KR20180040651A - 광학 재료용 중합성 조성물, 광학 재료, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법 및 광학 재료의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물은, 에피술피드 화합물 (A)와, 유기계 색소 (B)와, 자외선 흡수제 (C)와, 중합 촉매 (D)를 함유하고, 유기계 색소 (B)는, 당해 유기계 색소 (B)의 클로로포름 또는 톨루엔 용액으로 측정된 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서, 565nm 내지 605nm 사이에 주 흡수 피크(P)를 갖고, 해당 피크(P)의 최대 흡광 계수를 나타내는 피크 정점(Pmax)의 흡광 계수(㎖/gㆍ㎝)가 0.5×105 이상이고, 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 1/4의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 50nm 이하이고, 또한 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 1/2의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 30nm 이하이고, 또한 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 20nm 이하의 범위이다.

Description

광학 재료용 중합성 조성물, 광학 재료, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법 및 광학 재료의 제조 방법
본 발명은 광학 재료용 중합성 조성물, 광학 재료, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법 및 광학 재료의 제조 방법에 관한 것이다.
플라스틱 렌즈는, 무기 렌즈에 비하여 경량이며 깨지기 어렵기 때문에, 최근, 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 광학 재료로서 급속하게 보급되고 있다.
이러한 광학 재료에 관하여, 예를 들어 특허문헌 1에는, 에피술피드기를 갖는 화합물과 분자 내에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 화합물을 함유하는 조성물로 이루어지는 중합성 조성물이 개시되어 있고, 이것을 중합시켜 수지로 함으로써, 고굴절률, 저분산의 광학 재료가 얻어진다는 것이 개시되어 있다.
그런데, 최근에 들어서는, 안경 렌즈와 같은 광학 재료에 대하여, 물체의 윤곽이나 색채를 명료하게 하며, 시각 피로 등을 경감하기 위해, 렌즈를 통하여 시인되는 물체의 콘트라스트를 개선할 것이 요망되고 있다.
여기서, 콘트라스트를 향상시키기 위해서는, 눈부심을 주기 쉬운 파장대를 가능한 한 선택적으로 차광(커트)할 필요가 있다. 예를 들어, 네오디뮴 화합물은 585nm 부근의 가시광을 고선택적으로 흡수할 수 있어, 이 네오디뮴 화합물 또는 테트라아자포르피린 화합물 등의 유기 색소를 포함하는 안경 렌즈는, 시인되는 물체의 콘트라스트를 향상시킨다는 것이 알려져 있다. 네오디뮴 화합물과 같은 희토류 금속 화합물이 시인되는 물체의 콘트라스트를 개선할 수 있는 것은, 가시광 영역에서의 흡수 파장대에 있어서의 흡광 스펙트럼의 피크 형상이 매우 샤프하다는 점, 즉 흡수 파장 영역이 좁고, 파장 선택성이 높다는 점에 기인하고 있다. 이 파장 선택성이 높음으로써, 시인성에 필요한 파장대에서는 큰 투과율을 갖고, 또한 눈부심에 악영향을 주는 파장대를 선택적으로 흡수한다는 효과를 얻을 수 있다.
한편, 테트라아자포르피린 화합물은, 네오디뮴 화합물과 동일하게, 우수한 방현 성능과 콘트라스트성의 개선을 안경 렌즈에 부여할 수 있다. 즉, 특정 흡수 파장에 있어서의 피크의 샤프함에 유래하여 585nm 부근 이외에서의 광투과성이 양호하여 명시야를 확보할 수 있기 때문에, 방현성과 시인성(콘트라스트성)의 밸런스가 매우 양호한 안경 렌즈를 제공할 수 있다.
특허문헌 2의 실시예에는, 테트라아자포르피린 화합물을 단량체 조성물 중에 미리 용해시켜 두고, 그 후, 중합하여 렌즈를 얻는 방법이 기재되어 있다. 또한, 특허문헌 3의 실시예에는, 테트라아자포르피린 화합물을 예비 중합체에 혼합하고, 그 후, 가열 경화하여 렌즈를 얻는 방법이 기재되어 있다.
한편, 종래부터, 눈이 자외선에 노출됨에 따른 악영향이 문제시되고 있다. 또한, 최근, 자연광, 오피스 기기의 액정 디스플레이나, 스마트폰 또는 휴대 전화 등의 휴대 기기의 디스플레이 등으로부터의 발광에 포함되는 청색광에 의해, 눈의 피로나 통증을 느끼는 등, 눈에 대한 영향이 문제가 되고 있으며, 눈이, 자외선에서부터 400 내지 420nm 정도의 비교적 단파장의 청색광에 노출되는 양을 저감시킬 것이 요망되고 있다.
즉, 플라스틱 렌즈에 부여되는 다른 기능으로서 자외선 커트 기능을 들 수 있다. 최근, 자외선(UV)을 커트하는 기능을 갖는 플라스틱 렌즈의 개발이 진행되고 있다.
여기서, 420nm 정도의 단파장 청색광의 눈에 대한 영향에 대해서는, 비특허문헌 1에 기재되어 있다.
이 문헌에서는, 411nm와 470nm의 피크 파장이 상이한 청색 LED광의 조사에 의한 망막 신경 세포(래트의 배양 망막 신경 R28 세포)에 대한 손상을 검증하고 있다. 그 결과, 411nm에 피크 파장을 갖는 청색광의 조사(4.5W/㎡)는 24시간 이내에 망막 신경 세포의 세포사를 야기하는 것에 비해, 470nm에 피크 파장을 갖는 청색광에서는, 동일한 양의 조사에도 세포에 변화는 일어나지 않는다는 것이 개시되어 있고, 400 내지 420nm 파장의 광의 폭로를 억제하는 것이 눈의 장애 예방에 중요하다는 것이 개시되어 있다.
또한, 오랫동안, 눈에 청색광의 조사를 받는 것은, 안정피로나 스트레스를 받을 것이 우려되고 있으며, 노인성 황반 변성을 야기하는 요인이라고 생각되고 있다.
일본 특허 공개 제2004-256655호 공보 일본 특허 공개 제2008-134618호 공보 일본 특허 공개 제2011-237730호 공보
The European journal of neuroscience, vol.34, Iss.4, 548-558, (2011)
즉, 본 기술 분야에 있어서는, 자외선이나 청색광의 차단 효과가 높고, 무색투명하며 외관이 우수한 광학 재료의 개발이 강하게 요망되고 있으며, 또한 이러한 광학 재료를 실현할 수 있는 중합성 조성물의 개발도 요망되고 있었다. 이러한 사정으로부터, 본 발명은 자외선이나 청색광의 차단 효과가 높고, 무색투명하며 외관이 우수한 광학 재료를 얻을 수 있는 중합성 조성물을 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명자들은, 중합성 조성물을 구성하는 성분에 대하여, 적절하게 조합함으로써, 경화물을 얻을 때 외관이 우수하고, 또한 자외선이나 청색광의 차단 효과를 효과적으로 향상시킬 수 있음을 알아냈다.
즉, 본 발명은 이하로 나타낼 수 있다.
[1] 에피술피드 화합물 (A)와,
유기계 색소 (B)와,
자외선 흡수제 (C)와,
중합 촉매 (D)를 함유하고,
유기계 색소 (B)는, 당해 유기계 색소 (B)의 클로로포름 또는 톨루엔 용액으로 측정된 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서, 565nm 내지 605nm 사이에 주 흡수 피크(P)를 갖고, 해당 피크(P)의 최대 흡광 계수를 나타내는 피크 정점(Pmax)의 흡광 계수(㎖/gㆍ㎝)가 0.5×105 이상이고, 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 1/4의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 50nm 이하이고, 또한 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 1/2의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 30nm 이하이고, 또한 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 20nm 이하의 범위인, 광학 재료용 중합성 조성물.
