KR20170141732A - 희석 과산화수소 (dhp) 기체를 갖는 클린룸 및 이의 사용 방법 - Google Patents

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KR20170141732A
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dhp
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제임스 디. 리
더글라스 제이. 보스마
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사이넥시스 엘엘씨
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Abstract

살균 조건을 위해 제공되는 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 갖는 개선된 클린룸이 제공된다. 또한, 감소된 수준의 휘발성 유기 화합물 (VOC)을 갖는 DHP 기체 함유 클린룸 및 DHP 기체를 갖는 클린룸의 제조 방법을 제공한다.

Description

희석 과산화수소 (DHP) 기체를 갖는 클린룸 및 이의 사용 방법
본 발명은 일반적으로 살균 조건을 위해 제공되는 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 갖는 개선된 클린룸에 관한 것이다. 본 개시내용은 추가로 감소된 수준의 휘발성 유기 화합물 (VOC)를 갖는 DHP 기체 함유 클린룸에 관한 것이다. 본 개시내용은 또한 DHP 기체를 갖는 클린룸의 제조 방법에 관한 것이다.
과산화수소 (H2O2)은 강한 산화제이고, 잘 알려진 항균 및 살균 특성뿐만 아니라 유기 화합물에 대한 활성을 가진다. H2O2는 또한 휘발성 유기 화합물을 산화하고, 가수분해시키고, 분해하는 휘발성 유기 화합물 (VOC)에 대한 활성을 가진다. 무엇보다도 과산화수소는 포름알데히드, 이황화탄소, 탄수화물, 유기인계 및 질소 화합물, 및 수많은 다른 보다 복잡한 유기 분자를 가수분해한다. H2O2는 일반적으로 약 3 내지 90%로의 수용액 또는 무색의 액체로서 대량으로 상업적으로 생산된다. 문헌 [Merck Index, 4705 내지 4707에서의 제10판]을 참조한다. 최근에 H2O2는 오존, 플라즈마 종, 또는 유기 종을 함유하지 않는 정제된 과산화수소 기체 (PHPG)로서 생산될 수 있는 것으로 나타났다.
PHPG는 수화된 에어로졸 및 기화된 형태를 포함하는 액체 형태 과산화수소와 구별되는 비수화된 기체 형태의 H2O2이다. 에어로졸화된 및 기화된 형태의 과산화수소 용액은 전형적으로 세제곱 미크론당 5 내지 25개의 분자를 함유하는 공기 함유 PHPG와 비교하여 세제곱 미크론당 1x106개 초과의 분자를 포함하는 상당하게 더 높은 농도의 H2O2를 가진다. 과산화수소 에어로졸 및 증기는 과산화수소의 수용액으로부터 제조되고, 또한 에어로졸이 수화되고, 액적의 크기와 무관하게 중력 하에 침강하기 때문에 PHPG와는 구별된다. 기화된 형태는 응축되고 침강된다. 에어로졸화된 형태의 과산화수소는 유효한 항균제이나, 이들은 일반적으로 독성이고, 점유 공간에서 사용하기에 전반적으로 부적합한 것으로 고려된다. 예를 들면, [Kahnert et al., "Decontamination with vaporized hydrogen peroxide is effective against Mycobacterium tuberculosis," Lett Appl Microbiol. 40(6):448-52 (2005)]을 참조한다. 기화된 과산화수소의 응용분야는 폭발성 증기, 위험한 반응, 부식성 및 작업자 안전성과 관련하여 제한되어 왔다. 문헌 [Agalloco et al., "Overcoming Limitations of Vaporized Hydrogen Peroxide," Pharmaceutical Technology, 37(9):1-7 (2013)]을 참조한다. 추가로, 전형적으로 150 내지 700 ppm의 농도에서 에어로졸화된 형태로 처리된 공간은 H2O2가 물 및 산소 및 H2O2로의 분해에 의해 제거되기 전까지 점유에 적합하지 않다. PHPG의 사용은 에어로졸화된 H2O2의 독성의 문제점을 해결한다. 기화 형태 및 액체 형태의 H2O2는 지속적인 안전한 항균 및 산화 활성을 제공할 수 있다.
PHPG는 비수화된 것이며 본질적으로 이상 기체로서 거동한다. 이러한 형태에서, PHPG는 대부분 공기의 세제곱 미크론당 약 25개의 분자의 평균 농도를 달성하는 환경 전반에 자유롭게 확산될 수 있는 이상 기체로서 거동한다. 기체로서, PHPG는 밀폐되지 않은 임의의 공간을 점유하도록 본질적으로 자유롭게 확산되는 대부분의 다공성 물질을 관통할 수 있다. 기체 형태의 과산화수소는 최대 10 ppm의 농도로 존재하는 경우에 침강, 침착, 또는 응축되지 않는다. PHPG는 완전하게 "녹색"이고, 물 및 산소로 분해됨에 따라 잔류물을 남기지 않는다.
중요하게는, 기화된 에어로졸화된 형태의 H2O2와 대조하여, 최대 1 ppm H2O2를 함유한 환경은 현재 미국 직업 안전 위생국 (Occupational Safety and Health Administration, OSHA), 노동 안전 위생 종합연구소 (National Institute for Occupational Safety and Health, NIOSH), 또는 미국 산업위생 전문가 협회 (American Conference of Industrial Hygienists, ACGIH) 표준 하에 지속적인 인간 점유에 대해 안전한 것으로 표시되고 있다. 10 ppm은 또한 규제 기관에 의해 아직 인식되지 않았지만 인간 점유에 대해 안전한 것으로 여겨진다. PHPG 발생 장치의 출현으로, 적절한 연구가 현재 수행될 수 있다. 유효량의 PHPG를 생성하는 능력, 항균제로서 이의 유효성과 조합되는 희석된 과산화수소 (DHP) 기체로서 존재하는 경우에의 PHPG의 안전성은 무수한 유용한 응용분야를 제공한다.
둘 모두 Lee에 의한 2012년 5월 1일에 발행된 미국특허 제8,168,122호 및 2014년 4월 1일에 발행된 미국특허 제8,685,329호는 미생물 조절 및/또는 환경의 소독/개선용 PHPG를 제조하기 위한 방법 및 장치를 개시하고 있다. 국제특허공보 WO 2015/171633로서 공개된 국제특허출원 PCT/US2015/029276은 더 높은 정상 상태 수준의 PHPG를 달성할 수 있는 개선된 PHPG 생성 방법 및 장치를 제공한다. 국제특허공보번호 WO 2014/186805로서 공개된 국제특허출원번호 PCT/US2014/038652는 곤충 및 거미류를 포함하는 절지동물의 조절을 위한 PHPG의 유효성 및 용도를 개시하고 있다. 국제특허공보번호 WO/2015/026958로서 2015년 2월 26일에 공개된 국제특허출원번호 PCT/US2014/051914는 포유동물 폐에서의 증가된 하이포티오시안산 이온 및 감염에 대한 증가된 저항성을 포함하여 호흡기 건강에 대한 PHPG의 유리한 효과를 개시하고 있다. 상기 출원의 각각의 내용은 그 전문이 본원에 참조로 포함되어 있다.
60년대에서의 이의 도입 이래로, 클린룸은 공업용 및 헬스 케어 셋팅 모두에서 증가적으로 중요하게 되었다. 반도체 제조에서의 이의 확장적 용도 이외에, 클린룸은 제약의 제조뿐만 아니라 의생명과학 연구 시설, 예를 들면 생물 안전성 환경의 일부에서 사용된다. 클린룸은 여과 방법을 사용하여 부유 분진 예컨대 먼지의 조절 및 제거를 위해 제공되고, 부유 분진의 크기, 수 및 분포를 특징으로 한다. 클린룸은 일반적으로 멸균 환경으로서 유지되지 않고, 한편 자외선은 미생물 하중을 감소시키는 제한된 방식으로 사용될 수 있다. 클린룸은 휘발성 화합물을 제거하기 위한 통기 시스템이 구비될 수 있고, 한편 또한 부유하고 있는 화합물 및 입자만이 제거될 수 있다.
클린룸은 공기의 체적당 허용되는 입자의 수 및 크기에 따라 분류된다. 클린룸에 대한 분류 및 표준은 국제 표준화 기구 (IOS)에 의해 확립된다. ISO 14644 표준은 미국 연방 표준 209E (FS 209E) 하에 초기에 문서화되었다. 현재 버전의 표준은 2000년에 공개된 ISO 14644-2이다. 표준을 달성하기 위한 이러한 표준 및 방법은 본 기술분야에 공지되어 있다.
잠재적으로 위험한 생물학적 제제가 방출되지 않고, 잠재적 오염물질로부터 작업자를 보호하기 위기 위해서 다양한 수준의 오염물질이 제공되는 밀폐된 실험실 설비가 클린룸과 관련된다. 미국 질병 대책 센터 (CDC)에 의해 구체화된 4개의 수준, BSL-1 내지 BSL-4가 존재한다. http://www.cdc.gov/biosafety/publications/bmbl5/BMBL5_sect_IV.pdf를 참조한다. 미생물학 및 생물의학 연구실의 생물안전 (BMBL)에 관한 연방 지침은 본 기술분야의 당업자에게 알려져 있고, 가장 최근 버전은 BMBL, 5차 개정판 (2009년 12월)이다. BMBL은 www.cdc.gov/biosafety/publications/bmbl5/에서의 인터넷 상에서 찾을 수 있다. 유사한 수준은 유럽 연합 및 도처에서 정의되어 있다.
클린룸의 제조시 사용되는 물질은 입자의 생성을 근절하도록 선택된다. 따라서, 심지어 일반 물질 예컨대 종이 및 천연 섬유 물질이 이들이 입자 오염물질의 유의미한 공급원일 수 있기 때문에 클린룸에서 배제된다. 따라서, 클린룸은 경질의 평활한 마감을 갖는 불침투성 물질로 구성되고, 뽀족한 앵글 및 가장자리는 입자 형성을 방지하기 위해 축소된다. 적합한 물질로는 페놀성 플라스틱, 유리 강화 플라스틱, 및 강철이다. 보다 일반적인 물질 예컨대 드라이웰(drywall)이 사용되는 경우, 입자의 생성을 방지하기 위해 표면을 밀봉하고, 마감처리할 필요성이 존재한다. 특히, 수많은 물질은 클린룸의 목적을 방해할 수 있는 원치 않는 유기 종을 배출한다. 보다 상세하게는, 클린룸 구조재로부터 유도된 다양한 유기 종 그 자체는 반도체 제조 과정에서 실리콘 웨이퍼의 표면 상에 불순물을 생성할 수 있다. 하기 표 1은 일반 클린룸 구조재로부터 배출된 화합물의 예들을 제공한다. 이러한 유기 화합물은 바람직하지 않다.
표 1: 클린룸 구조재 및 이의 배출 화합물
Figure pct00001
이러한 화합물은, 예를 들면, 반도체의 제조를 방해하기 때문에 클린룸을 제조하는데 사용되는 물질에 의해 방출된 화합물을 근절하거나 또는 분해할 수 있는 클린룸에 대한 필요성이 존재한다.
또한, 원치않는 유기 화합물, 예를 들면, 클린룸에서 표면 상에 침착되는 유기 화합물을 제거하거나 또는 분해할 수 있는 개선된 클린룸이 바람직하다. 여과 및 다른 제거 방법 이전에 클린룸 환경에서 유기 화합물의 폐기(destruction)를 위해 제공되는 개선된 클린룸이 또한 매우 바람직하다.
클린룸은 일반적으로 입자의 근절에 관한 것이고, 살균되지 않는다. 따라서, 미생물 예컨대 박테리아, 진균, 곰팡이, 및 바이러스의 제거 또는 근절을 위해 제공되는 개선된 클린룸 설비가 바람직하다.
본 발명의 요약
본 개시내용은 적어도 0.05 백만분율의 농도로 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 포함하는 클린룸을 위해 제공되고, 이를 포함한다.
보다 상세하게는, 본 개시내용은 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 갖는 ISO 14644 분류 1 클린룸, ISO 14644 분류 2 클린룸, ISO 14644 분류 3 클린룸, ISO 14644 분류 4 클린룸, ISO 14644 분류 5 클린룸, ISO 14644 분류 6 클린룸, ISO 14644 분류 7 클린룸, 또는 ISO 14644 분류 8 클린룸(적어도 0.05 백만분율의 농도로 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 포함함)에 대해 제공된다.
본 개시내용은 클린룸에 하나 이상의 PHPG 생성 장치를 제공하는 것을 포함하는, 적어도 0.05 백만분율의 농도로 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 포함하는 클린룸을 제조하는 방법을 위해 제공되고, 이를 포함한다.
