KR20170116687A

KR20170116687A - 네일 광택기 및 그 제조방법

Info

Publication number: KR20170116687A
Application number: KR1020160044568A
Authority: KR
Inventors: 정종범
Original assignee: 정종범
Priority date: 2016-04-12
Filing date: 2016-04-12
Publication date: 2017-10-20

Abstract

본 발명은, 손톱이나 발톱의 절삭과 광택 기능을 동시에 할 수 있고, 제조과정에서 별도의 과정을 거쳐 광택기의 표면에 코팅한 크롬과 같은 중금속을 완전히 제거하여 인체에 전혀 해(害)를 끼치지 않으며, 광택기 표면에 형성된 패턴의 피치와 간격을 특정화함으로써 제조단가를 매우 저렴하게 하면서 연마시 가루(분진) 발생을 적게 할 수 있는 네일 광택기 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명에 따른 네일 광택기의 제조방법은, 글라스 표면에 크롬(Cr)을 코팅하여 크롬코팅층을 형성하는 단계; 크롬코팅층의 상부에 패턴이 형성된 DFR 필름을 부착하고, 글라스의 양면에 투명 필름을 부착시키는 단계; DFR 필름과 투명 필름이 부착된 글라스를 노광기에 올려놓고 자외선을 조사하는 노광 단계; 노광된 글라스에서 투명 필름을 제거하고 현상액에 담그는 현상 단계; 크롬코팅층에 패턴을 형성하기 위하여 에칭(etching)하는 1차 에칭단계; 1차 에칭 후 세정하고 건조한 후에 글라스에서 DFR 필름을 제거하고, 글라스에 패턴을 형성하기 위하여 불산에 에칭하는 2차 에칭단계; 글라스에 남은 크롬을 제거하기 위하여 부식액(etchant)에 일정시간 동안 담가서 제거하는 크롬 제거단계를 거쳐서 제조하는 것을 특징으로 한다.

Description

네일 광택기 및 그 제조방법{Nail polisher and manufacturing method thereof}

본 발명은 네일 광택기에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 손톱이나 발톱의 절삭 및 광택 기능을 한꺼번에 하면서 분진 발생도 적고, 광택기의 방향에 상관없이 어느 방향으로나 손톱을 연마할 수 있으며, 광택기의 표면에 크롬과 같은 중금속이 남아 있지 않아서 인체에 무해(無害)한 네일 광택기 및 그 제조방법에 관한 것이다.

최근 미용에 대한 관심이 높아지면서 손톱과 발톱의 미용에 대한 관심 역시 높아지고 있고, 전문적으로 네일케어 내지 페디큐어를 하는 샵이 늘어나고 있으며, 굳이 샵에 가지 않더라도 가정에서도 손쉽게 네일케어 또는 페디큐어를 할 수 있도록 손톱과 발톱을 손질하기 위한 다양한 미용기구 및 화장품과 매니큐어 등이 사용되고 있다. 이러한 제품들은 건강에 알게 모르게 영향을 미치고 있으며, 최근 들어 매니큐어에 사용되는 물질의 유해성에 대한 우려가 높아지고 있다.

일반적으로 손톱이나 발톱을 손질하기 위해서는 메탈로 된 제품 또는 숯돌 형태의 다양한 제품을 사용하고 있으며, 이러한 제품은 손톱이나 발톱의 외곽라인을 가다듬기 위한 것으로, 광이 나지 않기 때문에 손톱이나 발톱에 광을 내기 위해서는 드릴 형태의 광택기를 사용해야 하며, 이러한 광택기는 전문가가 해줘야 한다는 문제가 있다.

이러한 문제를 해결하기 위하여 개인이 쉽게 손톱이나 발톱에 광을 낼 수 있는 네일 광택기가 출현하게 되었는데, 이러한 네일 광택기는 글라스 표면에 다양한 패턴을 형성한 것으로, 반도체 및 디스플레이 공정을 잘 알면서 패턴에 대한 구조적인 형태 분석이 가능해야 하는 등 네일 아트 관련 직종 종사자들이 알기 어렵기 때문에 반도체 및 디스플레이 분야에 종사하는 전문가의 도움이 필요한 부분이다. 현재 글라스 형태의 네일 광택기는 매우 고가에 판매되고 있으며, 이를 일부 사람들만 사용하는 제한적인 제품으로 알려져있다.

손톱이나 발톱을 연마하는 기술을 보면, 특허등록 제519704호 "손발톱 연마용 줄 및 그것의 제조방법", 공개특허 제2006-13132호 "손톱 손질구의 제조방법과 그 방법에 따라 제조된 손톱손질구"는 손발톱의 외곽라인의 절삭 및 연마는 가능하지만 손발톱에 광택을 낼 수 없다는 문제가 있다.

절삭과 광택을 동시에 해결하기 위해 출현한 기술이 공개특허 제2015-2132호 "절삭과 광택이 동시에 이루어지는 손발톱 연마 미용기구의 제조방법 및 상기 제조방법에 의해 제조된 손발톱 연마 미용기구"인데, 이는 글라스의 표면에 금속(크롬)코팅층과 포토레지스트 코팅층을 연속으로 형성하고 패턴을 형성한 다음, 금속에칭공정과 글라스에칭공정 및 포토레지스트층을 제거하는 공정을 거쳐서 네일 광택기를 제조하는 기술이다. 하지만, 상기 특허는 다음과 같은 문제가 있다.

첫째, 패턴이 형성된 글라스의 표면에 코팅된 금속(크롬)이 에칭과정을 거치더라도 제거되지 않기 때문에 최종 제품에서 크롬이라는 중금속이 그대로 남아 있고, 글라스의 표면에 크롬이 남아 있는 부분이 손톱과 발톱을 연마하게 되므로, 글라스에 남아 있는 중금속으로 문질러서 손톱이나 발톱의 표면에 광택을 내게 되어 결국 중금속이 사용자의 인체에 유해한 영향을 끼치게 된다는 문제가 있다.

둘째, 패턴의 높이가 수십㎛ 이상으로 높으면 손톱이나 발톱에 광택이 나지 않고, 수㎛ 이하로 높이가 너무 낮으면 연마하면서 발생하는 가루(분말)가 빠져나가지 않기 때문에 가루를 자주 제거하면서 사용해야 하기 때문에 사용상 불편한 점이 많은데, 상기 특허와 같이, 글라스에 형성된 패턴의 볼록부 높이가 5∼100㎛이고, 볼록부의 직경이 50∼150㎛으로 형성된 네일 광택기는 손톱이나 발톱에 광택을 낼 수 없다는 문제가 있다.

셋째, 글라스에 형성된 패턴의 볼록부의 직경이 100㎛ 이하이면, 고가(高價)의 소재를 사용해야 할 뿐만 아니라 제조공정에서 고가의 장비인 평행광노광기를 사용해야 하기 때문에 제조단가가 현저하게 상승되는 문제가 있다.

넷째, 네일 광택기가 손톱이나 발톱에 광택을 내는데 가장 중요한 것은 패턴과 패턴 사이의 간격인데, 패턴 사이의 간격에 대한 기술적 사항에 대하여 아무런 기재나 시사하는 바가 없기 때문에 손톱이나 발톱에 광택을 내는 네일 광택기로서는 결정적인 흠결과 기술적인 문제가 있다.

다섯째, 제품(네일 광택기) 자체가 손잡이도 없이 패턴이 형성된 글라스로만 되어 있기 때문에 사용하기가 불편할 뿐만 아니라 보관이나 사용중에 잘 깨진다는 문제가 있고, 손잡이가 따로 없기 때문에 지난번 사용했을 때 연마한 부분을 잡고 사용해야 하므로, 손톱 연마시 발생한 가루가 묻어 있는 부분을 손으로 잡고 연마해야 하므로 비위생적이라는 문제가 있다.

