KR20190069466A - 안정화제 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 아미노 기가 염기도(basicity)-저감 치환기를 갖는 것인 적어도 1종의 입체 장애 아민 (HALS), 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 적어도 1종의 산화방지제, 및 카르복실레이트 기를 함유하는 적어도 1종의 액체 가소제를 함유하는 안정화제 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 추가로, 아미노 기가 염기도-저감 치환기를 갖는 것인 적어도 1종의 입체 장애 아민 (HALS), 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 적어도 1종의 산화방지제, 카르복실레이트 기를 함유하는 적어도 1종의 액체 가소제, 및 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체를 함유하는 중합체 조성물, 및 실릴-종결된 중합체 또는 실란트, 접착제, 가스켓(gasket), 나이핑(knifing) 충전제 또는 코팅 조성물, 특히 실릴-종결된 중합체를 함유하는 실란트, 접착제, 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물을 열, 광 및/또는 산소에 의한 분해에 대해 안정화시키기 위한 안정화제 조성물의 용도, 및 실란트, 접착제, 액체 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물 중에서의 또는 그로서의 중합체 조성물의 용도, 및 중합체 조성물을 포함하는 실란트 조성물 또는 접착제 조성물, 또는 가스켓 조성물, 또는 나이핑 충전제 조성물 또는 코팅 조성물에 관한 것이다.

Description

안정화제 조성물
본 발명은, 아미노 기가 염기도(basicity)-저감 치환기를 갖는 것인 적어도 1종의 입체 장애 아민 (HALS), 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 적어도 1종의 산화방지제, 및 카르복실레이트 기를 함유하는 적어도 1종의 액체 가소제를 함유하는 안정화제 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 추가로, 아미노 기가 염기도-저감 치환기를 갖는 것인 적어도 1종의 입체 장애 아민 (HALS), 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 적어도 1종의 산화방지제, 카르복실레이트 기를 함유하는 적어도 1종의 액체 가소제, 및 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체를 함유하는 중합체 조성물, 및 실릴-종결된 중합체 또는 실란트, 접착제, 가스켓(gasket), 나이핑(knifing) 충전제 또는 코팅 조성물, 특히 실릴-종결된 중합체를 함유하는 실란트, 접착제, 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물을 열, 광 및/또는 산소에 의한 분해에 대해 안정화시키기 위한 안정화제 조성물의 용도, 및 실란트, 접착제, 액체 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물 중에서의 또는 그로서의 중합체 조성물의 용도, 및 중합체 조성물을 포함하는 실란트 조성물 또는 접착제 조성물, 또는 가스켓 조성물, 또는 나이핑 충전제 조성물 또는 코팅 조성물에 관한 것이다.
실릴-종결된 중합체 (STP)에 기반한 수분-가교성 중합체 조성물, 및 실란트, 접착제 및 코팅 조성물 중에서의 그의 용도는 공지되어 있다. 대기 수분의 존재 하에, 알콕시 기와 같은 가수분해성 치환기를 갖는 STP는 실온에서도 서로 축합할 수 있고; 그에 따라 경화 또는 가교된 중합체가 생성된다. 가수분해성 치환기를 갖는 실릴 기의 함량 및 이들 실릴 기의 구조에 따라, 주로 장쇄 중합체 (열가소성 물질), 비교적 폭넓은 메쉬, 3차원 망상구조 (엘라스토머) 또는 고도로 가교된 시스템 (열경화성 물질)이 상기 공정 동안 형성된다.
본 발명에서, 용어 "경화" 및 "가교"는 상호교환가능하게 사용된다 (중합체 쇄의 가교에 의한 중합체 재료의 강인화(toughening) 또는 경질화(hardening)라 지칭됨).
실링, 접착제 및 코팅 재료는 광범위하게 다양한 적용예 및 재료에서 사용된다. 투명 재료, 예컨대 유리가 적용예의 일부인 경우, 광, 특히 UV 방사선이 실링, 접착제 또는 코팅 재료에 도달함으로써, 그것이 적절히 안정화되지 않는 경우에는 열화에 취약하게 된다. 비-투명 적용예 또는 광에 노출되지 않는 적용예는 또한, 열원에 근접한 바닥재에서와 같이 예를 들어 열에 노출되는 경우 열화에, 또는 대기 산소에 의해 야기되는 열화에 취약할 수 있다.
실란트, 접착제 및 코팅 조성물의 장기 온도 내성과 관련된 요건은 더욱 더 높아지고 있다. 산화에 대한 내성 및 UV 내성의 경우에도 마찬가지이다. 따라서, 실란트, 접착제 및/또는 코팅 조성물로서 사용하기에 적합하고 추가적으로 이와 같은 유형의 적용예의 영역에서 요구되는 유익한 및 필수적인 특성을 갖는 온도- 및/또는 UV- 및/또는 산화-내성 조성물에 대한 요구가 계속 있어 왔다.
US 2013/197141은, 티오에테르 기를 갖는 페놀성 화합물 및 티오에테르 기가 없는 페놀성 화합물을 함유하며 실란-종결된 중합체에 기반한 수분-경화성 접착제, 실란트 및/또는 코팅 조성물에 관한 것이다. 페놀성 화합물은 조성물의 온도 안정성을 개선시킬 것이다.
티오에테르 기를 함유하는 페놀성 화합물은 매우 효율적인 산화방지제이다. 그러나 유감스럽게도, 그것들은 종종 입체 장애 아민과, 특히, 아미노 기가 티오에테르의 산화에 의해 형성되는 술폰산 등과 상호작용하여 산화방지제 효과를 불활성화시키는 HALS와 비상용성이다. 다른 면에서, 티오에테르 기를 함유하는 페놀성 화합물의 효율적인 산화방지제 특성과 입체 장애 아민의 유사하게 효율적인 광-안정화 특성이 조합되는 것이 매우 바람직하다.
페놀성 산화방지제, 특히 티오에테르 기를 함유하는 페놀성 산화방지제, 예컨대 이르가녹스(Irganox)® 1520 또는 이르가녹스® 1726과 관련해서 또 다른 문제점은 STP와 같은 경화 또는 가교된 비극성 중합체 내의 혼화성 갭(miscibility gap)이다. 소정 시간 후, 이러한 경화된 중합체와, 중합체 조성물의 보다 극성의 또는 액체 성분, 예컨대 상기 페놀성 산화방지제는 분리되며, 이는 분비물 또는 화이트 "블루밍(blooming)"의 형성, 또는 다른 심미적으로 및 기술적으로 허용불가능한 현상으로 이어진다.
WO 2016/184932는, 핫 멜트(hot melt) 접착제 재료, 및 다음 성분들 중 2종 또는 3종을 함유하는 안정화된 핫 멜트 접착제에 관한 것이다: (A) 특정 단량체 입체 장애 아민; (B) 특정 중합체 입체 장애 아민; (C) 특정 입체 장애 페놀.
US 5,389,219는, 페놀성 산화방지제 및 황-함유 산화방지제를 포함하는 산화방지제 혼합물, 입체 장애 아민 광 안정화제, 및 이온성 에폭시계 수지의 수분산액을 포함하는 전착가능한 프라이머 조성물에 관한 것이다. 실시예에서 사용된 조성물은 아울러 롬앤하스(Rohm and Haas)로부터의 가소제인 파라플렉스(Paraplex) WP-1을 함유한다. US 5,272,189에 따르면, 파라플렉스 WP-1은 프로폭시화 크레졸이다.
US 2009/0118401 및 US 2012/0316253은, 가교성 실릴 기를 갖는 유기 중합체, 트리아진계 UV 흡수제, 및 HALS를 함유하는 경화성 조성물에 관한 것이다. 실시예 9의 조성물은, 말단 가교성 실릴 기를 갖는 아크릴 중합체, HALS로서의 티누빈(Tinuvin)® 123, 트리아진계 UV 흡수제로서의 시바 스페셜티 케미칼스(Ciba Specialty Chemicals)로부터의 1577FF, 아울러 산화방지제로서의 아사히 덴카 캄파니 리미티드(Ashahi Denka Co., Ltd.)로부터의 AO-20, 및 가소제로서의 토아고세이 캄파니 리미티드(Toagosei Co., Ltd.)로부터의 아크릴 중합체인 UP1000을 함유한다. AO-20은 페놀성 산화방지제이며, 어떠한 티오에테르 기도 함유하지 않는다.
US 2011/0028611은, 황-함유 산화방지제, 및 질소 원자 상에 알콕시 기를 갖는 HALS를 함유하는 합성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 목적은, 경화 후 특히 양호한 장기 온도 및/또는 UV 및/또는 산화 안정성과 관련하여 실란트, 접착제 및/또는 코팅 조성물 중에서 또는 그로서, 특히 실란트 조성물 중에서 또는 그로서 사용되는 경화성 조성물을 안정화시키기에 적합한 안정화제 조성물을 제공하는 것이었다. 아울러, 경화된 중합체, 특히 경화된 STP로부터의 안정화제 조성물의 성분의 침출이 방지되어야 한다. 게다가, 안정화된 경화성 조성물은 또한 현대 실란트, 접착제 및/또는 코팅 조성물의 모든 다른 통상의 요건을 만족시켜야 한다.
놀랍게도, HALS와 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 산화방지제의 조합에 대한 상기 기재된 단점은, HALS의 아미노 기가 염기도-저감 치환기를 갖는 경우 방지될 수 있는 것으로 밝혀졌다. 아울러, 특정 가소제는 경화된 중합체로부터의 안정화제 성분의 침출을 막을 수 있거나 또는 적어도 감소시킬 수 있는 것으로 밝혀졌다.
따라서 한 측면에서, 본 발명은,
(a) 아미노 기가 염기도-저감 치환기 (즉, 아미노 기의 질소 원자 상의 전자 밀도를 감소시키는 치환기; 예컨대 알콕시, 알케닐옥시, 알키닐옥시, 시클로알콕시, 페닐옥시 또는 벤질옥시 기, 또는 분자내 5원 또는 6원 고리가 N과 C(=O) 또는 C(=S) 기의 상호작용에 의해 형성될 수 있도록 질소 고리 원자에 대한 γ- 또는 δ-위치에 유연하게 또는 직접 결합된 카르보닐 또는 티오카르보닐 기)를 갖는 것인 입체 장애 아민 (HALS)으로부터 선택된 적어도 1종의 광 안정화제;
(b) 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 적어도 1종의 산화방지제; 및
(c) 카르복실레이트 기 (즉, 카르복실산 에스테르 기)를 함유하는 가소제로부터 선택되고 25℃에서 액체 (즉, 100 s-1의 전단 속도로 DIN EN ISO 3219, 부록 B에 따라 CAP 2000+ 점도계 (브룩필드(Brookfield)), 콘 4로 측정 시 25℃ 및 1013 mbar에서 250 Pa·s 이하의 점도를 가짐)인 적어도 1종의 가소제
를 포함하는 안정화제 조성물에 관한 것이다.
또 다른 측면에서, 본 발명은,
(i) 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체; 및
(ii) 상기 정의된 바와 같은 안정화제 조성물
을 포함하는 중합체 조성물에 관한 것이다.
즉, 중합체 조성물은,
(i) 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체;
(ii) 아미노 기가 염기도-저감 치환기를 갖는 것인 입체 장애 아민 (HALS)으로부터 선택된 적어도 1종의 광 안정화제;
1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 적어도 1종의 산화방지제; 및
카르복실레이트 기를 함유하는 가소제로부터 선택되고 25℃에서 액체인 적어도 1종의 가소제
를 포함한다.
본 발명은 추가로, 실릴-종결된 중합체 또는 실란트, 접착제, 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물, 특히 실릴-종결된 중합체를 함유하는 실란트, 접착제, 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물을 열, 광 및/또는 산소에 의한 분해에 대해 안정화시키기 위한 본 발명의 안정화제 조성물의 용도, 및 실란트, 접착제, 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물 중에서의 또는 그로서의 본 발명의 중합체 조성물의 용도, 및 본 발명의 중합체 조성물을 포함하는 실란트 조성물 또는 접착제 조성물, 또는 가스켓 조성물, 또는 나이핑 충전제 조성물 또는 코팅 조성물, 및 실릴-종결된 중합체 또는 실란트, 접착제, 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물, 특히 실릴-종결된 중합체를 함유하는 실란트, 접착제, 액체 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물을 열, 광 및/또는 산소에 의한 분해에 대해 안정화시키는 방법에 관한 것이다.
가변기에 대한 하기 정의에서 언급된 유기 모이어티는 개별 군 구성원의 개별 열거에 대한 총괄적인 용어이다. 접두어 Cn-Cm은 각 경우에 기 내의 가능한 탄소 원자의 수를 가리킨다.
알콕시, 히드록시알킬 등의 알킬 모이어티에서 및 본원에서 사용되는 용어 "알킬"이란 1 내지 2개 ("C1-C2-알킬"), 1 내지 3개 ("C1-C3-알킬"), 1 내지 4개 ("C1-C4-알킬"), 1 내지 6개 ("C1-C6-알킬"), 1 내지 8개 ("C1-C8-알킬"), 1 내지 12개 ("C1-C12-알킬"), 4 내지 12개 ("C4-C12-알킬"), 12 또는 13개 ("C12-C13-알킬"), 1 내지 16개 ("C1-C16-알킬"), 6 내지 16개 ("C6-C16-알킬") 또는 4 내지 20개 ("C4-C20-알킬")의 탄소 원자를 갖는 포화 직쇄형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 지칭한다. C1-C2-알킬은 메틸 또는 에틸이다. C1-C3-알킬에 대한 예는, C1-C2-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-프로필 및 이소프로필이다. C1-C4-알킬에 대한 예는, C1-C3-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-부틸, 1-메틸프로필 (sec-부틸), 2-메틸프로필 (이소부틸) 또는 1,1-디메틸에틸 (tert-부틸)이다. C1-C6-알킬에 대한 예는, C1-C4-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-펜틸, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 2,2-디메틸프로필, 1-에틸프로필, 1,1-디메틸프로필, 1,2-디메틸프로필, n-헥실, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 3-메틸펜틸, 4-메틸펜틸, 1,1-디메틸부틸, 1,2-디메틸부틸, 1,3-디메틸부틸, 2,2-디메틸부틸, 2,3-디메틸부틸, 3,3-디메틸부틸, 1-에틸부틸, 2-에틸부틸, 1,1,2-트리메틸프로필, 1,2,2-트리메틸프로필, 1-에틸-1-메틸프로필, 또는 1-에틸-2-메틸프로필이다. C1-C8-알킬에 대한 예는, C1-C6-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실 및 그의 위치 이성질체이다. C1-C10-알킬에 대한 예는, C1-C8-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-노닐, n-데실 및 그의 위치 이성질체이다. C1-C12-알킬에 대한 예는, C1-C10-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-운데실, n-도데실, 및 그의 위치 이성질체이다. C4-C12-알킬은 예를 들어 n-부틸, 1-메틸프로필 (sec-부틸), 2-메틸프로필 (이소부틸), 1,1-디메틸에틸 (tert-부틸), n-펜틸, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 2,2-디메틸프로필, 1-에틸프로필, 1,1-디메틸프로필, 1,2-디메틸프로필, n-헥실, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 3-메틸펜틸, 4-메틸펜틸, 1,1-디메틸부틸, 1,2-디메틸부틸, 1,3-디메틸부틸, 2,2-디메틸부틸, 2,3-디메틸부틸, 3,3-디메틸부틸, 1-에틸부틸, 2-에틸부틸, 1,1,2-트리메틸프로필, 1,2,2-트리메틸프로필, 1-에틸-1-메틸프로필, 1-에틸-2-메틸프로필, n-헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, 및 그의 위치 이성질체이다. C1-C16-알킬에 대한 예는, C1-C12-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-트리데실, n-테트라데실, n-펜타데실, n-헥사데실 및 그의 위치 이성질체이다. C6-C16-알킬에 대한 예는 n-펜틸, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 2,2-디메틸프로필, 1-에틸프로필, 1,1-디메틸프로필, 1,2-디메틸프로필, n-헥실, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 3-메틸펜틸, 4-메틸펜틸, 1,1-디메틸부틸, 1,2-디메틸부틸, 1,3-디메틸부틸, 2,2-디메틸부틸, 2,3-디메틸부틸, 3,3-디메틸부틸, 1-에틸부틸, 2-에틸부틸, 1,1,2-트리메틸프로필, 1,2,2-트리메틸프로필, 1-에틸-1-메틸프로필, 1-에틸-2-메틸프로필, n-헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-트리데실, n-테트라데실, n-펜타데실, n-헥사데실 및 그의 위치 이성질체이다. C4-C20-알킬에 대한 예는, C4-C12-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-트리데실, n-테트라데실, n-펜타데실, n-헥사데실, n-헵타데실, n-옥타데실, n-노나데실, n-에이코실 및 그의 위치 이성질체이다. C1-C20-알킬에 대한 예는, C1-C16-알킬에 대해 언급된 것들에 추가로, n-헵타데실, n-옥타데실, n-노나데실, n-에이코실 및 그의 위치 이성질체이다. C12-C13-알킬에 대한 예는 n-도데실, n-트리데실 및 그의 위치 이성질체이다.
용어 "히드록시알킬"은, 1개의 수소 원자가 히드록실 기로 교체된 상기 언급된 바와 같은 알킬 기를 나타낸다. C2-C4-히드록시알킬은, 1개의 수소 원자가 히드록실 기로 교체된 C2-C4-알킬 기이다. 예는 1-히드록시에틸, 2-히드록시에틸, 1-히드록시프로필, 2-히드록시프로필, 3-히드록시프로필, 1-히드록시-1-메틸에틸, 2-히드록시-1-메틸에틸, 1-히드록시부틸, 2-히드록시부틸, 3-히드록시부틸, 4-히드록시부틸, 1-히드록시-1-메틸프로필, 2-히드록시-1-메틸프로필, 3-히드록시-1-메틸프로필, 1-(히드록시메틸)-프로필, 1-히드록시-2-메틸프로필, 2-히드록시-2-메틸프로필, 3-히드록시-2-메틸프로필, 2-(히드록시메틸)-프로필, 및 1-(히드록시메틸)-2-메틸-에틸이다. 이들 중에는, 특히 히드록시알킬 기가 산소 또는 질소 원자에 결합되어 있는 경우, 분자의 나머지 부분에의 히드록시알킬의 부착 지점에 히드록실 기가 결합되어 있지 않은 라디칼이 바람직하다. 따라서, C2-C4-히드록시알킬의 바람직한 예는 2-히드록시에틸, 2-히드록시프로필, 3-히드록시프로필, 2-히드록시-1-메틸에틸, 2-히드록시부틸, 3-히드록시부틸, 4-히드록시부틸, 2-히드록시-1-메틸프로필, 3-히드록시-1-메틸프로필, 1-(히드록시메틸)-프로필, 2-히드록시-2-메틸프로필, 3-히드록시-2-메틸프로필, 2-(히드록시메틸)-프로필, 및 1-(히드록시메틸)-2-메틸-에틸이다.
알케닐옥시의 알킬 모이어티에서 및 본원에서 사용되는 용어 "알케닐"이 접두어 (Cn-Cm) 없이 사용되는 경우, 그것은 일반적으로 2 내지 20개 ("C2-C20-알케닐")의 탄소 원자, 특히 2 내지 10개 ("C2-C10-알케닐")의 탄소 원자, 구체적으로 2 내지 6개 ("C2-C6-알케닐") 또는 2 내지 4개 ("C2-C4-알케닐")의 탄소 원자를 갖는 단일불포화 (즉, 1개의 C-C 이중 결합 함유) 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 가리키며, 여기서 C-C 이중 결합은 임의의 위치에 있을 수 있다. "C2-C3-알케닐"이란, 2 내지 3개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 C-C 이중 결합을 갖는 단일불포화 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 지칭한다. "C2-C4-알케닐"이란, 2 내지 4개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 C-C 이중 결합을 갖는 단일불포화 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 지칭한다. "C2-C6-알케닐"이란, 2 내지 6개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 C-C 이중 결합을 갖는 단일불포화 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 지칭한다. "C2-C8-알케닐"이란, 2 내지 8개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 C-C 이중 결합을 갖는 단일불포화 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 지칭한다. "C2-C10-알케닐"이란, 2 내지 10개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 C-C 이중 결합을 갖는 단일불포화 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 지칭한다. "C2-C20-알케닐"이란, 2 내지 20개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 C-C 이중 결합을 갖는 단일불포화 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 지칭한다. C2-C3-알케닐에 대한 예는 에테닐, 1-프로페닐, 2-프로페닐 또는 1-메틸에테닐이다. C2-C4-알케닐에 대한 예는 에테닐, 1-프로페닐, 2-프로페닐, 1-메틸에테닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 1-메틸-1-프로페닐, 2-메틸-1-프로페닐, 1-메틸-2-프로페닐 또는 2-메틸-2-프로페닐이다. C2-C6-알케닐에 대한 예는 에테닐, 1-프로페닐, 2-프로페닐, 1-메틸에테닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 1-메틸-1-프로페닐, 2-메틸-1-프로페닐, 1-메틸-2-프로페닐, 2-메틸-2-프로페닐, 1-펜테닐, 2-펜테닐, 3-펜테닐, 4-펜테닐, 1-메틸-1-부테닐, 2-메틸-1-부테닐, 3-메틸-1-부테닐, 1-메틸-2-부테닐, 2-메틸-2-부테닐, 3-메틸-2-부테닐, 1-메틸-3-부테닐, 2-메틸-3-부테닐, 3-메틸-3-부테닐, 1,1-디메틸-2-프로페닐, 1,2-디메틸-1-프로페닐, 1,2-디메틸-2-프로페닐, 1-에틸-1-프로페닐, 1-에틸-2-프로페닐, 1-헥세닐, 2-헥세닐, 3-헥세닐, 4-헥세닐, 5-헥세닐, 1-메틸-1-펜테닐, 2-메틸-1-펜테닐, 3-메틸-1-펜테닐, 4-메틸-1-펜테닐, 1-메틸-2-펜테닐, 2-메틸-2-펜테닐, 3-메틸-2-펜테닐, 4-메틸-2-펜테닐, 1-메틸-3-펜테닐, 2-메틸-3-펜테닐, 3-메틸-3-펜테닐, 4-메틸-3-펜테닐, 1-메틸-4-펜테닐, 2-메틸-4-펜테닐, 3-메틸-4-펜테닐, 4-메틸-4-펜테닐, 1,1-디메틸-2-부테닐, 1,1-디메틸-3-부테닐, 1,2-디메틸-1-부테닐, 1,2-디메틸-2-부테닐, 1,2-디메틸-3-부테닐, 1,3-디메틸-1-부테닐, 1,3-디메틸-2-부테닐, 1,3-디메틸-3-부테닐, 2,2-디메틸-3-부테닐, 2,3-디메틸-1-부테닐, 2,3-디메틸-2-부테닐, 2,3-디메틸-3-부테닐, 3,3-디메틸-1-부테닐, 3,3-디메틸-2-부테닐, 1-에틸-1-부테닐, 1-에틸-2-부테닐, 1-에틸-3-부테닐, 2-에틸-1-부테닐, 2-에틸-2-부테닐, 2-에틸-3-부테닐, 1,1,2-트리메틸-2-프로페닐, 1-에틸-1-메틸-2-프로페닐, 1-에틸-2-메틸-1-프로페닐, 1-에틸-2-메틸-2-프로페닐 등이다. C2-C10-알케닐에 대한 예는, C2-C6-알케닐에 대해 언급된 예에 추가로, 1-헵테닐, 2-헵테닐, 3-헵테닐, 1-옥테닐, 2-옥테닐, 3-옥테닐, 4-옥테닐, 1-노네닐, 2-노네닐, 3-노네닐, 4-노네닐, 1-데세닐, 2-데세닐, 3-데세닐, 4-데세닐, 5-데세닐 및 그의 위치 이성질체이다.