본 개시내용은 클린룸에 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 제공하는 단계를 포함하는, 미생물에 의한 클린룸의 오염을 방지하는 방법을 위해 제공되고, 이를 포함한다.
본 개시내용은 클린룸에 적어도 0.05 백만분율의 농도(ppm)로 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 제공하는 단계를 포함하는, 미생물에 의한 클린룸의 오염을 감소시키는 방법을 위해 제공되고, 이를 포함한다.
본 개시내용은 클린룸에 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 제공하는 단계를 포함하는, 미생물에 의한 클린룸의 오염을 근절하는 방법을 위해 제공되고, 이를 포함한다.
본 개시내용은 클린룸에 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 제공하는 단계를 포함하는, 클린룸에서의 유기 화합물을 감소시키는 방법을 위해 제공되고, 이를 포함한다.
달리 정의되지 않는 한, 본원에서 사용되는 기술 및 과학 용어는 본 기술분야의 당업자에게 일반적으로 이해되는 바와 동일한 의미를 가진다. 본 기술분야의 당업자는 수많은 방법이 본 개시내용의 실시에서 사용될 수 있음을 인식할 것이다. 대신, 본 개시내용은 기재된 방법 및 물질을 제한하기 위한 것이 아니다. 본원에 인용된 임의의 참조문헌은 그 전문이 참조로 포함되어 있다. 본 개시내용의 목적을 위해, 하기 용어가 아래에 정의되어 있다.
본원에 사용되는 바와 같이, 정제된 과산화수소 기체 (PHPG) 및 희석 과산화수소 (DHP) 기체가 상호교환적으로 사용된다. 본원에 사용되는 정제된 과산화수소 기체는 비수화성이고, 오존, 플라즈마 종, 및 유기 종을 실질적으로 함유하지 않는다. 또한, 본원에 사용되는 바와 같이, 룸에서의 PHPG의 수준은 클린룸에서 정상 상태 수준의 PHPG로서 결정된다. DHP 기체를 포함하는 본 개시내용에 따른 클린룸은 적어도 15분의 기간 동안 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체의 정상 상태 농도를 갖는 클린룸이다. 특히, 정상 사용 과정에서, PHPG는 이것이 유기 화합물과 반응하거나, 미생물과 반응하거나, 그렇지 않으면 분해됨에 따라 전부 사용되고, 따라서, 연속적으로 대체되어야 한다. 실시에 있어서, 본 개시내용에 따른 클린룸은 공기 조화 설비 (heating ventilation and air conditioning, HVAC) 시스템의 부품으로서의 하나 이상의 장치를 통해 또는 하나 이상의 자립형 PHPG 생산 장치에 의해 공급되는 PHPG의 일정한 생성에 의한 DHP 기체 함유 상태로 유지되는 것으로 예상된다.
본원에 사용되는 단수 형태("a," "an" 및 "the")는 문맥에서 달리 분명하게 나타내지 않는 한 복수의 참조를 포함한다. 예를 들면, 용어 "박테리아" 또는 "적어도 하나의 박테리아"는 이들의 혼합을 포함하는 복수개의 박테리아를 포함할 수 있다. 다른 예에서, 용어 "진균" 또는 "적어도 하나의 진균"은 이들의 혼합을 포함하는 복수개의 박테리아를 포함할 수 있다. 마찬가지로, VOC" 또는 "적어도 하나 VOC"는 복수개의 VOC 및 이들의 혼합을 포함할 수 있다.
본원에 사용되는 용어 "약"은 ± 10 %를 지칭한다.
용어 "포함하다(comprises, includes)", "포함함(comprising, including)", "가짐(having)" 및 이들의 활용어는 "비제한적으로 포함함"을 의미한다.
용어 "~로 이루어짐"은 "~을 제한적으로 포함함"을 의미한다.
용어 "~로 본질적으로 이루어짐"은 조성물, 방법 또는 구조는 그러나 단지 추가적인 성분, 단계 및/또는 부품이 청구된 조성물, 방법 또는 구조의 기본적인 및 신규한 특성을 실질적으로 변경하지 않는 경우에만 추가적인 성분, 단계 및/또는 부품을 포함할 수 있다.
본원에 사용되는 단수 형태("a", "an" 및 "the")는 문맥에서 달리 분명하게 나타내지 않는 한 복수의 참조를 포함한다. 예를 들면, 용어 "화합물" 또는 "적어도 하나의 화합물"은 이들의 혼합을 포함하는 복수개의 화합물을 포함할 수 있다.
본원에 사용되는 용어 "더 많은"은 적어도 약 3%, 5%, 7%, 10%, 15%, 20%, 25%, 30%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90%, 또는 심지어 수배 더 많은 것을 지칭한다.
본원에 사용되는 용어 "개선됨" 또는 "증가됨"은 적어도 약 2%, 적어도 약 3%, 적어도 약 4%, 적어도 약 5%, 적어도 약 10%, 적어도 약 15%, 적어도 약 20%, 적어도 약 25%, 적어도 약 30%, 적어도 약 35%, 적어도 약 40%, 적어도 약 45%, 적어도 약 50%, 적어도 약 60%, 적어도 약 70%, 적어도 약 80%, 적어도 약 90%, 또는 더 큰 증가를 지칭한다.
본원에 사용되는 용어 "더 적은"은 적어도 약 3%, 5%, 7%, 10%, 15%, 20%, 25%, 30%, 50%, 60%, 70%, 80%, 90%, 또는 심지어 수배 더 많은 것을 지칭한다.
본원에 사용되는 용어 "감소됨(reducing)" 또는 "줄어듬(decreasing)"은 적어도 약 2%, 적어도 약 3%, 적어도 약 4%, 적어도 약 5%, 적어도 약 10%, 적어도 약 15%, 적어도 약 20%, 적어도 약 25%, 적어도 약 30%, 적어도 약 35%, 적어도 약 40%, 적어도 약 45%, 적어도 약 50%, 적어도 약 60%, 적어도 약 70%, 적어도 약 80%, 적어도 약 90%, 또는 더 큰 증가를 지칭한다.
본 출원 전반에서, 본 개시내용의 다양한 구현예는 범위 형태로 나타낼 수 있다. 범위 형태로의 설명은 단순히 편의 및 간결성을 위한 것이고, 개시내용의 범위에 대한 불변적인 제한으로서 해석되지 않아야 함을 이해하여야 한다. 따라서, 범위의 설명은 구체적으로 개시된 모든 가능한 하위범위뿐만 아니라 그 범위 내의 개개의 수치를 가지는 것으로 고려되어야 한다. 예를 들면, 1 내지 6의 범위의 설명은 구체적으로 개시된 하위 범위 예컨대 1 내지 3, 1 내지 4, 1 내지 5, 2 내지 4, 2 내지 6, 3 내지 6 등뿐만 아니라 그 범위 내의 개개의 수, 예를 들면, 1, 2, 3, 4, 5, 및 6을 가지는 것으로 고려되어야 한다. 이는 범위의 폭과 무관하게 적용된다.
수의 범위가 본원에 나타나 있는 경우라면, 이는 나타낸 범위 내의 임의의 인용된 수 (분수 또는 정수)를 포함하는 것을 의미한다. 문구 표시된 제1의 수와 표시된 제2의 수 "사이의 범위/범위들" 및 표시된 제1의 수로부터 표시된 제2의 수까지의 "범위/범위들"은 본원에서 상호교환적으로 사용되고, 표시된 제1 및 제2 수는 및 그들 사이의 분수 및 정수 모두를 포함하는 것을 의미한다.
본원에 사용되는 용어 "방법"은 비제한적으로 화학, 약학, 생물학, 생화학 및 의학 기술분야의 전문가에 의해 공지된 방식, 수단, 기술 및 과정으로부터 알려져 있거나 또는 이로부터 용이하게 개발되는 방식, 수단, 기술 및 과정을 포함하는 주어진 업무를 달성하기 위한 방식, 수단, 기술 및 과정과 관련된다.
본 개시내용은 비제한적으로 1988년도의 US 209D, 1992년도의 US 209E, 1989년도의 영국 표준 BS 5295, 1386년도의 호주 표준 AS, 1972년도의 프랑스 표준 AFNOR X44101, 1990년도의 독일 표준 VD I.2083 및 2000년도의 ISO 표준 14644-1 및 14644-2를 포함하는 하나 이상의 국내 또는 국제 표준을 따르는 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로의 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 포함하는 클린룸을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 또한 부유 입자 및 화합물을 감소시키도록 설계된 임의의 룸 및 또는 영역이 본 개시내용에 포함되고, 이를 위해 제공된다. 하나 이상의 국내 또는 국제 표준을 따라야 하는 클린룸은 문단 [0045] 및 [0046]에 제공되는 DHP 기체의 수준을 포함한다.
본 개시내용에 따른 양태에서, 클린룸은 ISO 14644-2 표준을 따른다. 일 양태에서, 클린룸은 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 포함하는 ISO 14644 분류 1 클린룸이다. 다른 양태에서, 클린룸은 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 포함하는 ISO 14644 분류 2 클린룸이다. 다른 양태에서, 클린룸은 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 포함하는 ISO 14644 분류 3 클린룸이다. 다른 양태에서, 클린룸은 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 포함하는 ISO 14644 분류 4 클린룸이다. 다른 양태에서, 클린룸은 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 포함하는 ISO 14644 분류 5 클린룸이다. 다른 양태에서, 클린룸은 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 포함하는 ISO 14644 분류 6 클린룸이다. 다른 양태에서, 클린룸은 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 포함하는 ISO 14644 분류 7 클린룸이다. 다른 양태에서, 클린룸은 ISO 14644 분류 8 클린룸이다. 본원에 제공되는 바와 같이, ISO 14644-2 표준에 따르는 클린룸은 문단 [0045] 및 [0046]에 제공된 바와 같은 DHP 기체의 수준을 포함한다.
다른 양태에서, 클린룸은 1989년도에 공개된 영국 표준 5295를 따른다. 일 양태에서, 클린룸은 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 포함하는 BS 5295 분류 1 클린룸 이다. 다른 양태에서, 클린룸은 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 포함하는 BS 5295 분류 2 클린룸이다. 다른 양태에서, 클린룸은 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 포함하는 BS 5295 분류 3 클린룸이다. 다른 양태에서, 클린룸은 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 포함하는 BS 5295 분류 4 클린룸이다. 본원에 제공되는 바와 같이, 영국 표준 5295를 따르는 클린룸은 문단 [0045] 및 [0046]에 제공된 바와 같은 DHP 기체의 수준을 포함한다.
본 개시내용은 또한 EU GMP 표준을 따르는 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 포함하는 클린룸을 포함하였다. 일 양태에서, 클린룸은 DHP 기체를 포함하는 EU GMP 등급 A 클린룸이다. 다른 양태에서, 클린룸은 DHP 기체를 포함하는 EU GMP 등급 B 클린룸이다. 또 다른 양태에서, 클린룸은 DHP 기체를 포함하는 EU GMP 등급 C 클린룸이다. 다른 양태에서, 클린룸은 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 포함하는 EU GMP 등급 D 클린룸이다. 본원에 제공되는 바와 같이, EU GMP 표준을 따르는 클린룸은 문단 [0045] 및 [0046]에 제공된 바와 같은 DHP 기체의 수준을 포함한다.
본 개시내용은 또한 1997년 1월 1일자의 EU GMP 표준에 따라 또는 문헌 [Revision of Annex to EU Guide to Good Manufacturing Practice-Manufacture of Sterile Medicinal Products]에 제공된 바와 같이 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 포함하는 클린룸을 위해 제공되고, 이를 포함한다.
본 개시내용의 클린룸은 전체 빌딩, 빌딩 내의 하나 이상의 룸을 포함할 수 있거나 또는 더 큰 룸 내의 모듈식 시스템으로서 구성될 수 있다. 일부 양태에서, 본 개시내용의 클린룸의 DHP 기체는 하나 이상의 DHP 발생 장치로 변경된 빌딩 HVAC 시스템에 의해 제공될 수 있다. 일부 양태에서, 본 개시내용의 클린룸은 PHPG를 클린룸 환경으로 전달할 수 있는 전용 HVAC 시스템을 포함할 수 있다.
