KR20180057760A - 표시 장치 및 이의 제조 방법 - Google Patents

표시 장치 및 이의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20180057760A
KR20180057760A KR1020160155046A KR20160155046A KR20180057760A KR 20180057760 A KR20180057760 A KR 20180057760A KR 1020160155046 A KR1020160155046 A KR 1020160155046A KR 20160155046 A KR20160155046 A KR 20160155046A KR 20180057760 A KR20180057760 A KR 20180057760A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
color filter
filter layer
substrate
dummy
column spacer
Prior art date
Application number
KR1020160155046A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102661122B1 (ko
Inventor
박새론
이상헌
Original Assignee
삼성디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성디스플레이 주식회사 filed Critical 삼성디스플레이 주식회사
Priority to KR1020160155046A priority Critical patent/KR102661122B1/ko
Priority to US15/798,968 priority patent/US10627679B2/en
Priority to CN201711163692.1A priority patent/CN108089379B/zh
Priority to TW106140311A priority patent/TWI733950B/zh
Publication of KR20180057760A publication Critical patent/KR20180057760A/ko
Priority to US16/852,743 priority patent/US11573459B2/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102661122B1 publication Critical patent/KR102661122B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13396Spacers having different sizes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13398Spacer materials; Spacer properties
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343Electrodes
    • G02F1/134309Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136222Colour filters incorporated in the active matrix substrate
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136227Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/13624Active matrix addressed cells having more than one switching element per pixel
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286Wiring, e.g. gate line, drain line
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/124Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/1248Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition or shape of the interlayer dielectric specially adapted to the circuit arrangement
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/1259Multistep manufacturing methods
    • H01L27/1288Multistep manufacturing methods employing particular masking sequences or specially adapted masks, e.g. half-tone mask
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343Electrodes
    • G02F1/134309Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134345Subdivided pixels, e.g. for grey scale or redundancy
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136209Light shielding layers, e.g. black matrix, incorporated in the active matrix substrate, e.g. structurally associated with the switching element
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/1368Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
    • G02F2001/13396
    • G02F2001/13398
    • G02F2001/136222

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

본 발명은 수율을 향상시킬 수 있고 제조 비용을 줄일 수 있는 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 서로 이격되어 위치한 제 1 기판 및 제 2 기판; 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 서로 인접하게 위치하며, 동일한 색상을 갖는 제 1 컬러 필터층 및 제 2 컬러 필터층; 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 서로 인접하게 위치하며, 동일한 색상을 갖는 제 3 컬러 필터층 및 제 4 컬러 필터층; 제 1 기판의 가장자리와 제 1 컬러 필터층 사이 또는 제 1 컬러 필터층과 제 2 컬러 필터층 사이에 위치하며, 제 1 컬러 필터층과 동일한 색상을 갖는 제 1 더미 컬러 필터층; 제 1 기판의 가장자리와 제 3 컬러 필터층 사이 또는 제 3 컬러 필터층과 제 4 컬러 필터층 사이에 위치하며, 제 3 컬러 필터층과 동일한 색상을 갖는 제 2 더미 컬러 필터층; 제 1 더미 컬러 필터층과 제 2 기판 사이에 위치한 제 1 컬럼 스페이서; 및 제 2 더미 컬러 필터층과 제 2 기판 사이에 위치한 제 2 컬럼 스페이서를 포함하며; 제 1 기판의 기준면으로부터의 제 1 더미 컬러 필터의 높이는 기준면으로부터의 제 2 더미 컬러 필터층의 높이보다 더 크며; 제 2 기판을 마주보는 제 1 더미 컬러 필터층의 일면은 제 2 기판을 마주보는 제 2 더미 컬러 필터층의 일면보다 더 크다.

