JP2018513343A

JP2018513343A - 希薄過酸化水素（ｄｈｐ）ガスを含むクリーンルームおよびその使用方法

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Publication number: JP2018513343A
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Inventors: ジェイムズ・ディ・リー; ダグラス・ジェイ・ボスマ
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Abstract

殺菌された状態をもたらす希薄過酸化水素（DHP）ガスを有する改良されたクリーンルームが提供される。また、揮発性有機化合物（VOC）のレベルが低下したDHPガスを含むクリーンルーム、およびDHPガスを有するクリーンルームを調製する方法が提供される。

Description

本開示は、全般的に、殺菌された状態をもたらす希薄過酸化水素（DHP）ガスを含む改良されたクリーンルームに関する。本開示は更に、揮発性有機化合物（VOC）のレベルが低下した、DHPガスを含むクリーンルームに関する。本開示はまた、DHPガスを含むクリーンルームを調製する方法に関する。

過酸化水素（H₂O₂）は強酸化性物質であり、かつ抗菌および殺菌の特性ならびに有機化合物に対する活性がよく知られている。過酸化水素はまた、揮発性有機化合物（VOC）に対する活性を有し、それらを酸化させ、それらを加水分解し、それらを分解する。過酸化水素は、とりわけ、ホルムアルデヒド、二硫化炭素、炭水化物、有機リン化合物および窒素化合物、および多くの他のより複雑な有機分子を加水分解する。過酸化水素は、一般的に約3〜90％の無色液体として、または水溶液として商業的に多量に生成されている。メルクインデックス第10版の4705〜4707を参照されたい。過酸化水素は、最近、オゾン、プラズマ種、または有機種を含まない精製過酸化水素ガス（PHPG）として生成できることが示された。

PHPGは、水和エアゾールおよび揮発した形態を含む液体形態の過酸化水素とは別個の、過酸化水素の非水和ガスの形態である。過酸化水素水のエアロゾル化しかつ気化した形態は、典型的に1立方ミクロンにつき5〜25の分子を含有する空気を含んだPHPGと比較して、1立方ミクロン当たり1×10⁶個の分子を含む極めて高い濃度の過酸化水素を含んでいる。過酸化水素のエアロゾルおよび蒸気は、過酸化水素の水溶液から調製されるととともに、エアロゾルが水和されており、かつ液滴の寸法に関係なく重力下で沈殿するので、PHPGとは異なるものである。蒸気の形態は凝縮して沈殿する。過酸化水素のエアロゾル化させた形態は効果的な抗菌物質であるが、それらは有毒でありかつ居住空間には極めて不適当であると一般的にみなされている。例えば、Kahnertらによる「Decontamination with vaporized hydrogen peroxide is effective against Mycobacterium tuberculosis」、Lett Appl Microbiol.40（6）：448−52（2005）を参照されたい。気化させた過酸化水素の適用は、爆発性の蒸気、有害な反応、腐食性、および労働者の安全性の懸念により制限されてきた。Agallocoらによる「Overcoming Limitations of Vaporized Hydrogen Peroxide」、Pharmaceutical Technology，37（9）：1−7（2013）を参照されたい。更に、典型的に150〜700ppmの濃度のエアロゾルの形態で処理した空間は、水、酸素、および過酸化水素への分解により過酸化水素が還元されるまで、居住には不適当な状態を維持する。PHPGの使用は、エアロゾル化させた過酸化水素の毒性の課題を解決する。過酸化水素の気化したおよび液体の形態は、連続して安全な抗微生物性および酸化活性をもたらすことができる。

PHPGは、非水和物であり、かつ本質的に理想気体としてふるまう。この形態において、PHPGはほぼ理想気体としてふるまい、環境の全体に自由に拡散して1立方ミクロンの空気当たり約25の分子の平均濃度を達成する。PHPGは、ガスとして、ほとんどの多孔質材料を貫通し、本質的に自由に拡散して気密でないあらゆる空間を占拠する。過酸化水素のガスの形態は、最大で10ppmの濃度で存在するときには、沈殿し、付着し、または凝縮することがない。PHPGは、完全に「環境保護的」であり、かつ水と酸素に分解するので残留物を残さない。

重要なことは、過酸化水素を気化させかつエアロゾル化させた形態とは対照的に、最大1ppmの過酸化水素を含む環境は、職業安全衛生管理局（OSHA）、国立労働安全衛生研究所（NIOSH）、または米国産業衛生専門家会議（ACGIH）の規格の下で、連続する人間の滞在にとって安全であると指定されたことである。10ppmもまた、規制当局によって未だ認められていないが、人間の滞在にとって安全であると考えられる。PHPGを発生させる装置の出現により、現時点では、適切な研究を実行することができる。PHPGの有効な量を生成する能力と、希薄過酸化水素（DHP）ガスとして存在するときのPHPGの安全性は、抗菌物質としてその効果と組み合わせると、無数の有益な用途をもたらす。

ともにLeeに対して発行された、2012年5月1日付けの米国特許第8，168，122号および2014年4月1日付けの米国特許第8，685，329号は、環境における微生物の管理および／または消毒／浄化のためのPHPGを調製する方法および装置を開示している。国際特許公開第WO2015／171633号として公開された国際特許出願第PCT／US2015／029276号は、PHPGのより高い安定状態を達成できる改良されたPHPGの発生方法および装置を提示している。国際特許公開第WO2014／186805号として公開された国際特許出願第PCT／US2014／038652号は、昆虫およびクモ形類動物を含む節足動物の制御のためのPHPGの効果および使用を開示している。国際特許公開第WO／2015／026958号として2015年2月26日に公開された国際特許出願第PCT／US2014／051914号は、哺乳類の肺における感染に対する抵抗力の増加および低チオシアン酸塩イオンの増加を含む、呼吸器の健康についてのPHPGの有益な効果を開示している。上記の出願の各内容はこの参照によりその全体が本明細書に援用される。

クリーンルームは60年代における導入から、産業および健康管理の両方の環境にとってますます重要になっている。半導体製造におけるそれらの広範囲な使用に加えて、クリーンルームは、医薬の生成、ならびに、例えばバイオセーフティ環境の一部として生体臨床医学研究施設に用いられている。クリーンルームは、例えば塵のような浮遊微粒子の濾過法を用いた制御および低減をもたらすとともに、浮遊微粒子の寸法、数および分布によって特徴付けられる。クリーンルームは、一般的に無菌環境としては維持されないが、微生物の負荷を低減する限られた方法において紫外光を用いることができる。クリーンルームは、揮発性の化合物を取り除くために換気システムを備えることもできるが、浮遊している化合物および微粒子だけを取り除くことができる。

クリーンルームは、許容される空気の体積当たりの粒子の数および粒度に従って分類される。クリーンルームの分類および基準は、国際標準化機構（ISO）によって定められてきた。ISO 14644規格は、米国連邦規格209E（FS209E）の下で最初に文書化された。現在のバージョンの規格は2000年に公開されたISO 14644−2である。基準を達成するためのこれらの規格および方法は、当技術分野で知られている。

潜在的に危険な生物学的薬剤が放出されず、かつ労働者を潜在的な汚染から保護するための様々なレベルの封じ込めをもたらす、封じ込められた研究設備である、クリーンルームに関する。米国においては疾病管理予防センター（CDC）により指定された4つのレベル、BSL−1〜BSL−4がある。http：／／www.cdc.gov／biosafety／publications／bmbl5／BMBL5＿sect＿IV.pdf.を参照されたい。微生物学および生医学の研究室（BMBL）におけるバイオセーフティのための連邦ガイドラインは、当業者には知られており、最新のバージョンはBMBL第5版（2009年12月）である。BMBLは、www.cdc.gov／biosafety／publications／bmbl5／において、インターネット上で見出すことができる。類似のレベルは欧州連合および他において定められている。

クリーンルームの製造に用いる材料は、粒子の発生を除去するように選択される。したがって、例えば紙および天然繊維材料といった一般的な材料であっても、これらが粒子汚染の重要な供給源となり得るので、クリーンルームからは除外される。したがって、クリーンルームは、粒子の形成を防止するために、平滑に仕上げられて鋭角および縁部を減少させた、硬い不透過性の材料から構成される。とりわけ、フェノール樹脂、ガラス強化プラスチック、および鋼は適切な材料の1つである。乾式壁体といったより一般的な材料を用いる場合、粒子の生成を防止するために表面を封止して仕上げる必要がある。特に、多くの材料がクリーンルームの目的を妨げ得る不必要な有機種のガスを放出する。より具体的には、クリーンルームの構造材料に由来する様々な有機種は、半導体を生産する間にシリコンウエハの表面上の不純物を生じさせ得る。下記の表1は、一般的なクリーンルームの構造材料から放出されるガスの化合物の例を提示している。これらの有機化合物は望ましくない。

出典：Gutowski，T.，Oikawa，H.，and Kobayashi，S. airborne Molecular contamination Control of Materials Utilized in the Construction of a Semiconductor Manufacturing Facility.1997 SPWCC Proceedings，vol.II，page 143.

