TWI616967B - 在斜面上產生一點陣列 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種可用以在一表面上產生複數個點之系統。該等點可與傾斜照射之入射平面對準。該系統可包含經組態以藉由產生複數個繞射級將一光束分裂為複數個光束之一繞射光學元件。該系統亦可包含經組態以將該複數個光束中之至少某些光束聚焦在該表面上為該複數個點之一聚焦透鏡。該複數個光束中之至少某些光束可以一傾斜照射角聚焦在該表面上。該系統亦可包含相對於該繞射光學元件之一光學軸偏軸定位之一照射源。使用該系統，可在一斜面上產生複數個點。

Description

在斜面上產生一點陣列

本發明一般而言係關於晶圓檢驗之領域，且更特定言係關於一種用於在一斜面上產生一點陣列之系統及方法。

用於在一斜面上產生一點陣列之當前系統及方法可能無法提供一所要效能等級。舉例而言，在某些系統中，點排列可係正切的，意指點以一小傾角在很大程度上與一螺旋掃描平台移動之正切方向對準。正切點佈局之一缺點係即使當點係基本上相等地間隔時，間距(毗鄰點之間的掃描半徑之差)可能不針對所有點係精確相等的。此不平均間隔可稱為「間距誤差」。對於具有一大半徑(諸如一大晶圓之邊緣)之一表面而言，間距誤差可係最小的，但間距誤差可在晶圓之中心附近增加。間距誤差可在點自晶圓之邊緣至晶圓之中心掃描時改變，此可使得間距誤差難以校正。儘管存在補償間距誤差之方式，但此等選項可導致系統之敏感度或處理量之一些損失。

因此，需要用於在一斜面上產生一點陣列之經改良系統及方法。

本發明係關於一種可用以在一表面上產生複數個點之系統。點可與傾斜照射之入射平面對準。系統亦可包含一繞射光學元件。該繞射光學元件可經組態以藉由產生複數個繞射級將一光束分裂為複數個光束。系統亦可包含毗鄰於繞射光學元件定位之一聚焦透鏡。聚焦透 鏡可經組態以將複數個光束中之至少某些光束聚焦在表面上為複數個點。複數個光束中之至少某些光束可以一傾斜照射角聚焦在表面上。系統亦可包含一照射源，該照射源經組態以將光束提供至繞射光學元件。照射源可相對於繞射光學元件之一光學軸偏軸定位。在聚焦透鏡經組態以將複數個光束中之至少某些光束聚焦在表面上為複數個點時，繞射光學元件與聚焦透鏡之組合產生沿光學軸之多個焦點。使用透鏡及繞射光學元件，複數個光束可以一傾斜照射角聚焦在表面上。在一項實施例中，系統可用以在一斜面上提供複數個點。

本發明亦係關於一種用於在一表面上產生複數個點之方法。該方法可包含在相對於繞射光學元件之一光學軸之一偏軸位置中將一光束輸入至繞射光學元件之步驟。該方法亦可包含經由繞射光學元件將光束分裂為複數個光束之步驟。該方法之一進一步步驟係將複數個光束中之至少某些光束聚焦在表面上以形成複數個點，複數個光束中之至少某些光束以一傾斜照射角聚焦在表面上。

本發明亦係關於一種用於在一晶圓之一表面上產生複數個點之系統。該系統包含一繞射光學元件。該繞射光學元件可經組態以藉由產生複數個繞射級將一光束分裂為複數個光束。該系統亦包含毗鄰於繞射光學元件定位之一聚焦透鏡。該聚焦透鏡可經組態以將複數個光束中之至少某些光束聚焦在表面上為複數個點。複數個光束中之至少某些光束可以一傾斜照射角聚焦在表面上。該系統亦包含經組態以用於將光束提供至繞射光學元件之一照射源。該照射源可相對於繞射光學元件之一光學軸偏軸定位。使用該系統，複數個點可在可係螺旋掃描平台之線性平台運動方向之一徑向方向上定位於晶圓上。另外，複數個光束中之至少某些光束之一入射平面係平行於徑向方向。