Description

표시 장치 및 이의 제조 방법{DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME}
본 발명은 표시 장치에 관한 것으로, 특히 수율을 향상시킬 수 있고 제조 비용을 줄일 수 있는 표시 장치 및 이의 제조 방법에 대한 것이다.
액정 표시 장치(liquid crystal display, LCD)는 현재 가장 널리 사용되고 있는 평판 표시 장치(flat panel display, FPD) 중 하나로서 전극이 형성되어 있는 2개의 기판과 그 사이에 삽입되어 있는 액정층을 포함한다.
액정 표시 장치는 두 전극에 전압을 인가하여 액정층의 액정 분자들을 재배열시킴으로써 투과되는 빛의 양을 조절하는 표시 장치이다.
본 발명은 수율을 향상시킬 수 있고 제조 비용을 줄일 수 있는 표시 장치 및 이의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 표시 장치는, 서로 이격되어 위치한 제 1 기판 및 제 2 기판; 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판 사이에 서로 인접하게 위치하며, 동일한 색상을 갖는 제 1 컬러 필터층 및 제 2 컬러 필터층; 상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판 사이에 서로 인접하게 위치하며, 동일한 색상을 갖는 제 3 컬러 필터층 및 제 4 컬러 필터층; 상기 제 1 기판의 가장자리와 상기 제 1 컬러 필터층 사이 또는 상기 제 1 컬러 필터층과 상기 제 2 컬러 필터층 사이에 위치하며, 상기 제 1 컬러 필터층과 동일한 색상을 갖는 제 1 더미 컬러 필터층; 상기 제 1 기판의 가장자리와 상기 제 3 컬러 필터층 사이 또는 상기 제 3 컬러 필터층과 상기 제 4 컬러 필터층 사이에 위치하며, 상기 제 3 컬러 필터층과 동일한 색상을 갖는 제 2 더미 컬러 필터층; 상기 제 1 더미 컬러 필터층과 상기 제 2 기판 사이에 위치한 제 1 컬럼 스페이서; 및 상기 제 2 더미 컬러 필터층과 상기 제 2 기판 사이에 위치한 제 2 컬럼 스페이서를 포함하며; 상기 제 1 기판의 기준면으로부터의 제 1 더미 컬러 필터의 높이는 상기 기준면으로부터의 제 2 더미 컬러 필터층의 높이보다 더 크며; 상기 제 2 기판을 마주보는 상기 제 1 더미 컬러 필터층의 일면은 상기 제 2 기판을 마주보는 상기 제 2 더미 컬러 필터층의 일면보다 더 크다.
제 1 컬럼 스페이서의 두께는 상기 제 2 컬럼 스페이서의 두께보다 더 작거나 동일하다.
상기 기준면으로부터의 제 1 더미 컬러 필터층의 높이는 상기 기준면으로부터의 제 2 더미 컬러 필터층의 높이보다 더 크다.
상기 제 1 더미 컬러 필터층은 상기 제 1 컬러 필터층 및 상기 제 2 컬러 필터층 중 적어도 하나에 연결된다.
상기 제 1 컬러 필터층, 상기 제 2 컬러 필터층 및 상기 제 1 더미 컬러 필터층은 일체로 이루어진다.
상기 제 2 더미 컬러 필터층은 상기 제 3 컬러 필터층 및 상기 제 4 컬러 필터층 중 적어도 하나에 연결된다.
상기 제 3 컬러 필터층, 상기 제 4 컬러 필터층 및 상기 제 2 더미 컬러 필터층은 일체로 이루어진다.
상기 제 1 컬럼 스페이서 및 상기 제 2 컬럼 스페이서 중 적어도 하나는 투명한 재질 또는 불투명한 재질로 이루어진다.
표시 장치는 상기 제 1 기판 또는 상기 제 2 기판 상에 위치한 차광층을 더 포함한다.
상기 차광층, 상기 제 1 컬럼 스페이서 및 상기 제 2 컬럼 스페이서는 상기 제 1 기판 상의 동일층 상에 위치하며; 상기 차광층, 상기 제 1 컬럼 스페이서 및 상기 제 2 컬럼 스페이서는 일체로 이루어진다.
상기 제 1 컬럼 스페이서 및 상기 제 2 컬럼 스페이서는 상기 제 1 기판 상에 위치하며; 상기 차광층은 상기 제 1 컬럼 스페이서 및 상기 제 2 컬럼 스페이서와 중첩하게 상기 제 2 기판 상에 위치한다.
표시 장치는 상기 제 1 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 1 화소 전극; 상기 제 2 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 2 화소 전극; 상기 제 3 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 3 화소 전극; 상기 제 4 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 4 화소 전극; 상기 제 1 화소 전극에 연결된 제 1 스위칭 소자; 상기 제 2 화소 전극에 연결된 제 2 스위칭 소자; 상기 제 3 화소 전극에 연결된 제 3 스위칭 소자; 및 상기 제 4 화소 전극에 연결된 제 4 스위칭 소자를 더 포함한다.
상기 제 1 컬럼 스페이서는 상기 제 1 스위칭 소자 및 상기 제 2 스위칭 소자 중 어느 하나와 중첩한다.
상기 제 2 컬럼 스페이서는 상기 제 3 스위칭 소자 및 상기 제 4 스위칭 소자 중 어느 하나와 중첩한다.
표시 장치는 상기 제 1 및 제 2 스위칭 소자에 연결된 제 1 게이트 라인; 상기 제 3 및 제 4 스위칭 소자에 연결된 제 2 게이트 라인; 상기 제 1 및 제 3 스위칭 소자에 연결된 제 1 데이터 라인; 및 상기 제 2 및 제 4 스위칭 소자에 연결된 제 2 데이터 라인을 더 포함한다.
표시 장치는 상기 제 1 및 제 3 스위칭 소자에 연결된 제 1 게이트 라인; 상기 제 2 및 제 4 스위칭 소자에 연결된 제 2 게이트 라인; 상기 제 1 및 제 2 스위칭 소자에 연결된 제 1 데이터 라인; 및 상기 제 3 및 제 4 스위칭 소자에 연결된 제 2 데이터 라인을 더 포함한다.
표시 장치는 상기 제 1 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 1 부화소 전극; 상기 제 2 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 2 부화소 전극; 상기 제 3 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 3 부화소 전극; 상기 제 4 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 4 부화소 전극; 상기 제 1 부화소 전극에 연결된 제 1 스위칭 소자; 상기 제 1 스위칭 소자 및 상기 제 2 부화소 전극에 연결된 제 2 스위칭 소자; 상기 제 3 부화소 전극에 연결된 제 3 스위칭 소자; 상기 제 3 스위칭 소자 및 상기 제 4 부화소 전극에 연결된 제 4 스위칭 소자; 상기 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 스위칭 소자에 연결된 게이트 라인; 상기 제 1 스위칭 소자에 연결된 제 1 데이터 라인; 및 상기 제 3 스위칭 소자에 연결된 제 2 데이터 라인을 더 포함한다.
또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 표시 장치의 제조 방법은, 제 1 기판 상에 제 1 감광성 유기 물질을 형성하는 단계; 상기 제 1 감광성 유기 물질을 패터닝하여, 제 1 컬러 필터층, 제 2 컬러 필터층, 상기 제 1 기판의 가장자리와 상기 제 1 컬러 필터층 사이 또는 상기 제 1 컬러 필터층과 상기 제 2 컬러 필터층 사이에 위치한 제 1 더미 컬러 필터층을 형성하는 단계: 상기 제 2 기판 상에 제 2 감광성 유기 물질을 형성하는 단계; 상기 제 2 감광성 유기 물질을 패터닝하여, 제 3 컬러 필터층, 제 4 컬러 필터층, 상기 제 1 기판의 가장자리와 상기 제 3 컬러 필터층 사이 또는 상기 제 3 컬러 필터층과 상기 제 4 컬러 필터층 사이에 위치한 제 2 더미 컬러 필터층을 형성하는 단계: 상기 제 1 더미 컬러 필터층 상에 제 1 컬럼 스페이서를 형성하고, 상기 제 2 더미 컬러 필터층 상에 제 2 컬럼 스페이서를 형성하는 단계; 및 상기 제 1 기판과 제 2 기판을 합착하는 단계를 포함하며; 상기 제 1 기판의 기준면으로부터의 제 1 더미 컬러 필터의 높이는 상기 기준면으로부터의 제 2 더미 컬러 필터층의 높이보다 더 크며; 상기 제 2 기판을 마주보는 상기 제 1 더미 컬러 필터층의 일면은 상기 제 2 기판을 마주보는 상기 제 2 더미 컬러 필터층의 일면보다 더 크다.
제 1 컬럼 스페이서의 두께는 상기 제 2 컬럼 스페이서의 두께보다 더 작거나 동일하다.
상기 제 1 감광성 유기 물질을 패터닝하는 공정은, 상기 제 1 감광성 유기 물질 상에, 상기 제 1 컬러 필터층, 상기 제 2 컬러 필터층 및 상기 제 1 더미 컬러 필터층 대응되는 위치한 투과 영역들을 갖는 제 1 마스크를 위치시키는 단계: 및 상기 제 1 마스크를 통해 상기 제 1 감광성 유기 물질을 노광하는 단계를 포함한다.
상기 제 2 감광성 유기 물질을 패터닝하는 공정은, 상기 제 2 감광성 유기 물질 상에, 상기 제 3 컬러 필터층, 상기 제 4 컬러 필터층 및 상기 제 2 더미 컬러 필터층 대응되는 위치한 투과 영역들을 갖는 제 2 마스크를 위치시키는 단계: 및 상기 제 2 마스크를 통해 상기 제 2 감광성 유기 물질을 노광하는 단계를 포함한다.
상기 제 1 더미 컬러 필터층에 대응되는 투과 영역은 상기 제 2 더미 컬러 필터층에 대응되는 투과 영역보다 더 크다.
상기 제 1 더미 컬러 필터층에 대응되는 투과 영역은 상기 제 2 더미 컬러 필터층에 대응되는 투과 영역과 동일한 크기를 가지며; 상기 제 1 및 제 2 감광성 유기 물질을 노광하는 단계에서, 상기 제 2 더미 컬러 필터층에 대응되는 투과 영역보다 상기 제 1 더미 컬러 필터층에 대응되는 투과 영역으로 더 많은 양의 광이 조사된다.
본 발명에 따른 표시 장치 및 이의 제조 방법은 다음과 같은 효과를 제공한다.
본 발명에 따르면 더미 컬러 필터층의 크기에 의해 컬럼 스페이서의 높이가 제어된다. 즉, 더미 컬러 필터층의 면적 변화에 따라 이 더미 컬러 필터층의 높이가 제어되는 바, 결국 더미 컬러 필터층의 크기에 따라 그 상부에 위치한 컬럼 스페이서의 높이도 변화한다. 따라서, 기존의 하프-톤(half tone) 노광이 사용되지 않고도 서로 다른 높이를 갖는 컬럼 스페이서들의 제조가 가능하다. 즉, 더미 컬러 필터층의 면적 제어에 의해 메인 컬럼 스페이서 및 서브 컬럼 스페이서의 제조가 가능하다.
따라서, 기존의 하프-톤 노광시 발생될 수 있는 각종 문제점들이 해소될 수 있다. 예를 들어, 기존의 하프-톤 노광에 따르면, 컬럼 스페이서와 차광층이 동일한 공정으로 함께 형성될 때, 중복 노광 영역에서 차광층의 두께가 증가하는 문제점이 발생될 수 있다. 또한, 기존의 하프-톤 노광에 따르면, 컬럼 스페이서 및 차광층의 재료로서 이 노광 방법에 적합한 특성을 갖는 재료들만이 한정적으로 사용될 수밖에 없다.
이와 같이 본 발명은 기존의 하프-톤 노광에 따른 문제점을 해결할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따르면, 균일한 두께의 차광층이 제조될 수 있으며, 또한 컬럼 스페이서 및 차광층의 재료 선택의 폭이 넓어질 수 있다.
또한, 더미 컬러 필터층들의 높낮이 차에 의해 컬럼 스페이서들의 높낮이차가 발생되므로, 컬럼 스페이서에 제조에 필요한 재료들이 많이 사용될 필요가 없다. 따라서, 제조 비용이 절감될 수 있다.
도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 표시 장치에 포함된 하나의 화소를 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1의 I-I'의 선을 따라 자른 단면도이다.
도 3은 도 1의 화소 전극에 대한 확대도이다.
도 4는 도 1에 도시된 구조를 갖는 복수의 화소들을 포함하는 표시 장치의 평면도이다.
도 5는 도 4에서 제 1 내지 제 6 컬러 필터층들과 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들을 따로 나타낸 도면이다.
도 6은 도 4의 I-I'의 선을 따라 자른 단면도이다.
도 7a 내지 도 15b는 본 발명의 한 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도들이다.
도 16은 도 4의 I-I'의 선을 따라 자른 단면에 대한 다른 실시예를 나타낸 도면이다.
도 17은 도 1의 화소를 다수 포함하는 표시 장치에 대한 다른 실시예의 평면도이다.
도 18은 도 17에서 제 1 내지 제 6 컬러 필터층들과 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들을 따로 나타낸 도면이다.
도 19는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치에 포함된 하나의 화소를 나타낸 도면이다.
도 20은 도 19의 I-I'의 선을 따라 자른 단면도이다.
도 21은 도 19에 도시된 구조를 갖는 복수의 화소들을 포함하는 표시 장치의 평면도이다.
도 22는 도 21에서 제 1 내지 제 6 컬러 필터층들과 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들을 따로 나타낸 도면이다.
도 23은 도 21의 I-I'의 선을 따라 자른 단면도이다.
도 24는 도 21의 I-I'의 선을 따라 자른 단면에 대한 다른 실시예를 나타낸 도면이다.
도 25는 도 19에 도시된 구조를 갖는 복수의 화소들을 포함하는 표시 장치에 대한 다른 실시예의 평면도이다.
도 26은 도 25에서 제 1 내지 제 6 컬러 필터층들과 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들을 따로 나타낸 도면이다.
도 27은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치에 포함된 하나의 화소를 나타낸 도면이다.
도 28은 도 27의 I-I'의 선을 따라 자른 단면도이다.
도 29는 도 27의 II-II'의 선을 따라 자른 단면도이다.
도 30은 도 27에 도시된 구조를 갖는 복수의 화소들을 포함하는 표시 장치의 평면도이다.
도 31은 도 30에서 제 1 내지 제 6 컬러 필터층들과 제 1 내지 제 3 더미 컬러 필터층들을 따로 나타낸 도면이다.
도 32는 도 30의 I-I'의 선을 따라 자른 단면도이다.
도 33은 도 30의 I-I'의 선을 따라 자른 단면에 대한 다른 실시예를 나타낸 도면이다.
도 34는 도 27에 도시된 구조를 갖는 복수의 화소들을 포함하는 표시 장치에 대한 다른 실시예의 평면도이다.
도 35는 도 34에서 제 1 내지 제 6 컬러 필터층들과 제 1 내지 제 3 더미 컬러 필터층들을 따로 나타낸 도면이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 따라서, 몇몇 실시예에서, 잘 알려진 공정 단계들, 잘 알려진 소자 구조 및 잘 알려진 기술들은 본 발명이 모호하게 해석되는 것을 피하기 위하여 구체적으로 설명되지 않는다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "아래에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 아래에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.
공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below)"또는 "아래(beneath)"로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 소자는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.
본 명세서에서 어떤 부분이 다른 부분과 연결되어 있다고 할 때, 이는 직접적으로 연결되어있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 전기적으로 연결되어 있는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 포함한다고 할 때, 이는 특별히 그에 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
본 명세서에서 제 1, 제 2, 제 3 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 이러한 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되는 것은 아니다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소들로부터 구별하는 목적으로 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 벗어나지 않고, 제 1 구성 요소가 제 2 또는 제 3 구성 요소 등으로 명명될 수 있으며, 유사하게 제 2 또는 제 3 구성 요소도 교호적으로 명명될 수 있다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않은 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
이하, 도 1 내지 도 35를 참조로 본 발명에 따른 표시 장치 및 이의 제조 방법을 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 표시 장치에 포함된 하나의 화소를 나타낸 도면이고, 도 2는 도 1의 I-I'의 선을 따라 자른 단면도이다.
화소(PX1)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 스위칭 소자(TFT1), 화소 전극(PE1) 및 컬러 필터층(351)을 포함한다.
스위칭 소자(TFT1)는 반도체층(321), 게이트 전극(GE), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함한다. 게이트 전극(GE)은 게이트 라인(GL1)에 연결되며, 소스 전극(SE)은 데이터 라인(DL1)에 연결되며, 그리고 드레인 전극(DE)은 화소 전극(PE1)에 연결된다.
화소(PX1)는 제 1 기판(301)과 제 2 기판(302) 사이에 위치한다. 다시 말하여, 도 2에 도시된 바와 같이, 표시 장치는 소정 간격 이격되어 위치한 제 1 기판(301) 및 제 2 기판(302)을 포함하는 바, 이 제 1 기판(301)과 제 2 기판(302) 사이에 스위칭 소자(TFT1), 화소 전극(PE1) 및 컬러 필터층(351)이 위치한다.
또한, 이 제 1 기판(301)과 제 2 기판(302) 사이에 게이트 라인(GL1), 유지 라인(721), 프리-틸트(pre-tilt) 제어층(500), 광차단막(182), 게이트 절연막(311), 데이터 라인(DL1), 보호막(320), 더미 컬러 필터층(801), 차폐 전극(961), 층간 절연막(325), 차광층(376), 컬럼 스페이서(901), 액정층(333) 및 공통 전극(330)이 위치한다.
제 1 기판(301) 및 제 2 기판(302) 중 적어도 하나는 유리 또는 플라스틱 등으로 이루어진 절연 기판일 수 있다.
한편, 제 1 기판(301)과 제 2 기판(302)의 서로 마주보는 면들을 각각 해당 기판의 내측면으로 정의하고, 이 내측면들의 반대편에 위치한 면들을 각각 해당 기판의 외측면으로 정의할 때, 제 1 기판(301)의 외측면 상에 제 1 편광판(도시되지 않음)이 더 위치하고, 제 2 기판(302)의 외측면 상에 제 2 편광판(도시되지 않음)이 더 위치할 수 있다. 제 1 편광판의 광축은 제 2 편광판의 광축과 교차한다.
한편, 제 1 편광판 및 제 2 편광판 대신 편광층이 사용될 수 있으며, 이때 이 편광층은 제 1 기판(301)과 제 2 기판(302) 사이에 위치할 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 게이트 라인(GL1)은 X축에 평행한 방향(이하, X축 방향)으로 연장된다. 도 2에 도시된 바와 같이, 게이트 라인(GL1)은 제 1 기판(301) 상에 위치한다.
게이트 라인(GL1)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 게이트 전극(GE)에 연결된다. 게이트 라인(GL1) 및 게이트 전극(GE)은 일체로 이루어질 수 있다.
도시되지 않았지만, 게이트 라인(GL1)의 단부는, 다른 층 또는 외부 구동 회로와의 접속을 위해, 그 게이트 라인(GL1)의 다른 부분보다 더 큰 면적을 가질 수 있다. 게이트 라인(GL1)은 외부 구동 회로로부터 게이트 신호를 공급받을 수 있다.
게이트 라인(GL1)은 알루미늄(Al)이나 알루미늄 합금과 같은 알루미늄 계열의 금속, 또는 은(Ag)이나 은 합금과 같은 은 계열의 금속, 또는 구리(Cu)나 구리 합금과 같은 구리 계열의 금속, 또는 몰리브덴(Mo)이나 몰리브덴 합금과 같은 몰리브덴 계열의 금속으로 만들어질 수 있다. 또는, 이 게이트 라인(GL1)은, 크롬(Cr), 탄탈륨(Ta) 및 티타늄(Ti) 중 어느 하나로 만들어질 수 있다. 한편, 게이트 라인(GL1)은 물리적 성질이 다른 적어도 두 개의 도전막을 포함하는 다중막 구조를 가질 수도 있다.
게이트 전극(GE)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 게이트 라인(GL1)으로부터 유지 라인(721)을 향해 돌출된 형상을 가질 수 있다. 게이트 전극(GE)은 게이트 라인(DL1)의 일부일 수도 있다. 게이트 전극(GE)과 게이트 라인(GL1)은 일체로 이루어질 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 게이트 전극(GE)은 제 1 기판(301) 상에 위치한다. 게이트 전극(GE)은 게이트 라인(GL1)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 게이트 전극(GE) 및 게이트 라인(GL1)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 유지 라인(721)은 X축 방향으로 연장된다. 또한, 유지 라인(721)은 Y축에 평행한 방향(이하, Y축 방향)으로 연장될 수 있다. 유지 라인(721)은 게이트 라인(GL1)에 평행하다. 도 2에 도시된 바와 같이, 유지 라인(721)은 제 1 기판(301) 상에 위치한다.
도시되지 않았지만, 유지 라인(721)의 단부는, 다른 층 또는 외부 구동회로와의 접속을 위해, 그 유지 라인(721)의 다른 부분보다 더 큰 면적을 가질 수 있다. 유지 라인(721)은 외부 구동 회로로부터 유지 전압을 공급받을 수 있다. 이 유지 전압은 직류 전압으로서, 공통 전극에 공급되는 공통 전압과 동일한 크기를 가질 수 있다.
프리-틸트 제어층(500)은 액정층(333)의 액정 분자의 프리-틸트 각을 제어한다. 다시 말하여, 프리-틸트 제어층(500)은 화소 전극(PE1) 상에 위치한 액정 분자가 그 프리-틸트 제어층(500)을 중심으로 어느 한 방향으로 기울어지도록 제어한다.
프리-틸트 제어층(500)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 화소 전극(PE1)의 양 가장자리 및 그 화소 전극(PE1)의 중심부에 대응되게 위치한다. 이를 위해, 프리-틸트 제어층(500)은 서로 분리된 제 1 제어층(501), 제 2 제어층(502) 및 제 3 제어층(503)을 포함할 수 있다. 제 1 및 제 2 제어층들(501, 502)은 각각 화소 전극(PE1)의 서로 마주보는 양 가장자리들에 각각 위치하며, 제 3 제어층(503)은 그 화소 전극(PE1)의 중심부에 위치한다. 제 3 제어층(503)은 제 1 제어층(501)과 제 2 제어층(502) 사이에 위치한다.
제 1, 제 2 및 제 3 제어층(501, 502, 503)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 각각 Y축 방향으로 연장된 바(bar) 형상을 가질 수 있다.
프리-틸트 제어층(500)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 제 1 기판(301) 상에 위치한다.
프리-틸트 제어층(500)은 게이트 라인(GL1)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 프리-틸트 제어층(500) 및 게이트 라인(GL1)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
프리-틸트 제어층(500)은 게이트 라인(GL1) 및 데이터 라인(DL1)을 포함한 어떠한 도전성 라인들에도 연결되지 않는 고립된 형태를 갖는다. 다시 말하여, 각 제어층(501, 502, 503)은 표시 장치의 어떠한 신호 라인에도 물리적으로 직접 연결되지 않는다. 여기서, 신호 라인은 어떠한 신호 공급원으로부터 신호를 직접 공급받는 라인, 또는 적어도 하나의 다른 라인을 통해 그 신호 공급원으로부터의 신호를 간접적으로 공급받는 라인, 또는 적어도 하나의 커패시터를 통해 그 신호 공급원으로부터의 신호를 간접적으로 공급받는 라인, 또는 적어도 하나의 스위치를 통해 그 신호 공급원으로부터의 신호를 간접적으로 공급받는 라인을 모두 포함한다.
광차단막(182)은, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 드레인 콘택홀(11)에 대응되게 제 1 기판(301) 상에 위치한다. 마스크의 오정렬에 의해 드레인 콘택홀(11)이 드레인 전극(DE)으로부터 크게 벗어나서 형성될 경우 그 드레인 콘택홀(11)로부터의 빛샘을 발생될 수 있는 바, 광차단막(182)은 그 드레인 콘택홀(11) 하부에 위치하여 그 빛샘을 차단한다. 광차단막(182)은 게이트 라인(GL1) 및 데이터 라인(DL1)을 포함한 어떠한 도전성 라인들에도 연결되지 않는 고립된 형태를 갖는다. 광차단막(182)은 제 1 제어층(501)과 일체로 이루어질 수 있다.
광차단막(182)은 게이트 라인(GL1)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 광차단막(182) 및 게이트 라인(GL1)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
게이트 절연막(311)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 게이트 라인(GL1), 게이트 전극(GE), 유지 라인(721), 프리-틸트 제어층(500) 및 광차단막(182) 상에 위치한다. 이때, 게이트 절연막(311)은 게이트 라인(GL1), 게이트 전극(GE), 유지 라인(721), 프리-틸트 제어층(500) 및 광차단막(182)을 포함한 제 1 기판(301)의 전면(全面)에 위치할 수 있다.
게이트 절연막(311)은 질화 규소(SiNx) 또는 산화 규소(SiOx) 등으로 만들어질 수 있다. 게이트 절연막(311)은 물리적 성질이 다른 적어도 두 개의 절연층들을 포함하는 다중막 구조를 가질 수 있다.
반도체층(321)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 게이트 전극(GE), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)과 중첩한다. 반도체층(321)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 게이트 절연막(311) 상에 위치한다. 반도체층(321)은 비정질 규소 또는 다결정 규소 등으로 만들어질 수 있다.
데이터 라인(DL1)은, 도 1에 도시된 바와 같이, Y축 방향으로 연장된다. 도 1에 도시된 바와 같이, 데이터 라인(DL1)은 게이트 라인(GL1)과 교차한다.
도시되지 않았지만, 데이터 라인(DL1)과 게이트 라인(GL1)이 교차하는 곳에서 데이터 라인(DL1)은 이의 다른 부분보다 더 작은 선폭을 가질 수 있다. 여기서, 데이터 라인(DL1)의 선폭은 X축 “‡향으로 측정된 데이터 라인(DL1)의 폭을 의미한다. 또한, 데이터 라인(DL1)과 게이트 라인(GL1)이 교차하는 곳에서 게이트 라인(GL1)은 이의 다른 부분보다 더 작은 선폭을 가질 수 있다. 여기서, 게이트 라인(GL1)의 선폭은 Y축 “‡향으로 측정된 게이트 라인(GL1)의 폭을 의미한다. 이와 같이 데이터 라인(DL1)과 게이트 라인(GL1)의 교차 영역에서 그 데이터 라인(DL1)과 게이트 라인(GL1)의 선폭이 작음으로 인해 데이터 라인(DL1)과 게이트 라인(GL1) 간의 기생 커패시턴스의 크기가 줄어들 수 있다.
도시되지 않았지만, 데이터 라인(DL1)의 단부는, 다른 층 또는 외부 구동회로와의 접속을 위해, 그 데이터 라인(DL1)의 다른 부분보다 더 큰 면적을 가질 수 있다. 데이터 라인(DL1)은 외부 구동 회로로부터 데이터 전압(즉, 영상 데이터 전압)을 공급받을 수 있다.
도 2에 도시되지 않았지만, 데이터 라인(DL1)은 게이트 절연막(311) 상에 위치한다. 즉, 데이터 라인(DL1)은 도 2에 도시된 소스 전극(SE1)과 같이 게이트 절연막(311) 상에 위치할 수 있다.
데이터 라인(DL1)은 몰리브덴, 크롬, 탄탈륨 및 티타늄 등 내화성 금속(refractory metal) 또는 이들의 합금으로 만들어질 수 있다. 데이터 라인(DL1)은 내화성 금속막과 저저항 도전막을 포함하는 다중막 구조를 가질 수 있다. 다중막 구조의 예로는 크롬 또는 몰리브덴(또는 몰리브덴 합금) 하부막과 알루미늄 (또는 알루미늄 합금) 상부막의 이중막, 몰리브덴 (또는 몰리브덴 합금) 하부막과 알루미늄 (또는 알루미늄 합금) 중간막과 몰리브덴 (또는 몰리브덴 합금) 상부막의 삼중막을 들 수 있다. 한편, 데이터 라인(DL1)은 이외에도 여러 가지 다양한 금속 또는 도전체로 만들어질 수 있다.
소스 전극(SE)은, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 게이트 전극(GE) 및 반도체층(321)과 중첩한다. 또한, 소스 전극(SE)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 게이트 절연막(311) 및 반도체층(321) 상에 위치한다.
소스 전극(SE)은 데이터 라인(DL1)으로부터 화소 전극(PE1)을 향해 돌출된 형상을 가질 수 있다. 소스 전극(SE)은 데이터 라인(DL1)의 일부일 수도 있다. 소스 전극(SE)과 데이터 라인(DL1)은 일체로 이루어질 수 있다.
소스 전극(SE)은 I자, C자 및 U자 중 어느 하나의 형태를 가질 수 있다. 도 1에는 U자 형상을 갖는 소스 전극(SE)이 도시되어 있는 바, 이 소스 전극(SE)의 볼록한 부분은 게이트 라인(GL1)을 향하고 있다.
소스 전극(SE)은 데이터 라인(DL1)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 소스 전극(SE) 및 데이터 라인(DL1)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
드레인 전극(DE)은, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 소스 전극(SE)으로부터 소정 간격 이격되어 게이트 절연막(311) 및 반도체층(321) 상에 위치한다. 드레인 전극(DE)은 반도체층(321) 및 게이트 전극(GE)과 중첩한다. 드레인 전극(DE)과 소스 전극(SE) 사이의 반도체층(321) 부분에 스위칭 소자(TFT1)의 채널 영역이 위치한다.
드레인 전극(DE)은 데이터 라인(DL1)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 드레인 전극(DE) 및 데이터 라인(DL1)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
제 1 저항성 접촉층(321a)은 반도체층(321)과 소스 전극(SE) 사이에 위치한다. 제 1 저항성 접촉층(321a)에 의해 반도체층(321)과 소스 전극(SE) 간의 계면 저항이 감소될 수 있다.
제 1 저항성 접촉층(321a)은 인(phosphorus) 또는 인화 수소(PH3)와 같은 n형 불순물 이온이 고농도로 도핑되어 있는 n+ 수소화 비정질 규소와 같은 물질로 만들어지거나 실리사이드(silicide)로 만들어질 수 있다.
제 2 저항성 접촉층(321b)은 반도체층(321)과 드레인 전극(DE) 사이에 위치한다. 제 2 저항성 접촉층(321b)에 의해 반도체층(321)과 드레인 전극(DE) 간의 계면 저항이 감소될 수 있다. 제 2 저항성 접촉층(321b)은 전술된 제 1 저항성 접촉층(321a)과 동일한 물질 및 구조를 가질 수 있다. 저항성 접촉층(321b)과 저항성 접촉층(321a)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
한편, 제 1 저항성 접촉층(321a) 및 제 2 저항성 접촉층(321b)은 본 발명의 표시 장치로부터 제거될 수 있다.
도시되지 않았지만, 게이트 절연막(311)과 소스 전극(SE) 사이에 반도체층(이하, 제 1 추가 반도체층)이 더 위치할 수 있다. 또한, 게이트 절연막(311)과 드레인 전극(DE) 사이에 반도체층(이하, 제 2 추가 반도체층)이 더 위치할 수 있다. 또한, 게이트 절연막(311)과 데이터 라인(DL1) 사이에 반도체층(이하, 제 3 추가 반도체층)이 더 위치할 수 있다.
또한, 도시되지 않았지만, 제 1 추가 반도체층과 소스 전극(SE) 사이에 저항성 접촉층이 더 위치할 수 있다. 또한, 제 2 추가 반도체층과 드레인 전극(DE) 사이에 저항성 접촉층이 더 위치할 수 있다. 또한, 제 3 추가 반도체층과 데이터 라인(DL1) 사이에 저항성 접촉층이 더 위치할 수 있다.
보호막(320)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 게이트 절연막(311), 데이터 라인(DL1), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE) 상에 위치한다. 이때, 보호막(320)은 게이트 절연막(311), 데이터 라인(DL1), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함한 제 1 기판(301)의 전면(全面)에 위치할 수 있다.
보호막(320)은 드레인 전극(DE)에 대응되게 위치하여 그 드레인 전극(DE)의 일부를 노출시키는 개구부를 갖는다. 이 보호막(320)의 개구부는 드레인 콘택홀(11)의 일부이다.
보호막(320)은 질화 규소(SiNx) 또는 산화 규소(SiOx)와 같은 무기 절연물로 만들어질 수 있는 바, 이와 같은 경우 그 무기 절연물로서 감광성(photosensitivity) 및 4.0의 유전 상수(dielectric constant)를 갖는 물질이 사용될 수 있다. 이와 달리, 보호막(320)은 하부 무기막과 상부 유기막의 이중막 구조를 가질 수도 있다. 보호막(320)의 두께는 약 5000Å 이상일 수 있고, 약 6000 Å 내지 약 8000 Å 일 수 있다.
컬러 필터층(351)은, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 화소 전극(PE1), 게이트 라인(GL1) 및 유지 라인(721)과 중첩하게 보호막(320) 상에 위치한다. 컬러 필터층(351)은 특정 색상을 가질 수 있다. 이를 위해, 컬러 필터층(351)은 그 특정 색상에 해당하는 안료를 포함할 수 있다.
더미 컬러 필터층(801)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 컬러 필터층(351)과 제 1 기판(301)의 가장자리 사이에 위치할 수 있다. 또한, 이후 자세히 설명되겠지만, 이 더미 컬러 필터층(801)은 동일한 색상을 갖는 인접한 2개의 컬러 필터층들 사이에 위치할 수 있다. 이 더미 컬러 필터층(801)은 이후 더욱 구체적으로 설명된다.
층간 절연막(325)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 컬러 필터층(351) 및 보호막(320) 상에 위치한다. 층간 절연막(325)은 컬러 필터층(351) 및 보호막을 포함한 제 1 기판(301)의 전면(全面)에 위치할 수 있다.
층간 절연막(325)은 드레인 전극(DE)에 대응되게 위치하여 그 드레인 전극(DE)을 노출시키는 개구부를 갖는다. 층간 절연막(325)의 개구부는 드레인 콘택홀(11)의 일부이다. 다시 말하여, 드레인 콘택홀(11)은 전술된 보호막(320)의 개구부와 층간 절연막(325)의 개구부를 포함한다.
층간 절연막(325)은 전술된 보호막(320)과 동일한 물질로 제조될 수 있다. 예를 들어, 층간 절연막(325) 및 보호막(320)은 각각 감광성 유기 물질로 제조될 수 있다. 감광성 유기 물질의 특성에 따라 층간 절연막(325)의 높낮이차 또는 피복단차(step coverage)는 달라질 수 있다.
화소 전극(PE1)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 서로 인접한 게이트 라인(GL1), 유지 라인(721) 및 데이터 라인들(DL1, DL2)에 의해 둘러싸인 영역 중 차광층에 의해 가려지지 않은 영역(이하, 화소 영역)에 위치할 수 있다. 이때, 화소 전극(PE1)의 가장자리들 중 유지 라인(721)에 근접한 가장자리는 그 유지 라인(721)과 중첩할 수 있다.
화소 전극(PE1)은 ITO(Indium tin oxide) 또는 IZO(Indium zinc oxide) 등의 투명한 도전 물질로 만들어질 수 있다. 이때, ITO는 다결정 또는 단결정의 물질일 수 있다. IZO 역시 다결정 또는 단결정의 물질일 수 있다. 이와 달리, IZO는 비정질(amorphous) 물질일 수 있다.
도 3은 도 1의 화소 전극에 대한 확대도이다.
화소 전극(PE1)은, 도 3에 도시된 바와 같이, 줄기 전극(613), 복수의 가지 전극들(601a, 601b, 601c, 601d)을 포함한다. 줄기 전극(613)과 가지 전극들(601a, 601b, 601c, 601d)은 일체로 구성될 수 있다.
줄기 전극(613)은 화소 영역(P)을 복수의 도메인(domain)들로 분할한다. 예를 들어, 줄기 전극(613)은 서로 교차하는 수평부(611) 및 수직부(612)를 포함한다. 수평부(611)는 화소 영역(P)을 2개의 도메인들로 분할하며, 그리고 수직부(612)는 그 분할된 2개의 도메인들 각각을 또 다른 2개의 더 작은 도메인들로 분할한다. 수평부(611) 및 수직부(612)로 구성된 줄기 전극(613)에 의해 화소 영역(P)은 4개의 도메인들(A, B, C, D)로 나뉜다.
가지 전극들은 줄기 전극(613)에서 서로 다른 방향으로 연장된 제 1 내지 제 4 가지 전극들(601a, 601b, 601c, 601d)을 포함한다. 즉, 제 1 내지 제 4 가지 전극들(601a, 601b, 601c, 601d)은 줄기 전극(613)에서 각 도메인(A, B, C, D) 내로 연장된다. 예를 들어, 제 1 가지 전극(601a)은 제 1 도메인(A)에 위치하고, 제 2 가지 전극(601b)은 제 2 도메인(B)에 위치하고, 제 3 가지 전극(601c)은 제 3 도메인(C)에 위치하고, 그리고 제 4 가지 전극(601d)은 제 4 도메인(D)에 위치한다.
수직부(612)에 대하여 제 1 가지 전극(601a)과 제 2 가지 전극(601b)은 서로 대칭적인 형태를 이루며, 수직부(612)에 대하여 제 3 가지 전극(601c)과 제 4 가지 전극(601d)은 서로 대칭적인 형태를 이룬다. 또한, 수평부(611)에 대하여 제 1 가지 전극(601a)과 제 4 가지 전극(601d)은 서로 대칭적인 형태를 이루며, 수평부(611)에 대하여 제 2 가지 전극(601b)과 제 3 가지 전극(601c)은 서로 대칭적인 형태를 이룬다.
제 1 도메인(A)에 제 1 가지 전극(601a)이 복수로 구비될 수 있는 바, 이때 복수의 제 1 가지 전극(601a)들은 서로 평행하게 배열된다. 여기서, 제 1 가지 전극(601a)들 중 일부 가지 전극들은, 제 1 도메인(A)과 인접한 수평부(611)의 일측 변으로부터 그 일측 변에 대하여 사선 방향으로 연장된다. 그리고 제 1 가지 전극(601a)들 중 나머지 가지 전극들은 제 1 도메인(A)과 인접한 수직부(612)의 일측 변으로부터 그 일측 변에 대하여 사선 방향으로 연장된다.
제 2 도메인(B)에 제 2 가지 전극(601b)이 복수로 구비될 수 있는 바, 이때 복수의 제 2 가지 전극(601b)들은 서로 평행하게 배열된다. 여기서, 제 2 가지 전극(601b)들 중 일부 가지 전극들은, 제 2 도메인(B)과 인접한 수평부(611)의 일측 변으로부터 그 일측 변에 대하여 사선 방향으로 연장된다. 그리고 제 2 가지 전극(601b)들 중 나머지 가지 전극들은 제 2 도메인(B)과 인접한 수직부(612)의 일측 변으로부터 그 일측 변에 대하여 사선 방향으로 연장된다.
제 3 도메인(C)에 제 3 가지 전극(601c)이 복수로 구비될 수 있는 바, 이때 복수의 제 3 가지 전극(601c)들은 서로 평행하게 배열된다. 여기서, 제 3 가지 전극(601c)들 중 일부 가지 전극들은, 제 3 도메인(C)과 인접한 수평부(611)의 일측 변으로부터 그 일측 변에 대하여 사선 방향으로 연장된다. 그리고 제 3 가지 전극(601c)들 중 나머지 가지 전극들은 제 3 도메인(C)과 인접한 수직부(612)의 일측 변으로부터 그 일측 변에 대하여 사선 방향으로 연장된다.
제 4 도메인(D)에 제 4 가지 전극(601d)이 복수로 구비될 수 있는 바, 이때 복수의 제 4 가지 전극(601d)들은 서로 평행하게 배열된다. 여기서, 제 4 가지 전극(601d)들 중 일부 가지 전극들은, 제 4 도메인(D)과 인접한 수평부(611)의 일측 변으로부터 그 일측 변에 대하여 사선 방향으로 연장된다. 그리고 제 4 가지 전극(601d)들 중 나머지 가지 전극들은 제 4 도메인(D)과 인접한 수직부(612)의 일측 변으로부터 그 일측 변에 대하여 사선 방향으로 연장된다.
한편, 전술된 줄기 전극(613)은 제 1 연결부(614a) 및 제 2 연결부(614b)를 더 포함할 수 있다. 제 1 연결부(614a)는 수직부(612)의 일측 끝단에 연결되며, 제 2 연결부(614b)는 수직부(612)의 타측 끝단에 연결된다. 제 1 연결부(614a) 및 제 2 연결부(614b)는 수평부(611)에 평행하게 배열될 수 있다. 제 1 연결부(614a) 및 제 2 연결부(614b)는 줄기 전극(613)과 일체로 구성될 수 있다.
제 1 도메인(A)에 위치한 적어도 2개의 제 1 가지 전극(601a)들의 단부들과 제 4 도메인(D)에 위치한 적어도 2개의 제 4 가지 전극(601d)들의 단부들은 제 2 연결부(614b)에 의해 서로 연결될 수 있다. 마찬가지로, 제 2 도메인(B)에 위치한 적어도 2개의 제 2 가지 전극(601b)들의 단부들과 제 3 도메인(C)에 위치한 적어도 2개의 제 3 가지 전극(601c)들의 단부들이 제 1 연결부(614a)에 의해 서로 연결될 수 있다.
또한, 도시되지 않았지만, 제 1 도메인(A)에 위치한 적어도 2개의 제 1 가지 전극(601a)들의 단부들과 제 2 도메인(B)에 위치한 적어도 2개의 제 2 가지 전극(601b)들의 단부들이 다른 연결부에 의해 서로 연결될 수 있다. 또한, 제 3 도메인(C)에 위치한 적어도 2개의 제 3 가지 전극(601c)들의 단부들과 제 4 도메인(D)에 위치한 적어도 2개의 제 4 가지 전극(601d)들의 단부들이 또 다른 연결부에 의해 서로 연결될 수 있다.
한편, 화소 전극(PE1)은, 도 3에 도시된 바와 같이, 보조 수평부(630), 제 1 보조 수직부(651a) 및 제 2 보조 수직부(651b)를 더 포함할 수 있다.
보조 수평부(630), 제 1 보조 수직부(651a) 및 제 2 보조 수직부(651b)는 각각 바(bar) 형상을 가질 수 있다.
보조 수평부(630)는 수평부(611)에 평행하다. 보조 수평부(630)는 수직부(612)에 연결된다. 보조 수평부(630)는 수직부(612)와 일체로 이루어질 수 있다.
제 1 보조 수직부(651a)는 수직부(612)에 평행하다. 제 1 보조 수직부(651a)는 수평부(611)의 일측에 연결된다. 제 1 보조 수평부(651a)는 수평부(611)와 일체로 이루어질 수 있다. 제 1 보조 수직부(651a)는 프리-틸트 제어층(500)에 포함된 제 1 제어층(501)과 중첩할 수 있다.
제 2 보조 수직부(651b)는 수직부(612)에 평행하다. 제 2 보조 수직부(651b)는 수평부(611)의 타측에 연결된다. 제 2 보조 수직부(651b)는 수평부(611)와 일체로 이루어질 수 있다. 제 2 보조 수직부(651b)는 프리-틸트 제어층(500)에 포함된 제 2 제어층(502)과 중첩할 수 있다.
보조 수평부(630), 제 1 보조 수직부(651a) 및 제 2 보조 수직부(651b)에 의해 화소 전극(PE1)의 오정렬에 따른 화소들 간 커패시턴스의 편차가 줄어들 수 있다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 화소 전극(PE1)은 연결 전극(880)을 통해 스위칭 소자(TFT1)에 연결될 수 있다. 예를 들어, 화소 전극(PE1)은 연결 전극(880) 및 드레인 콘택홀(11)을 통해 스위칭 소자(TFT1)의 드레인 전극(DE)에 연결될 수 있다. 연결 전극(880)은 화소 전극(PE1)과 일체로 이루어질 수 있다.
연결 전극(880)은 화소 전극(PE1)과 동일한 물질 및 구조를 가질 수 있다. 연결 전극(880) 및 화소 전극(PE1)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
차폐 전극(961)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 게이트 라인(GL1), 게이트 전극(GE), 유지 라인(721), 프리-틸트 제어층(500), 데이터 라인(DL1), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE) 각각의 적어도 일부와 중첩한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 차폐 전극(961)의 일부(이하, 제 1 전극)는 게이트 라인(GL1)의 일부를 중첩하며 그 게이트 라인(GL1)을 따라 위치한 라인의 형상을 가지며, 그 차폐 전극(961)의 다른 일부(이하, 제 2 전극)는 데이터 라인(DL1)의 일부를 중첩하며 그 데이터 라인(DL1)을 따라 위치한 라인의 형상을 갖는다. 여기서, 차폐 전극(961)의 제 1 전극은 데이터 라인(DL1)과 교차하며, 제 2 전극은 게이트 라인(GL1) 및 유지 라인(721)과 교차한다. 또한, 그 차폐 전극(961)의 또 다른 일부는 제 1 전극으로부터 유지 라인(721)을 향해 돌출되어 소스 전극(SE), 드레인 전극(DE) 및 게이트 전극(GE)의 각 일부와 중첩하는 면의 형상을 가지며, 그 차폐 전극(961)의 또 다른 일부는 제 2 전극으로부터 화소 전극(PE1)을 향해 돌출된 형상을 갖는다.
차폐 전극(961)은 공통 전극(330)의 전압과 동일한 전압을 공급받을 수 있다. 예를 들어, 차폐 전극(961)은 외부 구동 회로로부터 공통 전압을 공급받을 수 있다.
차폐 전극(961)은 게이트 라인(GL1)과 화소 전극(PE1) 간에 전계가 형성되는 것을 방지한다. 또한, 차폐 전극(961)과 공통 전극(330)은 동일한 전압, 즉 공통 전압을 공급받으므로 이 차폐 전극(961)과 공통 전극(330) 간에 등전위가 형성된다. 그러므로, 차폐 전극(961)과 공통 전극(330) 사이에 위치한 액정층(333)을 통과한 광은 차단된다. 따라서, 데이터 라인(DL1)에 대응되는 부분에서의 빛샘이 방지된다. 게다가, 제 1 차폐 라인(961)은 게이트 라인(GL1) 상의 차광층(376) 부분을 대신할 수 있으므로, 이러한 차폐 전극(961)이 사용될 경우 데이터 라인(DL1) 상의 차광층(376) 부분은 제거될 수 있다. 그러므로, 차폐 라인(707)이 사용될 경우 화소(PX1)의 개구율이 더욱 증가할 수 있다.
차폐 전극(961)은 전술된 화소 전극(PE1)과 동일한 물질로 만들어질 수 있다. 즉, 차폐 전극(961) 및 화소 전극(PE1)은 동일한 공정으로 동시에 제조될 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 차광층(376)은 게이트 라인(GL1) 및 유지 라인(721)과 교차한다. 또한, 도 1에 도시된 바와 같이, 차광층(376)은 스위칭 소자(TFT1), 데이터 라인(DL1) 및 드레인 콘택홀(11)과 중첩한다. 이때, 차광층(376)은 화소 전극(PE1)의 일부, 차폐 전극(961)의 일부 및 연결 전극(880)을 더 중첩할 수 있다. 예를 들어, 도 1에 도시된 바와 같이, 차광층(376)은 화소 전극(PE1)의 가장자리들 중 데이터 라인(DL1)에 인접한 가장자리와 중첩할 수 있다. 여기서의 데이터 라인(DL1)은 그 화소 전극(PE1)에 연결된 스위칭 소자(TFT1)의 소스 전극(SE)과 일체로 이루어진 데이터 라인(DL1)을 의미한다. 도 2에 도시된 바와 같이, 차광층(376)은 보호막(320), 화소 전극(PE1) 및 차폐 전극(961) 상에 위치한다.
차광층(376)은 감광성 유기 물질로 이루어질 수 있다. 이때, 감광성 유기 물질은 포지티브(positive) 타입 또는 네거티브(negative) 타입의 감광성 유기 물질일 수 있다. 감광성 유기 물질의 특성에 따라 차광층(376)의 높낮이차 또는 피복단차(step coverage)는 달라질 수 있다.
컬럼 스페이서(901)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 더미 컬러 필터층(801)과 중첩하게 차광층(376) 상에 위치한다. 컬럼 스페이서(901)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 차광층(376)과 일체로 이루어질 수 있다. 이와 같이 컬럼 스페이서(901)와 차광층(376)이 일체로 이루어질 경우, 그 일체로 이루어진 구조물 중 더미 컬러 필터층(801)과 중첩하는 부분이 전술된 컬럼 스페이서(901)에 해당한다.
컬럼 스페이서(901)는 차광층(376)과 동일한 물질 및 구조를 가질 수 있다. 컬럼 스페이서(901) 및 차광층(376)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
컬럼 스페이서(901)의 높이(h1)는 그 하부에 위치한 더미 컬러 필터층(801)의 높이(h11)에 따라 좌우되며, 더미 컬러 필터층(801)의 높이(h11)는 그 더미 컬러 필터층(801)의 면적에 좌우된다. 결국, 컬럼 스페이서(901)의 높이(h1)는 더미 컬러 필터층(801)의 면적에 따라 좌우된다. 더미 컬러 필터층(801)의 면적이 클수록 그 더미 컬러 필터층(801)의 높이(h11)가 증가하며, 이에 따라 그 더미 컬러 필터층(801) 상에 위치한 컬럼 스페이서(901)의 높이(h1)도 증가한다.
컬럼 스페이서(901)의 높이(h1)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 제 1 기판(301)의 평탄한 기준면(즉, 제 1 기판(301)의 내측면)으로부터 그 컬럼 스페이서(901)의 최상층면까지의 거리로서, 이 거리는 Z축에 평행한 방향(이하, Z축 방향)으로 측정된 거리를 의미한다. 제 1 기판(301)의 기준면은 Z축 방향에 수직으로 교차한다. 컬럼 스페이서(901)의 최상층면은 그 컬럼 스페이서(901)의 표면 중 전술된 기준면으로부터 Z축 방향으로 가장 멀리 떨어진 표면 부분을 의미한다. 한편, 전술된 컬럼 스페이서(901)의 높이는 제 2 기판(302)의 평탄한 기준면(즉, 제 2 기판(302)의 내측면)으로부터 그 컬럼 스페이서(901) 간의 거리로 정의될 수도 있다. 여기서, 제 2 기판(302)의 기준면과 컬럼 스페이서(901) 간의 거리는 Z축 방향으로의 거리를 의미한다.
더미 컬러 필터층(801)의 높이(h11) 역시 전술된 제 1 기판(301)의 기준면으로부터 그 더미 컬러 필터층(801)의 최상층면까지의 거리로 정의될 수 있는 바, 이 거리는 Z축 방향으로 측정된 거리를 의미한다.
더미 컬러 필터층(801)의 면적은 그 더미 컬러 필터층(801)의 면들 중 제 2 기판(302)의 기준면에 가장 근접한 면(S1; 이하, 대향면)의 크기를 의미한다. 예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, 이 대향면(S1)은 제 2 기판(302)의 기준면과 마주보며, 그 기준면과 평행하다.
도 4는 도 1에 도시된 구조를 갖는 복수의 화소들을 포함하는 표시 장치의 평면도이고, 도 5는 도 4에서 제 1 내지 제 6 컬러 필터층들과 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들을 따로 나타낸 도면이다. 도 6은 도 4의 I-I'의 선을 따라 자른 단면도이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 표시 장치는 복수의 화소들(PX1, PX2, PX3, PX4, PX5, PX6)을 포함한다. 도 4에는 하나의 예로서, 6개의 화소들(PX1 내지 PX6)이 포함한 표시 장치가 도시되어 있다. 도 4의 제 1 화소(PX1)는 도 1의 화소(PX1)와 동일하다. 또한, 도 4의 화소들(PX1 내지 PX6) 각각은 전술된 도 1의 화소(PX1)와 동일한 구조를 갖는다.
6개의 화소들(PX1 내지 PX6)은 3개의 게이트 라인들(GL1, GL, GL3)과 2개의 데이터 라인들(DL1, DL2)에 접속된다. 예를 들어, X축 방향으로 인접한 제 1 화소(PX1) 및 제 4 화소(PX4)는 제 1 게이트 라인(GL1)에 공통으로 연결되고, X축 방향으로 인접한 제 2 화소(PX2) 및 제 5 화소(PX5)는 제 2 게이트 라인(GL2)에 공통으로 연결되며, X축 방향으로 인접한 제 3 화소(PX3) 및 제 6 화소(PX6)는 제 3 게이트 라인(GL3)에 공통으로 연결된다. 한편, Y축 방향으로 인접한 제 1 화소(PX1), 제 2 화소(PX2) 및 제 3 화소(PX3)는 제 1 데이터 라인(DL1)에 공통으로 연결되며, 그리고 Y축 방향으로 인접한 제 4 화소(PX4), 제 5 화소(PX5) 및 제 6 화소(PX6)는 제 2 데이터 라인(DL2)에 공통으로 연결된다.
이와 같이, 제 1 화소(PX1)는 제 1 게이트 라인(GL1) 및 제 1 데이터 라인(DL1)에 연결되며, 제 2 화소(PX2)는 제 2 게이트 라인(GL2) 및 제 1 데이터 라인(DL1)에 연결되며, 제 3 화소(PX3)는 제 3 게이트 라인(GL3) 및 제 1 데이터 라인(DL1)에 연결되며, 제 4 화소(PX4)는 제 1 게이트 라인(GL1) 및 제 2 데이터 라인(DL2)에 연결되며, 제 5 화소(PX5)는 제 2 게이트 라인(GL2) 및 제 2 데이터 라인(DL2)에 연결되며, 그리고 제 6 화소(PX6)는 제 3 게이트 라인(GL3) 및 제 2 데이터 라인(DL2)에 연결된다.
제 1 화소(PX1)는 제 1 스위칭 소자(TFT1), 제 1 화소 전극(PE1) 및 제 1 컬러 필터층(351)을 포함하며, 제 2 화소(PX2)는 제 2 스위칭 소자, 제 2 화소 전극(PE2) 및 제 2 컬러 필터층(352)을 포함하며, 제 3 화소(PX3)는 제 3 스위칭 소자(TFT3), 제 3 화소 전극(PE3) 및 제 3 컬러 필터층(353)을 포함하며, 제 4 화소(PX4)는 제 4 스위칭 소자(TFT4), 제 4 화소 전극(PE4) 및 제 4 컬러 필터층(354)을 포함하며, 제 5 화소(PX5)는 제 5 스위칭 소자(TFT5), 제 5 화소 전극(PE5) 및 제 5 컬러 필터층(355)을 포함하며, 그리고 제 6 화소(PX6)는 제 6 스위칭 소자(TFT6), 제 6 화소 전극(PE6) 및 제 6 컬러 필터층(356)을 포함한다.
X축 방향으로 인접한 컬러 필터층들은 동일한 색상을 갖는다. 예를 들어, 도 5에 도시된 바와 같이, 제 1 컬러 필터층(351)은 제 4 컬러 필터층(354)과 동일한 색상을 가지며, 제 2 컬러 필터층(352)은 제 5 컬러 필터층(355)과 동일한 색상을 가지며, 그리고 제 3 컬러 필터층(353)은 제 6 컬러 필터층(356)과 동일한 색상을 가질 수 있다.
Y축 방향으로 인접한 컬러 필터층들은 서로 다른 색상을 갖는다. 예를 들어, 도 5에 도시된 바와 같이, 제 1 컬러 필터층(351), 제 2 컬러 필터층(352) 및 제 3 컬러 필터층(353)은 서로 다른 색상을 가지며, 제 4 컬러 필터층(354), 제 5 컬러 필터층(355) 및 제 6 컬러 필터층(356)은 서로 다른 색상을 갖는다.
하나의 구체적인 예로서, 제 1 컬러 필터층(351) 및 제 4 컬러 필터층(354)은 각각 적색을 가지며, 제 2 컬러 필터층(352) 및 제 5 컬러 필터층(355)은 각각 녹색을 가지며, 그리고 제 3 컬러 필터층(353) 및 제 6 컬러 필터층(356)은 각각 청색을 가질 수 있다.
도 4에 도시된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(801)은 제 1 스위칭 소자(TFT1)와 중첩하며, 제 2 더미 컬러 필터층(802)은 제 2 스위칭 소자와 중첩하며, 제 3 더미 컬러 필터층(803)은 제 3 스위칭 소자(TFT3)와 중첩하며, 제 4 더미 컬러 필터층(804)은 제 4 스위칭 소자(TFT4)와 중첩하며, 제 5 더미 컬러 필터층(805)은 제 5 스위칭 소자(TFT5)와 중첩하며, 그리고 제 6 더미 컬러 필터층(806)은 제 6 스위칭 소자(TFT6)와 중첩한다.
도 5에 도시된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(801)은 제 1 기판(301)의 가장자리(1000)와 제 1 컬러 필터층(351) 사이에 위치하며, 제 2 더미 컬러 필터층(802)은 제 1 기판(301)의 가장자리(1000)와 제 2 컬러 필터층(352) 사이에 위치하며, 제 3 더미 컬러 필터층(803)은 제 1 기판(301)의 가장자리(1000)와 제 3 컬러 필터층(353) 사이에 위치하며, 제 4 더미 컬러 필터층(804)은 X축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 1 컬러 필터층(351)과 제 2 컬러 필터층(352) 사이에 위치하며, 제 5 더미 컬러 필터층(805)은 X축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 2 컬러 필터층(352)과 제 5 컬러 필터층(355) 사이에 위치하며, 그리고 제 6 더미 컬러 필터층(806)은 X축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 3 컬러 필터층(353)과 제 6 컬러 필터층(356) 사이에 위치한다.
제 1 더미 컬러 필터층(801)은 이에 인접한 제 1 컬러 필터층(351)과 동일한 색상을 가지며, 제 2 더미 컬러 필터층(802)은 이에 인접한 제 2 컬러 필터층(352)과 동일한 색상을 가지며, 제 3 더미 컬러 필터층(803)은 이에 인접한 제 3 컬러 필터층(353)과 동일한 색상을 가지며, 제 4 더미 컬러 필터층(804)은 이에 인접한 제 4 컬러 필터층(354)과 동일한 색상을 가지며, 제 5 더미 컬러 필터층(805)은 이에 인접한 제 5 컬러 필터층(355)과 동일한 색상을 가지며, 그리고 제 6 더미 컬러 필터층(806)은 이에 인접한 제 6 컬러 필터층(356)과 동일한 색상을 가질 수 있다.
동일 색상의 컬러 필터 및 더미 컬러 필터는 일체로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 도 5에 도시된 바와 같이, X축 방향을 따라 일렬로 배치된 적색의 제 1 더미 컬러 필터층(801), 적색의 제 1 컬러 필터층(351), 적색의 제 4 더미 컬러 필터층(804) 및 적색의 제 4 컬러 필터층(354)은 모두 일체로 이루어질 수 있다.
도 4의 제 1 내지 제 6 스위칭 소자들(TFT1 내지 TFT6) 각각에 관한 상세 설명은 전술된 도 1의 스위칭 소자(TFT1)를 참조한다. 또한, 도 4의 제 1 내지 제 6 화소 전극들(PE1 내지 PE6) 각각에 관한 상세 설명은 전술된 도 1의 화소 전극(PE1)를 참조한다. 또한, 도 4의 제 1 내지 제 6 컬러 필터층들(351 내지 356) 각각에 관한 상세 설명은 전술된 도 1의 컬러 필터층(351)을 참조한다. 또한, 도 4의 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들(801 내지 806) 각각에 관한 상세 설명은 전술된 도 1의 더미 컬러 필터층(801)을 참조한다.
도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 적어도 2개의 더미 컬러 필터층들은 서로 다른 크기를 가질 수 있다. 예를 들어, 제 1 더미 컬러 필터층(801)의 크기는 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 크기와 서로 다를 수 있다. 더욱 구체적인 예로서, 도 5 및 도 6에 도시된 하나의 예와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(801)의 대향면의 면적(S1)은 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 대향면의 면적(S2)보다 더 클 수 있다. 제 3 더미 컬러 필터층(803)의 대향면(S3)의 면적은 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 대향면(S2)의 면적과 동일할 수 있다.
한편, 제 4 더미 컬러 필터층(804)은 제 1 더미 컬러 필터층(801)과 동일한 면적을 가질 수 있다. 그리고, 제 5 더미 컬러 필터층(805) 및 제 6 더미 컬러 필터층(806)은 각각 제 2 더미 컬러 필터층(802)과 동일한 면적을 가질 수 있다.
제 1 컬럼 스페이서(901)는 제 1 더미 컬러 필터층(801) 상에 위치하며, 제 2 컬럼 스페이서(902)는 제 2 더미 컬러 필터층(802) 상에 위치하며, 제 3 컬럼 스페이서(903)는 제 3 더미 컬러 필터층(803) 상에 위치하며, 제 4 컬럼 스페이서(904)는 제 4 더미 컬러 필터층(804) 상에 위치하며, 제 5 컬럼 스페이서(905)는 제 5 더미 컬러 필터층(805) 상에 위치하며, 그리고 제 6 컬럼 스페이서(906)는 제 6 더미 컬러 필터층(806) 상에 위치한다.
도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 적어도 2개의 컬럼 스페이서들의 크기는 다를 수 있다. 예를 들어, 제 1 컬럼 스페이서(901)의 크기는 제 2 컬럼 스페이서(902)의 크기보다 더 클 수 있다.
한편, 제 4 컬럼 스페이서(904)는 제 1 컬럼 스페이서(901)와 동일한 크기를 가질 있다. 그리고, 제 3 컬럼 스페이서(903), 제 5 컬럼 스페이서(905) 및 제 6 컬럼 스페이서(906)는 각각 제 2 컬럼 스페이서(902)와 동일한 크기를 가질 수 있다.
이와 같은 더미 컬러 필터층들의 면적 차이로 인해 컬럼 스페이서들의 높이 차이가 발생된다. 이를 도 6을 참조로 설명하면 다음과 같다.
전술된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(801)은 제 2 더미 컬러 필터층(802)보다 더 큰 면적을 갖는 바, 이때 제 1 더미 컬러 필터층(801)의 한 변의 길이(L1)는 이에 대응되는 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 한 변의 길이(L2)보다 더 클 수 있다. 한편, 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 한 변(L2)의 길이와 이에 대응되는 제 3 더미 컬러 필터층(803)의 한 변의 길이(L3)는 동일할 수 있다.
제 1 더미 컬러 필터층(801)이 제 2 더미 컬러 필터층(802)보다 더 큰 면적을 가짐에 따라, 제 1 더미 컬러 필터층(801)은 제 2 더미 컬러 필터층(802)보다 더 큰 높이를 갖는다. 다시 말하여, 제 1 더미 컬러 필터층(801)의 높이(h11)는 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 높이(h22)보다 더 크다.
제 1 더미 컬러 필터층(801)이 제 2 더미 컬러 필터층(802)보다 더 큰 높이를 가짐에 따라, 제 1 더미 컬러 필터층(801) 상의 제 1 컬럼 스페이서(901)는 제 2 더미 컬러 필터층(802) 상의 제 2 컬럼 스페이서(902)보다 더 큰 높이를 갖는다. 즉, 제 1 컬럼 스페이서(901)의 높이(h1)는 제 2 컬럼 스페이서(902)의 높이(h2)보다 더 크다. 이에 따라, 제 2 기판(302)의 기준면(즉, 제 2 기판(302)의 내측면)과 제 1 컬럼 스페이서(901) 간의 거리는 그 제 2 기판(302)의 기준면과 제 2 컬럼 스페이서(902) 간의 거리보다 더 작다.
한편, 제 3 더미 컬러 필터층(803)은 제 2 더미 컬러 필터층(802)과 동일한 면적을 갖는 바, 이에 따라 제 3 더미 컬러 필터층(803) 상의 제 3 컬럼 스페이서(903)는 제 2 더미 컬러 필터층(802) 상의 제 2 컬럼 스페이서(902)와 동일한 높이를 갖는다(h3=h2). 따라서, 제 2 기판(302)의 기준면과 제 3 컬럼 스페이서(903) 간의 거리는 제 2 기판(302)의 기준면과 제 2 컬럼 스페이서(902) 간의 거리와 동일하다.
이와 같이 제 1 컬럼 스페이서(901)는 제 2 컬럼 스페이서(902)보다 더 큰 높이를 가지며, 제 3 컬럼 스페이서(903)는 제 2 컬럼 스페이서(902)와 동일한 높이를 갖는다. 이는 제 1 컬럼 스페이서(901)의 하부에 위치한 제 1 더미 컬러 필터층(801)의 면적이 제 2 컬럼 스페이서(902)의 하부에 위치한 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 면적보다 더 크고, 제 3 컬럼 스페이서(903)의 하부에 위치한 제 3 더미 컬러 필터층(803)의 면적과 전술된 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 면적이 동일하기 때문이다.
상대적으로 큰 높이(h1)를 갖는 제 1 컬럼 스페이서(901)는 메인 컬럼 스페이서이며, 상대적으로 작은 높이(h2, h3)를 갖는 제 2 컬럼 스페이서(902) 및 제 3 컬럼 스페이서(903)는 각각 서브 컬럼 스페이서이다.
한편, 도 6에 도시된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(801)이 제 2 더미 컬러 필터층(802)보다 더 큰 면적을 가짐에 따라, 제 1 더미 컬러 필터층(801) 상에 위치한 제 1 컬럼 스페이서(901)의 두께(d1)는 제 2 더미 컬러 필터층(802) 상에 위치한 제 2 컬럼 스페이서(902)의 두께(d2)보다 더 작다. 이는 상대적으로 큰 면적의 더미 컬러 필터층 상의 컬럼 스페이서가 상대적으로 더 높은 평탄도를 갖기 때문이다. 즉, 제 1 컬럼 스페이서(901) 및 제 2 컬럼 스페이서(902)는 동일한 양의 광에 의해 노광될 수 있는 바, 이때 더 큰 면적의 제 1 더미 컬러 필터층(801) 상에 위치한 제 1 컬럼 스페이서(901)는 상대적으로 작은 두께를 갖는다. 한편, 제 1 컬럼 스페이서(901)의 두께(d1)는 제 2 더미 컬러 필터층(802) 상에 위치한 제 2 컬럼 스페이서(902)의 두께(d2)와 동일할 수도 있다.
제 3 컬럼 스페이서(903)의 두께(d3)는 제 2 컬럼 스페이서(902)의 두께(d2)와 동일하다. 제 1 내지 제 3 컬럼 스페이서들(901 내지 903)은 모두 동일한 양의 광에 의해 노광될 수 있다.
공통 전극(330)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 제 2 기판(302) 상에 위치한다. 공통 전극(330)은 제 2 기판(302)의 전면(全面)에 위치할 수 있다. 공통 전극(330)은 외부 구동 회로로부터 공통 전압을 공급받는다. 공통 전압은 직류 전압이다.
공통 전극(330)은 전술된 화소 전극(PE1)과 동일한 물질로 제조될 수 있다. 이와 달리, 화소 전극(PE1)이 IZO로 제조될 경우, 공통 전극(330)은 ITO로 제조될 수 있다.
액정층(333)은 제 1 기판(301)과 제 2 기판(302) 사이에 위치한다. 액정층(333)은 음의 유전 이방성을 가지며 수직 배향된 액정 분자들을 포함할 수 있다. 이와 달리, 액정층(333)은 광중합 물질을 포함할 수 있는 바, 이때 광중합 물질은 반응성 모노머(reactive monomer) 또는 반응성 메조겐(reactive mesogen)일 수 있다.
도 7a 내지 도 15b는 본 발명의 한 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도들이다. 여기서, 도 7a, 도 8a, 도 9a, 도 10a, 도 13a, 도 14a 및 도 15a는 도 1의 I-I'의 선을 따라 자른 단면도이며, 그리고 도 7b, 도 8b, 도 9b, 도 10b, 도 11, 도 12, 도 13b, 도 14b 및 도 15b는 도 4의 I-I'의 선을 따라 자른 단면도이다.
먼저, 도시되지 않았지만, 제 1 기판(301)의 전면(全面)에 게이트 금속층이 증착된다. 게이트 금속층은 스퍼터링(sputtering)과 같은 물리 기상 증착(physical vapor deposition: PVD) 방식으로 증착될 수 있다.
이후 포토리쏘그라피(photolithography) 공정에 의해 전술된 게이트 금속층이 패터닝됨으로써, 도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이, 게이트 라인(GL1), 게이트 전극(GE), 프리-틸트 제어층(500) 및 유지 라인(721)이 형성된다.
게이트 금속층은 식각액을 이용한 습식 식각(wet-etch) 방식으로 제거될 수 있다.
게이트 금속층은 전술된 게이트 라인의 제조에 사용되는 물질로 이루어질 수 있다.
이이서, 게이트 라인(GL1), 게이트 전극(GE), 프리-틸트 제어층(500) 및 유지 라인(721)을 포함한 제 1 기판(301)의 전면에 게이트 절연막(311)이 증착된다. 게이트 절연막(311)은 화학 기상 증착(chemical vapor deposition: CVD) 방식으로 증착될 수 있다.
게이트 절연막(311)은 전술된 게이트 절연막(311)의 제조에 사용되는 물질로 이루어질 수 있다.
다음으로, 도시되지 않았지만, 게이트 절연막(311)을 포함한 제 1 기판(301)의 전면에 반도체 물질 및 불순물 반도체 물질이 차례로 증착된다. 반도체 물질 및 불순물 반도체 물질은 화학 기상 증착(chemical vapor depostion: CVD) 방식으로 증착될 수 있다.
반도체 물질은 전술된 반도체층(321)의 제조에 사용되는 물질로 이루어질 수 있다. 불순물 반도체 물질은 전술된 제 1 및 제 2 저항성 접촉층(321a, 321b)의 제조에 사용되는 물질로 이루어질 수 있다.
이후, 포토리쏘그라피 공정에 의해 반도체 물질 및 불순물 반도체 물질이 패터닝됨으로써, 게이트 전극(GE)을 중첩하는 반도체층(321)이 게이트 절연막(311) 상에 형성되고, 그 반도체층(321)과 동일한 형상을 갖는 불순물 반도체 패턴이 반도체층(321) 상에 형성된다.
반도체 물질 및 불순물 반도체 물질은 식각 가스를 이용한 건식 식각(dry-etch) 방식으로 제거될 수 있다.
이후, 도시되지 않았지만, 반도체층(321a) 및 불순물 반도체 패턴을 포함한 제 1 기판(301)의 전면에 소스 금속층이 증착된다.
소스 금속층은 전술된 데이터 라인(DL1)의 제조에 사용되는 물질로 제조될 수 있다.
다음으로, 포토리쏘그라피 공정에 의해 소스 금속층이 패터닝됨으로써, 게이트 라인(GL1)과 교차하는 데이터 라인(DL1)이 게이트 절연막(311) 상에 형성되고, 반도체층(321)의 양측을 중첩하는 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)이 불순물 반도체 패턴 상에 형성된다.
이어서, 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)이 마스크로 사용된 상태에서, 식각 공정에 의해 불순물 반도체 패턴 패터닝됨으로써, 도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이, 제 1 저항성 접촉층(321a) 및 제 2 저항성 접촉층(321b)이 형성된다. 제 1 저항성 접촉층(321a)은 소스 전극(SE)과 반도체층(321) 사이에 형성되며, 제 2 저항성 접촉층(321b)은 드레인 전극(DE)과 반도체층(321) 사이에 형성된다.
한편, 전술된 불순물 반도체 패턴에 대한 식각 공정시, 그 불순물 반도체 패턴의 하부에 위치한 반도체층(321)의 일부가 제거된다. 이에 따라, 반도체층(321)의 채널 영역에 해당하는 부분의 두께가 감소된다.
다음으로, 도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이, 데이터 라인(DL1), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함한 제 1 기판(301)의 전면에 보호막(320)이 증착된다.
보호막(320)은 전술된 보호막(320)의 제조에 사용되는 물질로 제조될 수 있다. 예를 들어, 보호막(320)은 무기 물질로 제조될 수 있다.
이어서, 도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이, 그 보호막(320)을 포함한 제 1 기판(301)의 전면(全面)에 제 1 감광성 유기 물질(350a)이 형성된다. 이때, 이 제 1 감광성 유기 물질(350a)은 평탄화에 필요한 두께보다 더 작은 두께를 갖는다. 따라서, 도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이, 제 1 감광성 유기 물질(350a)의 상부면은 평탄화되지 않는다. 이 제 1 감광성 유기 물질(350a)은 네거티브(negative) 타입의 감광성 유기 물질이다. 제 1 감광성 유기 물질(350a)은 적색의 안료를 포함할 수 있다.
다음으로, 도 8a 및 도 8b에 도시된 바와 같이, 제 1 마스크(M1)가 제 1 감광성 유기 물질(350a) 상에 배치된다. 제 1 마스크(M1)는 광이 투과되는 투과 영역(TA) 및 광이 차단되는 차단 영역(BA)을 포함한다.
이어서, 자외선과 같은 광(L)이 제 1 마스크(M1)를 통해 제 1 감광성 유기 물질(350a)에 선택적으로 조사되어 제 1 감광성 유기 물질(350a)이 노광된다. 노광된 제 1 감광성 유기 물질(350a)이 현상되면, 도 9a 및 도 9b에 도시된 바와 같이, 제 1 컬러 필터층(351) 및 제 1 더미 컬러 필터층(801)이 형성된다. 여기서, 제 1 컬러 필터층(351)은 제 1 더미 컬러 필터층(801)과 일체로 이루어진다.
이어서, 도 10a 및 도 10b에 도시된 바와 같이, 제 1 컬러 필터층(351), 제 1 더미 컬러 필터층(801) 및 보호막(320)을 포함한 제 1 기판(301)의 전면(全面)에 제 2 감광성 유기 물질(350b)이 형성된다. 이때, 이 제 2 감광성 유기 물질(350b)은 평탄화에 필요한 두께보다 더 작은 두께를 갖는다. 따라서, 도 10a 및 도 10b에 도시된 바와 같이, 제 2 감광성 유기 물질(350b)의 상부면은 평탄화되지 않는다. 이 제 2 감광성 유기 물질(350b)은 네거티브(negative) 타입의 감광성 유기 물질이다. 제 2 감광성 유기 물질(350b)은 녹색의 안료를 포함할 수 있다.
다음으로, 도 10a 및 도 10b에 도시된 바와 같이, 제 2 마스크(M2)가 제 2 감광성 유기 물질(350b) 상에 배치된다. 제 2 마스크(M2)는 광이 투과되는 투과 영역(TA) 및 광이 차단되는 차단 영역(BA)을 포함한다. 여기서, 도 10b에 도시된 제 2 마스크의 투과 영역(이하, 제 2 툭과 영역)은 도 8b에 도시된 제 1 마스크의 투과 영역(이하, 제 1 투과 영역)보다 더 작다. 여기서, 제 2 투과 영역은 제 2 더미 컬러 필터층에 대응되는 투과 영역이고, 제 1 투과 영역은 제 1 더미 컬러 필터층에 대응되는 투과 영역이다.
이어서, 자외선과 같은 광(L)이 제 2 마스크(M2)를 통해 제 2 감광성 유기 물질(350b)에 선택적으로 조사되어 제 2 감광성 유기 물질(350b)이 노광된다. 노광된 제 2 감광성 유기 물질(350b)이 현상되면, 도 11에 도시된 바와 같이, 제 2 더미 컬러 필터층(802)이 형성된다. 한편, 도시되지 않았지만, 제 2 광감성 유기 물질이 현상되면 제 2 컬러 필터층(352)도 형성된다. 여기서, 제 2 컬러 필터층(352)은 제 2 더미 컬러 필터층(802)과 일체로 이루어진다.
이어서, 도면에 도시되지 않았지만, 제 1 컬러 필터층(351), 제 1 더미 컬러 필터층(801), 제 2 컬러 필터층(352), 제 2 더미 컬러 필터층(802) 및 보호막(320)을 포함한 제 1 기판(301)의 전면(全面)에 제 3 감광성 유기 물질이 형성된다. 이때, 이 제 3 감광성 유기 물질은 평탄화에 필요한 두께보다 더 작은 두께를 갖는다. 따라서, 제 3 감광성 유기 물질의 상부면은 평탄화되지 않는다. 이 제 3 감광성 유기 물질은 네거티브(negative) 타입의 감광성 유기 물질이다. 제 3 감광성 유기 물질은 청색의 안료를 포함할 수 있다.
다음으로, 도면에 도시되지 않았지만, 제 3 마스크가 제 3 감광성 유기 물질 상에 배치된다. 제 3 마스크는 광이 투과되는 투과 영역 및 광이 차단되는 차단 영역을 포함한다. 여기서, 제 3 더미 컬러 필터층에 대응되는 제 3 마스크의 투과 영역(이하, 제 3 투과 영역)은 전술된 제 2 마스크의 제 2 투과 영역과 동일한 크기를 갖는다.
이어서, 자외선과 같은 광이 제 3 마스크를 통해 제 3 감광성 유기 물질에 선택적으로 조사되어 제 3 감광성 유기 물질이 노광된다. 노광된 제 3 감광성 유기 물질이 현상되면, 도 12에 도시된 바와 같이, 제 3 더미 컬러 필터층(803)이 형성된다. 한편, 도시되지 않았지만, 제 3 광감성 유기 물질이 현상되면 제 3 컬러 필터층(353)도 형성된다. 여기서, 제 3 컬러 필터층(353)은 제 3 더미 컬러 필터층(803)과 일체로 이루어진다.
제 1 투과 영역(TA)은 제 2 투과 영역(TA) 및 제 3 투과 영역보다 더 크다. 따라서, 전술된 노광 공정에서, 제 1 투과 영역(TA)의 제 1 감광성 유기 물질(350a)은 제 2 투과 영역(TA)의 제 2 감광성 유기 물질(350b) 및 제 3 투과 영역의 제 3 감광성 유기 물질보다 더 많은 양의 광을 조사받는다. 이에 따라, 제 1 더미 컬러 필터층(801)의 대향면(S1)은 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 대향면(S2)보다 더 큰 면적을 가지며, 제 3 더미 컬러 필터층(803)의 대향면(S3)은 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 대향면(S2)과 동일한 면적을 갖는다. 그러므로, 도 12에 도시된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(801)의 높이(h11)는 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 높이(h22)보다 더 크며, 제 3 더미 컬러 필터층(803)의 높이(h33)는 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 높이(h22)와 동일하다. 즉, 더미 컬러 필터층의 면적이 클수록 이의 높이는 증가한다.
한편, 제 1 투과 영역(TA), 제 2 투과 영역(TA) 및 제 3 투과 영역은 모두 동일한 크기를 가질 수 있다. 이때, 국부 노광 방법을 통해 제 1 투과 영역으로 상대적으로 더 많은 양의 광이 조사될 수 있다. 예를 들어, 국부 노광 방법을 통해 제 1 더미 컬러 필터층(801)에 대응되는 부분에만 선택적으로 더 많은 양의 광이 조사될 수 있다. 이와 같은 방법을 통해, 제 1 더미 컬러 필터층(801)은 제 2 더미 컬러 필터층(802) 및 제 3 더미 컬러 필터층(803)보다 더 많은 양의 광을 조사받을 수 있다. 이와 같은 경우 제 1 더미 컬러 필터층(801)은 제 2 더미 컬러 필터층(802) 및 제 3 더미 컬러 필터층(803)보다 더 큰 면적을 갖는다.
다음으로, 도 13a 및 도 13b에 도시된 바와 같이, 보호막(320), 제 1 컬러 필터층(351), 제 2 컬러 필터층(352), 제 3 컬러 필터층(353), 제 1 더미 컬러 필터층(801), 제 2 더미 컬러 필터층(802) 및 제 3 더미 컬러 필터층(803)을 포함한 제 1 기판(301)의 전면에 층간 절연막(325)이 증착된다.
층간 절연막(325)은 전술된 보호막(320)의 제조에 사용되는 물질로 제조될 수 있다. 예를 들어, 층간 절연막(325)은 네거티브 타입의 감광성 유기 물질로 제조될 수 있다. 이때, 이 감광성 유기 물질은 평탄화에 필요한 두께보다 더 작은 두께를 갖는다. 따라서, 도 13a 및 도 13b에 도시된 바와 같이, 층간 절연막(325)의 상부면은 평탄화되지 않는다.
이후, 포토리쏘그라피 공정에 의해 층간 절연막(325) 및 보호막(320)을 관통하여 드레인 전극(DE)을 노출시키는 드레인 콘택홀(11)이 형성된다.
다음으로, 도시되지 않았지만, 층간 절연막(325)을 포함한 제 1 기판(301)의 전면(全面)에 투명 금속층이 증착된다.
이어서, 포토리쏘그라피 공정에 의해 투명 금속층이 패터닝됨으로써, 도 13a 및 도 13b에 도시된 바와 같이, 연결 전극(880), 화소 전극(PE1) 및 차폐 전극(961)이 층간 절연막(325) 상에 형성된다. 이때, 연결 전극(880)은 드레인 콘택홀(11)을 통해 드레인 전극(DE)에 연결된다.
투명 금속층은 전술된 화소 전극의 제조에 사용되는 물질로 제조될 수 있다.
이후, 도 14a 및 도 14b에 도시된 바와 같이, 층간 절연막(325), 연결 전극(880), 화소 전극(PE1) 및 차폐 전극(961)을 포함한 제 1 기판(301)의 전면(全面)에 제 4 감광성 유기 물질(370)이 형성된다. 이때, 이 제 4 감광성 유기 물질(370)은 평탄화에 필요한 두께보다 더 작은 두께를 갖는다. 따라서, 도 14a 및 도 14b에 도시된 바와 같이, 제 4 감광성 유기 물질(370)의 상부면은 평탄화되지 않는다. 이 제 4 감광성 유기 물질(370)은 네거티브 타입의 감광성 유기 물질로서, 불투명한 흑색의 안료를 포함할 수 있다.
다음으로, 도 13a 및 도 13b에 도시된 바와 같이, 제 4 마스크(M4)가 제 4 감광성 유기 물질(370) 상에 배치된다. 제 4 마스크(M4)는 광이 투과되는 투과 영역(TA) 및 광이 차단되는 차단 영역(BA)을 포함한다.
이어서, 자외선과 같은 광(L)이 제 4 마스크(M4)를 통해 제 4 감광성 유기 물질(370)에 선택적으로 조사되어 제 4 감광성 유기 물질(370)이 노광된다. 노광된 제 4 감광성 유기 물질(370)이 현상되면, 도 15a 및 도 15b에 도시된 바와 같이, 차광층(376), 제 1 컬럼 스페이서(901), 제 2 컬럼 스페이서(902) 및 제 3 컬럼 스페이서(903)가 형성된다.
차광층(376), 제 1 컬럼 스페이서(901), 제 2 컬럼 스페이서(902) 및 제 3 컬럼 스페이서(903)는 동일한 양의 광에 의해 노광된다.
제 1 컬럼 스페이서(901)는 제 1 더미 컬러 필터층(801) 상에 위치하며, 제 2 컬럼 스페이서(902)는 제 2 더미 컬러 필터층(802) 상에 위치하며, 그리고 제 3 컬럼 스페이서(903)는 제 3 더미 컬러 필터층(803) 상에 위치한다. 여기서, 차광층(376), 제 1 컬럼 스페이서(901), 제 2 컬럼 스페이서(902) 및 제 3 컬럼 스페이서(903)는 일체로 이루어진다.
전술된 바와 같이 제 1 더미 컬러 필터층(801)의 높이(h11)가 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 높이(h22)보다 더 크기 때문에, 제 1 더미 컬러 필터층(801) 상에 위치한 제 1 컬럼 스페이서(901)의 높이(h1)는 제 2 더미 컬러 필터층(802) 상에 위치한 제 2 컬럼 스페이서(902)의 높이(h2)보다 더 크다.
한편, 제 3 더미 컬러 필터층(803)은 제 2 더미 컬러 필터층(802)과 동일한 면적을 갖는 바, 이에 따라 제 3 더미 컬러 필터층(803) 상에 위치한 제 3 컬럼 스페이서(903)의 높이(h3)는 제 2 컬럼 스페이서(902)의 높이(h2)와 동일하다.
도 16은 도 4의 I-I'의 선을 따라 자른 단면에 대한 다른 실시예를 나타낸 도면이다.
도 16에 도시된 바와 같이, 제 1 컬럼 스페이서(901), 제 2 컬럼 스페이서(902) 및 제 3 컬럼 스페이서(903)는 층간 절연막(325) 상에 위치할 수 있다. 구체적으로, 제 1 컬럼 스페이서(901)는 제 1 더미 컬러 필터층(801)과 중첩하게 층간 절연막(325) 상에 위치하고, 제 2 컬럼 스페이서(902)는 제 2 더미 컬러 필터층(802)과 중첩하게 층간 절연막(325) 상에 위치하고, 그리고 제 3 컬럼 스페이서(903)는 제 3 더미 컬러 필터층(803)과 중첩하게 위치할 수 있다.
도 16의 제 1 더미 컬러 필터층(801), 제 2 더미 컬러 필터층(802) 및 제 3 더미 컬러 필터층(803)에 관한 상세 설명은 전술된 도 1 내지 도 6에 관련된 기재를 참조한다.
도 16의 제 1 컬럼 스페이서(901), 제 2 컬럼 스페이서(902) 및 제 3 컬럼 스페이서(903) 중 적어도 하나는 투명 재질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제 1 컬럼 스페이서(901), 제 2 컬럼 스페이서(902) 및 제 3 컬럼 스페이서(903)는 각각 투명한 재질의 컬럼 스페이서일 수 있다.
한편, 도 16에 도시된 바와 같이, 차광층(376)은 제 2 기판(302) 상에 위치할 수 있다. 구체적으로, 차광층(376)은 제 2 기판(302)과 공통 전극(330) 사이에 위치할 수 있다. 이때, 도 16의 차광층(376)은 평면적으로 전술된 도 1의 차광층(376)과 동일한 형상을 가질 수 있다.
도 16에서의 차광층(376)은 각 컬럼 스페이서(901)와 다른 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 차광층(376)은 불투명한 광감성 유기 물질로 제조되고, 각 컬럼 스페이서(901)는 투명한 광감성 유기 물질로 제조될 수 있다.
도 17은 도 1의 화소를 다수 포함하는 표시 장치에 대한 다른 실시예의 평면도이고, 도 18은 도 17에서 제 1 내지 제 6 컬러 필터층들과 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들을 따로 나타낸 도면이다.
도 17 및 도 18에 도시된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(801)은 제 1 기판(301)의 가장자리(1000)와 제 1 컬러 필터층(351) 사이에 위치하며, 제 2 더미 컬러 필터층(802)은 제 1 기판(301)의 가장자리(1000)와 제 2 컬러 필터층(352) 사이에 위치하며, 제 3 더미 컬러 필터층(803)은 제 1 기판(301)의 가장자리(1000)와 제 3 컬러 필터층(353) 사이에 위치하며, 제 4 더미 컬러 필터층(804)은 X축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 1 컬러 필터층(351)과 제 2 컬러 필터층(352) 사이에 위치하며, 제 5 더미 컬러 필터층(805)은 X축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 2 컬러 필터층(352)과 제 5 컬러 필터층(355) 사이에 위치하며, 그리고 제 6 더미 컬러 필터층(806)은 X축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 3 컬러 필터층(353)과 제 6 컬러 필터층(356) 사이에 위치한다.
이때, 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들(801 내지 806)은 컬러 필터층과 연결되지 않는다. 즉, 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들(801 내지 806)은 컬러 필터층으로부터 분리된 형상을 갖는다.
한편, 다른 실시예로서, 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들(801 내지 806) 중 적어도 하나는 이에 인접하며 이것과 동일한 색상을 갖는 컬러 필터층들 중 어느 하나에 연결될 수도 있다. 다시 말하여, 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들(801 내지 806) 중 적어도 하나는 이에 인접하며 이것과 동일한 색상을 갖는 컬러 필터층과 일체로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제 1 컬러 필터층(351)과 제 4 컬러 필터층(354) 사이에 위치한 제 4 더미 컬러 필터층(804)은 제 1 컬러 필터층(351) 및 제 4 컬러 필터층(354) 중 어느 하나에 연결될 수 있다.
도 17 및 도 18에서, 제 1 더미 컬러 필터층(801)의 면적은 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 면적보다 더 크며, 제 3 더미 컬러 필터층(803)의 면적은 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 면적과 동일하다.
한편, 분리된 형상을 갖는 더미 컬러 필터층의 면적이 상당히 작을 경우 그 더미 컬러 필터층과 보호막(320) 간 접합력이 감소하여 제조 공정 중 더미 컬러 필터층이 보호막(320)으로부터 떨어져 나갈 수 있다. 이를 방지하기 위해, 더미 컬러 필터층의 면적이 상당히 작을 경우 이 더미 컬러 필터의 적어도 일부가 컬러 필터층에 연결되는 것이 바람직하다.
도 19는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치에 포함된 하나의 화소를 나타낸 도면이고, 도 20은 도 19의 I-I'의 선을 따라 자른 단면도이다.
화소(PX1)는, 도 19 및 도 20에 도시된 바와 같이, 스위칭 소자(TFT1), 화소 전극(PE1) 및 컬러 필터층(351)을 포함한다.
스위칭 소자(TFT1)는 반도체층(321), 게이트 전극(GE), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함한다. 게이트 전극(GE)은 게이트 라인(GL1)에 연결되며, 소스 전극(SE)은 데이터 라인(DL1)에 연결되며, 그리고 드레인 전극(DE)은 화소 전극(PE1)에 연결된다.
화소(PX1)는 제 1 기판(301)과 제 2 기판(302) 사이에 위치한다. 다시 말하여, 도 20에 도시된 바와 같이, 표시 장치는 소정 간격 이격되어 위치한 제 1 기판(301) 및 제 2 기판(302)을 포함하는 바, 이 제 1 기판(301)과 제 2 기판(302) 사이에 스위칭 소자(TFT1), 화소 전극(PE1) 및 컬러 필터층(351)이 위치한다.
또한, 이 제 1 기판(301)과 제 2 기판(302) 사이에 게이트 라인(GL1), 유지 라인(721), 제 1 유지 전극(771), 제 2 유지 전극(772), 프리-틸트 제어층(500), 광차단막(182), 게이트 절연막(311), 데이터 라인(DL1), 보호막(320), 더미 컬러 필터층(801), 층간 절연막(325), 차광층(376), 컬럼 스페이서(901), 액정층(333) 및 공통 전극(330)이 위치한다.
도 19에 도시된 바와 같이, 제 1 유지 전극(771) 및 제 2 유지 전극(772)은 유지 라인(721)으로부터 돌출된 형상을 갖는다. 제 1 유지 전극(771) 및 제 2 유지 전극(771)은 각각 유지 라인(721)으로부터 Y축 방향으로 돌출된 바(bar) 형상을 가질 수 있다.
제 2 유지 전극(772)은 제 1 유지 전극(771)에 평행할 수 있다. 제 1 유지 전극(771)과 제 2 유지 전극(772)은 동일한 길이를 가질 수도 있으며, 서로 다른 길이를 가질 수도 있다. 여기서, 제 1 유지 전극(771) 및 제 2 유지 전극(772)의 각 길이는 Y축 방향으로 측정된 제 1 유지 전극(771) 및 제 2 유지 전극(772)의 각 길이를 의미한다. 제 1 유지 전극(771), 제 2 유지 전극(772) 및 유지 라인(721)은 일체로 이루어질 수 있다.
제 1 유지 전극(771) 및 제 2 유지 전극(772)은 각각 화소 전극(PE1)의 가장자리와 중첩할 수 있다. 구체적으로, 제 1 유지 전극(771)은 본 화소(PX1)에 접속된 데이터 라인(DL1)에 인접한 화소 전극(PE1)의 일측 가장자리와 중첩하며, 제 2 유지 전극(772)은 그 화소 전극(PE1)의 일측 가장자리와 마주보는 다른 가장자리와 중첩한다. 이 화소 전극(PE1)의 다른 가장자리는 다른 화소에 접속된 데이터 라인(DL2)에 인접한다.
다른 실시예로서, 제 1 유지 전극(771)은 본 화소(PX1)의 화소 전극(PE1)과 중첩하지 않은 상태에서, 본 화소(PX1)에 연결된 데이터 라인(DL1)과 그 본 화소(PX1)의 화소 전극(PE1) 사이에 위치할 수 있다. 또한, 제 2 유지 전극(772)은 본 화소(PX1)의 화소 전극(PE1)과 중첩하지 않은 상태에서, 다른 화소에 연결된 데이터 라인(DL2)과 그 본 화소(PX1)의 화소 전극(PE1) 사이에 위치할 수도 있다.
도 19의 프리-틸트 제어층(500)은 제 1 유지 전극(771)과 제 2 유지 전극(771) 사이에 위치한다. 프리-틸트 제어층(500)은 제 1 유지 전극(771)에 평행하게 Y축 방향으로 연장된 바(bar) 형상을 가질 수 있다.
한편, 도 19 및 도 20에 도시된 바와 같이, 차광층(376)은 데이터 라인(DL1)과 교차한다. 또한, 도 19에 도시된 바와 같이, 차광층(376)은 스위칭 소자(TFT1), 게이트 라인(GL1), 유지 라인(721) 및 드레인 콘택홀(11)과 중첩한다. 이때, 차광층(376)은 화소 전극(PE1)의 일부, 차폐 전극(961)의 일부 및 연결 전극(880)을 더 중첩할 수 있다. 예를 들어, 도 19에 도시된 바와 같이, 차광층(376)은 화소 전극(PE1)의 가장자리들 중 유지 라인(721) 및 게이트 라인(GL1)에 인접한 가장자리들과 중첩할 수 있다. 도 20에 도시된 바와 같이, 차광층(376)은 보호막(320), 화소 전극(PE1) 및 차폐 전극(961) 상에 위치한다.
차광층(376)은 감광성 유기 물질로 이루어질 수 있다. 이때, 감광성 유기 물질은 포지티브 타입 또는 네거티브 타입의 감광성 유기 물질일 수 있다.
도 19 및 도 20의 스위칭 소자(TFT1), 반도체층(321), 게이트 전극(GE), 소스 전극(SE), 드레인 전극(DE), 게이트 라인(GL1), 데이터 라인(DL1), 유지 라인(721), 게이트 절연막(311), 보호막(320), 컬러 필터층(351), 더미 컬러 필터층(801), 층간 절연막(325), 컬럼 스페이서(901), 액정층(333) 및 공통 전극(330)에 관련된 구체적인 설명은 도 1 및 도 2에 관련된 기재를 참조한다.
도 21은 도 19에 도시된 구조를 갖는 복수의 화소들을 포함하는 표시 장치의 평면도이고, 도 22는 도 21에서 제 1 내지 제 6 컬러 필터층(356)들과 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들을 따로 나타낸 도면이고, 그리고 도 23은 도 21의 I-I'의 선을 따라 자른 단면도이다.
도 21에 도시된 바와 같이, 표시 장치는 복수의 화소들을 포함한다. 도 21에는 하나의 예로서, 6개의 화소들(PX1, PX2, PX3, PX4, PX5, PX6)이 포함한 표시 장치가 도시되어 있다. 도 21의 화소들(PX1 내지 PX6) 각각은 전술된 도 19의 화소(PX1)와 동일한 구조를 갖는다.
6개의 화소들(PX1 내지 PX6)은 3개의 게이트 라인들(GL1, GL2, GL3)과 2개의 데이터 라인들(DL1, DL2)에 접속된다. 예를 들어, X축 방향으로 인접한 제 1 화소(PX1), 제 2 화소(PX2) 및 제 3 화소(PX3)는 제 1 게이트 라인(GL1)에 공통으로 연결되고, 그리고 X축 방향으로 인접한 제 4 화소(PX4), 제 5 화소(PX5) 및 제 6 화소(PX6)는 제 2 게이트 라인(GL2)에 공통으로 연결된다. 한편, Y축 방향으로 인접한 제 1 화소(PX1) 및 제 4 화소(PX4)는 제 1 데이터 라인(DL1)에 공통으로 연결되며, Y축 방향으로 인접한 제 2 화소(PX2) 및 제 5 화소(PX5)는 제 2 데이터 라인(DL2)에 공통으로 연결되며, 그리고 Y축 방향으로 인접한 제 3 화소(PX3) 및 제 6 화소(PX6)는 제 3 데이터 라인(DL3)에 공통으로 연결된다.
다시 말하여, 제 1 화소(PX1)는 제 1 게이트 라인(GL1) 및 제 1 데이터 라인(DL1)에 연결되며, 제 2 화소(PX2)는 제 1 게이트 라인(GL1) 및 제 2 데이터 라인(DL2)에 연결되며, 제 3 화소(PX3)는 제 1 게이트 라인(GL1) 및 제 3 데이터 라인(DL3)에 연결되며, 제 4 화소(PX4)는 제 2 게이트 라인(GL2) 및 제 1 데이터 라인(DL1)에 연결되며, 제 5 화소(PX5)는 제 2 게이트 라인(GL2) 및 제 2 데이터 라인(DL2)에 연결되며, 그리고 제 6 화소(PX6)는 제 2 게이트 라인(GL2) 및 제 3 데이터 라인(DL3)에 연결된다.
제 1 화소(PX1)는 제 1 스위칭 소자(TFT1), 제 1 화소 전극(PE1) 및 제 1 컬러 필터층(351)을 포함하며, 제 2 화소(PX2)는 제 2 스위칭 소자, 제 2 화소 전극(PE2) 및 제 2 컬러 필터층(352)을 포함하며, 제 3 화소(PX3)는 제 3 스위칭 소자(TFT3), 제 3 화소 전극(PE3) 및 제 3 컬러 필터층(353)을 포함하며, 제 4 화소(PX4)는 제 4 스위칭 소자(TFT4), 제 4 화소 전극(PE4) 및 제 4 컬러 필터층(354)을 포함하며, 제 5 화소(PX5)는 제 5 스위칭 소자(TFT5), 제 5 화소 전극(PE5) 및 제 5 컬러 필터층(355)을 포함하며, 그리고 제 6 화소(PX6)는 제 6 스위칭 소자(TFT6), 제 6 화소 전극(PE6) 및 제 6 컬러 필터층(356)을 포함한다.
Y축 방향으로 인접한 컬러 필터층들은 동일한 색상을 갖는다. 예를 들어, 도 22에 도시된 바와 같이, 제 1 컬러 필터층(351)은 제 4 컬러 필터층(354)과 동일한 색상을 가지며, 제 2 컬러 필터층(352)은 제 5 컬러 필터층(355)과 동일한 색상을 가지며, 그리고 제 3 컬러 필터층(353)은 제 6 컬러 필터층(356)과 동일한 색상을 가질 수 있다.
X축 방향으로 인접한 컬러 필터층들은 서로 다른 색상을 갖는다. 예를 들어, 도 22에 도시된 바와 같이, 제 1 컬러 필터층(351), 제 2 컬러 필터층(352) 및 제 3 컬러 필터층(353)은 서로 다른 색상을 가지며, 제 4 컬러 필터층(354), 제 5 컬러 필터층(355) 및 제 6 컬러 필터층(356)은 서로 다른 색상을 갖는다.
하나의 구체적인 예로서, 제 1 컬러 필터층(351) 및 제 4 컬러 필터층(354)은 각각 적색을 가지며, 제 2 컬러 필터층(352) 및 제 5 컬러 필터층(355)은 각각 녹색을 가지며, 그리고 제 3 컬러 필터층(353) 및 제 6 컬러 필터층(356)은 각각 청색을 가질 수 있다.
도 21에 도시된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(801)은 제 1 스위칭 소자(TFT1)와 중첩하며, 제 2 더미 컬러 필터층(802)은 제 2 스위칭 소자와 중첩하며, 제 3 더미 컬러 필터층(803)은 제 3 스위칭 소자(TFT3)와 중첩하며, 제 4 더미 컬러 필터층(804)은 제 4 스위칭 소자(TFT4)와 중첩하며, 제 5 더미 컬러 필터층(805)은 제 5 스위칭 소자(TFT5)와 중첩하며, 그리고 제 6 더미 컬러 필터층(806)은 제 6 스위칭 소자(TFT6)와 중첩한다.
도 22에 도시된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(801)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 1 컬러 필터층(351)과 제 4 컬러 필터층(354) 사이에 위치하며, 제 2 더미 컬러 필터층(802)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 2 컬러 필터층(352)과 제 5 컬러 필터층(355) 사이에 위치하며, 제 3 더미 컬러 필터층(803)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 3 컬러 필터층(353)과 제 6 컬러 필터층(356) 사이에 위치하며, 제 4 더미 컬러 필터층(804)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 4 컬러 필터층(354)과 제 7 컬러 필터층(도시되지 않음) 사이에 위치하며, 제 5 더미 컬러 필터층(805)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 5 컬러 필터층(355)과 제 8 컬러 필터층(도시되지 않음) 사이에 위치하며, 그리고 제 6 더미 컬러 필터층(806)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 6 컬러 필터층(356)과 제 9 컬러 필터층(도시되지 않음) 사이에 위치한다.
제 1 더미 컬러 필터층(801)은 이에 인접한 제 1 컬러 필터층(351)과 동일한 색상을 가지며, 제 2 더미 컬러 필터층(802)은 이에 인접한 제 2 컬러 필터층(352)과 동일한 색상을 가지며, 제 3 더미 컬러 필터층(803)은 이에 인접한 제 3 컬러 필터층(353)과 동일한 색상을 가지며, 제 4 더미 컬러 필터층(804)은 이에 인접한 제 4 컬러 필터층(354)과 동일한 색상을 가지며, 제 5 더미 컬러 필터층(805)은 이에 인접한 제 5 컬러 필터층(355)과 동일한 색상을 가지며, 그리고 제 6 더미 컬러 필터층(806)은 이에 인접한 제 6 컬러 필터층(356)과 동일한 색상을 가질 수 있다.
동일 색상의 컬러 필터 및 더미 컬러 필터는 일체로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 도 22에 도시된 바와 같이, Y축 방향을 따라 일렬로 배치된 적색의 제 1 컬러 필터층(351), 적색의 제 1 더미 컬러 필터층(801), 적색의 제 4 컬러 필터층(354) 및 적색의 제 4 더미 컬러 필터층(804)은 모두 일체로 이루어질 수 있다.
한편, 도시되지 않았지만, 가장 하측에 위치한 게이트 라인에 접속된 화소(이하, 마지막 화소)의 스위칭 소자와 중첩하는 더미 컬러 필터층(801)은 그 마지막 화소의 컬러 필터층과 제 1 기판(301)의 가장자리 사이에 위치할 수 있다. 여기서, 가장 하측에 위치한 게이트 라인은 한 프레임 기간 중 마지막으로 구동되는 게이트 라인일 수 있다. 다시 말하여, 제 1 게이트 라인(GL1)이 그 한 프레임 기간 중 가장 먼저 구동되는 첫 번째 게이트 라인이라면, 가장 하측에 위치한 게이트 라인은 그 한 프레임 기간 중 마지막으로 구동되는 마지막 번째 게이트 라인일 수 있다.
도 21의 제 1 내지 제 6 스위칭 소자들(TFT1 내지 TFT6) 각각에 관한 상세 설명은 전술된 도 1 및 도 2의 스위칭 소자(TFT1)를 참조한다. 또한, 도 21의 제 1 내지 제 6 화소 전극들(PE1 내지 PE6) 각각에 관한 상세 설명은 전술된 도 1 내지 도 3의 화소 전극(PE1)을 참조한다. 또한, 도 21의 제 1 내지 제 6 컬러 필터층들(351 내지 356) 각각에 관한 상세 설명은 전술된 도 1 및 도 2의 컬러 필터층(351)을 참조한다. 또한, 도 21의 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들(801 내지 806) 각각에 관한 상세 설명은 전술된 도 1 및 도 2의 더미 컬러 필터층(801)을 참조한다.
도 22 및 도 23에 도시된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(801)의 대향면은 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 대향면보다 더 큰 면적을 갖는 바, 이에 따라 제 1 더미 컬러 필터층(801)의 한 변의 길이(L1)는 이에 대응되는 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 한 변의 길이(L2)보다 더 클 수 있다. 한편, 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 한 변의 길이(L2)와 이에 대응되는 제 3 더미 컬러 필터층(803)의 한 변의 길이(L3)는 동일할 수 있다.
제 1 더미 컬러 필터층(801)이 제 2 더미 컬러 필터층(802)보다 더 큰 면적을 가짐에 따라, 제 1 더미 컬러 필터층(801)은 제 2 더미 컬러 필터층(802)보다 더 큰 높이를 갖는다. 다시 말하여, 제 1 더미 컬러 필터층(801)의 높이(h11)는 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 높이(h22)보다 더 크다.
제 1 더미 컬러 필터층(801)이 제 2 더미 컬러 필터층(802)보다 더 큰 높이를 가짐에 따라, 제 1 더미 컬러 필터층(801) 상의 제 1 컬럼 스페이서(901)는 제 2 더미 컬러 필터층(802) 상의 제 2 컬럼 스페이서(902)보다 더 큰 높이를 갖는다. 즉, 제 1 컬럼 스페이서(901)의 높이(h1)는 제 2 컬럼 스페이서(902)의 높이(h2)보다 더 크다. 이에 따라, 제 2 기판(302)의 기준면과 제 1 컬럼 스페이서(901) 간의 거리는 그 제 2 기판(302)의 기준면과 제 2 컬럼 스페이서(902) 간의 거리보다 더 작다.
한편, 제 3 더미 컬러 필터층(803)의 대향면(S3)은 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 대향면(S2)과 동일한 면적을 갖는 바, 이에 따라 제 3 더미 컬러 필터층(803) 상의 제 3 컬럼 스페이서(903)는 제 2 더미 컬러 필터층(802) 상의 제 2 컬럼 스페이서(902)와 동일한 높이를 갖는다(h3=h2). 따라서, 제 2 기판(302)의 기준면과 제 3 컬럼 스페이서(903) 간의 거리는 제 2 기판(302)의 기준면과 제 2 컬럼 스페이서(902) 간의 거리와 동일하다.
이와 같이 제 1 컬럼 스페이서(901)는 제 2 컬럼 스페이서(902)보다 더 큰 높이를 가지며, 제 3 컬럼 스페이서(903)는 제 2 컬럼 스페이서(902)와 동일한 높이를 갖는다. 이는 제 1 컬럼 스페이서(901)의 하부에 위치한 제 1 더미 컬러 필터층(801)의 면적이 제 2 컬럼 스페이서(902)의 하부에 위치한 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 면적보다 더 크고, 제 3 컬럼 스페이서(903)의 하부에 위치한 제 3 더미 컬러 필터층(803)의 면적과 전술된 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 면적이 동일하기 때문이다.
상대적으로 큰 높이(h1)를 갖는 제 1 컬럼 스페이서(901)는 메인 컬럼 스페이서이며, 상대적으로 작은 높이(h2, h3)를 갖는 제 2 컬럼 스페이서(902) 및 제 3 컬럼 스페이서(903)는 각각 서브 컬럼 스페이서이다.
한편, 도 23에 도시된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(801)이 제 2 더미 컬러 필터층(802)보다 더 큰 면적을 가짐에 따라, 제 1 더미 컬러 필터층(801) 상에 위치한 제 1 컬럼 스페이서(901)의 두께(d1)는 제 2 더미 컬러 필터층(802) 상에 위치한 제 2 컬럼 스페이서(902)의 두께(d2)보다 더 작다. 이는 상대적으로 큰 면적의 더미 컬러 필터층 상의 컬럼 스페이서가 상대적으로 더 높은 평탄도를 갖기 때문이다. 즉, 제 1 컬럼 스페이서(901) 및 제 2 컬럼 스페이서(902)는 동일한 양의 광에 의해 노광될 수 있는 바, 이때 더 큰 면적의 제 1 더미 컬러 필터층(801) 상에 위치한 제 1 컬럼 스페이서(901)는 상대적으로 작은 두께를 갖는다. 한편, 제 1 컬럼 스페이서(901)의 두께(d1)는 제 2 더미 컬러 필터층(802) 상에 위치한 제 2 컬럼 스페이서(902)의 두께(d2)와 동일할 수도 있다.
도 24는 도 21의 I-I'의 선을 따라 자른 단면에 대한 다른 실시예를 나타낸 도면이다.
도 24에 도시된 바와 같이, 제 1 컬럼 스페이서(901), 제 2 컬럼 스페이서(902) 및 제 3 컬럼 스페이서(903)는 층간 절연막(325) 상에 위치할 수 있다. 구체적으로, 제 1 컬럼 스페이서(901)는 제 1 더미 컬러 필터층(801)과 중첩하게 층간 절연막(325) 상에 위치하고, 제 2 컬럼 스페이서(902)는 제 2 더미 컬러 필터층(802)과 중첩하게 층간 절연막(325) 상에 위치하고, 그리고 제 3 컬럼 스페이서(903)는 제 3 더미 컬러 필터층(803)과 중첩하게 층간 절연막(325) 상에 위치할 수 있다.
도 24의 제 1 더미 컬러 필터층(801), 제 2 더미 컬러 필터층(802) 및 제 3 더미 컬러 필터층(803)에 관한 상세 설명은 전술된 도 1 내지 도 6에 관련된 기재를 참조한다.
도 24의 제 1 컬럼 스페이서(901), 제 2 컬럼 스페이서(902) 및 제 3 컬럼 스페이서(903) 중 적어도 하나는 투명 재질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제 1 컬럼 스페이서(901), 제 2 컬럼 스페이서(902) 및 제 3 컬럼 스페이서(903)는 각각 투명한 재질의 컬럼 스페이서일 수 있다.
한편, 도 24에 도시된 바와 같이, 차광층(376)은 제 2 기판(302) 상에 위치할 수 있다. 구체적으로, 차광층(376)은 제 2 기판(302)과 공통 전극(330) 사이에 위치할 수 있다. 이때, 도 24의 차광층(376)은 평면적으로 전술된 도 19의 차광층(376)과 동일한 형상을 가질 수 있다.
도 24에서의 차광층(376)은 각 컬럼 스페이서(901)와 다른 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 차광층(376)은 불투명한 광감성 유기 물질로 제조되고, 각 컬럼 스페이서(901)는 투명한 광감성 유기 물질로 제조될 수 있다.
도 25는 도 19에 도시된 구조를 갖는 복수의 화소들을 포함하는 표시 장치에 대한 다른 실시예의 평면도이고, 도 26은 도 25에서 제 1 내지 제 6 컬러 필터층들과 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들을 따로 나타낸 도면이다.
도 25 및 도 26에 도시된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(801)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 1 컬러 필터층(351)과 제 4 컬러 필터층(354) 사이에 위치하며, 제 2 더미 컬러 필터층(802)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 2 컬러 필터층(352)과 제 5 컬러 필터층(355) 사이에 위치하며, 제 3 더미 컬러 필터층(803)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 3 컬러 필터층(353)과 제 6 컬러 필터층(356) 사이에 위치하며, 제 4 더미 컬러 필터층(804)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 4 컬러 필터층(354)과 제 7 컬러 필터층(도시되지 않음) 사이에 위치하며, 제 5 더미 컬러 필터층(805)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 5 컬러 필터층(355)과 제 8 컬러 필터층(도시되지 않음) 사이에 위치하며, 그리고 제 6 더미 컬러 필터층(806)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 6 컬러 필터층(356)과 제 9 컬러 필터층(도시되지 않음) 사이에 위치한다.
이때, 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들(801 내지 806)은 컬러 필터층과 연결되지 않는다. 즉, 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들(801 내지 806)은 컬러 필터층으로부터 분리된 형상을 갖는다.
한편, 다른 실시예로서, 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들(801 내지 806) 중 적어도 하나는 이에 인접하며 이것과 동일한 색상을 갖는 컬러 필터층들 중 어느 하나에 연결될 수도 있다. 다시 말하여, 제 1 내지 제 6 더미 컬러 필터층들(801 내지 806) 중 적어도 하나는 이에 인접하며 이것과 동일한 색상을 갖는 컬러 필터층과 일체로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제 1 컬러 필터층(351)과 제 4 컬러 필터층(354) 사이에 위치한 제 1 더미 컬러 필터층(801)은 제 1 컬러 필터층(351) 및 제 4 컬러 필터층(354) 중 어느 하나에 연결될 수 있다.
도 25 및 도 26에서, 제 1 더미 컬러 필터층(801)의 면적은 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 면적보다 더 크며, 제 3 더미 컬러 필터층(803)의 면적은 제 2 더미 컬러 필터층(802)의 면적과 동일하다.
도 27은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치에 포함된 하나의 화소를 나타낸 도면이고, 도 28은 도 27의 I-I'의 선을 따라 자른 단면도이고, 그리고 도 29는 도 27의 II-II'의 선을 따라 자른 단면도이다.
화소(PX1)는, 도 27 내지 도 29에 도시된 바와 같이, 제 1 스위칭 소자(TFT1), 제 2 스위칭 소자(TFT2), 제 3 스위칭 소자(TFT3), 제 1 부화소 전극(PE1), 제 2 부화소 전극(PE2), 제 1 컬러 필터층(3351) 및 제 2 컬러 필터층(3352)을 포함한다.
제 1 스위칭 소자(TFT1)는 제 1 게이트 전극(GE1), 제 1 반도체층(3321), 제 1 소스 전극(SE1) 및 제 1 드레인 전극(DE1)을 포함한다. 제 1 게이트 전극(GE)은 게이트 라인(GL)에 연결되며, 제 1 소스 전극(SE1)은 데이터 라인(DL1)에 연결되며, 그리고 제 1 드레인 전극(DE)은 제 1 부화소 전극(PE1)에 연결된다.
제 2 스위칭 소자(TFT2)는 제 2 게이트 전극(GE2), 제 2 반도체층(3322), 제 2 소스 전극(SE2) 및 제 2 드레인 전극(DE2)을 포함한다. 제 2 게이트 전극(GE2)은 게이트 라인(GL)에 연결되며, 제 2 소스 전극(SE2)은 제 1 소스 전극(SE1)에 연결되며, 그리고 제 2 드레인 전극(DE2)은 제 2 부화소 전극(PE2)에 연결된다.
제 3 스위칭 소자(TFT3)는 제 3 게이트 전극(GE3), 제 3 반도체층(3322), 제 3 소스 전극(SE3), 플로팅 전극(FE) 및 제 3 드레인 전극(DE3)을 포함한다. 제 3 게이트 전극(GE3)은 게이트 라인(GL)에 연결되며, 제 3 소스 전극(SE3)은 제 2 드레인 전극(DE2)에 연결되며, 그리고 제 3 드레인 전극(DE3)은 제 1 유지 전극(7751) 및 제 2 유지 전극(7752)에 연결된다.
화소(PX1)는 제 1 기판(3301)과 제 2 기판(3302) 사이에 위치한다. 다시 말하여, 도 28 및 도 29에 도시된 바와 같이, 표시 장치는 소정 간격 이격되어 위치한 제 1 기판(3301) 및 제 2 기판(3302)을 포함하는 바, 이 제 1 기판(3301)과 제 2 기판(3302) 사이에 제 1 스위칭 소자(TFT1), 제 2 스위칭 소자(TFT2), 제 3 스위칭 소자(TFT3), 제 1 부화소 전극(PE1), 제 2 부화소 전극(PE2), 제 1 컬러 필터층(3351) 및 제 2 컬러 필터층(3352)이 위치한다.
또한, 이 제 1 기판(3301)과 제 2 기판(3302) 사이에 게이트 라인(GL), 유지 라인(7720), 제 1 유지 전극(7751), 제 2 유지 전극(7752), 게이트 절연막(3311), 데이터 라인(DL1), 보호막(3320), 더미 컬러 필터층(8801), 층간 절연막(3325), 차광층(3376), 컬럼 스페이서(9901), 액정층(3333) 및 공통 전극(3330)이 위치한다.
도 27 및 도 28에 도시된 바와 같이, 게이트 라인(GL)은 제 1 기판(3301) 상에 위치한다. 구체적으로, 게이트 라인(GL)은 제 1 기판(3301)의 제 1 부화소 영역(P1)과 제 2 부화소 영역(P2) 사이에 위치한다.
제 1 게이트 전극(GE1)은, 도 27에 도시된 바와 같이 게이트 라인(GL)으로부터 돌출된 형상을 가질 수 있다. 제 1 게이트 전극(GE1)은 게이트 라인(GL)의 일부일 수도 있다.
제 1 게이트 전극(GE1)은 게이트 라인(GL)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 제 1 게이트 전극(GE1) 및 게이트 라인(GL)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
제 2 게이트 전극(GE2)은, 도 27에 도시된 바와 같이 게이트 라인(GL)으로부터 돌출된 형상을 가질 수 있다. 제 2 게이트 전극(GE2)은 게이트 라인(GL)의 일부일 수도 있다.
제 2 게이트 전극(GE2)은 게이트 라인(GL)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 제 2 게이트 전극(GE2) 및 게이트 라인(GL)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
제 3 게이트 전극(GE3)은, 도 27에 도시된 바와 같이 게이트 라인(GL)으로부터 돌출된 형상을 가질 수 있다. 제 3 게이트 전극(GE3)은 게이트 라인(GL)의 일부일 수도 있다.
제 3 게이트 전극(GE3)은 게이트 라인(GL)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 제 3 게이트 전극(GE3) 및 게이트 라인(GL)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
제 1 유지 전극(7751)은, 도 27에 도시된 바와 같이, 제 1 부화소 전극(PE1)을 둘러싼다. 이때, 제 1 유지 전극(7751)은 제 1 부화소 전극(PE1)의 가장자리를 중첩한다.
제 1 유지 전극(7751)은 전술된 게이트 라인(GL)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 제 1 유지 전극(7751) 및 게이트 라인(GL)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
제 1 유지 전극(7751)은 외부 구동 회로로부터 제 1 유지 전압을 공급받는다. 제 1 유지 전압은 공통 전압과 동일할 수 있다.
제 2 유지 전극(7752)은, 도 27에 도시된 바와 같이, 제 2 부화소 전극(PE2)을 둘러싼다. 이때, 제 2 유지 전극(7752)은 제 2 부화소 전극(PE2)의 가장자리를 중첩한다.
제 2 유지 전극(7752)은 전술된 게이트 라인(GL)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 제 2 유지 전극(7752) 및 게이트 라인(GL)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
제 2 유지 전극(7752)은 외부 구동 회로로부터 제 2 유지 전압을 공급받는다. 제 2 유지 전압은 공통 전압과 동일할 수 있다. 한편, 게이트 라인(GL)을 따라 인접한 화소들의 제 2 유지 전극(7752)은 서로 연결될 수 있다. 또한, 데이터 라인(DL1)을 따라 인접한 화소들의 제 2 유지 전극(7752)과 제 1 유지 전극(7751)은 서로 연결될 수 있다.
게이트 절연막(3311)은, 도 28 및 도 29에 도시된 바와 같이, 게이트 라인(GL), 제 1 게이트 전극(GE1), 제 2 게이트 전극(GE2), 제 1 유지 전극(7751), 제 2 유지 전극(7752) 상에 위치한다. 게이트 절연막(3311)은 그 게이트 라인(GL), 제 1 게이트 전극(GE1), 제 2 게이트 전극(GE2), 제 1 유지 전극(7751), 제 2 유지 전극(7752) 및 유지 라인(7750)을 포함한 제 1 기판(3301)의 전면(全面)에 위치할 수 있다.
게이트 절연막(3311)은 제 3 콘택홀(CH3) 및 제 4 콘택홀(CH4)에 대응되게 위치한 개구부를 갖는다. 제 3 콘택홀(CH3)을 통해 제 3 드레인 전극(DE3)의 일부 및 제 1 유지 전극(7751)이 노출되고, 제 4 콘택홀(CH4)을 통해 제 3 드레인 전극(DE3)의 다른 일부 및 제 2 유지 전극(7752)이 노출된다.
데이터 라인(DL1)은, 도 28에 도시된 바와 같이, 게이트 절연막(3311) 상에 위치한다. 데이터 라인(DL1)은 게이트 라인(GL)과 교차한다. 도시되지 않았지만, 데이터 라인(DL1)과 게이트 라인(GL)이 교차하는 곳에서 데이터 라인(DL1)은 이의 다른 부분보다 더 작은 선폭을 가질 수 있다. 데이터 라인(DL1)은 전술된 데이터 라인(DL1)과 동일한 물질로 만들어질 수 있다.
제 1 반도체층(3321)은, 도 28에 도시된 바와 같이, 게이트 절연막(3311) 상에 위치한다. 제 1 반도체층(3321)은, 도 27 및 도 28에 도시된 바와 같이, 제 1 게이트 전극(GE1)과 적어도 일부 중첩한다. 제 1 반도체층(3321)은 비정질 규소 또는 다결정 규소 등으로 만들어질 수 있다.
제 1 및 제 2 저항성 접촉층(3321a, 3321b)은, 도 28에 도시된 바와 같이, 제 1 반도체층(3321) 상에 위치한다. 제 1 저항성 접촉층(3321a)과 제 2 저항성 접촉층(3321b)은 제 1 스위칭 소자(TFT1)의 채널 영역을 사이에 두고 마주하고 있다.
제 2 반도체층(3322)은, 도 29에 도시된 바와 같이, 게이트 절연막(3311) 상에 위치한다. 제 2 반도체층(3322)은, 도 27 및 도 29에 도시된 바와 같이, 제 2 게이트 전극(GE2)과 적어도 일부 중첩한다. 제 2 반도체층(322)은 비정질 규소 또는 다결정 규소 등으로 만들어질 수 있다.
제 3 및 제 4 저항성 접촉층(3322a, 3322b)은, 도 29에 도시된 바와 같이, 제 2 반도체층(3322) 상에 위치한다. 제 3 저항성 접촉층(3322a)과 제 4 저항성 접촉층(3322b)은 제 2 스위칭 소자(TFT2)의 채널 영역을 사이에 두고 마주하고 있다.
제 1 저항성 접촉층(3321a)과 전술된 제 3 저항성 접촉층(3322a)은 서로 연결된다. 예를 들어, 제 1 저항성 접촉층(3321a)과 전술된 제 3 저항성 접촉층(3322a)은 일체로 이루어질 수 있다.
제 3 반도체층(3323)은, 도 29에 도시된 바와 같이, 게이트 절연막(3311) 상에 위치한다. 제 3 반도체층(3323)은, 도 27 및 도 29에 도시된 바와 같이, 제 3 게이트 전극(GE3)과 적어도 일부 중첩한다.
제 5, 제 6 및 제 7 저항성 접촉층(3323a, 3323b, 3323c)은, 도 29에 도시된 바와 같이, 제 3 반도체층(323) 상에 위치한다. 제 5 저항성 접촉층(3323a)과 제 6 저항성 접촉층(3323b)은 제 3 스위칭 소자(TFT3)의 제 1 채널 영역을 사이에 두고 마주하고 있으며, 제 6 저항성 접촉층(3323b)과 제 7 저항성 접촉층(3323c)은 제 3 스위칭 소자(TFT3)의 제 2 채널 영역을 사이에 두고 마주하고 있다.
제 1 소스 전극(SE1)은, 도 28에 도시된 바와 같이, 제 1 저항성 접촉층(3321a) 및 게이트 절연막(311) 상에도 위치한다. 제 1 소스 전극(SE1)은, 도 28에 도시된 바와 같이 데이터 라인(DL1)으로부터 돌출된 형상을 가질 수 있다. 도시되지 않았지만, 제 1 소스 전극(SE1)은 데이터 라인(DL1)의 일부일 수도 있다. 제 1 소스 전극(SE1)의 적어도 일부는 제 1 반도체층(3321) 및 제 1 게이트 전극(GE1)과 중첩한다.
제 1 소스 전극(SE1)은 I자, C자 및 U자 중 어느 하나의 형태를 가질 수 있다. 도 27에는 U자 형상을 갖는 제 1 소스 전극(SE1)이 도시되어 있는 바, 제 1 소스 전극(SE1)의 볼록한 부분은 제 2 부화소 전극(PE2)을 향하고 있다.
제 1 소스 전극(SE1)은 전술된 데이터 라인(DL1)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 제 1 소스 전극(SE1)과 데이터 라인(DL1)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
제 1 드레인 전극(DE1)은, 도 28에 도시된 바와 같이, 제 2 저항성 접촉층(3321b) 및 게이트 절연막(3311) 상에 위치한다. 제 1 드레인 전극(DE1)의 적어도 일부는 제 1 반도체층(3321) 및 제 1 게이트 전극(GE1)과 중첩한다. 제 1 드레인 전극(DE1)은 제 1 부화소 전극(PE1)에 연결된다.
제 1 드레인 전극(DE1)은 전술된 데이터 라인(DL1)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 제 1 드레인 전극(DE1)과 데이터 라인(DL1)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
제 1 스위칭 소자(TFT1)의 채널 영역은 제 1 소스 전극(SE1)과 제 1 드레인 전극(DE1) 사이의 제 1 반도체층(3321) 부분에 위치한다. 채널 영역에 해당하는 제 1 반도체층(3321) 부분은 제 1 반도체층(3321)의 다른 부분에 비하여 더 낮은 두께를 갖는다.
제 2 소스 전극(SE2)은, 도 29에 도시된 바와 같이, 제 3 저항성 접촉층(3322a) 상에 위치한다. 도시되지 않았지만, 제 3 저항성 접촉층(3322a)은 게이트 절연막(3311) 상에도 위치한다. 제 2 소스 전극(SE2)은 제 1 소스 전극(SE1)과 일체로 구성된다. 제 2 소스 전극(SE2)의 적어도 일부는 제 2 반도체층(3322) 및 제 2 게이트 전극(GE2)과 중첩한다.
제 2 소스 전극(SE2)은 I자, C자 및 U자 중 어느 하나의 형태를 가질 수 있다. 도 27에는 U자 형상을 갖는 제 2 소스 전극(SE2)이 도시되어 있는 바, 제 2 소스 전극(SE2)의 볼록한 부분은 제 1 부화소 전극(PE1)을 향하고 있다.
제 2 소스 전극(SE2)은 전술된 데이터 라인(DL1)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 제 2 드레인 전극(DE2)과 데이터 라인(DL1)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
제 2 드레인 전극(DE2)은, 도 29에 도시된 바와 같이, 제 4 저항성 접촉층(3322b) 및 게이트 절연막(3311) 상에 위치한다. 제 2 드레인 전극(DE2)의 적어도 일부는 제 2 반도체층(3322) 및 제 2 게이트 전극(GE2)과 중첩한다. 제 2 드레인 전극(DE2)은 제 2 부화소 전극(PE2)에 연결된다.
제 2 드레인 전극(DE2)은 전술된 데이터 라인(DL1)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 제 2 드레인 전극(DE2)과 데이터 라인(DL1)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
제 2 스위칭 소자(TFT2)의 채널 영역은 제 2 소스 전극(SE2)과 제 2 드레인 전극(DE2) 사이의 제 2 반도체층(3322) 부분에 위치한다. 채널 영역에 해당하는 제 2 반도체층(3322) 부분은 제 2 반도체층(3322)의 다른 부분에 비하여 더 낮은 두께를 갖는다.
제 3 소스 전극(SE3)은, 도 29에 도시된 바와 같이, 제 5 저항성 접촉층(3323a) 및 게이트 절연막(3311) 상에 위치한다. 제 3 소스 전극(SE3)은 제 2 드레인 전극(DE2)과 일체로 구성된다. 제 3 소스 전극(SE3)의 적어도 일부는 제 3 반도체층(3322) 및 제 3 게이트 전극(GE3)과 중첩한다.
제 3 소스 전극(SE3)은 I자, C자 및 U자 중 어느 하나의 형태를 가질 수 있다. 도 27에는 I자 형상을 갖는 제 3 소스 전극(SE3)이 도시되어 있다.
제 3 소스 전극(SE3)은 전술된 데이터 라인(DL1)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 제 3 소스 전극(SE3)과 데이터 라인(DL1)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
플로팅 전극(FE)은, 도 29에 도시된 바와 같이, 제 6 저항성 접촉층(3323b) 상에 위치한다. 플로팅 전극(FE)은 제 6 저항성 접촉층(3323b)을 제외한 어떠한 도전체와도 접촉하지 않는다. 플로팅 전극(FE)의 적어도 일부는 제 3 반도체층(3322) 및 제 3 게이트 전극(GE3)과 중첩한다.
플로팅 전극(FE)은 I자, C자 및 U자 중 어느 하나의 형태를 가질 수 있다. 도 27에는 I자 형상을 갖는 플로팅 전극(FE)이 도시되어 있다.
플로팅 전극(FE)은 전술된 데이터 라인(DL1)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 플로팅 전극(FE)과 데이터 라인(DL1)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
제 3 드레인 전극(DE3)은, 도 29에 도시된 바와 같이, 제 7 저항성 접촉층(3323c) 상에 위치한다. 도시되지 않았지만, 제 3 드레인 전극(DE3)은 게이트 절연막(3311) 상에도 위치한다. 제 3 드레인 전극(DE3)의 적어도 일부는 제 2 반도체층(3322) 및 제 3 게이트 전극(GE3)과 중첩한다. 제 3 드레인 전극(DE3)은 제 1 유지 전극(7751) 및 제 2 유지 전극(7752)에 연결된다.
제 3 드레인 전극(DE3)은 전술된 데이터 라인(DL1)과 동일한 물질 및 구조(다중막 구조)를 가질 수 있다. 제 3 드레인 전극(DE3)과 데이터 라인(DL1)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
제 3 스위칭 소자(TFT3)의 제 1 채널 영역은 제 3 소스 전극(SE3)과 플로팅 전극(FE) 사이의 제 3 반도체층(3323) 부분에 위치하며, 제 3 스위칭 소자(TFT3)의 제 2 채널 영역은 플로팅 전극(FE)과 제 3 드레인 전극(DE3) 사이의 제 3 반도체층(3323) 부분에 위치한다. 제 1 및 제 2 채널 영역에 해당하는 제 3 반도체층(3323) 부분은 제 3 반도체층(3323)의 다른 부분에 비하여 더 낮은 두께를 갖는다.
도시되지 않았지만, 제 1 반도체층(3321)은 게이트 절연막(3311)과 제 1 소스 전극(SE1) 사이에 더 위치할 수 있다. 또한, 제 1 반도체층(3321)은 게이트 절연막(3311)과 제 1 드레인 전극(DE1) 사이에 더 위치할 수 있다. 여기서, 게이트 절연막(3311)과 제 1 소스 전극(SE1) 사이에 위치한 반도체층을 제 1 추가 반도체층으로 정의하고, 게이트 절연막(3311)과 제 1 드레인 전극(DE1) 사이에 위치한 반도체층을 제 2 추가 반도체층으로 정의하자. 이때, 전술된 제 1 저항성 접촉층(3321a)은 제 1 추가 반도체층과 제 1 소스 전극(SE1) 사이에 더 위치할 수 있으며, 전술된 제 2 저항성 접촉층(3321b)은 제 2 추가 반도체층과 제 1 드레인 전극(DE1) 사이에 더 위치할 수 있다.
또한, 도시되지 않았지만, 제 2 반도체층(3322)은 게이트 절연막(3311)과 제 2 소스 전극(SE2) 사이에 더 위치할 수 있다. 또한, 제 2 반도체층(3322)은 게이트 절연막(3311)과 제 2 드레인 전극(DE2) 사이에 더 위치할 수 있다. 여기서, 게이트 절연막(3311)과 제 2 소스 전극(SE2) 사이에 위치한 반도체층을 제 3 추가 반도체층으로 정의하고, 게이트 절연막(3311)과 제 2 드레인 전극(DE2) 사이에 위치한 반도체층을 제 4 추가 반도체층으로 정의하자. 이때, 전술된 제 3 저항성 접촉층(3322a)은 제 3 추가 반도체층과 제 2 소스 전극(SE2) 사이에 더 위치할 수 있으며, 전술된 제 4 저항성 접촉층(3322b)은 제 4 추가 반도체층과 제 2 드레인 전극(DE2) 사이에 더 위치할 수 있다.
또한, 도시되지 않았지만, 제 3 반도체층(3323)은 게이트 절연막(3311)과 제 3 소스 전극(SE3) 사이에 더 위치할 수 있다. 또한, 제 3 반도체층(3323)은 게이트 절연막(3311)과 제 3 드레인 전극(DE3) 사이에 더 위치할 수 있다. 여기서, 게이트 절연막(3311)과 제 3 소스 전극(SE3) 사이에 위치한 반도체층을 제 5 추가 반도체층으로 정의하고, 게이트 절연막(3311)과 제 3 드레인 전극(DE3) 사이에 위치한 반도체층을 제 6 추가 반도체층으로 정의하자. 이때, 전술된 제 5 저항성 접촉층(3323a)은 제 5 추가 반도체층과 제 3 소스 전극(SE3) 사이에 더 위치할 수 있으며, 전술된 제 7 저항성 접촉층(3323c)은 제 6 추가 반도체층과 제 3 드레인 전극(DE3) 사이에 더 위치할 수 있다.
또한, 도시되지 않았지만, 제 1 반도체층(3321)은 게이트 절연막(3311)과 데이터 라인(DL1) 사이에 더 위치할 수 있다. 예를 들어, 제 1 반도체층(3321)은 게이트 절연막(3311)과 데이터 라인(DL1) 사이에 더 위치할 수 있다. 여기서, 게이트 절연막(3311)과 데이터 라인(DL1) 사이에 위치한 반도체층을 제 7 추가 반도체층으로 정의하자. 이때, 전술된 제 1 저항성 접촉층(3321a)은 제 7 추가 반도체층과 데이터 라인(DL1) 사이에 더 위치할 수 있다.
보호막(3320)은, 도 28에 도시된 바와 같이, 데이터 라인(DL1), 제 1 소스 전극(SE1), 제 2 소스 전극(SE2), 제 3 소스 전극(SE3), 플로팅 전극(FE), 제 1 드레인 전극(DE1), 제 2 드레인 전극(DE2) 및 제 3 드레인 전극(DE3) 상에 위치한다. 보호막(3320)은 그 데이터 라인(DL1), 제 1 소스 전극(SE1), 제 2 소스 전극(SE2), 제 3 소스 전극(SE3), 플로팅 전극(FE), 제 1 드레인 전극(DE1), 제 2 드레인 전극(DE2) 및 제 3 드레인 전극(DE3)을 포함한 제 1 기판(3301)의 전면(全面)에 위치할 수 있다.
보호막(3320)은 제 1 콘택홀(CH1), 제 2 콘택홀(CH2), 제 3 콘택홀(CH3) 및 제 4 콘택홀(CH4)에 대응되게 위치한 개구부들을 갖는다. 제 1 콘택홀(CH1)을 통해 제 1 드레인 전극(DE1)이 노출되고, 제 2 콘택홀(CH2)을 통해 제 2 드레인 전극(DE2)이 노출된다.
제 1 컬러 필터층(3351)은, 도 27 및 도 28에 도시된 바와 같이, 제 1 부화소 전극(PE1), 제 1 유지 전극(7751), 데이터 라인(DL1)과 중첩하게 보호막(3320) 상에 위치한다. 제 1 컬러 필터층(3351)은 특정 색상을 가질 수 있다. 이를 위해, 제 1 컬러 필터층(3351)은 그 특정 색상에 해당하는 안료를 포함할 수 있다.
제 2 컬러 필터층(3352)은, 도 27 및 도 29에 도시된 바와 같이, 제 2 부화소 전극(PE2), 제 2 유지 전극(7752) 및 데이터 라인(DL1)과 중첩하게 보호막(3320) 상에 위치한다. 제 2 컬러 필터층(3352)은 특정 색상을 가질 수 있다. 이를 위해, 제 2 컬러 필터층(3352)은 그 특정 색상에 해당하는 안료를 포함할 수 있다. 제 2 컬러 필터층(3352)은 제 1 컬러 필터층(3351)과 동일한 색상을 갖는다.
더미 컬러 필터층(8801)은, 도 27에 도시된 바와 같이, 제 1 컬러 필터층(3351)과 제 2 컬러 필터층(3352) 사이에 위치할 수 있다. 이 더미 컬러 필터층(8801)은 이후 더욱 구체적으로 설명된다.
제 1 컬러 필터층(3351), 제 2 컬러 필터층(3352) 및 더미 컬러 필터층(8801)은 제 1 콘택홀(CH1), 제 2 콘택홀(CH2), 제 3 콘택홀(CH3) 및 제 4 콘택홀(CH4)에 위치하지 않는다.
층간 절연막(3325)은 제 1 컬러 필터층(3351), 제 2 컬러 필터층(3352), 더미 컬러 필터층(8801) 및 보호막(3320) 상에 위치한다. 층간 절연막(3325)은 제 1 컬러 필터층(3351), 제 2 컬러 필터층(3352), 더미 컬러 필터층(8801) 및 보호막(3320)을 포함한 제 1 기판(3301)의 전면(全面)에 위치할 수 있다. 층간 절연막(3325)은 제 1 콘택홀(CH1), 제 2 콘택홀(CH2), 제 3 콘택홀(CH3) 및 제 4 콘택홀(CH4)에 대응되는 위치에 각각 개구부를 갖는다.
제 1 부화소 전극(PE1)은 제 1 컬러 필터층(3351)과 중첩하게 층간 절연막(3325) 상에 위치한다. 제 1 부화소 전극(PE1)은 제 1 드레인 콘택홀(CH1)을 통해 제 1 드레인 전극(DE1)에 연결된다.
제 1 부화소 전극(PE1)은 ITO(Indium tin oxide) 또는 IZO(Indium zinc oxide) 등의 투명한 도전 물질로 만들어질 수 있다. 이때, ITO는 다결정 또는 단결정의 물질일 수 있다. IZO 역시 다결정 또는 단결정의 물질일 수 있다. 이와 달리, IZO는 비정질(amorphous) 물질일 수 있다.
제 2 부화소 전극(PE2)은 제 2 컬러 필터층(3352)과 중첩하게 층간 절연막(3325) 상에 위치한다. 제 2 부화소 전극(PE2)은 제 2 드레인 콘택홀(CH2)을 통해 제 2 드레인 전극(DE2)에 연결된다. 제 2 부화소 전극(PE2)은 전술된 제 1 화소 전극(PE1)과 동일한 물질로 제조될 수 있다.
제 1 연결 전극(1881)은 제 3 콘택홀(CH3)에 대응되게 층간 절연막(3325) 상에 위치한다. 제 1 연결 전극(1881)은 제 3 드레인 전극(DE3)의 일부와 제 1 유지 전극(7751)을 서로 연결한다. 제 1 연결 전극(1881)은 전술된 제 1 부화소 전극(PE1)과 동일한 물질로 제조될 수 있다.
제 2 연결 전극(1882)은 제 4 콘택홀(CH4)에 대응되게 층간 절연막(3325) 상에 위치한다. 제 2 연결 전극(1882)은 제 3 드레인 전극(DE3)의 다른 일부와 제 2 유지 전극(7752)을 서로 연결한다. 제 2 연결 전극(1882)은 제 2 부화소 전극(PE2)과 동일한 물질로 제조될 수 있다.
도 27에 도시된 바와 같이, 차광층(3376)은 데이터 라인(DL1)과 교차한다. 또한, 도 27에 도시된 바와 같이, 차광층(3376)은 제 1 스위칭 소자(TFT1), 제 2 스위칭 소자(TFT2), 제 3 스위칭 소자(TFT3), 게이트 라인(GL), 제 1 연결 전극(1881), 제 2 연결 전극(1882), 제 1 콘택홀(CH1), 제 2 콘택홀(CH2), 제 3 콘택홀(CH3) 및 제 4 콘택홀(CH4)과 중첩한다. 이때, 차광층(3376)은 제 1 부화소 전극(PE1)의 일부, 제 2 부화소 전극(PE2)의 일부, 차폐 전극(9961)의 일부를 더 중첩할 수 있다.
차광층(3376)은 감광성 유기 물질로 이루어질 수 있다. 이때, 감광성 유기 물질은 포지티브 타입 또는 네거티브 타입의 감광성 유기 물질일 수 있다.
컬럼 스페이서(9901)는, 도 27 및 도 28에 도시된 바와 같이, 더미 컬러 필터층(8801)과 중첩하게 차광층(3376) 상에 위치한다. 컬럼 스페이서(9901)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 차광층(3376)과 일체로 이루어질 수 있다. 이와 같이 컬럼 스페이서(9901)와 차광층(3376)이 일체로 이루어질 경우, 그 일체로 이루어진 구조물 중 더미 컬러 필터층(8801)과 중첩하는 부분이 전술된 컬럼 스페이서(9901)에 해당한다.
컬럼 스페이서(9901)는 차광층(3376)과 동일한 물질 및 구조를 가질 수 있다. 컬럼 스페이서(9901) 및 차광층(3376)은 동일한 공정으로 동시에 만들어질 수 있다.
컬럼 스페이서(9901)의 높이는 그 하부에 위치한 더미 컬러 필터층의 높이에 따라 좌우되며, 더미 컬러 필터층의 높이는 그 더미 컬러 필터층의 면적에 좌우된다. 결국, 컬럼 스페이서(9901)의 높이는 더미 컬러 필터층의 면적에 따라 좌우된다. 더미 컬러 필터층(8801)의 면적이 클수록 그 더미 컬러 필터층(8801)의 높이가 증가하며, 이에 따라 그 더미 컬러 필터층(8801) 상에 위치한 컬럼 스페이서(9901)의 높이도 증가한다.
컬럼 스페이서(9901)의 높이(h1)는, 도 28에 도시된 바와 같이, 제 1 기판의 평탄한 기준면(즉, 제 1 기판의 내측면)으로부터 그 컬럼 스페이서(9901)의 최상층면까지의 거리로서, 이 거리는 Z축 방향으로 측정된 거리를 의미한다. 제 1 기판(3301)의 기준면은 X축 방향에 수직으로 교차한다. 컬럼 스페이서(9901)의 최상층면은 그 컬럼 스페이서(9901)의 표면 중 전술된 기준면으로부터 Z축 방향으로 가장 멀리 떨어진 표면 부분을 의미한다. 한편, 전술된 컬럼 스페이서(9901)의 높이(h1)는 제 2 기판(3302)의 평탄한 기준면(즉, 제 2 기판의 내측면)으로부터 그 컬럼 스페이서(9901) 간의 거리로 정의될 수 있다. 여기서, 제 2 기판(3302)의 기준면과 컬럼 스페이서(9901) 간의 거리는 Z축 방향으로의 거리를 의미한다.
더미 컬러 필터층(8801)의 높이 역시 전술된 제 1 기판(3301)의 기준면으로부터 그 더미 컬러 필터층(8801)의 최상층면까지의 거리로 정의될 수 있는 바, 이 거리는 Z축 방향으로 측정된 거리를 의미한다.
더미 컬러 필터층(8801)의 면적은 그 더미 컬러 필터층(8801)의 면들 중 제 2 기판(3302)의 기준면에 가장 근접한 면(이하, 대향면)의 크기를 의미한다. 예를 들어, 도 28에 도시된 바와 같이, 이 면은 제 2 기판(3302)의 기준면과 마주보며, 그 기준면과 평행하다.
도 30은 도 27에 도시된 구조를 갖는 복수의 화소들을 포함하는 표시 장치의 평면도이고, 도 31은 도 30에서 제 1 내지 제 6 컬러 필터층들과 제 1 내지 제 3 더미 컬러 필터층들을 따로 나타낸 도면이고, 그리고 도 32는 도 30의 I-I'의 선을 따라 자른 단면도이다.
도 30에 도시된 바와 같이, 표시 장치는 복수의 화소들(PX1, PX2, PX3)을 포함한다. 도 30에는 하나의 예로서, 3개의 화소들(PX1 내지 PX3)이 포함한 표시 장치가 도시되어 있다. 도 30의 화소들(PX1 내지 PX3) 각각은 전술된 도 27의 화소(PX1)와 동일한 구조를 갖는다.
3개의 화소들(PX1 내지 PX3)은 1개의 게이트 라인(GL)과 3개의 데이터 라인들(DL1, DL2, DL3)에 접속된다. 예를 들어, X축 방향으로 인접한 제 1 화소(PX1), 제 2 화소(PX2) 및 제 3 화소(PX3)는 게이트 라인(GL)에 공통으로 연결된다. 또한, 제 1 화소(PX1)는 제 1 데이터 라인(DL1)에 연결되고, 제 2 화소(PX2)는 제 2 데이터 라인(DL2)에 연결되고, 그리고 제 3 화소(PX3)는 제 3 데이터 라인(DL3)에 연결된다.
다시 말하여, 제 1 화소(PX1)는 게이트 라인(GL) 및 제 1 데이터 라인(DL1)에 연결되며, 제 2 화소(PX2)는 게이트 라인(GL) 및 제 2 데이터 라인(DL2)에 연결되며, 그리고 제 3 화소(PX3)는 게이트 라인(GL) 및 제 3 데이터 라인(DL3)에 연결된다.
제 1 화소(PX1)는 제 1 스위칭 소자(TFT1), 제 2 스위칭 소자(TFT2), 제 3 스위칭 소자(TFT3), 제 1 부화소 전극(PE1), 제 2 부화소 전극(PE2), 제 1 컬러 필터층(3351) 및 제 2 컬러 필터층(3352)을 포함한다. 제 2 화소(PX2)는 제 4 스위칭 소자(TFT4), 제 5 스위칭 소자(TFT5), 제 6 스위칭 소자(TFT6), 제 3 부화소 전극(PE3), 제 4 부화소 전극(PE4), 제 3 컬러 필터층(3353) 및 제 4 컬러 필터층(3354)을 포함한다. 제 3 화소(PX3)는 제 7 스위칭 소자(TFT7), 제 8 스위칭 소자(TFT8), 제 9 스위칭 소자(TFT9), 제 5 부화소 전극(PE5), 제 6 부화소 전극(PE6), 제 5 컬러 필터층(3355) 및 제 6 컬러 필터층(3356)을 포함한다.
Y축 방향으로 인접한 컬러 필터층들은 동일한 색상을 갖는다. 예를 들어, 도 31에 도시된 바와 같이, 제 1 컬러 필터층(3351)은 제 2 컬러 필터층(3352)과 동일한 색상을 가지며, 제 3 컬러 필터층(3353)은 제 4 컬러 필터층(3354)과 동일한 색상을 가지며, 그리고 제 5 컬러 필터층(3355)은 제 6 컬러 필터층(3356)과 동일한 색상을 가질 수 있다.
X축 방향으로 인접한 컬러 필터층들은 서로 다른 색상을 갖는다. 예를 들어, 도 31에 도시된 바와 같이, 제 1 컬러 필터층(3351), 제 3 컬러 필터층(3353) 및 제 5 컬러 필터층(3355)은 서로 다른 색상을 가지며, 제 2 컬러 필터층(3352), 제 4 컬러 필터층(3354) 및 제 6 컬러 필터층(3356)은 서로 다른 색상을 갖는다.
하나의 구체적인 예로서, 제 1 컬러 필터층(3351) 및 제 2 컬러 필터층(3352)은 각각 적색을 가지며, 제 3 컬러 필터층(3353) 및 제 4 컬러 필터층(3354)은 각각 녹색을 가지며, 그리고 제 5 컬러 필터층(3355) 및 제 6 컬러 필터층(3356)은 각각 청색을 가질 수 있다.
도 30에 도시된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(8801)은 제 1 스위칭 소자(TFT1) 및 제 2 스위칭 소자(TFT2)와 중첩하며, 제 2 더미 컬러 필터층(8802)은 제 4 스위칭 소자(TFT4)와 중첩하며, 제 3 더미 컬러 필터층(8803)은 제 7 스위칭 소자(TFT7)와 중첩한다.
도 31에 도시된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(8801)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 1 컬러 필터층(3351)과 제 2 컬러 필터층(3352) 사이에 위치하며, 제 2 더미 컬러 필터층(8802)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 3 컬러 필터층(3353)과 제 4 컬러 필터층(3354) 사이에 위치하며, 그리고 제 3 더미 컬러 필터층(8803)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 5 컬러 필터층(3355)과 제 6 컬러 필터층(3356) 사이에 위치한다.
전술된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(8801)은 제 2 더미 컬러 필터층(8802)보다 더 큰 면적을 갖는 바, 이때 제 1 더미 컬러 필터층(8801)의 한 변의 길이(L1)는 이에 대응되는 제 2 더미 컬러 필터층(8802)의 한 변의 길이(L2)보다 더 클 수 있다. 한편, 제 2 더미 컬러 필터층(8802)의 한 변(L2)의 길이와 이에 대응되는 제 3 더미 컬러 필터층(8803)의 한 변의 길이(L3)는 동일할 수 있다.
제 1 더미 컬러 필터층(8801)이 제 2 더미 컬러 필터층(8802)보다 더 큰 면적을 가짐에 따라, 제 1 더미 컬러 필터층(8801)은 제 2 더미 컬러 필터층(8802)보다 더 큰 높이를 갖는다. 다시 말하여, 제 1 더미 컬러 필터층(8801)의 높이(h11)는 제 2 더미 컬러 필터층(8802)의 높이(h22)보다 더 크다.
제 1 더미 컬러 필터층(8801)이 제 2 더미 컬러 필터층(8802)보다 더 큰 높이를 가짐에 따라, 제 1 더미 컬러 필터층(8801) 상의 제 1 컬럼 스페이서(9901)는 제 2 더미 컬러 필터층(8802) 상의 제 2 컬럼 스페이서(9902)보다 더 큰 높이를 갖는다. 즉, 제 1 컬럼 스페이서(9901)의 높이(h1)는 제 2 컬럼 스페이서(9902)의 높이(h2)보다 더 크다. 이에 따라, 제 2 기판(3302)의 기준면(즉, 제 2 기판(3302)의 내측면)과 제 1 컬럼 스페이서(9901) 간의 거리는 그 제 2 기판(3302)의 기준면과 제 2 컬럼 스페이서(9902) 간의 거리보다 더 작다.
한편, 제 3 더미 컬러 필터층(8803)은 제 2 더미 컬러 필터층(8802)과 동일한 면적을 갖는 바, 이에 따라 제 3 더미 컬러 필터층(8803) 상의 제 3 컬럼 스페이서(9903)는 제 2 더미 컬러 필터층(8802) 상의 제 2 컬럼 스페이서(9902)와 동일한 높이를 갖는다(h3=h2). 따라서, 제 2 기판(3302)의 기준면과 제 3 컬럼 스페이서(9903) 간의 거리는 제 2 기판(3302)의 기준면과 제 2 컬럼 스페이서(9902) 간의 거리와 동일하다.
이와 같이 제 1 컬럼 스페이서(9901)는 제 2 컬럼 스페이서(9902)보다 더 큰 높이를 가지며, 제 3 컬럼 스페이서(9903)는 제 2 컬럼 스페이서(9902)와 동일한 높이를 갖는다. 이는 제 1 컬럼 스페이서(9901)의 하부에 위치한 제 1 더미 컬러 필터층(8801)의 면적이 제 2 컬럼 스페이서(9902)의 하부에 위치한 제 2 더미 컬러 필터층(8802)의 면적보다 더 크고, 제 3 컬럼 스페이서(9903)의 하부에 위치한 제 3 더미 컬러 필터층(8803)의 면적과 전술된 제 2 더미 컬러 필터층(8802)의 면적이 동일하기 때문이다.
상대적으로 큰 높이(h1)를 갖는 제 1 컬럼 스페이서(9901)는 메인 컬럼 스페이서이며, 상대적으로 작은 높이(h2, h3)를 갖는 제 2 컬럼 스페이서(9902) 및 제 3 컬럼 스페이서(9903)는 각각 서브 컬럼 스페이서이다.
한편, 도 32에 도시된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(8801)이 제 2 더미 컬러 필터층(8802)보다 더 큰 면적을 가짐에 따라, 제 1 더미 컬러 필터층(8801) 상에 위치한 제 1 컬럼 스페이서(9901)의 두께(d1)는 제 2 더미 컬러 필터층(8802) 상에 위치한 제 2 컬럼 스페이서(9902)의 두께(d2)보다 더 작다. 이는 상대적으로 큰 면적의 더미 컬러 필터층 상의 컬럼 스페이서가 상대적으로 더 높은 평탄도를 갖기 때문이다. 즉, 제 1 컬럼 스페이서(9901) 및 제 2 컬럼 스페이서(9902)는 동일한 양의 광에 의해 노광될 수 있는 바, 이때 더 큰 면적의 제 1 더미 컬러 필터층(8801) 상에 위치한 제 1 컬럼 스페이서(9901)는 상대적으로 작은 두께를 갖는다. 한편, 제 1 컬럼 스페이서(9901)의 두께(d1)는 제 2 더미 컬러 필터층(802) 상에 위치한 제 2 컬럼 스페이서(9902)의 두께(d2)와 동일할 수도 있다.
제 3 컬럼 스페이서(9903)의 두께(d3)는 제 2 컬럼 스페이서(9902)의 두께(d2)와 동일하다. 제 1 내지 제 3 컬럼 스페이서들(9901 내지 9903)은 모두 동일한 양의 광에 의해 노광될 수 있다.
도 33은 도 30의 I-I'의 선을 따라 자른 단면에 대한 다른 실시예를 나타낸 도면이다.
도 33에 도시된 바와 같이, 제 1 컬럼 스페이서(9901), 제 2 컬럼 스페이서(9902) 및 제 3 컬럼 스페이서(9903)는 층간 절연막(3325) 상에 위치할 수 있다. 구체적으로, 제 1 컬럼 스페이서(9901)는 제 1 더미 컬러 필터층(8801)과 중첩하게 층간 절연막(3325) 상에 위치하고, 제 2 컬럼 스페이서(9902)느 제 2 더미 컬러 필터층(8802)과 중첩하게 층간 절연막(3325) 상에 위치하고, 그리고 제 3 컬럼 스페이서(9903)는 제 3 더미 컬러 필터층(8803)과 중첩하게 위치할 수 있다.
도 33의 제 1 더미 컬러 필터층(8801), 제 2 더미 컬러 필터층(8802) 및 제 3 더미 컬러 필터층(8803)에 관한 상세 설명은 전술된 도 1 내지 도 6에 관련된 기재를 참조한다.
도 33의 제 1 컬럼 스페이서(9901), 제 2 컬럼 스페이서(9902) 및 제 3 컬럼 스페이서(9903) 중 적어도 하나는 투명 재질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제 1 컬럼 스페이서(9901), 제 2 컬럼 스페이서(9902) 및 제 3 컬럼 스페이서(9903)는 각각 투명한 재질의 컬럼 스페이서일 수 있다.
한편, 도 33에 도시된 바와 같이, 차광층(3376)은 제 2 기판(3302) 상에 위치할 수 있다. 구체적으로, 차광층(3376)은 제 2 기판(3302)과 공통 전극(3330) 사이에 위치할 수 있다. 이때, 도 33의 차광층(3376)은 평면적으로 전술된 도 27의 차광층(3376)과 동일한 형상을 가질 수 있다.
도 33에서의 차광층(3376)은 각 컬럼 스페이서(9901)와 다른 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 차광층(3376)은 불투명한 광감성 유기 물질로 제조되고, 각 컬럼 스페이서(9901)는 투명한 광감성 유기 물질로 제조될 수 있다.
도 34는 도 27에 도시된 구조를 갖는 복수의 화소들을 포함하는 표시 장치에 대한 다른 실시예의 평면도이고, 도 35는 도 34에서 제 1 내지 제 6 컬러 필터층들과 제 1 내지 제 3 더미 컬러 필터층들을 따로 나타낸 도면이다.
도 34 및 도 35에 도시된 바와 같이, 제 1 더미 컬러 필터층(8801)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 1 컬러 필터층(3351)과 제 2 컬러 필터층(3352) 사이에 위치하며, 제 2 더미 컬러 필터층(8802)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 3 컬러 필터층(3353)과 제 4 컬러 필터층(3354) 사이에 위치하며, 그리고 제 3 더미 컬러 필터층(8803)은 Y축 방향으로 인접하며 동일한 색상을 갖는 제 5 컬러 필터층(3355)과 제 6 컬러 필터층(3356) 사이에 위치한다.
이때, 제 1 내지 제 3 더미 컬러 필터층들(8801 내지 8803)은 컬러 필터층과 연결되지 않는다. 즉, 제 1 내지 제 3 더미 컬러 필터층들(8801 내지 8803)은 컬러 필터층으로부터 분리된 형상을 갖는다.
한편, 다른 실시예로서, 제 1 내지 제 3 더미 컬러 필터층들들(8801 내지 8803) 중 적어도 하나는 이에 인접하며 이것과 동일한 색상을 갖는 컬러 필터층들 중 어느 하나에 연결될 수도 있다. 다시 말하여, 제 1 내지 제 3 더미 컬러 필터층들(8801 내지 8803) 중 적어도 하나는 이에 인접하며 이것과 동일한 색상을 갖는 컬러 필터층과 일체로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제 1 컬러 필터층(3351)과 제 2 컬러 필터층(3352) 사이에 위치한 제 1 더미 컬러 필터층(8801)은 제 1 컬러 필터층(3351) 및 제 2 컬러 필터층(3352) 중 어느 하나에 연결될 수 있다.
도 34 및 도 35에서, 제 1 더미 컬러 필터층(8801)의 면적은 제 2 더미 컬러 필터층(8802)의 면적보다 더 크며, 제 3 더미 컬러 필터층(8803)의 면적은 제 2 더미 컬러 필터층(8802)의 면적과 동일하다.
이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
PX1: 제 1 화소 PX2: 제 2 화소
PX3: 제 3 화소 PX4: 제 4 화소
PX5: 제 5 화소 PX6: 제 6 화소
PE1: 제 1 화소 전극 PE2: 제 2 화소 전극
PE3: 제 3 화소 전극 PE4: 제 4 화소 전극
PE5: 제 5 화소 전극 PE6: 제 6 화소 전극
351: 제 1 컬러 필터층 352: 제 2 컬러 필터층
353: 제 3 컬러 필터층 354: 제 4 컬러 필터층
355: 제 5 컬러 필터층 356: 제 6 컬러 필터층
801: 제 1 더미 컬러 필터층 802: 제 2 더미 컬러 필터층
803: 제 3 더미 컬러 필터층 804: 제 4 더미 컬러 필터층
805: 제 5 더미 컬러 필터층 806: 제 6 더미 컬러 필터층
TFT1: 제 1 스위칭 소자 TFT2: 제 2 스위칭 소자
TFT3: 제 3 스위칭 소자 TFT4: 제 4 스위칭 소자
TFT5: 제 5 스위칭 소자 TFT6: 제 6 스위칭 소자
901: 제 1 컬럼 스페이서 902: 제 2 컬럼 스페이서
903: 제 3 컬럼 스페이서 904: 제 4 컬럼 스페이서
905: 제 5 컬럼 스페이서 906: 제 6 컬럼 스페이서
GL1: 제 1 게이트 라인 GL2: 제 2 게이트 라인
GL3: 제 3 게이트 라인 DL1: 제 1 데이터 라인
DL2: 제 2 데이터 라인