본 개시내용은 또한 전용 DHP 기체 발생 장치를 갖는 별개의 환기 시스템을 갖는 모듈식 클린룸 디자인에 대해 제공된다. 이러한 클린룸은 컨디셔닝된 주위 공기를 취하여, 제2 HVAC 시스템과 함께 DHP 기체의 공급원을 제공한다. 이러한 자립형 시스템 (예를 들면, 룸 내의 클린룸)은 추가로 추가적인 여과 및 가습 기능을 포함할 수 있다. 일부 양태에서, 모듈식 클린룸은 설비 내의 장비의 분리를 위해 제공될 수 있다. 이러한 모듈식 클린룸은 표준 클린룸 (예를 들면, ISO 1 내지 ISO 9)보다 더 높은 수준의 미립자 물질이 허용될 수 있고, 생산 공정에서 중요 단계들을 분리하기 위해 사용될 수 있다. 특정 양태에서, 모듈식 클린룸은 밀폐된 룸을 부분적으로 개방할 수 있다. 밀폐된 룸을 개방하는 경우, 모듈식 클린룸은 일반적으로 흐름이 원치 않는 입자 및 물질의 도입을 방지하도록 여과된 공기의 높은 유량으로 작동될 것이다. 본원에 제공되는 바와 같이, 모듈식 클린룸은 적어도 0.05 백만분율의 DHP 기체의 수준을 유지하기 위해 하나 이상의 DHP 기체 발생 장치가 제공된다. 모듈식 클린룸은 문단 [0045] 및 [0046]에 제공되는 바와 같이 0.05 내지 10 ppm의 DHP 기체로 유지될 수 있다.
모듈식 클린룸은 본 기술분야에 공지된 방법을 사용하여 구성되고 멸균된 환경, 감소된 오염물질을 갖는 환경, 또는 둘 모두를 제공하기 위해 DHP 기체가 공급될 수 있다. 비제한적으로 Starr Co. (MO), Precision Environments, Inc (OH), PortaFab Corporation (MO), Cambridge Cleanroom Corporation (MA), Modular Cleanrooms Inc. (CO), Terra Universal. Inc. (CA), 및 American Cleanroom 시스템 (CA)을 비롯하여 모듈식 클린룸의 수많은 제조자들이 존재한다.
최소로, 모듈식 클린룸은 단지 DHP 기체의 축적을 위한 밀폐된 공간을 제공하기만 하면 된다. 따라서, DHP 기체를 함유하는 클린룸에 대해 적합한 모듈식 클린룸은 플라스틱 소프트웰 디자인일 수 있다. 모듈식 클린룸은 크기로 제한되지 않고, 0.5 ppm 내지 10 ppm의 DHP 기체 수준을 달성하기 위한 복수개의 DHP 기체 발생 장치가 구비될 수 있다. 모듈식 클린룸, 경질 쉘 및 연질 웰 디자인 모두의 사용은 DHP 기체 함유 클린룸은 제조 과정에서 장비의 개개의 부분에 대해 개발될 수 있음을 의미한다. 하기 실시예 2에 제공된 바와 같이, DHP 기체 함유 모듈식 클린룸의 적용은 소프트 드링크 보틀링 공정 (soft drink bottling process)에 대한 DHP 기체 함유 모듈식 클린룸 디자인의 적용은 기존 장비의 수명을 연장시켜 비용을 상당하게 감소시킬 수 있다. 이러한 예상외의 않은 개선은 기존 시스템에 대한 DHP 기술의 적용이 상당한 이익을 산출할 것을 제시한다.
본 개시내용은 예를 들면 상당하게 더 높은 수준의 DHP를 갖는 상기 기재된 클린룸을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 특정 양태에서, DHP 기체 수준은 최대 10 ppm일 수 있다. 특정 양태에서, DHP 수준은 0.05 내지 10 ppm의 범위이다. 일 양태에서, 본 개시내용의 클린룸에서의 DHP 기체의 농도는 적어도 0.08 ppm이다. 다른 양태에서, DHP 기체의 농도는 적어도 1.0 ppm이다. 또 다른 양태에서, DHP 기체의 농도는 적어도 1.5 ppm이다. 일 양태에서, 본 개시내용의 클린룸에서의 DHP 기체의 농도는 적어도 2.0 ppm이다. 다른 양태에서, DHP 기체의 농도는 적어도 3.0 ppm이다. 일 양태에서, DHP 기체의 농도는 적어도 4.0 ppm이다. 일 양태에서, DHP 기체의 농도는 적어도 5.0 ppm이다. 다른 양태에서, 본 개시내용의 클린룸에서의 DHP 기체의 농도는 적어도 6.0 ppm이다. 일 양태에서, DHP 기체의 농도는 10 ppm 미만이다. 일 양태에서, DHP 기체의 농도는 9.0 ppm 미만이다. 다른 양태에서, DHP 기체의 농도는 8.0 ppm 미만이다. 일 양태에서, DHP 기체의 농도는 7.0 ppm 미만이다. 다른 양태에서, DHP 기체의 농도는 0.05 ppm 내지 10.0 ppm이다. 또 다른 양태에서, DHP 기체의 농도는 0.05 ppm 내지 5.0 ppm이다. 일 양태에서, DHP 기체의 농도는 0.08 ppm 내지 2.0 ppm이다. 또 다른 양태에서, DHP 기체의 농도는 1.0 ppm 내지 3.0 ppm이다. 일 양태에서, DHP 기체의 농도는 1.0 ppm 내지 8.0 ppm, 또는 5.0 ppm 내지 10.0 ppm이다. 다른 양태에서, 클린룸에서의 DHP 기체의 농도는 DHP의 더 높고 더 낮은 농도 사이에서 순환된다. 비제한적인 예로서, DHP는 밤 시간 동안 더 높은 농도로 그리고 낮 시간 동안 낮은 농도로 유지될 수 있다.
일부 양태에서, DHP의 최종 농도는 밀폐된 환경이 인간에게 점유되는지 여부에 좌우된다. DHP에 대한 지속 노출에 관한 현재 안전성 제한은 미국 직업 안전 위생국 (Occupational Safety and Health Administration, OSHA), 노동 안전 위생 종합연구소 (National Institute of Occupational Safety and Health, NIOSH), 또는 미국 환경 보건국(Environmental Protection Agency, EPA)에 의해 1.0 ppm를 초과하지 않도록 확립되었다. 따라서, 특정 양태에서, 인간에 의해 점유되는 클린룸에서의 DHP의 농도는 1.0 ppm이 초과되지 않는다. 다른 양태에서, 인간에 의해 점유되는 클린룸에서의 DHP의 농도는 0.6 ppm을 초과하지 않는다. 다른 양태에서, 인간에 의해 점유되는 클린룸에서의 DHP의 농도는 0.4 ppm을 초과하지 않는다. 다른 양태에서, 인간에 의해 점유되는 클린룸에서의 DHP의 농도는 0.2 ppm를 초과하지 않거나 또는 0.10 ppm을 초과하지 않는다. 일 양태에서, 인간에 의해 점유되는 클린룸에서의 DHP의 농도는 미국 직업 안전 위생국 (OSHA), 노동 안전 위생 종합연구소 (NIOSH), 또는 미국환경보건국 (EPA)에 의해 확립된 제한을 초과하지 않는다.
포유동물 폐 자체는 OSHA 표준을 상당하게 초과하는 과산화수소의 수준 및 본 개시내용에 제공되는 DHP 기체의 수준을 갖는 것으로 주지되어 있다. 상세하게는, 인간 폐의 습윤 표면은 세제곱 미크론당 최대 60,000개의 분자 (예를 들면, 1.8 ppm)을 포함하고, 과산화수소는 매 호흡시 내쉬어진다. 반면, 1 ppm에서의 DHP 기체는 공기의 세제곱 미크론당 H2O2의 단지 25개의 분자만을 포함한다. 따라서, 10 ppm 이상의 수준은 연속적인 인간 점유에 대해 안전한 것으로 간주될 것으로 여겨진다. 본 개시내용은 최대 10 ppm의 DHP 기체를 포함하여 더 높은 수준의 DHP 기체를 갖는 사람에 의해 사용되고 점유되는 클린룸을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 특정 양태에서, 필요에 따라 표준은 변화되지 않아야 하는 경우에 사람은 필터 또는 DHP 기체의 호흡을 근절하는 장비가 제공될 수 있거나 또는 더 높은 수준의 DHP 기체에 노출된 소모 시간의 양으로 제한될 수 있다. 특히, DHP 기체는 보충되지 않는 경우에 신속하게 소멸된다. 0.6 ppm의 DHP 기체를 포함하는 환경이 약 15분 이내로 검출불가능한 수준으로 복원되는 것으로 관찰되었다.
본 개시내용은 또한 공기 조화 설비(HVAC) 시스템에 의해 제공되는 DHP 기체을 갖는 클린룸을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 특정 양태에서, HVAC는 하나 이상의 PHPG 생성 장치를 포함한다. 적합한 PHPG 생성 장치는 본 기술분야에 공지되어 있고, 2012년 5월 1일에 발행된 미국특허 제8,168,122호 및 2014년 4월 1일에 발행된 미국특허 제8,685,329호에 개시되어 있다. 적어도 0.05 ppm의 DHP의 농도를 달성하는데 필요한 PHPG 생성 장치의 수 및 용량은 클린룸의 크기에 좌우되는 것으로 이해될 것이다. 일부 양태에서, 전체 제조 설비는 클린룸 설비이고, PHPG 생성 장치의 수는 적절하게 조정될 수 있다. 실제로, 단일 PHPG 장치는 연속적으로 약 0.6 ppm에서 약 425 m3 (약 15,000 ft3)의 공간을 연속적으로 유지할 수 있는 것으로 결정되었다. 약 4.5 m3 (150 ft3)의 더 작은 공간은 용이하게 단일 PHPG 장치로 약 5.0 ppm 초과의 수준으로 유지될 수 있다.
본원에 제공되는 바와 같이, 적절한 PHPG 생성 장치는 엔클로져, 공기 분포 기기, 자외선의 공급원, 및 이의 표면 상에 촉매를 갖는 공기 투과성 기재 구조물을 포함할 수 있고, 여기서 기류는 공기 투과성 기재 구조물을 통과하고, 장치가 운행시에 엔클로져의 외부로 장치게 의해 생성된 PHPG를 유도한다. 본원에 사용되는 바와 같이, 엔클로져 및 공기 분포 시스템은 배관, 팬, 필터 및 클린룸에 적합한 HVAC 시스템의 다른 부품일 수 있다. 특정 양태에서, PHPG 장치는 PHPG의 생산을 최대화하고, 공기가 시스템을 통해 이동함에 따른 PHPG의 손실을 감소시키기 위해 공기 여과 이후 제공된다. 다른 양태에서, PHPG 생성 장치는 자립형 장치일 수 있다. 특정 양태에서, PHPG 발생 장치는 10 세제곱 미터의 밀폐된 공기 체적 중의 적어도 0.005 ppm의 PHPG의 정상 상태 농도를 확립하기에 충분한 속도로 PHPG를 생성할 수 있다. 특정 양태에서, PHPG 발생 장치는 주위 공기에 존재하는 수분으로부터 PHPG를 발생시킨다. 본원에 사용되는 바와 같이, 공기 분포는 공기 투과성 기재 구조물의 표면에서 측정되는 바와 같은 약 5 나노미터/초 (nm/s) 내지 10,000 nm/s의 속도를 갖는 기류를 제공한다. 본원에 사용되는 바와 같이, 기재 구조물은 광원 및 제공된 기류에 노출되는 경우에 비수화된 정제된 과산화수소 기체를 생성하도록 구성된 표면 상에 촉매를 갖는 공기 투과성 기재 구조물이다. 본원에 사용되는 바와 같이, 이의 표면 상에 촉매를 갖는 공기 투과성 기재 구조물은 총 두께에 있어서 약 5 나노미터 (nm) 내지 약 750 nm이다. 본원에 사용되는 바와 같이, 공기 투과성 기재 구조물의 표면 상의 촉매는 금속, 금속 산화물, 또는 이의 혼합물이고, 텅스텐 산화물 또는 텅스텐 산화물과 다른 금속 또는 금속 산화물 촉매의 혼합물일 수 있다.
