KR20190008136A - 레이저 방사선의 선형 강도 분포를 발생시키는 장치 - Google Patents
레이저 방사선의 선형 강도 분포를 발생시키는 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20190008136A KR20190008136A KR1020180081370A KR20180081370A KR20190008136A KR 20190008136 A KR20190008136 A KR 20190008136A KR 1020180081370 A KR1020180081370 A KR 1020180081370A KR 20180081370 A KR20180081370 A KR 20180081370A KR 20190008136 A KR20190008136 A KR 20190008136A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- laser
- laser radiation
- intensity distribution
- designed
- converters
- Prior art date
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 2
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 claims 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000002463 transducing effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0955—Lenses
- G02B27/0966—Cylindrical lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/12—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/0604—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0071—Beam steering, e.g. whereby a mirror outside the cavity is present to change the beam direction
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/073—Shaping the laser spot
- B23K26/0738—Shaping the laser spot into a linear shape
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0009—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only
- G02B19/0014—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only at least one surface having optical power
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0028—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed refractive and reflective surfaces, e.g. non-imaging catadioptric systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
- G02B19/0052—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
- G02B19/0052—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode
- G02B19/0057—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode in the form of a laser diode array, e.g. laser diode bar
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
- G02B19/0095—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B23/00—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/0944—Diffractive optical elements, e.g. gratings, holograms
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0955—Lenses
- G02B27/0961—Lens arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0972—Prisms
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0911—Anamorphotic systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/10—Mirrors with curved faces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Astronomy & Astrophysics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
레이저 방사선의 선형 강도 분포를 발생시키는 장치는 서로 이격된 2 개의 빔 변환 장치(2, 3), 및 상기 2개의 빔 변환 장치(2, 3)를 통과한 레이저 방사선을 선형 강도 분포로 포커싱할 수 있는 포커싱 수단(6a, 6b)을 포함하고, 상기 장치는 선형 강도 분포의 라인 횡 방향의 라인 폭이 상기 2 개의 빔 변환 장치(2, 3) 사이의 거리의 변경에 의해 변경될 수 있도록 설계된다.
Description
본 발명은 청구항 제 1 항의 전제부에 따른 레이저 방사선의 선형 강도 분포를 발생시키는 장치에 관한 것이다.
특히 큰 심도를 갖는 길고 균질하며(homogeneous) 좁은 레이저 라인을 생성하기 위해, 굴절 또는 반사 빔 변환 장치가 사용될 수 있고, 상기 빔 변환 장치는 멀티 모드 레이저(M2>10), 예를 들어 고체 레이저의 모드 구성을 재배치하여, 빔 품질(또는 회절 계수 또는 모드 개수 또는 빔 발산)을 횡 방향(Y)에 대해 상당히 낮추고 다른 방향(X)에 대해 높인다. 결과적으로, 그 뒤에 배치된 광학 장치에 의해 X 방향의 방사선(긴 라인 축)이 매우 양호하게 균질화될 수 있다. Y 방향(라인 단면)에서, 방사선은 매우 양호하게 포커싱될 수 있으며, 큰 심도가 달성될 수 있다. 또한, 간단하게 구성된, 낮은 NA의 포커싱 광학 장치로 큰 작동 거리가 달성될 수 있는 것이 바람직하다. 상응하는 장치는 EP 1 896 893 A1에 개시되어 있다.
2 개의 렌즈 어레이로 구성된 굴절 빔 변환 장치들이 US 5,513,201에 개시되어 있다. 이들은 레이저 다이오드 어레이의 방사선을 번들링하는 역할을 한다. EP1006382A1에는 2 개의 양면 볼록 실린더 렌즈 어레이를 구비한 또 다른 빔 변환 장치가 개시되어 있다.
본 발명의 과제는 선형 강도 분포의 라인 횡 방향에서의 라인 폭을 조절할 수 있는 상기 유형의 장치를 제공하는 것이다.
상기 과제는 본 발명에 따라 청구항 제 1 항의 특징들을 갖는 전술한 유형의 장치에 의해 해결된다. 종속 청구항들은 본 발명의 바람직한 실시 예들에 관한 것이다.
청구항 제 1 항에 따르면, 장치는 선형 강도 분포의 라인 횡 방향에서의 라인 폭이 2 개의 빔 변환 장치 사이의 거리의 변경에 의해 변경될 수 있도록 설계된다. 그 결과, 선형 강도 분포의 라인 횡 방향에서의 라인 폭이 간단한 방식으로 조절될 수 있다.