これらの化合物は、例えば半導体の生産を妨げるので、クリーンルームを製造するために用いられる材料により放出される化合物を除去しあるいは破壊できるクリーンルームの必要性がある。

更に、望ましくない有機化合物、例えばクリーンルームの表面上に沈殿する有機化合物を取り除きあるいは破壊できる改良されたクリーンルームが望ましい。濾過および他の除去の方法の前にクリーンルーム環境内の有機化合物の破壊をもたらす、改良されたクリーンルームもまた非常に望ましい。

クリーンルームは、一般的に微粒子の除去を対象とし、無菌ではない。したがって、例えば細菌、菌類、カビおよびウイルスといった微生物の減少または除去をもたらす、改良されたクリーンルーム設備が望ましい。

本開示は、少なくとも0.05百万分率の濃度の希薄過酸化水素（DHP）ガスを含むクリーンルームもたらし、かつ含む。

より詳しくは、本開示は、少なくとも0.05百万分率の濃度の希薄過酸化水素（DHP）ガスを含むISO 14644クラス1のクリーンルーム、ISO 14644クラス2のクリーンルーム、ISO 14644クラス3のクリーンルーム、ISO 14644クラス4のクリーンルーム、ISO 14644クラス5のクリーンルーム、ISO 14644クラス6のクリーンルーム、ISO 14644クラス7のクリーンルーム、または少なくとも0.05ppmの濃度のDHPガスを含むISO 14644クラス8のクリーンルームをもたらす。

本開示は、少なくとも0.05百万分率の濃度の希薄過酸化水素（DHP）ガスを含むクリーンルームを調製する方法であって、クリーンルームに1つ以上のPHPG生成装置をもたらすことを含む方法をもたらし、かつ含む。

本開示は、微生物によるクリーンルームの汚染を防止する方法であって、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度の希薄過酸化水素（DHP）ガスをクリーンルームに供給することを含む方法をもたらし、かつ含む。

本開示は、微生物によるクリーンルームの汚染を低減する方法であって、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度の希薄過酸化水素（DHP）ガスをクリーンルームに供給することを含む方法をもたらし、かつ含む。

本開示は、微生物によるクリーンルームの汚染を除去する方法であって、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度の希薄過酸化水素（DHP）ガスをクリーンルームに供給することを含む方法をもたらし、かつ含む。

本開示は、クリーンルーム内の有機化合物を低減する方法であって、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度の希薄過酸化水素（DHP）ガスをクリーンルームに供給することを含む方法をもたらし、かつ含む。

別に定めない限り、本明細書に用いる技術的および科学的な用語は、当業者によって一般的に理解されるものと同じ意味を有する。当業者は、本開示の実施に多くの方法を用い得ることを認識するであろう。実際、本開示は、説明する方法および材料に限定されるものではない。本明細書に引用されるあらゆる文献が、その全体の参照によって本明細書に援用される。本開示のために、以下の用語は下記の通りに定義される。

本明細書に用いる精製過酸化水素ガス（PHPG）および希薄過酸化水素（DHP）ガスは、置き換え可能に用いられる。本明細書に用いる精製過酸化水素ガスは、水酸化されておらず、実質的にオゾン、プラズマ種、および有機種を含まない。また本明細書に用いるルーム内のPHPGのレベルは、クリーンルーム内のPHPGの定常状態レベルとして決定される。本開示によるクリーンルームは、少なくとも15分の期間に少なくとも0.05ppmのDHPガスが定常状態濃度にあるDHPガスを含むクリーンルームである。特に、通常の使用の間、PHPGは、有機化合物と反応し、微生物と反応し、そうでなければ分解するように使い尽くされ、したがって絶えず置き換えなければならない。実際は、本開示のクリーンルームは、加熱換気空調（HVAC）システムの一部としての1つ以上の装置によるPHPGの安定した発生により、または1つ以上の独立型PHPG発生装置により供給されて、DHPガスを含む状態に維持されることが予想される。

本明細書に用いるように、単数形「a」「an」および「the」は、その文脈が別に明らかに表さない限り複数の言及を含む。例えば「細菌」または「少なくとも1つの細菌」という用語は、複数の細菌と、その混合物を含み得る。他の例において「菌類」または「少なくとも1つの菌類」という用語は、複数の菌類と、その混合物を含み得る。同様に「揮発性有機化合物」または「少なくとも1つの揮発性有機化合物」は、複数の揮発性有機化合物と、それらの混合物を含み得る。

本明細書に用いる「約」という用語は、±10％を指す。

「備える」「備えている」「含む」「含んでいる」「有している」という用語、およびそれらの語形変化は、「それを含むがそれに限定されるものではない」ことを意味する。

「〜を含む」という用語は、「それを含むがそれには限定されない」ことを意味する。

「基本的に〜含む」という用語は、その追加の成分、段階および／または部品が請求の範囲に記載される組成、方法または構造の基本的かつ新規な特徴を変更しない場合にのみ、その組成、方法または構造がその追加の成分、段階および／または部品を含み得ることを意味する。

本明細書に用いる、単数形「a」「an」および「the」は、その文脈が別に明らかに表さない限り、複数についての言及を含む。例えば、「化合物」または「少なくとも1つの化合物」という用語は、それらの混合物を含め、複数の化合物を含み得る。

本明細書に用いる「より高い」という用語は、少なくとも約3％、5％、7％、10％、15％、20％、25％、30％、50％、60％、70％、80％、90％、または更には数倍高いことを指す。

本明細書に用いる「改良する」または「増加する」という用語は、少なくとも約2％、少なくとも約3％、少なくとも約4％、少なくとも約5％、少なくとも約10％、少なくとも約15％、少なくとも約20％、少なくとも約25％、少なくとも約30％、少なくとも約35％、少なくとも約40％、少なくとも約45％、少なくとも約50％、少なくとも約60％、少なくとも約70％、少なくとも約80％、少なくとも約90％、またはより大きな増加を指す。

本明細書に用いる「少ない」という用語は、3％、5％、7％、10％、15％、20％、25％、30％、50％、60％、70％、80％、90％、または更には数倍高いことを指す。

本明細書に用いる用語「減少」または「低下」は、少なくとも約2％、少なくとも約3％、少なくとも約4％、少なくとも約5％、少なくとも約10％、少なくとも約15％、少なくとも約20％、少なくとも約25％、少なくとも約30％、少なくとも約35％、少なくとも約40％、少なくとも約45％、少なくとも約50％、少なくとも約60％、少なくとも約70％、少なくとも約80％、少なくとも約90％、またはより大きな増加を指す。

この出願の全体にわたり、本開示の様々な実施形態は、範囲の形式で示すことができる。範囲の形式の説明は、単に便宜および簡潔さのためのものであることは理解されるべきであり、かつ本開示の範囲についての柔軟性がない限定と解釈されてはならない。したがって、範囲の説明は、具体的に開示された全ての可能性がある部分範囲、ならびにその範囲内の個々の数値を含むことが考慮されなければならない。例えば、1から6といった範囲の説明は、具体的に開示された部分範囲、例えば1から3、1から4、1から5、2から4、2から6、3から6など、ならびにその範囲内の個々の数値、例えば1、2、3、4、5、および6を含むことが考慮されなければならない。このことは、範囲の幅に関係なく当てはまる。

本明細書に数値範囲が表示されるときはいつでも、表示された範囲内の任意の特記される数字（分数または整数）を含むことを意味する。第1の表示数値と第2の表示数値との「間にわたっている／わたる」というフレーズと、第1の表示数値「から」第2の表示数値「まで」「にわたっている／わたる」というフレーズは、置き換え可能に用いられ、かつ第1および第2の表示数値と、それらの間の全ての分数および整数の数値を含むことを意味する。

本明細書に用いる「方法」という用語は、与えられた課題を達成するためのやり方、手段、技術および手法を指し、化学、薬学、生物学、生化学および医学の専門家によって知られており、または既知のやり方、手段、技術および手法から容易に発展される、そのようなやり方、手段、技術および手法を含むが、それらには限定されない。

本開示は、1988年の米国209D、1992年の米国209E、1989年の英国規格BS 5295、オーストラリア規格AS 1386、1972年のフランス規格AFNOR X44101、1990年のドイツ規格VD I.2083、および2000年のISO規格14644−1、14644−2を含むがそれらには限定されない1つ以上の国の規格または国際規格に従う、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度の希薄過酸化水素（DHP）ガスを含むクリーンルームをもたらし、かつ含む。本開示に含まれかつもたらされるものは、浮遊する微粒子および化合物を低減するように設計されたあらゆるルームまたは領域である。1つ以上の国家のまたは国際的な規格に従うクリーンルームは、段落［0045］および［0046］に提示されるレベルのDHPガスを含む。

本開示の態様において、クリーンルームはISO 14644−2規格に従う。一態様において、クリーンルームは、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを含むISO 14644クラス1のクリーンルームである。他の態様において、クリーンルームは、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを含むISO 14644クラス2のクリーンルームである。他の態様において、クリーンルームは、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを含むISO 14644クラス3のクリーンルームである。他の態様において、クリーンルームは、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを含むISO 14644クラス4のクリーンルームである。他の態様において、クリーンルームは、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを含むISO 14644クラス5のクリーンルームである。他の態様において、クリーンルームは、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを含むISO 14644クラス6のクリーンルームである。他の態様において、クリーンルームは、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを含むISO 14644クラス7のクリーンルームである。他の態様において、クリーンルームは、ISO 14644クラス8のクリーンルームである。本明細書に提示される、ISO 14644−2規格に従うクリーンルームは、段落［0045］および［0046］に提示されているレベルのDHPガスを含む。

他の態様において、クリーンルームは、1989年に公開された英国規格5295に従う。一態様において、クリーンルームは、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを含むBS 5295クラス1のクリーンルームである。他の態様において、クリーンルームは、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを含むBS 5295クラス2のクリーンルームである。他の態様において、クリーンルームは、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを含むBS 5295クラス3のクリーンルームである。他の態様において、クリーンルームは、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを含むBS 5295クラス4のクリーンルームである。本明細書に提示される、BS 5295に従うクリーンルームは、段落［0045］および［0046］に提示されているレベルのDHPガスを含む。

本開示はまた、EU GMP規格に従う、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度の希薄過酸化水素（DHP）ガスを含むクリーンルームを含む。一態様において、クリーンルームは、DHPガスを含むEU GMPグレードAのクリーンルームである。他の態様において、クリーンルームは、DHPガスを含むEU GMPグレードBのクリーンルームである。更に他の態様において、クリーンルームは、DHPガスを含むEU GMPグレードCのクリーンルームである。他の態様において、クリーンルームは、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを含む、EU GMPグレードDのクリーンルームである。本明細書に提示されるEU GMP規格に従うクリーンルームは、段落［0045］および［0046］に提示されているレベルのDHPガスを含む。

本開示は、1997年1月1日付けでありかつ適正製造規範−無菌医薬製品の製造業者についてのEUガイド付属文書の修正に与えられているEU GMP規格に従う、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度の希薄過酸化水素（DHP）ガスを含むクリーンルームをもたらし、かつ含む。

本開示のクリーンルームは完全な建物と、建物の内部の1つ以上の部屋を含むことができ、またはより大きな部屋の内部のモジュール式のシステムとして構成することができる。いくつかの態様において、本開示のクリーンルームのDHPガスは、1つ以上のDHP発生装置で変更された、建物のHVACシステムによってもたらすことができる。いくつかの態様において、本開示のクリーンルームは、PHPGをクリーンルーム環境に供給できる専用のHVACシステムを含むことができる。

本開示はまた、専用のDHPガス発生装置を具備する独立の換気システムを有した、モジュール式のクリーンルームの設計をもたらす。そのようなクリーンルームは、調整された外気を取り込むとともに、第2のHVACシステムによりDHPガスの供給源をもたらす。そのような独立型のシステム（例えば、部屋の内部のクリーンルーム）は、追加の濾過および増湿の機能を更に含むことができる。いくつかの態様において、モジュール式のクリーンルームは、施設の内部における装置の隔離をもたらすことができる。そのようなモジュール式のクリーンルームは、標準的なクリーンルーム（例えば、ISO 1〜ISO 9）よりも高いレベルの粒子状物質を許容することができ、かつ生産プロセスにおける重要な段階を隔離するために用いることができる。いくつかの態様において、モジュール式のクリーンルームは、包囲している部屋に部分的に開放することができる。包囲している部屋に開放されたときに、モジュール式のクリーンルームは、望ましくない粒子および材料の導入を気流が防止するように、一般的に高い流速の濾過空気で作動する。本明細書に提示されるように、モジュール式のクリーンルームには、DHPガスのレベルを少なくとも0.05百万分率に維持するために、1つ以上のDHPガス発生装置が設けられる。モジュール式のクリーンルームは、0.05〜10ppmのDHPガスにより、かつ段落［0045］および［0046］に提示されているように維持することができる。

モジュール式のクリーンルームは、当技術分野で知られている方法を用いて構成できるとともに、無菌環境、汚染物質低減環境、またはその両方をもたらすためにDHPガスが供給される。モジュール式クリーンルームには、Starr Co.（ミズーリ州）、Precision Environments，Inc（オハイオ州）、PortaFab Corporation（ミズーリ州）、Cambridge Cleanroom Corporation（マサチューセッツ州）、Modular Cleanrooms Inc.（コロラド州）、Terra Universal.Inc.（カリフォルニア州）、およびAmerican Cleanroom Systems（カリフォルニア州）を含め、これらには限定されない多数の製造業者が存在する。

最低限でも、モジュール式クリーンルームは、DHPガスを蓄積するための閉鎖空間だけでももたらさなければならない。したがって、DHPガス封じ込めクリーンルームに適しているモジュール式クリーンルームは、プラスチック製軟質壁の設計とすることができる。モジュール式クリーンルームは寸法によって制限されず、0.5ppm〜10ppmのDHPガスレベルを達成するために複数のDHPガス発生装置を備えることができる。モジュール式のクリーンルームの利用は、硬質シェルおよび軟質壁の設計の両方において、生産プロセスにおける個々の装置についてDHPガス封じ込めてクリーンルームを生じさせ得ることを意味する。下記の実施例2に提示するように、DHPガス封じ込めモジュール式クリーンルーム設計の清涼飲料ボトリングプロセスへの適用は、既存の装置の寿命を延長することにより、経費を著しく低減することができる。この予想外の改良は、既存のシステムへのDHP技術の適用が著しい利益を生み出すことになることを示唆している。

本開示は、例えば上に説明した極めて高いレベルのDHPを有するクリーンルームをもたらし、かつ含む。いくつかの態様において、DHPガスのレベルは、最大10ppmとすることができる。いくつかの態様において、DHPのレベルは、0.05〜10ppmに及ぶ。1つの態様において、本開示のクリーンルーム内のDHPガスの濃度は、少なくとも0.08ppmである。他の態様において、DHPガスの濃度は、少なくとも1.0ppmである。更に他の態様において、DHPガスの濃度は、少なくとも1.5ppmである。1つの態様において、本開示のクリーンルームのDHPガスの濃度は、少なくとも2.0ppmである。他の態様において、DHPガスの濃度は、少なくとも3.0ppmである。1つの態様において、DHPガスの濃度は、少なくとも4.0ppmである。1つの態様において、DHPガスの濃度は、少なくとも5.0ppmである。他の態様において、本開示のクリーンルームのDHPガスの濃度は、少なくとも6.0ppmである。1つの態様において、DHPガスの濃度は10ppm未満である。1つの態様において、DHPガスの濃度は9.0ppm未満である。他の態様において、DHPガスの濃度は8.0ppm未満である。一態様において、DHPガスの濃度は7.0ppm未満である。他の態様において、DHPガスの濃度は、0.05ppm〜10.0ppmである。更に他の態様において、DHPガスの濃度は、0.05ppm〜5.0ppmである。1つの態様において、DHPガスの濃度は、0.08ppm〜2.0ppmである。更に他の態様において、DHPガスの濃度は1.0ppm〜3.0ppmである。1つの態様において、本開示のクリーンルームのDHPガスの濃度は1.0ppm〜8.0ppm、または5.0ppm〜10.0ppmである。他の態様において、クリーンルーム内のDHPの濃度は、DHPのより高い濃度とより低い濃度との間で循環する。非限定的な実施例として、DHPは、夜間の間はより高い濃度に、昼間の間はより低い濃度に維持することができる。

いくつかの態様において、DHPの最終的な濃度は、封じ込め環境内に人間が滞在しているかどうかに応じて決まる。DHPへの連続的な暴露についての現在の安全限界は、職業安全衛生管理局（OSHA）、国立労働安全衛生研究所（NIOSH）、または環境保護局（EPA）により1.0ppmを超えないように定められている。したがって、いくつかの態様において、人間が滞在するクリーンルーム内のDHPの濃度は1.0ppmを超えない。他の態様において、人間が滞在するクリーンルーム内のDHPの濃度は、0.6ppmを超えない。他の態様において、人間が滞在するクリーンルーム内のDHPの濃度は、0.4ppmを超えない。他の態様において、人間が滞在するクリーンルーム内のDHPの濃度は、0.2ppmを超えず、または0.10ppmを超えない。1つの態様において、人間が滞在するクリーンルーム内のDHPの濃度は、職業安全衛生管理局（OSHA）、国立労働安全衛生研究所（NIOSH）、または環境保護局（EPA）により定められた限界を超えない。

哺乳類の肺自体が、OSHAの基準および本開示に提示されるDHPガスのレベルをかなり超える過酸化水素レベルを有していることが注目されてきた。特に、人間の肺の湿潤表面は、1立方ミクロンにつき最大60，000の分子（例えば、1.8ppm）を含んでおり、かつ過酸化水素はいずれの呼吸においても吐き出されている。対照的に、DHPガスは、1ppmにおいて空気1立方ミクロンにつき過酸化水素25分子だけを含んでいる。したがって、10ppm以上のレベルが連続的な人間の滞在にとって安全であると考えられる。本開示は、最大10ppmのDHPガスを含む、より高いレベルのDHPガスを有する、人間による使用および滞在のためのクリーンルームをもたらし、かつ含む。いくつかの態様においては、必要に応じて基準を変化させるのではなく、人間はDHPガスの呼吸を除去するフィルタもしくは装置を備えることができ、またはより高いレベルのDHPガスの露出に費やす時間の量が制限される。特に、補充されない場合、DHPガスは急速に消散する。0.6ppmのDHPガスを含んでいる環境が約15分以内に検出不能なレベルに戻ることが観察されている。

本開示は、暖房、換気、および空調（HVAC）システムによってDHPガスがもたらされるクリーンルームをもたらし、かつ含む。いくつかの態様において、HVACは1つ以上のPHPG発生装置を含む。適切なPHPG発生装置は、当技術分野で知られており、かつ2012年5月1日に発行された米国特許第8，168，122号および2014年4月1日に発行された米国特許第8，685，329号に開示されている。少なくとも0.05ppmのDHP濃度を達成するために必要なPHPG生成装置の数および容量が、クリーンルームの寸法によって決まることは、認められるであろう。いくつかの態様において、製造設備の全体がクリーンルーム設備であり、PHPG生成装置の数は適切に調整することができる。実際に、単一のPHPG装置が約425立方メートル（約15，000立方フィート）の空間を連続的に約0.6ppmに維持できることが測定された。約4.5立方メートル（150立方フィート）のより小さい空間は、単一のPHPG装置により、概ね約5.0ppm超のレベルに容易に維持することができる。

本明細書に提示するように、適切なPHPG発生装置は、筐体、空気配給機構、紫外線の供与源、およびその表面上に触媒を有する通気性基板構造を含むことができ、気流がその通気性基板構造を通過し、装置が運転中であるときにその装置により生成されたPHPGを筐体の外側に導く。本明細書に用いるように、筐体および空気配給システムは、クリーンルームに適しているHVACシステムの配管、ファン、フィルタおよび他の部品とすることができる。いくつかの態様において、PHPGの発生を最大にし、かつ空気がシステムを通って動くことによるPHPGのロスを低減するために、PHPG装置は空気を濾過した後に設けられる。他の態様において、PHPG発生装置は、独立型の装置とすることができる。いくつかの態様において、PHPG発生装置は、10立方メートルの閉じた空気容積内に少なくとも0.005ppmのPHPGの定常状態濃度を確立するのに充分な割合でPHPGを発生させることができる。いくつかの態様において、PHPG発生装置は、外気中に存在する水からPHPGを発生させる。本明細書に用いる空気の配給は、空気を透過する基板構造の表面で測定したときに約5ナノメートル／秒（nm／s）〜10，000ナノメートル／秒の速度を有する気流をもたらす。本明細書に用いる基板構造は、光源に露出されて気流が供給されたときに水和されていない精製過酸化水素ガスを生成するように構成された触媒をその表面上に有する、空気を透過する基板構造である。本明細書に用いる、その表面上に触媒を有する空気を透過する基板構造は、全体の厚みが約5ナノメートル（nm）〜約750ナノメートルである。本明細書に用いる、空気を透過する基板構造の表面上の触媒は、金属、金属酸化物、またはそれらの混合物とし、かつタングステン酸化物、またはタングステン酸化物と他の金属もしくは金属酸化物触媒との混合物である。

本明細書に提示するPHPG発生装置は、既存のHVACシステムに取り付け（例えば、組み込む）ことができ、または単独型の装置とすることができるが、基本的にオゾン、プラズマ種または有機種を含まないPHPGを発生させる。本明細書に用いる「実質的にオゾンを含まない」という用語は、オゾンの量が約0.015ppmのオゾンより低いことを意味する。一態様において、「実質的にオゾンを含まない」とは、装置により生成されるオゾンの量が、従来の検出手段を用いた検出レベル（LOD）より低いまたはその近傍であることを意味する。本明細書に用いる、実質的に水和作用を含まないとは、過酸化水素ガスが、静電引力およびロンドン力によって結合する水分子を少なくとも99％含まないことを意味する。本明細書に用いる、PHPGがプラズマ種を含まないとは、水酸化イオン、ヒドロオキシ基、ヒドロニウムイオンおよび水素基を少なくとも99％含まない過酸化水素ガスを意味する。本明細書に用いるように、PHPGは基本的に有機種を含まない。