[2] 상기 에피술피드 화합물 (A)가 이하의 일반식 (1)로 표시되는 화합물인, [1]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
Figure pct00001
(일반식 (1) 중, n은 0 또는 1을 나타냄)
[3] 상기 유기계 색소 (B)가 이하의 일반식 (2)로 표시되는 테트라아자포르피린 화합물인, [1] 또는 [2]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
Figure pct00002
(일반식 (2) 중, A1 내지 A8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 아미노기, 카르복실기, 술폰산기, 탄소수 1 내지 20의 직쇄, 분지 또는 환상의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 6 내지 20의 아릴옥시기, 탄소수 1 내지 20의 모노알킬아미노기, 탄소수 2 내지 20의 디알킬아미노기, 탄소수 7 내지 20의 디알킬아미노기, 탄소수 7 내지 20의 아르알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20의 알킬티오기, 탄소수 6 내지 20의 아릴티오기를 나타내고, 연결기를 통하여 방향족환을 제외한 환을 형성해도 되고, M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 2가의 1 치환 금속 원자, 4가의 2 치환 금속 원자, 또는 옥시 금속 원자를 나타냄)
[4] 일반식 (2)로 표시되는 테트라아자포르피린 화합물에 있어서, M이 2가의 구리 원자인, [3]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[5] 상기 테트라아자포르피린 화합물이 이하의 화학식 (3)으로 표시되는, [3] 또는 [4]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
Figure pct00003
(화학식 (3) 중, Cu는 2가의 구리를, t-C4H9는 터셔리-부틸기를 나타내고, 그 4개의 치환기의 치환 위치는 일반식 (2)에 있어서의 A1과 A2, A3과 A4, A5와 A6 및 A7과 A8 중 어느 하나씩임)
[6] 상기 자외선 흡수제 (C)가, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물을 포함하는, [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[7] 상기 중합 촉매 (D)가 아민 화합물인, [1] 내지 [6] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[8] 폴리티올 화합물 (E)를 더 포함하는, [1] 내지 [7] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[9] [1] 내지 [8] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 경화물에 의해 구성되는, 광학 재료.
[10] 유기계 색소 (B)를 중합 촉매 (D)에 용해하여, 혼합 용액을 얻는 공정과,
에피술피드 화합물 (A), 자외선 흡수제 (C) 및 상기 혼합 용액을 혼합하여, 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는 공정을 포함하고,
유기계 색소 (B)는, 당해 유기계 색소 (B)의 클로로포름 또는 톨루엔 용액으로 측정된 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서, 565nm 내지 605nm 사이에 주 흡수 피크(P)를 갖고, 해당 피크(P)의 최대 흡광 계수를 나타내는 피크 정점(Pmax)의 흡광 계수(㎖/gㆍ㎝)가 0.5×105 이상이고, 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 1/4의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 50nm 이하이고, 또한 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 1/2의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 30nm 이하이고, 또한 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 20nm 이하의 범위인, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[11] 상기 에피술피드 화합물 (A)가 이하의 일반식 (1)로 표시되는 화합물인, [10]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
Figure pct00004
(일반식 (1) 중, n은 0 또는 1을 나타냄)
[12] 상기 유기계 색소 (B)가 이하의 일반식 (2)로 표시되는 테트라아자포르피린 화합물인, [10] 또는 [11]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
Figure pct00005
(일반식 (2) 중, A1 내지 A8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 아미노기, 카르복실기, 술폰산기, 탄소수 1 내지 20의 직쇄, 분지 또는 환상의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 6 내지 20의 아릴옥시기, 탄소수 1 내지 20의 모노알킬아미노기, 탄소수 2 내지 20의 디알킬아미노기, 탄소수 7 내지 20의 디알킬아미노기, 탄소수 7 내지 20의 아르알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20의 알킬티오기, 탄소수 6 내지 20의 아릴티오기를 나타내고, 연결기를 통하여 방향족환을 제외한 환을 형성해도 되고, M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 2가의 1 치환 금속 원자, 4가의 2 치환 금속 원자, 또는 옥시 금속 원자를 나타냄)
[13] 일반식 (2)로 표시되는 테트라아자포르피린 화합물에 있어서, M이 2가의 구리 원자인, [12]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[14] 상기 테트라아자포르피린 화합물이 이하의 화학식 (3)으로 표시되는, [12] 또는 [13]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
Figure pct00006
(화학식 (3) 중, Cu는 2가의 구리를, t-C4H9는 터셔리-부틸기를 나타내고, 그 4개의 치환기의 치환 위치는 일반식 (2)에 있어서의 A1과 A2, A3과 A4, A5와 A6 및 A7과 A8 중 어느 하나씩임)
[15] 상기 자외선 흡수제 (C)가, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물을 포함하는, [10] 내지 [14] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[16] 상기 중합 촉매 (D)가 아민 화합물인, [10] 내지 [15] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[17] 폴리티올 화합물 (E)를 더 포함하는, [10] 내지 [16] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[18] [10] 내지 [17] 중 어느 하나에 기재된 제조 방법에 의해 얻어진 광학 재료용 중합성 조성물을 가열 경화하는 공정을 포함하는, 광학 재료의 제조 방법.
[19] 유기계 색소 (B)를 중합 촉매 (D)에 용해한 혼합 용액.
본 발명에 따르면, 황 원자를 포함하는 특정한 구조를 구비하는 화합물과 특정한 자외선 흡수제를 조합하여 사용함으로써, 유해한 자외선에서부터 400 내지 420nm 정도의 청색광의 차단 효과가 높고, 방현성과 시인성(콘트라스트성)의 밸런스가 우수하고, 무색투명하며 외관이 우수한 광학 재료를 실현할 수 있는 중합성 조성물을 제공할 수 있다.
이러한 발명이 적용된 광학 재료는, 무색투명하며 외관이 우수함과 함께 유해 광의 눈에 대한 영향이 경감되어 안정피로나 스트레스 등의 장애를 억제할 수도 있기 때문에, 특히 플라스틱 안경 렌즈로서 적합하게 사용할 수 있다.
상술한 목적 및 그 밖의 목적, 특징 및 이점은, 이하에 설명하는 적합한 실시 형태 및 그것에 부수되는 이하의 도면에 의해 더욱 명백해진다.
도 1은, 실시예 항에서 얻어진 성형체에 대하여, 광투과율을 측정하였을 때 얻어진 스펙트럼 차트이다.
이하, 본 발명을 이하의 실시 형태에 기초하여 설명한다.
또한, 본 명세서 중에 있어서, 「내지」는 특별히 언급이 없으면, 이상에서 이하를 나타낸다.
[광학 재료용 중합성 조성물]
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 에피술피드 화합물 (A)와, 특정한 흡수를 나타내는 유기계 색소 (B)와, 자외선 흡수제 (C)와, 중합 촉매 (D)를 포함한다. 이하, 각 성분에 대하여 상세하게 설명한다.
(에피술피드 화합물 (A))
본 실시 형태에 사용할 수 있는 에피술피드 화합물로서는, 분자 내에 2개 이상의 에피술피드기를 갖는 화합물 중에서 적절히 선택할 수 있다.
