KR20190050397A

KR20190050397A - 연마광택기 및 이의 제조방법

Info

Publication number: KR20190050397A
Application number: KR1020170145757A
Authority: KR
Inventors: 조상진
Original assignee: 한국원자력연구원
Priority date: 2017-11-03
Filing date: 2017-11-03
Publication date: 2019-05-13
Also published as: KR102005565B1

Abstract

본 발명은 복수의 돌기 패턴이 형성된 기판층; 및 상기 돌기 패턴 상부에 코팅된 금속 산화물 패턴층을 포함하고, 상기 금속 산화물 패턴층의 모스 경도가 8.0 이상인 것을 특징으로 하는 연마광택기 및 이의 제조방법에 관한 것이다.

Description

연마광택기 및 이의 제조방법{GRINDING AND POLISHING APPARATUS AND MANUFACTURING MEHTOD FOR THE SAME}

본 발명은 손발톱 뿐만 아니라, 금속판, 유리판 등 다양한 물질의 연마 및 광택을 수행하기 위한 연마광택기 및 이의 제조방법에 관한 것이다.

현대인들의 외모 관리 수단 중 하나로 손발톱에 메니큐어를 바르는 경우가 많다. 그러나, 메니큐어에는 많은 화학약품들이 포함되어 있는데, 이들 화학약품에 대한 충분한 안전검증 없이 시중에 판매되거나 유통되는 경우가 종종 있다. 손발톱에 코팅된 메니큐어 성분은 손발톱 안으로 흡수되어 인체에 영향을 미친다.

메니큐어에 대한 대안으로 손발톱을 연마하고 광택을 내기 위한 다양한 방법이 있다.

일 예로, 일면에 샌드페이퍼가 부착된 손발톱 미용기구를 이용하여, 손발톱에 형성된 각질과 울퉁불퉁한 표면을 연마한 다음, 광택제를 이용하여 손발톱 표면에 다시 광택을 내는 방법이 있다. 이 경우에는 손발톱 미용기구 외에 광택제를 추가로 사용해야 하는 번거로움이 있을 뿐만 아니라, 장시간 사용에 의해 샌드페이퍼가 무뎌지게 되어 연마 기능이 저하되는 문제점이 있다.

다른 예로, 복수의 돌기 패턴이 형성된 유리 재질의 기판층을 이용하여, 손발톱의 연마 및 광택을 내는 방법이 있다. 구체적으로, 1) 유리 재질의 기판층 상부에 금속층(Si, Cr, Mo 등 재질)을 코팅하는 단계; 2) 상기 금속층이 코팅된 기판층 상부에 감광성 필름층을 코팅한 후, 노광 및 현상에 의하여 상기 감광성 필름층의 일부를 제거하여 감광성 필름 패턴층을 형성하는 단계; 3) 상기 감광성 필름 패턴층 사이로 노출된 금속층을 에칭하여 금속 패턴층을 형성한 후, 상기 감광성 필름 패턴층을 제거하는 단계; 4) 상기 금속 패턴층 사이로 노출된 기판층을 에칭하는 단계; 및 5) 상기 금속 패턴층을 제거하는 단계를 통해 수행된다. 이 경우에는 유리 재질의 기판층이 비교적 낮은 강도 및 경도를 가지는바, 연마 및 광택 기능이 저하되는 문제점이 있을 뿐만 아니라, 일부 제거되지 않은 금속 패턴층이 인체에 유해한 영향을 미칠 가능성이 있다.

한국등록특허공보 제10-1735794호 (2017. 05. 08.)

본 발명은 손발톱 뿐만 아니라, 금속판, 유리판 등 다양한 물질의 연마 및 광택을 수행하고자, 복수의 돌기 패턴이 형성된 기판층; 및 상기 돌기 패턴 상부에 코팅된 금속 산화물 패턴층을 포함하고, 상기 금속 산화물 패턴층은 모스 경도가 8.0 이상인 것을 특징으로 하는 연마광택기 등을 제공하고자 한다.

