KR20190032402A - 광학 제품의 생산을 위한 비정질의 열가소성 폴리에스테르 - Google Patents

광학 제품의 생산을 위한 비정질의 열가소성 폴리에스테르 Download PDF

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Abstract

본 발명은 광학 제품의 생산을 위한 비정질의 열가소성 폴리에스테르의 용도로서, 상기 열가소성 폴리에스테르는 적어도 하나의 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A), 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)와는 다른 적어도 하나의 지환족 디올 단위(B), 적어도 하나의 테레프탈산 단위(C)를 포함하며, 몰 비율 (A)/[(A)+(B)]는 적어도 0.32 및 최대 0.90이며, 상기 폴리에스테르는 비-환형 지방족 디올 단위가 존재하지 않거나, 폴리에스테르에서 전체 모노머 단위에 대해, 5% 미만의 몰량의 비-환형 지방족 디올 단위를 포함하며, 50 ㎖/g보다 큰 용액 중 환산 점도(25℃; 페놀(50 중량%):오르쏘-디클로로벤젠(50 중량%); 5 g/ℓ의 폴리에스테르)를 갖는, 비정질의 열가소성 폴리에스테르의 용도에 관한 것이다.

Description

광학 제품의 생산을 위한 비정질의 열가소성 폴리에스테르
본 발명은 광학 제품의 생산을 위한, 우수한 충격 강도 성질을 가질 수 있는, 적어도 하나의 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위를 포함하는 비정질의 열가소성 폴리에스테르의 용도에 관한 것이다.
그의 여러 장점 때문에, 플라스틱은 물체의 대량 생산에서 피할 수 없게 되었다. 실제로, 이의 열가소성 특징은 이러한 물질을 고속으로 모든 종류의 물체로 변형될 수 있게 한다.
특정의 열가소성 방향족 폴리에스테르는 이러한 것을 물질의 생산을 위해 직접적으로 사용될 수 있게 하는 열적 성질을 갖는다. 이러한 것은 지방족 디올 및 방향족 이산 단위를 포함한다. 이러한 방향족 폴리에스테르 중에, 예를 들어, 필름의 생산에서 사용되는, 에틸렌 글리콜 및 테레프탈산 단위를 포함하는 폴리에스테르인, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)가 언급될 수 있다.
그러나, 특정 적용을 위하여 또는 특정 사용 조건 하에서, 이들 폴리에스테르는 모든 요망되는 성질, 특히, 광학적, 충격 강도 또는 그밖의 내열성 성질을 가지지 않는다. 이는 글리콜-개질된 PET(PETg)가 개발된 이유이다. 이들은 일반적으로, 에틸렌 글리콜 및 테레프탈산 단위 이외에, 시클로헥산디메탄올(CHDM) 단위를 포함하는 폴리에스테르이다. PET 내에 이러한 디올의 도입은 의도된 적용에 대해 성질을 조정하는 것, 특히, PETg가 비정질일 때, 예를 들어, 이의 충격 강도 또는 이의 광학적 성질을 개선시키는 것을 가능하게 한다.
또한, 폴리에스테르 내에, 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위, 특히, 이소소르비드를 도입함으로써 다른 개질된 PET(PEIT)가 개발되었다. 이러한 개질된 폴리에스테르는 비개질된 PET 또는 CHDM을 포함하는 PETg보다 더 높은 유리전이온도를 갖는다. 또한, 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨은 전분과 같은 재생 가능한 자원으로부터 얻어질 수 있다는 장점을 갖는다.
이러한 PEIT가 갖는 하나의 문제점은 이러한 것이 불충분한 충격 강도 성질을 가질 수 있다는 것이다. 또한, 유리전이온도는 부품이 높은 작업 온도로 처리되는 특정 적용에 대해 불충분할 수 있다.
폴리에스테르의 충격 강도 성질을 개선시키기 위하여, 결정도가 감소된 폴리에스테르를 사용하는 것이 종래 기술에 공지되어 있다. 이소소르비드-기반 폴리에스테르와 관련하여, 출원 US2012/0177854호가 언급될 수 있는데, 이러한 문헌에는 개선된 충격 강도 성질을 갖는, 1 내지 60 mol%의 이소소르비드 및 5 내지 99%의 1,4-시클로헥산디메탄올을 포함하는 디올 단위 및 테레프탈산 단위를 포함하는 폴리에스테르가 기술되어 있다.
이러한 출원의 도입 섹션에 명시된 바와 같이, 이의 목적은 코모노머의 첨가에 의해, 및 이에 따라, 이러한 경우에, 1,4-시클로헥산디메탄올의 첨가에 의해 결정도가 제거된 폴리머를 수득하는 것이다. 실시예 섹션에서, 다양한 폴리(에틸렌-코-1,4-시클로헥산디메틸렌-코-이소소르비드)테레프탈레이트(PECIT)의 생산, 및 또한, 폴리(1,4-시클로헥산디메틸렌-코-이소소르비드)테레프탈레이트(PCIT)의 일 예가 기술되어 있다.
또한, PECIT 타입의 폴리머가 상업적 개발 대상이었지만, 이러한 것이 PCIT에 대한 경우가 아니라는 것이 주지될 수 있다. 실제로, 이소소르비드가 2차 디올로서 낮은 반응성을 갖기 때문에, 이의 생산은 지금까지 복잡한 것으로 여겨졌다. 이에 따라, 윤 등(Yoon et al.)의 문헌[Synthesis and Characteristics of a Biobased High-Tg Terpolyester of Isosorbide, Ethylene Glycol, and 1,4-Cyclohexane Dimethanol: Effect of Ethylene Glycol as a Chain Linker on Polymerization, Macromolecules, 2013, 46, 7219-7231]에는, PCIT의 합성이 PECIT의 합성보다 달성하기 훨씬 더 어렵다는 것을 나타내었다. 이러한 문헌에서는 PECIT 생산 반응속도론에 대한 에틸렌 글리콜 함량의 영향의 연구가 기술되어 있다.