이러한 에피술피드 화합물 (A)의 구체예로서는, 비스(2,3-에피티오프로필)술피드, 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드, 비스(2,3-에피티오프로필티오)메탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)에탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필티오)헥산, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-3,6-트리티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)-1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-1-(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에피티오프로필티오)-2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에피티오프로필티오)-4-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,4,5-트리스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에피티오프로필티오)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,8-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,7-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-5,7-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족 2,3-에피티오프로필티오 화합물;
1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족 2,3-에피티오프로필티오 화합물;
1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]술피드, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]술폰, 4,4'-비스(2,3-에피티오프로필티오)비페닐 등의 방향족 2,3-에피티오프로필티오 화합물 등을 들 수 있고, 이들로부터 선택된 적어도 1종을 사용할 수 있다.
에피술피드 화합물 (A)로서는, 본 발명의 효과의 관점에서, 이하의 일반식 (1)로 표시되는 화합물, 즉 비스(2,3-에피티오프로필)술피드 또는 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드를 사용하는 것이 바람직하다.
Figure pct00007
일반식 (1) 중, n은 0 또는 1을 나타낸다.
(유기계 색소 (B))
본 실시 형태에서 사용되는 유기계 색소 (B)는, 특정한 흡수 거동을 나타내는 것이다.
보다 구체적으로는, 유기계 색소 (B)는, 클로로포름 또는 톨루엔 용액으로 측정된 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서, 565nm 내지 605nm 사이에 주 흡수 피크(P)를 갖고, 해당 피크(P)의 최대 흡광 계수를 나타내는 피크 정점(Pmax)의 흡광 계수(㎖/gㆍ㎝)가 0.5×105 이상이고, 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 1/4의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 50nm 이하이고, 또한 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 1/2의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 30nm 이하이고, 또한 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 20nm 이하의 범위이다.
본 실시 형태에 있어서, 유기계 색소 (B)는, 상기 주 흡수 피크(P)의 피크 정점(Pmax)이 580nm 내지 590nm 사이이면 된다. 또한, 상기 주 흡수 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 1/4의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 40nm 이하이고, 또한 상기 주 흡수 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 1/2의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 25nm 이하이고, 또한 상기 주 흡수 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 20nm 이하여도 된다.
또한, 본 실시 형태의 유기계 색소 (B)는, 이하의 일반식 (2)로 표시되는 테트라아자포르피린 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00008
일반식 (2) 중, A1 내지 A8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 아미노기, 카르복실기, 술폰산기, 탄소수 1 내지 20의 직쇄, 분지 또는 환상의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 6 내지 20의 아릴옥시기, 탄소수 1 내지 20의 모노알킬아미노기, 탄소수 2 내지 20의 디알킬아미노기, 탄소수 7 내지 20의 디알킬아미노기, 탄소수 7 내지 20의 아르알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20의 알킬티오기, 탄소수 6 내지 20의 아릴티오기를 나타내고, 연결기를 통하여 방향족환을 제외한 환을 형성해도 되고, M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 2가의 1 치환 금속 원자, 4가의 2 치환 금속 원자, 또는 옥시 금속 원자를 나타낸다.
본 실시 형태에 있어서는, 유기계 색소 (B)로서, 이들로부터 선택된 적어도 1종을 사용할 수 있다.
일반식 (2)로 표시되는 테트라아자포르피린 화합물에 대하여, 일반식 (2) 중, M은 2가의 구리인 것이 보다 바람직하다. 구체예로서는 이하의 화학식 (3)으로 표시되는 테트라-t-부틸-테트라아자포르피린ㆍ구리 착체를 들 수 있고, 이것은 PD-311S(미쓰이 가가쿠(주)제)의 품번명에 상당한다.
Figure pct00009
화학식 (3) 중, Cu는 2가의 구리를, t-C4H9는 터셔리-부틸기를 나타내고, 그 4개의 치환기의 치환 위치는, 일반식 (2)에 있어서의 A1 또는 A2 중 어느 것, A3 또는 A4 중 어느 것, A5 또는 A6 중 어느 것, A7 또는 A8 중 어느 것이다.
(자외선 흡수제 (C))
본 실시 형태에서 사용되는 자외선 흡수제 (C)는, 공지의 자외선 흡수제 중에서 적절히 선택하면 되지만, 예를 들어 클로로포름 용액에 용해시켰을 때의 극대 흡수 파장이 340nm 이상 360nm 이하인 것이 바람직하다.
보다 구체적인 자외선 흡수제 (C)의 예로서는, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물을 들 수 있다.
벤조페논계 화합물로서는, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,2'-4,4'-테트라히드록시벤조페논 등을 들 수 있다.
트리아진 화합물로서는, ADEKA사제 아데카스탭 LA-F70, BASF사제 TINUVIN400 등을 들 수 있다.
본 실시 형태에 있어서는, 벤조트리아졸계 화합물을 사용하는 것이 바람직하며, 벤조트리아졸계 화합물로서는, 알킬 치환 벤조트리아졸계 화합물, 직쇄 알킬에스테르 치환 벤조트리아졸계 화합물, 클로로 치환 벤조트리아졸계 화합물 등을 들 수 있다.
예를 들어, 알킬 치환 벤조트리아졸계 화합물로서는, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-tert-옥틸페놀을 들 수 있고, 시판품으로서, 쿄도 야쿠힌사제 Viosorb583, 시프로 가세이사제 SEESEORB 709 등을 들 수 있다.
직쇄 알킬에스테르 치환 벤조트리아졸계 화합물로서는, 3-[3-tert-부틸-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-히드록시페닐]프로피온산옥틸과 3-[3-tert-부틸-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-히드록시페닐]프로피온산2-에틸헥실의 혼합물을 들 수 있고, 시판품으로서, EVER LIGHT사제 EVERSORB109 등을 들 수 있다.
클로로 치환 벤조트리아졸계 화합물로서는, 2-(2-히드록시-3-t-부틸-5-메틸페닐)-클로로벤조트리아졸을 들 수 있고, 시판품으로서, BASF사제 TINUVIN326, 시프로 가세이사제 SEESEORB703, 쿄도 야쿠힌사제 Viosorb550, 케미프로 가세이사제 KEMISORB73 등을 들 수 있다. 자외선 흡수제 (C)가, 클로로포름 용액에 용해시켰을 때의 극대 흡수 파장이 340nm 이상 360nm 이하인 화합물임으로써, 유해한 자외선에서부터 400 내지 420nm 정도의 청색광의 차단 효과가 매우 높고, 무색투명하며 외관이 우수한 광학 재료를 효과적으로 얻을 수 있다.
본 실시 형태에 있어서, 자외선 흡수제 (C)로서는, 이들 자외선 흡수제 중 1종 이상을 사용하는 것이 바람직하며, 상이한 2종 이상의 자외선 흡수제 (C)를 함유해도 된다. 또한, 자외선 흡수제 (C)를 구성하는 어느 자외선 흡수제도, 극대 흡수 피크가 340nm 이상 360nm 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다.
(중합 촉매 (D))
본 실시 형태에 있어서, 중합 촉매 (D)로서는, 루이스산, 아민 화합물, 유기산, 아민 유기산염 등을 들 수 있으며, 루이스산, 아민 화합물, 아민 유기산염이 바람직하고, 아민 화합물이 보다 바람직하다.
또한, 이들 화합물은 공지의 중합 촉매 중에서 적절히 선택할 수 있다.
