KR20180016948A - 재처리 시스템으로부터 내시경의 교차 오염을 방지하기 위한 특징부 - Google Patents

재처리 시스템으로부터 내시경의 교차 오염을 방지하기 위한 특징부 Download PDF

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Abstract

재처리 시스템은 오염제거 수반, 뚜껑, 세정 조립체, 외부 몸체, 및 작동 패널 조립체를 포함한다. 뚜껑은 폐쇄 구성에서 오염제거 수반의 내부 표면을 둘러싸도록 구성된다. 오염제거 수반의 뚜껑 및 내부 표면은 뚜껑이 폐쇄 구성에 있는 경우 협동하여 의료 디바이스를 내장하도록 구성된다. 세정 조립체는 오염제거 수반 내에 내장된 의료 디바이스를 세정하도록 작동가능하다. 작동 패널 조립체는 후퇴 위치와 연장 위치 사이에서 전이되도록 구성된다. 작동 패널 조립체는 후퇴 위치에서 오염제거 수반의 내부 표면 및 뚜껑에 의해 둘러싸이도록 구성된다. 작동 패널 조립체는 작동 패널 조립체가 연장 위치에 있는 동안 외부 몸체의 일부 위에서 연장되도록 구성된다.

Description

재처리 시스템으로부터 내시경의 교차 오염을 방지하기 위한 특징부{FEATURES TO PREVENT CROSS-CONTAMINATION OF ENDOSCOPE FROM REPROCESSING SYSTEM}
하기의 본 발명은 의료 절차에 사용되는 내시경 및 다른 기구의 재처리(즉, 오염제거)에 관한 것이다. 특히, 하기의 본 발명은 내시경과 같은 의료 디바이스가 제1 의료 절차에서 사용된 후에 의료 디바이스를 재처리하는 데 사용될 수 있어서 의료 디바이스가 후속 의료 절차에서 안전하게 사용될 수 있게 하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 하기의 본 발명이 주로 내시경에 관해서 설명할 것이지만, 이는 또한 소정의 다른 의료 디바이스에도 동일하게 적용될 수 있음을 이해하여야 한다.
내시경은 내시경의 길이의 적어도 일부를 따라 연장되는 하나 이상의 작동 채널 또는 루멘을 가질 수 있다. 이러한 채널은 환자 내의 해부학적 영역 내로 다른 의료 디바이스 등의 통과를 위한 경로를 제공하도록 구성될 수 있다. 이러한 채널은 소정의 원초적인 세정 및/또는 소독 기술을 이용하여 세정 및/또는 소독하기가 어려울 수 있다. 따라서, 내시경은 내시경 내의 채널을 포함하여 내시경을 세정하도록 특별히 구성된 재처리 시스템 내에 배치될 수 있다. 이러한 내시경 재처리 시스템은 내시경을 세척 및 소독할 수 있다. 이러한 내시경 재처리 시스템은 내시경을 수용하도록 구성된 수반(basin)을, 세정 유체를 수반 내의 내시경의 외측부 위로 유동시키는 펌프와 함께, 포함할 수 있다. 시스템은 또한 내시경의 작동 채널과 커플링된 포트 및 내시경의 작업 채널을 통해 세정 유체를 유동시키는 연결된 펌프를 포함할 수 있다. 이러한 전용 내시경 재처리 시스템에 의해 실행되는 공정은 세정제 세척 사이클, 이어서 헹굼 사이클, 이어서 멸균 또는 소독 사이클, 이어서 다른 헹굼 사이클을 포함할 수 있다. 멸균 또는 소독 사이클은 소독 용액 및 물 린스를 사용할 수 있다. 이 공정은 물의 배출을 돕기 위해 알코올 플러싱(flushing)을 임의로 포함할 수 있다. 헹굼 사이클 다음에는 건조 및 저장을 위한 공기 플러싱이 뒤따를 수 있다.
사용된 내시경을 재처리하는 데 사용될 수 있는 시스템 및 방법의 예는 개시 내용이 본 명세서에 참고로 포함되고 2006년 1월 17일자로 허여되고 발명의 명칭이 "Automated Endoscope Reprocessor Connection with Integrity Testing"인 미국 특허 제6,986,736호; 개시 내용이 본 명세서에 참고로 포함되고 2009년 1월 20일자로 허여되고 발명의 명칭이 "Automated Endoscope Reprocessor Solution Testing"인 미국 특허 제7,479,257호; 개시 내용이 본 명세서에 참고로 포함되고 2010년 3월 30일자로 허여되고 발명의 명칭이 "Method of Detecting Proper Connection of an Endoscope to an Endoscope Reprocessor"인 미국 특허 제7,686,761호; 및 개시 내용이 본 명세서에 참고로 포함되고 2012년 8월 21일자로 허여되고 발명의 명칭이 "Automated Endoscope Reprocessor Germicide Concentration Monitoring System and Method"인 미국 특허 제8,246,909호에 기재되어 있다. 구매가능한 내시경 재처리 시스템의 예에는 미국 캘리포니아주 어바인 소재의 Advanced Sterilization Products에 의한 EVOTECH® 내시경 세정기 및 재처리기(Endoscope Cleaner and Reprocessor, ECR)가 있다.
의료 디바이스를 재처리하기 위해 다양한 시스템 및 방법이 구성되고 사용되었지만, 발명자(들) 이전의 어느 누구도 본 명세서에서 설명된 바와 같은 기술을 구성하거나 사용하지 않은 것으로 여겨진다.
본 발명은 첨부 도면과 함께 취해진 하기의 소정 예들의 설명으로부터 더욱 잘 이해될 것으로 이해되며, 첨부 도면에서 유사 도면 부호는 동일 요소를 가리킨다.
도 1은 예시적인 재처리 시스템의 정면도를 도시한다.
도 2는 도 1의 재처리 시스템의 개략도로서, 명확성을 위해 단 하나의 오염제거 수반만이 도시되어 있다.
도 3은 도 1의 재처리 시스템을 사용하여 오염제거될 수 있는 내시경의 근위 및 원위 부분의 측단면도를 도시한다.
도 4는 도 1의 재처리 시스템에 대한 대안으로서 사용될 수 있는 다른 예시적인 재처리 시스템의 사시도를 도시한다.
도 5는 도 4의 재처리 시스템의 작동 패널 조립체의 분해 사시도를 도시한다.
도 6은 도 5의 작동 패널 조립체의 래칭(latching) 조립체의 분해 사시도를 도시한다.
도 7은 도 6의 래칭 조립체의 사시도를 도시한다.
도 8은 도 5의 작동 패널 조립체의 패널의 사시도를 도시한다.
도 9a는 제1 뚜껑이 폐쇄 구성에 있고 제2 뚜껑이 개방 구성에 있는, 도 4의 재처리 시스템의 사시도를 도시한다.
도 9b는 제1 및 제2 뚜껑이 개방 구성에 있고, 도 5의 작동 패널 조립체가 폐쇄 구성에 있는, 도 4의 재처리 시스템의 사시도를 도시한다.
도 9c는 제1 및 제2 뚜껑이 개방 구성에 있고, 제1 작동 패널 조립체가 부분 개방 구성에 있고, 제2 작동 패널 조립체가 폐쇄 구성에 있는, 도 4의 재처리 시스템의 사시도를 도시한다.
도 9d는 제1 및 제2 뚜껑이 개방 구성에 있고, 제1 작동 패널 조립체가 완전 개방 구성에 있고, 제2 작동 패널 조립체가 폐쇄 구성에 있는, 도 4의 재처리 시스템의 사시도를 도시한다.
도 10은 제1 및 제2 뚜껑이 개방 구성에 있고, 제1 작동 패널 조립체가 완전 개방 구성에 있고, 제2 작동 패널 조립체가 폐쇄 구성에 있고, 도 3의 최근에 멸균된 내시경이 내시경의 가요성 부분이 제1 작동 패널 조립체에 대해 받쳐져 있도록 제거되고 있는, 도 4의 재처리 시스템의 사시도를 도시한다.
도 11a는 도 5의 작동 패널 조립체가 폐쇄 구성에 있는, 도 7의 선 11-11을 따라 취해진 단면도를 도시한다.
도 11b는 도 5의 작동 패널 조립체가 부분 개방 구성에 있는, 도 7의 선 11-11을 따라 취해진 단면도를 도시한다.
도 11c는 도 5의 작동 패널 조립체가 개방 구성에 있는, 도 7의 선 11-11을 따라 취해진 단면도를 도시한다.
본 기술의 소정 예의 하기 설명은 본 기술의 범주를 제한하는 데 사용되어서는 안된다. 본 기술의 다른 실시예, 특징, 태양, 실시 형태, 및 이점이, 예시로서, 본 기술을 수행하기 위해 고려되는 최상의 모드들 중 하나인 하기의 설명으로부터 당업자에게 명백하게 될 것이다. 실현될 바와 같이, 본 명세서에 기술된 본 기술은, 모두 본 기술로부터 벗어남이 없이, 다른 상이한 그리고 명백한 태양들이 가능하다. 따라서, 도면 및 설명은 본질적으로 제한적이 아닌 예시적인 것으로 간주되어야 한다.
본 명세서에 기술된 교시 내용, 표현, 실시 형태, 실시예 등 중 임의의 하나 이상이 본 명세서에 기술된 다른 교시 내용, 표현, 실시 형태, 실시예 등 중 임의의 하나 이상과 조합될 수 있다는 것이 또한 이해된다. 따라서, 하기에 기술되는 교시 내용, 표현, 실시 형태, 실시예 등은 서로에 대해 별개로 고려되어서는 안된다. 본 명세서의 교시 내용이 조합될 수 있는 다양한 적합한 방식이 본 명세서의 교시 내용의 관점에서 당업자에게는 용이하게 명백할 것이다. 그러한 변경 및 변형은 청구범위의 범주 내에 포함되는 것으로 의도된다.
I. 예시적인 의료 디바이스 재처리 장치
도 1 및 도 2는 관통 형성된 채널 또는 루멘을 포함하는 내시경 및 다른 의료 디바이스를 오염제거하는 데 사용될 수 있는 예시적인 재처리 시스템(2)을 도시한다. 본 예의 시스템(2)은 대체적으로 제1 스테이션(10) 및 제2 스테이션(12)을 포함한다. 스테이션(10, 12)은 2개의 상이한 의료 디바이스의 오염제거를 동시에 또는 연속적으로 제공하기 위해 모든 점에서 적어도 실질적으로 유사하다. 제1 및 제2 오염제거 수반(14a, 14b)이 오염된 디바이스를 수용한다. 각각의 수반(14a, 14b)은 각각의 뚜껑(16a, 16b)에 의해 선택적으로 밀봉된다. 본 예에서, 뚜껑(16a, 16b)은 오염제거 작업 동안 환경 미생물이 수반(14a, 14b) 내로 들어가는 것을 방지하기 위해 미생물-차단 관계를 제공하도록 각각의 수반(14a, 14b)과 협동한다. 단지 예로서, 뚜껑(16a, 16b)은 통기를 위해 내부에 형성된 미생물 제거 또는 HEPA 공기 필터를 포함할 수 있다.