특히 고체 레이저와 같은 멀티 모드 레이저를 사용하여 좁은 레이저 라인을 형성할 때 상기 라인 폭의 제어가 무단으로 기술적으로 쉽게 실현될 수 있다. 이러한 방식으로, X 방향의 발산, 예컨대 장치의 설계와는 다른 레이저 발산을 조절하는, 빔 변환 장치들과 레이저 광원 사이의 광학 수단들의 제조 에러 및 조정 에러 그리고 빔 변환 장치들의 제조 공차가 광학적으로 보상될 수 있다. 또한, 이로 인해 빔 변환 장치들 내의 광 강도가 사용된 재료의 손상 임계치 미만이 되도록 추가로 감소할 수 있다.
본 발명의 다른 특징들 및 장점들은 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시 예에 대한 다음의 설명으로부터 명백해질 것이다.
도 1a는 본 발명에 따른 장치의 일 실시 예의 개략적인 측면도.
도 1b는 도 1a에 따른 장치의 개략적인 평면도.
도 2는 2 개의 빔 변환 장치 중 제 1 빔 변환 장치의 입사면 상의 레이저 방사선의 단면도.
도 3a 및 도 3b는 빔 변환을 나타낸 도면.
도 4a는 2 개의 빔 변환 장치 중 제 1 빔 변환 장치의 입사면 상의 레이저 방사선의 단면도.
도 4b는 2 개의 빔 변환 장치 중 제 2 빔 변환 장치의 출사면 상의 레이저 방사선의 단면도.
도 5는 장치의 일부의 개략적인 사시도.
도 6은 빔 변환 장치의 제 1 실시 예의 단면도.
도 7은 빔 변환 장치의 제 2 실시 예의 단면도.
도 8은 2 개의 빔 변환 장치 및 포커싱 수단을 통한 척도에 맞지 않는 예시적인 빔 경로를 나타낸 도면.
도 9는 2 개의 빔 변환 장치들 사이의 거리에 대한 라인 횡 방향에서의 빔 허리의 의존성을 나타내는 다이어그램.
도 10은 2 개의 빔 변환 장치의 사시도.
도 1b는 도 1a에 따른 장치의 개략적인 평면도.
도 2는 2 개의 빔 변환 장치 중 제 1 빔 변환 장치의 입사면 상의 레이저 방사선의 단면도.
도 3a 및 도 3b는 빔 변환을 나타낸 도면.
도 4a는 2 개의 빔 변환 장치 중 제 1 빔 변환 장치의 입사면 상의 레이저 방사선의 단면도.
도 4b는 2 개의 빔 변환 장치 중 제 2 빔 변환 장치의 출사면 상의 레이저 방사선의 단면도.
도 5는 장치의 일부의 개략적인 사시도.
도 6은 빔 변환 장치의 제 1 실시 예의 단면도.
도 7은 빔 변환 장치의 제 2 실시 예의 단면도.
도 8은 2 개의 빔 변환 장치 및 포커싱 수단을 통한 척도에 맞지 않는 예시적인 빔 경로를 나타낸 도면.
도 9는 2 개의 빔 변환 장치들 사이의 거리에 대한 라인 횡 방향에서의 빔 허리의 의존성을 나타내는 다이어그램.
도 10은 2 개의 빔 변환 장치의 사시도.
도면들에서, 동일하거나 기능적으로 동일한 부분들은 동일한 도면 번호로 표시되어 있다. 일부 도면에서 방향 결정을 쉽게 하기 위해 직교 좌표계가 도시되어 있다.
직교 좌표계에서 발생하는 레이저 방사선의 선형 강도 분포는 X 방향으로 연장되는 라인 길이 방향과 Y 방향으로 연장되는 라인 횡 방향을 갖는다.
도 1에 도시된 장치는 개략적으로 도시된 레이저 광원(10), 애너모포틱(anamorphotic) 망원경(1), 제 1 및 제 2 빔 변환 장치(2, 3), 및 특히 X 방향 또는 라인 길이 방향으로 작용하는 균질기 수단들(4)을 포함한다. 상기 장치는 X 방향 푸리에 광학 수단(5a, 5b) 및 Y 방향 포커싱 수단(6a, 6b)을 더 포함한다.
레이저 광원(10)은 예를 들면, 레이저 다이오드로 펌핑된 고체 레이저로서 설계될 수 있다. 균질기 수단들(4)은 예를 들어, 레이저 방사선의 전파 방향으로 또는 Z 방향으로 연속해서 배치된 2개의 실린더 렌즈 어레이를 포함하고, 상기 실린더 렌즈 어레이의 실린더 축은 Y 방향으로 연장된다.
애너모포틱 망원경(1)은 제 1 빔 변환 장치(2)의 입사면에서 긴 축(X)으로 좁은 타원형 허리(7)를 형성하는 역할을 한다(도 2 참조). 빔 변환 장치들(2, 3)은 2 개의 굴절 또는 반사 어레이로서 설계될 수 있다.
빔 변환 장치들(2, 3)의 후방 및 균질기 수단(4)의 전방에는 X 방향으로 작용하는 광학 수단들(8)이 제공될 수 있다.
특히, 빔 변환 장치들(2, 3)의 각각은 굴절 어레이로 이루어진다. 제 1 어레이에서, 타원형 허리(7)는 다수의, 특히 m 개의 부분 빔(9) 또는 X 방향의 세그먼트들로 분할된다. 대안으로서, 레이저 방사선은 상기 어레이 앞에서 추가의 분할 광학 장치로 분할될 수 있다. 또한, 부분 빔들(9)은 입력부과 비교할 때 빔 변환 장치들(2, 3)의 출력부에서 XY 평면에서 45 °축에 대해 반사되도록 변환된다. 도 3a 및 도 3b에서, 이것은 부분 빔 (9)의 단면의 모서리 A, B, C, D의 변환에 의해 도시된다. 도 4a 및 4b에는 입력 측에서 인접한 부분 빔(9)이 그리고 도 4b에는 출력 측에서 변환된 부분 빔(9')이 도시되어 있다.
어레이들의 사이 공간에서 부분 빔들은 어느 정도 포커싱된다.
변환은 광 번들 전체에 대해 회절 계수 M2를 이방성으로 변화시킨다. 특히, M2는 Y 방향에 대해 m 배 감소하고, X 방향에 대해 m 배 커진다. 또한, 한편으로는 타원형 허리(7)의 긴 축 또는 X 방향과 관련한 작은 입력 발산(θx)과 타원형 허리(7)의 좁은 축 또는 Y 방향과 관련한 큰 입력 발산(θy)이 변환 후에 바뀔 수 있다.
(1)
빔 변환 장치(2, 3)의 바람직한 실시 예는 2개의 실린더 렌즈 어레이들로 이루어지고, 상기 실린더 렌즈 어레이의 실린더 축은 X 방향 및 Y 방향에 대해 45°의 각으로 정렬된다(도 2, 도 5 및 도 10 참조). 이 경우, 제 1 빔 변환 장치(2)를 형성하는 어레이의 실린더 축은 제 2 빔 변환 장치(3)를 형성하는 어레이의 실린더 축에 대해 평행하게 정렬된다.
어레이의 개별 실린더 렌즈 쌍은 부분 빔에 대해 배율 -1로 Keppler 망원경을 형성한다:
(2)
상기 등식 2는 도 6에 따른 실시 예에만 적용된다. 도 6에 따른 실시 예는 내부 렌즈 면에서의 에너지 밀도가 도 7에 따른 실시 예에서보다 낮다는 장점을 갖는다. 도 6 및 도 7에서, 제 1 및 제 2 빔 변환 장치(2, 3)의 렌즈 면의 반경은 R1 및 R2로 표시되어 있다. d는 대향 렌즈 면들 사이의 거리를 나타낸다. F1, F1', F2 및 F2'는 도 6 및 도 7에서 실린더 렌즈의 전방 및 후방 초점 거리를 나타낸다. 도 7에서 dg는 실린더 렌즈의 두께를 나타낸다.
오목한 계단을 갖는 교차된 계단 거울을 갖는 실시 예도 원칙적으로 가능하다. 그러나 오목한 계단은 수차를 보상할 수 있도록 적절한 형상을 가져야 한다.
등식 1에 따른 출력부에서의 빔 발산은, 예를 들어 등식 2에 따른 텔레스코픽 조건들이 도 6에 따른 구성에 대해 정확히 충족되도록 렌즈 어레이들 사이의 거리(d)가 선택되면 유효하다.
한편으로는, 거리(d)의 미세 조정에 의해, 출력 빔의 발산이 변경될 수 있다. 다른 한편으로는, 반경의 제조 에러가 보정될 수 있다. 또한, 제조 에러 및 조정 에러는 X 방향 발산, 예컨대 장치의 설계와는 다른 레이저 발산을 조절하는, 빔 변환 장치들과 레이저 광원 사이의 광학 수단들에 의해 광학적으로 보상될 수 있다.
거리 Δ = d-d0가 변경될 때, 빔 변환 장치들(2, 3) 이후의 부분 빔들(9, 9')은 추가로 발산된다:
(3)
상기 식에서, P는 실린더 축에 대해 수직인 빔 변환 장치(2, 3)의 실린더 렌즈들의 피치 또는 중심거리이고, fT는 빔 변환 장치(2, 3)의 실린더 렌즈들의 초점거리이다.
Y에 대한 결과 발산
(4)
은 거리의 감소에 따라 증가한다. 거리가 증가하면 또는 Δ가 포지티브이면, 발산이 처음에는 감소한다. 값 δθ= -θ'y에 도달하면 발산은 다시 증가하기 시작한다(식에서 "-"부호로).
2 개의 빔 변환 장치들(2, 3) 간의 상대 이동은 도 10에 도시되어 있다.
라인 폭(wy)은 발산에 의존한다. 이것은 다음 예에서 설명된다:
피치 P = 1.06mm, fT = 7.5mm, θ'y = 0.25mrad인 빔 변환 장치; 제 1 포커싱 수단(6a)으로서 사용되는 f1 = 586㎜를 가진 포커싱 렌즈 및 제 2 포커싱 수단(6b)으로서 사용되는 f2 = 170㎜ 및 배율 V = S'/S = (2467-586)/187 = 1/10.06를 가진 투영 렌즈가 주어진다(도 8 참조). 도 8에 제시된 치수는 mm 단위의 거리이다.
범위 Δ = + 0.04 ...-0.12 mm에서 빔 변환 장치의 거리 변화는 라인 폭 wy = HW@e-2을 14 μm에서 38 μm로 변경한다(도 9 참조). 이러한 변경은 적절한 정밀 메커니즘을 통해 쉽게 가능하다. 정확한 전기 기계식, 예를 들어 피에조 드라이브가 이를 위해 적합하다.
2, 3
빔 변환 장치
4 균질기 수단
6a, 6b 포커싱 수단
10 레이저 광원
4 균질기 수단
6a, 6b 포커싱 수단
10 레이저 광원
Claims (10)
- 레이저 방사선의 선형 강도 분포를 발생시키는 장치로서,
- 서로 이격된 2 개의 빔 변환 장치(2, 3), 및
- 상기 2개의 빔 변환 장치(2, 3)를 통과한 레이저 방사선을 선형 강도 분포로 포커싱할 수 있는 포커싱 수단(6a, 6b)을 포함하는, 상기 장치에 있어서,
상기 장치는 선형 강도 분포의 라인 횡 방향의 라인 폭이 상기 2 개의 빔 변환 장치(2, 3) 사이의 거리의 변경에 의해 변경될 수 있도록 설계되는 것을 특징으로 하는 장치. - 제 1 항에 있어서, 상기 빔 변환 장치들(2, 3) 중 하나 또는 2 개는 특히 전파 방향을 중심으로 90°의 각만큼 상기 레이저 방사선을 회전시킬 수 있고, 및/또는 상기 빔 변환 장치들(2, 3) 중 하나 또는 2 개는 레이저 방사선들의 서로 수직인 2개의 횡 방향의 발산 계수 또는 회절 계수가 바뀌도록 상기 레이저 방사선을 변환할 수 있는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 빔 변환 장치들(2, 3) 중 하나 또는 2 개는 렌즈 어레이로서 또는 거울 어레이로서 설계되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 3 항에 있어서, 상기 렌즈 어레이에서 렌즈들은 실린더 렌즈로서 설계되고, 상기 실린더 렌즈의 실린더 축은 특히 상기 렌즈들이 나란히 배치되는 방향에 대해 45°의 각으로 정렬되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 3 항에 있어서, 상기 거울 어레이에서 거울들은 오목한 곡률을 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 장치는 예컨대 레이저 다이오드로 펌핑된 고체 레이저로서 설계된 레이저 광원(10)을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 장치는 특히 상기 2 개의 빔 변환 장치(2, 3)와 상기 포커싱 수단들 사이에 배치된 균질기 수단들(4)을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 장치는 바람직하게는 상기 레이저 광원(10)과 상기 2 개의 빔 변환 장치(2, 3) 사이에 배치된 망원경, 특히 애너모포틱 망원경(1)을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 장치는 특히 상기 2 개의 빔 변환 장치(2, 3) 중 하나가 다른 하나에 대해 이동됨으로써, 상기 2개의 빔 변환 장치(2, 3)의 거리를 변경시킬 수 있는 포지셔닝 수단들을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 9 항에 있어서, 상기 포지셔닝 수단들은 정밀 메카니즘으로서 또는 전기 기계 드라이브, 예컨대 피에조 드라이브로서 설계되는 것을 특징으로 하는 장치.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102017115964.9 | 2017-07-14 | ||
DE102017115964.9A DE102017115964B4 (de) | 2017-07-14 | 2017-07-14 | Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung einer Laserstrahlung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190008136A true KR20190008136A (ko) | 2019-01-23 |
KR102524153B1 KR102524153B1 (ko) | 2023-04-24 |
Family
ID=62750830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020180081370A KR102524153B1 (ko) | 2017-07-14 | 2018-07-13 | 레이저 방사선의 선형 강도 분포를 발생시키는 장치 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11105961B2 (ko) |
EP (1) | EP3428713A1 (ko) |
JP (1) | JP2019020731A (ko) |
KR (1) | KR102524153B1 (ko) |
CN (1) | CN109254408B (ko) |
DE (1) | DE102017115964B4 (ko) |
TW (1) | TWI697162B (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102018216940A1 (de) | 2018-10-02 | 2020-04-02 | 3D-Micromac Ag | Laserbearbeitungssystem |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5331466A (en) * | 1991-04-23 | 1994-07-19 | Lions Eye Institute Of Western Australia Inc. | Method and apparatus for homogenizing a collimated light beam |
JP2002025933A (ja) * | 2001-04-04 | 2002-01-25 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ビームホモジナイザ及び半導体薄膜作製方法 |
DE102008033358A1 (de) * | 2007-07-19 | 2009-02-26 | Coherent Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Umverteilung des Strahlparameter-Produktes eines Laserstrahls |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5461473A (en) * | 1990-12-31 | 1995-10-24 | Spatial Positioning Systems, Inc. | Transmitter and receiver units for spatial position measurement system |
US5513201A (en) | 1993-04-30 | 1996-04-30 | Nippon Steel Corporation | Optical path rotating device used with linear array laser diode and laser apparatus applied therewith |
DE19520187C1 (de) * | 1995-06-01 | 1996-09-12 | Microlas Lasersystem Gmbh | Optik zum Herstellen einer scharfen Beleuchtungslinie aus einem Laserstrahl |
EP1006382B1 (de) | 1998-10-30 | 2002-09-18 | Lissotschenko, Vitalij | Anordnung und Vorrichtung zur optischen Strahltransformation |
US7554737B2 (en) * | 2000-12-20 | 2009-06-30 | Riake Corporation | Illumination device and method using adaptable source and output format |
TW528879B (en) * | 2001-02-22 | 2003-04-21 | Ishikawajima Harima Heavy Ind | Illumination optical system and laser processor having the same |
SG143981A1 (en) * | 2001-08-31 | 2008-07-29 | Semiconductor Energy Lab | Laser irradiation method, laser irradiation apparatus, and method of manufacturing a semiconductor device |
US6773142B2 (en) * | 2002-01-07 | 2004-08-10 | Coherent, Inc. | Apparatus for projecting a line of light from a diode-laser array |
US7232240B2 (en) * | 2005-05-06 | 2007-06-19 | Northrop Grumann Corporation | Extended source laser illuminator |
WO2007048506A1 (en) * | 2005-10-28 | 2007-05-03 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Optical device for generating a line focus on a surface |
KR100951370B1 (ko) | 2006-06-02 | 2010-04-08 | 리모 파텐트페어발퉁 게엠베하 운트 코. 카게 | 빔 형성 장치 |
TWM324170U (en) * | 2007-04-04 | 2007-12-21 | Young Optics Inc | Illumination system |
DE102007044298B3 (de) * | 2007-09-17 | 2009-02-26 | Coherent Gmbh | Verfahren und Anordnung zum Erzeugen eines Laserstrahls mit einem linienhaften Strahlquerschnitt |
DE102007057868B4 (de) * | 2007-11-29 | 2020-02-20 | LIMO GmbH | Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung |
JP2011216863A (ja) * | 2010-03-17 | 2011-10-27 | Hitachi Via Mechanics Ltd | ビームサイズ可変照明光学装置及びビームサイズ変更方法 |
KR101714005B1 (ko) * | 2010-07-13 | 2017-03-09 | 삼성전자 주식회사 | 광학 소자 및 이를 포함하는 노광 장치 |
DE102013103422B4 (de) * | 2013-04-05 | 2022-01-05 | Focuslight Technologies Inc. | Vorrichtung zur Erzeugung von Laserstrahlung mit einer linienförmigen Intensitätsverteilung |
DE102013225310B3 (de) * | 2013-12-09 | 2015-05-07 | Trumpf Laser Gmbh | Optikanordnung zur Strahlformung eines Laserstrahls für eine Laserbearbeitungsmaschine |
WO2015138476A2 (en) * | 2014-03-10 | 2015-09-17 | Robe Lighting, Inc. | Collimated effect luminaire |
GB2518794B (en) * | 2015-01-23 | 2016-01-13 | Rofin Sinar Uk Ltd | Laser beam amplification by homogenous pumping of an amplification medium |
JPWO2017029874A1 (ja) * | 2015-08-18 | 2018-03-01 | アルプス電気株式会社 | 発光装置 |
-
2017
- 2017-07-14 DE DE102017115964.9A patent/DE102017115964B4/de active Active
-
2018
- 2018-06-22 EP EP18179273.0A patent/EP3428713A1/de not_active Withdrawn
- 2018-06-29 TW TW107122629A patent/TWI697162B/zh active
- 2018-07-13 JP JP2018133707A patent/JP2019020731A/ja active Pending
- 2018-07-13 KR KR1020180081370A patent/KR102524153B1/ko active IP Right Grant
- 2018-07-13 US US16/035,034 patent/US11105961B2/en active Active
- 2018-07-13 CN CN201810766519.9A patent/CN109254408B/zh active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5331466A (en) * | 1991-04-23 | 1994-07-19 | Lions Eye Institute Of Western Australia Inc. | Method and apparatus for homogenizing a collimated light beam |
JP2002025933A (ja) * | 2001-04-04 | 2002-01-25 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | ビームホモジナイザ及び半導体薄膜作製方法 |
DE102008033358A1 (de) * | 2007-07-19 | 2009-02-26 | Coherent Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Umverteilung des Strahlparameter-Produktes eines Laserstrahls |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102524153B1 (ko) | 2023-04-24 |
JP2019020731A (ja) | 2019-02-07 |
US11105961B2 (en) | 2021-08-31 |
DE102017115964B4 (de) | 2020-04-02 |
TW201909502A (zh) | 2019-03-01 |
US20190018168A1 (en) | 2019-01-17 |
TWI697162B (zh) | 2020-06-21 |
DE102017115964A1 (de) | 2019-01-17 |
CN109254408B (zh) | 2022-04-19 |
EP3428713A1 (de) | 2019-01-16 |
CN109254408A (zh) | 2019-01-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100318174B1 (ko) | 주사광학장치 | |
US6384949B1 (en) | Optical scanning device, image forming apparatus and optical scanning method | |
US5808323A (en) | Microoptical device with mirrors | |
US7551359B2 (en) | Beam splitter apparatus and system | |
JP5395804B2 (ja) | ビーム形成装置 | |
US20080083886A1 (en) | Optical system suitable for processing multiphoton curable photoreactive compositions | |
JP6165366B1 (ja) | 平行光発生装置 | |
ITTO960119A1 (it) | Analizzatore ottico | |
KR101227725B1 (ko) | 조명 시스템 | |
TWI616967B (zh) | 在斜面上產生一點陣列 | |
KR102524153B1 (ko) | 레이저 방사선의 선형 강도 분포를 발생시키는 장치 | |
US7944615B2 (en) | Optical system and method for shaping a profile of a laser beam | |
JP6115105B2 (ja) | 走査光学装置 | |
TWI743493B (zh) | 光學組件和雷射系統 | |
TWI654492B (zh) | Beam exposure device | |
US20060114572A1 (en) | Optical radiation generation apparatus and method | |
JP2001125025A (ja) | 走査光学系 | |
KR20220027876A (ko) | 레이저 방사선용 변환 기기 | |
US20220009167A1 (en) | Optical system for optical shaping apparatus | |
CN112513706A (zh) | 用于激光辐射的转变设备 | |
JP2000221434A (ja) | 光走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 | |
Amitai | Linear beam steering module based on chirped gratings | |
TW202021706A (zh) | 雷射加工系統 | |
US20150212331A1 (en) | Method and device for focusing laser light | |
KR20080032560A (ko) | 광주사장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
N231 | Notification of change of applicant | ||
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |