KR101773432B1 - 연마와 광택을 동시에 수행하는 네일 광택기 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
손발톱에 대하여 연마와 광택을 동시에 수행하며 반영구적으로 사용할 수 있는 네일 광택기가 제공된다. 이 네일 광택기는 일면에 복수의 돌기패턴이 형성된 글라스를 구비하고, 돌기패턴은 환형기둥 형상이며, 돌기패턴은 외직경이 100 내지 300㎛이고, 높이는 10 내지 40㎛이다.
Description
본 발명은 네일 광택기 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 손발톱을 연마하는 동시에 광택을 낼 수 있는 네일 광택기 및 그 제조방법에 관한 것이다.
현대인들의 외모 관리 수단 중 하나로 손발톱에 매니큐어를 바르는 경우가 많다. 하지만, 매니큐어에는 많은 화학약품들이 포함되어 있는데, 이들 화학약품들에 대한 충분한 안전검증이 없이 시중에 판매되거나 유통되는 경우가 종종 있다. 손발톱에 코팅된 매니큐어 성분은 손발톱 안으로 흡수되어 인체에 영향을 미치는데, 예를 틀어 디부틸 프탈레이트 같은 성분은 생식독성이 있어서 기형아 출산이나 태아사망 등과 같은 문제를 유발할 수 있다.
매니큐어에 대한 대안으로 손톱에 광택을 낼 수 있는 방법이 다양하게 시도되고 있다. 주변에 있는 미용실이나 네일아트 전문점을 가보면 다음과 같은 방식으로 손톱에 광택을 내고 있다. 우선, 일면에 샌드페이퍼가 부착된 손톱 미용기구를 이용해 손톱에 형성된 각질과 울퉁불퉁한 표면을 연마한다. 이 때 샌드페이퍼의 연마 입도가 큰 것부터 시작해서 점점 입도가 작은 것으로 샌드페이퍼를 바꿔 가면 연마를 한다. 이와 같은 연마작업이 끝나면, 광택제를 사용하여 손톱 표면에 다시 광택을 낸다. 기존 샌드페이퍼로는 광택이 나지 않기 때문이다.
이와 같이 다단계의 샌드페이퍼를 써가며 손톱을 연마하고 이어서 광택을 내기 위해 광택제를 다시 사용하는 것은 여간 번거로운 일이 아니다. 또한, 샌드페이퍼는 오래 사용할 경우 무뎌지고 연마가 잘 되지 않기 때문에 주기적으로 교체해야 하는 부담도 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 손발톱에 대하여 연마와 광택을 동시에 수행하며 반영구적으로 사용할 수 있는 네일 광택기를 제공하고자 하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는, 이러한 네일 광택기의 제조방법을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 광택기는 손톱이나 발톱을 연마하는 동시에 광택을 낼 수 있으며, 상기 네일 광택기는 일면에 복수의 돌기패턴이 형성된 글라스를 구비하고, 상기 돌기패턴은 환형기둥 형상이며, 상기 돌기패턴은 외직경이 100 내지 300㎛이고, 높이는 10 내지 40㎛이다.
상기 돌기패턴의 모서리는 95 내지 110도의 각도로 이루어질 수 있다.
상기 돌기패턴 사이의 간격은 상기 돌기패턴의 외직경의 50 내지 80%일 수 있다.
상기 환형기둥의 내직경은 외직경의 0.4 내지 0.6배일 수 있다.
상기 돌기패턴의 최고면에서 최저면으로 갈수록 불순물의 농도가 낮아질 수 있다.
상기 다른 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 광택기의 제조방법은, 글라스 표면에 금속박막층을 형성하는 단계; 상기 금속박막층 상에 감광성 필름을 형성하는 단계; 노광 및 현상을 통하여 상기 감광성 필름을 패터팅하는 단계; 상기 패터닝된 상기 감광성 필름을 식각마스크로 사용하여 상기 금속박막층을 식각하여 금속박막 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 금속박막층을 식각마스크로 사용하여 상기 글라스를 습식식각하여 돌기패턴을 형성하는 단계를 포함한다. 여기서, 상기 돌기패턴은 환형기둥 형상이며, 상기 돌기패턴은 외직경이 100 내지 300㎛이고, 높이는 10 내지 40㎛이다.