제어 시스템(20)은 오염제거 및 사용자 인터페이스 동작을 제어하기 위해, 프로그램가능 논리 제어기(PLC)와 같은 하나 이상의 마이크로제어기를 포함한다. 본 명세서에서는 하나의 제어 시스템(20)이 오염제거 스테이션(10, 12) 둘 모두를 제어하는 것으로 도시되어 있지만, 당업자는 스테이션(10, 12)의 각각이 전용 제어 시스템을 포함할 수 있음을 인식할 것이다. 시각적 디스플레이(22)가 조작자를 위해 오염제거 매개변수 및 기계 상태를 표시하고, 적어도 하나의 프린터(24)가 오염제거된 디바이스 또는 그의 보관 패키징에 부착되거나 또는 서류철될 기록을 위해 오염제거 매개변수의 하드 카피 출력물을 인쇄한다. 프린터(24)는 단지 선택적인 것으로 이해되어야 한다. 일부 버전에서, 시각적 디스플레이(22)는 터치 스크린 입력 디바이스와 조합된다. 추가적으로 또는 대안적으로, 오염제거 공정 매개변수의 입력 및 기계 제어를 위해 키패드 및/또는 다른 사용자 입력 특징부가 제공된다. 압력계 등과 같은 다른 시각적 게이지(26)가 오염제거 또는 의료 디바이스 누설 테스트 데이터의 디지털 또는 아날로그 출력을 제공한다.
도 2는 재처리 시스템(2)의 단 하나의 오염제거 스테이션(10)을 도식적으로 도시하지만, 당업자는 오염제거 스테이션(12)이 오염제거 스테이션(10)과 마찬가지로 구성되고 작동가능할 수 있음을 인식할 것이다. 또한, 재처리 시스템(2)에는 단 하나의 단일 오염제거 스테이션(10, 12) 또는 둘 초과의 오염제거 스테이션들(10, 12)이 제공될 수 있음을 이해하여야 한다.
오염제거 수반(14a)은 오염제거를 위해 그 내에 내시경(200)(도 3 참조) 또는 다른 의료 디바이스를 수용한다. 내시경(200)의 임의의 내부 채널이 플러시 라인(30)과 같은 플러시 도관과 연결된다. 각각의 플러시 라인(30)은 대응하는 펌프(32)의 출구에 연결되어, 본 예에서는 각각의 플러시 라인(30)이 전용 펌프(32)를 갖게 한다. 본 예의 펌프(32)는 플러시 라인(30) 및 내시경(200)의 임의의 내부 채널을 통해 액체 및 공기와 같은 유체를 펌핑하는 연동 펌프를 포함한다. 대안적으로, 임의의 다른 적합한 종류의 펌프(들)가 사용될 수도 있다. 본 예에서, 펌프(32)는 수반(14a)으로부터 필터형 배수구 및 밸브(S1)를 통해 액체를 인출할 수 있거나, 또는 공기 공급 시스템(36)으로부터 밸브(S2)를 통해 오염제거된 공기를 인출할 수 있다. 본 예의 공기 공급 시스템(36)은 펌프(38), 및 유입 공기 스트림으로부터 미생물을 여과하는 미생물 제거 공기 필터(40)를 포함한다.
압력 스위치 또는 센서(42)가 플러시 라인 내의 과도한 압력을 감지하기 위해 각각의 플러시 라인(30)과 유체 연통 상태에 있다. 감지된 임의의 과도한 압력 또는 유동 부족은 관련된 플러시 라인(30)이 연결된 내시경(200) 채널 내의 (예컨대, 신체 조직 또는 건조된 체액에 의한) 부분적인 또는 완전한 막힘을 나타낼 수 있다. 각각의 플러시 라인(30)의 다른 플러시 라인(30)에 대한 격리는, 어느 센서(42)가 과도한 압력 또는 유동의 부족을 감지하는지에 따라, 특정한 막힌 채널이 용이하게 식별되고 격리되는 것을 허용한다.
수반(14a)은 고온 및 저온 입구를 포함하는 유틸리티(utility) 또는 수돗물 연결부와 같은 물 공급원(50) 및 혼합 밸브(52)와 유체 연통 상태에 있고 브레이크 탱크(break tank)(56) 내로 유동한다. 0.2 μm 이하의 절대 세공 크기 필터와 같은 미생물 제거 필터(54)가, 역류를 방지하기 위해 공기 갭(gap)을 통해 브레이크 탱크(56) 내로 전달되는 유입수를 오염제거한다. 센서(59)가 수반(14a) 내의 액체 레벨을 모니터링한다. 적절한 고온의 물 공급원이 이용가능하지 않은 경우에는 선택적인 물 히터(53)가 구비될 수 있다. 필터(54)의 상태는 그를 통과하는 물의 유량을 직접 모니터링함으로써 모니터링될 수 있거나 또는 플로트 스위치(float switch) 등을 사용하여 수반 충전 시간을 모니터링함으로써 간접적으로 모니터링될 수 있다. 유량이 선택 임계치 미만으로 강하하는 경우, 이는 교체가 필요한 부분적으로 막힌 필터 요소를 나타낸다.
수반 배수구(62)는 수반(14a)으로부터, 내시경(200)의 세장형 부분이 삽입될 수 있는 확대된 나선형 튜브(64)를 통해 액체를 배수한다. 배수구(62)는 재순환 펌프(70) 및 배수 펌프(72)와 유체 연통 상태에 있다. 재순환 펌프(70)는 액체를 수반 배수구(62)로부터, 수반(14a) 내로 그리고 내시경(200) 상으로 액체를 분무하는 분무 노즐 조립체(60)로 재순환시킨다. 거친 스크린(71) 및 미세한 스크린(73)이 재순환하는 유체 내의 입자를 여과한다. 배수 펌프(72)는 액체를 수반 배수구(62)로부터 유틸리티 배수구(74)로 펌핑한다. 레벨 센서(76)가 펌프(72)로부터 유틸리티 배수구(74)로의 액체의 유동을 모니터링한다. 수반(14a)이 배수되는 동안 수반(14a) 내로 액체가 분무되도록 펌프(70, 72)가 동시에 작동될 수 있어서, 수반(14a)으로부터의 그리고 내시경(200)에서의 잔류물의 유동을 촉진시킬 수 있다. 물론, 단일 펌프 및 밸브 조립체가 이중 펌프(70, 72)를 대체할 수 있다.
재순환 펌프(70)의 상류에는 온도 센서(82)를 갖는 인라인 히터(inline heater)(80)가 세정 및/또는 소독에 최적인 온도로 액체를 가열한다. 압력 스위치 또는 센서(84)가 순환 펌프(70)의 하류에서 압력을 측정한다. 일부 변형예에서, 압력 센서(84) 대신에 유량 센서가 사용되어, 순환 펌프(70)의 하류에서 유체 유량을 측정한다. 세정제 용액(86)이 계량 펌프(88)를 지나서 순환 펌프(70)의 하류측 유동으로 계량된다. 플로트 스위치(90)가 이용가능한 세정제(86)의 레벨을 나타낸다. 소독제(92)가 계량 펌프(94)를 지나서 순환 펌프(70)의 상류측 유동으로 계량된다. 소독제(92)를 더 정확하게 계량하기 위해, 펌프(94)가 유체 레벨 스위치(98) 및 제어 시스템(20)의 제어 하에서 계량 예비 챔버(metering pre-chamber)(96)를 충전시킨다. 단지 예로서, 소독 용액(92)은 미국 캘리포니아주 어바인 소재의 Advanced Sterilization Products에 의한 CIDEX
Figure pat00001
활성화된 글루타르알데히드 용액을 포함할 수 있다. 단지 추가의 예로서, 소독 용액(92)은 오르토-프탈알데히드(OPA)를 포함할 수 있다. 단지 추가의 예로서, 소독 용액(92)은 과아세트산(PAA)을 포함할 수 있다.
일부 내시경(200)은 내시경(200)의 내부 채널 및 다른 부분을 형성하는 개별 관형 부재 등을 둘러싸는 가요성 외부 하우징 또는 외피를 포함한다. 이러한 하우징은 의료 절차 중에 환자의 조직과 체액으로부터 격리된 폐쇄된 내부 공간을 한정한다. 외피가, 외피 아래 내부 공간의 오염을 가능하게 할 수 있는 절개부 또는 다른 구멍 없이, 원래대로 유지되는 것이 중요할 수 있다. 따라서, 본 예의 재처리 시스템(2)은 이러한 외피의 완전성을 테스트하기 위한 수단을 포함한다. 특히, 공기 펌프(예컨대, 펌프(38) 또는 다른 펌프(110))가 도관(112) 및 밸브(S5)를 통해 내시경(200)의 외피에 의해 한정된 내부 공간을 가압한다. 본 예에서, HEPA 또는 다른 미생물 제거 필터(113)가 가압 공기로부터 미생물을 제거한다. 압력 조절기(114)가 외피의 우발적인 과도한 가압을 방지한다. 완전 가압 시, 밸브(S5)는 폐쇄되고 압력 센서(116)는 내시경(200)의 외피를 통한 공기의 이탈을 나타내는 도관(112) 내의 압력 강하를 구한다. 밸브(S6)는 테스트 절차가 완료된 경우 선택적인 필터(118)를 통해 내시경(200)의 외피 및 도관(112)을 선택적으로 통기시킨다. 공기 버퍼(120)가 공기 펌프(110)로부터의 압력의 맥동을 평활하게 한다.
본 예에서, 각각의 스테이션(10, 12)은 또한 점적 수반(130) 및 유출 센서(spill sensor)(132)를 포함하여 조작자에게 잠재적인 누설을 경고한다.
밸브(S3)에 의해 제어되는 알코올 공급부(134)가 헹굼 단계 후에 채널 펌프(32)에 알코올을 공급하여, 내시경(200)의 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)로부터 물을 제거하는 것을 도울 수 있다.
라인(30) 내의 유량은 채널 펌프(32) 및 압력 센서(42)를 통해 모니터링될 수 있다. 압력 센서(42) 중 하나가 너무 높은 압력을 검출하면, 연결된 펌프(32)는 정지된다. 펌프(32)의 유량 및 그의 작동 지속 시간은 연결된 라인(30) 내의 유량을 합리적으로 나타낸다. 이러한 유량은 내시경(200)의 채널들 중 임의의 것에서의 막힘에 대해 검사하도록 공정 동안 모니터링된다. 대안적으로, 펌프(32)가 사이클을 멈춘(cycle off) 시간부터의 압력 감소가 또한 유량을 추정하는 데 사용될 수 있는데, 더 빠른 감소 속도는 더 높은 유량과 연관된다.