Claims (23)

  1. 서로 이격되어 위치한 제 1 기판 및 제 2 기판;
    상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판 사이에 서로 인접하게 위치하며, 동일한 색상을 갖는 제 1 컬러 필터층 및 제 2 컬러 필터층;
    상기 제 1 기판과 상기 제 2 기판 사이에 서로 인접하게 위치하며, 동일한 색상을 갖는 제 3 컬러 필터층 및 제 4 컬러 필터층;
    상기 제 1 기판의 가장자리와 상기 제 1 컬러 필터층 사이 또는 상기 제 1 컬러 필터층과 상기 제 2 컬러 필터층 사이에 위치하며, 상기 제 1 컬러 필터층과 동일한 색상을 갖는 제 1 더미 컬러 필터층;
    상기 제 1 기판의 가장자리와 상기 제 3 컬러 필터층 사이 또는 상기 제 3 컬러 필터층과 상기 제 4 컬러 필터층 사이에 위치하며, 상기 제 3 컬러 필터층과 동일한 색상을 갖는 제 2 더미 컬러 필터층;
    상기 제 1 더미 컬러 필터층과 상기 제 2 기판 사이에 위치한 제 1 컬럼 스페이서; 및
    상기 제 2 더미 컬러 필터층과 상기 제 2 기판 사이에 위치한 제 2 컬럼 스페이서를 포함하며;
    상기 제 1 기판의 기준면으로부터의 제 1 더미 컬러 필터의 높이는 상기 기준면으로부터의 제 2 더미 컬러 필터층의 높이보다 더 크며;
    상기 제 2 기판을 마주보는 상기 제 1 더미 컬러 필터층의 일면은 상기 제 2 기판을 마주보는 상기 제 2 더미 컬러 필터층의 일면보다 더 큰 표시 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    제 1 컬럼 스페이서의 두께는 상기 제 2 컬럼 스페이서의 두께보다 더 작거나 동일한 표시 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 기준면으로부터의 제 1 더미 컬러 필터층의 높이는 상기 기준면으로부터의 제 2 더미 컬러 필터층의 높이보다 더 큰 표시 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 더미 컬러 필터층은 상기 제 1 컬러 필터층 및 상기 제 2 컬러 필터층 중 적어도 하나에 연결된 표시 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 1 컬러 필터층, 상기 제 2 컬러 필터층 및 상기 제 1 더미 컬러 필터층은 일체로 이루어진 표시 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 더미 컬러 필터층은 상기 제 3 컬러 필터층 및 상기 제 4 컬러 필터층 중 적어도 하나에 연결된 표시 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 3 컬러 필터층, 상기 제 4 컬러 필터층 및 상기 제 2 더미 컬러 필터층은 일체로 이루어진 표시 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 컬럼 스페이서 및 상기 제 2 컬럼 스페이서 중 적어도 하나는 투명한 재질 또는 불투명한 재질로 이루어진 표시 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 기판 또는 상기 제 2 기판 상에 위치한 차광층을 더 포함하는 표시 장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 차광층, 상기 제 1 컬럼 스페이서 및 상기 제 2 컬럼 스페이서는 상기 제 1 기판 상의 동일층 상에 위치하며;
    상기 차광층, 상기 제 1 컬럼 스페이서 및 상기 제 2 컬럼 스페이서는 일체로 이루어진 표시 장치.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 제 1 컬럼 스페이서 및 상기 제 2 컬럼 스페이서는 상기 제 1 기판 상에 위치하며;
    상기 차광층은 상기 제 1 컬럼 스페이서 및 상기 제 2 컬럼 스페이서와 중첩하게 상기 제 2 기판 상에 위치한 표시 장치.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 1 화소 전극;
    상기 제 2 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 2 화소 전극;
    상기 제 3 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 3 화소 전극;
    상기 제 4 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 4 화소 전극;
    상기 제 1 화소 전극에 연결된 제 1 스위칭 소자;
    상기 제 2 화소 전극에 연결된 제 2 스위칭 소자;
    상기 제 3 화소 전극에 연결된 제 3 스위칭 소자; 및
    상기 제 4 화소 전극에 연결된 제 4 스위칭 소자를 더 포함하는 표시 장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 1 컬럼 스페이서는 상기 제 1 스위칭 소자 및 상기 제 2 스위칭 소자 중 어느 하나와 중첩하는 표시 장치.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 2 컬럼 스페이서는 상기 제 3 스위칭 소자 및 상기 제 4 스위칭 소자 중 어느 하나와 중첩하는 표시 장치.
  15. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 스위칭 소자에 연결된 제 1 게이트 라인;
    상기 제 3 및 제 4 스위칭 소자에 연결된 제 2 게이트 라인;
    상기 제 1 및 제 3 스위칭 소자에 연결된 제 1 데이터 라인; 및
    상기 제 2 및 제 4 스위칭 소자에 연결된 제 2 데이터 라인을 더 포함하는 표시 장치.
  16. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 3 스위칭 소자에 연결된 제 1 게이트 라인;
    상기 제 2 및 제 4 스위칭 소자에 연결된 제 2 게이트 라인;
    상기 제 1 및 제 2 스위칭 소자에 연결된 제 1 데이터 라인; 및
    상기 제 3 및 제 4 스위칭 소자에 연결된 제 2 데이터 라인을 더 포함하는 표시 장치.
  17. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 1 부화소 전극;
    상기 제 2 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 2 부화소 전극;
    상기 제 3 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 3 부화소 전극;
    상기 제 4 컬러 필터층에 대응되게 위치한 제 4 부화소 전극;
    상기 제 1 부화소 전극에 연결된 제 1 스위칭 소자;
    상기 제 1 스위칭 소자 및 상기 제 2 부화소 전극에 연결된 제 2 스위칭 소자;
    상기 제 3 부화소 전극에 연결된 제 3 스위칭 소자;
    상기 제 3 스위칭 소자 및 상기 제 4 부화소 전극에 연결된 제 4 스위칭 소자;
    상기 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 스위칭 소자에 연결된 게이트 라인;
    상기 제 1 스위칭 소자에 연결된 제 1 데이터 라인; 및
    상기 제 3 스위칭 소자에 연결된 제 2 데이터 라인을 더 포함하는 표시 장치.
  18. 제 1 기판 상에 제 1 감광성 유기 물질을 형성하는 단계;
    상기 제 1 감광성 유기 물질을 패터닝하여, 제 1 컬러 필터층, 제 2 컬러 필터층, 상기 제 1 기판의 가장자리와 상기 제 1 컬러 필터층 사이 또는 상기 제 1 컬러 필터층과 상기 제 2 컬러 필터층 사이에 위치한 제 1 더미 컬러 필터층을 형성하는 단계:
    상기 제 2 기판 상에 제 2 감광성 유기 물질을 형성하는 단계;
    상기 제 2 감광성 유기 물질을 패터닝하여, 제 3 컬러 필터층, 제 4 컬러 필터층, 상기 제 1 기판의 가장자리와 상기 제 3 컬러 필터층 사이 또는 상기 제 3 컬러 필터층과 상기 제 4 컬러 필터층 사이에 위치한 제 2 더미 컬러 필터층을 형성하는 단계:
    상기 제 1 더미 컬러 필터층 상에 제 1 컬럼 스페이서를 형성하고, 상기 제 2 더미 컬러 필터층 상에 제 2 컬럼 스페이서를 형성하는 단계; 및
    상기 제 1 기판과 제 2 기판을 합착하는 단계를 포함하며;
    상기 제 1 기판의 기준면으로부터의 제 1 더미 컬러 필터의 높이는 상기 기준면으로부터의 제 2 더미 컬러 필터층의 높이보다 더 크며;
    상기 제 2 기판을 마주보는 상기 제 1 더미 컬러 필터층의 일면은 상기 제 2 기판을 마주보는 상기 제 2 더미 컬러 필터층의 일면보다 더 큰 표시 장치의 제조 방법.
  19. 제 18 항에 있어서,
    제 1 컬럼 스페이서의 두께는 상기 제 2 컬럼 스페이서의 두께보다 더 작거나 동일한 표시 장치의 제조 방법.
  20. 제 18 항에 있어서,
    상기 제 1 감광성 유기 물질을 패터닝하는 공정은,
    상기 제 1 감광성 유기 물질 상에, 상기 제 1 컬러 필터층, 상기 제 2 컬러 필터층 및 상기 제 1 더미 컬러 필터층 대응되는 위치한 투과 영역들을 갖는 제 1 마스크를 위치시키는 단계: 및
    상기 제 1 마스크를 통해 상기 제 1 감광성 유기 물질을 노광하는 단계를 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 제 2 감광성 유기 물질을 패터닝하는 공정은,
    상기 제 2 감광성 유기 물질 상에, 상기 제 3 컬러 필터층, 상기 제 4 컬러 필터층 및 상기 제 2 더미 컬러 필터층 대응되는 위치한 투과 영역들을 갖는 제 2 마스크를 위치시키는 단계: 및
    상기 제 2 마스크를 통해 상기 제 2 감광성 유기 물질을 노광하는 단계를 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
  22. 제 21 항에 있어서,
    상기 제 1 더미 컬러 필터층에 대응되는 투과 영역은 상기 제 2 더미 컬러 필터층에 대응되는 투과 영역보다 더 큰 표시 장치의 제조 방법.
  23. 제 21 항에 있어서,
    상기 제 1 더미 컬러 필터층에 대응되는 투과 영역은 상기 제 2 더미 컬러 필터층에 대응되는 투과 영역과 동일한 크기를 가지며;
    상기 제 1 및 제 2 감광성 유기 물질을 노광하는 단계에서, 상기 제 2 더미 컬러 필터층에 대응되는 투과 영역보다 상기 제 1 더미 컬러 필터층에 대응되는 투과 영역으로 더 많은 양의 광이 조사되는 표시 장치의 제조 방법.