여기서, 금속박막층을 형성하기 전에, 표면으로부터 내부로 갈수록 불순물의 농도구배를 가지도록 전처리된 글라스를 준비하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 전처리 단계에서, 상기 글라스의 표면에서 내부로 갈수록 상기 불순물의 농도가 낮아질 수 있다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 구체적인 내용 및 도면들에 포함되어 있다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 네일 광택기에 의하면, 글라스 표면을 식각하여 돌기패턴을 형성하기 때문에 제조 공정이 간단하고, 돌기패턴 자체가 유리 성분으로 이루어져 손발톱보다 휠씬 높은 경도를 가지기 때문에 반영구적으로 사용할 수 있다.
또한, 본 발명에서는 손발톱의 연마가 골고루 일어나게 하고 동시에 손발톱 가루 또는 분진을 용이하게 제거하도록, 돌기패턴의 형상, 사이즈와 패턴 간격을 특정하였다.
본 발명의 네일 광택기는 연마 기능과 더불어 광택 기능도 동시에 수행할 수 있는데, 광택에 일어나려면 돌기패턴의 모서리 각도가 매우 중요하다. 돌기패턴의 모서리 각도를 날카롭게 형성함으로써 우수한 광택효과를 얻을 수 있을 뿐만 아니라 모서리의 안정성까지 얻을 수 있다. 습식식각으로 이러한 모서리 각도를 구현하는 것이 통상적으로는 매우 어려운 일이지만, 본 발명에서는 글라스 표면을 불산으로 식각할 때 공정조건을 제어함으로써 실질적으로 이방성 식각을 유도할 수 있다.
또한, 돌기패턴이 환형기둥 형상으로 이루어져 있는데, 환형기둥의 바깥 모서리와 안쪽 모서리에서 동시에 연마와 광택 기능을 수행하기 때문에 매우 빠른 속도로 작업을 수행할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 광택기를 나타내는 분해 사시도이다.
도 2는 도 1의 글라스 및 그 표면에 형성된 돌기패턴을 확대한 평면도이다.
도 3은 도 1의 돌기패턴의 평면도 및 단면도이다.
도 4 내지 도 6은 본 발명의 실시예들에 따른 글라스 돌기패턴의 SEM 사진과 단면 프로파일을 측정한 것이다.
도 7 내지 도 9는 비교예들에 따른 글라스 돌기패턴의 SEM 사진과 단면 프로파일을 측정한 것이다.
도 2는 도 1의 글라스 및 그 표면에 형성된 돌기패턴을 확대한 평면도이다.
도 3은 도 1의 돌기패턴의 평면도 및 단면도이다.
도 4 내지 도 6은 본 발명의 실시예들에 따른 글라스 돌기패턴의 SEM 사진과 단면 프로파일을 측정한 것이다.
도 7 내지 도 9는 비교예들에 따른 글라스 돌기패턴의 SEM 사진과 단면 프로파일을 측정한 것이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
이하 도 1 내지 도 3을 참조하여, 본 발명의 네일 광택기에 대하여 자세히 설명한다. 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 광택기를 나타내는 분해 사시도이다. 도 2는 도 1의 글라스 및 그 표면에 형성된 돌기패턴을 확대한 평면도이다. 도 3은 도 1의 돌기패턴의 평면도 및 단면도이다.
네일 광택기(100)는 사용자가 손으로 잡을 수 있는 손잡이(10)와, 손발톱 표면을 연마하고 광택을 내도록 돌기패턴(22)이 표면에 형성된 글라스(20)와, 부착필름(30)을 사이에 두고 글라스(20)가 안착되도록 손잡이(10)의 일면에 형성된 글라스 삽입홈(12)을 포함한다.
손잡이(10)는 금속 또는 플라스틱 등으로 재료로 이루어질 수 있다. 플라스틱을 사용하는 경우에는 플라스틱에 산화아연(ZnO2)을 혼합하여 항균기능을 강화하는 것이 바람직하며, 산화아연을 혼합하면 플라스틱의 경화(노화)를 지연시키고 변색을 방지할 수 있다. 도시되지는 않았으나, 손잡이(10)는 사용시 그립감을 좋게 하기 위하여 측부에 오목부를 형성할 수도 있다.
글라스(20)를 글라스 삽입홈(12)에 부착하는 부착필름(30)은 광학용 투명 점착필름인 OCA 필름(Optically Clear Adhesive Film)을 이용할 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다양한 공지의 점착필름, 점착제, 접착필름 또는 접착제 등을 사용할 수 있다.