개별 채널 내의 유량의 더 정확한 측정이 더 미묘한 막힘을 검출하는 데 바람직할 수 있다. 그를 위해, 복수의 레벨 표시 센서(138)를 갖는 계량 튜브(136)가 채널 펌프(32)의 입력부에 유체 연결된다. 일부 버전에서, 기준 연결부가 계량 튜브(136) 내의 낮은 지점에 구비되고, 복수의 센서(138)가 기준 연결부 위에 수직으로 배열된다. 전류가 기준점으로부터 유체를 통해 센서(138)로 지나가게 함으로써, 어느 센서(138)가 침지되어 있는지를 결정할 수 있고 그에 따라서 계량 튜브(136) 내의 레벨을 결정할 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 임의의 다른 적합한 구성요소 및 기술이 유체 레벨을 감지하기 위해 사용될 수 있다. 밸브(S1)를 닫고 통기 밸브(S7)를 개방함으로써, 채널 펌프(32)가 오직 계량 튜브(136)만으로부터 인출한다. 인출되는 유체의 양은 센서(138)에 기초하여 매우 정확하게 결정될 수 있다. 각각의 채널 펌프(32)를 별개로 작동시킴으로써, 그를 통한 유량은 유체가 계량 튜브(136)로부터 비워지는 부피 및 시간에 기초하여 정확하게 결정될 수 있다.
전술된 입력 및 출력 디바이스에 더하여, 도시된 모든 전기 및 전자기계 디바이스는 제어 시스템(20)에 작동식으로 연결되고 그에 의해 제어된다. 구체적으로, 그리고 제한 없이, 스위치 및 센서(42, 59, 76, 84, 90, 98, 114, 116, 132, 136)는 세정 및/또는 소독 사이클 및 그에 따른 다른 기계 작동을 제어하는 마이크로제어기(28)에 입력부(I)를 제공한다. 예를 들어, 마이크로제어기(28)는 펌프(32, 38, 70, 72, 88, 94, 100, 110), 밸브(S1, S2, S3, S5, S6, S7), 및 히터(80)에 작동식으로 연결된 출력부(O)를 포함하여 효과적인 세정 및/또는 소독 사이클 및 다른 작동을 위해 이들 디바이스를 제어한다.
도 3에 도시된 바와 같이, 내시경(200)은 헤드 부분(202)을 갖는다. 헤드 부분(202)은 그 내부에 형성된 개구(204, 206)를 포함한다. 내시경(200)의 정상적인 사용 동안, 공기/물 밸브(미도시) 및 흡입 밸브(미도시)가 개구(204, 206)에 배열된다. 가요성 샤프트(208)가 헤드 부분(202)에 부착된다. 결합된 공기/물 채널(210) 및 결합된 흡입/생검 채널(212)이 샤프트(208) 내에 수용된다. 별개인 공기 채널(213) 및 물 채널(214)이 또한 헤드 부분(202) 내에 배열되고 연결 지점(216)의 위치에서 공기/물 채널(210)로 병합된다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같은 용어 "연결 지점"은 기하학적 지점으로 제한되기보다는 오히려 교차 합류부로 지칭되고, 이들 용어는 상호교환가능하게 사용될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 더욱이, 별개인 흡입 채널(217) 및 생검 채널(218)이 헤드 부분(202) 내에 수용되어 연결 지점(220)의 위치에서 흡입/생검 채널(212)로 병합된다.
헤드 부분(202)에서, 공기 채널(213) 및 물 채널(214)은 공기/물 밸브(미도시)를 위한 개구(204) 내로 개방된다. 흡입 채널(217)은 흡입 밸브(미도시)를 위한 개구(206) 내로 개방된다. 더욱이, 가요성 공급 호스(222)가 헤드 부분(202)에 연결되고, 각각의 개구(204, 206)를 통하여 공기 채널(213), 물 채널(214), 및 흡입 채널(217)에 연결된 채널(213', 214', 217')을 수용한다. 실제로, 공급 호스(222)는 또한 광 전도체 케이싱으로 지칭될 수 있다. 상호 연결된 공기 채널(213, 213')들은 이하에서 총괄하여 공기 채널(213)이라 지칭될 것이다. 상호 연결된 물 채널(214, 214')들은 이하에서 총괄하여 물 채널(214)이라 지칭될 것이다. 상호 연결된 흡입 채널(217, 217')들은 이하에서 총괄하여 흡입 채널(217)이라 지칭될 것이다. 공기 채널(213)을 위한 연결부(226), 물 채널(214)을 위한 연결부(228, 228a), 및 흡입 채널(217)을 위한 연결부(230)가 가요성 호스(222)의 단부 섹션(224)(광 전도체 커넥터로도 또한 지칭됨)에 배열된다. 연결부(226)가 사용 중인 경우, 연결부(228a)는 폐쇄된다. 생검 채널(218)을 위한 연결부(232)가 헤드 부분(202)에 배열된다.
채널 분리기(240)가 개구(204, 206) 내로 삽입된 채로 도시되어 있다. 채널 분리기(240)는 각각의 개구(204, 206)를 폐색하는 몸체(242) 및 플러그 부재(244, 246)를 포함한다. 플러그 부재(244) 상의 동축 삽입체(248)가 개구(204)의 내향으로 연장되고, 채널(213)을 채널(214)로부터 분리하도록 개구(204)의 일부를 폐색하는 환형 플랜지(250)에서 종단된다. 라인(30)을 개구(226, 228, 228a, 230, 232)에 연결시킴으로써, 세정 및 소독을 위한 액체가 내시경 채널(213, 214, 217, 218)을 통하여 그리고 채널(210, 212)을 거쳐 내시경(200)의 원위 팁(252)의 외부로 유동될 수 있다. 채널 분리기(240)는 그러한 액체가 개구(204, 206)의 외부로 누설되지 않고서 내시경(200) 전체를 통하여 유동하는 것을 보장하고, 각각의 채널(213, 214)이 그 자신의 독립적인 유동 경로를 갖도록 채널(213, 214)을 서로로부터 격리시킨다. 당업자는 상이한 배열의 채널 및 개구들을 갖는 다양한 내시경이 각각의 채널이 다른 채널과 독립적으로 플러싱될 수 있도록, 헤드(202) 내의 포트들을 폐색하고 채널들이 서로 분리된 채로 유지하면서, 이러한 차이를 수용하기 위해 채널 분리기(240)에 대한 변형을 필요로 할 수 있다는 것을 인식할 것이다. 그렇지 않으면, 하나의 채널에서의 막힘은 유동을 연결되고 막히지 않은 채널로 단지 방향전환시킬 수 있다.
단부 섹션(224) 상의 누설 포트(254)가 내시경(200)의 내측 부분(256) 내로 이어지고, 그의 물리적 완전성에 대해 검사하기 위해, 즉, 임의의 채널과 내측부(256) 사이의 또는 외측부로부터 내측부(256)로의 누설이 형성되지 않는 것을 보장하는 데 사용된다.
II. 예시적인 의료 디바이스 재처리 방법
재처리 시스템(2)의 예시적인 사용에서, 조작자는 풋 페달(미도시)을 작동시켜 수반 뚜껑(16a)을 개방함으로써 시작할 수 있다. 각각의 뚜껑(16a, 16b)은 그 자신의 풋 페달을 가질 수 있다. 일부 버전에서, 일단 압력이 풋 페달로부터 제거되면, 뚜껑(16a, 16b)의 이동이 중지된다. 뚜껑(16a)이 개방된 상태에서, 조작자는 내시경(200)의 샤프트(208)를 나선형 순환 튜브(64) 내로에 삽입한다. 내시경(200)의 단부 섹션(224) 및 헤드 섹션(202)은 수반(14a) 내에 위치되는데, 이때 공급 호스(222)는 가능한 한 넓은 직경으로 수반(14a) 내에 코일형이 된다. 다음으로, 플러시 라인(30)들이 각각의 내시경 개구(226, 228, 228a, 230, 232)에 부착된다. 공기 라인(112)이 또한 커넥터(254)에 연결된다. 일부 버전에서, 플러시 라인(30)은 색상으로 코드화되고, 스테이션(10) 상에 위치된 가이드가 색상 코드화 연결부에 대한 참조를 제공한다.
고객이 선택가능한 구성에 따라, 제어 시스템(20)은 사용자 코드, 환자 ID, 내시경 코드 및/또는 전문가 코드를 입력하도록 조작자에게 프롬프팅할 수 있다. 이러한 정보는 (예컨대, 터치 스크린(22)을 통해) 수동으로, (예컨대, 부착된 바코드 완드(wand)를 사용하여) 자동으로, 또는 임의의 다른 적합한 방식으로 입력될 수 있다. (필요한 경우) 정보가 입력되면, 조작자는 이어서 뚜껑(16a)을 폐쇄할 수 있다. 일부 버전에서, 뚜껑(16a)의 폐쇄는 조작자가 하드웨어 버튼 및 터치 스크린(22) 버튼을 동시에 누를 것을 요구하여 조작자의 손이 수반 뚜껑(16a)의 폐쇄에 의해 걸리거나 죄이는 것을 방지하기 위한 고장 안전 메커니즘을 제공한다. 뚜껑(16a)이 폐쇄 과정에 있는 동안 하드웨어 버튼이나 소프트웨어 버튼이 해제되면, 뚜껑(16a)의 이동은 중지된다.
일단 뚜껑(16a)이 폐쇄되면, 조작자는 터치 스크린(22) 상의 버튼을 눌러 세척/소독 공정을 시작한다. 세척/소독 공정의 시작 시, 공기 펌프(38)가 작동되고 내시경(200)의 몸체 내의 압력이 모니터링된다. 압력이 미리결정된 레벨(예컨대, 250 mbar)에 도달하는 경우, 펌프(38)는 정지되고, 압력은 소정의 안정화 기간(예컨대, 6초) 동안 안정화 된다. 압력이 소정 기간(예컨대, 45초) 후에 소정 압력(예컨대, 250 mbar)에 도달하지 못하면, 프로그램은 중지되고 조작자에게 누설이 통지된다. 압력이 안정화 기간 동안 임계치 아래로 (예컨대, 100 mbar 미만으로) 강하되면, 프로그램은 중지되고 조작자에게 상태가 통지된다. 일단 압력이 안정화되었으면, 압력 강하는 소정 기간(예컨대, 60초) 동안 모니터링된다. 압력 강하가 미리결정된 속도보다 빠르면(예컨대, 60초 이내에 10 mbar 초과이면), 프로그램은 중지되고 조작자에게 상태가 통지된다. 압력 강하가 미리결정된 속도보다 느리면(예컨대, 60초 후에 10 mbar 미만이면), 재처리 시스템(2)은 다음 단계로 계속된다. 유체의 누설을 방지하기 위해 나머지 공정 동안 내시경(200)의 몸체 내에 약간의 양(positive)의 압력이 유지된다.
제2 누설 테스트가 다양한 포트(226, 228, 228a, 230, 232)에 대한 연결부의 적절함 및 채널 분리기(240)의 적절한 배치를 검사한다. 내시경(200)의 원위 단부를 나선형 튜브(64) 내에 침지시키기 위해 일정량의 물이 수반(14a)에 들어간다. 밸브(S1)가 폐쇄되고 밸브(S7)는 개방되며, 펌프(32)는 역으로 작동되어 진공을 인출하고 궁극적으로 내시경 채널(210, 212) 내로 액체를 인출한다. 압력 센서(42)는 임의의 하나의 채널(210, 212)에서의 압력이 주어진 시간 프레임에서 미리결정된 양 초과만큼 강하 및/또는 상승하지 않는 것을 확인하기 위해 모니터링된다. 그렇다면, 이는 연결부들 중 하나가 정확하게 이루어지지 않았고 공기가 채널(210, 212) 내로 누설되고 있음을 나타낼 가능성이 있다. 어떤 경우에도, 허용할 수 없는 압력 강하가 있는 경우, 제어 시스템(20)은, 바람직하게는 어떤 채널(210, 212)이 고장인지를 표시하면서, 사이클을 취소하고 결함 가능성이 있는 연결부를 표시할 것이다.
누설 테스트가 통과된 경우에, 재처리 시스템(2)은 사전 헹굼 사이클을 계속한다. 이러한 단계의 목적은 내시경(200)을 세척 및 소독하기 전에 폐기물을 제거하기 위해 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통해 물을 플러싱하는 것이다. 예비 헹굼 사이클을 개시하기 위해, 수반(14a)은 여과된 물로 충전되고 물의 레벨은 수반(14a) 아래의 압력 센서(59)에 의해 검출된다. 물은 펌프(32)를 거쳐 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)의 내측부를 통해 직접 배수구(74)로 펌핑된다. 이러한 물은 이러한 단계 동안 내시경(200)의 외부 표면 주위로 재순환되지 않는다. 물이 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통해 펌핑되고 있음에 따라, 배수 펌프(72)가 작동하여 수반(14a)이 또한 비워지는 것을 보장한다. 배수 스위치(76)가 배수 공정이 완료된 것을 검출하는 경우에 배수 펌프(72)는 꺼질 것이다. 배수 공정 동안, 멸균 공기가 공기 펌프(38)를 거쳐 모든 내시경 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통해 동시에 송풍되어 잠재적인 캐리오버(carryover)를 최소화한다.
일단 예비 헹굼 사이클이 완료되면, 재처리 시스템(2)은 세척 사이클을 계속한다. 세척 사이클을 시작하기 위해, 수반(14a)은 온수(예컨대, 대략 35℃)로 충전된다. 물의 온도는 가열된 물과 가열되지 않은 물의 혼합을 제어함으로써 제어된다. 물의 레벨은 압력 센서(59)에 의해 검출된다. 이어서, 재처리 시스템(2)은 연동 계량 펌프(88)에 의해 재처리 시스템(2) 내에서 순환하는 물에 효소 세정제를 첨가한다. 부피는 전달 시간, 펌프 속도, 및 펌프(88)의 튜브의 내경을 제어함으로써 제어된다. 세정제 용액(86)은 미리결정된 기간(예컨대, 1분 내지 5분, 또는 더 구체적으로 약 3분) 동안 채널 펌프(32) 및 외부 순환 펌프(70)에 의해 내부 내시경 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218) 전체를 통해 그리고 내시경(200)의 외부 표면 위로 능동적으로 펌핑된다. 인라인 히터(80)는 온도를 미리결정된 온도(예컨대, 대략 35℃)로 유지한다.
세정제 용액(86)이 소정 기간(예컨대, 2분) 동안 순환된 후에, 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통한 유량이 측정된다. 임의의 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통한 유량이 그 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)에 대한 미리결정된 유량보다 작은 경우, 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)은 막힌 것으로 식별되고, 프로그램은 중지되고, 조작자에게 상태가 통지된다. 연동 펌프(32)는 그의 미리결정된 유량으로 작동되고, 연결된 압력 센서(42)에서의 수용할 수 없는 고압 판독값의 존재 시에 사이클을 멈춘다. 어느 하나의 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)이 막히면, 미리 결정된 유량은 압력 센서(42)를 트리거할 것이고, 이는 이러한 유량을 적절하게 통과시킬 수 없음을 나타낸다. 본 예에서 펌프(32)는 연동식이므로, 압력으로 인해 그의 사이클이 멈춰진 시간의 백분율과 결합된 그의 작동 유량이 실제 유량을 제공할 것이다. 유량은 또한 펌프(32)가 사이클을 멈추는 시간으로부터의 압력의 감소에 기초하여 추정될 수 있다.
세척 사이클의 말미에서, 배수 펌프(72)가 작동되어 수반(14a) 및 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)로부터 세정제 용액(86)을 제거한다. 배수 펌프(72)는 배수구 레벨 센서(76)가 배수가 완료되었음을 나타낼 때 꺼진다. 배수 공정 동안, 잠재적인 캐리오버를 최소화하기 위해 내시경(200)의 모든 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통해 동시에 멸균 공기가 송풍된다.
세척 사이클이 완료된 후에, 재처리 시스템(2)은 헹굼 사이클을 시작한다. 이러한 헹굼 사이클을 개시하기 위하여, 수반(14a)은 온수(예컨대, 대략 약 35℃)로 다시 충전된다. 물의 온도는 가열된 물과 가열되지 않은 물의 혼합을 제어함으로써 제어된다. 물의 레벨은 압력 센서(59)에 의해 검출된다. 헹굼수(rinse water)는 소정 기간(예컨대, 1분) 동안 채널 펌프(32)를 통해 내시경(200)의 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218) 내에서 그리고 순환 펌프(70) 및 스프링클러 아암(60)을 통해 내시경(200)의 외측부 위로 순환된다. 헹굼수가 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통해 펌핑됨에 따라, 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통하는 유량이 측정되고, 이것이 임의의 주어진 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)에 대해 미리결정된 유량 미만으로 되면, 그 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)은 막힌 것으로 식별되고, 프로그램은 중지되고, 조작자에게 상태가 통지된다.
헹굼 사이클의 말미에서, 배수 펌프(72)가 작동되어 수반(14a) 및 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)로부터 헹굼수를 제거한다. 배수 펌프(72)는 배수구 레벨 센서(76)가 배수가 완료되었음을 나타낼 때 꺼진다. 배수 공정 동안, 잠재적인 캐리오버를 최소화하기 위해 내시경(200)의 모든 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통해 동시에 멸균 공기가 송풍된다. 일부 버전에서, 전술된 헹굼 및 배수 사이클은 적어도 한번 더 반복되어, 내시경(200) 및 수반(14a)의 표면으로부터 세정제 용액(86)의 최대 헹굼을 보장한다.
재처리 시스템(2)이 원하는 횟수의 헹굼 및 건조 사이클을 완료한 후에, 재처리 시스템(2)은 소독 사이클로 진행된다. 소독 사이클을 개시하기 위해, 수반(14a)은 매우 따뜻한 (예컨대, 대략 53℃의) 온수로 충전된다. 물의 온도는 가열된 물과 가열되지 않은 물의 혼합을 제어함으로써 제어된다. 물의 레벨은 압력 센서(59)에 의해 검출된다. 충전 공정 동안, 채널 펌프(32)는 수반(14a) 내의 소독 용액(92)이 내시경(200)의 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통하여 순환하기 전에 사용 농도에 있는 것을 보장하기 위해 꺼져 있다.
다음으로, 측정된 부피의 소독 용액(92)이 소독제 계량 예비 챔버(96)로부터 인출되고 계량 펌프(100)를 통하여 수반(14a) 내의 물로 전달된다. 소독 용액(92)의 부피는 계량 예비 챔버(96)의 바닥에 대한 충전 레벨 스위치(98)의 위치설정에 의해 제어된다. 계량 예비 챔버(96)는 충전 레벨 스위치(98)가 액체를 검출할 때까지 충전된다. 소독 용액(92)은 계량 예비 챔버(96) 내의 소독 용액(92)의 레벨이 계량 예비 챔버(96)의 팁 바로 아래에 있을 때까지 계량 예비 챔버(96)로부터 인출된다. 필요한 부피가 분배된 후에, 계량 예비 챔버(96)는 소독 용액(92)의 병으로부터 재충전된다. 수반(14a)이 충전될 때까지 소독 용액(92)은 추가되지 않아서, 물 공급 문제가 있는 경우에, 농축 소독제가 그를 헹구기 위한 물 없이는 내시경(200) 상에 남아있지 않게 한다. 소독 용액(92)이 추가되고 있는 동안, 채널 펌프(32)는 수반(14a) 내의 소독 용액(92)이 내시경(200)의 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통하여 순환하기 전에 원하는 사용 농도에 있는 것을 보장하기 위해 꺼져 있다.
사용 소독제 용액(92)은 펌프(32)에 의해 내부 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218) 전체를 통해 그리고 순환 펌프(70)에 의해 내시경(200)의 외부 표면 위로 능동적으로 펌핑된다. 이는 임의의 적합한 지속기간(예컨대, 적어도 5분) 동안 수행될 수 있다. 소독 용액(92)의 온도는 인라인 히터(80)에 의해 제어되어 일관된 온도(예컨대, 약 52.5℃)로 유지될 수 있다. 소독 공정 동안, 내시경(200)의 각각의 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통한 유량은 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통하여 측정된 양의 용액을 전달하는 타이밍에 의해 확인된다. 밸브(S1)는 폐쇄되고, 밸브(S7)는 개방되고, 이어서, 각각의 채널 펌프(32)는 그의 연결된 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)로 미리결정된 부피를 계량 튜브(136)로부터 전달한다. 이러한 부피 및 그 부피를 전달하는 데 걸리는 시간은 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통한 매우 정확한 유량을 제공한다. 그러한 직경 및 길이의 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)에 대해 예상되는 것으로부터의 유량 이상이 제어 시스템(20)에 의해 표시되고, 공정은 중지된다. 사용 소독 용액(92)이 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통해 펌핑됨에 따라, 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통한 유량도 또한 전술된 바와 같이 측정된다.
소독 사이클의 말미에서, 배수 펌프(72)가 작동되어 수반(14a) 및 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)로부터 소독 용액(92)을 제거한다. 배수 공정 동안, 잠재적인 캐리오버를 최소화하기 위해 내시경(200)의 모든 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통해 동시에 멸균 공기가 송풍된다. 아래에서 더 상세히 설명되는 바와 같이, 일부 버전에서, 사용된 소독 용액(92)은 농도 레벨이 허용가능한 범위 내에 있는지 여부 또는 사용된 소독 용액(92)이 사용된 소독 용액(92)이 소정 농도 임계치 미만인 점으로 희석되었는지 여부를 결정하도록 테스트된다. 사용된 소독 용액(92)이 허용가능한 농도 레벨을 갖는 경우, 사용된 소독 용액(92)은 후속 소독 사이클에서 다시 사용될 수 있다. 사용된 소독 용액(92)이 임계치 미만의 농도를 갖는 경우, 사용된 소독 용액(92)은 (예컨대, 배수구(74)를 통하여) 처분될 수 있다.