본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은, 손톱이나 발톱의 절삭과 광택 기능을 동시에 할 수 있고, 제조과정에서 별도의 과정을 거쳐 광택기의 표면에 코팅한 크롬과 같은 중금속을 완전히 제거하여 인체에 전혀 해(害)를 끼치지 않으며, 광택기 표면에 형성된 패턴의 피치와 간격을 특정화함으로써 제조단가를 매우 저렴하게 하면서 연마시 가루(분진) 발생을 적게 할 수 있는 네일 광택기 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것이다.

상기와 같은 과제 해결을 위해 본 발명에 따른 네일 광택기의 제조방법은, 글라스 표면에 크롬(Cr)을 코팅하여 크롬코팅층을 형성하는 단계; 크롬코팅층의 상부에 패턴이 형성된 DFR 필름(Dry Film Resist)을 부착하고, 글라스의 양면에 투명 필름을 부착시키는 단계; DFR 필름과 투명 필름이 부착된 글라스를 노광기에 올려놓고 자외선을 조사하는 노광 단계; 노광된 글라스에서 투명 필름을 제거하고 현상액에 담그는 현상 단계; 크롬코팅층에 패턴을 형성하기 위하여 에칭(etching)하는 1차 에칭단계; 1차 에칭 후 세정하고 건조한 후에 글라스에서 DFR 필름을 제거하고, 글라스에 패턴을 형성하기 위하여 불산(hydrofluoric acid)에 에칭하는 2차 에칭단계; 글라스에 남은 크롬을 제거하기 위하여 부식액(etchant)에 일정시간 동안 담가서 제거하는 크롬 제거단계를 거쳐서 제조하는 것을 특징으로 한다.

바람직하게는, 글라스에 형성된 패턴은, 평단면의 형상이 직경 200∼300㎛의 원형이고 높이는 10∼30㎛인 원기둥 형상이며, 패턴 사이의 간격은 직경의 50∼80%로 형성된다.

바람직하게는, 노광기에 글라스를 올려놓고 노광기 문을 닫은 후 15∼30초 동안 진공상태를 유지한 후에 자외선을 조사해 주며, DFR 필름을 제거할 때는 글라스를 박리액에 0.5∼2분 동안 담가서 제거한다.

본 발명에 따른 네일 광택기는, 손톱이나 발톱의 절삭과 광택을 동시에 하는 것으로, 글라스의 표면에 일정한 패턴이 형성되어 구성되며, 상기 패턴은, 평단면의 형상이 직경 200∼300㎛의 원형이고 높이는 10∼30㎛인 원기둥 형상이며, 패턴 사이의 간격은 직경의 50∼80%로 형성된 것을 특징으로 한다.

바람직하게는, 글라스는 플라스틱 또는 금속으로 제작된 손잡이의 상부에 부착되며, 글라스는 OCA 필름(Optically Clear Adhesive Film)을 사용하여 손잡이에 부착시킨다.

본 발명에 따른 네일 광택기는 손톱이나 발톱의 절삭과 광택 기능을 동시에 할 수 있고 광택기를 사용하는 방향에 상관없이 어느 방향으로나 손톱을 연마할 수 있으며, 항균처리된 별도의 손잡이에 패턴이 형성된 글라스가 부착되어 있기 때문에 사용자가 연마시 발생한 가루(분진)가 묻어 있는 글라스를 잡지 않고 손잡이를 잡고 사용하므로 위생적이다.

또한, 본 발명에 따른 네일 광택기는, 광택기의 표면에 형성된 패턴을 지금까지 출현했던 모든 네일 광택기에서 전혀 사용하지 않았던 패턴 간격과 피치(직경)의 비율로 특정화했기 때문에 제조공정에서 고가(高價)의 평행노광기를 사용하지 않고 저렴한 산란노광기를 사용할 수 있어서 제조단가가 저렴할 뿐만 아니라 에칭공정이 끝난 후에 최종적으로 글라스 표면에 코팅된 크롬을 완전히 제거하는 공정을 거치기 때문에 네일 광택기에 중금속(크롬, 몰리브덴 등)이 전혀 남아 있지 않게 되어 손톱이나 발톱을 연마하면서 중금속이 체내로 침투하지 않게 되어 인체에 무해(無害)하며, 손톱과 발톱 연마시 가루(분진) 발생이 현저하게 줄어든다.