본원에 사용되는 바와 같이, 기존 HVAC 시스템 (예를 들면, 인라인)으로 또는 자립형 유닛으로서 설치될 수 있는 PHPG 발생 장치는 오존, 플라즈마 종, 또는 유기 종을 실질적으로 함유하지 않는 PHPG를 생성한다. 본원에 사용되는 바와 같이, 용어 "오존을 실질적으로 함유하지 않음"은 약 0.015 ppm 미만의 오존으로의 오존의 양을 의미한다. 일 양태에서, "오존을 실질적으로 함유하지 않음"은 장치에 의해 생산되는 오존의 양은 종래의 검출 수단을 사용하는 검출의 수준 (LOD) 미만이거나 또는 이의 근사값이다. 본원에 사용되는 바와 같이, 수화물이 실질적으로 없다는 것은 과산화수소 기체가 정전기 인력 및 런던 힘 (London Force)에 의해 결합된 수분자를 99% 이상으로 함유하지 않는 것이다. 본원에 사용되는 바와 같이, 플라즈마 종을 실질적으로 함유하지 않는 PHPG는 수산화물 이온, 수산화물 라디칼, 히드로늄 이온, 및 수소 라디칼을 99% 이상으로 함유하지 않는 과산화수소 기체를 의미한다. 본원에 사용되는 바와 같은 PHPG는 포함되는 유기 종을 실질적으로 함유하지 않는다.
본 개시내용은 0.05 ppm의 DHP 기체의 농도로 클린룸을 유지하기에 충분한 하나 이상의 PHPG 발생 장치 (예를 들면, 인라인 PHPG 발생 장치)를 추가로 포함하는 적합한 HVAC 시스템을 갖는 클린룸에 대해 제공되고, 이를 제공한다. 특정 양태에서, 하나 이상의 PHPG 발생 장치는 HVAC 시스템을 포함하는 다양한 필터의 다운스트림에 배치된다. 다른 양태에서, PHPG 발생 장치는 HVAC 시스템의 하나 이상의 필터의 업스트림에 배치될 수 있다. 본 개시내용에 따라, HVAC 시스템은 재순환 공기 시스템일 수 있다. 또한, 소진된 공기 및 누출로 인해 손실된 공기를 보충하기 위한 보급 공기 시스템을 추가로 포함하는 HVAC 시스템이 포함된다. 일부 양태에서, 보급 공기 시스템은 하나 이상의 PHPG 생성 장치를 포함한다. 일부 양태에서, 보급 공기 시스템은 30% ASHRAE 필터, 60% ASHRAE 필터, 또는 95% ASHRAE 필터로부터 선택되는 하나 이상의 필터를 포함한다. 예를 들면 www.airfilterplus.com/wp-content/uploads/2014/05/Koch-ASHRAE-book.pdf에서의 인터넷 상에 이용가능한 문헌 [American Society of Heating, Refrigerating and Air-Conditioning Engineers (ASHRAE) ANSI/AHRAE standard 52.2-2007]을 참조한다.
본 개시내용에 따른 양태에서, HVAC 시스템은 연방 표준 209에 따른 하나 이상의 고효율 미립자 공기 (HEPA) 여과 시스템을 포함한다. 또한, 본 개시내용에 Mil-F-51068 또는 IEST-RP-CC-001에 따른 0.3 미크론 입자에 대해 적어도 99.97%의 효율을 갖는 적어도 하나의 필터를 포함하는 HVAC 시스템이 포함된다. 주지된 바와 같이, 여과 시스템은 인라인 PHPG 발생 장치의 업스트림 또는 다운스트림에 배치될 수 있다.
도한, 본 개시내용은 다양한 형태를 갖는 DHP 기체를 갖는 클린룸 및 예를 들면 ISO 14644의 요건을 충족시키는 상이한 방법을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 특정 양태에서, 클린룸은 휴대용 또는 모듈식 클린룸을 포함할 수 있고, PGPG 발생 장치를 포함할 수 있다. 일부 양태에서, 클린룸은 미립자를 제거하기 위한 난류형 HVAC 시스템을 포함한다. 다른 양태에서, 클린룸은 미립자를 제거하기 위해 층류를 제공한다. 클린룸 공기 시스템에 대해 부가된 기체로서, 적어도 0.05 ppm의 온도로 DHP 기체를 포함하는 층류형 및 난류형 시스템 모두가 제조될 수 있다.
본 개시내용은 또한 다중 목적에 적합한 클린룸을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 일 양태에서, 클린룸은 약학용 클린룸이다. 다른 양태에서, 클린룸은 생물약제학용 클린룸이다. 또 다른 양태에서, 클린룸은 반도체 제조용 클린룸이다. 다른 양태에서, 클린룸은 모듈식 클린룸이다.
본 개시내용에 따른 특정 양태에서, 클린룸은 감소된 수준의 부유 오염물질을 포함한다. 본 개시내용의 클린룸 및 방법에 따라 감소되는 유기 오염물질의 비제한적인 예는 상기 표 1에 제공되어 있다. 본 기술분야의 당업자는 과산화수소의 산화 작용이 특이적이지 않는 것으로 이해할 것이다. 따라서, 존재하는 경우 소수의 임의의 유기 화합물이 산화 및 궁극적으로 폐기에 대해 저항성일 것으로 이해된다. 산화는 탄소 원자가 이에 의해 보다 음전성의 성분, 대부분 일반적으로 산소에의 결합을 얻는 과정이다. 다른 양태에서, 산화 반응은 작용기의 중심 탄소가 보다 고도로 산화된 형태로 전환되는 것이다. 당업자는 DHP 기체가 포름알데히드, 이황화탄소, 탄수화물, 유기인계 및 질소 화합물, 페놀, BTEX 살충제, 가소제, 킬란트(chelant) 및 실제로 임의의 다른 유기물 요구 처리제를 산화시키는 것으로 이해할 것이다. 일 양태에서, 알켄의 탄소-탄소 이중 결합은 산화에 대해 민감성이다. 다른 양태에서, 알킨의 탄소-탄소 삼중 결합은 산화에 대해 민감성이다.
일 양태에서, DHP는 인위적 화합물(anthrogenic compound)을 산화시킨다. 다른 양태에서, DHP는 시안화물, NOx/SOx, 아질산염, 히드라진, 황화카보닐, 또는 다른 환원된 황 화합물을 산화시킨다. 다른 양태에서, DHP는 클로로플루오로카본 또는 클로로카본을 산화시킨다. 또 다른 양태에서, DHP는 메틸렌 클로라이드를 산화시킨다. 일 양태에서, DHP는 퍼클로로에틸렌을 산화시킨다. 다른 양태에서, DHP는 스티렌 또는 리모넨을 산화시킨다.
본 개시내용은 감소된 수준의 휘발성 유기 화합물 (VOC) 및 초휘발성 유기 화합물 (VVOC), 예컨대 포름알데히드를 갖는 클린룸을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 기체 크로마토그래피에서의 체류 시간이 C6 (헥산) 및 C16 (헥사데칸) 사이에 있는 모든 휘발성 유기물은 휘발성 유기 화합물로 지칭된다. 초휘발성 유기 화합물은 또한 그 중에서도 포름산 및 포름알데히드를 포함하고, 본원에 사용되는 표현 알데히드는 달리 언급되지 않는 한 휘발성 화합물뿐만 아니라 다른 알데히드, 특히 포름알데히드를 포함한다.
일 양태에서, 유기 분자를 참조하여, 산화는 탄소 원자가 보다 음전성 성분, 대부분 일반적으로 산소에의 결합을 얻는 과정이다. 다른 양태에서, 산화 반응은 작용기의 중심 탄소가 보다 고도로 산화된 형태로 전환되는 것이다. 당업자는 DHP 기체가 포름알데히드, 이황화탄소, 탄수화물, 유기인계 및 질소 화합물, 페놀, BTEX 살충제, 가소제, 킬란트, 및 실제로 임의의 다른 유기물 요구 처리제를 산화시키는 것으로 이해할 것이다. 일 양태에서, 알켄의 탄소-탄소 이중 결합은 산화에 대해 민감성이다. 다른 양태에서, 알킨의 탄소-탄소 삼중 결합은 산화에 대해 민감성이다.
본 개시내용은 또한 표면 상에 침착된 유기 오염물질 및 부유 유기 오염물질의 감소된 수준을 위해 제공된다. 특정 양태에서, 클린룸은 클린룸에서 제조되는 실리콘 웨이퍼 상에 침착된 유기 오염물질의 감소된 수준을 제공한다. 제공되는 바와 같이, DHP 기체를 포함하는 클린룸의 사용은 지속되어, 이에 따라 제조되는 제품의 오염물질의 감소를 제공된다.
본 개시내용은 다양한 물질을 포함하는 내부 표면을 갖는 클린룸을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 특히, DHP 기체는 일반적으로 건축 재료와 상용성이고, 또한 클린룸을 구성하는데 사용되는 재료와 상용성이다. 구체적으로, 클린룸 재료는 일반적으로 부유될 수 있는 입자의 형성에 대한 이의 저항성을 특징으로 한다. 따라서, 본 개시내용은 페놀성 플라스틱, 유리 강화 플라스틱, 강철, 코팅된 강철, 알루미늄, 에폭시 코팅된 콘크리트 블록, 드라이웰 및 비닐, 하이 빌드 마감(high build finish)을 갖는 드라이웰, 및 하이 빌드 마감으로 코팅된 다른 물질로 이루어진 군으로부터 선택된 내부 표면을 갖는 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 포함하는 클린룸을 위해 제공된다. 다른 양태에서, 클린룸 내부 표면은 표 1에 제공된 바와 같은 물질로 제조된다. 일 양태에서, 하이 빌드 마감은 폴리우레탄, 에폭시 페인트, 베이킹된 에나멜, 또는 광택성 페인트를 포함한다. 클린룸의 구성을 위해 적합한 물질은 본 기술분야에 알려져 있다. 현재 시판되는 클린룸과 대조적으로, 본 개시내용에 따른 클린룸은 건축 재료, 및 구체적으로 클린룸의 구성에 사용되는 특정 물질에 의해 배출될 수 있는 원치 않는 화합물의 근절을 위해 제공된다.
본 개시내용은 다양한 공기 변화율을 갖는 클린룸을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 상기 주지된 바와 같이, 클린룸으로의 DHP 기체의 혼입은 클린룸에서의 공기가 층류 또는 난류를 사용하여 변화되는지 여부에 제한되지 않는다. 난류형 클린룸의 경우, 공기 교환은 전형적으로 시간당 공기 변화 (ACH 또는 ac/h)와 관련하여 측정된다. 본 기술분야의 당업자는 증가된 공기 교환율이 더 하위의 분류를 갖는 클린룸와 관련되는 것으로 인식할 것이다 (여과 시스템의 구성에서의 다른 변화가 없는 것으로 가정함). 본 개시내용은 적어도 1 ACH의 공기 변화율을 갖는 적어도 0.05 ppm의 수준으로 DHP 기체를 포함하는 클린룸을 위해 제공된다. 일 양태에서, 공기 변화율은 적어도 5 ACH이다. 다른 양태에서, 공기 변화율은 적어도 60 ACH이다. 추가의 양태에서, ACH는 적어도 150이다. 또 다른 양태에서, 공기 변화율은 적어도 240 ACH이다. 일부 양태에서, 기류는 적어도 300 ACH이다. 일부 양태에서, 기류는 적어도 360 ACH이다. 본 개시내용은 심지어 추가의 PHGP 발생 장치를 포함시켜 달성가능한 시간당 더 높은 교환율을 위해 제공되고 이를 포함하는 것으로 이해하여야 한다.
본 개시내용은 5 내지 48 ACH의 DHP 기체를 포함하는 클린룸에서의 공기 교환율을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 다른 양태에서, 본 개시내용의 클린룸의 공기 교환율은 60 내지 90 ACH이다. 일부 양태에서, 공기 교환율은 150 내지 240 ACH이다. 추가의 양태에서, 공기 교환율은 240 내지 480 ACH이다. 다른 양태에서, 공기 교환율은 300 내지 540 ACH이다. 또 다른 양태에서, 공기 교환율은 360 내지 540 ACH이다.
본 개시내용은 다양한 공기 층류 속도를 갖는 클린룸을 위해 제공된다. 본 개시내용에 따른 양태에서, 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 갖는 클린룸은 0.005 m/s 내지 0.508 m/s의 평균 기류 속도를 가진다. 특정 양태에서, 평균 기류 속도는 0.508 m/s 초과일 수 있다. 일부 양태에서, 평균 기류 속도는 적어도 0.005 m/s이다. 다른 양태에서, 평균 기류 속도는 적어도 0.051 m/s이다. 또 다른 양태에서, 평균 기류 속도는 적어도 0.127 m/s이다. 일부 양태에서, 평균 기류 속도는 적어도 0.203 m/s이다. 일 양태에서, 평균 기류 속는 적어도 0.254 m/s이다. 추가의 양태에서, 평균 기류 속도는 적어도 0.305 m/s이다.
본 개시내용은 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 갖는 클린룸을 위해 제공되고, 이를 포함하고, 일정 범위의 기류 속도를 갖는 클린룸을 포함한다. 일 양태에서, 공기 층류 속도는 0.005 내지 0.041 m/s이다. 다른 양태에서, 공기 층류 속도는 0.051 내지 0.076 m/s이다. 다른 양태에서, 공기 층류 속도는 0.127 내지 0.203 m/s이다. 다른 양태에서, 공기 층류 속도는 0.203 내지 0.406 m/s이다. 다른 양태에서, 공기 층류 속도는 0.254 내지 0.457 m/s이다. 일 양태에서, 공기 층류 속도는 0.305 내지 0.457 m/s이다. 추가의 양태에서, 공기 층류 속도는 0.305 내지 0.508 m/s이다. 다른 유량은 본 개시내용에 따라 구상되고, PHPG의 추가의 공급원은 문단 [0045] 및 [0046]에서 제공되는 바와 같이 DHP 기체의 적합한 수준, 최대 10 ppm를 제공하도록 시스템에 포함될 수 있다.
본 개시내용은 인접된 비-클린룸 부분보다 더 높은 공기압을 갖는 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 갖는 클린룸을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 본 기술분야의 당업자는 더 높은 압력은 클린룸으로의 원치 않는 입자의 도입을 방지할 수 있는 것으로 인식할 것이다. 이론에 제한됨 없이, 작업자가 클린룸으로 들어가는 경우, 압력 차이로 인한 클린룸 외부의 공기 흐름은 유입시 먼지 및 입자가 유지되게 하는 역할을 하는 것으로 생각된다. 다른 양태에서, 양의 압력은 모듈식 클린룸에 제공되어 원치 않는 입자 및 미생물의 유입을 방지할 수 있다. 클린룸과 주변 부분 사이의 차이는 클린룸으로부터의 양의 공기 흐름을 위해 제공되기에 충분한 것이기만 하면 된다. 본 개시내용에 따른 양태에서, 압력의 차이는 적어도 5 Pa이다. 일 양태에서, 압력 차이는 적어도 12 Pa이다. 일 양태에서, 압력 차이는 적어도 15 Pa이다. 일 양태에서, 압력 차이는 적어도 20 또는 25 Pa이다. 다른 양태에서, 압력 차이는 적어도 30 Pa이다. 또한 최대 50 Pa 또는 그 이상의 압력 차이가 제공된다. 일반적으로, 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 포함하는 클린룸과 인접한 비-클린룸 사이의 압력 차이는 5 내지 50 Pa이다.
본 개시내용은 에어락 또는 대기실을 추가로 포함하는 클린룸을 추가로 포함하고, 이를 위해 제공된다. 이해될 수 있는 바와 같이, 이러한 부수적인 설비는 대개 오염물질의 도입을 최소화하도록 포함된다. 특정 양태에서, 이러한 관련 설비는 락커, 탈의실, 에어락, 대기실, 및 다른 기능을 위해 제공된다. 특정 양태에서, 이러한 부수적인 설비, 예컨대 에어락, 통로 에어락(pass-through airlock), 대기실, 탈의실, 인터락(interlock), 또는 락커룸은 추가로 적어도 0.05 ppm의 농도로 DHP 기체를 포함한다. 또한, 문단 [0045]에서 예로서 제공되는 더 높은 DHP 기체 수준을 갖는 부수적인 설비가 포함된다.
본 개시내용은 추가로 조절된 환경을 갖는 클린룸을 포함하고, 이를 위해 제공된다. 특정 양태에서, 클린룸은 20 내지 22℃의 온도에서 유지된다. 다른 양태에서, 클린룸은 18.9℃로 유지된다. 또한, 1 내지 6℃의 온도를 갖는 냉각된 클린룸이 포함된다.
또한, 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 갖고, 1 내지 99%의 상대 습도를 갖는 클린룸이 본 개시내용에 포함된다. 특정 양태에서, 상대 습도는 30 내지 60%이다. 일 양태에서, 클린룸 공기의 습도는 바람직하게는 약 1% 초과의 상대 습도 (RH)이다. 다른 양태에서, 클린룸 공기의 습도는 5% RH 또는 그 초과이다. 추가의 양태에서, 클린룸 공기의 습도는 10% 또는 그 초과이다. 일부 양태에서, 상대 습도는 35% 내지 40%이다. 다른 양태에서, 습도는 약 5% 내지 약 99% RH일 수 있다. 다른 양태에서, 클린룸 공기의 습도는 약 10% 내지 약 99% RH일 수 있다. 특정 양태에서, 클린룸 공기의 습도는 80% 미만이다. 일 양태에서, 습도는 10% 내지 80%이다. 또 다른 양태에서, 상대 습도는 30% 내지 60%이다. 다른 양태에서, 습도는 35% 내지 40%이다. 다른 양태에서, 클린룸 공기의 습도는 56% 내지 59%이다.
본원에 사용되는 바와 같이, 생물학적 봉쇄 환경은 물질, 상세하게는 살아있는 유기물 예컨대 박테리아 및 바이러스가 룸 또는 설비에서 배출되는 것을 방지하도록 설계된 클린룸의 하위세트이다. 따라서, 생물학적 봉쇄 환경이 되도록 설계된 클린룸은 부압 하에 작동되도록 조작되고, 여기서 생화학적 부분으로부터의 유입 또는 배출은 클린룸으로 유입되는 공기를 생성한다. 결과적으로, 전형적인 클린룸과 같이 입자를 제거하여 공기질을 제공하도록 설계된 생물학적 봉쇄 환경은 대개 예를 들면 ISO 14644 분류 1 클린룸과 관련된 매우 높은 수준의 청정도의 일부를 달성할 수 없다. 그러나, 클린룸와 마찬가지로 규제 기관은 생물학적 봉쇄 환경에 대한 표준을 확립하였다. 질병 통제 예방센터는 생물안전도 수준 1 (BSL-1), 생물안전도 수준 2 (BSL-2), 생물안전도 수준 3 (BSL-3), 또는 생물안전도 수준 4 (BSL-4)로서 룸 및 설비 (예를 들면, 다중 룸 건물)를 지정한다. 이러한 표준은 본 기술분야의 당업자에게 알려져 있고, 인터넷 상에서, 예를 들면 www.cdc.gov/biosafety/publications/bmbl5/BMBL.pdf에서 찾을 수 있다. 본 개시내용은 생물안전도 수준 1 (BSL-1), 생물안전도 수준 2 (BSL-2), 생물안전도 수준 3 (BSL-3), 또는 생물안전도 수준 4 (BSL-4)로서 질병 통제 예방센터에 의해 지정된 생물학적 봉쇄 환경에 따르며, 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 갖는 클린룸을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 또한 본원에 제공되는 바와 같이, 생물학적 봉쇄 환경은 상기 논의된 바와 같이 최대 10 ppm의 수준으로 DHP 기체를 가질 수 있다. 이해될 수 있는 바와 같이, 생물학적 봉쇄 환경에의 DHP 기체의 첨가는 유기물 또는 제제 (박테리아, 바이러스, 및 독소)를 감소하거나 또는 근절시킴으로써 안전도의 추가적인 수준을 제공하고, 이 설비는 함유되도록 설계된다.
본 개시내용에 따른 양태에서, 생물학적 봉쇄 환경은 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 갖는 BSL-1 환경일 수 있다. 다른 양태에서, 생물학적 봉쇄 환경은 0.05 내지 10 ppm의 DHP 기체를 갖는 BSL-1 환경일 수 있다. BSL-1 환경에 대해 적합한 DHP 기체의 추가적인 수준은 문단 [0045]에 제공되어 있다.
본 개시내용에 따른 양태에서, 생물학적 봉쇄 환경은 비제한적으로 오토믹소비리다에, 알칼리게네스 파에칼리스, 아스페르길루스 니게르, 바실러스 세레우스, 바실러스 메가테리움, 바실러스 서브틸리스, 클로스트리듐 스포로게네스, 엔테로박터 에어로게네스, 엔테로박터 클로아케, 에스케리치아 콜라이, 마이크로코쿠스 로제우스, 마이크로코쿠스 루테우스, 마이코박테리움 스메그마티스, 나이세리아 시카, 나이세리아 서브플라바, 펜니실리움 노타툼, 라이조푸스 스톨로니퍼, 로도스피릴룸 루브럼, 세라티아 마르세스센스, 스타필로코쿠스 에피더미디스, 연쇄상구균 보비스, 또는연쇄상구균 (락토코쿠스) 락티스에 대한 작업에 적합한 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 갖는 BSL-1 환경일 수 있다.
본 개시내용에 따른 양태에서, 생물학적 봉쇄 환경은 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 갖는 BSL-2 환경일 수 있다. 다른 양태에서, 생물학적 봉쇄 환경은 0.05 내지 10 ppm의 DHP 기체를 갖는 BSL-2 환경일 수 있다. BSL-2 환경에 대해 적합한 DHP 기체의 추가적인 수준은 문단 [0045]에 제공되어 있다.
본 개시내용에 따른 양태에서, 생물학적 봉쇄 환경은 비제한적으로 C. 디피실레, 클라미디아, 간염바이러스, 비천연두 오르토폭스비리다에, 인플루엔자, 라임병, 살모넬라sp., 볼거리, 홍역, 스크라피, 메티실린-저항성 스타필로코쿠스 아우레스 (MRSA), 또는 반코마이신-저항성 스타필로코쿠스 아우레스 (VRSA)에 대한 작업에 적합한 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 갖는 BSL-2 환경일 수 있다.
본 개시내용에 따른 양태에서, 생물학적 봉쇄 환경은 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 갖는 BSL-3 환경일 수 있다. 다른 양태에서, 생물학적 봉쇄 환경은 0.05 내지 10 ppm의 DHP 기체를 갖는 BSL-3 환경일 수 있다. BSL-3 환경에 대해 적합한 DHP 기체의 추가적인 수준은 문단 [0045]에 제공되어 있다.
본 개시내용에 따른 양태에서, 생물학적 봉쇄 환경은 비제한적으로 예르시니아 페스티스, 프란시셀라 툴라렌시스, 라이쉬마니아 도노바니, 마이코박테리움 투베르쿨로시스, 클라미디아 프시타치, 베네주엘라 말뇌염 바이러스, 동부 말뇌염 바이러스, SARS 코로나바이러스, 콕시엘라 부르네티이, 리프트 밸리열 바이러스, 리케차리케트시, 브루셀라 sp., 광견병 바이러스, 치쿤군야, 황열병 바이러스, 및 웨스트 나일 바이러스에 대한 작업에 적합한 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 갖는 BSL-3 환경일 수 있다.
본 개시내용에 따른 양태에서, 생물학적 봉쇄 환경은 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 갖는 BSL-4 환경일 수 있다. 다른 양태에서, 생물학적 봉쇄 환경은 0.05 내지 10 ppm의 DHP 기체를 갖는 BSL-4 환경일 수 있다. BSL-4 환경에 적합한 DHP 기체의 추가적인 수준은 문단 [0045]에 제공되어 있다.
본 개시내용에 따른 양태에서, 생물학적 봉쇄 환경은 비제한적으로 아레나비리다에, 필로비리다에, 부니아비리다에, 플라비비리다에, 또는 라브도비리다에에 대한 작업에 적합한 적어도 0.05 ppm의 DHP 기체를 갖는 BSL-4 환경일 수 있다.
본 개시내용은 상기 클린룸에 대해 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 제공하는 것을 포함하는, 미생물에 의한 클린룸의 오염을 방지하는 방법을 위해 제공하고, 이를 포함한다. 과산화수소의 항균 활성은 일반적으로 알려져 있고, DHP 기체는 종래의 적용분야에 대한 유의미한 개선을 제공한다. 이전 방법과 대조적으로, DHP 기체는 비독성이고, 처리되는 클린룸의 점유 과정에서 사용하기에 적합하다. DHP 기체는 침착되지 않고, 이에 따라 클린룸 또는 클린룸에서 제조되는 제품의 표면을 오염시키지 않을 수 있다.
본 개시내용에 따른 양태에서, 미생물에 의한 클린룸의 오염을 방지하는 방법은 상기 문단 [0045]에 언급된 수준으로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함한다. 특정 양태에서, 본 방법은 최대 10 ppm로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함한다. 특정 양태에서, 본 방법은 적어도 0.05 내지 10 ppm로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함한다. 일 양태에서, 본 방법은 적어도 0.08 ppm로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함한다. 다른 양태에서, 본 방법은 적어도 1.0 ppm로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함한다. 또 다른 양태에서, 본 방법은 적어도 1.5 ppm로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함한다. 일 양태에서, 본 방법은 적어도 2.0 ppm로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함한다. 일 양태에서, 본 방법은 적어도 3.0 ppm로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함한다. 일 양태에서, 본 방법은 적어도 5.0 ppm로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함한다. 다른 양태에서, 본 방법은 적어도 6.0 ppm로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함한다. 일 양태에서, 제공되는 DHP 기체의 농도는 10 ppm 미만이다. 일 양태에서, 제공되는 DHP 기체의 농도는 9.0 ppm 미만이다. 다른 양태에서, 제공되는 DHP 기체의 농도는 8.0 ppm 미만이다. 일 양태에서, 제공되는 DHP 기체의 농도는 7.0 ppm 미만이다. 다른 양태에서, 제공되는 DHP 기체의 농도는 0.05 ppm 내지 10.0 ppm이다. 또 다른 양태에서, 제공되는 DHP 기체의 농도는 0.05 ppm 내지 5.0 ppm이다. 일 양태에서, 제공되는 DHP 기체의 농도는 0.08 ppm 내지 2.0 ppm이다. 또 다른 양태에서, 제공되는 DHP 기체의 농도는 1.0 ppm 내지 3.0 ppm이다. 일 양태에서, 제공되는 DHP 기체의 농도는 1.0 ppm 내지 8.0 ppm, 또는 5.0 ppm 내지 10.0 ppm이다. 다른 양태에서, 클린룸에 제공되는 DHP 기체의 농도는 DHP의 더 높고 그리고 더 낮은 농도 사이에서 순환된다. 비제한적인 예로서, DHP는 밤 시간 동안 더 높은 농도로 그리고 낮 시간 동안 더 낮은 농도로 제공될 수 있다.
본 개시내용에 따른 양태에서, 미생물에 의한 클린룸의 오염을 방지하는 방법은 바이러스, 비로이드, 바이러스-유사 유기체, 박테리움, 원생동물, 조류, 난균, 진균, 및 곰팡이를 포함하고, 이로 이루어진 군으로부터 선택되는 미생물을 근절시키거나 또는 이들 수를 감소시키기 위해 제공된다.
본 개시내용은 상기 클린룸으로 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 제공하는 것을 포함하는, 미생물에 의한 클린룸의 오염을 감소시키는 방법을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 본 개시내용에 따른 양태에서, 미생물에 의한 클린룸의 오염을 방지하기 위한 방법은 상기 문단 [0045] 및 [0079]에 인용된 수준으로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함한다.
본 개시내용에 따른 양태에서, 미생물에 의한 클린룸의 오염을 감소시키는 방법은 바이러스, 비로이드, 바이러스-유사 유기체, 박테리움, 원생동물, 조류, 난균, 진균, 및 곰팡이를 포함하고, 이로 이루어진 군으로부터 선택되는 미생물을 근절시키거나 또는 이들 수를 감소시키기 위해 제공된다.
본 개시내용은 상기 클린룸으로 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 제공하는 것을 포함하는 미생물에 의한 클린룸의 오염을 근절하는 방법을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 본 개시내용에 따른 양태에서, 미생물에 의한 클린룸의 오염을 근절시키는 방법은 상기 문단 [0045] 및 [0079]에 인용된 수준으로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함한다.
다양한 양태에서, 미생물은 진균, 고세균, 원생생물(protest), 원생동물(protozoa), 박테리움, 박테리아 포자, 박테리아 내생포자, 바이러스, 바이러스 벡터, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다. 다른 양태에서, 미생물은 나에글레리아 파울레리, 콕시디오이데스 임미티스, 바실러스 안트라시스, 헤모필루스 인플루엔자, 리스테리아 모노사이토게네스, 나이세리아 메닝자이티데스, 스타필로코쿠스 아우레스, 연쇄상 구균뉴모니애, 연쇄상 구균아갈락티아에, 슈도모나스 에어루기노사, 예르시니아 페스티스, 클로스트리듐 보툴리늄, 프란시셀라 툴라렌시스, 대두창, 니파 바이러스, 한타 바이러스, 피친데 바이러스, 크림-콩고 출혈열 바이러스, 에볼라 바이러스, 마르부르그 바이러스, 라사 바이러스, 쥬닌 바이러스, 인간 면역 결핍 바이러스 ("HIV"),또는 SARS-관련 코로나바이러스 ("SARS-CoV")로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
본 개시내용의 방법은 추가로 S. 아우레스, 알칼리게네스 크실로속시단스, 칸디다 파랍실로시스, 슈도모나스 에어루기노사, 엔테로박터, 슈도모나스 푸티다, 플라보박테리움 메닝고셉티쿰, 슈도모나스 피케티, 사이트로박터, 및 코리네박테리아로 이루어진 군으로부터 선택된 미생물의 감소 또는 근절을 제공한다. 본 개시내용은 추가로 C. 디피실레, 클라미디아, 간염 바이러스, 비천연두 오르토폭스비리다에, 인플루엔자, 라임병, 살모넬라 sp., 볼거리, 홍역, 스크라피, 메티실린-저항성 스타필로코쿠스 아우레스 (MRSA), 또는 반코마이신-저항성 스타필로코쿠스아우레스 (VRSA)를 제거하거나 또는 근절하는 방법을 포함한다. 추가의 양태에서, 본 개시내용은 예르시니아 페스티스, 프란시셀라 툴라렌시스, 라이쉬마니아 도노바니, 마이코박테리움 투베르쿨로시스, 클라미디아 프시타치, 베네주엘라 말뇌염 바이러스, 동부 말뇌염 바이러스, SARS 코로나바이러스, 콕시엘라 부르네티이, 리프트 밸리열 바이러스, 리케차 리케트시, 브루셀라 sp., 광견병 바이러스, 치쿤군야, 황열병 바이러스, 및 웨스트 나일 바이러스의 감소 또는 근절을 위해 제공한다.
본 개시내용은 바이러스를 감소시키거나 또는 근절하는 방법을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 기체, 액체 또는 증기로서 제공되는지 여부와 무관하게 H2O2에 대해 저항성인 임의의 유형의 공지된 바이러스는 존재하지 않는다. 중요하게는, 적어도 0.05 ppm의 농도로 DHP 기체를 포함하는 환경을 제공하는 것은 공기에 노출된 모든 유형의 바이러스에 대해 유효하다. 본 개시내용의 방법은 예를 들면, 아데노바이러스, 헤르페스바이러스, 및 폭스바이러스를 포함하는 이중 가닥 DNA (dsDNA) 바이러스를 포함하는 분류 I 바이러스; 단일가닥 DNA (ssDNA) 바이러스, 예를 들면 파보바이러스를 포함하는 부류 II 바이러스; 예를 들면 레오바이러스를 포함하는 분류 III 이중 가닥 RNA (dsRNA) 바이러스, 플러스 가닥 단일가닥 ((+)ssRNA) 바이러스, 예를 들면 피코나바이러스 및 토가바이러스를 포함하는 부류 IV 바이러스 (예를 들면, 레트로바이러스); 마이너스 가닥 단일가닥 RNA ((-)ssRNA) 바이러스, 예를 들면 아레나비리다에를 포함하는 오르토믹소바이러스 및 랩도바이러스를 포함하는 분류 V 바이러스, 라이프-주기에서 DNA 중간체를 갖는 RNA 게놈을 갖는 단일 가닥 RNA 역전사 (ssRNA-RT) 바이러스를 포함하는 분류 VI 바이러스; 및 이중 가닥 DNA 역전사 (dsDNA-RT) 바이러스를 포함하는 분류 VII 바이러스 (예를 들면, 간염바이러스를 포함하는 헤파드나바이러스)를 포함하는 모든 부류의 바이러스에 대해 유효하다. H2O2 기체는 모든 바이러스를 불활성화시키고, 사멸시키는데 유효한 것으로 예상된다. 저항성 바이러스는 공지되어 있지 않다.
본 개시내용은 비제한적으로 헤르레스비리다에 (헤르페스 바이러스, 수두대상포진 바이러스 포함), 아데노비리다에, 아스파비리다에 (아프리카 돼지열 바이러스 포함), 폴리오마비리다에 (유인원바이러스 40, JC 바이러스, BK 바이러스 포함), 및 폭스비리다에 (카우폭스 바이러스, 천연두 포함)로부터 선택된 군을 포함하는 모든 분류 I 바이러스에 대해 유효한 방법 및 조성물을 위해 제공된다.
본 개시내용은 비제한적으로 피코비르나비리다에 및 레오비리다에 (로타바이러스 포함)를 포함하는 모든 분류 III 바이러스에 대해 유효한 방법 및 조성물을 위해 제공된다.
본 개시내용은 비제한적으로 코로나비리다에 (코로나바이러스, SARS 포함), 피코르나비리다에 (폴리오바이러스, 리노바이러스 (보통 감기 바이러스), A형 간염 바이러스 포함), 플라비비리다에 (황열병 바이러스, 웨스트 나일 바이러스, C형 간염 바이러스, 뎅기열 바이러스 포함); 칼리시비리다에 (노로바이러스로도 공지된 노워크 바이러스 포함) 및 토가비리다에 (풍진 바이러스, 로스 리버 바이러스, 신드비스 바이러스, 치쿤군야 바이러스 포함)로 이루어진 군으로부터 선택된 계열을 포함하는 모든 분류 IV 바이러스에 대해 유효한 방법 및 조성물을 위해 제공된다. 본 개시내용은 노로바이러스에 대해 유효한 방법 및 조성물을 위해 제공된다.
본 개시내용은 공지된 대부분의 치명적 바이러스의 일부를 포함하는 9개의 바이러스 계열을 포함하는 모든 분류 V 바이러스에 대해 유효한 방법 및 조성물을 위해 제공된다. 본 개시내용의 방법은 계열 아레나비리다에, 분야비리다에, 라브도비리다에, 필로비리다에, 파라믹소비리다에의 바이러스를 감소시키거나 또는 근절하는데 유효하다.
본 개시내용은 비제한적으로 알파레트로바이러스, 베타레트로바이러스, 감마레트로바이러스, 델타레트로바이러스; 엡실론레트로바이러스, 및 렌티바이러스를 포함하는 분류 VI의 모든 레트로바이러스에 대해 유효한 방법 및 조성물을 위해 제공된다.
계열 보르나비리다에 (보르나 질환 바이러스 포함); 필로비리다에 (에볼라바이러스, 마르부르그 바이러스 포함); 파라믹소비리다에 (홍역 바이러스, 볼거리 바이러스, 니파 바이러스, 헨드라 바이러스, RSV 및 NDV 포함); 라브도비리다에 (광견병 바이러스 포함); 니아미비리다에 (니아바이러스 포함); 아레나비리다에 (라사 바이러스 포함); 분야비리다에 (한타 바이러스, 크림-콩고 출혈열 포함); 오피오비리다에 (식물을 감염시킴); 및 오토믹소비리다에 (인플루엔자 바이러스 포함).
본 개시내용은 그램 양성 및 그램 음성 박테리아를 포함하는 박테리아에 대해 유효한 방법 및 조성물을 위해 제공된다. 본 방법 및 조성물은 비제한적으로 아시네토박터 바우마니를 포함하는 아시네토박터,　 바실러스 안트라시스 및 바실러스 세레우스 바르토넬라를 포함하는 바실러스, 및 바르토넬라 헨셀라에 및 바르토넬라 퀸타나를 포함하는 바실러스 세레우스 바르토넬라; 보데텔라 페르투스시스를 포함하는 보데텔라; 보렐리아 버그도르페리, 보렐리아 가리니, 보렐리아 아프젤리이, 회귀열 보렐리아, 및 보렐리아 두토니를 포함하는 보렐리아; 브루셀라 아보르투스, 브루셀라 카니스, 브루셀라 멜리텐시스, 및 브루셀라 수이스를 포함하는 브루셀라; 캄필로박터 제주니를 포함하는 캄필로박터; 클라미디아 뉴모니애, 클라미디아 트라코마티스를 포함하는 클라미디아 및 클라마이도필라 및, 클로스트리듐 보툴리늄, 클로스트리듐 디피실레, 클로스트리듐 페르프린겐스, 및 클로스트리듐 테타니를 포함하는 클로스트리듐, 코라이네박테리움 디프테리아에를 포함하는 코라이네박테리움; 엔테로코쿠스 파에칼리스 및 엔테로코쿠스 패슘을 포함하는 엔테로코쿠스; 에스케리치아 콜라이를 포함하는 에스케리치아; 프란시셀라 툴라렌시스를 포함하는 프란시셀라; 헤모필루스 인플루엔자를 포함하는 헤모필루스; 헬리코박터 파일로리를 포함하는 헬리코박터, 레지오넬라 뉴모필라를 포함하는 레지오넬라; 렙토스피라 인테로간스, 렙토스피라 산타로사이, 렙토스피라 웨일리이, 및 렙토스피라 노구치를 포함하는 렙토스피라; 리스테리아 모노사이토게네스를 포함하는 리스테리아; M. 카타르할리스를 포함하는 모락셀라; 마이코박테리움 레프라에, 마이코박테리움 투베르쿨로시스, 및 마이코박테리움 울세란스를 포함하는 마이코박테리움; 마이코플라스마 뉴모니애를 포함하는 마이코플라스마; 나이세리아 고노르호아에, 및 나이세리아 메닌기티디스를 포함하는 나이세리아; 슈도모나스 에어루기노사를 포함하는 슈도모나스; 리케차 리케트시를 포함하는 리케차; 살모넬 타이피, 및 살모넬라 타이피뮤리움를 포함하는 살모넬라; 시겔라 손네이를 포함하는 시겔라; 스타필로코쿠스 아우레스, 스타필로코쿠스 에피더미디스, 및 스타필로코쿠스 사프로피티쿠스를 포함하는 스타필로코쿠스; 연쇄상구균 아갈락티아에, 연쇄상구균 뉴모니애, 및 연쇄상구균 파이오제네스를 포함하는 연쇄상구균 ; 트레포네마 팔리둠을 포함하는 트레포네마; 비브리오 콜레라에를 포함하는 비브리오; 예르시니아 페스티스, 예르시니아 엔테로콜리티카, 및 예르시니아 슈도투베르쿨로시스를 포함하는 예르시니아를 포함하는 병원성 박테리아에 대해 유효하다.
