circuit)を含んでよい。プロセッサは、プログラマブルロジックデバイス(PLD;Programmable Logic Device)を含んでよい。PLDは、FPGA(Field-Programmable Gate Array)を含んでよい。制御部14は、1つまたは複数のプロセッサが協働するSoC(System-on-a-Chip)、およびSiP(System In a Package)の少なくともいずれかを含んでもよい。
 制御部14は、第1の検出部21および第2の検出部22がそれぞれ検出した電磁波に基づいて、電磁波検出装置10の周囲に関する情報を取得する。周囲に関する情報は、例えば画像情報、距離情報、および温度情報などである。第1の実施形態において、制御部14は、第1の検出部21が検出する検出情報に基づいて、以下に説明するように、ToF(Time-of-Flight)方式により、照射部12に照射される照射位置の距離情報を取得する。また、第1の実施形態において、制御部14は、前述のように、第2の検出部22が画像として検出した電磁波を画像情報として取得する。
 図4に示すように、制御部14は、照射部12に電磁波放射信号を入力することにより、照射部12にパルス状の電磁波を放射させる(“電磁波放射信号”欄参照)。照射部12は、入力された当該電磁波放射信号に基づいて電磁波を照射する(“照射部放射量”欄参照)。照射部12が放射し且つ走査部13が反射して任意の照射領域に照射された電磁波は、当該照射領域において反射する。そして、第1の検出部21は、当該照射領域において反射された電磁波を検出するとき(“電磁波検出量”欄参照)、前述のように、検出情報を制御部14に通知する。
 制御部14は、例えば、時間計測LSI(Large Scale Integrated circuit)を有しており、照射部12に電磁波を放射させた時期T1から、検出情報を取得(“検出情報取得”欄参照)した時期T2までの時間ΔTを計測する。制
御部14は、当該時間ΔTに、光速を乗算し、且つ2で除算することにより、照射位置までの距離を算出する。なお、制御部14は、上述のように、走査部13から取得する方向情報、または自身が走査部13に出力する駆動信号に基づいて、照射位置を算出する。制御部14は、照射位置を変えながら、各照射位置までの距離を算出することにより、第2の検出部22から取得した画像情報における距離情報を作成する。
 なお、本実施形態において、情報取得システム11は、図4に示すように、レーザ光を照射して、返ってくるまでの時間を直接測定するDirect ToFにより距離情報を作成する構成である。しかし、情報取得システム11は、このような構成に限られない。例えば、情報取得システム11は、電磁波を一定の周期で照射し、照射された電磁波と返ってきた電磁波との位相差から、返ってくるまでの時間を間接的に測定するFlash ToFにより距離情報を作成してもよい。また、情報取得システム11は、他のToF方式、例えば、Phased ToFにより距離情報を作成してもよい。
 また、制御部14は、照射部12、走査部13、切替部16、第1の検出部21、および第2の検出部22を制御して、画像情報および距離情報を繰返し取得する。画像情報および距離情報を繰返し取得するための各部位の制御について、図5のタイミングチャートを用いて以下に説明する。
 タイミングt1において、制御部14は、第2の検出部22に第1のフレームの画像情報の生成のための電磁波の検出を開始させる。なお、タイミングt1においては、切替部16の全画素pxは第2の状態であり、前段光学系15に入射する電磁波は第2の検出部22に到達する(図6参照)。また、図5に示すように、タイミングt1において、制御部14は、切替部16における第1の画素pxの第2の状態から第1の状態への切替えを開始させる(“切替部第1の画素駆動信号”欄参照)。なお、タイミングt1において、他の全画素pxは第2の状態のままである(“切替部第2の画素状態”、“切替部第Nの
画素状態”欄参照)。
 切替部16の第1の画素pxの第2の状態から第1の状態への切替えが完了するタイミングt2において(“切替部第1の画素状態”欄参照)、制御部14は照射部12に電磁波を放射させる(“電磁波放射時期”欄参照)。なお、タイミングt2においては、切替部16の第1の画素pxが第2の状態(図6参照)から第1の状態に切替わり、前段光学系15に入射し、切替部16の第1の画素pxにおいて結像する電磁波が第2の方向d2の次に第1の方向d1向けて進行する(図7参照)。
 図5に示すように、また、タイミングt2において、制御部14は、第1の検出部21に電磁波を検出させる(“第2の検出部検出時期”欄参照)。なお、照射部12が電磁波を照射してから電磁波検出装置10に到達するまでにかかる時間は、画像情報の生成のための検出時間に比べて極めて短く、例えばナノ秒のオーダーである。それゆえ、タイミングt2とみなせる微小な時間に第1の検出部21による電磁波の検出が完了する。制御部14は、タイミングt2において取得する検出情報に基づいて、切替部16の第1の画素pxに対応する照射位置における距離情報を算出することにより取得する。
 さらに、タイミングt2において、制御部14は、切替部16における第1の画素pxの第1の状態から第2の状態への切替えを開始させる(“切替部第1の画素駆動信号”欄参照)。このように、制御部14は、切替部16における第1の画素pxを第1の状態から第2の状態へと切替えるため、再度、第1の画素pxに対応する第2の検出部22における素子に電磁波(可視光)を検出させ得る。
 切替部16の第1の画素pxの第1の状態から第2の状態への切替えが完了すると(“切替部第1の画素状態”欄参照)、タイミングt3において、制御部14は、切替部16における第2の画素pxの第2の状態から第1の状態への切替えを開始させる(“切替部第2の画素駆動信号”欄参照)。なお、タイミングt3において、他の全画素pxは第2の状態のままである(“切替部第1の画素状態”、“切替部第Nの画素状態”欄参照)。
 切替部16の第2の画素pxの第2の状態から第1の状態への切替えが完了するタイミングt4において(“切替部第2の画素状態”欄参照)、制御部14は照射部12に電磁波を放射させる(“電磁波放射時期”欄参照)。なお、タイミングt4においては、切替部16の第2の画素pxが第2の状態から第1の状態に切替わり、前段光学系15に入射し、切替部16の第2の画素pxにおいて結像する電磁波が第2の方向d2の次に第1の方向d1向けて進行する。また、タイミングt4において、制御部14は、第1の検出部21に電磁波を検出させる(“第2の検出部検出時期”欄参照)。制御部14は、タイミングt4において取得する検出情報に基づいて、切替部16の第2の画素pxに対応する照射位置における距離情報を算出することにより取得する。