또한, 본 실시 형태에 있어서는, 중합 촉매 (D)는 전술한 유기계 색소 (B)를 용해하는 화합물이 사용된다. 이러한 점에서, 본 실시 형태에 있어서의 중합 촉매 (D)는 실온 또는 가온하였을 때 액체인 것이 바람직하다.
또한, 프로세스 효율을 감안하여, 실온 조건 하에서 액체인 중합 촉매 (D)를 보다 바람직하게 사용할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서, 중합 촉매 (D)로서 아민 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 이 아민 화합물로서는, 예를 들어 트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리이소프로필아민, 트리-n-부틸아민, 트리이소부틸아민, N,N-디메틸벤질아민, N-메틸모르폴린, N,N-디메틸시클로헥실아민, N,N-디시클로헥실메틸아민, 디메틸디프로필렌트리아민, 펜타메틸디에틸렌트리아민, 비스(2-디메틸아미노에틸)에테르, N-메틸모르폴린, N,N'-디메틸피페라진, 트리에틸렌디아민, N,N,N',N'-테트라메틸에틸렌디아민, 비시클로옥탄디아민(DABCO) 등의 3급 아민류;
테트라메틸암모늄브로마이드, 테트라에틸암모늄브로마이드, 테트라프로필암모늄브로마이드, 테트라부틸암모늄브로마이드, 테트라헥실암모늄브로마이드, 테트라에틸암모늄히드록시드 등의 4급 암모늄염류;
이미다졸, 1,2-디메틸이미다졸, 벤질메틸이미다졸, 2-에틸-4-이미다졸 등의 이미다졸류;
피라졸, 3,5-디메틸피라졸 등의 피라졸류;
1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딘올, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-히드록시에틸-4-피페리딘올, 메틸-1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜세바케이트, 메틸-1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜세바케이트와 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트의 혼합물, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-1-(옥틸옥시)-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)[[3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시페닐]메틸]부틸말로네이트, 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)부탄-1,2,3,4-테트라카르복실레이트 등의 힌더드 아민류를 들 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 중합 촉매 (D)로서, 이들로부터 선택된 적어도 1종을 사용할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서는, 본 발명의 효과의 관점에서, N,N-디시클로헥실메틸아민, N,N-디메틸시클로헥실아민을 사용하는 것이 바람직하다.
그 밖에, 트리메틸포스핀, 트리에틸포스핀, 트리n-프로필포스핀, 트리이소프로필포스핀, 트리n-부틸포스핀, 트리페닐포스핀, 트리벤질포스핀, 1,2-비스(디페닐포스피노)에탄, 1,2-비스(디메틸포스피노)에탄 등의 포스핀류, 디메틸주석디클로라이드, 디부틸주석디클로라이드, 디부틸주석디라우레이트, 테트라클로로주석, 디부틸주석옥사이드, 염화아연, 아세틸아세톤아연, 염화알루미늄, 불화알루미늄, 트리페닐알루미늄, 테트라클로로티타늄, 아세트산칼슘 등의 루이스산, 디페닐요오도늄헥사플루오로인산, 디페닐요오도늄헥사플루오로비산, 디페닐요오도늄헥사플루오로안티몬, 트리페닐술포늄테트라플루오로붕산, 트리페닐술포늄헥사플루오로인산, 트리페닐술포늄헥사플루오로비산, 무수 아세트산 등의 산 무수물류의 중합 촉매를 들 수 있지만, 이들 예시 화합물로만 한정되는 것은 아니다.
(폴리티올 화합물 (E))
본 실시 형태에 관한 광학 재료용 중합성 조성물에는, 폴리티올 화합물 (E)가 더 포함되어 있어도 된다. 본 실시 형태에 관한 폴리티올 화합물 (E)란, 분자 내에 2 이상의 머캅토기(티올기)를 갖는 화합물을 의미한다.
폴리티올 화합물 (E)로서는, 메탄디티올, 1,2-에탄디티올, 1,2,3-프로판트리티올, 1,2-시클로헥산디티올, 비스(2-머캅토에틸)에테르, 테트라키스(머캅토메틸)메탄, 디에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트), 디에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트), 에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트), 트리메틸올에탄트리스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올에탄트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 비스(머캅토메틸)술피드, 비스(머캅토메틸)디술피드, 비스(2-머캅토에틸)술피드, 비스(2-머캅토에틸)디술피드, 비스(머캅토프로필)술피드, 비스(머캅토메틸티오)메탄, 비스(2-머캅토에틸티오)메탄, 비스(3-머캅토프로필티오)메탄, 1,2-비스(머캅토메틸티오)에탄, 1,2-비스(2-머캅토에틸티오)에탄, 1,2-비스(3-머캅토프로필티오)에탄, 1,2,3-트리스(머캅토메틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(2-머캅토에틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(3-머캅토프로필티오)프로판, 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄, 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 테트라키스(머캅토메틸티오메틸)메탄, 테트라키스(2-머캅토에틸티오메틸)메탄, 테트라키스(3-머캅토프로필티오메틸)메탄, 비스(2,3-디머캅토프로필)술피드, 2,5-디머캅토메틸-1,4-디티안, 2,5-디머캅토-1,4-디티안, 2,5-디머캅토메틸-2,5-디메틸-1,4-디티안, 및 이들의 티오글리콜산 및 머캅토프로피온산의 에스테르, 히드록시메틸술피드비스(2-머캅토아세테이트), 히드록시메틸술피드비스(3-머캅토프로피오네이트), 히드록시에틸술피드비스(2-머캅토아세테이트), 히드록시에틸술피드비스(3-머캅토프로피오네이트), 히드록시메틸디술피드비스(2-머캅토아세테이트), 히드록시메틸디술피드비스(3-머캅토프로피오네이트), 히드록시에틸디술피드비스(2-머캅토아세테이트), 히드록시에틸디술피드비스(3-머캅토프로피오네이트), 2-머캅토에틸에테르비스(2-머캅토아세테이트), 2-머캅토에틸에테르비스(3-머캅토프로피오네이트), 티오디글리콜산비스(2-머캅토에틸에스테르), 티오디프로피온산비스(2-머캅토에틸에스테르), 디티오디글리콜산비스(2-머캅토에틸에스테르), 디티오디프로피온산비스(2-머캅토에틸에스테르), 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(머캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(머캅토메틸티오)-1,3-디티안, 트리스(머캅토메틸티오)메탄, 트리스(머캅토에틸티오)메탄 등의 지방족 폴리티올 화합물;
1,2-디머캅토벤젠, 1,3-디머캅토벤젠, 1,4-디머캅토벤젠, 1,2-비스(머캅토메틸)벤젠, 1,3-비스(머캅토메틸)벤젠, 1,4-비스(머캅토메틸)벤젠, 1,2-비스(머캅토에틸)벤젠, 1,3-비스(머캅토에틸)벤젠, 1,4-비스(머캅토에틸)벤젠, 1,3,5-트리머캅토벤젠, 1,3,5-트리스(머캅토메틸)벤젠, 1,3,5-트리스(머캅토메틸렌옥시)벤젠, 1,3,5-트리스(머캅토에틸렌옥시)벤젠, 2,5-톨루엔디티올, 3,4-톨루엔디티올, 1,5-나프탈렌디티올, 2,6-나프탈렌디티올 등의 방향족 폴리티올 화합물;
2-메틸아미노-4,6-디티올-sym-트리아진, 3,4-티오펜디티올, 비스무티올, 4,6-비스(머캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(머캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄 등의 복소환 폴리티올 화합물 등을 들 수 있다.
본 실시 형태에 있어서는, 폴리티올 화합물 (E)로서, 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 비스(2-머캅토에틸)술피드, 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄, 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 2,5-디머캅토메틸-1,4-디티안, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸티오)프로판, 4,6-비스(머캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(머캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄, 에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트)로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하고, 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸과 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸과 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 보다 바람직하다.
(폴리(티오)이소시아네이트 화합물 (F))
본 실시 형태에 관한 광학 재료용 중합성 조성물에는, 폴리(티오)이소시아네이트 화합물 (F)가 더 포함되어 있어도 된다. 본 실시 형태에 관한 폴리(티오)이소시아네이트 화합물 (F)란, 분자 내에 2 이상의 (티오)이소시아나토기를 갖는 화합물을 의미한다.
폴리이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들어 펜타메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아나토메틸에스테르, 리신트리이소시아네이트, m-크실릴렌디이소시아네이트, p-크실렌디이소시아네이트, α,α,α',α'-테트라메틸크실릴렌디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)나프탈렌, 1,3,5-트리스(이소시아나토메틸)벤젠, 비스(이소시아나토메틸)술피드, 비스(이소시아나토에틸)술피드, 비스(이소시아나토메틸)디술피드, 비스(이소시아나토에틸)디술피드, 비스(이소시아나토메틸티오)메탄, 비스(이소시아나토에틸티오)메탄, 비스(이소시아나토에틸티오)에탄, 비스(이소시아나토메틸티오)에탄 등의 지방족 폴리이소시아네이트 화합물;
이소포론디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 3,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 3,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 4,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 4,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸 등의 지환족 폴리이소시아네이트 화합물;
1,3-페닐렌디이소시아네이트, 1,4-페닐렌디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 디페닐술피드-4,4-디이소시아네이트 등의 방향족 폴리이소시아네이트 화합물;
2,5-디이소시아나토티오펜, 2,5-비스(이소시아나토메틸)티오펜, 2,5-디이소시아나토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아나토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소시아나토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아나토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아나토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아나토-1,3-디티올란, 4,5-비스(이소시아나토메틸)-1,3-디티올란 등의 복소환 폴리이소시아네이트 화합물; 등을 들 수 있다.
또한, 이들의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체, 알킬 치환체, 알콕시 치환체, 니트로 치환체나 다가 알코올과의 예비 중합체형 변성체, 카르보디이미드 변성체, 우레아 변성체, 뷰렛 변성체, 이량체화 혹은 삼량체화 반응 생성물 등도 사용할 수 있다.
이소티오시아네이트 화합물로서는, 예를 들어 헥사메틸렌디이소티오시아네이트, 리신디이소티오시아네이트메틸에스테르, 리신트리이소티오시아네이트, m-크실릴렌디이소티오시아네이트, 비스(이소티오시아나토메틸)술피드, 비스(이소티오시아나토에틸)술피드, 비스(이소티오시아나토에틸)디술피드 등의 지방족 폴리이소티오시아네이트 화합물;
이소포론디이소티오시아네이트, 비스(이소티오시아나토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소티오시아네이트, 시클로헥산디이소티오시아네이트, 메틸시클로헥산디이소티오시아네이트, 2,5-비스(이소티오시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소티오시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 3,8-비스(이소티오시아나토메틸)트리시클로데칸, 3,9-비스(이소티오시아나토메틸)트리시클로데칸, 4,8-비스(이소티오시아나토메틸)트리시클로데칸, 4,9-비스(이소티오시아나토메틸)트리시클로데칸 등의 지환족 폴리이소티오시아네이트 화합물;
톨릴렌디이소티오시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소티오시아네이트, 디페닐디술피드-4,4-디이소티오시아네이트 등의 방향족 폴리이소티오시아네이트 화합물;
2,5-디이소티오시아나토티오펜, 2,5-비스(이소티오시아나토메틸)티오펜, 2,5-이소티오시아나토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소티오시아나토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소티오시아나토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소티오시아나토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소티오시아나토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소티오시아나토-1,3-디티올란, 4,5-비스(이소티오시아나토메틸)-1,3-디티올란 등의 황 함유 복소환 폴리이소티오시아네이트 화합물; 등을 들 수 있다.
또한, 이들의 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체, 알킬 치환체, 알콕시 치환체, 니트로 치환체나 다가 알코올과의 예비 중합체형 변성체, 카르보디이미드 변성체, 우레아 변성체, 뷰렛 변성체, 이량체화 혹은 삼량체화 반응 생성물 등도 사용할 수 있다.
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 추가로, 그 밖의 성분으로서, 내부 이형제, 수지 개질제, 광안정제, 블루잉제 등을 포함하고 있어도 된다.
또한, 본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 가교성을 향상시킨다는 관점에서, 황을 포함해도 된다.
(내부 이형제)
내부 이형제로서는, 산성 인산에스테르를 사용할 수 있다. 산성 인산에스테르로서는, 인산모노에스테르, 인산디에스테르를 들 수 있으며, 각각 단독 또는 2종류 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
예를 들어, STEPAN사제의 ZelecUN, 미쓰이 가가쿠사제의 MR용 내부 이형제, 죠호쿠 가가쿠 고교사제의 JP 시리즈, 도호 가가쿠 고교사제의 포스페놀 시리즈, 다이하치 가가쿠 고교사제의 AP, DP 시리즈 등을 사용할 수 있다.
(수지 개질제)
또한, 본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물에는, 얻어지는 수지의 광학 물성, 내충격성, 비중 등의 여러 물성의 조절, 및 당해 조성물의 점도나 가용 시간의 조정을 목적으로, 수지 개질제를 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 첨가할 수 있다.
수지 개질제로서는, 예를 들어 알코올 화합물, 에폭시 화합물, 유기산 및 그의 무수물, (메트)아크릴레이트 화합물 등을 포함하는 올레핀 화합물 등을 들 수 있다.
(광안정제)
광안정제로서는, 예를 들어 힌더드 아민계 화합물을 사용할 수 있다. 힌더드 아민계 화합물은, 시판품으로서 Chemtura사제의 Lowilite76, Lowilite92, BASF사제의 Tinuvin144, Tinuvin292, Tinuvin765, ADEKA사제의 아데카스탭 LA-52, LA-72, 죠호쿠 가가쿠 고교사제의 JF-95 등을 들 수 있다.
(블루잉제)
블루잉제로서는, 가시광 영역 중 주황색에서부터 황색의 파장 영역에 흡수대를 갖고, 수지로 이루어지는 광학 재료의 색상을 조정하는 기능을 갖는 것을 들 수 있다. 블루잉제는, 더욱 구체적으로는, 청색에서부터 자색을 나타내는 물질을 포함한다.
이어서, 본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물의 조성에 대하여 설명한다.
본 실시 형태에 있어서, 유기계 색소 (B)의 함유량은, 당해 성분의 효과를 충분히 발휘시킨다는 관점에서, 광학 재료용 중합성 조성물 100중량부에 대하여, 예를 들어 0.0001 내지 0.1중량부이고, 바람직하게는 0.0002 내지 0.01중량부이고, 보다 바람직하게는 0.0005 내지 0.005중량부이다.
또한, 자외선 흡수제 (C)의 함유량은, 당해 성분의 효과를 충분히 발휘시킨다는 관점에서, 광학 재료용 중합성 조성물 100중량부에 대하여, 예를 들어 0.1 내지 1.0중량부이고, 바람직하게는 0.2 내지 0.8중량부이고, 보다 바람직하게는 0.3 내지 0.6중량부이다.