글라스(20)의 재질은 통상의 유리(glass) 또는 강화 유리일 수 있다. 글라스(20)는 손발톱보다 훨씬 경도가 높기 때문에, 반영구적으로 손발톱을 연마할 수 있다. 강화 유리는 유리보다 우수한 강도를 가지므로 파손될 우려 없이 더 오랫동안 사용할 수 있다. 특히, 강화 유리 중에서도 철분을 소량 함유하는 저철분 유리, 소다라임 유리, 알루미나 실리케이트 유리 등을 사용하는 것이 바람직하다. 글라스(20)는 이온주입, 열처리 등을 통하여 표면으로부터 내부로 갈수록 불순물의 농도에 구배가 생기도록 처리될 수 있다. 바람직하게는, 글라스(20)의 표면에서 내부로 갈수록 불순물의 농도가 낮아지도록 처리함으로써, 글라스(20) 표면을 불산으로 습식 식각하여 돌기패턴(22)을 형성할 때 이방성 식각을 유도하여 돌기패턴(22)의 모서리를 날카롭게 형성할 수 있다.
글라스(20) 표면에 형성된 돌기패턴(22)은 손발톱을 연마하는 동시에 광택을 내게 하기 위하여 그 형상, 사이즈 및 패턴 간격이 특정되어야 한다. 돌기패턴(22)은 환형기둥 형상으로 이루어져 있는데, 환형기둥의 바깥 모서리와 안쪽 모서리에서 동시에 연마와 광택이 일어나기 때문에 빠른 속도록 손발톱을 다듬을 수 있다.
돌기패턴(22)의 외직경(d)은 100 내지 300㎛인 것이 바람직하다. 외직경이 100 ㎛보다 작은 경우, 광택효과는 크게 증가하지 않으나 미세 패턴을 위한 사진 식각(photolithography) 공정으로 비용이 크게 증가하여 대량 양산에 부적합하다. 외직경이 300㎛보다 큰 경우 연마는 되지만 광택이 나지 않는 문제점이 있다.
돌기패턴(22)의 내직경(d')은 외직경(d)의 0.4 내지 0.6배인 것이 바람직하다. 내직경이 외직경의 0.4배보다 작을 경우 돌기패턴(22)의 홈부(24)에 들어간 손발톱 가루가 잘 빠지지 않으며, 0.6배보다 클 경우 환형기둥의 폭이 좁아서 강도가 떨어져 연마 시 파괴되기가 쉽다.
돌기패턴(22)의 높이는 10 내지 40㎛인 것이 바람직하다. 돌기패턴(22)의 높이가 10㎛보다 작을 경우 연마된 손발톱 가루가 패턴 사이에 제거되지 못하고 남아 있게 되어 연마 효율이 떨어지고, 돌기패턴(22)의 높이가 40 ㎛보다 클 경우 돌기패턴(22) 사이에 손발톱 가루가 끼여 잘 빠지지 않고 광택효과가 현저히 떨어진다.
돌기패턴(22)의 패턴 사이의 간격이 외직경(d)의 50 내지 80%로 형성되었을 때 광택 기능이 가장 우수하게 나타난다. 패턴 사이의 간격이 외직경(d)의 50%보다 작은 경우 패턴 사이에 끼인 손발톱 가루가 잘 제거되지 않고, 80%보다 클 경우 패턴 사이의 간격이 너무 커서 연마가 여러 방향으로 골고루 되지 않고 손발톱에 스크래치가 많이 발생한다.