본 개시내용은 비제한적으로 메티실린 저항성 스타필로코쿠스 아우레스 (MRSA), 반코마이신 저항성 엔테로코쿠스 파에칼리스 (VRE)를 포함하는 항생제 저항성 박테리아에 대해 유효한 방법 및 조성물을 위해 제공된다.
본 개시내용은 비제한적으로 아스페르길루스 spp., 칸디다 알비칸스, 스클레로티니아 또는폐포자충 spp를 포함하는 진균 및 곰팡이 병원체에 대해 유효한 방법 및 조성물을 위해 제공된다. 다른 양태에서, 진균은 털곰팡이 속으로부터의 것이다. 다른 양태에서, 본 개시내용은 히스토플라즈마 캅술라툼, 블라스토마이세스, 크립토코쿠스 네오포르만스, 폐포자충 지로베시, 콕시디오이데스 임미티스, 블라스토마이세스 더마티티디스, 뉴모사이스티스 지로베시, 스포로트릭스 쉔크키, 크립토코쿠스 네오포르만스, 아스페르길루스 푸미가투스, 및 칸디다 알비칸스로 이루어진 군으로부터 선택된 진균에 대해 유효한 방법 및 조성물을 위해 제공된다.
본 개시내용은 상기 클린룸으로 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 제공하는 것을 포함하는, 클린룸에서의 유기 화합물을 감소시키는 방법을 위해 제공하고, 이를 포함한다. 본 개시내용에 따른 양태에서, 유기 화합물을 감소시키는 방법은 상기 문단 [0045] 및 [0079]에서 인용되는 수준으로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함한다.
본 개시내용은 상기 클린룸으로 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 제공하는 것을 포함하는, 클린룸에서 휘발성 유기 종의 수준을 감소시키는 방법을 위해 제공하고, 이를 포함한다. 본 개시내용에 따른 양태에서, 유기 화합물을 감소시키는 방법은 상기 문단 [0045] 및 [0079]에서 인용하는 수준으로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함한다.
특정 양태에서, 클린룸에서 휘발성 유기 종의 수준을 감소시키는 방법은 비스(2-에틸헥실) 벤젠-1,2-디카복실레이트 (DOP), 트리에틸포스페이트 (TEP), 부틸화된 하이드록시 톨루엔 (BHT), 텍사놀 이소부티레이트 (TXIB), 트리부틸 포스페이트 (TBP), 디부틸 포스페이트 (DBP)로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 휘발성 유기 종에서의 감소를 포함한다.
본 개시내용은 PHPG 발생 장치를 설치하는 것을 포함하는, 클린룸으로 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 제공하는 방법을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 본 개시내용에 따른 양태에서, PHPG 발생 장치는 상기 문단 [0049]에서 제공되는 장치이다. 본 개시내용에 따른 양태에서, PHPG 발생 장치는 이의 표면 상에 촉매를 갖는 공기 투과성 기재 구조물, 광의 공급원을 포함하고, 여기서 공기는 상기 공기 투과성 기재 구조물을 통해 유동하고, 장치는 PHPG를 생성하고, 상기 공기 투과성 기재 구조물로부터 멀어지도록 이를 유도한다. 일 양태에서, PHPG 발생 장치의 광원은 UV 광이다. 특정 양태에서, PHPG 발생 장치의 UV 광은 187 nm 미만의 광의 파장을 포함하지 않는다. 특정 양태에서, PHPG 발생 장치는 공기 투과성 기재 구조물을 통해 기류를 공급하는 팬을 포함한다. 다른 양태에서, HVAC 시스템은 기류를 제공한다.
본 개시내용의 적합한 PHPG 발생 장치는 오존, 플라즈마 종, 또는 유기 종을 실질적으로 함유하지 않는 DHP 기체를 생성한다. 적합한 PHPG 발생 장치는 기화된 과산화수소 액체로부터 DHP 기체를 제조하지 않는다. 따라서, 본 방법의 DHP 기체는 비수화된 것이다. 일 양태에서, PHPG 발생 장치는 공기 조화 설비(HVAC) 시스템의 부품으로서 포함된다. 다른 양태에서, PHPG 발생 장치는 자립형 장치일 수 있다. 본 개시내용에 따른 양태에서, 본 방법의 PHPG 발생 장치는 습윤 주위 공기로부터 DHP 기체를 발생시킨다.
본 개시내용은 실리콘 웨이퍼 제조 설비 클린룸으로 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 제공하는 것을 포함하는, 실리콘 웨이퍼 제조 과정에서 유기 종 흡착-유도 오염을 감소시키는 방법을 위해 제공되고, 이를 포함한다. 본 개시내용에 따른 양태에서, 실리콘 웨이퍼 제조 과정에서 유기 종 흡착-유도 오염을 감소시키는 방법은 상기 문단 [0045] 및 [0079]에서 인용된 수준으로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함한다.
본원에 제공된 바와 같이, 실리콘 웨이퍼 제조 과정에서 유기 종 흡착-유도 오염을 감소시키는 방법은 스테아르산, 부틸화된 하이드록시 톨루엔, 실록산, 4-도데실벤젠설폰산, n-펜타데칸, 비스(2-에틸헥실) 벤젠-1,2-디카복실레이트 (DOP), 3,4-디부틸프탈산 (DBP), 디에틸프탈레이트 (DEP), 트리스(2-클로로에틸) 포스페이트 (TCEP), 트리페닐 포스페이트 (TPP), 트리에틸 포스페이트 (TEP), 헥산디오에이트 (DOA), 2,2-디부틸헥산디오익산 (DBA), 및 2,6-디tert-부틸-4-메틸페놀 (BHT)로 이루어진 군으로부터 선택된 유기 종의 감소를 포함한다. 일 양태에서, 유기 종 흡착-유도 오염은 적어도 10%까지 감소된다.
본 발명은 특정 구현예를 참조하여 기술되어 있는 한편, 본 기술분야의 당업자는 다양한 변화가 이루어질 수 있고, 동등물은 본 발명의 범위로부터 벗어남 없이 이의 구성요소를 치환할 수 있음을 이해할 것이다. 또한, 본 발명의 범위를 벗어남 없이 본 발명의 교시에 대해 특정 상황 또는 물질에 적용하기 위해 수많은 변형이 이루어질 수 있다.
따라서, 특정 구현예에 제한되지 않는 본 발명은 이러한 발명을 실시하기 위한 것으로 고려되는 최적 방식으로서 개시되나, 본 발명은 첨부된 청구항의 범위 및 사상에 포함되는 모든 구현예를 포함할 것으로 의도된다.
실시예
실시예 1: 지오바실스러 서브틸리스 포자의 조절을 위한 DHP의 실험실 시험
지오바실러스 서브틸리스 포자에 대한 DHP 기체의 효과는 공간 내의 DHP 기체의 간접적 분포를 사용하여 포자를 사멸시키는 것에 대한 효능을 결정하기 위해 수행되었다. 이러한 실험에서, G. 서브틸리스 포자에서의 사망률은 DHP 기체에 가해지는 G. 서브틸리스 포자로 함침된 필터 스트립을 사용하여 분석하였다. 시험 스트립은 특정 기간 동안 DHP에 노출 이후 시각적 판독을 제공한다. G. 서브틸리스 함침된 시험 스트립을 DHP에 우선 노출시키고, 이들을 트립틱 소이 브로스 용액에 침지시키고, 24시간 배양 기간 동안 건조 배스에 배치하였다. 배양 기간 이후, 각각의 시험 스트립을 분석하여 임의의 생존한 박테리아의 존재를 결정하였다. 24시간 배양 기간의 종료 이전에 색상에서의 변화 또는 존재 탁도(presence turbidity)는 DHP에 대한 노출 이후 생존한 포자가 존재하는 것을 나타낸다. 결론적으로, 24시간 배양 기간의 종료 이전 색상 또는 탁도의 변화의 부재는 G. 서브틸리스 포자의 박멸을 나타낸다. 결과는 하기 표 2에 나타나 있다.
표 2: 실험실 시험에서 지오바실러스 서브틸리스 포자에 대한 DHP의 효과
Figure pct00002
Figure pct00003
실시예 2: 보틀링 설비에 대한 모듈식 클린룸의 응용
소프트 드링크 보틀링 설비(Soft drink bottling facility) (예를 들면, 통조림화)는 제조 과정에서 제품의 오염을 방지하기 위해 높은 수준의 청정도를 요구한다. 이를 달성하기 위해, 보틀링 기계는 살균 환경을 유지하는 공기 여과 시스템이 구비되어 있다. 실시에 있어서, 필터가 구비된 보틀링 라인은 필터가 교체될 것이 요구되기 이전에 약 3x106 개의 캔을 담을 수 있다. 필터는 매우 고가이고, 마감처리된 제품의 전체 제조 비용의 상당한 부분에 기여한다. 여과된 공기질이 특정 요건 아래로 떨어지는 경우에 필터는 정기적 간격으로 교체된다.
필터의 수명을 증가시키기 위해, 주문 제작한 7 x 4 x 4 피트 모듈식 클린룸은 제조 설비에서의 보틀링 기계 주변에 설치되고 PHPG 발생 장치를 구비한다. 주문 제작한 모듈식 클린룸은 바닥에서 3 인치 갭을 남겨두고 캐닝 기계(canning machine)를 둘러싼다. 이에 따라 캐닝 기계를 둘러싸는 모듈식 클린룸은 상기 문단 [0065]에서 제공되는 바와 같이 둘러싸인 부분보다 더 높은 기압에서 작동된다. 모듈식 클린룸은 여과된 습윤 (~60%) 공기를 제공하는 설비의 HVAC 시스템과 별개인 통기 시스템이 구비되고, 추가로 국제특허공개번호 WO 2015/171633에 기재된 PHPG 발생 장치가 구비된다. PHPG 장치를 사용하여, 보틀링 필터 및 장비를 둘러싼 모듈식 클린룸은 DHP 기체의 5.0 ppm의 수준으로 연속적으로 유지된다. PHPG의 존재 하에 작동되는 경우, 필터는 적어도 6주 동안 요구되는 수준의 여과를 유지하기를 지속하여 12 x 106 개의 제품의 캔과 동등한 생산 라인을 제공한다. DHP 기술의 응용은 필터의 수명에 있어서 적어도 4배의 증가를 야기하고, 이는 상당한 비용 절감을 야기한다.

Claims (64)

  1. 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 희석 과산화수소 (DHP) 기체를 포함하는 클린룸.
  2. 제1항에 있어서, 상기 DHP 기체의 농도는 최대 10.0 ppm인 클린룸.
  3. 제1항에 있어서, 상기 클린룸이 ISO 14644 분류 1 클린룸, ISO 14644 분류 2 클린룸, ISO 14644 분류 3 클린룸, ISO 14644 분류 4 클린룸, ISO 14644 분류 5 클린룸, ISO 14644 분류 6 클린룸, ISO 14644 분류 7 클린룸, 또는 ISO 14644 분류 8 클린룸인 클린룸.