그러나, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 과제에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

본 발명은 (a) 기판층 상부에 금속층을 코팅하는 단계; (b) 상기 금속층이 코팅된 기판층 상부에 감광성 필름층을 코팅한 후, 노광 및 현상에 의하여 상기 감광성 필름층의 일부를 제거하여 감광성 필름 패턴층을 형성하는 단계; (c) 상기 감광성 필름 패턴층 사이로 노출된 금속층을 에칭하여 금속 패턴층을 형성한 후, 상기 감광성 필름 패턴층을 제거하는 단계; (d) 상기 금속 패턴층 사이로 노출된 기판층을 에칭하는 단계; 및 (e) 상기 금속 패턴층 상에 열처리를 수행하여 금속 산화물 패턴층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 금속 산화물 패턴층의 모스 경도가 8.0 이상인 것을 특징으로 하는 연마광택기의 제조방법을 제공한다.

본 발명의 일 구현예로, 복수의 돌기 패턴이 형성된 기판층; 및 상기 돌기 패턴 상부에 코팅된 금속 산화물 패턴층을 포함하고, 상기 금속 산화물 패턴층의 모스 경도가 8.0 이상인 것을 특징으로 하는 연마광택기를 제공한다.

본 발명에 따른 연마광택기는 복수의 돌기 패턴이 형성된 기판층; 및 상기 돌기 패턴 상부에 코팅된 금속 산화물 패턴층을 포함하고, 상기 금속 산화물 패턴층은 육방정계(六方晶系)의 능면체정족(菱面體晶族)의 결정 구조로서, 모스 경도가 8.0 이상인 것을 특징으로 하는데, 상기 금속 산화물 패턴층은 상기 기판층에 형성된 복수의 돌기 패턴 상부에 코팅된 금속 패턴층 상에 열처리를 수행함으로써 형성되는 것으로, 상기 금속 산화물 패턴층의 높은 강도 및 경도로 인하여, 손발톱 뿐만 아니라, 금속판, 유리판 등 다양한 물질의 우수한 연마 및 광택을 수행할 수 있다. 또한, 상기 열처리를 통해 상기 기판층 역시 화학적으로 강화시킬 수 있으므로, 이의 강도 및 경도를 더욱 향상시킬 수 있다.

한편, 상기 금속 산화물 패턴층은 상기 기판층에 형성된 복수의 돌기 패턴 상부에 별도의 유해한 접착층 형성 없이, 바로 코팅된 것을 특징으로 하는바, 상기 기판층과의 결합력이 우수할 뿐만 아니라, 인체에 무해한 이점을 가진다.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 연마광택기의 제조방법을 도시한 그림이다.

본 발명자들은 손발톱 등의 연마 및 광택을 수행하기 위한 연마광택기의 성능을 향상시키기 위한 방법에 대해 연구를 하던 중, 기판층에 형성된 복수의 돌기 패턴 상부에 코팅된 금속 패턴층 상에 열처리를 수행함으로써, 강도 및 경도를 향상시킬 수 있음을 확인하고, 본 발명을 완성하였다.

본 발명에 따른 연마광택기는 손발톱 뿐만 아니라, 금속판, 유리판 등 다양한 물질, 특히, 모스 경도가 약 8.0 미만인 물질의 연마(grinding) 및 광택(polishing)을 수행하기 위한 용도로 사용될 수 있다.

본 명세서 내 “연마광택기”라 함은 연마(grinding) 및 광택(polishing)을 수행하기 위한 장치를 의미하는 것으로, 구체적으로, 연마는 고체의 표면을 이용하여 다른 고체의 표면을 문질러서 평활하게 하는 것을 의미하는 것이고, 광택은 매끈하게 광을 내는 것을 의미하는 것이다.

본 명세서 내 “모스 경도(Mohs hardness)”라 함은 물질의 굳고 무른 정도를 말하는 것으로, 서로 긁어서 자국이 생기는 쪽이 무른 것이며 일종의 스크래치 경도계로, 측정에는 모스 경도계를 사용한다. 구체적으로, 모스 경도는 1~10으로 분류하며, 1은 활석, 2는 석고, 3은 방해석, 4는 형석, 5는 인회석, 6은 장석, 7은 수정, 8은 황옥, 9는 강옥, 10은 다이아몬드이다.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다.