소독 용액(92)이 수반(14a)으로부터 배수된 후에, 재처리 시스템(2)은 최종 헹굼 사이클을 시작한다. 이러한 사이클을 개시하기 위해, 수반(14a)은 필터(예컨대, 0.2μm의 필터)를 통과한 멸균 온수(예컨대, 대략 45℃)로 충전된다. 헹굼수는 적절한 지속기간(예컨대, 1분) 동안 펌프(32)에 의해 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218) 내에서 그리고 순환 펌프(70) 및 스프링클러 아암(60)을 통해 내시경(200)의 외측부 위로 순환된다. 헹굼수가 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통해 펌핑됨에 따라, 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통한 유량은 전술된 바와 같이 측정된다. 배수 펌프(72)가 작동되어 수반(14a) 및 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)로부터 헹굼수를 제거한다. 배수 공정 동안, 잠재적인 캐리오버를 최소화하기 위해 내시경(200)의 모든 채널(210, 212, 213, 214, 217, 218)을 통해 동시에 멸균 공기가 송풍된다. 일부 버전에서, 전술된 헹굼 및 배수 사이클은 적어도 두 번 더 반복되어, 내시경(200) 및 수반(14a)의 표면으로부터 소독 용액(92) 잔류물의 최대 헹굼을 보장한다.
최종 헹굼 사이클이 완료된 후에, 재처리 시스템(2)은 최종 누설 테스트를 시작한다. 특히, 재처리 시스템(2)은 전술된 바와 같이 내시경(200)의 몸체를 가압하고 누설 유량을 측정한다. 최종 누설 테스트가 성공적이면, 재처리 시스템(2)은 터치 스크린(22)을 통해 사이클의 성공적인 완료를 나타낸다. 프로그램 종료 시점부터 뚜껑(16a)이 개방된 시점까지, 내시경(200)의 몸체 내의 압력은 미리결정된 속도로 통기 밸브(S5)를 개방하여 (예컨대, 밸브(S5)가 매 분마다 10초 동안 개방) 대기압으로 정상화된다.
고객 선택형 구성에 따라, 재처리 시스템(2)은 유효한 사용자 식별 코드가 입력될 때까지 뚜껑(16a)이 개방되어 있는 것을 방지할 수 있다. 사용자 ID, 내시경 ID, 전문가 ID, 및 환자 ID를 포함하여 완료된 프로그램에 대한 정보는 프로그램 전체를 통하여 얻어진 상기 센서 데이터와 함께 저장된다. 프린터가 재처리 시스템(2)에 연결되어 있는 경우, 그리고 조작자가 요청하는 경우, 소독 프로그램의 기록이 인쇄될 것이다. 일단 유효한 사용자 식별 코드가 입력되었으면, 뚜껑(16a)은 (예컨대, 전술된 바와 같은 풋 페달을 사용하여) 개방될 수 있다. 이어서, 내시경(200)이 플러시 라인(30)으로부터 연결해제되고 수반(14a)으로부터 제거된다. 이어서, 뚜껑(16a)은 전술된 바와 같이 하드웨어 버튼 및 소프트웨어 둘 모두를 사용하여 폐쇄될 수 있다.
III. 작동 패널 조립체를 갖는 예시적인 재처리 시스템
일부 예에서, 조작자가 오염된 내시경(200)을 재처리 시스템(2) 내로 로딩(loading)하고 있는 경우, 오염제거 수반(14a, 14b) 외부의 재처리 시스템(2)의 일부는 오염된 내시경(200)과 원하지 않는 접촉을 할 수 있고, 그에 의해 재처리 시스템(2)의 외부 부분을 오염시킬 수 있다. 예를 들어, 가요성 샤프트(208)는 조작자가 시각적 디스플레이(22)와 같은 재처리 시스템(2)의 전방 부분과 오염된 내시경(200) 사이의 원하지 않는 접촉을 방지하는 것을 어렵게 만드는 일정 길이를 가질 수 있다. 따라서, 일단 가요성 샤프트(208)의 오염된 부분이 재처리 시스템(2)의 전방 부분과 접촉하게 되면, 재처리 시스템(2)의 접촉된 영역은 오염될 것이다.
내시경(200)이 재처리 시스템(2)에서 재처리된 후에, 내시경(200)은 전술된 바와 같이 재처리 시스템(2)으로부터 제거될 수 있다. 그러나, 오염제거 수반(14a, 14b) 외부의 재처리 시스템(2)의 오염된 부분이 오염된 내시경(200)과 이전에 접촉되었고 이후에 살균되지 않았다면, 재처리된 내시경(200)과 재처리 시스템(2)의 오염된 외부 부분 사이의 우발적인 접촉이 내시경(200)을 교차 오염시킬 수 있다. 그러므로, 처리된 내시경(200)을 재처리 시스템(2)으로부터 제거할 때 내시경(200)과 재처리 시스템(2) 사이의 교차 오염을 방지하기 위해 설계된 특징부를 제공하는 것이 바람직할 수 있다.
도 4는 전술된 재처리 시스템(2)에 대한 대안으로서 사용될 수 있는 대안적인 재처리 시스템(302)을 도시한다. 재처리 시스템(302)이 전술된 재처리 시스템(20)과 실질적으로 유사하다는 것을 이해하여야 하고, 차이점이 아래에서 상세히 설명된다. 그러므로, 재처리 시스템(302)을 이용하는 방법이 전술된 방법과 실질적으로 유사할 수 있고, 차이점이 아래에서 상세히 설명된다. 더욱이, 재처리 시스템(302)은, 아래에서 달리 나타낸 경우를 제외하고는, 재처리 시스템(2)과 동일한 구성요소 및 기능을 가질 수 있다. 아래에서 더 상세히 설명되는 바와 같이, 재처리 시스템(302)은 오염제거 수반(314a, 314b)의 내부로부터 이동하여 오염제거 수반(314a, 314b)으로부터 부분적으로 외향 연장되도록 설계된 작동 패널 조립체(330)를 포함한다. 작동 패널 조립체(330)는 재처리된 내시경(200)과 재처리 시스템(302)의 외부 표면 사이의 교차 오염을 방지하는 것을 도울 수 있다.
재처리 시스템(302)은 제1 스테이션(310), 제2 스테이션(312), 및 제어 시스템(320)을 포함하고, 이들은 각각 전술된 제1 스테이션(10), 제2 스테이션(12), 및 제어 시스템(20)과 실질적으로 유사하며, 차이점이 아래에서 상세히 설명된다. 제어 시스템(320)은 전술된 시각적 디스플레이(22)와 실질적으로 유사할 수 있는 시각적 디스플레이(322)를 포함한다. 제어 시스템(320)은 또한 시각적 디스플레이(322)가 장착되는 전방 대시보드(dashboard)(324)를 포함한다. 본 예에서는 제어 시스템(320)이 제1 스테이션(310) 및 제2 스테이션(312)에 물리적으로 부착되어 있지만, 제어 시스템(320)은 임의의 다른 적합한 위치에 위치될 수 있고, 이는 본 명세서의 교시 내용의 관점에서 당업자에게 명백할 것이다. 예를 들어, 제어 시스템(320)은 제1 스테이션(310) 및 제2 스테이션(312)으로부터 떨어진 임의의 적합한 거리에서 케이블 하니스(cable harness)에 부착될 수 있거나, 재처리 시스템(302)의 나머지와 무선 통신 상태로 원격 위치에 위치될 수 있다. 전방 대시보드(324)는 제1 스테이션(310) 및 제2 스테이션(312)에 바로 인접해 있다. 조작자는 내시경(200)을 로딩 및 언로딩할 때 내시경(200)을 전방 대시보드(324) 위에 배치할 수 있다. 그러므로, 대시보드(324), 및 대시보드(324)에 인접한 재처리 시스템(302)의 다른 외부 부분은 오염의 위험이 있을 수 있다. 특히, 대시보드(324) 및 인접한 표면은 조작자가 오염된 내시경(200)을 스테이션(310, 312)들 중 선택된 하나의 스테이션 내로 로딩할 때 가요성 샤프트(208)와 부주의로 접촉하게 될 수 있다.
제1 스테이션(310)은 전술된 오염제거 수반(14a) 및 뚜껑(16a)과 실질적으로 유사한 오염제거 수반(314a) 및 뚜껑(316a)을 포함하고, 차이점이 아래에서 상세히 설명된다. 유사하게, 제2 스테이션(312)은 전술된 오염제거 수반(14b) 및 뚜껑(16b)과 실질적으로 유사한 오염제거 수반(314b) 및 뚜껑(316a)을 포함하고, 차이점이 아래에서 상세히 설명된다. 스테이션(310, 312) 둘 모두는 또한 작동 패널 조립체(330)를 포함한다.
도 4에서, 제2 스테이션(312)은 후퇴 위치에 있는 작동 패널 조립체(330)를 갖는다. 작동 패널 조립체(330)가 후퇴 위치에 있는 동안, 뚜껑(316b)은 폐쇄될 수 있고, 그에 의해 작동 패널 조립체(330)가 뚜껑(316b) 및 오염제거 수반(314b) 내에 둘러싸일 수 있다. 내시경(200)이 또한 작동 패널 조립체(330) 아래의 오염제거 수반(314b) 내에 들어갈 수 있도록 작동 패널 조립체(330)가 오염제거 수반(314b) 내에 위치되는 것은 이해하여야 한다. 이어서, 조작자는 내시경(200)을 오염제거하기 위해, 전술된 것과 유사한 재처리 사이클을 수행할 수 있다. 재처리 사이클이 작동 패널 조립체(330)를 또한 오염제거할 것이라는 점은 이해하여야 한다.
또한 도 4에서, 제1 스테이션(310)은 연장 위치에 있는 작동 패널 조립체(330)를 갖는다. 작동 패널 조립체(330)가 연장 위치에 있는 동안, 뚜껑(316a)은 완전히 폐쇄되지 않을 수 있다. 그러나, 내시경(200)은 작동 패널 조립체(330)가 연장 위치에 있는 동안 오염제거 수반(314a)으로 로딩될 수 있고 그로부터 언로딩될 수 있다. 아래에서 설명되는 바와 같이, 연장 위치에 있는 작동 패널 조립체(330)는 내시경(200)과 재처리 시스템(302)의 외부 사이의 교차 오염을 방지하는 것을 도울 수 있다. 더욱이, 아래에서 더 상세히 설명되는 바와 같이, 작동 패널 조립체(330)는 작동 패널 조립체(330)가 후퇴 및 연장 위치 둘 모두에서 자가-지지되도록 후퇴 위치로부터 연장 위치로 선택적으로 래칭되도록 구성될 수 있다.