本開示は、クリーンルームを0.05ppmのDHPガス濃度に維持するのに十分な1つ以上のPHPG発生装置（例えば、組み込みのPHPG発生装置）を更に含んでいる適切なHVACシステムを更に備えたクリーンルームをもたらし、かつ含む。いくつかの態様において、1つ以上のPHPG発生装置は、HVACシステムを構成する様々なフィルタの下流に配置される。他の態様において、PHPG発生装置は、HVACシステムの1つ以上のフィルタの上流に配置できる。本開示によると、HVACシステムは、再循環空気システムとすることができる。また、含まれるものは、排出した空気および漏出により失われた空気を補給する補給空気システムを更に含むHVACシステムである。いくつかの態様において、補給空気システムは、1つ以上のPHPG発生装置を含む。いくつかの態様において、補給空気システムは、30％ASHRAEフィルタ、60％ASHRAEフィルタ、または95％ASHRAEフィルタから選択される1つ以上のフィルタを含む。インターネット上で、例えばwww.airfilterplus.com／wp−content／uploads／2014／05／Koch−ASHRAE−book.pdfにおいて利用可能な、アメリカ暖房冷凍空調学会（ASHRAE）のANSI／AHRAE規格52.2−2007を参照されたい。

本開示による態様において、HVACシステムは、連邦規格209に従う1つ以上の高性能微粒子（HEPA）濾過システムを含む。また、本開示に含まれるものは、Mil−F−51068またはIEST−RP−CC−001による、0.3ミクロン微粒子について少なくとも99.97％の効率の少なくとも1つ以上のフィルタを含むHVACシステムである。述べたように、濾過システムは、組み込みのPHPG発生装置の上流にまたは下流に配置できる。

本開示は、例えばISO 14644の要件を満たすために様々な形態や異なるアプローチを有する、DHPガスを含むクリーンルームをもたらし、かつ含む。いくつかの態様において、クリーンルームは、携帯型またはモジュール式のクリーンルームを含むとともに、PGPG発生装置を含むことができる。いくつかの態様において、クリーンルームは、微粒子を取り除くために乱流HVACシステムを含む。他の態様において、クリーンルームは、微粒子を取り除くために層流の空気流を供給する。クリーンルームの空気システムに追加するガスとして、層流および乱流のシステムは、少なくとも0.05ppmの濃度のDHPガスを含むように調製することができる。

本開示は、多くの目的に適したクリーンルームをもたらし、かつ含む。一態様において、クリーンルームは製薬用クリーンルームである。他の態様において、クリーンルームは生物薬剤用クリーンルームである。更に他の態様において、クリーンルームは半導体製造クリーンルームである。他の態様において、クリーンルームはモジュール式のクリーンルームである。

本開示によるいくつかの態様において、クリーンルームは低減されたレベルの浮遊汚染物質を含む。本開示のクリーンルームおよび方法により低減される有機汚染物質の非限定的な例は、上記の表1に示されている。過酸化水素の酸化機能が特別なものでないことを当業者は理解するであろう。したがって、酸化および最終的な破壊に抵抗する有機化合物は、あったとしてもわずかであることは理解される。酸化は、炭素原子が電気的により陰性な元素、最も一般的には酸素と結合するプロセスである。他の態様において、酸化反応は、官能基の中央の炭素がより高度に酸化される形態に変化する反応である。熟練した技術者は、DHPガスが、ホルムアルデヒド、二硫化炭素、炭水化物、有機リン化合物および窒素化合物、フェノール類、BTEX農薬、可塑剤、キレート剤、および処理を必要とする実質的に任意の有機物を酸化することを理解するであろう。1つの態様において、アルケンの炭素−炭素二重結合は、酸化の影響を受けやすい。他の態様において、アルキンの炭素−炭素三重結合は、酸化の影響を受けやすい。

1つの態様において、DHPは人為的に生成された（anthrogenic）な化合物を酸化させる。他の態様において、DHPはシアン化物、窒素酸化物／硫黄酸化物、亜硝酸、ヒドラジン、硫化カルボニルまたは他の還元性硫黄化合物を酸化させる。他の態様において、DHPはクロロフルオロカーボン類またはクロロカーボンを酸化させる。更に他の態様において、DHPはジクロロメタンを酸化させる。1つの態様において、DHPはペルクロロエチレンを酸化させる。他の態様において、DHPはスチレンまたはリモネンを酸化させる。

本開示は、低減したレベルの揮発性有機化合物（VOC）、および例えばホルムアルデヒドといった高揮発性の有機化合物（VVOC）を有するクリーンルームをもたらし、かつ含む。ガスクロマトグラフィの保持時間がC₆（ヘキサン）〜C₁₆（ヘキサデカン）である全ての揮発性有機物は、揮発性有機化合物として包括される。なかでも、高揮発性化合物は蟻酸およびホルムアルデヒドを含む。ここで用いるアルデヒドという表現は、特に明記しない限り、揮発性化合物だけではなく全ての他のアルデヒド、特にホルムアルデヒドを含む。

1つの態様において、有機分子に関して、酸化は炭素原子が電気的により陰性の元素、最も一般的には酸素との結合を得るプロセスである。他の態様において、酸化反応は、官能基の中央の炭素がより高度に酸化する形態に変化する反応である。熟練した技術者は、DHPガスがホルムアルデヒド、二硫化炭素、炭水化物、有機リン化合物および窒素化合物、フェノール類、BTEX農薬、可塑剤、キレート剤、および処理を必要とする実質的に任意の有機物を酸化することを理解するであろう。1つの態様において、アルケンの炭素−炭素二重結合は酸化の影響を受けやすい。他の態様において、アルキンの炭素−炭素三重結合は酸化の影響を受けやすい。

本開示はまた、浮遊有機汚染物質および表面上に沈殿した有機汚染物質のレベルの低下をもたらす。いくつかの態様において、クリーンルームは、クリーンルーム内で製造されているシリコンウエハの上に沈殿した有機汚染物質レベルの低下をもたらす。提示するように、DHPガスを含むクリーンルームの使用が継続し、したがって製造される製品の汚染の低下をもたらす。

本開示は、様々な材料を含む内側表面を有したクリーンルームをもたらし、かつ含む。特に、DHPガスは、一般的に建築材料と互換性を有しており、かつクリーンルームを構成するために用いる材料とも互換性を有している。特に、クリーンルーム材料は、一般的に、浮遊状態となり得る微粒子の形成に対する抵抗力によって特徴付けられる。したがって、本開示は、少なくとも0.05ppmのDHPガスを含み、フェノールプラスチック、ガラス強化プラスチック、鋼、被覆鋼、アルミニウム、エポキシ被覆されたコンクリートブロック、乾式壁体、およびビニル、厚膜型防錆仕上げの乾式壁体、ならびに厚膜型防錆仕上げで被覆された他の材料からなる群から選択される内側表面を有しているクリーンルームをもたらす。他の態様において、クリーンルームの内側表面は表1に示されている材料から調製される。一態様において、厚膜型防錆仕上げはポリウレタン、エポキシ塗料、焼き付けエナメル、または光沢塗料を含む。クリーンルームの構造に適切な材料は、当技術分野で知られている。現在の市販のクリーンルームとは対照的に、本開示によるクリーンルームは、建築材料から一般的には、およびクリーンルームの構造に用いられるある種の材料から放出され得る、望ましくない化合物の除去をもたらす。

本開示は、様々な換気回数を有するクリーンルームをもたらし、かつ含む。上述したように、クリーンルーム内へDHPガスの取り込みは、クリーンルーム内の空気が層流を用いて、または乱流を用いて交換されるかどうかによっては制限されない。乱流のクリーンルームについて、換気は、典型的に、1時間当たりの換気（ACHまたはac／h）を単位として測定される。換気回数の増加が（濾過システムの構成のいかなる変化も想定しない）低い等級のクリーンルームに関連することを当業者は認識するであろう。本開示は、少なくとも0.05ppmのレベルのDHPガスを含んでおり、換気回数が少なくとも1ACHであるクリーンルームをもたらす。一態様において、換気回数は少なくとも5ACHである。他の態様において、換気回数は少なくとも60ACHである。更なる態様において、ACHは少なくとも150である。更に他の態様において、換気回数は少なくとも240ACHである。いくつかの態様において、換気回数は少なくとも300ACHである。いくつかの態様において、換気回数は少なくとも360ACHである。本開示は、追加のPHGP発生装置を組み込むことによって、達成可能な1時間当たり更に高い換気回数をもたらし、かつ含むことは理解されるべきである。

本開示は、DHPガスを含むクリーンルームにおける5〜48ACHの換気回数をもたらす。他の態様において、本開示のクリーンルームの換気回数は60〜90ACHである。いくつかの態様において、換気回数は150〜240ACHである。追加の態様において、換気回数は240〜480ACHである。他の態様において、換気回数は300〜540ACHである。更に他の態様において、換気回数は360〜540ACHである。

本開示は、様々な層流空気流速のクリーンルームをもたらし、かつ含む。本開示による態様において、少なくとも0.05ppmのDHPガスを含むクリーンルームは、0.005m／s〜0.508m／sの平均気流速度を有する。いくつかの態様において、平均気流速度は0.508m／sより大きいものとすることができる。いくつかの態様において、平均気流速度は、少なくとも0.005m／sである。他の態様において、平均気流速度は、少なくとも0.051m／sである。更に他の態様において、平均気流速度は、少なくとも0.127m／sである。いくつかの態様において、平均気流速度は、少なくとも0.203m／sにおいて、である。一態様において、平均気流速度は、少なくとも0.254m／sである。追加の態様において、平均気流速度は、少なくとも0.305m／sである。

本開示は、少なくとも0.05ppmのDHPガスを含むクリーンルームをもたらし、かつ含むとともに、ある範囲の空気流速を有するクリーンルームを含む。一態様において、層流空気流速は、0.005〜0.041m／sである。他の態様において、層流空気流速は、0.051〜0.076m／sである。他の態様において、層流空気流速は、0.127〜0.203m／sである。更に他の態様において、層流空気流速、は0.203〜0.406m／sである。他の態様において、層流空気流速は、0.254〜0.457m／sである。一態様において、層流空気流速は、0.305〜0.457m／sである。更なる態様において、層流空気流速は、0.305〜0.508m／sである。本開示による他の流速が予想されること、および最大10ppmで段落［0045］と［0046］に提示されているDHPガスの好適なレベルをもたらすためにPHPGの追加の供給源をシステムに組み込むことができることは理解される。

本開示は、少なくとも0.05ppmのDHPガスを含み隣接する非クリーンルーム領域よりも高い気圧のクリーンルームをもたらし、かつ含む。より高い圧力が、望ましくない微粒子のクリーンルームへの導入を防止できることを当業者は認識するであろう。理論により制限されないが、作業者がクリーンルームに入るときに、圧力差によりクリーンルームから出る空気の流れが塵および粒子が入り込まないように作用することが考えられる。他の態様において、望ましくない微粒子および微生物の侵入を防止するために、モジュール式クリーンルームに陽圧をもたらすことができる。クリーンルームと周囲の領域との間の差は、クリーンルームからの正方向の空気流をもたらすのに充分なものでなければならない。本開示による態様において、圧力差は、少なくとも5Paである。一態様において、圧力差は、少なくとも12Paである。一態様において、圧力差は、少なくとも15Paである。一態様において、圧力差は、少なくとも20または25Paである。他の態様において、圧力差は、少なくとも30Paである。最大で50Paまたはより高い圧力差がもたらされる。一般的に、少なくとも0.05ppmのDHPガスを含むクリーンルームと隣接する非クリーンルームの圧力差は5〜50Paである。

本開示は、エアロックまたは準備室を更に備えるクリーンルームを更に含み、かつもたらす。理解されるように、そのような補助設備は、汚染物質の導入を最小化するために多くの場合に含まれる。いくつかの態様において、これらの関連設備は、ロッカー、更衣室、エアロック、準備室および他の機能をもたらす。いくつかの態様において、例えばエアロック、パススルーエアロック、準備室、更衣室、インターロック、またはロッカールームといったこれらの補助設備は、少なくとも0.05ppmの濃度のDHPガスを更に含む。例えば段落［0045］に提示されているようなより高いDHPガスレベルの補助的設備もまた含まれる。

本開示は、制御された環境のクリーンルームを更に含み、かつもたらす。いくつかの態様において、クリーンルームは20〜22℃の温度に維持される。他の実施態様において、クリーンルームは18.9℃に維持される。1〜6℃の温度の冷えたクリーンルームもまた含まれる。

少なくとも0.05ppmのDHPガスを含み、1〜99％の相対湿度を有するクリーンルームもまた本開示に含まれる。いくつかの態様において、相対湿度は30〜60％である。一態様において、クリーンルームの空気の湿度は望ましくは約1％を超える相対湿度（Rh）である。他の態様において、クリーンルームの空気の湿度は5％Rh以上高い。他の態様において、クリーンルームの空気の湿度は10％Rh以上高い。いくつかの態様において、相対湿度は35％〜40％である。他の実施態様として、湿度は約5％〜約99％Rhとすることができる。他の態様において、クリーンルームの空気の湿度は10％〜99％Rhである。いくつかの態様において、クリーンルームの空気の湿度は80％未満である。一態様において、湿度は10％〜80％である。更に他の態様において、相対湿度は30％〜60％である。他の態様において、湿度は35％〜40％である。いくつかの態様において、クリーンルーム空気の湿度は56％〜59％である。

本明細書に用いる、生物学的封じ込め環境は、材料、特に生きている生物、例えば細菌およびウイルスが部屋または設備から出ることを防止するように設計されたクリーンルームのサブセットである。したがって、生物学的封じ込め環境であるように設計されたクリーンルームは、陰圧の下で作動するように設計され、生物学的封じ込め領域への進入または退出はクリーンルームに入り込む空気に帰着する。その結果、生物学的封じ込め環境は、典型的なクリーンルームのように微粒子を取り除いて上質の空気をもたらすように設計されてはいるが、例えばISO 14644クラス1のクリーンルームに関連する極めて高いレベルの清浄度のいくつかを多くの場合に達成することができない。しかしながら、クリーンルームと同様に、規制当局は生物学的封じ込め環境の基準を定めた。疾病管理予防センターは、部屋および施設（例えば、複数の部屋の建築物）をバイオセーフティレベル1（BSL−1）、バイオセーフティレベル2（BSL−2）、バイオセーフティレベル3（BSL−3）、またはバイオセーフティレベル4（BSL−4）として指定する。これらの基準は、当業者には知られており、かつインターネット上に、例えばwww.cdc.gov／biosafety／publications／bmbl5／BMBL.pdfに見出すことができる。本開示は、疾病管理予防センターによって、バイオセーフティレベル1（BSL−1）、バイオセーフティレベル2（BSL−2）、バイオセーフティレベル3（BSL−3）、またはバイオセーフティレベル4（BSL−4）として指定された生物学的封じ込め環境に従い、少なくとも0.05ppmのDHPガスを有するクリーンルームをもたらし、かつ含む。本明細書に提示するように、生物学的封じ込め環境は、上述したように最大10ppmのレベルのDHPガスを含むことができる。理解されるように、生物学的封じ込め環境に対するDHPガスの添加は、設備が封じ込めるように設計されている生物または薬剤（細菌、ウイルスおよび毒素）を低減し、または除去することにより、安全性の追加のレベルをもたらす。

本開示による態様において、生物学的封じ込め環境は、少なくとも0.05ppmのDHPガスを含むBSL−1環境とすることができる。他の態様において、生物学的封じ込め環境は、0.05〜10ppmのDHPガスを含むBSL−1環境とすることができる。BSL−1環境に適したDHPガスの追加のレベルは、段落［0045］に提示されている。

本開示による態様において、生物学的封じ込め環境は、オルソミクソウイルス、アルカリゲネス−フェカーリス、黒色アスペルギルス、バシラス−セレウス、バシラス−メガテリウム、バシラスサチリス、スポロゲネス菌、アイロゲネス腸内菌、汚物腸内菌、大腸菌、ミクロコッカス−ロゼウス、ミクロコッカス−ルテウス、マイコバクテリウムスメグマチス、ナイセリア−シッカ、ナイセリア‐サブフラバ、アオカビ、クモノスカビ、ロドスピリラム−ラブラム、セラチア‐マルセスセンス、スタフィロコッカス−エピデルミディス、ストレプトコッカス−ボビス、またはストレプトコッカス（ラクトコッカス）ラクチスについての研究に適しているが、これらには限定されない、少なくとも0.05ppmのDHPガスを含むBSL−1環境とすることができる。

本開示による態様において、生物学的封じ込め環境は、少なくとも0.05ppmのDHPガスを含むBSL−2環境とすることができる。他の態様において、生物学的封じ込め環境は、0.05〜10ppmのDHPガスを含むBSL−2環境とすることができる。BSL−2環境に適しているDHPガスの追加のレベルは段落［0045］に提示されている。

本開示による態様において、生物学的封じ込め環境は、C.ディフィシル、クラミジア、肝炎ウイルス、非天然痘オルトミクソウイルス科、インフルエンザ、ライム病、サルモネラ属、流行性耳下腺炎、はしか、スクレーピ、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌（MRSA）、またはバンコマイシン耐性スタフィロコッカスアウレウス（VRSA）についての研究に適しているが、これらには限定されない、少なくとも0.05ppmのDHPガスを含むBSL−2環境とすることができる。

本開示による態様において、生物学的封じ込め環境は、少なくとも0.05ppmのDHPガスを含むBSL−3環境とすることができる。他の態様において、生物学的封じ込め環境は、0.05〜10ppmのDHPガスを含むBSL−3環境とすることができる。BSL−3環境に適しているDHPガスの追加のレベルは、段落［0045］に提示されている。

本開示による態様において、生物学的封じ込め環境は、ペスト菌、野兎病菌、ドノバンリーシュマニア、ヒト結核菌、オウム病クラミジア、ベネズエラウマ脳炎ウイルス、東部ウマ脳炎ウイルス、SARSコロナウイルス、コクシエラ−バーネッティ、リフトバレー熱ウイルス、ロッキー山紅斑熱リケッチア、ブルセラ属、狂犬病ウイルス、チクングンヤ熱、黄熱ウイルス、および西ナイルウイルスについての研究に適しているが、これらには限定されない、少なくとも0.05ppmのDHPガスを含むBSL−3環境とすることができる。

本開示による態様において、生物学的封じ込め環境は、少なくとも0.05ppmのDHPガスを含むBSL−4環境とすることができる。他の態様において、生物学的封じ込め環境は、0.05〜10ppmのDHPガスを含むBSL−4環境とすることができる。BSL−4環境に適しているDHPガスの追加のレベルは、段落［0045］に提示されている。

本開示による態様において、生物学的封じ込め環境は、アレナウイルス科、フィロウイルス科、ブニヤウイルス科、フラビウイルス科、またはラブドウイルス科についての研究に適しているが、これらには限定されない、少なくとも0.05ppmのDHPガスを含むBSL−4環境とすることができる。

本開示は、微生物によるクリーンルームの汚染を防止する方法であって、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスをクリーンルームに供給することを含む方法をもたらし、かつ含む。過酸化水素の抗菌活性は一般的に知られており、かつDHPガスは過去の用途に著しい改良をもたらす。過去の方法とは対照的に、DHPガスは無毒であり、かつ処理すべきクリーンルームの居住の間の使用に適している。DHPガスは沈殿せず、したがって、クリーンルームの表面またはクリーンルーム内で調製される製品を汚染することがない。

本開示による態様において、微生物によるクリーンルームの汚染を除去する方法は、上記の段落［0045］に詳述したレベルのDHPガスの供給を含む。いくつかの態様において、この方法は最大10ppmのDHPガスの供給を含む。いくつかの態様において、この方法は、少なくとも0.05〜10ppmのDHPガスの供給を含む。1つの態様において、この方法は、少なくとも0.08ppmのDHPガスの供給を含む。他の態様において、この方法は、少なくとも1.0ppmのDHPガスの供給を含む。更に他の態様において、この方法は、少なくとも1.5ppmのDHPガスの供給を含む。1つの態様において、この方法は、少なくとも2.0ppmのDHPガスの供給を含む。他の態様において、この方法は、少なくとも3.0ppmのDHPガスの供給を含む。1つの態様において、この方法は、少なくとも5.0ppmのDHPガスの供給を含む。他の態様において、この方法は、少なくとも6.0ppmのDHPガスの供給を含む。1つの態様において、供給されるDHPガスの濃度は10ppm未満である。1つの態様において、供給されるDHPガスの濃度は、9.0ppm未満である。他の態様において、供給されるDHPガスの濃度は、8.0ppm未満である。1つの態様において、供給されるDHPガスの濃度は、7.0ppm未満である。他の態様において、供給されるDHPガスの濃度は、0.05ppm〜10.0ppmである。更に他の態様において、供給されるDHPガスの濃度は、0.05ppm〜5.0ppmである。1つの態様において、供給されるDHPガスの濃度は、0.08ppm〜2.0ppmである。更に他の態様において、供給されるDHPガスの濃度は、1.0ppm〜3.0ppmである。1つの態様において、本開示のクリーンルームに供給されるDHPガスの濃度は、1.0ppm〜8.0ppm、または5.0ppm〜10.0ppmである。他の態様において、クリーンルームに供給されるDHPの濃度は、DHPより高い濃度と低い濃度との間で循環する。非限定的な実施例として、DHPは、夜間の間はより高い濃度で、昼間の間はより低い濃度で供給できる。

本開示による態様において、微生物によるクリーンルームの汚染を防止する方法は、ウイルス、ウイロイド、ウイルス様生物、細菌、原生動物、藻類、卵菌類、真菌、およびカビからなる群から選択される微生物の数の低減または除去をもたらす。

本開示は、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスをクリーンルームに供給することを含む、微生物によるクリーンルームの汚染を低減する方法をもたらし、かつ含む。本開示による態様において、微生物によるクリーンルームの汚染を防止する方法は、上記の段落［0045］および［0079］に詳述したレベルでDHPガスをもたらすことを含む。

本開示による態様において、微生物によるクリーンルームの汚染を低減する方法は、ウイルス、ウイロイド、ウイルス様微生物、細菌、原生動物、藻類、卵菌類、真菌、およびカビからなる群から選択される微生物の数を減少させまたは除去することをもたらす。

本開示は、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスをクリーンルームに供給することを含む、微生物によるクリーンルームの汚染を除去する方法をもたらし、かつ含む。本開示による態様において、微生物によるクリーンルームの汚染を除去する方法は、上記の段落［0045］および［0079］に詳述したレベルでDHPガスを供給することを含む。

様々な態様において、微生物は、真菌、古細菌、原生生物、原生動物、細菌、芽胞胞子、細菌内生胞子、ウイルス、ウイルスベクター、またはそれらの組み合わせからなる群から選択できる。他の実施態様として、微生物は、ネグレリアフォーレリ、コクシジオイデスイミティス、バシラスアンスラシス、インフルエンザ菌、リステリア、髄膜炎菌、スタフィロコッカスアウレウス、肺炎連鎖球菌、ストレプトコッカス‐アガラクティエ、シュードモナスアエルギノーザ、ペスト菌、クロストリジウムボツリナム、野兎病菌、大痘瘡、ニパウイルス、ハンタウイルス、ピキンデウイルス、クリミアコンゴ出血熱ウイルス、エボラウイルス、マールブルグウイルス、ラッサ熱ウイルス、フニンウイルス、人免疫不全ウイルス（「HIV」）またはSARSに関連するコロナウイルス（「SARS−CoV」）からなる群から選択できる

本開示の方法は、黄色ブドウ球菌、アルカリゲネスキシロソキシダンス、カンジダパラプシローシス、緑膿菌、エンテロバクター、シュードモナスプチダ、髄膜敗血症黄色菌、シュードモナス属ピッケティ、シトロバクターおよびコリネバクテリウム属からなる群から選択される微生物の低減または除去を更にもたらす。本開示は、C.ディフィシル、クラミジア、肝炎ウイルス、非天然痘オルトミクソウイルス科、インフルエンザ、ライム病、サルモネラ属、流行性耳下腺炎、はしか、スクレーピ、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌（MRSA）、またはバンコマイシン耐性スタフィロコッカス‐アウレウス（VRSA）の低減または除去する方法を更にもたらす。追加の態様において、本開示は、ペスト菌、野兎病菌、ドノバンリーシュマニア、ヒト結核菌、オウム病クラミジア、ベネズエラウマ脳炎ウイルス、東部ウマ脳炎ウイルス、SARSコロナウイルス、コクシエラ−バーネッティ、リフトバレー熱ウイルス、ロッキー山紅斑熱リケッチア、ブルセラ属、狂犬病ウイルス、チクングンヤ熱、黄熱ウイルス、および西ナイルウイルスの低減または除去をもたらす。

本開示は、ウイルスを低減しまたは除去する方法をもたらし、かつ含む。ガス、液体または蒸気として供給されるかどうかに関わらず、過酸化水素に対して耐性を有する、如何なるタイプの既知のウイルスもない。重要なことに、少なくとも0.05ppmの濃度のDHPガスを含む環境をもたらすことは、空気に露出する全ての種類のウイルスに対して有効である。本開示の方法は、例えばアデノウイルス、ヘルペスウイルスおよびポックスウイルスを含む二本鎖DNA（dsDNA）ウイルスを含むクラスIウイルス、一本鎖DNA（ssDNA）ウイルス例えばパルボウイルスを含むクラスIIウイルス、例えばレオウイルスを含むクラスIIIの二本鎖RNA（dsRNA）ウイルス、一本鎖＋鎖ウイルス（＋）ssRNA）、例えばピコルナウイルスおよびトガウイルスを含むクラスIVウイルス、一本鎖RNA−鎖（−）ssRNA）ウイルス、例えばオルソミクソウイルスや、アレナウイルスを含むラブドウイルスを含むクラスVウイルス、ライフサイクルにおいて、DNA中間体を有するRNAゲノムを含む一本鎖RNA逆転写ウイルス（ssRNA−RT）（例えばレトロウイルス）を含むクラスVIウイルス、および二本鎖DNA逆転写（dsDNA−RT）ウイルス（例えば、肝炎ウイルスを含むヘパドナウイルス）を含むクラスVIIウイルス、を含む全てのクラスのウイルスに対して有効である。過酸化水素ガスは、全てのウイルスを不活性化しかつ死滅させることに有効であると予想される。抵抗性のあるウイルスは知られていない。

本開示は、（ヘルペスウイルス、水痘帯状疱疹ウイルスを含む）ヘルペスウイルス科、アデノウイルス科、（アフリカブタ熱ウイルスを含む）アスファウイルス科、（シミアンウイルス40、JCウイルス、BKウイルスを含む）ポリオーマウイルス科、および（牛痘ウイルス、天然痘を含む）ポックスウイルス科から選択される群を含むが、これらには限定されない、全てのクラスIウイルスに対して有効な方法および組成物をもたらし、かつ含む。

本開示は、ピコルナウイルス科および（ロタウイルスを含む）レオウイルス科を含むがこれらには限定されない、全てのクラスIIIウイルスに対して有効な方法および組成物をもたらし、かつ含む。

本開示は、（コロナウイルス（SARS）を含む）コロナウイルス科、（ポリオウイルス、ライノウイルス（一般的なかぜウイルス）、A型肝炎ウイルスを含む）ピコルナウイルス科、（黄熱ウイルス、西ナイルウイルス、C型肝炎ウイルス、デング熱ウイルスを含む）フラビウイルス科、（ノーウォークウイルス（別名ノロウイルス）を含む）カリチウイルス科、および（風疹ウイルス、ロス川ウイルス、シンドビスウイルス、チクングンヤウイルスを含む）トガウイルス科からなる群から選択されるファミリーを含むがこれらには限定されない、全てのクラスIVウイルスに対して有効な方法および組成物をもたらし、かつ含む。本開示は、ノロウイルスに対して有効な方法および組成物をもたらす。

本開示は、既知の最も致命的なウイルスのいくつかを含む9つのウイルスファミリーを含む、全てのクラスVウイルスに対して有効な方法および組成物をもたらし、かつ含む。本開示の方法は、アレナウイルス科、ビニヤウイルス科、ラブドウイルス科、フィロウイルス科、パラミクソウイルス科のファミリーのウイルスの減少または除去に有効である。

本開示は、アルファレトロウイルス、ベータレトロウイルス、ガンマレトロウイルス、デルタレトロウイルス、イプシロンレトロウイルス、およびレンチウイルスから選択される群を含むがこれらには限定されない、クラスVIの全てのレトロウイルスに対して有効な方法および組成物をもたらし、かつ含む。

ファミリー、（ボルナ病ウイルスを含む）ボルナウイルス科、（エボラウイルス（マールブルグウイルス）を含む）フィロウイルス科、（はしかウイルス、ムンプスウイルス、ニパウイルス、ヘンドラウイルス、RSVおよびNDVを含む）パラミクソウイルス科、（狂犬病ウイルスを含む）ラブドウイルス科、（ブニヤウイルスを含む）ブニヤウイルス科、（ラッサ熱ウイルスを含む）アレナウイルス科、（ハンタウイルス（クリミアコンゴ出血熱）を含む）ビニヤウイルス科、（植物に感染する）サイフォウイルス科、および（インフルエンザウイルスを含む）オルソミクソウイルス科。

本開示は、グラム陽性およびグラム陰性菌を含む細菌に対して有効な方法および組成物をもたらし、かつ含む。この方法および組成物は、アシネトバクタバウマンニを含むアシネトバクター、バシラスアンスラシスを含むバシラス、バルトネラヘンセラを含むバシラスセレウスバルトネラ、およびバルトネラクインターナ、ボルデテラペルツッシスを含むボルデテラ属、ボレリアブルグドルフェリ、ボレリアガリニ、ボレリアアフゼリ、ボレリアレカレンチス、およびボレリアダットニイを含むボレリア属、ブルセラアボルツス、ブルセラ‐カニス、ブルセラメリテンシス、およびブルセラ‐スイスを含むブルセラ属、カンピロバクタジェジュニを含むカンピロバクター属、クラミジアニューモニエ、トラコーマクラミジア、およびクラミドフィラシタッシを含むクラミジア属およびクラミドフィラ属、クロストリジウムボツリナム、クロストリジウムディフィシレ、ウェルシュ菌、およびクロストリジウムテタニを含むクロストリジウム属、コリネバクテリウム‐ジフセリエを含むコリネバクテリウム属、エンテロコッカス‐フェカーリス、およびエンテロコッカスヘシュウムを含むエンテロコッカス属、大腸菌を含むエシェリキア属、野兎病菌を含むフランキセラ属、インフルエンザ菌を含むヘモフィルス属、ピロリ菌を含むヘリコバクター属、レジオネラ菌を含むレジオネラ属、レプトスピラインテロガンス、レプトスピラサンタロサイ、レプトスピラウェイリ、およびレプトスピラノグチを含むレプトスピラ属、リステリアモノサイトゲネスを含むリステリア属、モラキセラカタラーリスを含むモラクセラ属、マイコバクテリウムレプレ、マイコバクテリウムツベルクローシス、およびマイコバクテリウムウルセランスを含むマイコバクテリウム属、マイコプラズマ‐ニューモニエを含むマイコプラズマ属、ナイセリアゴノロエエ、およびナイセリアメニンギティディスを含むナイセリア属、シュードモナス‐アエルギノーザを含むシュードモナス属、ロッキー山紅斑熱リケッチアを含むリケッチア属、サルモネラチフィおよびサルモネラチフィムリウムを含むサルモネラ属、ソンネ赤痢菌を含む志賀菌属、スタフィロコッカスアウレウス、スタフィロコッカスエピデルミディス、およびスタフィロコッカスサプロフィチカスを含むブドウ球菌属、ストレプトコッカスアガラクティエ、ストレプトコッカスニューモニエ、およびストレプトコッカスピオゲネスを含む連鎖球菌属、トレポネーマパリダムを含むトレポネーマ属、ビブリオコレラエを含むビブリオ属、エルシニアペスチス、エルシニアエンテロコリチカ、およびエルシニアシュードツベルクロシスを含むエルシニア属、を含むがこれらには限定されない病原性細菌に対して有効である。

本開示は、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌（MRSA）、バンコマイシン抵抗性エンテロコッカス‐フェカーリス（VRE）を含むがこれらには限定されない抗生物質耐性菌に対して有効な方法および組成物をもたらし、かつ含む。

本開示は、アスペルギルス種、カンジダアルビカンス、スクレロティニア属またはニューモシスティス種を含むがこれらには限定されない菌類およびカビ病原体に対して有効な方法および組成物をもたらし、かつ含む。他の態様において、菌類はケカビ科類からのものである。他の態様において、本開示は、ヒストプラスマカプスラーツム、ブラストミセス、クリプトコックス‐ネオフォルマンス、ニューモシスチスイロベチイ、コクシジオイデスイミティス、ブラストミセスダーマチチジス、ニューモシステイスイロベチイ、スポロトリックスシェンキイ、クリプトコックスネオフォルマンス、アスペルギルスフミガーツス、およびカンジダアルビカンスからなる群から選択される真菌に対して有効な方法および組成物をもたらし、かつ含む。

本開示は、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度の希薄過酸化水素（DHP）ガスをクリーンルームに供給することを含む、クリーンルーム内の有機物を低減する方法をもたらし、かつ含む。本開示による態様において、有機物を低減する方法は、上記の段落［0045］および［0079］に詳述したレベルでDHPガスを供給することを含む。

本開示は、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度の希薄過酸化水素（DHP）ガスをクリーンルームに供給することを含む、クリーンルーム内の揮発性有機種のレベルを低減する方法をもたらし、かつ含む。本開示による態様において、有機物を低減する方法は、上記の段落［0045］および［0079]に詳述したレベルでDHPガスを供給することを含む。

いくつかの態様において、クリーンルーム内の揮発性有機種のレベルを低減する方法は、ビス（2−エチルヘキシル）ベンゼン−1，2−ジカルボキシレート（DOP）、リン酸トリエチル（TEP）、ブチルヒドロキシトルエン（BHT）、テキサノールイソ酪酸塩（TXIB）、リン酸トリブチル（TBP）、リン酸ジブチル（DBP）からなる群から選択される1つ以上の揮発性有機種の減少を含む。

本開示は、PHPG発生装置を取り付けることを含む、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度の希薄過酸化水素（DHP）ガスをクリーンルームに供給する方法をもたらし、かつ含む。本開示による態様において、PHPG発生装置は、段落［0049］に提示される装置である。本開示による態様において、PHPG発生装置は、その表面上に触媒を有する通気性基板構造と光源を含み、空気が通気性基板構造を通って流れ、かつその装置はPHPGを生成するとともに通気性基板構造から離れるようにそれを導く。一態様において、PHPG発生装置の光源は紫外光である。いくつかの態様において、PHPG発生装置の紫外光は187ナノメートル以下の波長の光を含まない。いくつかの態様において、PHPG発生装置は、通気性基板構造を通って流れる空気流をもたらすファンを含む。他の態様において、HVACシステムは空気流をもたらす。

本開示の適切なPHPG発生装置は、オゾン、プラズマ種、または有機種を実質的に含まないDHPガスを生成する。適切なPHPG発生装置は、気化した液体過酸化水素からDHPガスを調製しない。したがって、この方法のDHPガスは水和されていない。一態様において、PHPG発生装置は、加熱、換気、および空気調整（HVAC）システムの部品として含まれる。他の態様において、PHPG発生装置は、独立型の装置とすることができる。本開示による態様において、この方法のPHPG発生装置は、湿気のある外気からDHPガスを発生させる。

本開示は、シリコンウエハを生産する間の有機種の吸着により誘発される汚染を低減する方法であって、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度の希薄過酸化水素（DHP）ガスをシリコンウエハ生産設備のクリーンルームに供給することを含む方法をもたらし、かつ含む。本開示による態様において、シリコンウエハを生産する間の有機種の吸着により誘発される汚染を低減する方法は、上記の段落［0045］および［0079］に詳述したレベルでDHPガスを供給することを含む。

本明細書に提示するように、シリコンウエハを生産する間に有機種の吸着により誘発される汚染を低減する方法は、ステアリン酸、ブチルヒドロキシトルエン、シロキサン、4−ドデシルベンゼンスルホン酸、n−ペンタデカン、ビス（2−エチルヘキシル）ベンゼン−1，2−ジカルボキシレート（DOP）、3，4−ジブチルフタル酸（DBP）、ジエチルフタレート（DEP）、リン酸トリ（2−クロロエチル）（TCEP）、リン酸トリフェニル（TPP）、リン酸トリエチル（TEP）、ヘキサンジオエート（hexanedioate）（DOA）、2，2−ジブチルヘキサン二酸（DBA）、および2，6−ジtert−ブチル−4−メチルフェノール（BHT）からなる群から選択される有機種の低減を含む。一態様において、有機種の吸着により誘発される汚染は少なくとも10％低減される。

特定の実施形態を参照して本発明を説明してきたが、本発明の範囲内において、様々な変更をなすことができるとともにその要素を等価物に置き換え得ることを、当業者は理解するであろう。加えて、特定の状況または材料に適応するために、本発明の教示に対し本発明の範囲内において多くの変更をなすことができる。

したがって、本発明は、本発明を実行するために考えられる最良の形態として開示された特定の実施形態には限定されず、本発明は添付の請求の範囲および趣旨に含まれる全ての実施形態を含むことが意図されている。
実施例
実施例1：ゲオバチルス属サブティリスの胞子を制御するためのDHPの研究室テスト

空間内でのDHPガスの間接的な分散を用いて胞子を死滅させることの有効性を測定するために、ゲオバチルス属サブティリスの胞子上へのDHPガスの作用を実行した。これらの実験においては、DHPガスの影響下に置かれるG.サブティリス胞子が含浸されたフィルタストリップを用いて、G.サブティリス胞子の死亡率を分析した。試験ストリップは、特定の期間の間のDHPに対する暴露の後視覚的な示度をもたらした。G.サブティリスを含浸させた試験ストリップを最初にDHPに暴露させた後、トリプチックソイブロス溶液に浸漬し、24時間の培養期間にわたって乾燥浴槽に配置した。培養期間の後、何らかの生き残っている細菌の存在を測定するために、各試験ストリップを分析した。色相の変化または混濁の存在は、24時間の培養期間の満了の前に、DHPへの暴露の後に生き残っている胞子が残留していることを示す。これとは反対に、24時間の培養期間が満了する前の色相の変化または混濁の欠如は、G.サブティリス胞子の根絶を示す。その結果は下記の表2に提示されている。

実施例2：モジュール式クリーンルームの瓶詰め施設への適用

清涼飲料の瓶詰め施設（例えば、缶詰製造）は、生産の間に製品の染を防止するために高いレベルの清浄度を必要とする。これを達成するために、瓶詰め機械は、無菌環境を維持する空気濾過システムを備えている。実際に、フィルタを備えた瓶詰めラインは、フィルタの交換を必要とする前に3×10⁶の缶を瓶詰めすることができる。フィルタは極めて高価で、完成品の全体的な生産コストに対しかなりの量の原因となる。フィルタは、濾過空気の品質が特定の要件を下回ったときに、規則的な間隔で取り替えられる。

フィルタの寿命を延長するために、生産設備のボトリング機の周りに、カスタムメイドの7×4×4フィートのモジュール式クリーンルームを組み立て、PHPG発生装置を設けた。カスタムメイドのモジュール式クリーンルームは、底部に3インチの隙間を残して缶詰機を囲んだ。したがって、缶詰機を囲んでいるモジュール式クリーンルームは、段落［0065］に提示するように、周囲の領域よりも高い気圧で作動する。モジュール式クリーンルームは、施設のHVACシステムから独立した換気システムを備えていて、濾過した湿気のある（約60％)空気を供給し、かつ国際特許公開第WO2015／171633号に説明されているようなPHPG発生装置を更に備えている。PHPG装置を用いることにより、瓶詰めフィルタおよび装置を囲んでいるモジュール式クリーンルームは、5.0ppmのDHPガスのレベルに連続的に維持された。PHPGの存在下で作動するときに、フィルタは少なくとも6週間にわたり濾過の所要レベルを維持し続け、製品の12×10⁶の缶に等価な生産ラインをもたらした。DHP技術の適用は少なくとも4倍のフィルタの寿命の増加に帰着し、大幅なコストの削減に結びついた。

Claims

少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度の希薄過酸化水素（DHP）ガスを含むクリーンルーム。
DHPガスの前記濃度が最大10.0ppmである、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、ISO 14644クラス1のクリーンルーム、ISO 14644クラス2のクリーンルーム、ISO 14644クラス3のクリーンルーム、ISO 14644クラス4のクリーンルーム、ISO 14644クラス5のクリーンルーム、ISO 14644クラス6のクリーンルーム、ISO 14644クラス7のクリーンルーム、またはISO 14644クラス8のクリーンルームである、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、BS 5295クラス1のクリーンルーム、BS 5295クラス2のクリーンルーム、BS 5295クラス3のクリーンルーム、またはBS 5295クラス4のクリーンルームである、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、EU GMPグレードAのクリーンルーム、EU GMPグレードBのクリーンルーム、EU GMPグレードCのクリーンルーム、EU GMPグレードDのクリーンルームである、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、モジュール式のクリーンルームである、請求項1〜5のいずれか一項に記載のクリーンルーム。
前記DHPガスは、暖房、換気、および空調（HVAC）システムによってもたらされる、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記HVACシステムは、0.015百万分率（ppm）以下のオゾンを含むDHPガスをもたらす、請求項7に記載のクリーンルーム。
前記HVACシステムは、再循環空気システムを含む、請求項7に記載のクリーンルーム。
前記HVACシステムは、1つ以上の精製過酸化水素ガス（PHPG）発生装置を含む、請求項9に記載のクリーンルーム。
連邦規格209による高性能微粒子（HEPA）濾過システムを更に含む、請求項7に記載のクリーンルーム。
前記HEPA濾過は、MiL−F−51068またはIEST−RP−CC−001による、0.3ミクロン粒子について少なくとも99.97％の効率の少なくとも1つのフィルタを含む、請求項11に記載のクリーンルーム。
前記HVACシステムは、排出した空気および漏出により失われた空気を補充する補給空気システムを更に含む、請求項7に記載のクリーンルーム。
前記補給空気システムは、0.015百万分率（ppm）以下のオゾンを含んでいるDHPガスをもたらす、請求項13に記載のクリーンルーム。
前記補給空気システムは、1つ以上のPHPG発生装置を含む、請求項13に記載のクリーンルーム。
前記補給空気システムは、30％ASHRAEフィルタ、60％ASHRAEフィルタ、または95％ASHRAEフィルタから選択される1つ以上のフィルタを含む、請求項13に記載のクリーンルーム。
前記DHPガスは、0.015百万分率（ppm）以下のオゾンを含むDHPガスをもたらす独立型のPHPG発生装置によってもたらされる、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記PHPG発生装置により生成される前記DHPガスは、水和作用、オゾン、プラズマ種、または有機化学種を含んでいない、請求項17に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、モジュール式の設備である、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、乱流クリーンルームである、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、層流クリーンルームである、請求項1に記載のクリーンルーム。
DHPガスを含む前記クリーンルームは、職業安全衛生管理局（OSHA）、国立労働安全衛生研究所（NIOSH）、または米国産業衛生専門家会議（ACGIH）規格による連続した人間の滞在にとって安全である、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、製薬用クリーンルームである、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、生物薬剤用クリーンルームである、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、半導体製造のためのクリーンルームである、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、浮遊分子状汚染物質のレベルが低減されている、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームの内側表面は、フェノールプラスチック、ガラス強化プラスチック、鋼、被覆鋼、アルミニウム、エポキシ被覆されたコンクリートブロック、乾式壁体、およびビニル、ならびに厚膜型防錆仕上げの乾式壁体からなる群から選択される、請求項1に記載のクリーンルーム。
換気回数が、毎時1〜360回の換気（ACH）である、請求項19に記載のクリーンルーム。
平均気流速度が、0.005m／s〜0.508m／sである、請求項21に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、隣接領域より高い圧力に維持される、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、前記隣接する非クリーンルーム領域より少なくとも5Pa高い圧力を有する、請求項30に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、前記隣接する非クリーンルーム領域より5〜50Pa高い圧力を有する、請求項31に記載のクリーンルーム。
エアロック、パススルーエアロック、または準備室を更に含む、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記エアロックまたは準備室は、インターロックを更に含む、請求項33に記載のクリーンルーム。
前記エアロックまたは準備室は、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを含む、請求項33に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、20〜22℃または18.9℃の温度に維持される、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームの相対湿度は1〜99％である、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記相対湿度は30〜60％の相対湿度である、請求項37に記載のクリーンルーム。
前記クリーンルームは、疾病管理予防センターによって、バイオセーフティレベル1（BSL−1）、バイオセーフティレベル2（BSL−2）、バイオセーフティレベル3（BSL−3）、またはバイオセーフティレベル4（BSL−4）として指定された生物学的封じ込め環境を備える、請求項1に記載のクリーンルーム。
前記生物学的封じ込め環境は、隣接する非クリーンルーム領域に対して陰圧を有する、請求項39に記載のクリーンルーム。
前記BSL−1環境は、オルソミクソウイルス、アルカリゲネス−フェカーリス、黒色アスペルギルス、バシラス−セレウス、バシラス−メガテリウム、バシラスサチリス、スポロゲネス菌、アイロゲネス腸内菌、汚物腸内菌、大腸菌、ミクロコッカス−ロゼウス、ミクロコッカス−ルテウス、マイコバクテリウムスメグマチス、ナイセリア−シッカ、ナイセリア‐サブフラバ、アオカビ、クモノスカビ、ロドスピリラム−ラブラム、セラチア‐マルセスセンス、スタフィロコッカス−エピデルミディス、ストレプトコッカス−ボビス、またはストレプトコッカス（ラクトコッカス）ラクチスについての研究に適している、請求項39に記載のクリーンルーム。
前記BSL−2環境は、C.ディフィシル、クラミジア、肝炎ウイルス、非天然痘オルトミクソウイルス科、インフルエンザ、ライム病、サルモネラ属、流行性耳下腺炎、はしか、スクレーピ、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌（MRSA）、またはバンコマイシン耐性スタフィロコッカス‐アウレウス（VRSA）についての研究に適している、請求項39に記載のクリーンルーム。
前記BSL−3環境は、ペスト菌、野兎病菌、ドノバンリーシュマニア、ヒト結核菌、オウム病クラミジア、ベネズエラウマ脳炎ウイルス、東部ウマ脳炎ウイルス、SARSコロナウイルス、コクシエラ−バーネッティ、リフトバレー熱ウイルス、ロッキー山紅斑熱リケッチア、ブルセラ属、狂犬病ウイルス、チクングンヤ熱、黄熱ウイルス、および西ナイルウイルスについての研究に適している、請求項39に記載のクリーンルーム。
前記BSL−4環境は、アレナウイルス科、フィロウイルス科、ブニヤウイルス科、フラビウイルス科、またはラブドウイルス科についての研究に適している、請求項39に記載のクリーンルーム。
微生物によるクリーンルームの汚染を防止する方法であって、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを前記クリーンルームに供給することを含む、方法。
前記微生物は、ウイルス、ウイロイド、ウイルス様生物、細菌、原生動物、藻類、卵真菌、真菌およびカビからなる群から選択される、請求項39に記載の方法。
微生物によるクリーンルームの汚染を低減する方法であって、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを前記クリーンルームに供給することを含む、方法。
微生物によるクリーンルームの汚染を除去する方法であって、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを前記クリーンルームに供給することを含む、方法。
クリーンルーム内の有機化合物を低減する方法であって、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスをクリーンルームに供給することを含む、方法。
クリーンルーム内の揮発性有機種のレベルを低減する方法であって、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを前記クリーンルームに供給することを含む、方法。
前記揮発性有機種は、ビス（2−エチルヘキシル）ベンゼン−1，2−ジカルボキシレート（DOP）、リン酸トリエチル（TEP）、ブチルヒドロキシトルエン（BHT）、テキサノールイソ酪酸塩（TXIB）、リン酸トリブチル（TBP）、リン酸ジブチル（DBP）からなる群から選択される、請求項50に記載の方法。
少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスを前記クリーンルームに供給する方法であって、表面に触媒を有する通気性の基板構造と光源とを含むPHPG発生装置を取り付けることを含み、空気が前記通気性基板構造を通って流れ、前記装置はPHPGを生成して、前記通気性基板構造から離れるようにそれを導く、方法。
前記PHPG発生装置により生成される前記DHPガスは、水和作用、オゾン、プラズマ種、および有機種を含んでいない、請求項52に記載の方法。
前記気流はHVACシステムによってもたらされる、請求項52に記載の方法。
前記DHPガスは湿気のある環境空気から調製される、請求項52に記載の方法。
前記DHPガスは気化した過酸化水素液体から調製されない、請求項55に記載の方法。
前記DHPガスは独立型PHPG発生装置により供給される、請求項52に記載の方法。
前記PHPG発生装置は、前記気流をもたらす送風機を更に含む、請求項52に記載の方法。
前記光源は紫外光である、請求項52に記載の方法。
前記光源は紫外光であり、187ナノメートル未満の波長を含まない、請求項52に記載の方法。
前記通気性基板構造は、約5ナノメートル〜約750ナノメートルの厚さである、請求項52に記載の方法。
シリコンウエハを生産する間の有機種の吸着により誘発される汚染を低減する方法であって、少なくとも0.05百万分率（ppm）の濃度のDHPガスをシリコンウエハ生産設備のクリーンルームに供給することを含む、方法。
前記有機種は、ステアリン酸、ブチルヒドロキシトルエン、シロキサン、4−ドデシルベンゼンスルホン酸、n−ペンタデカン、ビス（2−エチルヘキシル）ベンゼン−1，2−ジカルボキシレート（DOP）、3，4−ジブチルフタル酸（DBP）、ジエチルフタレート（DEP）、リン酸トリス（2−クロロエチル）（TCEP）、リン酸トリフェニル（TPP）、リン酸トリエチル（TEP）、ヘキサンジオエート（hexanedioate）（DOA）、2，2−ジブチルヘキサン二酸（DBA）、および2，6−ジtert−ブチル−4−メチルフェノール（BHT）からなる群から選択される、請求項62に記載の方法。
前記有機種の吸着により誘発される汚染が少なくとも10％低減される、請求項62に記載の方法。