이하에서 기재의 “상부(또는 하부)”에 임의의 구성이 형성된다는 것은, 임의의 구성이 상기 기재의 상부(또는 하부)에 접하여 형성되는 것을 의미할 뿐만 아니라, 상기 기재와 기재 상부(또는 하부)에 형성된 임의의 구성 사이에 다른 구성을 포함하지 않는 것으로 한정하는 것은 아니다.

이하, 본 발명을 상세히 설명한다.

연마광택기의 제조방법

종래와 달리, 본 발명에 따르면, 금속 패턴층을 제거하는 대신, 금속 패턴층 상에 열처리를 수행함으로써 금속 패턴층을 산화시켜 높은 강도 및 경도를 가진 금속 산화물 패턴층을 형성한 것을 특징으로 한다. 뿐만 아니라, 상기 열처리를 통해 상기 기판층 역시 화학적으로 강화시킬 수 있으므로, 이의 강도 및 경도를 더욱 향상시킬 수 있다.

도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 연마광택기의 제조방법은 하기와 같다: 기판층(10)을 준비한 후, 상기 기판층(10) 상부에 금속층(20)을 코팅한 다음, 상기 금속층(20)이 코팅된 기판층(20) 상부에 감광성 필름층(30)을 코팅한다. 이후, 상기 감광성 필름층(30) 상부에 일정 간격으로 이격된 복수의 패턴층(40)을 접합한 후, 노광 및 현상에 의하여 패턴층(40)과 패턴층(40) 사이로 노출된 상기 감광성 필름층(30')의 일부를 제거하여 감광성 필름 패턴층(30”)을 형성한다. 이후, 상기 감광성 필름 패턴층(30”) 사이로 노출된 금속층(20)을 에칭하여 금속 패턴층(20')을 형성한 후, 상기 감광성 필름 패턴층(30”)을 제거한 다음, 상기 금속 패턴층(20') 사이로 노출된 기판층(10)을 에칭한다. 이후, 상기 금속 패턴층(20') 상에 열처리를 수행하여 금속 산화물 패턴층(20”)을 형성한다. 도면에는 도시되지 않았으나, 이후, 절단 가공을 통해 셀 단위로 형성한다.

먼저, 본 발명에 따른 연마광택기의 제조방법은 기판층(10) 상부에 금속층(20)을 코팅하는 단계[(a) 단계]; 상기 금속층(20)이 코팅된 기판층(20) 상부에 감광성 필름층(30)을 코팅한 후, 노광 및 현상에 의하여 상기 감광성 필름층(30')의 일부를 제거하여 감광성 필름 패턴층(30”)을 형성하는 단계[(b) 단계]; 상기 감광성 필름 패턴층(30”) 사이로 노출된 금속층(20)을 에칭하여 금속 패턴층(20')을 형성한 후, 상기 감광성 필름 패턴층(30”)을 제거하는 단계[(c) 단계]; 및 상기 금속 패턴층(20') 사이로 노출된 기판층(10)을 에칭하는 단계[(d) 단계]를 포함한다.

상기 (a) 단계에서 기판층(10)은 유리 재질일 수 있는데, 이때, 유리 재질이라 함은 통상의 유리 재질 또는 불순물 처리를 통해 강화된 유리 재질을 의미할 수 있다. 이때, 불순물 처리를 통해 강화된 유리 재질로 통상의 유리 재질 내 Na을 이보다 원자 지름이 큰 K로 대체함으로써, 응력을 증가시킨 유리 재질을 사용할 수 있다.

또한, 상기 (a) 단계에서 금속층(20)은 기판층과의 접착력이 우수한 재질로서, 알루미늄 재질, 크롬 재질 및 이들 재질의 조합 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있고, 알루미늄 및 크롬 복합 재질을 포함하는 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 보다 구체적으로, 상기 금속층(20)이 알루미늄 및 크롬 복합 재질을 포함시키기 위해서는, 상기 금속층(20)은 상기 기판층(10)을 기준으로, 알루미늄 재질의 제1 금속층 및 크롬 재질의 제2 금속층을 순차적으로 포함할 수 있다. 이때, 제1 금속층 및 제2 금속층의 두께비는 3:1 내지 5:1인 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다.