將理解，前述一般說明及以下詳細說明兩者皆僅係例示性及解釋性的且不必限制本發明。併入本說明書中且構成本說明書之一部分 之隨附圖式圖解說明本發明之標的物。說明及圖式一起用以闡釋本發明之原理。

100‧‧‧系統

102‧‧‧繞射光學元件

103‧‧‧照射源

104‧‧‧光學軸/軸

106‧‧‧表面/晶圓

110‧‧‧光束/輸入光束

112‧‧‧光束/繞射級/繞射光束/入射光束

114‧‧‧第一聚焦透鏡/聚焦透鏡/透鏡

115‧‧‧第二聚焦透鏡

116‧‧‧點

118‧‧‧同心圓/光柵溝槽

120‧‧‧摺疊反射鏡/第一反射鏡

122‧‧‧第二反射鏡/聚焦反射鏡

124‧‧‧第三反射鏡/摺疊反射鏡

126‧‧‧第四反射鏡/聚焦反射鏡

128‧‧‧第一偵測器陣列

130‧‧‧偏光器

132‧‧‧第二偵測器陣列

700‧‧‧檢驗系統

d‧‧‧間隔

f‧‧‧焦距

f_n‧‧‧焦距

p‧‧‧光柵間距

r‧‧‧半徑

X‧‧‧軸

Z‧‧‧軸

α‧‧‧傾斜照射角/照射角

θ _n‧‧‧角度

△Z‧‧‧偏移

熟習此項技術者可藉由參考隨附圖式更好地理解本發明之眾多優點，其中：圖1(包括圖1A及圖1B)展示用於在一表面上產生複數個點之一系統之一示意圖；圖2展示使用圖1中所展示之系統在表面上佈局點之一實例；圖3圖解說明用於在一表面上產生複數個點之一系統之一實施例之點佈局及平台運動方向；圖4展示用於在一表面上產生複數個點之一系統之一實施例之一傾斜照射角及點佈局；圖5展示用於在一表面上產生複數個點之一系統之一實例性系統組態；圖6展示用於產生複數個點之一系統之一實例性系統組態，該系統包含反射元件及折射元件；圖7展示可如何將用於在一表面上產生複數個點之系統實施至一檢驗系統中之一實例；且圖8係用於在一表面上產生複數個點之一方法之一流程圖。

用於在一表面上產生一點陣列之現存方法可包含使用一繞射光學元件(DOE)來首先將一雷射光束分裂為多個光束且接著使用一透鏡以將光束聚焦為一點陣列。DOE可包含一個一維光柵，且可針對光束均勻性及繞射效率最佳化光柵輪廓。

點陣列之焦平面可係垂直於可相對於晶圓表面成一傾斜入射角(例如，70度)之光學軸。當使用傾斜照射時，為保持將所有點聚焦在 晶圓表面上，一維點陣列之線可係平行於晶圓表面。因此，可限制可用陣列佈局組態。類似地，陣列佈局亦可需要點之間的徑向方向上之一偏移以使得每一點掃描一不同軌跡。陣列佈局亦可需要在徑向方向上延長點陣列中之每一點以便在轉軸速度之限制內將處理量最大化。

為使點在徑向方向上偏移及在徑向方向上延長點，可使入射平面相對於徑向方向傾斜成一偏移角。可能藉由產生點陣列同時維持入射平面平行於徑向方向來消除此傾角，但此技術可帶來缺點。

當使用傾斜照射時，非球面及傾斜或偏心光學元件可用以補償焦點偏移。然而，此可僅針對一小範圍及針對相對大之點大小係有效的。

另外，用於在一表面上產生一點陣列之現存系統可需要通常稱為「正切點」之一排列。在一正切點陣列中，一維陣列可以小傾角在很大程度上與螺旋掃描之正切方向對準。正切點之一缺點係，儘管點係相等地間隔，但間距(亦即，毗鄰點之間的掃描半徑之差)可能不針對所有點係精確相等的。點之間的間距之此差可稱為「間距誤差」。對於一較大半徑(諸如在一300mm晶圓之邊緣處)而言，間距誤差可係最小的，但間距誤差可朝向晶圓之中心增加。儘管可能在某種程度上補償間距誤差，但現存方法可導致敏感度或處理量之一些損失。

在某些情形中，點陣列係與徑向方向對準且同時點延長亦可係沿徑向方向。此組態需要照射光學器件能夠在一斜面上產生一點陣列且提出數個挑戰。

因此，需要用於產生一半徑點陣列之一有效解決方案，該解決方案可以一傾斜照射角在一大場中產生一小點大小及大數目個點。類似地，需要將與一大雷射波長頻寬相容之此一系統。

現將詳細參考在隨附圖式中圖解說明之所揭示之標的物。本發明係關於如圖1A中所展示之一系統100。系統100可用以在一表面上 產生複數個點。系統100可包含一繞射光學元件102及一照射源103。在某些實施例中，照射源103可包含複數個照射源。照射源103可經組態以相對於繞射光學元件102之一軸104偏軸提供照射。繞射光學元件102可經組態以用於產生複數個繞射級以將由照射源103提供之一光束110分裂為複數個光束112。

圖1A中所展示之系統100之繞射光學元件102可包含具有如圖1A中所展示之光柵溝槽之同心圓118之一繞射光學元件。針對正繞射級，同心圓118可致使繞射光束會聚至光學軸104。類似地，針對負繞射級，同心圓118致使繞射光束自光學軸104發散。光柵溝槽118之溝槽間距可依據繞射光學元件102之半徑組態，以使得繞射光束112中之每一者在光學軸104上具有一真實(針對負繞射級)或一虛擬(針對正繞射級)焦點，且不同繞射級之焦點係在光學軸104上之不同位置處。在一項實施例中，若輸入光束110係一經準直光束，則零繞射級可保留一經準直光束。為使第n繞射級聚焦為光學軸104上之一點，作為繞射光學元件102之半徑r之一函數之光柵間距p遵循光柵繞射方程式：

其中λ係光之波長，n係繞射級，θ _n 係存在於半徑r處之繞射光學元件102處之光射線與光學軸104之間的角度，且f _n 係第n繞射級之焦距。

根據方程式1，光柵溝槽118之光柵間距可針對一特定繞射級n依據繞射光學元件102之半徑組態，以使得以不同半徑穿過繞射光學元件102之實質上所有光射線彙集在光學軸104上之相同(真實或虛擬)點處以達成所要焦點。然而，在某些情形中，可能難以針對所有繞射級 依據r組態光柵間距p以同時達成一所要或較佳焦點，此乃因作為半徑(r)之一函數之光柵間距(p)隨繞射級n而改變。因此，除零級外，可能僅較佳地聚焦一個繞射級，而其他繞射級可由於繞射光學元件之不匹配光柵間距之像差而具有不完美焦點。

當焦距f _n 係比繞射光學元件之半徑大時，可滿足所有繞射級之同時較佳聚焦之條件，以使得：

作為半徑r之一函數之光柵間距p係獨立於繞射級n，且第n繞射級之焦距係由以下方程式給出：

僅使用繞射光學元件可帶來產生多個照射點之某些問題。第一，僅負繞射級具有一真實焦點而其他繞射級可具有虛擬焦點。第二，不同繞射級之焦距可能並非相等地間隔，且焦點之間的間隔不可獨立於焦距組態。第三，繞射級之照射角度可能並非相等。最後，極長焦距之限制可能使得難以產生小點。

可藉由將具有一焦距f之一聚焦透鏡114包含至系統100解決先前段落中所描述之產生多個照射點之問題。圖1B中展示包含聚焦透鏡114之系統100之實施例。繞射光學元件102及透鏡114可經對準以在光學軸104處重合。繞射光學元件102可放置在離透鏡114為透鏡114之焦距f之一距離處，以使得入射角(一繞射級現存透鏡114之主要射線/光束與光學軸104之間的角)在所有繞射級之間係實質上相同或相等的。此協調可稱作遠心條件，該條件改良多點晶圓檢驗系統之不同點之間的均勻敏感度。藉由透鏡114聚焦之繞射級之焦點之間的間隔d可自以下近軸透鏡方程式導出：

若點之間的間隔比焦距f小得多，亦即，則方程式4可進一步 簡化如下：

方程式4中之級數目n已在方程式5中被抵消，因此點之間的間隔係均勻的。點之間的間隔可藉由選擇繼而透過方程式2判定光柵間距之f _-1 之適當值獨立於透鏡114之焦距f組態。

藉由由照射源103提供之輸入光束110之中心與繞射光學元件102之光學軸104之偏移△Z及透鏡114之焦距f判定圖1B中所展示之照射角α：

方程式6可針對系統100之不同實施例而改變。舉例而言，方程式6可取決於透鏡114之設計而改變。

可使用透鏡114及繞射光學元件102將複數個光束112以一傾斜照射角聚焦在表面106上。在一項實施例中，系統100可用以在一斜面上提供複數個點。

圖1A至圖1B中所展示之系統100亦包含照射源103。照射源103經組態以將光束110提供至繞射光學元件102。照射源103可相對於繞射光學元件102之光學軸104偏軸定位。光束110可包含一雷射光束或其他光束類型。在一項實施例中，照射源103可係一脈衝雷射。在一項實例中，脈衝雷射可具有35pm至100pm之一光譜頻寬。在另一實施例中，照射源103可係一連續波雷射。用以提供光束之雷射之類型可取決於系統100設計。舉例而言，在某些系統100設計中，可有必要校正色像差以便使用具有一脈衝雷射之系統100。在使用連續波雷射之 系統100之實施方案中可能不需要此校正。

繞射光學元件102可包含經對準以與表面106重合之一軸向繞射光學元件。在一項實施例中，繞射光學元件可係產生多個繞射級之一繞射透鏡。類似地，系統100之繞射光學元件102可包含一單一繞射光學元件102或複數個繞射光學元件。

繞射光學元件102之光柵輪廓可經設計以使得繞射級112具有實質上相等密度。光柵輪廓亦可經設計以提供繞射級112之經改良繞射效率。在一項實施例中，繞射光學元件102之光柵間距可係在200μm至800μm之範圍中。在一項實例中，繞射光學元件102提供介於自-5至+5之範圍內之十一個繞射級。

系統100之聚焦透鏡114可包含一單一聚焦透鏡114或複數個聚焦透鏡。在一項實例中，系統100可包含一個繞射光學元件及兩個聚焦透鏡114。在一項實例中，聚焦透鏡114係由熔矽石之UV玻璃組成之一折射透鏡。

在圖2中提供使用圖1A至圖1B中所展示之系統100在表面106上佈局點116之一實例。複數個光束/繞射級112已藉由聚焦透鏡114聚焦至表面106上為複數個點116。在圖2中所展示之實施例中，系統100已在表面106上提供十一個點116。在此實施例中，點116係在於沿表面106之一單一線中之一個一維陣列中均勻地間隔開。所有點之入射角可在圖2中藉由繞射光束112之平行射線所展示為相等的。

圖3中展示用一螺旋掃描平台實施系統100之一實施例。如圖3中所展示，複數個點116可定位在平行於系統100之一線性平台運動方向之一徑向方向上。圖3中展示點116佈局及平台運動方向之一實例。圖3中之線性平台運動方向係在X軸之方向上。點116係在與平台運動方向重合之一徑向方向上對準。另外，在一項實施例中，點116亦可沿徑向方向延長。此係由於複數個光束112之傾斜入射角。在一項實施 例中，具有其中其較長尺寸在x軸之方向上對準之延長之點形狀係有利的，此乃因此可提供較快檢驗速度。類似地，複數個光束112之一入射平面亦可平行於徑向方向。換言之，入射光束112之主要射線係平行於x軸及z軸之平面，其中z軸係垂直於表面106。

使用系統100，複數個光束112可以一傾斜照射角聚焦在表面106上。在圖4中提供表面106上之傾斜照射角之一實例。複數個光束112中之至少某些光束聚焦在表面106上為複數個點116。表面106與複數個光束112中之至少某些光束之間的角係一傾斜照射角α。傾斜照射角可介於自45度至85度之範圍內。在一項實施例中，傾斜照射角可等於大致70度。

系統100可適合於在一相對大場中產生具有一相對小之點大小之複數個點。舉例而言，在圖4及圖5中所展示之系統100之實施例中，系統100可用以產生各具有0.8μm之一大小之九個點116。在實例中，每一點116係由100μm分離，且因此總計場大小可係800μm。點大小取決於波長，在此實例中該波長係266nm。波長範圍可係自100nm至1500nm。關於點大小及點間隙可如何組態之額外細節可在美國專利第8,194,301號中找到，該美國專利以全文引用方式併入本文中。

用於產生複數個點116之系統100可包含一個以上聚焦透鏡。舉例而言，圖5展示用於產生圖4中所展示之複數個點116之一實例性系統組態。圖5中所展示之系統100可包含繞射光學元件102、一第一聚焦透鏡114及一第二聚焦透鏡115。繞射光學元件102可將一光束或數個光束分裂為複數個光束112，該複數個光束接著藉由第一聚焦透鏡114及第二聚焦透鏡115聚焦至圖4中展示之複數個點116。

系統100亦可包含額外元件(諸如反射鏡)。類似地，在一項實施例中，反射元件及折射元件可經組合以幫助校正色像差。舉例而言，圖6展示系統100之一實施例，該系統包含用於反射光束112之複數個 反射鏡。圖6中所展示之系統100可包含繞射光學元件102、一第一反射鏡120、一第二反射鏡122、一第三反射鏡124及一第四反射鏡126。系統100亦包含第一聚焦透鏡114及第二聚焦透鏡115。一光束112可行進穿過繞射光學元件102，在繞射光學元件處其可分裂為複數個光束112。圖6中僅展示經分裂光束中之一者，但所有光束112可穿過一類似路徑。接著可藉由摺疊反射鏡120將複數個光束112反射至聚焦反射鏡122。聚焦反射鏡122可係具有一反射表面及一折射表面兩者之一反射折射元件。接著可藉由另一摺疊反射鏡124將光束112反射至另一聚焦反射鏡126。聚焦反射鏡126可係具有一反射表面及一折射表面兩者之一反射折射元件。第四反射鏡126可將複數個光束112中之至少某些光束反射至第一聚焦透鏡114及第二聚焦透鏡115。接著，藉由第一聚焦透鏡114及第二聚焦透鏡115將複數個光束112中之至少某些光束聚焦至複數個點。圖6中所展示之實例性系統100可提供如圖2中所展示之包含十一個點116之點組態。在圖2及圖6中所展示之實例中，點116直徑可係1.5μm。

在圖7中提供可如何將本發明之系統100併入至一檢驗系統700中之一實例。圖7中所展示之檢驗系統700可係一晶圓檢驗系統。本發明之系統100可與檢驗系統700一起使用以在表面106上提供多點照射。舉例而言，照射源103經定位以將傾斜照射提供至系統100及晶圓106。照射源103將一光束110提供至系統100。包含繞射光學元件(在圖7中未展示)及透鏡(在圖7中未展示)之系統100分裂光束且聚焦光束以在晶圓106之表面上產生複數個點116。檢驗系統700可包含額外元件。舉例而言，除其他元件外，檢驗系統700包含一第一偵測器陣列128、偏光器130及一第二偵測器陣列132。

如圖8中所展示，本發明亦係關於一種用於在一表面上產生複數個點之方法800。方法800包含在相對於繞射光學元件之一光學軸之一 偏軸位置中將一光束輸入至繞射光學元件之步驟(802)。方法800亦包含經由繞射光學元件將光束分裂為複數個光束之步驟(804)。方法800之一進一步步驟係將複數個光束中之至少某些光束聚焦在表面上以形成複數個點，複數個光束中之至少某些光束以一傾斜照射角聚焦在表面上(806)。方法800可在使用一傾斜照射角之系統中係有用的。在一項實施例中，方法800可用以在一斜面上提供複數個點。