도 5는 오염제거 수반(314a) 위의 작동 패널 조립체(330)의 분해도를 도시한다. 작동 패널 조립체(330)가 제1 스테이션(310)의 오염제거 수반(314a) 내에 있는 것으로 설명되고 있지만, 제2 스테이션(312)의 오염제거 수반(314b) 내의 작동 패널 조립체(330)도 실질적으로 유사할 수 있다는 것을 이해하여야 한다. 작동 패널 조립체(330)는 레일(332), 패널(334), 및 레일(332)의 서로 반대편인 단부들과 결합된 한 쌍의 래칭 조립체(340)를 포함한다. 레일(332)의 단부는 오염제거 수반(314a)의 내부 벽에 고정된다. 그러므로, 작동 패널 조립체(330)가 후퇴 위치로부터 연장 위치로 또는 그 반대로 이동하는 경우, 레일(332)이 수반(314)에 대해 작동하기 위한 것은 아니다. 본 예에서는 하나의 레일(332)이 오염제거 수반(314a)의 서로 반대편인 단부들에 단일로 연결되어 있지만, 임의의 다른 적합한 개수의 레일(332)들이 사용될 수 있고, 이는 당업자에게 명백할 것이다. 예를 들어, 2개의 개별 레일(332)이 오염제거 수반(314a)의 서로 반대편인 단부들 상에 고정될 수 있다. 대안적으로, 3개의 개별 레일(332)이 이용될 수 있는데, 여기서 2개의 레일(332)이 오염제거 수반(314a)의 서로 반대편인 단부들 상에 고정되는 한편, 세 번째 레일(332)은 고정된 레일(332) 둘 모두 상에서 자유롭게 활주하고/하거나 회전하도록 구성된 중공 튜브이다. 세 번째 레일(332)에는, 조작자가 오염된 내시경(200)을 스테이션(310, 312)들 중 선택된 하나의 스테이션 내로 로딩할 때 세 번째 레일(332)의 표면이 가요성 샤프트(208)와 접촉하게 되는 경우, 유체 연통을 향상시키고 활주 및/또는 회전을 향상시키도록 구멍이 천공될 수 있다.
패널(334)은 래칭 조립체(340)를 통하여 레일(332)에 선회식으로 연결된다. 패널(334)은 주연부 프레임(336)을 포함하고, 주연부 프레임(336) 내에는 복수의 측방향 막대(lateral bar)(338)가 연장되어 있다. 측방향 막대(338)들은 주연부 프레임(336)과 협동하여 격자(grate) 구성을 제공한다. 측방향 막대(338)들은 작동 패널 조립체(330)가 후퇴 위치에 있고 뚜껑(116a, 116b)이 폐쇄된 경우에 패널(334)의 상부측으로부터 패널(334)의 하부측으로의 유체 연통을 허용하기 위해 서로로부터 이격된다. 패널(334)의 상부측과 하부측 사이의 유체 연통을 향상시킴으로써 패널(334)이 재처리 방법 동안 완전히 살균되는 것을 보장하도록 도울 수 있다. 더욱이, 측방향 막대(338)들은, 도 10에서 알 수 있는 바와 같이, 내시경(200)이 재처리 시스템(302)의 어떠한 외부 부분과도 접촉하지 않도록 내시경(200)이 제거되는 동안 그에 대한 지지를 제공하기 위해 치수설정되고 이격된다. 본 예에서는 측방향 막대(338)가 주연부 프레임(336)을 가로질러 측방향으로 연장되고 있으나, 임의의 다른 적합한 배향이 사용될 수 있고, 이는 본 명세서의 교시 내용의 관점에서 당업자에게는 명백할 것이다. 더욱이, 본 예에서는 전술된 바와 같이 유체 연통 및 구조적 지지를 제공하기 위해 막대(338)들이 사용되고 있지만, 임의의 다른 적합한 지오메트리(geometry)가 사용될 수 있고, 이는 본 명세서의 교시 내용의 관점에서 당업자에게는 명백할 것이다.
도 6에서 가장 잘 알 수 있는 바와 같이, 래칭 조립체(340)는 스프링(342), 슬리브(344), 캐밍 부재(camming member)(350), 및 견부 볼트(shoulder bolt)(360)를 포함한다. 슬리브(344)는 종방향 채널(346) 및 측방향 나사 채널(348)을 한정한다. 종방향 채널(346) 및 측방향 나사 채널(348)은 서로 연결된다. 종방향 채널(346)이 레일(332)의 일부를 수용하도록 치수설정되는 한편, 측방향 나사 채널(348)은 견부 스크류(360)의 나사 영역(366)과 커플링되도록 치수설정된다. 견부 스크류(360)의 나사 영역(366)은 측방향 나사 채널(348)을 통하여 그리고 종방향 채널(346) 내로 연장되도록 치수설정되어, 레일(332)에 대해 유효하게 인접하게 된다. 그러므로, 견부 스크류(360)는 레일(332)에 대해 슬리브(344)를 고정시킬 수 있다.
캐밍 부재(350)는 패널(334)의 주연부 프레임(336)의 단부에 고정된다. 아래에서 더 상세히 설명되는 바와 같이, 캐밍 부재(350)는 슬리브(344) 및 견부 스크류(360)에 대해 선회하도록 구성되고, 그에 의해 패널(334)을 레일(332)에 선회식으로 커플링한다. 캐밍 부재(350)는 환형 벽(352) 및 아치형 표면(354)을 포함한다. 캐밍 부재(350)는, 환형 벽(352)에 인접하게 견부 스크류(360)의 섕크(362)를 수용하기에 충분히 큰 개구(356)를 한정한다. 더욱이, 개구(356)는 환형 벽(352)의 맞은편의 단부 상에 견부 스크류(360)의 헤드(362)를 수용하기에 충분히 크다. 캐밍 부재(350)는 180도 떨어진 2개의 각 위치에서 슬리브(344)의 윤곽에 순응하도록 치수설정된 아치형 표면(354)을 포함한다. 아치형 표면(354)이 슬리브(344)의 윤곽에 순응하는 경우, 패널(334)은 작동 패널 조립체(330)가 후퇴 위치 또는 연장 위치에 있도록 위치될 수 있다.
스프링(342)은 견부 스크류(360)의 섕크(364)를 수용한다. 스프링(342)의 단부들은 견부 스크류(360)의 헤드(360) 및 캐밍 부재(350)의 환형 벽(352)에 대항하여 인접한다. 스프링(342)은 헤드(360)와 환형 벽(352) 사이에서 압축되도록 치수설정된다. 견부 스크류(360)가 슬리브(344)에 대해 고정되기 때문에, 헤드(360)와 환형 벽(352) 사이의 스프링(342)의 접촉은 슬리브(344)를 향하여 환형 벽(352)에 대항하는 편의력(biasing force)을 제공한다. 스프링(342)은, 아치형 표면(354)이 슬리브(344)의 윤곽에 순응하는 경우, 패널(334)이 래칭 조립체(340)를 중심으로 회전하는 것을 실질적으로 방지하기에 충분한 힘으로 캐밍 부재(350)를 슬리브(344)에 대항하여 편의시키기에 충분한 탄성을 갖는다. 그러므로, 래칭 조립체(340)는 작동 패널 조립체(330)가 후퇴 위치 및 연장 위치 둘 모두에서 자가-지지되게 할 수 있다.
그러나, 아래에서 더 상세히 설명되는 바와 같이, 레일(332)에 대한 패널(334)의 강제 회전은 아치형 표면(354)이 슬리브(344)에 대항하여 캐밍하도록 강제할 수 있고, 그에 따라서, 캐밍 부재(350)를 견부 스크류(360)의 헤드(362)를 향하여 그리고 슬리브(344)로부터 멀어지게 이동시키기에 충분한 힘 하에서 스프링(342)을 압축시킬 수 있다. 이와 같이 캐밍 부재(350)를 슬리브(344)로부터 멀어지게 이동시킴으로써 아치형 표면(354)이 슬리브(344)의 윤곽에 더 이상 순응하지 않게 하고, 그에 의해 작동 패널 조립체(330)를 래칭해제한다.
도 9a 내지 도 11c는 오염제거된 내시경(200)을 재처리 시스템(302)으로부터 제거하는 예시적인 공정을 도시한다. 먼저, 도 9a 및 도 9b에 도시된 바와 같이, 뚜껑(316a)이 폐쇄 위치로부터 개방 위치로 들어올려진다. 이어서, 도 9b와 도 9c 및 도 11a와 도 11b 사이에 도시된 바와 같이, 조작자는 후퇴 위치로부터 도 9d 및 도 11c에 도시된 연장 위치를 향하여 작동 패널 조립체(330)의 패널(334)을 회전시킬 수 있다. 도 11a와 도 11b 사이에 도시된 바와 같이, 패널(334)의 회전은 캐밍 부재(350)의 아치형 표면(354)이 슬리브(344)에 대항하여 캐밍하게 한다. 이러한 캐밍 동작은 캐밍 부재(350)를 견부 볼트(360)의 헤드(362)를 향하여 밀고, 이는 스프링(342)을 압축시킨다. 작동 패널 조립체(330)가 도 9c 및 도 10b에 도시된 위치에서 제자리로 래칭되지 않는 것은 이해하여야 한다. 그러므로, 조작자는 래칭된 위치와 비교할 때 패널(334)을 레일(332)에 대해 더 용이하게 선회시킬 수 있다. 도 9c와 도 9d 및 도 11b와 도 11c 사이에 도시된 바와 같이, 패널(334)은 연장 위치를 향하여 추가로 회전된다.
도 9b 내지 도 9d 및 도 11a 내지 도 11c 사이의 전이 동안, 캐밍 부재(350)는 180도 회전된다. 그러므로, 아치형 표면(354)은 이제 도 9d 및 도 11c에 도시된 위치에서 슬리브(344)의 윤곽에 순응한다. 스프링(342)은 슬리브(344)에 대항하여 아치형 표면(354)을 편의시키고, 작동 패널 조립체(330)는 이제 도 9d 및 도 11c의 연장 위치에서 래칭된다. 도 10에 도시된 바와 같이, 이어서, 조작자는 오염제거된 내시경(200)을 오염제거 수반(314a)으로부터 제거할 수 있다. 내시경(200)이 제거되고 있음에 따라, 가요성 샤프트(208)는 재처리 시스템(302)의 외부 부분과 내시경(200) 사이에 교차 오염이 없도록 패널(334)에 대해 받쳐져 있을 수 있고 패널(334)을 따라 활주할 수 있다. 달리 말하면, 패널(334)은 가요성 샤프트(208)가 재처리 시스템(302)의 외부 부분과 접촉하게 되는 것을 방지하는 보호를 제공한다. 패널(334)이 내시경(200)의 제거 동안 내시경(200)의 어떠한 하중도 견디는 경우, 래칭 조립체(340)가 레일(332)에 대한 패널(334)의 회전을 방지할 수 있다는 것은 이해되어야 한다.