또한, 상기 (a) 단계에서 코팅은 전기도금, 화학기상증착(CVD), 물리증착(PVD) 등 다양한 방법을 통해 수행될 수 있다. 이로써, 상기 금속층(20)은 상기 기판층(10) 상부에 별도의 유해한 접착층 형성 없이, 바로 코팅된 것을 특징으로 하는바, 상기 기판층(10)과의 결합력이 우수할 뿐만 아니라, 인체에 무해한 이점을 가진다. 이때, 상기 코팅 두께는 50 nm 내지 500 nm일 수 있고, 100 nm 내지 500 nm인 것이 연마 및 광택에 바람직하나, 이에 한정되지 않는다.

상기 (c) 단계에서 금속층(20)의 에칭 또는 상기 (d) 단계에서 기판층(10)의 에칭은 산 처리 등 다양한 방법을 통해 수행될 수 있다. 이때, 상기 금속층(20)의 에칭은 황산과 같은 산 처리를 통해, 금속층(20)의 두께 만큼 수행되는 것이 바람직하고, 상기 기판층(10)의 에칭은 불산과 같은 산 처리를 통해, 10 ㎛ 내지 20 ㎛ 깊이 만큼 수행되는 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다.

다음으로, 본 발명에 따른 연마광택기의 제조방법은 상기 금속 패턴층(20') 상에 열처리를 수행하여 금속 산화물 패턴층(20”)을 형성하는 단계[(e) 단계]를 포함하는데, 상기 금속 산화물 패턴층(20”)의 모스 경도가 8.0 이상인 것을 특징으로 한다.

상기 (e) 단계에서 열처리는 상기 금속 패턴층(20')을 산화시키면서 동시에, 상기 기판층(10')을 화학적으로 강화시키기 위한 필수적인 단계에 해당한다. 구체적으로, 상기 열처리를 통해, 상기 금속 패턴층(20')은 산화되어 금속 산화물 패턴층(20”)을 형성할 수 있는데, 이때, 상기 금속 산화물 패턴층(20”)은 육방정계(六方晶系)의 능면체정족(菱面體晶族)의 결정 구조로서, 모스 경도가 8.0 이상인 것을 특징으로 하는바, 높은 강도 및 경도로 인하여, 손발톱 뿐만 아니라, 금속판, 유리판 등 다양한 물질의 우수한 연마 및 광택을 수행할 수 있다. 또한, 상기 열처리를 통해, 상기 기판층(10”)의 모스 경도는 향상될 수 있는데, 이때, 상기 기판층(10”)의 모스 경도는 0.3 이상, 바람직하게는 0.5 내지 1.0 향상되는 것이 바람직하나, 이에 한정되지 않는다.

구체적으로, 상기 열처리는 350℃ 내지 500℃에서 수행되는 것이 바람직하고, 400℃ 내지 500℃에서 수행되는 것이 더욱 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 이때, 열처리 온도가 너무 낮은 경우에는 금속 패턴층(20')의 산화가 제대로 이루어지지 아니하여 육방정계(六方晶系)의 능면체정족(菱面體晶族)의 결정 구조를 안정적으로 형성하지 못하는 문제점이 있고, 열처리 온도가 너무 높은 경우에는 상기 기판층(10”)의 재질이 녹는점에 도달하게 되는 문제점이 있다.

연마광택기

본 발명은 복수의 돌기 패턴이 형성된 기판층(10”); 및 상기 돌기 패턴 상부에 코팅된 금속 산화물 패턴층(20”)을 포함하고, 상기 금속 산화물 패턴층(20”)의 모스 경도가 8.0 이상인 것을 특징으로 하는 연마광택기를 제공한다.

먼저, 본 발명에 따른 연마광택기는 복수의 돌기 패턴이 형성된 기판층(10”)을 포함한다.

상기 기판층(10”)은 다양한 물질의 연마 및 광택을 수행하기 위해, 복수의 돌기 패턴이 형성된 것을 특징으로 한다. 이때, 돌기 패턴은 환형기둥, 다각기둥 등 다양한 형상을 가질 수 있다.