돌기패턴(22)의 모서리 각도(α)는 95 내지 110도일 때 광택 기능이 비로소 발현될 수 있다. 모서리 각도가 110도보다 클 경우 돌기패턴(22)에 의해 연마가 일어날 수는 있으나 광택효과는 전혀 발생하지 않는다. 예컨대, 뭉툭한 칼로 연필을 깎으면 깎인 면이 부드럽지 않고 거칠지만, 날카로운 칼로 깎으면 깎인 면이 매끈하고 광택이 나는 것과 같은 원리이다. 습식식각을 이용하여 돌기패턴(22)을 형성하는 경우, 습식식각의 고유 특성인 등방성 식각(isotropic etching)으로 인하여 식각마스크패턴 아래가 식각되는 언더컷(undercut)이 발생한다. 따라서 모서리 각도를 110도 이하로 형성하는 것은 매우 어렵다. 하지만, 본 발명에서는 글라스(20) 내 불순물의 농도에 구배가 생기도록 함으로써 이방성 식각을 유도하여 날카로운 모서리를 형성할 수 있다. 한편, 모서리 각도(α)를 95도보다 작게 형성하는 것은 습식식각에 의해 현실적으로 어려우며, 모서리가 너무 날카로울 경우 끝부분에 응력이 집중되어 손발톱 연마 시에 쉽게 파괴될 우려가 있다. 더욱 바람직하게는 모서리 각도(α)가 100 내지 105도일 수 있다. 전체적으로, 돌기패턴(22)은 사다리꼴 형상의 단면을 가질 수 있다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 네일 광택기의 제조방법에 대하여 자세히 설명한다.
(1) 글라스 기판 표면에 이온주입, 열처리 등의 전처리를 통하여, 글라스 내에 포함된 불순물의 농도 구배를 형성한다. 바람직하게는 글라스 식각 시에 비등방성을 증가시키도록, 글라스 표면에서 내부로 갈수록 불순물의 농도가 낮아지도록 전처리를 하는 것이 좋다.
(2) 글라스 상에 금속박막층을 형성한다. 금속박막층은 유리와 접착력이 우수한 크롬, 몰리브덴 또는 금 등을 사용할 수 있고, PVD, CVD, 스퍼터링, 코팅 등의 방법으로 형성될 수 있다. 금속박막층은 약 0.1 내지 0.5㎛의 두께로 형성될 수 있다.
(3) 금속박막층 상에 감광성 필름을 형성한다. 예를 들어, 액상 PR(photo resist)을 실크인쇄 방식으로 금속박막층 상에 형성할 수 있다. 또는 DFR(dry film resist) 필름을 금속박막층 상에 부착할 수 있다. DFR 필름은 감광성 필름으로, 약 10 내지 50㎛의 두께로 이루어질 수 있다. 금속박막층 상에 DFR 필름을 올려놓고 100 내지 130℃의 열을 가열된 롤러를 통과시켜 DFR 필름을 금속박막층에 라미네이팅한다. 액상 PR과 DFR 필름은 실질적으로 동일한 기능을 하며, 이하 설명의 편의를 위하여 DFR 필름 위주로 설명한다.
(4) 이러한 글라스 결과물 양면에 투명 필름을 부착한다. 투명 필름은 글라스와 DFR 필름에 스크래치가 생기는 것을 방지한다.
(5) 글라스 기판 상에 부착된 DFR 필름 상에 소정의 패턴이 형성된 마스크를 놓고 UV 노광기로 노광한다. 구체적으로, DFR 필름이 붙은 글라스를 노광기에 올려놓고 노광기 문을 닫은 후 15 내지 30초 동안 진공상태를 유지한 후에 자외선을 조사한다. 일정시간 동안 진공상태를 유지하는 것은 DFR 필름이 글라스에 흡착되도록 하기 위함이다.
(6) 글라스 기판에 부착된 투명 필름을 제거하고 글라스를 현상액으로 현상하여 패턴을 DFR 필름 상에 형성한다. 현상액으로는 탄산염을 주성분으로 하는, 예를 들어, DFRD-100 용액을 5% 정도의 농도로 희석해서 사용할 수 있다.
(7) 패터닝된 DFR 필름을 식각마스크로 사용하여, 금속박막층을 식각액에 넣어 금속박막 패턴을 형성한다.
(8) 이어서, 글라스를 세정하고 건조한 후에, DFR 필름을 제거한다. 그리고 금속박막 패턴을 식각마스크로 사용하여 금속박막 패턴에 의해 노출된 글라스 부분을 유리 식각액을 이용하여 습식식각하여 돌기패턴(22)을 형성한다. 여기서 유리 식각액은 불산, 황산, 질산, 인산, 빕루산계 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 바람직하게는 불산 식각액을 사용할 수 있다.