KR1020160155046A 2016-11-21 2016-11-21 표시 장치 및 이의 제조 방법 KR102661122B1 (ko)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160155046A KR102661122B1 (ko) 2016-11-21 2016-11-21 표시 장치 및 이의 제조 방법
US15/798,968 US10627679B2 (en) 2016-11-21 2017-10-31 Display device and method for fabricating the same
CN201711163692.1A CN108089379B (zh) 2016-11-21 2017-11-21 显示装置
TW106140311A TWI733950B (zh) 2016-11-21 2017-11-21 顯示裝置
US16/852,743 US11573459B2 (en) 2016-11-21 2020-04-20 Display device and method for fabricating the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160155046A KR102661122B1 (ko) 2016-11-21 2016-11-21 표시 장치 및 이의 제조 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180057760A true KR20180057760A (ko) 2018-05-31
KR102661122B1 KR102661122B1 (ko) 2024-04-26

Family

ID=62146982

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160155046A KR102661122B1 (ko) 2016-11-21 2016-11-21 표시 장치 및 이의 제조 방법

Country Status (4)

Country Link
US (2) US10627679B2 (ko)
KR (1) KR102661122B1 (ko)
CN (1) CN108089379B (ko)
TW (1) TWI733950B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11300843B2 (en) 2020-04-21 2022-04-12 Samsung Display Co., Ltd. Display device

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102079253B1 (ko) * 2013-06-26 2020-02-20 삼성디스플레이 주식회사 박막트랜지스터 기판, 이를 구비하는 유기 발광 장치, 박막트랜지스터 기판 제조방법 및 유기 발광 장치 제조방법
US10802362B2 (en) * 2018-07-25 2020-10-13 Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Display panel and manufacturing method for the same
CN111462639B (zh) * 2019-01-21 2022-04-12 群创光电股份有限公司 显示装置
CN110716359A (zh) * 2019-10-14 2020-01-21 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板及其制造方法与对准精度检测方法
KR20210061506A (ko) * 2019-11-19 2021-05-28 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
CN110931426B (zh) * 2019-11-27 2022-03-08 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板的制作方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030023582A (ko) * 2001-09-13 2003-03-19 닛본 덴기 가부시끼가이샤 액정표시장치
KR20070065077A (ko) * 2005-12-19 2007-06-22 삼성전자주식회사 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법
KR20070080106A (ko) * 2006-02-06 2007-08-09 삼성전자주식회사 색필터 표시판 및 이의 제조방법
JP2007279192A (ja) * 2006-04-04 2007-10-25 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ用フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ
KR20120014749A (ko) * 2010-08-10 2012-02-20 삼성전자주식회사 표시 기판, 표시 장치 및 이의 제조 방법

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4775225A (en) 1985-05-16 1988-10-04 Canon Kabushiki Kaisha Liquid crystal device having pillar spacers with small base periphery width in direction perpendicular to orientation treatment
DE69332142T2 (de) 1992-12-25 2003-03-06 Sony Corp Substrat mit aktiver Matrix
JP3240858B2 (ja) 1994-10-19 2001-12-25 ソニー株式会社 カラー表示装置
KR101198819B1 (ko) 2003-06-25 2012-11-07 엘지디스플레이 주식회사 씨오티 구조 액정표시장치 및 그 제조방법
KR101016740B1 (ko) * 2003-12-30 2011-02-25 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
KR100715756B1 (ko) * 2004-03-09 2007-05-08 샤프 가부시키가이샤 액정 표시 장치
US20070040969A1 (en) * 2005-08-18 2007-02-22 Norihiro Yoshida Liquid crystal display device
KR20070059555A (ko) 2005-12-07 2007-06-12 삼성전자주식회사 컬러필터 기판 및 이를 포함하는 액정표시장치
KR101404548B1 (ko) * 2008-01-17 2014-06-10 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
JP5618464B2 (ja) * 2008-05-22 2014-11-05 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置およびその製造方法
TWI616707B (zh) * 2008-11-28 2018-03-01 半導體能源研究所股份有限公司 液晶顯示裝置
US8395740B2 (en) * 2009-01-30 2013-03-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device having blue phase liquid crystal and particular electrode arrangement
KR101604650B1 (ko) 2009-10-27 2016-03-28 삼성디스플레이 주식회사 표시 기판, 이의 제조 방법 및 표시패널의 제조 방법
KR20130008166A (ko) * 2011-07-12 2013-01-22 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 이의 제조 방법
JP5708363B2 (ja) * 2011-08-17 2015-04-30 Jsr株式会社 カラーフィルタ、液晶表示素子およびカラーフィルタの製造方法
KR101611923B1 (ko) 2012-02-27 2016-04-14 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR102071545B1 (ko) * 2012-05-31 2020-01-30 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치
KR101552902B1 (ko) * 2014-06-24 2015-09-15 엘지디스플레이 주식회사 곡면 액정표시장치
KR102189578B1 (ko) * 2014-07-30 2020-12-14 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 패널 및 그 제조 방법
KR102249284B1 (ko) * 2014-12-12 2021-05-07 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR102294835B1 (ko) * 2015-01-13 2021-08-27 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그 제조 방법
KR102334808B1 (ko) * 2015-04-30 2021-12-03 삼성디스플레이 주식회사 표시 패널
CN106094357B (zh) * 2016-08-08 2019-01-04 武汉华星光电技术有限公司 阵列基板以及液晶显示面板

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030023582A (ko) * 2001-09-13 2003-03-19 닛본 덴기 가부시끼가이샤 액정표시장치
KR20070065077A (ko) * 2005-12-19 2007-06-22 삼성전자주식회사 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법
KR20070080106A (ko) * 2006-02-06 2007-08-09 삼성전자주식회사 색필터 표시판 및 이의 제조방법
JP2007279192A (ja) * 2006-04-04 2007-10-25 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ用フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ
KR20120014749A (ko) * 2010-08-10 2012-02-20 삼성전자주식회사 표시 기판, 표시 장치 및 이의 제조 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11300843B2 (en) 2020-04-21 2022-04-12 Samsung Display Co., Ltd. Display device

Also Published As

Publication number Publication date
CN108089379A (zh) 2018-05-29
CN108089379B (zh) 2022-06-03
US10627679B2 (en) 2020-04-21
US20180143471A1 (en) 2018-05-24
TWI733950B (zh) 2021-07-21
TW201827902A (zh) 2018-08-01
KR102661122B1 (ko) 2024-04-26
US20200249515A1 (en) 2020-08-06
US11573459B2 (en) 2023-02-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102661122B1 (ko) 표시 장치 및 이의 제조 방법
US9190423B2 (en) Array substrate for fringe field switching mode liquid crystal display device and method for fabricating the same
US7733453B2 (en) Method of fabricating a liquid crystal display device using a three mask process and double layer electrodes
US7719652B2 (en) Array substrate for in-plane switching liquid crystal display device and method of fabricating the same
US6927814B2 (en) Array substrate for LCD and method of fabricating the same
US7538850B2 (en) Panel for display device, manufacturing method thereof and liquid crystal display
US7894032B2 (en) Liquid crystal display device having particular structure for data line, source electrode, drain electrode and pixel electrode
TWI451155B (zh) 液晶顯示裝置及其製造方法
US8400600B2 (en) Liquid crystal display device and fabricating method thereof
KR20170117261A (ko) 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR20160053261A (ko) 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법
US20100157235A1 (en) Liquid crystal display
KR20170115138A (ko) 표시 장치
KR20160129178A (ko) 액정 표시장치
KR101953141B1 (ko) 에프에프에스 방식 액정표시장치용 어레이기판 및 제조방법
KR101955992B1 (ko) 에프에프에스 방식 액정표시장치용 어레이기판 및 그 제조방법
KR101897747B1 (ko) 에프에프에스 방식 액정표시장치용 어레이기판 및 그 제조방법
KR20080073573A (ko) 액정패널과 이의 제조방법
KR102438251B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법
KR101222141B1 (ko) 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR102027526B1 (ko) 씨오티 구조의 액정표시장치 및 이의 제조 방법
KR20070025528A (ko) 액정 표시 장치, 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법
KR20070049402A (ko) 액정 표시 장치, 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법
KR20060128564A (ko) 액정 표시 장치, 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법
KR20110077254A (ko) 횡전계방식 액정표시장치의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant