JP2013534960A - チキソトロープ剤の製造法及びその使用 - Google Patents
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Abstract
Description
・ アルカンジオール、例えばエタンジオール、1,2−及び1,3−プロパンジオール、1,4−及び2,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,3−ジメチルプロパンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、ヘキシレングリコール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、エチレングリコール、1,2−又は1,3−プロパンジオール、1,2−、1,3−又は1,4−ブタンジオール、1,2−、1,3−、1,4−又は1,5−ペンタンジオール、1,2−、1,3−、1,4−、1,5−又は1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルヒドロキシピバレート、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコール、1,2−、1,3−又は1,4−シクロヘキサンジオール、1,2−、1,3−又は1,4−シクロヘキサンジメタノール、トリメチルペンタンジオール、エチルブチルプロパンジオール、ジエチルオクタンジオール、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、2−ブチル−2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−フェニル−2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−プロピル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、2−ジ−t−ブチル−1,3−プロパンジオール、2−ブチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、1−ジヒドロキシメチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジプロピル−1,3−プロパンジオール、2−シクロヘキシル−2−メチル−1,3−プロパンジオール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、2,5−ジエチル−2,5−ヘキサンジオール、2−エチル−5−メチル−2,5−ヘキサンジオール、2,4−ジメチル−2,4−ペンタンジオール、2,3−ジメチル−2,3−ブタンジオール、1,4−ビス(2'−ヒドロキシプロピル)ベンゼン及び1,3−ビス(2'−ヒドロキシプロピル)ベンゼン及び
・ δ−ヒドロキシブチル−ε−ヒドロキシ−カプロン酸エステル、ω−ヒドロキシヘキシル−γ−ヒドロキシ−酪酸エステル、アジピン酸−(β−ヒドロキシエチル)エステル又はテレフタル酸−ビス−(β−ヒドロキシエチル)エステル及び
・ 脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン及び脂環式ジアミン、殊にメチレンジアミン、エチレンジアミン、1,2−及び1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、カダベリン(1,5−ジアミノペンタン)、1,6−ヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミン、ピペラジン、1,4−シクロヘキシルジメチルアミン、4,4'−ジアミノジシクロヘキシルメタン、アミノエチルエタノールアミン、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、m−又はp−フェニレンジアミン、1,3−又は1,4−キシリレンジアミン、水素化キシリレンジアミン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、4,4'−メチレン−ビス(オルトクロロアニリン)、ジ−(メチルチオ)−トルエンジアミン、ジエチルトルエンジアミン、N,N'−ジブチルアミノジフェニルメタン、ビス−(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシル)メタン、2,2,4−及び2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミンの異性体混合物、2−メチル−ペンタメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、及び4,4−ジアミノジシクロヘキシルメタン並びに