본 예에서는 작동 패널 조립체(330)가 후퇴 위치로부터 연장 위치로 회전되는 한편, 패널 조립체(330)는 당업자에게 명백한 임의의 다른 적합한 방식으로 래칭 특징부에 의해 작동할 수 있다. 예를 들어, 래칭 조립체(340)가 패널(334)을 후퇴 위치로부터 연장 위치로 래칭하기 위해 탄성 탭(tab) 및 노치(notch)를 포함할 수 있으면서, 패널(334)은 오염제거 수반(14a, 14b)의 길이를 따라서 연장된 레일(332)을 따라서 병진하도록 구성될 수 있다. 또한, 뚜껑(316a)이 폐쇄 구성으로부터 개방 구성으로 전이되는 경우 패널(334)이 폐쇄 구성으로부터 개방 구성으로 자동적으로 전이되도록 패널(334)이 뚜껑(316a)과 커플링될 수 있다는 것은 이해되어야 한다. 유사하게, 뚜껑(316a)이 개방 구성으로부터 폐쇄 구성으로 전이되는 경우 패널(334)이 개방 구성으로부터 폐쇄 구성으로 자동적으로 전이되도록 패널(334)이 뚜껑(316a)과 커플링될 수 있다. 패널(334)과 뚜껑(316a) 사이의 그러한 관계를 제공하는 데 사용될 수 있는 다양한 적합한 구성요소 및 배열체가 본 명세서의 교시 내용의 관점에서 당업자에게는 명백할 것이다.
IV. 예시적인 조합
하기의 예는 본 명세서의 교시 내용들이 조합되거나 적용될 수 있는 다양한 비-포괄적인 방식에 관련된다. 하기 예는 본 출원에서 또는 본 출원의 후속 출원에서 언제라도 제시될 수 있는 임의의 청구범위의 범위(coverage)를 제한하도록 의도되지 않는 것이 이해되어야 한다. 권리 포기(disclaimer)가 의도되지 않는다. 하기의 실시예는 단지 예시적인 것에 불과한 목적으로 제공되고 있다. 본 명세서의 다양한 교시 내용이 다수의 다른 방식으로 배열되고 적용될 수 있다는 것이 고려된다. 몇몇 변형은 하기의 실시예에 언급되는 소정의 특징을 생략할 수 있다는 것이 또한 고려된다. 따라서, 하기에 언급되는 태양들 또는 특징들 중 어느 것도, 본 발명자에 의해 또는 본 발명자와 이해관계에 있는 계승자에 의해 나중에 불가결한 것으로 달리 명시적으로 지시되지 않는 한, 불가결한 것으로 간주되어서는 안된다. 하기에 언급되는 것을 넘어서는 추가의 특징을 포함하는 임의의 청구항이 본 출원에서 또는 본 출원에 관련된 후속 출원에서 제시되는 경우, 그 추가의 특징은 특허성에 관한 임의의 이유로 추가되었다고 간주되지 않아야 한다.
실시예 1
재처리 시스템으로서, (a) 내부 표면을 포함하는 오염제거 수반; (b) 개방 구성과 폐쇄 구성 사이에서 전이되도록 구성된 뚜껑으로서, 상기 뚜껑은 상기 폐쇄 구성에서 상기 오염제거 수반의 내부 표면을 둘러싸도록 구성되고, 상기 뚜껑이 상기 폐쇄 구성에 있는 경우에 상기 뚜껑 및 상기 오염제거 수반의 내부 표면은 협동하여 의료 디바이스를 내장하도록 구성된, 상기 뚜껑; (c) 상기 오염제거 수반 내에 내장된 의료 디바이스를 세정하도록 작동가능한 세정 조립체; (d) 외부 몸체; 및 (e) 작동 패널 조립체로서, 상기 작동 패널 조립체는 후퇴 위치와 연장 위치 사이에서 전이되도록 구성되고, 상기 작동 패널 조립체는 상기 후퇴 위치에서 상기 뚜껑 및 상기 오염제거 수반의 내부 표면에 의해 둘러싸이도록 구성되고, 상기 작동 패널 조립체는 상기 작동 패널 조립체가 상기 연장 위치에 있는 동안 상기 외부 몸체의 일부 위에 연장되도록 구성되는, 상기 작동 패널 조립체를 포함하는, 재처리 시스템.
실시예 2
실시예 1에 있어서, 상기 작동 패널 조립체는 상기 오염제거 수반의 내부 표면에 고정된 레일을 포함하는, 재처리 시스템.
실시예 3
실시예 2에 있어서, 상기 작동 패널 조립체는 상기 후퇴 위치로부터 상기 연장 위치로 상기 레일에 대해 작동하도록 구성된 패널을 추가로 포함하는, 재처리 시스템.
실시예 4
실시예 3에 있어서, 상기 작동 패널 조립체는 상기 작동 패널 조립체가 상기 후퇴 위치 또는 상기 연장 위치에 있는 경우 상기 패널을 상기 레일에 대해 지지하도록 구성된 래칭(latching) 조립체를 추가로 포함하는, 재처리 시스템.
실시예 5
실시예 4에 있어서, 상기 래칭 조립체는 상기 레일의 일부를 내장하는 슬리브를 추가로 포함하고, 상기 슬리브는 상기 레일에 고정된, 재처리 시스템.
실시예 6
실시예 5에 있어서, 상기 래칭 조립체는 상기 패널에 커플링된 회전 부재를 추가로 포함하는, 재처리 시스템.
실시예 7
실시예 6에 있어서, 상기 래칭 조립체는 편의 부재를 추가로 포함하고, 상기 편의 부재는 상기 패널을 상기 레일에 대해 지지하도록 상기 슬리브를 향하여 상기 회전 부재를 편의시키도록 구성된, 재처리 시스템.
실시예 8
실시예 7에 있어서, 상기 회전 부재는 아치형 표면을 포함하고, 상기 아치형 표면은 상기 작동 패널 조립체가 상기 후퇴 위치 또는 상기 연장 위치에 있는 경우 상기 슬리브의 윤곽에 순응하도록 구성된, 재처리 시스템.
실시예 9
실시예 7 또는 실시예 8에 있어서, 상기 래칭 조립체는 상기 슬리브를 상기 레일에 대해 고정시키도록 구성된 견부 볼트를 추가로 포함하는, 재처리 시스템.
실시예 10
실시예 9에 있어서, 상기 편의 부재는 스프링을 추가로 포함하고, 상기 스프링은 상기 견부 볼트 및 상기 회전 부재에 대항하여 압축되는, 재처리 시스템.
실시예 11
실시예 7 내지 실시예 10 중 어느 한 실시예에 있어서, 상기 편의 부재는 상기 회전 부재의 회전에 응답하여 압축되도록 구성된, 재처리 시스템.
실시예 12
실시예 5 내지 실시예 11 중 어느 한 실시예에 있어서, 상기 슬리브는 나사 영역을 한정하고, 상기 나사 영역은 상기 슬리브를 상기 레일에 고정시키기 위해 볼트로 커플링되도록 구성된, 재처리 시스템.
실시예 13
실시예 3 내지 실시예 12 중 어느 한 실시예에 있어서, 상기 패널은 주연부 프레임 및 상기 주연부 프레임을 통하여 연장되는 복수의 연결 부재를 추가로 포함하는, 재처리 시스템.
실시예 14
실시예 2 내지 실시예 13 중 어느 한 실시예에 있어서, 상기 레일은 제1 단부 및 제2 단부를 포함하고, 상기 제1 단부 및 상기 제2 단부는 단일로 연결되고, 상기 제1 단부 및 상기 제2 단부는 상기 오염제거 수반의 내부 표면에 고정된, 재처리 시스템.
실시예 15
실시예 1 내지 실시예 14 중 어느 한 실시예에 있어서, 상기 작동 패널 조립체는 상기 작동 패널 조립체가 상기 연장 위치에 있는 동안 상기 의료 디바이스와 상기 작동 패널 조립체 아래의 상기 외부 몸체의 일부 사이의 접촉을 방지하도록 구성된, 재처리 시스템.
실시예 16
재처리 시스템으로서, (a) 개구를 한정하는 내부 표면을 포함하는 오염제거 수반; (b) 개방 구성과 폐쇄 구성 사이에서 전이되도록 구성된 상측 부재로서, 상기 상측 부재는 상기 폐쇄 구성에서 상기 오염제거 수반의 상기 개구를 에워싸도록 구성되고, 상기 상측 부재 및 상기 오염제거 수반의 내부 표면은 상기 상측 부재가 상기 폐쇄 구성에 있는 경우 의료 디바이스를 내장하도록 구성된, 상기 상측 부재; (d) 상기 오염제거 수반 내에 내장된 의료 디바이스를 세정하도록 작동가능한 세정 조립체; (e) 상기 폐쇄 구성에서 상기 상측 부재에 대해 노출되는 외부 몸체; 및 (f) 작동 패널 조립체로서, 상기 작동 패널 조립체는 상기 상측 부재가 상기 개방 구성에 있는 경우 후퇴 위치와 연장 위치 사이에서 전이되도록 구성되고, 상기 작동 패널 조립체는 상기 작동 패널 조립체가 상기 후퇴 위치에 있는 동안 상기 폐쇄 구성에서 상기 상측 부재에 의해 둘러싸이도록 구성되고, 상기 작동 패널 조립체는 상기 작동 패널 조립체가 상기 연장 위치에 있는 동안 상기 외부 몸체의 일부를 보호하도록 구성되는, 상기 작동 패널 조립체를 포함하는, 재처리 시스템.
실시예 17
실시예 16에 있어서, 상기 작동 패널 조립체는 상기 작동 패널 조립체가 상기 후퇴 위치 또는 상기 연장 위치에 있는 경우 이동을 선택적으로 억제하도록 구성된 래칭 메커니즘을 포함하는, 재처리 시스템.
실시예 18
실시예 17에 있어서, 상기 작동 패널 조립체는 랙을 추가로 포함하고, 상기 랙은 상기 작동 패널이 상기 연장 위치에 있는 동안 상기 외과용 비품과 상기 랙 아래의 상기 외부 몸체의 일부 사이의 접촉을 방지하도록 구성된, 재처리 시스템.
실시예 19
실시예 18에 있어서, 상기 랙은 상기 오염제거 수반에 대해 회전하도록 구성된, 재처리 시스템.