도 1은 본 발명에 따른 네일 광택기의 제조공정을 나타낸 순서도이다.
도 2는 본 발명에 따른 네일 광택기를 도시한 도면이다.
도 3은 네일 광택기의 글라스에 형성된 패턴을 도시한 도면이다.

본 발명에 따른 네일 광택기 및 그 제조방법의 기술적 특징은, 광택기의 표면에 코팅된 크롬을 완전히 제거하여 인체에 무해(無害)하게 했다는 점과, 광택기 표면에 형성된 패턴의 피치(직경)와 간격을 지금까지와는 완전히 다르게 특정함으로써 광택 효과를 최대화하고 가루(분진) 발생이 적으며 제조단가를 현저하게 낮췄다는 점이다.

본 발명에 따른 네일 광택기의 제조방법은, 글라스(glass) 표면에 크롬(Cr)을 코팅하여 크롬코팅층을 형성하는 단계(S1), 크롬코팅층의 상부에 패턴이 형성된 DFR 필름(Dry Film Resist)을 부착하고 글라스의 양면에 투명 필름을 부착시키는 단계(S2), DFR 필름과 투명 필름이 부착된 글라스를 노광기에 올려놓고 자외선을 조사하는 노광 단계(S3), 노광된 글라스에서 투명 필름을 제거하고 현상액에 담그는 현상(develop) 단계(S4), 크롬코팅층에 패턴을 형성하기 위하여 에칭(etching)하는 1차 에칭단계(S5), 1차 에칭 후 세정하고 건조한 후에 글라스에서 DFR 필름을 제거한 다음 글라스에 패턴을 형성하기 위하여 불산(hydrofluoric acid)에 에칭하는 2차 에칭단계(S6), 글라스에 남은 크롬을 제거하기 위하여 부식액(etchant)에 일정시간 동안 담가서 제거하는 크롬 제거단계(S7)를 거쳐서 제조한다.

크롬코팅층은 금속코팅층인데, 크롬(Cr)이나 몰리브덴(Mo)을 사용하며 0.1∼0.5μ 정도의 두께로 코팅한다. DFR 필름(Dry Film Resist)은 일정한 패턴이 형성되어 있는 감광성 필름으로, 두께 10㎛ 정도의 필름을 사용하는 것이 바람직하며, 100∼130℃의 열을 가해서 필름을 금속(크롬)코팅층에 부착한다. 또한, 투명 필름은 글라스와 패턴이 형성된 DFR 필름에 스크래치가 생기지 않도록 하기 위하여 부착한다.

노광(exposure) 단계는, DFR 필름과 투명 필름이 부착된 글라스를 노광기에 올려놓고 노광기 문을 닫은 후 15∼30초 동안 진공상태를 유지한 후에 자외선을 조사해 주는데, 진공압은 -300∼-350㎪ 정도로 하는 것이 바람직하며, 일정시간 동안 진공상태를 유지하는 것은 DFR 필름이 글라스에 흡착되도록 하기 위함이다.

현상(develop) 단계는, 노광된 글라스를 노광기에서 꺼내서 투명 필름을 벗겨 낸 후에 패턴이 새겨진 면을 위로 가게 하여 현상액에 담가서 가만히 담궈 놓지 말고 여러 방향으로 살살 들어주면서 현상액이 한쪽으로 흘러가도록 들었다가 담구는 작업을 20∼60초 동안 반복한다. 현상액으로는 탄산염을 주성분으로 하는, 예를 들면, DFRD-100 용액이며, 5% 정도의 농도로 희석해서 사용한다. DFRD-100 용액은 시중에서 판매되고 있기 때문에 구체적인 설명은 생략한다.