또한, 본 실시 형태에 있어서 다른 첨가 성분의 양은, 통상, 소량이기 때문에, 광학 재료용 중합성 조성물 100중량부는, 「에피술피드 화합물 (A), 유기계 색소 (B), 자외선 흡수제 (C)와 중합 촉매 (D)의 합계 100중량부」, 또는 「에피술피드 화합물 (A), 유기계 색소 (B), 자외선 흡수제 (C)와 중합 촉매 (D)와 필요에 따라 첨가되는, 폴리티올 화합물 (E)의 합계 100중량부」, 또는 「에피술피드 화합물 (A), 유기계 색소 (B), 자외선 흡수제 (C)와 중합 촉매 (D)와 필요에 따라 첨가되는, 폴리(티오)이소시아네이트 화합물 (F)의 합계 100중량부」, 또는 「에피술피드 화합물 (A), 유기계 색소 (B), 자외선 흡수제 (C)와 중합 촉매 (D)와 필요에 따라 첨가되는, 폴리티올 화합물 (E) 및 폴리(티오)이소시아네이트 화합물 (F)의 합계 100중량부」로 할 수도 있다.
[광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법]
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 상기 성분을 소정의 방법으로 혼합함으로써 얻을 수 있다.
조성물 중의 각 성분의 혼합 순서나 혼합 방법은, 각 성분을 균일하게 혼합할 수 있으면 특별히 한정되지 않으며, 공지의 방법으로 행할 수 있다. 공지의 방법으로서는, 예를 들어 첨가물을 소정량 포함하는 마스터배치를 제작하고, 이 마스터배치를 용매에 분산ㆍ용해시키는 방법 등이 있다.
본 실시 형태에 있어서는, 이하의 공정 1, 공정 2를 거침으로써, 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는 것이 바람직하다.
공정 1: 유기계 색소 (B)를 중합 촉매 (D)에 용해하여, 혼합 용액을 얻는다.
공정 2: 에피술피드 화합물 (A), 자외선 흡수제 (C) 및 상기 혼합 용액을 배합하여, 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는다.
여기서, 본 발명자들은, 중합 촉매 (D), 특히 아민 화합물은 유기계 색소 (B)와의 상용성이 높음을 알아냈다. 즉, 이들을 혼합하여 혼합 용액을 조제함으로써, 유기계 색소 (B)를 얻어지는 수지에 균일하게 분산시킬 수 있다. 즉, 본 실시 형태의 혼합 용액을 사용하여, 해당 혼합 용액에 다른 성분을 혼합함으로써, 유기계 색소 (B)가 균일하게 분산된 광학 재료용 중합성 조성물을 얻을 수 있고, 결과로서 유기계 색소 (B)가 균일하게 분산된 광학 재료를 얻을 수 있다. 이와 같이, 본 실시 형태의 혼합 용액을 사용함으로써, 자외선이나 청색광의 차단 효과가 높고, 무색투명하며 외관이 우수한 광학 재료를 적합하게 얻을 수 있다.
또한, 중합 촉매 (D)로서, N,N-디시클로헥실메틸아민 또는 N,N-디메틸시클로헥실아민과, 유기계 색소 (B)로서 화학식 (3)으로 표시되는 테트라-t-부틸-테트라아자포르피린ㆍ구리 착체의 조합이 바람직하다.
이 공정 1에 있어서, 유기계 색소 (B)는, 중합 촉매 (D)의 합계 100중량부에 대하여 0.01 내지 5.0중량부, 바람직하게는 0.5 내지 3.0중량부가 되는 양으로 포함할 수 있다.
이 공정 1에 있어서의 혼합 온도는 5 내지 40℃, 바람직하게는 10 내지 30℃로 할 수 있다. 첨가 순서, 첨가 속도는, 각 성분을 균일하게 혼합할 수 있으면 특별히 한정되지 않는다. 혼합 시간에 대해서도, 상기 관점에서, 5 내지 120분, 바람직하게는 30 내지 60분으로 할 수 있다. 혼합 시의 압력 조건은 특별히 제한되지 않으며, 상압 하여도, 가압 하여도 상관없다.
이와 같이 하여 얻어진 혼합 용액(색소 용액)은 취급이 용이하고, 광학 재료의 생산성이 향상된다.
그 후, 공정 2에 있어서, 에피술피드 화합물 (A), 자외선 흡수제 (C) 및 상기 혼합 용액을 배합하여, 광학 재료용 중합성 조성물을 얻을 수 있다. 또한, 이 공정 2에 있어서, 폴리티올 화합물 (E), 폴리(티오)이소시아네이트 화합물 (F), 그 밖의 각종 첨가제를 첨가할 수 있다.
또한, 상술한 혼합 용액에 포함되는 중합 촉매 (D)와는 별도로, 이 공정 2에 있어서, 별도로 중합 촉매 (D)를 첨가할 수도 있다.
또한, 이 공정 2에 있어서의 혼합 온도, 혼합 시간에 대해서는 임의로 설정할 수 있다. 또한, 상술한 공정 1과 동일한 조건을 채용해도 된다.
[광학 재료]
이어서, 본 실시 형태에 관한 광학 재료에 대하여 설명한다.
본 실시 형태의 광학 재료는, 전술한 광학 재료용 중합성 조성물을 경화(예를 들어 가열 경화)시켜, 경화물로 함으로써 얻을 수 있다.
본 실시 형태에서 나타내는 광학 재료는, 예를 들어 광학 재료용 중합성 조성물을 주형 중합하는 방법에 의해 얻을 수 있다.
구체적으로는, 개스킷 또는 테이프 등으로 유지된 성형 몰드의 캐비티 내에 광학 재료용 중합성 조성물을 주입한다. 이때, 얻어지는 플라스틱 렌즈에 요구되는 물성에 따라서는, 필요에 따라, 감압 하에서의 탈포 처리나 가압, 감압 등의 여과 처리 등을 행할 수도 있다.
그리고, 조성물이 주입된 후, 렌즈 주형(注型)용 주형(鑄型)을 오븐 내 또는 수중 등의 가열 가능 장치 내에서 소정의 온도 프로그램으로 가열하여 경화 성형한다. 얻어진 성형체는, 필요에 따라, 어닐 등의 처리를 행해도 된다.
본 실시 형태의 성형체(100중량부)는, 자외선 흡수제 (C)를 0.1 내지 0.8중량부, 바람직하게는 0.2 내지 0.6중량부, 보다 바람직하게는 0.3 내지 0.5중량부 포함할 수 있다. 이에 의해, 유해한 자외선에서부터 400 내지 420nm 정도의 청색광의 차단 효과가 높고, 무색투명하며 외관이 우수한 광학 재료를 적합하게 제공할 수 있다.
본 실시 형태의 성형체는, 원하는 형상으로 하고, 필요에 따라 형성되는 코팅층이나 다른 부재 등을 구비함으로써, 여러 가지 광학 재료로서 사용할 수 있다.
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물로부터 얻어진 광학 재료는, 투명성이 우수함과 함께 착색이 억제되고, 또한 안정피로나 스트레스 등의 장애를 억제할 수 있다. 특히 440nm에 있어서의 광투과율이 80％ 이상임으로써, 무색투명의 외관이 우수한 광학 재료를 얻을 수 있다.
[광학 재료의 용도]
이어서, 본 실시 형태의 광학 재료의 용도에 대하여 설명한다.