상기 기판층(10”)은 열처리를 통해 화학적으로 강화된 것으로, 상기 기판층(10”)의 모스 경도는 열처리를 통해 향상된 것일 수 있다. 이때, 상기 기판층(10”)의 모스 경도는 6.0 내지 6.5 인 것이 바람직하고, 6.2 내지 6.5 인 것이 더욱 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 이로써, 상기 기판층(10”)의 강도 및 경도를 더욱 향상시킬 수 있다.

구체적으로, 상기 기판층(10")은 열처리를 통해 화학적으로 강화된 유리 재질일 수 있는데, 이때, 유리 재질이라 함은 통상의 유리 재질 또는 불순물 처리를 통해 강화된 유리 재질을 의미할 수 있다. 이때, 불순물 처리를 통해 강화된 유리 재질로 통상의 유리 재질 내 Na을 이보다 원자 지름이 큰 K로 대체함으로써, 응력을 증가시킨 유리 재질을 사용할 수 있는데, 이는 열처리를 통해, 기판층(10")의 표면에서 내부로 갈수록 K의 함량이 낮은 농도 구배를 가질 수 있다. 특히, 상기 기판층(10")의 표면에서 내부로 약 20 ㎛ 이내 깊이에서, K의 함량이 Na의 함량에 비해 클 수 있다.

다음으로, 본 발명에 따른 연마광택기는 금속 산화물 패턴층(20”)을 포함하고, 상기 금속 산화물 패턴층(20”)은 상기 기판층에 형성된 복수의 돌기 패턴의 상부에 코팅된 것이다. 이때, 상기 금속 산화물 패턴층(20”)의 모스 경도가 8.0 이상인 것을 특징으로 한다.

상기 금속 산화물 패턴층(20”)은 상기 기판층에 형성된 복수의 돌기 패턴의 상부에 코팅된 것으로, 전기도금, 화학기상증착(CVD), 물리증착(PVD) 등을 이용하여 증착된 것일 수 있다. 즉, 상기 금속 산화물 패턴층(20”)은 상기 기판층(10”)에 형성된 복수의 돌기 패턴의 상부에 별도의 유해한 접착층 형성 없이, 바로 코팅된 것을 특징으로 하는바, 상기 기판층(10”)과의 결합력이 우수할 뿐만 아니라, 인체에 무해한 이점을 가진다. 이때, 상기 금속 산화물 패턴층(20”)의 두께는 50 nm 내지 500 nm일 수 있고, 100 nm 내지 500 nm인 것이 연마 및 광택에 바람직하나, 이에 한정되지 않는다.

또한, 상기 금속 산화물 패턴층(20”)은 열처리를 통해 금속 패턴층(20')이 산화된 것으로, 상기 금속 산화물 패턴층(20”)은 육방정계(六方晶系)의 능면체정족(菱面體晶族)의 결정 구조로서, 높은 강도 및 경도를 가지는 것을 특징으로 한다. 이때, 상기 금속 산화물 패턴층(20”)의 모스 경도가 8.5 이상인 것이 바람직하고, 금속 산화물 패턴층(20”)의 모스 경도가 9.0 이상인 것이 더욱 바람직하나, 이에 한정되지 않는다.

구체적으로, 상기 금속 산화물 패턴층(20")은 알루미늄 산화물, 크롬 산화물 재질 및 이들 재질의 조합 중 하나 이상을 포함할 수 있고, 알루미늄 산화물 및 크롬 산화물 복합 재질을 포함하는 것이 강도 및 경도 향상 측면에서 바람직하나, 이에 한정되지 않는다. 한편, 상기 금속 산화물 패턴층(20”)에는 일부 산화되지 아니한, 크롬 재질 및 이들 재질의 조합을 불순물로 포함할 수 있다.

따라서, 본 발명에 따른 연마광택기는 복수의 돌기 패턴이 형성된 기판층(10”); 및 상기 돌기 패턴 상부에 코팅된 금속 산화물 패턴층(20”)을 포함하고, 상기 금속 산화물 패턴층(20”)은 육방정계(六方晶系)의 능면체정족(菱面體晶族)의 결정 구조로서, 모스 경도가 8.0 이상인 것을 특징으로 하는데, 상기 금속 산화물 패턴층(20”)은 상기 기판층(10”)에 형성된 복수의 돌기 패턴 상부에 코팅된 금속 패턴층(20') 상에 열처리를 수행함으로써 형성되는 것으로, 상기 금속 산화물 패턴층(20”)의 높은 강도 및 경도로 인하여, 손발톱 뿐만 아니라, 금속판, 유리판 등 다양한 물질의 우수한 연마 및 광택을 수행할 수 있다. 또한, 상기 열처리를 통해 상기 기판층(10”) 역시 화학적으로 강화시킬 수 있으므로, 이의 강도 및 경도를 더욱 향상시킬 수 있다.

한편, 상기 금속 산화물 패턴층(20”)은 상기 기판층(10”)에 형성된 복수의 돌기 패턴 상부에 별도의 유해한 접착층 형성 없이, 바로 코팅된 것을 특징으로 하는바, 상기 기판층(10”)과의 결합력이 우수할 뿐만 아니라, 인체에 무해한 이점을 가진다.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 하기 실시예에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.

[ 실시예 ]

실시예 1

유리 재질의 기판층(모스 경도 = 약 6.0)(10) 상부에 물리적 기상 증착(PVD) 방법을 이용하여 약 100 ~ 150 nm 두께의 크롬 재질의 금속층(20)을 증착하였다. 금속층(20)이 증착된 기판층(10) 상부에 DFR 감광성 필름층(30)을 코팅하고, 그 상부에 일정 간격으로 이격된 복수의 사각 형상(크기 = 300 mm X 500mm)으로 이루어진 패턴층(40)을 접합한 후, 노광 및 현상에 의하여 패턴층(40)과 패턴층(40) 사이로 노출된 DFR 감광성 필름층(30')의 일부를 제거하여 DFR 감광성 필름 패턴층(30")을 형성하였다. 황산을 처리하여 DFR 감광성 필름 패턴층(30") 사이로 노출된 금속층(20)을 에칭하여 금속 패턴층(20')을 형성한 후, DFR 감광성 필름 패턴층(30")을 제거하였다. 이후, 불산을 이용하여 금속 패턴층(20') 사이로 노출된 기판층(10)을 약 15 ㎛ 이상 깊이 만큼 에칭하였다.

그 다음, 금속 패턴층(20') 상에 약 400 ℃에서 10시간 열처리를 수행하여 산화 크롬(Cr₂O₃) 재질의 금속 산화물 패턴층(20")을 형성한후 절단하여 연마광택기를 최종 제조하였다. 이때, 모스 경도를 측정한 결과, 금속 산화물 패턴층(20")의 모스 경도는 약 9.0이상이고, 열처리 후 기판층(10")의 모스 경도는 약 6.5인 것으로 확인된다.

실시예 2

물리적 기상 증착(PVD) 방법을 이용하여 약 80 nm 두께의 알루미늄 재질의 제1 금속층 및 약 20 nm 두께의 크롬 재질의 제2 금속층이 순차적으로 구성된 금속층(20)을 2중으로 증착시킨 후, 금속 패턴층(20')을 형성한 다음, 금속 패턴층(20') 상에 약 400 ℃에서 10시간 열처리를 수행하여 산화 알루미늄(Al₂O₃) 및 산화 크롬(Cr₂O₃) 복합 재질의 금속 산화물 패턴층(20")을 형성한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하여 연마광택기를 최종 제조하였다. 이때, 모스 경도를 측정한 결과, 금속 산화물 패턴층(20")의 모스 경도는 약 9.0이고, 열처리 후 기판층(10")의 모스 경도는 약 6.5인 것으로 확인된다.

비교예 1

유리 재질의 기판층(모스 경도 = 약 6.0) 상부에 물리적 기상 증착(PVD) 방법을 약 200 nm 두께의 크롬 재질의 금속층을 증착하였다. 금속층이 증착된 기판층 상부에 DFR 감광성 필름층을 코팅하고, 그 상부에 일정 간격으로 이격된 복수의 사각 형상(크기 = (300)X(500mm))으로 이루어진 패턴층을 접합한 후, 노광 및 현상에 의하여 패턴층과 패턴층 사이로 노출된 DFR 감광성 필름층의 일부를 제거하여 DFR 감광성 필름 패턴층을 형성하였다. 황산을 처리하여 DFR 감광성 필름 패턴층 사이로 노출된 금속층을 에칭하여 금속 패턴층을 형성한 후, DFR 감광성 필름 패턴층을 제거하였다. 이후, 불산을 이용하여 금속 패턴층 사이로 노출된 기판층을 약 15 ㎛ 이상 깊이 만큼 에칭하였다. 그 다음, 금속 패턴층을 모두 제거하여 연마광택기를 최종 제조하였다. 이때, 모스 경도를 측정한 결과, 기판층의 모스 경도는 약 6.0인 것으로 확인된다.

실시예 1~3 및 비교예 1에서 최종 제조한 연마광택기를 이용하여, 손톱의 연마 정도 및 광택 유무를 평가한 결과는 하기 표 1에 나타내었다.

	연마 정도	광택 정도
실시예 1	우수	우수
실시예 2	우수	우수
비교예 1	나쁨	보통

상기 표 1에 나타난 바와 같이, 실시예 1~3의 경우, 금속 패턴층(20')을 형성한 다음, 금속 패턴층(20') 상에 열처리를 수행하여 모스 경도가 약 8.0 이상으로 상대적으로 높은 금속 산화물 패턴층(20”)을 형성하였는바, 이는 강도 및 경도가 모두 높아, 손톱의 연마 정도가 우수할 뿐만 아니라, 쉽게 광택을 낼 수 있는 것으로 확인된다.

반면, 비교예 1에서 기판층은 모스 경도가 약 6.0 정도로 상대적으로 낮은 편인바, 손톱의 연마 정도가 양호하지 못하고, 광택이 제대로 발생하지 않은 것으로 확인된다.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

Claims

(a) 기판층 상부에 금속층을 코팅하는 단계;
(b) 상기 금속층이 코팅된 기판층 상부에 감광성 필름층을 코팅한 후, 노광 및 현상에 의하여 상기 감광성 필름층의 일부를 제거하여 감광성 필름 패턴층을 형성하는 단계;
(c) 상기 감광성 필름 패턴층 사이로 노출된 금속층을 에칭하여 금속 패턴층을 형성한 후, 상기 감광성 필름 패턴층을 제거하는 단계;
(d) 상기 금속 패턴층 사이로 노출된 기판층을 에칭하는 단계; 및
(e) 상기 금속 패턴층 상에 열처리를 수행하여 금속 산화물 패턴층을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 금속 산화물 패턴층의 모스 경도가 8.0 이상인 것을 특징으로 하는
연마광택기의 제조방법.
제1항에 있어서,
상기 (c) 단계에서 금속층의 에칭 또는 상기 (d) 단계에서 기판층의 에칭은 산 처리를 통해 수행되는, 연마광택기의 제조방법.
제1항에 있어서,
상기 (e) 단계에서 열처리를 통해, 상기 기판층의 모스 경도가 향상되는 것을 특징으로 하는, 연마광택기의 제조방법.
제1항에 있어서,
상기 (e) 단계에서 열처리는 350℃ 내지 500℃에서 수행되는, 연마광택기의 제조방법.
복수의 돌기 패턴이 형성된 기판층; 및
상기 돌기 패턴 상부에 코팅된 금속 산화물 패턴층을 포함하고,
상기 금속 산화물 패턴층의 모스 경도가 8.0 이상인 것을 특징으로 하는
연마광택기.
제1항에 있어서,
상기 기판층의 모스 경도가 6.0 내지 7.0 인 것을 특징으로 하는, 연마광택기.
제1항에 있어서,
상기 기판층은 유리 재질인, 연마광택기.
제1항에 있어서,
상기 금속 산화물 패턴층은 알루미늄 산화물 재질, 크롬 산화물 재질 및 이들 재질의 조합 중 어느 하나 이상을 포함하는, 연마광택기.
제1항에 있어서,
상기 금속 산화물 패턴층의 두께는 50 nm 내지 500 nm인, 연마광택기.