・ エタノールアミン、ヒドラジンエタノール、2−[(2−アミノエチル)アミノ]エタノール。
1.第一級及び/又は第二級アミノシラン;α又はγ位
例えばH2N−CH2−Si(OR2)3
H2N−(CH2)3−Si(OR2)3
R'NH−(CH2)3−Si(OR2)3
R'NH−CH2−CHMe−CH2−Si(OR2)3
ここで、OR2は、互いに無関係に、アルコキシ基によって表され、ここで、R2は、1〜5個の炭素原子を有するアルキル基、例えばメチル、エチル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブチル、イソブチル、s−ブチルを表し、かつ/又はOR2は、フェノキシ基、ナフチルオキシ基、フェノキシ基を表し、該基は、オルト位、メタ位及び/又はパラ位で、C1〜C20アルキル基、アルキルアリール基、アルコキシ基、フェニル基、置換されたフェニル基、チオアルキル基、ニトロ基、ハロゲン基、ニトリル基、カルボキシアルキル基、カルボキシアミド基、−NH2基及び/又はNHR基により置換されており、その際、Rは、線状、分枝状若しくは環状のC1〜C20−アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル(n、iso)、ブチル(n、iso、sec)又はシクロヘキシル又はフェニルを表し、ここで、R'は、線状、分枝状若しくは環状のC1〜C20アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル(n、iso)、ブチル(n、iso、sec)又はシクロヘキシル又はフェニルを表す、
2.イソシアナトシラン;α又はγ位
3.α位及びγ位における第一級アミノシランのマイケル付加及びヒダントインを形成するための閉環によって得られた生成物(例えばUS5364955)
が適している。
Y−R1−Si(Me)n(OR2)3-n
[式中、Yは、−NCO、−NHR、−NH2又は−SHによって表され、
Rは、炭素原子1〜20個を有するアルキル基又はアリール基、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、n−プロピル基、ブチル基(n−、iso−、sec−)、シクロヘキシル、フェニル及びナフチルによって表され、
R1は、炭素原子1〜10個を有する二価の炭化水素単位、例えばエチレン、メチルエチレンによって表され、
Meは、メチルによって表され、
OR2は、互いに無関係に、アルコキシ基によって表され、ここで、R2は、炭素原子1〜5個を有するアルキル基、例えばメチル、エチル、イソプロピル、n−プロピル、n−ブチル、イソブチル、s−ブチルによって表され、かつ/又はOR2は、フェノキシ基、ナフチルオキシ基、フェノキシ基を表し、該基は、オルト位、メタ位及び/又はパラ位で、C1〜C20アルキル基、アルキルアリール基、アルコキシ基、フェニル基、置換されたフェニル基、チオアルキル基、ニトロ基、ハロゲン基、ニトリル基、カルボキシアルキル基、カルボキシアミド基、−NH2基及び/又はNHR基により置換されており、その際、Rは、線状、分枝状若しくは環状のC1〜C20−アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル(n−、iso−)、ブチル(n−、iso−、sec−)又はフェニルを表し、かつ
nは、1、2又は3によって表される]のシランである。
−[CH2CH2OCH2OCH2CH2Sx]n−
のポリマーをもたらし、ここで、"n"は、ポリマー中のモノマーの数を表し、かつ"x"は、モノマー中の連続するスルフィド結合の数(xは、同じ分子のモノマー中で変化してよい)を表す。次いで、このような高分子量ポリマーは、末端チオール基を有する短鎖ポリマーと反応させてよい(例えばNaSH及びNa2SO2との還元反応及び続く酸性化)。このようにして、液状の、橋かけされたポリスルフィドが終端のチオール末端基により得られ、それらは、特別な実施形態において1000〜8000の範囲の分子量を有する。液状のポリマーは、引き続き、例えば酸化鉛、二酸化マンガン、パラキノンジオキシム及び過酸化亜鉛といった酸化剤を用いたチオール末端基の酸化によってジスルフィド結合を形成することによって、エラストマーの固体へと硬化されることができる。本発明の範囲内で、ポリスルフィドを基礎とする流体系は、硬化によって固体に変えられることができる全てのポリスルフィドポリマーを包含する。特別な実施形態において、ポリスルフィドを基礎とする流体系は、液状のポリスルフィドポリマー少なくとも30〜90質量%、充填剤2〜50質量%、シクロヘキサンポリカルボン酸誘導体2〜10質量%、捕水剤1〜3質量%、及び接着促進剤、溶媒及び硬化剤といった更なる構成成分6〜15質量%を包含する。ポリスルフィドを基礎とする流体系の製造のための例は、US3,431,239(第3欄、第20行目〜第8欄、第45行目)に開示され、ここで、この方法は、参照をもって本出願に取り込まれる。ポルスルフィドを基礎とする流体系は、一成分系又は二成分系として用いられることができる。
(CH3)3−Si−S−(C2H4OCH2OC2H4Sx)n−C2H4OCH2OC2H4S−Si−(CH3)3
− 接着促進剤、例えばエポキシシラン、酸無水物シラン、シランと第一級アミノシランとの付加物、ウレイドシラン、アミノシラン、ジアミノシラン、及びモノマー又はオリゴマーとしてのそれらの類似体並びに尿素シラン;例えばDynasylan AMEO、Dynasylan AMMO、Dynasylan DAMO−T,Dynasylan 1146、Dynasylan 1189、Silquest A−Link 15、エポキシ樹脂、アルキルチタネート、チタンキレート、芳香族ポリイソシアネート、フェノール樹脂;例えば下記一般式のシラン:
R1、R2及びR3は、互いに無関係に、ハロゲン、アミン、水素、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルキル基、アリール基、アラルキルオキシ基、アルキルアリール基、アラルキル基、並びに
オレフィン基、ハロゲン化物、アミノ基、カルボニル基、エポキシ基及びグリシドキシ基、エステル基、ヒドロキシイミノ基、メルカプト基及びスルフィド基、イソシアナト基、酸無水物基、アクリルオキシ基、メタクリルオキシ基及びビニル基を有するアルキル基、並びに
オレフィン基、ハロゲン化物、アミノ基、カルボニル基、エポキシ基及びグリシドキシ基、エステル基、ヒドロキシイミノ基、メルカプト基及びスルフィド基、イソシアナト基、酸無水物基、アクリルオキシ基、メタクリルオキシ基及びビニル基を有するアリール基、並びに
オレフィン基、ハロゲン化物、アミノ基、カルボニル基、エポキシ基及びグリシドキシ基、エステル基、ヒドロキシイミノ基、メルカプト基及びスルフィド基、イソシアナト基、酸無水物基、アクリルオキシ基、メタクリルオキシ基及びビニル基を有するアルキルアリール基、並びに
オレフィン基、ハロゲン化物、アミノ基、カルボニル基、エポキシ基及びグリシドキシ基、エステル基、ヒドロキシイミノ基、メルカプト基及びスルフィド基、イソシアナト基、酸無水物基、アクリルオキシ基、メタクリルオキシ基及びビニル基を有するアラルキル基に相当し、かつ
R4は、アルキル及びアリールに相当する];
− 乾燥剤、例えばビニルエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、α−官能性シラン、例えばN−(シリルメチル)−O−メチル−カルバメート、殊にN−(メチルジメトキシシリルメチル)−O−メチル−カルバメート、(メタクリルオキシメチル)シラン、メトキシメチルシラン、N−フェニル−、N−シクロヘキシル−及びN−アルキルシラン、オルトギ酸エステル、酸化カルシウム又はモレキュラーシーブ;
− 触媒、例えば、ジブチルスズジラウレート及びジブチルスズジアセチルアセトネートといった有機スズ化合物の形の金属触媒、有機ビスマス化合物又はビスマス錯体;アミノ基含有化合物、例えば1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン及び2,2'−ジモルホリノジエチルエーテル、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン、N,N'−ジメチルピペラジン並びにアミノシラン。触媒金属として、さらに、チタン触媒、ビスマス触媒、亜鉛触媒及びリチウム触媒並びに金属カルボキシレートが考慮に入れられ、その際、種々の金属触媒の組合せ物も用いられることができる;
− 殊に熱、光及びUV線に対する安定剤として作用する光安定剤及び老化防止剤、例えば、ラジカル捕捉剤としての働きがあるフェノール性酸化防止剤、例えば2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、2,6−ジ−t−ブチルフェノール、2,4−ジメチル−6−t−ブチルフェノール、2,2'−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4'−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4'−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、5−テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン及び1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、及びアミンを基礎とする酸化防止剤(例えばフェニル−β−ナフチルアミン、α−ナフチルアミン、N,N'−ジ−s−ブチル−p−フェニレンジアミン、フェノチアジン及びN,N'−ジフェニル−p−フェニレンジアミン);