알키닐옥시의 알키닐 모이어티 및 본원에서 사용되는 용어 "알키닐"이 접두어 (Cn-Cm) 없이 사용되는 경우, 그것은 일반적으로 2 내지 20개 ("C2-C20-알키닐")의 탄소 원자, 특히 2 내지 10개 ("C2-C10-알키닐")의 탄소 원자, 구체적으로 2 내지 6개 ("C2-C6-알키닐") 또는 2 내지 4개 ("C2-C4-알키닐")의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 1개의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 지방족 탄화수소 라디칼을 가리킨다. "C2-C3-알키닐"은, 2 내지 3개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 1개의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 가리킨다. "C2-C4-알키닐"은, 2 내지 4개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 1개의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 가리킨다. "C2-C6-알키닐"은, 2 내지 6개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 1개의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 가리킨다. "C2-C8-알키닐"은, 2 내지 8개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 1개의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 가리킨다. "C2-C10-알키닐"은, 2 내지 10개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 1개의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 가리킨다. "C2-C20-알키닐"은, 2 내지 20개의 탄소 원자, 및 임의의 위치의 1개의 삼중 결합을 갖는 직쇄형 또는 분지형 탄화수소 라디칼을 가리킨다. C2-C3-알키닐에 대한 예는 에티닐, 1-프로피닐 또는 2-프로피닐이다. C2-C4-알키닐에 대한 예는 에티닐, 1-프로피닐, 2-프로피닐, 1-부티닐, 2-부티닐, 3-부티닐, 1-메틸-2-프로피닐 등이다. C2-C6-알키닐에 대한 예는 에티닐, 1-프로피닐, 2-프로피닐, 1-부티닐, 2-부티닐, 3-부티닐, 1-메틸-2-프로피닐, 1-펜티닐, 2-펜티닐, 3-펜티닐, 4-펜티닐, 1-메틸-2-부티닐, 1-메틸-3-부티닐, 2-메틸-3-부티닐, 3-메틸-1-부티닐, 1,1-디메틸-2-프로피닐, 1-에틸-2-프로피닐, 1-헥시닐, 2-헥시닐, 3-헥시닐, 4-헥시닐, 5-헥시닐, 1-메틸-2-펜티닐, 1-메틸-3-펜티닐, 1-메틸-4-펜티닐, 2-메틸-3-펜티닐, 2-메틸-4-펜티닐, 3-메틸-1-펜티닐, 3-메틸-4-펜티닐, 4-메틸-1-펜티닐, 4-메틸-2-펜티닐, 1,1-디메틸-2-부티닐, 1,1-디메틸-3-부티닐, 1,2-디메틸-3-부티닐, 2,2-디메틸-3-부티닐, 3,3-디메틸-1-부티닐, 1-에틸-2-부티닐, 1-에틸-3-부티닐, 2-에틸-3-부티닐, 1-에틸-1-메틸-2-프로피닐 등이다.
본원에서 사용되는 용어 "시클로알킬"이란 3 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 모노시클릭 포화 탄화수소 라디칼 ("C3-C6-시클로알킬")을 지칭한다. C3-C6-시클로알킬의 예는 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸 및 시클로헥실이다.
용어 "알콕시"란, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 알킬 기를 지칭한다. 용어 "알콕시"가 접두어 (Cn-Cm) 없이 사용되는 경우, 그것은 C1-C20-알콕시에 관한 것이다. "C1-C2-알콕시"는, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C2-알킬 기이다. "C1-C3-알콕시"는, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C3-알킬 기이다. "C1-C4-알콕시"는, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C4-알킬 기이다. "C1-C6-알콕시"는, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C6-알킬 기이다. "C1-C12-알콕시"는, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C12-알킬 기이다. "C1-C20-알콕시"는 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 C1-C20-알킬 기이다. "C12-C14-알콕시"는, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C12-C14-알킬 기이다. C1-C2-알콕시는 메톡시 또는 에톡시이다. C1-C3-알콕시에 대한 예는, C1-C2-알콕시에 대해 언급된 것들에 추가로, n-프로폭시 및 1-메틸에톡시 (이소프로폭시)이다. C1-C4-알콕시에 대한 예는, C1-C3-알콕시에 대해 언급된 것들에 추가로, 부톡시, 1-메틸프로폭시 (sec-부톡시), 2-메틸프로폭시 (이소부톡시) 또는 1,1-디메틸에톡시 (tert-부톡시)이다. C1-C6-알콕시에 대한 예는, C1-C4-알콕시에 대해 언급된 것들에 추가로, 펜톡시, 1-메틸부톡시, 2-메틸부톡시, 3-메틸부톡시, 1,1-디메틸프로폭시, 1,2-디메틸프로폭시, 2,2-디메틸프로폭시, 1-에틸프로폭시, 헥속시, 1-메틸펜톡시, 2-메틸펜톡시, 3-메틸펜톡시, 4-메틸펜톡시, 1,1-디메틸부톡시, 1,2-디메틸부톡시, 1,3-디메틸부톡시, 2,2-디메틸부톡시, 2,3-디메틸부톡시, 3,3-디메틸부톡시, 1-에틸부톡시, 2-에틸부톡시, 1,1,2-트리메틸프로폭시, 1,2,2-트리메틸프로폭시, 1-에틸-1-메틸프로폭시 또는 1-에틸-2-메틸프로폭시이다. C1-C12-알콕시에 대한 예는, C1-C6-알콕시에 대해 언급된 것들에 추가로, 헵틸옥시, 옥틸옥시, 2-에틸헥실옥시, 노닐옥시, 데실옥시, 운데실옥시, 도데실옥시, 및 그의 위치 이성질체이다. C1-C20-알콕시에 대한 예는, C1-C12-알콕시에 대해 언급된 것들에 추가로, 트리데실옥시, 테트라데실옥시, 펜타데실옥시, 헥사데실옥시, 헵타데실옥시, 옥타데실옥시, 노나데실옥시, 에이코사닐옥시, 및 그의 위치 이성질체이다. C12-C14-알콕시에 대한 예는 도데실옥시, 트리데실옥시, 테트라데실옥시, 및 그의 위치 이성질체이다.
용어 "알케닐옥시"란, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 알케닐 기를 지칭한다. 용어 "알케닐옥시"가 접두어 (Cn-Cm) 없이 사용되는 경우, 그것은 C2-C20-알케닐옥시에 관한 것이다. C2-C3-알케닐옥시에 대한 예는 에테닐옥시, 1-프로페닐옥시, 2-프로페닐옥시 또는 1-메틸에테닐옥시이다. C2-C4-알케닐옥시에 대한 예는 에테닐옥시, 1-프로페닐옥시, 2-프로페닐옥시, 1-메틸에테닐옥시, 1-부테닐옥시, 2-부테닐옥시, 3-부테닐옥시, 1-메틸-1-프로페닐옥시, 2-메틸-1-프로페닐옥시, 1-메틸-2-프로페닐옥시 또는 2-메틸-2-프로페닐옥시이다. C2-C6-알케닐옥시에 대한 예는, C2-C6-알케닐옥시에 대해 언급된 것들에 추가로, 1-펜테닐옥시, 2-펜테닐옥시, 3-펜테닐옥시, 4-펜테닐옥시, 1-메틸-1-부테닐옥시, 2-메틸-1-부테닐옥시, 3-메틸-1-부테닐옥시, 1-메틸-2-부테닐옥시, 2-메틸-2-부테닐옥시, 3-메틸-2-부테닐옥시, 1-메틸-3-부테닐옥시, 2-메틸-3-부테닐옥시, 3-메틸-3-부테닐옥시, 1,1-디메틸-2-프로페닐옥시, 1,2-디메틸-1-프로페닐옥시, 1,2-디메틸-2-프로페닐옥시, 1-에틸-1-프로페닐옥시, 1-에틸-2-프로페닐옥시, 1-헥세닐옥시, 2-헥세닐옥시, 3-헥세닐옥시, 4-헥세닐옥시, 5-헥세닐옥시, 1-메틸-1-펜테닐옥시, 2-메틸-1-펜테닐옥시, 3-메틸-1-펜테닐옥시, 4-메틸-1-펜테닐옥시, 1-메틸-2-펜테닐옥시, 2-메틸-2-펜테닐옥시, 3-메틸-2-펜테닐옥시, 4-메틸-2-펜테닐옥시, 1-메틸-3-펜테닐옥시, 2-메틸-3-펜테닐옥시, 3-메틸-3-펜테닐옥시, 4-메틸-3-펜테닐옥시, 1-메틸-4-펜테닐옥시, 2-메틸-4-펜테닐옥시, 3-메틸-4-펜테닐옥시, 4-메틸-4-펜테닐옥시, 1,1-디메틸-2-부테닐옥시, 1,1-디메틸-3-부테닐옥시, 1,2-디메틸-1-부테닐옥시, 1,2-디메틸-2-부테닐옥시, 1,2-디메틸-3-부테닐옥시, 1,3-디메틸-1-부테닐옥시, 1,3-디메틸-2-부테닐옥시, 1,3-디메틸-3-부테닐옥시, 2,2-디메틸-3-부테닐옥시, 2,3-디메틸-1-부테닐옥시, 2,3-디메틸-2-부테닐옥시, 2,3-디메틸-3-부테닐옥시, 3,3-디메틸-1-부테닐옥시, 3,3-디메틸-2-부테닐옥시, 1-에틸-1-부테닐옥시, 1-에틸-2-부테닐옥시, 1-에틸-3-부테닐옥시, 2-에틸-1-부테닐옥시, 2-에틸-2-부테닐옥시, 2-에틸-3-부테닐옥시, 1,1,2-트리메틸-2-프로페닐옥시, 1-에틸-1-메틸-2-프로페닐옥시, 1-에틸-2-메틸-1-프로페닐옥시, 1-에틸-2-메틸-2-프로페닐옥시 등이다. C2-C10-알케닐옥시에 대한 예는, C2-C6-알케닐옥시에 대해 언급된 예에 추가로, 1-헵테닐옥시, 2-헵테닐옥시, 3-헵테닐옥시, 1-옥테닐옥시, 2-옥테닐옥시, 3-옥테닐옥시, 4-옥테닐옥시, 1-노네닐옥시, 2-노네닐옥시, 3-노네닐옥시, 4-노네닐옥시, 1-데세닐옥시, 2-데세닐옥시, 3-데세닐옥시, 4-데세닐옥시, 5-데세닐옥시 및 그의 위치 이성질체이다.
용어 "알키닐옥시"란, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 알키닐 기를 지칭한다. 용어 "알키닐옥시"가 접두어 (Cn-Cm) 없이 사용되는 경우, 그것은 C2-C20-알키닐옥시에 관한 것이다. C2-C3-알키닐옥시에 대한 예는 에티닐옥시, 1-프로피닐옥시 또는 2-프로피닐옥시이다. C2-C4-알키닐에 대한 예는 에티닐옥시, 1-프로피닐옥시, 2-프로피닐옥시, 1-부티닐옥시옥시, 2-부티닐, 3-부티닐옥시, 1-메틸-2-프로피닐옥시 등이다. C2-C6-알키닐옥시에 대한 예는, C2-C6-알케닐옥시에 대해 언급된 것들에 추가로, 1-펜티닐옥시, 2-펜티닐옥시, 3-펜티닐옥시, 4-펜티닐옥시, 1-메틸-2-부티닐옥시, 1-메틸-3-부티닐옥시, 2-메틸-3-부티닐옥시, 3-메틸-1-부티닐옥시, 1,1-디메틸-2-프로피닐옥시, 1-에틸-2-프로피닐옥시, 1-헥시닐옥시, 2-헥시닐옥시, 3-헥시닐옥시, 4-헥시닐옥시, 5-헥시닐옥시, 1-메틸-2-펜티닐옥시, 1-메틸-3-펜티닐옥시, 1-메틸-4-펜티닐옥시, 2-메틸-3-펜티닐옥시, 2-메틸-4-펜티닐옥시, 3-메틸-1-펜티닐옥시, 3-메틸-4-펜티닐옥시, 4-메틸-1-펜티닐옥시, 4-메틸-2-펜티닐옥시, 1,1-디메틸-2-부티닐옥시, 1,1-디메틸-3-부티닐옥시, 1,2-디메틸-3-부티닐옥시, 2,2-디메틸-3-부티닐옥시, 3,3-디메틸-1-부티닐옥시, 1-에틸-2-부티닐옥시, 1-에틸-3-부티닐옥시, 2-에틸-3-부티닐옥시, 1-에틸-1-메틸-2-프로피닐옥시 등이다.
용어 "시클로알콕시"란, 산소 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 시클로알킬 기를 지칭한다. 용어 "시클로알콕시"가 접두어 (Cn-Cm) 없이 사용되는 경우, 그것은 C3-C6-시클로알콕시에 관한 것이다. C3-C6-시클로알콕시의 예는 시클로프로폭시, 시클로부톡시, 시클로펜톡시 및 시클로헥속시이다.
용어 "알킬티오"란, 황 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 알킬 기를 지칭한다. "C1-C2-알킬티오"는, 황 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C2-알킬 기이다. "C1-C3-알킬티오"는, 황 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C3-알킬 기이다. "C1-C4-알킬티오"는, 황 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C4-알킬 기이다. "C1-C6-알킬티오"는, 황 원자를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C6-알킬 기이다. C1-C2-알킬티오는 메틸티오 또는 에틸티오이다. C1-C3-알킬티오에 대한 예는, C1-C2-알킬티오에 대해 언급된 것들에 추가로, n-프로필티오 및 1-메틸에틸티오 (이소프로필티오)이다. C1-C4-알킬티오에 대한 예는, C1-C3-알킬티오에 대해 언급된 것들에 추가로, 부틸티오, 1-메틸프로필티오 (sec-부틸티오), 2-메틸프로필티오 (이소부틸티오) 또는 1,1-디메틸에틸티오 (tert-부틸티오)이다. C1-C6-알킬티오에 대한 예는, C1-C4-알킬티오에 대해 언급된 것들에 추가로, 펜틸티오, 1-메틸부틸티오, 2-메틸부틸티오, 3-메틸부틸티오, 1,1-디메틸프로필티오, 1,2-디메틸프로필티오, 2,2-디메틸프로필티오, 1-에틸프로필티오, 헥실티오, 1-메틸펜틸티오, 2-메틸펜틸티오, 3-메틸펜틸티오, 4-메틸펜틸티오, 1,1-디메틸부틸티오, 1,2-디메틸부틸티오, 1,3-디메틸부틸티오, 2,2-디메틸부틸티오, 2,3-디메틸부틸티오, 3,3-디메틸부틸티오, 1-에틸부틸티오, 2-에틸부틸티오, 1,1,2-트리메틸프로필티오, 1,2,2-트리메틸프로필티오, 1-에틸-1-메틸프로필티오 또는 1-에틸-2-메틸프로필티오이다.
용어 "알킬술피닐"이란, 술피닐 기 [S(=O)]를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 알킬 기를 지칭한다. "C1-C2-알킬술피닐"은, 술피닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C2-알킬 기이다. "C1-C3-알킬술피닐"은, 술피닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C3-알킬 기이다. "C1-C4-알킬술피닐"은, 술피닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C4-알킬 기이다. "C1-C6-알킬술피닐"은, 술피닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C6-알킬 기이다. C1-C2-알킬술피닐은 메틸술피닐 또는 에틸술피닐이다. C1-C3-알킬술피닐에 대한 예는, C1-C2-알킬술피닐에 대해 언급된 것들에 추가로, n-프로필술피닐 및 1-메틸에틸술피닐 (이소프로필술피닐)이다. C1-C4-알킬술피닐에 대한 예는, C1-C3-알킬술피닐에 대해 언급된 것들에 추가로, 부틸술피닐, 1-메틸프로필술피닐 (sec-부틸술피닐), 2-메틸프로필술피닐 (이소부틸술피닐) 또는 1,1-디메틸에틸술피닐 (tert-부틸술피닐)이다. C1-C6-알킬술피닐에 대한 예는, C1-C4-알킬술피닐에 대해 언급된 것들에 추가로, 펜틸술피닐, 1-메틸부틸술피닐, 2-메틸부틸술피닐, 3-메틸부틸술피닐, 1,1-디메틸프로필술피닐, 1,2-디메틸프로필술피닐, 2,2-디메틸프로필술피닐, 1-에틸프로필술피닐, 헥실술피닐, 1-메틸펜틸술피닐, 2-메틸펜틸술피닐, 3-메틸펜틸술피닐, 4-메틸펜틸술피닐, 1,1-디메틸부틸술피닐, 1,2-디메틸부틸술피닐, 1,3-디메틸부틸술피닐, 2,2-디메틸부틸술피닐, 2,3-디메틸부틸술피닐, 3,3-디메틸부틸술피닐, 1-에틸부틸술피닐, 2-에틸부틸술피닐, 1,1,2-트리메틸프로필술피닐, 1,2,2-트리메틸프로필술피닐, 1-에틸-1-메틸프로필술피닐 또는 1-에틸-2-메틸프로필술피닐이다.
용어 "알킬술포닐"이란, 술포닐 기 [S(=O)2]를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 알킬 기를 지칭한다. "C1-C2-알킬술포닐"은, 술포닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C2-알킬 기이다. "C1-C3-알킬술포닐"은, 술포닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C3-알킬 기이다. "C1-C4-알킬술포닐"은, 술포닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C4-알킬 기이다. "C1-C6-알킬술포닐"은, 술포닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C6-알킬 기이다. C1-C2-알킬술포닐은 메틸술포닐 또는 에틸술포닐이다. C1-C3-알킬술포닐에 대한 예는, C1-C2-알킬술포닐에 대해 언급된 것들에 추가로, n-프로필술포닐 및 1-메틸에틸술포닐 (이소프로필술포닐)이다. C1-C4-알킬술포닐에 대한 예는, C1-C3-알킬술포닐에 대해 언급된 것들에 추가로, 부틸술포닐, 1-메틸프로필술포닐 (sec-부틸술포닐), 2-메틸프로필술포닐 (이소부틸술포닐) 또는 1,1-디메틸에틸술포닐 (tert-부틸술포닐)이다. C1-C6-알킬술포닐에 대한 예는, C1-C4-알킬술포닐에 대해 언급된 것들에 추가로, 펜틸술포닐, 1-메틸부틸술포닐, 2-메틸부틸술포닐, 3-메틸부틸술포닐, 1,1-디메틸프로필술포닐, 1,2-디메틸프로필술포닐, 2,2-디메틸프로필술포닐, 1-에틸프로필술포닐, 헥실술포닐, 1-메틸펜틸술포닐, 2-메틸펜틸술포닐, 3-메틸펜틸술포닐, 4-메틸펜틸술포닐, 1,1-디메틸부틸술포닐, 1,2-디메틸부틸술포닐, 1,3-디메틸부틸술포닐, 2,2-디메틸부틸술포닐, 2,3-디메틸부틸술포닐, 3,3-디메틸부틸술포닐, 1-에틸부틸술포닐, 2-에틸부틸술포닐, 1,1,2-트리메틸프로필술포닐, 1,2,2-트리메틸프로필술포닐, 1-에틸-1-메틸프로필술포닐 또는 1-에틸-2-메틸프로필술포닐이다.
용어 "알킬카르보닐"이란, 카르보닐 기 [C(=O)]를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 알킬 기를 지칭한다. "C1-C2-알킬카르보닐"은, 카르보닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C2-알킬 기이다. "C1-C3-알킬카르보닐"은, 카르보닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C3-알킬 기이다. "C1-C4-알킬카르보닐"은, 카르보닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C4-알킬 기이다. "C1-C6-알킬카르보닐"은, 카르보닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C6-알킬 기이다. C1-C2-알킬카르보닐은 메틸카르보닐 또는 에틸카르보닐이다. C1-C3-알킬카르보닐에 대한 예는, C1-C2-알킬카르보닐에 대해 언급된 것들에 추가로, n-프로필카르보닐 및 1-메틸에틸카르보닐 (이소프로필카르보닐)이다. C1-C4-알킬카르보닐에 대한 예는, C1-C3-알킬카르보닐에 대해 언급된 것들에 추가로, 부틸카르보닐, 1-메틸프로필카르보닐 (sec-부틸카르보닐), 2-메틸프로필카르보닐 (이소부틸카르보닐) 또는 1,1-디메틸에틸카르보닐 (tert-부틸카르보닐)이다. C1-C6-알킬카르보닐에 대한 예는, C1-C4-알킬카르보닐에 대해 언급된 것들에 추가로, 펜틸카르보닐, 1-메틸부틸카르보닐, 2-메틸부틸카르보닐, 3-메틸부틸카르보닐, 1,1-디메틸프로필카르보닐, 1,2-디메틸프로필카르보닐, 2,2-디메틸프로필카르보닐, 1-에틸프로필카르보닐, 헥실카르보닐, 1-메틸펜틸카르보닐, 2-메틸펜틸카르보닐, 3-메틸펜틸카르보닐, 4-메틸펜틸카르보닐, 1,1-디메틸부틸카르보닐, 1,2-디메틸부틸카르보닐, 1,3-디메틸부틸카르보닐, 2,2-디메틸부틸카르보닐, 2,3-디메틸부틸카르보닐, 3,3-디메틸부틸카르보닐, 1-에틸부틸카르보닐, 2-에틸부틸카르보닐, 1,1,2-트리메틸프로필카르보닐, 1,2,2-트리메틸프로필카르보닐, 1-에틸-1-메틸프로필카르보닐 또는 1-에틸-2-메틸프로필카르보닐이다.
용어 "알콕시카르보닐"이란, 카르보닐 기 [C(=O)]를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 알콕시 기를 지칭한다. "C1-C2-알콕시카르보닐"은, 카르보닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C2-알콕시 기이다. "C1-C3-알콕시카르보닐"은, 카르보닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C3-알콕시 기이다. "C1-C4-알콕시카르보닐"은, 카르보닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C4-알콕시 기이다. "C1-C6-알콕시카르보닐"은, 카르보닐 기를 통해 분자의 나머지 부분에 부착된 상기 정의된 바와 같은 C1-C6-알콕시 기이다. C1-C2-알콕시카르보닐은 메톡시카르보닐 또는 에톡시카르보닐이다. C1-C3-알콕시카르보닐에 대한 예는, C1-C2-알콕시카르보닐에 대해 언급된 것들에 추가로, n-프로폭시카르보닐 및 1-메틸에톡시카르보닐 (이소프로폭시카르보닐)이다. C1-C4-알콕시카르보닐에 대한 예는, C1-C3-알콕시카르보닐에 대해 언급된 것들에 추가로, 부톡시카르보닐, 1-메틸프로폭시카르보닐 (sec-부톡시카르보닐), 2-메틸프로폭시카르보닐 (이소부톡시카르보닐) 또는 1,1-디메틸에톡시카르보닐 (tert-부톡시카르보닐)이다. C1-C6-알콕시카르보닐에 대한 예는, C1-C4-알콕시카르보닐에 대해 언급된 것들에 추가로, 펜톡시카르보닐, 1-메틸부톡시카르보닐, 2-메틸부톡시카르보닐, 3-메틸부톡시카르보닐, 1,1-디메틸프로폭시카르보닐, 1,2-디메틸프로폭시카르보닐, 2,2-디메틸프로폭시카르보닐, 1-에틸프로폭시카르보닐, 헥속시카르보닐, 1-메틸펜톡시카르보닐, 2-메틸펜톡시카르보닐, 3-메틸펜톡시카르보닐, 4-메틸펜톡시카르보닐, 1,1-디메틸부톡시카르보닐, 1,2-디메틸부톡시카르보닐, 1,3-디메틸부톡시카르보닐, 2,2-디메틸부톡시카르보닐, 2,3-디메틸부톡시카르보닐, 3,3-디메틸부톡시카르보닐, 1-에틸부톡시카르보닐, 2-에틸부톡시카르보닐, 1,1,2-트리메틸프로폭시카르보닐, 1,2,2-트리메틸프로폭시카르보닐, 1-에틸-1-메틸프로폭시카르보닐 또는 1-에틸-2-메틸프로폭시카르보닐이다.
"아미노"는 -NH2이다.
"C1-C4-알킬아미노"는 기 -N(H)-C1-C4-알킬이며, 여기서 C1-C4-알킬은 상기 정의된 바와 같다. 예는 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노, 부틸아미노 등이다.
용어 "디(C1-C4-알킬)아미노"는 기 -N(C1-C4-알킬)2를 나타내며, 여기서 각각의 C1-C4-알킬은 독립적으로 상기 정의된 바와 같다. 예는 디메틸아미노, 디에틸아미노, 에틸메틸아미노, 디프로필아미노, 디이소프로필아미노, 메틸프로필아미노, 메틸이소프로필아미노, 에틸프로필아미노, 에틸이소프로필아미노, 디부틸아미노 등이다.
"아미노카르보닐"은 -C(O)-NH2이다.
용어 "C1-C4-알킬아미노카르보닐"은 기 -C(=O)-N(H)-C1-C4-알킬을 나타내며, 여기서 C1-C4-알킬은 상기 정의된 바와 같다. 예는 메틸아미노카르보닐, 에틸아미노카르보닐, 프로필아미노카르보닐, 이소프로필아미노카르보닐, 부틸아미노카르보닐 등이다.
용어 "디(C1-C4-알킬)아미노카르보닐"은 기 -C(=O)-N(C1-C4-알킬)2이며, 여기서 각각의 C1-C4-알킬은 독립적으로 상기 정의된 바와 같다. 예는 디메틸아미노카르보닐, 디에틸아미노카르보닐, 에틸메틸아미노카르보닐, 디프로필아미노카르보닐, 디이소프로필아미노카르보닐, 메틸프로필아미노카르보닐, 메틸이소프로필아미노카르보닐, 에틸프로필아미노카르보닐, 에틸이소프로필아미노카르보닐, 디부틸아미노카르보닐 등이다.
알킬렌은 선형 또는 분지형 2가 알칸디일 라디칼이다. C1-C3-알킬렌은 1, 2 또는 3개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알킬 라디칼이다. 예는 -CH2-, -CH2CH2-, -CH(CH3)-, -CH2CH2CH2-, -CH(CH3)CH2-, -CH2CH(CH3)- 및 -C(CH3)2-이다.
C3-알킬렌은 3개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알킬 라디칼이다. 예는 -CH2CH2CH2-, -CH(CH3)CH2-, -CH2CH(CH3)- 및 -C(CH3)2-이다.
C1-C4-알킬렌은 1, 2, 3 또는 4개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알킬 라디칼이다. 예는 -CH2-, -CH2CH2-, -CH(CH3)-, -CH2CH2CH2-, -CH(CH3)CH2-, -CH2CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH(CH3)CH2CH2-, -CH2CH2CH(CH3)-, -C(CH3)2CH2- 및 -CH2C(CH3)2-이다.
선형 또는 분지형 C2-C4-알킬렌은 2, 3 또는 4개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알킬 라디칼이다. 예는 -CH2CH2-, -CH(CH3)-, -CH2CH2CH2-, -CH(CH3)CH2-, -CH2CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -CH2CH2CH2CH2-, -CH(CH3)CH2CH2-, -CH2CH2CH(CH3)-, -C(CH3)2CH2- 및 -CH2C(CH3)2-이다.
선형 또는 분지형 C2-C10-알킬렌은 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 또는 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알킬 라디칼이다. 예는, C2-C4-알킬렌에 대해 상기 언급된 라디칼에 추가로, -(CH2)5-, -(CH2)6-, -(CH2)7-, -(CH2)8-, -(CH2)9-, -(CH2)10- 및 그의 위치 이성질체이다.
선형 또는 분지형 C1-C10-알킬렌은 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 또는 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알킬 라디칼이다. 한 예는, C2-C10-알킬렌에 대해 상기 언급된 라디칼에 추가로, 메틸렌 (-CH2-)이다.
선형 또는 분지형 C6-C10-알킬렌은 6, 7, 8, 9 또는 10개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알킬 라디칼이다. 예는 -(CH2)6-, -(CH2)7-, -(CH2)8-, -(CH2)9-, -(CH2)10- 및 그의 위치 이성질체이다.
알케닐렌은 선형 또는 분지형 2가 알켄디일 라디칼, 예를 들어 C2-C4-알케닐렌이며, 이는 또한 2, 3 또는 4개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알케닐 라디칼이다. 예는 -CH=CH-, -CH=CH-CH2-, -CH2-CH=CH-, -CH=CH-CH2-CH2-, -CH2-CH=CH-CH2- 및 -CH2-CH2-CH=CH-이다.
알키닐렌은 선형 또는 분지형 2가 알킨디일 라디칼, 예를 들어 C2-C4-알키닐렌이며, 이는 또한 2, 3 또는 4개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 2가 알키닐 라디칼이다. 예는 -C≡C-, -C≡C-CH2-, -CH2-C≡C-, -C≡C-CH2-CH2-, -CH2-C≡C-CH2-, 및 -CH2-CH2-C≡C-이다.
2가 지방족 라디칼은 지환족, 방향족 또는 헤테로시클릭 구성요소를 함유하지 않는 것들이다. 예는 알킬렌, 알케닐렌 및 알키닐렌 라디칼이다.
2가 지환족 라디칼은 1개 이상, 예를 들어 1개 또는 2개의 지환족 라디칼을 함유할 수 있으나; 방향족 또는 헤테로시클릭 구성요소를 함유하지 않는다. 지환족 라디칼은 지방족 라디칼로 치환될 수 있으나, NH 기를 위한 결합 자리 (본 발명의 하기 실시양태 참조)는 지환족 라디칼 상에 위치한다.
2가 방향족 라디칼은 1개 이상, 예를 들어 1개 또는 2개의 방향족 라디칼을 함유할 수 있으나; 지환족 또는 헤테로시클릭 구성요소를 함유하지 않는다. 방향족 라디칼은 지방족 라디칼로 치환될 수 있으나, NH 기를 위한 결합 자리 둘 모두가 방향족 라디칼(들) 상에 위치한다.
알칸올은 R이 선형 또는 분지형 알킬 기인 화학식 R-OH의 화합물이다. C1-C4-알칸올은 R이 선형 또는 분지형 C1-C4-알킬 기인 화합물 R-OH이다. C1-C6-알칸올은 R이 선형 또는 분지형 C1-C6-알킬 기인 화합물 R-OH이다. C1-C4-알칸올에 대한 예는 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, sec-부탄올, 이소부탄올 및 tert-부탄올이다. C1-C6-알칸올에 대한 예는, C1-C4-알칸올에 대해 언급된 것들에 추가로, 1-펜탄올, 2-펜탄올, 3-펜탄올, 1-헥산올, 2-헥산올, 3-헥산올 및 그의 이성질체이다.
알칸디올은, A가 선형 또는 분지형 알킬렌 기, 즉, 2가 선형 또는 분지형 알칸디일 라디칼인 화학식 HO-A-OH의 화합물이다. C2-C4-알칸디올은, A가 선형 또는 분지형 C2-C4-알킬렌 기인 화학식 HO-A-OH의 화합물이다. 예는 1,2-에탄디올 (에틸렌 글리콜), 1,2-프로판디올 (프로필렌 글리콜), 1,3-프로판디올, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올 및 1,4-부탄디올이다.
본원에서 사용되는 용어 "고리 구성원으로서 N, O, S, NO, SO 및 SO2로 이루어진 군으로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 헤테로원자 또는 헤테로원자 기를 함유하는 3원, 4원, 5원, 6원 또는 7원 포화, 부분 불포화 또는 최대 불포화 헤테로시클릭 고리" [여기서, "최대 불포화"는 또한 "방향족"을 포함함]는 모노시클릭 라디칼을 나타내며, 모노시클릭 라디칼은 포화, 부분 불포화 또는 최대 불포화 (방향족 포함)이다.
불포화 고리는 적어도 1개의 C-C 및/또는 C-N 및/또는 N-N 이중 결합(들)을 함유한다. 최대 불포화 고리는, 고리 크기에 의해 허용되는 정도로 많은 공액 C-C 및/또는 C-N 및/또는 N-N 이중 결합을 함유한다. 최대 불포화 5원 또는 6원 헤테로모노시클릭 고리는 일반적으로 방향족이다. 방향족이 아닌 피란 및 티오피란과 같이, 고리 구성원으로서 O, S, SO 및/또는 SO2를 함유하는 최대 불포화 6원 고리는 예외이다. 부분 불포화 고리는, 고리 크기에 의해 허용되는 C-C 및/또는 C-N 및/또는 N-N 이중 결합(들)의 최대 수보다 적게 함유한다. 헤테로시클릭 고리는 탄소 고리 구성원 또는 질소 고리 구성원을 통해 분자의 나머지 부분에 부착될 수 있다. 물론, 헤테로시클릭 고리는 적어도 1개의 탄소 고리 원자를 함유한다. 고리가 1개 초과의 O 고리 원자를 함유하는 경우, 이것들은 인접하지 않는다.
3원, 4원, 5원, 6원 또는 7원 포화 헤테로모노시클릭 고리의 예는 옥시란-2-일, 티이란-2-일, 아지리딘-1-일, 아지리딘-2-일, 옥세탄-2-일, 옥세탄-3-일, 티에탄-2-일, 티에탄-3-일, 1-옥소티에탄-2-일, 1-옥소티에탄-3-일, 1,1-디옥소티에탄-2-일, 1,1-디옥소티에탄-3-일, 아제티딘-1-일, 아제티딘-2-일, 아제티딘-3-일, 테트라히드로푸란-2-일, 테트라히드로푸란-3-일, 테트라히드로티엔-2-일, 테트라히드로티엔-3-일, 1-옥소테트라히드로티엔-2-일, 1,1-디옥소테트라히드로티엔-2-일, 1-옥소테트라히드로티엔-3-일, 1,1-디옥소테트라히드로티엔-3-일, 피롤리딘-1-일, 피롤리딘-2-일, 피롤리딘-3-일, 피라졸리딘-1-일, 피라졸리딘-3-일, 피라졸리딘-4-일, 피라졸리딘-5-일, 이미다졸리딘-1-일, 이미다졸리딘-2-일, 이미다졸리딘-4-일, 옥사졸리딘-2-일, 옥사졸리딘-3-일, 옥사졸리딘-4-일, 옥사졸리딘-5-일, 이속사졸리딘-2-일, 이속사졸리딘-3-일, 이속사졸리딘-4-일, 이속사졸리딘-5-일, 티아졸리딘-2-일, 티아졸리딘-3-일, 티아졸리딘-4-일, 티아졸리딘-5-일, 이소티아졸리딘-2-일, 이소티아졸리딘-3-일, 이소티아졸리딘-4-일, 이소티아졸리딘-5-일, 1,2,4-옥사디아졸리딘-2-일, 1,2,4-옥사디아졸리딘-3-일, 1,2,4-옥사디아졸리딘-4-일, 1,2,4-옥사디아졸리딘-5-일, 1,2,4-티아디아졸리딘-2-일, 1,2,4-티아디아졸리딘-3-일, 1,2,4-티아디아졸리딘-4-일, 1,2,4-티아디아졸리딘-5-일, 1,2,4-트리아졸리딘-1-일, 1,2,4-트리아졸리딘-3-일, 1,2,4-트리아졸리딘-4-일, 1,3,4-옥사디아졸리딘-2-일, 1,3,4-옥사디아졸리딘-3-일, 1,3,4-티아디아졸리딘-2-일, 1,3,4-티아디아졸리딘-3-일, 1,3,4-트리아졸리딘-1-일, 1,3,4-트리아졸리딘-2-일, 1,3,4-트리아졸리딘-3-일, 테트라히드로피란-2-일, 테트라히드로피란-3-일, 테트라히드로피란-4-일, 1,3-디옥산-2-일, 1,3-디옥산-4-일, 1,3-디옥산-5-일, 1,4-디옥산-2-일, 피페리딘-1-일, 피페리딘-2-일, 피페리딘-3-일, 피페리딘-4-일, 헥사히드로피리다진-1-일, 헥사히드로피리다진-3-일, 헥사히드로피리다진-4-일, 헥사히드로피리미딘-1-일, 헥사히드로피리미딘-2-일, 헥사히드로피리미딘-4-일, 헥사히드로피리미딘-5-일, 피페라진-1-일, 피페라진-2-일, 1,3,5-헥사히드로트리아진-1-일, 1,3,5-헥사히드로트리아진-2-일, 1,2,4-헥사히드로트리아진-1-일, 1,2,4-헥사히드로트리아진-2-일, 1,2,4-헥사히드로트리아진-3-일, 1,2,4-헥사히드로트리아진-4-일, 1,2,4-헥사히드로트리아진-5-일, 1,2,4-헥사히드로트리아진-6-일, 모르폴린-2-일, 모르폴린-3-일, 모르폴린-4-일, 티오모르폴린-2-일, 티오모르폴린-3-일, 티오모르폴린-4-일, 1-옥소티오모르폴린-2-일, 1-옥소티오모르폴린-3-일, 1-옥소티오모르폴린-4-일, 1,1-디옥소티오모르폴린-2-일, 1,1-디옥소티오모르폴린-3-일, 1,1-디옥소티오모르폴린-4-일, 아제판-1-, -2-, -3- 또는 -4-일, 옥세판-2-, -3-, -4- 또는 -5-일, 헥사히드로-1,3-디아제피닐, 헥사히드로-1,4-디아제피닐, 헥사히드로-1,3-옥사제피닐, 헥사히드로-1,4-옥사제피닐, 헥사히드로-1,3-디옥세피닐, 헥사히드로-1,4-디옥세피닐 등을 포함한다.
3원, 4원, 5원, 6원 또는 7원 부분 불포화 헤테로모노시클릭 고리의 예는 2,3-디히드로푸란-2-일, 2,3-디히드로푸란-3-일, 2,4-디히드로푸란-2-일, 2,4-디히드로푸란-3-일, 2,3-디히드로티엔-2-일, 2,3-디히드로티엔-3-일, 2,4-디히드로티엔-2-일, 2,4-디히드로티엔-3-일, 2-피롤린-2-일, 2-피롤린-3-일, 3-피롤린-2-일, 3-피롤린-3-일, 2-이속사졸린-3-일, 3-이속사졸린-3-일, 4-이속사졸린-3-일, 2-이속사졸린-4-일, 3-이속사졸린-4-일, 4-이속사졸린-4-일, 2-이속사졸린-5-일, 3-이속사졸린-5-일, 4-이속사졸린-5-일, 2-이소티아졸린-3-일, 3-이소티아졸린-3-일, 4-이소티아졸린-3-일, 2-이소티아졸린-4-일, 3-이소티아졸린-4-일, 4-이소티아졸린-4-일, 2-이소티아졸린-5-일, 3-이소티아졸린-5-일, 4-이소티아졸린-5-일, 2,3-디히드로피라졸-1-일, 2,3-디히드로피라졸-2-일, 2,3-디히드로피라졸-3-일, 2,3-디히드로피라졸-4-일, 2,3-디히드로피라졸-5-일, 3,4-디히드로피라졸-1-일, 3,4-디히드로피라졸-3-일, 3,4-디히드로피라졸-4-일, 3,4-디히드로피라졸-5-일, 4,5-디히드로피라졸-1-일, 4,5-디히드로피라졸-3-일, 4,5-디히드로피라졸-4-일, 4,5-디히드로피라졸-5-일, 2,3-디히드로옥사졸-2-일, 2,3-디히드로옥사졸-3-일, 2,3-디히드로옥사졸-4-일, 2,3-디히드로옥사졸-5-일, 3,4-디히드로옥사졸-2-일, 3,4-디히드로옥사졸-3-일, 3,4-디히드로옥사졸-4-일, 3,4-디히드로옥사졸-5-일, 3,4-디히드로옥사졸-2-일, 3,4-디히드로옥사졸-3-일, 3,4-디히드로옥사졸-4-일, 2-, 3-, 4-, 5- 또는 6-디- 또는 테트라히드로피리디닐, 3-디- 또는 테트라히드로피리다지닐, 4-디- 또는 테트라히드로피리다지닐, 2-디- 또는 테트라히드로피리미디닐, 4-디- 또는 테트라히드로피리미디닐, 5-디- 또는 테트라히드로피리미디닐, 디- 또는 테트라히드로피라지닐, 1,3,5-디- 또는 테트라히드로트리아진-2-일, 1,2,4-디- 또는 테트라히드로트리아진-3-일, 2,3,4,5-테트라히드로[1H]아제핀-1-, -2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 3,4,5,6-테트라히드로[2H]아제핀-2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 2,3,4,7-테트라히드로[1H]아제핀-1-, -2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 2,3,6,7-테트라히드로[1H]아제핀-1-, -2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 테트라히드로옥세피닐, 예컨대 2,3,4,5-테트라히드로[1H]옥세핀-2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 2,3,4,7-테트라히드로[1H]옥세핀-2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 2,3,6,7-테트라히드로[1H]옥세핀-2-, -3-, -4-, -5-, -6- 또는 -7-일, 테트라히드로-1,3-디아제피닐, 테트라히드로-1,4-디아제피닐, 테트라히드로-1,3-옥사제피닐, 테트라히드로-1,4-옥사제피닐, 테트라히드로-1,3-디옥세피닐, 테트라히드로-1,4-디옥세피닐 등을 포함한다.
3원, 4원, 5원, 6원 또는 7원 최대 불포화 (방향족 포함) 헤테로모노시클릭 고리의 예는 2-푸릴, 3-푸릴, 2-티에닐, 3-티에닐, 1-피롤릴, 2-피롤릴, 3-피롤릴, 1-피라졸릴, 3-피라졸릴, 4-피라졸릴, 5-피라졸릴, 1-이미다졸릴, 2-이미다졸릴, 4-이미다졸릴, 5-이미다졸릴, 2-옥사졸릴, 4-옥사졸릴, 5-옥사졸릴, 3-이속사졸릴, 4-이속사졸릴, 5-이속사졸릴, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴, 3-이소티아졸릴, 4-이소티아졸릴, 5-이소티아졸릴, 1,3,4-트리아졸-1-일, 1,3,4-트리아졸-2-일, 1,3,4-트리아졸-3-일, 1,2,3-트리아졸-1-일, 1,2,3-트리아졸-2-일, 1,2,3-트리아졸-4-일, 1,2,5-옥사디아졸-3-일, 1,2,3-옥사디아졸-4-일, 1,2,3-옥사디아졸-5-일, 1,3,4-옥사디아졸-2-일, 1,2,5-티아디아졸-3-일, 1,2,3-티아디아졸-4-일, 1,2,3-티아디아졸-5-일, 1,3,4-티아디아졸-2-일, 2-피리디닐, 3-피리디닐, 4-피리디닐, 1-옥소피리딘-2-일, 1-옥소피리딘-3-일, 1-옥소피리딘-4-일, 3-피리다지닐, 4-피리다지닐, 2-피리미디닐, 4-피리미디닐, 5-피리미디닐, 2-피라지닐, 1,3,5-트리아진-2-일, 1,2,4-트리아진-3-일, 1,2,4-트리아진-5-일, 1,2,3,4-테트라진-1-일, 1,2,3,4-테트라진-2-일, 1,2,3,4-테트라진-5-일, 피란-2-일, 피란-3-일, 피란-4-일, 티오피란-2-일, 티오피란-3-일, 티오피란-4-일, 1-옥소티오피란-2-일, 1-옥소티오피란-3-일, 1-옥소티오피란-4-일, 1,1-디옥소티오피란-2-일, 1,1-디옥소티오피란-3-일, 1,1-디옥소티오피란-4-일, 2H-옥사진-2-일, 2H-옥사진-3-일, 2H-옥사진-4-일, 2H-옥사진-5-일, 2H-옥사진-6-일, 4H-옥사진-3-일, 4H-옥사진-4-일, 4H-옥사진-5-일, 4H-옥사진-6-일, 6H-옥사진-3-일, 6H-옥사진-4-일, 7H-옥사진-5-일, 8H-옥사진-6-일, 2H-1,3-옥사진-2-일, 2H-1,3-옥사진-4-일, 2H-1,3-옥사진-5-일, 2H-1,3-옥사진-6-일, 4H-1,3-옥사진-2-일, 4H-1,3-옥사진-4-일, 4H-1,3-옥사진-5-일, 4H-1,3-옥사진-6-일, 6H-1,3-옥사진-2-일, 6H-1,3-옥사진-4-일, 6H-1,3-옥사진-5-일, 6H-1,3-옥사진-6-일, 2H-1,4-옥사진-2-일, 2H-1,4-옥사진-3-일, 2H-1,4-옥사진-5-일, 2H-1,4-옥사진-6-일, 4H-1,4-옥사진-2-일, 4H-1,4-옥사진-3-일, 4H-1,4-옥사진-4-일, 4H-1,4-옥사진-5-일, 4H-1,4-옥사진-6-일, 6H-1,4-옥사진-2-일, 6H-1,4-옥사진-3-일, 6H-1,4-옥사진-5-일, 6H-1,4-옥사진-6-일, 1,4-디옥신-2-일, 1,4-옥사티인-2-일, 1H-아제핀, 1H-[1,3]-디아제핀, 1H-[1,4]-디아제핀 등이다.
고리 구성원으로서 N, O 및 S로 이루어진 군으로부터 선택된 1, 2, 3 또는 4개의 헤테로원자를 함유하는 5원 또는 6원 모노시클릭 헤테로방향족 고리에 대한 예는 2-푸릴, 3-푸릴, 2-티에닐, 3-티에닐, 1-피롤릴, 2-피롤릴, 3-피롤릴, 1-피라졸릴, 3-피라졸릴, 4-피라졸릴, 5-피라졸릴, 1-이미다졸릴, 2-이미다졸릴, 4-이미다졸릴, 5-이미다졸릴, 2-옥사졸릴, 4-옥사졸릴, 5-옥사졸릴, 3-이속사졸릴, 4-이속사졸릴, 5-이속사졸릴, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴, 3-이소티아졸릴, 4-이소티아졸릴, 5-이소티아졸릴, 1,3,4-트리아졸-1-일, 1,3,4-트리아졸-2-일, 1,3,4-트리아졸-3-일, 1,2,3-트리아졸-1-일, 1,2,3-트리아졸-2-일, 1,2,3-트리아졸-4-일, 1,2,5-옥사디아졸-3-일, 1,2,3-옥사디아졸-4-일, 1,2,3-옥사디아졸-5-일, 1,3,4-옥사디아졸-2-일, 1,2,5-티아디아졸-3-일, 1,2,3-티아디아졸-4-일, 1,2,3-티아디아졸-5-일, 1,3,4-티아디아졸-2-일, 2-피리디닐, 3-피리디닐, 4-피리디닐, 1-옥소피리딘-2-일, 1-옥소피리딘-3-일, 1-옥소피리딘-4-일, 3-피리다지닐, 4-피리다지닐, 2-피리미디닐, 4-피리미디닐, 5-피리미디닐, 2-피라지닐, 1,3,5-트리아진-2-일, 1,2,4-트리아진-3-일, 1,2,4-트리아진-5-일, 1,2,3,4-테트라진-1-일, 1,2,3,4-테트라진-2-일, 1,2,3,4-테트라진-5-일 등이다.
본 발명의 견지에서 "방향족 고리 또는 고리 시스템"은 카르보방향족이며; 즉, 그것은 고리 구성원으로서 헤테로원자를 함유하지 않는다. 그것은 모노시클릭 또는 축합된 시스템이며, 여기서 고리 중 적어도 1종은 방향족이다 (즉, 휘켈(Hueckel) 4n+2 π 전자 규칙을 따름). 예는 페닐, 나프틸, 안트라세닐, 페난트레닐, 인다닐, 인데닐 및 플루오레닐이다.
본 발명의 견지에서 "헤테로방향족 고리 또는 고리 시스템"은 고리 구성원으로서 N, O, S, NO, SO 및 SO2로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1개의 헤테로원자 또는 헤테로원자 기를 함유한다. 그것은 모노시클릭 또는 축합된 시스템이며, 여기서 고리 중 적어도 1종은 방향족이다. 모노시클릭 헤테로방향족 고리에 대한 예는 상기 열거된 5원 또는 6원 모노시클릭 헤테로방향족 고리이다. 축합된 시스템에 대한 예는 하기이다:
Figure pct00001
Figure pct00002
Figure pct00003
Figure pct00004
상기 구조에서, #은 분자의 나머지 부분에의 부착 지점을 나타낸다. 부착 지점은 그것이 도시되어 있는 고리로 제한되지 않으나, 2개의 고리 중 하나 상에 있을 수 있고, 탄소 또는 질소 고리 원자 상에 있을 수 있다. 고리가 1개 이상의 치환기를 갖는 경우, 이들은 탄소 및/또는 질소 고리 원자에 결합될 수 있다.
안정화제 조성물 중에 함유된, 아미노 기가 염기도-저감 치환기를 갖는 것인 입체 장애 아민 (HALS)으로부터 선택된 광 안정화제, 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 산화방지제, 카르복실레이트 기를 함유하는 가소제, 및 추가의 임의적 성분에 대한 하기 언급은 본 발명의 안정화제 조성물 뿐만 아니라 중합체 조성물 둘 다, 및 그의 용도 및 그의 사용 방법에 적용된다.
본 발명의 조성물 중에 함유된, 아미노 기가 염기도-저감 치환기를 갖는 것인 입체 장애 아민 (HALS)으로부터 선택된 광 안정화제, 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 산화방지제, 카르복실레이트 기를 함유하는 가소제, STP, 또는 추가의 임의적 성분의 바람직한 및 특정 실시양태 뿐만 아니라 그의 용도에 대한 하기 언급은 단독으로 취할 때, 및 특히, 서로와의 임의의 생각할 수 있는 조합으로 둘 다 적용된다.
아미노 기 상에 염기도-저감 치환기를 갖는 입체 장애 아민
HALS는 2,2,6,6-테트라알킬 피페리딘, 대체로 2,2,6,6-테트라메틸 피페리딘의 유도체이며, 관련 기술분야에 널리 공지되어 있다. 피페리딘 고리의 고리 질소 원자가 수소 또는 알킬로 치환되는 경우, 그의 염기도는 다소 높다. 염기도는 질소 원자 상의 전자 밀도를 감소시키는 적절한 치환기에 의해 감소될 수 있다. 적합한 치환기는 예를 들어, 알콕시, 알케닐옥시, 알키닐옥시, 시클로알콕시, 페닐옥시 또는 벤질옥시 기, 및 분자내 5원 또는 6원 고리가 N과 C(=O) 또는 C(=S) 기의 상호작용에 의해 형성될 수 있도록 질소 고리 원자에 대한 γ- 또는 δ-위치에 유연하게 또는 직접 결합된 카르보닐 또는 티오카르보닐 기이다. 카르보닐 또는 티오카르보닐 기가 질소 고리 원자에 대한 γ- 또는 δ-위치에 유연하게 결합된 경우, 이는 다음 결합 상황을 초래한다: N-A-C(=X) (여기서, N은 HALS의 아미노 질소 원자이고, X는 O 또는 S이고, A는 3원 또는 4원 브릿징(bridging) 기임). 브릿징 기는 산소 원자를 함유할 수 있는 알킬렌 기, 예를 들어 기 -(CH2)n- 또는 -(CH2)p-O- (여기서, O는 C(=X)에 결합되고, n은 3 또는 4이고, p는 2 또는 3임)일 수 있다.
바람직한 실시양태 (실시양태 1)에서, 아미노 기 상에 염기도-저감 치환기를 함유하는 입체 장애 아민은
- 화학식 I의 화합물,
- 화학식 II의 화합물,
- 화학식 III의 화합물, 및
- 그의 혼합물
로 이루어진 군으로부터 선택된다:
Figure pct00005
(식 중,
R1은 기 -A-C(=X)-R5 또는 기 -OR6이고;
R2a, R2b, R3a 및 R3b는 서로 독립적으로 C1-C3-알킬이고;
R4는 수소; 1개 이상의 치환기 R7을 가질 수 있는 C1-C12-알킬; -OR8; -S(O)mR9; -NR10aR10b; -C(=O)R11; 및 -C(=S)R11로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R5는 1개 이상의 치환기 R7을 가질 수 있는 C1-C12-알킬; -OR8; 및 -NR10aR10b로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R6은 1개 이상의 치환기 R7을 가질 수 있는 C1-C12-알킬; 및 -C(=O)-C1-C8-알킬 (여기서, 알킬 모이어티는 1개 이상의 치환기 R7을 가질 수 있음)로 이루어진 군으로부터 선택되고;
각각의 R7은 -Si(R12)3, -OR8, -OSO2R8, -S(O)mR9, -N(R10a)R10b, -C(=O)N(R10a)R10b, -C(=S)N(R10a)R10b, -C(=O)OR8, -CH=NOR8, 1개 이상의 치환기 R13으로 임의 치환된 C3-C6-시클로알킬, 1, 2, 3, 4 또는 5개의 치환기 R13으로 임의 치환된 페닐, 및 고리 구성원으로서 N, O, S, NO, SO 및 SO2로 이루어진 군으로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 헤테로원자 또는 헤테로원자 기를 포함하는 3원, 4원, 5원, 6원 또는 7원 포화, 부분 불포화 또는 최대 불포화 헤테로시클릭 고리 (여기서, 헤테로시클릭 고리는 1개 이상의 치환기 R13으로 임의 치환됨)로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
각각의 R8은 수소; 1개 이상의 치환기 R14를 가질 수 있는 C1-C12-알킬; 및 -C(=O)-C1-C12-알킬 (여기서, 알킬 모이어티는 1개 이상의 치환기 R14를 가질 수 있음)로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
각각의 R9는 수소; 1개 이상의 치환기 R14를 가질 수 있는 C1-C12-알킬; 및 C1-C12-알콕시로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
R10a 및 R10b는 서로 독립적으로 및 각 경우 독립적으로 수소; 1개 이상의 치환기 R14를 가질 수 있는 C1-C12-알킬; 및 C1-C12-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되고;
각각의 R11은 수소; 1개 이상의 치환기 R14를 가질 수 있는 C1-C12-알킬; 및 C1-C12-알콕시로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
각각의 R12는 1개 이상의 치환기 R14를 가질 수 있는 C1-C12-알킬; 및 C1-C12-알콕시로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
각각의 R13은 히드록실, 시아노, C1-C4-알킬 및 C1-C4-알콕시로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되거나, 또는 시클로알킬 고리 또는 헤테로시클릭 고리의 동일한 탄소 원자 상에 결합된 2개의 R13이 함께 기 =O를 형성할 수 있고;
각각의 R14는 -Si(R15)3, 히드록실, 시아노, C1-C12-알콕시, 아미노, C1-C4-알킬아미노, 디-(C1-C4-알킬)-아미노, 아미노카르보닐, C1-C4-알킬아미노카르보닐, 디(C1-C4-알킬)-아미노카르보닐, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시카르보닐, 1, 2, 3, 4 또는 5개의 치환기 R13으로 임의 치환된 C3-C6-시클로알킬, 1, 2, 3, 4 또는 5개의 치환기 R13으로 임의 치환된 페닐, 및 고리 구성원으로서 N, O, S, NO, SO 및 SO2로 이루어진 군으로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 헤테로원자 또는 헤테로원자 기를 포함하는 3원, 4원, 5원, 6원 또는 7원 포화, 부분 불포화 또는 최대 불포화 헤테로시클릭 고리 (여기서, 헤테로시클릭 고리는 1개 이상의 치환기 R13으로 임의 치환됨)로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
각각의 R15는 C1-C12-알킬 및 C1-C12-알콕시로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
A는 -(CH2)n- 또는 -(CH2)p-O- (여기서, O는 C(=X)에 결합됨)이고;
X는 O 또는 S이고;
m은 0, 1 또는 2이고;
n은 3 또는 4이고;
p는 2 또는 3임)
Figure pct00006
(식 중,
각각의 R1'은 독립적으로 R1에 대해 상기 주어진 의미 중 하나를 갖고;
R2a, R2b, R3a 및 R3b는 서로 독립적으로 상기 정의된 바와 같고 (즉, 서로 독립적으로 C1-C3-알킬임);
G는 C1-C10-알킬렌, -O-C2-C10-알킬렌-O-, -C(=O)-C1-C10-알킬렌-C(=O)-, 및 -O-C(=O)-C1-C10-알킬렌-C(=O)-O-로 이루어진 군으로부터 선택됨)
Figure pct00007
(식 중,
R2a, R2b, R3a 및 R3b는 서로 독립적으로 상기 정의된 바와 같고 (즉, 서로 독립적으로 C1-C3-알킬임);
E는 -(CH2)n-, -(CH2)p-O- (여기서, O는 C(=O)에 결합됨), -(CH2)n-C(=O)-E1-, 또는 -(CH2)p-O-C(=O)-E1-이고, 여기서
n 및 p는 상기 정의된 바와 같고 (즉, n은 3 또는 4이고, p는 2 또는 3임);
E1은 선형 또는 분지형 C1-C10-알킬렌이고;
R16은 수소 또는 C1-C4-알킬이고;
R17은 수소, C1-C4-알킬 또는 C1-C4-알콕시이고;
k는 2 내지 50임).
화합물 I에서 R1은 바람직하게는 기 -A-C(=X)-R5이다 (실시양태 1.1). 보다 바람직하게는 (실시양태 1.1.1), R1은 기 -A-C(=X)-R5이며, 여기서
A는 -(CH2)p-O-이고;
X는 O이고;
R5는 C1-C12-알킬이고;
p는 2 또는 3이다.
특히 (실시양태 1.1.1.1), R1은 기 -(CH2)2-O-C(=O)-R5이며, 여기서
R5는 C1-C8-알킬; 특히 2,4,4-트리메틸펜틸이고;
R2a, R2b, R3a 및 R3b는 메틸이고;
R4는 기 -O-C(=O)-C1-C8-알킬; 특히 -O-C(=O)-(2,4,4-트리메틸펜틸)이다.
구체적인 실시양태 (실시양태 1.1.1.1.a)에서, 화학식 I의 화합물은 화학식 I.1의 화합물이다.
Figure pct00008
바람직하게는 (실시양태 1.2), 화합물 II에서,
각각의 R1'은 독립적으로 기 -OR6이며; 여기서
R6은 C4-C12-알킬이고;
G는 -O-C(=O)-C6-C10-알킬렌-C(=O)-O-이다.
구체적인 실시양태 (실시양태 1.2.1)에서, 화학식 II의 화합물은 화학식 II.1의 화합물이다.
Figure pct00009
바람직하게는 (실시양태 1.3), 화합물 III에서,
E는 -(CH2)2-O-C(=O)-E1-이며, 여기서
E1은 선형 또는 분지형 C2-C4-알킬렌이고;
R16은 수소이고;
R17은 C1-C4-알콕시이고;
k는 8 내지 20이다.
구체적인 실시양태 (실시양태 1.3.1)에서, 화학식 III의 화합물은 화학식 III.1의 화합물이다.
Figure pct00010
(식 중, k는 8 내지 20임).
하나의 바람직한 실시양태 (실시양태 1.4)에서, 입체 장애 아민은 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1 또는 1.1.1.1.a 중 어느 하나에서 정의된 바와 같은 적어도 1종의 화학식 I의 화합물을 포함한다. 구체적으로 (실시양태 1.4.1), 입체 장애 아민은 화학식 I.1의 화합물을 포함한다.
또 다른 바람직한 실시양태 (실시양태 1.5)에서, 입체 장애 아민은 실시양태 1, 1.2 또는 1.2.1 중 어느 하나에서 정의된 바와 같은 적어도 1종의 화학식 II의 화합물을 포함한다. 구체적으로 (실시양태 1.5.1), 입체 장애 아민은 화학식 II.1의 화합물을 포함한다.
또 다른 바람직한 실시양태 (실시양태 1.6)에서, 입체 장애 아민은 실시양태 1, 1.3 또는 1.3.1 중 어느 하나에서 정의된 바와 같은 적어도 1종의 화학식 III의 화합물을 포함한다. 구체적으로 (실시양태 1.6.1), 입체 장애 아민은 화학식 III.1의 화합물을 포함한다.
또 다른 바람직한 실시양태 (실시양태 1.7)에서, 입체 장애 아민은 실시양태 1, 1.2 또는 1.2.1 중 어느 하나에서 정의된 바와 같은 적어도 1종의 화학식 II의 화합물, 및/또는 실시양태 1, 1.3 또는 1.3.1 중 어느 하나에서 정의된 바와 같은 적어도 1종의 화학식 III의 화합물을 포함한다.
보다 바람직한 실시양태 (실시양태 1.8)에서, 입체 장애 아민은 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1 또는 1.1.1.1.a 중 어느 하나에서 정의된 바와 같은 적어도 1종의 화학식 I의 화합물, 및 임의로 또한, 실시양태 1, 1.2 또는 1.2.1 중 어느 하나에서 정의된 바와 같은 적어도 1종의 화학식 II의 화합물, 및/또는 실시양태 1, 1.3 또는 1.3.1 중 어느 하나에서 정의된 바와 같은 적어도 1종의 화학식 III의 화합물을 포함한다. 구체적으로 (실시양태 1.8.1), 입체 장애 아민은 화학식 I.1의 화합물 및 임의로 또한 화학식 II.1의 화합물 및/또는 적어도 1종의 화학식 III.1의 화합물을 포함한다.
보다 구체적으로 (실시양태 1.8.1.1), 입체 장애 아민은 화학식 I.1의 화합물 및 임의로 또한 화학식 II.1의 화합물을 포함한다.
입체 장애 아민, 특히 화학식 I, II 및 III의 것들, 및 그의 제조 방법은 공지되어 있으며, 예를 들어 바스프 에스이(BASF SE)의 티누빈® 브랜드로 상업화되어 있다.
티오에테르 기를 함유하는 산화방지제
1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 산화방지제는 바람직하게는, 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 히드록시방향족 화합물이다. 히드록시방향족 화합물은, 카르보방향족 또는 헤테로방향족 고리에 결합된 1개 이상의 히드록실 기를 갖는 카르보방향족 또는 헤테로방향족 화합물이다. 그것들은 또한 1개 이상의 티오에테르 기를 갖는다. 카르보방향족 또는 헤테로방향족 고리는 또한 추가의 치환기를 가질 수 있고/거나, 1개 또는 2개의 포화 또는 불포화 카르보시클릭 또는 헤테로시클릭 고리에 융합될 수 있다. 바람직하게는, 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 히드록시방향족 화합물은 1개 또는 2개의 히드록실 기, 1개 이상의 티오에테르 기 및 임의로 1개 이상의 추가의 치환기를 갖는 페닐 고리이며, 상기 추가의 치환기는 바람직하게는 C1-C4-알킬 기로부터 선택된다. 티오에테르 기는 기 R-S-A-이며, 여기서 A는 그를 통해 티오에테르 기가 분자의 나머지 부분에, 바람직하게는 히드록시방향족 고리에 결합되는 브릿징 기이고, R은 유기 라디칼이거나, 또는 그를 통해 티오에테르 기가 또 다른 히드록시방향족 고리에 결합되는 또 다른 브릿징 기일 수 있다. 특히, A는 알킬렌 기, 구체적으로 C1-C10-알킬렌 기이며, 여기서 알킬렌 기는 1개 이상의 비-인접 기 -O-, -NH-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)NH-, -O-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-NH-가 개재될 수 있고; R은 알킬 기, 구체적으로 C1-C16-알킬이거나, 또는 기 -A-히드록시방향족 고리이다.
바람직한 실시양태 (실시양태 2)에서, 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 산화방지제는 화학식 IV의 화합물이다:
Figure pct00011
(식 중,
Ra, Rb 및 Rc는 서로 독립적으로 1개 이상의 기 -SR16을 가질 수 있는 C1-C4-알킬로부터 선택되되;
단, Ra, Rb 및 Rc 중 적어도 1종은 1개 이상의 기 -SR16을 갖는 C1-C4-알킬이며; 여기서
R16은 C1-C16-알킬임).
보다 바람직하게는 (실시양태 2.1), Ra 및 Rb는 1개 이상의 기 -SR16을 갖는 C1-C4-알킬이다.
특히 (실시양태 2.1.1),
Ra 및 Rb는 -CH2-SR16이며; 여기서
R16은 선형 C6-C16-알킬; 특히 n-옥틸 또는 n-도데실이고;
Rc는 메틸이다.
화합물 IV는 구체적으로 화학식 IV.1의 화합물이다 (실시양태 2.1.1.1):
Figure pct00012
(식 중, R16 둘 다가 n-옥틸이거나 또는 둘 다가 n-도데실임).
1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 또 다른 산화방지제는 예를 들어 화학식 V의 화합물이다.
Figure pct00013
그러나, 화합물 IV가 바람직하다.
특히 (실시양태 2A) 산화방지제는 실시양태 2에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민은 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1 또는 1.8.1.1 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 2.1A)에서 산화방지제는 실시양태 2.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민은 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1 또는 1.8.1.1 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 2.1.1A)에서 산화방지제는 실시양태 2.1.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민은 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1 또는 1.8.1.1 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 2.1.1.1A)에서 산화방지제는 실시양태 2.1.1.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민은 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1 또는 1.8.1.1 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다.
1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 산화방지제, 및 그의 제조 방법은 공지되어 있으며, 예를 들어 바스프 에스이의 이르가녹스® 브랜드로 상업화되어 있다.
카르복실레이트 기를 함유하는 가소제
이와 관련해서 카르복실레이트 기란 카르복실산 에스테르 기를 지칭하며, 카르복실산의 염을 지칭하지 않는다.
가소제 (c)는 25℃에서 액체이다. 본 발명의 견지에서 "25℃에서 액체"란, 가소제 (c)가 100 s-1의 전단 속도로 DIN EN ISO 3219, 부록 B에 따라 CAP 2000+ 점도계 (브룩필드), 콘 4로 측정 시 25℃ 및 1013 mbar에서 250 Pa·s 이하의 점도를 가짐을 의미한다. 바람직하게는, 가소제는 25℃에서 200 Pa·s 이하, 보다 바람직하게는 25℃에서 200 Pa·s 이하, 특히 25℃에서 150 Pa·s 이하, 보다 특히 25℃에서 100 Pa·s 이하, 더욱 더 특히 25℃에서 50 Pa·s 이하, 구체적으로 25℃에서 10 Pa·s 이하, 매우 구체적으로 25℃에서 1 Pa·s 이하의 점도를 갖는다. 점도는 상기 기재된 방법으로 수득된 바와 같은 값에 관한 것이다.
카르복실레이트 기를 함유하는 가소제는 예를 들어 아크릴레이트 중합체 가소제, 및 방향족 카르복실레이트, 지방족 카르복실레이트 또는 지환족 카르복실레이트와 같은 카르복실레이트 기를 함유하는 비-중합체 가소제이다.
아크릴레이트 중합체 가소제
바람직한 실시양태 (실시양태 3)에서 가소제 (c)는 아크릴레이트 중합체이다.
본 발명의 견지에서, "아크릴레이트" 및 "메타크릴레이트"는 아크릴산 및 메타크릴산 각각과 히드록실 화합물의 에스테르이다. 따라서, 이들 용어는, 명확히 명시되지 않는 한, 아크릴산 또는 메타크릴산의 염을 포함하지 않는다.
성분 (c)의 아크릴레이트 중합체 가소제는 25℃ 및 1013 mbar에서 액체이다. 아크릴레이트 중합체는 또한, 중합된 형태의 메타크릴레이트를 함유할 수 있다.
따라서, 본 발명의 견지에서 "아크릴레이트 중합체"는, 중합된 형태의 아크릴레이트 (아크릴산 에스테르)를 함유하고 임의로 또한 중합된 형태의 메타크릴레이트 (메타크릴산 에스테르)를 함유하는 중합체이다. 후자는, 존재하는 경우, 일반적으로 미량으로 함유된다. 아크릴레이트 중합체는 아울러, 공중합된 형태의 아크릴산 및/또는 메타크릴산을 미량 함유할 수 있다. (메트)아크릴산과 관련해서 "미량"이란 중합체의 총 중량을 기준으로 5 중량% 이하, 바람직하게는 3 중량% 이하를 의미한다. 아크릴레이트 중합체가 중합된 형태의 아크릴레이트로 본질적으로 구성되고, 중합된 형태의 메타크릴레이트를 함유하지 않는 경우, 그것들은 본 발명의 견지에서 "폴리아크릴레이트"라고도 표기된다. 그러나, 폴리아크릴레이트는 공중합된 형태의 아크릴산을 미량 함유할 수 있다. "로 본질적으로 구성된"이란, 아크릴레이트 중합체가 아크릴레이트 반복 단위로 주로 이루어져 있지만, 생산 공정에서 유래된, 예를 들어 출발 화합물, 쇄 조절제 등에서 유래된 공중합된 형태 및/또는 성분의 아크릴산을 미량 함유할 수도 있음을 의미한다.
아크릴레이트 중합체, 보다 정확하게는 아크릴레이트 중합체의 측쇄는 동일하거나 상이한 히드록실 화합물에서 유래될 수 있다.
본 발명의 견지에서 "25℃에서 액체"란, 아크릴레이트 중합체가 100 s-1의 전단 속도로 DIN EN ISO 3219, 부록 B에 따라 CAP 2000+ 점도계 (브룩필드), 콘 4로 측정 시 25℃ 및 1013 mbar에서 250 Pa·s 이하의 점도를 가짐을 의미한다.
바람직한 실시양태 (실시양태 3.1)에서, 가소제는 25℃에서 200 Pa·s 이하의 점도, 보다 바람직하게는 (실시양태 3.1.1) 25℃에서 200 Pa·s 이하의 점도, 특히 (실시양태 3.1.1.1) 25℃에서 150 Pa·s 이하의 점도, 보다 특히 (실시양태 3.1.1.1.a) 25℃에서 100 Pa·s 이하의 점도, 더욱 더 특히 (실시양태 3.1.1.1.b) 25℃에서 50 Pa·s 이하의 점도, 구체적으로 (실시양태 3.1.1.1.c) 25℃에서 10 Pa·s 이하의 점도, 매우 구체적으로 (실시양태 3.1.1.1.d) 25℃에서 1 Pa·s 이하의 점도를 갖는 아크릴레이트 중합체로부터 선택된다. 점도는 상기 기재된 방법으로 수득된 바와 같은 값에 관한 것이다.