윤 등의 문헌에서, 비정질 PCIT(디올의 합에 대해 대략 29%의 이소소르비드 및 71%의 CHDM을 포함함)는 이의 합성 및 이의 성질을 PECIT-타입 폴리머의 것과 비교하기 위해 생산된다. 합성 동안 고온의 이용은 7222쪽의 합성 섹션의 제1 문단을 참조하는 경우 형성된 폴리머의 열적 분해를 유도하며, 이러한 분해는 특히, 지방족 환형 디올, 예를 들어, 이소소르비드의 존재와 관련이 있다. 이에 따라, 윤 등의 문헌에서는 중축합 온도가 270℃로 제한된 공정이 이용되었다. 윤 등의 문헌에서는 중합 시간을 증가시키더라도, 공정이 또한, 충분한 점도를 갖는 폴리에스테르를 얻을 수 없다는 것이 관찰되었다. 이에 따라, 에틸렌 글리콜을 첨가하지 않는 경우에, 긴 합성 시간의 이용에도 불구하고, 폴리에스테르의 점도가 제한된다.
광학 제품의 생산 분야에서, 사용되는 폴리머는 광학적 성질을 가져야 하지만 또한, 충격 강도 및 내스크래치성 및 낮은 복굴절을 가져야 한다. 그러나, 이러한 성질은 시장에 존재하는 폴리머로 최적화되지 않으며, 현재, 적절한 기계적 성질, 및 또한, 광학 제품의 생산에서 사용되고 상기 제품의 양호한 작업 성질을 제공하기에 충분히 높은 환산 용액 점도를 갖는 신규한 열가소성 폴리에스테르를 발견하는 것이 여전히 요구되고 있다.
테레프탈산 단위, 에틸렌 글리콜 단위 및 이소소르비드 단위 및 선택적으로, 다른 디올(예를 들어, 1,4-시클로헥산디메탄올)을 갖는 폴리머로부터 생산된 광학 제품은 문헌 US 6 126 992호로부터 공지되어 있다. 이에 따라 수득된 모든 폴리머는 에틸렌 글리콜 단위를 가져야 하는데, 왜냐하면, 이러한 것이 높은 유리전이온도를 얻기 위해 필수적이라는 것이 널리 받아들여지고 있기 때문이다. 또한, 실행된 제조예에서는 높은 유리전이온도를 갖는 폴리머를 수득하지 못할 수 있으며, 오히려, 이러한 것들은 심지어 광학 제품의 생산에서 완전히 만족스럽기에는 너무 낮다(실시예 1의 폴리머의 경우 106℃ 및 실시예 2의 폴리머의 경우 116℃).
이에 따라, 현재, 광학 제품의 생산을 위한 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위를 함유한 신규한 열가소성 폴리에스테르로서, 상기 폴리에스테르는 이에 따라, 개선된 광학적 성질을 가지고, 용이하게 성형될 수 있고, 높은 내열성 및 또한 높은 충격 강도를 갖는 신규한 열가소성 폴리에스테르를 발견하는 것이 여전히 요구되고 있다.
본 출원인은, 이러한 목적이, 지금까지, 폴리에스테르 내에 상기 이소소르비드의 혼입을 위해 에틸렌 글리콜 단위가 필수적인 것으로 알려져 있지만, 어떠한 에틸렌 글리콜 단위도 함유하지 않음과 동시에, 적어도 하나의 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위, 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위와는 다른 지환족 디올의 적어도 하나의 단위, 및 적어도 하나의 방향족 디카르복실산 단위를 포함하는 비정질의 열가소성 폴리에스테르로 달성될 수 있다는 것을 발견하였다.
이에 따라, 본 발명의 대상은 광학 제품의 생산을 위한 비정질의 열가소성 폴리에스테르의 용도로서, 상기 비정질의 열가소성 폴리에스테르는
● 적어도 하나의 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A);
● 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)와는 다른 적어도 하나의 지환족 디올 단위(B);
● 적어도 하나의 테레프탈산 단위(C)를 포함하며;
(A)/[(A)+(B)] 몰 비율은 적어도 0.32 및 최대 0.90이며, 용액 중 환산 점도는 50 ㎖/g보다 크며,
상기 폴리에스테르는 어떠한 지방족 비-환형 디올 단위도 함유하지 않거나, 폴리에스테르의 모든 모노머 단위에 대해, 5% 미만의 몰량의 지방족 비-환형 디올 단위를 포함하며, 상기 폴리에스테르의 환산 용액 점도(25℃; 페놀(50%m):오르쏘-디클로로벤젠(50%m); 5 g/ℓ의 폴리에스테르)는 50 ㎖/g보다 큰, 비정질의 열가소성 폴리에스테르의 용도이다.
본 발명의 제2 대상은 상술된 비정질의 열가소성 폴리에스테르를 기초로 한 광학 제품을 생산하는 공정에 관한 것이다.
마지막으로, 본 발명의 제3 대상은 상술된 비정질의 열가소성 폴리에스테르를 포함하는 광학 제품에 관한 것이다.
본 발명에서 사용되는 비정질의 열가소성 폴리에스테르는 적어도 116℃의 유리전이온도, 높은 환산 용액 점도, 및 낮은 복굴절(birefringence)을 가지고, 우수한 충격 강도 및 내스크래치성 성질을 갖는데, 이는 광학 제품의 생산에서 사용하기에 특히 유리하다.
본 발명의 제1 대상은 광학 제품의 생산을 위한 비정질의 열가소성 폴리에스테르의 용도로서, 상기 비정질의 열가소성 폴리에스테르는
● 적어도 하나의 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A);
● 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)와는 다른 적어도 하나의 지환족 디올 단위(B);
● 적어도 하나의 테레프탈산 단위(C)를 포함하며;
(A)/[(A)+(B)] 몰 비율은 적어도 0.32 및 최대 0.90이며, 환산 용액 점도는 50 ㎖/g보다 큰, 비정질의 열가소성 폴리에스테르의 용도에 관한 것이다.
(A)/[(A)+(B)] 몰 비율은 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)/1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A) 및 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)와는 다른 지환족 디올 단위(B)의 합의 몰 비율을 의미하는 것으로 의도된다.
비정질의 열가소성 폴리에스테르는 어떠한 지방족 비-환형 디올 단위도 함유하지 않거나, 소량의 지방족 비-환형 디올 단위를 포함한다.
"적은 몰량의 지방족 비-환형 디올 단위"는 특히, 5% 미만의 몰량의 지방족 비-환형 디올 단위를 의미하는 것으로 의도된다. 본 발명에 따르면, 이러한 몰량은 폴리에스테르의 모든 모노머 단위에 대한, 지방족 비-환형 디올 단위들의 합의 비율을 나타내며, 이러한 단위는 동일하거나 상이할 수 있다.
지방족 비-환형 디올은 선형 또는 분지형 지방족 비-환형 디올일 수 있다. 이는 또한, 포화되거나 불포화된 지방족 비-환형 디올일 수 있다. 에틸렌 글리콜 이외에, 포화된 선형 지방족 비-환형 디올은 예를 들어, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,8-옥탄디올 및/또는 1,10-데칸디올일 수 있다. 포화된 분지형 지방족 비-환형 디올의 예로서, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 프로필렌 글리콜 및/또는 네오펜틸 글리콜이 언급될 수 있다. 불포화된 지방족 디올의 예로서, 예를 들어, 시스-2-부텐-1,4-디올이 언급될 수 있다.
이러한 지방족 비-환형 디올 단위의 몰량은 유리하게는, 1% 미만이다. 바람직하게는, 폴리에스테르는 어떠한 지방족 비-환형 디올 단위도 함유하지 않고, 더욱 바람직하게는, 이는 어떠한 에틸렌 글리콜도 함유하지 않는다.
합성을 위해 사용되는, 적은 양의 지방족 비-환형 디올 및 이에 따라, 에틸렌 글리콜에도 불구하고, 놀랍게도, 높은 용액 중 환산 점도를 가지고 이소소르비드가 특히 잘 혼입된 비정질의 열가소성 폴리에스테르가 수득된다. 임의의 한 이론에 의해 제한하고자 하는 것은 아니지만, 이는 에틸렌 글리콜의 반응 속도(reaction kinetics)가 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨의 반응 속도보다 훨씬 더 빠르다는 사실에 의해 설명될 것이며, 이는 폴리에스테르 내에 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨의 도입을 크게 제한한다. 이에 따라 이로부터 수득된 폴리에스테르는 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨의 낮은 도입 정도를 가지고, 결과적으로, 비교적 낮은 유리전이온도를 갖는다.
모노머(A)는 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨이고, 이소소르비드, 이소만나이드, 이소이다이드, 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 바람직하게는, 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨(A)은 이소소르비드이다.
이소소르비드, 이소만나이드 및 이소이다이드는 각각 소르비톨, 만니톨, 및 이디톨의 탈수에 의해 얻어질 수 있다. 이소소르비드와 관련하여, 이는 본 출원인에 의해 상표명 Polysorb® P로 판매된다.
지환족 디올(B)은 또한, 지방족 및 환형 디올로 지칭된다. 이는 특히, 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,2-시클로헥산디메탄올, 1,3-시클로헥산디메탄올 또는 이러한 디올들의 혼합물로부터 선택될 수 있는 디올이다. 지환족 디올(B)은 매우 바람직하게는, 1,4-시클로헥산디메탄올이다. 지환족 디올(B)은 시스 배열, 트랜스 배열일 수 있거나, 시스 및 트랜스 배열의 디올들의 혼합물일 수 있다.
1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)/1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A) 및 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)와는 다른 지환족 디올 단위(B)의 합의 몰 비율은 적어도 0.32 및 최대 0.90이다. 유리하게는, 이러한 비율은 적어도 0.35 및 최대 0.70이며, 보다 특히, 이러한 비율은 적어도 0.40 및 최대 0.65이다.
광학 제품의 생산을 위해 특히 적합한 비정질의 열가소성 폴리에스테르는 예를 들어,
● 16 내지 54% 범위의 몰량의 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A);
● 5 내지 30% 범위의 몰량의, 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)와는 다른 지환족 디올 단위(B);
● 45 내지 55% 범위의 몰량의 테레프탈산 단위(C)를 포함할 수 있다.
폴리에스테르에서 상이한 단위의 양은 폴리에스테르의 완전 가수분해 또는 메탄올분해로부터 형성된 모노머들의 혼합물의 1H NMR에 의해 또는 크로마토그래피 분석에 의해, 바람직하게는, 1H NMR에 의해 결정될 수 있다.
당업자는 폴리에스테르의 각 단위의 양을 결정하기 위한 분석 조건을 용이하게 확인할 수 있다. 예를 들어, 폴리(1,4-시클로헥산디메틸렌-코-이소소르비드 테레프탈레이트)의 NMR 스펙트럼으로부터, 1,4-시클로헥산디메탄올과 관련한 화학적 이동은 0.9 내지 2.4 ppm 및 4.0 내지 4.5 ppm이며, 테레프탈레이트 고리와 관련한 화학적 이동은 7.8 내지 8.4 ppm이며, 이소소르비드와 관련한 화학적 이동은 4.1 내지 5.8 ppm이다. 각 신호의 적분은 폴리에스테르의 각 단위의 양을 결정하는 것을 가능하게 한다.
이에 따라 제조된 비정질의 열가소성 폴리에스테르는 적어도 116℃ 및 최대 200℃의 유리전이온도를 갖는다. 바람직하게는, 유리전이온도는 적어도 118℃, 매우 바람직하게는, 적어도 120℃ 및 더욱더 바람직하게는, 적어도 122℃ 및 최대 190℃이다. 유리전이온도는 보편적인 방법에 의해, 특히, 10℃/분의 가열 속도를 이용한 시차 주사 열량측정법(DSC)을 이용하여 측정된다. 실험 프로토콜은 하기 실시예 섹션에서 상세히 기술된다.
이러한 것은 또한, 특히, 40보다 큰 명도(lightness) L*를 갖는다. 유리하게는, 명도 L*는 55보다 크고, 바람직하게는, 60보다 크고, 가장 바람직하게는, 65보다 크고, 예를 들어, 70보다 크다. 파라미터 L*는 CIE Lab 모델을 통해, 분광광도계를 이용하여 결정될 수 있다.