실시예 20
재처리 시스템으로서, (a) 개구를 한정하는 내부 표면을 포함하는 오염제거 수반; (b) 개방 구성과 폐쇄 구성 사이에서 전이되도록 구성된 상측 부재로서, 상기 상측 부재는 상기 폐쇄 구성에서 상기 오염제거 수반의 상기 개구를 에워싸도록 구성되고, 상기 상측 부재 및 상기 오염제거 수반의 내부 표면은 상기 상측 부재가 상기 폐쇄 구성에 있는 경우 의료 디바이스를 내장하도록 구성된, 상기 상측 부재; (d) 상기 오염제거 수반 내에 내장된 의료 디바이스를 세정하도록 작동가능한 세정 조립체; (e) 상기 폐쇄 구성에서 상기 상측 부재에 대해 노출되는 외부 몸체; 및 (f) 작동 패널 조립체로서, 상기 작동 패널 조립체는 상기 상측 부재가 상기 폐쇄 구성에 있는 동안 상기 상측 부재와 상기 오염제거 수반의 내부 표면 사이에 끼워지도록 구성된 격자를 포함하고, 상기 격자는 상기 상측 부재가 상기 개방 구성에 있는 동안 상기 외부 몸체의 일부 위에 연장되도록 구성되는, 상기 작동 패널 조립체를 포함하는, 재처리 시스템.
V. 기타
전체적으로 또는 부분적으로 본 명세서에 참고로 포함된 것으로 언급된 임의의 특허, 공보 또는 다른 개시 자료가, 포함된 자료가 본 개시 내용에 기재된 기존의 정의, 표현 또는 다른 개시 자료와 상충되지 않는 범위로만, 본 명세서에 포함되는 것이 인식되어야 한다. 그렇기 때문에, 그리고 필요한 범위에서, 본 명세서에 명시적으로 기재된 바와 같은 개시 내용은 본 명세서에 참고로 포함되는 임의의 상충되는 자료를 대체한다. 본 명세서에 참고로 포함된 것으로 언급되지만 본 명세서에 기재된 기존의 정의, 표현 또는 다른 개시 자료와 상충되는 임의의 자료 또는 그의 부분은 그러한 포함된 자료와 기존의 개시 자료 사이에 충돌이 일어나지 않는 범위로만 포함될 것이다.
본 발명의 다양한 실시 형태를 도시하고 기술하였지만, 본 명세서에 기술된 방법 및 시스템의 추가의 개조가 본 발명의 범주로부터 벗어남이 없이 당업자에 의한 적절한 변경에 의해 성취될 수 있다. 몇몇 그러한 잠재적인 변경이 언급되었고, 다른 것이 당업자에게 명백할 것이다. 예를 들어, 위에 논의된 실시예, 실시 형태, 기하학적 형상, 재료, 치수, 비, 단계 등은 예시적인 것이며, 필수적인 것이 아니다. 따라서, 본 발명의 범주는 하기의 청구범위의 관점에서 고려되어야 하며, 명세서 및 도면에 도시 및 기술된 구조 및 작동의 상세 사항으로 제한되지 않는 것으로 이해된다.

Claims (20)

  1. 재처리 시스템으로서,
    (a) 내부 표면을 포함하는 오염제거 수반;
    (b) 개방 구성과 폐쇄 구성 사이에서 전이되도록 구성된 뚜껑으로서, 상기 뚜껑은 상기 폐쇄 구성에서 상기 오염제거 수반의 내부 표면을 둘러싸도록 구성되고, 상기 뚜껑이 상기 폐쇄 구성에 있는 경우에 상기 뚜껑 및 상기 오염제거 수반의 내부 표면은 협동하여 의료 디바이스를 내장하도록 구성된, 상기 뚜껑;
    (c) 상기 오염제거 수반 내에 내장된 의료 디바이스를 세정하도록 작동가능한 세정 조립체;
    (d) 외부 몸체; 및
    (e) 작동 패널 조립체로서, 상기 작동 패널 조립체는 후퇴 위치와 연장 위치 사이에서 전이되도록 구성되고, 상기 작동 패널 조립체는 상기 후퇴 위치에서 상기 뚜껑 및 상기 오염제거 수반의 내부 표면에 의해 둘러싸이도록 구성되고, 상기 작동 패널 조립체는 상기 작동 패널 조립체가 상기 연장 위치에 있는 동안 상기 외부 몸체의 일부 위에 연장되도록 구성되는, 상기 작동 패널 조립체를 포함하는, 재처리 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 작동 패널 조립체는 상기 오염제거 수반의 내부 표면에 고정된 레일을 포함하는, 재처리 시스템.
  3. 제2항에 있어서, 상기 작동 패널 조립체는 상기 후퇴 위치로부터 상기 연장 위치로 상기 레일에 대해 작동하도록 구성된 패널을 추가로 포함하는, 재처리 시스템.
  4. 제3항에 있어서, 상기 작동 패널 조립체는 상기 작동 패널 조립체가 상기 후퇴 위치 또는 상기 연장 위치에 있는 경우 상기 패널을 상기 레일에 대해 지지하도록 구성된 래칭(latching) 조립체를 추가로 포함하는, 재처리 시스템.
  5. 제4항에 있어서, 상기 래칭 조립체는 상기 레일의 일부를 내장하는 슬리브를 추가로 포함하고, 상기 슬리브는 상기 레일에 고정된, 재처리 시스템.
  6. 제5항에 있어서, 상기 래칭 조립체는 상기 패널에 커플링된 회전 부재를 추가로 포함하는, 재처리 시스템.
  7. 제6항에 있어서, 상기 래칭 조립체는 편의(biasing) 부재를 추가로 포함하고, 상기 편의 부재는 상기 패널을 상기 레일에 대해 지지하도록 상기 슬리브를 향하여 상기 회전 부재를 편의시키도록 구성된, 재처리 시스템.
  8. 제7항에 있어서, 상기 회전 부재는 아치형 표면을 포함하고, 상기 아치형 표면은 상기 작동 패널 조립체가 상기 후퇴 위치 또는 상기 연장 위치에 있는 경우 상기 슬리브의 윤곽에 순응하도록 구성된, 재처리 시스템.
  9. 제7항에 있어서, 상기 래칭 조립체는 상기 슬리브를 상기 레일에 대해 고정시키도록 구성된 견부 볼트(shoulder bolt)를 추가로 포함하는, 재처리 시스템.
  10. 제9항에 있어서, 상기 편의 부재는 스프링을 추가로 포함하고, 상기 스프링은 상기 견부 볼트 및 상기 회전 부재에 대항하여 압축되는, 재처리 시스템.
  11. 제7항에 있어서, 상기 편의 부재는 상기 회전 부재의 회전에 응답하여 압축되도록 구성된, 재처리 시스템.
  12. 제5항에 있어서, 상기 슬리브는 나사 영역을 한정하고, 상기 나사 영역은 상기 슬리브를 상기 레일에 고정시키기 위해 볼트로 커플링되도록 구성된, 재처리 시스템.
  13. 제3항에 있어서, 상기 패널은 주연부 프레임 및 상기 주연부 프레임을 통하여 연장되는 복수의 연결 부재를 추가로 포함하는, 재처리 시스템.
  14. 제2항에 있어서, 상기 레일은 제1 단부 및 제2 단부를 포함하고, 상기 제1 단부 및 상기 제2 단부는 단일로 연결되고, 상기 제1 단부 및 상기 제2 단부는 상기 오염제거 수반의 내부 표면에 고정된, 재처리 시스템.
  15. 제1항에 있어서, 상기 작동 패널 조립체는 상기 작동 패널 조립체가 상기 연장 위치에 있는 동안 상기 의료 디바이스와 상기 작동 패널 조립체 아래의 상기 외부 몸체의 일부 사이의 접촉을 방지하도록 구성된, 재처리 시스템.
  16. 재처리 시스템으로서,
    (a) 개구를 한정하는 내부 표면을 포함하는 오염제거 수반;
    (b) 개방 구성과 폐쇄 구성 사이에서 전이되도록 구성된 상측 부재로서, 상기 상측 부재는 상기 폐쇄 구성에서 상기 오염제거 수반의 상기 개구를 에워싸도록 구성되고, 상기 상측 부재 및 상기 오염제거 수반의 내부 표면은 상기 상측 부재가 상기 폐쇄 구성에 있는 경우 의료 디바이스를 내장하도록 구성된, 상기 상측 부재;
    (d) 상기 오염제거 수반 내에 내장된 의료 디바이스를 세정하도록 작동가능한 세정 조립체;
    (e) 상기 폐쇄 구성에서 상기 상측 부재에 대해 노출되는 외부 몸체; 및
    (f) 작동 패널 조립체로서, 상기 작동 패널 조립체는 상기 상측 부재가 상기 개방 구성에 있는 경우 후퇴 위치와 연장 위치 사이에서 전이되도록 구성되고, 상기 작동 패널 조립체는 상기 작동 패널 조립체가 상기 후퇴 위치에 있는 동안 상기 폐쇄 구성에서 상기 상측 부재에 의해 둘러싸이도록 구성되고, 상기 작동 패널 조립체는 상기 작동 패널 조립체가 상기 연장 위치에 있는 동안 상기 외부 몸체의 일부를 보호하도록 구성되는, 상기 작동 패널 조립체를 포함하는, 재처리 시스템.
  17. 제16항에 있어서, 상기 작동 패널 조립체는 상기 작동 패널 조립체가 상기 후퇴 위치 또는 상기 연장 위치에 있는 경우 이동을 선택적으로 억제하도록 구성된 래칭 메커니즘을 포함하는, 재처리 시스템.
  18. 제17항에 있어서, 상기 작동 패널 조립체는 랙을 추가로 포함하고, 상기 랙은 상기 작동 패널이 상기 연장 위치에 있는 동안 상기 외과용 비품과 상기 랙 아래의 상기 외부 몸체의 일부 사이의 접촉을 방지하도록 구성된, 재처리 시스템.
  19. 제18항에 있어서, 상기 랙은 상기 오염제거 수반에 대해 회전하도록 구성된, 재처리 시스템.
  20. 재처리 시스템으로서,
    (a) 개구를 한정하는 내부 표면을 포함하는 오염제거 수반;
    (b) 개방 구성과 폐쇄 구성 사이에서 전이되도록 구성된 상측 부재로서, 상기 상측 부재는 상기 폐쇄 구성에서 상기 오염제거 수반의 상기 개구를 에워싸도록 구성되고, 상기 상측 부재 및 상기 오염제거 수반의 내부 표면은 상기 상측 부재가 상기 폐쇄 구성에 있는 경우 의료 디바이스를 내장하도록 구성된, 상기 상측 부재;
    (d) 상기 오염제거 수반 내에 내장된 의료 디바이스를 세정하도록 작동가능한 세정 조립체;
    (e) 상기 폐쇄 구성에서 상기 상측 부재에 대해 노출되는 외부 몸체; 및
    (f) 작동 패널 조립체로서, 상기 작동 패널 조립체는 상기 상측 부재가 상기 폐쇄 구성에 있는 동안 상기 상측 부재와 상기 오염제거 수반의 내부 표면 사이에 끼워지도록 구성된 격자(grate)를 포함하고, 상기 격자는 상기 상측 부재가 상기 개방 구성에 있는 동안 상기 외부 몸체의 일부 위에 연장되도록 구성되는, 상기 작동 패널 조립체를 포함하는, 재처리 시스템.
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