 さらに、タイミングt4において、制御部14は、切替部16における第2の画素pxの第1の状態から第2の状態への切替えを開始させる(“切替部第2の画素駆動信号”欄参照)。このように、制御部14は、切替部16における第2の画素pxを第1の状態から第2の状態へと切替えるため、再度、第2の画素pxに対応する第2の検出部22における素子に電磁波(可視光)を検出させ得る。
 以後、制御部14は、切替部16における第3の画素pxから第Nの画素pxについて、第1の画素pxと同じ様に、順番に、第2の状態から第1の状態への切替えと、第1の状態から第2の状態への切替えとを行うことにより、第1のフレームの画像情報を取得すると共に、各画素pxに対応する照射位置における距離情報を取得する。
 なお、上述のように、制御部14が、第(M-1)の画素pxが第1の状態から第2の状態への切替えが完了する時期において、第Mの画素pxの第2の状態から第1の状態への切替えを開始させる制御を行う構成において、1フレーム分の画像情報の生成のための時間Timgに、切替部16は、Timg/Tdisの数の画素pxを第2の状態から第1の状態に切替可能である。すなわち、制御部14は、時間Timgに、Timg/Tdisの数の画素px分の距離情報の生成が可能である。なお、Mは、2≦M≦Nを満たす整数である。また、Tdisは、切替部16の画素pxの第2の状態から第1の状態への切替えにかかる時間と、第1の状態から第2の状態に戻すまでにかかる時間とを合計した時間である。すなわち、Tdisは、任意の画素pxが第2の状態、第1の状態、および第2の状態の順に切替わるために要する時間である。第1の実施形態においては、例えば、Timgは1/60秒であり、Tdisは1/3000秒である。
 Timg/Tdisの値が切替部16の画素数より少ない構成において、制御部14は、時間Timg中に、切替部16における画素pxのすべてを切替えることができない。そのため、制御部14は、1フレーム分の画像情報の生成中に、当該1フレーム分の画像情報に対応する距離情報を生成することができない。すなわち、制御部14は、1フレーム分の画像情報の生成中に、当該1フレーム分の画像情報に満たないフレーム(例えば、0.5フレーム)分に対応する距離情報しか生成することができない。
 そこで、Timg/Tdisの値が切替部16の画素数より少ない構成において、制御部14は、切替部16における全画素pxのうち、Timg/Tdisの数以下の画素pxを切替対象として選択する。さらに、制御部14は、切替対象として選択した各画素pxの第1の状態への切替時期に当該各画素pxに対応する照射領域内の領域に電磁波が照射されるように、走査部13を制御する。
 または、Timg/Tdisの値が切替部16の画素数より少ない構成において、制御部14は、複数のフレーム(Pフレーム:PはP>1を満たす正の数)分の画像情報の生成のための時間P×Timg中に、切替部16における画素pxの全ての切替えが完了するように制御してもよい。さらに、制御部14は、切替部16の各画素pxの切替時期に当該各画素pxに対応する照射領域内の領域に電磁波が照射されるように、走査部13を制御する。
 または、Timg/Tdisの値が切替部16の画素数より少ない構成において、制御部14は、切替部16における全画素pxを、Timg/Tdisの数以下のグループに分け、グループ毎に画素pxをまとめて切替える。さらに、制御部14は、各グループを代表する位置(例えば、各グループの中心位置)の画素pxの切替時期に当該画素pxに対応する照射領域内の領域に電磁波が照射されるように、走査部13を制御するようにしてもよい。
 または、Timg/Tdisの値が切替部16の画素数より少ない構成において、制御部14は、切替部16における全画素pxを、Timg/Tdisの数以下のグループに分け、グループ毎にいずれかの画素pxのみを切替える。さらに、制御部14は、切替える当該画素pxの切替時期に当該画素pxに対応する照射領域内の領域に電磁波が照射されるように、走査部13を制御するようにしてもよい。
 なお、1フレーム分の画像の撮像時間中に第1の状態に切替えられた切替部16の画素pxに対応する第2の検出部22における画素は、当該画素pxが第1の状態に切替えられている間、受光することができない。そのため、第2の検出部22における当該画素による信号強度は低下する。そこで、制御部14は、第2の検出部22における当該画素の信号値にゲインを乗じることにより、低下した信号強度を補償してもよい。なお、1フレーム分の画像の撮像時間は、1フレーム分の画像情報を生成するために第2の検出部22が電磁波を検出している時間に相当する。
 なお、走査部13による走査速度が画素pxの切替速度よりも高速である、すなわち、TscnがTdisより短い構成において、制御部14は、第(M-1)の画素pxの第1の状態から第2の状態への切替えが完了する時期よりも前に、第Mの画素pxの第2の状態から第1の状態への切替えを開始させてよい。なお、Tscnは、照射部12から放射されて走査部13により反射された電磁波の照射位置が、ある照射位置から次の照射位置へ変わるために要する時間、または、ある照射位置から隣の照射位置へ変わるために要する時間である。このような構成は、任意の画素pxの第1の状態から第2の状態への切替えの完了後に他の画素の第1の状態への切替えを行なう制御よりも、短時間でより多くの画素における距離情報を生成し得る。
 図5に示すように、タイミングt1から第1フレームの画像情報の生成のための時間Timgの経過後のt5において(“第1の検出部検出時期”欄参照)、制御部14は、第2
のフレームの画像情報の生成のための電磁波の検出を開始させる。また、制御部14は、タイミングt1からt5における第2の検出部22による電磁波の検出が終了した後、その間に検出した電磁波に基づく第1のフレームの画像情報を取得する。以後、制御部14は、タイミングt1からt5の間に行った制御と同じ様に、画像情報の取得および距離情報の取得のための照射部12、走査部13、切替部16、第1の検出部21、および第2の検出部22の制御を行う。
 以上のような構成の第1の実施形態の電磁波検出装置10は、切替部16の基準面ssに配置された画素px毎に第1の状態と第2の状態に切替えられ、切替部16によって第1の方向d1へ進行させられて第1の通過部17を通過した電磁波を検出し得る。このような構成により、第1の実施形態の電磁波検出装置10は、前段光学系15の光軸を、第1の後段光学系19の光軸に合わせたときに、第1の通過部17によって第1の検出部21に入射する電磁波の波長を規定し得る。したがって、第1の実施形態の電磁波検出装置10は、第1の検出部21および第2の検出部22の光軸のズレを低減しつつ、所望の波長帯域の電磁波のみを第1の検出部21に入射させ得る。これにより、第1の実施形態の電磁波検出装置10は、入射した電磁波に基づいて情報が生成されるにあたり必要な波長帯域の電磁波のみを検出することが可能となり、このため、電磁波に基づいて生成される情報の精度は向上し得る。なお、このような構成および効果は、後述する第2の実施形態の電磁波検出装置100、第3の実施形態の電磁波検出装置101、第4の実施形態の電磁波検出装置102、および第5の実施形態の電磁波検出装置103についても同じである。
 次に、本開示の第2の実施形態に係る電磁波検出装置100について説明する。第2の実施形態では第1の通過部の構成および機能が第1の実施形態と異なっている。以下に、第1の実施形態と異なる点を中心に第2の実施形態について説明する。なお、第1の実施形態と同じ構成を有する部位には同じ符号を付す。
 図8に示すように、第2の実施形態に係る電磁波検出装置100を含む情報取得システム110は、電磁波検出装置100、照射部12、走査部13、および制御部14を含んで構成されている。
 電磁波検出装置100は、前段光学系15、切替部16、第1の通過部170、第2の通過部18、第1の後段光学系19、第2の後段光学系20、第1の検出部21、および第2の検出部22を有している。第2の実施形態における、前段光学系15、切替部16、第2の通過部18、第1の後段光学系19、第2の後段光学系20、第1の検出部21、および第2の検出部22の構成および機能は、第1の実施形態と同じである。
 第1の通過部170は、第1の実施形態と同じく、切替部16から第1の方向d1に設けられている。また、第1の通過部170は、第1の実施形態と同じく、切替部16から第1の方向d1に進行する電磁波のうち第1の波長帯域の電磁波を、第1の波長帯域以外の電磁波より高い通過率で通過させる。
 第2の実施形態において、第1の通過部170は、複数の異なるバンドパスフィルタを含んで構成される。第2の実施形態において、第1の通過部170は、第1のバンドパスフィルタ170aおよび第2のバンドパスフィルタ170bを有する。図9に示すように、第1のバンドパスフィルタ170aは、第2の所定波長帯域の電磁波を、第2の所定波長帯域以外の電磁波より高い通過率で通過させる。第2の所定波長帯域は、例えば、最大の通過率の50%以上の通過率となる波長帯域であってよい。第2のバンドパスフィルタ170bは、第3の所定波長帯域の電磁波を、第3の所定波長帯域以外の電磁波より高い通過率で通過させる。第3の所定波長帯域は、例えば、最大の通過率の50%以上の通過率となる波長帯域であってよい。
 第3の所定波長帯域の一部は、第2の所定波長帯域の一部と重なっている。第2の実施形態において、第1の波長帯域は、第2の所定波長帯域にも、第3の所定波長帯域にも含まれる波長帯域に相当する。したがって、第2の所定波長帯域と第3の所定波長帯域とのいずれにも含まれる第1の波長帯域は、第2の所定波長帯域および第3の所定波長帯域よりも狭い。
 第1のバンドパスフィルタ170aおよび第2のバンドパスフィルタ170bは、切替部16から第1の方向d1に配置される。図8に示す例では、第1のバンドパスフィルタ170aは第2のバンドパスフィルタ170bより切替部16側に配置され、第2のバンドパスフィルタ170bは第1のバンドパスフィルタ170aより第1の後段光学系19側に配置される。図10に示すように、第1のバンドパスフィルタ170aは第2のバンドパスフィルタ170bより第1の後段光学系19側に配置され、第2のバンドパスフィルタ170bは第1のバンドパスフィルタ170aより切替部16側に配置されてもよい。
 以上のように、第2の実施形態の電磁波検出装置100は、第1のバンドパスフィルタ170aおよび第2のバンドパスフィルタ170bを有する第1の通過部170を備える。図9に示したように、第2の所定波長帯域と第3の所定波長帯域とのいずれにも含まれる第1の波長帯域は、第2の所定波長帯域および第3の所定波長帯域よりも狭い。照射部12によって放射される電磁波が例えば、レーザ光である場合、電磁波の波長帯域は一般的なバンドパスフィルタより狭い。第1のバンドパスフィルタ170aおよび第2のバンドパスフィルタ170bを用いることにより、1つのバンドパスフィルタを用いる場合に比べて、第1の通過部170によって通過させる電磁波の波長帯域は狭くなり得る。これにより、第2の実施形態の電磁波検出装置100は、照射部12によって放射される電磁波の波長帯域に近い波長帯域の電磁波のみを通過させ得る。そのため、第1の検出部21による、異なる波長帯域を有する、照射部12以外からの電磁波の検出が低減され得、さらに照射部12から照射されて対象obによって反射された電磁波が全ての波長帯域で漏れなく検出され得る。したがって、第1の実施形態の電磁波検出装置10より高い精度で情報が生成され得る。なお、このような構成および効果は、後述する第3の実施形態の電磁波検出装置101、第4の実施形態の電磁波検出装置102、および第5の実施形態の電磁波検出装置103についても同じである。
 次に、本開示の第3の実施形態に係る電磁波検出装置101について説明する。第3の実施形態では第1の通過部の構成および機能が第1の実施形態と異なっている。以下に、第1の実施形態と異なる点を中心に第3の実施形態について説明する。なお、第1の実施形態と同じ構成を有する部位には同じ符号を付す。
 図11に示すように、第3の実施形態に係る電磁波検出装置101を含む情報取得システム111は、電磁波検出装置101、照射部12、走査部13、および制御部14を含んで構成されている。
 電磁波検出装置101は、前段光学系15、切替部16、第1の通過部171、第2の通過部18、第1の後段光学系19、第2の後段光学系20、第1の検出部21、および第2の検出部22を有している。第2の実施形態における、前段光学系15、切替部16、第2の通過部18、第1の後段光学系19、第2の後段光学系20、第1の検出部21、および第2の検出部22の構成および機能は、第1の実施形態と同じである。
 第1の通過部171は、第1の実施形態と同じく、切替部16から第1の方向d1に設けられている。また、第1の通過部171は、第1の実施形態と同じく、切替部16から第1の方向d1に進行する電磁波のうち第1の波長帯域の電磁波を、第1の波長帯域以外の電磁波より高い通過率で通過させる。
 第3の実施形態において、第1の通過部171は、バンドパスフィルタ171aおよびショートパスフィルタ171bを有する。図12に示すように、バンドパスフィルタ171aは、第4の所定波長帯域の電磁波を、第4の所定波長帯域以外の電磁波より高い通過率で通過させる。第4の所定波長帯域は、例えば、最大の通過率の50%以上の通過率となる波長帯域であってよい。ショートパスフィルタ171bは、第1の波長未満の波長帯域の電磁波を第1の波長以上の波長帯域の電磁波より高い通過率で通過させる。第1の波長は、例えば、最大の通過率の50%の通過率となる波長であってよい。第1の波長は、第4の所定波長帯域に含まれる。このような構成において、第1の波長帯域は、第4の所定波長帯域、かつ第1の波長未満の波長帯域に含まれる帯域に相当する。
 バンドパスフィルタ171aおよびショートパスフィルタ171bは第1の方向d1に配置される。図11に示す例では、バンドパスフィルタ171aはショートパスフィルタ171bより切替部16側に配置され、ショートパスフィルタ171bはバンドパスフィルタ171aより第1の後段光学系19側に配置される。図13に示すように、バンドパスフィルタ171aはショートパスフィルタ171bより第1の後段光学系19側に配置され、ショートパスフィルタ171bはバンドパスフィルタ171aより切替部16側に配置されてもよい。
 以上のように、第3の実施形態の電磁波検出装置101は、バンドパスフィルタ171aおよびショートパスフィルタ171bを有する第1の通過部171を備える。図12に示したように、ショートパスフィルタ171bにおける電磁波の波長に対する通過率は、第1の波長の近傍で下降する。この下降は、第1の実施形態の電磁波検出装置10における第1の通過部17を構成するバンドパスフィルタ17aの通過率の下降より急峻である。
 言換えれば、ショートパスフィルタ171bでは、最大通過率から最低通過率に変化する帯域が、バンドパスフィルタ17aに比べて短い。当該変化する帯域が短くなるほど、第1の検出部21に到達させる電磁波の量の増加、およびノイズ成分の低減が実現され得る。例えば、第1の通過部171が通過させる波長の設計上の上限が、当該変化する帯域の下限に近づくほど、ノイズ成分となる、当該変化する帯域における下限以上の帯域の電磁波の通過量が増加するからである。また、例えば、第1の通過部171が通過させる波長の設計上の上限が、当該変化する帯域の上限に近づくほど、検出が望まれる、当該変化する帯域における上限以下の帯域の電磁波の通過量が減少するからである。したがって、ショートパスフィルタ171bは、バンドパスフィルタ17aに比べて、所望の波長帯域の長い波長側で通過させるノイズ成分を低減させ、所望の電磁波が通過する量を増加させ得る。このような構成および効果は、後述する第5の実施形態の電磁波検出装置103についても同じである。
 次に、本開示の第4の実施形態に係る電磁波検出装置102について説明する。第4の実施形態では第1の通過部の構成および機能が第1の実施形態と異なっている。以下に、第1の実施形態と異なる点を中心に第4の実施形態について説明する。なお、第1の実施形態と同じ構成を有する部位には同じ符号を付す。
 図14に示すように、第4の実施形態に係る電磁波検出装置102を含む情報取得システム112は、電磁波検出装置102、照射部12、走査部13、および制御部14を含んで構成されている。
 電磁波検出装置102は、前段光学系15、切替部16、第1の通過部172、第2の通過部18、第1の後段光学系19、第2の後段光学系20、第1の検出部21、および第2の検出部22を有している。第4の実施形態における、前段光学系15、切替部16、第2の通過部18、第1の後段光学系19、第2の後段光学系20、第1の検出部21、および第2の検出部22の構成および機能は、第1の実施形態と同じである。
 第1の通過部172は、第1の実施形態と同じく、切替部16から第1の方向d1に設けられている。また、第1の通過部172は、第1の実施形態と同じく、切替部16から第1の方向d1に進行する電磁波のうち第1の波長帯域の電磁波を、第1の波長帯域以外の電磁波より高い通過率で通過させる。
 第4の実施形態において、第1の通過部172は、バンドパスフィルタ172aおよびロングパスフィルタ172bを有する。図15に示すように、バンドパスフィルタ172aは、第5の所定波長帯域の電磁波を、第5の所定波長帯域以外の電磁波より高い通過率で通過させる。第5の所定波長帯域は、例えば、最大の通過率の50%以上の通過率となる波長帯域であってよい。ロングパスフィルタ172bは、第2の波長以上の波長帯域の電磁波を第2の波長未満の波長帯域の電磁波より高い通過率で通過させる。第2の波長は、例えば、最大の通過率の50%の通過率となる波長であってよい。第2の波長は第5の所定波長帯域に含まれる。このような構成において、第1の波長帯域は、第5の所定波長帯域に含まれ、かつ第2の波長より長い波長帯域に含まれる帯域に相当する。
 バンドパスフィルタ172aおよびロングパスフィルタ172bは、切替部16から第1の方向d1に配置される。図14に示す例では、バンドパスフィルタ172aはロングパスフィルタ172bより切替部16側に配置され、ロングパスフィルタ172bはバンドパスフィルタ172aより第1の後段光学系19側に配置される。図16に示すように、バンドパスフィルタ172aはロングパスフィルタ172bより第1の後段光学系19側に配置され、ロングパスフィルタ172bはバンドパスフィルタ172aより切替部16側に配置されてもよい。