본 발명의 네일 광택기가 광택 기능을 가지려면, 돌기패턴(22)의 모서리 각도가 95도 내지 110도인 것이 바람직하다. 패턴 모서리를 날카롭게 하기 위하여 건식식각을 이용할 수도 있으나, 건식식각은 습식식각에 비해 제조단가가 매우 높기 때문에 현실적으로 이용하기 어렵다. 통상의 습식식각 공정에서는 등방성 식각이 일어나 패턴 모서리를 날카롭게 형성하기 어렵지만, 본 발명에서는 불산 에칭 공정에서 이방성 식각을 유도하기 위하여 다음과 같은 방법을 사용한다.
불순물을 포함하는 글라스에 대하여 10 내지 20중량% 불산 식각액을 이용하여 20 내지 40도의 온도에서 습식식각을 수행한다. 나아가, 패턴 모서리를 날카롭게 만들기 위해, 글라스 전처리 공정을 통하여 글라스 표면과 글라스 내부에 대한 식각 속도에 차이가 나도록 한다. 구체적으로, 글라스 내에 불순물의 농도 구배를 형성함으로써 글라스 표면(또는 돌기패턴의 최고면)에는 불순물의 농도가 상대적으로 높고 글라스 내부(또는 돌기패턴의 최저면)는 상대적으로 낮도록 한다. 글라스 내 불순물은 글라스에 대한 식각 속도에 영향을 주는데, 불순물이 많을수록 식각 속도가 느려진다. 따라서 금속박막 패턴(식각마스크) 아래의 글라스 표면은 불순물의 농도가 높아서 상대적으로 식각이 느리다. 따라서 이 부분에 언더컷이 발생하는 것을 최소화할 수 있다. 이와 같이 습식식각에 의해 글라스를 에칭함에도 불구하고 패턴 모서리가 실질적으로 90도에 가깝도록 형성할 수 있다. 식각에 의해 완성된 돌기패턴(22)을 보면, 돌기패턴(22)의 최고면에서 최저면으로 갈수록 불순물의 농도가 낮아지는 것을 알 수 있다.
(9) 이어서 식각액(etchant)에 글라스를 넣고 글라스 표면에 있는 금속박막 패턴, 예를 들어 크롬을 제거한다. 본 실시예에서는 글라스를 식각하기 전에 DFR 필름을 제거하는 경우를 예로 들어 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 DFR 필름과 금속박막 패턴을 그대로 두고 글라스를 식각할 수도 있다.
이하, 도 4 내지 도 9를 참조하여, 본 발명의 돌기패턴의 모서리 각도가 광택기능에 미치는 영향에 대하여 자세히 설명한다. 도 4 내지 도 6은 본 발명의 실시예들에 따른 글라스 돌기패턴의 SEM 사진과 단면 프로파일을 측정한 것이고, 도 7 내지 도 9는 비교예들에 따른 글라스 돌기패턴의 SEM 사진과 단면 프로파일을 측정한 것이다.
아래 표 1은 도 4 내지 도 9의 실시예와 비교예의 결과를 나타낸 것인데, 모서리 각도에 따라 광택 기능과 연마 기능 발현 정도를 나타낸다.
| 구분 | 관련 도면 | 모서리 각도 | 모서리 각도 | 광택 유무 | 연마 정도 |
| 제1 실시예 | 도 4 | 101.5° | 103.0° | O | 좋음 |
| 제2 실시예 | 도 5 | 100.9° | 100.6° | O | 우수 |
| 제3 실시예 | 도 6 | 105.7° | 99.7° | O | 좋음 |
| 제1 비교예 | 도 7 | 113.4° | 114.9° | X | 양호 |
| 제2 비교예 | 도 8 | 113.3° | 122.0° | X | 양호 |
| 제3 비교예 | 도 9 | 147.9° | 121.6° | X | 불량 |
도 4 내지 도 6의 실시예들(제1 내지 제2 실시예)은, 불순물의 농도구배에 의해 유도된 글라스의 이방성 식각에 따라 돌기패턴을 형성한 예들이다. 돌기패턴의 모서리 각도가 95 내지 110도, 바람직하게는 100도 내지 105도를 유지하였는데, 모든 예들에서 연마 기능은 물론 광택 기능까지 얻을 수 있었다.