在圖8中所展示之方法800中，複數個光束中之至少某些光束將以一傾斜照射角聚焦在表面上。方法800之傾斜照射角可介於自45度至85度之範圍內。

藉由圖8中所展示之方法800產生之複數個點可包含一個一維點陣列。複數個點可定位在平行於系統之一線性平台運動方向之一徑向方向上。

本發明之系統及方法可用以在一表面上產生複數個點。在一項實施例中，表面可包含一晶圓之一表面。晶圓可包含一圖案化晶圓或一未經圖案化晶圓。晶圓可係一矽晶圓。

本發明之系統及方法可針對螺旋掃描架構係有用的，包含具有需要一斜面照射之靜止多點照射之彼等系統。

本發明之系統及方法可提供若干優點。舉例而言，偏軸組態可促進以一相對簡單設計為大數目個點提供一大場大小。舉例而言，本發明之系統及方法可針對一項實例中高達1mm之大場大小(或甚至更大)以及一項實例中小於1μm之小點大小係有用的。

另外，在徑向方向而非正切方向上點陣列之對準可幫助將掃描間距誤差最小化且可具有超越於採用其他照射方法之系統。本發明之系統及方法亦可針對需要大雷射頻寬之系統係有用的。

本發明之系統及方法亦可併入至一現存檢驗系統中。舉例而言，本發明之系統及方法可在一現存檢驗系統中用以在經改良敏感度 及處理量情況下提供多點照射。系統及方法亦可併入至一現存檢驗系統中以將現存系統之間距誤差最小化。本發明之系統及方法之多點照射亦可克服需要使用有限雷射功率以便避免一單一點照射系統中之晶圓損壞之問題。類似地，多點照射可有助於克服檢驗處理量由最大轉軸旋轉速度限制之問題，此乃因藉由同時掃描多個軌跡而改良之敏感度需要較小點大小。

應認識到，可藉由一單一計算系統或另一選擇係一多個計算系統執行貫穿本發明描述之各種步驟。此外，系統之不同子系統可包含適用於實施上文所描述之步驟之至少一部分之一計算系統。因此，上文說明不應解釋為對本發明之一限制，而僅解釋為一圖解說明。此外，一或多個計算系統可經組態以執行本文中所描述之方法實施例中之任一者之任何其他步驟。

本文中所描述之所有方法可包含將方法實施例之一或多個步驟之結果儲存在一儲存媒體中。儲存媒體可包含本文中所描述之任何儲存媒體或此項技術中已知之任何其他適合儲存媒體。在已儲存結果之後，結果可在儲存媒體中讀取且可藉由本文中所描述之方法或系統實施例中之任一者使用、經格式化以顯示給一使用者、由另一軟體模組、方法或系統等使用。

進一步預期，上文所描述之方法之實施例中之每一者可包含本文中所描述之任何其他方法之任何其他步驟。另外，可藉由本文中所描述之系統中之任一者執行上文所描述之方法之實施例中之每一者。

儘管已展示及描繪本文中所描述之本發明標的物之特定態樣，但熟習此項技術者顯然將明瞭，基於本文中之教示，可在不背離本文中所描述之標的物及其較廣泛態樣之情況下做出改變及修改，且因此，隨附專利申請範圍係可囊括在所有此等改變及修改之其範疇內，如同此等改變及修改包含在本文中所描述之標的物之真實精神及範疇 內。據信，藉由前述說明將理解本發明及諸多其伴隨優點，且將明瞭，在不背離所揭示之標的物或在不犧牲所有其材料優點之情況下，對組件之形式、構造及配置做出各種改變。所描述之形式僅係解釋性的，且以下申請專利範圍之意圖係囊括及包含此等改變。此外，將理解，本發明由隨附專利申請範圍定義。

Claims (20)