마지막으로, 용액 중 환산 점도는 50 ㎖/g보다 크고, 150 ㎖/g 미만이며, 이러한 점도는 교반하면서 폴리머를 130℃에서 용해시킨 후에 페놀과 오르쏘-디클로로벤젠의 동일한 질량의 혼합물에서 25℃에서 Ubbelohde 모세관 점도계를 이용하여 측정될 수 있으며, 도입되는 폴리머의 농도는 5 g/ℓ이다.
이러한 환산 용액 점도를 측정하기 위한 시험은 용매의 선택 및 사용되는 폴리머의 농도로 인하여, 기술되는 공정에 따라 제조된 점성의 폴리머의 점도를 결정하는 데 완전히 적합하다.
본 발명에 따라 사용되는 열가소성 폴리에스테르의 비정질 특징은 X-선 회절 라인의 부재에 의해 및 또한 시차 주사 열량측정법 분석에서 흡열 용융 피크의 부재에 의해 특징지어진다.
전술된 공정에 따라 제조된 비정질의 열가소성 폴리에스테르는 광학 제품의 생산을 위한 우수한 성질을 갖는다.
실제로, 특히, 적어도 0.32 및 최대 0.90의 (A)/[(A)+(B)] 몰 비율, 및 50 ㎖/g보다 크며 바람직하게는 150 ㎖/g 보다 작은 환산 용액 점도에 의해, 비정질의 열가소성 폴리에스테르는 이러한 것이 블로우 성형될 때 보다 양호한 내열성을 가지고, 이에 의해 개선되는, 광학적 성질, 예를 들어, 투명성 또는 복굴절을 수득하는 것을 가능하게 한다. 또한, 이러한 것은 양호한 내스크래치성을 가지며, 이러한 것은 금속화 가능하다.
본 발명의 목적을 위하여, 광학 제품에는 예를 들어, CD(compact disc(컴팩트 디스크)의 두문자어), DVD(digital versatile disc(디지털 다기능 디스크)의 두문자어), 광학 렌즈, 프레넬 렌즈(Fresnel lense), 대시보드 윈도우(dashboard window), 프리즘 반사기(prism reflector), 투명 시트 또는 필름, LCD 스크린용 필름, 발광 다이오드 부품, 또는 그밖에 광섬유가 있다.
본 발명에 따른 용도, 상술된 비정질의 열가소성 폴리에스테르로부터 광학 제품의 생산은 예를 들어, 사출 성형, 압축 성형, 사출-압축 성형, 및 다이를 통한 압출을 포함하는, 플라스틱을 위해 통상적으로 사용되는 하나 이상의 기술에 의해 성형하는 단계를 필요로 할 수 있으며, 상기 기술은 특히, 섬유, 필름, 시트, 막대, 플레이트, 과립 또는 로드를 설계하도록 실행되는 것이 가능하다.
유리하게는, 본 발명에 따른 비정질의 열가소성 폴리에스테르로부터 광학 제품의 생산은 사출 성형 또는 사출-압축 성형에 의해 수행될 수 있다. 생산은 바람직하게는, 사출 성형에 의해 수행된다.
일 구현예에 따르면, 비정질의 열가소성 폴리에스테르는 광학 제품의 생산을 위해 사용되기 전에, 중합 후 펠렛(pellet) 또는 과립(granule)과 같은, 취급하기 용이한 형태로 패키징될 수 있다. 바람직하게는, 비정질의 열가소성 폴리에스테르는 과립 형태로 패키징되며, 상기 과립은 광학 제품 형태로 전환하기 전에 유리하게는 건조된다. 건조는 300 ppm 미만, 예를 들어, 대략 230 ppm 미만의 잔류 수분 함량을 갖는 과립을 수득하기 위해 수행된다.
하나의 특정 구현예에 따라, 그리고, 광학 제품을 생산하기 위해 사용되는 방법과는 무관하게, 상기에서 규정된 비정질의 열가소성 폴리에스테르는 하나 이상의 추가적인 폴리머와 함께 사용될 수 있다.
추가적인 폴리머는 폴리아미드, 본 발명에 따른 폴리에스테르와는 다른 폴리에스테르, 폴리스티렌, 스티렌 코폴리머, 스티렌-아크릴로니트릴 코폴리머, 스티렌-아크릴로니트릴-부타디엔 코폴리머, 폴리(메틸 메타크릴레이트), 아크릴 코폴리머, 폴리(에테르-이미드), 폴리(페닐렌 옥사이드), 예를 들어, 폴리(2,6-디메틸페닐렌 옥사이드), 폴리(페닐렌 설페이트), 폴리(에스테르-카보네이트), 폴리카보네이트, 폴리설폰, 폴리설폰 에테르, 폴리에테르 케톤, 및 이러한 폴리머들의 블렌드물로부터 선택될 수 있다.
추가적인 폴리머는 또한, 폴리머, 특히, 기능성 폴리올레핀, 예를 들어, 작용화된 에틸렌 또는 프로필렌 폴리머 및 코폴리머, 코어-쉘 코폴리머 또는 블록 코폴리머의 충격 성질을 개선시키는 것을 가능하게 하는 폴리머일 수 있다.
비정질의 열가소성 폴리에스테르로부터 광학 제품의 생산 동안에, 하나 이상의 첨가제는 또한, 최종 제품에 특정 성질을 제공하기 위해 첨가될 수 있다.
이에 따라, 첨가제는 예를 들어, 탈모울딩제(demolding agent), 예를 들어, Croda로부터의 Incromold™, UV-차단제(UV-resistance agent), 예를 들어, 예컨대, 벤조페논 또는 벤조트리아졸 타입의 분자, 예를 들어, BASF로부터의 Tinuvin™ 범위, 예를 들어, tinuvin 326, tinuvin P 또는 tinuvin 234, 또는 방해된 아민, 예를 들어, BASF로부터의 Chimassorb™ 범위, 예를 들어, Chimassorb 2020, Chimassorb 81 또는 Chimassorb 944로부터 선택될 수 있다.