도 7 내지 도 9의 비교예들(제1 내지 제3 비교예)은, 통상의 글라스 등방성 식각에 따라 돌기패턴을 형성한 예들이다. 언더컷으로 인하여 돌기패턴의 모서리 각도가 110도 이상으로 나왔다. 경우에 따라 연마 기능을 얻을 수는 있었으나, 아무리 손발톱을 연마하더라도 광택이 나지는 않았다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
10: 손잡이
12: 글라스 삽입홈
20: 글라스
24: 홈부
22: 돌기패턴
30: 부착필름
100: 네일 광택기
12: 글라스 삽입홈
20: 글라스
24: 홈부
22: 돌기패턴
30: 부착필름
100: 네일 광택기
Claims (8)
- 손톱이나 발톱을 연마하는 동시에 광택을 내는 네일 광택기로서,
상기 네일 광택기는 일면에 복수의 돌기패턴이 형성된 글라스를 구비하고,
상기 돌기패턴은 환형기둥 형상이며, 상기 돌기패턴은 외직경이 100 내지 300㎛이고, 높이는 10 내지 40㎛이고,
이방성 식각을 유도하도록 상기 글라스의 표면으로부터 내부로 갈수록 상기 글라스 내에 포함된 불순물의 농도가 낮아지는 것을 특징으로 하는 네일 광택기. - 제1항에 있어서,
상기 돌기패턴의 모서리는 95 내지 110도의 각도로 이루어진 것을 특징으로 하는 네일 광택기. - 제1항에 있어서,
상기 돌기패턴 사이의 간격은 상기 돌기패턴의 외직경의 50 내지 80%인 것을 특징으로 하는 네일 광택기. - 제1항에 있어서,
상기 환형기둥의 내직경은 외직경의 0.4 내지 0.6배인 것을 특징으로 하는 네일 광택기. - 손톱이나 발톱을 연마하는 동시에 광택을 내는 네일 광택기의 제조방법으로서,
이방성 식각을 유도하기 위하여 글라스의 표면으로부터 내부로 갈수록 불순물의 농도가 낮아지도록 상기 글라스를 전처리하는 단계;
상기 글라스 표면에 금속박막층을 형성하는 단계;
상기 금속박막층 상에 감광성 필름을 형성하는 단계;
노광 및 현상을 통하여 상기 감광성 필름을 패터팅하는 단계;
상기 패터닝된 상기 감광성 필름을 식각마스크로 사용하여 상기 금속박막층을 식각하여 금속박막 패턴을 형성하는 단계; 및
상기 금속박막층을 식각마스크로 사용하여 상기 글라스를 습식식각하여 돌기패턴을 형성하는 단계를 포함하되,
상기 돌기패턴은 환형기둥 형상이며, 상기 돌기패턴은 외직경이 100 내지 300㎛이고, 높이는 10 내지 40㎛인 것을 특징으로 하는 네일 광택기의 제조방법. - 제5항에 있어서,
상기 돌기패턴의 모서리는 95 내지 110도의 각도로 이루어진 것을 특징으로 하는 네일 광택기의 제조방법. - 제5항에 있어서,
상기 돌기패턴 사이의 간격은 상기 돌기패턴의 외직경의 50 내지 80%인 것을 특징으로 하는 네일 광택기의 제조방법. - 제5항에 있어서,
상기 환형기둥의 내직경은 외직경의 0.4 내지 0.6배인 것을 특징으로 하는 네일 광택기의 제조방법.
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| KR1020160165096A KR101773432B1 (ko) | 2016-12-06 | 2016-12-06 | 연마와 광택을 동시에 수행하는 네일 광택기 및 그 제조방법 |
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| KR1020160165096A KR101773432B1 (ko) | 2016-12-06 | 2016-12-06 | 연마와 광택을 동시에 수행하는 네일 광택기 및 그 제조방법 |
Publications (1)
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|---|---|
| KR101773432B1 true KR101773432B1 (ko) | 2017-08-31 |
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ID=59760913
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| KR1020160165096A KR101773432B1 (ko) | 2016-12-06 | 2016-12-06 | 연마와 광택을 동시에 수행하는 네일 광택기 및 그 제조방법 |
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|---|---|---|---|---|
| KR20210058601A (ko) * | 2019-11-14 | 2021-05-24 | 주식회사 인성네일뷰티 | 손톱손질용 미용기구 |
-
2016
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| KR20210058601A (ko) * | 2019-11-14 | 2021-05-24 | 주식회사 인성네일뷰티 | 손톱손질용 미용기구 |
| KR102283685B1 (ko) | 2019-11-14 | 2021-07-29 | 주식회사 인성네일뷰티 | 손톱손질용 미용기구 |
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