본 실시 형태의 광학 재료는, 특정한 조성을 포함하는 중합성 조성물로부터 얻어지는 것이며, 특히 파장 400nm 내지 420nm의 광을 커트하고, 투명성이 높고, 물성 밸런스가 우수한 광학 재료이다.
본 실시 형태에서 나타내는 광학 재료로서는, 플라스틱 안경 렌즈, 고글, 시력 교정용 안경 렌즈, 촬상 기기용 렌즈, 액정 프로젝터용 프레넬 렌즈, 렌티큘러 렌즈, 콘택트 렌즈 등의 각종 플라스틱 렌즈, 발광 다이오드(LED)용 밀봉재, 광도파로, 광학 렌즈나 광도파로의 접합에 사용하는 광학용 접착제, 광학 렌즈 등에 사용하는 반사 방지막, 액정 표시 장치 부재(기판, 도광판, 필름, 시트 등)에 사용하는 투명성 코팅, 또는 차의 앞유리나 바이크의 헬멧에 부착하는 시트나 필름, 투명성 기판 등을 들 수 있다.
본 실시 형태에서 나타내는 광학 재료는, 두께 2mm에 있어서, 파장 440nm의 광투과율이 80％ 이상, 바람직하게는 83％ 이상이고, 590nm의 광투과율이 70％ 이하, 바람직하게는 50％ 이하이고, 또한 410nm의 광투과율이 10％ 이하이고, 바람직하게는 5％ 이하이다. 상기 광투과율의 범위이면, 유해한 자외선에서부터 420nm 정도의 청색광의 차단 효과가 높고, 무색투명하며 외관이 우수하다. 또한, 440nm의 광투과율을 80％ 이상으로 함으로써, 무색투명의 외관이 우수한 광학 재료를 얻을 수 있다. 또한, 이들의 수치 범위는 임의로 조합할 수 있다.
[플라스틱 안경 렌즈]
본 실시 형태의 광학 재료를 사용하여, 플라스틱 안경 렌즈를 얻을 수 있다. 또한, 필요에 따라, 편면 또는 양면에 코팅층을 입혀서 사용해도 된다.
코팅층으로서, 구체적으로는 프라이머층, 하드 코팅층, 반사 방지층, 방담 코팅층, 방오염층, 발수층 등을 들 수 있다. 이들 코팅층은 각각 단독으로 사용할 수도 있고, 복수의 코팅층을 다층화하여 사용할 수도 있다. 양면에 코팅층을 입히는 경우, 각각의 면에 동일한 코팅층을 입혀도 되고, 상이한 코팅층을 입혀도 된다.
이들 코팅층은 각각, 자외선 흡수제 (C) 이외의 공지의 자외선 흡수제, 적외선으로부터 눈을 보호할 목적으로 적외선 흡수제, 렌즈의 내후성을 향상시킬 목적으로 광안정제나 산화 방지제, 렌즈의 패션성을 높일 목적으로 염료나 안료, 또한 포토크로믹 염료나 포토크로믹 안료, 대전 방지제, 기타, 렌즈의 성능을 높이기 위한 공지의 첨가제를 병용해도 된다. 도포에 의한 코팅을 행하는 층에 관해서는 도포성의 개선을 목적으로 한 각종 레벨링제를 사용해도 된다.
이상, 본 발명을 실시 형태에 의해 설명하였지만, 본 발명은 전술한 실시 형태에 한정되는 것은 아니며, 본원 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 여러 가지 형태를 취할 수 있다.
<실시예>
이하에, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시예에 있어서 사용한 평가 방법은 이하와 같다.
<평가 방법>
ㆍ광선 투과율
측정 기기로서, 시마즈 세이사쿠쇼사제 시마즈 분광 광도계 UV-1600을 사용하고, 2mm 두께의 플라노 렌즈를 사용하여 자외-가시광 스펙트럼(380 내지 800nm)을 측정하였다.
ㆍ용해성 시험
조제한 혼합 용액(마스터배치)을 20℃에서부터 40℃로 승온시키고, 혼합 교반하고, 소정 시간 경과 후에 점도 등의 성상을 확인하였다. 성상이 변화한 것에 대해서는 ×, 변화가 없었던 것에 대해서는 ○로 하였다. 또한, 소정 시간 경과 후, 일부를 취출하여 1㎛ PTFE 필터로 여과를 행한 후, 필터 위를 확인하였다. 필터 위에 화합물이 남아 있는 것에 대해서는 ×, 남아 있지 않은 것에 대해서는 ○로 하였다. 상기 2가지의 확인 방법에 있어서 양쪽 모두 ○인 것을 ○로 하고, 어느 1가지 혹은 2가지 모두 ×인 것을 ×로 하였다.
[제조예 1]
유기계 색소인, 화학식 (3)으로 표시되는 테트라-t-부틸-테트라아자포르피린ㆍ구리 착체(제품명: PD-311S, 미쓰이 가가쿠(주)제) 1.0중량부를 N,N-디시클로헥실메틸아민 100중량부에 첨가하고, 40℃에서 5시간 교반하여, 혼합 용액 (1)을 제작하였다.
이 혼합 용액 (1)과는 별도로, 표 1에 표시되는 각 양비로, PD-311S를 N,N-디시클로헥실메틸아민에 용해시켜, 전술한 용해성 시험을 행하였다. 결과는 표 1에 나타낸 바와 같다.
[제조예 2 내지 4]
N,N-디시클로헥실메틸아민을 각 화합물로 변경한 것 이외에는 제조예 1과 동일한 방법으로 각종 혼합 용액을 얻었다. 제작한 각종 혼합 용액에 대하여, 용해성 시험을 실시하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
또한, 표 1에 표시되는 기호는, 이하에 표시되는 화합물에 대응하는 것이다.
D-1: N,N-디시클로헥실메틸아민
D-2: N,N-디메틸시클로헥실아민
E-1: 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸과 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸과 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸을 주성분으로 하는 폴리티올 화합물
A-1: 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드
Figure pct00010
[실시예 1]
제조예 1에서 조제한 혼합 용액 (1) 0.064중량부, N,N-디메틸시클로헥실아민 0.013중량부를 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸과 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸과 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸을 주성분으로 하는 폴리티올 화합물 6.4중량부에 혼합 용해시켜, 조성물 (a)를 얻었다.
이어서, 2-(2-히드록시-3-t-부틸-5-메틸페닐)-클로로벤조트리아졸(BASF사제 TINUVIN326: 최대 흡수 파장 352nm) 0.28중량부, 비스(2,3-에피티오프로필)디술피드 63.6중량부를 20℃에서 1시간 교반하여 균일 용액을 얻었다. 이 균일 용액에, 조성물 (a)를 첨가하고 20℃에서 교반하여 조성물 (b)를 얻었다.
이 조성물 (b)를 600Pa에서 1시간 탈포를 행하고, 1㎛ PTFE 필터로 여과를 행한 후, 성형 몰드에 주입하였다. 이 성형 몰드를 중합 오븐에 넣고, 30℃에서부터 80℃까지 19시간에 걸쳐 승온하여 중합하였다. 중합 후, 오븐으로부터 취출하여 성형 몰드를 냉각하고, 성형 몰드로부터 이형시켜, 2mm 두께의 성형체를 얻었다. 얻어진 성형체에 120℃에서 3시간 어닐 처리를 행하였다.
이 어닐 처리를 행한 성형체에 대하여, 광투과율을 측정한 결과, 파장 440nm의 광투과율이 83.6％이고, 420nm의 광투과율이 15.7％이고, 410nm의 광투과율이 0.1％이고, 590nm의 광투과율이 26.6％였다. 실시예 1에 있어서 얻어진 스펙트럼 차트를 도 1에 도시하였다.
[비교예 1]
혼합 용액 (1)을 N,N-디시클로헥실메틸아민으로, 2-(2-히드록시-3-t-부틸-5-메틸페닐)-클로로벤조트리아졸(BASF사제 TINUVIN326: 최대 흡수 파장 352nm) 0.28중량부를 2-(2-히드록시-5-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸(BASF사제 TINUVIN PS: 최대 흡수 파장 342nm) 0.7중량부로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 성형체를 얻었다.
이 어닐 처리를 행한 성형체에 대하여, 광투과율을 측정한 결과, 파장 440nm의 광투과율이 84.0％이고, 420nm의 광투과율이 76.9％이고, 410nm의 광투과율이 52.8％이고, 590nm의 광투과율이 84.9％였다. 비교예 1에 있어서 얻어진 스펙트럼 차트를 도 1에 도시하였다.
이 출원은 2015년 9월 16일에 출원된 일본 특허 출원 특원 제2015-183427호를 기초로 하는 우선권을 주장하며, 그 개시된 전부를 여기에 원용한다.

Claims (19)

  1. 에피술피드 화합물 (A)와,
    유기계 색소 (B)와,
    자외선 흡수제 (C)와,
    중합 촉매 (D)를 함유하고,
    유기계 색소 (B)는, 당해 유기계 색소 (B)의 클로로포름 또는 톨루엔 용액으로 측정된 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서, 565nm 내지 605nm 사이에 주 흡수 피크(P)를 갖고, 피크(P)의 최대 흡광 계수를 나타내는 피크 정점(Pmax)의 흡광 계수(㎖/gㆍ㎝)가 0.5×105 이상이고, 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 1/4의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 50nm 이하이고, 또한 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 1/2의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 30nm 이하이고, 또한 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 20nm 이하의 범위인, 광학 재료용 중합성 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 에피술피드 화합물 (A)가 이하의 일반식 (1)로 표시되는 화합물인, 광학 재료용 중합성 조성물.
    Figure pct00011

    (일반식 (1) 중, n은 0 또는 1을 나타냄)
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 유기계 색소 (B)가 이하의 일반식 (2)로 표시되는 테트라아자포르피린 화합물인, 광학 재료용 중합성 조성물.
    Figure pct00012

    (일반식 (2) 중, A1 내지 A8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 아미노기, 카르복실기, 술폰산기, 탄소수 1 내지 20의 직쇄, 분지 또는 환상의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 6 내지 20의 아릴옥시기, 탄소수 1 내지 20의 모노알킬아미노기, 탄소수 2 내지 20의 디알킬아미노기, 탄소수 7 내지 20의 디알킬아미노기, 탄소수 7 내지 20의 아르알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20의 알킬티오기, 탄소수 6 내지 20의 아릴티오기를 나타내고, 연결기를 통하여 방향족환을 제외한 환을 형성해도 되고, M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 2가의 1 치환 금속 원자, 4가의 2 치환 금속 원자, 또는 옥시 금속 원자를 나타냄)
  4. 제3항에 있어서, 일반식 (2)로 표시되는 테트라아자포르피린 화합물에 있어서, M이 2가의 구리 원자인, 광학 재료용 중합성 조성물.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 테트라아자포르피린 화합물이 이하의 화학식 (3)으로 표시되는, 광학 재료용 중합성 조성물.
    Figure pct00013

    (화학식 (3) 중, Cu는 2가의 구리를, t-C4H9는 터셔리-부틸기를 나타내고, 그 4개의 치환기의 치환 위치는, 일반식 (2)에 있어서의 A1 또는 A2 중 어느 것, A3 또는 A4 중 어느 것, A5 또는 A6 중 어느 것, A7 또는 A8 중 어느 것임)
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 자외선 흡수제 (C)가, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중합 촉매 (D)가 아민 화합물인, 광학 재료용 중합성 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리티올 화합물 (E)를 더 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 경화물에 의해 구성되는, 광학 재료.
  10. 유기계 색소 (B)를 중합 촉매 (D)에 용해하여, 혼합 용액을 얻는 공정과,
    에피술피드 화합물 (A), 자외선 흡수제 (C) 및 상기 혼합 용액을 혼합하여, 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는 공정을 포함하고,
    유기계 색소 (B)는, 당해 유기계 색소 (B)의 클로로포름 또는 톨루엔 용액으로 측정된 가시광 흡수 분광 스펙트럼에 있어서, 565nm 내지 605nm 사이에 주 흡수 피크(P)를 갖고, 해당 피크(P)의 최대 흡광 계수를 나타내는 피크 정점(Pmax)의 흡광 계수(㎖/gㆍ㎝)가 0.5×105 이상이고, 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 1/4의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 50nm 이하이고, 또한 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 1/2의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 30nm 이하이고, 또한 해당 피크(P)의 피크 정점(Pmax)의 흡광도의 2/3의 흡광도에 있어서의 피크 폭이 20nm 이하의 범위인, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 에피술피드 화합물 (A)가 이하의 일반식 (1)로 표시되는 화합물인, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
    Figure pct00014

    (일반식 (1) 중, n은 0 또는 1을 나타냄)
  12. 제10항 또는 제11항에 있어서, 상기 유기계 색소 (B)가 이하의 일반식 (2)로 표시되는 테트라아자포르피린 화합물인, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
    Figure pct00015

    (일반식 (2) 중, A1 내지 A8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 히드록시기, 아미노기, 카르복실기, 술폰산기, 탄소수 1 내지 20의 직쇄, 분지 또는 환상의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기, 탄소수 6 내지 20의 아릴옥시기, 탄소수 1 내지 20의 모노알킬아미노기, 탄소수 2 내지 20의 디알킬아미노기, 탄소수 7 내지 20의 디알킬아미노기, 탄소수 7 내지 20의 아르알킬기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 20의 알킬티오기, 탄소수 6 내지 20의 아릴티오기를 나타내고, 연결기를 통하여 방향족환을 제외한 환을 형성해도 되고, M은 2개의 수소 원자, 2가의 금속 원자, 2가의 1 치환 금속 원자, 4가의 2 치환 금속 원자, 또는 옥시 금속 원자를 나타냄)
  13. 제12항에 있어서, 일반식 (2)로 표시되는 테트라아자포르피린 화합물에 있어서, M이 2가의 구리 원자인, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
  14. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 테트라아자포르피린 화합물이 이하의 화학식 (3)으로 표시되는, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
    Figure pct00016

    (화학식 (3) 중, Cu는 2가의 구리를, t-C4H9는 터셔리-부틸기를 나타내고, 그 4개의 치환기의 치환 위치는, 일반식 (2)에 있어서의 A1 또는 A2 중 어느 것, A3 또는 A4 중 어느 것, A5 또는 A6 중 어느 것, A7 또는 A8 중 어느 것임)
  15. 제10항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 자외선 흡수제 (C)가, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
  16. 제10항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중합 촉매 (D)가 아민 화합물인, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
  17. 제10항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리티올 화합물 (E)를 더 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
  18. 제10항 내지 제17항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법에 의해 얻어진 광학 재료용 중합성 조성물을 가열 경화하는 공정을 포함하는, 광학 재료의 제조 방법.
  19. 유기계 색소 (B)를 중합 촉매 (D)에 용해한 혼합 용액.
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