 以上のように、第4の実施形態の電磁波検出装置102において、バンドパスフィルタ172aおよびロングパスフィルタ172bを有する第1の通過部172を備える。図15に示したように、ロングパスフィルタ172bにおける電磁波の波長に対する通過率は、第2の波長近傍で上昇する。このため、第3の実施形態と類似して、第4の実施形態の電磁波検出装置102は、第1の波長帯域における短波長側で、第1の実施形態の電磁波検出装置10よりも所望の波長帯域の電磁波の量を増加させ、且つノイズ成分となり得る所望の波長帯域以外の電磁波の通過を低減させ得る。なお、このような構成および効果は、後述する第5の実施形態の電磁波検出装置103についても同じである。
 次に、本開示の第5の実施形態に係る電磁波検出装置103について説明する。第5の実施形態では第1の通過部の構成および機能が第1の実施形態と異なっている。以下に、第1の実施形態と異なる点を中心に第5の実施形態について説明する。なお、第1の実施形態と同じ構成を有する部位には同じ符号を付す。
 図17に示すように、第5の実施形態に係る電磁波検出装置103を含む情報取得システム113は、電磁波検出装置103、照射部12、走査部13、および制御部14を含んで構成されている。
 電磁波検出装置103は、前段光学系15、切替部16、第1の通過部173、第2の通過部18、第1の後段光学系19、第2の後段光学系20、第1の検出部21、および第2の検出部22を有している。第5の実施形態における、前段光学系15、切替部16、第2の通過部18、第1の後段光学系19、第2の後段光学系20、第1の検出部21、および第2の検出部22の構成および機能は、第1の実施形態と同じである。
 第1の通過部173は、第1の実施形態と同じく、切替部16から第1の方向d1に設けられている。また、第1の通過部173は、第1の実施形態と同じく、切替部16から第1の方向d1に進行する電磁波のうち第1の波長帯域の電磁波を、第1の波長帯域以外の電磁波より高い通過率で通過させる。
 第5の実施形態において、第1の通過部173は、ショートパスフィルタ173aおよびロングパスフィルタ173bを有する。図18に示すように、ショートパスフィルタ173aは、第1の波長未満の波長帯域の電磁波を第1の波長以上の波長帯域の電磁波より高い通過率で通過させる。第1の波長は、例えば、ショートパスフィルタ173aにおける電磁波の最大の通過率の50%の通過率となる波長であってよい。ロングパスフィルタ173bは、第2の波長以上の波長帯域の電磁波を第2の波長未満の波長帯域の電磁波より高い通過率で通過させる。第2の波長は、例えば、ロングパスフィルタ173bにおける電磁波の最大の通過率の50%の通過率となる波長であってよい。第2の波長は、第1の波長より短い。このような構成において、第1の波長帯域は、第1の波長未満で第2の波長以上の波長帯域に相当する。
 ショートパスフィルタ173aおよびロングパスフィルタ173bは第1の方向d1に配置される。図17に示す例では、ショートパスフィルタ173aはロングパスフィルタ173bより切替部16側に配置され、ロングパスフィルタ173bはショートパスフィルタ173aより第1の後段光学系19側に配置される。図19に示すように、ショートパスフィルタ173aはロングパスフィルタ173bより第1の後段光学系19側に配置され、ロングパスフィルタ173bはショートパスフィルタ173aより切替部16側に配置されてもよい。
 以上のように、第5の実施形態の電磁波検出装置103において、第3の実施形態および第4の実施形態で説明した理由と同じ理由により、第5の実施形態の電磁波検出装置103は、第1の波長帯域における短波長側と長波長側の両方で、第1の実施形態の電磁波検出装置10よりも所望の波長帯域の電磁波の量を増加させ、且つノイズ成分となり得る所望の波長帯域以外の電磁波の通過を低減させ得る。
 本発明を諸図面および実施例に基づき説明してきたが、当業者であれば本開示に基づき種々の変形および修正を行うことが容易であることに注意されたい。従って、これらの変形および修正は本発明の範囲に含まれることに留意されたい。
 例えば、第1の実施形態から第5の実施形態において、第1の検出部21は、上述した例に限られず、任意の数のバンドパスフィルタ、ショートパスフィルタ、およびロングパスフィルタを含んでもよい。
 また、第1の実施形態から第5の実施形態において、照射部12、走査部13、および制御部14が、電磁波検出装置10、100、101、102、および103とともにそれぞれ情報取得システム11、110、111、112、および113を構成している。しかし、電磁波検出装置10、100、101、102、および103それぞれは、照射部12、走査部13、および制御部14の少なくとも1つを含んで構成されてもよい。
 また、第1の実施形態から第5の実施形態において、切替部16は、基準面ssに入射する電磁波の進行方向を第1の方向d1および第2の方向d2の2方向に切替可能であるが、2方向のいずれかへの切替えでなく、3以上の方向に切替可能であってよい。
 また、第1の実施形態から第5の実施形態の切替部16において、第1の状態および第2の状態は、基準面ssに入射する電磁波を、それぞれ、第1の方向d1に反射する第1の反射状態、および第2の方向d2に反射する第2の反射状態であるが、他の態様であってもよい。
 例えば、第1の状態が、基準面ssに入射する電磁波を、透過させて第1の方向d1に進行させる透過状態であってもよい。切替部16は、さらに具体的には、画素px毎に電磁波を反射する反射面を有するシャッタを含んでいてもよい。このような構成の切替部16においては、画素px毎のシャッタを開閉することにより、第1の反射状態および第2の反射の状態としての透過状態を画素px毎に切替え得る。このような構成の切替部16として、例えば、開閉可能な複数のシャッタがアレイ状に配列されたMEMSシャッタを含む切替部が挙げられる。また、切替部16は、電磁波を反射する反射状態と電磁波を透過する透過状態とを液晶配向に応じて切替え可能な液晶シャッタを含む切替部が挙げられる。このような構成の切替部16においては、画素px毎の液晶配向を切替えることにより、第2の状態としての反射状態および第1の状態としての透過状態を画素px毎に切替え得る。
 また、第1の実施形態から第5の実施形態において、情報取得システム11、110、111、112、113は、照射部12から放射されるビーム状の電磁波を走査部13に走査させることにより、第1の検出部21を、走査部13と協働させて走査型のアクティブセンサとして機能させる構成を有する。しかし、情報取得システム11は、このような構成に限られない。例えば、情報取得システム11、110、111、112、113は、走査部13を備えず、照射部12から放射状の電磁波を放射させ、走査なしで情報を取得する構成でも、第1の実施形態と類似の効果が得られる。
 また、第1の実施形態から第5の実施形態において、情報取得システム11、110、111、112、113は、第1の検出部21がアクティブセンサであり、第2の検出部22がパッシブセンサである構成を有する。しかし、情報取得システム11は、このような構成に限られない。例えば、情報取得システム11は、第1の検出部21および第2の検出部22が共にアクティブセンサである構成でも、パッシブセンサである構成でも第1の実施形態と類似の効果が得られる。
 また、第1の実施形態から第5の実施形態において、情報取得システム11、110、111、112、113が照射部12および走査部13を備えない構成において、電磁波検出装置10、100、101、102、103は、第1の検出部21と第2の検出部22とが共にパッシブセンサである構成を有する。しかし、電磁波検出装置10、100、101、102、および103は、このような構成に限られない。例えば、電磁波検出装置10、100、101、102、103は、第1の検出部21および第2の検出部22のうち一方がパッシブセンサでもう一方がアクティブセンサである構成でも、共にアクティブセンサである構成でも類似の効果が得られる。
 また、第1の実施形態から第5の実施形態において、情報取得システム11、110、111、112、113は、複数の照射部12を備えてもよい。複数の照射部12は異種の電磁波を放射する。情報取得システム11、110、111、112、113は、複数の照射部12を備える構成において、複数のミラーを備えてもよい。複数のミラーは複数の照射部12のうちそれぞれ対応する照射部12が照射する電磁波の放射方向に設けられている。
 また、第1の実施形態から第5の実施形態において、情報取得システム11、110、111、112、113は、照射部12から放射されるビーム状の電磁波を走査部13に走査させることにより、第2の検出部22を走査部13と協同させて走査型のアクティブセンサとして機能させる構成を有する。しかし、情報取得システム11、110、111、112、113は、このような構成に限られない。例えば、放射状の電磁波を放射可能な複数の放射源を有する照射部12において、放射時期をずらしながら各放射源から電磁波を放射させるフェイズドスキャン方式により、走査部13を備えることなく、走査型のアクティブセンサとして機能させる構成でも、第1の実施形態から第5の実施形態と類似の効果が得られる。また、例えば、情報取得システム11、110、111、112、113は、走査部13を備えず、照射部12から放射状の電磁波を放射させ、走査なしで情報を取得する構成でも、第1の実施形態から第5の実施形態と類似の効果が得られる。
 10、100、101、102、103 電磁波検出装置
 11、110、111、112、113 情報取得システム
 12 照射部
 13 走査部
 14 制御部
 15 前段光学系
 16 切替部
 17、170、171、172、173 第1の通過部
 17a、171a、172a、173a、173b バンドパスフィルタ
 170a、171b ショートパスフィルタ
 170b、172b ロングパスフィルタ
 18 第2の通過部
 19 第1の後段光学系
 20 第2の後段光学系
 21 第1の検出部
 22 第2の検出部
 ss 基準面
 d1 第1の方向
 d2 第2の方向
 ob 対象
 px、px1、px2 画素

Claims (31)

  1.  基準面に沿って複数の画素が配置され、前記基準面に入射した電磁波を前記画素毎に第1の方向へ進行させる状態と第2の方向へ進行させる状態とに切替可能な切替部と、
     第1の波長帯域の電磁波の通過率が、前記第1の波長帯域以外の電磁波の通過率よりも大きい第1の通過部と、
     前記第1の方向へ進行して前記第1の通過部を通過した電磁波を検出する第1の検出部と、
    を備える電磁波検出装置。
  2.  前記第1の通過部は、ロングパスフィルタ、ショートパスフィルタ、バンドパスフィルタのいずれかまたはそれらの組み合わせを含む、
    請求項1に記載の電磁波検出装置。
  3.  前記第1の波長帯域は、前記第1の検出部によって検出可能な電磁波の波長帯域の少なくとも一部が重複する、
     請求項1または2に記載の電磁波検出装置。
  4.  前記第1の検出部は、照射部から対象に向けて照射された電磁波の前記対象からの反射波を検出するアクティブセンサ、またはパッシブセンサを含む、
    請求項1から3のいずれか一項に記載の電磁波検出装置。
  5.  前記第1の検出部は、前記アクティブセンサであって、
     前記第1の波長帯域は、前記照射部が照射する電磁波の波長帯域と、少なくとも一部が重複する、
    請求項4に記載の電磁波検出装置。
  6.  前記第1の検出部は、前記アクティブセンサであって、
     前記第1の波長帯域は、前記照射部が照射する電磁波の波長帯域を全て含む、
    請求項4または5に記載の電磁波検出装置。
  7.  前記第1の検出部は、前記アクティブセンサであって、
     前記第1の波長帯域は、前記照射部が照射する電磁波の波長帯域と一致する、
    請求項4から6のいずれか一項に記載の電磁波検出装置。
  8.  前記照射部を備える、
    請求項4から7のいずれか一項に記載の電磁波検出装置。
  9.  前記照射部は、フェイズドスキャン方式により電磁波を走査する、
    請求項4から8のいずれか一項に記載の電磁波検出装置。
  10.  前記照射部から放射される電磁波の向きを変えて前記対象における照射位置を変更する走査部を備える、
    請求項4から9のいずれか一項に記載の電磁波検出装置。
  11.  前記走査部は、電磁波を反射する反射面を備え、前記照射部から放射される電磁波を、前記反射面の向きを変更しながら前記反射面により反射することで走査する、
    請求項10に記載の電磁波検出装置。
  12.  前記反射面は、MEMSミラー、ポリゴンミラー、およびガルバノミラーのいずれかを含む
    請求項10または11に記載の電磁波検出装置。
  13.  前記照射部は、赤外線、可視光線、紫外線、および電波のいずれかを照射する、
    請求項4から12のいずれか一項に記載の電磁波検出装置。
  14.  前記切替部は、前記基準面に入射した電磁波を前記第1の方向へ反射する第1の反射状態と、前記第2の方向へ反射する第2の反射状態とに、前記画素毎に切り替える、
    請求項1から13のいずれか一項に記載の電磁波検出装置。
  15.  前記切替部は、電磁波を反射する反射面を前記画素毎に含み、前記反射面の向きを前記画素毎に変更することにより、前記第1の反射状態と前記第2の反射状態とを切り替える、
    請求項14に記載の電磁波検出装置。
  16.  前記切替部は、デジタルマイクロミラーデバイスを含む、
    請求項1から15のいずれか一項に記載の電磁波検出装置。
  17.  前記切替部は、前記基準面に入射した電磁波を、前記第1の方向へ透過する透過状態と、前記第2の方向へ反射する反射状態とに切り替える、
    請求項1から13のいずれか一項に記載の電磁波検出装置。
  18.  前記切替部は、電磁波を反射する反射面を含むシャッタを前記画素毎に含み、前記シャッタを前記画素毎に開閉することにより前記反射状態と前記透過状態とに、切り替える、請求項17に記載の電磁波検出装置。
  19.  前記第1の進行部は、前記シャッタがアレイ状に配列されたMEMSシャッタを含む、請求項17または18に記載の電磁波検出装置。
  20.  前記第1の進行部は、前記反射状態および前記透過状態を液晶配光に応じて前記画素毎に切替可能な液晶シャッタを含む、
    請求項17に記載の電磁波検出装置。
  21.  前記第1の検出部は、測距センサ、イメージセンサ、およびサーモセンサの少なくともいずれかを含む、
    請求項1から20のいずれか一項に記載の電磁波検出装置。
  22.  前記第1の検出部は、赤外線、可視光線、紫外線、および電波の少なくともいずれかを検出する、
    請求項1から21のいずれか一項に記載の電磁波検出装置。
  23.  第2の波長帯域の電磁波の通過率が、前記第2の波長帯域以外の電磁波の通過率よりも大きい第2の通過部と、
     前記第2の方向へ進行して前記第2の通過部を通過した電磁波を検出する第2の検出部と、
    を備える請求項1から22のいずれか一項に記載の電磁波検出装置。
  24.  前記第2の通過部は、前記第1の通過部と同種または異種のフィルタを含む、
    請求項23に記載の電磁波検出装置。
  25.  前記第2の検出部は、前記第1の検出部と同種または異種のセンサを含む、
    請求項23または24に記載の電磁波検出装置。
  26.  前記第2の検出部は、前記第1の検出部と同種または異種の電磁波を検出する、
    請求項23から25のいずれか一項に記載の電磁波検出装置。
  27.  前記第1の検出部による電磁波の検出結果に基づいて、周囲に関する情報を取得する制御部を備える、
    請求項1乃至26のいずれか一項に記載の電磁波検出装置。
  28.  前記第2の検出部による電磁波の検出結果に基づいて、周囲に関する情報を取得する制御部を備える、
    請求項23から26のいずれか一項に記載の電磁波検出装置。
  29.  前記制御部は、前記周囲に関する情報として、画像情報、距離情報、および温度情報の少なくともいずれかを取得する、
    請求項27または28に記載の電磁波検出装置。
  30.  請求項1から29のいずれか一項に記載の電磁波検出装置と、
     前記第1の検出部による電磁波の検出結果に基づいて、周囲に関する情報を取得する制御部と、
    を備える、
    情報取得システム。
  31.  請求項23から26のいずれか一項に記載の電磁波検出装置と、
     前記第1の検出部および前記第2の検出部による電磁波の検出結果に基づいて、周囲に関する情報を取得する制御部と、
    を備える、
    情報取得システム。
PCT/JP2019/028120 2018-07-27 2019-07-17 電磁波検出装置および情報取得システム WO2020022150A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018141786A JP2020016623A (ja) 2018-07-27 2018-07-27 電磁波検出装置および情報取得システム
JP2018-141786 2018-07-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2020022150A1 true WO2020022150A1 (ja) 2020-01-30

Family

ID=69180959

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2019/028120 WO2020022150A1 (ja) 2018-07-27 2019-07-17 電磁波検出装置および情報取得システム

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2020016623A (ja)
WO (1) WO2020022150A1 (ja)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001201699A (ja) * 1999-11-17 2001-07-27 Lucent Technol Inc 光学スイッチ
JP2004279197A (ja) * 2003-03-14 2004-10-07 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 微弱光二次元位置検出システム
JP2005535869A (ja) * 2002-01-15 2005-11-24 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 空間フィルタリングを使用したパターン化されたウェハの検査
JP2006258464A (ja) * 2005-03-15 2006-09-28 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 3次元画像情報取得装置
JP2008128792A (ja) * 2006-11-20 2008-06-05 Fujifilm Corp 距離画像作成装置及び方法
WO2009133849A1 (ja) * 2008-04-28 2009-11-05 株式会社ニコン 検査装置
JP2014512525A (ja) * 2011-03-17 2014-05-22 ウニベルジテート ポリテクニカ デ カタル−ニア 光ビームを受光するシステムと方法とコンピュータ・プログラム