바람직한 실시양태 (실시양태 3.2)에서, 가소제는 30000 이하, 예를 들어 500 내지 30000 또는 1000 내지 30000, 보다 바람직하게는 (실시양태 3.2.1) 25000 이하, 예를 들어 500 내지 25000 또는 1000 내지 25000, 더욱 더 바람직하게는 (실시양태 3.2.1.1) 20000 이하, 예를 들어 500 내지 20000 또는 1000 내지 20000, 특히 (실시양태 3.2.1.1.a) 10000 이하, 예를 들어 500 내지 10000 또는 1000 내지 10000, 보다 특히 (실시양태 3.2.1.1.b) 5000 이하, 예를 들어 500 내지 5000 또는 1000 내지 5000, 구체적으로 (실시양태 3.2.1.1.c) 2000 이하, 예를 들어 500 내지 2000 또는 1000 내지 2000의 중량-평균 분자량 (Mw)을 갖는 아크릴레이트 중합체로부터 선택된다.
바람직하게는 (실시양태 3.3), 아크릴레이트 중합체는 1 내지 10, 보다 바람직하게는 (실시양태 3.3.1) 1 내지 5, 특히 1 내지 2 (실시양태 3.3.1.1)의 다분산도 (Mw/Mn)를 갖는다. Mn은 수-평균 분자량이다.
수-평균 및 중량-평균 분자량에 대한 값은 폴리스티렌 표준을 사용하여 겔 투과 크로마토그래피 (GPC) (크기-배제 크로마토그래피 (SEC)라고도 지칭됨)로 결정된다:
표준: 좁은 몰질량 표준을 갖는 폴리스티렌 (PS) (PS 몰질량 범위 580-7500000 g/mol, PSS). 헥실벤젠 (162 g/mol)을 저몰질량 마커(marker)로서 사용하였음. 외삽을 사용하여 배제 및 투과 한도에 대한 이들 검정 표준의 범위를 벗어나는 분자량 분포를 산정하였음.
용리액: THF + 0.1% 트리플루오로아세트산
유속: 1 mL/min
주입 부피: 100 μl
농도: 2 mg/ml
샘플 용액을 여과한 후 사르토리우스 미니사르트(Sartorius Minisart) SRP 25 (0,2 μm) 상에서 분석하였다.
컬럼 온도: 35℃
PLgel 프리컬럼(pre-column)/PLgel 믹스트(MIXED)-B의 컬럼 조합
검출기: DRI 애질런트(Agilent) 1100
바람직한 실시양태 (실시양태 3.4)에서, 가소제는 -40℃ 이하, 보다 바람직하게는 (실시양태 3.4.1) -45℃ 이하, 특히 (실시양태 3.4.1.1) -50℃ 이하, 보다 특히 (실시양태 3.4.1.1.a) -60℃ 이하, 구체적으로 (실시양태 3.4.1.1.b) -65℃ 이하의 유리 전이 온도 (Tg)를 갖는 아크릴레이트 중합체로부터 선택된다.
상기 주어진 유리 전이 온도는 Tg 방법 92/69/EEC A.1 DSC 10℃/min로 수득된 바와 같은 값을 지칭한다.
바람직한 실시양태 (실시양태 3.5)에서, 가소제는 30000 이하의 중량-평균 분자량, -40℃ 이하의 유리 전이 온도, 및 25℃에서 250 Pa·s 이하의 점도를 갖는 아크릴레이트 중합체로부터 선택된다. 특히 (실시양태 3.5.1), 가소제는 25000 이하의 중량-평균 분자량, -45℃ 이하의 유리 전이 온도, 및 25℃에서 200 Pa·s 이하의 점도를 갖는 아크릴레이트 중합체로부터 선택된다.
아크릴레이트 중합체가 중합된 형태의 메타크릴레이트를 함유하는 경우, 이들은 중합체의 총 중량을 기준으로 바람직하게는 (실시양태 3.6) 10 중량% 이하, 보다 바람직하게는 (실시양태 3.6.1) 5 중량% 이하, 특히 (실시양태 3.6.1.1) 2 중량% 이하, 구체적으로 (실시양태 3.6.1.1.a) 1 중량% 이하의 양으로 존재한다.
바람직한 실시양태 (실시양태 3.7)에서, 가소제는 하기 화학식의 반복 단위를 함유하는 폴리아크릴레이트로부터 선택된다:
Figure pct00014
여기서, 각각의 Rα는 독립적으로, 히드록시 및 C1-C4-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 1개의 치환기를 가질 수 있는 C1-C6-알킬이고, 각각의 Rα는 특히 C1-C6-알킬 및 C2-C4-히드록시알킬로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된다. 즉, 가소제는 바람직하게는 아크릴산 에스테르의 중합체로부터 선택되며, 여기서 아크릴산 에스테르가 유래되는 알콜은 화학식 Rα-OH (여기서, Rα는 상기 정의된 바와 같음)의 화합물로부터 선택된다. 폴리아크릴레이트는 공중합된 형태의 아크릴산을 미량 함유할 수 있다.
보다 바람직하게는 (실시양태 3.7.1), 폴리아크릴레이트는 C1-C6-알칸올, C2-C4-알칸디올 및 그의 혼합물에서 유래되고; 즉, 상기 화학식에서 각각의 Rα는 C1-C6-알킬 및 C2-C4-히드록시알킬로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된다.
특히 (실시양태 3.7.1.1), 폴리아크릴레이트는 C1-C6-알칸올, 구체적으로 n-부탄올 (이와 같은 경우, 폴리아크릴레이트는 폴리(부틸아크릴레이트)임)에서 유래되거나, 또는 C1-C6-알칸올과 C2-C4-알칸디올의 혼합물, 구체적으로 n-부탄올과 에틸렌 글리콜의 혼합물 (이와 같은 경우, 폴리아크릴레이트는 부틸아크릴레이트와 2-히드록시에틸아크릴레이트의 공중합체임)에서 유래되고; 즉, 폴리아크릴레이트는, 각각의 Rα가 C1-C6-알킬로부터 독립적으로 선택되고 구체적으로 n-부틸 (이와 같은 구체적인 경우, 폴리아크릴레이트는 폴리(부틸아크릴레이트)임)이거나, 또는 폴리아크릴레이트에서 반복 단위의 일부 내의 Rα가 C1-C6-알킬이고 구체적으로 n-부틸이며 반복 단위의 또 다른 부분 내의 Rα가 C2-C4-히드록시알킬이고 구체적으로 2-히드록시에틸 (즉, 구체적인 경우 폴리아크릴레이트가 부틸아크릴레이트와 2-히드록시에틸아크릴레이트의 공중합체임)인 상기 화학식의 반복 단위를 함유한다.
구체적으로 (실시양태 3.7.1.2), 폴리아크릴레이트는 C1-C6-알칸올, 구체적으로 n-부탄올 (이와 같은 경우, 폴리아크릴레이트는 폴리(부틸아크릴레이트)임)에서 유래되거나, 또는 C1-C6-알칸올과 C2-C4-알칸디올의 혼합물, 구체적으로 n-부탄올과 에틸렌 글리콜의 혼합물 (이와 같은 경우, 폴리아크릴레이트는 부틸아크릴레이트와 2-히드록시에틸아크릴레이트의 공중합체임)에서 유래되고; 즉, 폴리아크릴레이트는, 각각의 Rα가 C1-C6-알킬로부터 독립적으로 선택되고 구체적으로 n-부틸 (이와 같은 구체적인 경우, 폴리아크릴레이트는 폴리(부틸아크릴레이트)임)이거나, 또는 폴리아크릴레이트에서 반복 단위의 일부 내의 Rα가 C1-C6-알킬이고 구체적으로 n-부틸이며, 반복 단위의 또 다른 부분 내의 Rα가 C2-C4-히드록시알킬이고 구체적으로 2-히드록시에틸 (즉, 구체적인 경우 폴리아크릴레이트가 부틸아크릴레이트와 2-히드록시에틸아크릴레이트의 공중합체임)인 상기 화학식의 반복 단위를 함유하며; 아울러, 공중합된 형태의 아크릴산 (즉, Rα가 H인 상기 화학식의 반복 단위)을 중합체의 총 중량을 기준으로 1 내지 5 중량%, 바람직하게는 2 내지 3 중량% 함유한다.
특정 실시양태 (실시양태 3A)에서 가소제는 실시양태 3에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.1A)에서 가소제는 실시양태 3.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.1.1A)에서 가소제는 실시양태 3.1.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.1.1.1A)에서 가소제는 실시양태 3.1.1.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.1.1.1.aA)에서 가소제는 실시양태 3.1.1.1.a에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.1.1.1.bA)에서 가소제는 실시양태 3.1.1.1.b에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.1.1.1.cA)에서 가소제는 실시양태 3.1.1.1.c에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.1.1.1.dA)에서 가소제는 실시양태 3.1.1.1.d에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.2A)에서 가소제는 실시양태 3.2에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.2.1A)에서 가소제는 실시양태 3.2.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.2.1.1A)에서 가소제는 실시양태 3.2.1.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.2.1.1.aA)에서 가소제는 실시양태 3.2.1.1.a에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.2.1.1.bA)에서 가소제는 실시양태 3.2.1.1.b에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.2.1.1.cA)에서 가소제는 실시양태 3.2.1.1.c에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.3A)에서 가소제는 실시양태 3.3에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.3.1A)에서 가소제는 실시양태 3.3.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.3.1.1A)에서 가소제는 실시양태 3.3.1.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.4A)에서 가소제는 실시양태 3.4에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.4.1A)에서 가소제는 실시양태 3.4.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.4.1.1A)에서 가소제는 실시양태 3.4.1.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.4.1.1.aA)에서 가소제는 실시양태 3.4.1.1.1a에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.4.1.1.bA)에서 가소제는 실시양태 3.4.1.1.1b에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.5A)에서 가소제는 실시양태 3.5에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.5.1A)에서 가소제는 실시양태 3.5.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.6A)에서 가소제는 실시양태 3.6에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.6.1A)에서 가소제는 실시양태 3.6.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.6.1.1A)에서 가소제는 실시양태 3.6.1.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.6.1.1.aA)에서 가소제는 실시양태 3.6.1.1.a에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.7A)에서 가소제는 실시양태 3.7에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.7.1A)에서 가소제는 실시양태 3.7.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.7.1.1A)에서 가소제는 실시양태 3.7.1.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 3.7.1.2A)에서 가소제는 실시양태 3.7.1.2에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다.
상기 사항을 충족시키는 아크릴레이트 중합체는 공지되어 있으며, 예를 들어 바스프 에스이의 존크릴(Joncryl)® 및 아크로날(Acronal)® 브랜드로 상업화되어 있다.
카르복실레이트 기를 함유하는 비-중합체 가소제
또 다른 바람직한 실시양태 (실시양태 4)에서 가소제 (c)는 방향족 카르복실레이트, 지방족 카르복실레이트 또는 지환족 카르복실레이트와 같은 카르복실레이트 기를 함유하는 비-중합체 가소제이다.
방향족 카르복실레이트는 예를 들어 C4-C12-알킬 프탈레이트, 예를 들어 비스(2-에틸헥실)프탈레이트이다.
지방족 카르복실레이트는 예를 들어 C4-C12-알킬 아디페이트, 예를 들어 비스(2-에틸헥실)아디페이트 또는 비스(2-에틸옥틸)아디페이트, 또는 C4-C12-알킬시트레이트, 예를 들어 트리스에틸시트레이트이다.
지환족 카르복실레이트는 예를 들어 시클로헥산 디카르복실산의 C4-C20-알킬 에스테르, 특히 1,2-시클로헥산 디카르복실산 디-C4-C20-알킬 에스테르, 보다 특히 1,2-시클로헥산 디카르복실산 디-C4-C12-알킬 에스테르, 구체적으로 1,2-시클로헥산 디카르복실산 디이소노닐 에스테르 (DINCH)이다.
비-중합체 가소제 중에는, (실시양태 4.1) 지환족 카르복실레이트, 보다 바람직하게는 (실시양태 4.1.1) 시클로헥산 디카르복실산의 C4-C20-알킬 에스테르, 특히 (실시양태 4.1.1.1) 1,2-시클로헥산 디카르복실산 디-C4-C20-알킬 에스테르, 보다 특히 (실시양태 4.1.1.1.a) 1,2-시클로헥산 디카르복실산 디-C4-C12-알킬 에스테르, 구체적으로 (실시양태 4.1.1.1.b) 1,2-시클로헥산 디카르복실산 디이소노닐 에스테르가 바람직하다.
특정 실시양태 (실시양태 4A)에서 가소제는 실시양태 4에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 4.1A)에서 가소제는 실시양태 4.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 4.1.1A)에서 가소제는 실시양태 4.1.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 4.1.1.1A)에서 가소제는 실시양태 4.1.1.1에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 4.1.1.1.aA)에서 가소제는 실시양태 4.1.1.1.a에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다. 또 다른 특정 실시양태 (실시양태 4.1.1.1.bA)에서 가소제는 실시양태 4.1.1.1.b에서 정의된 바와 같고, 입체 장애 아민 및 산화방지제는 실시양태 1, 1.1, 1.1.1, 1.1.1.1, 1.1.1.1a, 1.2, 1.2.1, 1.3, 1.3.1, 1.4, 1.4.1, 1.5, 1.5.1, 1.6, 1.6.1, 1.7, 1.7.1, 1.8, 1.8.1, 1.8.1.1, 2, 2.1, 2.1.1, 2.1.1.1, 2A, 2.1A, 2.1.1A 또는 2.1.1.1A 중 어느 하나에서 정의된 바와 같다.
상기 기재된 방향족 카르복실레이트, 지방족 카르복실레이트 또는 지환족 카르복실레이트와 같은 카르복실레이트 기를 함유하는 비-중합체 가소제, 및 그의 제조 방법은 공지 및 상업화되어 있다.
가소제 (c)는 바람직하게는 아크릴레이트 중합체, 특히 상기 바람직하다고 기재된 아크릴레이트 중합체, 및 지환족 카르복실레이트, 특히 상기 바람직하다고 기재된 지환족 카르복실레이트로부터 선택된다.
추가의 성분
바람직한 실시양태 (실시양태 5)에서, 본 발명의 안정화 조성물 및/또는 본 발명의 중합체 조성물은, 성분 (a), (b) 및 (c)에 추가로,
(d) 적어도 1종의 UV 흡수제, 특히 적어도 1종의 트리아진 UV 흡수제
를 더 포함한다.
UV 흡수제의 존재는 특히, 안정화제 또는 중합체 조성물이 UV 광, 예를 들어 태양광에 노출되는 적용예에서 사용되는 경우 편리하다. 조성물이 UV 광에 노출되는 적용예, 예를 들어 바닥재용 실란트, 예를 들어 쪽매(parquet) 바닥재에서 사용되지 않는 경우에는, 성분 (d)의 존재가 불필요할 수 있다.
트리아진 UV 흡수제
트리아진 UV 흡수제는 적어도 1종의 트리아진 고리를 함유하는 것을 특징으로 한다. 트리아진 고리는 일반적으로 적어도 1종의 히드록시페닐 고리를 갖는다.
바람직한 실시양태 (실시양태 5.1)에서 UV 흡수제는 화학식 VI의 트리아진 흡수제이다:
Figure pct00015
식 중,
RA는 수소, 및 1개 이상의 치환기 R17을 가질 수 있는 C1-C12-알킬로 이루어진 군으로부터 선택되고;
RB 및 RC는 서로 독립적으로, 1개 이상의 치환기 R17을 가질 수 있는 C1-C12-알킬; OH; 및 C1-C12-알콕시 (여기서, 알콕시 내의 알킬 모이어티는 1개 이상의 치환기 R17을 가질 수 있음)로 이루어진 군으로부터 선택되고;
각각의 R17은 OH 및 C1-C20-알콕시로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
q 및 r은 서로 독립적으로 0, 1 또는 2이다.
보다 바람직하게는 (실시양태 5.1.1),
RA는 2개의 치환기 R17을 갖는 C1-C4-알킬이며; 여기서
각각의 R17은 OH 및 C12-C14-알콕시로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
RA는 특히 -CH2-CH(OH)-CH2-O-CnH2n+1 (여기서, n은 12 내지 14임)이고;
RB 및 RC는 서로 독립적으로 C1-C4-알킬, 특히 메틸이고;
q 및 r은 2이다.
구체적으로 (실시양태 5.1.1.1), UV 흡수제는 화학식 VI.1의 트리아진 흡수제이다:
Figure pct00016
식 중, R17a는 C12-C13-알킬이다.
UV 흡수제 및 그의 제조 방법은 공지되어 있으며, 예를 들어 바스프 에스이의 티누빈® 브랜드로 상업화되어 있다.
바람직한 실시양태 (실시양태 6)에서, 본 발명의 안정화 조성물 및/또는 본 발명의 중합체 조성물은, 성분 (a), (b) 및 (c)에 추가로,
(e) 적어도 1종의 광잠재성 또는 열잠재성 개시제
를 더 포함한다.
광잠재성 또는 열잠재성 개시제
본 발명의 견지에서 광잠재성 또는 열잠재성 개시제는, 광, 특히 UV 방사선, 또는 열의 영향 하에 화학 반응의 개시제로서 작용할 수 있는 화합물로 전환되는 화합물이다. 보다 정확하게는, 광잠재성 또는 열잠재성 개시제는, 활성화 시, 중합체, 특히, 본 발명의 중합체 조성물 중에 함유된 중합체(들), 구체적으로 STP의 경화 또는 가교를 활성화 또는 촉진 또는 촉매할 수 있다. 불활성화된 형태에서, 광잠재성 또는 열잠재성 개시제는 중합체의 경화 또는 가교에 영향을 미치지 않거나 또는 실제로 영향을 미치지 않는다.
중합체의 경화 또는 가교를 위해 광잠재성 또는 열잠재성 개시제를 사용하면, 이러한 개시제를 함유하는 중합체 조성물이 일반적으로 양호한 오픈 시간(open time) (포트 수명(pot life))을 갖는 동시에 요구 시 경화될 수 있다는 이점을 갖는다.
STP 내의 알콕시 기와 같은 가수분해성 치환기의 축합은 염기 뿐만 아니라 특정 금속 또는 금속 착물에 의해 촉매된다.
따라서, 바람직한 실시양태 (실시양태 6.1)에서, 광잠재성 또는 열잠재성 개시제는 광잠재성 염기 및 광잠재성 또는 열잠재성 금속계 개시제로 이루어진 군으로부터 선택된다.
광잠재성 염기 (PLB)는, 광활성화될 때, 유의한 pKa 점프를 일으키는 화합물이다. 불활성화된 형태에서 광잠재성 염기는 다소 약염기 또는 심지어 중성 화합물이다. 광활성화는 그것들을 유의하게 더 높은 염기도를 갖는 화합물로 전환시킨다.
일반적으로, PLB는 질소 강염기의 전구체, 예컨대 아미딘, 구아니딘, 아민 (일반적으로 2급 아민) 또는 이미다졸이다. 이들 전구체 화합물에서, 염기성 질소 원자 중 1개는 광분해 절단성 기로 치환된다. 상기 광분해 절단성 기는 (루이스(Lewis)) 염기도를, 전구체 화합물 (즉, 질소 염기가 광분해 절단성 기를 갖는 형태)이 개시제로서 작용하지 않도록 하는 정도로 감소시킨다. 아울러, 아미딘 및 구아니딘 전구체 화합물에서, C=N 이중 결합은, PLB가 중성 화합물이고 암모늄 염이 아니도록, 환원된 형태로, 즉, 단일 결합으로서 존재한다.
광분해 절단성 기는, UV 또는 가시광 범위, 예를 들어 200 내지 650 nm 범위의 방사선을 흡수할 수 있는 모이어티를 함유하고, 광분해 절단성 기의 광제거(photoelimination) 및 그에 따른 활성 염기의 형성을 유발한다. 광분해 절단성 기는 일반적으로, (치환된) 메틸렌 브릿지, (치환된) 메틸렌-CO-브릿지 또는 (치환된) 에틸렌 브릿지를 통해 염기의 질소 원자에 결합된 방향족 또는 헤테로방향족 고리 또는 고리 시스템을 함유한다. 대안적으로 광분해 절단성 기는 (치환된) 알릴 기이다. 방향족 또는 헤테로방향족 고리 또는 고리 시스템은 비치환될 수 있거나 또는 1개 이상의 치환기를 가질 수 있다. 적합한 치환기는 예를 들어 C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C1-C6-알킬티오, C1-C6-알킬술피닐, C1-C6-알킬술포닐, C1-C6-알킬카르보닐, C1-C6-알콕시카르보닐, 페닐, 및 고리 구성원으로서 N, O, S, NO, SO 및 SO2로 이루어진 군으로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 헤테로원자 또는 헤테로원자 기를 포함하는 3원, 4원, 5원, 6원 또는 7원 포화, 부분 불포화 또는 최대 불포화 헤테로시클릭 고리이며, 여기서 페닐 또는 헤테로시클릭 고리는 또한 임의로 C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C1-C6-알킬티오, C1-C6-알킬술피닐, C1-C6-알킬술포닐, C1-C6-알킬카르보닐 및 C1-C6-알콕시카르보닐로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 치환기로 치환된다. 물론, 이들 군에서, 헤테로방향족 고리 또는 고리 시스템 뿐만 아니라 3원 내지 7원 포화, 부분 불포화 또는 최대 불포화 헤테로시클릭 고리는 그의 염기도가 그것들이 개시제로서 작용할 수 있는 정도가 아니도록 선택된다.
바람직한 실시양태 (실시양태 6.1.1)에서, PLB는 화합물 B1-Z1 (여기서, B1 및 Z1은 공유 결합되어 있고, B1은 아미딘, 구아니딘 및 2급 아민으로 이루어진 군으로부터 선택된 강염기에서 유래되고, Z1은 광분해적으로 제거가능한 기임)로부터 선택된다.
특히 (실시양태 6.1.1.1), PLB는 화학식 PLB.1 내지 PLB.7의 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된다:
Figure pct00017
식 중,
각각의 R18은 C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C1-C6-알킬티오, C1-C6-알킬술피닐, C1-C6-알킬술포닐, C1-C6-알킬카르보닐 및 C1-C6-알콕시카르보닐로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
R19는 수소 및 C1-C4-알킬로 이루어진 군으로부터 선택되고;
s는 0, 1, 2, 3, 4 또는 5이다.
이들 중에는, (실시양태 6.1.1.1.a) PLB.1, PLB.2, PLB.4, PLB.5, PLB.6 및 PLB.7이 바람직하고, (실시양태 6.1.1.1.b) PLB.1, PLB.2, PLB.6 및 PLB.7이 보다 바람직하고, (실시양태 6.1.1.1.c) PLB.1이 특히 바람직하다.
PLB.1 및 PLB.2의 특정 실시양태 (실시양태 6.1.1.1.d)에서, R18은 C1-C6-알콕시카르보닐, 구체적으로 메톡시카르보닐이고, s는 0 또는 1이고, R19는 수소이다. 구체적인 실시양태에서, s는 1이다. 바람직하게는, s는 1이고, R18은 CHR19에 대한 파라-위치에 결합된다. 또 다른 구체적인 실시양태에서, s는 0이다.
광분해 절단성 기의 광활성화를 용이하게 하는 광감작제(photosensitizer)를 추가적으로 사용하는 것이 유리할 수 있다. 적합한 광감작제는 예를 들어 방향족 케톤, 예를 들어 치환 및 비치환된 벤조페논, 티오크산톤, 안트라퀴논 또는 염료, 예컨대 옥사진, 아크리딘, 페나진 및 로다민이다.
치환된 벤조페논 및 티오크산톤이 특히 적합하다. 그에 대한 예는, 벤조페논 및 티오크산톤 그 자체에 추가로, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논, 4,4'-디페닐벤조페논, 4,4'-디페녹시벤조페논, 4,4'-비스(p-이소프로필페녹시)벤조페논, 4-메틸벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논, 4-페닐벤조페논, 2-메톡시카르보닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 4-메톡시-3,3'-메틸벤조페논, 이소프로필티오크산톤, 클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤 및 1,3-디메틸-2-(2-에틸헥실옥시)티오크산톤 뿐만 아니라 상기 화합물들의 혼합물이다.