첨가제는 또한, 예를 들어, 할로겐화된 유도체 또는 비-할로겐화된 내연제(예를 들어, 인-기반 유도체, 예를 들어, Exolit® OP) 또는 예를 들어, 멜라민 시아누레이트 범위(예를 들어, melapur™: melapur 200), 또는 그밖에 알루미늄 하이드록사이드 또는 마그네슘 하이드록사이드와 같은 내화제 또는 내연제일 수 있다.
본 발명의 제2 대상은 하기 단계를 포함하는, 광학 제품을 생산하는 공정에 관한 것이다:
- 상기에서 규정된 바와 같은 비정질의 열가소성 폴리에스테르를 제공하는 단계,
- 상기 단계에서 수득된 비정질의 열가소성 폴리에스테르로부터 상기 광학 제품을 제조하는 단계.
제조 단계는 당업자에게 공지된 기술, 예를 들어, 사출 성형 또는 사출-압축 성형에 의해 수행될 수 있다. 제조는 바람직하게는, 사출 성형에 의해 수행된다.
본 발명의 제3 대상은 상술된 비정질의 열가소성 폴리에스테르를 포함하는 광학 제품에 관한 것이다. 광학 제품은 또한, 상기에 규정된 바와 같은 하나 이상의 추가적인 폴리머 및/또는 하나 이상의 첨가제를 포함할 수 있다.
광학 제품의 생산을 위한 기술된 비정질의 열가소성 폴리에스테르는 하기 단계를 포함하는 생산 공정에 의해 제조될 수 있다:
● 반응기 내에, 적어도 하나의 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨(A), 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨(A)과는 다른 적어도 하나의 지환족 디올(B) 및 적어도 하나의 테레프탈산(C)을 포함하고 몰 비율((A)+(B))/(C)이 1.05 내지 1.5의 범위인 모노머로서, 상기 모노머가 어떠한 지방족 비-환형 디올도 함유하지 않거나 도입되는 모든 모노머에 대해 5% 미만의 몰량의 지방족 비-환형 디올 단위를 포함하는 모노머를 도입하는 단계;
● 반응기 내에, 촉매 시스템을 도입하는 단계;
● 하기 단계를 포함하는, 폴리에스테르를 형성하기 위해 상기 모노머를 중합시키는 단계로서:
■ 반응 매질을 불활성 대기 하, 265 내지 280℃, 유리하게는, 270 내지 280℃ 범위, 예를 들어, 275℃의 온도에서 교반하는 올리고머화의 제1 스테이지;
■ 폴리에스테르를 형성하기 위해, 형성된 올리고머를 진공 하, 278 내지 300℃, 유리하게는, 280 내지 290℃의 범위, 예를 들어, 285℃의 온도에서 교반하는 올리고머의 축합의 제2 스테이지로 이루어진 단계;
● 비정질의 열가소성 폴리에스테르를 회수하는 단계;
(여기서, 몰 비율 ((A)+(B))/(C)는 1.05 내지 1.50의 범위임).
이에 따라 수득된 폴리머는 50 ㎖/g보다 큰 환산 용액 점도를 갖는다.
본 공정의 이러한 제1 스테이지는 불활성 대기 하에서, 다시 말해서, 적어도 하나의 불활성 가스의 대기 하에서 수행된다. 이러한 불활성 가스는 특히, 이질소(dinitrogen)일 수 있다. 이러한 제1 스테이지는 가스 스트림 하에서 수행될 수 있으며, 이는 또한, 압력 하에서, 예를 들어, 1.05 내지 8 bar의 압력에서 수행될 수 있다.
바람직하게는, 압력은 3 내지 8 bar, 가장 바람직하게는, 5 내지 7.5 bar의 범위, 예를 들어, 6.6 bar이다. 이러한 바람직한 압력 조건 하에서, 모든 모노머들의 서로 간의 반응은 이러한 스테이지 동안 모노머의 손실을 제한함으로써 증진된다.
올리고머화의 제1 스테이지 이전에, 모노머의 탈산소화 단계가 우선적으로 수행된다. 이는 예를 들어, 모노머를 반응기 내에 도입한 후에, 진공을 발생시키고 이후에 반응기 내에 질소와 같은 불활성 가스를 도입함으로써 수행될 수 있다. 이러한 진공-불활성 가스 도입 사이클은 여러 차례, 예를 들어, 3 내지 5회 반복될 수 있다. 바람직하게는, 이러한 진공-질소 사이클은, 시약, 및 특히, 디올이 전부 용융되도록, 60 내지 80℃의 온도에서 수행된다. 이러한 탈산소화 단계는 공정의 종료 시에 수득된 폴리에스테르의 착색화 성질을 개선시키는 장점을 갖는다.
올리고머의 축합의 제2 스테이지는 진공 하에서 수행된다. 압력은 압력 감소 경사(ramp)를 이용하거나, 단계별로, 또는 그밖에 압력 감소 경사와 단계의 조합을 이용함으로써 이러한 제2 스테이지 동안 지속적으로 감소시킬 수 있다. 바람직하게는, 이러한 제2 스테이지의 종료 시에, 압력은 10 mbar 미만, 가장 바람직하게는, 1 mbar 미만이다.
중합 단계의 제1 스테이지는 바람직하게는, 20분 내지 5시간 범위의 기간을 갖는다. 유리하게는, 제2 스테이지는 30분 내지 6시간 범위의 기간을 가지며, 이러한 스테이지의 개시는 반응기가 진공 하에서, 다시 말해서, 1 bar 미만의 압력에 배치되는 순간이다.
본 공정은 또한, 반응기 내에 촉매 시스템을 도입하는 단계를 포함한다. 이러한 단계는 사전에 또는 상술된 중합 단계 동안에 일어날 수 있다.
촉매 시스템은 불활성 지지체 상에 선택적으로 분산되거나 고정된, 촉매 또는 촉매들의 혼합물을 의미하는 것으로 의도된다.
촉매는 본 발명에 따른 용도에 따라 고점도 폴리머를 수득하기 위해 적합한 양으로 사용된다.
에스테르화 촉매는 유리하게는, 올리고머화 스테이지 동안 사용된다. 이러한 에스테르화 촉매는 주석, 티탄, 지르코늄, 하프늄, 아연, 망간, 칼슘, 및 스트론튬의 유도체들, 유기 촉매, 예를 들어, 파라-톨루엔설폰산(PTSA) 또는 메탄설폰산(MSA), 또는 이러한 촉매들의 혼합물로부터 선택될 수 있다. 이러한 화합물의 일 예로서, 출원 US 2011282020 A1호, 문단 [0026] 내지 [0029], 및 출원 WO 2013/062408 A1호의 5쪽에 제공된 것들이 언급될 수 있다.
바람직하게는, 아연 유도체 또는 망간, 주석 또는 게르마늄 유도체가 에스테르교환의 제1 스테이지 동안에 사용된다.
중량 기준의 양의 일 예로서, 도입된 모노머의 양에 대해, 올리고머화 스테이지 동안 촉매 시스템에 함유된 10 내지 500 ppm의 금속이 사용될 수 있다.
에스테르교환의 종료 시에, 제1 단계로부터의 촉매는 아인산 또는 인산을 첨가함으로써 선택적으로 블로킹될 수 있거나, 그밖에, 주석(IV)의 경우에서와 같이, 포스파이트, 예를 들어, 트리페닐 포스파이트 또는 트리스(노닐페닐)포스파이트 또는 출원 US 2011/282020A1호의 문단 [0034]에서 인용된 것으로 환원될 수 있다.
올리고머의 축합의 제2 스테이지는 촉매의 첨가와 함께 선택적으로 수행될 수 있다. 이러한 촉매는 유리하게는, 주석 유도체, 바람직하게는, 주석, 티탄, 지르코늄, 게르마늄, 안티몬, 비스무트, 하프늄, 마그네슘, 세륨, 아연, 코발트, 철, 망간, 칼슘, 스트론튬, 소듐, 포타슘, 알루미늄 또는 리튬의 유도체들, 또는 이러한 촉매들의 혼합물로부터 선택된다. 이러한 화합물의 예는 예를 들어, 특허 EP 1 882 712 B1호, 문단 [0090] 내지 [0094]에 제공된 것들일 수 있다.
바람직하게는, 촉매는 주석, 티탄, 게르마늄, 알루미늄 또는 안티몬 유도체이다.
중량 기준의 양의 일 예로서, 도입된 모노머의 양에 대해, 올리고머의 축합 스테이지 동안 촉매 시스템에 함유된 10 내지 500 ppm의 금속이 사용될 수 있다.
가장 바람직하게는, 촉매 시스템은 중합의 제1 스테이지 및 제2 스테이지 동안 사용된다. 상기 시스템은 유리하게는, 주석을 기반으로 한 촉매, 또는 주석, 티탄, 게르마늄 및 알루미늄을 기반으로 한 촉매들의 혼합물로 이루어진다.
일 예로서, 도입된 모노머의 양에 대해, 중량 기준의 양으로 촉매 시스템에 함유된 10 내지 500 ppm의 금속이 사용될 수 있다.
제조 공정에 따르면, 산화방지제는 유리하게는 모노머의 중합 단계 동안에 사용된다. 이러한 산화방지제는 수득된 폴리에스테르의 착색화를 감소시키는 것을 가능하게 한다. 산화방지제는 1차 및/또는 2차 산화방지제일 수 있다. 1차 산화방지제는 입체적으로 방해된 페놀, 예를 들어, 화합물 Hostanox® 0 3, Hostanox® 0 10, Hostanox® 0 16, Ultranox® 210, Ultranox® 276, Dovernox® 10, Dovernox® 76, Dovernox® 3114, Irganox® 1010 또는 Irganox® 1076 또는 포스포네이트, 예를 들어, Irgamod® 195일 수 있다. 2차 산화방지제는 3가 인 화합물, 예를 들어, Ultranox® 626, Doverphos® S-9228, Hostanox® P-EPQ 또는 Irgafos 168일 수 있다.
또한, 반응기 내에 중합 첨가제로서, 원치 않는 에테르화 반응을 제한할 수 있는 적어도 하나의 화합물, 예를 들어, 소듐 아세테이트, 테트라메틸암모늄 하이드록사이드 또는 테트라에틸암모늄 하이드록사이드를 도입하는 것이 가능하다.
본 공정은 또한, 중합 단계의 종료 시에 비정질의 열가소성 폴리에스테르를 회수하는 단계를 포함한다. 폴리에스테르는 용융된 폴리머 로드 형태로의 추출에 의해 회수될 수 있다. 이러한 로드는 보편적인 과립화 기술을 이용하여 과립으로 전환될 수 있다.
본 발명은 하기 실시예 및 도면에 의해 더욱 명확하게 이해될 것이며, 이러한 것들은 오로지 예시적인 것으로만 의도되고, 어떠한 방식으로도 보호 범위를 제한하지는 않는다.
[도면의 간단한 설명]
도 1a는 본 발명에 따른 비정질의 열가소성 폴리에스테르로 생산된 플레이트의 사진이다.
도 1b는 본 발명에 따른 비정질의 열가소성 폴리에스테르로 생산되지 않은 플레이트의 사진이다.
실시예
폴리머의 성질을 하기 기술을 통해 연구하였다:
환산 용액 점도
환산 용액 점도를, 교반하면서 130℃에서 폴리머를 용해시킨 후, 25℃에서 Ubbelohde 모세관 점도계를 이용하여 페놀과 오르쏘-디클로로벤젠의 동일-질량 혼합물 중에서 평가하였으며, 도입된 폴리머의 농도는 5 g/ℓ이었다.
DSC
폴리에스테르의 열적 성질을 시차 주사 열량측정법(DSC)에 의해 측정하였다. 먼저 샘플을 개방된 도가니에서 질소 대기 하에서, 10℃에서 320℃까지(10℃분-1) 가열하고, 10℃까지(10℃분-1) 냉각시키고, 이후에, 다시 제1 단계와 동일한 조건 하에서 320℃까지 가열하였다. 유리전이온도를 제2 가열의 중간점에서 얻었다. 임의의 융점을 제1 가열에서 흡열 피크(개시) 상에서 결정하였다. 유사하게, 용해 엔탈피(곡선 아래 면적)를 제1 가열에서 결정하였다.
하기에 제시되는 예시적인 실시예에 대하여, 하기 시약을 사용하였다:
1,4-시클로헥산디메탄올(99% 순도, 시스 이성질체와 트랜스 이성질체의 혼합물)
이소소르비드(순도 > 99.5%) Roquette Freres로부터의 Polysorb® P
Acros로부터의 테레프탈산(99+% 순도)
BASF AG로부터의 Irganox® 1010
Sigma Aldrich로부터의 디부틸주석 옥사이드(98% 순도)
비정질의 열가소성 폴리에스테르의 제조 및 형성
A: 중합
2개의 열가소성 폴리에스테르 P1 및 P2를 표 1에 상세히 나타낸 시약의 양과 함께 하기에 기술되는 절차에 따라 제조하였다. P1은 특히, 적어도 0.32의 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)/1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A) 및 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)와는 다른 지환족 디올 단위(B)의 합의 몰 비율을 갖는, 본 발명에 따라 사용하기 위해 제조된 비정질의 열가소성 폴리에스테르이며, P2는 비교로서 제공되는, 0.1의 (A)/[(A)+(B)] 몰 비율을 갖는 폴리에스테르이다.
859 g(6 mol)의 1,4-시클로헥산디메탄올, 871 g(6 mol)의 이소소르비드, 1800 g(10.8 mol)의 테레프탈산, 1.5 g의 Irganox 1010(항산화제) 및 1.23 g의 디부틸주석 옥사이드(촉매)를 7.5 ℓ 반응기에 첨가하였다.
이소소르비드 결정으로부터 잔류 산소를 추출하기 위하여, 반응 매질의 온도가 60℃ 내지 80℃가 된 직후에, 4회의 진공-질소 사이클을 수행하였다. 반응 혼합물을 이후에, 6.6 bar의 압력 하에서 그리고 일정한 교반(150 rpm)과 함께 275℃(4℃/분)까지 가열하였다. 에스테르화도를 수집된 증류물의 양으로부터 추정하였다. 압력을 이후에, 로그 경사(logarithmic ramp)에 따라 90분의 과정에 걸쳐 0.7 mbar까지 감소시키고, 온도를 285℃까지 되게 하였다. 초기 토크에 대해 10 Nm의 토크 증가가 얻어질 때까지 이러한 진공 및 온도 조건을 유지시켰다.
마지막으로, 폴리머 로드(polymer rod)를 반응기의 하부 밸브를 통해 캐스팅하고, 열-조절된 수욕에서 15℃까지 냉각시키고, 약 15 mg의 과립의 형태로 절단하였다.
[표 1]
Figure pct00001
폴리에스테르 P1 및 폴리에스테르 P2에 대해 수득된 수지의 성질을 하기 표 2에 요약하였다:
[표 2]
Figure pct00002
열적 성질과 관련하여, 판독을 제2 가열에서 수행하였다.
B: 사출
300 ppm 미만의 잔류 수분 함량을 달성하기 위해 폴리에스테르 P1 및 폴리에스테르 P2의 과립을 110℃에서 진공-건조시켰으며, 특히, 이러한 실시예에서, 과립의 물 함량은 230 ppm이다.
사출 성형을 Engel Victory 80® 프레스 상에서 수행하였다.
건조 대기에서 유지된, 과립을 이후에, 사출-성형 프레스의 호퍼 내에 도입하였다. 과립을 두께가 2 mm인 플레이트 형태로 사출성형하였으며, 사출 성형 파라미터는 하기 표 3에 요약하였다:
[표 3]
Figure pct00003
이러한 파라미터로 수득된 플레이트는 열가소성 폴리에스테르 P1 및 열가소성 폴리에스테르 P2으로 수득된 2개의 플레이트의 사진을 각각 나타낸 도 1a 및 도 1b에 도시된 바와 같이, 매우 상이한 성질을 갖는다.
비정질의 열가소성 폴리에스테르 P1은 유리한 광학적 성질 및 특히, 낮은 복굴절을 갖는 플레이트를 수득할 수 있게 한다. 반대로, 적어도 0.32의 (A)/[(A)+(B)] 몰 비율을 함유하지 않는, 폴리에스테르 P2는 너무 높고 광학 제품의 생산을 위한 사용과 양립할 수 없는 복굴절을 갖는다.

Claims (22)

  1. 광학 제품(optical article)의 생산을 위한 비정질의 열가소성 폴리에스테르의 용도로서, 상기 비정질의 열가소성 폴리에스테르는
    ● 적어도 하나의 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A);
    ● 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)와는 다른 적어도 하나의 지환족 디올 단위(B);
    ● 적어도 하나의 테레프탈산 단위(C)를 포함하며;
    (A)/[(A)+(B)] 몰 비율은 적어도 0.32 및 최대 0.90이며;
    상기 폴리에스테르는 어떠한 지방족 비-환형 디올 단위도 함유하지 않거나, 폴리에스테르의 모든 모노머 단위에 대해, 5% 미만의 몰량의 지방족 비-환형 디올 단위를 포함하며, 상기 폴리에스테르의 환산 용액 점도(25℃; 페놀(50%m):오르쏘-디클로로벤젠(50%m); 5 g/ℓ의 폴리에스테르)는 50 ㎖/g보다 큰, 비정질의 열가소성 폴리에스테르의 용도.
  2. 제1항에 있어서, 지환족 디올(B)이 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,2-시클로헥산디메탄올, 1,3-시클로헥산디메탄올 또는 이러한 디올들의 혼합물로부터 선택된 디올, 매우 바람직하게는, 1,4-시클로헥산디메탄올인 것을 특징으로 하는, 용도.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨(A)이 이소소르비드인 것을 특징으로 하는, 용도.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리에스테르가 어떠한 지방족 비-환형 디올 단위도 함유하지 않거나, 폴리에스테르의 모든 모노머 단위에 대해, 1% 미만의 몰량의 지방족 비-환형 디올 단위를 포함하며, 바람직하게는, 폴리에스테르가 어떠한 지방족 비-환형 디올 단위도 함유하지 않는 것을 특징으로 하는, 용도.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, (3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A) + 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)와는 다른 지환족 디올 단위(B))/(테레프탈산 단위(C)) 몰 비율이 1.05 내지 1.5인 것을 특징으로 하는, 용도.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 광학 제품이 하나 이상의 추가적인 폴리머 및/또는 하나 이상의 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는, 용도.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 광학 제품이 CD(compact disc(컴팩트 디스크)의 두문자어), DVD(digital versatile disc(디지털 다기능 디스크)의 두문자어), 렌즈, 프레넬 렌즈(Fresnel lense), 대시보드 윈도우(dashboard window), 프리즘 반사기(prism reflector), 투명 시트 또는 필름, LCD 스크린용 필름, 발광 다이오드 부품, 또는 그밖에 광섬유를 포함하는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 용도.
  8. ● 적어도 하나의 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A);
    ● 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)와는 다른 적어도 하나의 지환족 디올 단위(B);
    ● 적어도 하나의 테레프탈산 단위(C)를 포함하며;
    (A)/[(A)+(B)] 몰 비율은 적어도 0.32 및 최대 0.90인 비정질의 열가소성 폴리에스테르를 포함하는 광학 제품으로서;
    상기 폴리에스테르는 어떠한 지방족 비-환형 디올 단위도 함유하지 않거나, 폴리에스테르의 모든 모노머 단위에 대해, 5% 미만의 몰량의 지방족 비-환형 디올 단위를 포함하며, 상기 폴리에스테르의 환산 용액 점도(25℃; 페놀(50%m):오르쏘-디클로로벤젠(50%m); 5 g/ℓ의 폴리에스테르)는 50 ㎖/g보다 큰, 광학 제품.
  9. 제8항에 있어서, 지환족 디올(B)이 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,2-시클로헥산디메탄올, 1,3-시클로헥산디메탄올 또는 이러한 디올들의 혼합물로부터 선택된 디올, 매우 바람직하게는, 1,4-시클로헥산디메탄올인 것을 특징으로 하는, 광학 제품.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨(A)이 이소소르비드인 것을 특징으로 하는, 광학 제품.
  11. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리에스테르가 어떠한 지방족 비-환형 디올 단위도 함유하지 않거나, 폴리에스테르의 모든 모노머 단위에 대해, 1% 미만의 몰량의 지방족 비-환형 디올 단위를 포함하며, 바람직하게는, 폴리에스테르가 어떠한 지방족 비-환형 디올 단위도 함유하지 않는 것을 특징으로 하는, 광학 제품.
  12. 제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, (3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)+1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)와는 다른 지환족 디올 단위(B))/(테레프탈산 단위(C)) 몰 비율이 1.05 내지 1.5인 것을 특징으로 하는, 광학 제품.
  13. 제8항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 광학 제품이 하나 이상의 추가적인 폴리머 및/또는 하나 이상의 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는, 광학 제품.
  14. 제8항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 광학 제품이 CD(compact disc의 두문자어), DVD(digital versatile disc의 두문자어), 렌즈, 프레넬 렌즈, 대시보드 윈도우, 프리즘 반사기, 투명 시트 또는 필름, LCD 스크린용 필름, 발광 다이오드 부품, 또는 그밖에 광섬유를 포함하는 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는, 광학 제품.
  15. 광학 제품을 생산하는 방법으로서,
    - 적어도 하나의 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A), 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)와는 다른 적어도 하나의 지환족 디올 단위(B), 적어도 하나의 테레프탈산 단위(C)를 포함하고, 여기서, (A)/[(A)+(B)] 몰 비율이 적어도 0.32 및 최대 0.90인 비정질의 열가소성 폴리에스테르로서, 상기 폴리에스테르는 어떠한 지방족 비-환형 디올 단위도 함유하지 않거나 폴리에스테르의 모든 모노머 단위에 대해, 5% 미만의 몰량의 지방족 비-환형 디올 단위를 포함하고, 상기 폴리에스테르의 환산 용액 점도(25℃; 페놀(50%m):오르쏘-디클로로벤젠(50%m); 5 g/ℓ의 폴리에스테르)는 50 ㎖/g보다 큰, 비정질의 열가소성 폴리에스테르를 제공하는 단계,
    - 상기 단계에서 수득된 비정질의 열가소성 폴리에스테르로부터 상기 광학 제품을 제조하는 단계를 포함하는 방법.
  16. 제15항에 있어서, 제조 단계가 사출 성형에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는, 생산 방법.
  17. 제15항 또는 제16항에 있어서, 지환족 디올(B)이 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,2-시클로헥산디메탄올, 1,3-시클로헥산디메탄올 또는 이러한 디올들의 혼합물로부터 선택된 디올, 매우 바람직하게는, 1,4-시클로헥산디메탄올인 것을 특징으로 하는, 방법.
  18. 제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 1,4:3,6-디언하이드로헥시톨(A)이 이소소르비드인 것을 특징으로 하는, 방법.
  19. 제15항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리에스테르가 어떠한 지방족 비-환형 디올 단위도 함유하지 않거나, 폴리에스테르의 모든 모노머 단위에 대해, 1% 미만의 몰량의 지방족 비-환형 디올 단위를 포함하며, 바람직하게는, 폴리에스테르가 어떠한 지방족 비-환형 디올 단위도 함유하지 않는 것을 특징으로 하는, 생산 방법.
  20. 제15항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, (3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)+1,4:3,6-디언하이드로헥시톨 단위(A)와는 다른 지환족 디올 단위(B))/(테레프탈산 단위(C)) 몰 비율이 1.05 내지 1.5인 것을 특징으로 하는, 방법.
  21. 제15항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 광학 제품이 하나 이상의 추가적인 폴리머 및/또는 하나 이상의 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는, 방법.
  22. 제15항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, 광학 제품이 CD(compact disc의 두문자어), DVD(digital versatile disc의 두문자어), 렌즈, 프레넬 렌즈, 대시보드 윈도우, 프리즘 반사기, 투명 시트 또는 필름, LCD 스크린용 필름, 발광 다이오드 부품, 또는 그밖에 광섬유를 포함하는 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는, 방법.
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