− 難燃剤、例えばAl(OH)3、ハンタイト、臭素化されたアルキル化合物及びアリール化合物、水酸化マグネシウム、ポリリン酸アンモニウム;
− 殺生剤、例えば除藻剤、殺菌剤、又は菌の生育を阻害する物質、例えばAg、Ag+、CH2Oを脱離させる化合物
− 充填剤、例えば、場合により脂肪酸若しくは脂肪酸混合物、例えばステアレートで被覆されている、粉砕炭酸カルシウム若しくは沈降炭酸カルシウム、殊に微細な被覆された炭酸カルシウム、カーボンブラック、殊に工業的に製造されたカーボンブラック、カオリン、酸化アルミニウム、シリカ、殊に熱分解法からの高分散シリカ、PVC粉末又は中空ビーズ。有利な充填剤は、カーボンブラック、炭酸カルシウム、例えば沈降チョーク若しくは天然チョークの種類、例えばOmya社のOmya 5 GU、Omyalite 95 T、Omyacarb 90 T、Omyacarb 2 T−AV(R)、Specialty Minerals Inc.社のUltra P−Flex(R)、Solvay社のSocal(R)U1S2、Socal(R)312、Winnofil(R)、白石工業株式会社の白艶華(R)、熱分解法からの高分散シリカ並びにこれらの充填剤からの組合せ物。同様に適しているのは、鉱物、例えばケイ質土、タルク、硬石膏、半水化物又は二水化物の形の硫酸カルシウム(石膏)、石英粉、シリカゲル、沈降硫酸バリウム若しくは天然硫酸バリウム、二酸化チタン、ゼオライト、リューサイト、カリ長石、黒雲母、ソロケイ酸塩、サイクロケイ酸塩、イノケイ酸塩、フィロケイ酸塩及びテクトケイ酸塩の群、難溶性硫酸塩の群、例えば石膏、硬石膏又は重晶石(BaSO4)、並びにカルシウム鉱物、例えば方解石、粉末状金属(例えばアルミニウム、亜鉛及び鉄)及び硫酸バリウムである;
− 増粘剤といったレオロジー改質剤、例えば尿素誘導体並びにモノアミン、例えばn−ブチルアミン、メトキシブチルアミン及びポリアミドワックス、ベントナイト、シリコーン、ポリシロキサン、水素化ヒマシ油、金属セッケン、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸バリウム、沈降シリカ、熱分解シリカ並びにオキシ−1,2−エタンジイル−α−ヒドロ−Ω−ヒドロキシ−ノニル−フェノキシグリシジルエーテルオリゴマーを有するポリ(オキシ−1,2−エタンジイル)−α−ヒドロ−Ω−ヒドロキシポリマー及び5−イソシアナト−1−(イソシアナトメチル)−1,3,3−トリメチルシクロヘキサン又はヒドロキシエチルセルロース又はポリアクリル酸のポリマー及びコポリマー;
− 表面活性物質、例えば湿潤剤、レベリング剤、脱気剤、消泡剤及び分散剤;
− 例えば、炭素、ポリエチレン又はポリプロピレン、SiO2、セルロースからの繊維;
− 顔料、例えば二酸化チタン;
− 溶媒、例えば水、ソルベントナフサ、メチルエステル、芳香族炭化水素、例えばポリアルキルベンゼン、トルエン及びキシレン、エステル、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アリル及び酢酸セルロースを基礎とする溶媒、並びにケトン、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びジイソブチルケトンを基礎とする溶媒、並びにアセトン及び前述の溶媒の少なくとも2つからの混合物;
− 可塑剤、例えばジ−2−エチルヘキシルテレフタレート、ジイソノニルシクロヘキサン−1,2−ジカルボキシレート、グリセリン三酢酸エステル(トリアセチン)、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジイソブチレート、フタル酸エステル、例えばジオクチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート(DEHP)、ジイソオクチルフタレート(DIOP)、ジイソノニルフタレート(DINP)、ジ−n−ノニルフタレート、n−ノニル−n−ウンデシルフタレート、ジ−n−ウンデシルフタレート、ジウンデシルフタレート(DUP)、ジイソデシルフタレート(DIDP)、ジ−2−プロピルヘプチルフタレート(DPHP)、C6〜C10の直鎖基を有するフタレート、ジトリデシルフタレート(DTDP)、ウンデシルドデシルフタレート、ジ(2−プロピルヘプチル)フタレート、ノニルウンデシルフタレート、テキサノールベンジルフタレート、ポリエステルフタレート、ジアリルフタレート、n−ブチルフタリル−n−ブチルグリコレート、ジカプリルフタレート、ブチルシクロヘキシルフタレート(BCP)、ジシクロヘキシルフタレート又はブチルオクチルフタレート、ジオクチルアジペート(DOA)、ジ−2−エチルヘキシルアジペート、ジイソノニルアジペート(DITA)、ジブトキシエチルアジペート、ジブトキシエトキシアジペート、ジ(n−オクチル)アジペート、ポリエステルアジペート、ポリグリコールアジペート、トリオクチルトリメリテート、トリ−2−エチルヘキシルトリメリテート(TOTM)、トリイソオクチルトリメリテート(TIOTM)、トリイソノニルトリメリテート、トリイソデシルトリメリテート、トリ−n−ヘキシルトリメリテート、ジオクチルアゼレート(DOZ)、ジ−2−エチルヘキシルグルタレート、ジ−2−エチルヘキシルセバケート、ジブチルセバケート、ジブトキシエチルセバケート、トリエチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、トリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリ−n−ヘキシルシトレート、n−ブチル−トリ−n−ヘキシルシトレート、イソデシルベンゾエート、ジエチレングリコールジベンゾエート、ジプロピレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジベンゾエート、1,4−シクロヘキサンジメタノールジベンゾエート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジベンゾエート、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオールジベンゾエート、C10〜C21のアルカン酸フェノールエステル又はアルキルスルホン酸フェノールエステル、酢酸と硬化ヒマシ油との反応生成物、ペンタエリスリトールテトラベンゾエート、グリセロールトリベンゾエート、ポリプロピレングリコールジベンゾエート、トリアリールホスフェート、アジピン酸のポリマー、グリコールを有するフタレート、アジペート及び/又はセバケート、ブチルベンジルフタレート、アルキルベンジルフタレート、C7〜C9ブチルフタレート、ジエチレングリコールジベンゾエート、ジプロピレングリコールジベンゾエート、2−エチルヘキシルベンゾエート、C9ベンゾエート、C10ベンゾエート、テキサノールベンゾエート、エチレングリコールジベンゾエート、プロピレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジベンゾエート、ジヘプチルフタレート(DHP)、ジヘキシルフタレート、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート及びジイソブチルフタレート。可塑剤として、脂肪族若しくは芳香族のジカルボン酸若しくはトリカルボン酸と2−プロピルヘプタノールを含有するC10アルコール成分又は2−プロピルヘプタノールとC10アルコールの2−プロピル−4−メチルヘキサノール、2−プロピル−5−メチルヘキサノール、2−イソプロピルヘプタノール、2−イソプロピル−4−メチルヘキサノール、2−イソプロピル−5−メチルヘキサノール及び/又は2−プロピル−4,4−ジメチルペンタノールとからのC10アルコール混合物が用いられることができ、その際、脂肪族若しくは芳香族のジカルボン酸若しくはトリカルボン酸は、クエン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸及びトリメリット酸から成る群から選択されている;
並びに、流体系で用いられる更なる物質。
Desmoseal M 280の3分の1、可塑剤、Omyacarb 5 GU、及び添加剤Ti(トルエンスルホニルイソシアネート)の3分の2を装入し、かつ真空中で25℃の温度にて互いに混合し、その後、チキソトロープ剤を導入する。引き続き、Desmoseal M 280の3分の2を添加する。最後の工程で、Dynasylan GLYMO、添加剤Tiの3分の1及びLupranat N 106 DMDEEを加えて混合する。このシーラントを、アルミニウムカートリッジ又はプラスチックカートリッジに詰める。
Palatinol 10−P:BASF SEのジ−2−プロピルヘプチルフタレート
Omyacarb 5 GU:Omya Inc.の粉砕チョーク
添加剤Ti:OMG Borchers GmbHの一官能性イソシアネート
Dynasylan GLYMO:Evonik Degussa GmbHの3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン
Lupranat N 106 DMDEE:BASF SEの2,2'−ジモルホリニルジエチルエーテル
チキソトロープ剤を、Isotherm AGの高圧噴霧装置(計量供給装置PSM700;ミキシングヘッド:RSP400)によって調製し、その際、次の成分を、重量計量的に1:1の比でミキシングヘッドに導入し、かつシーラントを含有する混合容器に撹拌下で直接噴霧して導入する。
尿素チキソトロープ剤の調製のために、Isotherm AGの高圧噴霧装置(計量供給装置PSM700;ミキシングヘッド:RSP400)によって、次の成分を、重量計量的に1:1の比で3本ロールミルに噴霧施与する。
尿素チキソトロープ剤の調製のために、2つの成分を1:1の比で計量供給ポンプによって遊星型ミキサーに一緒に加える。遊星歯車装置は50rpmの一定の速度で回転し、ディソルバーディスクは500rpmで回転し、かつパドルミキサー(Balkenmischer)は150rpmで回転する。
Claims (15)
- 尿素誘導体を基礎とするチキソトロープ剤の製造法において、
α)少なくとも1種のアミンを含有する成分及び
β)少なくとも1種のイソシアネートを含有する成分
を、別々に混合装置に供給し、かつ互いに混合し、その際、この反応混合物を、噴霧又は噴射によって該混合装置から放出することを特徴とする方法。 - 前記混合装置が噴霧ヘッドであることを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 前記成分α)及びβ)を、少なくとも40〜200バールの圧力で前記混合装置に導入することを特徴とする、請求項1又は2記載の方法。
- 前記イソシアネートを含有する成分のイソシアネート基に対する前記アミンを含有する成分のアミン基のモル比が5:1〜1:5であることを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- 前記成分α)のアミンが、炭素原子1〜22個を有するN−n−アルキルアミン及び/又はN−n−アルケニルアミン及び/又は第二級のN−アルキルアミン及び/又はポリエーテルアミンであることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- 前記成分β)のイソシアネートが、ヘキサメチレンジイソシアネート−1,6(HDI)、1−イソシアナト−3,3,5−トリメチル−5−イソシアナトメチルシクロヘキサン(IPDI)、2,4−及び/若しくは2,6−トルイレンジイソシアネート(TDI)及び/又は4,4'−、2,4'−及び/若しくは2,2'−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、m−キシレンジイソシアネート(MXDI)、m−若しくはp−テトラメチルキシレンジイソシアネート(m−TMXDI、p−TMXDI)、Desmodur 3600(R)(Bayer AGの製品、HDIのイソシアヌレートを含有するポリイソシアネート、NCO含有率:23.4質量%、23℃で1200mPa・sの粘度)、4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(H12MDI)、ナフタレン−1,5−ジイソシアネート、シクロヘキサン−1,4−ジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート(H6XDI)、1−メチル−2,4−ジイソシアナトシクロヘキサン、テトラメトキシブタン−1,4−ジイソシアネート、ブタン−1,4−ジイソシアネート、1,6−ジイソシアナト−2,2,4−トリメチルヘキサン、1,6−ジイソシアナト−2,4,4−トリメチルヘキサン、1−イソシアナト−1−メチル−4(3)−イソシアナトメチルシクロヘキサン(IMCI)並びに1,12−ドデカンジイソシアネート(C12DI)又はそれらの混合物であることを特徴とする、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- α)少なくとも1種のアミンを含有するものと、少なくとも1種のイソシアネートを含有するものとからの前記混合物を、前記混合装置の通過後に、噴霧施与、噴射施与、噴射導入又は噴霧導入によって流体系に導入することを特徴とする、請求項1から6までのいずれか1項記載の使用。
- 前記流体系との接触前の、噴霧施与又は噴射施与に際してのα)アミンとβ)イソシアネートとの反応率が少なくとも75%であり、場合により過少量で用いられる成分に関して少なくとも75%であることを特徴とする、請求項7記載の使用。
- 前記チキソトロープ剤を、前記流体系に、前記流体系の全質量を基準として0.05〜40質量%の量で導入することを特徴とする、請求項7又は8記載の使用。
- 前記方法を、連続的に又は不連続的に実施することを特徴とする、請求項7から9までのいずれか1項記載の使用。
- 請求項7から10までのいずれか1項に従って製造可能な流体系。
- 接着剤又はシーラントとしての、請求項11記載の流体系の使用。
- α)少なくとも1種のアミンを含有するものと、β)少なくとも1種のイソシアネートを含有するものとからの前記混合物を、前記混合装置の通過後に、装置中で微粉砕することを特徴とする、請求項1から6までのいずれか1項記載の使用。
- 微粉砕された生成物を流体系に導入することを特徴とする、請求項13記載の使用。
- 接着剤又はシーラント、被覆材料又はコーティングとしての、請求項14記載の流体系の使用。
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