US20140240721A1 (en) * 2011-10-14 2014-08-28 Iee International Electronics & Engineerings S.A. Spatially selective detection using a dynamic mask in an image plane
JP2017015611A (ja) * 2015-07-03 2017-01-19 株式会社リコー 距離測定装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001201699A (ja) * 1999-11-17 2001-07-27 Lucent Technol Inc 光学スイッチ
JP2005535869A (ja) * 2002-01-15 2005-11-24 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 空間フィルタリングを使用したパターン化されたウェハの検査
JP2004279197A (ja) * 2003-03-14 2004-10-07 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 微弱光二次元位置検出システム
JP2006258464A (ja) * 2005-03-15 2006-09-28 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 3次元画像情報取得装置
JP2008128792A (ja) * 2006-11-20 2008-06-05 Fujifilm Corp 距離画像作成装置及び方法
WO2009133849A1 (ja) * 2008-04-28 2009-11-05 株式会社ニコン 検査装置
JP2014512525A (ja) * 2011-03-17 2014-05-22 ウニベルジテート ポリテクニカ デ カタル−ニア 光ビームを受光するシステムと方法とコンピュータ・プログラム
US20140240721A1 (en) * 2011-10-14 2014-08-28 Iee International Electronics & Engineerings S.A. Spatially selective detection using a dynamic mask in an image plane
JP2017015611A (ja) * 2015-07-03 2017-01-19 株式会社リコー 距離測定装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020016623A (ja) 2020-01-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6640149B2 (ja) 電磁波検出装置および情報取得システム
US11408982B2 (en) Electromagnetic wave detection apparatus, program, and electromagnetic wave detection system
US20240012114A1 (en) Electromagnetic wave detection apparatus, program, and information acquisition system
US11675052B2 (en) Electromagnetic wave detection apparatus, program, and electromagnetic wave detection system
WO2019198568A1 (ja) 電磁波検出装置および情報取得システム
US11754678B2 (en) Electromagnetic wave detection apparatus, program, and electromagnetic wave detection system
US11573301B2 (en) Electromagnetic wave detection apparatus, program, and electromagnetic wave detection system
US11194021B2 (en) Electromagnetic wave detection apparatus, program, and electromagnetic wave detection system comprising a controller to update related information associating an emission direction and two elements defining two points on a path of electromagnetic waves
JP7025940B2 (ja) 電磁波検出装置および情報取得システム
WO2020022150A1 (ja) 電磁波検出装置および情報取得システム
WO2019159933A1 (ja) 電磁波検出装置および情報取得システム
JP7037609B2 (ja) 電磁波検出装置およびプログラム
JP7260966B2 (ja) 電磁波検出装置
WO2021201231A1 (ja) 電磁波検出装置および測距装置
JP2020073894A (ja) 電磁波検出装置および情報取得システム
US20210364640A1 (en) Electromagnetic wave detection apparatus and information acquisition system
JP2020073895A (ja) 電磁波検出装置および情報取得システム
JP2019200103A (ja) 電磁波検出装置および情報取得システム
JP2019002847A (ja) 電磁波検出装置および情報取得システム

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 19840010

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 19840010

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1