추가의 광감작제는 예를 들어 3-아실쿠마린, 예를 들어 3-벤조일쿠마린, 3-벤조일-7-메톡시쿠마린, 3-벤조일-5,7-디(프로폭시)쿠마린, 3-벤조일-6,8-디클로르쿠마린, 3-벤조일-6-클로르쿠마린, 3,3'-카르보닐비스[5,7-디(프로폭시)쿠마린], 3,3'-카르보닐비스(7-메톡시쿠마린), 3,3'-카르보닐비스(7-디에틸아미노쿠마린), 3-이소부티로일쿠마린, 3-벤조일-5,7-디메톡시쿠마린, 3-벤조일-5,7-디에톡시쿠마린, 3-벤조일-5,7-디부톡시쿠마린, 3-벤조일-5,7-디(메톡시에톡시)쿠마린, 3-벤조일-5,7-디(알릴옥시)쿠마린, 3-벤조일-7-디메틸아미노쿠마린, 3-벤조일-7-디에틸아미노쿠마린, 3-이소부티로일-7-디메틸아미노쿠마린, 5,7-디메톡시-3-(1-나프토일)쿠마린, 5,7-디메톡시-3-(1-나프토일)쿠마린, 3-벤조일벤조[f]쿠마린, 7-디에틸아미노-3-티에노일쿠마린, 또는 3-(4-시아노벤조일)-5,7-디메톡시쿠마린; 또는 3-(아로일메틸렌)티아졸린, 예를 들어 3-메틸-2-벤조일메틸렌나프토티아졸린, 3-메틸-2-벤조일메틸렌벤조티아졸린, 또는 3-메틸-2-프로피오닐메틸렌-p-나프토티아졸린; 또는 다른 카르보닐 화합물, 예를 들어 아세토페논, 3-메톡시아세토페논, 4-페닐아세토페논, 2-아세틸나프탈린, 2-나프트알데히드, 9,10-안트라퀴논, 9-플루오레논, 디벤조수베론, 크산톤, 2,5-비스(4-디에틸아미노벤질리덴)시클로펜타논, 2-(4-디메틸아미노벤질리덴)인단-1-온 또는 3-(4-디메틸아미노페닐)-1-인단-S-일-프로페논, 3-페닐티오프탈이미드 또는 N-메틸-3,5-디(에틸티오)프탈이미드이다.
그러나, 티오크산톤, 특히 상기 치환된 티오크산톤이 바람직하다.
광감작제는 PLB의 중량을 기준으로 바람직하게는 0.1 내지 3 중량%, 특히 0.5 내지 1.5 중량%의 양으로 사용된다.
금속계 광개시제는, 적어도 1개의 광분해적으로 또는 열적으로 제거가능한 리간드를 함유하는 주기율표의 제3 또는 제4 주족(main-group)의 전이 금속 또는 금속의 착물이다. 바람직한 실시양태 (실시양태 6.1.2)에서, 그것들은 적어도 1개의 광분해적으로 또는 열적으로 제거가능한 리간드를 함유하는 티타늄 착물, 및 적어도 1개의 광분해적으로 또는 열적으로 제거가능한 리간드를 함유하는 알루미늄 착물로 이루어진 군으로부터 선택된다.
광분해적으로 및/또는 열적으로 제거가능한 리간드는 예를 들어 아세틸아세토네이트 및 그의 유도체, 예컨대, C6H5C(O)CH2C(O)C6H5 (dbaH) 및 (CH3)3CC(O)CH2C(O)CC(CH3)3의 음이온; 및 특정 페닐 기이다.
구체적으로 (실시양태 6.1.2.1) 티타늄 및 알루미늄 착물은 Ti(IV)(acac)2(OiPr)2, Ti(0)(페닐)2(2,6-디플루오로-4-피롤-1-일-페닐)2, 및 알루미늄 트리스(아세틸아세토네이트) (Al(acac)3)로 이루어진 군으로부터 선택된다. acac는 아세틸아세토네이트이고; iPr은 이소프로필이다.
광잠재성 또는 열잠재성 개시제 및 그의 제조 방법은 공지되어 있다.
구체적인 실시양태에서, 안정화제 조성물은 다음을 함유한다:
(a) 화학식 I.1의 화합물 및 추가적으로 또한 적어도 1종의 화학식 II.1의 화합물 및/또는 적어도 1종의 화학식 III.1의 화합물;
(b) 화학식 IV.1의 화합물;
(c) (c.1) 25℃에서 액체이고, 30000 이하의 중량-평균 분자량, -40℃ 이하의 유리 전이 온도, 및 25℃에서 250 Pa·s 이하의 점도; 특히 25000 이하의 중량-평균 분자량, -45℃ 이하의 유리 전이 온도, 및 25℃에서 200 Pa·s 이하의 점도; 보다 특히 20000 이하의 중량-평균 분자량, -50℃ 이하의 유리 전이 온도, 및 25℃에서 150 Pa·s 이하의 점도; 구체적으로 10000 이하의 중량-평균 분자량, -60℃ 이하의 유리 전이 온도, 및 25℃에서 100 Pa·s 이하의 점도; 보다 구체적으로 5000 이하의 중량-평균 분자량, -65℃ 이하의 유리 전이 온도, 및 25℃에서 50 Pa·s 이하의 점도; 매우 구체적으로 2000 이하의 중량-평균 분자량, -65℃ 이하의 유리 전이 온도, 및 25℃에서 10 Pa·s 이하의 점도를 가지며; 구체적으로, 공중합된 형태의 아크릴산을 중합체의 총 중량을 기준으로 2 내지 3 중량% 함유하는 부틸아크릴레이트 또는 부틸아크릴레이트-2-히드록시에틸아크릴레이트 공중합체; 또는
(c.2) 시클로헥산 디카르복실산의 C4-C20-알킬 에스테르, 특히 1,2-시클로헥산 디카르복실산 디-C4-C20-알킬 에스테르, 보다 특히 1,2-시클로헥산 디카르복실산 디-C4-C12-알킬 에스테르, 구체적으로 1,2-시클로헥산 디카르복실산 디이소노닐 에스테르 (DINCH)인
가소제;
(d) 임의로 화학식 VI.1의 트리아진 UV 흡수제;
(e) 임의로 화학식 PLB.1 또는 PLB.6의 광잠재성 염기;
(f) 임의로 추가의 첨가제; 특히 충전제.
추가의 첨가제 (f)는 하기 기재되어 있다.
바람직하게는, 안정화제 조성물 뿐만 아니라 중합체 조성물은 적어도 1종의 광 안정화제 (a) 및 적어도 1종의 산화방지제 (b)를 20:1 내지 1:20, 보다 바람직하게는 10:1 내지 1:10, 더욱 더 바람직하게는 6:1 내지 1:6, 특히 4:1 내지 1:4, 예를 들어 4:1 내지 1:2 또는 4:1 내지 1:1 또는 2:1 내지 1:1 또는 1:1의 중량비로 함유한다.
바람직하게는, 안정화제 조성물 뿐만 아니라 중합체 조성물은 적어도 1종의 광 안정화제 (a) 및 적어도 1종의 가소제를 1:1 내지 1:500, 보다 바람직하게는 1:1 내지 1:300, 더욱 더 바람직하게는 1:5 내지 1:300, 특히 1:10 내지 1:300, 구체적으로 1:10 내지 1:100, 보다 구체적으로 1:15 내지 1:70, 매우 구체적으로 가소제가 카르복실레이트 기를 함유하는 비-중합체 가소제인 경우에 1:15 내지 1:25의 중량비로 함유한다.
안정화제 조성물은, 성분 (a) 내지 (e)와 상이한 1종 이상의 추가의 첨가제 (f)를 함유할 수 있다. 추가의 첨가제 (f)는 바람직하게는 안정화제 조성물을 위한 통상적인 첨가제 중에서 선택된다:
(f.1) 본 발명에 따라 사용되는 산화방지제 (b) (즉, 티오에테르 기 함유)와 상이한 산화방지제;
(f.2) 트리아진 UV 흡수제 이외의 UV 흡수제;
(f.3) 레올로지 개질제;
(f.4) 건조제;
(f.5) 난연제;
(f.6) 라디칼 스캐빈저;
(f.7) 금속 불활성화제;
(f.8) 오존화방지제;
(f.9) 퍼옥시드 분해제/스캐빈저;
(f.10) 발포제;
(f.11) 대전방지제;
(f.12) 접착 프로모터;
(f.13) 킬레이트;
(f.14) 충전제;
(f.15) 부식 억제제;
(f.16) 안료;
(f.17) 소포제;
(f.18) 상기 기재된 광잠재성 또는 열잠재성 개시제 (e)와 상이한 경화/가교 촉매.
(f.1) 본 발명에 따라 사용되는 산화방지제 (b) (즉, 티오에테르 기 함유)와 상이한 산화방지제는 예를 들어 인-함유 산화방지제, 예를 들어 이르가포스(Irgafos)® 38, 이르가포스® 168, 호스타녹스(Hostanox)® P-EPQ 또는 웨스톤(Weston) ODPP; 또는 입체 장애 페놀성 화합물, 예컨대 이르가녹스® 245, 이르가녹스® 1010, 이르가녹스® 1076, 이르가녹스® 1098, 이르가녹스® 1135, 불카녹스(Vulkanox)® BHT 등이다.
(f.2) 트리아진 UV 흡수제 이외의 UV 흡수제는 예를 들어 벤조페논, 시아노아크릴레이트, 포름아미딘, 옥사닐리드 또는 벤조트리아졸 부류이다.
벤조페논 부류의 UV 흡수제는 일반적으로 히드록시벤조페논이다. 이들은 예를 들어 2-히드록시벤조페논, 예컨대 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 2,4-디히드록시벤조페논, 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-(2-에틸헥실옥시)벤조페논, 2-히드록시-4-(n-옥틸옥시)벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시-4'-메틸벤조페논, 2-히드록시-3-카르복시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논-5-술폰산 및 그의 나트륨 염, 및 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논-5,5'-비스술폰산 및 그의 나트륨 염을 포함한다.
시아노아크릴레이트 부류의 UV 흡수제는 일반적으로 디페닐시아노아크릴레이트이다. 예를 들면 이들은, 바스프 아게(BASF AG, 독일 루드빅샤펜)로부터 예를 들어 명칭 우비눌(Uvinul)® 3035로 상업적으로 수득가능한 에틸 2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트, 바스프 아게 (독일 루드빅샤펜)로부터 예를 들어 우비눌® 3039로서 상업적으로 수득가능한 2-에틸헥실 2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트, 및 바스프 아게 (독일 루드빅샤펜)로부터 예를 들어 명칭 우비눌® 3030으로 상업적으로 수득가능한 1,3-비스[(2'-시아노-3',3'-디페닐아크릴로일)옥시]-2,2-비스{[2'-시아노-3',3'-디페닐아크릴로일)옥시]메틸}프로판을 포함한다.
옥사닐리드는 예를 들어 4,4'-디옥틸옥시옥사닐리드, 2,2'-디에톡시옥사닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-tert-부톡사닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-tert-부톡사닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥사미드, 2-에톡시-5-tert-부틸-2'-에톡사닐리드 및 그와 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-tert-부톡사닐리드의 혼합물, 및 또한 오르토-, 파라-메톡시-이치환된 옥사닐리드의 혼합물 및 오르토- 및 파라-에톡시-이치환된 옥사닐리드의 혼합물이다.
벤조트리아졸은 예를 들어 2-(2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 예컨대 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-sec-부틸-5'-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-아밀-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-비스-(α,α-디메틸벤질)-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸 및 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카르보닐에틸)페닐벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀]; 2-[3'-tert-부틸-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-2'-히드록시페닐]-2H-벤조트리아졸의 폴리에틸렌 글리콜 300에 의한 에스테르화 생성물; [R-CH2CH2-COO(CH2)3]2 (여기서, R = 3'-tert-부틸-4'-히드록시-5'-2H-벤조트리아졸-2-일페닐), 및 그의 혼합물을 포함한다.
(f.3) 레올로지 개질제는 예를 들어 요변화제, 예컨대 폴리아미드 왁스, 수소화된 피마자 오일 유도체, 금속 비누 (예를 들어, 칼슘, 바륨 또는 알루미늄 스테아레이트), 지방산 아미드 및 팽윤성 중합체, 예컨대 PVC이다.
(f.4) 건조제는 예를 들어 실리카, 제올라이트, 황산칼슘, 황산나트륨 및 다양한 실란, 예컨대 비닐실란 (예를 들어, 비닐트리메톡시실란), 옥심 실란, 벤즈아미도실란, 카르바메이토실란 및 알콕시실란이다.
(f.5) 난연제는 예를 들어 할로겐 함유 화합물, 예컨대 테트라브로모비스페놀 A, 데카브로모디페닐 옥시드, 데카브로모디페닐 에탄, 브로민화 카르보네이트 올리고머, 브로민화 에폭시 올리고머, 및 폴리(브로모스티렌)이다. 추가의 예는, 2, 4, 12, 13, 14 및 15족 (반)금속의 수산화물, 산화물 및 산화물 수화물, 예컨대 마그네슘 산화물 또는 수산화물, 알루미늄 산화물, 알루미늄 삼수화물, 실리카, 주석 산화물, 안티모니 산화물 (III 및 V) 및 산화물 수화물, 티타늄 산화물 및 아연 산화물 또는 산화물 수화물; 질소계 난연제, 예컨대 멜라민 및 우레아 기반 수지 및 멜라민 시아누레이트, 멜라민 포스페이트, 멜라민 폴리포스페이트 및 멜라민 보레이트; 및 인계 난연제, 예컨대 암모늄 폴리포스페이트, 인산 에스테르, 특히 트리아릴포스페이트, 예컨대 트리페닐 포스페이트, 트리벤질 포스페이트, 트리크레실 포스페이트, 트리-(디메틸페닐) 포스페이트, 벤질 디메틸포스페이트, 디-(디메틸페닐) 페닐 포스페이트, 레조르시놀-비스(디페닐 포스페이트), 레조르시놀-비스-[디-(2,6-디메틸페닐)-포스페이트] (PX-200), 알루미늄 디에틸포스피네이트 (엑솔리트(Exolit)® OP 1230) 뿐만 아니라 지방족 포스페이트, 예컨대 트리스(2-클로로이소프로필)포스페이트 (루프라겐(Lupragen)® TCPP), 방향족 폴리포스페이트, 예를 들어, US 2004/0249022에 기재된 화합물들과 같은 비스페놀에서 유래된 폴리포스페이트, 및 포스폰산 에스테르, 예컨대 디메틸-메틸 포스포네이트 및 포스폰산 (2-((히드록시메틸)카르바밀)에틸) 디메틸에스테르, 및 폴리시클릭 인-함유 화합물, 예컨대 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥시드 (DOPO)이다.
(f.6) 라디칼 스캐빈저는 예를 들어 니트록실 화합물, 예컨대 2,2,6,6-테트라메틸피페리디닐옥실 (TEMPO) 및 그의 유도체 또는 히드록실아민, 예컨대 NRR'OH (여기서, R 및 R'은 서로 독립적으로 장쇄 알킬 기, 예를 들어 4 내지 20개의 탄소 원자를 갖는 알킬 기임); 아릴 아민, 예를 들어, 페닐 고리 중 적어도 1개가 C1-C10-알킬 기를 갖는 디페닐 아민; 또는 퀴논 화합물이다.
(f.7) 금속 불활성화제는 예를 들어 살리실산 유도체, 예컨대 N,N'-디살리실리덴-1,2-프로판디아민, N-살리실랄-N'-살리실로일 히드라진, N,N'-비스(살리실로일)히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, N,N'-비스(살리실로일)옥살릴 디히드라지드, 또는 N,N'-비스(살리실로일)티오프로피오닐 디히드라지드; 히드라진 유도체, 예컨대 N,N-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라진, 비스(벤질리덴)옥살릴 디히드라지드, 이소프탈로일 디히드라지드, 세바코일 비스페닐히드라지드, 또는 N,N'-디아세틸아디포일 디히드라지드, 추가로 N,N'-디페닐옥사미드 또는 옥사닐리드, 및 아울러 벤조트리아졸 또는 톨루트리아졸 (바스프의 이르가메트(Irgamet)® 브랜드로 상업화됨)이다.
(f.8) 오존화방지제는, 오존에의 노출에 의해 야기되는 완성품의 열화를 지연시키기 위해 첨가된다. 예는 p-페닐렌디아민, 예컨대 6PPP (N-(1,3-디메틸부틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민) 또는 IPPD (N-이소프로필-N'-페닐-p-페닐렌디아민); 6-에톡시-2,2,4-트리메틸-1,2-디히드로퀴놀린 (ETMQ), 에틸렌 디우레아 (EDU), 니켈 디부틸 디티오카르바메이트 또는 파라핀 왁스, 예컨대 아크로왁스(Akrowax)® 195이다.
(f.9) 퍼옥시드 불활성화제 (분해제/스캐빈저)는 예를 들어 β-티오디프로피온산의 에스테르, 예를 들어 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르, 메르캅토벤즈이미다졸, 또는 2-메르캅토벤즈이미다졸의 아연 염, 아연 디부틸디티오카르바메이트, 디옥타데실 디술피드, 및 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실메르캅토)프로피오네이트이다.
(f.10) 적합한 발포제는, 승온에서 분해되어 기체를 방출하는 화합물인 화학 발포제이다. 예는 염소화 파라핀 왁스, 카르바모일이미노우레아 또는 [(4-메틸페닐)술포닐아미노]우레아이다.
(f.11) 대전방지제는 정전기의 축적을 감소시키거나 또는 제거하기 위해 사용된다. 대전방지제는 자체적으로 전도성임으로써, 또는 공기로부터 수분을 흡수함으로써 표면 또는 재료 자체를 약간 전도성이 되도록 하고; 이에 따라 일부 보습제가 적합하다. 대전방지제의 분자는 종종 친수성 및 소수성 영역 둘 다를 갖는다. 예는 장쇄 지방족 아민 (임의로 에톡시화됨) 및 아미드, 4급 암모늄 염 (예를 들어, 베헨트리모늄 클로라이드 또는 코카미도프로필 베타인), 인산의 에스테르, 폴리에틸렌 글리콜 에스테르, 또는 폴리올; 추가로 카본 블랙, 전도성 섬유, 또는 나노재료; 이온성 액체, 또는 이온성 액체 중의 염의 용액; 아울러 인듐 주석 산화물이다.
(f.12) 접착 프로모터는 표면 상의 접착제 층의 접착 특성 (점착성 또는 고착성)을 개선시키는 물질인 것으로 이해되며; 이러한 화합물은 점착부여제라고도 공지되어 있다. 통상 그것들은 높은 유리 전이 온도를 갖는 저분자량 화합물이다. 실란트 조성물에서 유용한 접착 프로모터에 대한 예는 실란 접착 프로모터, 특히 아미노실란, 예를 들어 3-아미노프로필트리메톡시실란, 및 폴리에틸렌이민, 특별히 10000 이하, 특히 5000 이하의 중량 평균 분자량을 갖는 폴리에틸렌이민이다. 접착성 조성물에서 유용한 접착 프로모터에 대한 예는 수지, 테르펜 올리고머, 쿠마론/인덴 수지, 지방족, 석유화학 수지 및 개질된 페놀성 수지이다. 예를 들어, 테르펜, 주로 α- 또는 β-피넨, 디펜텐 또는 리모넨의 중합에 의해 수득된 바와 같은 탄화수소 수지가 본 발명의 프레임워크 내에서 적합하다. 이들 모노머의 중합은 일반적으로 프리에델-크래프츠(Friedel-Crafts) 촉매에 의해 양이온 개시로 실시된다. 테르펜 수지는 또한, 테르펜과 다른 모노머, 예를 들어 스티렌, α-메틸스티렌, 이소프렌 등의 공중합체를 포함한다. 상기 수지는 예를 들어 코팅 재료 및 감압 접착제를 위한 접착 프로모터로서 사용된다. 테르펜 또는 로진에의 페놀의 산-촉매 부가에 의해 생성된 테르펜-페놀성 수지가 또한 적합하다. 추가로, 로진 및 그의 유도체, 예를 들어 그의 에스테르 또는 알콜이 상기 관점에서 접착 프로모터로서 적합하다. 실란 접착 프로모터, 특히 아미노실란, 예를 들어 3-아미노프로필트리메톡시실란 뿐만 아니라, 폴리에틸렌이민, 특별히 10000 이하, 특히 5000 이하의 중량 평균 분자량을 갖는 폴리에틸렌이민이 또한 적합하다.
(f.13) 킬레이트는 금속을 결합시키는 역할을 하며, 이는 달리 부적절한 시점에 비의도적 방식으로 본 발명의 조성물의 특성에 영향을 미칠 수 있다. 예는 아세틸아세톤 (acac), 에틸렌디아민 (en), 2-(2-아미노에틸아미노)에탄올 (AEEA), 디에틸렌트리아민 (dien), 이미노디아세테이트 (ida), 트리에틸렌테트라아민 (trien, TETA), 트리아미노트리에틸아민 (tren), 니트릴로트리아세테이트 (nta), 비스(살리실리덴)에틸렌디아민 (salen), 에틸렌디아미노트리아세테이트 (ted), 에틸렌디아민테트라아세테이트 (EDTA), 디에틸렌트리아민펜타아세테이트 (DTPA), 1,4,7,10-테트라아자시클로도데칸-1,4,7,10-테트라아세테이트 (DOTA), 옥살레이트 (ox), 타르트레이트 (tart), 시트레이트 (cit), 디메틸글리옥심 (dmg), 8-히드록시퀴놀린 (oxin), 2,2'-바이피리딘 (bpy), 1,10-페난트롤린 (phen), 디메르캅토숙신산 (DMSA) 또는 1,2-비스(디페닐포스피노)에탄 (dppe)이다.
(f.14) 충전제는 예를 들어 무기 충전제, 예컨대 탄산칼슘, 예를 들어 백악 또는 석회 더스트의 형태의 것; 활석, 점토, 모래, 석영, 플린트(flint), 운모, 유리 분말 및 기타 분쇄된 미네랄 물질, 세라믹 미소구체(microsphere), 침강 또는 소성(pyrogenic) 실리카, 제올라이트, 벤토나이트, 고령토, 키젤거(kieselguhr), 금속 산화물, 예컨대 티타늄, 철 또는 아연 산화물; 규소와 알루미늄의 혼합 산화물; 황산바륨, 질화규소, 탄화규소, 질화붕소, 카본 블랙; 또는 유기 충전제, 예컨대 흑연 분말, 목재 가루, 소더스트(sawdust), 분쇄된 호두 껍질 및 기타 세단(chopped) 섬유, 예컨대 셀룰로스 또는 면화 섬유이다.
(f.15) 부식 억제제는 예를 들어 알칼리 금속 또는 (치환된) 암모늄 염 또는 폴리카르복실산, 예컨대, 세바스산 또는 트리스(카르복시알킬아미노)-1,3,5-트리아진의 염; 또는 N-아실사르코신이다. 이들 화합물은 바스프의 이르가코르(Irgacor)® 브랜드로 상업화되어 있다.
(f.16) 안료는 예를 들어 티타늄 이산화물, 철 산화물 또는 카본 블랙이다.
(f.17) 탈포제인 소포제 또는 소포 작용제는 가공 동안 발포를 중지 또는 억제하도록 의도된다. 전형적으로 실리콘, 예컨대 디메틸실리콘이 사용된다.
(f.18) 상기 기재된 광잠재성 또는 열잠재성 개시제와 상이한 경화/가교 촉매는 예를 들어 주석계 촉매, 예컨대 디부틸주석 디라우레이트 (DBTL), 디부틸주석 디옥토에이트 또는 디부틸주석 디아세틸아세토네이트, 또는 유기아연 화합물이다.
상기 성분 (f) 중에는, 충전제 (f.14)가 바람직하다. 충전제는 바람직하게는 무색이다. 탄산칼슘, 활석, 석영, 운모, 유리 분말 및 기타 분쇄된 미네랄 물질, 세라믹 미소구체, 침강 또는 소성 실리카, 제올라이트, 벤토나이트, 고령토, 키젤거 및 티타늄 산화물이 바람직하다. 구체적으로, 탄산칼슘이 사용된다.
특정 실시양태에서, 본 발명의 안정화제 조성물은, 주석에 기반한 경화/가교 촉매 (예를 들어, 상기-언급된, 통상 존재하는 디부틸주석 디라우레이트 (DBTL) 또는 디부틸주석 디옥토에이트 또는 디부틸주석 디아세틸아세토네이트)를 전혀 함유하지 않고, 보다 특히 금속계 경화/가교 촉매를 전혀 함유하지 않는 것을 특징으로 한다.
바람직한 실시양태에서 안정화제 조성물은 하기 성분을 하기 비로 함유한다:
(a) 아미노 기가 염기도-저감 치환기를 갖는 것인 입체 장애 아민 (HALS)으로부터 선택된 적어도 1종의 광 안정화제: 0.1 내지 10 중량%;
(b) 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 적어도 1종의 산화방지제: 0.1 내지 10 중량%;
(c) 카르복실레이트 기를 함유하는 가소제로부터 선택되고 25℃에서 액체인 적어도 1종의 가소제: 10 내지 99.8 중량%;
(d) 적어도 1종의 UV 흡수제, 특히 적어도 1종의 트리아진 UV 흡수제: 0 내지 10 중량%;
(e) 적어도 1종의 광잠재성 또는 열잠재성 개시제: 0 내지 5 중량%;
(f) 적어도 1종의 추가의 첨가제: 0 내지 89.8 중량%.
중량 퍼센트는 안정화제 조성물의 총 중량을 기준으로 한다. (a) 내지 (f)의 중량은 합계가 100 중량%이다.
바람직하게는, 안정화제 조성물은 25℃ 및 1013 mbar에서 액체이며, 조성물의 총 중량을 기준으로 5 중량% 이하, 특히 2 중량% 이하의 용매를 함유한다.
상기 언급된 것과 유사한 방법으로, 본 발명의 견지에서 "25℃ 및 1013 mbar에서 액체"란, 안정화제 조성물이 100 s-1의 전단 속도로 DIN EN ISO 3219, 부록 B에 따라 CAP 2000+ 점도계 (브룩필드), 콘 4로 측정 시 25℃ 및 1013 mbar에서 250 Pa·s 이하의 점도를 가짐을 의미한다. 특히, 안정화제 조성물은 25℃에서 200 Pa·s 이하의 점도, 특히 25℃에서 150 Pa·s 이하의 점도, 보다 특히 25℃에서 100 Pa·s 이하의 점도, 더욱 더 특히 25℃에서 50 Pa·s 이하의 점도, 구체적으로 25℃에서 10 Pa·s 이하의 점도, 매우 구체적으로 25℃에서 1 Pa·s 이하의 점도를 갖는다. 점도는 상기 기재된 방법으로 수득된 바와 같은 값에 관한 것이다.
"용매"는 용질 (화학적으로 상이한 액체, 고체 또는 기체)을 용해시켜 용액을 생성하는 액체 물질이다. 본 발명의 견지에서, 용매는 적절한 관점에서 용질을 용해시키는 화합물 또는 매질로 제한되지 않는다: 이 화합물 또는 매질은 보다 일반적으로 분산 매질일 수 있어, "용액"은 적절한 관점에서 현탁액, 유화액 또는 용액일 수 있음 (즉, 용질의 입자를 육안으로 볼 수 없고 광을 산란시키지 않는, 2종 이상의 물질로 구성된 균질 혼합물). 상기 사용된 바와 같이, 용어 "용매"는, 이들이 액체이고 주로 다른 성분들 중 1종 이상을 위한 용매로서 작용할 수 있더라도 성분 (a) 내지 (e) 중 어느 것도 포함하지 않는다. 상기 사용된 바와 같이, 이 용어는, 용질을 용해시킬 수 있고 성분 (a) 내지 (e)와 상이한 액체 물질만을 포함한다.
안정화제 조성물은 주로 공지된 방법에 의해, 예컨대 성분들을 동시에 또는 연속적으로 적합한 분산 장치, 예컨대 혼합기, 특히 고속 혼합기, 유성(planetary) 혼합기, 내부 혼합기, 컴파운더, 이축-스크류-압출기 등에서 치밀 혼합함으로써 제조된다.
중합체 조성물
본 발명은 추가로,
(i) 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체; 및
(ii) 상기 정의된 바와 같은 안정화제 조성물
을 포함하는 중합체 조성물에 관한 것이다.
즉, 중합체 조성물은,
(i) 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체;
(ii) (a) 아미노 기가 염기도-저감 치환기를 갖는 것인 입체 장애 아민 (HALS)으로부터 선택된 적어도 1종의 광 안정화제;
(b) 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 적어도 1종의 산화방지제; 및
(c) 카르복실레이트 기를 함유하는 가소제로부터 선택되고 25℃에서 액체인 적어도 1종의 가소제
를 포함한다.
중합체 조성물은 아울러 상기 성분 (d) 내지 (f) 중 1종 이상을 추가로 포함할 수 있다.
성분 (a) 내지 (f)의 바람직한 실시양태에 대한 상기 일반 정의 및 설명이 여기에 또한 적용된다.
실릴-종결된 중합체
실릴-종결된 중합체 (STP)는, 중합체의 말단 (쇄 단부)에 실릴 기를 함유하며 일반적으로 유기 백본을 갖는 중합체이다. 일반적으로, 규소 원자 상의 치환기 중 적어도 1종은 가수분해성 기, 특히 알콕시 기이다. 대기 수분의 존재 하에 이러한 알콕시실릴-종결된 중합체는 서로 가수분해/축합 반응을 일으킬 수 있고, 이는 중합체의 경화 또는 가교를 초래한다. STP의 중합체 백본은 일반적으로 폴리에테르, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이민, 폴리우레탄, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리비닐에스테르, 폴리올레핀 또는 이들의 혼합 형태이다.
STP 및 그의 제조 방법은 일반적으로 공지되어 있으며, 특히 US 2012/0238695, DE-A-102011003425, DE-A-102004018548 및 그 안에 언급된 참고문헌에 기재되어 있다.
350 내지 30000, 보다 바람직하게는 500 내지 25000, 더욱 더 바람직하게는 1000 내지 22000, 특히 5000 내지 20000, 구체적으로 7000 내지 19000의 중량-평균 분자량 Mw를 갖는 STP가 바람직하다.
STP의 수-평균 및 중량-평균 분자량은 폴리스티렌 표준을 사용하여 상기 기재된 GPC/SEC 방법에 의해 결정된다.
바람직한 실시양태에서, 실릴-종결된 중합체는 화학식 VI의 중합체이다:
Figure pct00018
(식 중,
Po는 베이스 중합체의 2가, 3가 또는 4가 라디칼이고;
각각의 Y는 결합, -NH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-NH-, -C(=O)-NH-L2-NH-C(=O)-NH-, -NH-C(=O)-NH-L2-NH-C(=O)-, -O-C(=O)-, -C(=O)-O-, -NH-C(=O)-S-, -S-C(=O)-NH- 및 -O-로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
R' 및 R"은 서로 독립적으로 및 각 경우 독립적으로 C1-C6-알킬로부터 선택되고;
L1은 C1-C4-알킬렌이고;
L2는 2가 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이고;
각각의 a는 독립적으로 0 또는 1이고;
b는 2, 3 또는 4임).
Po가 산소 원자로 종결되는 경우, 이것은 Y의 산소 원자에 직접 결합되지 않는다. 이와 같은 경우, Y의 산소 원자는 생략되는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들면 Po의 말단기가 산소 원자이고 Y가 -O-C(=O)-NH-이면, Po의 상기 산소 원자에 결합된 기 Y는, Po-Y가 이 경우 요컨대 Po-O-C(=O)-NH-이도록, 상기 경우에 -C(=O)-NH-인 것으로 이해되어야 한다.
바람직한 실시양태에서, Po는, 폴리에테르, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이민, 폴리우레탄, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리비닐에스테르, 폴리올레핀 및 이들의 혼합 형태로 이루어진 군으로부터 선택된 중합체의 2가, 3가 또는 4가 라디칼이다.
Po가 유래되는 폴리에테르 중합체는 바람직하게는 하기 반복 단위로 구성된다:
Figure pct00019
(식 중, 각각의 A는 독립적으로 -CH2-CH2-, -CH2-CH(CH3)-, -CH(CH3)-CH2-, 또는 -(CH2)4-이고; 즉, 그것들은 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라히드로푸란, 및 이들의 혼합 형태 (공중합체)에서 유래됨).
Po가 유래되는 폴리에스테르는 바람직하게는 하기 반복 단위로 구성된다:
Figure pct00020
(식 중, B1 및 B2는 서로 독립적으로 2가 지방족, 지환족, 지방족-지환족, 방향족 또는 아르지방족 라디칼임).
Po가 유래되는 폴리아미드는 바람직하게는 하기 반복 단위로 구성된다:
Figure pct00021
(식 중, B1 및 B2는 서로 독립적으로 2가 지방족, 지환족, 지방족-지환족, 방향족 또는 아르지방족 라디칼이고, R은 H 또는 C1-C4-알킬이거나 또는 분지 지점이고, 예를 들어
Figure pct00022
또는
Figure pct00023
또는
Figure pct00024
를 나타냄).
Po가 유래되는 폴리이민 중합체는 바람직하게는 반복 단위
Figure pct00025
로 구성되며, 여기서 각각의 A는 독립적으로 2가 지방족, 지환족, 지방족-지환족, 방향족 또는 아르지방족 라디칼이고, R은 H 또는 C1-C4-알킬이거나 또는 분지 지점이고, 예를 들어
Figure pct00026
을 나타낸다.
Po가 유래되는 폴리우레탄은 바람직하게는 하기 반복 단위로 구성된다:
Figure pct00027
(식 중, B1 및 B2는 서로 독립적으로 2가 지방족, 지환족, 지방족-지환족, 방향족 또는 아르지방족 라디칼이고, R은 H 또는 C1-C4-알킬이거나 또는 분지 지점임).
Po가 유래되는 폴리(메트)아크릴레이트는 바람직하게는 하기 반복 단위로 구성된다:
Figure pct00028
(식 중, R은 H (폴리아크릴레이트) 또는 메틸 (메타크릴레이트)이고, R'은 C1-C12-알킬이며, 이는 다양한 치환기, 예컨대 OH, C1-C4-알콕시, 아미노, C1-C4-알킬아미노, 디-(C1-C4)-알킬아미노, CN, 트리메틸실릴 등을 가질 수 있음).
Po가 유래되는 폴리비닐에스테르는 바람직하게는 하기 반복 단위로 구성된다:
Figure pct00029
(식 중, R은 C1-C12-알킬임).
Po가 유래되는 폴리올레핀은 바람직하게는 α-올레핀의 중합체이고, 바람직하게는 하기 반복 단위로 구성된다:
Figure pct00030
(식 중, R은 H, C1-C12-알킬임).
특히, Po는 폴리에테르의 2가 라디칼 (즉, b가 2임)이다. 폴리에테르는 특히 폴리에틸렌 글리콜 또는 폴리프로필렌 글리콜이고, 구체적으로 폴리프로필렌 글리콜이다.
특정 실시양태에서, 중합체 VI 내에,
Y는 -NH-C(=O)-O- (여기서, NH는 L1에 결합됨)이고;
R' 및 R"은 서로 독립적으로 및 각 경우 독립적으로 메틸 및 에틸로 이루어진 군으로부터 선택되고, 특히 메틸이고;
각각의 L1은 독립적으로 -CH2- 또는 C3-알킬렌, 특히 -CH2- 또는 -CH2CH2CH2-이다.
구체적인 실시양태에서, 중합체 VI은 화학식 VI.1의 중합체이다:
Figure pct00031
(식 중, u는 1 내지 500, 바람직하게는 10 내지 400, 보다 바람직하게는 50 내지 300, 특히 100 내지 250, 구체적으로 100 내지 200, 매우 구체적으로 120 내지 180임).
또 다른 구체적인 실시양태에서, 중합체 VI은 화학식 VI.2의 중합체이다:
Figure pct00032
(식 중, u는 1 내지 500, 바람직하게는 10 내지 400, 보다 바람직하게는 50 내지 400, 특히 100 내지 350, 구체적으로 200 내지 350, 매우 구체적으로 200 내지 310임).
이러한 STP는 공지되어 있으며, 예를 들어 와커(Wacker)로부터 게니오실(Geniosil)® 브랜드로 판매된다 (예를 들어, 게니오실® STP-E 10 또는 게니오실® STP-E 35).
바람직하게는, 중합체 조성물은 적어도 1종의 광 안정화제 (a) 및 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체 (i)를 1:10 내지 1:1000, 보다 바람직하게는 1:20 내지 1:500, 더욱 더 바람직하게는 1:50 내지 1:400, 특히 1:50 내지 1:300, 구체적으로 1:70 내지 1:200의 중량비로 함유한다.
바람직한 실시양태에서 중합체 조성물은 하기 성분을 하기 비로 함유한다:
(i) 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체: 10 내지 94.9 중량%;
(a) 아미노 기가 염기도-저감 치환기를 갖는 것인 입체 장애 아민 (HALS)으로부터 선택된 적어도 1종의 광 안정화제: 0.05 내지 10 중량%;
(b) 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 적어도 1종의 산화방지제: 0.05 내지 10 중량%;
(c) 카르복실레이트 기를 함유하는 가소제로부터 선택되고 25℃에서 액체인 적어도 1종의 가소제: 5 내지 89.9 중량%;
(d) 적어도 1종의 UV 흡수제, 특히 적어도 1종의 트리아진 UV 흡수제: 0 내지 10 중량%;
(e) 적어도 1종의 광잠재성 또는 열잠재성 개시제: 0 내지 5 중량%;
(f) 적어도 1종의 추가의 첨가제: 0 내지 84.9 중량%.
중량 퍼센트는 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로 한다. (i) 및 (a) 내지 (f)의 중량은 합계가 100 중량%이다.
바람직하게는, 중합체 조성물은 25℃ 및 1013 mbar에서 액체이며, 조성물의 총 중량을 기준으로 5 중량% 이하, 특히 2 중량% 이하의 용매를 함유한다. 이는 중합체 조성물을 매우 편리한 방식으로, 예를 들어 심지어 분무 적용에 의해, 가열할 필요 없이 및 용매를 제거할 필요 없이 적용하는 것을 가능케 한다. 추가의 이점은, 중합체 조성물이 핫 멜트 접착제 조성물과 달리, 감열성 기판에 적용될 수 있다는 것이다. 아울러, 조성물은 용매, 특히 유기 용매에 민감한 기판에 적용될 수 있다.
상기 언급된 것과 유사한 방법으로, 본 발명의 견지에서 "25℃ 및 1013 mbar에서 액체"란, 중합체 조성물이 100 s-1의 전단 속도로 DIN EN ISO 3219, 부록 B에 따라 CAP 2000+ 점도계 (브룩필드), 콘 4로 측정 시 25℃ 및 1013 mbar에서 250 Pa·s 이하의 점도를 가짐을 의미한다. 특히, 안정화제 조성물은 25℃에서 200 Pa·s 이하의 점도, 특히 25℃에서 150 Pa·s 이하의 점도, 보다 특히 25℃에서 100 Pa·s 이하의 점도, 더욱 더 특히 25℃에서 50 Pa·s 이하의 점도, 구체적으로 25℃에서 10 Pa·s 이하의 점도, 매우 구체적으로 25℃에서 1 Pa·s 이하의 점도를 갖는다. 점도는 상기 기재된 방법으로 수득된 바와 같은 값에 관한 것이다.
"용매"는 용질 (화학적으로 상이한 액체, 고체 또는 기체)을 용해시켜 용액을 생성하는 액체 물질이다. 본 발명의 견지에서, 용매는 적절한 관점에서 용질을 용해시키는 화합물 또는 매질로 제한되지 않는다: 이 화합물 또는 매질은 보다 일반적으로 분산 매질일 수 있어, "용액"은 적절한 관점에서 현탁액, 유화액 또는 용액일 수 있음 (즉, 용질의 입자를 육안으로 볼 수 없고 광을 산란시키지 않는, 2종 이상의 물질로 구성된 균질 혼합물). 상기 사용된 바와 같이, 용어 "용매"는, 이들이 액체이고 주로 다른 성분들 중 1종 이상을 위한 용매로서 작용할 수 있더라도 성분 (i) 및 (a) 내지 (e) 중 어느 것도 포함하지 않는다. 상기 사용된 바와 같이, 이 용어는, 용질을 용해시킬 수 있고 성분 (i) 및 (a) 내지 (e)와 상이한 액체 물질만을 포함한다.
특정 실시양태에서, 본 발명의 중합체 조성물은, 주석에 기반한 경화/가교 촉매 (예를 들어, 통상 존재하는 디부틸주석 디라우레이트 (DBTL) 또는 디부틸주석 디옥토에이트 또는 디부틸주석 디아세틸아세토네이트)를 전혀 함유하지 않고, 보다 특히 금속계 경화/가교 촉매를 전혀 함유하지 않는 것을 특징으로 한다.
중합체 조성물은 주로 공지된 방법에 의해, 예컨대 성분들을 동시에 또는 연속적으로 적합한 분산 장치, 예컨대 혼합기, 특히 고속 혼합기, 유성 혼합기, 내부 혼합기, 컴파운더, 이축-스크류-압출기 등에서 치밀 혼합함으로써 제조된다.
본 발명은 추가로, 실릴-종결된 중합체 또는 실란트, 접착제, 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물, 특히 실릴-종결된 중합체를 함유하는 실란트 조성물, 접착제 조성물, 가스켓 조성물, 나이핑 충전제 조성물 또는 코팅 조성물을 열, 광 및/또는 산소에 의한 분해에 대해 안정화시키기 위한 본 발명의 안정화제 조성물의 용도에 관한 것이다.
본 발명은 또한, 실란트 조성물, 접착제 조성물, 가스켓 조성물, 나이핑 충전제 조성물 또는 코팅 조성물 중에서의 또는 그로서의 본 발명의 중합체 조성물의 용도에 관한 것이다.
본 발명은 또한, 본 발명의 중합체 조성물을 포함하는 실란트 조성물 또는 접착제 조성물, 또는 가스켓 조성물, 또는 나이핑 충전제 조성물 또는 코팅 조성물에 관한 것이다.
아울러, 본 발명은, 실릴-종결된 중합체 또는 실란트, 접착제, 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물, 특히 실릴-종결된 중합체를 함유하는 실란트, 접착제, 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물을 열, 광 및/또는 산소에 의한 분해에 대해 안정화시키는 방법에 관한 것이다.
접착제 및 실란트는 부분적으로 중복되는 용어이다.
실란트는 재료 내 표면 또는 접합부 또는 개구부를 통한 유체의 통과를 블로킹하기 위해 사용되는 물질이다. 그것들은 실링하고자 하는 기판에 대한 접착력을 나타내야 하지만, 보다 중요하게는 그것들은 강한 응집성(cohesion)을 가져야 한다. 응집성은 함께 고착되는 물질의 특성, 즉, 그의 내력(inner force)이다.
접착제는 기판들을 함께 결합시키고 그의 분리를 저지하는 물질이다. 여기서 접착제 상호작용이 응집력(cohesive force)보다 더 중요하지만, 또한 응집성이 없으면 접착제가 작용할 수 없다.
본 발명의 실란트 및 접착제 조성물에 대한 일부 적용예는 예를 들어 데크(deck) 결합 및 실링, 포트 홀(port hole) 실링, 케이블 실링, 글레이징(glazing), 윈도우 실링, 욕실 물-배리어 실링, 및 바닥재, 특히 쪽매의 접착 또는 실링이다.
본 발명의 안정화제 조성물은 경화성 조성물을 효과적으로 안정화시키고, 특히 경화 후 양호한 장기 온도 및/또는 UV 및/또는 산화 안정성을 제공하는 동시에, 성분들의 부정적 상호작용을 방지한다. 아울러, 특정 가소제로 인해, 경화된 중합체로부터의 안정화제 조성물의 성분, 특히, 경화된 STP로부터의 성분 (b)의 침출이 방지된다.
이하, 본 발명을 하기 실시예로 예시한다.
<실시예>
사용된 재료:
게니오실® STP-E 35: 와커로부터의 트리메톡시실릴프로필카르바메이트- 종결된 폴리에테르 중합체
게니오실® STP-E 10: 와커로부터의 디메톡시(메틸)실릴메틸카르바메이트 -종결된 폴리에테르 중합체
티누빈® 123 HALS 아민; 화학식 II.1의 화합물; 바스프 에스이
티누빈® 249 HALS 아민; 화학식 I.1의 화합물; 바스프 에스이
티누빈® 292 피페리딘 고리의 질소 원자가 메틸 기를 갖는 HALS 아민; 본 발명의 광 안정화제 (a)에 따르지 않음; 바스프 에스이
이르가녹스® 1520 산화방지제 (4,6-비스(옥틸티오메틸)-o-크레졸; R16 = 옥틸인 화학식 IV.1의 화합물); 바스프 에스이
이르가녹스® 1135 티오에테르 기가 없는 페놀성 산화방지제; 본 발명의 산화방지제 (b)에 따르지 않음; 바스프 에스이
존크릴® 1200 폴리부틸아크릴레이트; 중합체의 총 중량을 기준으 로 2 내지 3 중량%의 공중합된 형태의 아크릴산을 함유하는 본 발명의 성분 (c)에 따른 가소제; 바스 프 에스이
존크릴® 963 중합체의 총 중량을 기준으로 2 내지 3 중량%의 공중합된 형태의 아크릴산을 함유하는 폴리부틸아 크릴레이트 공중합체; 본 발명의 성분 (c)에 따른 가소제; 바스프 에스이
헥사몰® DINCH 1,2-시클로헥산 디카르복실산 디이소노닐 에스테 르; 본 발명의 성분 (c)에 따른 가소제; 바스프 에 스이
록사놀® PL 5060 폴리프로필렌글리콜 알킬페닐에테르, CAS no. 9064-13-5; 가소제; 본 발명의 성분 (c)에 따르지 않음
에프카(Efka)® RM 1920 수소화된 피마자 오일; 바스프 에스이로부터의 레 올로지 개질제 (증점제)
PLB1 활성화 시 DBN (1,5-디아자바이시클로[4.3.0]논-5- 엔)을 생성하는 화학식 PLB.1 (s= 1, R18 = 파라-위 치에 결합된 메톡시카르보닐, R19 = H)의 광잠재성 염기
이르가큐어® 369 광잠재성 염기; 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르 폴리노페닐)-부탄온-1; 화학식 PLB.6의 화합물; 바스프
DBU 1,8-디아자바이시클로[5.4.0]운데스-7-엔; 촉매
DBTL 디부틸주석디라우레이트; 촉매
CaCO3 오미아(Omya)로부터의 오미아카르브(Omyacarb)® 2GU 분말로서 적용됨; 충전제로서 사용됨
<조성물>
조성물은 성분들을 하기 표에 주어진 상대량으로 하우쉴트 엔지니어링(Hauschild Engineering, 독일)으로부터의 스피드믹서(SpeedMixer) DAC 400 FVZ로 치밀 혼합하여 제조하였다. 양은 중량부 단위로 주어져 있다.
<시험 방법>
색상은 ASTM D-6166에 따라 가드너 색수(Gardner color number) 지수에 의해 평가하였다. 수가 높을수록 더 높은 색상, 즉, 더 높은 산화를 의미한다.
ASTM D-6166에 따른 가드너 색수 지수의 결정으로 가능한 것보다 더 정확한 구별이 요망되는 경우에는, 비와이케이 스펙트로 가이드(Byk Spectro Guide) (CIE Lab 색상 시스템)로 측정을 수행하였다.
점도는 100 s-1의 전단 속도로 DIN EN ISO 3219, 부록 B에 따라 CAP 2000+ 점도계 (브룩필드)를 사용하여 측정하였다.
기계적 강도 데이터는 즈윅 로엘(Zwick Roell)/Z010으로부터의 인장 강도 시험기로 DIN EN 1465에 따라 취하였다.
UV-노화는 300 내지 400 nm의 파장으로 썬테스터(Suntester) (아틀라스 인스트루먼츠(Atlas instruments)에서 측정하였다.
UV 경화 실험은 이세스테 메츠 게엠베하(IST METZ GmbH, 독일)로부터의 유형 M 400 U2L/LA의 2개의 램프 (180 내지 450 nm의 UV 범위)로 UV 터널(Tunnel) (유형 M-40-2x1-TR-CMK-SLC)에서 수행하였다.
반복 노출로부터의 UV 조사량은 이아이티 인스트루먼트 마켓츠(EIT Instrument Markets), 이아이티 인크.(EIT Inc.)로부터의 UV 파우어(Power)-퍽(Puck)® II로 측정하였다.
쇼어 A 경도는 쇼어 스케일 A 경도계를 사용하여 DIN 53505에 따라 결정하였다.
열 노화는 환기 오븐 (헤라에우스(Heraeus)® 써미콘(Thermicon) P)에서 수행하였다.
<시험>
1.) 기계적 시험 및 가드너 색상 시험
a) 가소제로서 존크릴® 1200의 사용
Figure pct00033
Null 1 = 첨가제 없이 및 가소제 없이 시험
Null 2 = 첨가제 없이 시험
Cmp.1, 2, 3 = 비교예
Inv. = 본 발명에 따른 실시예
*색상 b는 비와이케이 스펙트로 가이드 (CIE Lab 색상 시스템)로 수행된 비색 측정에 대한 b 값임
균열: 필름이 실제로 완전히 분해되었음. 추가 측정이 불가능하였음.
b) 가소제로서 헥사몰® DINCH의 사용
Figure pct00034
Null 1 = 첨가제 없이 및 가소제 없이 시험
Null 2 = 첨가제 없이 시험
Cmp.1, 2, 3 = 비교예
Inv. = 본 발명에 따른 실시예
*색상 b는 비와이케이 스펙트로 가이드 (CIE Lab 색상 시스템)로 수행된 비색 측정에 대한 b 값임
균열: 필름이 실제로 완전히 분해되었음. 추가 측정이 불가능하였고, 그에 따라 n.d.(결정되지 않음).
n.d.*: 종이가 필름에 달라붙었기 때문에 실험을 평가할 수 없었음.
c) HALS 아민의 조합의 사용
Figure pct00035
Null = 첨가제 없이 시험
Cmp. = 비교예
Inv. = 본 발명에 따른 실시예
liq. = 액체
sol. = 고체
2.) 제형화된 STP-시스템의 광-개시를 위한 실험.
Figure pct00036
Null = 첨가제 없이 시험
Cmp. = 비교예
Inv. = 본 발명에 따른 실시예
n.c.= 경화되지 않음
3.) STP의 열 안정화
Figure pct00037
Null = 첨가제 없이 시험
Cmp. = 비교예
Inv. = 본 발명에 따른 실시예
4) 상이한 가소제들로 가드너 색상 시험
Figure pct00038
Inv. = 본 발명에 따른 실시예
Cmp. = 비교예

Claims (36)

  1. (a) 아미노 기가 염기도(basicity)-저감 치환기를 갖는 것인 입체 장애 아민 (HALS)으로부터 선택된 적어도 1종의 광 안정화제;
    (b) 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 적어도 1종의 산화방지제; 및
    (c) 카르복실레이트 (즉, 카르복실산 에스테르) 기를 함유하는 가소제로부터 선택되고 25℃에서 액체인 적어도 1종의 가소제
    를 포함하는 안정화제 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 입체 장애 아민이
    - 화학식 I의 화합물,
    - 화학식 II의 화합물,
    - 화학식 III의 화합물, 및
    - 그의 혼합물
    로 이루어진 군으로부터 선택된 것인
    조성물.
    Figure pct00039

    (식 중,
    R1은 기 -A-C(=X)-R5 또는 기 -OR6이고;
    R2a, R2b, R3a 및 R3b는 서로 독립적으로 C1-C3-알킬이고;
    R4는 수소; 1개 이상의 치환기 R7을 가질 수 있는 C1-C12-알킬; -OR8; -S(O)mR9; -NR10aR10b; -C(=O)R11; 및 -C(=S)R11로 이루어진 군으로부터 선택되고;
    R5는 1개 이상의 치환기 R7을 가질 수 있는 C1-C12-알킬; -OR8; 및 -NR10aR10b로 이루어진 군으로부터 선택되고;
    R6은 1개 이상의 치환기 R7을 가질 수 있는 C1-C12-알킬; 및 -C(=O)-C1-C8-알킬 (여기서, 알킬 모이어티는 1개 이상의 치환기 R7을 가질 수 있음)로 이루어진 군으로부터 선택되고;
    각각의 R7은 -Si(R12)3, -OR8, -OSO2R8, -S(O)mR9, -N(R10a)R10b, -C(=O)N(R10a)R10b, -C(=S)N(R10a)R10b, -C(=O)OR8, -CH=NOR8, 1개 이상의 치환기 R13으로 임의 치환된 C3-C6-시클로알킬, 1, 2, 3, 4 또는 5개의 치환기 R13으로 임의 치환된 페닐, 및 고리 구성원으로서 N, O, S, NO, SO 및 SO2로 이루어진 군으로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 헤테로원자 또는 헤테로원자 기를 포함하는 3원, 4원, 5원, 6원 또는 7원 포화, 부분 불포화 또는 최대 불포화 헤테로시클릭 고리 (여기서, 헤테로시클릭 고리는 1개 이상의 치환기 R13으로 임의 치환됨)로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
    각각의 R8은 수소; 1개 이상의 치환기 R14를 가질 수 있는 C1-C12-알킬; 및 -C(=O)-C1-C12-알킬 (여기서, 알킬 모이어티는 1개 이상의 치환기 R14를 가질 수 있음)로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
    각각의 R9는 수소; 1개 이상의 치환기 R14를 가질 수 있는 C1-C12-알킬; 및 C1-C12-알콕시로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
    R10a 및 R10b는 서로 독립적으로 및 각 경우 독립적으로 수소; 1개 이상의 치환기 R14를 가질 수 있는 C1-C12-알킬; 및 C1-C12-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택되고;
    각각의 R11은 수소; 1개 이상의 치환기 R14를 가질 수 있는 C1-C12-알킬; 및 C1-C12-알콕시로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
    각각의 R12는 1개 이상의 치환기 R14를 가질 수 있는 C1-C12-알킬; 및 C1-C12-알콕시로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
    각각의 R13은 히드록실, 시아노, C1-C4-알킬 및 C1-C4-알콕시로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되거나, 또는 시클로알킬 고리 또는 헤테로시클릭 고리의 동일한 탄소 원자 상에 결합된 2개의 R13이 함께 기 =O를 형성할 수 있고;
    각각의 R14는 -Si(R15)3, 히드록실, 시아노, C1-C12-알콕시, 아미노, C1-C4-알킬아미노, 디-(C1-C4-알킬)아미노, 아미노카르보닐, C1-C4-알킬아미노카르보닐, 디(C1-C4-알킬)아미노카르보닐, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시카르보닐, 1, 2, 3, 4 또는 5개의 치환기 R13으로 임의 치환된 C3-C6-시클로알킬, 1, 2, 3, 4 또는 5개의 치환기 R13으로 임의 치환된 페닐, 및 고리 구성원으로서 N, O, S, NO, SO 및 SO2로 이루어진 군으로부터 선택된 1, 2 또는 3개의 헤테로원자 또는 헤테로원자 기를 포함하는 3원, 4원, 5원, 6원 또는 7원 포화, 부분 불포화 또는 최대 불포화 헤테로시클릭 고리 (여기서, 헤테로시클릭 고리는 1개 이상의 치환기 R13으로 임의 치환됨)로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
    각각의 R15는 C1-C12-알킬 및 C1-C12-알콕시로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
    A는 -(CH2)n- 또는 -(CH2)p-O- (여기서, O는 C(=X)에 결합됨)이고;
    X는 O 또는 S이고;
    m은 0, 1 또는 2이고;
    n은 3 또는 4이고;
    p는 2 또는 3임)
    Figure pct00040

    (식 중,
    각각의 R1'은 독립적으로 R1에 대해 상기 주어진 의미 중 하나를 갖고;
    R2a, R2b, R3a 및 R3b는 서로 독립적으로 상기 정의된 바와 같고;
    G는 C1-C10-알킬렌, -O-C2-C10-알킬렌-O-, -C(=O)-C1-C10-알킬렌-C(=O)-, 및 -O-C(=O)-C1-C10-알킬렌-C(=O)-O-로 이루어진 군으로부터 선택됨)
    Figure pct00041

    (식 중,
    R2a, R2b, R3a 및 R3b는 서로 독립적으로 상기 정의된 바와 같고;
    E는 -(CH2)n-, -(CH2)p-O- (여기서, O는 C(=O)에 결합됨), -(CH2)n-C(=O)-E1-, 또는 -(CH2)p-O-C(=O)-E1-이고, 여기서
    n 및 p는 상기 정의된 바와 같고;
    E1은 선형 또는 분지형 C1-C10-알킬렌이고;
    R16은 수소 또는 C1-C4-알킬이고;
    R17은 수소, C1-C4-알킬 또는 C1-C4-알콕시이고;
    k는 2 내지 50임.
  3. 제2항에 있어서, 입체 장애 아민이,
    R1이 기 -A-C(=X)-R5이며, 여기서
    A는 -(CH2)p-O-이고;
    X는 O이고;
    R5는 C1-C12-알킬이고;
    p가 2 또는 3인
    적어도 화학식 I의 화합물을 포함하는 것인
    조성물.
  4. 제3항에 있어서,
    R1이 기 -(CH2)2-O-C(=O)-R5이며, 여기서
    R5는 C1-C8-알킬; 특히 2,4,4-트리메틸펜틸이고;
    R2a, R2b, R3a 및 R3b가 메틸이고;
    R4가 기 -O-C(=O)-C1-C8-알킬; 특히 -O-C(=O)-(2,4,4-트리메틸펜틸)인
    조성물.
  5. 제2항에 있어서, 입체 장애 아민이 적어도 화학식 II의 화합물 및/또는 적어도 화학식 III의 화합물을 포함하며,
    화학식 II에서,
    각각의 R1'이 독립적으로 기 -OR6이며, 여기서
    R6은 C4-C12-알킬이고;
    G가 -O-C(=O)-C6-C10-알킬렌-C(=O)-O-이고;
    화학식 III에서,
    E가 -(CH2)2-O-C(=O)-E1-이며, 여기서
    E1은 선형 또는 분지형 C2-C4-알킬렌이고;
    R16이 수소이고;
    R17이 C1-C4-알콕시이고;
    k가 8 내지 20인
    조성물.
  6. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 입체 장애 아민이 적어도 1종의 화학식 I의 화합물 및 추가적으로 또한 적어도 1종의 화학식 II의 화합물 및/또는 적어도 1종의 화학식 III의 화합물을 포함하는 것인 조성물.
  7. 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 입체 장애 아민이 적어도 1종의 화학식 I.1의 화합물 및 임의로 또한 화학식 II.1의 화합물을 포함하는 것인 조성물.
    Figure pct00042

    Figure pct00043
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 산화방지제가 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 히드록시방향족 화합물인 조성물.
  9. 제8항에 있어서, 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 산화방지제가 화학식 IV의 화합물인 조성물.
    Figure pct00044

    (식 중,
    Ra, Rb 및 Rc는 서로 독립적으로 1개 이상의 기 -SR16을 가질 수 있는 C1-C4-알킬로부터 선택되되;
    단, Ra, Rb 및 Rc 중 적어도 1종은 1개 이상의 기 -SR16을 갖는 C1-C4-알킬이며; 여기서
    R16은 C1-C16-알킬임).
  10. 제9항에 있어서, Ra 및 Rb가 1개 이상의 기 -SR16을 갖는 C1-C4-알킬인 조성물.
  11. 제10항에 있어서,
    Ra 및 Rb가 -CH2-SR16이며; 여기서
    R16은 선형 C6-C16-알킬; 특히 n-옥틸 또는 n-도데실이고;
    Rc가 메틸인
    조성물.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 가소제가 아크릴레이트 중합체 (즉, 아크릴산 에스테르 중합체)로부터 선택되며, 여기서 아크릴레이트 중합체는 중합된 형태의 메타크릴레이트 (즉, 메타크릴산 에스테르 중합체)를 또한 함유할 수 있는 것인 조성물.
  13. 제12항에 있어서, 가소제가 30000 이하의 중량-평균 분자량, -40℃ 이하의 유리 전이 온도, 및 25℃에서 250 Pa·s 이하의 점도를 갖는 아크릴레이트 중합체로부터 선택된 것인 조성물.
  14. 제12항 또는 제13항에 있어서, 가소제가 하기 화학식의 반복 단위를 함유하는 폴리아크릴레이트로부터 선택되고, 여기서 특히 폴리아크릴레이트는 중합체의 총 중량을 기준으로 2 내지 3 중량%의 공중합된 형태의 아크릴산을 함유하는 것인 조성물.
    Figure pct00045

    (식 중, 각각의 Rα는 독립적으로, 히드록시 및 C1-C4-알콕시로 이루어진 군으로부터 선택된 1개의 치환기를 가질 수 있는 C1-C6-알킬이고, 각각의 Rα는 특히 C1-C6-알킬 및 C2-C4-히드록시알킬로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택됨)
  15. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 가소제가 방향족 카르복실레이트, 지방족 카르복실레이트 및 지환족 카르복실레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 카르복실레이트 기를 함유하는 비(non)-중합체 가소제인 조성물.
  16. 제15항에 있어서, 가소제가 1,2-시클로헥산 디카르복실산 디-(C4-C20-알킬) 에스테르로부터 선택되고, 특히 1,2-시클로헥산 디카르복실산 디이소노닐 에스테르인 조성물.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    (d) 적어도 1종의 UV 흡수제, 특히 적어도 1종의 트리아진 UV 흡수제
    를 추가로 포함하는 조성물.
  18. 제17항에 있어서, UV 흡수제가 화학식 VI의 트리아진 UV 흡수제인 조성물.
    Figure pct00046

    (식 중,
    RA는 수소, 및 1개 이상의 치환기 R17을 가질 수 있는 C1-C12-알킬로 이루어진 군으로부터 선택되고;
    RB 및 RC는 서로 독립적으로, 1개 이상의 치환기 R17을 가질 수 있는 C1-C12-알킬; OH; 및 C1-C12-알콕시 (여기서, 알콕시 내의 알킬 모이어티는 1개 이상의 치환기 R17을 가질 수 있음)로 이루어진 군으로부터 선택되고;
    각각의 R17은 OH 및 C1-C20-알콕시로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
    q 및 r은 서로 독립적으로 0, 1 또는 2임)
  19. 제18항에 있어서,
    RA가 2개의 치환기 R17을 갖는 C1-C4-알킬이며; 여기서
    각각의 R17은 OH 및 C12-C14-알콕시로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
    RA는 특히 -CH2-CH(OH)-CH2-O-CnH2n+1 (여기서, n은 12 내지 14임)이고;
    RB 및 RC가 서로 독립적으로 C1-C4-알킬, 특히 메틸이고;
    q 및 r이 2인
    조성물.
  20. 제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서,
    (e) 적어도 1종의 광잠재성 또는 열잠재성 개시제
    를 추가로 포함하는 조성물.
  21. 제20항에 있어서, 광잠재성 또는 열잠재성 개시제가 광잠재성 염기 및 광잠재성 또는 열잠재성 금속계 개시제로 이루어진 군; 및 특히 광잠재성 염기로부터 선택된 것인 조성물.
  22. 제21항에 있어서,
    - 광잠재성 염기가 화합물 B1-Z1 (여기서, B1 및 Z1은 공유 결합되어 있고, B1은 아미딘, 구아니딘 및 2급 아민으로 이루어진 군으로부터 선택된 강염기에서 유래되고, Z1은 광분해적으로 제거가능한 기임)로부터 선택되고;
    - 금속계 개시제가 적어도 1개의 광분해적으로 또는 열적으로 제거가능한 리간드를 함유하는 티타늄 착물, 및 적어도 1개의 광분해적으로 또는 열적으로 제거가능한 리간드를 함유하는 알루미늄 착물로부터 선택된 것인
    조성물.
  23. 제22항에 있어서, 광잠재성 염기가 화학식 PLB.1 내지 PLB.7의 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 것인 조성물.
    Figure pct00047

    (식 중,
    각각의 R18은 C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, C1-C6-알킬티오, C1-C6-알킬술피닐, C1-C6-알킬술포닐, C1-C6-알킬카르보닐 및 C1-C6-알콕시카르보닐로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
    R19는 수소 및 C1-C4-알킬로 이루어진 군으로부터 선택되고;
    s는 0, 1, 2, 3, 4 또는 5임)
  24. 제23항에 있어서, 광잠재성 염기가 화학식 PLB.1, PLB.2, PLB.4, PLB.5, PLB.6 및 PLB.7, 특히 PLB.1, PLB.2, PLB.6 및 PLB.7, 구체적으로 PLB.1의 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 것인 조성물.
  25. 제1항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서,
    (a) 아미노 기가 염기도-저감 치환기를 갖는 것인 입체 장애 아민 (HALS)으로부터 선택된 적어도 1종의 광 안정화제: 0.1 내지 10 중량%;
    (b) 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 적어도 1종의 산화방지제: 0.1 내지 10 중량%;
    (c) 카르복실레이트 기를 함유하는 가소제로부터 선택되고 25℃에서 액체인 적어도 1종의 가소제: 10 내지 99.8 중량%;
    (d) 적어도 1종의 UV 흡수제, 특히 적어도 1종의 트리아진 UV 흡수제: 0 내지 10 중량%;
    (e) 적어도 1종의 광잠재성 또는 열잠재성 개시제: 0 내지 5 중량%; 및
    (f) 적어도 1종의 추가의 첨가제: 0 내지 89.8 중량%
    를 함유하며, 여기서 중량 퍼센트는 안정화제 조성물의 총 중량을 기준으로 하고, (a) 내지 (f)의 중량은 합계가 100 중량%인 조성물.
  26. 제1항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서, 25℃ 및 1013 mbar에서 액체이며, 조성물의 총 중량을 기준으로 5 중량% 이하의 용매를 함유하는 조성물.
  27. (i) 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체; 및
    (ii) 제1항 내지 제26항 중 어느 한 항에 규정된 안정화제 조성물
    을 포함하는 중합체 조성물.
  28. 제27항에 있어서, 실릴-종결된 중합체가 화학식 VI의 중합체인 중합체 조성물.
    Figure pct00048

    (식 중,
    Po는 베이스 중합체의 2가, 3가 또는 4가 라디칼이고;
    각각의 Y는 결합, -NH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-NH-, -C(=O)-NH-L2-NH-C(=O)-NH-, -NH-C(=O)-NH-L2-NH-C(=O)-, -O-C(=O)-, -C(=O)-O-, -NH-C(=O)-S-, -S-C(=O)-NH- 및 -O-로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택되고;
    R' 및 R"은 서로 독립적으로 및 각 경우 독립적으로 C1-C6-알킬로부터 선택되고;
    L1은 C1-C3-알킬렌이고;
    L2는 2가 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이고;
    각각의 a는 독립적으로 0 또는 1이고;
    b는 2, 3 또는 4임)
  29. 제28항에 있어서, Po가 폴리에테르, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이민, 폴리우레탄, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리비닐에스테르, 폴리올레핀 및 이들의 혼합 형태로 이루어진 군으로부터 선택된 중합체의 2가, 3가 또는 4가 라디칼인 중합체 조성물.
  30. 제29항에 있어서, Po가 폴리에테르의 2가 라디칼 (즉, b가 2임)이며, 여기서 폴리에테르는 특히 폴리에틸렌 글리콜 또는 폴리프로필렌 글리콜, 구체적으로 폴리프로필렌 글리콜인 중합체 조성물.
  31. 제28항 내지 제30항 중 어느 한 항에 있어서,
    Y가 -NH-C(=O)-O- (여기서, NH는 L1에 결합됨)이고;
    R' 및 R"이 서로 독립적으로 및 각 경우 독립적으로 메틸 및 에틸로 이루어진 군으로부터 선택되고;
    각각의 L1이 독립적으로 -CH2- 또는 C3-알킬렌, 특히 -CH2- 또는 -CH2CH2CH2-인
    중합체 조성물.
  32. 제27항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 25℃ 및 1013 mbar에서 액체이며, 조성물의 총 중량을 기준으로 5 중량% 이하의 용매를 함유하는 중합체 조성물.
  33. 제27항 내지 제32항 중 어느 한 항에 있어서,
    (i) 적어도 1종의 실릴-종결된 중합체: 10 내지 94.9 중량%;
    (a) 아미노 기가 염기도-저감 치환기를 갖는 것인 입체 장애 아민 (HALS)으로부터 선택된 적어도 1종의 광 안정화제: 0.05 내지 10 중량%;
    (b) 1개 이상의 티오에테르 기를 함유하는 적어도 1종의 산화방지제: 0.05 내지 10 중량%;
    (c) 카르복실레이트 기를 함유하는 가소제로부터 선택되고 25℃에서 액체인 적어도 1종의 가소제: 5 내지 89.9 중량%;
    (d) 적어도 1종의 UV 흡수제, 특히 적어도 1종의 트리아진 UV 흡수제: 0 내지 10 중량%;
    (e) 적어도 1종의 광잠재성 또는 열잠재성 개시제: 0 내지 5 중량%;
    (f) 적어도 1종의 추가의 첨가제: 0 내지 84.9 중량%
    를 함유하며, 여기서 중량 퍼센트는 중합체 조성물의 총 중량을 기준으로 하고, (i) 및 (a) 내지 (f)의 중량은 합계가 100 중량%인 중합체 조성물.
  34. 실릴-종결된 중합체 또는 실란트, 접착제, 가스켓(gasket), 나이핑(knifing) 충전제 또는 코팅 조성물, 특히 실릴-종결된 중합체를 함유하는 실란트, 접착제, 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물을 열, 광 및/또는 산소에 의한 분해에 대해 안정화시키기 위한, 제1항 내지 제26항 중 어느 한 항에 따른 안정화제 조성물의 용도.
  35. 실란트, 접착제, 액체 가스켓, 나이핑 충전제 또는 코팅 조성물 중에서의, 또는 그로서의, 제27항 내지 제33항 중 어느 한 항에 따른 중합체 조성물의 용도.
  36. 제27항 내지 제33항 중 어느 한 항에 따른 중합체 조성물을 포함하는, 실란트 조성물 또는 접착제 조성물, 또는 액체 가스켓 조성물, 또는 나이핑 충전제 조성물 또는 코팅 조성물.
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