1. 一種用於在一晶圓之一表面上產生複數個點之系統，該系統包括：一照射源，該照射源經組態以產生一照射光束；一繞射光學元件，該照射源經定位在一位置處以正向入射(normal incidence)照射該繞射光學元件，該位置相對於該繞射光學元件之一光學軸偏軸，該繞射光學元件經組態以將該照射光束分裂為複數個繞射光束；及一聚焦透鏡，該聚焦透鏡沿該光學軸毗鄰於該繞射光學元件定位，該聚焦透鏡經組態以將該複數個繞射光束中之至少一些聚焦在一晶圓之一表面上為複數個延長點，該複數個延長點沿該晶圓之一徑向方向定位，其中該複數個延長點之至少一些的一延長方向(direction of elongation)係沿該徑向方向對準，其中該聚焦透鏡及該繞射光學元件係經配置以使得來自該繞射光學元件之該複數個繞射光束中之至少一些以相對於該晶圓之該表面的一傾斜照射角照射在該晶圓之該表面上。
2. 如請求項1之系統，其中該傾斜照射角介於自45度至85度之範圍內。
3. 如請求項1之系統，其中沿該光學軸之該複數個點包含一個一維點陣列。
4. 如請求項1之系統，其中該複數個點定位在一徑向方向上，該徑向方向平行於該系統之一平台運動方向。
5. 如請求項4之系統，其中該複數個光束中之該等至少一些之一入射平面係平行於該徑向方向。
6. 如請求項1之系統，其中該繞射光學元件包含具有光柵溝槽之同 心圓之一繞射光學元件，作為該繞射光學元件之一半徑之一函數之該等光柵溝槽之一光柵間距。
7. 如請求項1之系統，其中該表面包含一矽晶圓之一表面。
8. 如請求項1之系統，其中照射源包含：一雷射。
9. 一種用於在一晶圓之一表面上產生複數個點之方法，其包括：在相對於一繞射光學元件之一光學軸之一偏軸位置中將一光束以正向入射輸入至該繞射光學元件；經由該繞射光學元件，將該光束分裂為複數個光束；及將該複數個光束中之至少一些聚焦在一晶圓之一表面上以形成複數個延長點，該複數個延長點沿該晶圓之一徑向方向定位，其中該複數個延長點之至少一些的一延長方向係沿該徑向方向對準，該複數個光束中之該等至少一些以相對於該晶圓之該表面的一傾斜照射角聚焦在該表面上。
10. 如請求項9之方法，其中該傾斜照射角介於自45度至85度之範圍內。
11. 如請求項9之方法，其中沿該光學軸之該複數個點包含一個一維點陣列。
12. 如請求項9之方法，其中該複數個點定位在一徑向方向上，該徑向方向平行於該系統之一平台運動方向。
13. 如請求項12之方法，其中該複數個光束中之該等至少一些之一入射平面係平行於該徑向方向。
14. 如請求項9之方法，其中該繞射光學元件包含具有光柵溝槽之同心圓之一繞射光學元件，作為該繞射光學元件之一半徑之一函數之該等光柵溝槽之一光柵間距。
15. 如請求項9之方法，其中該表面包含一矽晶圓之一表面。
16. 一種用於在一晶圓之一表面上產生複數個點之系統，該系統包 括：一照射源，其經組態以產生一照射光束；一繞射光學元件，該照射源經定位在一位置處以正向入射照射該繞射光學元件，該位置相對於該繞射光學元件之一光學軸偏軸，該繞射光學元件經組態以將該光束分裂為複數個繞射光束；一聚焦透鏡，該聚焦透鏡沿該光學軸毗鄰於該繞射光學元件定位，該聚焦透鏡經組態以將該複數個繞射光束中之至少一些聚焦在一晶圓之一表面上為複數個延長點，該複數個延長點沿該晶圓之一徑向方向定位，其中該複數個延長點之至少一些的一延長方向係沿該徑向方向對準，該複數個繞射光束中之該等至少一些以相對於該晶圓之該表面的一傾斜照射角聚焦在該晶圓之該表面上，其中該複數個點沿該徑向方向定位，該徑向方向平行於該系統之一平台運動方向，其中該複數個繞射光束中之該等至少一些之一入射平面係沿該徑向方向。
17. 如請求項16之系統，其中該傾斜照射角介於自45度至85度之範圍內。
18. 如請求項16之系統，其中沿該光學軸之該複數個點包含一個一維點陣列。
19. 如請求項16之系統，其中該繞射光學元件包含具有光柵溝槽之同心圓之一繞射光學元件，作為該繞射光學元件之一半徑之一函數之該等光柵溝槽之一光柵間距。
20. 如請求項16之系統，其中該表面包含一矽晶圓之一表面。