  4. 제1항에 있어서, 상기 클린룸이 BS 5295 분류 1 클린룸, BS 5295 분류 2 클린룸, BS 5295 분류 3 클린룸, 또는 BS 5295 분류 4 클린룸인 클린룸.
  5. 제1항에 있어서, 상기 클린룸이 EU GMP 등급 A 클린룸, EU GMP 등급 B 클린룸, EU GMP 등급 C 클린룸, EU GMP 등급 D 클린룸인 클린룸.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 클린룸이 모듈식 클린룸인 클린룸.
  7. 제1항에 있어서, 상기 DHP 기체는 공기 조화 설비(HVAC) 시스템에 의해 제공되는 클린룸.
  8. 제7항에 있어서, 상기 HVAC 시스템은 0.015 백만분율 (ppm) 이하의 오존을 포함하는 DHP 기체를 제공하는 클린룸.
  9. 제7항에 있어서, 상기 HVAC 시스템은 재순환되는 공기 시스템을 포함하는 클린룸.
  10. 제9항에 있어서, 상기 HVAC 시스템은 하나 이상의 정제된 과산화수소 기체 (PHPG) 발생 장치를 포함하는 클린룸.
  11. 제7항에 있어서, 연방 표준 209에 따른 고효율 미립자 공기 (HEPA) 여과 시스템을 더 포함하는 클린룸.
  12. 제11항에 있어서, 상기 HEPA 여과 시스템은 Mil-F-51068 또는 IEST-RP-CC-001에 따라 0.3 미크론의 입자에 대해 적어도 99.97% 효율적인 적어도 하나의 필터를 포함하는 클린룸.
  13. 제7항에 있어서, 상기 HVAC 시스템은 소진된 공기 및 누출로 인한 공기 손실을 보충하는 보급 공기 시스템을 더 포함하는 클린룸.
  14. 제13항에 있어서, 상기 보급 공기 시스템은 0.015 백만분율 (ppm) 이하의 오존을 포함하는 DHP 기체를 제공하는 클린룸.
  15. 제13항에 있어서, 상기 보급 공기 시스템은 하나 이상의 PHPG 발생 장치를 포함하는 클린룸.
  16. 제13항에 있어서, 상기 보급 공기 시스템은 30% ASHRAE 필터, 60% ASHRAE 필터, 또는 95% ASHRAE 필터로부터 선택된 하나 이상의 필터를 포함하는 클린룸.
  17. 제1항에 있어서, 상기 DHP 기체는 0.015 백만분율 (ppm) 이하의 오존을 포함하는 DHP 기체를 제공하는 자립형 PHPG 발생 장치에 의해 제공되는 클린룸.
  18. 제17항에 있어서, 상기 PHPG 발생 장치에 의해 생성되는 상기 DHP 기체는 수화물, 오존, 플라즈마 종, 또는 유기 종을 함유하지 않는 클린룸.
  19. 제1항에 있어서, 상기 클린룸이 모듈식 설비인 클린룸.
  20. 제1항에 있어서, 상기 클린룸이 난류형 클린임 클린룸.
  21. 제1항에 있어서, 상기 클린룸이 층류형 클린임 클린룸.
  22. 제1항에 있어서, DHP 기체를 포함하는 상기 클린룸은 미국 직업 안전 위생국 (OSHA), 노동 안전 위생 종합연구소 (NIOSH), 또는 미국 산업위생 전문가 협회 (ACGIH) 표준에 따라 연속적인 인간 점유에 대해 안전한 것인 클린룸.
  23. 제1항에 있어서, 상기 클린룸이 약학용 클린룸인 클린룸.
  24. 제1항에 있어서, 상기 클린룸이 생물약제학용 클린룸인 클린룸.
  25. 제1항에 있어서, 상기 클린룸이 반도체 제조용 클린룸인 클린룸.
  26. 제1항에 있어서, 상기 클린룸이 부유 분자 감소된 수준의 오염물질을 갖는 클린룸.
  27. 제1항에 있어서, 상기 클린룸의 내부 표면이 페놀성 플라스틱, 유리 강화 플라스틱, 강철, 코팅된 강철, 알루미늄, 에폭시 코팅된 콘크리트 블록, 드라이웰 및 비닐, 및 하이 빌드 마감을 갖는 드라이웰로 이루어진 군으로부터 선택되는 클린룸.
  28. 제19항에 있어서, 공기 변화율이 1 내지 360의 시간당 공기 변화 (ACH)인 클린룸.
  29. 제21항에 있어서, 평균 공기 속도는 0.005 m/s 내지 0.508 m/s인 클린룸.
  30. 제1항에 있어서, 상기 클린룸은 인접 부분보다 더 높은 압력에서 유지되는 클린룸.
  31. 제30항에 있어서, 상기 클린룸은 상기 인접한 비-클린룸 부분보다 적어도 5 Pa 더 높은 압력을 갖는 클린룸.
  32. 제31항에 있어서, 상기 클린룸은 상기 인접한 비-클린룸 부분보다 5 내지 50 Pa 더 높은 압력을 갖는 클린룸.
  33. 제1항에 있어서, 에어락, 통로 에어락, 또는 대기실을 더 포함하는 클린룸.
  34. 제33항에 있어서, 상기 에어락 또는 대기실은 인터락을 더 포함하는 클린룸.
  35. 제33항에 있어서, 상기 에어락 또는 대기실은 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 포함하는 클린룸.
  36. 제1항에 있어서, 상기 클린룸은 20-22℃ 또는 18.9℃의 온도에서 유지되는 클린룸.
  37. 제1항에 있어서, 상기 클린룸의 상대 습도는 1 내지 99%인 클린룸.
  38. 제37항에 있어서, 상대 습도는 30 내지 60%의 상대 습도인 클린룸.
  39. 제1항에 있어서, 상기 클린룸은 생물안전도 수준 1 (BSL-1), 생물안전도 수준 2 (BSL-2), 생물안전도 수준 3 (BSL-3), 또는 생물안전도 수준 4 (BSL-4)로서 질병 통제 예방센터에 의해 지정된 생물학적 봉쇄 환경을 포함하는 클린룸.
  40. 제39항에 있어서, 상기 생물학적 봉쇄 환경은 인접 비-클린룸 부분에 대해 부압을 갖는 클린룸.
  41. 제39항에 있어서, 상기 BSL-1 환경은 오토믹소비리다에, 알칼리게네스 파에칼리스, 아스페르길루스 니게르, 바실러스 세레우스, 바실러스 메가테리움, 바실러스 서브틸리스, 클로스트리듐 스포로게네스, 엔테로박터 에어로게네스, 엔테로박터 클로아케, 에스케리치아 콜라이, 마이크로코쿠스 로제우스, 마이크로코쿠스 루테우스, 마이코박테리움 스메그마티스, 나이세리아 시카, 나이세리아 서브플라바, 펜니실리움 노타툼, 라이조푸스 스톨로니퍼, 로도스피릴룸 루브럼, 세라티아 마르세스센스, 스타필로코쿠스 에피더미디스, 연쇄상구균 보비스, 또는 연쇄상구균 (락토코쿠스) 락티스에 대한 작업에 대해 적합한 것인 클린룸.
  42. 제39항에 있어서, 상기 BSL-2 환경은 C. 디피실레, 클라미디아, 간염 바이러스, 비천연두 오르토폭스비리다에, 인플루엔자, 라임병, 살모넬라 sp., 볼거리, 홍역, 스크라피, 메티실린-저항성 스타필로코쿠스아우레스 (MRSA), 또는 반코마이신-저항성 스타필로코쿠스아우레스 (VRSA)에 대한 작업에 대해 적합한 것인 클린룸.
  43. 제39항에 있어서, 상기 BSL-3 환경은 예르시니아 페스티스, 프란시셀라 툴라렌시스, 라이쉬마니아 도노바니, 마이코박테리움 투베르쿨로시스, 클라미디아 프시타치, 베네주엘라 말뇌염 바이러스, 동부 말뇌염 바이러스, SARS 코로나바이러스, 콕시엘라 부르네티이, 리프트 밸리열 바이러스, 리케차 리케트시, 브루셀라 sp., 광견병 바이러스, 치쿤군야, 황열병 바이러스, 및 웨스트 나일 바이러스에 대한 작업에 대해 적합한 것인 클린룸.
  44. 제39항에 있어서, 상기 BSL-4 환경은 아레나비리다에, 필로비리다에, 부니하비리다에, 플라비비리다에, 또는 라브도비리다에에 대한 작업에 대해 적합한 것인 클린룸.
  45. 상기 클린룸으로 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함하는, 미생물에 의한 클린룸의 오염을 방지하는 방법.
  46. 제39항에 있어서, 상기 미생물은 바이러스, 비로이드, 바이러스-유사 유기체, 박테리움, 원생동물, 조류, 난균, 진균, 및 곰팡이로 이루어진 군으로부터 선택되는 방법.
  47. 상기 클린룸으로 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함하는, 미생물에 의한 클린룸의 오염을 감소시키는 방법.
  48. 클린룸으로 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함하는, 미생물에 의한 클린룸의 오염을 근절하는 방법.
  49. 클린룸으로 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함하는, 클린룸에서 유기 화합물을 감소시키는 방법.
  50. 상기 클린룸으로 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함하는, 클린룸에서 휘발성 유기 종의 수준을 감소시키는 방법.
  51. 제50항에 있어서, 상기 휘발성 유기 종은 비스(2-에틸헥실) 벤젠-1,2-디카복실레이트 (DOP), 트리에틸포스페이트 (TEP), 부틸화된 하이드록시 톨루엔 (BHT), 텍사놀 이소부티레이트 (TXIB), 트리부틸 포스페이트 (TBP), 디부틸 포스페이트 (DBP)로 이루어진 군으로부터 선택되는 방법.
  52. 이의 표면 상에 촉매를 갖는 공기 투과성 기재 구조물, 광의 공급원을 포함하는 PHPG 발생 장치를 설치하는 것을 포함하는 상기 클린룸으로 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 제공하는 방법으로서, 여기서 공기가 상기 공기 투과성 기재 구조물을 통해 유동하고, 장치는 PHPG를 생성하고, 상기 공기 투과성 기재 구조물로부터 멀어지도록 이를 유도하는 방법.
  53. 제52항에 있어서, 상기 PHPG 발생 장치에 의해 생성된 상기 DHP 기체는 수화물, 오존, 플라즈마 종, 및 유기 종을 함유하지 않는 방법.
  54. 제52항에 있어서, 상기 기류는 HVAC 시스템에 의해 제공되는 방법.
  55. 제52항에 있어서, 상기 DHP 기체는 습윤 주위 공기로부터 제조되는 방법.
  56. 제55항에 있어서, 상기 DHP 기체는 기화된 과산화수소 액체로부터 제조되지 않는 방법.
  57. 제52항에 있어서, 상기 DHP 기체는 자립형 PHPG 발생 장치에 의해 공급되는 방법.
  58. 제52항에 있어서, 상기 PHPG 발생 장치는 상기 기류를 공급하는 팬을 더 포함하는 방법.
  59. 제52항에 있어서, 상기 광의 공급원은 UV 광인 방법.
  60. 제52항에 있어서, 상기 광의 공급원은 UV 광이고, 187 nm 미만의 파장을 포함하지 않는 방법.
  61. 제52항에 있어서, 상기 공기 투과성 기재 구조물은 약 5 nm 내지 약 750 nm의 두께인 방법.
  62. 실리콘 웨이퍼 제조 설비 클린룸으로 적어도 0.05 백만분율의 농도 (ppm)로 DHP 기체를 제공하는 것을 포함하는, 실리콘 웨이퍼 제조 과정에서 유기 종 흡착-유도된 오염을 감소시키는 방법.
  63. 제62항에 있어서, 상기 유기 종은 스테아르산, 부틸화된 하이드록시 톨루엔, 실록산, 4-도데실벤젠설폰산, n-펜타데칸, 비스(2-에틸헥실) 벤젠-1,2-디카복실레이트 (DOP), 3,4-디부틸프탈산 (DBP), 디에틸프탈레이트 (DEP), 트리스(2-클로로에틸) 포스페이트 (TCEP), 트리페닐 포스페이트 (TPP), 트리에틸 포스페이트 (TEP), 헥산디오에이트 (DOA), 2,2-디부틸헥산디오익산 (DBA), 및 2,6-디tert-부틸-4-메틸페놀 (BHT)로 이루어진 군으로부터 선택되는 방법.
  64. 제62항에 있어서, 상기 유기 종 흡착-유도된 오염은 적어도 10%가지 감소되는 방법.
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