1차 에칭단계는 크롬코팅층에 패턴을 형성하기 위한 공정으로, 글라스를 부식액(etchant)에 담근 후 1∼2분 정도 있다가 꺼낸다. 2차 에칭단계는 글라스에 패턴을 형성하기 위한 불산 에칭공정이며, DFR 필름을 제거할 때는 글라스를 박리액에 0.5∼2분 동안 담가서 제거한다.

본 발명의 가장 큰 기술적 특징은 글라스에 형성된 패턴을 특정화 했다는 것인데, 패턴은 양각 또는 음각으로 형성하며, 평단면의 형상이 직경 200∼300㎛의 원형이고 높이는 10∼30㎛인 원기둥 형상이며, 패턴 사이의 간격은 직경의 50∼80%로 형성한다. 패턴을 양각으로 형성한 광택기는 절삭과 광택 기능이 우수하고, 음각으로 형성한 광택기는 광택 기능이 우수하다.

패턴의 직경이 300㎛ 이상이면 절삭만 되고 광택 기능이 나타나지 않게 되고, 200㎛ 이하이면 제조공정 중 노광공정에서 평행노광기를 사용해야 하는데 평행노광기는 매우 고가의 장비이고 DFR 필름도 고가의 소재를 사용해야 한다. 하지만, 200㎛ 이상이면 가격이 훨씬 저렴한 산란노광기를 사용할 수 있고 DFR 필름도 저렴한 소재를 사용해도 되므로 제조단가에 현저한 차이가 생기게 된다.

패턴의 직경과 패턴 사이의 간격 사이의 비율에 따라 기능이 전혀 달라지는데, 패턴의 직경과 패턴 사이의 간격 사이의 비율을 1:1로 형성할 경우에는 연마시 손톱이나 발톱에 스크래치가 많이 발생하게 된다. 또, 패턴 사이의 간격을 직경의 50∼80%로 형성했을 때 광택 기능이 가장 우수하게 나타난다. 또한, 패턴의 높이가 30㎛ 이상이 되면 광택효과가 현저하게 떨어지게 되고, 10㎛ 이하로 너무 낮게 형성하면 연마시 발생하는 가루(분진)가 패턴 사이에서 제거되지 못하고 남아 있게 되므로 사용자가 계속해서 네일 광택기에서 가루(분진)를 제거하면서 사용해야 하는 불편함이 있다.

또한, 불산 에칭을 하더라도 글라스에 코팅된 중금속(크롬)이 완전히 제거되지 않게 되는데, 지금까지 실시되고 있는 모든 네일 광택기 제품 및 선행기술들은 중금속(크롬)이 완전히 제거되지 않은 상태에서 최종 제품을 완성했었다. 하지만, 본 발명에서는 이와 같이 글라스에 잔류하고 있는 크롬을 크롬 제거공정을 거쳐 중금속(크롬)을 완전히 제거(Cr Free)했다는 것이 기술적 특징 중 하나이다.

본 발명에 따른 네일 광택기는 손톱이나 발톱의 절삭과 광택 기능을 동시에 하고, 광택기를 사용하는 방향에 상관없이 어느 방향으로나 손톱을 연마할 수 있는데, 네일 광택기는 글라스(10)의 표면에 일정한 패턴(11)이 형성되어 구성된다. 패턴(11)에 대하여는 앞에서도 설명했듯이, 평단면의 형상이 직경 200∼300㎛의 원형이고 높이는 10∼30㎛인 원기둥 형상이며, 패턴 사이의 간격은 직경의 50∼80%로 형성된 것이다.

네일 광택기는 글라스(10)만으로 형성할 수도 있고, 플라스틱 또는 금속으로 제작된 손잡이(20)의 상부 일부에 패턴(11)이 형성된 글라스(10)를 부착시켜서 만들 수도 있다.

손잡이(20)에 글라스(10)를 부착한 경우에는, 손잡이의 본체부(21) 선단부분에 형성된 글라스부착부(22)에 부착하게 되는데, 글라스부착부(22)와 글라스(10) 사이에 광학용 투명 점착필름인 OCA 필름(Optically Clear Adhesive Film)을 사용하여 부착시킨다(도 2 참조). 손잡이의 본체부(21)에는 사용시 그립감을 좋게 하기 위하여 측면에 오목부(23, 23')를 형성하는 것이 바람직하다.

손잡이(20)의 재질은 금속이나 플라스틱을 사용하는데, 플라스틱을 사용하는 경우에는 플라스틱에 산화아연(ZnO₂)을 혼합하여 항균기능을 강화하는 것이 바람직하며, 또한, 산화아연을 혼합하면 플라스틱의 경화(노화)를 지연시키고 변색을 방지할 수 있다.

이상의 설명은 본 발명을 예시적으로 설명한 것이고, 명세서에 게시된 실시예는 본 발명의 기술사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이므로 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 그러므로 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의해 해석되고, 그와 균등한 범위 내에 있는 기술적 사항도 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

10 : 글라스 11 : 패턴
20 : 손잡이 21 : 본체부
22 : 글라스부착부 23, 23' : 오목부
30 : OCA 필름

Claims

글라스(glass) 표면에 크롬(Cr)을 코팅하여 크롬코팅층을 형성하는 단계;
크롬코팅층의 상부에 패턴이 형성된 DFR 필름(Dry Film Resist)을 부착하고, 글라스의 양면에 투명 필름을 부착시키는 단계;
DFR 필름과 투명 필름이 부착된 글라스를 노광기에 올려놓고 자외선을 조사하는 노광 단계;
노광된 글라스에서 투명 필름을 제거하고 현상액에 담그는 현상(develop) 단계;
크롬코팅층에 패턴을 형성하기 위하여 에칭(etching)하는 1차 에칭단계;
1차 에칭 후 세정하고 건조한 후에 글라스에서 DFR 필름을 제거하고, 글라스에 패턴을 형성하기 위하여 불산(hydrofluoric acid)에 에칭하는 2차 에칭단계;
글라스에 남은 크롬을 제거하기 위하여 부식액(etchant)에 일정시간 동안 담가서 제거하는 크롬 제거단계;
를 거쳐서 제조하여, 손톱이나 발톱의 절삭과 광택을 동시에 하는 네일 광택기를 제조하는 네일 광택기의 제조방법.
제1항에 있어서,
상기 글라스에 형성된 패턴은, 평단면의 형상이 직경 200∼300㎛의 원형이고 높이는 10∼30㎛인 원기둥 형상이며, 패턴 사이의 간격은 직경의 50∼80%로 형성된 것을 특징으로 하는 네일 광택기의 제조방법.
제1항에 있어서,
상기 노광기에 글라스를 올려놓고 노광기 문을 닫은 후 15∼30초 동안 진공상태를 유지한 후에 자외선을 조사해 주는 것을 특징으로 하는 네일 광택기의 제조방법.
제1항에 있어서,
상기 DFR 필름을 제거할 때는 글라스를 박리액에 0.5∼2분 동안 담가서 제거하는 것을 특징으로 하는 네일 광택기의 제조방법.
손톱이나 발톱의 절삭과 광택을 동시에 하는 네일 광택기에 있어서,
상기 네일 광택기는, 글라스의 표면에 일정한 패턴이 형성되어 구성되며,
상기 패턴은, 평단면의 형상이 직경 200∼300㎛의 원형이고 높이는 10∼30㎛인 원기둥 형상이며, 패턴 사이의 간격은 직경의 50∼80%로 형성된 것을 특징으로 하는 네일 광택기.
제5항에 있어서,
상기 글라스는 플라스틱 또는 금속으로 제작된 손잡이의 상부에 부착된 것을 특징으로 하는 네일 광택기.
제6항에 있어서,
상기 글라스는 OCA 필름(Optically Clear Adhesive Film)을 사용하여 손잡이에 부착시킨 것을 특징으로 하는 네일 광택기.